JP2003225866A - Metal bond diamond lapping surface plate for processing thin sheet - Google Patents
Metal bond diamond lapping surface plate for processing thin sheetInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、水晶、ガラス、セ
ラミックス等の硬脆材料からなる薄板の平面加工用メタ
ルボンドダイヤモンドラップ定盤に関し、特定的には、
水晶薄板の平面加工用メタルボンドダイヤモンドラップ
定盤に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal-bonded diamond lap surface plate for flat surface processing of a thin plate made of a hard and brittle material such as quartz, glass, ceramics, etc.
The present invention relates to a metal bond diamond lap surface plate for flat processing of a quartz thin plate.
【0002】[0002]
【従来の技術】携帯電話やパソコンなどデジタル機器市
場の大幅な拡大により、水晶デバイスの需要は浮沈はあ
れども増加傾向にある。水晶デバイスの加工工程にはほ
とんどの場合、遊離砥粒によるラッピング加工が古くか
ら用いられてきた。一方、より高能率・低コスト加工を
目指し、さらに地球の環境衛生上の改善、作業環境の快
適化を求めた固定砥粒加工の試みが続けられている。固
定砥粒加工には、ダイヤモンド砥粒をレジンボンド、メ
タルボンド、ビトリファイドボンドなどの各種ボンド中
に分散させた砥粒層を有するダイヤモンドラップ定盤が
用いられており、ダイヤモンドラップ定盤には以下のよ
うな利点がある。1)遊離砥粒供給監視作業やコントロ
ール作業は不要となり、省人化・無人化によるコスト低
減が期待できる。2)ワークキャリア、ギアの長寿命化
に加え、定盤の再利用が可能となり、ランニングコスト
の低減が期待できる。3)高い加工能率により粗ラップ
と中間ラップ加工が同時に完了するため、従来の加工方
式に比べ1工程の削減が可能となり、加工コストの低減
が期待できる。4)遊離砥粒によるラッピング加工法と
比較し十倍〜百倍の加工能率が得られ、かつ、スラッジ
発生量が少なく地球環境に優しい。2. Description of the Related Art The demand for crystal devices has been on the rise, though it has fluctuated, due to the significant expansion of the digital equipment market such as mobile phones and personal computers. In most cases, the lapping process using loose abrasive grains has been used for a long time in the process of processing a crystal device. On the other hand, attempts are being made for fixed abrasive grain processing aiming at higher efficiency and lower cost processing, as well as improvements in the environmental hygiene of the earth and a comfortable working environment. For fixed abrasive processing, a diamond lap surface plate having an abrasive particle layer in which diamond abrasive particles are dispersed in various bonds such as resin bond, metal bond, and vitrified bond is used. There are advantages like. 1) No need to monitor and control the supply of loose abrasive grains, which can be expected to reduce costs by manpower saving and unmanned operation. 2) In addition to prolonging the service life of work carriers and gears, the surface plate can be reused, which can be expected to reduce running costs. 3) Since the rough lapping and the intermediate lapping are completed at the same time due to the high machining efficiency, it is possible to reduce one process compared to the conventional machining method, and it is expected that the machining cost will be reduced. 4) Processing efficiency is 10 to 100 times higher than the lapping method using free abrasive grains, and the amount of sludge generated is small, which is environmentally friendly.
【0003】ダイヤモンドラップ定盤は、ダイヤモンド
砥粒をレジンボンド、メタルボンド、ビトリファイドボ
ンドなどの各種のボンド中に分散させた超砥粒層を有す
るものである。その超砥粒層の形態は、主として、工作
物の種類、工作物の寸法、要求される加工精度などによ
り決定されるが、円柱状または円盤状に成形したペレッ
トと呼ばれるものをラップ定盤の全面に固着したもの
や、ラップ定盤の全面を超砥粒層とした後で超砥粒層の
表面に放射状、碁盤目状、同心円状、渦巻き状に溝を設
けるものがある。ダイヤモンドラップ定盤は、ラップ
盤、両面ラップ盤、片面ラップ盤、平行平面ホーニング
盤と呼ばれている研削機に取り付けて使用される。最も
良く使われるのが両面ラップ盤で、研削機の回転軸に上
下方向に対向して2個のダイヤモンドラップ定盤が取り
付けられ、下側のダイヤモンド定盤の上に、工作物を穴
に入れて保持したワークキャリヤを太陽歯車と内歯車に
噛み合わせて、上側のダイヤモンドラップ定盤を下側ダ
イヤモンドラップ定盤に一定の圧力で押し付け、ワーク
キャリヤを自転させながら公転させて、工作物の上下面
を上下のダイヤモンドラップ定盤で加工するものであ
る。このとき、上下のダイヤモンドラップ定盤が面方向
に小さな幅で揺動しながら加工するものや、下側のダイ
ヤモンドラップ定盤だけで片面加工する片面ラップ定盤
の場合もある。The diamond lap surface plate has a superabrasive grain layer in which diamond abrasive grains are dispersed in various bonds such as resin bond, metal bond and vitrified bond. The form of the superabrasive grain layer is mainly determined by the type of work piece, the size of the work piece, the required processing accuracy, etc., but what is called a pellet formed in a cylindrical or disc shape is used as a lapping plate. There are those fixed to the entire surface, and those in which the entire surface of the lapping plate is made into a superabrasive grain layer and then grooves are provided on the surface of the superabrasive grain layer in a radial shape, a grid shape, a concentric circle shape, or a spiral shape. The diamond lap platen is used by being attached to a grinding machine called a lapping machine, a double-sided lapping machine, a single-sided lapping machine, or a parallel plane honing machine. The most commonly used is a double-sided lapping machine, in which two diamond lap surface plates are attached vertically opposite to the rotary shaft of the grinder, and the workpiece is put in a hole on the lower diamond surface plate. The work carrier held by the above is engaged with the sun gear and the internal gear, the upper diamond lap platen is pressed against the lower diamond lap platen with a certain pressure, and the work carrier revolves while revolving to rotate the workpiece. The lower surface is processed with upper and lower diamond lap surface plates. At this time, there are cases where the upper and lower diamond lap surface plates are machined while swinging in a small width in the surface direction, and a single-sided lapping surface plate is machined on one side only with the lower diamond lap surface plate.
【0004】しかしながら、厚みが1mm以下の薄板の
場合は、加工中に破壊され易いためダイヤモンドラップ
定盤の仕様設定、加工条件設定が非常に困難であった。
特に、水晶の薄板は破壊され易いので、低圧で加工しな
ければならず、従来のボンドを適用したダイヤモンドラ
ップ定盤では加工速度が極めて低い問題があった。However, in the case of a thin plate having a thickness of 1 mm or less, it is very difficult to set the specifications and processing conditions of the diamond lap surface plate because they are easily broken during processing.
In particular, since a quartz thin plate is easily broken, it has to be processed at a low pressure, and a diamond lap surface plate to which a conventional bond is applied has a problem that the processing speed is extremely low.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決するためになされたものである。すなわち、厚
みが1mm以下の薄板、特に、1mm以下の水晶の薄板
を能率良く、しかも高精度に加工が可能なダイヤモンド
ラップ定盤を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems. That is, it is an object of the present invention to provide a diamond lap platen capable of efficiently processing a thin plate having a thickness of 1 mm or less, particularly a crystal thin plate having a thickness of 1 mm or less, with high accuracy.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、この発明は、硬脆材料からなる薄板の平面加工に
用いられる、ダイヤモンド砥粒をメタルボンド中に分散
させてなる超砥粒層を備えたメタルボンドダイヤモンド
ラップ定盤であって、メタルボンドが、主として、Cu
−Sn系合金からなり、Cuが45〜65重量%、残量
がSnからなる軟質金属相と、軟質金属層に分散されて
いる、MoS2、Cr2O3、h−BN及び黒鉛等から
選択された1種類または2種類以上の軟質粒子からなる
ことを特徴とするものである。このような組成のメタル
ボンドとすることにより、十分な砥粒保持力と良好なツ
ルーイング・ドレッシング性を有し、特に、低圧の研削
条件下においても極めて良好な切れ味と長寿命が得られ
るのである。In order to solve the above problems, the present invention provides a superabrasive grain having diamond abrasive grains dispersed in a metal bond, which is used for flattening a thin plate made of a hard and brittle material. A metal bond diamond lap surface plate having a layer, wherein the metal bond is mainly Cu.
Consists -Sn based alloy, Cu is 45 to 65 wt%, and the soft metal phase remaining amount consisting Sn, are dispersed in the soft metal layer, from MoS 2, Cr 2 O 3, h-BN and graphite It is characterized by comprising one or more selected soft particles. By using a metal bond having such a composition, it has sufficient abrasive grain holding power and good truing / dressing properties, and in particular, extremely good sharpness and long life can be obtained even under low pressure grinding conditions. .
【0007】そして、さらに詳しくは、軟質粒子の含有
率は、メタルボンドに対して1〜60容量%であること
を特徴とするものである。軟質粒子の含有率は1容量%
未満では所望の効果がえられず、60容量%を超える場
合にはメタルボンドを著しく脆化させるので適当ではな
い。軟質粒子の含有率は3〜55容量%であることがよ
り好ましい。More specifically, the content of the soft particles is characterized by being 1 to 60% by volume with respect to the metal bond. Content of soft particles is 1% by volume
If it is less than 60% by weight, the desired effect cannot be obtained, and if it exceeds 60% by volume, the metal bond is significantly embrittled, which is not suitable. The soft particle content is more preferably 3 to 55% by volume.
【0008】そして、さらに詳しくは、硬脆材料からな
る薄板は水晶で、その厚みが0.01mm〜1mmであ
ることを特徴とするものである。本発明のメタルボンド
ダイヤモンドラップ定盤は加工中に破壊されやすい、ガ
ラス、セラミックス、フェライト、シリコンなどの硬脆
材料の薄板に適当であり、特に水晶の薄板に最適であ
る。More specifically, the thin plate made of a hard and brittle material is crystal, and the thickness thereof is 0.01 mm to 1 mm. The metal-bonded diamond lap surface plate of the present invention is suitable for a thin plate of a hard and brittle material such as glass, ceramics, ferrite, and silicon, which is easily broken during processing, and is most suitable for a thin plate of quartz.
【0009】そして、メタルボンドダイヤモンドラップ
定盤に供給される研削液の流量が、10〜900ミリリ
ットル/分、薄板にかかる加工圧力が、2〜80KP
a、ワークキャリアの公転回転数が、5〜100r.
p.m.の加工条件下において薄板を加工することに用
いることを特徴とするダイヤモンドラップ定盤である。
ここで上記条件の数値限定をした理由を説明する。研削
液の流量が10ミリリットル/分未満では、加工中に切
り粉の排出が不十分となり目づまりの原因となるためで
あり、900ミリリットル/分を超える流量では加工速
度が低下するためである。研削液の流量は、30〜70
0ミリリットル/分であることがより好ましい。さら
に、薄板にかかる加工圧力が2KPa未満では加工速度
が度著しく低下し、80KPaを超えると薄板が破壊さ
れるからである。加工圧力は、5〜70KPaであるこ
とがより好ましい。さらに、ワークキャリアの公転回転
数が5r.p.m.未満では、加工速度が低下するため
であり、100r.p.m.を超えると薄板が破壊され
る割合が急激に増加するためである。ワークキャリアの
公転回転数は、10〜90r.p.m.であることがよ
り好ましい。The flow rate of the grinding fluid supplied to the metal bond diamond lap surface plate is 10 to 900 ml / min, and the processing pressure applied to the thin plate is 2 to 80 KP.
a, the revolution speed of the work carrier is 5 to 100 rpm.
p. m. It is a diamond lap surface plate that is used for processing a thin plate under the processing conditions of.
Here, the reason for limiting the numerical values of the above conditions will be described. This is because if the flow rate of the grinding fluid is less than 10 ml / min, the discharge of the cutting chips will be insufficient during machining, which will cause clogging, and if the flow rate exceeds 900 ml / min, the machining speed will decrease. The flow rate of the grinding fluid is 30 to 70
More preferably, it is 0 ml / min. Further, if the working pressure applied to the thin plate is less than 2 KPa, the working speed is remarkably reduced, and if it exceeds 80 KPa, the thin plate is broken. The processing pressure is more preferably 5 to 70 KPa. Further, the revolution speed of the work carrier is 5 r. p. m. Is less than 100 r.p.m. p. m. This is because the ratio at which the thin plate is destroyed increases sharply when it exceeds. The revolution speed of the work carrier is 10 to 90 rpm. p. m. Is more preferable.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】発明の実施の形態については、以
下の実施例の項で詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the invention will be described in detail in the section of Examples below.
【0011】(実施例1)Cu粉とSn粉を準備して、
Cu55重量%、Sn45重量%となるようにCu粉末
とSn粉末をボールミルにて均一の混合粉にした後、さ
らに黒鉛粉を前記の混合粉に対して30容量%添加して
メタルボンドとした。このメタルボンドに対して、ダイ
ヤモンド砥粒#3000(粒径2〜6μm)を集中度が
50となるように添加して均一になるまでボールミルを
用いて良く混合した。この混合粉を金型に充填し、ホッ
トプレス法により外径300mmのドーナツ状に焼結
し、超砥粒層を形成した。この砥粒層を鋳鉄製ラップ定
盤に接着剤で固着して、超砥粒層の表面をツルーイング
・ドレッシングして本発明のメタルボンドダイヤモンド
ラップ定盤を製造した。次に、このメタルボンドダイヤ
モンドラップ定盤をワークキャリアで工作物を保持する
方式の両面ラップ盤に取り付け、水晶の薄板の平面加工
を行い本発明の効果を確認した。水晶の薄板は円盤状で
寸法が、厚み0.3mm、直径30mmのものを用い
た。加工条件は、ワークキャリアの公転回転数が20
r.p.m.、加工圧力が12KPa、研削液の流量が
150ミリリットル/分とした。ドレスキャリアを用い
て、超砥粒層の作用面をツルーイング・ドレッシング
後、水晶の薄板をワークキャリアにセットして平面加工
を開始したところ、切れ味は良好で、加工の途中でドレ
シングすることなく、所期の表面粗さが得られた。(Example 1) Prepare Cu powder and Sn powder,
After Cu powder and Sn powder were made into a uniform mixed powder by a ball mill so that Cu content was 55% by weight and Sn content was 45% by weight, 30% by volume of graphite powder was added to the mixed powder to form a metal bond. Diamond abrasive grains # 3000 (particle size 2 to 6 μm) were added to this metal bond so that the concentration was 50, and well mixed using a ball mill until uniform. This mixed powder was filled in a mold and sintered in a donut shape with an outer diameter of 300 mm by a hot pressing method to form a superabrasive grain layer. This abrasive grain layer was fixed to a cast iron lapping plate with an adhesive, and the surface of the superabrasive grain layer was trued and dressed to produce a metal bond diamond lapping plate of the present invention. Next, this metal bond diamond lap surface plate was attached to a double-sided lapping plate of a type in which a workpiece is held by a work carrier, and flat processing of a thin crystal plate was performed to confirm the effect of the present invention. A thin crystal plate having a disk shape with a thickness of 0.3 mm and a diameter of 30 mm was used. The processing condition is that the revolution speed of the work carrier is 20.
r. p. m. The processing pressure was 12 KPa, and the flow rate of the grinding fluid was 150 ml / min. Using a dress carrier, after truing and dressing the working surface of the superabrasive grain layer, when setting a thin crystal plate on the work carrier and starting planar processing, the sharpness is good, without dressing during processing, The desired surface roughness was obtained.
【0012】(実施例2)実施例1とはメタルボンドの
組成を変更し、超砥粒層の作用面には放射線状の溝入れ
加工を施し本発明の効果を確認した。Cu55重量%、
Sn45重量%となるようにCu粉末とSn粉末をボー
ルミルにて均一の混合粉にした後、さらに黒鉛粉を前記
の混合粉に対して35容量%添加してメタルボンドとし
た。このメタルボンドに対して、ダイヤモンド砥粒#3
000(粒径2〜6μm)を集中度が50となるように
添加して均一になるまでボールミルを用いて良く混合し
た。この混合粉を金型に充填し、ホットプレス法により
外径300mmのドーナツ状に焼結し、超砥粒層を形成
した。この砥粒層を鋳鉄製ラップ定盤に接着剤で固着し
て、超砥粒層の表面に溝幅2mm、深さ1mmの溝を3
6等分で放射線状に設け、本発明のメタルボンドダイヤ
モンドラップ定盤を製造した。次に、実施例1と同じ両
面ラップ盤に取り付け、水晶の薄板の平面加工を行い本
発明の効果を確認した。水晶の薄板は円盤状で、寸法が
厚み0.3mm、直径30mmのものを用いた。加工条
件は、ワークキャリアの公転回転数が20r.p.
m.、加工圧力が12KPa、研削液の流量が150ミ
リリットル/分とした。ドレスキャリアを用いて、超砥
粒層の作用面をツルーイング・ドレッシング後、水晶の
薄板をワークキャリアにセットして平面加工を開始した
ところ、切れ味は実施例1より約20%向上し、極めて
良好であった。また、途中でドレシングすることなく安
定した切れ味を長期間持続した。(Example 2) The effect of the present invention was confirmed by changing the composition of the metal bond from Example 1 and performing radial grooving on the working surface of the superabrasive grain layer. Cu 55% by weight,
Cu powder and Sn powder were made into a uniform mixed powder by a ball mill so that the Sn content was 45% by weight, and then 35% by volume of graphite powder was added to the mixed powder to form a metal bond. For this metal bond, diamond abrasive grain # 3
000 (particle size 2 to 6 μm) was added so that the degree of concentration would be 50, and well mixed using a ball mill until uniform. This mixed powder was filled in a mold and sintered in a donut shape with an outer diameter of 300 mm by a hot pressing method to form a superabrasive grain layer. This abrasive grain layer was fixed to a cast iron lapping plate with an adhesive, and three grooves each having a groove width of 2 mm and a depth of 1 mm were formed on the surface of the superabrasive grain layer.
The metal-bonded diamond lap surface plate of the present invention was manufactured by providing 6 parts in a radial pattern. Next, it was attached to the same double-sided lapping machine as in Example 1, and the flatness processing of the thin crystal plate was performed to confirm the effect of the present invention. A thin crystal plate having a disk shape with a thickness of 0.3 mm and a diameter of 30 mm was used. The processing condition is that the revolution speed of the work carrier is 20 r. p.
m. The processing pressure was 12 KPa, and the flow rate of the grinding fluid was 150 ml / min. After truing and dressing the working surface of the superabrasive grain layer using the dress carrier, the thin plate of quartz was set on the work carrier and the planar processing was started. The sharpness was improved by about 20% compared with Example 1, and it is extremely good. Met. Also, stable sharpness was maintained for a long time without dressing in the middle.
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明のメ
タルボンドダイヤモンドラップ定盤を用いれば、水晶な
どの硬脆材料の薄板を破壊することなく、しかも高精度
に平面加工することができる。As described in detail above, by using the metal-bonded diamond lap surface plate of the present invention, a thin plate of a hard and brittle material such as quartz can be machined with high precision without breaking. .
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本発明のメタルボンドダイヤモンドラップ定盤
を示す。FIG. 1 shows a metal bond diamond lap surface plate of the present invention.
P メタルボンドダイヤモンドラップ定盤 1 超砥粒層 2 ワークキャリア 3 ワーク 4 定盤 R ワークキャリアの公転回転数 P metal bond diamond lap surface plate 1 Superabrasive layer 2 work carrier 3 work 4 surface plate R Work carrier revolution speed
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3C058 AA07 AA09 CA06 CB01 CB02 DA02 3C063 AA02 AB05 BB02 BC02 BD01 BG07 CC02 CC19 EE01 FF22 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F term (reference) 3C058 AA07 AA09 CA06 CB01 CB02 DA02 3C063 AA02 AB05 BB02 BC02 BD01 BG07 CC02 CC19 EE01 FF22
Claims (4)
れる、ダイヤモンド砥粒をメタルボンド中に分散させて
なる超砥粒層を備えたメタルボンドダイヤモンドラップ
定盤であって、 上記メタルボンドが、主として、Cu−Sn系合金から
なり、Cuが45〜65重量%、残量がSnからなる軟
質金属相と、 上記軟質金属相に分散されている、MoS2、Cr2O
3、h−BN及び黒鉛等から選択された1種類または2
種類以上の軟質粒子からなることを特徴とするメタルボ
ンドダイヤモンドラップ定盤。1. A metal bond diamond lap platen for use in flat processing of a thin plate made of a hard and brittle material, the metal bond diamond lap plate having a superabrasive grain layer in which diamond abrasive grains are dispersed in a metal bond. Is mainly composed of Cu—Sn alloy, Cu is 45 to 65 wt%, and the remaining amount is a soft metal phase consisting of Sn, and MoS 2 , Cr 2 O dispersed in the soft metal phase.
3 , 1 type or 2 selected from h-BN and graphite
A metal bond diamond lap surface plate that is made up of more than one kind of soft particles.
対して1〜60容量%であることを特徴とする請求項1
記載のメタルボンドダイヤモンドラップ定盤。2. The content of the soft particles is 1 to 60% by volume with respect to the metal bond.
Metal bond diamond lap surface plate described.
厚みが0.01mm〜1mmであることを特徴とする請
求項1または2に記載のメタルボンドダイヤモンドラッ
プ定盤。3. The metal bond diamond lap surface plate according to claim 1, wherein the thin plate made of the hard and brittle material is quartz, and the thickness thereof is 0.01 mm to 1 mm.
給される研削液の流量が、10〜900ミリリットル/
分、 薄板にかかる加工圧力が、2〜80KPa、 ワークキャリアの公転回転数が、5〜100r.p.
m.の加工条件下において、薄板を加工するのに用いる
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のメタ
ルボンドダイヤモンドラップ定盤。4. The flow rate of the grinding fluid supplied to the metal bond diamond lap surface plate is 10 to 900 ml /
Min., The processing pressure applied to the thin plate is 2 to 80 KPa, and the revolution speed of the work carrier is 5 to 100 r.p.m. p.
m. The metal bond diamond lap surface plate according to claim 1, which is used for processing a thin plate under the processing conditions of.
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---|---|---|---|
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