JP2003282454A - 液化ガスの供給方法 - Google Patents
液化ガスの供給方法Info
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- JP2003282454A JP2003282454A JP2002083959A JP2002083959A JP2003282454A JP 2003282454 A JP2003282454 A JP 2003282454A JP 2002083959 A JP2002083959 A JP 2002083959A JP 2002083959 A JP2002083959 A JP 2002083959A JP 2003282454 A JP2003282454 A JP 2003282454A
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- liquefied gas
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液化ガスの流量を一定に安定して供給するガ
ス供給用の配管を提供する。 【解決手段】 ガス供給配管（プロセスチューブと液化
ガスボンベ間）に真空ポンプを設け、液化ガスボンベか
ら強制的にガスを送引することで、ガス供給配管内やプ
ロセスチューブ内における液化ガスの流量を一定に安定
して供給する。
ス供給用の配管を提供する。 【解決手段】 ガス供給配管（プロセスチューブと液化
ガスボンベ間）に真空ポンプを設け、液化ガスボンベか
ら強制的にガスを送引することで、ガス供給配管内やプ
ロセスチューブ内における液化ガスの流量を一定に安定
して供給する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置プロセ
スに関するものである。特に、プロセスチューブと液化
ガスボンベとの間に設置した真空ポンプを用いて液化ガ
スボンベから強制的にガスを送引することによる、液化
ガス流量の一定、安定供給に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】図１に示すように、従来、SiH2Cl2、ClF
3等の液化ガスをCVD装置のプロセスチューブ1内に導入
する方法として、プロセスチューブ１内をポンプ８、９
で排気し、プロセスチューブ１内の圧力と液化ガスボン
ベ２内の圧力との差圧により、液化ガスボンベ２内から
プロセスチューブ１内へ液化ガスを導入する方法があ
る。 【０００３】また、ClF3等の液化ガスは、配管内やガス
の流量を制御するための流量制御機６内でガスが液化す
る可能性があるため、液化ガスボンベ２やガス供給配管
経路４、ガス排気管経路７を加熱装置（ヒーター５）で
加熱することにより、ガスの液化を防いでいる。さらに
使用する液化ガスがClF3である場合、O-リングなどの部
材の腐食を防止するために、プロセスチューブ手前のガ
ス供給配管経路で希釈用のN2を流しながらClF3をプロセ
スチューブ内に供給している。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】前述した従来の方法で
は、液化ガスボンベ２とポンプ８、９との間にプロセス
チューブ１が介しているため、プロセスチューブ１内の
圧力変動により液化ガスを安定してプロセスチューブ内
に導入することが困難な場合が生じる。また、ClF3など
の液化ガスは、プロセスチューブ１の手前のガス供給配
管経路４において希釈用のN2を流すことがあるため、 N
2の流量によっては安定して液化ガスをプロセスチュー
ブ内に供給できない場合がある。 【０００５】本発明は、上記の点に対処してなされたも
ので、プロセスチューブ内へ液化ガス流量を一定かつ安
定に供給する方法を提供するものである。 【０００６】 【課題を解決するための手段】本発明は、プロセスチュ
ーブと液化ガスボンベとの間に、圧縮排気型でオイルフ
リーの真空ポンプ（ドライポンプなど）を設置すること
により、ClF3等の液化ガスをプロセスチューブ内に一定
に安定に供給するものである。 【０００７】 【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。図２に示すのは、プロセスチューブ1と減圧ＣＶ
Ｄプロセスの原料ガス供給源である液化ガスボンベ2と
の間のガス供給配管経路４に真空ポンプ3設けた半導体
プロセス装置（減圧ＣＶＤ装置）を示している。 【０００８】ガス供給配管経路４において、プロセスチ
ューブ1と液化ガスボンベ2の間に真空ポンプ3を設け
る。強制的に液化ガスを液化ガスボンベ２から供給配管
経路4に送引するためのこの真空ポンプ3の種類として
は、油による逆拡散汚染を防ぐために潤滑油を用いない
ドライポンプを用いるのが好ましい。特に、圧縮排気型
でオイルフリーの真空ポンプ、例えばドライポンプ等の
ターボポンプが好ましい。 【０００９】ドライポンプ３とプロセスチューブ1との
間に、液化ガス（窒素ガスを含めて）の流量を制御する
ための流量制御木が備えられている。更に、プロセスチ
ューブ１には、排気のためのガス排気配管経路7が取り
付けられており、その先に真空ポンプ８及び補助ポンプ
9も備えられている。 【００１０】このドライポンプ3をプロセスチューブ1と
液化ガスボンベ2間のガス供給配管経路４に設けること
によって、従来に比べてより強制的に液化ガスを供給配
管経路4に送引することが可能となるため、液化ガス流
量を一定に安定してプロセスチューブ内に供給できる効
果が得られる。 【００１１】なお、図2は減圧CVDにおける配管経路であ
るが、排気配管経路のポンプ8、9がなければ常圧CVDの
配管経路となるので、本発明は常圧CVDの配管経路にも
適用される。 【００１２】 【発明の効果】以上説明したように、本発明方法によれ
ば、希釈用N2ガスの流量やプロセスチューブ内の圧力変
動、真空排気ポンプ8に依存せずにガス流量を一定に安
定して供給できるガス供給用の配管を提供することがで
きる。
スに関するものである。特に、プロセスチューブと液化
ガスボンベとの間に設置した真空ポンプを用いて液化ガ
スボンベから強制的にガスを送引することによる、液化
ガス流量の一定、安定供給に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】図１に示すように、従来、SiH2Cl2、ClF
3等の液化ガスをCVD装置のプロセスチューブ1内に導入
する方法として、プロセスチューブ１内をポンプ８、９
で排気し、プロセスチューブ１内の圧力と液化ガスボン
ベ２内の圧力との差圧により、液化ガスボンベ２内から
プロセスチューブ１内へ液化ガスを導入する方法があ
る。 【０００３】また、ClF3等の液化ガスは、配管内やガス
の流量を制御するための流量制御機６内でガスが液化す
る可能性があるため、液化ガスボンベ２やガス供給配管
経路４、ガス排気管経路７を加熱装置（ヒーター５）で
加熱することにより、ガスの液化を防いでいる。さらに
使用する液化ガスがClF3である場合、O-リングなどの部
材の腐食を防止するために、プロセスチューブ手前のガ
ス供給配管経路で希釈用のN2を流しながらClF3をプロセ
スチューブ内に供給している。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】前述した従来の方法で
は、液化ガスボンベ２とポンプ８、９との間にプロセス
チューブ１が介しているため、プロセスチューブ１内の
圧力変動により液化ガスを安定してプロセスチューブ内
に導入することが困難な場合が生じる。また、ClF3など
の液化ガスは、プロセスチューブ１の手前のガス供給配
管経路４において希釈用のN2を流すことがあるため、 N
2の流量によっては安定して液化ガスをプロセスチュー
ブ内に供給できない場合がある。 【０００５】本発明は、上記の点に対処してなされたも
ので、プロセスチューブ内へ液化ガス流量を一定かつ安
定に供給する方法を提供するものである。 【０００６】 【課題を解決するための手段】本発明は、プロセスチュ
ーブと液化ガスボンベとの間に、圧縮排気型でオイルフ
リーの真空ポンプ（ドライポンプなど）を設置すること
により、ClF3等の液化ガスをプロセスチューブ内に一定
に安定に供給するものである。 【０００７】 【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。図２に示すのは、プロセスチューブ1と減圧ＣＶ
Ｄプロセスの原料ガス供給源である液化ガスボンベ2と
の間のガス供給配管経路４に真空ポンプ3設けた半導体
プロセス装置（減圧ＣＶＤ装置）を示している。 【０００８】ガス供給配管経路４において、プロセスチ
ューブ1と液化ガスボンベ2の間に真空ポンプ3を設け
る。強制的に液化ガスを液化ガスボンベ２から供給配管
経路4に送引するためのこの真空ポンプ3の種類として
は、油による逆拡散汚染を防ぐために潤滑油を用いない
ドライポンプを用いるのが好ましい。特に、圧縮排気型
でオイルフリーの真空ポンプ、例えばドライポンプ等の
ターボポンプが好ましい。 【０００９】ドライポンプ３とプロセスチューブ1との
間に、液化ガス（窒素ガスを含めて）の流量を制御する
ための流量制御木が備えられている。更に、プロセスチ
ューブ１には、排気のためのガス排気配管経路7が取り
付けられており、その先に真空ポンプ８及び補助ポンプ
9も備えられている。 【００１０】このドライポンプ3をプロセスチューブ1と
液化ガスボンベ2間のガス供給配管経路４に設けること
によって、従来に比べてより強制的に液化ガスを供給配
管経路4に送引することが可能となるため、液化ガス流
量を一定に安定してプロセスチューブ内に供給できる効
果が得られる。 【００１１】なお、図2は減圧CVDにおける配管経路であ
るが、排気配管経路のポンプ8、9がなければ常圧CVDの
配管経路となるので、本発明は常圧CVDの配管経路にも
適用される。 【００１２】 【発明の効果】以上説明したように、本発明方法によれ
ば、希釈用N2ガスの流量やプロセスチューブ内の圧力変
動、真空排気ポンプ8に依存せずにガス流量を一定に安
定して供給できるガス供給用の配管を提供することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の液化ガス配管経路を示した概略図であ
る。 【図２】本発明の実施例におけるプロセスチューブ1と
液化ガスボンベ2との間に設置した真空ポンプ3およびガ
ス配管経路を示した概略図である。 【符号の説明】 1 プロセスチューブ、 2 液化ガスボンベ、 3 真空ポンプ（ドライポンプ）、 4 ガス供給配管経路、 6 流量制御機、 7 ガス排気配管経路、 8 真空排気ポンプ（ドライポンプ） 9 補助ポンプ（メカニカルブースタポンプ）
る。 【図２】本発明の実施例におけるプロセスチューブ1と
液化ガスボンベ2との間に設置した真空ポンプ3およびガ
ス配管経路を示した概略図である。 【符号の説明】 1 プロセスチューブ、 2 液化ガスボンベ、 3 真空ポンプ（ドライポンプ）、 4 ガス供給配管経路、 6 流量制御機、 7 ガス排気配管経路、 8 真空排気ポンプ（ドライポンプ） 9 補助ポンプ（メカニカルブースタポンプ）
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 3E072 AA01 DB03
3J071 AA02 AA23 BB02 BB14 CC02
CC03 CC14 CC17 DD04 FF03
FF11
5F045 EC07 EE01
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 プロセスチューブと液化ガスボンベの間
におけるガス供給配管経路に、潤滑油を用いない真空ポ
ンプが設けられていることを特徴とする液化ガスの供給
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002083959A JP2003282454A (ja) | 2002-03-25 | 2002-03-25 | 液化ガスの供給方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002083959A JP2003282454A (ja) | 2002-03-25 | 2002-03-25 | 液化ガスの供給方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003282454A true JP2003282454A (ja) | 2003-10-03 |
Family
ID=29231507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002083959A Pending JP2003282454A (ja) | 2002-03-25 | 2002-03-25 | 液化ガスの供給方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003282454A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109027684A (zh) * | 2018-09-30 | 2018-12-18 | 四川德胜集团钒钛有限公司 | 一种氮气供应系统 |
-
2002
- 2002-03-25 JP JP2002083959A patent/JP2003282454A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109027684A (zh) * | 2018-09-30 | 2018-12-18 | 四川德胜集团钒钛有限公司 | 一种氮气供应系统 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040304 |