JP2003261838A - Adhesive tape - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基材フィルムの片
面に粘着剤層を設け、粘着剤層側に通常のセパレータを
設けてなる粘接着テープに関するものである。さらに詳
しくはシリコンウェハ等の半導体装置を製造するにあた
りウェハ等を固定し、ダイシングし、さらにリードフレ
ームや半導体チップと重ね合わせるための接着工程に使
用される半導体ウェハ用ダイシング−ダイボンド用粘接
着テープに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive tape having a pressure-sensitive adhesive layer provided on one surface of a base film and a normal separator provided on the pressure-sensitive adhesive layer side. More specifically, when manufacturing a semiconductor device such as a silicon wafer, the wafer is fixed, the wafer is diced, and the semiconductor wafer dicing is used in a bonding process for stacking with a lead frame or a semiconductor chip-a viscous adhesive tape for die bonding. It is about.
【0002】[0002]
【従来の技術】ICなどの半導体装置の組立工程におい
ては、パターン形成後の半導体ウェハ等は個々のチップ
に切断分離(ダイシング)する工程と、チップをリード
フレーム等にマウントする工程、そして樹脂等で封止す
る工程からなっている。ダイシング工程は、半導体ウェ
ハをあらかじめ粘着テープに貼り付けて固定した後、チ
ップ形状に沿ってダイシングを行う工程であり、マウン
ト工程は、チップを粘着テープから剥離(ピックアッ
プ)させ、樹脂等で封止する工程では、該チップを接着
固定用の接着剤でリードフレーム等に固定する。2. Description of the Related Art In the process of assembling a semiconductor device such as an IC, a semiconductor wafer after pattern formation is cut into individual chips (dicing), chips are mounted on a lead frame, and resin is used. The process consists of sealing with. The dicing process is a process in which a semiconductor wafer is attached to an adhesive tape in advance and fixed, and then the dicing is performed along the chip shape. The mounting process peels (picks up) the chip from the adhesive tape and seals it with resin or the like. In the step, the chip is fixed to a lead frame or the like with an adhesive for fixing the chip.
【0003】上記目的に使用するテープとしては、通常
の感圧接着タイプのものと紫外線、電子線など放射線に
より硬化して粘着力が低下する性質を有するテープがあ
り、いずれもダイシングする際にはウェハが剥離したり
しない、十分な粘着力を必要とし、ピックアップの際に
は容易に剥離できる性質が要求される。また、マウント
工程においては、チップとリードフレーム等において十
分な接着力が要求される。As the tape used for the above purpose, there are an ordinary pressure-sensitive adhesive type tape and a tape having a property of being hardened by radiation such as ultraviolet rays and electron beams to lower the adhesive strength. A sufficient adhesive force is required to prevent the wafer from peeling off, and a property of easily peeling off at the time of pickup is required. Further, in the mounting step, a sufficient adhesive force is required between the chip and the lead frame.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記工程に使用される
ダイシング用粘着テープとリードフレーム等への接着剤
の機能を兼ね備え、接着剤の塗布の作業性を改善し、プ
ロセスを簡略化させた粘接着テープが種々提案されてい
る(例えば、特開平2−32181号、特開平8−53
655号等)。上記公報に開示されている粘着テープ
は、ダイシング後、チップ裏面に粘着剤層を付けたまま
でピックアップし、リードフレーム等にマウントした後
加熱などにより硬化接着させるいわゆるダイレクトダイ
ボンディングを可能にし、接着剤の塗布工程を省略でき
るようにするものである。しかしながら、特開平2−3
2181号にて開示されている粘接着剤は、一般に高温
乾燥する際の塗布液の粘度が低く、またテープ基材の表
面エネルギーが40dyne/cm と低いものを使用している
ため、塗布液の濡れ性が低く、基材に塗布してもはじき
が発生しやすく、歩留りが低い。さらに、シリコーン離
型剤を処理した剥離材に上記塗布液を塗布・乾燥し、テ
ープ基材に貼合するいわゆる転写塗工は、該組成物の塗
布液ではさらに困難であった(特開平8−53655号
記載)。また、特開平2−32181号、特開平8−5
3655号においては、エポキシ樹脂と熱活性型潜在性
エポキシ樹脂硬化剤を配合した粘着剤が開示されている
が、この硬化剤が吸湿性のため湿気により硬化を促進さ
せ、可使時間を低下させるため保存安定性が悪いという
問題点があった。The adhesive tape for dicing used in the above steps and the function of the adhesive to the lead frame and the like are combined to improve the workability of applying the adhesive and to simplify the process. Various adhesive tapes have been proposed (for example, JP-A-2-32181 and JP-A-8-53).
655, etc.). The adhesive tape disclosed in the above publication enables so-called direct die bonding, in which after dicing, the chip back surface is picked up with the adhesive layer still attached, mounted on a lead frame or the like, and then cured and adhered by heating or the like. This makes it possible to omit the coating step. However, JP-A-2-3
The adhesive / adhesive disclosed in No. 2181 generally has a low viscosity when dried at high temperature, and the tape substrate has a low surface energy of 40 dyne / cm. The wettability is low, repellency is likely to occur even when applied to a substrate, and the yield is low. Furthermore, so-called transfer coating, in which the above-mentioned coating liquid is applied to a release material treated with a silicone release agent, dried, and laminated on a tape base material, is more difficult with the coating liquid of the composition (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 8). -53655). In addition, JP-A-2-32181 and JP-A-8-5
No. 3655 discloses a pressure-sensitive adhesive containing an epoxy resin and a heat-activatable latent epoxy resin curing agent. Since this curing agent is hygroscopic, the curing is accelerated by moisture and the pot life is reduced. Therefore, there was a problem that storage stability was poor.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために鋭意検討した結果、前述した粘接着テープに使用
される粘接着組成物として、少なくとも主鎖の炭素鎖に
結合基として放射線硬化性炭素−炭素二重結合含有基及
び、エポキシ基含有基、及びカルボキシル基含有基を有
するアクリル系粘接着組成物を用いた際、放射線照射時
には炭素−炭素二重結合による架橋反応により粘着剤が
硬化し、その後熱を加えることによりエポキシ基とカル
ボキシル基が架橋反応を生じてさらに硬化することが可
能であることを見出し、熱硬化性樹脂及び熱活性型潜在
性エポキシ樹脂硬化剤を添加することなく放射線硬化及
び熱硬化性を有する粘接着テープを開発するに至り、可
使時間が長く、保存安定性に優れる粘接着テープを発明
するに至った。本発明は、熱硬化性樹脂及び熱活性型潜
在性エポキシ樹脂硬化剤を添加することなく放射線硬化
と熱硬化の2段階の硬化反応を呈することが可能な保存
安定性に優れる粘接着テープに関するものである。さら
に詳しくはダイシング時には粘着剤層とウェハ及び基材
フィルムとが剥離しない十分な粘着力を有し、ピックア
ップの際には放射線硬化により粘着剤層にチップ裏面を
密着させて、基材フィルムから剥離でき、マウント工程
においては、チップとリードフレーム等において十分な
接着力が得られるいわゆるダイレクトダイボンディング
を可能にするのに好適なものである。すなわち本発明
は、(1)基材フィルムの少なくとも片面に粘着剤層を
設けてなる半導体ウェハ用ダイシング−ダイボンド用粘
接着テープにおいて、粘着剤の樹脂成分が、少なくとも
放射線硬化性炭素−炭素二重結合含有基、エポキシ基含
有基、及びカルボキシル基を含有する基をそれぞれ有す
るアクリル系粘着剤であり、かつゲル分率が60%以上
であることを特徴とする粘接着テープ、(2)(a)
(メタ)アクリル酸エステル、(b)エポキシ基含有不
飽和化合物および(c)炭素−炭素二重結合を有するア
クリル系共重合体と、(d)(メタ)アクリル酸エステ
ル、(e)カルボキシル基含有不飽和化合物および
(f)炭素−炭素二重結合を有するアクリル系共重合体
との混合物もしくはその架橋物であることを特徴とする
粘接着テープ、及び(3)アクリル系共重合体中全構成
成分中のエポキシ基含有基を有する構成成分の割合が5
〜20mol%、カルボキシル基含有基を有する構成成分の
割合が5〜20mol%、炭素−炭素二重結合含有基を有
する構成成分の割合が1〜10mol%であることを特徴と
する(1)又は(2)項に記載の粘接着テープを提供す
るものである。Means for Solving the Problems As a result of extensive studies to achieve the above-mentioned object, as a tacky-adhesive composition used for the above-mentioned tacky-adhesive tape, at least a carbon chain of a main chain has a radiation group as a bonding group. When an acrylic pressure-sensitive adhesive composition having a curable carbon-carbon double bond-containing group, an epoxy group-containing group, and a carboxyl group-containing group is used, it is adhered by a crosslinking reaction due to the carbon-carbon double bond when irradiated with radiation. It was found that the curing of the curing agent and the subsequent addition of heat causes a crosslinking reaction between the epoxy group and the carboxyl group to further cure, and a thermosetting resin and a heat-activable latent epoxy resin curing agent were added. Without doing so, a pressure-sensitive adhesive tape having radiation curing and thermosetting properties was developed, and a pressure-sensitive adhesive tape having a long pot life and excellent storage stability was invented. The present invention relates to a tacky adhesive tape having excellent storage stability capable of exhibiting a two-step curing reaction of radiation curing and heat curing without adding a thermosetting resin and a heat-activatable latent epoxy resin curing agent. It is a thing. More specifically, it has sufficient adhesive strength that the adhesive layer does not peel off from the wafer and base film during dicing, and when picked up, the back surface of the chip is adhered to the adhesive layer by radiation curing and peeled off from the base film. This is suitable for enabling so-called direct die bonding in which a sufficient adhesive force can be obtained between the chip and the lead frame in the mounting step. That is, the present invention relates to (1) a pressure-sensitive adhesive tape for semiconductor wafer dicing-die-bonding, comprising a base material film having an adhesive layer on at least one surface thereof, wherein the resin component of the adhesive is at least radiation curable carbon-carbon dicarbonate. An adhesive pressure-sensitive adhesive tape comprising an acrylic pressure-sensitive adhesive having a heavy bond-containing group, an epoxy group-containing group, and a carboxyl group-containing group, and having a gel fraction of 60% or more, (2) (A)
(Meth) acrylic acid ester, (b) epoxy group-containing unsaturated compound and (c) acrylic copolymer having carbon-carbon double bond, (d) (meth) acrylic acid ester, (e) carboxyl group A pressure-sensitive adhesive tape characterized by being a mixture of a containing unsaturated compound and (f) an acrylic copolymer having a carbon-carbon double bond, or a crosslinked product thereof, and (3) an acrylic copolymer The ratio of constituents having an epoxy group-containing group in all constituents is 5
˜20 mol%, the proportion of the constituent component having a carboxyl group-containing group is 5 to 20 mol%, and the proportion of the constituent component having a carbon-carbon double bond-containing group is 1 to 10 mol%. (1) or The tacky adhesive tape according to item (2) is provided.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】本発明に用いられる粘接着剤は、
少なくとも炭素−炭素結合からなる主鎖に放射線硬化性
炭素−炭素二重結合含有基及び、エポキシ基含有基、及
びカルボキシル基含有基を有するアクリル系共重合体も
しくはアクリル系共重合体の混合物もしくはその架橋物
からなるものである。このようなアクリル系共重合体
は、(メタ)アクリル酸エステル、ヒドロキシル基含有
不飽和化合物、カルボキシル基含有不飽和化合物、エポ
キシ基含有不飽和化合物等からなる共重合体(A)に、こ
れらの共重合体の官能基に対して付加反応することが可
能な官能基及び炭素−炭素二重結合を有する化合物(B)
を付加反応して得られる。本発明でいう不飽和化合物と
は放射線硬化しうる炭素−炭素二重結合を少なくとも1
つ有する化合物をいう。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The adhesive used in the present invention is
At least carbon-radiation curable carbon-carbon double bond-containing group in the main chain consisting of carbon bonds, and an epoxy group-containing group, and an acrylic copolymer having a carboxyl group-containing group or a mixture of acrylic copolymers or It is composed of a cross-linked product. Such an acrylic copolymer is a copolymer (A) composed of a (meth) acrylic acid ester, a hydroxyl group-containing unsaturated compound, a carboxyl group-containing unsaturated compound, an epoxy group-containing unsaturated compound, etc. A compound having a functional group capable of undergoing an addition reaction with a functional group of a copolymer and a carbon-carbon double bond (B)
Can be obtained by addition reaction. The unsaturated compound in the present invention means at least one carbon-carbon double bond which can be cured by radiation.
A compound having two
【0007】上記の(メタ)アクリル酸エステルの例と
しては、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチ
ル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシ
ル等が挙げられる。また、ヒドロキシル基含有不飽和化
合物の例としては、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート等が挙げられる。カルボキシル基含有不飽
和化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸など
が挙げられる。エポキシ基含有不飽和化合物としては、
グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、
アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。前記の付加
反応することが可能な官能基と炭素−炭素二重結合を有
する化合物(B)としては、例えばヒドロキシル基と反応
可能な2−イソシアネートエチルメタクリレート等のイ
ソシアネート化合物、エポキシ基と反応可能なカルボキ
シル基を有するアクリル酸、メタクリル酸、カルボキシ
ル基と反応可能なエポキシ基含有不飽和化合物が挙げら
れる。Examples of the above-mentioned (meth) acrylic acid ester include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate and the like. Further, examples of the hydroxyl group-containing unsaturated compound include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate and the like. Examples of the carboxyl group-containing unsaturated compound include acrylic acid and methacrylic acid. As the epoxy group-containing unsaturated compound,
Glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate,
Allyl glycidyl ether etc. are mentioned. As the compound (B) having a functional group capable of undergoing an addition reaction and a carbon-carbon double bond, for example, an isocyanate compound such as 2-isocyanate ethyl methacrylate capable of reacting with a hydroxyl group, a compound capable of reacting with an epoxy group Examples thereof include acrylic acid having a carboxyl group, methacrylic acid, and an epoxy group-containing unsaturated compound capable of reacting with a carboxyl group.
【0008】共重合体の製造にはエポキシ基含有基、及
びカルボキシル基含有基及びヒドロキシル基含有基を有
する不飽和化合物に加えて、(メタ)アクリル酸エステ
ルから1種単独もしくは2種以上を組み合わせて用いる
ことができる。なお上記アクリル系共重合体の合成法と
しては、(1)(メタ)アクリル酸エステル、ヒドロキ
シル基含有不飽和化合物、カルボキシル基含有不飽和化
合物、エポキシ基含有不飽和化合物等からなる共重合体
(A)に、これらの共重合体の官能基に対して付加反応す
ることが可能な官能基及び炭素−炭素二重結合を有する
化合物(B)を付加反応する方法、(2)エポキシ基含有
不飽和化合物、ヒドロキシル基含有不飽和化合物、(メ
タ)アクリル酸エステルからなる共重合体(A-1)と、カ
ルボキシル基含有不飽和化合物、ヒドロキシル基含有不
飽和化合物、(メタ)アクリル酸エステルからなる共重
合体(A-2)とを別々に共重合し、上記共重合体(A-1)と
(A-2)に、炭素−炭素二重結合を有しエポキシ基、カル
ボキシル基、ヒドロキシル基のいずれかと反応可能な官
能基を有する化合物(B)をそれぞれ付加反応させたの
ち、両者を混合する方法などにより合成することが可能
であり、いずれの方法においても同様の効果が得られ
る。また、上記アクリル系共重合体は、エポキシ基ある
いはカルボキシル基の濃度が高くなると、重合時にエポ
キシ基とカルボキシル基が反応しやすくなるため、例え
ば、エポキシ基含有不飽和化合物、ヒドロキシル基含有
不飽和化合物、(メタ)アクリル酸エステルからなる共
重合体(A-1)と、カルボキシル基含有不飽和化合物、ヒ
ドロキシル基含有不飽和化合物、(メタ)アクリル酸エ
ステルからなる共重合体(A-2)とを別々に共重合し、上
記共重合体(A-1)と(A-2)に、炭素−炭素二重結合を有
しヒドロキシル基と反応可能な官能基を有する化合物
(B)をそれぞれ付加反応させたのち、両者を混合するこ
とにより調製することが好ましい。In the production of the copolymer, in addition to the unsaturated compound having an epoxy group-containing group, a carboxyl group-containing group and a hydroxyl group-containing group, one kind or a combination of two or more kinds of (meth) acrylic acid ester is used. Can be used. The method of synthesizing the acrylic copolymer includes (1) a copolymer composed of (meth) acrylic acid ester, a hydroxyl group-containing unsaturated compound, a carboxyl group-containing unsaturated compound, an epoxy group-containing unsaturated compound, and the like ( A method of adding to (A) a compound (B) having a functional group capable of addition-reacting with a functional group of these copolymers and a carbon-carbon double bond, (2) containing no epoxy group A copolymer (A-1) consisting of a saturated compound, a hydroxyl group-containing unsaturated compound, and a (meth) acrylic acid ester, and a carboxyl group-containing unsaturated compound, a hydroxyl group-containing unsaturated compound, and a (meth) acrylic acid ester The copolymer (A-2) and the above copolymer (A-1)
A compound (B) having a functional group capable of reacting with either an epoxy group, a carboxyl group or a hydroxyl group having a carbon-carbon double bond is added to (A-2), and then both are mixed. It can be synthesized by any method, and the same effect can be obtained by any method. Further, the acrylic copolymer, when the concentration of the epoxy group or the carboxyl group is high, the epoxy group and the carboxyl group are likely to react during the polymerization, for example, an epoxy group-containing unsaturated compound, a hydroxyl group-containing unsaturated compound A copolymer (A-1) composed of a (meth) acrylic acid ester, and a carboxyl group-containing unsaturated compound, a hydroxyl group-containing unsaturated compound, a copolymer (A-2) composed of a (meth) acrylic acid ester Are separately copolymerized, and a compound (B) having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group having a carbon-carbon double bond is added to each of the above copolymers (A-1) and (A-2). After the reaction, it is preferably prepared by mixing both.
【0009】本発明に用いるアクリル系共重合体の分子
量としては、好ましくは重量平均分子量で1万〜100
万、さらに好ましくは5万〜50万である。本発明のア
クリル系重合体の全構成成分(繰り返し単位)中、炭素
−炭素二重結合含有基を有する構成成分の割合として
は、好ましくは1〜20mol%であり、1〜10mol%がよ
り好ましい。炭素−炭素二重結合含有基の割合が低すぎ
ると放射線照射時の架橋度が不充分であるため、ピック
アップ工程で容易に粘接着剤層と基材フィルム層で剥離
することができないことがあり、割合が高すぎると放射
線照射時の架橋度が高くなりすぎ、その後の加熱硬化が
十分に進行しないことがある。The weight average molecular weight of the acrylic copolymer used in the present invention is preferably 10,000 to 100.
10,000, more preferably 50,000 to 500,000. The ratio of the constituent having a carbon-carbon double bond-containing group in all constituents (repeating units) of the acrylic polymer of the present invention is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 1 to 10 mol%. . If the ratio of the carbon-carbon double bond-containing group is too low, the degree of crosslinking upon irradiation with radiation will be insufficient, so that the adhesive layer and the base film layer cannot be easily separated in the pickup step. However, if the proportion is too high, the degree of crosslinking at the time of irradiation with radiation becomes too high, and the subsequent heat curing may not proceed sufficiently.
【0010】また、アクリル系共重合体の全構成成分に
対し、エポキシ基含有基を有する構成成分の割合は、好
ましくは1〜30mol%であり、5〜20mol%がより好ま
しい。カルボキシル基含有基を有する構成成分の割合は
好ましくは1〜30mol%であり、5〜20mol%がより
好ましい。エポキシ基とカルボキシル基の割合が低すぎ
ると加熱時の架橋度が不充分であるため、マウント工程
においてチップとリードフレーム等との十分な接着力が
得られないことがある。また双方の割合が高すぎると、
ダイシング時にウェハを固定する十分な粘着力が得られ
ない。このようにして得られるアクリル系共重合体は、
必要に応じてポリイソシアネート化合物またはアルキル
エーテル化メラミン化合物またはアルキルエーテル化メ
ラミン化合物等の架橋剤を配合することができる。架橋
剤の添加量は、アクリル系共重合体100重量部に対し
て0.01〜5.0重量部が好ましい。The ratio of the constituent having an epoxy group-containing group to the total constituents of the acrylic copolymer is preferably 1 to 30 mol%, more preferably 5 to 20 mol%. The proportion of the constituent having a carboxyl group-containing group is preferably 1 to 30 mol%, more preferably 5 to 20 mol%. If the ratio of the epoxy group and the carboxyl group is too low, the degree of crosslinking at the time of heating will be insufficient, so that sufficient adhesive force between the chip and the lead frame or the like may not be obtained in the mounting step. If the ratio of both is too high,
A sufficient adhesive force for fixing the wafer during dicing cannot be obtained. The acrylic copolymer thus obtained is
If necessary, a crosslinking agent such as a polyisocyanate compound, an alkyl etherified melamine compound or an alkyl etherified melamine compound can be added. The amount of the crosslinking agent added is preferably 0.01 to 5.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic copolymer.
【0011】なお、本発明の放射線硬化性粘着剤を紫外
線照射によって硬化させる場合には、必要に応じて、光
重合開始剤、例えばイソプロピルベンゾインエーテル、
イソブチルベンゾインエーテル、ベンゾフェノン、ミヒ
ラーズケトン、クロロチオキサントン、ドデシルチオキ
サントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサ
ントン、ベンジルジメチルケタール、α-ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシメチルフェ
ニルプロパン等を使用することができる。これら光重合
開始剤の配合量はアクリル系共重合体100重量部に対
して0.01〜5重量部が好ましい。本発明においてこ
の粘着剤のゲル分率は、例えば以下のようにして求めら
れる。すなわち粘接着テープの粘接着層約0.05gを
秤取し、キシレン50mlに120℃で24時間浸漬し
た後、200メッシュのステンレス製金網で濾過し、金
網上の不溶解分を110℃にて120分間乾燥する。次
に、乾燥した不溶解分の重量を秤量し、下記に示す式に
てゲル分率を算出する。ゲル分率(%)=(不溶解分の
重量/秤取した粘着剤層の重量)×100本発明におい
ては、粘着剤中に低分子成分が存在していると、テープ
製造後に長期保管している間に、低分子成分がテープ表
面に移行し粘接着特性を損なう恐れがあるため、ゲル分
率が高いことが望ましく、通常60%以上、好ましくは
70%以上である。When the radiation-curable pressure-sensitive adhesive of the present invention is cured by irradiation with ultraviolet rays, a photopolymerization initiator such as isopropyl benzoin ether may be added, if necessary.
It is possible to use isobutyl benzoin ether, benzophenone, Michler's ketone, chlorothioxanthone, dodecylthioxanthone, dimethylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethylketal, α-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxymethylphenylpropane and the like. The blending amount of these photopolymerization initiators is preferably 0.01 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic copolymer. In the present invention, the gel fraction of this pressure-sensitive adhesive is determined as follows, for example. That is, about 0.05 g of the adhesive layer of the adhesive tape was weighed, immersed in 50 ml of xylene at 120 ° C. for 24 hours, and then filtered through a 200-mesh stainless wire net to remove insoluble matter on the wire net at 110 ° C. Dry for 120 minutes. Next, the weight of the dried insoluble matter is weighed, and the gel fraction is calculated by the formula shown below. Gel fraction (%) = (weight of insoluble matter / weight of weighed pressure-sensitive adhesive layer) × 100 In the present invention, when a low-molecular component is present in the pressure-sensitive adhesive, it is stored for a long time after tape production. Since the low-molecular component may migrate to the tape surface during the heating and impair the visco-adhesive properties, it is desirable that the gel fraction is high, usually 60% or more, preferably 70% or more.
【0012】また、上記粘接着剤には、ダイボンド後の
導電性、熱伝導性の付与を目的として金属製微粉末やそ
の他導電性もしくは熱伝導性に優れる材料を添加するこ
とも可能である。また、上記粘接着剤には、熱安定性向
上を目的として金属酸化物やガラス等の微粉末を添加す
ることも可能である。粘接着剤塗布層の厚さは、5〜5
0μmが好ましい。Further, it is possible to add fine metal powders or other materials having excellent electrical conductivity or thermal conductivity to the above adhesive for the purpose of imparting electrical conductivity and thermal conductivity after die bonding. . In addition, it is possible to add fine powders of metal oxides, glass, etc. to the adhesive / bonding agent for the purpose of improving thermal stability. The thickness of the adhesive coating layer is 5 to 5
0 μm is preferred.
【0013】本発明に用いられる基材フィルムとして
は、放射線透過性を有するものであれば公知のものを使
用することができ、例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリブテン、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エ
ステル共重合体、アイオノマーなどのα−オレフィンの
単独重合体または共重合体、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル等のエ
ンジニアリングプラスチック、またはポリウレタン、ス
チレン−エチレン−ブテンもしくはペンテン系共重合体
等の熱可塑性エラストマーが挙げられる。またはこれら
の群から選ばれる2種以上が混合されたものもしくは複
層化されたものでもよい。フィルムの厚みは50〜20
0μmが好ましく用いられる。本発明の、粘接着テープ
は、使用前は粘着剤層側に保護のためセパレータ(剥離
フィルム)が貼着されている。As the base film used in the present invention, known films can be used as long as they have a radiation transmitting property, and examples thereof include polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, polybutene and ethylene-. Vinyl acetate copolymers, ethylene-acrylic acid ester copolymers, homopolymers or copolymers of α-olefins such as ionomers, polyethylene terephthalate, polycarbonate, engineering plastics such as polymethylmethacrylate, or polyurethane, styrene-ethylene -A thermoplastic elastomer such as butene or pentene copolymer is used. Alternatively, it may be a mixture of two or more kinds selected from these groups or a multilayer structure. Film thickness is 50-20
0 μm is preferably used. Before use, the pressure-sensitive adhesive tape of the present invention has a separator (release film) attached to the pressure-sensitive adhesive layer side for protection.
【0014】このようにして得られた粘接着テープは、
ダイシング時には粘着剤層とウェハ及び基材フィルムと
剥離しない十分な粘着力を有し、ピックアップの際には
放射線硬化により粘着剤層とチップ裏面が密着した状態
で、基材フィルムから剥離でき、加熱によりリードフレ
ーム等に接着することが可能である。ダイシング時のシ
リコンウェハと粘接着テープの剥離力(剥離するに必要
な力)は、好ましくは0.5〜10N/25mm、より
好ましくは1〜5N/25mmであり、放射線照射後の
シリコンウェハと粘接着テープの剥離力は0.5〜50
N/25mm、基材フィルムと粘接着テープの粘着剤層
との剥離力は0.5N/mm以下が好ましい。この場合
にもちろん剥離力の関係は、前者の方が後者より大きい
ことが必要である。次いで、マウント工程においては、
加熱することにより粘接着層中のエポキシ基とカルボキ
シル基の硬化反応により、ICチップとリードフレーム
もしくはICチップとICチップとの接着が実現され
る。この場合の加熱温度は、特に制限するものではない
が、通常は100〜200℃が好ましく、加熱時間は、
1〜60分間が好ましい。The adhesive tape thus obtained is
It has sufficient adhesive strength to prevent peeling of the adhesive layer from the wafer and base film during dicing, and can be peeled from the base film with the adhesive layer and the back surface of the chip adhered to each other by radiation curing during picking up and heating. Can be bonded to a lead frame or the like. The peeling force (force required for peeling) between the silicon wafer and the adhesive tape at the time of dicing is preferably 0.5 to 10 N / 25 mm, more preferably 1 to 5 N / 25 mm, and the silicon wafer after radiation irradiation. The peeling force of adhesive tape is 0.5 to 50
N / 25 mm, and the peeling force between the base film and the pressure-sensitive adhesive layer of the adhesive tape is preferably 0.5 N / mm or less. In this case, of course, the relationship of the peeling force requires that the former be larger than the latter. Then, in the mounting process,
By heating, the curing reaction of the epoxy group and the carboxyl group in the adhesive layer realizes the adhesion between the IC chip and the lead frame or the IC chip and the IC chip. The heating temperature in this case is not particularly limited, but is usually preferably 100 to 200 ° C., and the heating time is
1 to 60 minutes is preferable.
【0015】[0015]
【実施例】次に、本発明を実施例に基づき、更に詳細に
説明する。尚、以下の実施での各特性は、次のように試
験した。EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail based on examples. In addition, each characteristic in the following implementations was tested as follows.
【0016】1.ゲル分率:粘着剤層約0.05gを秤
取し、キシレン50mlに120℃で24時間浸漬した
後、200メッシュのステンレス製金網で濾過し、金網
上の不溶解分を110℃にて120分間乾燥する。次
に、乾燥した不溶解分の重量を秤量し、下記に示す式に
てゲル分率を算出した。
ゲル分率(%)=(不溶解分の重量/秤取した粘着剤層
の重量)×1001. Gel fraction: About 0.05 g of the pressure-sensitive adhesive layer was weighed and immersed in 50 ml of xylene at 120 ° C. for 24 hours, and then filtered through a 200-mesh stainless steel wire net, and the insoluble content on the wire net was kept at 110 ° C. at 120 ° C. Dry for minutes. Next, the weight of the dried insoluble matter was weighed, and the gel fraction was calculated by the formula shown below. Gel fraction (%) = (weight of insoluble matter / weight of weighed adhesive layer) × 100
【0017】2.保存安定性
実施例、比較例に基づいて作成した粘接着テープについ
て、60℃、85%RHの環境下に1週間放置し、室温
に1時間放置したのち被着体に貼合したものと、加熱処
理しない粘接着テープを被着体に貼合したものの剥離力
を測定し、剥離力の変化率を確認することで保存安定性
を評価した。剥離力の測定法としては、JIS Z 0
237に従って測定した。(テープを幅25mm、長さ
約250mmに切断し、SUS 304鋼板を280番
の耐水研磨紙で表面研磨したものを被着体として用い、
質量2000gのゴムローラーにて圧着させたものを9
0度引き剥がし法にて測定。)
変化率(%)=(加熱放置前後の粘着力差/加熱放置前
の剥離力)×100とし、
放置前後での剥離力変化率が30%未満:○
放置前後での剥離力変化率が30%以上:×
にて判定した。2. Storage stability The adhesive and pressure-sensitive adhesive tapes prepared on the basis of Examples and Comparative Examples were left in an environment of 60 ° C. and 85% RH for 1 week, left at room temperature for 1 hour, and then adhered to an adherend. The storage stability was evaluated by measuring the peeling force of a pressure-sensitive adhesive tape which was not heat-treated and adhered to an adherend, and confirming the change rate of the peeling force. As a measuring method of the peeling force, JIS Z 0
237. (The tape was cut into a width of 25 mm and a length of about 250 mm, and the surface of SUS 304 steel plate was polished with No. 280 water-resistant abrasive paper.
9 pressed with a rubber roller weighing 2000 g
Measured by the 0-degree peeling method. ) Rate of change (%) = (Adhesive force difference before and after heating / peeling force before heating and leaving) x 100, and peeling force change rate before and after standing is less than 30%: ○ Peeling force change rate before and after standing 30% or more: judged by x.
【0018】3.ダイシング性評価(チップ飛びの確
認)
実施例、比較例に基づいて作成した粘接着テープに下記
の条件にてウェハを貼合し、ダイシングした際のチップ
の飛散の有無を確認した。
チップ飛び無し :○
ウェハ外周部の不完全な形状のチップの飛散のみ:△
チップ飛び有り :×
にて判定した。3. Dicing property evaluation (confirmation of chip fly) A wafer was bonded to the adhesive tape prepared based on the examples and comparative examples under the following conditions, and it was confirmed whether chips were scattered during dicing. No chip fly: ○ Only chip with incompletely shaped chip on the wafer outer periphery: △ Chip fly: Judged.
【0019】4.せん断接着力
実施例、比較例に基づいて作成した粘接着テープに下記
の条件にてウェハを貼合し、ダイシングし紫外線を照射
した後、高密度ポリエチレン樹脂フィルム層と剥離し、
シリコンウェハに貼着し、39.2kPaの荷重をかけ
て150℃で30分保持し粘接着層を硬化させたのち、
プッシュプルゲージを用いて常温(23℃)と200℃
でのせん断接着力を測定した。4. Shear adhesive strength Examples, the wafer was bonded to the adhesive tape prepared based on the comparative example under the following conditions, after diced and irradiated with ultraviolet rays, peeled from the high-density polyethylene resin film layer,
After sticking to a silicon wafer and applying a load of 39.2 kPa and holding at 150 ° C. for 30 minutes to cure the adhesive layer,
Normal temperature (23 ℃) and 200 ℃ using push-pull gauge
The shear adhesive strength was measured.
【0020】3.及び4.のダイシング条件としては、
以下の条件とした。
ダイシング装置 :ディスコ社製 DAD−340
ブレード :ディスコ社製 NBC−ZH2050 27HEDD
ブレード回転数 :40000rpm
切削速度 :100mm/sec
切り残し厚み :50μm
ダイシングサイズ :5mm角
ウェハ :Siウェハ
ウェハサイズ :6インチ
ウェハ厚み :350μm
ウェハの裏面研削粗さ:#2000研磨面3. And 4. The dicing conditions for
The following conditions were set. Dicing device: Disco DAD-340 blade: Disco NBC-ZH2050 27HEDD blade rotation speed: 40000 rpm Cutting speed: 100 mm / sec Uncut thickness: 50 μm Dicing size: 5 mm square wafer: Si wafer Wafer size: 6 inches Wafer thickness : 350 μm Wafer backside surface roughness: # 2000 Polished surface
【0021】共重合体Aの合成
共重合体Aは、ブチルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート、アクリル酸を原料として、下記表1
の配合比で重合を行い共重合体を得た。この重合体に2
−イソシアネートエチルメタクリレートを下記表1の配
合比で付加反応させ、共重合体Aを得た。Synthesis of Copolymer A Copolymer A was prepared by using butyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and acrylic acid as raw materials and the following Table 1
Polymerization was performed at a compounding ratio of to obtain a copolymer. 2 in this polymer
-Isocyanate ethyl methacrylate was subjected to an addition reaction at a compounding ratio shown in Table 1 below to obtain a copolymer A.
【0022】[0022]
【表1】 [Table 1]
【0023】共重合体Bの合成
共重合体Bは、ブチルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート、グリシジルメタクリレートを原料と
して、下記表2の配合比で重合を行い共重合体を得た。
この重合体に2−イソシアネートエチルメタクリレート
を下記表2の配合比で付加反応させ、共重合体Bを得
た。Synthesis of Copolymer B Copolymer B was obtained by polymerizing butyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and glycidyl methacrylate as raw materials at the compounding ratio shown in Table 2 below.
2-Isocyanate ethyl methacrylate was added to this polymer at the compounding ratio shown in Table 2 below to obtain a copolymer B.
【0024】[0024]
【表2】 [Table 2]
【0025】粘接着テープの作成
共重合体A及び共重合体Bの合成により得られた共重合
体A、Bと、硬化剤としてポリイソシアネート化合物
(日本ポリウレタン社製、商品名コロネートL)、光開
始剤としてα-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ンを下記表Cの配合比で混合し、粘接着剤を得た。各々
乾燥後の粘接着剤厚さを30μmとし、高密度ポリエチ
レン樹脂フィルム(100μm)に塗工し、粘着テープ
を作成した。これにより共重合体AとBとは加熱乾燥工
程で共重合体A、及びBの有するヒドロキシル基と硬化
剤のイソシアネート基官能基の反応により硬化反応を生
じる他、共重合体A及びBの含有する炭素−炭素二重結
合が光硬化反応可能である他、共重合体Aの有するカル
ボキシル基と共重合体Bの有するエポキシ基が加熱によ
り硬化反応を起こすことができる。Preparation of tacky adhesive tape Copolymers A and B obtained by synthesizing copolymer A and copolymer B, and a polyisocyanate compound (trade name: Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) as a curing agent, Α-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone as a photoinitiator was mixed in the compounding ratio shown in Table C below to obtain an adhesive. The thickness of each adhesive after drying was set to 30 μm, and each was applied to a high-density polyethylene resin film (100 μm) to prepare an adhesive tape. As a result, the copolymers A and B undergo a curing reaction by the reaction between the hydroxyl groups of the copolymers A and B and the isocyanate group functional group of the curing agent in the heating and drying step, and the copolymers A and B are contained. In addition to the photo-curing reaction of the carbon-carbon double bond, the carboxyl group of the copolymer A and the epoxy group of the copolymer B can cause a curing reaction by heating.
【0026】[0026]
【表3】 [Table 3]
【0027】[0027]
【表4】 [Table 4]
【0028】比較例1として、ビスフェノール系グリシ
ジル型エポキシ樹脂(エピコート828、エピコート1
002、(いずれも商品名)ジャパンエポキシレジン社
製)各々300重量部、熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬
化剤(サンエイドSI−100L(商品名)三新化学工
業社製)18重量部配合した。As Comparative Example 1, bisphenol-based glycidyl type epoxy resin (Epicoat 828, Epicoat 1
002 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and 300 parts by weight each, and 18 parts by weight of a heat-activable latent epoxy resin curing agent (San-Aid SI-100L (trade name) manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.).
【0029】[0029]
【表5】 [Table 5]
【0030】[0030]
【表6】 [Table 6]
【0031】[0031]
【発明の効果】このように本発明によれば、ダイシング
の際にはダイシングテープとして使用でき、マウントの
際には接着剤として使用でき、また保存安定性のよい粘
接着テープを提供することができる。As described above, according to the present invention, it is possible to provide a tacky adhesive tape which can be used as a dicing tape during dicing, can be used as an adhesive during mounting, and has good storage stability. You can
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J004 AA01 AA02 AA10 AA13 CA03 CA04 CA06 CC02 FA05 FA08 4J040 DF031 DF032 EC221 EC222 FA142 GA01 GA05 GA07 JB07 KA16 MA04 MA10 NA20 5F047 BA22 BA33 BA34 BB03 BB19 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F-term (reference) 4J004 AA01 AA02 AA10 AA13 CA03 CA04 CA06 CC02 FA05 FA08 4J040 DF031 DF032 EC221 EC222 FA142 GA01 GA05 GA07 JB07 KA16 MA04 MA10 NA20 5F047 BA22 BA33 BA34 BB03 BB19
Claims (3)
層を設けてなる半導体ウェハ用ダイシング−ダイボンド
用粘接着テープにおいて、粘着剤の樹脂成分が、少なく
とも放射線硬化性炭素−炭素二重結合含有基、エポキシ
基含有基、及びカルボキシル基を含有する基をそれぞれ
有するアクリル系粘着剤であり、かつゲル分率が60%
以上であることを特徴とする粘接着テープ。1. A pressure-sensitive adhesive tape for semiconductor wafer dicing-die bonding, comprising a substrate film having an adhesive layer on at least one surface thereof, wherein the resin component of the adhesive contains at least a radiation-curable carbon-carbon double bond. An acrylic pressure-sensitive adhesive having a group, an epoxy group-containing group, and a carboxyl group-containing group, and having a gel fraction of 60%
The adhesive tape characterized by the above.
(b)エポキシ基含有不飽和化合物および(c)炭素−
炭素二重結合を有するアクリル系共重合体と、(d)
(メタ)アクリル酸エステル、(e)カルボキシル基含
有不飽和化合物および(f)炭素−炭素二重結合を有す
るアクリル系共重合体との混合物もしくはその架橋物で
あることを特徴とする粘接着テープ。2. (a) (meth) acrylic acid ester,
(B) Epoxy group-containing unsaturated compound and (c) carbon-
An acrylic copolymer having a carbon double bond, (d)
Adhesive adhesion characterized by being a mixture of (meth) acrylic acid ester, (e) carboxyl group-containing unsaturated compound and (f) acrylic copolymer having a carbon-carbon double bond, or a crosslinked product thereof. tape.
ポキシ基含有基を有する構成成分の割合が5〜20mol
%、カルボキシル基含有基を有する構成成分の割合が5
〜20mol%、炭素−炭素二重結合含有基を有する構成
成分の割合が1〜10mol%であることを特徴とする請求
項1又は2に記載の粘接着テープ。3. The proportion of the constituent having an epoxy group-containing group in all constituents in the acrylic copolymer is 5 to 20 mol.
%, The ratio of constituents having a carboxyl group-containing group is 5
The adhesive tape according to claim 1 or 2, wherein the content of the component having a carbon-carbon double bond-containing group is 1 to 10 mol%.
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