JP2003213410A - スパッタリング方法およびその装置 - Google Patents
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007141816A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Samsung Sdi Co Ltd | レーザ熱転写法及びレーザ熱転写法を利用した有機発光素子の製造方法 |
| JP2009280863A (ja) * | 2008-05-22 | 2009-12-03 | Canon Anelva Corp | マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法 |
| JP2019081948A (ja) * | 2017-09-15 | 2019-05-30 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 静的磁石アセンブリを有する物理的気相堆積チャンバ、及びスパッタリングする方法 |
| US10388520B2 (en) | 2013-12-27 | 2019-08-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of oxide semiconductor |
-
2002
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