JP2003222579A - Lamp filler gas analyzer - Google Patents
Lamp filler gas analyzerInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ランプ等の破壊可
能な封体に封入されたガスを分析するガス分析装置に係
わり、特に、容積が小さいランプ封体に封入されたガス
を高精度に分析することを可能にしたランプ封入ガス分
析装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas analyzer for analyzing a gas enclosed in a destructible envelope such as a lamp, and more particularly to a gas enclosed in a lamp envelope having a small volume with high accuracy. The present invention relates to a lamp-filled gas analyzer that enables analysis.
【0002】[0002]
【従来の技術】白熱ランプや放電ランプ等のランプは、
ガラス封体内に不活性ガスやハロゲンガス等の各種のガ
スが封入されている。これらのランプは、所定のランプ
性能を発揮するために、封入ガスが所定量だけ正確に封
入されていることが不可欠であり、従来から、製造され
たランプをサンプリングして封入ガスを分析同定すると
いう検査がランプ製造工程において行われている。2. Description of the Related Art Lamps such as incandescent lamps and discharge lamps are
Various gases such as inert gas and halogen gas are enclosed in the glass envelope. For these lamps, it is essential that the enclosed gas is accurately enclosed by a prescribed amount in order to exhibit the prescribed lamp performance. Conventionally, the manufactured lamp is sampled to analyze and identify the enclosed gas. Is conducted in the lamp manufacturing process.
【0003】従来、このようなランプ封入ガス分析装置
としては、特開昭60−147645号に、真空排気さ
れたランプ破壊チェンバーおよび質量分析計を備えるも
のが知られており、また、特許第2720395号に
は、カセット式の封体破壊室を使用するものが知られて
いる。Conventionally, such a lamp-filled gas analyzer is known in Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-147645, which is provided with a vacuum-exhausted lamp breaking chamber and a mass spectrometer, and is disclosed in Japanese Patent No. 2720395. It is known to use a cassette-type envelope breaking chamber.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、前者公報に
示されたランプ封入ガス分析装置では、ランプ破壊時に
ランプ破壊チェンバーが排気系と切り離されているた
め、残留ガスの影響により破壊チェンバーの真空度が、
例えば、10−1Pa台まで低下してしまう。そのた
め、近年使用される液晶プロジェクターやDLP
TM(テキサスインスツルメンツ社の登録商標)プロジ
ェクター用の放電ランプ等に用いられる発光管の封入ガ
ス量が5000Pa・cm3 程度で、発光管容積、封
入ガス量の小さなランプ(例えば、ランプ破壊後の破壊
チェンバーの圧力が10Pa程度)の分析においては、
抽出したガスに対して測定のバックグラウンドとなる残
留ガスの割合が高くなり、測定限界が悪くなってしま
う。即ち、測定時にバックグラウンドとなる残留ガスの
割合が高くなると高精度に測定することができない。こ
こで、破壊室からのアウトガスを少なくするために、破
壊室外部からヒータ加熱(ベーキング)することも考え
られるが、ベーキング処理に数時間ないし数十時間を要
し、極めて効率の悪いものとなってしまう。In the lamp-filled gas analyzer disclosed in the former publication, since the lamp breaking chamber is separated from the exhaust system when the lamp is broken, the vacuum degree of the breaking chamber is affected by residual gas. But,
For example, it falls to the level of 10 −1 Pa. Therefore, recently used liquid crystal projectors and DLP
TM (registered trademark of Texas Instruments Incorporated) A discharge lamp used for a projector, etc. has an arc tube filled gas amount of about 5000 Pa · cm 3 , and a lamp having a small arc tube volume and a small enclosed gas amount (for example, destruction after lamp destruction). In the analysis of chamber pressure of about 10 Pa),
The ratio of the residual gas that becomes the background of the measurement to the extracted gas becomes high, and the measurement limit becomes worse. That is, if the ratio of the residual gas that becomes the background during the measurement becomes high, the measurement cannot be performed with high accuracy. Here, in order to reduce the outgas from the destruction chamber, heating (baking) from the outside of the destruction chamber may be considered, but the baking process requires several hours to several tens of hours, which is extremely inefficient. Will end up.
【0005】また、後者公報に示された封入ガス分析装
置では、封体破壊室内に1本づつランプをセットし、か
つ封体破壊室自体がカセットになっているので、ガス分
析中に次のサンプルランプを取り付けることが可能とな
るものである。しかし、これを高精度のガス分析に使用
する場合は、破壊室を測定の都度ベーキング処理する必
要があり、複数本のランプを分析する場合には、ベーキ
ング処理に時間を要し、作業効率が悪いものとなる。Further, in the sealed gas analyzer disclosed in the latter publication, one lamp is set in the sealed body breaking chamber and the sealed body breaking chamber itself is a cassette. The sample lamp can be attached. However, when using this for high-precision gas analysis, it is necessary to bake the destruction chamber each time it is measured, and when analyzing multiple lamps, the baking process requires time and work efficiency is improved. It will be bad.
【0006】本発明の目的は、上記の従来技術の問題点
に鑑み、予め必要数のランプ試料の外表面をベーキング
することによって残留ガスを除去し、その後に、ランプ
試料中に封入されたガスを高精度かつ短時間で分析する
ことを可能にしたランプ封入ガス分析装置を提供するこ
とにある。In view of the above problems of the prior art, the object of the present invention is to remove residual gas by baking the required number of outer surfaces of the lamp sample in advance, and then to fill the gas enclosed in the lamp sample. It is an object of the present invention to provide a lamp-filled gas analyzer capable of performing high-precision analysis in a short time.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するために、次のような手段を採用した。第1の手
段は、試料破壊室に導入されたランプ試料を破壊して封
入されているガスを分析するランプ封入ガス分析装置に
おいて、複数本のランプ試料が収容可能であると共に、
ベーキングされたランプ試料を、順次前記試料破壊室に
移動させる試料移動機構を備える試料導入室と、該試料
導入室内および該試料導入室内に導入されたランプ試料
をベーキングする加熱機構とを備えたことを特徴とす
る。The present invention employs the following means in order to solve the above problems. A first means is a lamp-enclosed gas analyzer that destroys a lamp sample introduced into a sample destruction chamber and analyzes the enclosed gas, and can accommodate a plurality of lamp samples.
A sample introducing chamber having a sample moving mechanism for sequentially moving the baked lamp sample to the sample destruction chamber; and a heating mechanism for baking the sample introducing chamber and the lamp sample introduced into the sample introducing chamber. Is characterized by.
【0008】第2の手段は、第1の手段において、前記
ランプ試料は、試料破壊室でのランプ試料の破壊時に、
ランプ試料の飛散を防止するための試料保持器に収納さ
れていることを特徴とする。A second means is the lamp means according to the first means, wherein when the lamp sample is broken in a sample breaking chamber,
It is characterized by being housed in a sample holder for preventing the lamp sample from scattering.
【0009】第3の手段は、第1の手段または第2の手
段において、前記ランプ試料の封入ガス量が5000P
a・cm3以下であることを特徴とする。A third means is the same as the first means or the second means, wherein the enclosed gas amount of the lamp sample is 5000 P.
It is characterized in that it is a · cm 3 or less.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】本発明の一実施形態を図1を用い
て説明する。図1は、本実施形態の発明に係るランプ封
入ガス分析装置の構成を示す図である。同図において、
1は複数のランプ試料が導入される試料導入室、2は試
料破壊室、3は質量分析計、41は試料導入室1内へラ
ンプ試料を移動させる試料移動機構、42は試料導入室
1と試料破壊室2間でランプ試料を移動させる試料移動
機構、5は標準ガス供給器、6は試料導入室1外部に設
けられ、試料導入室1内および試料導入室1内のランプ
試料を加熱する加熱機構、7は隔膜真空計、8は電離真
空計、9は分析すべきガスが封入されたランプ等からな
るランプ試料、10は試料破壊室2における試料破壊時
に試料破壊室2での破片の飛散を防止するためにランプ
試料9を収納するカセット(試料保持器)である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a lamp-filled gas analyzer according to the present invention. In the figure,
Reference numeral 1 is a sample introducing chamber into which a plurality of lamp samples are introduced, 2 is a sample destruction chamber, 3 is a mass spectrometer, 41 is a sample moving mechanism for moving the lamp sample into the sample introducing chamber 1, and 42 is the sample introducing chamber 1. A sample moving mechanism for moving the lamp sample between the sample destruction chambers 2, 5 is a standard gas feeder, 6 is provided outside the sample introduction chamber 1, and heats the lamp sample in the sample introduction chamber 1 and the lamp sample in the sample introduction chamber 1. A heating mechanism, 7 is a diaphragm vacuum gauge, 8 is an ionization vacuum gauge, 9 is a lamp sample including a lamp in which a gas to be analyzed is sealed, and 10 is a fragment of the sample destruction chamber 2 when the sample is destroyed. It is a cassette (sample holder) that stores the lamp sample 9 in order to prevent scattering.
【0011】ここで、試料導入室1は、超真空バルブH
V1を介して、ターボモレキュラーポンプTMP1に接
続され、さらにターボモレキュラーポンプTMP1は高
真空バルブV1を介してロータリーポンプRP1に接続
され、試料導入室1内が排気可能に構成されている。Here, the sample introduction chamber 1 is provided with an ultra-vacuum valve H.
Via V 1, is connected to a turbomolecular pump TMP 1, turbomolecular pump TMP 1 further is connected to a rotary pump RP 1 through the high-vacuum valve V 1, the sample introduction chamber 1 is configured to be evacuated There is.
【0012】加熱機構6は、試料導入室1外部から加熱
するように構成され、試料移動機構41によって外部か
ら試料導入室1へのランプ試料9の出し入れ時や、試料
導入室1内に付着するガスやランプ試料9に付着するガ
スを取り除き、複数本のランプ試料9を同時に清浄化す
る機能を有する。The heating mechanism 6 is configured to heat from the outside of the sample introducing chamber 1, and is attached to the inside of the sample introducing chamber 1 when the lamp sample 9 is taken in and out of the sample introducing chamber 1 by the sample moving mechanism 41. It has a function of removing gas and gas adhering to the lamp sample 9 and simultaneously cleaning a plurality of lamp samples 9.
【0013】清浄化されたランプ試料9は、試料移動機
構42によって選択されて順次試料破壊室2に導入可能
に構成されている。The cleaned lamp sample 9 is selected by the sample moving mechanism 42 and can be sequentially introduced into the sample destruction chamber 2.
【0014】試料破壊室2は、超真空バルブHV2を介
して、ターボモレキュラーポンプTMP2に接続され、
さらにターボモレキュラーポンプTMP2は高真空バル
ブV 2を介してロータリーポンプRP2に接続され、試
料破壊室2内が排気可能に構成されている。The sample destruction chamber 2 has an ultra-vacuum valve HV.TwoThrough
And connected to the turbo molecular pump TMP2,
Further turbo molecular pump TMPTwoIs a high vacuum bar
V TwoThrough rotary pump RPTwoConnected to
The inside of the material destruction chamber 2 is configured to be exhaustable.
【0015】試料導入室1と試料破壊室2とはゲートバ
ルブGVを介して接続されており、これを閉じることに
よって、外部から試料導入室1内へのランプ試料9の出
し入れ時や加熱機構6による試料導入室1のベーキング
時に、測定時のバックグランドとなるガス種の試料破壊
室2への流入を防ぐことができ、試料破壊室2を高真空
度に保つことが可能となる。The sample introduction chamber 1 and the sample destruction chamber 2 are connected via a gate valve GV, and by closing the gate valve GV, the lamp sample 9 is taken in and out of the sample introduction chamber 1 from the outside and the heating mechanism 6 is used. When baking the sample introduction chamber 1 by the above, it is possible to prevent the gas species serving as the background at the time of measurement from flowing into the sample destruction chamber 2, and it is possible to maintain the sample destruction chamber 2 at a high degree of vacuum.
【0016】また、試料破壊室2には、隔膜真空計7と
バリアブルリークバルブLV1を介して標準ガス供給器
5が接続されている。A standard gas supply device 5 is connected to the sample destruction chamber 2 via a diaphragm vacuum gauge 7 and a variable leak valve LV 1 .
【0017】質量分析計3は、試料破壊室2とバリアブ
ルリークバルブLV2、オリフィスOを介して接続され
ている。The mass spectrometer 3 is connected to the sample destruction chamber 2 via a variable leak valve LV 2 and an orifice O.
【0018】さらに、質量分析計3には、電離真空計8
が接続され真空度の計測が可能となっていると共に、さ
らに超真空バルブHV3を介して、ターボモレキュラー
ポンプTMP3に接続され、ターボモレキュラーポンプ
TMP3は高真空バルブV3を介してロータリーポンプ
RP3に接続され、室内が排気できるように構成されて
いる。Further, the mass spectrometer 3 includes an ionization vacuum gauge 8
Together There has been possible to measure the connected vacuum, further through the ultra-vacuum valve HV 3, is connected to a turbomolecular pump TMP 3, a rotary pump is turbomolecular pump TMP 3 through the high-vacuum valve V 3 It is connected to the RP 3 and is configured so that the room can be exhausted.
【0019】次に、本発明のランプ封入ガス分析装置の
操作手順を図1に基づいて説明する。Next, the operating procedure of the lamp-filled gas analyzer of the present invention will be described with reference to FIG.
【0020】まず、高真空バルブV2,V3および超真
空バルブHV2,HV3をそれぞれ開き、試料破壊室2
および質量分析計3を、ロータリーポンプRP2,RP
3をそれぞれ動作させて1×10−1Pa付近まで排気
する。次に、試料破壊室2および質量分析計3をターボ
モレキュラーポンプTMP2,TMP3により、1×1
0−5Pa付近まで排気する。その後、試料破壊室2お
よび質量分析計3を、例えば、内蔵されたヒータにより
ベーキングし、1×10−7Paより以上の真空度とな
るまで処理する。この作業は、ターボモレキュラーポン
プTMP2,TMP3を長時間停止させない限り、装置
の立ち上げ時に一度実施するだけで良い。First, the high vacuum valves V 2 and V 3 and the ultra-vacuum valves HV 2 and HV 3 are opened, and the sample destruction chamber 2 is opened.
And mass spectrometer 3 with rotary pumps RP 2 and RP
3 are operated to exhaust gas to the vicinity of 1 × 10 −1 Pa. Next, the sample destruction chamber 2 and the mass spectrometer 3 are set to 1 × 1 by the turbo molecular pumps TMP 2 and TMP 3.
0 evacuated to around -5 Pa. Then, the sample destruction chamber 2 and the mass spectrometer 3 are baked, for example, by a built-in heater and processed until the degree of vacuum exceeds 1 × 10 −7 Pa. This operation need only be performed once when the apparatus is started up, unless the turbo molecular pumps TMP 2 and TMP 3 are stopped for a long time.
【0021】次に、試料移動機構41によって、試料導
入室1内に、測定に必要な数のランプ試料9を夫々カセ
ット10に収納して導入する。Next, the sample moving mechanism 41 introduces the lamp samples 9 required for the measurement into the sample introducing chamber 1 in the cassettes 10, respectively.
【0022】次に、高真空バルブV1および超真空バル
ブHV1をそれぞれ開き、試料導入室1に接続されるロ
ータリーポンプRP1を動作させて1×10−1Pa付
近まで排気する。次に、ターボモレキュラーポンプTM
P1により、1×10−4Pa付近まで排気する。その
後、試料導入室1を加熱機構6によりベーキングし、1
×10−6Paより以上の真空度となるまで処理する。Next, the high vacuum valve V 1 and the ultra-vacuum valve HV 1 are opened, and the rotary pump RP 1 connected to the sample introduction chamber 1 is operated to evacuate to near 1 × 10 -1 Pa. Next, turbo molecular pump TM
Exhaust up to around 1 × 10 −4 Pa by P 1 . Then, the sample introduction chamber 1 is baked by the heating mechanism 6 and
The treatment is performed until the degree of vacuum exceeds 10-6 Pa or more.
【0023】次に、試料破壊室2に接続した超真空バル
ブHV2を閉じ、さらに、バリアブルリークバルブLV
1を開き、標準ガス供給器5より標準ガスを試料破壊室
2に導入する。Next, the ultra-vacuum valve HV 2 connected to the sample destruction chamber 2 is closed, and the variable leak valve LV is further closed.
1 is opened, and the standard gas is introduced into the sample destruction chamber 2 from the standard gas feeder 5.
【0024】次に、試料破壊室2でランプ試料9を破壊
したとき、質量分析計3の真空度が1×10−2Pa〜
1×10−3Pa程度となる開度にバリアブルリークバ
ルブLV2を開き、質量分析計3に標準ガスを導入す
る。質量分析計3では測定対象となるガスを検出する。
これらの作業によって測定対象ガスの測定圧力範囲の検
量線を作成する。Next, when the lamp sample 9 is broken in the sample breaking chamber 2, the degree of vacuum of the mass spectrometer 3 is 1 × 10 −2 Pa or more.
The variable leak valve LV 2 is opened at an opening of about 1 × 10 −3 Pa, and the standard gas is introduced into the mass spectrometer 3. The mass spectrometer 3 detects the gas to be measured.
By these operations, a calibration curve of the measurement pressure range of the measurement target gas is created.
【0025】次に、試料破壊室2の超真空バルブHV2
を開き、標準ガスを排気し、1×10−7Paより以上
の真空度となるまで処理する。その後、バリアブルリー
クバルブLV2を閉じる。Next, the ultra-vacuum valve HV 2 in the sample destruction chamber 2
Open, the standard gas is evacuated, and the process is performed until the degree of vacuum exceeds 1 × 10 −7 Pa. Then, the variable leak valve LV 2 is closed.
【0026】次に、試料導入室1と試料破壊室2間のゲ
ートバルブGVを開き、試料移動機構42によって測定
するランプ試料9を試料導入室1から試料破壊室2に移
動させる。移動後はゲートバルブGVを閉じ、さらに試
料破壊室2に接続された超真空バルブHV2を閉じる。Next, the gate valve GV between the sample introducing chamber 1 and the sample breaking chamber 2 is opened, and the lamp sample 9 to be measured by the sample moving mechanism 42 is moved from the sample introducing chamber 1 to the sample breaking chamber 2. After the movement, the gate valve GV is closed, and further the ultra-vacuum valve HV 2 connected to the sample destruction chamber 2 is closed.
【0027】次に、ランプ試料9を破壊し、封入ガスを
試料破壊室2内で採取し、隔膜真空計7で採取した封入
ガスの圧力を測定する。Next, the lamp sample 9 is destroyed, the enclosed gas is sampled in the sample destruction chamber 2, and the pressure of the enclosed gas collected by the diaphragm vacuum gauge 7 is measured.
【0028】次に、標準ガス測定時と同じ開度でバリア
ブルリークバルブLV2を開き、質量分析計3に封入ガ
スを導入する。検出された質量スペクトルから封入ガス
中の不純ガスの同定、定量を行う。Next, the variable leak valve LV 2 is opened at the same opening as when measuring the standard gas, and the enclosed gas is introduced into the mass spectrometer 3. The impure gas in the enclosed gas is identified and quantified from the detected mass spectrum.
【0029】次に、バリアブルリークバルブLV2を閉
じ、試料破壊室2の超真空バルブHV2を開け、残った
封入ガスを排気する。Next, the variable leak valve LV 2 is closed, the ultra-vacuum valve HV 2 in the sample destruction chamber 2 is opened, and the remaining enclosed gas is exhausted.
【0030】次に、試料導入室1と試料破壊室2間のゲ
ートバルブGVを開け、試料移動機構42により、測定
の終了したランプ試料9を試料破壊室2から試料導入室
1に移動する。さらに、試料移動機構41によって、試
料導入室1内でランプ試料9を移動させ、次の未測定の
ランプ試料9の測定に備える。Next, the gate valve GV between the sample introduction chamber 1 and the sample destruction chamber 2 is opened, and the sample moving mechanism 42 moves the measured lamp sample 9 from the sample destruction chamber 2 to the sample introduction chamber 1. Further, the sample moving mechanism 41 moves the lamp sample 9 in the sample introducing chamber 1 to prepare for the next measurement of the unmeasured lamp sample 9.
【0031】[0031]
【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、複数本
のランプ試料が収容可能であると共に、ベーキングされ
たランプ試料を、順次前記試料破壊室に移動させる試料
移動機構を備える試料導入室と、試料導入室内および試
料導入室内に導入されたランプ試料をベーキングする加
熱機構とを備えるようにしたので、同時に複数本のラン
プ試料をベーキングすることができると共に、試料破壊
室でのランプ試料の分析後、試料破壊室を高真空状態に
保持して逐次ランプ試料を導入分析することができるの
で、高精度のガス分析を行うことができ、さらには短時
間で複数本のランプ試料のガス分析を行うことができる
ので作業効率を向上させることができる。According to the first aspect of the present invention, a sample introduction mechanism capable of accommodating a plurality of lamp samples and having a sample moving mechanism for sequentially moving the baked lamp samples to the sample destruction chamber is introduced. Since the chamber and the heating mechanism for baking the lamp sample introduced into the sample introduction chamber and the sample introduction chamber are provided, it is possible to bake a plurality of lamp samples at the same time, and the lamp sample in the sample destruction chamber After the analysis, the sample destruction chamber can be maintained in a high vacuum state and the lamp samples can be sequentially introduced and analyzed, which enables highly accurate gas analysis and further enables the gas of multiple lamp samples to be analyzed in a short time. Since analysis can be performed, work efficiency can be improved.
【0032】請求項2に記載の発明によれば、ランプ試
料が、試料破壊室での試料破壊時に試料保持器に収納さ
れているので、試料破壊室内でランプ試料が飛散しない
のでランプ試料の取り換えを迅速に行うことができ、作
業効率を向上させることができる。According to the second aspect of the invention, since the lamp sample is stored in the sample holder when the sample is destroyed in the sample destruction chamber, the lamp sample does not scatter in the sample destruction chamber. Can be performed quickly, and work efficiency can be improved.
【0033】請求項3に記載の発明によれば、ランプ試
料の封入ガス量が5000Pa・cm3以下である場合
においても、高精度に封入ガスの分析を行うことができ
る。According to the third aspect of the invention, even if the amount of the enclosed gas in the lamp sample is 5000 Pa · cm 3 or less, the enclosed gas can be analyzed with high accuracy.
【図1】本発明に係るランプ封入ガス分析装置の構成を
示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a lamp-filled gas analyzer according to the present invention.
1 試料導入室
2 試料破壊室
3 質量分析計
41 試料移動機構
42 試料移動機構
5 標準ガス供給器
6 加熱機構
7 隔膜真空計
8 電離真空計
9 ランプ試料
10 カセット(試料保持器)
HV1,HV2,HV3 超真空バルブ
TMP1,TMP2,TMP3 ターボモレキュラーポ
ンプ
V1,V2,V3 高真空バルブ
RP1,RP2,RP3 ロータリーポンプ
GV ゲートバルブ
LV1,LV2 バリアブルリークバルブ1 sample introduction chamber 2 sample destruction chamber 3 mass spectrometer 41 sample moving mechanism 42 sample moving mechanism 5 standard gas feeder 6 heating mechanism 7 diaphragm vacuum gauge 8 ionization vacuum gauge 9 lamp sample 10 cassette (sample holder) HV 1 , HV 2 , HV 3 super vacuum valve TMP 1 , TMP 2 , TMP 3 turbo molecular pump V 1 , V 2 , V 3 high vacuum valve RP 1 , RP 2 , RP 3 rotary pump GV gate valve LV 1 , LV 2 variable leak valve
Claims (3)
壊して封入されているガスを分析するランプ封入ガス分
析装置において、 複数本のランプ試料が収容可能であると共に、ベーキン
グされたランプ試料を、順次前記試料破壊室に移動させ
る試料移動機構を備える試料導入室と、該試料導入室内
および該試料導入室内に導入されたランプ試料をベーキ
ングする加熱機構とを備えたことを特徴とするランプ封
入ガス分析装置。1. A lamp-filled gas analyzer for breaking a lamp sample introduced into a sample breaking chamber to analyze a sealed gas, wherein a plurality of lamp samples can be accommodated and a baked lamp sample is stored. A sample introduction chamber having a sample moving mechanism for sequentially moving the sample to the sample destruction chamber, and a heating mechanism for baking the sample introducing chamber and the lamp sample introduced into the sample introducing chamber. Filled gas analyzer.
プ試料の破壊時に、ランプ試料の飛散を防止するための
試料保持器に収納されていることを特徴とする請求項1
に記載のランプ封入ガス分析装置。2. The lamp sample is stored in a sample holder for preventing scattering of the lamp sample when the lamp sample is broken in a sample breaking chamber.
The lamp-filled gas analyzer according to item 1.
Pa・cm3以下であることを特徴とする請求項1また
は請求項2に記載のランプ封入ガス分析装置。3. The enclosed gas amount of the lamp sample is 5000.
The lamp-filled gas analyzer according to claim 1 or 2, wherein Pa · cm 3 or less.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016080679A (en) * | 2014-10-14 | 2016-05-16 | 三菱電機株式会社 | Gas analyzer and gas analysis method |
JP2021004728A (en) * | 2019-06-25 | 2021-01-14 | 国立大学法人 東京大学 | Sample processing device |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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