JP2003243825A - Method of manufacturing printed wiring board - Google Patents

Method of manufacturing printed wiring board

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JP2003243825A
JP2003243825A JP2002037575A JP2002037575A JP2003243825A JP 2003243825 A JP2003243825 A JP 2003243825A JP 2002037575 A JP2002037575 A JP 2002037575A JP 2002037575 A JP2002037575 A JP 2002037575A JP 2003243825 A JP2003243825 A JP 2003243825A
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JP
Japan
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resin
film
wiring board
substrate
printed wiring
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Application number
JP2002037575A
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Japanese (ja)
Inventor
Fumito Hiwatari
冊人 日渡
Hiroshi Asami
浅見  博
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a flat wiring board by applying an uncured resin to the surface of a substrate and curing the resin after the surface of the resin is roughly flattened with a roller. <P>SOLUTION: In a first step, the wiring board 15 obtained by forming a wiring pattern 2 on an insulating substrate 1a and applying the uncured insulating resin 3c to the substrate 1a is put on a belt 17 and transported to the right side in the figure. In a second step, a film 9 is brought into contact with the surface of the uncured insulating resin 3c and the wiring board 15 is moved to the right side in the figure while the surface of the resin 3c is pressed with a pressurizing roller 10 from the upside of the film 9. In a third step, the resin 3c is cured into a cured insulating resin 3c' by uniformly projecting ultraviolet rays upon the surface of the wiring board 15 from an ultraviolet-ray irradiating device 13. When the resin 3c is cured, the film 9 becomes peelable. In a fourth step, the film 9 is wound up by means of a wind-up roller 12' while the wiring board 15 is cooled by means of a cooler 14. Thus the flattened wiring board 15 can be obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、回路パターンが形
成された基板の表面層を平坦化するためのプリント配線
基板の製造方法に関し、より詳細には、回路パターンを
複数層に重ねた多層基板をビルドアップ法によって積層
する際に、各基板の表面を平坦化して高密度に多層化を
行うことができるプリント配線基板の製造方法に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board for flattening a surface layer of a substrate on which a circuit pattern is formed, and more specifically, a multilayer substrate in which circuit patterns are laminated in a plurality of layers. The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board, in which the surface of each board can be flattened and laminated in high density when the layers are laminated by a build-up method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の電子機器の小型・軽量化や多機能
化に伴い、プリント配線基板も高密度化や多層化が進ん
でおり、いわゆるビルドアップ法による多層プリント配
線基板が主流になりつつある。以下、図面を用いて、ビ
ルドアップ法による多層プリント配線基板の製造方法を
説明する。図7は、従来の多層プリント配線基板の製造
方法を示す工程図である。図7において、工程(a)
で、絶縁基板1aの上面に銅箔1bが張り付けてある銅
張り積層板1を用意する。次に、工程(b)で、一般的
なフォトエッチング法により、絶縁基板1aの表面に積
層された銅箔1bに対してエッチングを施して、所定の
回路構成の配線パターン2を形成する。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic devices have become smaller, lighter and more multifunctional, the density of printed wiring boards has increased and the number of layers has increased, and so-called build-up multilayer printed wiring boards have become mainstream. is there. Hereinafter, a method for manufacturing a multilayer printed wiring board by a build-up method will be described with reference to the drawings. FIG. 7 is a process diagram showing a conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board. In FIG. 7, step (a)
Then, the copper-clad laminate 1 in which the copper foil 1b is attached to the upper surface of the insulating substrate 1a is prepared. Next, in step (b), the copper foil 1b laminated on the surface of the insulating substrate 1a is etched by a general photoetching method to form a wiring pattern 2 having a predetermined circuit configuration.

【0003】工程(c)で、銅箔3bに半硬化状態の絶
縁樹脂3aが塗布された、いわゆる樹脂付き銅箔(RC
C:Resin Cotted Copper)3を、配線パターン2の成
形された絶縁基板1a上に積層させる。その後、工程
(d)で、樹脂付き銅箔3に対してマスクエッチングな
どによって所定の孔をあけ、その孔の内壁に銅メッキを
施して下層の配線パターン2と上層の銅箔3bとを電気
的に接続するようにバイアホール4を形成する。このバ
イアホール4は一般にはスルーホールメッキと呼ばれて
いるものである。
In step (c), a so-called resin-coated copper foil (RC) in which a semi-cured insulating resin 3a is applied to the copper foil 3b
C: Resin Cotted Copper) 3 is laminated on the insulating substrate 1a on which the wiring pattern 2 is formed. Then, in step (d), a predetermined hole is opened in the resin-coated copper foil 3 by mask etching or the like, and the inner wall of the hole is plated with copper to electrically connect the lower wiring pattern 2 and the upper copper foil 3b to each other. The via hole 4 is formed so as to be electrically connected. This via hole 4 is generally called through-hole plating.

【0004】次に、工程(e)において、工程(b)で
フォトエッチング法によって配線パターン2を形成した
方法と同様の方法により、銅箔3bにエッチングを施し
て回路形成することにより2層目の配線パターン5を形
成する。これによって2層目の配線パターン5が形成さ
れ1層目の配線パターン2と電気的に接続される。この
ような工程を繰り返すことにより、多層構造のプリント
配線基板を形成することができる。
Next, in the step (e), the second layer is formed by etching the copper foil 3b to form a circuit by the same method as the method of forming the wiring pattern 2 by the photo-etching method in the step (b). The wiring pattern 5 is formed. As a result, the second-layer wiring pattern 5 is formed and electrically connected to the first-layer wiring pattern 2. By repeating such steps, a multilayer printed wiring board can be formed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ようなビルドアップ法によって多層プリント配線基板を
形成すると、2層目以上の多層目の配線パターンに高平
坦度が得られないという不具合が生じる。従来の製造工
程では、図1の工程(c)で、絶縁基板1aの上に半硬
化状態の絶縁樹脂3aが塗布された樹脂付き銅箔3を積
層するとき、絶縁樹脂3aが半硬化状態であるため、下
層に配線パターン2がある部分とない部分とで絶縁樹脂
3aの厚さが異なってしまう。つまり、配線パターン2
が真下にある箇所では絶縁樹脂3aの表面が盛り上がり
(凸部となり)、配線パターン2が真下にない箇所では
絶縁樹脂3aの表面が窪んで(凹部となって)しまう。
However, when the multilayer printed wiring board is formed by the above-mentioned build-up method, there occurs a problem that a high flatness cannot be obtained in the wiring patterns of the second or more layers. In the conventional manufacturing process, when the resin-coated copper foil 3 coated with the semi-cured insulating resin 3a is laminated on the insulating substrate 1a in the step (c) of FIG. 1, the insulating resin 3a is in the semi-cured state. Therefore, the thickness of the insulating resin 3a is different between the portion having the wiring pattern 2 in the lower layer and the portion not having the wiring pattern 2. That is, the wiring pattern 2
The surface of the insulating resin 3a is bulged (becomes a convex portion) in a portion right below, and the surface of the insulating resin 3a is dented (becomes a concave portion) in a portion not directly below.

【0006】図8は、図7の工程(e)の積層構造にお
けるA部の拡大断面図である。つまり、上述のように、
図7の工程(c)によって半硬化状態の絶縁樹脂3aを
絶縁基板1a上に積層するため、図8に示すように、絶
縁樹脂3aの表面は、配線パターン2が真下にある箇所
では凸部となり、配線パターン2が真下にない箇所では
凹部となってしまう。そのため、2層目の配線パターン
5を形成したときには、絶縁樹脂3aの厚みが均一でな
いために2層目の配線パターン5の表面高さが不均一と
なってしまう。このような原因によって、積層基板が多
層になればなる程、上層部の配線パターンの高平坦度が
損なわれてくる。
FIG. 8 is an enlarged sectional view of a portion A in the laminated structure in the step (e) of FIG. That is, as mentioned above,
Since the semi-cured insulating resin 3a is laminated on the insulating substrate 1a in the step (c) of FIG. 7, the surface of the insulating resin 3a has a convex portion at a position directly below the wiring pattern 2 as shown in FIG. Therefore, the wiring pattern 2 becomes a recess at a place not directly below. Therefore, when the wiring pattern 5 of the second layer is formed, the surface height of the wiring pattern 5 of the second layer becomes uneven because the thickness of the insulating resin 3a is not uniform. Due to such a cause, the higher the flatness of the wiring pattern in the upper layer portion, the more the multilayer substrate becomes multilayered.

【0007】多層プリント配線基板の配線パターンの平
坦度が損なわれると、特に、高速・高周波対応が要求さ
れる電子機器の多層プリント配線基板においては、電気
的特性上において種々の不具合を生じる原因となる。例
えば、高周波信号の伝播に支障をきたしたり、絶縁上の
問題が発生したりするおそれがある。特に、プリント配
線基板を3層、4層と多層化してゆくにしたがって表面
の凹凸が大きくなり、サブトラクティブ法による微細な
配線パターンの形成が困難になるという不具合が発生す
る。
When the flatness of the wiring pattern of the multilayer printed wiring board is impaired, it causes various problems in electrical characteristics, especially in the multilayer printed wiring board of electronic equipment which is required to support high speed and high frequency. Become. For example, there is a possibility that the propagation of a high-frequency signal may be hindered or an insulation problem may occur. In particular, as the number of printed wiring boards is increased to three layers or four layers, the surface irregularities become large, which makes it difficult to form a fine wiring pattern by the subtractive method.

【0008】そこで、上述のように表面が凹凸になった
プリント配線基板を平坦化するために、例えば、特開2
000−277921号公報や特許第3108024号
公報などで、スクリーン印刷法よって配線パターン間に
樹脂を埋め込み、その後に樹脂表面を平面研磨する方法
が提案されている。これらの公報の技術によれば、ビル
ドアップ型配線基板において、バイアホールを形成した
後に表面を高平坦化して上層の配線パターンを形成する
ことにより、高品質で信頼性の高い多層プリント配線基
板を実現することができる。
Therefore, in order to flatten the printed wiring board having the uneven surface as described above, for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
Japanese Patent Laid-Open No. 000-277921, Japanese Patent No. 3108024, and the like propose a method of embedding a resin between wiring patterns by a screen printing method and then flattening the surface of the resin. According to the techniques of these publications, in a build-up wiring board, a via hole is formed and then the surface is highly flattened to form an upper wiring pattern, thereby providing a high-quality and highly reliable multilayer printed wiring board. Can be realized.

【0009】しかし、上述のように、スクリーン印刷法
で樹脂を塗布した場合には、下層に配線パターンが形成
されている部分の表面が盛り上がった状態になる一方、
下層に配線パターンが形成されていない部分は窪んだ状
態になっている。そこで、前述の各公報の技術では、上
層の配線パターンが形成されたパターン表面を平坦化す
るために、表面に対してスクリーン印刷法によって絶縁
樹脂を印刷し、その絶縁樹脂を研磨することよって表面
全体を平坦化している。しかし、このような平坦化工程
では、プリント配線基板の表面に絶縁樹脂を印刷すると
きの膜厚のばらつきが大きいため、現実問題として、高
い精度で表面を平坦に研磨することは困難である。つま
り、従来の技術では、表面に凹凸を有するプリント配線
基板を高精度に平面研磨することは極めて困難である。
However, as described above, when the resin is applied by the screen printing method, while the surface of the portion where the wiring pattern is formed in the lower layer is raised,
The portion where the wiring pattern is not formed in the lower layer is in a depressed state. Therefore, in the technique of each of the above-mentioned publications, in order to flatten the pattern surface on which the upper wiring pattern is formed, an insulating resin is printed on the surface by a screen printing method, and the insulating resin is ground to polish the surface. The whole is flattened. However, in such a flattening step, since there is a large variation in the film thickness when the insulating resin is printed on the surface of the printed wiring board, as a practical matter, it is difficult to flatten the surface with high accuracy. That is, according to the conventional technique, it is extremely difficult to highly accurately planar-polish a printed wiring board having an uneven surface.

【0010】本発明は、上述の課題に鑑みてなされたも
ので、その目的とするところは、回路が形成されたパタ
ーン表面を平坦化する工程において、表面に未硬化性の
樹脂を塗布し、ローラでほぼ平坦化した後に樹脂を硬化
してから表面を研磨することにより、高平坦な多層基板
を構成することのできるプリント配線基板の製造方法を
提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object thereof is to apply an uncured resin to the surface in the step of flattening the surface of a pattern on which a circuit is formed, It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a printed wiring board capable of forming a highly flat multi-layered board by substantially flattening with a roller, hardening the resin, and then polishing the surface.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明におけるプリント配線基板の製造方法は、回
路パターンが形成された基板の表面層を平坦化するため
のプリント配線基板の製造方法において、基板の表面に
未硬化樹脂を塗布して樹脂層を形成する樹脂形成工程
と、未硬化樹脂の表面をフィルムで覆い、加圧ローラを
用いてフィルムを均等に押圧して未硬化樹脂の表面を平
坦化する平坦化工程と、未硬化樹脂を硬化させる硬化工
程と、フィルムを剥離する剥離工程とを含むことを特徴
とする。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention is a method of manufacturing a printed wiring board for flattening a surface layer of a board on which a circuit pattern is formed. In the resin forming step of applying a uncured resin to the surface of the substrate to form a resin layer, the surface of the uncured resin is covered with a film, and the film is evenly pressed using a pressure roller to remove the uncured resin. It is characterized by including a flattening step of flattening the surface, a curing step of curing the uncured resin, and a peeling step of peeling the film.

【0012】また、本発明におけるプリント配線基板の
製造方法は、フィルムは透明なフィルムであり、硬化工
程において、該フィルムを通して紫外線を前記未硬化樹
脂の表面全域に照射することにより未硬化樹脂を硬化さ
せることを特徴とする。
Further, in the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, the film is a transparent film, and in the curing step, the uncured resin is cured by irradiating the entire surface of the uncured resin with ultraviolet rays through the film. It is characterized by

【0013】また、本発明におけるプリント配線基板の
製造方法は、紫外線による未硬化樹脂の照射熱による硬
化工程と前記剥離工程の間に基板を冷却する冷却工程を
設けたことを特徴とする。
Further, the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention is characterized in that a cooling step for cooling the substrate is provided between the curing step by irradiation heat of the uncured resin with ultraviolet rays and the peeling step.

【0014】また、本発明におけるプリント配線基板の
製造方法は、樹脂形成工程の後に、回路パターンが形成
された領域の未硬化樹脂の表面をマスクするマスク工程
と、マスクされていない領域の前記未硬化樹脂の表面に
紫外線を照射し、該紫外線が照射された領域の未硬化樹
脂を硬化させる部分硬化工程とをさらに設けたことを特
徴とする。
Further, in the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, after the resin forming step, a masking step of masking the surface of the uncured resin in the area where the circuit pattern is formed, and the unmasked area in the unmasked area And a partial curing step of irradiating the surface of the cured resin with ultraviolet rays to cure the uncured resin in the area irradiated with the ultraviolet rays.

【0015】また、本発明におけるプリント配線基板の
製造方法は、基板の表面に未硬化樹脂を塗布して樹脂層
を形成する樹脂形成工程と、未硬化樹脂の表面をフィル
ムで覆い、加圧ローラを用いて該フィルムを均等に押圧
して未硬化樹脂の表面を平坦化する平坦化工程と、基板
ごとに前記フィルムを切断する切断工程と、切断された
該基板を熱硬化槽に収納する収納工程と、熱硬化槽に収
納された該基板の未硬化樹脂を熱硬化させる熱硬化工程
と、上記で硬化された硬化樹脂からフィルムを剥離する
剥離工程とを有することを特徴とする。
Further, the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention comprises a resin forming step of forming a resin layer by applying an uncured resin on the surface of the board, and covering the surface of the uncured resin with a film, and applying a pressure roller. A flattening step for uniformly pressing the film by using the flattening surface of the uncured resin, a cutting step for cutting the film for each substrate, and a storage for storing the cut substrate in a thermosetting bath. The method is characterized by including a step, a thermosetting step of thermosetting the uncured resin of the substrate housed in the thermosetting tank, and a peeling step of peeling the film from the cured resin cured above.

【0016】また、本発明におけるプリント配線基板の
製造方法は、回路パターンが形成された基板の表面層を
平坦化するためのプリント配線基板の製造方法におい
て、基板の表面に未硬化樹脂を塗布して樹脂層を形成す
る樹脂形成工程と、未硬化樹脂の表面をフィルムで覆
い、加圧ローラを用いて該フィルムを均等に押圧して未
硬化樹脂の表面を平坦化にする平坦化工程と、未硬化樹
脂に紫外線を照射して未硬化樹脂を半硬化させる半硬化
工程と、半硬化された硬化樹脂から前記フィルムを剥離
する剥離工程と、フィルムが剥離された該基板を熱硬化
槽に収納する収納工程と、熱硬化槽に収納された該基板
の半硬化樹脂を熱硬化させる熱硬化工程とを含むことを
特徴とする。
The method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention is the same as the method for manufacturing a printed wiring board for flattening the surface layer of a board on which a circuit pattern is formed, by applying an uncured resin to the surface of the board. A resin forming step of forming a resin layer with a film, a flattening step of covering the surface of the uncured resin with a film and uniformly pressing the film using a pressure roller to flatten the surface of the uncured resin, A semi-curing step of irradiating the uncured resin with ultraviolet rays to semi-cure the uncured resin, a peeling step of peeling the film from the semi-cured cured resin, and the substrate from which the film has been peeled is stored in a thermosetting tank And a heat curing step of thermally curing the semi-cured resin of the substrate stored in the heat curing tank.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて、本発明のプ
リント配線基板の製造方法における幾つかの実施の形態
を詳細に説明する。本発明におけるプリント配線基板の
製造方法は、基板上に液状エポキシ樹脂などの未硬化の
絶縁樹脂を印刷し、表面にフィルムを敷いて加圧ローラ
でほぼ平坦化した後に、紫外線で絶縁樹脂を硬化してか
ら表面研磨を行うことにより、高平坦な多層型のプリン
ト配線基板を製造することを特徴としている。あるい
は、下層に配線パターンがない部分のみを紫外線で硬化
してから表面全体を加圧ローラで平坦化し、その後に樹
脂全体を紫外線で硬化して表面研磨を行うことにより、
高平坦な多層型のプリント配線基板を製造することを特
徴としている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Several embodiments of a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. The method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention includes printing an uncured insulating resin such as a liquid epoxy resin on a substrate, laying a film on the surface and flattening the surface substantially with a pressure roller, and then curing the insulating resin with ultraviolet rays. After that, by performing surface polishing, a highly flat multilayer printed wiring board is manufactured. Alternatively, by curing only the portion where there is no wiring pattern in the lower layer with ultraviolet rays, the entire surface is flattened with a pressure roller, and then the entire resin is cured with ultraviolet rays to perform surface polishing,
It is characterized in that a highly flat multilayer printed wiring board is manufactured.

【0018】第1の実施の形態 図1は、本発明の第1の実施の形態におけるプリント配
線基板の製造方法の工程図である。第1の実施の形態で
は、工程(a)において、ガラスエポキシ基板などの絶
縁基板1aの上面に銅箔1bを張り付けた銅張り積層板
1を用意する。次に、工程(b)で、一般的なフォトエ
ッチング法により、絶縁基板1aの表面に積層された銅
箔1bに対してエッチングを施して、所定の回路構成の
配線パターン2を形成する。
First Embodiment FIG. 1 is a process diagram of a method for manufacturing a printed wiring board according to the first embodiment of the present invention. In the first embodiment, in step (a), a copper-clad laminate 1 is prepared in which a copper foil 1b is attached to the upper surface of an insulating substrate 1a such as a glass epoxy substrate. Next, in step (b), the copper foil 1b laminated on the surface of the insulating substrate 1a is etched by a general photoetching method to form a wiring pattern 2 having a predetermined circuit configuration.

【0019】さらに、工程(b)のように配線パターン
2が形成された配線基板に対して以下の工程を順次実行
する。まず、工程(c1)に示す『絶縁樹脂塗布工程』
において、スクリーン印刷法などによって、紫外線硬化
タイプの液状エポキシ樹脂などの未硬化絶縁樹脂3cを
絶縁基板1aの配線パターン2の間および配線パターン
2の表面上に塗布する。このとき塗布した絶縁樹脂3b
は微小な気泡が含まれている場合があるので、真空引き
を行って未硬化絶縁樹脂3cの内部の気泡を除去する。
Further, the following steps are sequentially performed on the wiring board on which the wiring pattern 2 is formed as in step (b). First, "insulating resin coating step" shown in step (c1)
In, the uncured insulating resin 3c such as a liquid epoxy resin of ultraviolet curing type is applied by a screen printing method or the like between the wiring patterns 2 of the insulating substrate 1a and on the surface of the wiring pattern 2. Insulating resin 3b applied at this time
May contain fine bubbles, so vacuum is applied to remove the bubbles inside the uncured insulating resin 3c.

【0020】次に、工程(d)に示す『絶縁樹脂平坦化
工程』において、テフロン(登録商標)フィルムなどの
透明なフィルム9を未硬化絶縁樹脂3cの上に敷いてか
ら、絶縁基板1aを基台とする配線基板15の上下に加
圧ローラ10で圧力をかけながら配線基板15を加圧ロ
ーラ10間に通す。すると、未硬化絶縁樹脂3cは加圧
ローラ10で押しつぶされるようにしてほぼ平坦化され
る。その後、工程(e)に示す『紫外線硬化工程』にお
いて、透明なフィルム9の上から未硬化絶縁樹脂3c全
体に紫外線7を当て、樹脂を硬化させて硬化絶縁樹脂3
c’にする。
Next, in the "insulating resin flattening step" shown in step (d), a transparent film 9 such as a Teflon (registered trademark) film is laid on the uncured insulating resin 3c, and then the insulating substrate 1a is placed. The wiring board 15 is passed between the pressure rollers 10 while the pressure roller 10 applies pressure to the upper and lower sides of the wiring board 15 serving as a base. Then, the uncured insulating resin 3c is flattened by being pressed by the pressure roller 10. After that, in the "ultraviolet curing step" shown in step (e), ultraviolet rays 7 are applied to the entire uncured insulating resin 3c from above the transparent film 9 to cure the resin to cure the cured insulating resin 3c.
Set to c '.

【0021】これによって、工程(f)の『フィルム剥
離工程』に示すように、硬化絶縁樹脂3c’の表面のフ
ィルム9を剥離すると、表面がほぼ平坦化された配線基
板15が得られる。そして、工程(g)の『研磨工程』
に示すように、例えば、ベルト研磨法などによって、硬
化絶縁樹脂3c’の表面厚さを所定の厚さに研磨するこ
とにより表面が高平坦化される。このようにして、下層
に配線パターン2がある部分もない部分も、上層の硬化
絶縁樹脂3c’は均一に高平坦化される。したがって、
硬化絶縁樹脂3c’の表面に形成される2層目以降の配
線パターンは高精度に平坦化され、結果的に、平坦度の
高い高密度実装された多層基板に適応するプリント配線
基板を製造することができる。
As a result, as shown in the "film peeling step" of step (f), when the film 9 on the surface of the cured insulating resin 3c 'is peeled off, the wiring board 15 having a substantially flat surface is obtained. And the "polishing step" of step (g)
As shown in, the surface of the cured insulating resin 3c 'is highly flattened by polishing the surface of the cured insulating resin 3c' to a predetermined thickness by, for example, a belt polishing method. In this way, the hardened insulating resin 3c 'in the upper layer is uniformly and highly flattened in both the portion where the wiring pattern 2 is present in the lower layer and the portion where the wiring pattern 2 is not present. Therefore,
The wiring patterns of the second and subsequent layers formed on the surface of the cured insulating resin 3c 'are highly accurately flattened, and as a result, a printed wiring board suitable for a high-density mounted multi-layered board is manufactured. be able to.

【0022】次に、第1の実施の形態で示すプリント配
線基板における製造工程ラインの一例を説明する。図2
は、図1に示す第1の実施の形態におけるプリント配線
基板の製造工程ラインを示す図である。この製造工程ラ
インはベルト搬送によるラインであって、多数の搬送ロ
ーラ11によって支えられながら、両端の回転ローラ1
6、16’の間をベルト17がコンベア駆動している。
なお、回転ローラ16、16’は図示しないモータによ
って回転駆動されている。
Next, an example of a manufacturing process line for the printed wiring board shown in the first embodiment will be described. Figure 2
FIG. 3 is a diagram showing a manufacturing process line of the printed wiring board in the first embodiment shown in FIG. 1. This manufacturing process line is a line by belt conveyance, and while being supported by a large number of conveyance rollers 11, the rotary rollers 1 on both ends are supported.
The belt 17 drives the conveyor between 6 and 16 '.
The rotary rollers 16 and 16 'are rotationally driven by a motor (not shown).

【0023】第1工程において、絶縁基板1aに配線パ
ターン2が形成され、さらに未硬化絶縁樹脂3cが塗布
された配線基板15がベルト17の上に載置されて、1
枚ずつ図の右方へ搬送されてゆく。また、製造工程ライ
ンの途中には、巻きローラ12から巻きローラ12’へ
巻き取られるフィルム9が配置されている。フィルム9
は、加圧ローラ10によって未硬化絶縁樹脂3cを均等
に押圧して平坦化するため、および加圧ローラ10に未
硬化絶縁樹脂3cが付着するのを防止するために設けて
ある。
In the first step, the wiring pattern 2 is formed on the insulating substrate 1a, and the wiring substrate 15 coated with the uncured insulating resin 3c is placed on the belt 17 to
Sheets are conveyed to the right in the figure one by one. Further, a film 9 wound around the winding roller 12 to the winding roller 12 ′ is arranged in the middle of the manufacturing process line. Film 9
Is provided to evenly press the uncured insulating resin 3c by the pressure roller 10 to flatten it and to prevent the uncured insulating resin 3c from adhering to the pressure roller 10.

【0024】第2工程、つまり加圧工程において、未硬
化絶縁樹脂3cの表面にフィルム9が接触され、加圧ロ
ーラ10によってフィルム9の上から未硬化絶縁樹脂3
cの表面を押圧しながら、配線基板15が図の右方へ移
動して行く。さらに、第3工程、つまり紫外線照射工程
において、紫外線照射器13によって配線基板15の表
面を均一に照射することにより、未硬化絶縁樹脂3cは
硬化されて硬化絶縁樹脂3c’となる。さらに、フィル
ム9は紫外線による加熱作用によって剥離可能な状態と
なる。
In the second step, that is, the pressing step, the film 9 is brought into contact with the surface of the uncured insulating resin 3c, and the pressing roller 10 presses the film 9 from above the uncured insulating resin 3c.
The wiring board 15 moves to the right in the figure while pressing the surface of c. Further, in the third step, that is, the ultraviolet irradiation step, the surface of the wiring board 15 is uniformly irradiated by the ultraviolet irradiation device 13, so that the uncured insulating resin 3c is cured to be the cured insulating resin 3c '. Further, the film 9 becomes in a peelable state by the heating action of the ultraviolet rays.

【0025】次に、第4工程、つまり冷却工程におい
て、ファンなどの冷却器14によって配線基板15の紫
外線照射熱を冷却しながら、フィルム9を巻きローラ1
2’によって巻き取って行く。この第4工程(冷却工
程)を経過することによってフィルム9が冷却されるの
で、フィルム9の剥離を容易に行うことができる。な
お、第3工程(紫外線照射工程)の後に紫外線照射熱が
充分に冷却されるだけの時間があれば第4工程(冷却工
程)を設ける必要はない。このような工程を経過するこ
とによって、配線基板15の表面の硬化絶縁樹脂3c’
はほぼ平坦化されるので、図示しない次工程において研
磨作業を行い、配線基板15の表面を高平坦化できる。
Next, in the fourth step, that is, the cooling step, the film 9 is wound around the roller 9 while cooling the ultraviolet irradiation heat of the wiring board 15 by the cooler 14 such as a fan.
Take it up by 2 '. Since the film 9 is cooled by passing through the fourth step (cooling step), the film 9 can be easily peeled off. It is not necessary to provide the fourth step (cooling step) as long as the ultraviolet irradiation heat is sufficiently cooled after the third step (ultraviolet irradiation step). The cured insulating resin 3c ′ on the surface of the wiring substrate 15 is passed through these steps.
Is substantially flattened, the surface of the wiring board 15 can be highly flattened by performing a polishing operation in the next step (not shown).

【0026】図3は、図2のB部におけるフィルム接着
部分の拡大図である。この図は、未硬化絶縁樹脂3cの
表面にフィルム9が接着しながら加圧ローラ10によっ
て押圧されて行く状態を示している。一例として、処理
する配線基板15のサイズが250×340(mm)乃
至79×125(mm)の場合、加圧ローラの直径は1
0、20、30(mm)のものを適宜交換して使用する
ことができる。加圧ローラ10は、例えば、硬度75°
のエチレンプロピレンゴムなどの弾性体でできている。
また、フィルム9の入力角度は45°〜100°まで無
段階で可変することができる。なお、ベルト17の移動
速度は0.1〜3.0(m/min)の範囲で無段階に可
変することができる。
FIG. 3 is an enlarged view of the film-bonded portion in the portion B of FIG. This drawing shows a state in which the film 9 is being pressed by the pressure roller 10 while being adhered to the surface of the uncured insulating resin 3c. As an example, when the size of the wiring board 15 to be processed is 250 × 340 (mm) to 79 × 125 (mm), the diameter of the pressure roller is 1.
Those of 0, 20, 30 (mm) can be used by appropriately exchanging them. The pressure roller 10 has, for example, a hardness of 75 °.
Made of elastic material such as ethylene propylene rubber.
Further, the input angle of the film 9 can be continuously changed from 45 ° to 100 °. The moving speed of the belt 17 can be continuously changed in the range of 0.1 to 3.0 (m / min).

【0027】第2の実施の形態 次に、本発明におけるプリント配線基板の製造方法の第
2の実施の形態について説明する。図4は、本発明の第
2の実施の形態におけるプリント配線基板の製造方法の
工程図である。第2の実施の形態では、第1の実施の形
態における工程(d)のフィルム押圧による『絶縁樹脂
平坦化工程』の前に、マスキングによる部分的紫外線照
射の工程(c2)、および絶縁樹脂の部分硬化の工程
(c3)が追加されたものである。
Second Embodiment Next, a second embodiment of the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention will be described. FIG. 4 is a process drawing of the method for manufacturing a printed wiring board according to the second embodiment of the present invention. In the second embodiment, before the "insulating resin flattening step" by film pressing in the step (d) in the first embodiment, a step (c2) of partial ultraviolet irradiation by masking and a step of insulating resin The step (c3) of partial curing is added.

【0028】図4において、工程(a)で、ガラスエポ
キシ基板などの絶縁基板1aの上面に銅箔1bを張り付
けた銅張り積層板1を用意する。次に、工程(b)で、
一般的なフォトエッチング法により、絶縁基板1aの表
面に積層された銅箔1bに対してエッチングを施して、
所定の回路構成の配線パターン2を形成する。
In FIG. 4, in step (a), a copper-clad laminate 1 in which a copper foil 1b is attached to the upper surface of an insulating substrate 1a such as a glass epoxy substrate is prepared. Next, in step (b),
By a general photo-etching method, the copper foil 1b laminated on the surface of the insulating substrate 1a is etched,
The wiring pattern 2 having a predetermined circuit configuration is formed.

【0029】さらに、工程(b)のように配線パターン
2が形成された配線基板に対して以下の工程を順次実行
する。まず、工程(c1)に示す『絶縁樹脂塗布工程』
において、スクリーン印刷法などによって、紫外線硬化
タイプの液状エポキシ樹脂などの未硬化絶縁樹脂3cを
絶縁基板1aの配線パターン2の間および配線パターン
2の表面上に塗布する。このとき塗布した絶縁樹脂3b
は微小な気泡が含まれている場合があるので、真空引き
を行って未硬化絶縁樹脂3cの内部の気泡を除去する。
Further, as in the step (b), the following steps are sequentially performed on the wiring board on which the wiring pattern 2 is formed. First, "insulating resin coating step" shown in step (c1)
In, the uncured insulating resin 3c such as a liquid epoxy resin of ultraviolet curing type is applied by a screen printing method or the like between the wiring patterns 2 of the insulating substrate 1a and on the surface of the wiring pattern 2. Insulating resin 3b applied at this time
May contain fine bubbles, so vacuum is applied to remove the bubbles inside the uncured insulating resin 3c.

【0030】次に、工程(c2)の『紫外線部分照射工
程』に示すように、未硬化絶縁樹脂3cにマスク6を当
てて紫外光7を照射させる。このときのマスク6は、紫
外光7が配線パターン2のない部分の上部の未硬化絶縁
樹脂3cのみを照射するようなマスクを用いる。このよ
うな紫外線の部分照射を行うことによって、工程(c
3)の『絶縁樹脂部分硬化工程』に示すように、下部に
配線パターン2がない部分の上部の未硬化絶縁樹脂3c
のみが紫外光によって硬化されて硬化絶縁樹脂3c’と
なる。つまり、配線パターン2の上部は未硬化絶縁樹脂
3cのままになっている。
Next, as shown in "UV partial irradiation step" of step (c2), the mask 6 is applied to the uncured insulating resin 3c to irradiate it with ultraviolet light 7. As the mask 6 at this time, a mask is used such that the ultraviolet light 7 irradiates only the uncured insulating resin 3c above the portion where the wiring pattern 2 is absent. By performing such partial irradiation of ultraviolet rays, the step (c
As shown in "3) Insulating resin partial curing step", the uncured insulating resin 3c on the upper part of the part where the wiring pattern 2 is not formed on the lower part
Only ultraviolet rays are cured to become cured insulating resin 3c '. That is, the upper portion of the wiring pattern 2 remains the uncured insulating resin 3c.

【0031】次に、工程(d)に示す『絶縁樹脂平坦化
工程』において、テフロン(登録商標)フィルムなどの
透明なフィルム9を上面に介在させてから、絶縁基板1
aを基台とする配線基板15の上下に加圧ローラ10で
圧力をかけながら配線基板15を加圧ローラ10間に通
す。すると、配線パターン2の上部の未硬化絶縁樹脂3
cが加圧ローラ10によって押しつぶされて平坦化され
てゆく。このとき、配線パターン2がない部分の上面の
硬化絶縁樹脂3c’はすでに硬化しているため、加圧ロ
ーラ10の圧力によって硬化絶縁樹脂3c’がへこむこ
とはなく、表面は安定的に平坦化される。工程(e)か
ら(g)は第1の実施の形態の場合と同じであるので説
明を省略する。
Next, in the "insulating resin flattening step" shown in step (d), a transparent film 9 such as a Teflon (registered trademark) film is interposed on the upper surface, and then the insulating substrate 1
The wiring board 15 is passed between the pressure rollers 10 while the pressure roller 10 applies pressure to the upper and lower sides of the wiring board 15 whose base is a. Then, the uncured insulating resin 3 on the wiring pattern 2 is formed.
c is crushed by the pressure roller 10 and flattened. At this time, since the cured insulating resin 3c ′ on the upper surface of the portion where the wiring pattern 2 is not present is already cured, the cured insulating resin 3c ′ is not dented by the pressure of the pressure roller 10, and the surface is stably flattened. To be done. Since steps (e) to (g) are the same as those in the first embodiment, description thereof will be omitted.

【0032】第3の実施の形態 第3の実施の形態では、加熱処理のみによって半硬化絶
縁樹脂を熱硬化させる場合の工程について説明する。図
5は、第3の実施の形態において、加熱処理のみによっ
て半硬化絶縁樹脂を熱硬化させる製造ラインの工程図で
ある。なお、図5では、図2の製造ラインの工程図にお
ける要部のみを表現している。第3の実施の形態におけ
る熱硬化型処理においては、配線基板15の表面(つま
り、半硬化絶縁樹脂の表面)にフィルム9を介在させて
加圧ローラ10で配線基板15を押圧しながら、紫外線
照射を行うことなく半硬化絶縁樹脂のまま図の右方へ搬
送する。
Third Embodiment In the third embodiment, a process for thermosetting the semi-cured insulating resin only by heat treatment will be described. FIG. 5 is a process diagram of the manufacturing line in which the semi-cured insulating resin is thermoset only by the heat treatment in the third embodiment. Note that FIG. 5 shows only the main part in the process diagram of the manufacturing line in FIG. In the thermosetting process in the third embodiment, ultraviolet rays are applied while pressing the wiring substrate 15 with the pressure roller 10 with the film 9 interposed on the surface of the wiring substrate 15 (that is, the surface of the semi-cured insulating resin). The semi-cured insulating resin is conveyed to the right in the figure without irradiation.

【0033】このとき、配線基板15の表面層は半硬化
絶縁樹脂のままであるのでフィルム9は接着されたまま
である。したがって、次工程において、図示しないカッ
タなどによってフィルム9を切断すると共に、配線基板
15を搬送用のベルト17の外に送り出す。これによっ
て、フィルム9の付着した配線基板15が熱硬化槽18
内へ落下する。そして、配線基板15を所定の温度で所
定の時間だけ熱硬化槽18に放置することにより、例え
ば、150℃で30分間熱硬化槽18に放置することに
より、半硬化絶縁樹脂が硬化されると共にフィルム9は
剥離可能な状態になる。もちろん、このとき、硬化され
た絶縁樹脂の表面はフィルム9の押圧によってほぼ平坦
化されている。したがって、第3の実施の形態によって
得られた配線基盤15を研磨処理することによってさら
に高平坦化が得られる。
At this time, since the surface layer of the wiring substrate 15 remains the semi-cured insulating resin, the film 9 remains adhered. Therefore, in the next step, the film 9 is cut by a cutter (not shown) or the like, and the wiring board 15 is sent out of the conveyor belt 17. As a result, the wiring board 15 to which the film 9 is attached becomes
Fall inside. Then, the wiring board 15 is left in the thermosetting tank 18 at a predetermined temperature for a predetermined time, for example, in the thermosetting tank 18 at 150 ° C. for 30 minutes, so that the semi-cured insulating resin is cured. The film 9 is in a peelable state. Of course, at this time, the surface of the cured insulating resin is almost flattened by pressing the film 9. Therefore, by polishing the wiring board 15 obtained in the third embodiment, it is possible to obtain higher planarization.

【0034】第4の実施の形態 第4の実施の形態では、紫外線照射と加熱処理とを併用
して、フィルムを剥離すると共に半硬化絶縁樹脂を硬化
させる場合の工程について説明する。図6は、第4の実
施の形態において、紫外線照射と加熱処理とを併用して
半硬化絶縁樹脂を硬化させる製造ラインの工程図であ
る。第4の実施の形態においては、配線基板15の表面
(つまり、未硬化絶縁樹脂の表面)にフィルム9を介在
させて加圧ローラ10で配線基板15を押圧した後、紫
外線照射器13によって紫外線を配線基板15の表面に
照射しながら配線基板15の表面を半硬化させて図の右
方へ搬送する。
Fourth Embodiment In the fourth embodiment, a process of using ultraviolet irradiation and heat treatment together to peel off the film and cure the semi-cured insulating resin will be described. FIG. 6 is a process diagram of a manufacturing line in which the semi-cured insulating resin is cured by using ultraviolet irradiation and heat treatment in combination in the fourth embodiment. In the fourth embodiment, after the film 9 is interposed on the surface of the wiring board 15 (that is, the surface of the uncured insulating resin), the pressure roller 10 presses the wiring board 15 and then the ultraviolet light is irradiated by the ultraviolet irradiator 13. While irradiating the surface of the wiring board 15, the surface of the wiring board 15 is semi-cured and is transported to the right side of the drawing.

【0035】このとき、紫外線の照射量は、未硬化絶縁
樹脂が完全に硬化しないでフィルム9のみが剥離できる
半硬化程度になるようにする。あるいは、未硬化絶縁樹
脂が紫外線によって完全には硬化しにくい樹脂材料を選
定して塗布する。次に、ファンなどの冷却器14によっ
て配線基板15の紫外線照射熱を冷却しながら、フィル
ム9を巻きローラ12’によって巻き取って行く。この
ように、配線基板15を冷却することによってフィルム
9を容易に剥離することができる。なお、紫外線の照射
熱が充分に冷却されるだけの時間があれば冷却器14を
設ける必要はない。
At this time, the irradiation amount of the ultraviolet rays is set to a semi-curing level at which only the film 9 can be peeled off without completely curing the uncured insulating resin. Alternatively, a resin material in which the uncured insulating resin is hard to be completely cured by ultraviolet rays is selected and applied. Next, the film 9 is wound by the winding roller 12 ′ while cooling the ultraviolet irradiation heat of the wiring substrate 15 by the cooler 14 such as a fan. In this way, the film 9 can be easily peeled off by cooling the wiring board 15. The cooler 14 need not be provided as long as the irradiation heat of the ultraviolet rays is sufficiently cooled.

【0036】このようにして、フィルム9が剥離された
配線基板15を搬送用のベルト17の外に送り出すと、
配線基板15のみが熱硬化槽18内へ落下する。そし
て、配線基板15を所定の温度で所定の時間だけ熱硬化
槽18に放置してベーク処理を行うことにより、半硬化
絶縁樹脂が熱硬化される。このとき、硬化された絶縁樹
脂の表面はフィルム9の押圧によってほぼ平坦化されて
いる。このような工程を経ることによって、配線基板1
5の表面の硬化絶縁樹脂3c’はほぼ平坦化されるの
で、図示しない次工程において研磨作業を行い、配線基
板15の表面を高平坦化する。第4の実施の形態の場合
は、紫外線の照射はフィルムの剥離のみを目的にするの
で絶縁樹脂の種類を広げることができる。
In this way, when the wiring substrate 15 from which the film 9 is peeled off is sent out of the conveyor belt 17,
Only the wiring board 15 falls into the thermosetting bath 18. Then, the wiring board 15 is left in the thermosetting bath 18 at a predetermined temperature for a predetermined time to perform a baking process, whereby the semi-cured insulating resin is thermoset. At this time, the surface of the cured insulating resin is almost flattened by pressing the film 9. By passing through such steps, the wiring board 1
Since the cured insulating resin 3c 'on the surface of 5 is almost flattened, the surface of the wiring board 15 is highly flattened by polishing work in the next step (not shown). In the case of the fourth embodiment, since the irradiation of ultraviolet rays is intended only for peeling the film, the types of insulating resin can be expanded.

【0037】以上述べた実施の形態は本発明を説明する
ための一例であり、本発明は、上記の実施の形態に限定
されるものではなく、発明の要旨の範囲で種々の変形が
可能である。例えば、本発明における多層プリント配線
基板の製造方法の応用範囲を次のように拡大することも
できる。
The embodiment described above is an example for explaining the present invention, and the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and various modifications can be made within the scope of the invention. is there. For example, the application range of the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention can be expanded as follows.

【0038】(1)絶縁基板1aの材料は、ガラスエポ
キシ樹脂に限らず、フェノール基板や液晶ポリマー基板
やシリコン基板やガラス基板などを用いることもでき
る。 (2)絶縁基板1aの導電層として銅箔1bを貼り付け
る構造としたが、絶縁基板1aの表面にスパッタ法など
により胴紛を蒸着形成してもよい。 (3)未硬化絶縁樹脂3cの材料として紫外線硬化タイ
プの液状エポキシ樹脂を使用したが、これに限らず、熱
硬化タイプの樹脂、また紫外線硬化と熱硬化の併用タイ
プの樹脂を用いてもよい。また、紫外線硬化タイプの樹
脂としては、エポキシ樹脂以外に、アクリル樹脂やフェ
ノール樹脂などを用いてもよい。
(1) The material of the insulating substrate 1a is not limited to the glass epoxy resin, but a phenol substrate, a liquid crystal polymer substrate, a silicon substrate, a glass substrate or the like can be used. (2) Although the structure is such that the copper foil 1b is attached as the conductive layer of the insulating substrate 1a, the drum powder may be formed by vapor deposition on the surface of the insulating substrate 1a by a sputtering method or the like. (3) Although an ultraviolet curing type liquid epoxy resin is used as the material of the uncured insulating resin 3c, the present invention is not limited to this, and a thermosetting type resin or a combination type resin of ultraviolet curing and heat curing may be used. . As the ultraviolet curable resin, an acrylic resin, a phenol resin or the like may be used in addition to the epoxy resin.

【0039】(4)半硬化絶縁樹脂を平坦にする際に、
加圧ローラによってフィルムに圧力をかける方法を用い
たが、これ以外に、プレスによってフィルムに圧力をか
ける方法や、加圧ローラとプレスを併用したフィルムの
加圧方法によっても、上記実施の形態と同様の平坦化効
果が得られる。 (5)ベルト研磨によって半硬化絶縁樹脂の表面を平坦
化させたが、これに限らず、バフ研磨法やスラリーを用
いた化学的機械的研磨法を用いても半硬化絶縁樹脂の表
面を平坦化することができる。 (6)上記の各実施の形態では、配線基板の片面のみを
平坦化する場合を示したが、上記実施の形態の平坦化工
程を裏面側にも施すことにより、配線基板の両面を平坦
化することもできる。
(4) When flattening the semi-cured insulating resin,
Although the method of applying pressure to the film by the pressure roller was used, in addition to this, the method of applying pressure to the film by a press, or the method of pressing the film in which the pressure roller and the press are used in combination with the above embodiment. Similar flattening effect can be obtained. (5) The surface of the semi-cured insulating resin is flattened by belt polishing, but the present invention is not limited to this, and the surface of the semi-cured insulating resin is flattened by a buff polishing method or a chemical mechanical polishing method using a slurry. Can be converted. (6) In each of the above-described embodiments, the case where only one side of the wiring board is flattened has been shown. However, by performing the flattening step of the above-mentioned embodiment on the back side as well, both sides of the wiring board are flattened. You can also do it.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように、本発明におけるプ
リント配線基板の製造方法では、回路が形成されたパタ
ーン表面を平坦化する工程において、基板上に絶縁樹脂
を印刷した後、フィルムとローラによって表面を平坦に
した後に紫外線によって絶縁樹脂を硬化したり、あるい
は、配線パターンがない部分のみを硬化してからフィル
ムとローラで表面の絶縁樹脂を平坦化した後、再度、紫
外線によって樹脂全体を硬化している。これによって、
表面がほぼ平坦になった絶縁樹脂を研磨することにより
高精度な平坦化を行うことができる。
As described above, in the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, after the insulating resin is printed on the substrate in the step of flattening the pattern surface on which the circuit is formed, the film and the roller are used. After the surface is flattened, the insulating resin is cured with ultraviolet rays, or after curing only the part without wiring patterns, the insulating resin on the surface is flattened with a film and roller, and then the entire resin is cured again with ultraviolet rays. is doing. by this,
Highly accurate flattening can be performed by polishing the insulating resin having a substantially flat surface.

【0041】また、本発明における多層プリント配線基
板の製造方法によれば、表面が極めて平坦なプリント配
線基板を製造することができるので、このようなプリン
ト配線基板を積み重ねることにより、絶縁層の厚みが均
一な多層構造のプリント配線基板を製造することができ
る。また、表面が平坦なプリント配線基板を用いること
によって、高密度な配線パターンを形成して高密度実装
化された多層プリント配線基板を製造することができ
る。
Further, according to the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention, a printed wiring board having an extremely flat surface can be manufactured. Therefore, by stacking such printed wiring boards, the thickness of the insulating layer can be increased. It is possible to manufacture a printed wiring board having a uniform multilayer structure. Further, by using a printed wiring board having a flat surface, it is possible to form a high-density wiring pattern and manufacture a high-density mounted multilayer printed wiring board.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の第1の実施の形態におけるプリント
配線基板の製造方法の工程図である。
FIG. 1 is a process drawing of the method for manufacturing a printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示す第1の実施の形態におけるプリン
ト配線基板の製造工程ラインを示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a manufacturing process line for a printed wiring board in the first embodiment shown in FIG.

【図3】 図2のB部におけるフィルム接着部分の拡大
図である。
FIG. 3 is an enlarged view of a film adhesion portion in a B part of FIG.

【図4】 本発明の第2の実施の形態におけるプリント
配線基板の製造方法の工程図である。
FIG. 4 is a process drawing of the method for manufacturing a printed wiring board according to the second embodiment of the present invention.

【図5】 第3の実施の形態において、加熱処理のみに
よって半硬化絶縁樹脂を熱硬化させる製造ラインの工程
図である。
FIG. 5 is a process diagram of a manufacturing line in which a semi-cured insulating resin is thermoset only by heat treatment in the third embodiment.

【図6】 第4の実施の形態において、紫外線照射と加
熱処理とを併用して半硬化絶縁樹脂を硬化させる製造ラ
インの工程図である。
FIG. 6 is a process diagram of a manufacturing line in which a semi-cured insulating resin is cured by using ultraviolet irradiation and heat treatment together in the fourth embodiment.

【図7】 従来の多層プリント配線基板の製造方法を示
す工程図である。
FIG. 7 is a process chart showing a method of manufacturing a conventional multilayer printed wiring board.

【図8】 図7の工程(e)の積層構造におけるA部の
拡大断面図である。
8 is an enlarged cross-sectional view of a portion A in the laminated structure of step (e) of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…銅張り積層板、1a…絶縁基板、1b…銅箔、2…
配線パターン、3…樹脂付き銅箔、3a…絶縁樹脂、3
b…銅箔、3c…半硬化絶縁樹脂、3c’…硬化絶縁樹
脂、4…バイアホール、5…配線パターン、6…マス
ク、7…紫外線、9…フィルム、10…加圧ローラ、1
1…搬送ローラ、12,12’…巻きローラ、13…紫
外線照射器、14…冷却器、15…配線基板、16,1
6’…回転ローラ、17…ベルト、18…熱硬化槽
1 ... Copper-clad laminate, 1a ... Insulating substrate, 1b ... Copper foil, 2 ...
Wiring pattern, 3 ... Copper foil with resin, 3a ... Insulating resin, 3
b ... Copper foil, 3c ... Semi-cured insulating resin, 3c '... Cured insulating resin, 4 ... Via hole, 5 ... Wiring pattern, 6 ... Mask, 7 ... Ultraviolet ray, 9 ... Film, 10 ... Pressure roller, 1
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conveying roller, 12, 12 '... Winding roller, 13 ... Ultraviolet irradiator, 14 ... Cooler, 15 ... Wiring board, 16, 1
6 '... rotary roller, 17 ... belt, 18 ... thermosetting bath

フロントページの続き Fターム(参考) 5E343 AA02 AA12 BB24 ER50 GG08 5E346 AA12 AA15 AA32 AA51 CC08 CC32 DD02 DD03 EE38 EE39 GG28 HH11 HH31 Continued front page    F term (reference) 5E343 AA02 AA12 BB24 ER50 GG08                 5E346 AA12 AA15 AA32 AA51 CC08                       CC32 DD02 DD03 EE38 EE39                       GG28 HH11 HH31

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回路パターンが形成された基板の表面層
を平坦化するためのプリント配線基板の製造方法におい
て、 前記基板の表面に未硬化樹脂を塗布して樹脂層を形成す
る樹脂形成工程と、 前記未硬化樹脂の表面をフィルムで覆い、加圧ローラを
用いて該フィルムを均等に押圧して前記未硬化樹脂の表
面を平坦化する平坦化工程と、 前記未硬化樹脂を硬化させる硬化工程と、 前記フィルムを剥離する剥離工程と、を含むことを特徴
とするプリント配線基板の製造方法。
1. A method for manufacturing a printed wiring board for flattening a surface layer of a substrate on which a circuit pattern is formed, comprising: a resin forming step of applying an uncured resin to the surface of the substrate to form a resin layer. A flattening step of covering the surface of the uncured resin with a film and flattening the surface of the uncured resin by uniformly pressing the film using a pressure roller, and a curing step of curing the uncured resin And a peeling step of peeling the film, the method for manufacturing a printed wiring board.
【請求項2】 前記フィルムは透明なフィルムであり、 前記硬化工程において、該フィルムを通して紫外線を前
記未硬化樹脂の表面全域に照射することにより未硬化樹
脂を硬化させることを特徴とする請求項1に記載のプリ
ント配線基板の製造方法。
2. The film is a transparent film, and in the curing step, the uncured resin is cured by irradiating the entire surface of the uncured resin with ultraviolet rays through the film. A method for manufacturing a printed wiring board according to.
【請求項3】 紫外線による未硬化樹脂の照射熱による
硬化工程と前記剥離工程の間に基板を冷却する冷却工程
を設けたことを特徴とする請求項2に記載のプリント配
線基板の製造方法。
3. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 2, further comprising a cooling step of cooling the substrate between the curing step of irradiating the uncured resin with ultraviolet rays and the peeling step.
【請求項4】 前記樹脂形成工程の後に、 前記回路パターンが形成された領域の前記未硬化樹脂の
表面をマスクするマスク工程と、 マスクされていない領域の前記未硬化樹脂の表面に紫外
線を照射し、該紫外線が照射された領域の前記未硬化樹
脂を硬化させる部分硬化工程とをさらに設けたことを特
徴とする請求項1に記載のプリント配線基板の製造方
法。
4. A masking step of masking the surface of the uncured resin in the area where the circuit pattern is formed after the resin forming step, and irradiating the surface of the uncured resin in the unmasked area with ultraviolet rays. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 1, further comprising a partial curing step of curing the uncured resin in the region irradiated with the ultraviolet rays.
【請求項5】 前記フィルムは透明なフィルムであり、 前記硬化工程において、前記フィルムを通して紫外線を
前記未硬化樹脂の表面全域に照射することにより、該未
硬化樹脂を硬化させることを特徴とする請求項4に記載
のプリント配線基板の製造方法。
5. The film is a transparent film, and in the curing step, the uncured resin is cured by irradiating the entire surface of the uncured resin with ultraviolet rays through the film. Item 5. A method for manufacturing a printed wiring board according to Item 4.
【請求項6】 紫外線による未硬化樹脂の照射熱による
硬化工程と前記剥離工程の間に基板を冷却する冷却工程
を設けたことを特徴とする請求項5に記載のプリント配
線基板の製造方法。
6. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 5, further comprising a cooling step of cooling the substrate between the curing step of irradiating the uncured resin with ultraviolet rays and the peeling step.
【請求項7】 回路パターンが形成された基板の表面層
を平坦化するためのプリント配線基板の製造方法におい
て、 前記基板の表面に未硬化樹脂を塗布して樹脂層を形成す
る樹脂形成工程と、 前記未硬化樹脂の表面をフィルムで覆い、加圧ローラを
用いて該フィルムを均等に押圧して前記未硬化樹脂の表
面を平坦化する平坦化工程と、 前記基板ごとに前記フィルムを切断する切断工程と、 前記で切断された該基板を熱硬化槽に収納する収納工程
と、 前記の熱硬化槽に収納された該基板の未硬化樹脂を熱硬
化させる熱硬化工程と、 前記で硬化された硬化樹脂から前記フィルムを剥離する
剥離工程と、を含むことを特徴とするプリント配線基板
の製造方法。
7. A method of manufacturing a printed wiring board for flattening a surface layer of a substrate on which a circuit pattern is formed, comprising a resin forming step of applying an uncured resin to the surface of the substrate to form a resin layer. A flattening step of covering the surface of the uncured resin with a film and uniformly pressing the film with a pressure roller to flatten the surface of the uncured resin; and cutting the film for each substrate. A cutting step, an accommodating step of accommodating the substrate cut in the above in a thermosetting bath, a thermosetting step of thermosetting the uncured resin of the substrate accommodated in the thermosetting tank, and a curing step And a peeling step of peeling the film from the cured resin, the method for manufacturing a printed wiring board.
【請求項8】 回路パターンが形成された基板の表面層
を平坦化するためのプリント配線基板の製造方法におい
て、 前記基板の表面に未硬化樹脂を塗布して樹脂層を形成す
る樹脂形成工程と、 前記未硬化樹脂の表面をフィルムで覆い、加圧ローラを
用いて該フィルムを均等に押圧して前記未硬化樹脂の表
面を平坦化にする平坦化工程と、 前記未硬化樹脂に紫外線を照射して前記未硬化樹脂を半
硬化させる半硬化工程と、 前記で半硬化された硬化樹脂から前記フィルムを剥離す
る剥離工程と、 フィルムが剥離された該基板を熱硬化槽に収納する収納
工程と、 前記熱硬化槽に収納された該基板の半硬化樹脂を熱硬化
させる熱硬化工程とを含むことを特徴とするプリント配
線基板の製造方法。
8. A method of manufacturing a printed wiring board for flattening a surface layer of a substrate on which a circuit pattern is formed, comprising a resin forming step of applying an uncured resin to the surface of the substrate to form a resin layer. A flattening step of covering the surface of the uncured resin with a film and uniformly pressing the film with a pressure roller to flatten the surface of the uncured resin; and irradiating the uncured resin with ultraviolet rays. And a semi-curing step of semi-curing the uncured resin, a peeling step of peeling the film from the semi-cured cured resin, and a storing step of storing the substrate from which the film has been peeled in a thermosetting bath. And a heat curing step of thermally curing the semi-cured resin of the substrate housed in the heat curing bath, the method for producing a printed wiring board.
【請求項9】 紫外線による未硬化樹脂の照射熱による
半硬化工程と前記剥離工程の間に基板を冷却する冷却工
程を設けたことを特徴とする請求項8に記載のプリント
配線基板の製造方法。
9. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 8, further comprising a cooling step of cooling the substrate between the semi-curing step of irradiating the uncured resin with ultraviolet rays and the peeling step. .
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