JP2003264131A - 半導体製造方法および半導体製造システム - Google Patents
半導体製造方法および半導体製造システムInfo
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- JP2003264131A JP2003264131A JP2002064891A JP2002064891A JP2003264131A JP 2003264131 A JP2003264131 A JP 2003264131A JP 2002064891 A JP2002064891 A JP 2002064891A JP 2002064891 A JP2002064891 A JP 2002064891A JP 2003264131 A JP2003264131 A JP 2003264131A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 収集した出来映え検査結果と、ロット処理履
歴に演算処理を施し、演算により得られた装置ＩＤ別歩
留順位に基づき、処理ロットを変更することで、装置要
因による歩留低下を避け、歩留の良い装置を用いて処理
することで、良い歩留を達成することを目的とする。 【解決手段】 製品を製造するための複数工程からなる
一連の工程を備えた製造形態にて、製品の各工程作業実
績情報と、製品の出来映え検査結果とを演算処理して歩
留低下要因装置を推定し、製造装置を指定することで歩
留低下を未然に防ぐ。
歴に演算処理を施し、演算により得られた装置ＩＤ別歩
留順位に基づき、処理ロットを変更することで、装置要
因による歩留低下を避け、歩留の良い装置を用いて処理
することで、良い歩留を達成することを目的とする。 【解決手段】 製品を製造するための複数工程からなる
一連の工程を備えた製造形態にて、製品の各工程作業実
績情報と、製品の出来映え検査結果とを演算処理して歩
留低下要因装置を推定し、製造装置を指定することで歩
留低下を未然に防ぐ。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、多品種の半導体装
置を高歩留で製造できる半導体製造方法および半導体製
造システムに関する。
置を高歩留で製造できる半導体製造方法および半導体製
造システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置製造をはじめとして、複数の
装置による多数の工程を必要とする製造ラインにおいて
は、工程作業実績を収集する製造管理システムや、製品
の進行を管理する進行管理システムや、製品の出来映え
評価検査結果を管理するシステムなどを構築し、工場全
体の物流、検査を管理している。
装置による多数の工程を必要とする製造ラインにおいて
は、工程作業実績を収集する製造管理システムや、製品
の進行を管理する進行管理システムや、製品の出来映え
評価検査結果を管理するシステムなどを構築し、工場全
体の物流、検査を管理している。
【０００３】以下図面を参照しながら、上記した従来の
製造管理システムについて説明する。図７は半導体製造
プロセスにおける従来の製造管理システムの一例を示す
構成図である。
製造管理システムについて説明する。図７は半導体製造
プロセスにおける従来の製造管理システムの一例を示す
構成図である。
【０００４】図７において、７１は製造ラインの作業実
績を収集する製造管理サーバー、７２は製品評価のため
の検査結果を収集する検査管理サーバー、７３は製造ラ
インのロットの進行を指示する進行指示サーバーであ
り、ネットワーク７５を介して製造管理サーバー７１
と、検査管理サーバー７２と、進行指示サーバー７３と
が各々有機的に結合されている。
績を収集する製造管理サーバー、７２は製品評価のため
の検査結果を収集する検査管理サーバー、７３は製造ラ
インのロットの進行を指示する進行指示サーバーであ
り、ネットワーク７５を介して製造管理サーバー７１
と、検査管理サーバー７２と、進行指示サーバー７３と
が各々有機的に結合されている。
【０００５】製造管理サーバー７１はデータベース７１
ａを備え、製造ネットワーク７６を通じて図示しない各
製造装置または入力端末に接続されている。検査管理サ
ーバー７２はデータベース７２ａを備え、検査ネットワ
ーク７７を通じて図示しない各検査装置または入力端末
に接続されている。進行指示サーバー７３はデータベー
ス７３ａを備えている。
ａを備え、製造ネットワーク７６を通じて図示しない各
製造装置または入力端末に接続されている。検査管理サ
ーバー７２はデータベース７２ａを備え、検査ネットワ
ーク７７を通じて図示しない各検査装置または入力端末
に接続されている。進行指示サーバー７３はデータベー
ス７３ａを備えている。
【０００６】製造管理サーバー７１は、設備やロットの
履歴を管理するサーバーで、品種名、ロット番号、製造
工程、使われた製造設備、作業結果内容等をデータベー
スに保管している。
履歴を管理するサーバーで、品種名、ロット番号、製造
工程、使われた製造設備、作業結果内容等をデータベー
スに保管している。
【０００７】検査管理サーバー７２は、検査したロット
の歩留情報を管理するサーバーで、品種名、ロット番
号、検査工程、使われた検査設備、検査結果等をデータ
ベースに保管している。
の歩留情報を管理するサーバーで、品種名、ロット番
号、検査工程、使われた検査設備、検査結果等をデータ
ベースに保管している。
【０００８】進行指示サーバー７３は、製造管理サーバ
ーからの情報を基に、ロットを装置の稼動を落とすこと
なく最適に装置に仕掛け、また重要ロットの進行を滞り
なく進めるよう指示している。
ーからの情報を基に、ロットを装置の稼動を落とすこと
なく最適に装置に仕掛け、また重要ロットの進行を滞り
なく進めるよう指示している。
【０００９】以上のように構成された従来の製造管理シ
ステムでは、装置稼動の最適化と重要ロットの進行を滞
ること無く進行させることのみに注力されている。
ステムでは、装置稼動の最適化と重要ロットの進行を滞
ること無く進行させることのみに注力されている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、設備稼働優先あるいは、処理スピード優
先で装置が選択されてしまう。このため、特に歩留に敏
感なダイサイズの大きい品種や、重要品種ロットにおい
て歩留的に不利になる場合が多い。
うな構成では、設備稼働優先あるいは、処理スピード優
先で装置が選択されてしまう。このため、特に歩留に敏
感なダイサイズの大きい品種や、重要品種ロットにおい
て歩留的に不利になる場合が多い。
【００１１】本発明は上記問題点に鑑み、特に歩留に敏
感なダイサイズの大きい品種や、重要ロットにおいて
は、歩留の良い装置を選択する手段を提供することを目
的とする。
感なダイサイズの大きい品種や、重要ロットにおいて
は、歩留の良い装置を選択する手段を提供することを目
的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は上記問題点を解
決し目的を達成するために、収集した出来映え検査結果
と、ロット処理履歴に演算処理を施し、演算により得ら
れた処理装置ＩＤ別に付与された歩留情報に基づき、ロ
ットを掛ける装置を変更する。
決し目的を達成するために、収集した出来映え検査結果
と、ロット処理履歴に演算処理を施し、演算により得ら
れた処理装置ＩＤ別に付与された歩留情報に基づき、ロ
ットを掛ける装置を変更する。
【００１３】本発明によれば、歩留に敏感なダイサイズ
の大きい品種や重要ロットの、装置要因による歩留低下
を回避することが可能になる。
の大きい品種や重要ロットの、装置要因による歩留低下
を回避することが可能になる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。ここでは、説明を簡
易にするために、単一プロセスラインを想定する。
て、図面を参照しながら説明する。ここでは、説明を簡
易にするために、単一プロセスラインを想定する。
【００１５】図１は本発明の実施形態にかかる半導体製
造システムの構成図を示す。図１において、１１は製造
ラインの作業実績を収集する製造管理サーバー、１２は
製品評価のための検査結果を収集する検査管理サーバ
ー、１３は製造ラインのロットの進行を指示する進行指
示サーバー、１４は検査結果とロット処理履歴を演算処
理する歩留演算サーバーであり、ネットワーク１５を介
して製造管理サーバー１１と、検査管理サーバー１２
と、進行指示サーバー１３と、歩留演算サーバー１４と
が各々有機的に結合されている。
造システムの構成図を示す。図１において、１１は製造
ラインの作業実績を収集する製造管理サーバー、１２は
製品評価のための検査結果を収集する検査管理サーバ
ー、１３は製造ラインのロットの進行を指示する進行指
示サーバー、１４は検査結果とロット処理履歴を演算処
理する歩留演算サーバーであり、ネットワーク１５を介
して製造管理サーバー１１と、検査管理サーバー１２
と、進行指示サーバー１３と、歩留演算サーバー１４と
が各々有機的に結合されている。
【００１６】製造管理サーバー１１はデータベース１１
ａを備え、製造ネットワーク１６を通じて図示しない各
製造装置または入力端末に接続されている。検査管理サ
ーバー１２はデータベース１２ａを備え、検査ネットワ
ーク１７を通じて図示しない各検査装置または入力端末
に接続されている。進行指示サーバー１３はデータベー
ス１３ａを備えている。歩留演算サーバー１４はデータ
ベース１４ａを備えている。
ａを備え、製造ネットワーク１６を通じて図示しない各
製造装置または入力端末に接続されている。検査管理サ
ーバー１２はデータベース１２ａを備え、検査ネットワ
ーク１７を通じて図示しない各検査装置または入力端末
に接続されている。進行指示サーバー１３はデータベー
ス１３ａを備えている。歩留演算サーバー１４はデータ
ベース１４ａを備えている。
【００１７】製造管理サーバー１１は、設備やロットの
履歴を管理するサーバーで、品種名、ロット番号、製造
工程、使われた製造設備、作業結果内容等をデータベー
スに保管している。検査管理サーバー１２は、検査した
ロットの歩留情報を管理するサーバーで、品種名、ロッ
ト番号、検査工程、使われた検査設備、検査結果等をデ
ータベースに保管している。進行指示サーバー１３は、
製造管理サーバーからの情報を基に、ロットを装置の稼
動を落とすことなく最適に装置に仕掛け、また重要ロッ
トの進行を滞りなく進めるよう指示している。
履歴を管理するサーバーで、品種名、ロット番号、製造
工程、使われた製造設備、作業結果内容等をデータベー
スに保管している。検査管理サーバー１２は、検査した
ロットの歩留情報を管理するサーバーで、品種名、ロッ
ト番号、検査工程、使われた検査設備、検査結果等をデ
ータベースに保管している。進行指示サーバー１３は、
製造管理サーバーからの情報を基に、ロットを装置の稼
動を落とすことなく最適に装置に仕掛け、また重要ロッ
トの進行を滞りなく進めるよう指示している。
【００１８】以上のように構成された歩留解析システム
について、図に基づいて以下にその動作を説明する。図
２は定期的に実行される歩留演算サーバー１４のアルゴ
リズム、図３は定常的に実行される進行指示サーバー１
３のアルゴリズムを各々示している。
について、図に基づいて以下にその動作を説明する。図
２は定期的に実行される歩留演算サーバー１４のアルゴ
リズム、図３は定常的に実行される進行指示サーバー１
３のアルゴリズムを各々示している。
【００１９】図２に示す様に、歩留演算サーバー１４に
おいては、検査管理サーバー１２より、一定期間中にお
ける、検査数の最も多い品種を検索する（２１）。検索
された品種の複数ロット、例えば最近のロット処理装置
履歴データ１００ロット分を、製造管理サーバー１１よ
り取り込む（２２）。２２で取り込んだロットの歩留デ
ータを、検査管理サーバー１２より取り込む（２３）。
ロット処理履歴データの各装置ＩＤにロット歩留を付与
する（２４）。図４にロット処理履歴データに、歩留デ
ータを付与した例を示す。２４の結果より、各工程毎、
装置ＩＤ別に付与された歩留データの平均値を算出する
（２５）。各工程毎、歩留データの平均値降順で装置Ｉ
Ｄ別に、順位付けをする（２６）。２６の結果をデータ
ベースに格納する（２７）。
おいては、検査管理サーバー１２より、一定期間中にお
ける、検査数の最も多い品種を検索する（２１）。検索
された品種の複数ロット、例えば最近のロット処理装置
履歴データ１００ロット分を、製造管理サーバー１１よ
り取り込む（２２）。２２で取り込んだロットの歩留デ
ータを、検査管理サーバー１２より取り込む（２３）。
ロット処理履歴データの各装置ＩＤにロット歩留を付与
する（２４）。図４にロット処理履歴データに、歩留デ
ータを付与した例を示す。２４の結果より、各工程毎、
装置ＩＤ別に付与された歩留データの平均値を算出する
（２５）。各工程毎、歩留データの平均値降順で装置Ｉ
Ｄ別に、順位付けをする（２６）。２６の結果をデータ
ベースに格納する（２７）。
【００２０】図５に、各工程毎、装置ＩＤ別に付与され
た歩留データの平均値の例を、図６に各工程毎、歩留デ
ータの平均値降順で装置ＩＤ別に順位付けされた例を示
す。
た歩留データの平均値の例を、図６に各工程毎、歩留デ
ータの平均値降順で装置ＩＤ別に順位付けされた例を示
す。
【００２１】一方、図３に示すように、進行指示サーバ
ー１３においては、次工程仕掛り予定ロットを確認し
（３１）、仕掛り可能装置を検索する（３２）。仕掛り
可能装置が１台設備の場合は（３３）そのままロット処
理して終了する。複数台保有する場合（３３）、次のス
テップを実行する。
ー１３においては、次工程仕掛り予定ロットを確認し
（３１）、仕掛り可能装置を検索する（３２）。仕掛り
可能装置が１台設備の場合は（３３）そのままロット処
理して終了する。複数台保有する場合（３３）、次のス
テップを実行する。
【００２２】対象ロットのダイサイズが小さい場合、例
えば本実施の形態では１００ｍｍ2未満（３４）である
場合、あるいは、仕掛り予定ロットが重要ロットではな
い場合（３５）、そのままロット処理して終了する。対
象ロットのダイサイズが大きい場合、例えば本実施の形
態では１００ｍｍ2以上（３４）である場合、あるい
は、仕掛り予定ロットが重要ロットである場合（３５）
には、図２の２７にてデータベースに格納されたデータ
から仕掛り可能装置の歩留データの平均値を参照し、各
工程毎、装置ＩＤ別に付与された歩留データの平均値の
順位が最下位（３６）でない場合はそのまま処理（３
８）、装置ＩＤ別歩留順位が最下位（３６）である場合
は、製造装置の変更を指示（３７）してロットを処理す
る。
えば本実施の形態では１００ｍｍ2未満（３４）である
場合、あるいは、仕掛り予定ロットが重要ロットではな
い場合（３５）、そのままロット処理して終了する。対
象ロットのダイサイズが大きい場合、例えば本実施の形
態では１００ｍｍ2以上（３４）である場合、あるい
は、仕掛り予定ロットが重要ロットである場合（３５）
には、図２の２７にてデータベースに格納されたデータ
から仕掛り可能装置の歩留データの平均値を参照し、各
工程毎、装置ＩＤ別に付与された歩留データの平均値の
順位が最下位（３６）でない場合はそのまま処理（３
８）、装置ＩＤ別歩留順位が最下位（３６）である場合
は、製造装置の変更を指示（３７）してロットを処理す
る。
【００２３】以上のように、装置ＩＤ別に歩留データの
平均を算出し、順位付けすることで、歩留に敏感なダイ
サイズの大きい品種や重要ロットを、装置要因による歩
留低下を避けて処理することが可能になる。システムの
自動化も容易である。
平均を算出し、順位付けすることで、歩留に敏感なダイ
サイズの大きい品種や重要ロットを、装置要因による歩
留低下を避けて処理することが可能になる。システムの
自動化も容易である。
【００２４】ここでは、装置ＩＤ別歩留順位が最下位の
場合のみ、装置の変更を指示しているが、順位付けの変
更や、変更する装置も各工程毎、装置ＩＤ別に付与され
た歩留データの順位が最上位、あるいは最上位に近い装
置を指示することで、より良い歩留を目指すことも可能
になる。
場合のみ、装置の変更を指示しているが、順位付けの変
更や、変更する装置も各工程毎、装置ＩＤ別に付与され
た歩留データの順位が最上位、あるいは最上位に近い装
置を指示することで、より良い歩留を目指すことも可能
になる。
【００２５】本実施の形態においては、対象ロットのダ
イサイズが大きい場合、例えば本実施の形態では１００
ｍｍ2以上（３４）である場合を想定して説明したが、
この値に限定はしない。単一プロセスラインを想定して
説明したが、複数プロセスラインにおいても、実現可能
である。また、各工程毎、装置ＩＤ別に付与された歩留
データの平均値を用いて説明したが、単に装置ＩＤ別に
付与された歩留データの平均値を用いても実現可能であ
る。
イサイズが大きい場合、例えば本実施の形態では１００
ｍｍ2以上（３４）である場合を想定して説明したが、
この値に限定はしない。単一プロセスラインを想定して
説明したが、複数プロセスラインにおいても、実現可能
である。また、各工程毎、装置ＩＤ別に付与された歩留
データの平均値を用いて説明したが、単に装置ＩＤ別に
付与された歩留データの平均値を用いても実現可能であ
る。
【００２６】また、歩留データを用いて説明してきた
が、歩留データを加工して求められる欠陥密度や、外観
検査や異物検査などの出来映え検査結果を用いても、実
現可能である。
が、歩留データを加工して求められる欠陥密度や、外観
検査や異物検査などの出来映え検査結果を用いても、実
現可能である。
【００２７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、歩留に敏
感なダイサイズの大きい品種や重要ロットを、装置要因
による歩留低下を避け、歩留の良い装置を用いて処理す
ることで、良い歩留を期待することができる。
感なダイサイズの大きい品種や重要ロットを、装置要因
による歩留低下を避け、歩留の良い装置を用いて処理す
ることで、良い歩留を期待することができる。
【図１】本発明の一実施の形態による歩留解析方法およ
び歩留解析システムを示す構成図
び歩留解析システムを示す構成図
【図２】本発明の一実施の形態による歩留解析方法およ
び歩留解析システムを示す第一のフロー図
び歩留解析システムを示す第一のフロー図
【図３】本発明の一実施の形態による歩留解析方法およ
び歩留解析システムを示す第二のフロー図
び歩留解析システムを示す第二のフロー図
【図４】本発明の一実施の形態による歩留解析方法およ
び歩留解析システムを示す第二のフローの補足図
び歩留解析システムを示す第二のフローの補足図
【図５】本発明の一実施の形態による歩留解析方法およ
び歩留解析システムを示す第二のフローの補足図
び歩留解析システムを示す第二のフローの補足図
【図６】本発明の一実施の形態による歩留解析方法およ
び歩留解析システムを示す第二のフローの補足図
び歩留解析システムを示す第二のフローの補足図
【図７】従来の歩留解析方法および歩留解析システムを
示す構成図
示す構成図
１１ 製造管理サーバー
１１ａ データベース
１２ 検査管理サーバー
１２ａ データベース
１３ 進行管理サーバー
１３ａ データベース
１４ 歩留演算サーバー
１５ ネットワーク
１６ ネットワーク
１７ ネットワーク
７１ 製造管理サーバー
７１ａ データベース
７２ 検査管理サーバー
７２ａ データベース
７３ 進行管理サーバー
７３ａ データベース
７５ ネットワーク
７６ 製造ネットワーク
７７ 検査ネットワーク
Claims (2)
- 【請求項１】 製品を製造するための工程に割り当てら
れて前記製品を処理する装置と、前記装置により製造さ
れた前記製品の出来映えを検査する手段とを備えた製造
形態において、前記製品を製造する際の各工程作業実績
情報と、前記製品の出来映え検査結果とを演算処理して
歩留低下要因装置を推定し、製造装置を指定することを
特徴とする半導体製造方法。 - 【請求項２】 複数の装置を経由して製造される製品の
不良原因となる装置を推定する機能を備える製造システ
ムであって、製造ラインの作業実績を収集する進行管理
手段、製品の出来映え評価検査結果を収集する検査結果
収集手段、作業実績と出来映え評価結果を演算処理する
手段、製品の進行を指示する手段とを備えた請求項２に
記載の半導体製造方法を用いた半導体製造システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002064891A JP2003264131A (ja) | 2002-03-11 | 2002-03-11 | 半導体製造方法および半導体製造システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002064891A JP2003264131A (ja) | 2002-03-11 | 2002-03-11 | 半導体製造方法および半導体製造システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003264131A true JP2003264131A (ja) | 2003-09-19 |
Family
ID=29197453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002064891A Pending JP2003264131A (ja) | 2002-03-11 | 2002-03-11 | 半導体製造方法および半導体製造システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003264131A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010045115A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Nec Electronics Corp | 生産管理システム、生産管理方法、生産管理プログラム、及びホストコンピュータ |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0774068A (ja) * | 1993-09-02 | 1995-03-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 製品処理装置および製品処理決定方法 |
| JPH07306848A (ja) * | 1994-05-16 | 1995-11-21 | Matsushita Electron Corp | 歩留まり推定装置 |
| JPH09330970A (ja) * | 1996-06-10 | 1997-12-22 | Hitachi Ltd | 半導体素子の製造方法 |
| JP2000198051A (ja) * | 1998-12-29 | 2000-07-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 設備フロ―の異常抽出装置、設備フロ―の異常抽出方法、及び設備フロ―の異常抽出プログラムを記録した記憶媒体 |
-
2002
- 2002-03-11 JP JP2002064891A patent/JP2003264131A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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|---|---|---|---|---|
| JPH0774068A (ja) * | 1993-09-02 | 1995-03-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 製品処理装置および製品処理決定方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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