JP2003268241A - Liquid crystalline resin composition for molding and molded circuit board - Google Patents

Liquid crystalline resin composition for molding and molded circuit board

Info

Publication number
JP2003268241A
JP2003268241A JP2002068533A JP2002068533A JP2003268241A JP 2003268241 A JP2003268241 A JP 2003268241A JP 2002068533 A JP2002068533 A JP 2002068533A JP 2002068533 A JP2002068533 A JP 2002068533A JP 2003268241 A JP2003268241 A JP 2003268241A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystalline
crystalline resin
molded
metal film
resin composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002068533A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiki Makabe
芳樹 真壁
Masaru Okamoto
勝 岡本
Naoto Ikegawa
直人 池川
Masahiro Sato
正博 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Matsushita Electric Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc, Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2002068533A priority Critical patent/JP2003268241A/en
Publication of JP2003268241A publication Critical patent/JP2003268241A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystalline resin composition for molding which is improved in the adhesiveness of the liquid crystalline resin to a metal and is excellent in thin-wall moldability, precision moldability and dimensional stability based on the excellent fluidity, heat resistance and mechanical properties of the liquid crystalline resin; and a molded circuit board which has circuit adhesiveness, heat resistance and dimensional stability suitable for a small precision electronic circuit instrument. <P>SOLUTION: The liquid crystalline resin composition for molding comprises 10 parts by weight of (A) a liquid crystalline resin and 0.5-30 parts by weight of (B) an amorphous resin having a repeating unit having at least one aromatic ring, wherein the moldings will be treated to have a formed metal film on the surface. The steric molded circuit board is produced by injection molding the composition to get a molding, which is treated with plasma on the surface followed by spattering or the like to form a metal film and then irradiating laser ray to carry out circuit patterning. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属膜密着性が改
良された流動性と耐熱性、機械的物性に優れた成形品用
液晶性樹脂組成物およびこれを用いた成形回路基板に関
するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a liquid crystalline resin composition for molded articles having improved fluidity, heat resistance, and mechanical properties with improved metal film adhesion, and a molded circuit board using the same. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】熱可塑性樹脂はその優れた諸特性を生か
し、射出成形材料として機械機構部品、電気電子部品、
自動車部品などの幅広い分野に利用されている。近年こ
のように利用されている熱可塑性樹脂の高性能化に対す
る要求がますます高まり、種々の新規性能を有するポリ
マが数多く開発されている。中でも分子鎖の平行な配列
を特徴とする溶融時に光学異方性を示す液晶性樹脂が優
れた流動性と寸法安定性、機械的物性を有する点で注目
されている。
2. Description of the Related Art Thermoplastic resins take advantage of their excellent characteristics and are used as injection molding materials for mechanical and mechanical parts, electric and electronic parts,
It is used in a wide range of fields such as automobile parts. In recent years, there has been an increasing demand for higher performance of the thermoplastic resins used in this way, and many polymers having various new properties have been developed. Among them, a liquid crystalline resin having an optical anisotropy when melted, which is characterized by parallel arrangement of molecular chains, has been drawing attention because it has excellent fluidity, dimensional stability, and mechanical properties.

【0003】そして、液晶性樹脂は、耐熱性や耐薬品
性、低線膨張率、難燃性、機械的強度・弾性率、更には
電気的特性などにも優れているために,電子部品や機械
部品等の広い分野で利用されている。
Liquid crystal resins are excellent in heat resistance, chemical resistance, low linear expansion coefficient, flame retardancy, mechanical strength and elastic modulus, and electrical characteristics. It is used in a wide range of fields such as machine parts.

【0004】また、液晶性樹脂は、薄肉流動性に優れる
ことから電気電子部品の小型化に寄与してきた。
The liquid crystalline resin, which is excellent in thin-wall fluidity, has contributed to miniaturization of electric and electronic parts.

【0005】特に、エレクトロニクス分野で関連の深い
はんだ耐熱性については、液晶性樹脂はプラスチックの
中で最高の部類に位置する。その特徴は、ポリエチレン
テレフタレートやポリブチレンテレフタレートとは異な
って、溶融状態でも分子の配向がみられ、その配向した
分子の絡み合いが少なく、僅かなせん断を受けるだけで
一方向に配向し、液状でも結晶性を示すいわゆる液晶性
を示すところにあり、温度を下げても溶融状態における
分子の配向がそのまま固定され、これによって、例えば
薄肉流動性などの成形加工性や強度、弾性率などの機械
的特性、あるいは寸法安定性、耐熱性などの種々の優れ
た特性が発現されるものである。また、成形加工性にも
優れることも相まって、液晶性樹脂を成形して得られた
成形体をMID(Molded Interconnect Device)等の樹
脂成形回路基板として用いることが行われている。
Especially, regarding the soldering heat resistance, which is closely related to the electronics field, the liquid crystalline resin is the highest class among plastics. Its characteristics are that unlike polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, the orientation of the molecules is observed even in the molten state, there is little entanglement of the oriented molecules, it is oriented in one direction only by receiving a slight shear, and it is crystallized even in a liquid state. It has a liquid crystallinity, and even if the temperature is lowered, the orientation of the molecules in the molten state is fixed as it is, so that, for example, moldability such as thin fluidity and mechanical properties such as strength and elastic modulus. Alternatively, various excellent properties such as dimensional stability and heat resistance are exhibited. In addition, due to excellent moldability, a molded product obtained by molding a liquid crystalline resin is used as a resin molded circuit board such as MID (Molded Interconnect Device).

【0006】しかし、液晶性樹脂が耐熱性や耐薬品性に
優れていることからもわかるように、分子鎖が極めて剛
直で直線的であるため化学的に極めて不活性であり、プ
ラズマ処理等による表面改質が為されにくい。そのた
め,プラズマ処理を行った後に、真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法(P
VD法)で金属膜を形成した場合、0.2〜0.25N/
mm程度の低い密着強度しか得られず、実用に供すること
ができないものであった。
However, as can be seen from the fact that the liquid crystalline resin is excellent in heat resistance and chemical resistance, the molecular chain is extremely rigid and linear, so it is chemically extremely inactive, and it is Surface modification is difficult. Therefore, after the plasma treatment, a physical vapor deposition method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method (P
When a metal film is formed by the VD method), 0.2 to 0.25 N /
Only a low adhesion strength of about mm was obtained, which was not practical.

【0007】そこで、液晶性樹脂を成形して作製した成
形体を回路基板として用いる場合、回路を構成する金属
膜との密着強度を高くするために、成形体の表面を化学
的あるいは物理的に粗面化することが行われている。
Therefore, when a molded product produced by molding a liquid crystalline resin is used as a circuit board, the surface of the molded product is chemically or physically treated in order to increase the adhesion strength with the metal film forming the circuit. Roughening is performed.

【0008】例えば、特公平7−24328号公報に
は、液晶性樹脂を成形した成形体をエッチング処理した
後、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着
のいずれかの方法で表面金属被覆処理するようにした技
術が開示されている。
For example, in Japanese Examined Patent Publication No. 7-24328, after a molded body molded of a liquid crystalline resin is subjected to an etching treatment, a surface metal coating treatment is carried out by any one of sputtering, ion plating and vacuum deposition. This technology is disclosed.

【0009】また、特許2714440号公報には、液
晶性樹脂を成形した成形体を、真空槽内で表面温度60
℃以上となるように加熱しながらスパッタリング、イオ
ンプレーティング、真空蒸着のいずれかの方法で表面金
属被覆処理するようにした技術が開示されている。
Further, in Japanese Patent No. 2714440, a molded body obtained by molding a liquid crystalline resin is used, and the surface temperature is 60 in a vacuum chamber.
A technique is disclosed in which the surface metal coating treatment is performed by any one of sputtering, ion plating, and vacuum deposition while heating to a temperature of not less than 0 ° C.

【0010】なお、特開平1−252657号公報に
は、液晶ポリエステルと熱可塑性樹脂とからなる耐熱性
と流動性および機械的性質に優れた樹脂組成物およびそ
の成形品等が開示されており、また、特開平1−292
058公報には、液晶ポリエステルとポリフェニレンス
ルフィドとからなる耐熱性、成形性、流動性、耐加水分
解性、機械的性質に優れた熱可塑性樹脂組成物が開示さ
れているが、成形品表面に金属膜形成処理をする点につ
いては全く開示されていない。
JP-A-1-252657 discloses a resin composition composed of a liquid crystal polyester and a thermoplastic resin, which is excellent in heat resistance, fluidity and mechanical properties, a molded product thereof, and the like. In addition, JP-A-1-292
Japanese Patent No. 058 discloses a thermoplastic resin composition comprising liquid crystal polyester and polyphenylene sulfide, which is excellent in heat resistance, moldability, fluidity, hydrolysis resistance, and mechanical properties. There is no disclosure regarding the film forming treatment.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上記前者の特公平7−
24328号公報のものは、エッチング処理を行うこと
によって成形体の表面を粗面化し、粗面の凹凸に対する
金属膜の機械的投錨効果に基づいて密着力を得ようとす
るものである。しかし、成形体の表面を粗面化すると成
形体の表面に形成する回路の精密細線化が困難になり、
例えば回路のライン幅0.25mm、隣り合う回路間の
スペース幅0.25mm程度が限界になって、ライン幅
0.1mm以下、スペース幅0.1mm以下のような精
密細線の回路を形成することはできないという問題があ
った。
[Problems to be Solved by the Invention] 7-
According to Japanese Patent No. 24328, the surface of a molded body is roughened by performing an etching treatment, and an adhesive force is obtained based on the mechanical anchoring effect of the metal film with respect to the unevenness of the roughened surface. However, if the surface of the molded body is roughened, it will be difficult to make fine lines in the circuit formed on the surface of the molded body.
For example, the line width of a circuit is 0.25 mm, the space width between adjacent circuits is about 0.25 mm, and a fine line circuit with a line width of 0.1 mm or less and a space width of 0.1 mm or less is formed. There was a problem that I could not.

【0012】また、後者の特許2714440号公報の
ものでは、成形体を表面温度60℃以上に加熱しながら
表面金属被覆処理をしても、液晶性樹脂と金属膜の間に
は化学的結合が介在しないので、金属膜の高い密着性を
得ることは困難であり、特に熱負荷を受けた後の密着性
に問題があった。
Further, in the latter Japanese Patent No. 2714440, even if the surface metal coating treatment is performed while heating the molded body to a surface temperature of 60 ° C. or higher, a chemical bond is formed between the liquid crystalline resin and the metal film. Since there is no interposition, it is difficult to obtain high adhesiveness of the metal film, and there is a problem in adhesiveness especially after receiving a heat load.

【0013】本発明は上記のような問題を解決し、液晶
性樹脂の金属との密着性を改良し、さらに液晶性樹脂の
優れた流動性と耐熱性、機械的物性を活かした薄肉で精
密な寸法安定性に優れた、その表面に金属膜形成処理し
て用いられる成形品用の液晶性樹脂組成物を得ること、
および、特に小型精密電子回路機器などに好適な回路密
着性と耐熱性、寸法安定性の優れた成形回路基板を得る
ことを課題とする。
The present invention solves the problems described above, improves the adhesion of liquid crystalline resin to metal, and utilizes the excellent liquidity, heat resistance, and mechanical properties of liquid crystalline resin for thin and precise Excellent in dimensional stability, to obtain a liquid crystalline resin composition for a molded product used by forming a metal film on the surface thereof,
Another object is to obtain a molded circuit board having excellent circuit adhesion, heat resistance, and dimensional stability, which is particularly suitable for small precision electronic circuit devices.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。すな
わち、本発明は、(1)液晶性樹脂(A)100重量部
に対して少なくとも1個の芳香環を有する反復単位を含
む非液晶性樹脂(B)0.5〜30重量部を含有してな
る成形品用液晶性樹脂組成物であって、該成形品は成形
品表面に金属膜形成処理することを特徴とする成形品用
液晶性樹脂組成物を提供するものである。
The present inventors have arrived at the present invention as a result of extensive studies to solve the above problems. That is, the present invention comprises (1) 0.5 to 30 parts by weight of a non-liquid crystalline resin (B) containing a repeating unit having at least one aromatic ring with respect to 100 parts by weight of a liquid crystalline resin (A). A liquid crystalline resin composition for a molded article, which comprises the step of forming a metal film on the surface of the molded article.

【0015】さらに、本発明は、次の成形品用液晶性樹
脂組成物および成形回路基板を提供するものである。 (2) 非液晶性樹脂(B)がポリフェニレンスルフイ
ド、芳香族ポリエーテルエーテルケトン、ポリスチレン
から選ばれた1種以上の非液晶性樹脂であることを特徴
とする(1)記載の成形品用液晶性樹脂組成物、 (3)非液晶性樹脂(B)がポリフェニレンスルフイド
であることを特徴とする(1)記載の成形品用液晶性樹
脂組成物、 (4)液晶性樹脂(A)が下記構造単位(I)、(I
I)、(III)および(IV)からなる液晶性ポリエステル
であることを特徴とする(1)〜(3)いずれか記載の
成形品用液晶性樹脂組成物、
Furthermore, the present invention provides the following liquid crystalline resin composition for molded articles and molded circuit boards. (2) The molded product according to (1), wherein the non-liquid crystal resin (B) is one or more non-liquid crystal resin selected from polyphenylene sulfide, aromatic polyether ether ketone and polystyrene. (3) Liquid crystalline resin composition for molded articles according to (1), characterized in that the non-liquid crystalline resin (B) is polyphenylene sulfide, (4) Liquid crystalline resin ( A) is the following structural unit (I), (I
A liquid crystalline resin composition for molded articles according to any one of (1) to (3), which is a liquid crystalline polyester comprising I), (III) and (IV).

【0016】[0016]

【化5】 (ただし式中R1[Chemical 5] (However, R 1 is

【0017】[0017]

【化6】 から選ばれた1種以上の基を示し、R2[Chemical 6] R 2 represents one or more groups selected from

【0018】[0018]

【化7】 から選ばれた1種以上の基を示し、R3[Chemical 7] R 3 represents one or more groups selected from

【0019】[0019]

【化8】 から選ばれた1種以上の基を示す。ただし式中Xは水素
原子または塩素原子を示す。) (5)液晶性樹脂(A)が上記構造単位(I)、(I
I)、(III)、(IV)からなる液晶性ポリエステルであ
って、上記構造単位(I)および(II)の合計は構造単
位(I)、(II)および(III)の合計に対して30〜
95モル%、構造単位(III)は構造単位(I)、(I
I)および(III)の合計に対して70〜5モル%であ
り、構造単位(I)の(II)に対するモル比[(I)/
(II)]は75/25〜95/5であることを特徴とす
る(4)記載の成形品用液晶性樹脂組成物、 (6)液晶性樹脂(A)100重量部に対して充填材
(C)5〜200重量部を含有してなることを特徴とす
る(1)〜(5)いずれか記載の成形品用液晶性樹脂組
成物、 (7)充填材(C)が、繊維径3〜15μm、重量平均
繊維長0.01〜0.6mmであるガラス繊維であり、
その含有量が液晶性樹脂(A)100重量部に対して1
0〜150重量部であることを特徴とする(6)記載の
成形品用液晶性樹脂組成物。 (8)充填材(C)が、繊維径0.05〜5μm、重量
平均繊維長1〜100μmであるウィスカであり、その
含有量が液晶性樹脂(A)100重量部に対して10〜
150重量部であることを特徴とする(6)記載の成形
品用液晶性樹脂組成物。 (9)成形品が、成形品表面にプラズマ処理を施した
後、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング
のいずれかの方法により成形品表面に金属膜形成処理
し、この金属膜上に回路形成されるものであることを特
徴とする(1)〜(8)いずれか記載の成形品用液晶性
樹脂組成物、 (10)成形品が、成形品表面に形成された金属膜に、
レーザ光照射による回路パターニングが行われ、回路形
成されるものであることを特徴とする(1)〜(9)い
ずれか記載の成形品用液晶性樹脂組成物、 (11)(1)〜(10)のいずれかの成形品用液晶性
樹脂組成物を用いて成形した成形品の表面に金属膜が形
成され、この金属膜に回路が形成されてなることを特徴
とする成形回路基板、 (12)成形品の表面に、スパッタリング、真空蒸着、
イオンプレーティングのいずれかの方法により金属膜が
形成されてなることを特徴とする(11)記載の成形回
路基板、 (13)成形品の表面に、プラズマ処理を施した後、ス
パッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングのいず
れかの方法により金属膜が形成されてなることを特徴と
する(12)記載の成形回路基板、 (14)成形品の表面に形成された金属膜に、レーザ光
照射による回路パターニングが行われ、回路形成されて
なることを特徴とする(11)〜(13)のいずれかに
記載の成形回路基板。
[Chemical 8] And one or more groups selected from However, in the formula, X represents a hydrogen atom or a chlorine atom. (5) The liquid crystalline resin (A) has the structural units (I) and (I
A liquid crystalline polyester comprising I), (III) and (IV), wherein the total of the structural units (I) and (II) is based on the total of the structural units (I), (II) and (III). 30 ~
95 mol%, structural unit (III) is structural unit (I), (I
70 to 5 mol% based on the total of I) and (III), and the molar ratio of the structural unit (I) to (II) [(I) /
(II)] is 75/25 to 95/5, (4) The liquid crystalline resin composition for molded articles according to (4), (6) the filler for 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A). (C) 5 to 200 parts by weight of the liquid crystal resin composition for molded articles according to any one of (1) to (5), (7) the filler (C) has a fiber diameter Glass fibers having a weight average fiber length of 3 to 15 μm and a weight average fiber length of 0.01 to 0.6 mm,
The content is 1 with respect to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A).
The liquid crystalline resin composition for molded articles according to (6), which is from 0 to 150 parts by weight. (8) The filler (C) is a whisker having a fiber diameter of 0.05 to 5 μm and a weight average fiber length of 1 to 100 μm, and its content is 10 to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A).
150 parts by weight of the liquid crystalline resin composition for molded articles according to (6). (9) The molded product is subjected to a plasma treatment on the surface of the molded product, and then a metal film is formed on the surface of the molded product by any one of sputtering, vacuum deposition, and ion plating, and a circuit is formed on this metal film. (1) to (8) The liquid crystalline resin composition for a molded article according to any one of (1) to (8), wherein the molded article is a metal film formed on the surface of the molded article,
A liquid crystal resin composition for molded articles according to any one of (1) to (9), characterized in that a circuit is formed by circuit patterning by laser light irradiation, (11) (1) to ( (10) A molded circuit board, wherein a metal film is formed on the surface of a molded product molded using the liquid crystalline resin composition for molded products according to any one of (10) and a circuit is formed on the metal film. 12) Sputtering, vacuum evaporation,
(11) A molded circuit board according to (11), characterized in that a metal film is formed by any one of ion plating methods, and (13) a surface of the molded product is subjected to plasma treatment, followed by sputtering and vacuum deposition. A molded circuit board according to (12), characterized in that a metal film is formed by any one of the following methods: ion plating, and (14) the metal film formed on the surface of the molded product is irradiated with laser light. The molded circuit board according to any one of (11) to (13), which is formed by performing circuit patterning to form a circuit.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】本発明の液晶性樹脂(A)とは、
溶融時に異方性溶融相を形成し得るポリマであり、液晶
性ポリエステル、液晶性ポリエステルアミド、液晶性ポ
リカーボネート、液晶性ポリエステルエラストマなどが
挙げられ、なかでも分子鎖中にエステル結合を有するも
のが好ましく、特に液晶性ポリエステル、液晶性ポリエ
ステルアミドなどが好ましく用いられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The liquid crystalline resin (A) of the present invention is
Polymers that can form an anisotropic molten phase when melted, and include liquid crystalline polyesters, liquid crystalline polyester amides, liquid crystalline polycarbonates, liquid crystalline polyester elastomers, etc. Among them, those having an ester bond in the molecular chain are preferred. In particular, liquid crystalline polyester and liquid crystalline polyesteramide are preferably used.

【0021】本発明に好ましく使用できる液晶性樹脂
(A)は芳香族オキシカルボニル単位としてp−ヒドロ
キシ安息香酸からなる構造単位を含む液晶性ポリエステ
ルであり、また、エチレンジオキシ単位を必須成分とす
る液晶性ポリエステルも好ましく使用できる。さらに好
ましくは下記構造単位(I) 、(III)および(IV)か
らなるポリエステルあるいは(I)、(II)、(III)
および(IV)の構造単位からなるポリエステルであり、
最も好ましいのは(I)、(II)、(III)および(I
V)の構造単位からなるポリエステルである。
The liquid crystalline resin (A) which can be preferably used in the present invention is a liquid crystalline polyester containing a structural unit composed of p-hydroxybenzoic acid as an aromatic oxycarbonyl unit, and has an ethylenedioxy unit as an essential component. Liquid crystalline polyester can also be preferably used. More preferably, a polyester comprising the following structural units (I), (III) and (IV) or (I), (II), (III)
And a polyester composed of structural units (IV),
Most preferred are (I), (II), (III) and (I
V) is a polyester composed of structural units.

【0022】[0022]

【化9】 (ただし式中のR1[Chemical 9] (However, R 1 in the formula is

【0023】[0023]

【化10】 から選ばれた1種以上の基を示し、R2[Chemical 10] R 2 represents one or more groups selected from

【0024】[0024]

【化11】 から選ばれた1種以上の基を示し、R3[Chemical 11] R 3 represents one or more groups selected from

【0025】[0025]

【化12】 から選ばれた1種以上の基を示す。ただし式中Xは水素
原子または塩素原子を示す。) なお、構造単位(II)および(III)の合計と構造単位
(IV)は実質的に等モルであることが望ましい。
[Chemical 12] And one or more groups selected from However, in the formula, X represents a hydrogen atom or a chlorine atom. It is desirable that the total of the structural units (II) and (III) and the structural unit (IV) be substantially equimolar.

【0026】上記構造単位(I)はp−ヒドロキシ安息
香酸および/または2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸か
ら生成した構造単位であり、構造単位(II)は4,4´
−ジヒドロキシビフェニル、3,3´,5,5´−テト
ラメチル−4,4´−ジヒドロキシビフェニル、ハイド
ロキノン、t−ブチルハイドロキノン、フェニルハイド
ロキノン、メチルハイドロキノン、2,6−ジヒドロキ
シナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンおよび
4,4´−ジヒドロキシジフェニルエーテルから選ばれ
た一種以上の芳香族ジヒドロキシ化合物から生成した構
造単位を、構造単位(III) はエチレングリコールから
生成した構造単位を、構造単位(IV)はテレフタル酸、
イソフタル酸、4,4´−ジフェニルジカルボン酸、
2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,2−ビス(フェ
ノキシ)エタン−4,4´−ジカルボン酸、1,2−ビ
ス(2−クロルフェノキシ)エタン−4,4´−ジカル
ボン酸および4,4´−ジフェニルエーテルジカルボン
酸から選ばれた芳香族ジカルボン酸から生成した一種以
上の構造単位を各々示す。これらのうちR2
The structural unit (I) is a structural unit formed from p-hydroxybenzoic acid and / or 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and the structural unit (II) is 4,4 '.
-Dihydroxybiphenyl, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, hydroquinone, t-butylhydroquinone, phenylhydroquinone, methylhydroquinone, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxy Naphthalene, 2,
Structural units produced from one or more aromatic dihydroxy compounds selected from 2-bis (4-hydroxyphenyl) propane and 4,4′-dihydroxydiphenyl ether, structural units (III) are structural units produced from ethylene glycol. , Structural unit (IV) is terephthalic acid,
Isophthalic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid,
2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,2-bis (phenoxy) ethane-4,4'-dicarboxylic acid, 1,2-bis (2-chlorophenoxy) ethane-4,4'-dicarboxylic acid and 4,4 Each of one or more structural units formed from an aromatic dicarboxylic acid selected from'-diphenyl ether dicarboxylic acid. Of these, R 2

【0027】[0027]

【化13】 であり、R3[Chemical 13] And R 3 is

【0028】[0028]

【化14】 であるものが特に好ましい。[Chemical 14] Are particularly preferred.

【0029】上記構造単位(I)、(II)、(III)お
よび(IV)の共重合量は任意である。しかし、本発明の
特性を発揮させるためには次の共重合量であることが好
ましい。
The copolymerization amount of the above structural units (I), (II), (III) and (IV) is arbitrary. However, in order to exert the characteristics of the present invention, the following copolymerization amount is preferable.

【0030】すなわち、上記構造単位(I)、(II)、
(III)および(IV)からなる共重合体の場合は、上記
構造単位(I)および(II)の合計は構造単位(I)、
(II)および(III)の合計に対して30〜95モル%
が好ましく、40〜93モル%がより好ましい。また、
構造単位(III)は構造単位(I)、(II)および(II
I)の合計に対して70〜5モル%が好ましく、60〜
7モル%がより好ましい。また、構造単位(I)の(I
I)に対するモル比[(I)/(II)]は好ましくは7
5/25〜95/5であり、より好ましくは78/22
〜93/7である。また、構造単位(IV)は構造単位
(II)および(III)の合計と実質的に等モルであるこ
とが好ましい。
That is, the structural units (I), (II),
In the case of the copolymer composed of (III) and (IV), the total of the structural units (I) and (II) is the structural unit (I),
30 to 95 mol% relative to the sum of (II) and (III)
Is preferred, and 40 to 93 mol% is more preferred. Also,
Structural unit (III) includes structural units (I), (II) and (II
70 to 5 mol% relative to the total of I) is preferred, 60 to
7 mol% is more preferable. In addition, the structural unit (I) (I
The molar ratio [(I) / (II)] to I) is preferably 7
5/25 to 95/5, more preferably 78/22
~ 93/7. Further, the structural unit (IV) is preferably substantially equimolar to the total of the structural units (II) and (III).

【0031】一方、上記構造単位(II)を含まない場合
は流動性の点から上記構造単位(I)は構造単位(I)
および(III)の合計に対して40〜90モル%である
ことが好ましく、60〜88モル%であることが特に好
ましく、構造単位(IV)は構造単位(III)と実質的に
等モルであることが好ましい。
On the other hand, when the structural unit (II) is not contained, the structural unit (I) is the structural unit (I) in view of fluidity.
It is preferably 40 to 90 mol%, particularly preferably 60 to 88 mol%, with respect to the total of (III), and the structural unit (IV) is substantially equimolar to the structural unit (III). Preferably there is.

【0032】また、液晶性ポリエステルアミドとして
は、上記構造単位(I)〜(IV)以外にp−アミノフェ
ノールから生成したp−イミノフェノキシ単位を含有し
た異方性溶融相を形成するポリエステルアミドが好まし
い。
As the liquid crystalline polyesteramide, a polyesteramide forming an anisotropic melt phase containing a p-iminophenoxy unit produced from p-aminophenol in addition to the above structural units (I) to (IV) is used. preferable.

【0033】なお、上記好ましく用いることができる液
晶性ポリエステル、液晶性ポリエステルアミドは、上記
構造単位(I)〜(IV)を構成する成分以外に3,3´
−ジフェニルジカルボン酸、2,2´−ジフェニルジカ
ルボン酸などの芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸などの脂肪族
ジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸などの脂環式
ジカルボン酸、クロルハイドロキノン、3,4´−ジヒ
ドロキシビフェニル、4,4´−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン、4,4´−ジヒドロキシジフェニルスルフ
ィド、4,4´−ジヒドロキシベンゾフェノン、3,4
´−ジヒドロキシビフェニル等の芳香族ジオール、プロ
ピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−
シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメ
タノール等の脂肪族、脂環式ジオールおよびm−ヒドロ
キシ安息香酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸および
p−アミノ安息香酸などを液晶性を損なわない程度の範
囲でさらに共重合せしめることができる。
The liquid crystalline polyester and the liquid crystalline polyesteramide which can be preferably used are 3,3 ′ in addition to the components constituting the structural units (I) to (IV).
-Aromatic dicarboxylic acids such as diphenyldicarboxylic acid and 2,2'-diphenyldicarboxylic acid, aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid, azelaic acid, sebacic acid and dodecanedioic acid, and alicyclic dicarboxylic acids such as hexahydroterephthalic acid , Chlorohydroquinone, 3,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxybenzophenone, 3,4
Aromatic diols such as'-dihydroxybiphenyl, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-
Hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-
Aliphatic and alicyclic diols such as cyclohexanediol and 1,4-cyclohexanedimethanol, and aromatic hydroxycarboxylic acids such as m-hydroxybenzoic acid and p-aminobenzoic acid are further added to the extent that liquid crystallinity is not impaired. It can be copolymerized.

【0034】本発明で使用する液晶性樹脂(A)は、ペ
ンタフルオロフェノール中で対数粘度を測定することが
可能なものもある。その際、0.1g/dlの濃度で6
0℃で測定した値で0.5〜15.0dl/gが好まし
く、1.0〜3.0dl/gが特に好ましい。
Some of the liquid crystalline resins (A) used in the present invention can be measured for logarithmic viscosity in pentafluorophenol. At that time, 6 at a concentration of 0.1 g / dl
The value measured at 0 ° C. is preferably 0.5 to 15.0 dl / g, and particularly preferably 1.0 to 3.0 dl / g.

【0035】また、本発明における液晶性樹脂(A)の
溶融粘度は0.5〜500Pa・sが好ましく、特に1〜
250Pa・sがより好ましい。また、流動性により優れ
た組成物を得ようとする場合には、溶融粘度を50Pa・
s以下とすることが好ましい。なお、この溶融粘度は融
点(Tm)+10℃の条件で、ずり速度1,000se
-1の条件下で高化式フローテスターによって測定した
値である。
The melt viscosity of the liquid crystalline resin (A) in the present invention is preferably 0.5 to 500 Pa · s, and particularly 1 to
250 Pa · s is more preferable. Further, when it is desired to obtain a composition excellent in fluidity, the melt viscosity is 50 Pa.
It is preferably s or less. The melt viscosity was 1,000 se under the condition of melting point (Tm) + 10 ° C.
It is a value measured by a Koka type flow tester under the condition of c -1 .

【0036】ここで、融点(Tm)とは示差熱量測定に
おいて、重合を完了したポリマを室温から20℃/分の
昇温条件で測定した際に観測される吸熱ピーク温度(T
m1)の観測後、Tm1 +20℃の温度で5分間保持し
た後、20℃/分の降温条件で室温まで一旦冷却した
後、再度20℃/分の昇温条件で測定した際に観測され
る吸熱ピーク温度(Tm2)を指す。
Here, the melting point (Tm) is the endothermic peak temperature (T) observed in the differential calorimetric measurement when the polymerized polymer is measured at a temperature rising condition from room temperature to 20 ° C./min.
After the observation of m1), the temperature was maintained at Tm1 + 20 ° C for 5 minutes, then once cooled to room temperature under the temperature lowering condition of 20 ° C / min, and then measured again under the temperature rising condition of 20 ° C / min. Refers to the endothermic peak temperature (Tm2).

【0037】本発明の特性をより発現するために特に限
定されないが、液晶性樹脂(A)の融点が、好ましくは
180〜380℃、より好ましくは210〜360℃で
ある。
The liquid crystalline resin (A) has a melting point of preferably 180 to 380 ° C., more preferably 210 to 360 ° C., although it is not particularly limited in order to further develop the characteristics of the present invention.

【0038】本発明において使用する上記液晶性ポリエ
ステルの製造方法は、特に制限がなく、公知のポリエス
テルの重縮合法に準じて製造できる。
The method for producing the above-mentioned liquid crystalline polyester used in the present invention is not particularly limited and can be produced according to a known polyester polycondensation method.

【0039】例えば、上記液晶性ポリエステルの製造に
おいて、次の製造方法が好ましく挙げられる。 (1)p−アセトキシ安息香酸および4,4´−ジアセ
トキシビフェニル、ジアセトキシベンゼンなどの芳香族
ジヒドロキシ化合物のジアシル化物と2,6−ナフタレ
ンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸などの芳
香族ジカルボン酸から脱酢酸縮重合反応によって液晶性
ポリエステルを製造する方法。 (2)p−ヒドロキシ安息香酸および4,4´−ジヒド
ロキシビフェニル、ハイドロキノンなどの芳香族ジヒド
ロキシ化合物と2,6−ナフタレンジカルボン酸、テレ
フタル酸、イソフタル酸などの芳香族ジカルボン酸に無
水酢酸を反応させて、フェノール性水酸基をアシル化し
た後、脱酢酸重縮合反応によって液晶性ポリエステルを
製造する方法。 (3)p−ヒドロキシ安息香酸のフェニルエステルおよ
び4,4´−ジヒドロキシビフェニル、ハイドロキノン
などの芳香族ジヒドロキシ化合物と2,6−ナフタレン
ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸などの芳香
族ジカルボン酸のジフェニルエステルから脱フェノール
重縮合反応により液晶性ポリエステルを製造する方法。 (4)p−ヒドロキシ安息香酸および2,6−ナフタレ
ンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸などの芳
香族ジカルボン酸に所定量のジフェニルカーボネートを
反応させて、それぞれジフェニルエステルとした後、
4,4´−ジヒドロキシビフェニル、ハイドロキノンな
どの芳香族ジヒドロキシ化合物を加え、脱フェノール重
縮合反応により液晶性ポリエステルを製造する方法。 (5)ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル
のポリマ、オリゴマまたはビス(β−ヒドロキシエチ
ル)テレフタレートなど芳香族ジカルボン酸のビス(β
−ヒドロキシエチル)エステルの存在下で(1)または
(2)の方法により液晶性ポリエステルを製造する方
法。
For example, in the production of the above liquid crystalline polyester, the following production method is preferably mentioned. (1) Diacylated products of aromatic dihydroxy compounds such as p-acetoxybenzoic acid and 4,4′-diacetoxybiphenyl and diacetoxybenzene, and aromatic dicarboxylic acids such as 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, terephthalic acid and isophthalic acid A method for producing a liquid crystalline polyester by a deacetic acid condensation polymerization reaction. (2) Aromatic dihydroxy compounds such as p-hydroxybenzoic acid and 4,4′-dihydroxybiphenyl and hydroquinone, and aromatic dicarboxylic acids such as 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, terephthalic acid and isophthalic acid are reacted with acetic anhydride. Then, after acylating the phenolic hydroxyl groups, a liquid crystalline polyester is produced by a deacetic acid polycondensation reaction. (3) Phenyl ester of p-hydroxybenzoic acid and aromatic dihydroxy compound such as 4,4′-dihydroxybiphenyl and hydroquinone, and diphenyl ester of aromatic dicarboxylic acid such as 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, terephthalic acid and isophthalic acid A method for producing a liquid crystalline polyester by a dephenol polycondensation reaction. (4) p-Hydroxybenzoic acid and aromatic dicarboxylic acids such as 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, terephthalic acid and isophthalic acid are reacted with a predetermined amount of diphenyl carbonate to form diphenyl esters, respectively,
A method of producing a liquid crystalline polyester by adding an aromatic dihydroxy compound such as 4,4′-dihydroxybiphenyl or hydroquinone and performing a dephenol polycondensation reaction. (5) Polyester polymers such as polyethylene terephthalate, oligomers or bis (β of aromatic dicarboxylic acids such as bis (β-hydroxyethyl) terephthalate
-A method for producing a liquid crystalline polyester by the method (1) or (2) in the presence of a hydroxyethyl) ester.

【0040】液晶性ポリエステルの重縮合反応は無触媒
でも進行するが、酢酸第一錫、テトラブチルチタネー
ト、酢酸カリウムおよび酢酸ナトリウム、三酸化アンチ
モン、金属マグネシウムなどの金属化合物を触媒として
使用することもできる。
Although the polycondensation reaction of the liquid crystalline polyester proceeds without a catalyst, stannous acetate, tetrabutyl titanate, potassium acetate and sodium acetate, antimony trioxide, metal compounds such as magnesium metal may be used as a catalyst. it can.

【0041】本発明で用いる非液晶性樹脂(B)は、少
なくとも1個の芳香環を有する反復単位を含むものであ
り、熱可塑性樹脂でも熱硬化性樹脂でもかまわない。反
復単位に含まれる少なくとも1個の芳香環は非液晶性樹
脂を構成するポリマの主鎖中に含まれていても側鎖にあ
ってもよい。また、2種以上の原料から製造される熱可
塑性樹脂または熱硬化性樹脂である場合、少なくともそ
の1種以上の原料から生成する反復単位が少なくとも1
個の芳香環を有するものであればよく、ブロックコポリ
マの場合、少なくともいずれか一方のブロックの反復単
位に少なくとも1個の芳香環を有していればよい。少な
くとも1個の芳香環を有する反復単位は、非液晶性樹脂
を構成する全反復単位中、10モル%以上含むものであ
ることが好ましく、30モル%以上含むものであること
がより好ましい。芳香環は、ベンゼン核を有するものを
いうが、具体的にはベンゼン環、ベンゼン環が2個以
上、好ましくは2〜4個縮合した縮合環であってもよ
い。縮合環としてはナフタレン、アントラセン等が好ま
しく挙げられる。なお、かかる芳香環は置換基を有する
ものであってもよい。
The non-liquid crystalline resin (B) used in the present invention contains a repeating unit having at least one aromatic ring, and may be a thermoplastic resin or a thermosetting resin. At least one aromatic ring contained in the repeating unit may be contained in the main chain of the polymer constituting the non-liquid crystalline resin or in the side chain. In the case of a thermoplastic resin or thermosetting resin produced from two or more raw materials, at least one repeating unit produced from at least one or more raw materials is used.
Any block copolymer may be used as long as it has at least one aromatic ring in the repeating unit of at least one of the blocks. The repeating unit having at least one aromatic ring is preferably contained in an amount of 10 mol% or more, and more preferably 30 mol% or more, in all the repeating units constituting the non-liquid crystalline resin. The aromatic ring has a benzene nucleus, but specifically, it may be a benzene ring or a condensed ring in which two or more benzene rings, preferably 2 to 4 are condensed. Preferable examples of the condensed ring include naphthalene and anthracene. The aromatic ring may have a substituent.

【0042】少なくとも1個の芳香環を有する反復単位
を含む非液晶性樹脂(B)の具体的例を示すとポリスチ
レン、シンジオタクチックポリスチレンなどのスチレン
系樹脂、9T、6T/66、6T/6、6T/12、6
T/610、6I/66、6T/6I、6T/6I/6
6などの6T系あるいは6I系共重合体(6Tはヘキサ
メチレンテレフタレート単位を、6Iはヘキサメチレン
イソフタレート単位を、/は共重合を表す)等の芳香族
ナイロン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタ
レート、ポリブチレン−2,6−ナフタレート、ポリエ
チレンイソフタレート、ポリブチレンイソフタレートな
どの非液晶芳香族ポリエステル系樹脂およびこれらの共
重合体、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリフェニレ
ンスルフィドに代表されるポリアリーレンスルフィド、
芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリスルホン、芳香族
ポリエーテルスルホン、芳香族ポリエーテルイミド、芳
香族ポリアミドイミド、芳香族ポリエーテルケトン、芳
香族ポリエーテルエーテルケトン、フェノール樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂等を挙げることができる。なかで
もポリフェニレンスルフィド、芳香族ポリエーテルエー
テルケトン、ポリスチレンが、プラズマ処理による改質
効果が高く、より高い密着力を発現することから好まし
く、特にポリフェニレンスルフィドが好ましい。
Specific examples of the non-liquid crystalline resin (B) containing a repeating unit having at least one aromatic ring include styrene resins such as polystyrene and syndiotactic polystyrene, 9T, 6T / 66, 6T / 6. , 6T / 12, 6
T / 610, 6I / 66, 6T / 6I, 6T / 6I / 6
Aromatic nylon resins such as 6T or 6I copolymers (6T is hexamethylene terephthalate unit, 6I is hexamethylene isophthalate unit, / is copolymer), polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate Representative of non-liquid crystal aromatic polyester resins such as polyethylene, 2,6-naphthalate, polybutylene-2,6-naphthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene isophthalate and their copolymers, polyphenylene ether resins, polyphenylene sulfide Polyarylene sulfide,
Aromatic polycarbonate, aromatic polysulfone, aromatic polyether sulfone, aromatic polyether imide, aromatic polyamide imide, aromatic polyether ketone, aromatic polyether ether ketone, phenol resin, unsaturated polyester resin and the like. it can. Among them, polyphenylene sulfide, aromatic polyether ether ketone, and polystyrene are preferable because they have a high modification effect by plasma treatment and exhibit higher adhesion, and polyphenylene sulfide is particularly preferable.

【0043】本発明で用いるポリフェニレンスルフィド
系樹脂(PPS樹脂)(B)は、下記構造式で示される
繰り返し単位を有する重合体であり、
The polyphenylene sulfide resin (PPS resin) (B) used in the present invention is a polymer having a repeating unit represented by the following structural formula,

【0044】[0044]

【化15】 耐熱性の観点から上記構造式で示される繰り返し単位を
含む重合体を70モル%以上、更には90モル%以上含
む重合体が好ましい。また、PPS樹脂はその繰り返し
単位の30モル%以下が下記の構造を有する繰り返し単
位等で構成されていてもよい。
[Chemical 15] From the viewpoint of heat resistance, a polymer containing 70 mol% or more, further 90 mol% or more, of a polymer containing the repeating unit represented by the above structural formula is preferable. Further, 30 mol% or less of the repeating unit of the PPS resin may be composed of a repeating unit having the following structure.

【0045】[0045]

【化16】 かかるPPS樹脂は通常公知の方法、即ち特公昭45−
3368号公報に記載される比較的分子量の小さな重合
体を得る方法、あるいは特公昭52−12240号公報
や特開昭61−7332号公報に記載される比較的分子
量の大きな重合体を得る方法などによって製造できる。
[Chemical 16] Such PPS resin is generally known in the art, that is, Japanese Patent Publication No.
A method for obtaining a polymer having a relatively small molecular weight described in JP-A-3368, a method for obtaining a polymer having a relatively large molecular weight described in JP-B-52-12240 and JP-A-61-7332, and the like. Can be manufactured by.

【0046】本発明において上記の様に得られたPPS
樹脂を空気中加熱による架橋/高分子量化、窒素などの
不活性ガス雰囲気下あるいは減圧下での熱処理、有機溶
媒、熱水、酸水溶液などによる洗浄、酸無水物、アミ
ン、イソシアネート、官能基含有ジスルフィド化合物な
どの官能基含有化合物による活性化など種々の処理を施
した上で使用することももちろん可能である。
In the present invention, the PPS obtained as described above
Crosslinking / polymerization by heating the resin in air, heat treatment in an atmosphere of inert gas such as nitrogen or under reduced pressure, washing with organic solvent, hot water, acid aqueous solution, acid anhydride, amine, isocyanate, functional group-containing It is of course possible to use it after various treatments such as activation with a functional group-containing compound such as a disulfide compound.

【0047】PPS樹脂の加熱による架橋/高分子量化
する場合の具体的方法としては、空気、酸素などの酸化
性ガス雰囲気下あるいは前記酸化性ガスと窒素、アルゴ
ンなどの不活性ガスとの混合ガス雰囲気下で、加熱容器
中で所定の温度において希望する溶融粘度が得られるま
で加熱を行う方法が例示できる。
A specific method for crosslinking / polymerizing the PPS resin by heating is as follows: in an atmosphere of an oxidizing gas such as air or oxygen, or a mixed gas of the oxidizing gas and an inert gas such as nitrogen or argon. An example is a method of heating in a heating container at a predetermined temperature in an atmosphere until a desired melt viscosity is obtained.

【0048】加熱処理温度は通常、170〜280℃が
選択され、好ましくは200〜270℃である。また、
加熱処理時間は通常0.5〜100時間が選択され、好
ましくは2〜50時間であるが、この両者をコントロー
ルすることにより目標とする粘度レベルを得ることがで
きる。加熱処理の装置は通常の熱風乾燥機でもまた回転
式あるいは撹拌翼付の加熱装置であってもよいが、効率
よくしかもより均一に処理するためには回転式あるいは
撹拌翼付の加熱装置を用いるのがより好ましい。
The heat treatment temperature is usually selected to be 170 to 280 ° C, preferably 200 to 270 ° C. Also,
The heat treatment time is usually selected from 0.5 to 100 hours, preferably 2 to 50 hours, but by controlling both of them, the target viscosity level can be obtained. The heat treatment apparatus may be a normal hot air dryer or a rotary type or a heating apparatus with a stirring blade, but for efficient and more uniform treatment, a heating type with a rotation type or a stirring blade is used. Is more preferable.

【0049】PPS樹脂を窒素などの不活性ガス雰囲気
下あるいは減圧下で熱処理する場合の具体的方法とし
て、窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは減圧下で、
加熱処理温度150〜280℃、好ましくは200〜2
70℃、加熱時間は0.5〜100時間、好ましくは2
〜50時間加熱処理する方法が例示できる。
As a specific method for heat-treating the PPS resin in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or under a reduced pressure, an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or a reduced pressure is used.
Heat treatment temperature 150 to 280 ° C., preferably 200 to 2
70 ° C., heating time 0.5 to 100 hours, preferably 2
A method of heat treatment for up to 50 hours can be exemplified.

【0050】加熱処理の装置は通常の熱風乾燥機でもま
た回転式あるいは撹拌翼付の加熱装置であってもよい
が、効率よくしかもより均一に処理するためには回転式
あるいは撹拌翼付の加熱装置を用いるのがより好まし
い。
The apparatus for the heat treatment may be an ordinary hot air dryer or a heating apparatus with a rotary blade or a stirring blade, but for efficient and more uniform treatment, heating with a rotary blade or a stirring blade is necessary. More preferably, a device is used.

【0051】本発明に用いるPPS樹脂は、脱イオン処
理を施されたPPS樹脂であることが好ましい。かかる
脱イオン処理の具体的方法としては酸水溶液洗浄処理、
熱水洗浄処理および有機溶媒洗浄処理などが例示でき、
これらの処理は2種以上の方法を組み合わせて用いても
良い。
The PPS resin used in the present invention is preferably a deionized PPS resin. As a specific method of such deionization treatment, an acid aqueous solution washing treatment,
Examples include hot water washing treatment and organic solvent washing treatment,
These treatments may be used in combination of two or more methods.

【0052】PPS樹脂を有機溶媒で洗浄する場合の具
体的方法として以下の方法が例示できる。洗浄に用いる
有機溶媒として、PPS樹脂を分解する作用などを有し
ないものであれば特に制限はないが、例えばN−メチル
ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミドなどの含窒素極性溶媒、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルスルホンなどのスルホキシド、スルホン系溶媒、
アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、アセ
トフェノンなどのケトン系溶媒、ジメチルエーテル、ジ
プロピルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル
系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエチ
レン、2塩化エチレン、ジクロルエタン、テトラクロル
エタン、クロルベンゼンなどのハロゲン系溶媒、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタ
ノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、
フェノール、クレゾール、ポリエチレングリコールなど
のアルコール、フェノール系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒などがあげら
れる。これらの有機溶媒のなかでN−メチルピロリド
ン、アセトン、ジメチルホルムアミド、クロロホルムな
どが好ましい。また、これらの有機溶媒は、1種類また
は2種類以上を混合して使用される。有機溶媒による洗
浄の方法としては、有機溶媒中にPPS樹脂を浸漬せし
めるなどの方法があり、必要により適宜撹拌または加熱
することも可能である。有機溶媒でPPS樹脂を洗浄す
る際の洗浄温度は特に制限はなく、常温〜300℃程度
の任意の温度が選択できる。洗浄温度が高くなるほど洗
浄効率が高くなる傾向があるが、通常は常温〜150℃
の洗浄温度で十分効果が得られる。また有機溶媒洗浄を
施されたPPS樹脂は残留している有機溶媒を除去する
ため、水または温水で数回洗浄することが好ましい。
The following method can be exemplified as a specific method for washing the PPS resin with an organic solvent. The organic solvent used for washing is not particularly limited as long as it does not have a function of decomposing the PPS resin, but for example, a nitrogen-containing polar solvent such as N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfone. Such as sulfoxides, sulfone solvents,
Acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, acetophenone and other ketone solvents, dimethyl ether, dipropyl ether, tetrahydrofuran and other ether solvents, chloroform, methylene chloride, trichloroethylene, dichloroethylene, dichloroethane, tetrachloroethane, chlorobenzene and other halogen solvents Solvent, methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, ethylene glycol, propylene glycol,
Examples thereof include alcohols such as phenol, cresol and polyethylene glycol, phenol solvents, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene. Among these organic solvents, N-methylpyrrolidone, acetone, dimethylformamide, chloroform and the like are preferable. Further, these organic solvents are used alone or in combination of two or more. As a method of washing with an organic solvent, there is a method of immersing a PPS resin in an organic solvent, and if necessary, it is possible to appropriately stir or heat. The washing temperature when washing the PPS resin with an organic solvent is not particularly limited, and any temperature from normal temperature to 300 ° C. can be selected. The higher the cleaning temperature is, the higher the cleaning efficiency tends to be, but usually the room temperature to 150 ° C.
A sufficient effect can be obtained at the washing temperature. The PPS resin that has been washed with an organic solvent is preferably washed several times with water or warm water in order to remove the remaining organic solvent.

【0053】PPS樹脂を熱水で洗浄処理する場合の具
体的方法として以下の方法が例示できる。熱水洗浄によ
るPPS樹脂の好ましい化学的変性の効果を発現するた
め、使用する水は蒸留水あるいは脱イオン水であること
が好ましい。熱水処理の操作は、通常、所定量の水に所
定量のPPS樹脂を投入し、常圧であるいは圧力容器内
で加熱、撹拌することにより行われる。PPS樹脂と水
との割合は、水の多い方が好ましいが、通常、水1リッ
トルに対し、PPS樹脂200g以下の浴比が選択され
る。
The following method can be exemplified as a specific method for washing the PPS resin with hot water. The water to be used is preferably distilled water or deionized water in order to exert the preferable effect of chemically modifying the PPS resin by washing with hot water. The operation of hot water treatment is usually carried out by adding a predetermined amount of PPS resin to a predetermined amount of water and heating and stirring at normal pressure or in a pressure vessel. The ratio of the PPS resin to water is preferably such that the amount of water is large, but normally, a bath ratio of 200 g or less of PPS resin to 1 liter of water is selected.

【0054】PPS樹脂を酸処理する場合の具体的方法
として以下の方法が例示できる。酸処理方法として酸ま
たは酸の水溶液にPPS樹脂を浸漬せしめるなどの方法
があり、必要により適宜撹拌または加熱することも可能
である。用いられる酸はPPS樹脂を分解する作用を有
しないものであれば特に制限はなく、ギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸などの脂肪族飽和モノカルボン酸、クロ
ロ酢酸、ジクロロ酢酸などのハロ置換脂肪族飽和カルボ
ン酸、アクリル酸、クロトン酸などの脂肪族不飽和モノ
カルボン酸、安息香酸、サリチル酸などの芳香族カルボ
ン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、フタル酸、フマ
ル酸などのジカルボン酸、硫酸、リン酸、塩酸、炭酸、
珪酸などの無機酸性化合物などがあげられる。中でも酢
酸、塩酸がより好ましく用いられる。酸処理を施された
PPS樹脂は残留している酸または塩などを除去するた
めに、水または温水で数回洗浄することが好ましい。ま
た洗浄に用いる水は、酸処理によるPPS樹脂の好まし
い化学的変性の効果を損なわない意味で蒸留水あるいは
脱イオン水であることが好ましい。
The following method can be exemplified as a specific method for treating the PPS resin with an acid. As an acid treatment method, there is a method of immersing a PPS resin in an acid or an aqueous solution of an acid, and if necessary, it is possible to appropriately stir or heat. The acid used is not particularly limited as long as it has no action of decomposing the PPS resin, and aliphatic saturated monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid and butyric acid, and halo-substituted aliphatic compounds such as chloroacetic acid and dichloroacetic acid. Saturated carboxylic acids, aliphatic unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid and crotonic acid, aromatic carboxylic acids such as benzoic acid and salicylic acid, dicarboxylic acids such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, phthalic acid and fumaric acid, and sulfuric acid. , Phosphoric acid, hydrochloric acid, carbonic acid,
Examples thereof include inorganic acidic compounds such as silicic acid. Of these, acetic acid and hydrochloric acid are more preferably used. The acid-treated PPS resin is preferably washed several times with water or warm water in order to remove residual acid or salt. Further, the water used for washing is preferably distilled water or deionized water in the sense that the effect of preferable chemical modification of the PPS resin by acid treatment is not impaired.

【0055】本発明で用いられるPPS樹脂の溶融粘度
は特に制限はないが、通常5〜1000Pa・s(300
℃、剪断速度1000sec-1)のものが好ましく使用
され、10〜600Pa・sの範囲がより好ましい。
The melt viscosity of the PPS resin used in the present invention is not particularly limited, but usually 5 to 1000 Pa · s (300
C. and shear rate 1000 sec.sup.- 1 ) are preferably used, and the range of 10 to 600 Pa.s is more preferable.

【0056】本発明で用いる芳香族ポリエーテルエーテ
ルケトン系樹脂(PEEK樹脂)(B)は、下記構造式
で示される繰り返し単位を有する重合体などが挙げられ
る。
Examples of the aromatic polyether ether ketone resin (PEEK resin) (B) used in the present invention include polymers having a repeating unit represented by the following structural formula.

【0057】[0057]

【化17】 本発明で用いるポリスチレン系樹脂(B)は、スチレン
及び/またはその誘導体から生成した単位を含有するも
のである。スチレン、その誘導体(これらを総称して芳
香族ビニル系単量体と称する場合がある)から生成した
単位の具体例として、スチレン、α−メチルスチレン、
ビニルトルエン、p−メチルスチレン、p−t−ブチル
スチレンなどが挙げられるが、特にスチレン、α−メチ
ルスチレンが好ましい。また、これらを併用することも
できる。
[Chemical 17] The polystyrene resin (B) used in the present invention contains a unit produced from styrene and / or its derivative. Specific examples of units formed from styrene and its derivatives (these may be collectively referred to as aromatic vinyl-based monomers) include styrene, α-methylstyrene,
Examples thereof include vinyltoluene, p-methylstyrene, and pt-butylstyrene, but styrene and α-methylstyrene are particularly preferable. Moreover, these can also be used together.

【0058】本発明において好ましいポリスチレン系樹
脂として、PS(ポリスチレン)等のスチレン系重合
体、HIPS(高衝撃ポリスチレン)等のゴム強化スチ
レン系重合体、AS(アクリロニトリル/スチレン共重
合体)等のスチレン系共重合体、AES(アクリロニト
リル/エチレン・プロピレン・非共役ジエンゴム/スチ
レン共重合体)、ABS(アクリロニトリル/ブタジエ
ン/スチレン共重合体)、MBS(メタクリル酸メチル
/ブタジエン/スチレン共重合体)などのゴム強化
(共)重合体等が挙げられ、なかでもポリスチレンが好
ましい。
Preferred polystyrene resins in the present invention include styrene polymers such as PS (polystyrene), rubber-reinforced styrene polymers such as HIPS (high impact polystyrene), and styrene such as AS (acrylonitrile / styrene copolymer). Type copolymers such as AES (acrylonitrile / ethylene / propylene / non-conjugated diene rubber / styrene copolymer), ABS (acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer), MBS (methyl methacrylate / butadiene / styrene copolymer) Examples thereof include rubber-reinforced (co) polymers, of which polystyrene is preferred.

【0059】本発明で用いる非液晶性樹脂(B)の配合
量は、流動性、耐熱性、機械的物性などの液晶性樹脂
(A)の特長を損なわずに金属膜密着性を改良する効果
を同時に発揮する観点から、液晶性樹脂(A)100重
量部に対し、0.5〜30重量部、好ましくは3〜25
重量部、より好ましくは5〜15重量部である。
The blending amount of the non-liquid crystalline resin (B) used in the present invention is an effect of improving the metal film adhesiveness without impairing the characteristics of the liquid crystalline resin (A) such as fluidity, heat resistance and mechanical properties. From the viewpoint of simultaneously exhibiting 0.5 to 30 parts by weight, preferably 3 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A).
Parts by weight, more preferably 5 to 15 parts by weight.

【0060】本発明において表面に金属膜形成処理する
ことを特徴とする成形品用液晶性樹脂組成物は、充填材
(C)を使用することが可能であり、特に限定されるも
のではないが、繊維状、板状、粉末状、粒状など非繊維
状の充填材を使用することができる。具体的には例え
ば、ガラス繊維、PAN系やピッチ系の炭素繊維、ステ
ンレス繊維、アルミニウム繊維や黄銅繊維などの金属繊
維、芳香族ポリアミド繊維などの有機繊維、石膏繊維、
セラミック繊維、アスベスト繊維、ジルコニア繊維、ア
ルミナ繊維、シリカ繊維、酸化チタン繊維、炭化ケイ素
繊維、ロックウール、チタン酸カリウムウィスカ、チタ
ン酸バリウムウィスカ、ホウ酸アルミニウムウィスカ、
窒化ケイ素ウィスカなどの繊維状、ウィスカ状充填材、
マイカ、タルク、カオリン、シリカ、炭酸カルシウム、
ガラスビーズ、ガラスフレーク、ガラスマイクロバルー
ン、クレー、二硫化モリブデン、ワラストナイト、酸化
チタン、酸化亜鉛、ポリリン酸カルシウム、グラファイ
トなどの粉状、粒状あるいは板状の充填材が挙げられ
る。
In the present invention, the liquid crystalline resin composition for molded products, which is characterized in that the surface is subjected to a metal film forming treatment, can use the filler (C), and is not particularly limited. Non-fibrous fillers such as fibrous, plate-like, powdery and granular can be used. Specifically, for example, glass fiber, PAN-based or pitch-based carbon fiber, stainless fiber, metal fiber such as aluminum fiber or brass fiber, organic fiber such as aromatic polyamide fiber, gypsum fiber,
Ceramic fiber, asbestos fiber, zirconia fiber, alumina fiber, silica fiber, titanium oxide fiber, silicon carbide fiber, rock wool, potassium titanate whisker, barium titanate whisker, aluminum borate whisker,
Fibrous materials such as silicon nitride whiskers, whisker-like fillers,
Mica, talc, kaolin, silica, calcium carbonate,
Examples thereof include powdery, granular or plate-like fillers such as glass beads, glass flakes, glass microballoons, clay, molybdenum disulfide, wollastonite, titanium oxide, zinc oxide, calcium polyphosphate and graphite.

【0061】本発明に使用する上記の充填材はその表面
を公知のカップリング剤(例えば、シラン系カップリン
グ剤、チタネート系カップリング剤など)や、その他の
表面処理剤で処理して用いることもできる。
The surface of the above-mentioned filler used in the present invention is treated with a known coupling agent (for example, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, etc.) or another surface treatment agent before use. You can also

【0062】上記の充填材(C)の含有量は液晶性樹脂
(A)100重量部に対し、通常、5〜200重量部が
好ましく、より好ましくは30〜100重量部、特に好
ましくは35〜80重量部である。
The content of the above-mentioned filler (C) is usually preferably 5 to 200 parts by weight, more preferably 30 to 100 parts by weight, and particularly preferably 35 to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A). 80 parts by weight.

【0063】本発明において上記充填材中、ガラス繊維
が特に好ましく使用される。ガラス繊維の種類は、一般
に樹脂の強化用に用いるものなら特に限定はなく、例え
ば長繊維タイプや短繊維タイプのチョップドストラン
ド、ミルドファイバなどから選択して用いることができ
る。また、これらのうち2種以上を併用して使用するこ
ともできる。本発明で使用されるガラス繊維としては、
弱アルカリ性のものが機械的強度の点で優れており、好
ましく使用できる。また、ガラス繊維はエポキシ系、ウ
レタン系、アクリル系などの被覆あるいは収束剤で処理
されていることが好ましく、エポキシ系が特に好まし
い。またシラン系、チタネート系などのカップリング
剤、その他表面処理剤で処理されていることが好まし
く、エポキシシラン、アミノシラン系のカップリング剤
が特に好ましい。
In the present invention, glass fiber is particularly preferably used in the above filler. The type of glass fiber is not particularly limited as long as it is generally used for reinforcing a resin, and for example, long fiber type or short fiber type chopped strands, milled fiber or the like can be selected and used. Also, two or more of these may be used in combination. As the glass fiber used in the present invention,
A weakly alkaline one is excellent in mechanical strength and can be preferably used. Further, the glass fiber is preferably treated with a coating or sizing agent such as an epoxy type, urethane type or acrylic type, and an epoxy type is particularly preferable. Further, it is preferably treated with a silane-based or titanate-based coupling agent or other surface treatment agent, and an epoxysilane- or aminosilane-based coupling agent is particularly preferable.

【0064】本発明の成形品用液晶性樹脂組成物の製造
に用いるガラス繊維の繊維径は、補強効果、成形時の流
動性および金属膜密着性の点から3〜15μmが好まし
く、より好ましくは5〜15μmである。
The fiber diameter of the glass fiber used in the production of the liquid crystalline resin composition for molded articles of the present invention is preferably 3 to 15 μm, more preferably from the viewpoint of the reinforcing effect, the fluidity at the time of molding, and the adhesion to the metal film. It is 5 to 15 μm.

【0065】本発明の成形品用液晶性樹脂組成物におい
て、ガラス繊維の繊維長分布が本発明の効果に影響を与
える可能性がある。即ち、成形品用液晶性樹脂組成物中
のガラス繊維の重量平均繊維長は、補強効果、成形時の
流動性および金属膜密着性の点から、0.01〜0.6
mmが好ましく、0.1〜0.4mmがより好ましい。
In the liquid crystalline resin composition for molded articles of the present invention, the fiber length distribution of glass fibers may affect the effect of the present invention. That is, the weight average fiber length of the glass fibers in the liquid crystalline resin composition for molded products is 0.01 to 0.6 in terms of the reinforcing effect, the fluidity at the time of molding, and the metal film adhesion.
mm is preferable, and 0.1-0.4 mm is more preferable.

【0066】なお、ガラス繊維の繊維長分布の測定方法
は成形品用液晶性樹脂組成物のペレット約5gをるつぼ
中で灰化した後、残存したガラス繊維のうちから約10
0mgを採取し、100ccの石鹸水中に分散させる。
ついで、分散液をスポイドを用いて1〜2滴スライドガ
ラス上におき、顕微鏡下に観察して、写真撮影する。写
真に撮影されたガラス繊維の繊維長を測定する。測定は
500本行い、繊維長0.010mm間隔で繊維長の分
布図を作製する。この分布図をもとに下式より重量平均
繊維長を計算することができる。
The method of measuring the fiber length distribution of the glass fibers was as follows: after about 5 g of pellets of the liquid crystalline resin composition for moldings was ashed in a crucible, about 10 of the remaining glass fibers were used.
Take 0 mg and disperse in 100 cc of soap water.
Then, 1 to 2 drops of the dispersion liquid is placed on a slide glass using a spoid, observed under a microscope, and photographed. The fiber length of the glass fiber photographed is measured. The measurement is performed 500 times, and a fiber length distribution chart is prepared at intervals of 0.010 mm. The weight average fiber length can be calculated from the following formula based on this distribution chart.

【0067】Lw=(ΣLi 2i)/(ΣLii) (Lw:重量平均繊維長、Li:0.10mm間隔の繊維
長、Ni:Liの本数) 本発明の成形品用液晶性樹脂組成物におけるガラス繊維
の含有率は、液晶性樹脂(A)100重量部に対して1
0〜150重量部が好ましく、より好ましくは25〜1
00重量部、特に好ましくは35〜80重量部である。
上記下限以上であると優れた補強効果や耐熱性が得ら
れ、上記上限以下であると、より優れた流動性や金属膜
密着性が得られる。
L w = (ΣL i 2 N i ) / (ΣL i N i ) (L w : weight average fiber length, L i : fiber length at 0.10 mm intervals, N i : number of L i ) The content of the glass fiber in the liquid crystalline resin composition for molded articles of 1 is 1 with respect to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A).
0 to 150 parts by weight is preferred, more preferably 25 to 1
00 parts by weight, particularly preferably 35 to 80 parts by weight.
When it is at least the above lower limit, excellent reinforcing effect and heat resistance will be obtained, and when it is at most the above upper limit, more excellent fluidity and metal film adhesion will be obtained.

【0068】上記ガラス繊維は、特に後述の小型精密電
子回路機器用の精密電子回路基板などの小型精密化を図
る成形基板の充填材(C)として好適である。
The above-mentioned glass fiber is particularly suitable as a filler (C) for a molded substrate intended for miniaturization and precision, such as a precision electronic circuit substrate for a compact precision electronic circuit device described later.

【0069】また、本発明において、充填材(C)とし
てウィスカも特に好ましく使用できる。ウィスカとし
て、前記チタン酸カリウムウィスカなど例示した以外
に、酸化亜鉛、アルミナ、チタン酸カルシウム、珪酸ア
ルミニウム、珪酸カルシウム、ホウ酸マグネシウム、炭
酸カルシウム、マグネシウムオキサルフェートなどのウ
ィスカもあり、特にホウ酸アルミニウムウィスカが成形
性および液晶性樹脂組成物との親和性や補強効果および
表面平滑性の点で優れ、好ましい。また、これらより2
種以上を混合して使用してもよく、それぞれの材料が特
徴とする液晶性樹脂組成物との親和性や補強効果あるい
は表面平滑性を併せた効果が期待できる。
In the present invention, whiskers can also be particularly preferably used as the filler (C). As the whiskers, there are whiskers such as zinc oxide, alumina, calcium titanate, aluminum silicate, calcium silicate, magnesium borate, calcium carbonate, magnesium oxalphate, etc., in addition to the potassium titanate whiskers mentioned above, and particularly aluminum borate whiskers. Are preferable in terms of moldability, affinity with the liquid crystalline resin composition, reinforcing effect and surface smoothness. Also, from these 2
They may be used as a mixture of two or more kinds, and it is expected that the effect of combining each material with the affinity with the liquid crystalline resin composition, the reinforcing effect, and the surface smoothness can be expected.

【0070】また、成形時の流動性、金属膜密着性およ
び成形品の表面平滑性の点から、これらのウィスカの径
は、0.05〜5μmが好ましく、0.1〜3μmがよ
り好ましい。そして、ウィスカの重量平均繊維長は、1
〜100μmが好ましく、5〜70μmがより好まし
い。
From the viewpoint of fluidity at the time of molding, adhesion to a metal film, and surface smoothness of a molded product, the diameter of these whiskers is preferably 0.05 to 5 μm, more preferably 0.1 to 3 μm. And the weight average fiber length of the whiskers is 1
˜100 μm is preferable, and 5-70 μm is more preferable.

【0071】また、ウィスカの含有量は、液晶性樹脂
(A)100重量部に対して10〜150重量部が好ま
しく、より好ましくは25〜100重量部、特に好まし
くは35〜80重量部である。上記下限以上であると優
れた補強効果や耐熱性が得られ、上記上限以下である
と、より優れた流動性や金属膜密着性および成形品の表
面平滑性が得られる。
The whisker content is preferably 10 to 150 parts by weight, more preferably 25 to 100 parts by weight, and particularly preferably 35 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A). . When it is at least the above lower limit, excellent reinforcing effect and heat resistance will be obtained, and when it is at most the above upper limit, more excellent fluidity, metal film adhesion and surface smoothness of the molded article will be obtained.

【0072】上記ウィスカは、特に後述の小型精密電子
回路機器用の精密電子回路基板などの小型精密化は勿論
のこと、さらに回路をライン幅0.1mm以下、スペー
ス幅0.1mm以下に微細化して超小型超精密化を図る
成形基板の充填材(C)として好適である。
The above whisker is not only used for miniaturizing precision electronic circuit boards for small precision electronic circuit devices described later, but also for further miniaturizing the circuit to have a line width of 0.1 mm or less and a space width of 0.1 mm or less. Therefore, it is suitable as a filler (C) for a molded substrate for achieving ultra-compact and ultra-precision.

【0073】さらに、本発明の表面に金属膜形成処理す
ることを特徴とする成形品用液晶性樹脂組成物には、酸
化防止剤および熱安定剤(たとえばヒンダードフェノー
ル、ヒドロキノン、ホスファイト類およびこれらの置換
体など)、紫外線吸収剤(たとえばレゾルシノール、サ
リシレート、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノンな
ど)、亜リン酸塩、次亜リン酸塩などの着色防止剤、滑
剤、染料(たとえばニグロシンなど)および顔料(たと
えば硫化カドミウム、フタロシアニンなど)を含む着色
剤、離型剤(モンタン酸およびその塩、そのエステル、
そのハーフエステル、ステアリルアルコール、ステアラ
ミドおよびポリエチレンワックスなど)、導電剤あるい
は着色剤としてカーボンブラック、結晶核剤、可塑剤、
難燃剤(例えばブロム化ポリスチレン、臭素化ポリフェ
ニレンエーテル、臭素化ポリカーボネート、水酸化マグ
ネシウム、メラミンおよびシアヌール酸またはその塩、
赤燐など)、難燃助剤、摺動性改良剤(グラファイト、
フッ素樹脂)、帯電防止剤などの通常の添加剤、他の重
合体(ポリアミド、ポリ乳酸などのポリエステル、ポリ
エーテルスルホン、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、アイオノマ樹脂等)を添加して、所定の特
性をさらに付与することができる。
Further, in the liquid crystalline resin composition for molded articles, which is characterized in that the surface of the present invention is subjected to a metal film forming treatment, an antioxidant and a heat stabilizer (for example, hindered phenol, hydroquinone, phosphite and Substitutes thereof, UV absorbers (eg resorcinol, salicylate, benzotriazole, benzophenone, etc.), phosphite, hypophosphite and other anti-coloring agents, lubricants, dyes (eg nigrosine) and pigments (eg. For example, colorants containing cadmium sulfide, phthalocyanine, etc., mold release agents (montanic acid and its salts, its esters,
Half ester, stearyl alcohol, stearamide, polyethylene wax, etc.), carbon black as a conductive agent or a coloring agent, a crystal nucleating agent, a plasticizer,
Flame retardants (eg brominated polystyrene, brominated polyphenylene ether, brominated polycarbonate, magnesium hydroxide, melamine and cyanuric acid or salts thereof,
Red phosphorus, etc., flame retardant aids, slidability improvers (graphite,
Fluorine resin), ordinary additives such as antistatic agents, and other polymers (polyamide, polyester such as polylactic acid, polyether sulfone, acrylic resin, polyethylene, polypropylene, ionomer resin, etc.) are added to obtain the desired characteristics. Can be further added.

【0074】本発明の成形品用液晶性樹脂組成物は通常
公知の方法で製造される。
The liquid crystalline resin composition for molded articles of the present invention is usually produced by a known method.

【0075】例えば、液晶性樹脂(A)成分及び非液晶
性樹脂(B)成分に必要な添加剤および充填材(C)を
予備混合した後、押出機などに供給して十分溶融混練す
ることにより調製される。また、充填材(C)を添加す
る場合、充填材の繊維長をコントロールするために好ま
しくは、液晶性樹脂(A)、非液晶性樹脂(B)および
添加剤を押出機の元から投入し、充填材(C)をサイド
フィーダを用いて押出機へ供給することにより調整され
る。
For example, the liquid crystal resin (A) component and the non-liquid crystal resin (B) component are premixed with the necessary additives and the filler (C), and then supplied to an extruder or the like and sufficiently melt-kneaded. Is prepared by. When the filler (C) is added, the liquid crystalline resin (A), the non-liquid crystalline resin (B) and the additive are preferably charged from the extruder in order to control the fiber length of the filler. , The filler (C) is supplied to the extruder by using a side feeder.

【0076】かくして得られる成形品用液晶性樹脂組成
物は、流動性と耐熱性、機械的物性に優れ、かつ、金属
膜密着性に優れていることから、成形品表面に金属膜形
成処理される成形品に特に適している。
The liquid crystalline resin composition for molded articles thus obtained is excellent in fluidity, heat resistance and mechanical properties and is excellent in metal film adhesion. It is especially suitable for molded products.

【0077】なお、成形品を成形するにあたっての成形
方法は通常の成形方法(射出成形、押出成形、ブロー成
形、プレス成形、インジェクションプレス成形など)に
より三次元成形品に加工することができ、特にその優れ
た流動性を生かし、1.0mm以下の薄肉部を有する成
形品に好ましく適用できる。なかでも射出成形用途に特
に好適であり、各種機械機構部品、自動車部品、特に電
気電子部品に好適である。
The molding method for molding a molded article can be processed into a three-dimensional molded article by a usual molding method (injection molding, extrusion molding, blow molding, press molding, injection press molding, etc.). Taking advantage of its excellent fluidity, it can be preferably applied to a molded product having a thin portion of 1.0 mm or less. Among them, it is particularly suitable for use in injection molding, and is suitable for various machine / mechanical parts, automobile parts, particularly electric / electronic parts.

【0078】次に、このようにして得られた本発明の成
形品を用いた成形回路基板の作製方法を図1に示す。
Next, FIG. 1 shows a method for producing a molded circuit board using the molded article of the present invention thus obtained.

【0079】図1(a)はガラス繊維またはウィスカが
充填された液晶性樹脂組成物が多様な立体形状に射出成
形された成形品1を示す。
FIG. 1 (a) shows a molded product 1 in which a liquid crystalline resin composition filled with glass fibers or whiskers is injection molded into various three-dimensional shapes.

【0080】成形品1の補強効果、成形時の流動性およ
び金属膜密着性の点から、この表面にライン幅0.25
mm以下、スペース幅0.25mm以下の回路を形成す
る場合には、ガラス繊維の繊維径は、3〜15μmが好
ましく、また3〜10μmがより好ましく、重量平均繊
維長は0.01〜0.6mmが好ましく、また0.1〜
0.4mmがより好ましく、ガラス繊維の含有量は、液
晶性樹脂(A)100重量部に対して10〜150重量
部が好ましく、また25〜100重量部がより好まし
い。
From the viewpoint of the reinforcing effect of the molded product 1, the fluidity at the time of molding and the adhesion of the metal film, the line width of 0.25 is formed on this surface.
In the case of forming a circuit having a space of 0.25 mm or less and a space width of 0.25 mm or less, the fiber diameter of the glass fiber is preferably 3 to 15 μm, more preferably 3 to 10 μm, and the weight average fiber length is 0.01 to 0. 6 mm is preferable, and 0.1 to
0.4 mm is more preferable, and the glass fiber content is preferably 10 to 150 parts by weight, and more preferably 25 to 100 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A).

【0081】また、ウィスカであれば、ウィスカの径は
0.05〜5μmが好ましく、平均繊維長は1〜100
μmが好ましく、ウィスカの含有量は、液晶性樹脂
(A)100重量部に対して10〜150重量部が好ま
しく、また25〜100重量部がより好ましい。
In the case of whiskers, the whisker diameter is preferably 0.05 to 5 μm, and the average fiber length is 1 to 100.
μm is preferable, and the content of whiskers is preferably 10 to 150 parts by weight, and more preferably 25 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A).

【0082】また、特にライン幅0.1mm以下、スペ
ース幅0.1mm以下の微細回路を形成する場合には、
ウィスカの方が、ガラス繊維より表面平滑性に優れ、後
述のレーザ光照射による回路パターンエッジ部の金属膜
の除去性が良好で回路パターン寸法精度が向上するため
好ましい。このときのウィスカの径は0.05〜3μm
が好ましく、平均繊維長は5〜70μmが好ましく、ウ
ィスカの含有率は、液晶性樹脂(A)100重量部に対
して25〜100重量部が好ましく、また35〜80重
量部がより好ましい。
Further, particularly when forming a fine circuit having a line width of 0.1 mm or less and a space width of 0.1 mm or less,
Whiskers are preferable because they are superior in surface smoothness to glass fibers, have good removability of the metal film at the edge portion of the circuit pattern due to laser light irradiation, which will be described later, and improve the circuit pattern dimensional accuracy. The diameter of the whiskers at this time is 0.05 to 3 μm
The average fiber length is preferably 5 to 70 μm, and the whisker content is preferably 25 to 100 parts by weight, and more preferably 35 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A).

【0083】また、ライン幅0.05mm以下、スペー
ス幅0.05mm以下の微細回路を形成する場合には、
ウィスカの径は0.05〜2μmが好ましく、平均繊維
長は3〜50μmが好ましく、ウィスカの含有率は、液
晶性樹脂(A)100重量部に対して25〜100重量
部が好ましく、また35〜80重量部がより好ましい。
When forming a fine circuit having a line width of 0.05 mm or less and a space width of 0.05 mm or less,
The diameter of the whiskers is preferably 0.05 to 2 μm, the average fiber length is preferably 3 to 50 μm, and the content of the whiskers is preferably 25 to 100 parts by weight, and 35 to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A). ˜80 parts by weight is more preferred.

【0084】このようにして得られた本発明の成形品の
表面に金属膜を形成するにあたっては、まず成形品の表
面をプラズマ処理し、成形品の表面を活性化させる。図
1(b)に、表面がプラズマ処理されて活性化した状態
(目視では見えない)の成形品2を示す。プラズマ処理
は、チャンバー内に一対の電極を対向配置し、一方の電
極に高周波電源を接続すると共に他方の電極を接地して
構成したプラズマ処理装置を用いて行うことができる。
そして、成形品の表面をプラズマ処理するにあたって
は、成形品を電極間において一方の電極の上にセット
し、チャンバー内を真空引きして10-4Pa程度に減圧
した後、チャンバー内にN2やO2等の化学的に活性なガ
スを導入して流通させると共に、チャンバー内のガス圧
を8〜15Paに制御し、次に高周波電源によって電極
間に高周波電圧(RF:13.56MHz)を10〜1
00秒程度印加する。この時、電極間の高周波グロー放
電による気体放電現象によって、チャンバー内の活性ガ
スが励起され、陽イオンやラジカル等のプラズマが発生
し、陽イオンやラジカル等がチャンバー内に形成され
る。そしてこれらの陽イオンやラジカルが成形品の表面
に衝突することによって、成形品の表面を活性化するこ
とができるものである。特に陽イオンが成形品に誘引衝
突すると、成形品の表面に金属と結合し易い窒素極性基
や酸素極性基が導入されるので、金属膜との密着性がよ
り向上するものである。尚、プラズマ処理条件は上記の
ものに限定されるものではなく、成形品の表面がプラズ
マ処理で過度に粗面化されない範囲で、任意に設定して
行うことができるものである。また、プラズマ処理は中
間処理であるため、プラズマ処理と同様な表面活性化が
できるものであれば、プラズマ処理に代わる表面処理方
法を用いてもよい。
In forming a metal film on the surface of the thus obtained molded product of the present invention, the surface of the molded product is first plasma-treated to activate the surface of the molded product. FIG. 1B shows a molded product 2 whose surface is plasma-treated and activated (not visible). The plasma processing can be performed using a plasma processing apparatus in which a pair of electrodes are arranged to face each other in the chamber, a high frequency power source is connected to one electrode, and the other electrode is grounded.
When the surface of the molded product is subjected to plasma treatment, the molded product is set on one electrode between the electrodes, the chamber is evacuated to reduce the pressure to about 10 −4 Pa, and then N 2 is introduced into the chamber. While introducing and circulating a chemically active gas such as O 2 and O 2 , control the gas pressure in the chamber to 8 to 15 Pa, and then apply a high frequency voltage (RF: 13.56 MHz) between the electrodes by a high frequency power source. 10-1
Apply for about 00 seconds. At this time, the active gas in the chamber is excited by the gas discharge phenomenon due to the high frequency glow discharge between the electrodes, plasma such as cations and radicals is generated, and cations and radicals are formed in the chamber. The surface of the molded product can be activated by collision of these cations and radicals with the surface of the molded product. In particular, when cations are attracted and collided with the molded product, a nitrogen polar group or an oxygen polar group, which easily binds to a metal, is introduced into the surface of the molded product, so that the adhesion to the metal film is further improved. The plasma treatment conditions are not limited to the above, and may be arbitrarily set within the range in which the surface of the molded product is not excessively roughened by the plasma treatment. Further, since the plasma treatment is an intermediate treatment, a surface treatment method which replaces the plasma treatment may be used as long as the same surface activation as the plasma treatment can be performed.

【0085】上記のようにプラズマ処理をした後、スパ
ッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングなどから
選ばれる物理蒸着法(PVD法)で回路形成用基板の表
面に金属膜を形成する。
After the plasma treatment as described above, a metal film is formed on the surface of the circuit-forming substrate by a physical vapor deposition method (PVD method) selected from sputtering, vacuum vapor deposition, ion plating and the like.

【0086】図1(c)に、このように金属膜が形成さ
れた成形品3を示す。ここで、成形品1をチャンバー内
でプラズマ処理した後、チャンバー内を大気開放するこ
となく、プラズマ処理された成形品2を上記の物理蒸着
法で行うようにして、連続プロセス化するのがよい。金
属膜を形成する金属としては、銅、ニッケル、金、アル
ミニウム、チタン、モリブデン、クロム、タングステ
ン、スズ、鉛、黄銅、ニクロムなどの単体、あるいは合
金を用いることができる。
FIG. 1C shows a molded product 3 on which the metal film is thus formed. Here, after the molded product 1 is plasma-treated in the chamber, the plasma-processed molded product 2 is preferably subjected to the above physical vapor deposition method without opening the chamber to the atmosphere, so that a continuous process is preferable. . As the metal forming the metal film, a simple substance such as copper, nickel, gold, aluminum, titanium, molybdenum, chromium, tungsten, tin, lead, brass, or nichrome, or an alloy can be used.

【0087】ここで、スパッタリングとしては例えばD
Cスパッタ方式を適用することができる。まずチャンバ
ー内に成形品を配置した後、真空ポンプによりチャンバ
ー内の圧力が10-4Pa以下になるまで真空引きし、こ
の状態でチャンバー内にアルゴン等の不活性ガスを0.
1Paのガス圧になるように導入する。さらに500V
の直流電圧を印加することによって、銅などのターゲッ
トをボンバードし、通常0.3〜0.5μm厚みの銅な
どの金属膜を成形品の表面に形成することができる。
Here, as the sputtering, for example, D
A C sputtering method can be applied. First, a molded product is placed in the chamber, and then a vacuum pump is evacuated until the pressure in the chamber becomes 10 −4 Pa or less. In this state, an inert gas such as argon is evacuated to a pressure of 0.
It is introduced so that the gas pressure is 1 Pa. Further 500V
A target such as copper can be bombarded by applying a DC voltage of (3) to form a metal film such as copper having a thickness of usually 0.3 to 0.5 μm on the surface of the molded product.

【0088】また、真空蒸着としては電子線加熱式真空
蒸着方式を適用することができる。まず真空ポンプによ
りチャンバー内の圧力が10-3Pa以下になるまで真空
引きした後、400〜800mAの電子流を発生させ、
この電子流をるつぼの中の銅などの蒸着材料に衝突させ
て加熱すると蒸着材料が蒸発し、通常0.3〜0.5μ
m厚みの銅などの金属膜を成形品の表面に形成すること
ができる。
As the vacuum vapor deposition, an electron beam heating type vacuum vapor deposition system can be applied. First, a vacuum pump was used to evacuate the chamber to a pressure of 10 -3 Pa or less, and then an electron flow of 400 to 800 mA was generated.
When this electron stream is made to collide with a vapor deposition material such as copper in a crucible and heated, the vapor deposition material evaporates, and usually 0.3 to 0.5 μm.
A metal film such as copper having a thickness of m can be formed on the surface of the molded product.

【0089】また、イオンプレーティングで金属膜を形
成するにあたっては、まず真空ポンプによりチャンバー
内の圧力が10-4Pa以下になるまで真空引きした後、
400〜800mAの電子流を発生させ、この電子流を
るつぼの中の銅などの蒸着材料に衝突させて加熱すると
蒸着材料が蒸発し、成形品とるつぼの間にある誘導アン
テナ部にアルゴン等の不活性ガスを導入し、ガス圧を
0.05〜0.1Paにして、プラズマを発生させ、そ
して誘導アンテナに13.56MHzの高周波で500
Wのパワーを印加すると共に、100〜500Vの直流
電圧のバイアス電圧を印加することによって、通常0.
3〜0.5μm厚みの銅などの金属膜を成形品の表面に
形成することができる。
When forming a metal film by ion plating, first, a vacuum pump is used to evacuate the chamber until the pressure in the chamber becomes 10 −4 Pa or less.
When an electron flow of 400 to 800 mA is generated and the electron flow is made to collide with a vapor deposition material such as copper in the crucible and heated, the vapor deposition material evaporates, and the induction antenna portion between the molded article and the crucible is filled with argon or the like. An inert gas was introduced, the gas pressure was adjusted to 0.05 to 0.1 Pa to generate plasma, and the induction antenna was operated at a high frequency of 13.56 MHz to 500.
By applying a power of W and a bias voltage of a DC voltage of 100 to 500 V, normally,
A metal film such as copper having a thickness of 3 to 0.5 μm can be formed on the surface of the molded product.

【0090】上記のようにして物理蒸着法で成形品の表
面に金属膜を形成するにあたって、成形品の表面は上記
のようにプラズマ処理によって化学的に活性化されてい
るものであり、成形品の表面に対する金属膜の密着性を
高く得ることができるものである。
In forming the metal film on the surface of the molded product by the physical vapor deposition method as described above, the surface of the molded product is chemically activated by the plasma treatment as described above. It is possible to obtain high adhesion of the metal film to the surface of.

【0091】以下、さらにMID等の回路形成について
説明すると、上記のように成形回路基板の基板となる多
様な立体形状を有する成形品1の表面に通常0.3〜
0.5μm厚みの銅などの金属膜が形成された成形品3
の金属膜上に回路を形成することによって、MID等の
成形回路基板として仕上げることができるものである。
The formation of a circuit such as an MID will be described below. Normally, 0.3 to 0.3 is formed on the surface of the molded article 1 having various three-dimensional shapes as the substrate of the molded circuit board as described above.
Molded product 3 having a 0.5 μm thick metal film such as copper
By forming a circuit on the metal film of, it can be finished as a molded circuit board of MID or the like.

【0092】次に、回路パターン形成は例えばレーザ法
によって行うことができる。
Next, the circuit pattern can be formed by, for example, a laser method.

【0093】図1(d)に、回路形成部分4と回路非形
成部分5との境界に沿ってレーザ光が照射され、回路形
成部分4の金属膜密着性を低下させずに、この境界部分
6の金属膜が除去されることによって、回路形成部分4
の金属膜が回路パターンとして分離された状態を示す。
ここで一般に、レーザ光照射による金属膜除去は、成形
品表面の凹凸の影響を受け、パターンエッジ部の金属膜
除去の過不足が発生し易く、パターンエッジラインに凹
凸が発生しパターンエッジ部の寸法がばらつく問題があ
るが、本発明では、成形品の表面平滑性が優れるため、
パターンエッジ部の金属膜除去の過不足が発生し難く、
パターンエッジ部の寸法精度が良く、回路パターンの精
密細線化や回路パターン間隙の最小化による高密度化が
図り易い。特に、充填材として前述の特定したウィスカ
を使用する場合は表面平滑性がさらに優れ、パターン幅
およびパターン間隙を0.1mm以下、さらには0.0
5mm以下に形成することが容易となる。
In FIG. 1D, laser light is irradiated along the boundary between the circuit forming portion 4 and the circuit non-forming portion 5, and the metal film adhesion of the circuit forming portion 4 is not deteriorated, and the boundary portion is formed. By removing the metal film of 6, the circuit forming portion 4
2 shows a state in which the metal film of is separated as a circuit pattern.
Here, in general, the removal of the metal film by laser light irradiation is affected by the unevenness of the surface of the molded product, and the excess or deficiency of the removal of the metal film at the pattern edge portion easily occurs, and the unevenness occurs at the pattern edge line to cause the unevenness of the pattern edge portion. Although there is a problem that the dimensions vary, in the present invention, since the surface smoothness of the molded product is excellent,
It is difficult for excess and deficiency of metal film removal at the pattern edge to occur,
The dimensional accuracy of the pattern edge portion is good, and it is easy to achieve high density by making the circuit pattern fine lines and minimizing the circuit pattern gap. In particular, when the above-specified whiskers are used as the filler, the surface smoothness is further excellent, and the pattern width and pattern gap are 0.1 mm or less, further 0.0
It becomes easy to form it to 5 mm or less.

【0094】次に、回路形成部分4の金属膜のみに銅な
どの電解メッキを施し、通常5〜20μm厚みの導電層
にする。
Next, only the metal film of the circuit forming portion 4 is electrolytically plated with copper or the like to form a conductive layer usually having a thickness of 5 to 20 μm.

【0095】図1(e)に、このように電解メッキが施
された回路形成部分7を示す。
FIG. 1E shows the circuit forming portion 7 thus electrolytically plated.

【0096】次に、図1(e)の金属膜全体にソフトエ
ッチング処理を加えて、通常0.3〜0.5μm厚みの
回路非形成部分5に残る金属膜を除去すると共に、電解
メッキを施した回路形成部分7は大部分を残存させるこ
とによって、図1(f)に示すような、所望の形状の回
路パターン8を形成した成形回路基板9を得ることがで
きるものである。なお、この回路パターン8の表面に、
さらにニッケルメッキや金メッキ等の処理を行い、必要
に応じて他の導電層を通常数μm厚みで設けるようにし
てもよい。
Next, a soft etching process is applied to the entire metal film of FIG. 1 (e) to remove the metal film remaining in the circuit non-formation portion 5 having a thickness of 0.3 to 0.5 μm and electrolytic plating. By leaving most of the applied circuit forming portion 7, a molded circuit board 9 having a circuit pattern 8 having a desired shape as shown in FIG. 1F can be obtained. In addition, on the surface of this circuit pattern 8,
Furthermore, nickel plating, gold plating, or the like may be performed, and another conductive layer may be provided to a thickness of several μm, if necessary.

【0097】この回路形成において、本発明の成形品用
液晶性樹脂組成物を用い、回路基板として好ましい組成
にて成形品を作製し、上記のプラズマ処理による成形品
表面の活性化、上記の物理蒸着法による金属膜形成、レ
ーザ光照射の金属膜除去による回路パターン形成、電解
メッキ処理、ソフトエッチング処理などの種々なプロセ
スを組合せると非常に相性が良く、所望の特性を低下さ
せずに各プロセスの処理品質が向上する。この結果、従
来に比べ、回路パターンの密着性および機械強度、耐熱
性や寸法安定性が優れ、多様な立体形状により小型化や
超小型化された成形回路基板を得ることができる。ま
た、この成形回路基板は、特に小型精密電子回路機器な
どに好適に用いることができる。
In this circuit formation, the liquid crystalline resin composition for molded products of the present invention was used to prepare molded products with a composition preferable as a circuit board, and the surface of the molded product was activated by the plasma treatment described above, and the above physical properties were used. Combining various processes such as metal film formation by vapor deposition method, circuit pattern formation by metal film removal by laser light irradiation, electrolytic plating treatment, soft etching treatment, etc. is very compatible, and various characteristics can be achieved without degrading desired characteristics. The processing quality of the process is improved. As a result, it is possible to obtain a miniaturized or ultra-miniaturized molded circuit board that has excellent circuit pattern adhesion, mechanical strength, heat resistance, and dimensional stability as compared with conventional ones and has various three-dimensional shapes. Moreover, this molded circuit board can be suitably used particularly for small precision electronic circuit devices and the like.

【0098】勿論、こうして得られる金属膜形成された
成形品は、MIDのような成形回路基板の他に、表面に
金属膜形成処理するものであればいかなる用途に使用す
ることも可能であり、センサ、LEDランプ、コネク
タ、ソケット、抵抗器、リレーケース、スイッチ、コイ
ルボビン、コンデンサ、バリコンケース、DVD、CD
等の光ピックアップ部品(レンズホルダ、スライドベー
ス等)、水晶等の発振子、各種端子板、変成器、プラ
グ、プリント配線板、チューナ、小型モータ、磁気ヘッ
ドベース、パワーモジュール、ハウジング、半導体、液
晶ディスプレー部品、FDDキャリッジ、FDDシャー
シ、HDD部品、モーターブラッシュホルダ、内蔵アン
テナ、パラボラアンテナ、コンピュータ関連部品、携帯
電話などの携帯情報端末機器用部品などに代表される電
気・電子部品;VTR部品、テレビ部品、アイロン、ヘ
アードライヤ、炊飯器部品、電子レンジ部品、マイクロ
ホン、ヘッドホン、スピーカ、オーディオ・レーザーデ
ィスク(登録商標)・コンパクトディスク・ミニディス
クなどの音響・音声機器部品、照明部品、冷蔵庫部品、
エアコン部品、感光ドラム、用紙用分離爪などのコピー
部品、プリンタ部品、タイプライタ部品、ワードプロセ
ッサ部品などに代表される家庭、事務電気製品部品、フ
ァックス関連部品、複写機関連部品、オフィスコンピュ
ータ関連部品、電話機関連部品、洗浄用治具、オイルレ
ス軸受、船尾軸受、水中軸受、などの各種軸受、各種ギ
ア、モータ部品などが挙げられる。また、機械関連部
品、光学機器、精密機械関連部品、自動車・車両関連部
品、その他各種用途でも金属膜形成処理する成形品用途
に有用である。
Of course, the molded product on which the metal film is formed can be used for any purpose, in addition to a molded circuit board such as MID, as long as a metal film is formed on the surface of the molded product. Sensor, LED lamp, connector, socket, resistor, relay case, switch, coil bobbin, capacitor, variable capacitor case, DVD, CD
Optical pickup parts (lens holders, slide bases, etc.), crystal oscillators, various terminal boards, transformers, plugs, printed wiring boards, tuners, small motors, magnetic head bases, power modules, housings, semiconductors, liquid crystals Electric / electronic parts such as display parts, FDD carriage, FDD chassis, HDD parts, motor brush holders, built-in antennas, parabolic antennas, computer-related parts, parts for portable information terminal devices such as mobile phones; VTR parts, TVs Parts, irons, hair dryers, rice cooker parts, microwave oven parts, microphones, headphones, speakers, audio / laser disk (registered trademark) / compact disks / mini disks, and other audio / audio equipment parts, lighting parts, refrigerator parts,
Air-conditioner parts, photosensitive drums, copy parts such as paper separating claws, printer parts, typewriter parts, word processor parts, and other household, office electrical product parts, fax-related parts, copier-related parts, office computer-related parts, Various bearings such as telephone-related parts, cleaning jigs, oilless bearings, stern bearings, underwater bearings, various gears, motor parts, etc. can be mentioned. In addition, it is also useful for machine parts, optical devices, precision machine parts, automobile / vehicle related parts, and other various applications for forming metal film-formed molded products.

【0099】[0099]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。 参考例1 LCP1:p−ヒドロキシ安息香酸11.05kg、
4,4´−ジヒドロキシビフェニル1.40kg、テレ
フタル酸1.25kg、固有粘度が約0.6dl/gのポリ
エチレンテレフタレート2.40kgおよび無水酢酸1
0.67kgを圧力容器に仕込み、窒素雰囲気下130
〜150℃で4時間反応させた後、2.5時間かけて2
50℃まで昇温し、250℃で2.5時間反応させ、さ
らに2時間かけて320℃まで昇温させた後、1.5時
間で系内を1mmHgまで減圧させることにより脱酢酸
重縮合反応を行った結果、芳香族オキシカルボニル単位
80モル当量、芳香族ジオキシ単位7.5モル当量、エ
チレンジオキシ単位12.5モル当量、芳香族ジカルボ
ン酸単位20モル当量からなる融点314℃、溶融粘度
25Pa・s(324℃、オリフィス0.5mm直径×1
0mm、剪断速度1,000(1/秒))のペレットを得
た。 参考例2 PPS(リニアタイプ):M2588(東レ社製)を使
用した。 参考例3 PEEK:450PF(ビクトレックス社製)を使用し
た。 参考例4 PS:G690K(日本ポリスチレン社製)を使用し
た。
The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Reference Example 1 LCP1: p-hydroxybenzoic acid 11.05 kg,
1.40 kg of 4,4'-dihydroxybiphenyl, 1.25 kg of terephthalic acid, 2.40 kg of polyethylene terephthalate having an intrinsic viscosity of about 0.6 dl / g, and acetic anhydride 1
Charge 0.67 kg into a pressure vessel and run under a nitrogen atmosphere.
After reacting at ~ 150 ° C for 4 hours, 2 hours over 2.5 hours
Deacetic acid polycondensation reaction by raising the temperature to 50 ° C., reacting at 250 ° C. for 2.5 hours, further raising the temperature to 320 ° C. over 2 hours, and then depressurizing the system to 1 mmHg in 1.5 hours. As a result, a melting point of 314 ° C. composed of 80 molar equivalents of aromatic oxycarbonyl units, 7.5 molar equivalents of aromatic dioxy units, 12.5 molar equivalents of ethylenedioxy units and 20 molar equivalents of aromatic dicarboxylic acid units, melt viscosity 25Pa ・ s (324 ℃, orifice 0.5mm diameter x 1
Pellets of 0 mm and a shear rate of 1,000 (1 / sec) were obtained. Reference Example 2 PPS (linear type): M2588 (manufactured by Toray) was used. Reference Example 3 PEEK: 450PF (manufactured by Victorex) was used. Reference Example 4 PS: G690K (manufactured by Nippon Polystyrene Co., Ltd.) was used.

【0100】各評価については、次に述べる方法にした
がって測定した。 (1)流動性:下記成形機を用いて、射出速度99%、
射出圧力500kgf/cm2の条件で0.5mm厚×
12.7mm巾の試験片を成形し、流動長(棒流動長)
を測定した。 (2)耐熱性:下記成形機を用いて、3.2mm厚×1
2.7mm巾×127mm長のテストピースを成形し、
ASTM D648に従って測定し、荷重たわみ温度
(DTUL)を求めた(1.82MPa)。 (3)曲げ特性:下記成形機を用いて、3.2mm厚×
12.7mm巾×127mm長のテストピースを成形
し、ASTM D790に従って測定し、曲げ強度、曲
げ弾性率を求めた。 (4)金属膜密着性:下記成形機を用いて、1mm厚×
40mm巾×30mm長のテストピースを成形した。
Each evaluation was measured according to the method described below. (1) Flowability: Using the following molding machine, injection speed 99%,
0.5 mm thickness under injection pressure of 500 kgf / cm 2
A test piece with a width of 12.7 mm was molded and the flow length (bar flow length)
Was measured. (2) Heat resistance: 3.2 mm thickness x 1 using the following molding machine
Mold a test piece of 2.7mm width x 127mm length,
The deflection temperature under load (DTUL) was measured according to ASTM D648 (1.82 MPa). (3) Bending property: 3.2 mm thick × using the following molding machine
A test piece having a width of 12.7 mm and a length of 127 mm was molded and measured according to ASTM D790 to obtain bending strength and bending elastic modulus. (4) Adhesion of metal film: 1 mm thickness x using the following molding machine
A 40 mm wide x 30 mm long test piece was molded.

【0101】この樹脂成形体の表面をプラズマ処理し,
さらにDCマグネトロンスパッタリング装置を使って金
属層を形成した。すなわち、まず樹脂成形体をプラズマ
処理装置のチャンバー内にセットし、チャンバー内を真
空引きして10-4Pa程度に減圧した後、チャンバー内
に活性ガスとしてN2を導入して流通させると共に、チ
ャンバー内のガス圧を10Paに制御し、この後、電極
間にパワー300Wの高周波電圧(RF:13.56M
Hz)を30秒間印加することによって、プラズマ処理
を行った。
The surface of this resin molded body is plasma treated,
Further, a metal layer was formed using a DC magnetron sputtering device. That is, first, the resin molded body is set in the chamber of the plasma processing apparatus, the chamber is evacuated to reduce the pressure to about 10 −4 Pa, and then N 2 is introduced as an active gas into the chamber to be circulated. The gas pressure in the chamber was controlled to 10 Pa, and then a high frequency voltage with a power of 300 W (RF: 13.56 M) was applied between the electrodes.
The plasma treatment was performed by applying (Hz) for 30 seconds.

【0102】次に、チャンバー内の圧力が10-4Pa以
下になるまで真空引きし、この状態でチャンバー内にア
ルゴンガスを0.1Paのガス圧になるように導入した
後、更に500Vの直流電圧を印加することによって、
銅ターゲットをボンバードし、樹脂成形体の表面に40
0nmの膜厚の銅の金属層を形成した。次に、レーザに
より剥離強度試験用パターン(幅5mm)を施した後、
銅の金属層の表面に電解メッキで銅メッキを施し、厚み
15μmの金属膜を形成した。
Next, the chamber was evacuated to a pressure of 10 -4 Pa or less, and argon gas was introduced into the chamber to a gas pressure of 0.1 Pa in this state. By applying a voltage,
Bombard a copper target and apply 40 to the surface of the resin molding.
A copper metal layer having a film thickness of 0 nm was formed. Next, after applying a peel strength test pattern (width: 5 mm) with a laser,
The surface of the copper metal layer was electrolytically plated with copper to form a metal film having a thickness of 15 μm.

【0103】そして、万能試験機(島津製作所製EG
TEST)を用いて,単位幅あたりの銅膜引き剥がし強
度(90度ピール強度)を求めた。 実施例1〜5、比較例1 表1に示した割合で日本製鋼所製TEX30型2軸押出
機を用いて、LCP1を液晶性樹脂(A)として、非液
晶性樹脂(B)をドライブレンドし、元から供給し、ガ
ラス繊維(6μm径、3mm長、日本電気硝子製ECS
03T−790DE)を液晶性樹脂(A)100重量部
に対し表1で示した量をサイドフィーダから供給し、シ
リンダ温度315℃設定で溶融混練してペレットとし
た。このペレット中のガラス繊維の重量平均繊維長を測
定した。このペレットを射出成形機(ファナック(株)
製ロボショット30α−C)に供し、シリンダ温度32
0℃、金型温度90℃の条件で各評価項目ごとの方法で
試験片を成形した。 比較例2 PPSのかわりにナイロン6(東レ製アミランCM10
10)を使用した以外は実施例1と同様の方法で評価し
た。
A universal testing machine (EG manufactured by Shimadzu Corporation)
TEST) was used to determine the peel strength (90 degree peel strength) of the copper film per unit width. Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 Using a TEX30 twin-screw extruder manufactured by Japan Steel Works at a ratio shown in Table 1, LCP1 was used as the liquid crystalline resin (A) and non-liquid crystalline resin (B) was dry blended. Glass fiber (6 μm diameter, 3 mm length, ECS manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.)
03T-790DE) was supplied from the side feeder in an amount shown in Table 1 to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A), and melt-kneaded at a cylinder temperature of 315 ° C. to form pellets. The weight average fiber length of the glass fibers in this pellet was measured. Injection molding machine for this pellet (FANUC CORPORATION)
Manufactured by Roboshot 30α-C), cylinder temperature 32
Test pieces were molded by the method for each evaluation item under the conditions of 0 ° C. and mold temperature of 90 ° C. Comparative Example 2 Nylon 6 instead of PPS (Amylan CM10 manufactured by Toray)
Evaluation was performed in the same manner as in Example 1 except that 10) was used.

【0104】表1からも明らかなように本発明の組成物
は、比較例の組成物に比べ、金属膜との密着性に優れ、
かつ、流動性、耐熱性、機械的物性に優れていることが
わかる。
As is clear from Table 1, the composition of the present invention is superior in adhesiveness to the metal film as compared with the composition of Comparative Example,
It is also found that the fluidity, heat resistance, and mechanical properties are excellent.

【0105】[0105]

【表1】 [Table 1]

【0106】実施例6,7、比較例3 表2に示した割合で日本製鋼所製TEX30型2軸押出
機を用いて、LCP1を液晶性樹脂(A)として、非液
晶性樹脂(B)をドライブレンドし、元から供給し、ホ
ウ酸アルミニウムウィスカ(0.5〜1μm径、10〜
30μm長、四国化成工業製アルボレックスYS3A)
を液晶性樹脂(A)100重量部に対し表2で示した量
をサイドフィーダから供給し、シリンダ温度315℃設
定で溶融混練してペレットとした。このペレット中のホ
ウ酸アルミニウムウィスカの重量平均繊維長を測定し
た。このペレットを射出成形機(ファナック(株)製ロ
ボショット30α−C)に供し、シリンダ温度320
℃、金型温度90℃の条件で各評価項目ごとの方法で試
験片を成形した。
Examples 6 and 7 and Comparative Example 3 Using the TEX30 twin-screw extruder manufactured by Japan Steel Works at a ratio shown in Table 2, LCP1 was used as the liquid crystalline resin (A) and the non-liquid crystalline resin (B) was used. Are dry-blended and supplied from the beginning, and aluminum borate whiskers (0.5 to 1 μm diameter, 10 to
30 μm long, Arbolex YS3A manufactured by Shikoku Chemicals)
The amount shown in Table 2 was supplied from 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A) from the side feeder, and melt-kneaded at a cylinder temperature of 315 ° C. to form pellets. The weight average fiber length of the aluminum borate whiskers in this pellet was measured. The pellets were subjected to an injection molding machine (Roboshot 30α-C manufactured by FANUC CORPORATION), and a cylinder temperature of 320
Test pieces were molded by the method for each evaluation item under the conditions of ℃ and mold temperature of 90 ℃.

【0107】表2からも明らかなように本発明の組成物
は比較例の組成物に比べ、金属膜との密着性に優れ、か
つ、流動性、耐熱性、機械的物性に優れていることがわ
かる。
As is clear from Table 2, the composition of the present invention is superior in adhesiveness to the metal film and excellent in fluidity, heat resistance and mechanical properties as compared with the compositions of Comparative Examples. I understand.

【0108】[0108]

【表2】 [Table 2]

【0109】[0109]

【発明の効果】本発明の成形品用液晶性樹脂組成物は、
金属膜密着性、流動性、耐熱性、機械的物性に優れてい
ることから、成形回路基板のような金属膜を形成する成
形品に好適な材料である。また、本発明の成形回路基板
は、この成形品用液晶性樹脂組成物に、MIDの上記の
回路形成プロセスを組合せることで、小型化やさらに超
小型化された多様な立体形状にて、回路パターンの密着
性および機械強度、耐熱性や寸法安定性が優れた精密電
子回路基板を実現できる。
The liquid crystalline resin composition for molded articles of the present invention is
Since it is excellent in metal film adhesion, fluidity, heat resistance, and mechanical properties, it is a material suitable for a molded product for forming a metal film such as a molded circuit board. In addition, the molded circuit board of the present invention has a variety of three-dimensional shapes that are miniaturized and further miniaturized by combining the liquid crystal resin composition for molded articles with the above-described circuit forming process of MID. It is possible to realize a precision electronic circuit board having excellent circuit pattern adhesion, mechanical strength, heat resistance, and dimensional stability.

【0110】本発明の請求項1乃至8に係る成形品用液
晶性樹脂組成物は、液晶性樹脂(A)100重量部に対
して少なくとも1個の芳香環を有する反復単位を含む非
液晶性樹脂(B)0.5〜30重量部を含有してなる成
形品用液晶性樹脂組成物であって、前記成形品は成形品
の表面に金属膜が形成されるものであり、金属膜密着
性、流動性、耐熱性、機械的物性に優れた成形品が得ら
れるものである。
The liquid crystalline resin composition for molded products according to any one of claims 1 to 8 of the present invention is a non-liquid crystalline resin containing a repeating unit having at least one aromatic ring with respect to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A). A liquid crystalline resin composition for a molded product, which comprises 0.5 to 30 parts by weight of a resin (B), wherein the molded product has a metal film formed on the surface of the molded product and adheres to the metal film. A molded article having excellent properties, fluidity, heat resistance, and mechanical properties can be obtained.

【0111】本発明の請求項2乃至3に係る成形品用液
晶性樹脂組成物は、請求項1の構成のなかでも特定の非
液晶性樹脂(B)を選択することによって、さらに金属
膜密着性に優れた成形品が得られるものである。
The liquid crystalline resin composition for molded articles according to claims 2 to 3 of the present invention can be further adhered to a metal film by selecting a specific non-liquid crystalline resin (B) in the constitution of claim 1. A molded product having excellent properties can be obtained.

【0112】本発明の請求項4乃至5に係る成形品用液
晶性樹脂組成物は、請求項1乃至3のいずれかの構成の
なかでも特定の液晶性樹脂(A)を選択することによっ
て、さらに金属膜密着性に優れた成形品が得られるもの
である。
The liquid crystalline resin composition for molded articles according to any one of claims 4 to 5 of the present invention can be prepared by selecting a specific liquid crystalline resin (A) among the constitutions according to any one of claims 1 to 3. Further, a molded product excellent in metal film adhesiveness can be obtained.

【0113】本発明の請求項6に係る成形品用液晶性樹
脂組成物は、請求項1乃至5のいずれかの構成に加え
て、液晶性樹脂(A)100重量部に対して充填材
(C)5〜200重量部を含有してなることによって、
さらに金属膜密着性、耐熱性、機械的物性に優れた成形
品が得られるものである。
The liquid crystal resin composition for molded articles according to claim 6 of the present invention is the same as the composition according to any one of claims 1 to 5, in addition to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A), a filler ( C) By containing 5 to 200 parts by weight,
Further, a molded product excellent in metal film adhesion, heat resistance and mechanical properties can be obtained.

【0114】本発明の請求項7に係る成形品用液晶性樹
脂組成物は、請求項6の構成のなかでも充填材(C)と
して特定量の特定のガラス繊維を選択することによっ
て、さらに金属膜密着性、流動性、耐熱性、機械的物性
に優れた成形品が得られるものである。
The liquid crystalline resin composition for molded articles according to claim 7 of the present invention has a further metal content by selecting a specific amount of a specific glass fiber as the filler (C) in the constitution of claim 6. A molded article having excellent film adhesion, fluidity, heat resistance and mechanical properties can be obtained.

【0115】本発明の請求項8に係る成形品用液晶性樹
脂組成物は、請求項6の構成のなかでも充填材(C)と
して特定量の特定のウィスカを選択することによって、
さらに金属膜密着性、流動性、耐熱性、機械的物性に優
れるだけでなく、表面平滑性にも優れた成形品が得られ
るものであり、回路をより微細化した超小型超精密化を
図る成形基板が得られるものである。
The liquid crystalline resin composition for molded articles according to claim 8 of the present invention has the same composition as in claim 6 by selecting a specific amount of a specific whisker as the filler (C).
In addition to being excellent not only in metal film adhesion, fluidity, heat resistance, and mechanical properties, but also in terms of surface smoothness, a molded product can be obtained. A molded substrate is obtained.

【0116】本発明の請求項9に係る成形品用液晶性樹
脂組成物は、請求項1乃至8いずれかの構成に加えて、
成形品の表面にプラズマ処理を施した後、スパッタリン
グ、真空蒸着、イオンプレーティングのいずれかの方法
により金属膜が形成されることにより、さらに金属膜密
着性に優れた成形品が得られるものである。
The liquid crystalline resin composition for molded articles according to claim 9 of the present invention is the same as the composition according to any one of claims 1 to 8,
After the plasma treatment is applied to the surface of the molded product, a metal film is formed by any of the methods of sputtering, vacuum deposition, and ion plating, so that a molded product with even better metal film adhesion can be obtained. is there.

【0117】本発明の請求項10に係る成形品用液晶性
樹脂組成物は、請求項1乃至9いずれかの構成に加え
て、成形品の表面に形成された金属膜に、レーザ光照射
による回路パターニングが行われることにより、さらに
金属膜密着性に優れた回路が形成された成形品が得られ
るものである。
The liquid crystalline resin composition for a molded product according to a tenth aspect of the present invention is the same as that according to any one of the first through ninth aspects, in which the metal film formed on the surface of the molded product is irradiated with laser light. By carrying out circuit patterning, a molded product in which a circuit having further excellent metal film adhesion is formed can be obtained.

【0118】本発明の請求項11に係る成形回路基板
は、請求項1乃至10いずれかの成形品用液晶性樹脂組
成物を用いて成形した成形品の表面に金属膜が形成さ
れ、この金属膜に回路が形成されてなることを特徴とす
る成形回路基板であり、従来に比べ、回路パターンの密
着性および機械強度、耐熱性や寸法安定性が優れた成形
回路基板を得ることができ、特に小型精密電子回路機器
に好適な、多様な立体形状により小型化や超小型化され
た良質の精密電子回路基板が得られるものである。
A molded circuit board according to an eleventh aspect of the present invention has a metal film formed on the surface of a molded article molded using the liquid crystalline resin composition for a molded article according to any one of the first to tenth aspects. A molded circuit board characterized in that a circuit is formed in the film, compared to the conventional, it is possible to obtain a molded circuit board excellent in circuit pattern adhesion and mechanical strength, heat resistance and dimensional stability, In particular, it is possible to obtain a high-quality precision electronic circuit board which is suitable for small-sized precision electronic circuit equipment and which is miniaturized and ultra-miniaturized by various three-dimensional shapes.

【0119】本発明の請求項12に係る成形回路基板
は、請求項11の構成に加えて、成形品の表面に、スパ
ッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングのいずれ
かの方法により金属膜が形成されることにより、さらに
金属膜密着性に優れた成形回路基板が得られるものであ
る。
In the molded circuit board according to claim 12 of the present invention, in addition to the structure of claim 11, a metal film is formed on the surface of the molded product by any one of sputtering, vacuum deposition and ion plating. As a result, a molded circuit board having further excellent metal film adhesion can be obtained.

【0120】本発明の請求項13に係る成形回路基板
は、請求項12の構成に加えて、成形品の表面に、プラ
ズマ処理を施した後、スパッタリング、真空蒸着、イオ
ンプレーティングのいずれかの方法により金属膜が形成
されることにより、さらに金属膜密着性に優れた成形品
が得られるものである。
According to the thirteenth aspect of the present invention, in addition to the configuration of the twelfth aspect, the surface of the molded article is subjected to plasma treatment, and then any one of sputtering, vacuum deposition and ion plating is performed. By forming the metal film by the method, a molded product having further excellent adhesion to the metal film can be obtained.

【0121】本発明の請求項14に係る成形品用液晶性
樹脂組成物は、請求項11乃至13いずれかの構成に加
えて、成形品の表面に形成された金属膜にレーザ光が照
射され回路パターニングが行われる時に、回路部の金属
膜密着性を低下させずにレーザ照射部の金属膜が除去さ
れ、また成形品の表面平滑性が優れるため、精密細線化
の寸法精度に優れた回路が形成された成形回路基板が得
られるものである。
The liquid crystal resin composition for a molded product according to a fourteenth aspect of the present invention is the structure of any one of the eleventh to thirteenth aspects, wherein the metal film formed on the surface of the molded product is irradiated with laser light. When circuit patterning is performed, the metal film of the laser irradiation part is removed without lowering the metal film adhesion of the circuit part, and the surface smoothness of the molded product is excellent, so a circuit with excellent dimensional accuracy for precision fine line Thus, a molded circuit board on which is formed is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の成形回路基板を作製する過程の一実施
例を説明し、(a)及至(f)は、それぞれ斜視図であ
る。
FIG. 1 illustrates an example of a process of manufacturing a molded circuit board of the present invention, and FIGS. 1A to 1F are perspective views, respectively.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.表面がプラズマ処理される前の成形品 2.表面がプラズマ処理されて活性化した状態の成形品 3.金属膜が形成された成形品 4.回路形成部分 5.回路非形成部分 6.回路形成部分と回路非形成部分との境界部分 7.電解メッキが施された回路形成部分 8.回路パターン 9.成形回路基板 1. Molded product before the surface is plasma treated 2. Molded product whose surface is activated by plasma treatment 3. Molded product with metal film 4. Circuit formation part 5. Circuit non-formation part 6. Boundary between circuit formation part and circuit non-formation part 7. Circuit forming part with electrolytic plating 8. Circuit pattern 9. Molded circuit board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/08 H05K 3/08 D 3/14 3/14 A 3/16 3/16 3/38 3/38 A //(C08L 101/00 C08L 81:02 81:02) 71:10 (C08L 101/00 C08L 25:06 71:10) (C08L 101/00 25:06) (72)発明者 岡本 勝 大阪府大阪市北区堂島1丁目6番20号 東 レ株式会社大阪本社内 (72)発明者 池川 直人 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 佐藤 正博 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 Fターム(参考) 4J002 BC032 BC062 BN072 BN142 BN152 BN162 CC032 CF031 CF041 CF051 CF062 CF072 CF081 CF091 CF101 CF181 CF212 CG012 CH072 CH092 CL032 CM042 CN012 CN032 DA016 DA086 DA096 DC006 DE107 DE136 DE146 DE147 DE187 DE237 DJ006 DJ007 DJ016 DK007 DL006 FA046 FA067 5E339 AB02 AD01 BD11 BE05 DD03 5E343 AA16 AA36 BB23 BB24 BB34 BB35 BB39 BB40 BB55 DD23 DD24 DD25 DD43 EE36 GG02 GG08 GG16 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05K 3/08 H05K 3/08 D 3/14 3/14 A 3/16 3/16 3/38 3 / 38 A // (C08L 101/00 C08L 81:02 81:02) 71:10 (C08L 101/00 C08L 25:06 71:10) (C08L 101/00 25:06) (72) Inventor Masaru Okamoto Osaka 1-6-20 Dojima, Kita-ku, Osaka City, Toray Co., Ltd. Osaka Main Office (72) Inventor Naoto Ikegawa 1048 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works Co., Ltd. (72) Masahiro Sato Kadoma City, Osaka Prefecture Daiji Kadoma 1048 Matsushita Electric Works Co., Ltd. F-term (reference) 4J002 BC032 BC062 BN072 BN142 BN152 BN162 CC032 CF031 CF041 CF051 CF062 CF072 CF081 CF091 CF101 CF181 CF212 CG012 CH072 CH092 CL032 CM042 CN012 DE107 DE090 DA032 DA032 DA016 DE237 DJ006 DJ007 DJ016 DK007 DL006 FA046 FA067 5E339 AB02 AD01 BD11 BE05 DD03 5E343 AA16 AA36 BB23 BB24 BB34 BB35 BB39 BB40 BB55 DD23 DD24 DD25 DD43 EE36 GG02 GG08 GG16

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】液晶性樹脂(A)100重量部に対して少
なくとも1個の芳香環を有する反復単位を含む非液晶性
樹脂(B)0.5〜30重量部を含有してなる成形品用
液晶性樹脂組成物であって、前記成形品は成形品の表面
に金属膜が形成されるものであることを特徴とする成形
品用液晶性樹脂組成物。
1. A molded product comprising 0.5 to 30 parts by weight of a non-liquid crystalline resin (B) containing a repeating unit having at least one aromatic ring with respect to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A). A liquid crystalline resin composition for a molded product, wherein the molded product has a metal film formed on the surface of the molded product.
【請求項2】非液晶性樹脂(B)が、ポリフェニレンス
ルフィド、芳香族ポリエーテルエーテルケトン、ポリス
チレンから選ばれた1種以上の非液晶性樹脂であること
を特徴とする請求項1記載の成形品用液晶性樹脂組成
物。
2. The molding according to claim 1, wherein the non-liquid crystalline resin (B) is at least one non-liquid crystalline resin selected from polyphenylene sulfide, aromatic polyether ether ketone and polystyrene. Liquid crystalline resin composition for products.
【請求項3】非液晶性樹脂(B)が、ポリフェニレンス
ルフィドであることを特徴とする請求項1記載の成形品
用液晶性樹脂組成物。
3. The liquid crystalline resin composition for molded articles according to claim 1, wherein the non-liquid crystalline resin (B) is polyphenylene sulfide.
【請求項4】液晶性樹脂(A)が、下記構造単位
(I)、(II)、(III)および(IV)からなる液晶性
ポリエステルであることを特徴とする請求項1〜3いず
れか記載の成形品用液晶性樹脂組成物。 【化1】 (ただし式中のR1は 【化2】 から選ばれた1種以上の基を示し、R2は 【化3】 から選ばれた1種以上の基を示し、R3は 【化4】 から選ばれた1種以上の基を示す。ただし式中Xは水素
原子または塩素原子を示す。)
4. The liquid crystalline resin (A) is a liquid crystalline polyester comprising the following structural units (I), (II), (III) and (IV), wherein The liquid crystalline resin composition for molded articles as described above. [Chemical 1] (However, R 1 in the formula is It represents one or more groups selected from, R 2 is ## STR3 ## It represents one or more groups selected from, R 3 is embedded image And one or more groups selected from However, in the formula, X represents a hydrogen atom or a chlorine atom. )
【請求項5】液晶性樹脂(A)が上記構造単位(I)、
(II)、(III)および(IV)からなる液晶性ポリエス
テルであって、上記構造単位(I)および(II)の合計
は構造単位(I)、(II)および(III)の合計に対し
て30〜95モル%、構造単位(III)は構造単位
(I)、(II)および(III)の合計に対して70〜5
モル%であり、構造単位(I)の(II)に対するモル比
[(I)/(II)]は75/25〜95/5であること
を特徴とする請求項4記載の成形品用液晶性樹脂組成
物。
5. The liquid crystalline resin (A) is the structural unit (I),
A liquid crystalline polyester comprising (II), (III) and (IV), wherein the total of the structural units (I) and (II) is based on the total of the structural units (I), (II) and (III). 30 to 95 mol%, the structural unit (III) is 70 to 5 with respect to the total of the structural units (I), (II) and (III).
The liquid crystal for a molded article according to claim 4, wherein the molar ratio is [(I) / (II)] of the structural unit (I) to (II) is 75/25 to 95/5. Resin composition.
【請求項6】液晶性樹脂(A)100重量部に対して充
填材(C)5〜200重量部を含有してなることを特徴
とする請求項1〜5いずれか記載の成形品用液晶性樹脂
組成物。
6. A liquid crystal for a molded article according to claim 1, which contains 5 to 200 parts by weight of the filler (C) with respect to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A). Resin composition.
【請求項7】充填材(C)が、繊維径3〜15μm、重
量平均繊維長0.01〜0.6mmであるガラス繊維で
あり、その含有量が液晶性樹脂(A)100重量部に対
して10〜150重量部であることを特徴とする請求項
6記載の成形品用液晶性樹脂組成物。
7. The filler (C) is a glass fiber having a fiber diameter of 3 to 15 μm and a weight average fiber length of 0.01 to 0.6 mm, and the content thereof is 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A). The liquid crystalline resin composition for molded articles according to claim 6, wherein the amount is 10 to 150 parts by weight.
【請求項8】充填材(C)が、繊維径0.05〜5μ
m、重量平均繊維長1〜100μmであるウィスカであ
り、その含有量が液晶性樹脂(A)100重量部に対し
て10〜150重量部であることを特徴とする請求項6
記載の成形品用液晶性樹脂組成物。
8. The filler (C) has a fiber diameter of 0.05 to 5 μm.
m is a whisker having a weight average fiber length of 1 to 100 μm, and the content thereof is 10 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the liquid crystalline resin (A).
The liquid crystalline resin composition for molded articles as described above.
【請求項9】前記成形品が、成形品の表面にプラズマ処
理を施した後、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレ
ーティングのいずれかの方法により金属膜が形成される
ことを特徴とする請求項1〜8いずれか記載の成形品用
液晶性樹脂組成物。
9. A metal film is formed on the molded product by subjecting the surface of the molded product to plasma treatment and then performing any one of sputtering, vacuum deposition, and ion plating. 8. The liquid crystalline resin composition for molded articles according to any one of 8 to 8.
【請求項10】前記成形品の表面に形成された金属膜
に、レーザ光照射による回路パターニングが行われ、回
路形成されることを特徴とする請求項1〜9いずれか記
載の成形品用液晶性樹脂組成物。
10. The liquid crystal for molded product according to claim 1, wherein the metal film formed on the surface of the molded product is subjected to circuit patterning by laser light irradiation to form a circuit. Resin composition.
【請求項11】請求項1〜10のいずれかの成形品用液
晶性樹脂組成物を用いて成形した成形品の表面に金属膜
が形成され、この金属膜に回路が形成されてなることを
特徴とする成形回路基板。
11. A metal film is formed on the surface of a molded product molded using the liquid crystalline resin composition for a molded product according to claim 1, and a circuit is formed on the metal film. Characterized molded circuit board.
【請求項12】前記成形品の表面に、スパッタリング、
真空蒸着、イオンプレーティングのいずれかの方法によ
り金属膜が形成されてなることを特徴とする請求項11
記載の成形回路基板。
12. The surface of the molded article is sputtered,
The metal film is formed by any one of vacuum deposition and ion plating.
The molded circuit board described.
【請求項13】前記成形品の表面に、プラズマ処理を施
した後、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティ
ングのいずれかの方法により金属膜が形成されてなるこ
とを特徴とする請求項12記載の成形回路基板。
13. The metal film is formed on the surface of the molded product by a plasma treatment and then by any one of sputtering, vacuum deposition, and ion plating. Molded circuit board.
【請求項14】前記成形品の表面に形成された金属膜
に、レーザ光照射による回路パターニングが行われ、回
路形成されてなることを特徴とする請求項11〜13の
いずれかに記載の成形回路基板。
14. The molding according to claim 11, wherein the metal film formed on the surface of the molded product is subjected to circuit patterning by laser light irradiation to form a circuit. Circuit board.
JP2002068533A 2002-03-13 2002-03-13 Liquid crystalline resin composition for molding and molded circuit board Pending JP2003268241A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002068533A JP2003268241A (en) 2002-03-13 2002-03-13 Liquid crystalline resin composition for molding and molded circuit board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002068533A JP2003268241A (en) 2002-03-13 2002-03-13 Liquid crystalline resin composition for molding and molded circuit board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003268241A true JP2003268241A (en) 2003-09-25

Family

ID=29199610

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002068533A Pending JP2003268241A (en) 2002-03-13 2002-03-13 Liquid crystalline resin composition for molding and molded circuit board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003268241A (en)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006346980A (en) * 2005-06-15 2006-12-28 Sumitomo Electric Ind Ltd Injection-molded circuit component and its production method
CN102140233A (en) * 2011-02-18 2011-08-03 金发科技股份有限公司 Low warpage liquid crystal polymer composition and preparation method thereof
WO2012169279A1 (en) * 2011-06-09 2012-12-13 出光興産株式会社 Resin composition, resin composition for optical pickup, and molded body for optical pickup
WO2017110646A1 (en) * 2015-12-22 2017-06-29 ポリプラスチックス株式会社 Liquid-crystalline resin composition and insert-molded article
US11258184B2 (en) 2019-08-21 2022-02-22 Ticona Llc Antenna system including a polymer composition having a low dissipation factor
US11555113B2 (en) 2019-09-10 2023-01-17 Ticona Llc Liquid crystalline polymer composition
US11637365B2 (en) 2019-08-21 2023-04-25 Ticona Llc Polymer composition for use in an antenna system
US11646760B2 (en) 2019-09-23 2023-05-09 Ticona Llc RF filter for use at 5G frequencies
US11721888B2 (en) 2019-11-11 2023-08-08 Ticona Llc Antenna cover including a polymer composition having a low dielectric constant and dissipation factor
US11728559B2 (en) 2021-02-18 2023-08-15 Ticona Llc Polymer composition for use in an antenna system
US11729908B2 (en) 2020-02-26 2023-08-15 Ticona Llc Circuit structure
US11917753B2 (en) 2019-09-23 2024-02-27 Ticona Llc Circuit board for use at 5G frequencies
US11912817B2 (en) 2019-09-10 2024-02-27 Ticona Llc Polymer composition for laser direct structuring

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02206644A (en) * 1989-02-06 1990-08-16 Toray Ind Inc Production of thermoplastic resin composition
JPH0359067A (en) * 1989-07-27 1991-03-14 Toray Ind Inc Optically anisotropic polyester resin composition
JPH0476049A (en) * 1990-07-19 1992-03-10 Toray Ind Inc Liquid crystalline polyester resin composition
JPH07224210A (en) * 1993-12-16 1995-08-22 Toray Ind Inc Polyphenylene sulfide resin molding
JP2000160039A (en) * 1998-09-24 2000-06-13 Toray Ind Inc Liquid crystal resin composition for molding having circular structural part
JP2001288342A (en) * 2000-04-04 2001-10-16 Sumitomo Chem Co Ltd Liquid crystal polyester resin composition, method for producing the same and its molded product
JP2002020519A (en) * 2000-07-12 2002-01-23 Toray Ind Inc Electroconductive resin molding
JP2002060522A (en) * 2000-06-06 2002-02-26 Matsushita Electric Works Ltd Molded article

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02206644A (en) * 1989-02-06 1990-08-16 Toray Ind Inc Production of thermoplastic resin composition
JPH0359067A (en) * 1989-07-27 1991-03-14 Toray Ind Inc Optically anisotropic polyester resin composition
JPH0476049A (en) * 1990-07-19 1992-03-10 Toray Ind Inc Liquid crystalline polyester resin composition
JPH07224210A (en) * 1993-12-16 1995-08-22 Toray Ind Inc Polyphenylene sulfide resin molding
JP2000160039A (en) * 1998-09-24 2000-06-13 Toray Ind Inc Liquid crystal resin composition for molding having circular structural part
JP2001288342A (en) * 2000-04-04 2001-10-16 Sumitomo Chem Co Ltd Liquid crystal polyester resin composition, method for producing the same and its molded product
JP2002060522A (en) * 2000-06-06 2002-02-26 Matsushita Electric Works Ltd Molded article
JP2002020519A (en) * 2000-07-12 2002-01-23 Toray Ind Inc Electroconductive resin molding

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006346980A (en) * 2005-06-15 2006-12-28 Sumitomo Electric Ind Ltd Injection-molded circuit component and its production method
CN102140233A (en) * 2011-02-18 2011-08-03 金发科技股份有限公司 Low warpage liquid crystal polymer composition and preparation method thereof
CN102140233B (en) * 2011-02-18 2012-12-26 金发科技股份有限公司 Low warpage liquid crystal polymer composition and preparation method thereof
WO2012169279A1 (en) * 2011-06-09 2012-12-13 出光興産株式会社 Resin composition, resin composition for optical pickup, and molded body for optical pickup
JP2012255103A (en) * 2011-06-09 2012-12-27 Idemitsu Kosan Co Ltd Resin composition, resin composition for optical pickup, and molded body for optical pickup
CN108431138B (en) * 2015-12-22 2019-07-09 宝理塑料株式会社 Liquid crystalline resin composition and insert molding product
JP6225297B1 (en) * 2015-12-22 2017-11-01 ポリプラスチックス株式会社 Liquid crystalline resin composition and insert molded product
KR20180081151A (en) * 2015-12-22 2018-07-13 포리프라스틱 가부시키가이샤 Liquid crystalline resin composition and insert molding product
CN108431138A (en) * 2015-12-22 2018-08-21 宝理塑料株式会社 Liquid crystalline resin composition and insert molding product
KR101915731B1 (en) 2015-12-22 2018-11-06 포리프라스틱 가부시키가이샤 Liquid crystalline resin composition and insert molding product
WO2017110646A1 (en) * 2015-12-22 2017-06-29 ポリプラスチックス株式会社 Liquid-crystalline resin composition and insert-molded article
TWI701281B (en) * 2015-12-22 2020-08-11 日商寶理塑料股份有限公司 Liquid crystalline resin composition and insert molded article
US11637365B2 (en) 2019-08-21 2023-04-25 Ticona Llc Polymer composition for use in an antenna system
US11258184B2 (en) 2019-08-21 2022-02-22 Ticona Llc Antenna system including a polymer composition having a low dissipation factor
US11705641B2 (en) 2019-08-21 2023-07-18 Ticoan Llc Antenna system including a polymer composition having a low dissipation factor
US11555113B2 (en) 2019-09-10 2023-01-17 Ticona Llc Liquid crystalline polymer composition
US11912817B2 (en) 2019-09-10 2024-02-27 Ticona Llc Polymer composition for laser direct structuring
US11646760B2 (en) 2019-09-23 2023-05-09 Ticona Llc RF filter for use at 5G frequencies
US11917753B2 (en) 2019-09-23 2024-02-27 Ticona Llc Circuit board for use at 5G frequencies
US11721888B2 (en) 2019-11-11 2023-08-08 Ticona Llc Antenna cover including a polymer composition having a low dielectric constant and dissipation factor
US11729908B2 (en) 2020-02-26 2023-08-15 Ticona Llc Circuit structure
US11728559B2 (en) 2021-02-18 2023-08-15 Ticona Llc Polymer composition for use in an antenna system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100976103B1 (en) Aromatic liquid crystal polyester and film thereof
TWI359159B (en) Aromatic liquid-crystalline polyester
JP2003268241A (en) Liquid crystalline resin composition for molding and molded circuit board
JP5332081B2 (en) Resin composition and molded article comprising the same
JPH0529155B2 (en)
JP2003268089A (en) Liquid crystalline polyester resin for molded product and molded circuit board
JP2008308616A (en) Surface modification method and surface coating method of article composed of liquid crystalline polymer material
JP2006316207A (en) Liquid crystalline resin composition and film formed out of the same
JP4608342B2 (en) Resin molded product having low dielectric loss tangent and method for producing the same
JP4731955B2 (en) Liquid crystalline polyester resin composition for surface processing
JP2000226508A (en) Fiber-reinforced resin composition and molding product
US5209819A (en) Process for producing molding for precision fine-line circuit
JP2714440B2 (en) Manufacturing method of substrate for precision fine wire circuit
JP2005272810A (en) Aromatic liquid crystal polyester and its film, and their use
JP2005290370A (en) Metal-coated resin molded product and method for producing the same
JPH1171513A (en) Polyketone resin composition
US5217571A (en) Surface treatment of moldings based on liquid crystalline polymers
JP2003113314A (en) Thermoplastic resin composition and formed article and chassis or housing
JP4724896B2 (en) Thermoplastic resin composition and molded article
JP2000159957A (en) Thermoplastic resin composition and molded product
JP3267520B2 (en) Thermoplastic resin molded product with a metal layer formed on the surface
JP3024235B2 (en) Method for producing surface metallized liquid crystalline polymer resin molded article
JPH1180391A (en) Liquid crystalline resin molded product and treatment thereof
JPH10316873A (en) Liquid crystal resin composition
JP3224204B2 (en) Thermoplastic resin molded product with a metal layer formed on the surface

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050308

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070713

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070807

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071005

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080115