JP2003277984A - Method and apparatus for continuous electro-plating of metal plate - Google Patents
Method and apparatus for continuous electro-plating of metal plateInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、金属板の連続電気
めっき方法およびその装置の改善に関し、より詳しく
は、コンダクターロールの長手方向の全長にわたり均等
に研磨して、金属板のめっき不良の発生を防止するよう
にした金属板の連続電気めっき方法およびその装置に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for continuously electroplating a metal plate and an apparatus therefor, and more specifically, it uniformly polishes the entire length of the conductor roll in the longitudinal direction to cause defective plating of the metal plate. The present invention relates to a continuous electroplating method for a metal plate and an apparatus therefor for preventing the above-mentioned problems.
【０００２】[0002]
【従来の技術】周知のとおり、薄鋼板等の金属板は、防
錆のために、例えば連続電気めっきラインで連続的に亜
鉛めっきされた後、製品として出荷されている。薄鋼板
を連続的に電気めっきする連続電気めっきラインとして
は、主に下記のような２種類のラインが用いられてい
る。
縦型のめっき槽を有する複数のめっき装置を備えた
フェロスタンラインと呼ばれる連続電気めっきライン
水平なめっき槽を有する複数のめっき装置を備えた
ハロゲンラインと呼ばれる連続電気めっきライン
このような連続電気めっきラインのうち、前記ハロゲン
ラインと呼ばれる連続電気めっきラインを構成する１つ
のめっき装置の概要を、その模式的斜視図の図５を参照
しながら説明する。2. Description of the Related Art As is well known, a metal plate such as a thin steel plate is continuously galvanized, for example, in a continuous electroplating line for rust prevention, and then shipped as a product. As a continuous electroplating line for continuously electroplating a thin steel sheet, the following two types of lines are mainly used. Continuous electroplating line called ferrostan line equipped with a plurality of plating equipment having a vertical plating tank Continuous electroplating line called halogen line equipped with a plurality of plating equipment having a horizontal plating tank Such continuous electroplating Among the lines, an outline of one plating apparatus that constitutes a continuous electroplating line called the halogen line will be described with reference to FIG. 5 which is a schematic perspective view thereof.
【０００３】図５に示す符号１は、ハロゲンラインと呼
ばれる連続電気めっきラインを構成するめっき装置であ
る。このめっき装置１は、めっき液が入れられるめっき
槽２を備えている。このめっき槽２の薄鋼板Ｐの入側と
出側位置には、前記めっき槽２内のめっき液を堰止める
ための一対ずつの入側ダムロール３と、出側ダムロール
４とが設けられている。また、これら入側ダムロール３
と出側ダムロール４との間(めっき槽２の内側)には、上
下一対の入側電極５が配設されると共に、上下一対の出
側電極６が配設されている。なお、この連続電気めっき
ラインでは、複数組のめっき装置１がシリーズ状に配設
されている。Reference numeral 1 shown in FIG. 5 is a plating apparatus which constitutes a continuous electroplating line called a halogen line. The plating apparatus 1 includes a plating tank 2 in which a plating solution is placed. At the inlet and outlet positions of the thin steel plate P of the plating tank 2, a pair of inlet dam rolls 3 and an outlet dam roll 4 for blocking the plating solution in the plating tank 2 are provided. . Also, these entry side dam rolls 3
A pair of upper and lower inlet-side electrodes 5 and a pair of upper and lower outlet-side electrodes 6 are disposed between the outlet dam roll 4 and the outlet dam roll 4 (inside the plating tank 2). In this continuous electroplating line, a plurality of sets of plating apparatuses 1 are arranged in series.
【０００４】さらに、前記入側ダムロール３の外側に入
側コンダクターロール７が、前記出側ダムロール４の外
側に出側コンダクターロール８がそれぞれ配設されてい
る。そして、前記入側コンダクターロール７と前記出側
コンダクターロール８との表面は、稼働中を通じて、後
述する構成になるロール研磨装置１０により研磨され続
けるように構成されている。なお、前記入側コンダクタ
ーロール７および前記出側コンダクターロール８の下側
に配設されてなるものは、図示しない昇降シリンダによ
り昇降されるバックアップロール９，９である。Further, an inlet side conductor roll 7 is arranged outside the inlet side dam roll 3, and an outlet side conductor roll 8 is arranged outside the outlet side dam roll 4. The surfaces of the inlet-side conductor roll 7 and the outlet-side conductor roll 8 are configured to be continuously polished by a roll polishing device 10 having a configuration described later throughout the operation. The backup rolls 9 and 9 which are arranged below the inlet-side conductor roll 7 and the outlet-side conductor roll 8 are moved up and down by an elevator cylinder (not shown).
【０００５】前記ロール研磨装置１０は、前記コンダク
ターロールと平行に配設されてなるガイドロッド１１
と、図示しない作動装置により作動されて、前記ガイド
ロッド１１にガイドされて往複動するバフ支持体１２と
を備えている。このバフ支持体１２の下部には研磨バフ
１３(研磨材はＳｉＣで、粒度は＃１２０〜＃６００で
ある)が支持されている。そして、この研磨バフ１３は
前記バフ支持体１２に設けられてなる、図示しないエア
シリンダ等の押圧手段によって、前記コンダクターロー
ル７，８の表面に、例えば２０〜５００ｋＰａの所定の
面圧で押圧されるように構成されている。因みに、前記
コンダクターロール７，８の長さは１８００ｍｍであ
り、また前記研磨バフ１３の幅(コンダクターロールの
長手方向の寸法)は１５０ｍｍである。但し、これらコ
ンダクターロール７，８、および研磨バフ１３の寸法
は、何れも一具体例であり、種々の寸法のものがある。The roll polishing apparatus 10 has a guide rod 11 arranged in parallel with the conductor roll.
And a buff support 12 which is actuated by an actuating device (not shown) and which is guided by the guide rod 11 and moves forward and backward. A polishing buff 13 (the polishing material is SiC and the grain size is # 120 to # 600) is supported below the buff support 12. The polishing buff 13 is pressed against the surfaces of the conductor rolls 7 and 8 with a predetermined surface pressure of, for example, 20 to 500 kPa by a pressing means such as an air cylinder (not shown) provided on the buff support 12. Is configured to. By the way, the length of the conductor rolls 7 and 8 is 1800 mm, and the width of the polishing buff 13 (dimension in the longitudinal direction of the conductor roll) is 150 mm. However, the dimensions of the conductor rolls 7 and 8 and the polishing buff 13 are only specific examples, and there are various dimensions.
【０００６】上記構成になるめっき装置１によれば、薄
鋼板Ｐは、入側コンダクターロール７とバックアップロ
ール９との間、一対の入側ダムロール３の間、一対の入
側電極５の間に通板される。次いで、一対の出側電極６
の間、一対の出側ダムロール４の間、出側コンダクター
ロール８とバックアップロール９との間で通板されて、
連続的に亜鉛めっきされる。そして、薄鋼板Ｐの亜鉛め
っき中を通じて、これらコンダクターロール７，８の表
面は、所定の押圧力で押圧されながら、これらコンダク
ターロール７，８の長手方向に往復動する研磨バフ１３
によって研磨され続ける。これらコンダクターロール
７，８を研磨しながらの薄鋼板Ｐの通板によって、この
薄鋼板Ｐの表面に均一な膜厚の亜鉛めっき層が形成され
るから、品質に優れた亜鉛めっき製品の製造が可能にな
る。According to the plating apparatus 1 having the above structure, the thin steel plate P is provided between the inlet conductor roll 7 and the backup roll 9, between the pair of inlet dam rolls 3 and between the pair of inlet electrodes 5. It is passed. Next, a pair of output electrodes 6
In between, a pair of delivery side dam rolls 4, a delivery plate between the delivery side conductor roll 8 and the backup roll 9,
It is galvanized continuously. During galvanization of the thin steel plate P, the surfaces of the conductor rolls 7 and 8 are pressed by a predetermined pressing force, and the polishing buff 13 reciprocates in the longitudinal direction of the conductor rolls 7 and 8.
Continue to be polished by. By passing the thin steel plate P while polishing the conductor rolls 7 and 8, a galvanized layer having a uniform film thickness is formed on the surface of the thin steel plate P, so that a high-quality galvanized product can be manufactured. It will be possible.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】上記従来例に係るハロ
ゲンラインと呼ばれる連続電気めっきラインを構成する
めっき装置によれば、上記のとおり、亜鉛めっき層の膜
厚が均一な品質に優れた亜鉛めっき製品を製造すること
ができるので、極めて有用であると考えられる。しかし
ながら、この連続電気めっきラインの稼働中に突然コン
ダクターロールを交換しなければならないというトラブ
ルが発生することがある。即ち、この連続電気めっきラ
インでは、上記のとおり、複数のめっき装置がシリーズ
状に配設されていてコンダクターロールの本数が多い。
そのため、コンダクターロールの表面不良が次々発生す
ることにより、数日に１回はコンダクターロールを交換
しなければならないという事態が生じている。According to the plating apparatus for forming a continuous electroplating line called a halogen line according to the above conventional example, as described above, the zinc plating layer has a uniform film thickness and is excellent in quality. It is believed to be extremely useful as it allows the product to be manufactured. However, during the operation of this continuous electroplating line, there may occur a trouble that the conductor roll must be replaced suddenly. That is, in this continuous electroplating line, as described above, a plurality of plating apparatuses are arranged in series and the number of conductor rolls is large.
Therefore, the surface defects of the conductor rolls occur one after another, and the conductor rolls must be replaced once every several days.
【０００８】コンダクターロールを交換する必要が生じ
た場合、１本のコンダクターロールの交換に１．５時間
程度、亜鉛めっき製品の品質を確認するためのダミー材
の通板に０．８時間程度の時間ロスが発生する。連続電
気めっきラインにおける薄鋼板の通板速度は、通常、５
０〜１５０ｍ／分に設定されるから、亜鉛めっき製品の
生産性が大幅に低下するという問題がある。コンダクタ
ーロールを交換するのは、上記のとおり、亜鉛めっき製
品の亜鉛めっき層に表面不良が発生するからであるが、
亜鉛めっき層の表面不良とは、「亜鉛巻き」、「肌荒
れ」、「押し疵」というような亜鉛めっき製品のめっき
層に生じる欠陥のことである。以下、これら欠陥の発生
原因について順次説明する。When it is necessary to replace the conductor roll, it takes about 1.5 hours to replace one conductor roll, and about 0.8 hours to pass the dummy material to check the quality of the galvanized product. Time loss occurs. In the continuous electroplating line, the sheet passing speed of the thin steel plate is usually 5
Since it is set to 0 to 150 m / min, there is a problem that the productivity of galvanized products is significantly reduced. The reason for exchanging the conductor roll is that, as described above, a surface defect occurs in the galvanized layer of the galvanized product.
The surface defect of the galvanized layer refers to defects such as “zinc winding”, “rough skin”, and “blemishes” that occur in the galvanized layer of the galvanized product. The causes of these defects will be sequentially described below.
【０００９】先ず、「亜鉛巻き」については、薄鋼板の
幅方向の中央部における亜鉛めっき層の膜厚が、その両
端部における膜厚よりも異常に厚くなる現象のことであ
る。連続電気めっきラインにおいて、あるコンダクター
ロールは、交換してから２週間経過後に、亜鉛めっき製
品に「亜鉛巻き」が発生した。そこで、取外したコンダ
クターロールの磨耗量(直径)を測定したところ、薄鋼板
が接触しない部位の磨耗量が０．０５〜０．２ｍｍであ
るのに対して、薄鋼板が接触する部位の磨耗量は０．８
ｍｍであった。つまり、コンダクターロールの中央部が
両端部より多く磨耗して鼓型になり、寸法差が許容限度
を超えると「亜鉛巻き」が発生するものである。なお、
コンダクターロールの両端部はめっき液による腐食によ
って磨耗するものであり、またその中央部はめっき液に
よる腐食と薄鋼板との摩擦とによって磨耗するものであ
る。First, the "zinc winding" is a phenomenon in which the thickness of the zinc plating layer in the central portion of the thin steel sheet in the width direction becomes abnormally thicker than the thickness at both ends thereof. In a continuous electroplating line, a certain conductor roll had a “zinc winding” in the galvanized product after two weeks had elapsed after the replacement. Therefore, when the wear amount (diameter) of the removed conductor roll was measured, the wear amount of the part where the thin steel plate did not contact was 0.05 to 0.2 mm, whereas the wear amount of the part where the thin steel plate contacted was Is 0.8
It was mm. In other words, the central part of the conductor roll wears more than both ends and becomes a drum shape, and when the dimensional difference exceeds the allowable limit, "zinc winding" occurs. In addition,
Both ends of the conductor roll are abraded by the corrosion of the plating solution, and the central portion is abraded by the corrosion of the plating solution and the friction with the thin steel plate.
【００１０】コンダクターロールの鼓型形状を円筒状の
形状に修正しながら亜鉛めっきすることができれば「亜
鉛巻き」の発生を防止することができる。しかしなが
ら、従来例に係る連続電気めっきラインのめっき装置
は、長さが１８００ｍｍのコンダクターロールの表面を
押圧しながら、１５０ｍｍ幅の研磨バフ(研磨材はＳｉ
Ｃであって、粒度は＃１８０である)が２ｍ／分の速度
で往復動する構成である。つまり、このような研磨バフ
は、磨耗形状に倣ってコンダクターロールの表面を研磨
するだけであって、このコンダクターロールの長手方向
の表面を平坦に仕上げる機能がない。従って、コンダク
ターロールが鼓型になるのを防止することができないの
で、「亜鉛巻き」が発生しない状態を長期間にわたって
維持させ続けるのは極めて困難である。If zinc-plating can be performed while correcting the hourglass shape of the conductor roll into a cylindrical shape, the occurrence of "zinc winding" can be prevented. However, the plating apparatus for the continuous electroplating line according to the conventional example presses the surface of a conductor roll having a length of 1800 mm while polishing a buff having a width of 150 mm (the polishing material is Si
C, and the grain size is # 180) is reciprocated at a speed of 2 m / min. In other words, such a polishing buff only polishes the surface of the conductor roll according to the worn shape, and does not have the function of finishing the surface of the conductor roll in the longitudinal direction to be flat. Therefore, since it is impossible to prevent the conductor roll from becoming a drum shape, it is extremely difficult to maintain the state where "zinc winding" does not occur for a long period of time.
【００１１】また、「肌荒れ」とは、亜鉛めっき製品の
めっき層の表面が「梨地状」になることで、研磨バフに
よるコンダクターロールの表面の研磨不足に起因するも
のである。さらに、「押し疵」とは、亜鉛めっき製品の
めっき層に生じる圧痕のことで、コンダクターロールの
表面に、めっき液中の鉄粉やスラッジなどの異物が付着
することが原因で発生するものである。つまり、１５０
ｍｍ幅の研磨バフでは、ライン速度が低速で、コンダク
ターロールが低速回転している場合には、このコンダク
ターロールの表面に未研磨部分が生じる。そのため、研
磨バフによりコンダクターロールの表面に付着している
異物を完全に除去することができなくなるからである。The "roughness" is caused by the fact that the surface of the plated layer of the galvanized product becomes "matte" and the surface of the conductor roll is insufficiently polished by the polishing buff. Furthermore, "push flaws" are indentations that occur in the plating layer of galvanized products, and are caused by the adherence of foreign matter such as iron powder and sludge in the plating solution to the surface of the conductor roll. is there. That is, 150
In the case of a polishing buff having a width of mm, when the line speed is low and the conductor roll is rotating at a low speed, an unpolished portion is generated on the surface of the conductor roll. Therefore, the polishing buff cannot completely remove the foreign matter attached to the surface of the conductor roll.
【００１２】従って、本発明の目的は、コンダクターロ
ールが磨耗して鼓型になったり、その表面が梨地状にな
るのを防止すると共に、その表面に付着した異物を確実
に除去することを可能ならしめる、金属板の連続電気め
っき方法およびその装置を提供することである。Therefore, it is an object of the present invention to prevent the conductor roll from being worn out to form an hourglass shape and to prevent the surface from becoming satin-like, and to reliably remove foreign matter adhering to the surface. It is an object of the present invention to provide a continuous electroplating method for a metal plate and a device therefor.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記実情に鑑
みて成されたものであって、従って上記課題を解決する
ために、本発明の請求項１に係る金属板の連続電気めっ
き方法が採用した手段は、研磨バフによりコンダクター
ロールを研磨しながら、このコンダクターロールに接し
て通板されている金属板をめっきする金属板の連続電気
めっき方法において、前記コンダクターロールの全長を
超える長さを有する研磨バフを、前記コンダクターロー
ルの表面に押圧、かつこのコンダクターロールの長手方
向に往復動させながら、このコンダクターロールの表面
を研磨することを特徴とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and therefore, in order to solve the above problems, a method for continuously electroplating a metal plate according to claim 1 of the present invention. In the continuous electroplating method of a metal plate for plating a metal plate which is in contact with the conductor roll while polishing the conductor roll with a polishing buff, the means adopted by The surface of the conductor roll is polished while the polishing buff having the above is pressed against the surface of the conductor roll and reciprocated in the longitudinal direction of the conductor roll.
【００１４】本発明の請求項２に係る金属板の連続電気
めっき方法が採用した手段は、請求項１に記載の金属板
の連続電気めっき方法において、前記コンダクターロー
ルの長手方向の一方側に移動している研磨バフの一端側
が、前記コンダクターロールの一端側を通過して他端側
に移動する前に、この研磨バフを他方側に移動させるこ
とを特徴とする。The means adopted in the continuous electroplating method for a metal plate according to claim 2 of the present invention is the continuous electroplating method for a metal plate according to claim 1, wherein the means is moved to one side in the longitudinal direction of the conductor roll. The polishing buff is moved to the other side before the one side of the polishing buff passes through the one side of the conductor roll and moves to the other side.
【００１５】本発明の請求項３に係る金属板の連続電気
めっき装置が採用した手段は、複数のめっき槽を備え、
これらめっき槽それぞれの金属板出入側に、通板中の金
属板に転接するコンダクターロールを備えると共に、こ
のコンダクターロールの表面を押圧してこのコンダクタ
ーロールの表面を研磨する、このコンダクターロールの
全長を超える長さの研磨バフを有し、かつこの研磨バフ
を、前記コンダクターロールの長手方向の全域にわたっ
て常に接する状態に、このコンダクターロールの長手方
向に往復動させるバフ作動手段を有するロール研磨装置
を備えたことを特徴とする。The means adopted by the continuous electroplating apparatus for metal plates according to claim 3 of the present invention comprises a plurality of plating tanks,
Each of these plating tanks is equipped with a conductor roll on the metal plate loading / unloading side that rolls into contact with the metal plate in the threaded plate, and the surface of this conductor roll is pressed to polish the surface of this conductor roll. A roll polishing device having a polishing buff having a length longer than that, and having a buff actuating means for reciprocating the polishing buff in the longitudinal direction of the conductor roll such that the polishing buff is always in contact with the entire length of the conductor roll in the longitudinal direction. It is characterized by that.
【００１６】本発明の請求項４に係る金属板の連続電気
めっき装置が採用した手段は、請求項３に記載の金属板
の連続電気めっき装置において、前記ロール研磨装置の
研磨バフは、一体構成であることを特徴とする。The means adopted by the continuous electroplating apparatus for metal plates according to claim 4 of the present invention is the continuous electroplating apparatus for metal plates according to claim 3, wherein the polishing buff of the roll polishing apparatus is integrally constructed. Is characterized in that.
【００１７】本発明の請求項５に係る金属板の連続電気
めっき装置が採用した手段は、請求項３に記載の金属板
の連続電気めっき装置において、前記ロール研磨装置の
研磨バフは、複数の所定長さのバフユニットを直列に接
続した継ぎ足し構成であることを特徴とする。The means adopted by the continuous electroplating apparatus for a metal plate according to claim 5 of the present invention is the continuous electroplating apparatus for a metal plate according to claim 3, wherein the polishing buff of the roll polishing apparatus is a plurality of buffs. It is characterized by a replenishment structure in which buff units of a predetermined length are connected in series.
【００１８】本発明の請求項６に係る金属板の連続電気
めっき装置が採用した手段は、請求項５に記載の金属板
の連続電気めっき装置において、前記ロール研磨装置の
研磨バフの長手方向の両端部分に、この研磨バフの長手
方向の中央部分に配設するバフユニットの研磨材よりも
粗い粒度の研磨材を有するバフユニットを配設したこと
を特徴とする。The means adopted by the continuous electroplating apparatus for metal plates according to claim 6 of the present invention is the continuous electroplating apparatus for metal plates according to claim 5, in which the polishing buff of the roll polishing apparatus extends in the longitudinal direction. It is characterized in that a buff unit having an abrasive material having a coarser grain size than the abrasive material of the buff unit provided at the central portion in the longitudinal direction of the polishing buff is provided at both end portions.
【００１９】[0019]
【発明の実施の形態】以下、本発明の金属板の連続電気
めっき方法を実施する、実施の形態に係る金属板の連続
電気めっき装置を、添付図面を参照しながら説明する。
但し、本実施の形態に係る金属板の連続電気めっき装置
と、前記従来例に係る金属板の連続電気めっき装置と
は、ロール研磨装置が相違するだけで、それ以外は全く
同構成になるものである。従って、ロール研磨装置の正
面図の図１と、図１のＡ矢視図の図２とを参照しなが
ら、従来と同一のものには同一符号を付し、入側コンダ
クターロール用のロール研磨装置(出側コンダクターロ
ール用も同構成である)について説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A metal plate continuous electroplating apparatus for carrying out the metal plate continuous electroplating method of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
However, the continuous electroplating apparatus for a metal plate according to the present embodiment and the continuous electroplating apparatus for a metal plate according to the conventional example are different only in the roll polishing apparatus, and other than that, they have exactly the same configuration. Is. Therefore, with reference to FIG. 1 which is a front view of the roll polishing apparatus and FIG. 2 which is a view taken in the direction of arrow A of FIG. The device (the same structure for the output side conductor roll) will be described.
【００２０】図１および図２に示す符号２０は、入側コ
ンダクターロール７の表面を研磨するロール研磨装置で
ある。このロール研磨装置２０は、入側コンダクターロ
ール７の軸端を回転可能に支持する軸支持フレームの上
に、前記入側コンダクターロール７と平行に配設されて
なる下部フレーム２１を備えている。この下部フレーム
２１の両端部付近、具体的にはこの下部フレーム２１支
持部の直上位置に、一対ずつの軸支持金具２２が固着さ
れている。そして、往復動フレーム２３が、その両端部
に突設されてなる摺動軸２３ａが前記軸支持金具２２に
摺動自在に嵌合されることにより、入側コンダクターロ
ール７の長手方向に往復動し得るように支持されてい
る。Reference numeral 20 shown in FIGS. 1 and 2 is a roll polishing apparatus for polishing the surface of the entrance side conductor roll 7. The roll polishing apparatus 20 is provided with a lower frame 21 which is arranged in parallel with the input side conductor roll 7 on a shaft support frame which rotatably supports the shaft end of the input side conductor roll 7. A pair of shaft support fittings 22 are fixed near both ends of the lower frame 21, specifically, directly above the lower frame 21 support portion. Then, the reciprocating frame 23 is reciprocally moved in the longitudinal direction of the inlet side conductor roll 7 by slidably fitting the sliding shafts 23a formed at both ends thereof to the shaft support fittings 22. Is supported so that it can.
【００２１】前記往復動フレーム２３の上であって、か
つ長手方向の中央位置に、伸縮ロッドを下向きにしたエ
アシリンダ２４が垂直に配設されている。また、このエ
アシリンダ２４を中心とする等距離離れた２個所に、垂
直方向に昇降するガイドロッド２５、２５が配設されて
いる。そして、前記エアシリンダ２４の前記下部フレー
ム２１より下方に延びる伸縮ロッドの下端と、前記ガイ
ドロッド２５、２５の下端とに連結ピン２７を介して、
前記入側コンダクターロール７と平行にバフ支持フレー
ム２６が着脱自在に連結されている。An air cylinder 24 with a telescopic rod facing downward is vertically arranged on the reciprocating frame 23 and at a central position in the longitudinal direction. Further, guide rods 25, 25 that move up and down in the vertical direction are arranged at two locations equidistant from each other around the air cylinder 24. The lower end of the telescopic rod extending below the lower frame 21 of the air cylinder 24 and the lower ends of the guide rods 25, 25 are connected via a connecting pin 27.
A buff support frame 26 is detachably connected in parallel with the inlet side conductor roll 7.
【００２２】なお、前記往復動フレーム２３の上に横置
き状態に配設されてなるものは、エアシリンダ２４に圧
力調整(例えば、２０〜５００ｋＰａ)された圧縮空気を
供給する圧縮空気供給ホース２４ａであって、この圧縮
空気供給ホース２４ａは周知のクイックカプラによりエ
アシリンダ２４の空気流入ポートに取付けられた継手に
着脱自在に接続されるものである。The reciprocating frame 23 horizontally disposed is a compressed air supply hose 24a for supplying compressed air whose pressure is adjusted (for example, 20 to 500 kPa) to the air cylinder 24. The compressed air supply hose 24a is detachably connected to a joint attached to the air inflow port of the air cylinder 24 by a well-known quick coupler.
【００２３】前記バフ支持フレーム２６の長さは２００
０ｍｍであって、１８００ｍｍ長さの入側コンダクター
ロール７よりも２００ｍｍ長くなるように設定されてい
る。そして、このバフ支持フレーム２６の下側には、前
記入側コンダクターロール７の表面を研磨する２０００
ｍｍ長さの研磨バフ２８が、ボルト・ナット等の固着手
段２９により着脱自在に固着されている。The length of the buff support frame 26 is 200
It is set to 0 mm, which is set to be 200 mm longer than the entrance side conductor roll 7 having a length of 1800 mm. Then, on the lower side of the buff support frame 26, the surface of the inlet side conductor roll 7 is polished 2000.
A polishing buff 28 having a length of mm is detachably fixed by a fixing means 29 such as a bolt and a nut.
【００２４】ところで、前記研磨バフ２８の長さは、前
記入側コンダクターロール７の長さに対応して設定され
るものであるから、この研磨バフ２８の長さについては
上記長さに限定されるものではない。また、研磨バフ２
８の長さを前記入側コンダクターロール７の長さよりも
２００ｍｍ長くしたが、例えば２５０ｍｍ長くても、３
００ｍｍ長くても良いので、特に研磨バフ２８の長さに
ついては、何ら限定されるものではない。By the way, since the length of the polishing buff 28 is set in correspondence with the length of the entrance side conductor roll 7, the length of the polishing buff 28 is not limited to the above length. Not something. Also, polishing buff 2
Although the length of 8 is 200 mm longer than the length of the inlet side conductor roll 7, for example, even if it is 250 mm longer, 3
Since it may be as long as 00 mm, the length of the polishing buff 28 is not particularly limited.
【００２５】前記研磨バフ２８は、前記下部フレーム２
１の一端側、つまり図１における左端側の上に配設され
てなる、後述するバフ作動手段３０でこの入側コンダク
ターロール７の長手方向に往復動されるようになってい
る。詳しくは、図１において二点鎖線で示すように、研
磨バフ２８が、その一端が前記入側コンダクターロール
７の一端側に移動すると、この入側コンダクターロール
７の一端を通過しないうちに逆方向に移動されるように
なっている。つまり、研磨バフ２８の移動位置の如何を
問わず、入側コンダクターロール７の長手方向の全域に
わたって必ず研磨バフ２８が接触し、接触しない領域を
皆無にし得るように配慮されている。The polishing buff 28 has the lower frame 2
1 is arranged on one end side, that is, on the left end side in FIG. 1, and is reciprocated in the longitudinal direction of the inlet side conductor roll 7 by a buff actuating means 30 described later. More specifically, as shown by the chain double-dashed line in FIG. 1, when one end of the polishing buff 28 moves to one end of the inlet side conductor roll 7, the polishing buff 28 moves in the opposite direction before passing through one end of the inlet side conductor roll 7. It is supposed to be moved to. That is, regardless of the movement position of the polishing buff 28, care is taken so that the polishing buff 28 always contacts the entire area in the longitudinal direction of the entrance side conductor roll 7 and there may be no contact area.
【００２６】前記バフ作動手段３０は、前記下部フレー
ム２１の図１における左端側の上に配設されてなるギヤ
モータ付ギヤボックス３１を備えている。このギヤモー
タ付ギヤボックス３１の出力軸端には、回転アーム３２
の基端側が嵌着されており、この回転アーム３２は前記
出力軸を中心として回転するように構成されている。そ
して、この回転アーム３２の先端と、前記往復動フレー
ム２３の前記摺動軸２３ａ突設部の中間位置に固着され
てなるブラケット３４との間にクランクリンク３３が介
装されている。つまり、前記往復動フレーム２３は、前
記回転アーム３２の長さの２倍に相当する距離を往復動
し得るように構成されている。The buff actuating means 30 is provided with a gear box 31 with a gear motor arranged on the left end side of the lower frame 21 in FIG. At the output shaft end of the gear box 31 with the gear motor, the rotary arm 32 is provided.
Is fitted to the base end side of the rotary arm 32, and the rotary arm 32 is configured to rotate around the output shaft. A crank link 33 is interposed between the tip of the rotary arm 32 and a bracket 34 fixed to an intermediate position of the protruding portion of the sliding shaft 23a of the reciprocating frame 23. That is, the reciprocating frame 23 is configured to be able to reciprocate a distance corresponding to twice the length of the rotating arm 32.
【００２７】ところで、本実施の形態においては、上記
のとおり、前記研磨バフ２８を往復動させるのに、その
回転中心からクランクリンク３３を連結するリンク連結
ピンのピン孔までの寸法が一定に設定されてなる回転ア
ーム２３を採用している。しかしながら、この回転アー
ム２３を円板に代え、この円板の回転中心から異なる複
数位置にピン孔を設けて、研磨バフ２８のストロークを
変更し得る構成にすることもできる。また、バフ作動手
段としては、上記構成に限らず、例えばエアシリンダ、
電動シリンダ、ボールねじとモータとの組合わせ機構等
の種々の手段を採用することができる。By the way, in the present embodiment, as described above, when the polishing buff 28 is reciprocated, the dimension from the rotation center to the pin hole of the link connecting pin connecting the crank link 33 is set to be constant. The rotating arm 23 is used. However, the rotary arm 23 may be replaced by a disc, and pin holes may be provided at different positions from the center of rotation of the disc to change the stroke of the polishing buff 28. Further, the buff actuating means is not limited to the above-mentioned configuration, and for example, an air cylinder,
Various means such as an electric cylinder and a combination mechanism of a ball screw and a motor can be adopted.
【００２８】以下、上記実施の形態に係るロール研磨装
置２０を備えた連続電気めっき装置の作用態様を説明す
る。即ち、従来例と同様に、薄鋼板Ｐは入側コンダクタ
ーロール７とバックアップロール９との間、一対の入側
ダムロールの間、および一対の入側電極の間に通板され
る。次いで、一対の出側電極の間、一対の出側ダムロー
ルの間、出側コンダクターロールとバックアップロール
との間で通板され、連続的に電気めっき(亜鉛めっき)さ
れる。そして、薄鋼板Ｐの電気めっき中を通じて、入側
コンダクターロール７の表面は、エアシリンダ２４によ
り所定の押圧力で押圧されながら、回転アーム３２の回
転によりこの入側コンダクターロール７の長手方向に往
復動する研磨バフ２８によって研磨され続ける。The mode of operation of the continuous electroplating apparatus equipped with the roll polishing apparatus 20 according to the above embodiment will be described below. That is, similarly to the conventional example, the thin steel plate P is threaded between the entrance-side conductor roll 7 and the backup roll 9, between the pair of entrance-side dam rolls, and between the pair of entrance-side electrodes. Then, the plate is passed between the pair of output electrodes, between the pair of output dam rolls, between the output conductor roll and the backup roll, and continuously electroplated (zinc plated). Then, during the electroplating of the thin steel plate P, the surface of the inlet side conductor roll 7 is pressed by the air cylinder 24 with a predetermined pressing force, and reciprocates in the longitudinal direction of the inlet side conductor roll 7 by the rotation of the rotating arm 32. It continues to be polished by the moving polishing buff 28.
【００２９】この場合、研磨バフ２８は、コンダクター
ロールよりも２００ｍｍ長く、そしてこの研磨バフ２８
の一端がコンダクターロールの一端側に移動すると、こ
のコンダクターロールの一端を通過しないうちに逆方向
に移動される。つまり、研磨バフ２８の移動位置の如何
を問わず、コンダクターロールの長手方向の全域が必ず
研磨バフ２８により研磨され続ける。そのため、コンダ
クターロールの長手方向の平坦度が確保され、その表面
の研磨不足が無くなり、さらにその表面に付着する異物
も確実に除去される。In this case, the polishing buff 28 is 200 mm longer than the conductor roll, and the polishing buff 28 is
When one end of the conductor roll moves to one end side of the conductor roll, it is moved in the opposite direction before passing through one end of the conductor roll. That is, regardless of the movement position of the polishing buff 28, the entire region in the longitudinal direction of the conductor roll is always kept polished by the polishing buff 28. Therefore, the flatness in the longitudinal direction of the conductor roll is ensured, the lack of polishing of the surface is eliminated, and the foreign matter adhering to the surface is surely removed.
【００３０】従って、上記実施の形態に係る連続電気め
っき装置によれば、下記のような種々の効果を得ること
ができる。
めっき面の「亜鉛巻き」、「肌荒れ」、「押し疵」
というような欠陥の発生が長期間にわたって防止され、
品質に優れた亜鉛めっき製品を製造することができる。
コンダクターロールの交換時間間隔が延長されるの
で、補修費の削減が可能になると共に、亜鉛めっき製品
の生産性が向上する。Therefore, according to the continuous electroplating apparatus according to the above embodiment, the following various effects can be obtained. "Zinc winding", "Rough skin", "Push marks" on the plated surface
The occurrence of such defects is prevented for a long time,
It is possible to manufacture galvanized products with excellent quality. Since the replacement time interval of the conductor roll is extended, the repair cost can be reduced and the productivity of galvanized products can be improved.
【００３１】[0031]
【実施例】以下、本発明の連続電気めっき装置で、厚さ
０．２７〜３．２ｍｍ、幅６００〜１６００ｍｍの薄鋼
板を５０〜１５０ｍ／分の速度で通板して亜鉛めっきし
た場合の実施例を説明する。この実施例で使用した入側
コンダクターロール (ハステロイＣと呼ばれるＳＵＳ系
材を遠心鋳造したものである) ７は、その表面を研磨
(表面の面粗度：０．２６Ｒａ)したもので、直径は３５
０ｍｍであり、長さは１８００ｍｍである。粒度＃６０
０の研磨材(ＳｉＣ)を有する長さ２０００ｍｍの一体構
成になる研磨バフを、入側コンダクターロール７の長手
方向に沿って０〜４２ｍｍ／ｓ(ストローク２００ｍｍ)
の速度で往復動させ、かつ入側コンダクターロール７の
表面を研磨(単位長さ当たりの押圧力：２０〜５００ｋ
Ｐａ)しながら薄鋼板Ｐを通板して亜鉛めっきした。な
お、入側コンダクターロールの表面に、例えばＷＣ−Ｎ
ｉＣｒを溶射して研磨すると、この入側コンダクターロ
ールの耐磨耗性が一層向上に寄与することができる。EXAMPLES In the following, in the continuous electroplating apparatus of the present invention, a thin steel plate having a thickness of 0.27 to 3.2 mm and a width of 600 to 1600 mm was passed at a speed of 50 to 150 m / min for galvanization. An example will be described. The inlet side conductor roll (made by centrifugal casting of SUS-based material called Hastelloy C) 7 used in this example has its surface polished.
(Surface roughness: 0.26 Ra), diameter is 35
It is 0 mm and the length is 1800 mm. Granularity # 60
A polishing buff having a length of 2000 mm and having an abrasive (SiC) of 0 is integrally formed along the longitudinal direction of the inlet side conductor roll 0 to 42 mm / s (stroke 200 mm).
And the surface of the inlet side conductor roll 7 is polished (pressing force per unit length: 20 to 500 k
While passing Pa), the thin steel plate P was passed through and galvanized. In addition, on the surface of the entrance side conductor roll, for example, WC-N
When the iCr is sprayed and polished, the abrasion resistance of the entrance side conductor roll can contribute to further improvement.
【００３２】勿論、出側コンダクターロールも、入側コ
ンダクターロール７と同様である。なお、研磨バフに粒
度＃６００の研磨材を用いたのは、従来例のように、粒
度＃１８０の研磨材を用いるとコンダクターロールの表
面の表面粗度が粗くなる。そのため、電流がめっき液中
に流れ易く、また薄鋼板との接触抵抗が大きくなる結
果、コンダクターロールが発熱し、腐食性が高まってコ
ンダクターロールの磨耗が一層促進されると考えたから
である。Of course, the output side conductor roll is similar to the input side conductor roll 7. The abrasive buff having a grain size of # 600 is used. As in the conventional example, when the abrasive grain having a grain size of # 180 is used, the surface roughness of the surface of the conductor roll becomes rough. Therefore, it is considered that the current easily flows in the plating solution and the contact resistance with the thin steel sheet increases, and as a result, the conductor roll generates heat, corrosiveness increases, and wear of the conductor roll is further promoted.
【００３３】本実施例においては、研磨バフの一端側
が、入側コンダクターロールの一端側より２０ｍｍ手前
(入側コンダクターロールの他端側では研磨バフの他端
側が１８０ｍｍ突出する。)まで移動すると、この研磨
バフを逆方向に移動させるようにしている。しかしなが
ら、研磨バフの一端側が、入側コンダクターロールの一
端側に一致した時点で逆方向に移動させるようにしても
良い。但し、研磨バフの位置調整の容易性を考慮する
と、研磨バフの一端側が、入側コンダクターロールの一
端側に一致する手前で逆方向に移動させる方が好まし
い。なお、研磨バフを逆方向に移動させるタイミング
は、特に２０ｍｍ手前に限るものではなく、例えば研磨
バフを１０ｍｍ手前で逆方向に移動させても、また１５
ｍｍ手前で逆方向に移動させても良いものである。In this embodiment, one end side of the polishing buff is 20 mm before the one end side of the entrance side conductor roll.
The polishing buff is moved in the opposite direction when it moves to (the other end side of the entrance-side conductor roll protrudes 180 mm at the other end side). However, the polishing buff may be moved in the opposite direction at the time when one end side of the polishing buff coincides with one end side of the entrance side conductor roll. However, considering the ease of adjusting the position of the polishing buff, it is preferable to move one end side of the polishing buff in the opposite direction before the one end side of the input side conductor roll. The timing of moving the polishing buff in the reverse direction is not limited to 20 mm before, and for example, even if the polishing buff is moved in the reverse direction 10 mm before,
It may be moved in the opposite direction before mm.
【００３４】ところで、テストピースのラボテストで
は、硫酸亜鉛を主成分とするめっき液に対するＣｒ3Ｃ2
−ＮｉＣｒの腐食速度は０．０７ｍｍ／年であり、また
前記ＷＣ−ＮｉＣｒの腐食速度は０．１２ｍｍ／年であ
るという結果が得られた。従って、このＣｒ3Ｃ2−Ｎｉ
Ｃｒを溶射したコンダクターロールでは、本実施例で用
いたＷＣ−ＮｉＣｒを溶射したコンダクターロールと同
等以上の耐磨耗特性が得られると考えられる。因みに、
ハステロイＣ、Ｃｏ−Ｍｏ−Ｃｒ−Ｓｉ、ＷＣ−ＣｏＣ
ｒについても腐食テストを行った。それらの腐食速度
は，それぞれ０．６８ｍｍ／年、１．１ｍｍ／年、３．
３７ｍｍ／年であるから、ＷＣ−ＮｉＣｒやＣｒ3Ｃ2−
ＮｉＣｒのめっき液に対する耐腐食性は極めて優れてい
ることが分る。By the way, in the lab test of the test piece, Cr 3 C 2 was added to the plating solution containing zinc sulfate as the main component.
It was found that the corrosion rate of -NiCr was 0.07 mm / year, and the corrosion rate of WC-NiCr was 0.12 mm / year. Therefore, this Cr 3 C 2 -Ni
It is considered that the conductor roll sprayed with Cr has the same or higher abrasion resistance as that of the conductor roll sprayed with WC-NiCr used in this example. By the way,
Hastelloy C, Co-Mo-Cr-Si, WC-CoC
A corrosion test was also performed on r. Their corrosion rates are 0.68 mm / year, 1.1 mm / year, and 3.
Because it is 37mm / year, WC-NiCr and Cr 3 C 2 -
It can be seen that the corrosion resistance of NiCr to the plating solution is extremely excellent.
【００３５】４０日経過後でもめっき面に何らの異常も
発見することができず亜鉛めっき製品は全く正常(「亜
鉛巻き」、「肌荒れ」、「押し疵」というような欠陥は
全く発生していない)であった。しかしながら、４０日
間経過後の状況を確認するためにコンダクターロールを
取外して寸法検査を行った。その結果は、縦軸に磨耗量
(ｍｍ)をとり、横軸にコンダクターロールの長さ(ｍｍ)
をとって示す図３の通りである。即ち、この図３によれ
ば、コンダクターロールの中央部の方が端部よりも若干
磨耗量が大きいものの、端部と中央部との寸法差は０．
２ｍｍの範囲内に収まっていた。また、入側コンダクタ
ーロールの表面の面粗度は、０．２６〜０．６４Ｒａの
範囲であり、面粗度が０．２６Ｒａである新品のコンダ
クターロールの表面と比較しても遜色がないことが分っ
た。No abnormality was found on the plated surface even after 40 days, and the galvanized product was completely normal (no defects such as "zinc winding", "rough skin", "blemishes") occurred at all. )Met. However, in order to confirm the situation after 40 days, the conductor roll was removed and a dimensional inspection was performed. The result is the amount of wear on the vertical axis.
(mm), the horizontal axis is the length of the conductor roll (mm)
It is as shown in FIG. That is, according to FIG. 3, although the central portion of the conductor roll has a slightly larger amount of wear than the end portion, the dimensional difference between the end portion and the central portion is 0.
It was within the range of 2 mm. The surface roughness of the surface of the inlet side conductor roll is in the range of 0.26 to 0.64 Ra, which is comparable to the surface of a new conductor roll having a surface roughness of 0.26 Ra. I understood.
【００３６】次いで、本発明に係る連続電気めっき装置
の優位性を確認するために下記の試験を行った。即ち、
粒度＃６００の研磨材(ＳｉＣ)を有する従来例に係る構
成の研磨バフを２ｍ／分の速度で往復動させて、本実施
例で用いたコンダクターロールと同仕様のコンダクター
ロールを研磨しながら薄鋼板を通板して亜鉛めっきし
た。薄鋼板のめっき開始から暫くの間は何らの問題も発
生しなかったが、２５日後に「亜鉛巻き」が発生したの
で、コンダクターロールを取外してその寸法を測定し
た。Next, the following tests were conducted to confirm the superiority of the continuous electroplating apparatus according to the present invention. That is,
A polishing buff having a structure according to a conventional example having an abrasive (SiC) having a grain size of # 600 is reciprocated at a speed of 2 m / min to polish a conductor roll having the same specifications as the conductor roll used in this example. A steel plate was passed and galvanized. Although no problems occurred for a while from the start of plating of the thin steel sheet, "zinc winding" occurred after 25 days, so the conductor roll was removed and the dimensions were measured.
【００３７】その結果、縦軸に磨耗量(ｍｍ)をとり、横
軸にコンダクターロールの長さ(ｍｍ)をとって示す図４
の通りである。研磨材の粒度が粗いと腐食性が高まって
磨耗が促進されることを考慮して粒度＃６００の研磨材
を用いたにもかかわらず従来例と同様である。つまり、
この図４によれば、コンダクターロールの薄鋼板が接触
しない端部では０．０５〜０．２ｍｍ磨耗し、そして薄
鋼板が接触する中央部では０．８ｍｍ磨耗している。As a result, FIG. 4 shows the wear amount (mm) on the vertical axis and the length (mm) of the conductor roll on the horizontal axis.
Is the street. This is the same as the conventional example, even though the abrasive having a grain size of # 600 was used in consideration of the fact that if the grain size of the abrasive is coarse, corrosiveness is increased and abrasion is accelerated. That is,
According to FIG. 4, 0.05 to 0.2 mm is worn at the end where the thin steel plates of the conductor roll do not contact, and 0.8 mm is worn at the central part where the thin steel plates contact.
【００３８】本発明に係る研磨バフは、１１台のめっき
装置がシリーズに配設された２２本のコンダクターロー
ルを備えた連続電気めっきラインに採用しており、使用
開始から２月間経過し、またコンダクターロールは使用
開始から４５日間経過している。しかしながら、この連
続電気めっきラインは何ら異常のない状態で稼働し続け
ている。よって、本発明は従来例に比較して信頼性が大
幅に向上しており、保全費の削減と亜鉛めっき製品の生
産性の向上に対して大いに寄与することができるという
優れた効果を奏することができる。The polishing buff according to the present invention is used in a continuous electroplating line having 22 conductor rolls in which 11 plating devices are arranged in series, and two months have passed since the start of use, and The conductor roll has been used for 45 days. However, this continuous electroplating line continues to operate without any abnormality. Therefore, the present invention has significantly improved reliability as compared with the conventional example, and has an excellent effect that it can greatly contribute to reduction of maintenance cost and improvement of productivity of galvanized products. You can
【００３９】以上の実施の形態、および実施例において
は、研磨バフが一体的に構成されている場合を説明し
た。しかしながら、例えば複数の所定長さのバフユニッ
トを直列に接続した継ぎ足し構成にすることができる。
この場合、接合部分では研磨機能(コンダクターロール
の表面に筋痕が生じる恐れがある。)が劣るように考え
られるが、研磨バフはコンダクターロールの長手方向に
往復動されるので、特にコンダクターロールの表面の研
磨面に問題が生じるようなことがない。In the above-mentioned embodiments and examples, the case where the polishing buff is integrally formed has been described. However, for example, a bundling unit having a plurality of predetermined lengths may be connected in series to form a replenishing structure.
In this case, it is considered that the polishing function (there is a possibility that streaks may occur on the surface of the conductor roll) is poor at the bonded portion, but since the polishing buff is reciprocated in the longitudinal direction of the conductor roll, it is particularly difficult to perform No problem occurs on the polished surface.
【００４０】このように、研磨バフを継ぎ足し構成にす
ることにより、研磨バフ自体の製造が容易になるので、
一体構成の研磨バフに比較して研磨バフ自体が安価にな
るというコスト低減効果が得られる。さらに、研磨バフ
の長手方向の両端部分に、この研磨バフの長手方向の中
央部分に配設するバフユニットよりも粗い粒度の研磨材
を有するバフユニットを配設する構成にすることができ
る。このように、研磨バフの端部と中央部とのバフユニ
ットの研磨材の粒度に粒度差をつけることにより、コン
ダクターロールの両端部と、中央部との寸法差を一層小
さくすることができる。従って、連続電気めっきライン
安定稼働時間の一層の延長と、亜鉛めっき製品品質の一
層の向上とに寄与することができる。なお、研磨バフの
両端部には、コンダクターロールの端部部分の表面を、
許容し得る面粗度に研磨し得る粒度の研磨材を有するバ
フユニットを配設すれば良い。By thus adding the polishing buffs, the polishing buffs themselves can be easily manufactured.
The polishing buff itself is less expensive than the polishing buff having an integral structure, and thus a cost reduction effect can be obtained. Further, a buff unit having an abrasive having a coarser grain size than that of the buff unit arranged at the central portion in the longitudinal direction of the polishing buff can be arranged at both end portions in the longitudinal direction of the polishing buff. In this way, by making a difference in the particle size of the abrasive material of the buff unit between the end portion and the central portion of the polishing buff, it is possible to further reduce the dimensional difference between the both end portions of the conductor roll and the central portion. Therefore, it is possible to contribute to further extension of the stable operation time of the continuous electroplating line and further improvement of the quality of galvanized products. In addition, at both ends of the polishing buff, the surface of the end portion of the conductor roll,
A buff unit having an abrasive having a grain size capable of polishing to an acceptable surface roughness may be provided.
【００４１】ところで、以上では、薄鋼板を亜鉛めっき
する電気めっき装置の場合を例として説明したが、鋼板
に限らず、例えば銅板やアルミニウム板をめっきする電
気めっき装置に対しても本発明の技術的思想を適用する
ことができる。また、ハロゲンラインと呼ばれる連続電
気めっきラインを構成するめっき装置のコンダクターロ
ールに適用した例を説明した。しかしながら、フェロス
タンラインと呼ばれる連続電気めっきラインを構成する
めっき装置のコンダクターロールに対しても本発明の技
術的思想を適用することができるので、上記実施の形態
や実施例によって、本発明の適用範囲が限定されるもの
ではない。さらに、上記実施の形態は、本発明の１具体
例に過ぎないから、本発明の技術的思想を逸脱しない範
囲内における設計変更などは自由自在である。By the way, in the above, the case of the electroplating apparatus for galvanizing a thin steel sheet has been described as an example, but the technique of the present invention is not limited to the steel sheet, and may be applied to an electroplating apparatus for plating a copper plate or an aluminum plate, for example. Can be applied. Further, an example has been described in which the invention is applied to a conductor roll of a plating apparatus that constitutes a continuous electroplating line called a halogen line. However, since the technical idea of the present invention can be applied to the conductor roll of the plating apparatus that constitutes a continuous electroplating line called a ferrostan line, the application of the present invention can be achieved by the above-described embodiment and examples. The range is not limited. Further, the above-described embodiment is only one specific example of the present invention, and thus design changes and the like can be freely made within the scope not departing from the technical idea of the present invention.
【００４２】[0042]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の請求項１
または２に係る金属板の連続電気めっき方法および本発
明の請求項３乃至６に係る金属板の連続電気めっき装置
では、研磨バフの長さはコンダクターロールよりも長
い。そして、研磨バフの移動位置の如何を問わず、コン
ダクターロールの長手方向の全域が必ず研磨バフにより
研磨され続ける。そのため、コンダクターロールの長手
方向の平坦度が確保され、コンダクターロールの表面の
研磨不足が無くなり、さらにその表面に付着する異物も
確実に除去される。As described in detail above, the first aspect of the present invention
Alternatively, in the continuous electroplating method for a metal plate according to the second aspect and the continuous electroplating apparatus for a metal plate according to claims 3 to 6 of the present invention, the length of the polishing buff is longer than that of the conductor roll. Then, regardless of the movement position of the polishing buff, the entire length of the conductor roll in the longitudinal direction is always kept polished by the polishing buff. Therefore, the flatness in the longitudinal direction of the conductor roll is ensured, insufficient polishing of the surface of the conductor roll is eliminated, and foreign matter attached to the surface is also reliably removed.
【００４３】従って、本発明の請求項１または２に係る
金属板の連続電気めっき方法および本発明の請求項３乃
至６に係る金属板の連続電気めっき装置によれば、下記
の通りの項かを得ることができる。
めっき面の「亜鉛巻き」、「肌荒れ」、「押し疵」
というような欠陥の発生が長期間にわたって防止され、
品質に優れた亜鉛めっき製品を製造することができる。
コンダクターロールの交換時間間隔が延長されるの
で、めっき装置の補修費の削減が可能になると共に、亜
鉛めっき製品の生産性が向上するという種々の効果があ
る。Therefore, according to the continuous electroplating method for a metal plate according to claim 1 or 2 of the present invention and the continuous electroplating apparatus for a metal plate according to claims 3 to 6 of the present invention, the following items can be obtained. Can be obtained. "Zinc winding", "Rough skin", "Push marks" on the plated surface
The occurrence of such defects is prevented for a long time,
It is possible to manufacture galvanized products with excellent quality. Since the replacement time interval of the conductor roll is extended, it is possible to reduce the repair cost of the plating apparatus and improve the productivity of galvanized products.
【００４４】本発明の請求項５に係る金属板の連続電気
めっき装置によれば、研磨バフは複数のバフユニットが
直列に接続された継ぎ足し構成である。従って、研磨バ
フ自体の製造が容易で、一体構成の研磨バフに比較し
て、研磨バフ自体が安価になるというコスト低減効果が
ある。In the continuous electroplating apparatus for metal plates according to the fifth aspect of the present invention, the polishing buff has a replenishing structure in which a plurality of buff units are connected in series. Therefore, the polishing buff itself can be easily manufactured, and the polishing buff itself has a lower cost than the polishing buff having an integral structure.
【００４５】本発明の請求項６に係る金属板の連続電気
めっき装置によれば、研磨バフの長手方向の両端部分
に、この研磨バフの中央部分に配設するバフユニットよ
りも粗い劉殿研磨材を有するバフユニットが配設されて
いる。そのため、コンダクターロールの両端部を中央部
分よりも効果的に研磨することができる。従って、コン
ダクターロールの長手方向の平坦度向上に寄与すること
ができ、ひいては連続電気めっきライン安定稼働時間の
一層の延長と、亜鉛めっき製品品質の一層の向上とに寄
与することができるという優れた効果を奏することがで
きる。According to the sixth aspect of the present invention, there is provided a continuous electroplating apparatus for a metal plate, which is rougher than the buff unit arranged at the central portion of the polishing buff at both ends in the longitudinal direction of the polishing buff. A buff unit having a material is arranged. Therefore, both end portions of the conductor roll can be polished more effectively than the central portion. Therefore, it is possible to contribute to the improvement of the flatness in the longitudinal direction of the conductor roll, which in turn contributes to the further extension of the stable operation time of the continuous electroplating line and the further improvement of the galvanized product quality. It is possible to exert an effect.
【図１】本発明の実施の形態に係り、ロール研磨装置の
正面図である。FIG. 1 is a front view of a roll polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】図１のＡ矢視図である。FIG. 2 is a view on arrow A in FIG.
【図３】本発明の実施例に係り、縦軸に磨耗量(ｍｍ)を
とり、横軸にコンダクターロールの長さ(ｍｍ)をとって
示す、コンダクターロールの磨耗説明図である。FIG. 3 is an abrasion explanatory diagram of a conductor roll, in which the vertical axis represents the amount of wear (mm) and the horizontal axis represents the length (mm) of the conductor roll according to the embodiment of the present invention.
【図４】従来例に係り、縦軸に磨耗量(ｍｍ)をとり、横
軸にコンダクターロールの長さ(ｍｍ)をとって示す、コ
ンダクターロールの磨耗説明図である。FIG. 4 is a wear explanatory diagram of a conductor roll, in which the wear amount (mm) is plotted on the vertical axis and the length (mm) of the conductor roll is plotted on the horizontal axis according to the conventional example.
【図５】従来例に係り、ハロゲンラインと呼ばれる連続
電気めっきラインを構成する１つのめっき装置の模式的
斜視図である。FIG. 5 is a schematic perspective view of one plating apparatus that constitutes a continuous electroplating line called a halogen line according to a conventional example.
１…めっき装置、２…めっき槽、３…入側ダムロール、
４…出側ダムロール、５…入側電極、６…出側電極、７
…入側コンダクターロール、８…出側コンダクターロー
ル、９…バックアップロール
１０…ロール研磨装置、１１…ガイドロッド、１２…バ
フ支持体、１３…研磨バフ
２０…ロール研磨装置、２１…下部フレーム、２２…軸
支持金具、２３…往復動フレーム、２３ａ…摺動軸、２
４…エアシリンダ、２４ａ…圧縮空気供給ホース、２５
…ガイドロッド、２６…バフ支持フレーム、２７…連結
ピン、２８…研磨バフ、２９…固着手段
３０…バフ作動手段、３１…ギヤモータ付ギヤボック
ス、３２…回転アーム、３３…クランクリンク、３４…
ブラケット1 ... Plating device, 2 ... Plating tank, 3 ... Inlet dam roll,
4 ... Outgoing dam roll, 5 ... Incoming electrode, 6 ... Outgoing electrode, 7
Incoming conductor roll, 8 Outgoing conductor roll, 9 Backup roll 10, Roll polishing apparatus 11, Guide rod, 12 Buff support, 13 Polishing buff 20, Roll polishing apparatus 21, Lower frame, 22 ... Shaft support fittings, 23 ... Reciprocating frame, 23a ... Sliding shaft, 2
4 ... Air cylinder, 24a ... Compressed air supply hose, 25
... guide rod, 26 ... buff support frame, 27 ... connecting pin, 28 ... polishing buff, 29 ... fixing means 30 ... buff actuating means, 31 ... gear box with gear motor, 32 ... rotating arm, 33 ... crank link, 34 ...
bracket
フロントページの続き (72)発明者 中山 忠 兵庫県加古川市金沢町１番地 株式会社神 戸製鋼所加古川製鉄所内 (72)発明者 花田 和範 兵庫県加古川市金沢町１番地 株式会社神 戸製鋼所加古川製鉄所内 (72)発明者 福田 祥二 兵庫県加古川市金沢町１番地 株式会社神 戸製鋼所加古川製鉄所内 (72)発明者 長田 清 兵庫県加古川市金沢町１番地 株式会社神 戸製鋼所加古川製鉄所内 Ｆターム(参考） 4K024 BC01 CB10 Continued front page (72) Inventor Tadashi Nakayama 1 Kanazawa Town, Kakogawa City, Hyogo Prefecture To Steel Works, Kakogawa Works (72) Inventor Kazunori Hanada 1 Kanazawa Town, Kakogawa City, Hyogo Prefecture To Steel Works, Kakogawa Works (72) Inventor Shoji Fukuda 1 Kanazawa Town, Kakogawa City, Hyogo Prefecture To Steel Works, Kakogawa Works (72) Inventor Kiyoshi Nagata 1 Kanazawa Town, Kakogawa City, Hyogo Prefecture To Steel Works, Kakogawa Works F-term (reference) 4K024 BC01 CB10
Claims (6)
磨しながら、このコンダクターロールに接して通板され
ている金属板をめっきする金属板の連続電気めっき方法
において、前記コンダクターロールの全長を超える長さ
を有する研磨バフを、前記コンダクターロールの表面に
押圧、かつこのコンダクターロールの長手方向に往復動
させながら、このコンダクターロールの表面を研磨する
ことを特徴とする金属板の連続電気めっき方法。1. A continuous electroplating method for a metal plate, comprising plating a conductor plate in contact with the conductor roll while polishing the conductor roll with a polishing buff, wherein a length exceeding the entire length of the conductor roll is provided. A continuous electroplating method for a metal plate, which comprises polishing the surface of the conductor roll while pressing the polishing buff included therein against the surface of the conductor roll and reciprocating in the longitudinal direction of the conductor roll.
方側に移動している研磨バフの一端側が、前記コンダク
ターロールの一端側を通過して他端側に移動する前に、
この研磨バフを他方側に移動させることを特徴とする請
求項１に記載の金属板の連続電気めっき方法。2. Before one end side of the polishing buff moving to one side in the longitudinal direction of the conductor roll passes through one end side of the conductor roll and moves to the other end side,
The continuous electroplating method for a metal plate according to claim 1, wherein the polishing buff is moved to the other side.
それぞれの金属板出入側に、通板中の金属板に転接する
コンダクターロールを備えると共に、このコンダクター
ロールの表面を押圧してこのコンダクターロールの表面
を研磨する、このコンダクターロールの全長を超える長
さの研磨バフを有し、かつこの研磨バフを、前記コンダ
クターロールの長手方向の全域にわたって常に接する状
態に、このコンダクターロールの長手方向に往復動させ
るバフ作動手段を有するロール研磨装置を備えたことを
特徴とする金属板の連続電気めっき装置。3. A plurality of plating tanks are provided, and a conductor roll for rolling contact with the metal plate in the threaded plate is provided on the metal plate loading / unloading side of each of these plating tanks, and the conductor roll is pressed by pressing the surface of the conductor roll. Having a polishing buff having a length exceeding the entire length of the conductor roll for polishing the surface of the conductor roll, and reciprocating in the longitudinal direction of the conductor roll so that the polishing buff is always in contact with the entire length of the conductor roll in the longitudinal direction. A continuous electroplating device for a metal plate, comprising a roll polishing device having a buff actuating means for moving.
構成であることを特徴とする請求項３に記載の金属板の
連続電気めっき装置。4. The continuous electroplating apparatus for metal plates according to claim 3, wherein the polishing buff of the roll polishing apparatus has an integral structure.
の所定長さのバフユニットを直列に接続した継ぎ足し構
成であることを特徴とする請求項３に記載の金属板の連
続電気めっき装置。5. The continuous electroplating apparatus for metal plates according to claim 3, wherein the polishing buff of the roll polishing apparatus has a replenishing structure in which a plurality of buff units having a predetermined length are connected in series.
向の両端部分に、この研磨バフの長手方向の中央部分に
配設するバフユニットの研磨材よりも粗い粒度の研磨材
を有するバフユニットを配設したことを特徴とする請求
項５に記載の金属板の連続電気めっき装置。6. A buff unit having an abrasive material having a coarser grain size than the abrasive material of the buff unit disposed at the longitudinal center portion of the polishing buff of the roll polishing apparatus at both longitudinal end portions thereof. The continuous electroplating device for a metal plate according to claim 5, wherein the device is provided.
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