JP2003223713A - Information recording medium - Google Patents

Information recording medium

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JP2003223713A
JP2003223713A JP2002017198A JP2002017198A JP2003223713A JP 2003223713 A JP2003223713 A JP 2003223713A JP 2002017198 A JP2002017198 A JP 2002017198A JP 2002017198 A JP2002017198 A JP 2002017198A JP 2003223713 A JP2003223713 A JP 2003223713A
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Japan
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layer
film
forming
magnetic
recording
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Application number
JP2002017198A
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Japanese (ja)
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Takeshi Morikawa
剛 森河
Hiroyasu Kawano
浩康 川野
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the recording resolution and SNR of an information recording medium consisting of a back lining, a non-magnetic intermediate layer, and a recording layer. <P>SOLUTION: This information recording medium is featured in that it has a back lining with its easy magnetizing axis set in its inside direction, a non- magnetic intermediate layer whose surface is finely roughened, and a recording magnetic layer easy to magnetize perpendicularly to record information in this order. Further, the non-magnetic intermediate layer consists of a dielectric layer, an agglomerated layer to form the fine asperity grains, and an enhancing layer to increase the height of the grains on the agglomerated layer in this order from the above back lining layer. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、情報記録媒体に
関し、特に、軟磁性膜からなる裏打ち層を有する垂直磁
気記録方式の情報記録媒体の構成に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording medium, and more particularly to a structure of a perpendicular magnetic recording type information recording medium having a backing layer made of a soft magnetic film.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、面内磁気記録方式の情報記録
媒体が提案されている。この面内磁気記録方式の情報記
録媒体は、基板上に少なくとも非磁性下地層,面内磁化
記録磁性膜層,保護膜の順で形成されており、特開平1
0−198957号公報には、非磁性下地層に低融点金
属材料を用い、その表面に凹凸を形成したものが提案さ
れている。また、近年高密度化の要求に対応するため、
ディスクの線記録密度(トラック方向の密度)を高めた
垂直磁気記録方式の情報記録媒体が提案されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, an in-plane magnetic recording type information recording medium has been proposed. This information recording medium of the in-plane magnetic recording system has at least a nonmagnetic underlayer, an in-plane magnetization recording magnetic film layer, and a protective film formed on a substrate in this order.
Japanese Patent Laid-Open No. 0-198995 proposes a non-magnetic underlayer made of a low-melting metal material and having irregularities formed on its surface. In addition, in order to meet the demand for higher density in recent years,
A perpendicular magnetic recording type information recording medium has been proposed in which the linear recording density (density in the track direction) of a disk is increased.

【0003】この垂直磁気記録方式では、垂直磁気異方
性を有する磁性膜(たとえばTbFeCo)に情報を記
録するが、その媒体構成は、基板上に少なくとも、非磁
性中間層,垂直磁化記録磁性膜,保護膜が、この順に形
成されたものであり、非磁性中間層としては、たとえ
ば、比較的Crの多い非磁性CoCr膜,非磁性のTi
系合金膜などが用いられている。また、Pt層(または
Pd層)およびCo層からなる積層垂直磁化記録膜の下
地層として、貴金属(Pt等)と、酸化物(SiO
2等)あるいは窒化物(AlN等)との複合材料からな
る層を形成した磁気記録媒体が提案されている(特開2
001−155329号公報,特開2001−2912
30号公報)。また、下地層として、炭素を含有する界
面層を設けたものも提案されている(特開昭63−21
1117号公報)。
In this perpendicular magnetic recording system, information is recorded on a magnetic film (for example, TbFeCo) having perpendicular magnetic anisotropy. The medium structure is such that at least a nonmagnetic intermediate layer and a perpendicular magnetization recording magnetic film are formed on a substrate. , The protective film is formed in this order, and the non-magnetic intermediate layer includes, for example, a non-magnetic CoCr film containing a relatively large amount of Cr, a non-magnetic Ti film.
A system alloy film or the like is used. Further, as a base layer of a laminated perpendicular magnetization recording film composed of a Pt layer (or Pd layer) and a Co layer, a noble metal (Pt or the like) and an oxide (SiO 2
2 etc.) or a magnetic recording medium having a layer formed of a composite material with a nitride (AlN etc.) has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 2-216058).
001-155329, JP 2001-2912 A
30 publication). Further, a base layer provided with an interface layer containing carbon has also been proposed (JP-A-63-21).
1117).

【0004】さらに、垂直磁気記録方式では、磁性膜に
高密度かつ高効率で情報を記録再生するために、基板と
磁性膜との間に、裏打ち層としての軟磁性膜を設けたも
のが提案されている。図10に、従来の磁気情報記録媒
体の一例の構成図を示す。従来の媒体は、基板1上に裏
打ち層2,非磁性下地層3,記録層4,保護層5を形成
した構成を有する。裏打ち層2には、保持力の小さな磁
性材料が用いられ、面内磁気異方性を有する膜として形
成されるが、これは、磁気ヘッドと裏打ち層2との間に
生ずる磁気的な相互作用により大きな磁界を得て、磁性
膜(記録層4)に垂直磁気記録をするものである。たと
えば、裏打ち膜2としては、FeNi系合金膜,CoZ
r系合金膜(CoZrNb),金属間化合膜(FeTa
C)などが用いられている。図10に、その他の層の代
表的な材料及び膜厚を示している。ここで、裏打ち層2
と記録層の距離に等しい非磁性下地層3の厚さは数十n
m以上である。この非磁性下地層3は、図11に示すよ
うにその表面に凹凸形状の粒子を有しているが、その粒
子の平均粒径は50nm程度以上となっており、高解能
化のためには、この粒径を小さくする必要がある。
Further, in the perpendicular magnetic recording system, it is proposed to provide a soft magnetic film as a backing layer between the substrate and the magnetic film in order to record and reproduce information on the magnetic film with high density and high efficiency. Has been done. FIG. 10 shows a block diagram of an example of a conventional magnetic information recording medium. The conventional medium has a structure in which a backing layer 2, a nonmagnetic underlayer 3, a recording layer 4, and a protective layer 5 are formed on a substrate 1. A magnetic material having a small coercive force is used for the backing layer 2 and is formed as a film having in-plane magnetic anisotropy. This is a magnetic interaction generated between the magnetic head and the backing layer 2. To obtain a larger magnetic field for perpendicular magnetic recording on the magnetic film (recording layer 4). For example, as the backing film 2, a FeNi-based alloy film, CoZ
r-based alloy film (CoZrNb), intermetallic compound film (FeTa
C) and the like are used. FIG. 10 shows typical materials and film thicknesses of other layers. Where the backing layer 2
And the thickness of the non-magnetic underlayer 3 equal to the distance between the recording layer and the recording layer are several tens of n
It is m or more. As shown in FIG. 11, the non-magnetic underlayer 3 has irregular particles on the surface thereof, and the average particle diameter of the particles is about 50 nm or more. Need to reduce this particle size.

【0005】また、特開2001−312815号公報
には、基板1と記録層4(垂直磁性膜)との間に、少な
くとも裏打ち層2としての軟磁性膜と、下地膜を形成し
た磁気記録媒体が提案されている。下地膜は、その上に
積層される垂直磁性膜の結晶を微細化し、ノイズ特性を
向上するためのものであり、CoZrC系の材料を用い
て形成される。また、この下地膜の上に、さらに非磁性
下地層(Ti,Zr等)あるいは非磁性中間層(Co/
Cr系合金等)を形成するものも提案されている。さら
に、垂直磁性膜等の結晶を微細化して媒体のノイズ特性
を向上させるための核発生源を増加させるために、ガラ
ス基板の上に直接カーボン下地膜とCoZr系下地膜と
を形成した媒体も提案されている。
Further, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-312815, a magnetic recording medium in which at least a soft magnetic film as a backing layer 2 and a base film are formed between a substrate 1 and a recording layer 4 (perpendicular magnetic film). Is proposed. The underlayer film is for improving the noise characteristics by refining the crystals of the perpendicular magnetic film laminated thereon, and is formed using a CoZrC-based material. In addition, a nonmagnetic underlayer (Ti, Zr, etc.) or a nonmagnetic intermediate layer (Co /
Those which form Cr-based alloys) have also been proposed. Further, a medium in which a carbon underlayer and a CoZr-based underlayer are directly formed on a glass substrate in order to increase nucleation sources for improving the noise characteristics of the medium by miniaturizing crystals such as a perpendicular magnetic film is also available. Proposed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、軟磁性膜
は、これと磁気ヘッドとの間に生ずる磁気的な相互作用
により大きな磁界を得ようとするものであるので、軟磁
性膜と磁気ヘッド,軟磁性膜と垂直磁化記録磁性膜との
距離は、どちらもできるだけ近い方がよい。たとえば、
軟磁性膜と垂直磁化記録磁性膜との距離が100nm程
度離れていると、正常に記録することができず、また情
報の再生も困難である。しかし、面内磁気記録方式の情
報記録媒体では、非磁性下地層は、一般に数十nm以上
の膜厚を有し、かなり厚い。したがって、この面内磁気
記録方式の非磁性下地層をそのまま垂直磁気記録方式の
情報記録媒体に適用しても、その膜厚が厚すぎるために
高密度かつ高効率の情報記録をすることができない。
The soft magnetic film is intended to obtain a large magnetic field due to the magnetic interaction between the soft magnetic film and the magnetic head. The distance between the soft magnetic film and the perpendicular magnetization recording magnetic film is preferably as short as possible. For example,
If the distance between the soft magnetic film and the perpendicular magnetization recording magnetic film is about 100 nm, normal recording cannot be performed and information reproduction is difficult. However, in an in-plane magnetic recording type information recording medium, the nonmagnetic underlayer generally has a film thickness of several tens of nm or more, and is quite thick. Therefore, even if this non-magnetic underlayer of the in-plane magnetic recording system is directly applied to the information recording medium of the perpendicular magnetic recording system, since the film thickness is too thick, it is impossible to record information with high density and high efficiency. .

【0007】また、この非磁性下地層(凹凸形成層)に
微細な凹凸を形成するために、特開平10−19895
7号公報では、凹凸形成層の膜厚を2nm〜20nmと
しているが、凹凸形成層以外に下地層があることや表面
粗さが小さくなるので、この層を含む下地層全体の膜厚
をこれ以上薄くすることは困難である。すなわち、記録
分解能を向上させるためには、凹凸の粒径を小さくする
必要があるが、従来のような下地層を基板上に形成する
だけでは、下地層の膜厚を薄くしてかつその表面にでき
る凹凸形状の粒径を小さくすることは困難である。
Further, in order to form fine unevenness on the non-magnetic underlayer (unevenness forming layer), Japanese Patent Laid-Open No. 10-19895
In the publication 7, the thickness of the unevenness forming layer is set to 2 nm to 20 nm, but since there is an underlayer other than the unevenness forming layer and the surface roughness is small, the thickness of the entire underlayer including this layer is It is difficult to reduce the thickness. That is, in order to improve the recording resolution, it is necessary to reduce the grain size of the unevenness, but just by forming a conventional underlayer on the substrate, it is possible to reduce the thickness of the underlayer and reduce its surface. It is difficult to reduce the grain size of the uneven shape that can be obtained.

【0008】また、面内磁気記録方式の情報記録媒体に
は、基板と非磁性下地層との間に、軟磁性膜からなる裏
打ち層が形成されたものはない。さらに、垂直磁気記録
方式の情報記録媒体では、図10に示すように、基板上
に裏打ち層2と非磁性下地層3とが形成されたものが提
案されているが、いずれも、非磁性下地層3の膜厚は数
十nm以上であり、裏打ち層2と記録層4との距離は数
十nm〜数百nm程度となり、裏打ち層を設けた媒体に
おいて高密度化を図るという効果を得ることは困難であ
る。
Further, there is no information recording medium of in-plane magnetic recording type in which a backing layer made of a soft magnetic film is formed between a substrate and a non-magnetic underlayer. Further, as an information recording medium of the perpendicular magnetic recording system, as shown in FIG. 10, a backing layer 2 and a non-magnetic underlayer 3 are formed on a substrate, which are both under non-magnetic layer. The ground layer 3 has a film thickness of several tens of nm or more, and the distance between the backing layer 2 and the recording layer 4 is about several tens of nm to several hundreds of nm, and an effect of achieving high density in a medium provided with the backing layer is obtained. Is difficult.

【0009】また、特開2001−312815号公報
に記載された媒体では、軟磁性膜(裏打ち層)と垂直磁
性層との間に形成される層(下地膜などからなる多層
膜)のトータルの膜厚は数十nm以上と厚くなるので、
前記したのと同様に、裏打ち層と垂直磁性層との距離が
離れすぎているので、裏打ち層を設けた効果が十分に得
られない。また、ガラスなどの基板上に直接カーボン下
地膜等を形成した構成は、核発生源を増加させるために
は有効であったが、基板上に裏打ち層(軟磁性膜)を形
成したものでは、裏打ち層の上にカーボン下地膜を形成
しても核発生源の増加の効果は少なく、特に裏打ち層の
上に誘電体層のような層を介在しないでカーボン下地層
を形成した場合、ノイズ特性の向上に寄与する核発生源
の形成は困難である。
Further, in the medium disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-312815, the total layer (multilayer film including an underlayer film) formed between the soft magnetic film (backing layer) and the perpendicular magnetic layer is formed. Since the film thickness increases to several tens of nm or more,
Similarly to the above, since the distance between the backing layer and the perpendicular magnetic layer is too large, the effect of providing the backing layer cannot be sufficiently obtained. Further, the structure in which the carbon underlayer or the like is directly formed on the substrate such as glass was effective for increasing the number of nucleation sources, but in the case where the backing layer (soft magnetic film) is formed on the substrate, Even if a carbon underlayer is formed on the backing layer, the effect of increasing nucleation sources is small, and especially when the carbon underlayer is formed on the backing layer without interposing a layer such as a dielectric layer, noise characteristics It is difficult to form a nuclear source that contributes to the improvement of

【0010】この発明は、以上のような事情を考慮して
なされたものであり、裏打ち層を備えた垂直磁気記録方
式の情報記録媒体において、裏打ち層の上に少なくとも
誘電体薄膜からなる非磁性中間層を備えることにより、
記録分解能の向上と、SNRの向上を図ることを課題と
する。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and in a perpendicular magnetic recording type information recording medium having a backing layer, a non-magnetic layer formed of at least a dielectric thin film on the backing layer. By providing the intermediate layer,
An object is to improve recording resolution and SNR.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この発明は、面内方向に
磁化容易軸を有する裏打ち層と、表面に微細な凹凸形状
が形成された非磁性中間層と、垂直方向に磁化容易軸を
有し情報を記録する記録磁性層とがこの順に形成され、
非磁性中間層が、少なくとも前記裏打ち層に近い方から
順に、誘電体膜層,微細凹凸形状の粒子を形成するため
の凝集層,前記凝集層の粒子の高さを高めるための凹凸
エンハンス層からなることを特徴とする情報記録媒体を
提供するものである。この発明によれば、誘電体膜層等
を含む非磁性中間層を備えているので、裏打ち層と記録
層との距離を近づけ、記録層の下に形成される層の表面
に微細な凹凸形状の粒子を形成することができ、記録分
解能の向上と、SNRの向上を図ることができる。
The present invention has a backing layer having an easy axis of magnetization in the in-plane direction, a non-magnetic intermediate layer having fine irregularities formed on the surface, and an easy axis of magnetization in the vertical direction. A recording magnetic layer for recording information is formed in this order,
The non-magnetic intermediate layer is, in order from at least the side closer to the backing layer, a dielectric film layer, an agglomerating layer for forming fine irregularity-shaped particles, and an unevenness enhancing layer for increasing the height of the particles in the aggregating layer The present invention provides an information recording medium characterized by the following. According to this invention, since the non-magnetic intermediate layer including the dielectric film layer and the like is provided, the backing layer and the recording layer are made closer to each other, and the fine irregularities are formed on the surface of the layer formed below the recording layer. Particles can be formed, and the recording resolution and the SNR can be improved.

【0012】ここで、記録分解能の向上のためには、前
記凝集層の表面張力が、前記誘電体層の表面張力よりも
大きい材料を用いることが好ましい。また、前記凝集層
は、金属膜または合金膜からなる薄膜を用いることがで
きる。さらに、前記凹凸エンハンス層は、他の層の材料
よりも原子半径の小さい元素を含む材料で形成されるよ
うにしてもよい。また、前記誘電体膜層と凝集層との間
に、前記凝集層に形成される粒子の基点となる核を形成
するための基点形成層を、さらに備えてもよい。
Here, in order to improve the recording resolution, it is preferable to use a material in which the surface tension of the aggregation layer is larger than the surface tension of the dielectric layer. Further, the aggregation layer may be a thin film made of a metal film or an alloy film. Furthermore, the unevenness enhancement layer may be formed of a material containing an element having an atomic radius smaller than that of the material of the other layers. Further, a base point forming layer for forming a core serving as a base point of particles formed in the aggregation layer may be further provided between the dielectric film layer and the aggregation layer.

【0013】さらに、この発明は、基板上に、裏打ち
層,非磁性中間層,垂直磁化記録磁性層をこの順に形成
する情報記録媒体の形成方法であって、裏打ち層は、軟
磁性材料をコスパッタリングすることにより形成され、
非磁性中間層は、非磁性材料と反応性ガスとのスパッタ
リングにより誘電体層を製膜し、所定の加熱処理をした
後、その上に金属または合金材料をスパッタリングによ
り凝集層を製膜し、その上に金属よりも原子半径の小さ
い元素をスパッタリングすることにより凹凸エンハンス
層を製膜することにより形成されることを特徴とする情
報記録媒体の形成方法を提供するものである。また、前
記加熱処理と、凝集層製膜工程との間に基点形成層を製
膜する工程を導入してもよい。
Furthermore, the present invention is a method for forming an information recording medium, in which a backing layer, a non-magnetic intermediate layer, and a perpendicular magnetization recording magnetic layer are formed in this order on a substrate, and the backing layer is made of a soft magnetic material. Formed by sputtering,
The non-magnetic intermediate layer is formed by sputtering a non-magnetic material and a reactive gas to form a dielectric layer, and after a predetermined heat treatment, a metal or alloy material is sputtered thereon to form an agglomeration layer, The present invention provides a method for forming an information recording medium, which is formed by forming an unevenness enhancing layer by sputtering an element having an atomic radius smaller than that of a metal thereon. Further, a step of forming a base point forming layer may be introduced between the heat treatment and the aggregation layer forming step.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、図面に示す実施の形態に基
づいてこの発明を詳述する。なお、これによってこの発
明が限定されるものではない。 <実施例1>図1に、この発明の実施例1の情報記録媒
体の構成図を示す。実施例1の媒体は、基板1上に、裏
打ち層2,誘電体層30,凝集層32,凹凸エンハンス
層33,記録層4,保護層5を、この順に形成したもの
である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below based on the embodiments shown in the drawings. The present invention is not limited to this. <Embodiment 1> FIG. 1 is a block diagram of an information recording medium according to Embodiment 1 of the present invention. The medium of Example 1 has a backing layer 2, a dielectric layer 30, an aggregating layer 32, an unevenness enhancing layer 33, a recording layer 4 and a protective layer 5 formed in this order on a substrate 1.

【0015】ここで、誘電体層30,凝集層32,凹凸
エンハンス層33の部分が非磁性中間層3に相当し、微
細な凹凸形状の粒子を多数有し、記録層4の記録分解能
およびSNRを向上させるために設けられたものであ
り、この発明を特徴づける構成である。また、この非磁
性中間層3の部分の膜厚は3nm程度以下とすることに
より、裏打ち層と記録層との距離、および裏打ち層と記
録ヘッドとの距離を近づけることができるので、記録磁
界の磁界分布が急峻となり、記録分解能の向上ととも
に、SNRの向上を図ることができる。
Here, the portions of the dielectric layer 30, the aggregation layer 32, and the unevenness enhancing layer 33 correspond to the non-magnetic intermediate layer 3, which has a large number of fine uneven particles, and the recording resolution and SNR of the recording layer 4. The present invention is provided for the purpose of improving the above, and is a feature that characterizes the present invention. By setting the thickness of the non-magnetic intermediate layer 3 to about 3 nm or less, the distance between the backing layer and the recording layer and the distance between the backing layer and the recording head can be reduced, so that the recording magnetic field is reduced. The magnetic field distribution becomes steep, and the recording resolution and SNR can be improved.

【0016】〔実施例1の媒体の構成〕図3に、この発
明の実施例1の媒体の代表的な材料と膜厚を示す。 〔基板1〕基板1には、ガラス基板の他、Si基板また
はAl合金基板などを用いることができる。また、従来
の媒体と同程度の厚さ0.635mm程度のものを用い
ればよい。
[Structure of Medium of First Embodiment] FIG. 3 shows typical materials and film thicknesses of the medium of the first embodiment of the present invention. [Substrate 1] As the substrate 1, a Si substrate, an Al alloy substrate, or the like can be used in addition to the glass substrate. Further, a medium having a thickness of about 0.635 mm, which is similar to that of a conventional medium, may be used.

【0017】〔裏打ち層2〕裏打ち層2は、面内方向に
磁化容易軸を有する軟磁性膜を用いる。その材料として
は、Fe,Co,Niなどの金属を主成分とする材料、
たとえばFeC,FeNi,CoZrNbを用いること
ができる。また、裏打ち層2の膜厚は、有効な磁気的な
相互作用を得るために、300nm程度とする必要があ
る。
[Backing Layer 2] As the backing layer 2, a soft magnetic film having an easy axis of magnetization in the in-plane direction is used. As the material, a material containing a metal such as Fe, Co, or Ni as a main component,
For example, FeC, FeNi, CoZrNb can be used. Further, the thickness of the backing layer 2 needs to be about 300 nm in order to obtain effective magnetic interaction.

【0018】〔誘電体層30〕誘電体層30は、非磁性
中間層3のうち、最も基板に近く、裏打ち層2の上に形
成されるものであり、この上に形成される微細凹凸形状
をできるだけ小さなものとするために必要な層である。
裏打ち層2と凝集層32との間には、凝集層32の表面
張力よりも小さな表面張力を持つ薄膜を形成すれば、こ
の薄膜と凝集層32との表面張力の差により、凝集層3
2には微細な凹凸形状の島状粒子が形成できる。
[Dielectric Layer 30] The dielectric layer 30 is formed on the backing layer 2 closest to the substrate in the non-magnetic intermediate layer 3, and has a fine uneven shape formed thereon. Is a layer necessary to make as small as possible.
If a thin film having a surface tension smaller than the surface tension of the aggregating layer 32 is formed between the backing layer 2 and the aggregating layer 32, the aggregating layer 3 is formed due to the difference in surface tension between the thin film and the aggregating layer 32.
In 2, fine island-shaped particles having an uneven shape can be formed.

【0019】このように比較的表面張力の小さな薄膜を
裏打ち層の上に形成すれば、情報記録媒体の記録分解能
の向上を達成できるが、具体的には、この薄膜としては
誘電体材料からなる膜を利用する。誘電体膜30として
は、その表面張力が300mN/m程度である膜を用い
ることができ、たとえば、SiOx,SiNx,ZnO
x,AlOx,AlNxなどの酸化物や窒化物を用いる
ことができる。
By forming a thin film having a relatively small surface tension on the backing layer as described above, it is possible to improve the recording resolution of the information recording medium. Specifically, this thin film is made of a dielectric material. Use a membrane. As the dielectric film 30, a film having a surface tension of about 300 mN / m can be used. For example, SiOx, SiNx, ZnO.
An oxide or nitride such as x, AlOx, or AlNx can be used.

【0020】このような誘電体膜30は、その膜厚が
0.5nm程度で、かなり平滑な表面を持つ薄膜として
形成できる。なお、裏打ち層2(FeCなど)の表面張
力は、2000〜3000mN/m程度であり、後述す
る凝集層32の表面張力は1000〜2000mN/m
程度である。
The dielectric film 30 as described above has a film thickness of about 0.5 nm and can be formed as a thin film having a considerably smooth surface. The surface tension of the backing layer 2 (FeC or the like) is about 2000 to 3000 mN / m, and the surface tension of the aggregation layer 32 described later is 1000 to 2000 mN / m.
It is a degree.

【0021】また、後述するようにこの誘電体層30の
有無により、記録分解能(D50)とSNRに大きな差
異を生じ、誘電体層30の存在は記録分解能およびSN
Rの向上に寄与するものである。さらに、このような比
較的表面張力の小さい層を裏打ち層の上に形成している
ので、この上に形成する凝集層32に用いる材料の選択
の余地を増加させることができる。
As will be described later, the presence or absence of this dielectric layer 30 causes a large difference in recording resolution (D50) and SNR, and the presence of the dielectric layer 30 determines the recording resolution and SN.
It contributes to the improvement of R. Furthermore, since such a layer having a relatively small surface tension is formed on the backing layer, there is more room for selection of the material used for the aggregation layer 32 formed thereon.

【0022】〔凝集層32〕凝集層32は、微細な凹凸
形状の粒子からなる層であり、この層の粒子の粒径が小
さいほど、記録分解能を向上させることができる。凝集
層32としては、Agの他、Al,Pt,Pd,Auま
たはCuなどの金属、これらの金属を主成分とする合金
(FePt,CoPt,WAgなど)を用いることがで
きる。膜厚は0.5nm程度とする。また、凝集層32
は、表面にできる凹凸粒子の粒径をできるだけ小さくす
るために、融点の低い金属または合金材料を用いること
が好ましい。
[Aggregating Layer 32] The aggregating layer 32 is a layer composed of fine irregular-shaped particles, and the smaller the particle size of the particles in this layer, the higher the recording resolution can be improved. As the aggregation layer 32, a metal such as Al, Pt, Pd, Au, or Cu in addition to Ag, or an alloy containing these metals as a main component (FePt, CoPt, WAg, or the like) can be used. The film thickness is about 0.5 nm. In addition, the aggregation layer 32
It is preferable to use a metal or alloy material having a low melting point in order to minimize the particle size of the uneven particles formed on the surface.

【0023】低融点材料は、一般的に比較的低温で表面
拡散しやすいので、低温でも凝集しやすく、小さな粒径
を持つ微細な凹凸形状を形成することができるからであ
る。したがって、融点が高い金属、たとえば表面拡散開
始温度が822℃と高いタングステンWよりも、融点の
低い銀Ag(表面拡散開始温度97℃)の方が好まし
い。
This is because the low-melting-point material generally easily diffuses on the surface at a relatively low temperature, and thus easily aggregates even at a low temperature to form a fine uneven shape having a small grain size. Therefore, silver having a low melting point (surface diffusion starting temperature of 97 ° C.) is preferable to metal having a high melting point, for example, tungsten W having a high surface diffusion starting temperature of 822 ° C.

【0024】特に、一般的な磁気記録媒体の製膜プロセ
スでは、加熱温度は250℃以下であるので、凝集層3
2を形成するときの拡散温度は高々300℃以下とする
必要があり、この点からも低融点材料を用いることが望
まれる。
In particular, in the film forming process of a general magnetic recording medium, the heating temperature is 250 ° C. or lower, so that the aggregation layer 3
The diffusion temperature when forming 2 is required to be 300 ° C. or lower at most, and from this point as well, it is desirable to use a low melting point material.

【0025】〔凹凸エンハンス層33〕凹凸エンハンス
層33は、凝集層32に形成された表面の凹凸形状の高
さをより高くする(エンハンスする)ための層であり、
この凹凸エンハンス層33を形成することにより、各凹
凸形状の頂上付近の粒径をより小さくすることができ、
より記憶分解能の向上を図ることができる。凹凸エンハ
ンス層33の材料としては、凝集層32に用いる金属よ
りも、原子半径の小さい元素を含む材料を用いることが
できる。たとえば、凹凸エンハンス層33は、C,Bま
たはPからなる層、もしくはこれらの元素を含む化合物
(SiCなど)からなる層として形成すればよい。ま
た、凹凸エンハンス層33の膜厚は1nm程度とする。
[Concavo-convex enhancement layer 33] The concavo-convex enhance layer 33 is a layer for increasing (enhancing) the height of the concavo-convex shape of the surface formed on the aggregation layer 32,
By forming the unevenness enhancing layer 33, it is possible to further reduce the particle size near the top of each unevenness,
The storage resolution can be further improved. As a material for the unevenness enhancement layer 33, a material containing an element having an atomic radius smaller than that of the metal used for the aggregation layer 32 can be used. For example, the unevenness enhancement layer 33 may be formed as a layer made of C, B, or P, or a layer made of a compound containing these elements (SiC or the like). The thickness of the unevenness enhancement layer 33 is about 1 nm.

【0026】以上の誘電体層30,凝集層32,凹凸エ
ンハンス層33の3つの層で非磁性中間層3が構成され
るが、これらの3つの層の膜厚の合計は2nm程度であ
り、裏打ち層2と記録層4との距離をかなり近づけるこ
とができるので、この点からも記録分解能とSNRの向
上を図ることができる。
The above non-magnetic intermediate layer 3 is composed of the three layers of the dielectric layer 30, the aggregation layer 32, and the unevenness enhancement layer 33. The total thickness of these three layers is about 2 nm. Since the distance between the backing layer 2 and the recording layer 4 can be made considerably short, the recording resolution and the SNR can be improved also from this point.

【0027】〔記録層4〕記録層4は、垂直方向に磁化
容易軸を有し、情報を記録する層であるが、この層は従
来と同様な材料(TbFeCo膜、Pd/Co多層膜,
FePt膜,CoCrPt系合金膜など)を用いること
ができる。この層4の膜厚は13nm程度とすればよ
い。
[Recording Layer 4] The recording layer 4 has a magnetization easy axis in the perpendicular direction and records information. This layer is made of the same material (TbFeCo film, Pd / Co multilayer film) as conventional materials.
FePt film, CoCrPt-based alloy film, etc.) can be used. The film thickness of this layer 4 may be about 13 nm.

【0028】〔保護層5〕保護層5は、記録層4にきず
等がつくのを防止するための層であり、たとえばSiN
膜,SiNとCとの多層膜,C膜,Y−SiO2膜,A
lN膜などを用いることができる。その膜厚は、1nm
〜3nm程度とする。図3には、SiN膜(2nm)と
C膜(1nm)からなる多層膜を示している。
[Protective Layer 5] The protective layer 5 is a layer for preventing the recording layer 4 from being scratched, and is made of, for example, SiN.
Film, multilayer film of SiN and C, C film, Y-SiO 2 film, A
An IN film or the like can be used. The film thickness is 1 nm
Approximately 3 nm. FIG. 3 shows a multilayer film including a SiN film (2 nm) and a C film (1 nm).

【0029】〔媒体の断面構造〕図4に、この発明の実
施例1の媒体の概略断面図を示す。図4は、凝集層32
等の凹凸形状のようすを表すために、凹凸エンハンス層
33までの部分を示している。同図に示すように、誘電
体層30の表面はほとんど平らであるが、凝集層32は
微細な粒子から形成されており、その上に、この微細な
粒子の凹凸形状の高さを増すように凹凸エンハンス層3
3が形成される。この凹凸エンハンス層33の凹凸形状
の上に記録層4が形成されると、1つ1つの凹凸形状を
磁化の記録単位とすることができる。この凹凸の単位形
状は従来の媒体の中間層の表面にできる凹凸(図21参
照)よりもはるかに小さいので、従来よりも記録分解能
を高くすることができる。
[Cross-Sectional Structure of Medium] FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a medium according to Example 1 of the present invention. FIG. 4 shows the aggregation layer 32.
The portions up to the unevenness enhancement layer 33 are shown in order to show the appearance of the unevenness such as. As shown in the figure, the surface of the dielectric layer 30 is almost flat, but the agglomeration layer 32 is formed of fine particles, and the height of the uneven shape of the fine particles is increased on the aggregation layer 32. Concavo-convex enhancement layer 3
3 is formed. When the recording layer 4 is formed on the uneven shape of the uneven enhancement layer 33, each uneven shape can be used as a recording unit of magnetization. Since the unit shape of the unevenness is much smaller than the unevenness formed on the surface of the intermediate layer of the conventional medium (see FIG. 21), the recording resolution can be made higher than the conventional one.

【0030】〔媒体の製造方法〕次に、この発明の実施
例1の媒体の製造方法について説明する。製造装置とし
ては、従来のものとほぼ同じものを用いることができ、
たとえば、DCマグネトロンスパッタ装置を用いること
ができる。各層の製膜は、この装置を所定の真空度に設
定し、製膜する材料のターゲットと基板とを装置内に入
れ、基板を自公転させながら、原則として室温程度で反
応ガスを流入させながらスパッタリングすることにより
行った。
[Medium Manufacturing Method] Next, a medium manufacturing method according to the first embodiment of the present invention will be described. As the manufacturing device, almost the same as the conventional one can be used,
For example, a DC magnetron sputtering device can be used. For the film formation of each layer, this device is set to a predetermined vacuum degree, the target of the material to be formed and the substrate are put in the device, and while the substrate is revolving, the reaction gas is allowed to flow at room temperature in principle. It was performed by sputtering.

【0031】(1)裏打ち層2の形成 まず、初めに、基板上に裏打ち層2となる軟磁性膜を製
膜する。たとえば、軟磁性膜であるFeC膜は、Feタ
ーゲットとCターゲットを別々にスパッタ装置内に配置
し、同時にコスパッタすることにより基板上に製膜す
る。製膜条件としては、スパッタガスArのガス圧0.
16Pa,Fe投入電力370W,C投入電力330
W,スパッタレート19.3nm/分とする。これによ
り、厚さ300nm程度のFeC膜が製膜される。
(1) Formation of Backing Layer 2 First, a soft magnetic film to be the backing layer 2 is formed on a substrate. For example, a FeC film which is a soft magnetic film is formed on a substrate by separately arranging an Fe target and a C target in a sputtering apparatus and simultaneously performing co-sputtering. As the film forming conditions, the gas pressure of the sputtering gas Ar is 0.
16 Pa, Fe input power 370 W, C input power 330
W, sputter rate 19.3 nm / min. As a result, a FeC film having a thickness of about 300 nm is formed.

【0032】(2)誘電体層30の形成 次に、軟磁性膜2の上に、誘電体層30を製膜する。た
とえば、SiN膜の場合、ターゲットとしてSi,スパ
ッタガスとしてArガスとN2ガスを用い、スパッタレ
ート14nm/分,ガス圧0.32Pa,ArとN2
流量比=2:1,投入電力500Wという条件でスパッ
タリングにより製膜する。これにより、厚さ0.5nm
程度のSiN膜が製膜される。
(2) Formation of Dielectric Layer 30 Next, the dielectric layer 30 is formed on the soft magnetic film 2. For example, in the case of a SiN film, Si is used as a target, Ar gas and N 2 gas are used as a sputtering gas, the sputtering rate is 14 nm / min, the gas pressure is 0.32 Pa, the flow rate ratio of Ar and N 2 is 2: 1, and the input power is 500 W. A film is formed by sputtering under the following conditions. This gives a thickness of 0.5 nm
A SiN film of about a certain degree is formed.

【0033】また、AlN膜の場合、ターゲットとして
Al,スパッタガスとしてArガスとN2ガスを用い、
他の条件はSiN膜と同様にしてスパッタリングを行
う。また、SiOx膜の場合、Siターゲット,Arガ
スとO2ガスを用いて、ArとO2の流量比=2:1とし
てスパッタリングを行う。ここで、酸素含有量を変化さ
せる場合は、流量比を変化すればよい。
In the case of an AlN film, Al is used as a target, Ar gas and N 2 gas are used as a sputtering gas,
Other conditions are the same as for the SiN film, and sputtering is performed. Further, in the case of a SiOx film, sputtering is performed using a Si target, Ar gas and O 2 gas at a flow rate ratio of Ar and O 2 of 2: 1. Here, when changing the oxygen content, the flow rate ratio may be changed.

【0034】(3)凝集層32の形成 次に、誘電体層30の上に凝集層32を形成する。ここ
で、誘電体層30を形成した後凝集層32を形成する前
に、凝集を促進するために、媒体を200℃程度に加熱
するとともに、酸素による暴露を行う。その後、たとえ
ば、Agターゲット、Arガスを用い、スパッタレート
7.5nm/分,Arガス圧1.5Pa,投入電力35
Wという条件でスパッタリングを行うと、厚さ0.5n
m程度、高さ0.5nm程度の微細凹凸形状を持つ凝集
層が形成される。
(3) Formation of Aggregation Layer 32 Next, the aggregation layer 32 is formed on the dielectric layer 30. Here, after forming the dielectric layer 30 and before forming the aggregation layer 32, in order to promote aggregation, the medium is heated to about 200 ° C. and exposed to oxygen. After that, for example, using an Ag target and Ar gas, the sputtering rate is 7.5 nm / min, the Ar gas pressure is 1.5 Pa, and the input power is 35.
When sputtering is performed under the condition of W, the thickness is 0.5n
An agglomeration layer having a fine concavo-convex shape with a height of about m and a height of about 0.5 nm is formed.

【0035】(4)凹凸エンハンス層33の形成 次に、凝集層32の上に、凹凸エンハンス層33を形成
する。たとえば、原子半径の比較的小さいCターゲッ
ト,Arガスを用い、スパッタレート5.0nm/分,
Arガス圧0.5Pa,投入電力1000Wという条件
でスパッタリングを行う。これにより、凝集層32の凹
凸形状の高さを増加させるように、炭素Cが積層され、
厚さ1nm程度の凹凸エンハンス層33が形成される。
(4) Formation of Concavo-convex Enhancement Layer 33 Next, the concavo-convex enhancement layer 33 is formed on the aggregation layer 32. For example, using a C target having a relatively small atomic radius and Ar gas, a sputtering rate of 5.0 nm / min,
Sputtering is performed under the conditions of Ar gas pressure of 0.5 Pa and input power of 1000 W. Thereby, carbon C is laminated so as to increase the height of the uneven shape of the aggregation layer 32,
The unevenness enhancing layer 33 having a thickness of about 1 nm is formed.

【0036】(5)記録層4の形成 次に、凹凸エンハンス層33の上に、記録層4を製膜す
る。たとえば、TbFeCoターゲット,Arガスを用
い、スパッタレート30.9nm/分,Arガス圧0.
5Pa,投入電力440Wという条件でスパッタリング
を行う。これにより、厚さ13nm程度のTbFeCo
膜4が製膜される。
(5) Formation of Recording Layer 4 Next, the recording layer 4 is formed on the unevenness enhancing layer 33. For example, using a TbFeCo target and Ar gas, the sputter rate is 30.9 nm / min, the Ar gas pressure is 0.
Sputtering is performed under the conditions of 5 Pa and an input power of 440 W. As a result, TbFeCo having a thickness of about 13 nm is obtained.
The film 4 is formed.

【0037】(6)保護層5の形成 最後に、記録層4の上に、保護層5を製膜する。たとえ
ば、ターゲットとしてSiを用いたスパッタリングによ
り、厚さ2nm程度のSiN膜をまず形成し、その上
に、ターゲットとしてCを用いたスパッタリングによ
り、厚さ1nm程度のC膜を形成する。ここで、スパッ
タガスとしてArガスを用い、スパッタレート5.0n
m/分,Arガス圧0.5Pa,投入電力1000Wと
いう条件で行う。
(6) Formation of Protective Layer 5 Finally, the protective layer 5 is formed on the recording layer 4. For example, a SiN film having a thickness of about 2 nm is first formed by sputtering using Si as a target, and a C film having a thickness of about 1 nm is formed thereon by sputtering using C as a target. Here, Ar gas is used as the sputtering gas, and the sputtering rate is 5.0 n.
m / min, Ar gas pressure 0.5 Pa, input power 1000 W.

【0038】以上(1)〜(6)の工程により、実施例
1の媒体が形成される。ここで、非磁性中間層3の全体
の膜厚は2nm程度であり、裏打ち層2と記録層4との
距離は、従来の媒体のもの(数十nm程度)に比べると
かなり近くできる。裏打ち層2と記録層4との距離が近
いので、より大きな再生信号を得ることができ、また、
裏打ち層2と記録ヘッドとの距離も近くできるので、記
録磁界の磁界分布が急峻となり、再生信号のエッジが乱
れることなく情報の記録ができ、これがSNRの向上に
結びつく。また、図4に示すように、非磁性中間層3の
表面は、微細な凹凸形状とすることができる。実施例1
の媒体は、このような構造を有しているため、後述する
ような記録分解能とSNRの向上を図ることができる。
The medium of Example 1 is formed by the above steps (1) to (6). Here, the total thickness of the non-magnetic intermediate layer 3 is about 2 nm, and the distance between the backing layer 2 and the recording layer 4 can be considerably close to that of the conventional medium (about several tens of nm). Since the distance between the backing layer 2 and the recording layer 4 is short, a larger reproduction signal can be obtained, and
Since the distance between the backing layer 2 and the recording head can be reduced, the magnetic field distribution of the recording magnetic field becomes steep, and information can be recorded without disturbing the edge of the reproduction signal, which leads to an improvement in SNR. Further, as shown in FIG. 4, the surface of the non-magnetic intermediate layer 3 can be made into a fine uneven shape. Example 1
Since the medium (1) has such a structure, it is possible to improve recording resolution and SNR as described later.

【0039】〔実施例1の媒体の記録分解能とSNR〕
次に、この発明の実施例1の媒体についての記録分解能
とSNRについて説明する。図6に、各種情報記録媒体
の特性値の比較図を示す。SNR(Signal to Noise Ra
tio)は、再生信号(S)と媒体ノイズ(N)の比を表
したものである。一般にSNRが大きいほど、媒体ノイ
ズが小さく良好に再生信号を再生できる。ここで、SN
Rの単位dBは、品質を意味し、記録マーク密度に対応
するものである。SNRは、ハードディスクテスターを
用いて測定することができる。
[Recording resolution and SNR of medium of Example 1]
Next, the recording resolution and SNR for the medium of Example 1 of the present invention will be described. FIG. 6 shows a comparison diagram of characteristic values of various information recording media. SNR (Signal to Noise Ra
tio) represents the ratio of the reproduced signal (S) and the medium noise (N). Generally, the larger the SNR, the smaller the medium noise and the better the reproduced signal can be reproduced. Where SN
The unit dB of R means quality and corresponds to the recording mark density. SNR can be measured using a hard disk tester.

【0040】D50は記録分解能を示すパラメータであ
り、この数値が大きいほど分解能が高く、記録密度が高
いことを意味する。D50の単位(kFCI)は、最大
振幅の50%値を意味し、線記録密度に対応するもので
ある。表面粗さRaは、各媒体の所定の層の表面の荒れ
を示すパラメータであり、この数値が大きいほど平らで
はないことを意味する。表面粗さRaはAFM(原子間
力顕微鏡)を用いて測定することができる。図6の実施
例1と実施例2との媒体では、凹凸エンハンス層の表面
における表面粗さを示している。また、比較例7〜12
は、記録層(TFC)を形成する前の表面における表面
粗さを示している。
D50 is a parameter indicating the recording resolution. The larger this value, the higher the resolution and the higher the recording density. The unit (kFCI) of D50 means the 50% value of the maximum amplitude, and corresponds to the linear recording density. The surface roughness Ra is a parameter indicating the roughness of the surface of a predetermined layer of each medium, and the larger this value, the more uneven the surface. The surface roughness Ra can be measured using an AFM (atomic force microscope). In the media of Example 1 and Example 2 of FIG. 6, the surface roughness on the surface of the unevenness enhancement layer is shown. In addition, Comparative Examples 7 to 12
Indicates the surface roughness on the surface before forming the recording layer (TFC).

【0041】凹凸高さ(P−V:Peak to Valley最大高
低差)は、実施例1及び2では、凹凸エンハンス層を形
成した後の表面にできた凹凸形状の粒子の高さを示すパ
ラメータであり、この数値が大きいほど粒子の高さが高
いことを意味する。凹凸高さはAFM(原子間力顕微
鏡)を用いて測定することができる。
The unevenness height (P-V: Peak to Valley maximum height difference) is a parameter indicating the height of uneven particles formed on the surface after forming the unevenness enhancing layer in Examples 1 and 2. Yes, the larger this value, the higher the height of the particles. The uneven height can be measured using an AFM (atomic force microscope).

【0042】平均粒径は、凹凸形状の粒子の頂上付近に
おける平均直径を示しており、この数値が小さいほど粒
子が小さく微細な凹凸形状の粒子が形成されていること
を意味する。平均粒径はAFM(原子間力顕微鏡)を用
いて測定することができる。また、σは、表面の均一
性、すなわち表面にできた凹凸形状のばらつき程度を表
すパラメータであり、この数値が小さいほど、凹凸形状
の粒子の位置にばらつきが少なく均一化されて形成され
ていることを意味する。σはAFM(原子間力顕微鏡)
を用いて測定することができる。また、図6の比較例7
〜12における凹凸高さ(P−V),平均粒径,σは記
録層(TFC)を形成する前の表面の凹凸形状に対する
数値を示している。
The average particle diameter indicates the average diameter of the irregularly shaped particles in the vicinity of the apex, and the smaller this value is, the smaller the particles are and the finer the irregularly shaped particles are formed. The average particle size can be measured using an AFM (atomic force microscope). Further, σ is a parameter that represents the uniformity of the surface, that is, the degree of unevenness of the uneven shape formed on the surface, and the smaller this value, the less uneven the unevenness of the position of the uneven particles, and the more uniform the formed. Means that. σ is AFM (atomic force microscope)
Can be used for measurement. In addition, Comparative Example 7 of FIG.
The uneven heights (P-V), the average particle diameters, and σ in the items 12 to 12 are numerical values for the uneven shape of the surface before forming the recording layer (TFC).

【0043】ここで、媒体の高密度化のためには、記録
分解能D50が大きいこと、信号比SNRが大きいこ
と、表面粗さRaが極度に小さくないこと、凹凸高さ
(P−V)が大きいこと、平均粒径が小さいこと、σが
小さいことが必要である。特に、完成された情報記録媒
体全体としては、記録分解能D50が大きく、SNRも
大きいことが望ましい。なお、これらのパラメータの測
定には、ギャップ長0.08μm,コア幅0.27μm
の読取ヘッドと、ギャップ長0.17μm,コア幅0.
45μmの書込ヘッドを用いた。
Here, in order to increase the density of the medium, the recording resolution D50 is large, the signal ratio SNR is large, the surface roughness Ra is not extremely small, and the unevenness height (PV) is high. It must be large, the average particle size small, and σ small. In particular, it is desirable that the completed information recording medium has a large recording resolution D50 and a large SNR. Note that the gap length was 0.08 μm and the core width was 0.27 μm for the measurement of these parameters.
Read head, gap length 0.17 μm, core width 0.
A 45 μm write head was used.

【0044】図6に示した2つの実施例1の媒体(N
o.1,No.2)は、誘電体層30(SiN)上に、
低融点材料のAgからなる凝集層を形成したものと、高
融点材料のWからなる凝集層を形成したものを示してい
る。比較例7は、裏打ち層を有する従来の媒体を示して
いるが、これと2つの実施例1とを比較すると、実施例
1の記録分解能(D50=387,315),SNR
(=16.39,14.11)は、どちらも比較例7
(D50=289,SNR=13.5)よりも大きく、
改善されていることがわかる。また、2つの実施例1
と、凝集層32はあるが凹凸エンハンス層33のない比
較例9,10とを比較しても、実施例1の媒体の方がD
50,SNRとも改善されていることがわかる。
The two media of Example 1 (N
o. 1, No. 2) is on the dielectric layer 30 (SiN),
The figure shows that the aggregate layer made of Ag, which is a low melting point material, and the aggregate layer made of W, which is a high melting point material, are formed. Comparative Example 7 shows a conventional medium having a backing layer. When comparing this with two Example 1, the recording resolution (D50 = 387, 315) and SNR of Example 1 are compared.
(= 16.39, 14.11) are both Comparative Example 7
Greater than (D50 = 289, SNR = 13.5),
You can see that it has been improved. Also, two examples 1
And Comparative Examples 9 and 10 having the aggregation layer 32 but not the unevenness enhancing layer 33, the medium of Example 1 is
It can be seen that both 50 and SNR are improved.

【0045】このように、この発明の実施例1において
D50およびSNRがともに大きく改善されているの
は、特に、誘電体層30,凝集層32と凹凸エンハンス
層33という各層の存在があるためと考えられる。そこ
で、従来の媒体である比較例7に対して、裏打ち層2の
上に誘電体層30のみを付加した媒体(比較例8)を作
成してみると、図6に示すように、D50,SNRのど
ちらも改善されることがわかった。ここで、NiP膜の
膜厚は5nmとした。
As described above, in Example 1 of the present invention, both the D50 and the SNR are greatly improved because the dielectric layer 30, the aggregation layer 32 and the unevenness enhancing layer 33 are present. Conceivable. Therefore, when a medium (Comparative Example 8) in which only the dielectric layer 30 is added on the backing layer 2 is prepared as compared with Comparative Example 7 which is a conventional medium, as shown in FIG. It has been found that both SNR are improved. Here, the film thickness of the NiP film was set to 5 nm.

【0046】また、比較例7と8のNiP膜の表面にで
きる粒子の平均粒径とσとを比較すると、誘電体膜30
(SiN)のある比較例8の方が平均粒径,σとも小さ
く、NiP膜の表面に微細な凹凸形状が形成されている
ことがわかる。すなわち、誘電体膜30(SiN)が存
在するために、その上方に微細な凹凸形状が形成できた
と言うことができる。これは、誘電体層30の表面張力
が、裏打ち層2および誘電体層の上に形成されたNiP
膜の表面張力よりも小さいことに起因すると考えられ
る。
Further, comparing the average particle size of the particles formed on the surface of the NiP film of Comparative Examples 7 and 8 with σ, the dielectric film 30
In Comparative Example 8 with (SiN), both the average particle size and σ are smaller, and it can be seen that fine irregularities are formed on the surface of the NiP film. That is, it can be said that since the dielectric film 30 (SiN) is present, a fine uneven shape can be formed above it. This is because the surface tension of the dielectric layer 30 is the NiP formed on the backing layer 2 and the dielectric layer.
It is thought that this is due to the fact that it is smaller than the surface tension of the film.

【0047】これは、図7に示した媒体の特性値の比較
を見てもわかる。図7の特性値は、記録膜と保護膜とを
形成する前の表面構造における特性値である。図7のN
o.21とNo.22との比較、No.23とNo.2
4との比較によれば、いずれも誘電体層30を付加した
もの(No.22,No.24)の方が平均粒径,σと
も小さくなっている。なお、図7のNo.23,No.
24は、中間層としてNiPのかわりにCrを形成した
媒体である。
This can be seen by comparing the characteristic values of the media shown in FIG. The characteristic values in FIG. 7 are characteristic values in the surface structure before the recording film and the protective film are formed. N in FIG.
o. 21 and No. 21. No. 22, comparison with No. 22. 23 and No. Two
According to comparison with No. 4, the average grain size and σ of the samples with the dielectric layer 30 added (No. 22, No. 24) are smaller. In addition, No. 1 in FIG. 23, No.
Reference numeral 24 is a medium in which Cr is formed instead of NiP as the intermediate layer.

【0048】図8に、比較例8の媒体について、誘電体
層30(SiN)の膜厚を変えた場合の平均粒径の変化
のグラフを示す。図9に、比較例8の媒体について、誘
電体層30(SiN)の膜厚を変えた場合の表面粗さR
aと、凹凸高さ(P−V)の変化のグラフを示す。図8
によれば、SiNの膜厚が0.4〜1nmでは、平均粒
径がほとんど一定値(45nm程度)となっている。
FIG. 8 is a graph showing changes in the average particle diameter of the medium of Comparative Example 8 when the film thickness of the dielectric layer 30 (SiN) is changed. FIG. 9 shows the surface roughness R of the medium of Comparative Example 8 when the film thickness of the dielectric layer 30 (SiN) was changed.
The graph of a and the change of the uneven | corrugated height (PV) are shown. Figure 8
According to the above, when the film thickness of SiN is 0.4 to 1 nm, the average particle diameter is almost constant (about 45 nm).

【0049】図9によれば、SiNの膜厚が0.5nm
〜1nmでは、表面粗さ(Ra),凹凸高さ(P−V)
のどちらも変化率(減少率)が小さくなっている。した
がって、誘電体層30は、薄すぎると、平均粒径が大き
くなってしまい好ましくなく、また厚すぎるとRaおよ
びP−Vがしだいに小さくなり、どちらの場合も分解能
を向上させることはできなくなるので、図8,図9から
は、誘電体層30は、0.4nmから1nm程度の膜厚
とすることが好ましいと考えられる。
According to FIG. 9, the film thickness of SiN is 0.5 nm.
At ~ 1 nm, surface roughness (Ra), unevenness height (P-V)
In both cases, the rate of change (rate of decrease) is small. Therefore, if the dielectric layer 30 is too thin, the average particle size becomes large, which is not preferable, and if it is too thick, Ra and P-V gradually decrease, and in either case, the resolution cannot be improved. Therefore, it is considered from FIG. 8 and FIG. 9 that the dielectric layer 30 preferably has a film thickness of about 0.4 nm to 1 nm.

【0050】また、図6において、2つの実施例1を比
較すると、低誘電材料(Ag)を用いたもの(No.
1)の方が、高融点材料(W)を用いたもの(NO.
2)よりも、記録分解能D50,SNRともに大きく、
良好な特性を示している。
Further, in FIG. 6, when two Examples 1 are compared, one using a low dielectric material (Ag) (No.
No. 1) uses a high melting point material (W) (NO.
Recording resolution D50 and SNR are both larger than 2),
It shows good characteristics.

【0051】図7においては、No.25の媒体(高融
点材料)が図6のNo.1の実施例1の媒体に相当し、
No.26の媒体(低融点材料)が図6のNo.2の実
施例1の媒体に相当するが、このNo.25とNo.2
6の媒体を比較しても、No.26の媒体の方が表面粗
さRa,凹凸高さ(P−V),平均粒径のいずれも小さ
くなり、凝集層32として低融点材料を用いた方が微細
な凹凸形状を形成する上で有利であると言える。
In FIG. 7, No. The medium of No. 25 (high melting point material) is No. 25 in FIG. 1 corresponds to the medium of Example 1,
No. No. 26 medium (low melting point material) is No. 26 in FIG. 2 corresponds to the medium of Example 1, but this No. 25 and No. Two
No. 6 medium is compared. The surface roughness Ra, the unevenness height (P-V), and the average particle diameter of the medium of No. 26 are all smaller, and the use of the low melting point material as the aggregation layer 32 leads to the formation of fine unevenness. It can be said to be advantageous.

【0052】以上のように、凝集層32としては、低融
点材料が好ましいが、Ag等の金属の他、低融点の合金
を用いることもできる。たとえば、凝集層32の拡散温
度として300℃以下となる合金を選択するとすれば、
FexPt(1−x),CoxPt(1−x):ここでx
>0.8,あるいはWxAg(1−x):ここでx<
0.7を用いることができる。これらの合金を用いて
も、図7の比較例26とほぼ同様に、平均粒径及びσを
小さくすることができ、表面に微細な凹凸形状ができ
る。
As described above, although the low melting point material is preferable for the aggregation layer 32, a low melting point alloy other than a metal such as Ag can be used. For example, if an alloy having a diffusion temperature of the aggregation layer 32 of 300 ° C. or lower is selected,
FexPt (1-x), CoxPt (1-x): where x
> 0.8, or WxAg (1-x): where x <
0.7 can be used. Even if these alloys are used, the average particle diameter and σ can be reduced, and fine irregularities can be formed on the surface, as in Comparative Example 26 in FIG. 7.

【0053】次に凹凸エンハンス層33を形成すること
により、凝集層32の表面にできた微細凹凸形状の高さ
を増加させることができることを説明する。図7の比較
例27〜30は、凝集層32の上に凹凸エンハンス層3
3としてC膜を形成した場合の各特性値を示している。
ここで凝集層32としては、W,AlTiSi,Ag7
0Pd20Cu10,Agを用いている。
Next, it will be explained that by forming the unevenness enhancing layer 33, the height of the fine unevenness formed on the surface of the aggregation layer 32 can be increased. In Comparative Examples 27 to 30 of FIG. 7, the unevenness enhancing layer 3 is formed on the aggregation layer 32.
3 shows the respective characteristic values when the C film is formed.
Here, as the aggregation layer 32, W, AlTiSi, Ag7
0Pd20Cu10, Ag is used.

【0054】この4つの比較例27〜30と、凹凸エン
ハンス層33を形成していない比較例25,26とを比
較すると、比較例27〜30の方が、表面粗さRaと凹
凸高さ(P−V)のどちらも大きくなっている。すなわ
ち、表面粗さRaは0.51〜0.59nm,凹凸高さ
(P−V)は4.0nm程度となっている。また、同じ
凝集層Wを持つ比較例25と27との比較、同じ凝集層
Agを持つ比較例26と30との比較によれば、凹凸エ
ンハンス層33を形成した比較例27,30の方が、平
均粒径がそれぞれ34から24へ、22から17へと小
さくなっており、σがそれぞれ3.6から2.7へ、
3.1から2.5へと小さくなっている。
Comparing the four comparative examples 27 to 30 with the comparative examples 25 and 26 in which the unevenness enhancing layer 33 is not formed, the comparative examples 27 to 30 have the surface roughness Ra and the unevenness height ( Both P-V) are large. That is, the surface roughness Ra is 0.51 to 0.59 nm, and the unevenness height (P-V) is about 4.0 nm. Further, according to the comparison between Comparative Examples 25 and 27 having the same aggregation layer W and the comparison between Comparative Examples 26 and 30 having the same aggregation layer Ag, Comparative Examples 27 and 30 in which the unevenness enhancing layer 33 is formed are more preferable. , The average particle size was reduced from 34 to 24 and 22 to 17, respectively, and σ was changed from 3.6 to 2.7,
It has decreased from 3.1 to 2.5.

【0055】すなわち、凹凸エンハンス層33であるC
膜を形成することにより、平均粒径を小さくし、粒子の
凹凸高さを大きくすることができるので、凝集層32に
形成された微細凹凸形状の構造を維持したままで、その
構造の高さだけを高くできることがわかる。また、平均
粒径が小さくなっていることから、記録分解能を改善す
ることができると言える。これは、凝集層32を形成し
ているAg粒子よりも原子半径の小さな元素である炭素
Cを積層したことに起因すると考えられる。実施例1及
び比較例では凹凸エンハンス層33の材料としてCを用
いているが、この他に前記したような原子半径の小さな
元素BまたはPを用いても、図7に示した各特性値につ
いて同様の傾向が得られた。
That is, C which is the unevenness enhancing layer 33.
By forming the film, the average particle size can be reduced and the height of the unevenness of the particles can be increased. Therefore, the height of the structure can be maintained while maintaining the structure of the fine unevenness formed in the aggregation layer 32. You can see that you can only raise Further, since the average particle size is small, it can be said that the recording resolution can be improved. It is considered that this is because carbon C, which is an element having an atomic radius smaller than that of the Ag particles forming the aggregation layer 32, is laminated. In Example 1 and the comparative example, C is used as the material of the unevenness enhancement layer 33, but even if the element B or P having a small atomic radius as described above is used, the characteristic values shown in FIG. A similar trend was obtained.

【0056】この発明の実施例1の媒体では、非磁性中
間層3を誘電体層30,凝集層32,凹凸エンハンス層
33という3つの層からなる薄い多層膜として形成して
いるので、その上に形成された記録層の記録分解能(D
50)とSNRの向上を図ることができる。
In the medium of Example 1 of the present invention, the non-magnetic intermediate layer 3 is formed as a thin multi-layered film consisting of three layers of the dielectric layer 30, the aggregation layer 32, and the unevenness enhancement layer 33. Of the recording layer (D
50) and SNR can be improved.

【0057】<実施例2>図2に、この発明の実施例2
の情報記録媒体の構成図を示す。ここでは、非磁性中間
層3が4つの多層膜からなり、誘電体層30の上に、基
点形成層31を形成した点が実施例1と異なる。 〔実施例2の媒体の構成〕基点形成層31とは、凝集層
32に形成される凹凸形状の粒子の基点となるべき微小
な核を形成した層である。記録分解能を向上させるため
には、凝集層32に形成される凹凸形状をできるだけ微
細化して均一にしかも多数形成した方がよい。
<Second Embodiment> FIG. 2 shows a second embodiment of the present invention.
3 is a block diagram of the information recording medium of FIG. Here, the non-magnetic intermediate layer 3 is composed of four multilayer films, and the base point forming layer 31 is formed on the dielectric layer 30, which is different from the first embodiment. [Structure of Medium of Example 2] The base point forming layer 31 is a layer in which minute nuclei are formed as base points of uneven particles formed in the aggregation layer 32. In order to improve the recording resolution, it is preferable that the concavo-convex shape formed on the aggregation layer 32 be made as fine as possible and formed uniformly and in large numbers.

【0058】ところで、凝集層32の形成に用いるAg
等の低融点材料は、比較的スパッタレートが速いので、
凹凸形状の周期はそれほど短くなく、必ずしも多数の凹
凸形状の粒子が形成されるとは言えない。したがって、
凝集層32を形成する前に、凹凸形状の粒子が成長する
核となるものを誘電体層30上にできるだけ多数作るこ
とが、記録分解能の向上にとっては好ましい。
By the way, Ag used for forming the aggregation layer 32
Low melting point materials such as
The period of the uneven shape is not so short, and it cannot be said that a large number of uneven particles are formed. Therefore,
Before forming the aggregation layer 32, it is preferable to improve the recording resolution by forming as many nuclei as the nuclei on which the uneven particles grow, on the dielectric layer 30.

【0059】そこで、この観点から、この発明の実施例
2では、スパッタレートが遅く、酸素または窒素と反応
しやすく、酸化物および窒化物よりも表面張力が大きい
薄膜(すなわち基点形成層31)を、誘電体層30の上
に形成し、凝集層32の凹凸粒子の形成のもととなる核
を形成する。基点形成層31を形成するための材料とし
ては、たとえば、Ti,V,Cr,Nb,Ta,Mnな
どを用いることができる。特に、酸素あるいは窒素と反
応しやすい材料としては電気陰性度の小さい材料がよ
く、核を多数形成できるという観点から電気陰性度が
1.8よりも小さい材料が好ましい。前記したTiから
Mnまでの6つの金属はすべて電気陰性度が1.8より
も小さく、表面張力が比較的大きい材料である。
From this point of view, therefore, in Example 2 of the present invention, a thin film (that is, the base point forming layer 31) having a slow sputter rate, being easy to react with oxygen or nitrogen, and having a larger surface tension than oxides and nitrides. , Nuclei that are formed on the dielectric layer 30 and serve as the basis for forming the uneven particles of the aggregation layer 32. As a material for forming the base point forming layer 31, for example, Ti, V, Cr, Nb, Ta, Mn or the like can be used. In particular, as a material that easily reacts with oxygen or nitrogen, a material having a low electronegativity is preferable, and a material having an electronegativity of less than 1.8 is preferable from the viewpoint of forming many nuclei. The above-mentioned six metals from Ti to Mn are all materials having an electronegativity of less than 1.8 and a relatively large surface tension.

【0060】〔基点形成層31の形成方法〕基点形成層
31は、実施例1の形成方法と同様にして、誘電体30
を形成し、基点の凝集を促進するために加熱(200
℃)と酸素による暴露を行った後、その上にスパッタリ
ングをすることにより形成できる。たとえば、Crター
ゲットとArガスを用いて、スパッタレート2.8nm
/分,投入電力40Wの条件でスパッタリングを行え
ば、0.5nm程度の膜厚の基点形成層31(Cr膜)
が形成できる。
[Method of Forming Base Point Forming Layer 31] The base point forming layer 31 is formed by the same method as that of the first embodiment.
To increase the agglomeration of base points,
C.) and oxygen, and then sputtering is performed thereon. For example, using a Cr target and Ar gas, the sputter rate is 2.8 nm.
If the sputtering is carried out under the conditions of / min and an input power of 40 W, the base point forming layer 31 (Cr film) having a film thickness of about 0.5 nm.
Can be formed.

【0061】〔実施例2の媒体の断面構造〕図5に、こ
の発明の実施例2の媒体の概略断面図を示す。これは軟
磁性膜2から凹凸エンハンス層までの概略形状を示した
ものであるが、基点形成層31は、誘電体層30の上に
微細な基点となるべき粒子が形成される。この実施例2
では、このような基点形成層31の上に、実施例1と同
様に、凝集層32,凹凸エンハンス層33,記録層4,
保護層5を形成して媒体が完成される。
[Cross-sectional Structure of Medium of Second Embodiment] FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a medium of a second embodiment of the present invention. This shows a schematic shape from the soft magnetic film 2 to the concave-convex enhance layer. In the base point forming layer 31, fine particles serving as base points are formed on the dielectric layer 30. This Example 2
Then, on the base point forming layer 31, the aggregation layer 32, the unevenness enhancing layer 33, the recording layer 4, and the like as in the first embodiment.
The protective layer 5 is formed to complete the medium.

【0062】図3に、この実施例2の媒体の代表的な材
料と各層の膜厚を示す。この実施例2では、非磁性中間
層3は、4つの層(30〜33)からなり、その膜厚
は、合計2.5nm程度とする。したがって裏打ち層2
と記録層4との距離は2.5nm程度とかなり薄いの
で、裏打ち層の存在による磁気的効果を十分発揮でき、
SNR等の向上を図ることができる。
FIG. 3 shows typical materials of the medium of Example 2 and the film thickness of each layer. In the second embodiment, the non-magnetic intermediate layer 3 is composed of four layers (30 to 33), and the film thickness is about 2.5 nm in total. Therefore the backing layer 2
Since the distance between the recording layer 4 and the recording layer 4 is as thin as about 2.5 nm, the magnetic effect due to the presence of the backing layer can be sufficiently exerted.
It is possible to improve SNR and the like.

【0063】〔実施例2の媒体の記録分解能とSNR〕
図6に、この発明の実施例2の媒体の膜構成と各特性値
を示す。図6のNo.3とNo.5は、凝集層32に低
融点材料Agを用いた例,No.4とNo.6は、凝集
層32に高融点材料Wを用いた例,No.5とNo.6
は、凹凸エンハンス層33にSiCを用いた例を示して
いる。この4つの実施例2は、いずれも、従来の媒体で
ある比較例7と比べると高い記録分解能とSNRを示し
ている。特に、凝集層32に低融点材料を用いた例(N
o.3,No.5)は記録分解能D50の値が410,
408と高く、またSNRも17.63,17.52と
高く、改善効果がいちじるしい。
[Recording resolution and SNR of the medium of Example 2]
FIG. 6 shows the film structure and respective characteristic values of the medium of Example 2 of the present invention. No. 6 in FIG. 3 and No. No. 5 is an example in which the low melting point material Ag is used for the aggregation layer 32, No. 4 and No. No. 6 is an example in which the high melting point material W is used for the aggregation layer 32, No. 5 and No. 6
Shows an example in which SiC is used for the unevenness enhancement layer 33. Each of these four Examples 2 has a higher recording resolution and SNR as compared with Comparative Example 7 which is a conventional medium. In particular, an example using a low melting point material for the aggregation layer 32 (N
o. 3, No. 5) has a recording resolution D50 of 410,
The SNR is as high as 408 and the SNR is as high as 17.63 and 17.52, and the improvement effect is remarkable.

【0064】図7に、基点形成層31としてCr膜を形
成した4つの比較例31〜34を示しているが、基点形
成層31のない比較例27〜30と比べると、表面粗さ
Ra,凹凸高さ(P−V),平均粒径,σのいずれの特
性値とも、小さくなっている。特に、平均粒径,σが小
さくなっているので、凹凸エンハンス層33の表面の凹
凸形状が小さく均一に形成できることがわかる。すなわ
ち、基点形成層31を形成することにより、より微細な
凹凸形状を均一に形成できるので、高分解能化とSNR
の向上を図ることができる。以上より、この発明の実施
例2においても、裏打ち層の上に4つの層からなる非磁
性中間層を薄膜として形成しているので、記録分解能と
SNRを向上させることができる。
FIG. 7 shows four comparative examples 31 to 34 in which a Cr film is formed as the base point forming layer 31. Compared with comparative examples 27 to 30 having no base point forming layer 31, the surface roughness Ra, All the characteristic values of the height of unevenness (P-V), the average particle diameter, and σ are small. In particular, since the average particle size and σ are small, it can be seen that the unevenness shape of the surface of the unevenness enhancement layer 33 is small and can be formed uniformly. That is, by forming the base point formation layer 31, finer uneven shapes can be uniformly formed, so that high resolution and SNR are achieved.
Can be improved. As described above, also in Example 2 of the present invention, since the nonmagnetic intermediate layer composed of four layers is formed as a thin film on the backing layer, the recording resolution and the SNR can be improved.

【0065】[0065]

【発明の効果】この発明によれば、裏打ち層と、記録膜
との間に誘電体層を含む多層膜からなる非磁性中間層を
形成しているので、記録層の記録分解能とSNRを向上
させることができる。
According to the present invention, since the non-magnetic intermediate layer composed of the multilayer film including the dielectric layer is formed between the backing layer and the recording film, the recording resolution and SNR of the recording layer are improved. Can be made.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の実施例1の情報記録媒体の構成図で
ある。
FIG. 1 is a configuration diagram of an information recording medium according to a first embodiment of the present invention.

【図2】この発明の実施例2の情報記録媒体の構成図で
ある。
FIG. 2 is a configuration diagram of an information recording medium according to a second embodiment of the present invention.

【図3】この発明の実施例1,2の媒体の材料、膜厚の
代表例を示したものである。
FIG. 3 shows representative examples of materials and film thicknesses of media of Examples 1 and 2 of the present invention.

【図4】この発明の実施例1の媒体の一部分の断面構成
図である。
FIG. 4 is a sectional configuration diagram of a part of the medium according to the first embodiment of the present invention.

【図5】この発明の実施例2の媒体の一部分の断面構成
図である。
FIG. 5 is a cross-sectional configuration diagram of a part of the medium of Example 2 of the present invention.

【図6】この発明の実施例1,2を含む各種情報記録媒
体の特性値の比較図である。
FIG. 6 is a comparison diagram of characteristic values of various information recording media including Examples 1 and 2 of the present invention.

【図7】この発明において比較例として作成した媒体の
特性値の比較図である。
FIG. 7 is a comparison diagram of characteristic values of media prepared as comparative examples in the present invention.

【図8】この発明の一実施例において、誘電体層の膜厚
を変化させた場合の平均粒径のグラフである。
FIG. 8 is a graph of average particle diameter when the film thickness of the dielectric layer is changed in one example of the present invention.

【図9】この発明の一実施例において、誘電体層の膜厚
を変化させた場合の表面粗さRaと凹凸高さ(P−V)
のグラフである。
FIG. 9 is a view showing an example of the present invention in which the surface roughness Ra and the unevenness height (PV) when the film thickness of the dielectric layer is changed.
Is a graph of.

【図10】従来の磁気情報記録媒体の構成図である。FIG. 10 is a block diagram of a conventional magnetic information recording medium.

【図11】従来の磁気情報記録媒体の一部分の断面構成
図である。
FIG. 11 is a sectional configuration diagram of a part of a conventional magnetic information recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 裏打ち層 3 非磁性中間層 4 記録層 5 保護層 30 誘電体層 31 基点形成層 32 凝集層 33 凹凸エンハンス層 1 substrate 2 backing layer 3 Non-magnetic intermediate layer 4 recording layers 5 protective layer 30 Dielectric layer 31 Base point forming layer 32 Aggregation layer 33 Concavo-convex enhancement layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5D006 BB01 BB05 BB07 CA01 CA03 CA05 CA06 DA08 5D112 AA03 AA04 BD02 BD03 BD04 BD05 FA04 GB02    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 5D006 BB01 BB05 BB07 CA01 CA03                       CA05 CA06 DA08                 5D112 AA03 AA04 BD02 BD03 BD04                       BD05 FA04 GB02

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 面内方向に磁化容易軸を有する裏打ち層
と、表面に微細な凹凸形状が形成された非磁性中間層
と、垂直方向に磁化容易軸を有し情報を記録する記録磁
性層とがこの順に形成され、非磁性中間層が、少なくと
も前記裏打ち層に近い方から順に、誘電体膜層,微細凹
凸形状の粒子を形成するための凝集層,前記凝集層の粒
子の高さを高めるための凹凸エンハンス層からなること
を特徴とする情報記録媒体。
1. A backing layer having an easy axis of magnetization in the in-plane direction, a non-magnetic intermediate layer having fine irregularities formed on the surface, and a recording magnetic layer for recording information having an easy axis of magnetization in the vertical direction. Are formed in this order, and the non-magnetic intermediate layer, in order from at least the side closer to the backing layer, the dielectric film layer, the aggregating layer for forming fine irregularity-shaped particles, and the particle height of the aggregating layer. An information recording medium, comprising an unevenness enhancing layer for increasing the height.
【請求項2】 前記凝集層の表面張力が、前記誘電体層
の表面張力よりも大きいことを特徴とする請求項1の情
報記録媒体。
2. The information recording medium according to claim 1, wherein the surface tension of the aggregation layer is larger than the surface tension of the dielectric layer.
【請求項3】 前記凝集層が、金属膜または合金膜から
なることを特徴とする請求項2の情報記録媒体。
3. The information recording medium according to claim 2, wherein the aggregation layer is made of a metal film or an alloy film.
【請求項4】 前記凹凸エンハンス層が、他の層の材料
よりも原子半径の小さい元素を含む材料で形成されてい
ることを特徴とする請求項1、2または3に記載の情報
記録媒体。
4. The information recording medium according to claim 1, 2 or 3, wherein the unevenness enhancing layer is formed of a material containing an element having an atomic radius smaller than that of the material of the other layers.
【請求項5】 前記誘電体膜層と凝集層との間に、前記
凝集層に形成される粒子の基点となる核を形成するため
の基点形成層を、さらに備えたことを特徴とする請求項
1、2、3または4に記載の情報記録媒体。
5. A base point forming layer for forming a nucleus serving as a base point of particles formed in the aggregation layer is further provided between the dielectric film layer and the aggregation layer. Item 1. The information recording medium according to item 1, 2, 3 or 4.
【請求項6】 基板上に、裏打ち層,非磁性中間層,垂
直磁化記録磁性層をこの順に形成する情報記録媒体の形
成方法であって、裏打ち層は、軟磁性材料をコスパッタ
リングすることにより形成され、非磁性中間層は、非磁
性材料と反応性ガスとのスパッタリングにより誘電体層
を製膜し、所定の加熱処理をした後、その上に金属また
は合金材料をスパッタリングにより凝集層を製膜し、そ
の上に金属よりも原子半径の小さい元素をスパッタリン
グすることにより凹凸エンハンス層を製膜することによ
り形成されることを特徴とする情報記録媒体の形成方
法。
6. A method of forming an information recording medium comprising a backing layer, a non-magnetic intermediate layer, and a perpendicular magnetization recording magnetic layer formed in this order on a substrate, wherein the backing layer is formed by co-sputtering a soft magnetic material. The non-magnetic intermediate layer is formed by forming a dielectric layer by sputtering a non-magnetic material and a reactive gas, performing a predetermined heat treatment, and then forming a cohesive layer on the metal or alloy material by sputtering. A method for forming an information recording medium, which comprises forming a concavo-convex enhancement layer by forming a film and sputtering an element having an atomic radius smaller than that of a metal on the film.
【請求項7】 前記加熱処理と凝集層製膜工程との間に
基点形成層を製膜する工程を導入することを特徴とする
請求項6記載の情報記録媒体の形成方法。
7. The method for forming an information recording medium according to claim 6, wherein a step of forming a base point forming layer is introduced between the heat treatment and the aggregation layer forming step.
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