JP2003212870A - ピラゾール化合物の製造法 - Google Patents

ピラゾール化合物の製造法

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JP2003212870A
JP2003212870A JP2002327875A JP2002327875A JP2003212870A JP 2003212870 A JP2003212870 A JP 2003212870A JP 2002327875 A JP2002327875 A JP 2002327875A JP 2002327875 A JP2002327875 A JP 2002327875A JP 2003212870 A JP2003212870 A JP 2003212870A
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Hiroyuki Tawada
紘之 多和田
Makoto Yamashita
誠 山下
Tomoki Ikemoto
朋己 池本
Atsuko Nishiguchi
敦子 西口
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
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Takeda Chemical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】糖尿病治療剤などの医薬の合成中間体として有
用なピラゾール化合物を簡便に、かつ高い収率で製造す
ることのできる方法の提供。 【解決手段】式(II) 【化1】 [式中、Qは置換基を有していてもよいヒドロキシ基ま
たは置換基を有していてもよいアミノ基を、nは1ない
し4の整数を、RおよびR1は、同一又は異なって、置換基
を有していてもよい炭化水素基を示す]で表される化合
物またはその塩とヒドラジンまたはその塩とを反応させ
ることを特徴とする、式(I) 【化2】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
またはその塩の製造法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、糖尿病治療剤など
の医薬の合成中間体として有用なピラゾール化合物の製
造法、および該製造法において用いられる新規ピラゾー
ル化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】4位にエステル化されていてもよいカル
ボキシル基で置換されたアルキル基を有するピラゾール
化合物は、医薬の合成中間体として有用であることが知
られている。例えば、糖尿病治療剤などとして有用な複
素環化合物の合成中間体として、以下の化合物が報告さ
れている(特許文献1参照)。
【化24】 これらの化合物は、3−ヒドロキシ−1H−ピラゾール−
4−カルボン酸エチルを原料として用い、還元反応、酸
化反応などの工程を経て、ピラゾールの4位にアルキレ
ン鎖を導入することによって、製造されている。
【0003】
【特許文献1】国際公開第WO01/38325号パンフレット
【0004】
【発明が解決しようとする課題】3−ヒドロキシ−1H−
ピラゾール−4−カルボン酸エチルを原料として用いる
上記製造法は、目的物を得るまでに多くの工程を必要と
していた。したがって、より簡便に目的物を製造するこ
とのできる製造法の提供が望まれている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、4位にエ
ステル化されていてもよいカルボキシル基で置換された
アルキル基を有するピラゾール化合物の製造法について
種々の検討を行った結果、原料化合物として、式(II)
【化25】 [式中、Qは置換基を有していてもよいヒドロキシ基ま
たは置換基を有していてもよいアミノ基を、nは1ない
し4の整数を、RおよびR1は、同一又は異なって、置換基
を有していてもよい炭化水素基を示す]で表される化合
物またはその塩[以下、化合物(II)と略記することが
ある]を用い、該化合物をヒドラジンと反応させること
によって、目的とするピラゾール化合物を容易に製造で
きることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明は、 1)化合物(II)とヒドラジンまたはその塩とを反応さ
せることを特徴とする、式(I)
【化26】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
またはその塩[以下、化合物(I)と略記することがあ
る]の製造法; 2)Qがヒドロキシ基である前記1)記載の製造法; 3)nが2である前記1)記載の製造法; 4)RおよびR1で示される置換基を有していてもよい炭
化水素基が炭素数1〜8のアルキル基である前記1)記
載の製造法; 5)化合物(I); 6)化合物(I)をアシル化反応に付すことを特徴とす
る、式(III)
【化27】 [式中、Zはアシル基を、その他の記号は前記と同意義
を示す]で表される化合物またはその塩[以下、化合物
(III)と略記することがある]の製造法; 7)化合物(III); 8)化合物(III)をアルキル化反応に付すことを特徴
とする、式(IV)
【化28】 [式中、R3はアルキル基を、その他の記号は前記と同意
義を示す]で表される化合物またはその塩[以下、化合
物(IV)と略記することがある]の製造法; 9)化合物(IV); 10)化合物(IV)を脱アシル化反応に付すことを特徴
とする、式(V)
【化29】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
またはその塩[以下、化合物(V)と略記することがあ
る]の製造法; 11)化合物(II)とヒドラジンまたはその塩とを反応
させて、化合物(I)を製造し、該化合物をアシル化反
応に付して、化合物(III)を製造し、該化合物をアル
キル化反応に付して、化合物(IV)を製造し、該化合物
を脱アシル化反応に付して、化合物(V)を製造し、該
化合物を式(VI)
【化30】 [式中、R4は置換基を有していてもよい炭化水素基また
は置換基を有していてもよい複素環基を、Xは結合手、
酸素原子、硫黄原子、−CO−、−CS−、−CR
5(OR6)−または−NR7−(R5およびR7はそれぞ
れ水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基
を、R6は水素原子または水酸基の保護基を示す)を;
qは0ないし3の整数を;Yは酸素原子、硫黄原子、−
SO−、−SO2−、−NR8−、−CONR8−または
−NR8CO−(R8は水素原子または置換基を有してい
てもよい炭化水素基を示す)を;環Aは1ないし3個の
置換基をさらに有していてもよい芳香環を;rは1ない
し8の整数を;Tは脱離基を示す]で表される化合物ま
たはその塩[以下、化合物(VI)と略記することがあ
る]と反応させ、必要により、加水分解反応を行うこと
を特徴とする、式(VII)
【化31】 [式中、R0は水素原子または置換基を有していてもよい
炭化水素基を、その他の記号は前記と同意義を示す]で
表される化合物またはその塩[以下、化合物(VII)と
略記することがある]の製造法; 12)化合物(II)とヒドラジンまたはその塩とを反応
させて、化合物(I)を製造し、該化合物を、化合物
(VI)と反応させて、式(VIII)
【化32】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
またはその塩[以下、化合物(VIII)と略記することが
ある]を製造し、該化合物をアルキル化反応に付し、必
要により、加水分解反応を行うことを特徴とする、化合
物(VII)の製造法;などに関する。
【0006】以下、本明細書中で用いられる記号の定義
について詳述する。Qで示される「置換基を有していて
もよいヒドロキシ基」における置換基としては、例えば
C1−10アルキル基、C3−10シクロアルキル基、C2−10
ルケニル基、C3−10シクロアルケニル基、C7−10アラル
キル基、C1−13アシル基(好ましくはC2−10アルカノイ
ル基、C7−13アリールカルボニル基等)、C6−14アリー
ル基などが挙げられる。「置換基を有していてもよいヒ
ドロキシ基」としては、例えばヒドロキシ基、C1−10
ルコキシ基、C3−10シクロアルキルオキシ基、C2−10
ルケニルオキシ基、C3−10シクロアルケニルオキシ基、
C7−10アラルキルオキシ基、C2−13アシルオキシ基、C
6−14アリールオキシ基などが挙げられる。ここで、C
1−10アルコキシ基の好適な例としては、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソ
ブトキシ、sec.−ブトキシ、t.−ブトキシ、ペンチルオ
キシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ、ヘプチルオキシ、ノニルオキシなどが挙げ
られる。C3−10シクロアルキルオキシ基の好適な例とし
ては、シクロプロポキシ、シクロブトキシ、シクロペン
チルオキシ、シクロヘキシルオキシなどが挙げられる。
C2−10アルケニルオキシ基の好適な例としては、アリル
(allyl)オキシ、クロチルオキシ、2−ペンテニルオ
キシ、3−ヘキセニルオキシなどが挙げられる。C3−10
シクロアルケニルオキシ基の好適な例としては、2−シ
クロペンテニルオキシ、2−シクロヘキセニルオキシな
どが挙げられる。C7−10アラルキルオキシ基の好適な例
としては、フェニル−C1−4アルキルオキシ(例、ベ
ンジルオキシ、フェネチルオキシなど)などが挙げられ
る。C2−13アシルオキシ基の好適な例としては、C2−4
アルカノイルオキシ(例、アセチルオキシ、プロピオニ
ルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシなど)
などが挙げられる。C6−14アリールオキシ基の好適な例
としては、フェノキシ、ナフチルオキシなどが挙げられ
る。
【0007】Qで示される「置換基を有していてもよい
アミノ基」における「置換基」としては、例えばC1−10
アルキル基、C3−10シクロアルキル基、C2−10アルケニ
ル基、C3−10シクロアルケニル基、C1−13アシル基(好
ましくはC2−10アルカノイル基、C7−13アリールカルボ
ニル基等)、C6−14アリール基などが挙げられる。置換
基の数は1ないし2個である。「置換基を有していても
よいアミノ基」としては、例えばアミノ基、モノ−もし
くはジ−C1−10アルキル−アミノ基、モノ−もしくはジ
−C3−10シクロアルキル−アミノ基、モノ−もしくはジ
−C2−10アルケニル−アミノ基、モノ−もしくはジ−C
3−10シクロアルケニル−アミノ基、モノ−もしくはジ
−C1−13アシル(好ましくはC2−10アルカノイル、C
7−13アリールカルボニル等)−アミノ基、モノ−もし
くはジ−C6−14アリール−アミノ基、N−C1−10アルキ
ル−N−C6−14アリール−アミノ基などが挙げられる。
ここで、モノ−もしくはジ−C1−10アルキル−アミノ基
の好適な例としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、
エチルアミノ、ジエチルアミノ、プロピルアミノ、イソ
プロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミ
ノなどが挙げられる。モノ−もしくはジ−C3−10シクロ
アルキル−アミノ基の好適な例としては、シクロプロピ
ルアミノ、シクロブチルアミノ、シクロヘキシルアミノ
などが挙げられる。モノ−もしくはジ−C2−10アルケニ
ル−アミノ基の好適な例としては、ジアリルアミノなど
が挙げられる。モノ−もしくはジ−C3−10シクロアルケ
ニル−アミノ基の好適な例としては、2−シクロペンテ
ニルアミノなどが挙げられる。モノ−もしくはジ−C
1−13アシル−アミノ基の好適な例としては、アセチル
アミノ、プロピオニルアミノ、ベンゾイルアミノなどが
挙げられる。モノ−もしくはジ−C6−14アリール−アミ
ノ基の好適な例としては、フェニルアミノなどが挙げら
れる。N−C1−10アルキル−N−C6−14アリール−アミ
ノ基の好適な例としては、N−メチル−N−フェニルア
ミノなどが挙げられる。Qは、好ましくは置換基を有し
ていてもよいヒドロキシ基であり、さらに好ましくはヒ
ドロキシ基である。nは1ないし4の整数を示し、好まし
くは2である。
【0008】RおよびR1で示される「置換基を有してい
てもよい炭化水素基」における「炭化水素基」として
は、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、脂
環式−脂肪族炭化水素基、芳香脂肪族炭化水素基、芳香
族炭化水素基が挙げられる。これらの炭化水素基におけ
る炭素数は、好ましくは1ないし14である。脂肪族炭
化水素基としては、C1−8脂肪族炭化水素基が好まし
い。該脂肪族炭化水素基としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、se
c.-ブチル、t.-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオ
ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチ
ルなどのC1−8飽和脂肪族炭化水素基(例、アルキル基
など);例えばエテニル、1−プロペニル、2−プロペ
ニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、2
−メチル−1−プロペニル、1−ペンテニル、2−ペン
テニル、3−ペンテニル、4−ペンテニル、3−メチル
ー2−ブテニル、1−ヘキセニル、3−ヘキセニル、
2,4−ヘキサジエニル、5−ヘキセニル、1−ヘプテ
ニル、1−オクテニル、エチニル、1−プロピニル、2
−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−ブチ
ニル、1−ペンチニル、2−ペンチニル、3−ペンチニ
ル、4−ペンチニル、1−ヘキシニル、3−ヘキシニ
ル、2,4−ヘキサジイニル、5−ヘキシニル、1−ヘ
プチニル、1−オクチニルなどのC2−8不飽和脂肪族炭
化水素基(例、C2−8アルケニル基、C4−8アルカジエニ
ル基、C2−8アルキニル基、C4−8アルカジイニル基等)
が挙げられる。脂環式炭化水素基としては、C3−7脂環
式炭化水素基が好ましい。該脂環式炭化水素基として
は、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペン
チル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなどのC3−7
和脂環式炭化水素基(例、シクロアルキル基等);例え
ば1−シクロペンテニル、2−シクロペンテニル、3−
シクロペンテニル、1−シクロヘキセニル、2−シクロ
ヘキセニル、3−シクロヘキセニル、1−シクロヘプテ
ニル、2−シクロヘプテニル、3−シクロヘプテニル、
2,4−シクロヘプタジエニルなどのC5−7不飽和脂環
式炭化水素基(例、シクロアルケニル基、シクロアルカ
ジエニル基等)が挙げられる。
【0009】脂環式−脂肪族炭化水素基としては、上記
脂環式炭化水素基と脂肪族炭化水素基とが結合したもの
(例、シクロアルキル−アルキル基、シクロアルケニル
−アルキル基等)が挙げられ、なかでもC4−9脂環式−
脂肪族炭化水素基が好ましい。該脂環式−脂肪族炭化水
素基としては、例えばシクロプロピルメチル、シクロプ
ロピルエチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメ
チル、2−シクロペンテニルメチル、3−シクロペンテ
ニルメチル、シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキセ
ニルメチル、3−シクロヘキセニルメチル、シクロヘキ
シルエチル、シクロヘキシルプロピル、シクロヘプチル
メチル、シクロヘプチルエチルなどが挙げられる。芳香
脂肪族炭化水素基としては、C7−13芳香脂肪族炭化水素
基(例、C7−13アラルキル基、C8−13アリールアルケニ
ル基等)が好ましい。該芳香脂肪族炭化水素基として
は、例えばベンジル、フェネチル、1−フェニルエチ
ル、1−フェニルプロピル、2−フェニルプロピル、3
−フェニルプロピルなどのC7−9フェニルアルキル;α
−ナフチルメチル、α−ナフチルエチル、β−ナフチル
メチル、β−ナフチルエチルなどのC11−13ナフチルア
ルキル;スチリルなどのC8−10フェニルアルケニル;2
−(2−ナフチルビニル)などのC12−13ナフチルアル
ケニルなどが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、
C6−14芳香族炭化水素基(例、アリール基等)が好まし
い。該芳香族炭化水素基としては、例えばフェニル、ナ
フチル、アントリル、フェナントリル、アセナフチレニ
ル、ビフェニリルなどが挙げられ、なかでもフェニル、
1−ナフチル、2−ナフチルなどが好ましい。前記した
炭化水素基のなかでも、脂肪族炭化水素基が好ましく、
C1−6アルキル基がさらに好ましい。
【0010】RおよびR1で示される「置換基を有してい
てもよい炭化水素基」における「置換基」としては、例
えば、「ハロゲン原子」、「ニトロ基」、「置換基を有
していてもよいヒドロキシ基」、「置換基を有していて
もよいアミノ基」、「置換基を有していてもよいチオー
ル基」、「置換基を有していてもよい複素環基」、「ア
シル基」などが挙げられる。置換基の数は、例えば1な
いし5個、好ましくは1ないし3個である。ここで、
「ハロゲン原子」としては、フッ素、塩素、臭素および
ヨウ素が挙げられ、なかでもフッ素および塩素が好まし
い。「置換基を有していてもよいヒドロキシ基」および
「置換基を有していてもよいアミノ基」としては、前記
Qとして例示したものが挙げられる。「置換基を有して
いてもよいチオール基」における置換基としては、例え
ばC1 −10アルキル基、C3−10シクロアルキル基、C2−10
アルケニル基、C3−10シクロアルケニル基、C7−10アラ
ルキル基、C1−13アシル基(好ましくはC2−10アルカノ
イル基、C7−13アリールカルボニル基等)、C6−14アリ
ール基などが挙げられる。「置換基を有していてもよい
チオール基」としては、例えばチオール基、C1− 10アル
キルチオ基、C3−10シクロアルキルチオ基、C2−10アル
ケニルチオ基、C3 −10シクロアルケニルチオ基、C7−10
アラルキルチオ基、C2−13アシルチオ基、C6−14アリー
ルチオ基などが挙げられる。C1−10アルキルチオ基の好
適な例としては、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチ
オ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、
sec.−ブチルチオ、t.−ブチルチオ、ペンチルチオ、イ
ソペンチルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘ
プチルチオ、ノニルチオなどが挙げられる。C3−10シク
ロアルキルチオ基の好適な例としては、シクロプロピル
チオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロ
ヘキシルチオなどが挙げられる。C2−10アルケニルチオ
基の好適な例としては、アリル(allyl)チオ、クロチ
ルチオ、2−ペンテニルチオ、3−ヘキセニルチオなど
が挙げられる。C3−10シクロアルケニルチオ基の好適な
例としては、2−シクロペンテニルチオ、2−シクロヘ
キセニルチオなどが挙げられる。C7−10アラルキルチオ
基の好適な例としては、フェニル−C1−4アルキルチ
オ(例、ベンジルチオ、フェネチルチオなど)などが挙
げられる。C2−13アシルチオ基の好適な例としては、C
2−4アルカノイルチオ(例、アセチルチオ、プロピオニ
ルチオ、ブチリルチオ、イソブチリルチオなど)などが
挙げられる。C6−14アリールチオ基の好適な例として
は、フェニルチオ、ナフチルチオなどが挙げられる。
【0011】「置換基を有していてもよい複素環基」に
おける複素環基としては、例えば環構成原子として炭素
原子以外に酸素原子、硫黄原子および窒素原子から選ば
れるヘテロ原子を1ないし4個含有する5〜7員の単環
式複素環基またはその縮合複素環基が挙げられる。該縮
合複素環基としては、例えばこれら5〜7員の単環式複
素環基と、1ないし2個の窒素原子を含む6員環、ベン
ゼン環または1個の硫黄原子を含む5員環とが縮合した
基などが挙げられる。該複素環基の好適な例としては、
例えばフリル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、イ
ソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダ
ゾリル、ピラゾリル、1,2,3−オキサジアゾリル、
1,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジ
アゾリル、フラザニル、1,2,3−チアジアゾリル、
1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾ
リル、1,2,3−トリアゾリル、1,2,4−トリア
ゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピリ
ダジニル、ピラジニル、トリアジニル、ベンゾフラニ
ル、イソベンゾフラニル、ベンゾ[b]チエニル、イン
ドリル、イソインドリル、1H−インダゾリル、ベンズ
イミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、1H−ベンゾトリアゾリル、キノリル、イソキノリ
ル、シンノリル、キナゾリル、キノキサリニル、フタラ
ジニル、ナフチリジニル、プリニル、プテリジニル、カ
ルバゾリル、α−カルボニリル、β−カルボニリル、γ
−カルボニリル、アクリジニル、フェノキサジニル、フ
ェノチアジニル、フェナジニル、フェノキサチイニル、
チアントレニル、インドリジニル、ピロロ[1,2−
b]ピリダジニル、ピラゾロ[1,5−a]ピリジル、
イミダゾ[1,2−a]ピリジル、イミダゾ[1,5−
a]ピリジル、イミダゾ[1,2−b]ピリダジニル、
イミダゾ[1,2−a]ピリミジニル、1,2,4−ト
リアゾロ[4,3−a]ピリジル、1,2,4−トリア
ゾロ[4,3−b]ピリダジニルなどの芳香族複素環
基;例えばオキシラニル、アゼチジニル、オキセタニ
ル、チエタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリル、
テトラヒドロピラニル、モルホリニル、チオモルホリニ
ル、ピペラジニル、ピロリジニル、ピペリジノ、モルホ
リノ、チオモルホリノなどの非芳香族複素環基が挙げら
れる。
【0012】前記「置換基を有していてもよい複素環
基」における置換基としては、例えば1〜3個のハロゲ
ン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など)で置換
されていてもよいC1−6アルキル基;1〜3個のハロゲ
ン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など)で置換
されていてもよいC2−6アルケニル基;C3−10シクロア
ルキル基;C6−14アリール基(例、フェニル、ナフチル
など);芳香族複素環基(例、チエニル、フリル、ピリ
ジル、オキサゾリル、チアゾリルなど);非芳香族複素
環基(例、テトラヒドロフリル、モルホリノ、チオモル
ホリノ、ピペリジノ、ピロリジニル、ピペラジニルな
ど);C7−9アラルキル基;C1−4アルキル基あるいはC
2−8アシル基(例、アルカノイル基など)でモノあるい
はジ置換されていてよいアミノ基;アミジノ基;C2−8
アルカノイル基;C1−4アルキル基でモノあるいはジ置
換されていてよいカルバモイル基;C1−4アルキル基で
モノあるいはジ置換されていてよいスルファモイル基;
カルボキシル基;C2−8アルコキシカルボニル基;ヒド
ロキシ基;1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC1−6
アルコキシ基;1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC2
−5アルケニルオキシ基;C3−7シクロアルキルオキシ
基;C7−9アラルキルオキシ基;C6−14アリールオキシ
基(例、フェニルオキシ、ナフチルオキシなど);チオ
ール基;1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC1−6アル
キルチオ基;C7−9アラルキルチオ基;C6−14アリール
チオ基(例、フェニルチオ、ナフチルチオなど);スル
ホ基;シアノ基;アジド基;ニトロ基;ニトロソ基;ハ
ロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)などが
挙げられる。置換基の数は、例えば1ないし3個であ
る。
【0013】「アシル基」としては、例えば式: −C
O−R9,−CO−OR9,−CO−NR910,−CS
−NR910,−SO−R9,−SO−R9または−P
910 [式中、R9およびR10は、同一または異
なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素
基または置換基を有していてもよい複素環基を示す]で
表される基などが挙げられる。R9またはR10で示され
る「置換基を有していてもよい炭化水素基」における炭
化水素基としては、例えば前記RおよびR1として例示し
たものが挙げられる。なかでも、C1−10アルキル基、C
3−10シクロアルキル基、C2−10アルケニル基、C3−10
シクロアルケニル基、C6−14アリール基、C7−13アラル
キル基が好ましい。該「置換基を有していてもよい炭化
水素基」における置換基としては、例えば芳香族複素環
基(例、チエニル、フリル、ピリジル、オキサゾリル、
チアゾリルなど);非芳香族複素環基(例、テトラヒド
ロフリル、モルホリノ、チオモルホリノ、ピペリジノ、
ピロリジニル、ピペラジニルなど);C1−4アルキル基
あるいはC2−8アシル基(例、アルカノイル基など)で
モノあるいはジ置換されていてよいアミノ基;アミジノ
基;C2−8アルカノイル基;C1−4アルキル基でモノある
いはジ置換されていてよいカルバモイル基;C1−4アル
キル基でモノあるいはジ置換されていてよいスルファモ
イル基;カルボキシル基;C2−8アルコキシカルボニル
基;ヒドロキシ基;1〜3個のハロゲン原子(例、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素など)で置換されていてもよい
C1−6アルコキシ基;1〜3個のハロゲン原子(例、フ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素など)で置換されていてもよ
いC2−5アルケニルオキシ基;C3−7シクロアルキルオキ
シ基;C7−9アラルキルオキシ基;C6−14アリールオキ
シ基(例、フェニルオキシ、ナフチルオキシなど);チ
オール基;1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC1−6
アルキルチオ基;C7−9アラルキルチオ基;C6−14アリ
ールチオ基(例、フェニルチオ、ナフチルチオなど);
スルホ基;シアノ基;アジド基;ニトロ基;ニトロソ
基;ハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)
などが挙げられる。置換基の数は、例えば1ないし3個
である。R9またはR10で示される「置換基を有してい
てもよい複素環基」としては、例えば前記RおよびR1
示される「置換基を有していてもよい炭化水素基」にお
ける「置換基」として例示したものが挙げられる。アシ
ル基の好適な例としては、ホルミル基、カルボキシル
基、C2−11アルカノイル基(例、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリ
ル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタ
ノイルなど)、C4−11シクロアルキルカルボニル基
(例、シクロブタンカルボニル、シクロペンタンカルボ
ニル、シクロヘキサンカルボニル、シクロヘプタンカル
ボニルなど)、C3−11アルケノイル基(例、クロトニル
など)、C4−11シクロアルケノイル基(例、2−シクロ
ヘキセンカルボニルなど)、C7−13アリールカルボニル
基(例、ベンゾイルなど)、C1−6アルキルスルホニル
(例、メタンスルホニル、エタンスルホニルなど)、C
2−7アルコキシカルボニル(例、メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、tert−ブ
トキシカルボニルなど)、C7 −15アリールカルボニル
(例、ベンゾイル、1−ナフトイル、2−ナフトイルな
ど)、C7−15アリールオキシカルボニル(例、フェニル
オキシカルボニル、1−ナフチルオキシカルボニル、2−
ナフチルオキシカルボニルなど)、C8−14アラルキルオ
キシカルボニル(例、ベンジルオキシカルボニル、フェ
ネチルオキシカルボニルなど)などが挙げられる。
【0014】RおよびR1で示される「置換基を有してい
てもよい炭化水素基」は、好ましくは炭素数1〜8の脂
肪族炭化水素基であり、さらに好ましくは炭素数1〜8
のアルキル基である。とりわけ、メチル、エチルなどが
好ましい。
【0015】Zで示される「アシル基」としては、前記
RおよびR1で示される「置換基を有していてもよい炭化
水素基」における置換基として例示したものが挙げられ
る。該アシル基は、好ましくはC2−11アルカノイル基
(例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイ
ル、ヘプタノイル、オクタノイルなど)、C7−15アリー
ルカルボニル基(例、ベンゾイルなど)、C1−6アルキ
ルスルホニル(例、メタンスルホニル、エタンスルホニ
ルなど)、C2−7アルコキシカルボニル(例、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、tert−ブトキシカルボニルなど)、C7−1 5アリール
カルボニル(例、ベンゾイル、1−ナフトイル、2−ナフ
トイルなど)、C8−14アラルキルオキシカルボニル
(例、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカ
ルボニルなど)などである。なかでもC8−14アラルキル
オキシカルボニル(例、ベンジルオキシカルボニル、フ
ェネチルオキシカルボニルなど)が好ましい。
【0016】R3で示される「アルキル基」としては、例
えばC1−10アルキル基が挙げられる。該C1−10アルキル
基の好適な例としては、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、sec.−ブチル、t.−
ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、ノニルなどが挙げられる。「アルキル
基」は、好ましくはC1−6アルキル基であり、なかでも
メチル、エチル、プロピル、イソプロピルなどが好まし
い。Rで示されるアルキル基は、アラルキル基であっ
てもよく、該アラルキル基としては、ベンジル、フェネ
チルなどのC7−10アラルキル基が挙げられる。なか
でもベンジルが好ましい。
【0017】R4で示される「置換基を有していてもよい
炭化水素基」としては、前記RおよびR1として例示した
ものが挙げられる。R4で示される「置換基を有していて
もよい複素環基」としては、前記RおよびR 1で示される
「置換基を有していてもよい炭化水素基」における置換
基として例示したものが挙げられる。R4は、好ましくは
置換基を有していてもよい複素環基または置換基を有し
ていてもよい環状炭化水素基である。R4は、さらに好ま
しくは置換基を有していてもよい複素環基である。ここ
で、複素環基としては、ベンゼン環と縮合していてもよ
い5または6員芳香族複素環基(好ましくはフリル、チ
エニル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、オキサ
ゾリル、チアゾリル、トリアゾリル、オキサジアゾリ
ル、ピラゾリル)が好ましい。なかでも、フリル、チエ
ニル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、オキサゾ
リル、チアゾリル、オキサジアゾリル、ベンゾオキサゾ
リル、ベンゾチアゾリル、キノリル、ピラゾリルなどが
好ましい。前記した複素環基または環状炭化水素基が有
していてもよい置換基の好適な例としては、例えば 1)1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC1−6アルキ
ル基、1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC1−6アルコ
キシ基、ハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素など)、ニトロ基、ヒドロキシ基およびアミノ基から
選ばれる1〜3個の置換基をそれぞれ有していてもよい
フリル、チエニル、ピリジル、ピラジニル、フェニルま
たはナフチル; 2)1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC1−6アルコ
キシ基、ハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素など)、ニトロ基、ヒドロキシ基およびアミノ基から
選ばれる1〜3個の置換基をそれぞれ有していてもよい
C1−6アルキル基またはC3−7シクロアルキル基などが挙
げられる。置換基の数は、例えば1または2個である。
R4は、特に好ましくはC1−3アルキル基、C3−7シクロア
ルキル基、フリル、チエニル、ピリジル、フェニルおよ
びナフチルから選ばれる1ないし2個の置換基をそれぞ
れ有していてもよいピリジル、オキサゾリル、チアゾリ
ル、トリアゾリルまたはピラゾリルである。
【0018】Xは、結合手、酸素原子、硫黄原子、−C
O−、−CS−、−CR5(OR6)−または−NR7
(R5およびR7はそれぞれ水素原子または置換基を有し
ていてもよい炭化水素基を、R6は水素原子または水酸
基の保護基を示す)を示す。R5およびR7で示される
「置換基を有していてもよい炭化水素基」としては、前
記RおよびR1として例示したものが挙げられる。該「置
換基を有していてもよい炭化水素基」は、好ましくは、
置換基を有していてもよいC1−6アルキル基(例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、sec.-ブチル、t.-ブチルなど)である。該ア
ルキル基は、置換可能な位置に1〜3個の置換基を有し
ていてもよく、このような置換基としては、例えばハロ
ゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、C1−6
アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec.−ブト
キシ、t.−ブトキシなど)、ヒドロキシ基、ニトロ基、
アミノ基、C1−6アシル基(例、ホルミル、アセチル、
プロピオニルなどのC1−6アルカノイル基)などが挙げ
られる。R5およびR7は、好ましくは水素原子またはC
1−6アルキル基である。R6で示される「水酸基の保護
基」としては、例えば、C1−6アルキル(例、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチ
ルなど)、フェニル、トリチル、C7−10アラルキル
(例、ベンジルなど)、ホルミル、C1−6アルキル−カ
ルボニル(例、アセチル、プロピオニルなど)、ベンゾ
イル、C7−10アラルキル−カルボニル(例、ベンジルカ
ルボニルなど)、2−テトラヒドロピラニル、2−テト
ラヒドロフラニル、シリル(例、トリメチルシリル、ト
リエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、tert−ブチ
ルジメチルシリル、tert−ブチルジエチルシリルな
ど)、C2−6アルケニル(例、1−アリルなど)などが
挙げられる。これらの基は、1ないし3個のハロゲン原
子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など)、C1−6
ルキル(例、メチル、エチル、プロピルなど)、C1−6
アルコキシ(例、メトキシ、エトキシ、プロポキシな
ど)またはニトロなどで置換されていてもよい。Xは、
好ましくは、結合手、−CR5(OR6)−または−NR
7−(記号は前記と同意義を示す)であり、さらに好ま
しくは結合手または−NR7−(記号は前記と同意義を
示す)である。Xは、特に好ましくは結合手である。
【0019】qは0ないし3の整数を示し、好ましくは
1ないし3の整数、さらに好ましくは1または2であ
る。Yは、酸素原子、硫黄原子、−SO−、−SO
2−、−NR8−、−CONR8−または−NR8CO−
(R8は水素原子または置換基を有していてもよい炭化
水素基を示す)を示し、好ましくは、酸素原子、硫黄原
子、−NR8−または−NR8CO−(記号は前記と同意
義を示す)である。ここで、R8で示される「置換基を
有していてもよい炭化水素基」としては、前記R5およ
びR7として例示した「置換基を有していてもよい炭化
水素基」が挙げられる。R8は、好ましくは水素原子で
ある。Yは、特に好ましくは酸素原子である。
【0020】環Aで示される「1ないし3個の置換基を
さらに有していてもよい芳香環」における「芳香環」と
しては、例えば、ベンゼン環、縮合芳香族炭化水素環、
5または6員芳香族複素環、縮合芳香族複素環などが挙
げられる。ここで、「縮合芳香族炭化水素環」として
は、例えば炭素数9ないし14の縮合芳香族炭化水素な
どが挙げられる。具体的には、ナフタレン、インデン、
フルオレン、アントラセンなどが挙げられる。「5また
は6員芳香族複素環」としては、例えば、炭素原子以外
に窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれるヘテ
ロ原子を1ないし3個含む5または6員芳香族複素環な
どが挙げられる。具体的には、チオフェン、フラン、ピ
ロール、イミダゾール、ピラゾール、チアゾール、イソ
チアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、ピリジ
ン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、1,2,4−オキ
サジアゾール、1,3,4−オキサジアゾール、1,2,4−チア
ジアゾール、1,3,4−チアジアゾール、フラザンなどが
挙げられる。「縮合芳香族複素環」としては、例えば、
炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子および酸素原子から
選ばれるヘテロ原子を1ないし4個含む9ないし14員
(好ましくは9または10員)の縮合芳香族複素環など
が挙げられる。具体的には、ベンゾフラン、ベンゾチオ
フェン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベ
ンゾチアゾール、ベンズイソチアゾール、ナフト[2,3−
b]チオフェン、イソキノリン、キノリン、インドール、
キノキサリン、フェナントリジン、フェノチアジン、フ
ェノキサジン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリ
ン、シンノリン、カルバゾール、β−カルボリン、アク
リジン、フェナジン、フタルイミドなどが挙げられる。
「芳香環」は、好ましくはベンゼン環、炭素数9ないし
14の縮合芳香族炭化水素環(好ましくはナフタレンな
ど)、5または6員芳香族複素環(好ましくはピリジ
ン、イソオキサゾールなど)などである。
【0021】環Aで示される「それぞれ1ないし3個の
置換基をさらに有していてもよい芳香環」における「置
換基」としては、「置換基を有していてもよい脂肪族炭
化水素基」、および前記RおよびR1で示される「置換基
を有していてもよい炭化水素基」における置換基として
それぞれ例示した「ハロゲン原子」、「ニトロ基」、
「置換基を有していてもよいヒドロキシ基」、「置換基
を有していてもよいアミノ基」、「アシル基」などが挙
げられる。ここで、「置換基を有していてもよい脂肪族
炭化水素基」における「脂肪族炭化水素基」としては、
前記RおよびR1で示される「置換基を有していてもよい
炭化水素基」における「炭化水素基」として例示したも
のが挙げられる。なかでも、C1−10アルキル基、C2−10
アルケニル基およびC2−10アルキニル基が好ましい。該
「置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基」におけ
る「置換基」としては、例えばC3−10シクロアルキル
基;C6−14アリール基(例、フェニル、ナフチルな
ど);芳香族複素環基(例、チエニル、フリル、ピリジ
ル、オキサゾリル、チアゾリルなど);非芳香族複素環
基(例、テトラヒドロフリル、モルホリノ、チオモルホ
リノ、ピペリジノ、ピロリジニル、ピペラジニルな
ど);C7−10アラルキル基;C1−6アルキル基あるいはC
2−8アシル基(例、アルカノイル基など)でモノあるい
はジ置換されていてよいアミノ基;アミジノ基;C2−8
アルカノイル基;C1−6アルキル基でモノあるいはジ置
換されていてよいカルバモイル基;C 1−6アルキル基で
モノあるいはジ置換されていてよいスルファモイル基;
カルボキシル基;C2−8アルコキシカルボニル基;ヒド
ロキシ基;1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC1−6
アルコキシ基;1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC
2−5アルケニルオキシ基;C3−7シクロアルキルオキシ
基;C7−10アラルキルオキシ基;C6−14アリールオキシ
基(例、フェニルオキシ、ナフチルオキシなど);チオ
ール基;1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC1−6アル
キルチオ基;C7−1 0アラルキルチオ基;C6−14アリール
チオ基(例、フェニルチオ、ナフチルチオなど);スル
ホ基;シアノ基;アジド基;ニトロ基;ニトロソ基;ハ
ロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)などが
挙げられる。該置換基の数は、例えば1〜3個である。
環Aにおける「置換基」は、好ましくはC1−6アルキル
基、ヒドロキシ基、C1 −6アルコキシ基、C7−10アラル
キルオキシ基(好ましくはベンジルオキシ)、ハロゲン
原子である。環Aは、好ましくは「1ないし3個の置換
基をそれぞれさらに有していてもよいベンゼン環または
ピリジン環」であり、さらに好ましくはC1−6アルキル
基、ヒドロキシ基、C1−6アルコキシ基、C7−10アラル
キルオキシ基およびハロゲン原子から選ばれる1ないし
3個の置換基をそれぞれさらに有していてもよいベンゼ
ン環またはピリジン環である。環Aは、特に好ましくは
ベンゼン環である。
【0022】rは1ないし8の整数を示し、好ましくは
1ないし3の整数である。
【0023】Tで示される「脱離基」としては、例えば
ハロゲン原子(例、塩素、臭素、ヨウ素など)、ハロゲ
ン化されていてもよいC1−6アルキルスルホニルオキシ
(例、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキ
シ、トリフルオロメタンスルホニルオキシなど)、置換
基を有していてもよいC6−10アリールスルホニルオキ
シ、ヒドロキシなどが挙げられる。該「置換基を有して
いてもよいC6−10アリールスルホニルオキシ」における
「置換基」としては、例えばハロゲン原子(例、塩素、
臭素、ヨウ素など)、ハロゲン化されていてもよいC
1−6アルキルまたはC1−6アルコキシなどが挙げられ
る。置換基の数は、例えば1ないし3個である。「置換
基を有していてもよいC6− 10アリールスルホニルオキ
シ」の具体例としては、ベンゼンスルホニルオキシ、p
−トルエンスルホニルオキシ、1−ナフタレンスルホニ
ルオキシ、2−ナフタレンスルホニルオキシなどが挙げ
られる。該「脱離基」は、好ましくは、ハロゲン原子
(例、塩素、臭素、ヨウ素など)、メタンスルホニルオ
キシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、p−トル
エンスルホニルオキシなどである。
【0024】R4、X、q、Y、環Aおよびrの好適な組
合せとしては、以下の組合せが挙げられる。 R4が1)1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC1−6アル
キル基、1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC1−6アル
コキシ基、ハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素など)、ニトロ基、ヒドロキシ基およびアミノ基か
ら選ばれる1〜3個の置換基をそれぞれ有していてもよ
いフリル、チエニル、ピリジル、ピラジニル、フェニル
またはナフチル;および 2)1〜3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素など)で置換されていてもよいC1−6アルコ
キシ基、ハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素など)、ニトロ基、ヒドロキシ基およびアミノ基から
選ばれる1〜3個の置換基をそれぞれ有していてもよい
C1−6アルキル基またはC3−7シクロアルキル基;から選
ばれる1または2個の置換基を有していてもよく、ベン
ゼン環と縮合していてもよい5または6員芳香族複素環
基(好ましくはフリル、チエニル、ピリジル、ピリミジ
ニル、ピラジニル、オキサゾリル、チアゾリル、トリア
ゾリル、オキサジアゾリル、ピラゾリル);Xが、結合
手または−NR7−(R7が水素原子またはC1−6アルキ
ル基);qが1または2;Yが酸素原子、硫黄原子、−
NH−または−NHCO−;環Aが、C1−6アルキル
基、ヒドロキシ基、C1−6アルコキシ基、C7−10アラル
キルオキシ基およびハロゲン原子から選ばれる1ないし
3個の置換基をそれぞれさらに有していてもよいベンゼ
ン環、炭素数9ないし14の縮合芳香族炭化水素環(好
ましくはナフタレンなど)または5または6員芳香族複
素環(好ましくはピリジン、イソオキサゾールなど);
およびrが1ないし3の整数。
【0025】R0は、水素原子または置換基を有していて
もよい炭化水素基を示す。ここで、「置換基を有してい
てもよい炭化水素基」としては、前記R1として例示した
「置換基を有していてもよい炭化水素基」と同一のもの
が挙げられる。R0は好ましくは水素原子である。本発明
の製造法において用いられる化合物(II)に関し、Qが
ヒドロキシ基である化合物は、式
【化33】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と同一である。
【0026】以下、本発明の製造法について詳述する。
本発明の製造法において用いられる化合物(I)、(I
I)、(III)、(IV)、(V)、(VI)、(VII)および
(VIII) [以下、これらの化合物を本発明化合物と略
記することがある]が塩である場合、該塩としては、例
えば無機塩基との塩、有機塩基との塩、無機酸との塩、
有機酸との塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩などが
挙げられる。無機塩基との塩の好適な例としては、例え
ばナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩;カ
ルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土類金属
塩;ならびにアルミニウム塩、アンモニウム塩などが挙
げられる。有機塩基との塩の好適な例としては、例えば
トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコ
リン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエ
タノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、N,N−ジ
ベンジルエチレンジアミンなどとの塩が挙げられる。無
機酸との塩の好適な例としては、例えば塩酸、臭化水素
酸、硝酸、硫酸、リン酸などとの塩が挙げられる。有機
酸との塩の好適な例としては、例えばギ酸、酢酸、トリ
フルオロ酢酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン
酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸など
との塩が挙げられる。塩基性アミノ酸との塩の好適な例
としては、例えばアルギニン、リジン、オルニチンなど
との塩が挙げられる。酸性アミノ酸との塩の好適な例と
しては、例えばアスパラギン酸、グルタミン酸などとの
塩が挙げられる。また、本発明化合物は、同位元素
(例、3H, 14C, 35S,125Iなど)などで標識されていて
もよく、無水物であっても、水和物であってもよい。
【0027】化合物(II)とヒドラジンまたはその塩と
を反応させることにより、化合物(I)を製造すること
ができる。ここで、ヒドラジンの塩としては、例えば無
機酸との塩、有機酸との塩、酸性アミノ酸との塩などが
挙げられる。これらの塩としては、前記と同様の塩が用
いられる。ヒドラジンの塩は、好ましくは無機酸との塩
であり、さらに好ましくは塩酸塩である。ヒドラジンま
たはその塩は、無水物であっても、水和物であってもよ
い。ヒドラジンまたはその塩の使用量は、化合物(II)
に対して、通常、1ないし10モル当量、好ましくは1
ないし3モル当量である。本反応は、通常、反応に悪影
響を及ぼさない溶媒中で行われる。このような溶媒とし
ては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族炭化水素類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチル
メチルエーテルなどのエーテル類;クロロホルム、ジク
ロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類;N,N−ジメ
チルホルムアミドなどのアミド類;ジメチルスルホキシ
ドなどのスルホキシド類;メタノール、エタノール、イ
ソプロパノールなどのアルコール類;酢酸エチルなどの
エステル類;水などが挙げられる。これらの溶媒は、適
宜の割合で混合して用いてもよい。反応温度は、通常、
−50〜150℃、好ましくは−10〜100℃であ
る。反応時間は、通常、0.5〜24時間、好ましくは
1〜10時間である。なお、化合物(II)が例えばアル
カリ金属塩などの塩である場合、該塩を酢酸などの弱酸
を用いて中和した後に、ヒドラジンまたはその塩と反応
させることが好ましい。このようにして得られる化合物
(I)は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃
縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィ
ーなどにより単離精製することができる。また、化合物
(I)を単離精製せずに、該化合物を含む反応液をその
まま次の反応に供してもよい。上記化合物(II)は、自
体公知の方法にしたがって製造することができる。この
ようにして製造される化合物(II)を単離精製せずに、
該化合物を含む反応液をそのまま原料として反応に供し
てもよい。また、ヒドラジンまたはその塩は、市販品と
して入手可能である。
【0028】化合物(I)をアシル化反応に付すことに
より、化合物(III)を製造することができる。アシル
化反応は、自体公知の方法、例えば、化合物(I)と式
(IX): Z−OH (Zはアシル基を示す)で表され
る化合物[以下、化合物(IX)と略記することがある]
とを縮合剤(例、ジシクロヘキシルカルボジイミドな
ど)を用いて直接縮合させる方法、あるいは、化合物
(IX)の反応性誘導体と、化合物(I)とを適宜反応さ
せる方法等を用いて行われる。ここで、化合物(IX)の
反応性誘導体としては、例えば、酸ハライド(例、酸ク
ロリド、酸ブロミド)、酸無水物、イミダゾリド、ある
いは混合酸無水物(例、メチル炭酸、エチル炭酸、イソ
ブチル炭酸との無水物など)などが挙げられる。例えば
化合物(IX)の反応性誘導体として酸ハライドを用いる
場合、反応は塩基の存在下、反応に悪影響を及ぼさない
溶媒中で行われる。塩基としては、例えばトリエチルア
ミン、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアニリ
ンなどのアミン類;炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩;水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属等
が挙げられる。塩基の使用量は、化合物(IX)に対し
て、通常、0.1〜10モル当量、好ましくは1〜3モ
ル当量である。反応に悪影響を及ぼさない溶媒として
は、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチルメ
チルエーテルなどのエーテル類;クロロホルム、ジクロ
ロメタンなどのハロゲン化炭化水素類;N,N−ジメチ
ルホルムアミドなどのアミド類;ジメチルスルホキシド
などのスルホキシド類;メタノール、エタノール、イソ
プロパノールなどのアルコール類;酢酸エチルなどのエ
ステル類;水などが挙げられる。これらの溶媒は、適宜
の割合で混合して用いてもよい。化合物(I)の使用量
は、化合物(IX)に対して、通常、0.1〜10モル当
量、好ましくは0.3〜3モル当量である。反応温度
は、通常、−50〜150℃、好ましくは−10〜10
0℃である。反応時間は、通常、0.5〜24時間、好
ましくは0.5〜5時間である。また、化合物(IX)の
反応性誘導体として混合酸無水物を用いる場合、化合物
(IX)とクロロ炭酸エステルを塩基の存在下に反応さ
せ、さらに化合物(I)と反応させる。クロロ炭酸エス
テルとしては、例えばクロロ炭酸メチル、クロロ炭酸エ
チル、クロロ炭酸イソブチルなどが挙げられる。クロロ
炭酸エステルの使用量は、化合物(IX)に対して、通
常、0.1〜10モル当量、好ましくは0.3〜3モル
当量である。塩基としては、例えば、トリエチルアミ
ン、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアニリン
などのアミン類;炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩などが挙げ
られる。塩基の使用量は、化合物(IX)に対して、通
常、0.1〜10モル当量、好ましくは0.3〜3モル
当量である。化合物(I)の使用量は、化合物(IX)に
対して、通常、0.1〜10モル当量、好ましくは0.
3〜3モル当量である。反応温度は、通常、−50〜1
50℃、好ましくは−10〜100℃である。反応時間
は、通常、0.5〜24時間、好ましくは0.5〜5時
間である。このようにして得られる化合物(III)は,
公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽
出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどによ
り単離精製することができる。また、化合物(III)を
単離精製せずに、該化合物を含む反応液をそのまま次の
反応に供してもよい。上記化合物(IX)は、例えば市販
品として入手可能である。
【0029】化合物(III)をアルキル化反応に付すこ
とにより、化合物(IV)を製造することができる。アル
キル化反応は、自体公知の方法にしたがって、アルキル
化剤を用いて行われる。アルキル化剤としては、式:
R3−T (式中の記号は前記と同意義を示す)で表され
る化合物が挙げられる。アルキル化剤の好適な例として
は、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化エチ
ル、臭化エチル、ヨウ化エチル、1-塩化プロピル、1-
臭化プロピル、1−ヨウ化プロピル、2-塩化プロピ
ル、2-臭化プロピル、2−ヨウ化プロピル、硫酸ジメ
チル、硫酸ジエチルなどが挙げられる。アルキル化剤の
使用量は、化合物(III)に対して、通常、0.5〜1
0モル当量、好ましくは1〜3モル当量である。本反応
は、例えば塩基の存在下、反応に悪影響を及ぼさない溶
媒中で行われる。塩基としては、例えばトリエチルアミ
ン、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアニリン
などのアミン類;炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩;ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムtert
−ブトキシド、カリウム tert−ブトキシドなどのアル
カリ金属アルコキシド;水素化カリウム、水素化ナトリ
ウムなどのアルカリ金属水素化物等が挙げられる。塩基
の使用量は、化合物(III)に対して、通常、0.5〜
10モル当量、好ましくは1〜3モル当量である。反応
に悪影響を及ぼさない溶媒としては、例えばベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、tert−ブチルメチルエーテルなどのエ
ーテル類;クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲ
ン化炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミドなどの
アミド類;ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド
類;メタノール、エタノール、イソプロパノールなどの
アルコール類;酢酸エチルなどのエステル類;水などが
挙げられる。これらの溶媒は、適宜の割合で混合して用
いてもよい。反応温度は、通常、−50〜150℃、好
ましくは−10〜100℃である。反応時間は、通常、
0.5〜24時間、好ましくは1〜10時間である。こ
のようにして得られる化合物(IV)は,公知の分離精製
手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結
晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製する
ことができる。また、化合物(IV)を単離精製せずに、
該化合物を含む反応液をそのまま次の反応に供してもよ
い。上記アルキル化剤は、例えば市販品として入手可能
である。
【0030】化合物(IV)を脱アシル化反応に付すこと
により、化合物(V)を製造することができる。脱アシ
ル化反応は、自体公知の方法にしたがって行うことがで
きる。脱アシル化反応は、例えば化合物(IV)を、酸ま
たは塩基の水溶液中、通常-20℃ないし200℃、好ましく
は20℃ないし140℃に保持することにより行われる。酸
としては、例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸、ヨウ素酸、
過ヨウ素酸などが挙げられる。また、塩基としては、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ムなどのアルカリ金属水酸化物などが挙げられる。酸ま
たは塩基の使用量は、化合物(IV)に対して、通常1な
いし100当量、好ましくは1ないし40当量である。酸また
は塩基の強さは、通常、0.1規定ないし18規定、好まし
くは1規定ないし12規定である。反応時間は、通常0.5時
間ないし48時間、好ましくは1時間ないし24時間であ
る。また、Zがtert-ブトキシカルボニル基等である場
合、脱アシル化反応は、化合物(IV)を有機酸(例えば
トリフルオロ酢酸、ぎ酸、酢酸、メタンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等)
に溶解し、通常-20℃ないし200℃、好ましくは0℃ない
し100℃に保持することによっても行われる。該有機酸
の使用量は、化合物(IV)に対して、通常1ないし100当
量、好ましくは1ないし40当量である。さらに、脱アシ
ル化反応は、パラジウム、パラジウム−炭素、ラネーニ
ッケル、ラネーコバルト、酸化白金等を触媒として、例
えばエタノール等のアルコール系溶媒や酢酸等の溶媒中
で、常圧あるいは必要に応じて加圧下に、化合物(IV)
を接触還元反応に付すことによっても行われる。このよ
うにして得られる化合物(V)は,公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。また、化合物(V)を単離精製せずに、該化
合物を含む反応液をそのまま次の反応に供してもよい。
【0031】化合物(V)と化合物(VI)とを反応させ
ることにより、化合物(VII)[R0=置換基を有してい
てもよい炭化水素基]を製造することができる。化合物
(VI)において、Tがハロゲン原子、ハロゲン化されて
いてもよいC1− 6アルキルスルホニルオキシ、置換基を
有していてもよいC6−10アリールスルホニルオキシであ
る場合、本反応は、塩基の存在下、反応に悪影響を及ぼ
さない溶媒中で行われる。塩基としては、例えば水酸化
カリウム、水酸化ナトリウムなどの水酸化アルカリ金
属;炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ
金属炭酸塩;ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジ
メチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.
0]ウンデカ−7−エンなどのアミン類;水素化カリウ
ム、水素化ナトリウムなどのアルカリ金属水素化物;ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウ
ムtert−ブトキシド、カリウム tert−ブトキシドなど
のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。塩基の使用
量は、化合物(V)に対して、通常、0.5〜10モル
当量、好ましくは1〜5モル当量である。反応に悪影響
を及ぼさない溶媒としては、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、tert−ブチルメチルエーテルなどのエーテル
類;アセトン、2−ブタノンなどのケトン類;クロロホ
ルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類;
N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド類;ジメチ
ルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ
る。これらの溶媒は、適宜の割合で混合して用いてもよ
い。化合物(VI)の使用量は、化合物(V)に対して、
通常、0.5〜10モル当量、好ましくは1〜5モル当
量である。反応温度は、通常、−50〜150℃、好ま
しくは−10〜100℃である。反応時間は、通常、
0.5〜20時間、好ましくは1〜10時間である。ま
た、化合物(VI)において、Tがヒドロキシである場
合、本反応は、自体公知の方法、例えば、シンセシス(S
ynthesis) 1頁 (1981年)に記載の方法、あるい
はそれに準じた方法により行われる。すなわち、本反応
は、有機リン化合物および親電子剤の存在下、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒中で行われる。有機リン化合物と
しては、例えばトリフェニルホスフィン、トリブチルホ
スフィンなどが挙げられる。親電子剤としては、例えば
アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプ
ロピル、アゾジカルボニルジピペラジンなどが挙げられ
る。有機リン化合物および親電子剤の使用量は、化合物
(V)に対して、通常、0.5〜10モル当量、好まし
くは1〜5モル当量である。反応に悪影響を及ぼさない
溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert
−ブチルメチルエーテルなどのエーテル類;クロロホル
ム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類;ベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;
N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド類;ジメチ
ルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ
る。これらの溶媒は、適宜の割合で混合して用いてもよ
い。化合物(VI)の使用量は、化合物(V)に対して、
通常、0.5〜10モル当量、好ましくは1〜5モル当
量である。反応温度は、通常、−50〜150℃、好ま
しくは−10〜100℃である。反応時間は、通常、
0.5〜20時間、好ましくは1〜10時間である。こ
のようにして得られる化合物(VII)[R0=置換基を有
していてもよい炭化水素基]は、公知の分離精製手段、
例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転
溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製することが
できる。また、化合物(VII)[R0=置換基を有してい
てもよい炭化水素基]を単離精製せずに、該化合物を含
む反応液をそのまま次の反応に供してもよい。上記化合
物(VI)は、自体公知の方法、例えばWO 01/38325な
どに記載の方法あるいはこれに準ずる方法によって製造
することができる。
【0032】化合物(VII)[R0=置換基を有していて
もよい炭化水素基]を加水分解反応に付すことによっ
て、化合物(VII)[R0=水素原子]を製造することが
できる。加水分解反応は、常法に従い、酸または塩基の
存在下、含水溶媒中で行われる。酸としては、例えば塩
酸、硫酸、酢酸、臭化水素酸などが挙げられる。塩基と
しては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどのア
ルカリ金属炭酸塩;ナトリウムメトキシドなどのアルカ
リ金属アルコキシド;水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化リチウムなどの水酸化アルカリ金属などが挙
げられる。酸または塩基の使用量は、通常、化合物(VI
I)[R0=置換基を有していてもよい炭化水素基]に対
して過剰量である。好ましくは、酸の使用量は、化合物
(VII)[R0=置換基を有していてもよい炭化水素基]
に対して、2〜50モル当量、塩基の使用量は、化合物
(VII)[R0=置換基を有していてもよい炭化水素基]
に対して、1.2〜5モル当量である。含水溶媒として
は、例えばメタノール、エタノールなどのアルコール
類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチルメチルエー
テルなどのエーテル類;N,N−ジメチルホルムアミド
などのアミド類;ジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シド類;およびアセトンなどケトン類から選ばれる1種
以上の溶媒と水との混合溶媒などが挙げられる。反応温
度は、通常、−20〜150℃、好ましくは−10〜1
00℃である。反応時間は、通常、0.1〜20時間、
好ましくは1〜5時間である。このようにして得られる
化合物(VII)[R0=水素原子]は,公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。
【0033】また、化合物(I)と化合物(VI)とを反
応させることにより、化合物(VIII)を製造することが
できる。本反応は、前記した化合物(V)と化合物(V
I)との反応と同様にして行われる。このようにして得
られる化合物(VIII)は、公知の分離精製手段、例えば
濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロ
マトグラフィーなどにより単離精製することができる。
また、化合物(VIII)を単離精製せずに、該化合物を含
む反応液をそのまま次の反応に供してもよい。
【0034】化合物(VIII)をアルキル化反応に付すこ
とによって、化合物(VII)[R0=置換基を有していて
もよい炭化水素基]を製造することができる。本反応
は、前記した化合物(III)のアルキル化反応と同様に
して行われる。このようにして得られる化合物(VII)
[R0=置換基を有していてもよい炭化水素基]は,公知
の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶
出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離
精製することができる。また、化合物(VII)[R0=置
換基を有していてもよい炭化水素基]を単離精製せず
に、該化合物を含む反応液をそのまま次の反応に供して
もよい。
【0035】本発明の製造法によって得られる化合物
(VII)および化合物(VIII)は、血糖低下作用、血中
脂質低下作用、血中インスリン低下作用、インスリン抵
抗性改善作用、インスリン感受性増強作用およびレチノ
イド関連受容体[例、レチノイドX受容体(RXRα、
RXRβ、RXRγ)、ペルオキシソーム増殖剤応答性
受容体(PPARα、PPARβ(PPARδ)、PP
ARγ)など]機能調節活性を有し、糖尿病(例、1型
糖尿病、2型糖尿病、妊娠糖尿病等)の予防・治療剤;
高脂血症(例、高トリグリセリド血症、高コレステロー
ル血症、低HDL血症、食後高脂血症等)の予防・治療
剤;インスリン抵抗性改善剤;インスリン感受性増強
剤;耐糖能不全[IGT(Impaired Glucose Toleran
ce)]の予防・治療剤;シンドロームXの予防・治療
剤;代謝不全症候群(Dysmetabolic syndrome)の予防
・治療剤などとして有用である。化合物(VII)および
化合物(VIII)は、WO 01/38325などに記載の方法あ
るいはこれに準ずる方法にしたがって、製剤化し、哺乳
動物に投与することができる。
【0036】化合物(VII)および化合物(VIII)は、
糖尿病治療剤、糖尿病性合併症治療剤、抗てんかん薬、
抗うつ薬、オピオイド作動薬、抗高脂血症剤、降圧剤、
抗不整脈薬、抗肥満剤、利尿剤、化学療法剤、免疫療法
剤、抗血栓剤、骨粗鬆症治療剤、抗痴呆剤、勃起不全改
善剤、尿失禁・頻尿治療剤、非ステロイド抗炎症薬、局
所麻酔薬、ビタミン類などの薬剤(以下、併用薬剤と略
記する)と組み合わせて用いることができる。これらの
併用薬剤は、低分子化合物であってもよく、また高分子
の蛋白、ポリペプチド、抗体であるか、あるいはワクチ
ン等であってもよい。
【0037】なお、糖尿病治療剤としては、インスリン
製剤(例、ウシ、ブタの膵臓から抽出された動物インス
リン製剤;大腸菌、イーストを用い、遺伝子工学的に合
成したヒトインスリン製剤;インスリン亜鉛;プロタミ
ンインスリン亜鉛;インスリンのフラグメントまたは誘
導体(例、INS−1等)など)、インスリン抵抗性改
善剤(例、ピオグリタゾンまたはその塩(好ましくは塩
酸塩)、ロシグリタゾンまたはその塩(好ましくはマレ
イン酸塩)、レグリキサン(Reglixane)(JTT-501)、GI-2
62570、ネトグリタゾン(Netoglitazone)(MCC-555)、YM-
440、DRF-2593、BM-13.1258、KRP-297、R-119702、CS-0
11、FK-614、WO99/58510に記載の化合物(例えば(E)-4
-[4-(5-メチル-2-フェニル-4-オキサゾリルメトキシ)ベ
ンジルオキシイミノ]-4-フェニル酪酸)、テサグリタザ
ール(Tesaglitazar)(AZ−242)、ラガグリタザール
(Ragaglitazar)(NN-622)、BMS-298585、ONO-5816、
BM-13-1258、LM-4156、MBX-102、LY-519818、MX-6054、
LY-510929等)、α−グルコシダーゼ阻害剤(例、ボグ
リボース、アカルボース、ミグリトール、エミグリテー
ト等)、ビグアナイド剤(例、フェンホルミン、メトホ
ルミン、ブホルミン等)、インスリン分泌促進剤[スル
ホニルウレア剤(例、トルブタミド、グリベンクラミ
ド、グリクラジド、クロルプロパミド、トラザミド、ア
セトヘキサミド、グリクロピラミド、グリメピリド、グ
リピザイド、グリブゾール等)、レパグリニド、セナグ
リニド、ナテグリニド、ミチグリニドまたはそのカルシ
ウム塩水和物等]、GLP−1受容体アゴニスト[例、
GLP-1、NN-2211、AC-2993(exendin-4)、BIM-51077、Aib
(8,35)hGLP-1(7,37)NH2等]、アミリンアゴニスト
(例、プラムリンチド等)、フォスフォチロシンフォス
ファターゼ阻害剤(例、バナジン酸等)、ジペプチジル
ペプチダーゼIV阻害剤(例、NVP-DPP-278、PT-100、P
32/98、NVP-DPP-728、LAF237等)、β3アゴニスト
(例、CL-316243、SR-58611-A、UL-TG-307、SB-22655
2、AJ-9677、BMS-196085、AZ40140等)、糖新生阻害剤
(例、グリコーゲンホスホリラーゼ阻害剤、グルコース
−6−ホスファターゼ阻害剤、グルカゴン拮抗剤等)、
SGLT(sodium-glucose cotransporter)阻害剤
(例、T-1095等)等が挙げられる。
【0038】糖尿病性合併症治療剤としては、アルドー
ス還元酵素阻害剤(例、トルレスタット、エパルレスタ
ット、ゼナレスタット、ゾポルレスタット、ミナルレス
タット、フィダレスタット、SNK-860、CT-112等)、神
経栄養因子およびその増加薬(例、NGF、NT-3、BDNF、W
O01/14372に記載のニューロトロフィン産生・分泌促進
剤(例えば4-(4-クロロフェニル)-2-(2-メチル-1-イミ
ダゾリル)-5-[3-(2-メチルフェノキシ)プロピル]オキサ
ゾールなど)等)、神経再生促進薬(例、Y-128等)、P
KC阻害剤(例、LY-333531等)、AGE阻害剤(例、ALT94
6、ピマゲジン、ピラトキサチン、N-フェナシルチアゾ
リウム ブロマイド(ALT766)、EXO-226等)、活性酸
素消去薬(例、チオクト酸等)、脳血管拡張剤(例、チ
アプリド、メキシレチン等)等が挙げられる。
【0039】抗てんかん薬としては、例えばギャバペン
チン、カルバマゼピン等が挙げられる。抗うつ薬として
は、例えばアミトリプチリン、イミプラミン等が挙げら
れる。オピオイド作動薬としては、例えばモルヒネ等が
挙げられる。抗高脂血症剤としては、スタチン系化合物
(例、セリバスタチン、プラバスタチン、シンバスタチ
ン、ロバスタチン、アトルバスタチン、フルバスタチ
ン、イタバスタチンまたはそれらの塩(例、ナトリウム
塩)等)、スクアレン合成酵素阻害剤(例、WO97/10224
に記載の化合物、例えばN−[[(3R,5S)-1-(3-アセト
キシ-2,2-ジメチルプロピル)-7-クロロ-5-(2,3-ジメト
キシフェニル)-2-オキソ-1,2,3,5-テトラヒドロ-4,1-ベ
ンゾオキサゼピン-3-イル]アセチル]ピペリジン-4-酢
酸など)、フィブラート系化合物(例、ベザフィブラー
ト、クロフィブラート、シムフィブラート、クリノフィ
ブラート等)、抗酸化剤(例、リポ酸、プロブコール)
等が挙げられる。降圧剤としては、アンジオテンシン変
換酵素阻害剤(例、カプトプリル、エナラプリル、デラ
プリル等)あるいはアンジオテンシンII拮抗剤(例、カ
ンデサルタン シレキセチル、ロサルタン、エプロサル
タン、バルサンタン、テルミサルタン、イルベサルタ
ン、タソサルタン等)、カルシウム拮抗剤(例、マニジ
ピン、ニフェジピン、アムロジピン、エホニジピン、ニ
カルジピン等)、クロニジン等が挙げられる。抗不整脈
薬としては、例えばメキシレチン等が挙げられる。抗肥
満剤としては、例えば中枢性抗肥満薬(例、デキスフェ
ンフルラミン、フェンフルラミン、フェンテルミン、シ
ブトラミン、アンフェプラモン、デキサンフェタミン、
マジンドール、フェニルプロパノールアミン、クロベン
ゾレックス;MCH受容体拮抗薬(例、SB-568849;SNAP-7
941;WO01/82925およびWO01/87834に含まれる化合物
等);ニューロペプチドY拮抗薬(例、CP-422935等);
カンナビノイド受容体拮抗薬(例、SR-141716、SR-1477
78等);グレリン拮抗薬;11β−ヒドロキシステロイド
デヒドロゲナーゼ阻害薬(例、BVT-3498等)等)、膵リ
パーゼ阻害薬(例、オルリスタット、ALT-962等)、β
3アゴニスト(例、CL-316243、SR-58611-A、UL-TG-30
7、SB-226552、AJ-9677、BMS-196085、AZ40140等)、ペ
プチド性食欲抑制薬(例、レプチン、CNTF(毛様体神経
栄養因子)等)、コレシストキニンアゴニスト(例、リ
ンチトリプト、FPL-15849等)等が挙げられる。
【0040】利尿剤としては、例えばキサンチン誘導体
(例、サリチル酸ナトリウムテオブロミン、サリチル酸
カルシウムテオブロミン等)、チアジド系製剤(例、エ
チアジド、シクロペンチアジド、トリクロルメチアジ
ド、ヒドロクロロチアジド、ヒドロフルメチアジド、ベ
ンチルヒドロクロロチアジド、ペンフルチジド、ポリチ
アジド、メチクロチアジド等)、抗アルドステロン製剤
(例、スピロノラクトン、トリアムテレン等)、炭酸脱
水酵素阻害剤(例、アセタゾラミド等)、クロルベンゼ
ンスルホンアミド系製剤(例、クロルタリドン、メフル
シド、インダパミド等)、アゾセミド、イソソルビド、
エタクリン酸、ピレタニド、ブメタニド、フロセミド等
が挙げられる。化学療法剤としては、例えばアルキル化
剤(例、サイクロフォスファミド、イフォスファミド
等)、代謝拮抗剤(例、メソトレキセート、5−フルオ
ロウラシル等)、抗癌性抗生物質(例、マイトマイシ
ン、アドリアマイシン等)、植物由来抗癌剤(例、ビン
クリスチン、ビンデシン、タキソール等)、シスプラチ
ン、カルボプラチン、エトポキシドなどが挙げられる。
なかでも5−フルオロウラシル誘導体であるフルツロン
あるいはネオフルツロンなどが好ましい。免疫療法剤と
しては、例えば微生物または細菌成分(例、ムラミルジ
ペプチド誘導体、ピシバニール等)、免疫増強活性のあ
る多糖類(例、レンチナン、シゾフィラン、クレスチン
等)、遺伝子工学的手法で得られるサイトカイン(例、
インターフェロン、インターロイキン(IL)等)、コ
ロニー刺激因子(例、顆粒球コロニー刺激因子、エリス
ロポエチン等)などが挙げられ、なかでもIL−1、I
L−2、IL−12などのインターロイキン類が好まし
い。
【0041】抗血栓剤としては、例えばヘパリン(例、
ヘパリンナトリウム、ヘパリンカルシウム、ダルテパリ
ンナトリウム(dalteparin sodium)など)、ワルファリ
ン(例、ワルファリンカリウムなど)、抗トロンビン薬
(例、アルガトロバン(aragatroban)など)、血栓溶解
薬(例、ウロキナーゼ(urokinase)、チソキナーゼ(tiso
kinase)、アルテプラーゼ(alteplase)、ナテプラーゼ(n
ateplase)、モンテプラーゼ(monteplase)、パミテプラ
ーゼ(pamiteplase)など)、血小板凝集抑制薬(例、塩
酸チクロピジン(ticlopidine hydrochloride)、シロス
タゾール(cilostazol)、イコサペント酸エチル、ベラプ
ロストナトリウム(beraprost sodium)、塩酸サルポグレ
ラート(sarpogrelate hydrochloride)など)などが挙げ
られる。骨粗鬆症治療剤としては、例えばアルファカル
シドール(alfacalcidol)、カルシトリオール(calcit
riol)、エルカトニン(elcatonin)、サケカルシトニ
ン(calcitonin salmon)、エストリオール(estrio
l)、イプリフラボン(ipriflavone)、パミドロン酸二
ナトリウム(pamidronate disodium)、アレンドロン酸
ナトリウム水和物(alendronate sodium hydrate)、イ
ンカドロン酸二ナトリウム(incadronate disodium)等
が挙げられる。抗痴呆剤としては、例えばタクリン(ta
crine)、ドネペジル(donepezil)、リバスチグミン
(rivastigmine)、ガランタミン(galantamine)等が
挙げられる。勃起不全改善剤としては、例えばアポモル
フィン(apomorphine)、クエン酸シルデナフィル(sil
denafil citrate)等が挙げられる。尿失禁・頻尿治療
剤としては、例えば塩酸フラボキサート(flavoxate hy
drochloride)、塩酸オキシブチニン(oxybutynin hyd
rochloride)、塩酸プロピベリン(propiverine hydroc
hloride)等が挙げられる。非ステロイド抗炎症薬とし
ては、例えばアスピリン、アセトアミノフェン、インド
メタシン等が挙げられる。局所麻酔薬としては、例えば
リドカイン、カプサイシン等が挙げられる。ビタミン類
としては、例えばビタミンB1、ビタミンB12等が挙げら
れる。
【0042】前記した併用薬剤の投与時期は限定され
ず、化合物(VII)または化合物(VIII)と併用薬剤と
を、投与対象に対し、同時に投与してもよいし、時間差
をおいて投与してもよい。併用薬剤の投与量は、臨床上
用いられている投与量に準ずればよく、投与対象、投与
ルート、疾患、組み合わせ等により適宜選択することが
できる。併用薬剤の投与形態は、特に限定されず、投与
時に、化合物(VII)または化合物(VIII)と併用薬剤
とが組み合わされていればよい。このような投与形態と
しては、例えば、1)化合物(VII)または化合物(VII
I)と併用薬剤とを同時に製剤化して得られる単一の製
剤の投与、2)化合物(VII)または化合物(VIII)と
併用薬剤とを別々に製剤化して得られる2種の製剤の同
一投与経路での同時投与、3)化合物(VII)または化
合物(VIII)と併用薬剤とを別々に製剤化して得られる
2種の製剤の同一投与経路での時間差をおいての投与、
4)化合物(VII)または化合物(VIII)と併用薬剤と
を別々に製剤化して得られる2種の製剤の異なる投与経
路での同時投与、5)化合物(VII)または化合物(VII
I)と併用薬剤とを別々に製剤化して得られる2種の製
剤の異なる投与経路での時間差をおいての投与(例え
ば、化合物(VII)または化合物(VIII)、併用薬剤の
順序での投与、あるいは逆の順序での投与)などが挙げ
られる。化合物(VII)または化合物(VIII)と併用薬
剤との配合比は、投与対象、投与ルート、疾患等により
適宜選択することができる。例えば投与対象がヒトであ
る場合、化合物(VII)または化合物(VIII)1重量部
に対し、併用薬剤を0.01〜100重量部用いればよ
い。
【0043】化合物(VII)または化合物(VIII)が併
用薬剤と組み合わせて使用される場合、両成分の投与量
は、それらの成分の反対効果を考えて安全な範囲内で低
減できる。特に、インスリン抵抗性改善剤、インスリン
分泌促進剤(好ましくはスルホニルウレア剤)、ビグア
ナイド剤、アルドース還元酵素阻害薬、PKC阻害剤、抗
てんかん薬、抗うつ薬、抗不整脈薬、オピオイド作動
薬、抗酸化剤、非ステロイド抗炎症薬などの併用薬剤は
通常の投与量よりも低減できる。したがって、これらの
薬剤により引き起こされるであろう反対効果は安全に防
止できる。
【0044】
【発明の実施の形態】以下に、参考例、実施例および製
剤例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明
はこれらにより限定されるものではない。また、以下の
参考例および実施例において、%は特記しない限り重量
パーセントを、室温は1〜30℃の温度を示す。また、
製剤例において、ステアリン酸マグネシウムとしては、
日本薬局方第14改正適合品を用いた。
【0045】
【実施例】参考例1 {4−[(2−フェニル−1,3−チアゾール−4−イ
ル)メトキシ]フェニル}メタノール チオベンズアミド(5.488g)、 1,3−ジクロ
ロアセトン(5.079g)、トルエン(40mL)の
混合物を90℃で3時間撹拌した。本反応液にイソプロ
パノール(40mL)を加え、80℃で30分撹拌後放
冷して、4−クロロメチル−2−フェニルチアゾールを
製造した。反応混合物に炭酸カリウム(13.82
g)、p-ヒドロキシベンズアルデヒド(4.885
g)、ジメチルアセトアミド(40mL)を加え90℃
で1時間撹拌して、4−[(2−フェニル−1,3−チ
アゾール−4−イル)メトキシ]ベンズアルデヒドを製
造した。反応液の一部を採取し、通常の処理により結晶
化させNMRを測定した。1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ:5.3
6(2H, s), 7.13-7.48(6H, m), 7.85-7.98(4H, m), 9.91
(1H, s).ついで残りの反応液をN2気流下に冷却し、5℃
にて水素化ほう素ナトリウム(1.589g)を添加
し、20〜30℃で1時間撹拌した。内温を40℃とし
てメタノール(6mL)水(70mL)を加え室温で撹
拌した。析出した結晶をろ取し、50%メタノール水溶
液ついで水で洗浄して、標題化合物を得た。1 H-NMR(300MHz, CDCl3) δ:1.61(1H,bs),4.63(2H, s),
5.27(2H, s), 7.00(2H,m), 7.29-7.32(3H, m), 7.43-
7.48(3H, m), 7.93-7.97(2H, m). 参考例2 {4−[(2−フェニル−1,3−チアゾール−4−イ
ル)メトキシ]フェニル}メタノール トルエン(60mL)にジクロロアセトン(5.55
g)を溶解後、チオベンズアミド (6g)を添加し、
約90℃で3時間撹拌した。反応液に2−プロパノール
(45mL)を添加し、さらに還流下30分撹拌した。反
応液を室温付近まで冷却し、10%食塩水で洗浄後、有
機層を濃縮して、4−クロロメチル−2−フェニルチア
ゾールを得た。1 H-NMR(300MHz, CDCl3) δ:4.75(2H, s), 7.31(1H,
s), 7.40-7.50(3H, m), 7.90-8.00(2H, m). 濃縮液に、N,N-ジメチルアセトアミド(48mL)とp
−ヒドロキシベンジルアルコール(5.43g)を添加
後、室温で28%ナトリウムメトキシド−メタノール溶
液(8.44g)を滴下し、約70℃で1.5時間撹拌
した。反応液を室温まで冷却後、水(60mL)を滴下
した。析出する結晶をろ取し、50%メタノール水、
水、酢酸エチルで順次洗浄した。得られた結晶(10.
85g)を酢酸エチル(217mL)に70℃で溶解
し、活性炭(0.54g)を加えて70℃で攪拌した。
熱時活性炭をろ去し、酢酸エチルを約半量になるまで留
去した。残留物にn−ヘプタン 108mlを室温で滴下
し、析出した結晶をろ取して、標題化合物を淡黄色結晶
として得た。1 H-NMR(300MHz, CDCl3) δ:1.61(1H,bs),4.63(2H, s),
5.27(2H, s), 7.00(2H,m), 7.29-7.32(3H, m), 7.43-
7.48(3H, m), 7.93-7.97(2H, m). 参考例3 4−{[4−(クロロメチル)フェノキシ]メチル}−
2−フェニル−1,3−チアゾール N,N−ジメチルホルムアミド(13mL)に{4−
[(2−フェニル−1,3−チアゾール−4−イル)メ
トキシ]フェニル}メタノール(4.35g)を添加
し、20℃以下で塩化チオニル(0.87mL)を滴下
し、室温で1時間攪拌した。反応液に酢酸エチル(52
mL)と水(13mL)を加えて抽出した。有機層を10
%炭酸ナトリウム水溶液、10%食塩水で洗浄後、酢酸
エチルを留去して、黄白色結晶として標題化合物を得
た。1 H-NMR(300MHz, CDCl3) δ:4.58(2H, s), 5.27(2H,
s), 7.01(2H, d, J=6.7Hz), 7.30-7.47(6H, m), 7.96(2
H, m).
【0046】実施例1 3−(3−ヒドロキシ−1H−ピラゾール−4−イル)
プロピオン酸エチル 氷冷下、ナトリウムtert-ブトキシド(24.5g)のte
rt-ブチルメチルエーテル(300mL)懸濁液に、グル
タル酸ジエチル(47.05g)およびギ酸エチル(2
4.2mL)の混合液を10℃以下で滴下し、室温で2
4時間撹拌して、2−ホルミルグルタル酸ジエチルを製
造した。反応混合物に、室温下、酢酸(29mL)およ
びヒドラジン一水和物(6.8mL)を滴下し、還流下
2時間撹拌した。還流下、反応液に水(120mL)を
滴下して室温まで放冷後、氷冷下1時間撹拌した。析出
する結晶をろ取し、水、ジイソプロピルエーテルで洗浄
して、標題化合物を得た。1 H−NMR(300MHz, CDCl3)δ:1.03(3H, t, J=7.1Hz), 2.
32-2.37(2H, m),2.45-2.50(2H, m), 3.91(2H, q, J=7.1
Hz), 6.92(1H, s). 元素分析値: C8H12N2O3として 計算値;C, 52.17 H, 6.57 N, 15.21 実測値;C, 52.08 H, 6.49 N, 15.16 実施例2 3−(3−ヒドロキシ−1H−ピラゾール−4−イル)
プロピオン酸エチル ジイソプロピルエーテル(30mL)とナトリウムエト
キシド(1.74g)の混合液に、グルタル酸ジエチル
(4.71g)及びギ酸エチル(2.22g)の混合液
を10℃以下で滴下し、室温で24時間撹拌して、2−
ホルミルグルタル酸ジエチルを製造した。反応混合物に
酢酸(2.9mL)及び50%ヒドラジン水溶液(3.
1mL)を滴下し、加熱還流下、2時間撹拌した。反応
液に水(12mL)を滴下し、室温まで冷却した。析出
した結晶をろ取し、水及びジイソプロピルエーテルで洗
浄して、白色結晶として標題化合物を得た。1 H-NMR(300MHz, DMSO-d6) δ:1.16(3H, m), 2.42-2.72
(4H, m), 4.05(2H, m),7.15(1H, s), 9.5(1H, bs) , 1
1.0(1H, bs).
【0047】実施例3 3−ヒドロキシ−4−(3−エトキシ−3−オキソプロ
ピル)−1H−ピラゾール−1−カルボン酸ベンジル N,N−ジメチルホルムアミド(40mL)に3−(3
−ヒドロキシ−1H−ピラゾール−4−イル)プロピオ
ン酸エチル(10g)と炭酸カリウム(8.25g)を
加え、15℃以下でクロロぎ酸ベンジル(8.5mL)
を滴下して、室温で1時間攪拌した。反応液に酢酸エチ
ル(120mL)と(80mL)およびテトラヒドロフラ
ン(60mL)を加えて抽出し、有機層を10%食塩水
で洗浄後、濃縮した。残留物にn−ヘキサンを加えて、
析出する結晶をろ取し、標題化合物を得た。1 H-NMR(300MHz, CDCl3) δ:1.24(3H, m), 2.54(2H,
m), 2.69(2H, m), 4.14(2H, m), 5.38(2H, s), 7.38-7.
48(5H, m), 7.69(1H, s), 10.90(1H, bs). 実施例4 3−エトキシ−4−(3−エトキシ−3−オキソプロピ
ル)−1H−ピラゾール−1−カルボン酸ベンジル N,N−ジメチルホルムアミド(13.6mL)に3−
ヒドロキシ−4−(3−エトキシ−3−オキソプロピ
ル)−1H−ピラゾール−1−カルボン酸ベンジル
(3.4g)、炭酸カリウム(2.95g)およびヨウ
化エチル(1.11mL)を加え、50℃で2時間攪拌
した。反応液に酢酸エチルと希塩酸を加えて抽出し、有
機層を10%食塩水で洗浄後、濃縮した。残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、標題化合
物を無色油状物として得た。1 H-NMR(300MHz, CDCl3) δ:1.21(3H, t), 1.39(3H,
t), 2.55(2H, t), 2.67(2H, t), 4.12(2H, q), 4.35(2
H, q), 5.39(2H, s), 7.34-7.46(5H, m), 7.71(1H,s). 実施例5 3−エトキシ−4−(3−エトキシ−3−オキソプロピ
ル)−1H−ピラゾール−1−カルボン酸ベンジル N,N−ジメチルホルムアミド(8mL)に3−(3−
ヒドロキシ−1H−ピラゾール−4−イル)プロパン酸
エチル (2g)と炭酸カリウム (1.6g)を添加
し、15℃以下でクロロぎ酸ベンジル(1.6mL)を
滴下後、室温で1時間攪拌して、3−ヒドロキシ−4−
(3−エトキシ−3−オキソプロピル)−1H−ピラゾ
ール−1−カルボン酸ベンジルを製造した。反応混合物
に炭酸カリウム(1.5g)を添加し,50℃で硫酸ジ
エチル(1.5mL)を滴下後、同温度で2時間攪拌し
た。反応液に酢酸エチルと水を加えて抽出し、有機層を
10%食塩水で3回洗浄後、酢酸エチルを留去した。残
留物をエタノールに溶解し、水を滴下した。氷冷下で攪
拌後、析出した結晶をろ取して、標題化合物を得た。1 H-NMR(300MHz, CDCl3) δ:1.21(3H, t), 1.39(3H,
t), 2.55(2H, t), 2.67(2H, t), 4.12(2H, q), 4.35(2
H, q), 5.39(2H, s), 7.34-7.46(5H, m), 7.71(1H,s).
【0048】実施例6 3−(3−エトキシ−1H−ピラゾール−4−イル)プ
ロピオン酸エチル エタノール(5mL)に3−エトキシ−4−(3−エト
キシ−3−オキソプロピル)−1H−ピラゾール−1−
カルボン酸ベンジル(0.5g)、10%パラジウム炭
素(0.05g)を加え、水素雰囲気下、激しく2時間
攪拌した。パラジウム炭素をろ去し、エタノールを留去
して、無色油状物として標題化合物を得た。1 H-NMR(300MHz, CDCl3) δ:1.24(3H, m), 1.38(3H,
m), 2.55(2H, m), 2.67(2H, m), 4.12(2H, m), 4.25(2
H, m), 7.17(1H, s), 8.47(1H, bs). 実施例7 3−(3−エトキシ−1−{4−[(2−フェニル−
1,3−チアゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル}
−1H−ピラゾール−4−イル)プロピオン酸エチル
(以下、化合物Aと略記することがある) N,N−ジメチルホルムアミド(12mL)に3−(3
−エトキシ−1H−ピラゾール−4−イル)プロピオン
酸エチル(2g)と4−{[4−(クロロメチル)フェ
ノキシ]メチル}−2−フェニル−1,3−チアゾール
(3g)を加え、5℃付近まで冷却後、ナトリウムtert
−ブトキシド (1.2g)を添加し、室温で2時間攪
拌した。反応液にエタノールと希塩酸を添加し、析出し
た結晶をろ取した。得られた結晶をイソプロパノールと
n−ヘプタンから再結晶して、標題化合物を淡黄白色結
晶として得た。1 H-NMR(300MHz, CDCl3) δ:1.18(3H, m), 1.36(3H,
m), 2.50(2H, m), 2.64(2H, m), 4.08(2H, m), 4.22(2
H, m), 5.00(2H, s), 5.25(2H, s), 6.93-6.99(3H,m),
7.13(2H, m), 7.29(1H, s), 7.45(3H, m), 7.92-7.96(2
H, m).
【0049】実施例8 実施例7と同様にして以下の化合物が合成できる。3−
[3−エトキシ−1−[4−(5−メチル−2−フェニ
ル−4−オキサゾリルメトキシ)ベンジル]−1H−ピ
ラゾール−4−イル]プロピオン酸エチル(以下、化合
物Bと略記することがある);3−[3−エトキシ−1
−[4−[2−(2−フリル)−5−メチル−4−オキ
サゾリルメトキシ]ベンジル]−1H−ピラゾール−4
−イル]プロピオン酸エチル(以下、化合物Cと略記す
ることがある);3−[3−エトキシ−1−[3−メト
キシ−4−(5−メチル−2−フェニル−4−オキサゾ
リルメトキシ)ベンジル]−1H−ピラゾール−4−イ
ル]プロピオン酸エチル(以下、化合物Dと略記するこ
とがある);3−[3−エトキシ−1−[4−[2−
(2−フリル)−5−メチル−4−オキサゾリルメトキ
シ]−3−メトキシベンジル]−1H−ピラゾール−4
−イル]プロピオン酸エチル(以下、化合物Eと略記す
ることがある);3−[3−エトキシ−1−[3−メト
キシ−4−[5−メチル−2−(2−チエニル)−4−
オキサゾリルメトキシ]ベンジル]−1H−ピラゾール
−4−イル]プロピオン酸エチル(以下、化合物Fと略
記することがある);3−[3−エトキシ−1−[3−
メトキシ−4−(3−ピリジルメトキシ)ベンジル]−
1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸エチル(以
下、化合物Gと略記することがある);3−[3−エト
キシ−1−[2−(5−メチル−2−フェニル−4−オ
キサゾリルメトキシ)−5−ピリジルメチル]−1H−
ピラゾール−4−イル]プロピオン酸エチル(以下、化
合物Hと略記することがある);3−[3−エトキシ−
1−[4−(2−フェニル−4−オキサゾリルメトキ
シ)ベンジル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピ
オン酸エチル(以下、化合物Iと略記することがあ
る);3−[3−エトキシ−1−[4−(3−ピリジル
メトキシ)ベンジル]−1H−ピラゾール−4−イル]
プロピオン酸エチル(以下、化合物Jと略記することが
ある);3−[3−エトキシ−1−[4−[5−メチル
−2−(2−チエニル)−4−オキサゾリルメトキシ]
ベンジル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン
酸エチル(以下、化合物Kと略記することがある);3
−[3−エトキシ−1−[4−[2−(5−エチル−2
−ピリジル)エトキシ]ベンジル]−1H−ピラゾール
−4−イル]プロピオン酸エチル(以下、化合物Lと略
記することがある);3−[3−エトキシ−1−[2−
[4−(5−メチル−2−フェニル−4−オキサゾリル
メトキシ)フェニル]エチル]−1H−ピラゾール−4
−イル]プロピオン酸エチル(以下、化合物Mと略記す
ることがある);3−[3−エトキシ−1−[2−(5
−メチル−2−フェニル−4−オキサゾリルメトキシ)
ベンジル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン
酸エチル(以下、化合物Nと略記することがある);3
−[3−エトキシ−1−[3−(5−メチル−2−フェ
ニル−4−オキサゾリルメトキシ)ベンジル]−1H−
ピラゾール−4−イル]プロピオン酸エチル(以下、化
合物Oと略記することがある)
【0050】実施例9 3−(3−エトキシ−1H−ピラゾール−4−イル)プ
ロピオン酸エチル(318mg)、5−クロロメチル−
2−(5−メチル−2−フェニル−4−オキサゾリルメ
トキシ)ピリジン(472mg)およびN,N−ジメチ
ルホルムアミド(10ml)の混合物に、水素化ナトリ
ウム(60%、油性、60.0mg)を0℃で加えた
後、室温で30分間かき混ぜた。反応混合物を水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水、続い
て、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮し
た。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチル−ヘキサン(1:1,容積比)溶出部か
ら化合物H(651mg,収率88%)を無色油状物と
して得た。 NMR(CDCl)δ:1.21 (3H, t, J=7.2 Hz), 1.36 (3H,
t, J=7.0 Hz), 2.47-2.55(5H, m), 2.61-2.69 (2H, m),
4.09 (2H, q, J=7.2 Hz), 4.21 (2H, q, J=7.0Hz), 4.
98 (2H, s), 5.28 (2H, s), 6.77 (1H, d, J=8.4 Hz),
6.97 (1H, s), 7.39-7.46 (4H, m), 7.98-8.04 (3H,
m)。 実施例10 3−(3−エトキシ−1H−ピラゾール−4−イル)プ
ロピオン酸エチル(318mg)、4−(4−クロロメ
チルフェノキシメチル)−2−フェニルオキサゾール
(450mg)およびN,N−ジメチルホルムアミド
(10ml)の混合物に、水素化ナトリウム(60%、
油性、60.0mg)を0℃で加えた後、室温で30分
間かき混ぜた。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層は、水、続いて、飽和食塩水で洗
浄、乾燥(MgSO)後、濃縮した。得られた無色結
晶をろ取し、化合物I(616mg,収率86%)を得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。融点80〜
81℃。 実施例11 3−(3−エトキシ−1H−ピラゾール−4−イル)プ
ロピオン酸エチル(415mg)、3−(4−クロロメ
チルフェノキシメチル)ピリジン(554mg)および
N,N−ジメチルホルムアミド(10ml)の混合物
に、水素化ナトリウム(60%、油性、80.0mg)
を0℃で加えた後、室温で30分間かき混ぜた。反応混
合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
は、水、続いて、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgS
)後、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、酢酸エチル−ヘキサン(1:1,
容積比)溶出部から化合物J(340mg,収率55
%)を無色油状物として得た。 NMR(CDCl)δ:1.21 (3H, t, J=7.2 Hz), 1.36 (3H,
t, J=7.0 Hz), 2.47-2.55(2H, m), 2.61-2.69 (2H, m),
4.09 (2H, q, J=7.2 Hz), 4.22 (2H, q, J=7.0Hz), 5.
00 (2H, s), 5.07 (2H, s), 6.92 (2H, d, J=8.8 Hz),
6.93 (1H, s), 7.14 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.32 (1H, d
d, J=7.4, 4.8 Hz), 7.77 (1H, dt, J=7.4, 2.0 Hz),
8.59 (1H, dd, J=4.8, 2.0 Hz), 8.68 (1H, d, J=2.0 H
z)。
【0051】実施例12 3−(3−エトキシ−1H−ピラゾール−4−イル)プ
ロピオン酸エチル(318mg)、2−[2−(4−ク
ロロメチルフェノキシ)エチル]−5−エチルピリジン
(414mg)およびN,N−ジメチルホルムアミド
(10ml)の混合物に、水素化ナトリウム(60%、
油性、60.0mg)を0℃で加えた後、室温で30分
間かき混ぜた。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層は、水、続いて、飽和食塩水で洗
浄、乾燥(MgSO)後、濃縮した。残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ヘ
キサン(1:1,容積比)溶出部から化合物L(520
mg,収率77%)を無色油状物として得た。 NMR(CDCl)δ:1.20 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.24 (3H,
t, J=7.6 Hz), 1.36 (3H,t, J=7.0 Hz), 2.46-2.54 (2
H, m), 2.57-2.68 (4H, m), 3.22 (2H, t, J=6.6Hz),
4.08 (2H, q, J=7.0 Hz), 4.12 (2H, q, J=7.0 Hz), 4.
33 (2H, t, J=6.6Hz), 4.97 (2H, s), 6.85 (2H, d, J=
8.6 Hz), 6.90 (1H, s), 7.11 (2H, d, J=8.6 Hz), 7.1
8 (1H, d, J=7.8 Hz), 7.45 (1H, dd, J=7.8, 2.0 Hz),
8.39 (1H,d, J=2.0 Hz)。 実施例13 3−(3−エトキシ−1H−ピラゾール−4−イル)プ
ロピオン酸エチル(509mg)、4−(2−クロロメ
チルフェノキシメチル)−5−メチル−2−フェニルオ
キサゾール(753mg)およびN,N−ジメチルホル
ムアミド(10ml)の混合物に、水素化ナトリウム
(60%、油性、96.0mg)を0℃で加えた後、室
温で30分間かき混ぜた。反応混合物を水に注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水、続いて、飽和
食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮した。残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸
エチル−ヘキサン(1:2,容積比)溶出部から化合物
N(1.09g,収率93%)を無色油状物として得
た。 NMR(CDCl)δ:1.20 (3H, t, J=7.2 Hz), 1.34 (3H,
t, J=7.2 Hz), 2.39 (3H,s), 2.46-2.54 (2H, m), 2.60
-2.68 (2H, m), 4.08 (2H, q, J=7.2 Hz), 4.20(2H, q,
J=7.2 Hz), 5.03 (2H, s), 5.11 (2H, s), 6.91-6.93
(2H, m), 7.01-7.06 (2H, m), 7.22-7.31 (1H, m), 7.4
1-7.48 (3H, m), 7.98-8.05 (2H, m)。
【0052】実施例14 3−(3−エトキシ−1H−ピラゾール−4−イル)プ
ロピオン酸エチル(509mg)、4−(3−クロロメ
チルフェノキシメチル)−5−メチル−2−フェニルオ
キサゾール(753mg)およびN,N−ジメチルホル
ムアミド(10ml)の混合物に、水素化ナトリウム
(60%、油性、96.0mg)を0℃で加えた後、室
温で30分間かき混ぜた。反応混合物を水に注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水、続いて、飽和
食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮した。残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸
エチル−ヘキサン(1:3,容積比)溶出部から化合物
O(809mg,収率69%)を無色油状物として得
た。 NMR(CDCl)δ:1.21 (3H, t, J=7.2 Hz), 1.36 (3H,
t, J=7.2 Hz), 2.42 (3H,s), 2.48-2.55 (2H, m), 2.61
-2.69 (2H, m), 4.09 (2H, q, J=7.2 Hz), 4.22(2H, q,
J=7.2 Hz), 4.95 (2H, s), 5.04 (2H, s), 6.74-6.83
(2H, m), 6.91-6.97 (2H, m), 7.25 (1H, t, J=7.8 H
z), 7.42-7.45 (3H, m), 7.99-8.04 (2H, m)。
【0053】実施例15 3−(3−エトキシ−1−{4−[(2−フェニル−
1,3−チアゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル}
−1H−ピラゾール−4−イル)プロパン酸(以下、化
合物Pと略記することがある) 3−(3−エトキシ−1−{4−[(2−フェニル−
1,3−チアゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル}
−1H−ピラゾール−4−イル)プロピオン酸エチル
(3g)をエタノール(15mL)に懸濁し、1規定水
酸化ナトリウム水溶液(12.2mL)を加え、40℃
で2時間攪拌した。反応液に水とトルエンを添加して抽
出した。水層を希塩酸で中和し、析出する結晶をろ取し
た。 得られた結晶を含水エタノールから再結晶して、
標題化合物を白色結晶として得た。1 H-NMR(300MHz, DMSO-d6) δ:1.27(3H, m), 2.38-2.51
(4H, m), 4.10(2H, m),5.00(2H, s), 5.21(2H, s), 7.0
2(2H, m), 7.16(2H, m), 7.49-7.54(3H, m), 7.75(1H,
s), 7.93-7.96(2H, m), 12.05(1H, bs). 実施例16 実施例8で得られる化合物を用いて、実施例15と同様
にして、以下の化合物が合成できる。3−[3−エトキ
シ−1−[4−(5−メチル−2−フェニル−4−オキ
サゾリルメトキシ)ベンジル]−1H−ピラゾール−4
−イル]プロピオン酸(以下、化合物Qと略記すること
がある);3−[3−エトキシ−1−[4−[2−(2
−フリル)−5−メチル−4−オキサゾリルメトキシ]
ベンジル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン
酸(以下、化合物Rと略記することがある);3−[3
−エトキシ−1−[3−メトキシ−4−(5−メチル−
2−フェニル−4−オキサゾリルメトキシ)ベンジル]
−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸(以下、
化合物Sと略記することがある);3−[3−エトキシ
−1−[4−[2−(2−フリル)−5−メチル−4−
オキサゾリルメトキシ]−3−メトキシベンジル]−1
H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸(以下、化合
物Tと略記することがある);3−[3−エトキシ−1
−[3−メトキシ−4−[5−メチル−2−(2−チエ
ニル)−4−オキサゾリルメトキシ]ベンジル]−1H
−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸(以下、化合物
Uと略記することがある);3−[3−エトキシ−1−
[3−メトキシ−4−(3−ピリジルメトキシ)ベンジ
ル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸(以
下、化合物Vと略記することがある);3−[3−エト
キシ−1−[2−(5−メチル−2−フェニル−4−オ
キサゾリルメトキシ)−5−ピリジルメチル]−1H−
ピラゾール−4−イル]プロピオン酸(以下、化合物W
と略記することがある);3−[3−エトキシ−1−
[4−(2−フェニル−4−オキサゾリルメトキシ)ベ
ンジル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸
(以下、化合物Xと略記することがある);3−[3−
エトキシ−1−[4−(3−ピリジルメトキシ)ベンジ
ル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸(以
下、化合物Yと略記することがある);3−[3−エト
キシ−1−[4−[5−メチル−2−(2−チエニル)
−4−オキサゾリルメトキシ]ベンジル]−1H−ピラ
ゾール−4−イル]プロピオン酸(以下、化合物Zと略
記することがある);3−[3−エトキシ−1−[4−
[2−(5−エチル−2−ピリジル)エトキシ]ベンジ
ル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸(以
下、化合物AAと略記することがある);3−[3−エ
トキシ−1−[2−[4−(5−メチル−2−フェニル
−4−オキサゾリルメトキシ)フェニル]エチル]−1
H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸(以下、化合
物ABと略記することがある);3−[3−エトキシ−
1−[2−(5−メチル−2−フェニル−4−オキサゾ
リルメトキシ)ベンジル]−1H−ピラゾール−4−イ
ル]プロピオン酸(以下、化合物ACと略記することが
ある);3−[3−エトキシ−1−[3−(5−メチル
−2−フェニル−4−オキサゾリルメトキシ)ベンジ
ル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸(以
下、化合物ADと略記することがある)
【0054】実施例17 3−[3−エトキシ−1−[4−(5−メチル−2−フ
ェニル−4−オキサゾリルメトキシ)ベンジル]−1H
−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸エチル(441
mg)、1規定水酸化ナトリウム水溶液(2ml)、テ
トラヒドロフラン(4ml)およびエタノール(4m
l)の混合物を室温で2時間かき混ぜた後、1規定塩酸
(2ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル
層は、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮
した。得られた無色結晶をろ取し、化合物Q(328m
g,収率79%)を得た。エタノール−ヘキサンから再
結晶した。融点96〜97℃。 実施例18 3−[3−エトキシ−1−[4−[2−(2−フリル)
−5−メチル−4−オキサゾリルメトキシ]ベンジル]
−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸エチル
(381mg)、1規定水酸化ナトリウム水溶液(2m
l)、テトラヒドロフラン(4ml)およびエタノール
(4ml)の混合物を室温で4時間かき混ぜた後、1規
定塩酸(2ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸
エチル層は、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO
後、濃縮した。得られた無色結晶をろ取し、化合物R
(327mg,収率91%)を得た。エタノール−ヘキ
サンから再結晶した。融点129〜130℃。 実施例19 3−[3−エトキシ−1−[3−メトキシ−4−(5−
メチル−2−フェニル−4−オキサゾリルメトキシ)ベ
ンジル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸
エチル(660mg)、1規定水酸化ナトリウム水溶液
(3ml)、テトラヒドロフラン(6ml)およびエタ
ノール(6ml)の混合物を室温で3時間かき混ぜた
後、1規定塩酸(3ml)を加え、酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル層は、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgS
)後、濃縮した。得られた無色結晶をろ取し、化合
物S(510mg,収率82%)を得た。エタノール−
ヘキサンから再結晶した。融点122〜123℃。
【0055】実施例20 3−[3−エトキシ−1−[4−[2−(2−フリル)
−5−メチル−4−オキサゾリルメトキシ]−3−メト
キシベンジル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピ
オン酸エチル(561mg)、1規定水酸化ナトリウム
水溶液(2.5ml)、テトラヒドロフラン(5ml)
およびエタノール(5ml)の混合物を室温で2時間か
き混ぜた後、1規定塩酸(2.5ml)を加え、酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層は、飽和食塩水で洗浄、
乾燥(MgSO)後、濃縮した。得られた無色結晶を
ろ取し、化合物T(506mg,収率96%)を得た。
エタノール−ヘキサンから再結晶した。融点133〜1
34℃。 実施例21 3−[3−エトキシ−1−[3−メトキシ−4−[5−
メチル−2−(2−チエニル)−4−オキサゾリルメト
キシ]ベンジル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロ
ピオン酸エチル(499mg)、1規定水酸化ナトリウ
ム水溶液(2ml)、テトラヒドロフラン(4ml)お
よびエタノール(4ml)の混合物を室温で3時間かき
混ぜた後、1規定塩酸(2ml)を加え、酢酸エチルで
抽出した。酢酸エチル層は、飽和食塩水で洗浄、乾燥
(MgSO)後、濃縮した。得られた無色結晶をろ取
し、化合物U(392mg,収率83%)を得た。エタ
ノール−ヘキサンから再結晶した。融点123〜124
℃。 実施例22 3−[3−エトキシ−1−[3−メトキシ−4−(3−
ピリジルメトキシ)ベンジル]−1H−ピラゾール−4
−イル]プロピオン酸エチル(527mg)、1規定水
酸化ナトリウム水溶液(2.5ml)、テトラヒドロフ
ラン(5ml)およびエタノール(5ml)の混合物を
室温で2時間かき混ぜた後、1規定塩酸(2.5ml)
を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、飽和
食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮した。得ら
れた無色結晶をろ取し、化合物V(381mg,収率7
7%)を得た。エタノール−ヘキサンから再結晶した。
融点124〜125℃。
【0056】実施例23 3−[3−エトキシ−1−[2−(5−メチル−2−フ
ェニル−4−オキサゾリルメトキシ)−5−ピリジルメ
チル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸エ
チル(638mg)、1規定水酸化ナトリウム水溶液
(2.5ml)、テトラヒドロフラン(5ml)および
エタノール(5ml)の混合物を室温で3時間かき混ぜ
た後、1規定塩酸(2.5ml)を加え、酢酸エチルで
抽出した。酢酸エチル層は、飽和食塩水で洗浄、乾燥
(MgSO)後、濃縮した。得られた無色結晶をろ取
し、化合物W(495mg,収率82%)を得た。エタ
ノール−ヘキサンから再結晶した。融点143〜144
℃。 実施例24 3−[3−エトキシ−1−[4−(2−フェニル−4−
オキサゾリルメトキシ)ベンジル]−1H−ピラゾール
−4−イル]プロピオン酸エチル(523mg)、1規
定水酸化ナトリウム水溶液(2.5ml)、テトラヒド
ロフラン(5ml)およびエタノール(5ml)の混合
物を室温で3時間かき混ぜた後、1規定塩酸(2.5m
l)を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、
飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮した。
得られた無色結晶をろ取し、化合物X(456mg,収
率93%)を得た。エタノール−ヘキサンから再結晶し
た。融点135〜136℃。 実施例25 3−[3−エトキシ−1−[4−(3−ピリジルメトキ
シ)ベンジル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピ
オン酸エチル(340mg)、1規定水酸化ナトリウム
水溶液(2ml)、テトラヒドロフラン(4ml)およ
びエタノール(4ml)の混合物を室温で2時間かき混
ぜた後、1規定塩酸(2ml)を加え、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層は、飽和食塩水で洗浄、乾燥(M
gSO)後、濃縮した。得られた無色結晶をろ取し、
化合物Y(260mg,収率82%)を得た。エタノー
ル−ヘキサンから再結晶した。融点120〜121℃。
【0057】実施例26 3−(3−エトキシ−1H−ピラゾール−4−イル)プ
ロピオン酸エチル(300mg)、4−(4−クロロメ
チルフェノキシメチル)−5−メチル−2−(2−チエ
ニル)オキサゾール(450mg)およびN,N−ジメ
チルホルムアミド(5ml)の混合物に、水素化ナトリ
ウム(60%、油性、70.0mg)を0℃で加えた
後、室温で30分間かき混ぜた。反応混合物を水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水、続い
て、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮し
た。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチル−ヘキサン(1:2,容積比)溶出部か
ら無色油状物を得た。得られた油状物、1規定水酸化ナ
トリウム水溶液(5ml)、テトラヒドロフラン(5m
l)およびエタノール(5ml)の混合物を室温で終夜
かき混ぜた後、1規定塩酸(5ml)を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層は、飽和食塩水で洗浄、乾
燥(MgSO)後、濃縮した。得られた無色結晶をろ
取し、化合物Z(460mg,収率70%)を得た。ア
セトン−ヘキサンから再結晶した。融点156〜157
℃。 実施例27 3−[3−エトキシ−1−[4−[2−(5−エチル−
2−ピリジル)エトキシ]ベンジル]−1H−ピラゾー
ル−4−イル]プロピオン酸エチル(519mg)、1
規定水酸化ナトリウム水溶液(2.5ml)、テトラヒ
ドロフラン(5ml)およびエタノール(5ml)の混
合物を室温で3時間かき混ぜた後、1規定塩酸(2.5
ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
は、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮し
た。得られた無色結晶をろ取し、化合物AA(228m
g,収率47%)を得た。エタノール−ヘキサンから再
結晶した。融点89〜90℃。 実施例28 3−[3−エトキシ−1−[2−[4−(5−メチル−
2−フェニル−4−オキサゾリルメトキシ)フェニル]
エチル]−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸
エチル(1.08g)、1規定水酸化ナトリウム水溶液
(4.2ml)、テトラヒドロフラン(3ml)および
エタノール(3ml)の混合物を室温で2時間かき混ぜ
た後、1規定塩酸(5ml)を加え、酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層は、飽和食塩水で洗浄、乾燥(Mg
SO)後、濃縮した。得られた無色結晶をろ取し、化
合物AB(880mg,収率88%)を得た。酢酸エチ
ル−ヘキサンから再結晶した。融点110〜111℃。
【0058】実施例29 3−[3−エトキシ−1−[2−(5−メチル−2−フ
ェニル−4−オキサゾリルメトキシ)ベンジル]−1H
−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸エチル(1.0
9g)、1規定水酸化ナトリウム水溶液(5ml)、テ
トラヒドロフラン(10ml)およびエタノール(10
ml)の混合物を室温で2時間かき混ぜた後、1規定塩
酸(5ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ル層は、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃
縮した。得られた無色結晶をろ取し、化合物AC(83
4mg,収率82%)を得た。エタノール−ヘキサンか
ら再結晶した。融点127〜128℃。 実施例30 3−[3−エトキシ−1−[3−(5−メチル−2−フ
ェニル−4−オキサゾリルメトキシ)ベンジル]−1H
−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸エチル(808
mg)、1規定水酸化ナトリウム水溶液(4ml)、テ
トラヒドロフラン(8ml)およびエタノール(8m
l)の混合物を室温で3時間かき混ぜた後、1規定塩酸
(4ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル
層は、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮
した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、酢酸エチル−メタノール(5:1,容積比)溶出
部から化合物AD(709mg,収率93%)を無色油
状物として得た。 NMR(CDCl)δ:1.35 (3H, t, J=7.0 Hz), 2.48 (3H,
s), 2.67 (4H, s), 4.21(2H, q, J=7.0 Hz), 4.96 (2H,
s), 5.11 (2H, s), 6.42 (1H, s), 6.84-6.91 (2H,
m), 7.19 (1H, s), 7.26 (1H, d, J=8.0 Hz), 7.43-7.4
7 (3H, m), 7.94-7.99 (2H, m)。
【0059】実施例31 3−[3−ヒドロキシ−1−[4−(5−メチル−2−
フェニル−4−オキサゾリルメトキシ)ベンジル]−1
H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸エチル(46
2mg)のN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)
溶液に、水素化ナトリウム(60%、油性、40.0m
g)を0℃で加えた後、室温で30分間かき混ぜた。反
応混合物にヨードエタン(0.240ml)を加え、室
温で1時間かき混ぜた。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層は、水、続いて、飽和食
塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮した。残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エ
チル−ヘキサン(1:1,容積比)溶出部から化合物B
(452mg,収率92%)を無色油状物として得た。 NMR(CDCl)δ:1.21 (3H, t, J=7.2 Hz), 1.36 (3H,
t, J=7.0 Hz), 2.43 (3H,s), 2.47-2.55 (2H, m), 2.61
-2.69 (2H, m), 4.09 (2H, q, J=7.2 Hz), 4.23(2H, q,
J=7.0 Hz), 4.98 (2H, s), 5.00 (2H, s), 6.93 (1H,
s), 6.97 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.14 (2H, d, J=8.8 H
z), 7.40-7.47 (3H, m), 7.97-8.06 (2H, m)。 実施例32 3−[1−[4−[2−(2−フリル)−5−メチル−
4−オキサゾリルメトキシ]ベンジル]−3−ヒドロキ
シ−1H−ピラゾール−4−イル]プロピオン酸エチル
(452mg)のN,N−ジメチルホルムアミド(10
ml)溶液に、水素化ナトリウム(60%、油性、4
0.0mg)を0℃で加えた後、室温で30分間かき混
ぜた。反応混合物にヨードエタン(0.240ml)を
加え、室温で1時間かき混ぜた。反応混合物を水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水、続い
て、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮し
た。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチル−ヘキサン(1:1,容積比)溶出部か
ら化合物C(348mg,収率73%)を無色油状物と
して得た。 NMR(CDCl)δ:1.21 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.36 (3H,
t, J=7.0 Hz), 2.47 (3H,s), 2.48-2.55 (2H, m), 2.61
-2.69 (2H, m), 4.09 (2H, q, J=7.0 Hz), 4.22(2H, q,
J=7.0 Hz), 4.97 (2H, s), 5.00 (2H, s), 6.52 (1H,
dd, J=3.6, 2.0Hz), 6.92-6.99 (4H, m), 7.13 (2H, d,
J=8.8 Hz), 7.54 (1H, dd, J=2.0, 0.6Hz)。
【0060】実施例33 3−[3−エトキシ−1−(4−ヒドロキシ−3−メト
キシベンジル)−1H−ピラゾール−4−イル]プロピ
オン酸エチル(505mg)のN,N−ジメチルホルム
アミド(10ml)溶液に、水素化ナトリウム(60
%、油性、58.0mg)を0℃で加えた後、室温で3
0分間かき混ぜた。反応混合物に4−クロロメチル−5
−メチル−2−フェニルオキサゾール(301mg)を
加え、60℃で1時間かき混ぜた。反応混合物を水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水、続い
て、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮し
た。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチル−ヘキサン(1:1,容積比)溶出部か
ら化合物D(661mg,収率88%)を無色油状物と
して得た。 NMR(CDCl)δ:1.22 (3H, t, J=7.2 Hz), 1.37 (3H,
t, J=7.2 Hz), 2.41 (3H,s), 2.47-2.55 (2H, m), 2.61
-2.69 (2H, m), 3.82 (3H, s), 4.09 (2H, q, J=7.2 H
z), 4.23 (2H, q, J=7.2 Hz), 5.00 (2H, s), 5.04 (2
H, s), 6.72 (1H, dd, J=8.2, 2.2 Hz), 6.76 (1H, d,
J=2.2 Hz), 6.95 (1H, s), 7.00 (1H, d, J=8.2 Hz),
7.40-7.46 (3H, m), 7.98-8.03 (2H, m)。 実施例34 3−[3−エトキシ−1−(4−ヒドロキシ−3−メト
キシベンジル)−1H−ピラゾール−4−イル]プロピ
オン酸エチル(505mg)のN,N−ジメチルホルム
アミド(10ml)溶液に、水素化ナトリウム(60
%、油性、58.0mg)を0℃で加えた後、室温で3
0分間かき混ぜた。反応混合物に4−クロロメチル−2
−(2−フリル)−5−メチルオキサゾール(573m
g)を加え、室温で1時間かき混ぜた。反応混合物を水
に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水、
続いて、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃
縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、酢酸エチル−ヘキサン(1:1,容積比)溶出
部から化合物E(564mg,収率76%)を黄色油状
物として得た。 NMR(CDCl)δ:1.21 (3H, t, J=7.2 Hz), 1.37 (3H,
t, J=7.2 Hz), 2.40 (3H,s), 2.47-2.55 (2H, m), 2.61
-2.69 (2H, m), 3.82 (3H, s), 4.09 (2H, q, J=7.2 H
z), 4.23 (2H, q, J=7.2 Hz), 4.99 (2H, s), 5.03 (2
H, s), 6.52 (1H, dd, J=3.6, 1.8 Hz), 6.71 (1H, dd,
J=8.2, 2.0 Hz), 6.75 (1H, d, J=2.0 Hz),6.94 (1H,
s), 6.96 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.96 (1H, dd, J=3.6,
0.8 Hz), 7.53 (1H, dd, J=1.8, 0.8 Hz)。
【0061】実施例35 3−[3−エトキシ−1−(4−ヒドロキシ−3−メト
キシベンジル)−1H−ピラゾール−4−イル]プロピ
オン酸エチル(505mg)のN,N−ジメチルホルム
アミド(10ml)溶液に、水素化ナトリウム(60
%、油性、58.0mg)を0℃で加えた後、室温で3
0分間かき混ぜた。反応混合物に4−クロロメチル−5
−メチル−2−(2−チエニル)オキサゾール(310
mg)を加え、室温で1時間かき混ぜた。反応混合物を
水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、
水、続いて、飽和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO
後、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、酢酸エチル−ヘキサン(1:1,容積
比)溶出部から化合物F(500mg,収率66%)を
無色油状物として得た。 NMR(CDCl)δ:1.21 (3H, t, J=7.2 Hz), 1.37 (3H,
t, J=7.2 Hz), 2.39 (3H,s), 2.47-2.55 (2H, m), 2.61
-2.69 (2H, m), 3.82 (3H, s), 4.09 (2H, q, J=7.2 H
z), 4.23 (2H, q, J=7.2 Hz), 4.99 (2H, s), 5.01 (2
H, s), 6.71 (1H, dd, J=8.0, 2.2 Hz), 6.75 (1H, d,
J=2.2 Hz), 6.94 (1H, s), 6.96 (1H, d, J=8.0 Hz),
7.09 (1H, dd, J=4.8, 3.6 Hz), 7.39 (1H, dd, J=4.8,
1.2 Hz), 7.62 (1H, dd, J=3.6, 1.2 Hz)。 実施例36 3−[3−エトキシ−1−(4−ヒドロキシ−3−メト
キシベンジル)−1H−ピラゾール−4−イル]プロピ
オン酸エチル(505mg)、3−ピコリルクロリド塩
酸塩(476mg)、炭酸カリウム(601mg)およ
びN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)の混合物
を、室温で終夜かき混ぜた。反応混合物を水に注ぎ、酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水、続いて、飽
和食塩水で洗浄、乾燥(MgSO)後、濃縮した。残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢
酸エチル溶出部から化合物G(531mg,収率83
%)を無色油状物として得た。 NMR(CDCl)δ:1.21 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.37 (3H,
t, J=7.0 Hz), 2.47-2.55(2H, m), 2.61-2.69 (2H, m),
3.84 (3H, s), 4.09 (2H, q, J=7.0 Hz), 4.22(2H, q,
J=7.0 Hz), 4.99 (2H, s), 5.13 (2H, s), 6.68 (1H,
dd, J=8.0, 2.2Hz), 6.77 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.84 (1
H, d, J=8.0 Hz), 6.95 (1H, s), 7.31(1H, dd, J=8.0,
4.8 Hz), 7.79 (1H, dt, J=8.0, 1.8 Hz), 8.57 (1H,
d, J=4.8 Hz), 8.67 (1H, s)。
【0062】実施例37 3−(3−ヒドロキシ−1−{4−[(2−フェニル−
1,3−チアゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル}
−1H−ピラゾール−4−イルプロピオン酸エチル 4−(2−フェニル−1,3−チアゾール−4−イル)
メトキシ]ベンジルアルコール(2.97g)のトルエ
ン(30mL)懸濁液にN,N−ジメチルホルムアミドを
一滴加え、さらに塩化チオニル(3.6mL)を滴下
し、95℃で2時間撹拌した。溶媒を留去後、残留物に
トルエン(10mL)を加え、トルエンを留去して、4
−{[4−(クロロメチル)フェノキシ]メチル}−2
−フェニル−1,3−チアゾールを製造した。残留物を
N,N−ジメチルホルムアミド(30mL)に溶解し、
3−ヒドロキシ−1H−ピラゾール−4−プロピオン酸
エチル(1.66g)および炭酸カリウム(4.15
g)を加え、45〜50℃で8時間撹拌した。反応液に
水(30mL)加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を
20%食塩水で洗浄後、活性炭(200mg)を加え、
室温下30分撹拌した。ついで、活性炭をろ去し、溶媒
を留去した。得られた油状物にメタノール−ジイソプロ
ピルエーテル(1:1、8mL)を加えて、40℃で1時
間、室温下1時間、氷冷下1時間撹拌した。析出する結晶
をろ取し、淡褐色粉末として標題化合物を得た。1 H−NMR(300MHz, CDCl3)δ:1.23(3H, t, J=7.1Hz), 2.
52-2.57(2H, m),2.63-2.68(2H, m), 4.10(2H, q, J=7.1
Hz), 4.96(2H, s), 5.26(2H, s), 6.92(1H, s),6.98(2
H, d, J=8.5Hz), 7.21(2H, d, J=8.5Hz), 7.31(1H, s),
7.43-7.48(3H, m), 7.94-7.97(2H, m). 元素分析値: C25H25N3O4Sとして 計算値;C, 64.78 H, 5.44 N, 9.06 S, 6.92 実測値;C, 64.79 H, 5.58 N, 9.17 S, 6.85 実施例38 3−(3−ヒドロキシ−1−{4−[(2−フェニル−
1,3−チアゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル}
−1H−ピラゾール−4−イルプロピオン酸エチル
(4.64g)のN,N−ジメチルホルムアミド(20
mL)溶液に、氷冷下ヨウ化エチル(0.96mL)お
よびtert−ブトキシナトリウム(980mg)を加え、
室温下2時間撹拌して、3−(3−エトキシ−1−{4
−[(2−フェニル−1,3−チアゾール−4−イル)
メトキシ]ベンジル}−1H−ピラゾール−4−イル)
プロピオン酸エチルを製造した。反応混合物に4N水酸化
ナトリウム水溶液(5ml)を滴下し、室温下4時間撹拌
した。6N塩酸を加えて、pH 5〜4とし、酢酸エチルで
抽出した。抽出液を20%食塩水で洗浄後、溶媒を留去
した。得られた固形物に2−プロパノール(40mL)
を加えて加熱下溶解し、室温で2時間、氷冷下2時間撹
拌した。析出する結晶をろ取し、淡褐色粉末として化合
物Pを得た。10%含水メタノールから再結晶した。1 H−NMR(300MHz, CDCl3)δ:1.35(3H, t, J=7.0Hz), 2.
54-2.60(2H, m),2.65-2.68(2H, m), 4.22(2H, q, J=7.0
Hz), 5.00(2H, s), 5.25(2H, s), 6.94-6.98(3H,m), 7.
13(2H, d, J=8.6Hz), 7.29(1H, s), 7.41-7.46(3H, m),
7.93-7.96(2H,m). 元素分析値: C25H25N3O4Sとして 計算値;C, 64.78 H, 5.44 N, 9.06 S, 6.92 実測値;C, 64.82 H, 5.37 N, 9.13 S, 6.93
【0063】製剤例1(フィルム錠の製造) [コーティング剤の製造]精製水4320gにヒドロキ
シプロピルメチルセルロース2910(TC−5)358.
8gおよびマクロゴール6000 (ポリエチレングリ
コール6000)72gを溶解した。得られる溶液に酸
化チタン48g、黄色三二酸化鉄1.2gを分散させ、
被覆剤を製造した。 [裸錠の製造]流動層造粒乾燥機(FD-5S,(株)パウレ
ック)中で、化合物I 8g、乳糖3568gおよびコ
ーンスターチ 440gを均一に混合後、機内でヒドロ
キシプロピルセルロース(HPC−L)132g を溶
解した水溶液を噴霧して造粒し、ついで流動層造粒乾燥
機中で乾燥する。得られる造粒物を、パワーミル粉砕機
(P−3、昭和化学機械工作所)を用い、1.5mmφパ
ンチングスクリーンで解砕して整粒末とする。得られる
整粒末 3526gにクロスカルメロースナトリウム 1
87g とステアリン酸マグネシウム 27.2g を加
え、タンブラー混合機(TM−15、昭和化学機械工作
所)で混合して打錠用顆粒とする。得られる顆粒をロー
タリー打錠機(コレクト12HUK、菊水製作所)で
6.5mmφの杵を用いて重量110mgで打錠(打錠圧
9.5KN/杵)し、裸錠とする。 [フィルムコーティング錠の製造]得られる裸錠に、ド
リアコータ―コーティング機(DRC−500、パウレ
ック製)中で前記被覆剤を噴霧し、1錠当たり化合物I
0.2mgを含有する下記処方のフィルムコーティン
グ錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物I 0.2mg 2)乳糖 89.2mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 2.99mg 3)マクロゴール6000 0.6mg 4)酸化チタン 0.4mg5)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg 製剤例2(フィルム錠の製造) 化合物Iおよび乳糖の使用量をそれぞれ40gおよび3
536gとする以外は製剤例1と同様にして、1錠当た
り化合物I 1mgを含有する下記処方のフィルムコー
ティング錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物I 1.0mg 2)乳糖 88.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 2.99mg 3)マクロゴール6000 0.6mg 4)酸化チタン 0.4mg5)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg
【0064】製剤例3(フィルム錠の製造) 化合物Iおよび乳糖の使用量をそれぞれ160gおよび
3416gとする以外は製剤例1と同様にして、1錠当
たり化合物I 4mgを含有する下記処方のフィルムコ
ーティング錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物I 4.0mg 2)乳糖 85.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 2.99mg 3)マクロゴール6000 0.6mg 4)酸化チタン 0.4mg5)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg 製剤例4(フィルム錠の製造) 化合物Iおよび乳糖の使用量をそれぞれ640gおよび
2936gとする以外は製剤例1と同様にして、1錠当
たり化合物I 16mgを含有する下記処方のフィルム
コーティング錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物I 16.0mg 2)乳糖 73.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 2.99mg 3)マクロゴール6000 0.6mg 4)酸化チタン 0.4mg5)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg
【0065】製剤例5(フィルム錠の製造) [コーティング剤の製造]精製水4320gにヒドロキ
シプロピルメチルセルロース2910(TC−5)430.
8gを溶解した。得られる溶液に酸化チタン48g、黄
色三二酸化鉄1.2gを分散させ、被覆剤を製造した。 [裸錠の製造]流動層造粒乾燥機(FD-5S,(株)パウレ
ック)中で、化合物N 8g、乳糖3568gおよびコ
ーンスターチ 440gを均一に混合後、機内でヒドロ
キシプロピルセルロース(HPC−L)132g を溶
解した水溶液を噴霧して造粒し、ついで流動層造粒乾燥
機中で乾燥する。得られる造粒物を、パワーミル粉砕機
(P−3、昭和化学機械工作所)を用い、1.5mmφパ
ンチングスクリーンで解砕して整粒末とする。得られる
整粒末 3526gにクロスカルメロースナトリウム 1
87g とステアリン酸マグネシウム 27.2g を加
え、タンブラー混合機(TM−15、昭和化学機械工作
所)で混合して打錠用顆粒とする。得られる顆粒をロー
タリー打錠機(コレクト12HUK、菊水製作所)で
6.5mmφの杵を用いて重量110mgで打錠(打錠圧
9.5KN/杵)し、裸錠とする。 [フィルムコーティング錠の製造]得られる裸錠に、ド
リアコータ―コーティング機(DRC−500、パウレ
ック製)中で前記被覆剤を噴霧し、1錠当たり化合物N
0.2mgを含有する下記処方のフィルムコーティン
グ錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物N 0.2mg 2)乳糖 89.2mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 3.59mg 3)酸化チタン 0.4mg4)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg 製剤例6(フィルム錠の製造) 化合物Nおよび乳糖の使用量をそれぞれ40gおよび3
536gとする以外は製剤例5と同様にして、1錠当た
り化合物N 1mgを含有する下記処方のフィルムコー
ティング錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物N 1.0mg 2)乳糖 88.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 3.59mg 3)酸化チタン 0.4mg4)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg
【0066】製剤例7(フィルム錠の製造) 化合物Nおよび乳糖の使用量をそれぞれ160gおよび
3416gとする以外は製剤例5と同様にして、1錠当
たり化合物N 4mgを含有する下記処方のフィルムコ
ーティング錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物N 4.0mg 2)乳糖 85.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 3.59mg 3)酸化チタン 0.4mg4)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg 製剤例8(フィルム錠の製造) 化合物Nおよび乳糖の使用量をそれぞれ640gおよび
2936gとする以外は製剤例5と同様にして、1錠当
たり化合物N 16mgを含有する下記処方のフィルム
コーティング錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物N 16.0mg 2)乳糖 73.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 3.59mg 3)酸化チタン 0.4mg4)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg
【0067】製剤例9(フィルム錠の製造) [コーティング剤の製造]精製水4320gにヒドロキ
シプロピルメチルセルロース2910(TC−5)358.
8gおよびマクロゴール6000 (ポリエチレングリ
コール6000)72gを溶解した。得られる溶液に酸
化チタン48g、黄色三二酸化鉄1.2gを分散させ、
被覆剤を製造した。 [裸錠の製造]流動層造粒乾燥機(FD-5S,(株)パウレ
ック)中で、化合物P 8g、乳糖3568gおよびコ
ーンスターチ 440gを均一に混合後、機内でヒドロ
キシプロピルセルロース(HPC−L)132g を溶
解した水溶液を噴霧して造粒し、ついで流動層造粒乾燥
機中で乾燥した。得られる造粒物を、パワーミル粉砕機
(P−3、昭和化学機械工作所)を用い、1.5mmφパ
ンチングスクリーンで解砕して整粒末とした。得られる
整粒末 3526gにクロスカルメロースナトリウム 1
87g とステアリン酸マグネシウム 27.2g を加
え、タンブラー混合機(TM−15、昭和化学機械工作
所)で混合して打錠用顆粒とした。得られる顆粒をロー
タリー打錠機(コレクト12HUK、菊水製作所)で
6.5mmφの杵を用いて重量110mgで打錠(打錠圧
9.5KN/杵)し、裸錠とした。 [フィルムコーティング錠の製造]得られる裸錠に、ド
リアコータ―コーティング機(DRC−500、パウレ
ック製)中で前記被覆剤を噴霧し、1錠当たり化合物P
0.2mgを含有する下記処方のフィルムコーティン
グ錠、26000錠を得た。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物P 0.2mg 2)乳糖 89.2mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 2.99mg 3)マクロゴール6000 0.6mg 4)酸化チタン 0.4mg5)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg 製剤例10(フィルム錠の製造) 化合物Pおよび乳糖の使用量をそれぞれ40gおよび3
536gとする以外は製剤例9と同様にして、1錠当た
り化合物P 1mgを含有する下記処方のフィルムコー
ティング錠、26000錠を得た。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物P 1.0mg 2)乳糖 88.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 2.99mg 3)マクロゴール6000 0.6mg 4)酸化チタン 0.4mg5)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg
【0068】製剤例11(フィルム錠の製造) 化合物Pおよび乳糖の使用量をそれぞれ160gおよび
3416gとする以外は製剤例9と同様にして、1錠当
たり化合物P 4mgを含有する下記処方のフィルムコ
ーティング錠、26000錠を得た。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物P 4.0mg 2)乳糖 85.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 2.99mg 3)マクロゴール6000 0.6mg 4)酸化チタン 0.4mg5)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg 製剤例12(フィルム錠の製造) 化合物Pおよび乳糖の使用量をそれぞれ640gおよび
2936gとする以外は製剤例9と同様にして、1錠当
たり化合物P 16mgを含有する下記処方のフィルム
コーティング錠、26000錠を得た。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物P 16.0mg 2)乳糖 73.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 2.99mg 3)マクロゴール6000 0.6mg 4)酸化チタン 0.4mg5)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg
【0069】製剤例13(フィルム錠の製造) [コーティング剤の製造]精製水4320gにヒドロキ
シプロピルメチルセルロース2910(TC−5)430.
8gを溶解した。得られる溶液に酸化チタン48g、黄
色三二酸化鉄1.2gを分散させ、被覆剤を製造した。 [裸錠の製造]流動層造粒乾燥機(FD-5S,(株)パウレ
ック)中で、化合物P 8g、乳糖3568gおよびコ
ーンスターチ 440gを均一に混合後、機内でヒドロ
キシプロピルセルロース(HPC−L)132g を溶
解した水溶液を噴霧して造粒し、ついで流動層造粒乾燥
機中で乾燥した。得られる造粒物を、パワーミル粉砕機
(P−3、昭和化学機械工作所)を用い、1.5mmφパ
ンチングスクリーンで解砕して整粒末とした。得られる
整粒末 3526gにクロスカルメロースナトリウム 1
87g とステアリン酸マグネシウム 27.2g を加
え、タンブラー混合機(TM−15、昭和化学機械工作
所)で混合して打錠用顆粒とした。得られる顆粒をロー
タリー打錠機(コレクト12HUK、菊水製作所)で
6.5mmφの杵を用いて重量110mgで打錠(打錠圧
9.5KN/杵)し、裸錠とした。 [フィルムコーティング錠の製造]得られる裸錠に、ド
リアコータ―コーティング機(DRC−500、パウレ
ック製)中で前記被覆剤を噴霧し、1錠当たり化合物P
0.2mgを含有する下記処方のフィルムコーティン
グ錠、26000錠を得た。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物P 0.2mg 2)乳糖 89.2mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 3.59mg 3)酸化チタン 0.4mg4)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg 製剤例14(フィルム錠の製造) 化合物Pおよび乳糖の使用量をそれぞれ40gおよび3
536gとする以外は製剤例13と同様にして、1錠当
たり化合物P 1mgを含有する下記処方のフィルムコ
ーティング錠、26000錠を得た。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物P 1.0mg 2)乳糖 88.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 3.59mg 3)酸化チタン 0.4mg4)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg
【0070】製剤例15(フィルム錠の製造) 化合物Pおよび乳糖の使用量をそれぞれ160gおよび
3416gとする以外は製剤例13と同様にして、1錠
当たり化合物P 4mgを含有する下記処方のフィルム
コーティング錠、26000錠を得た。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物P 4.0mg 2)乳糖 85.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 3.59mg 3)酸化チタン 0.4mg4)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg 製剤例16(フィルム錠の製造) 化合物Pおよび乳糖の使用量をそれぞれ640gおよび
2936gとする以外は製剤例13と同様にして、1錠
当たり化合物P 16mgを含有する下記処方のフィル
ムコーティング錠、26000錠を得た。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物P 16.0mg 2)乳糖 73.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 3.59mg 3)酸化チタン 0.4mg4)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg
【0071】製剤例17(フィルム錠の製造) [コーティング剤の製造]精製水4320gにヒドロキ
シプロピルメチルセルロース2910(TC−5)358.
8gおよびマクロゴール6000 (ポリエチレングリ
コール6000)72gを溶解した。得られる溶液に酸
化チタン48g、黄色三二酸化鉄1.2gを分散させ、
被覆剤を製造した。 [裸錠の製造]流動層造粒乾燥機(FD-5S,(株)パウレ
ック)中で、化合物R 8g、乳糖3568gおよびコ
ーンスターチ 440gを均一に混合後、機内でヒドロ
キシプロピルセルロース(HPC−L)132g を溶
解した水溶液を噴霧して造粒し、ついで流動層造粒乾燥
機中で乾燥する。得られる造粒物を、パワーミル粉砕機
(P−3、昭和化学機械工作所)を用い、1.5mmφパ
ンチングスクリーンで解砕して整粒末とする。得られる
整粒末 3526gにクロスカルメロースナトリウム 1
87g とステアリン酸マグネシウム 27.2g を加
え、タンブラー混合機(TM−15、昭和化学機械工作
所)で混合して打錠用顆粒とする。得られる顆粒をロー
タリー打錠機(コレクト12HUK、菊水製作所)で
6.5mmφの杵を用いて重量110mgで打錠(打錠圧
9.5KN/杵)し、裸錠とする。 [フィルムコーティング錠の製造]得られる裸錠に、ド
リアコータ―コーティング機(DRC−500、パウレ
ック製)中で前記被覆剤を噴霧し、1錠当たり化合物R
0.2mgを含有する下記処方のフィルムコーティン
グ錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物R 0.2mg 2)乳糖 89.2mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 2.99mg 3)マクロゴール6000 0.6mg 4)酸化チタン 0.4mg5)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg 製剤例18(フィルム錠の製造) 化合物Rおよび乳糖の使用量をそれぞれ40gおよび3
536gとする以外は製剤例17と同様にして、1錠当
たり化合物R 1mgを含有する下記処方のフィルムコ
ーティング錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物R 1.0mg 2)乳糖 88.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 2.99mg 3)マクロゴール6000 0.6mg 4)酸化チタン 0.4mg5)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg
【0072】製剤例19(フィルム錠の製造) 化合物Rおよび乳糖の使用量をそれぞれ160gおよび
3416gとする以外は製剤例17と同様にして、1錠
当たり化合物R 4mgを含有する下記処方のフィルム
コーティング錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物R 4.0mg 2)乳糖 85.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 2.99mg 3)マクロゴール6000 0.6mg 4)酸化チタン 0.4mg5)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg 製剤例20(フィルム錠の製造) 化合物Rおよび乳糖の使用量をそれぞれ640gおよび
2936gとする以外は製剤例17と同様にして、1錠
当たり化合物R 16mgを含有する下記処方のフィル
ムコーティング錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物R 16.0mg 2)乳糖 73.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 2.99mg 3)マクロゴール6000 0.6mg 4)酸化チタン 0.4mg5)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg
【0073】製剤例21(フィルム錠の製造) [コーティング剤の製造]精製水4320gにヒドロキ
シプロピルメチルセルロース2910(TC−5)430.
8gを溶解した。得られる溶液に酸化チタン48g、黄
色三二酸化鉄1.2gを分散させ、被覆剤を製造した。 [裸錠の製造]流動層造粒乾燥機(FD-5S,(株)パウレ
ック)中で、化合物Z 8g、乳糖3568gおよびコ
ーンスターチ 440gを均一に混合後、機内でヒドロ
キシプロピルセルロース(HPC−L)132g を溶
解した水溶液を噴霧して造粒し、ついで流動層造粒乾燥
機中で乾燥する。得られる造粒物を、パワーミル粉砕機
(P−3、昭和化学機械工作所)を用い、1.5mmφパ
ンチングスクリーンで解砕して整粒末とする。得られる
整粒末 3526gにクロスカルメロースナトリウム 1
87g とステアリン酸マグネシウム 27.2g を加
え、タンブラー混合機(TM−15、昭和化学機械工作
所)で混合して打錠用顆粒とする。得られる顆粒をロー
タリー打錠機(コレクト12HUK、菊水製作所)で
6.5mmφの杵を用いて重量110mgで打錠(打錠圧
9.5KN/杵)し、裸錠とする。 [フィルムコーティング錠の製造]得られる裸錠に、ド
リアコータ―コーティング機(DRC−500、パウレ
ック製)中で前記被覆剤を噴霧し、1錠当たり化合物Z
0.2mgを含有する下記処方のフィルムコーティン
グ錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物Z 0.2mg 2)乳糖 89.2mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 3.59mg 3)酸化チタン 0.4mg4)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg 製剤例22(フィルム錠の製造) 化合物Zおよび乳糖の使用量をそれぞれ40gおよび3
536gとする以外は製剤例21と同様にして、1錠当
たり化合物Z 1mgを含有する下記処方のフィルムコ
ーティング錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物Z 1.0mg 2)乳糖 88.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 3.59mg 3)酸化チタン 0.4mg4)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg
【0074】製剤例23(フィルム錠の製造) 化合物Zおよび乳糖の使用量をそれぞれ160gおよび
3416gとする以外は製剤例21と同様にして、1錠
当たり化合物Z 4mgを含有する下記処方のフィルム
コーティング錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物Z 4.0mg 2)乳糖 85.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 3.59mg 3)酸化チタン 0.4mg4)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg 製剤例24(フィルム錠の製造) 化合物Zおよび乳糖の使用量をそれぞれ640gおよび
2936gとする以外は製剤例21と同様にして、1錠
当たり化合物Z 16mgを含有する下記処方のフィル
ムコーティング錠、26000錠を得る。 裸錠処方(1錠当たりの組成): 1)化合物Z 16.0mg 2)乳糖 73.4mg 3)トウモロコシデンプン 11.0mg 4)クロスカルメロースナトリウム 5.5mg 5)ヒドロキシプロピルセルロース 3.3mg6)ステアリン酸マグネシウム 0.8mg 合計 110.0mg フィルム錠処方(1錠当たりの組成): 1)裸錠 110.0mg (フィルム成分) 2)ヒドロキシプロピルメチルセルロース2910 3.59mg 3)酸化チタン 0.4mg4)黄色三二酸化鉄 0.01mg 合計 114.0mg
【0075】
【発明の効果】本発明の製造法によれば、糖尿病治療剤
などの医薬あるいはその合成中間体として有用な化合物
を、簡便に、かつ高い収率で製造することができる。ま
た、本発明化合物は、糖尿病治療剤などの医薬あるいは
その合成中間体として有用である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成14年12月5日(2002.12.
5)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化1】 [式中、Qは置換基を有していてもよいヒドロキシ基ま
たは置換基を有していてもよいアミノ基を、nは1ない
し4の整数を、RおよびR1は、同一又は異なって、置換基
を有していてもよい炭化水素基を示す]で表される化合
物またはその塩とヒドラジンまたはその塩とを反応させ
ることを特徴とする、式(I)
【化2】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
またはその塩の製造法。
【化3】 [式中、nは1ないし4の整数を、R1は置換基を有してい
てもよい炭化水素基を示す]で表される化合物またはそ
の塩。
【請求項】式(II)
【化4】 [式中、Qは置換基を有していてもよいヒドロキシ基ま
たは置換基を有していてもよいアミノ基を、nは1ない
し4の整数を、RおよびR1は、同一又は異なって、置換基
を有していてもよい炭化水素基を示す]で表される化合
物またはその塩とヒドラジンまたはその塩とを反応させ
て、式(I)
【化5】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
またはその塩を製造し、該化合物またはその塩をアシル
化反応に付して、式(III)
【化6】 [式中、Zはアシル基を、その他の記号は前記と同意義
を示す]で表される化合物またはその塩を製造し、該化
合物またはその塩をアルキル化反応に付して、式(IV)
【化7】 [式中、R3はアルキル基を、その他の記号は前記と同意
義を示す]で表される化合物またはその塩を製造し、該
化合物またはその塩を脱アシル化反応に付して、式
(V)
【化8】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
またはその塩を製造し、該化合物またはその塩を式(V
I)
【化9】 [式中、R4は置換基を有していてもよい炭化水素基また
は置換基を有していてもよい複素環基を、Xは結合手、
酸素原子、硫黄原子、−CO−、−CS−、−CR
5(OR6)−または−NR7−(R5およびR7はそれぞ
れ水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基
を、R6は水素原子または水酸基の保護基を示す)を;
qは0ないし3の整数を;Yは酸素原子、硫黄原子、−
SO−、−SO2−、−NR8−、−CONR8−または
−NR8CO−(R8は水素原子または置換基を有してい
てもよい炭化水素基を示す)を;環Aは1ないし3個の
置換基をさらに有していてもよい芳香環を;rは1ない
し8の整数を;Tは脱離基を示す]で表される化合物ま
たはその塩と反応させ、必要により、加水分解反応を行
うことを特徴とする、式(VII)
【化10】 [式中、R0は水素原子または置換基を有していてもよい
炭化水素基を、その他の記号は前記と同意義を示す]で
表される化合物またはその塩の製造法。
【請求項】式(II)
【化11】 [式中、Qは置換基を有していてもよいヒドロキシ基ま
たは置換基を有していてもよいアミノ基を、nは1ない
し4の整数を、RおよびR1は、同一又は異なって、置換基
を有していてもよい炭化水素基を示す]で表される化合
物またはその塩とヒドラジンまたはその塩とを反応させ
て、式(I)
【化12】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
またはその塩を製造し、該化合物またはその塩を、式
(VI)
【化13】 [式中、R4は置換基を有していてもよい炭化水素基また
は置換基を有していてもよい複素環基を、Xは結合手、
酸素原子、硫黄原子、−CO−、−CS−、−CR
5(OR6)−または−NR7−(R5およびR7はそれぞ
れ水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基
を、R6は水素原子または水酸基の保護基を示す)を;
qは0ないし3の整数を;Yは酸素原子、硫黄原子、−
SO−、−SO2−、−NR8−、−CONR8−または
−NR8CO−(R8は水素原子または置換基を有してい
てもよい炭化水素基を示す)を;環Aは1ないし3個の
置換基をさらに有していてもよい芳香環を;rは1ない
し8の整数を;Tは脱離基を示す]で表される化合物ま
たはその塩と反応させて、式(VIII)
【化14】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
またはその塩を製造し、該化合物またはその塩をアルキ
ル化反応に付し、必要により、加水分解反応を行うこと
を特徴とする、式(VII)
【化15】 [式中、R0は水素原子または置換基を有していてもよい
炭化水素基を、その他の記号は前記と同意義を示す]で
表される化合物またはその塩の製造法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西口 敦子 兵庫県伊丹市南鈴原3丁目151番地 Fターム(参考) 4C063 AA01 AA03 BB08 CC52 CC62 CC75 CC92 DD22 EE05

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式(II) 【化1】 [式中、Qは置換基を有していてもよいヒドロキシ基ま
    たは置換基を有していてもよいアミノ基を、nは1ない
    し4の整数を、RおよびR1は、同一又は異なって、置換基
    を有していてもよい炭化水素基を示す]で表される化合
    物またはその塩とヒドラジンまたはその塩とを反応させ
    ることを特徴とする、式(I) 【化2】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
    またはその塩の製造法。
  2. 【請求項2】Qがヒドロキシ基である請求項1記載の製
    造法。
  3. 【請求項3】nが2である請求項1記載の製造法。
  4. 【請求項4】RおよびR1で示される置換基を有していて
    もよい炭化水素基が炭素数1〜8のアルキル基である請
    求項1記載の製造法。
  5. 【請求項5】式(I) 【化3】 [式中、nは1ないし4の整数を、R1は置換基を有してい
    てもよい炭化水素基を示す]で表される化合物またはそ
    の塩。
  6. 【請求項6】式(I) 【化4】 [式中、nは1ないし4の整数を、R1は置換基を有してい
    てもよい炭化水素基を示す]で表される化合物またはそ
    の塩をアシル化反応に付すことを特徴とする、式(II
    I) 【化5】 [式中、Zはアシル基を、その他の記号は前記と同意義
    を示す]で表される化合物またはその塩の製造法。
  7. 【請求項7】式(III) 【化6】 [式中、Zはアシル基を、nは1ないし4の整数を、R1
    置換基を有していてもよい炭化水素基を示す]で表され
    る化合物またはその塩。
  8. 【請求項8】式(III) 【化7】 [式中、Zはアシル基を、nは1ないし4の整数を、R1
    置換基を有していてもよい炭化水素基を示す]で表され
    る化合物またはその塩をアルキル化反応に付すことを特
    徴とする、式(IV) 【化8】 [式中、R3はアルキル基を、その他の記号は前記と同意
    義を示す]で表される化合物またはその塩の製造法。
  9. 【請求項9】式(IV) 【化9】 [式中、Zはアシル基を、nは1ないし4の整数を、R1
    置換基を有していてもよい炭化水素基を、R3はアルキル
    基を示す]で表される化合物またはその塩。
  10. 【請求項10】式(IV) 【化10】 [式中、Zはアシル基を、nは1ないし4の整数を、R1
    置換基を有していてもよい炭化水素基を、R3はアルキル
    基を示す]で表される化合物またはその塩を脱アシル化
    反応に付すことを特徴とする、式(V) 【化11】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
    またはその塩の製造法。
  11. 【請求項11】式(II) 【化12】 [式中、Qは置換基を有していてもよいヒドロキシ基ま
    たは置換基を有していてもよいアミノ基を、nは1ない
    し4の整数を、RおよびR1は、同一又は異なって、置換基
    を有していてもよい炭化水素基を示す]で表される化合
    物またはその塩とヒドラジンまたはその塩とを反応させ
    て、式(I) 【化13】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
    またはその塩を製造し、該化合物またはその塩をアシル
    化反応に付して、式(III) 【化14】 [式中、Zはアシル基を、その他の記号は前記と同意義
    を示す]で表される化合物またはその塩を製造し、該化
    合物またはその塩をアルキル化反応に付して、式(IV) 【化15】 [式中、R3はアルキル基を、その他の記号は前記と同意
    義を示す]で表される化合物またはその塩を製造し、該
    化合物またはその塩を脱アシル化反応に付して、式
    (V) 【化16】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
    またはその塩を製造し、該化合物またはその塩を式(V
    I) 【化17】 [式中、R4は置換基を有していてもよい炭化水素基また
    は置換基を有していてもよい複素環基を、Xは結合手、
    酸素原子、硫黄原子、−CO−、−CS−、−CR
    5(OR6)−または−NR7−(R5およびR7はそれぞ
    れ水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基
    を、R6は水素原子または水酸基の保護基を示す)を;
    qは0ないし3の整数を;Yは酸素原子、硫黄原子、−
    SO−、−SO2−、−NR8−、−CONR8−または
    −NR8CO−(R8は水素原子または置換基を有してい
    てもよい炭化水素基を示す)を;環Aは1ないし3個の
    置換基をさらに有していてもよい芳香環を;rは1ない
    し8の整数を;Tは脱離基を示す]で表される化合物ま
    たはその塩と反応させ、必要により、加水分解反応を行
    うことを特徴とする、式(VII) 【化18】 [式中、R0は水素原子または置換基を有していてもよい
    炭化水素基を、その他の記号は前記と同意義を示す]で
    表される化合物またはその塩の製造法。
  12. 【請求項12】式(II) 【化19】 [式中、Qは置換基を有していてもよいヒドロキシ基ま
    たは置換基を有していてもよいアミノ基を、nは1ない
    し4の整数を、RおよびR1は、同一又は異なって、置換基
    を有していてもよい炭化水素基を示す]で表される化合
    物またはその塩とヒドラジンまたはその塩とを反応させ
    て、式(I) 【化20】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
    またはその塩を製造し、該化合物またはその塩を、式
    (VI) 【化21】 [式中、R4は置換基を有していてもよい炭化水素基また
    は置換基を有していてもよい複素環基を、Xは結合手、
    酸素原子、硫黄原子、−CO−、−CS−、−CR
    5(OR6)−または−NR7−(R5およびR7はそれぞ
    れ水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基
    を、R6は水素原子または水酸基の保護基を示す)を;
    qは0ないし3の整数を;Yは酸素原子、硫黄原子、−
    SO−、−SO2−、−NR8−、−CONR8−または
    −NR8CO−(R8は水素原子または置換基を有してい
    てもよい炭化水素基を示す)を;環Aは1ないし3個の
    置換基をさらに有していてもよい芳香環を;rは1ない
    し8の整数を;Tは脱離基を示す]で表される化合物ま
    たはその塩と反応させて、式(VIII) 【化22】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
    またはその塩を製造し、該化合物またはその塩をアルキ
    ル化反応に付し、必要により、加水分解反応を行うこと
    を特徴とする、式(VII) 【化23】 [式中、R0は水素原子または置換基を有していてもよい
    炭化水素基を、その他の記号は前記と同意義を示す]で
    表される化合物またはその塩の製造法。
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