JP2003211572A - Retroreflective object formed with image and its manufacturing method - Google Patents

Retroreflective object formed with image and its manufacturing method

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JP2003211572A
JP2003211572A JP2002019357A JP2002019357A JP2003211572A JP 2003211572 A JP2003211572 A JP 2003211572A JP 2002019357 A JP2002019357 A JP 2002019357A JP 2002019357 A JP2002019357 A JP 2002019357A JP 2003211572 A JP2003211572 A JP 2003211572A
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retroreflective
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育夫 三村
Akihiro Matsuda
亮浩 松田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel retroreflective object formed with an image by partly removing a mirror surface reflecting layer to improve problems of visibility and durability of the image installed on the retroreflective object, and to provide a method for forming the image. <P>SOLUTION: The retroreflective object formed with the image comprises a first layer having a flat first surface, and a second layer having a retroreflective element layer having a second surface exposed at the mirror surface reflection layer. The method for forming the image comprises the step A of installing a photoreactive resin layer on the mirror surface reflection layer of the second surface, the step B of partly reacting a photoreactive resin by selectively light illuminating, the step C of partly removing the selective region of the photoreactive resin layer, and the step D of forming the image by a partial removal of the mirror surface reflection layer. The method for forming the image comprises the step of forming the image by a partial removal of the mirror surface reflection layer by using the retroreflective object having the first layer having the flat first surface and the retroreflective element layer having the second surface exposed at the mirror surface reflection layer. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention 【産業上の利用分野】[Industrial applications]

【0001】本発明は,像が形成された再帰反射性物品およ
びその製造方法に関し,鏡面反射層の部分的除去により
像が形成された再帰反射性物品およびその製造方法に関
する。
The present invention relates to an image-formed retroreflective article and a manufacturing method thereof, and more particularly to a retroreflective article having an image formed by partial removal of a specular reflection layer and a manufacturing method thereof.

【0002】詳しくは,本発明は,道路標識,工事標識等の
標識類,自動車やオートバイ等の車両のナンバープレー
ト類,衣料,救命具等の安全資材類,看板等のマーキン
グ,可視光,レーザー光あるいは赤外光反射型センサー
類の反射板等において有用な再帰反射素子の鏡面反射層
の部分的除去により像が形成された再帰反射性物品およ
びその製造方法に関する。
[0002] More specifically, the present invention relates to signs such as road signs, construction signs, license plates for vehicles such as automobiles and motorcycles, safety materials such as clothing, life preservers, markings for signs, visible light, laser light. Alternatively, the present invention relates to a retroreflective article on which an image is formed by partially removing a specular reflection layer of a retroreflective element, which is useful in a reflection plate of infrared light reflection type sensors, and a method for manufacturing the same.

【0003】さらに詳しくは,平坦な第1面をもつ実質的に
透明な層を含んでなる第1層と,鏡面反射層が露出して
いる第2面をもつ再帰反射素子層を含んでなる第2層と
からなる再帰反射性物品を用いて, A.第2面の鏡面反射層上に光反応性樹脂層を設置する工
程 B.選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に反応させ
る工程 C.光反応性樹脂層の非反応領域を部分的に除去をする工
程 D.鏡面反射層の部分的除去により像を形成する工程 により像が形成された再帰反射性物品およびその製造方
法に関する。
[0003] More specifically, it comprises a first layer comprising a substantially transparent layer having a flat first surface and a retroreflective element layer having a second surface from which the specular reflection layer is exposed. Using a retroreflective article consisting of a second layer, A. Step of placing a photoreactive resin layer on the specular reflection layer on the second surface B. Partially reacting the photoreactive resin by selective light irradiation Step C. Step of partially removing the non-reactive region of the photoreactive resin layer D. Retroreflective article having an image formed by the step of forming an image by partially removing the specular reflection layer, and a method for producing the same Regarding

【従来の技術】[Prior art]

【0004】従来より,再帰反射性物品に像を形成する方法
としてはさまざまな方法が提案されている。
[0004] Conventionally, various methods have been proposed as a method for forming an image on a retroreflective article.

【0005】従来公知の像を形成する方法としては,表面保
護層の表面(第1面)や内面などに印刷インキを用いて
印刷法により像を形成する方法が一般的であった。印刷
法による方法としては米国特許第3,154,872,第3,8
01,183,第4,082,426(特開昭53-68596号),第
4,097,838が開示されている。ここでは,この文献の
引用をもって,この具体的記述に代える。
As a conventionally known method of forming an image, a method of forming an image by a printing method using a printing ink on the surface (first surface) or the inner surface of the surface protective layer has been generally used. The printing method includes U.S. Pat. Nos. 3,154,872 and 3,8.
01,183, 4,082,426 (JP-A-53-68596),
4,097,838 are disclosed. Here, the citation of this document is substituted for this concrete description.

【0006】さらに,像を再帰反射素子上に直接設置する方
法も知られている。
[0006] Further, a method of directly placing an image on a retroreflective element is also known.

【0007】ライトルの特表平10-500230号再帰反射製品お
よびその製造においては, (a)微小球の層をキャリヤー上で支持すること; (b)微小球の層の第1部分がその後方に機能的にコー
ティングされた反射性金属層を有し,且つ,第2部分が
そのような反射性金属層を有しないように,支持された
微小球の層に反射性金属層を選択的に蒸着すること; (c)微小球の層をバインダー層の第1主要表面に部分
的に埋め込むこと; (d)微小球の層がバインダー層の第1主要表面に部分
的に埋め込まれたまま残って第1及び第2セグメントを
有する再帰反射製品が形成されるように微小球の層から
キャリヤーを除去すること,但し,前記第1セグメント
は微小球の埋め込まれた部分の後方に機能的に配置され
た蒸着された反射性金属層を有する; と言う方法が開示されている。
[0007] In Lytle's Tokukaihei No. 10-500230 retroreflective product and its manufacture, (a) supporting a layer of microspheres on a carrier; (b) the first portion of the layer of microspheres is behind it. A reflective metal layer selectively supported on the layer of the supported microspheres so that the second portion does not have such a reflective metal layer functionally coated onto the microsphere layer. (C) partially embedding the layer of microspheres on the first major surface of the binder layer; (d) leaving the layer of microspheres partially embedded on the first major surface of the binder layer. Removing the carrier from the layer of microspheres so that a retroreflective article having first and second segments is formed, wherein the first segment is functionally located behind the embedded portion of the microspheres. With a deposited evaporated reflective metal layer Is disclosed.

【0008】マーチンの特開平4-229244号においては,逆反
射マイクロプリズム面上に形成された金属付着層に部分
的に接着層を形成し,接着層により保護されていない金
属層を引き剥がすことにより,部分的に金属層の設置さ
れていない逆反射マイクロプリズムシートの形成方法が
開示されている。また,部分的に設置する接着剤層(保
護コーティング材)は後工程における溶剤処理段階にて
甚だしい悪影響を受けない感圧接着剤であるのが望まし
いと記載されている。さらに,設置する方法としては印
刷法が記載されている。
[0008] In Japanese Patent Laid-Open No. 4-229244 of Martin, an adhesive layer is partially formed on a metal adhesion layer formed on a retroreflective microprism surface, and a metal layer not protected by the adhesion layer is peeled off. Discloses a method of forming a retroreflective microprism sheet in which a metal layer is not partially installed. Further, it is described that it is desirable that the adhesive layer (protective coating material) partially installed is a pressure-sensitive adhesive that does not have a serious adverse effect in a solvent treatment step in a subsequent process. Furthermore, a printing method is described as a method of installation.

【0009】さらに,マーチンの特開平1-231004号におい
ては,逆反射マイクロプリズム面上に形成された金属付
着層に部分的に接着層を形成し,接着層により保護され
ていない金属層を引き剥がすことにより,部分的に金属
層の設置されていない逆反射マイクロプリズムシートの
形成方法と,逆反射マイクロプリズム面上に部分的に被
覆材料を設置した後に,金属蒸着をほどこし,しかる後
に,部分的に被覆した材料を除去することにより部分的
に金属層の設置されていない逆反射マイクロプリズムシ
ートの形成方法が開示されている。
[0009] Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 1-21004 of Martin, an adhesive layer is partially formed on a metal adhesion layer formed on a retroreflective microprism surface, and a metal layer not protected by the adhesion layer is drawn. A method of forming a retroreflective microprism sheet in which a metal layer is not partially installed by peeling, and a metal deposition is performed after partially installing a coating material on the retroreflective microprism surface, and then the partial A method of forming a retroreflective microprism sheet partially free of a metal layer by removing the selectively coated material is disclosed.

【0010】また,レーザーにより蒸着層を除去する方法も
一般的に用いられている。
[0010] A method of removing the vapor deposition layer by laser is also commonly used.

【0011】ガラノス(Galanos)による米国特許第4,200,8
75号には,露出レンズ型再帰反射シートに,あらかじめ
決められたパターンでレーザー法により像を形成する方
法が開示されている。
[0011] US Pat. No. 4,200,8 by Galanos
No. 75 discloses a method in which an image is formed on an exposed lens type retroreflective sheet by a laser method in a predetermined pattern.

【発明が解決すべき課題】[Problems to be Solved by the Invention]

【0012】本発明の目的は,像が形成された再帰反射性物
品およびその製造方法に関し,鏡面反射層の部分的除去
により像が形成された新規な再帰反射性物品およびその
製造方法に関する。
An object of the present invention relates to an image-formed retroreflective article and a method for manufacturing the same, and relates to a novel retroreflective article having an image formed by partial removal of a specular reflection layer and a method for manufacturing the same.

【0013】従来公知の像を形成する方法としては,表面保
護層の表面(第1面)や内面などに印刷インキを用いて
印刷法により像を形成する方法が一般的であった。しか
しながらこのような印刷インキを用いる方法においては
像を形成する樹脂層が外部からの光や水の侵入によって
劣化が促進されやすく,耐久性の優れた像を得ることが
困難であった。
As a conventionally known method of forming an image, a method of forming an image by a printing method using a printing ink on the surface (first surface) or the inner surface of the surface protective layer has been generally used. However, in the method using such a printing ink, deterioration of the resin layer forming an image is easily promoted by the penetration of light or water from the outside, and it is difficult to obtain an image having excellent durability.

【0014】さらに,マーチンの特開平4-229244号や特開平
1-2311004号に開示されているような,逆反射マイクロ
プリズム面上に形成された金属付着層に部分的に接着層
を形成し,接着層により保護されていない金属層を引き
剥がすことにより,部分的に金属層の設置されていない
逆反射マイクロプリズムシートの形成方法においては,
接着剤層を印刷法などで設置する必要があるためにプリ
ズム間の溝に沿って溶剤を含んだ接着剤が流れ出して鮮
明な像が形成しづらいという問題点があった。さらに,
溶剤によりプリズムが変形を起こし再帰反射性能が低下
するという問題点もあった。
[0014] Furthermore, Martin Japanese Patent Laid-Open No. 4-229244 and Japanese Patent Laid-Open No.
As disclosed in 1-2311004, by partially forming an adhesive layer on the metal adhesion layer formed on the retroreflective microprism surface, and peeling off the metal layer not protected by the adhesion layer, In the method of forming the retroreflective microprism sheet in which the metal layer is not partially installed,
Since it is necessary to set the adhesive layer by a printing method or the like, the adhesive containing the solvent flows out along the grooves between the prisms, and it is difficult to form a clear image. further,
There is also a problem that the prism is deformed by the solvent and the retroreflective performance is deteriorated.

【0015】また,レーザーにより蒸着層を除去する方法も
一般的に用いられている。しかしながら,レーザー法に
よる像の形成方法は反射素子である微小硝子球やプリズ
ムの部分的破壊を起こすために,再帰反射性能を低下さ
せるという問題点があった。さらに,用いることのでき
るレーザー光線の径が小さいために形成しうる像は微小
点の集合像として得られるために,鮮明な像が得られに
くく,広範囲の像を形成するのが困難であった。
[0015] A method of removing the vapor deposition layer by laser is also commonly used. However, the method of forming an image by the laser method has a problem that the retroreflective performance is deteriorated because the minute glass spheres and prisms, which are reflective elements, are partially destroyed. Further, since the diameter of the laser beam that can be used is small, an image that can be formed is obtained as a collective image of minute points, so it is difficult to obtain a clear image, and it is difficult to form an image in a wide range.

【0016】本発明の目的は,上記の従来公知技術の問題点
を改善するために,鏡面反射層の部分的除去により像が
形成された新規な再帰反射性物品およびその製造方法の
提供することである。
[0016] It is an object of the present invention to provide a novel retroreflective article having an image formed by partial removal of a specular reflection layer and a method for producing the same, in order to improve the above-mentioned problems of the prior art. Is.

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

【0017】本発明は,平坦な第1面をもつ実質的に透明な
層を含んでなる第1層と,鏡面反射層が露出している第
2面をもつ再帰反射素子層を含んでなる第2層とからな
る再帰反射性物品を用いて, A.第2面の鏡面反射層上に光反応性樹脂層を設置する工
程 B.選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に反応させ
る工程 C. 光反応性樹脂層の選択領域を部分的に除去をする工
程 D.鏡面反射層の部分的除去により像を形成する工程 により像が形成された再帰反射性物品およびその製造方
法に関する。
The present invention comprises a first layer comprising a substantially transparent layer having a flat first surface and a retroreflective element layer having a second surface with an exposed specular reflection layer. Using a retroreflective article consisting of a second layer, A. Step of placing a photoreactive resin layer on the specular reflection layer on the second surface B. Partially reacting the photoreactive resin by selective light irradiation Step C. Step of partially removing a selected region of the photoreactive resin layer D. Retroreflective article having an image formed by the step of forming an image by partially removing the specular reflection layer, and a method for manufacturing the same .

【0018】本発明で用いることのできる再帰反射性物品の
種類は,平坦な第1面をもつ実質的に透明な層を含んで
なる第1層と,鏡面反射層が露出している第2面をもつ
再帰反射素子層を含んでなる第2層とからなる再帰反射
性物品であれば適宜選択することができるが,再帰反射
素子層が封入レンズ型,カプセルレンズ型および鏡面反
射式プリズム型再帰反射素子の群より選ばれた再帰反射
素子より構成されてなる再帰反射性物品が好ましい。
The types of retroreflective articles that can be used in the present invention include a first layer comprising a substantially transparent layer having a flat first surface and a second layer having an exposed specular reflective layer. A retroreflective article including a second layer including a retroreflective element layer having a surface can be appropriately selected, and the retroreflective element layer includes an encapsulated lens type, a capsule lens type, and a specular reflection prism type. A retroreflective article composed of a retroreflective element selected from the group of retroreflective elements is preferred.

【0019】封入型の再帰反射素子の例としては,再帰反射
部分を構成する再帰反射素子の直径が30〜500μmの微小
硝子球型再帰反射素子が好ましく,表面が平滑で透明な
表面保護層により覆われている。30μm未満の直径の反
射素子においては,回折効果による光の発散が過大とな
り再帰反射性能が低下し好ましくなく,500μmを超える
直径の反射素子においてはシートの厚さが過大となり,
また,形成される像の鮮明度が低下するので好ましくな
い。
[0019] As an example of the encapsulation type retroreflective element, a fine glass-sphere type retroreflective element having a diameter of the retroreflective element constituting the retroreflective portion of 30 to 500 µm is preferable, and a surface protective layer having a smooth and transparent surface is used. Is covered. In a reflective element with a diameter of less than 30 μm, the divergence of light due to the diffraction effect becomes excessive and the retroreflective performance deteriorates, which is not preferable. In a reflective element with a diameter of more than 500 μm, the sheet thickness becomes excessive,
In addition, the sharpness of the formed image decreases, which is not preferable.

【0020】カプセルレンズ型再帰反射素子の例としては,
再帰反射部分を構成する再帰反射素子の直径が30〜500
μmの微小硝子球型再帰反射素子が好ましく,表面保護
層を構成するプラスチックフイルムは表面が平滑で透明
である。封入レンズ型再帰反射シートと同様に30μm未満
の直径の反射素子においては,回折効果による光の発散
が過大となり再帰反射性能が低下し好ましくなく,500
μmを超える直径の反射素子においてはシートの厚さが
過大となり,また,形成される像の鮮明度が低下するの
で好ましくない。
[0020] As an example of the capsule lens type retroreflective element,
The diameter of the retroreflective element that constitutes the retroreflective part is 30 to 500.
A micrometer-sized micro-glass type retroreflective element is preferable, and the plastic film forming the surface protective layer has a smooth and transparent surface. Similar to the encapsulated lens type retroreflective sheet, in a reflective element having a diameter of less than 30 μm, the divergence of light due to the diffraction effect becomes excessive and the retroreflective performance deteriorates, which is not preferable.
In a reflective element having a diameter of more than μm, the thickness of the sheet becomes excessive, and the sharpness of the image formed is reduced, which is not preferable.

【0021】鏡面反射式プリズム型素子の例としては,再帰
反射部分を構成する再帰反射素子の高さが50〜500μmの
キューブコーナー型再帰反射素子であって,素子の反射
表面が金属薄膜により鏡面処理化されて鏡面反射層が形
成されている再帰反射素子があげられる。素子の高さが
50μm未満のキューブコーナー反射素子においては回折
効果による光の発散が過大となり再帰反射性能が低下し
好ましくなく,500μmを超える高さのキューブコーナー
反射素子においてはシートの厚さが過大となり,また,
形成される像の鮮明度が低下するので好ましくない。
[0021] An example of the specular reflection type prism element is a cube-corner type retroreflective element in which the height of the retroreflective element constituting the retroreflective portion is 50 to 500 μm, and the reflective surface of the element is a mirror surface made of a metal thin film. An example is a retroreflective element that has been treated to form a specular reflection layer. The height of the element
In a cube-corner reflective element of less than 50 μm, the divergence of light due to the diffraction effect becomes excessive and the retroreflective performance deteriorates, which is not preferable, and in a cube-corner reflective element having a height of more than 500 μm, the sheet thickness becomes excessive, and
It is not preferable because the sharpness of the formed image is lowered.

【0022】鏡面反射式プリズム型素子の好適な実施態様と
しては,断面が実質的に対称型のV字状の溝が互いに交
叉することにより形成される底面が三角形であり,3つ
の略直角に交叉する側面によって区切られた一対の鏡面
反射式三角錐型プリズム型素子が好ましい。
As a preferred embodiment of the specular reflection type prism element, a bottom surface formed by intersecting V-shaped grooves having a substantially symmetrical cross section with each other has a triangular shape, and three substantially right angles are provided. A pair of specular-reflecting triangular-pyramidal prism elements separated by intersecting side surfaces are preferable.

【0023】また,鏡面反射式プリズム型素子のもつ光学軸
は,再帰反射時の入射角特性を改善するために傾斜する
ことができる。傾斜する角度は0.5〜12度,好まし
くは0.6〜10度,さらに好ましくは0.7〜1.5
度であり,傾斜する方向はお互いに対峙する一対の鏡面
反射式三角錐型プリズム型素子の光学軸が互いに近づく
方向でも,遠ざかる方向のいずれでもよい。
[0023] Further, the optical axis of the specular reflection type prism element can be tilted in order to improve the incident angle characteristic at the time of retroreflection. The angle of inclination is 0.5 to 12 degrees, preferably 0.6 to 10 degrees, and more preferably 0.7 to 1.5.
The tilting direction may be either a direction in which the optical axes of a pair of mirror-reflecting triangular-pyramidal prism type elements facing each other are close to each other or a direction in which they are away from each other.

【0024】好ましい鏡面反射式三角錐型プリズム型素子の
例としては,共通する一底面(X−X′)上に突出した
三角錐型キューブコーナー再帰反射素子が,互いに該底
面(X−X′)上の一つの底辺を共有して,相対峙して
該底面上に最密充填状に配置されており,該底面(X−
X′)は該三角錐型反射素子が共有する多数の該底辺
(x,x,....)を包含する共通の一平面であり,相対
峙する二つの該三角錐型反射素子は該底面(X−X′)
上の共有する底辺(x,x,....)を含む該底面に垂直
な平面(Y−Y′,Y−Y′,....)に対してそれぞれ
対称となるように向き合った実質的に同一形状の素子対
をなしており,該三角錐型反射素子は該共有する底辺
(x,x,....)を一辺とする実質的に同一の五角形状
の傾斜面(c1,c2)と,該三角錐型反射素子の頂点
(H)を起点とする前記c1面又はc2面の上部の二辺
をそれぞれ一辺とし,該三角錐型反射素子の一つの稜線
を共有して,これを一辺とする該c1面又はc2面と直
角に交叉する実質的に同一の四角形状の傾斜面(a1
面,b1面;a2面,b2面)から成り,該三角錐型反
射素子の頂点(H)から,該三角錐型反射素子の五角形
状の傾斜面(c1,c2)の底辺(x,x,....)を含
む該底面(X−X′)までの高さ(h)が,該三角錐型
反射素子の頂点(H)から,該三角錐型反射素子の他の
傾斜面(a1面,b1面;a2面,b2面)の底辺
(z,w)を包含する実質的に水平の面(仮想面Z−
Z′)までの高さ(h′)よりも実質的に大であること
を特徴とする鏡面反射式プリズム型素子をあげることが
できる。このような素子を含む三角錐型キューブコーナ
ー再帰反射シートについては,国際公開特許第WO 01/5
7560A1号に記載されており,ここでは,この文献の引
用をもって,この具体的記述に代える。
[0024] As an example of a preferable specular reflection type triangular pyramid prism type element, triangular pyramid type cube corner retroreflective elements protruding on one common bottom surface (XX-X ') are mutually formed on the bottom surface (XX-X'). ) One bottom side is shared, and the bottom side (X-
X ') is a common plane that includes a number of the bases (x, x, ...) Shared by the triangular pyramidal reflection elements, and two triangular pyramidal reflection elements that are relatively facing each other are Bottom (XX ')
Faced so as to be symmetric with respect to a plane (Y-Y ', Y-Y', ....) perpendicular to the bottom surface including the shared base (x, x, ...) Above. The triangular-pyramidal reflective elements are formed of a pair of elements having substantially the same shape, and the triangular pyramidal reflection elements have substantially the same pentagonal inclined surface (c1) having the shared base (x, x, ...) As one side. , C2) and the upper two sides of the c1 plane or the c2 plane starting from the apex (H) of the triangular pyramidal reflective element as one side, and share one ridgeline of the triangular pyramidal reflective element. , Substantially the same quadrangular inclined surface (a1) that intersects at right angles with the c1 surface or the c2 surface having one side thereof.
Surface, b1 surface; a2 surface, b2 surface), and the base (x, x) of the pentagonal inclined surface (c1, c2) of the triangular-pyramidal reflective element from the vertex (H) of the triangular-pyramidal reflective element. , ..) to the bottom surface (XX ′) from the apex (H) of the triangular-pyramidal reflective element to another inclined surface (H) of the triangular-pyramidal reflective element. a1 plane, b1 plane; a2 plane, a2 plane, and a substantially horizontal plane (virtual plane Z-) including the bases (z, w) of
A specular reflection type prism element characterized by being substantially larger than the height (h ') up to Z') can be mentioned. Regarding a triangular-pyramidal cube-corner retroreflective sheet including such an element, International Patent Publication WO 01/5
No. 7560A1, which is incorporated herein by reference to this specific description.

【0025】さらに好ましい鏡面反射式プリズム型素子の例
としては,該三角錐型キューブコーナー再帰反射素子
が,断面が実質的に対称形のV字状の溝が互いに交叉す
ることにより, 3つの互いに略直角に交叉する側面(a
1面, b1面, c1面;a2面, b2面, c2面;…),
によって区切られた一対の三角錐型キューブコーナー再
帰反射素子が共通する一底面(S-S’)上の一方の側に
突出するように最密充填状に配置されており, 該一対
の三角錐型再帰反射素子は, 互いに向かい合った側面
(c1面, c2面)が一つの底辺(x)を共有して対をな
しており, 該底面(S-S’)は, 該一対の三角錐型再
帰反射素子の一方の側面(a1面, a2面)の底辺(z,
z)および他方の側面(b1面, b2面)の底辺(y,
y)とを共に包含する共通の一平面であって, 該底辺
(x)を共有する該一対の三角錐型再帰反射素子は, 互
いに向かい合った側面(c1面, c2面)が異なる形状を
有し, かつ, 該平面(S-S’)からの頂点までの高さ
が互いに異なることを特徴とする鏡面反射式プリズム型
素子をあげることができる。このような素子を含む三角
錐型キューブコーナー再帰反射シートについては,特開
2001−264525号に記載されており,ここで
は,この文献の引用をもって,この具体的記述に代え
る。
[0025] As a more preferable example of the specular reflection type prism type element, the triangular pyramid type cube corner retroreflective element has three cross-sectionally substantially symmetrical V-shaped grooves intersecting with each other to form three Sides (a
1st, b1st, c1st; a2nd, b2nd, c2nd;…),
A pair of triangular-pyramidal cube-corner retroreflective elements separated by a pair of triangular-pyramids are arranged in a close-packed manner so as to project to one side on a common bottom surface (SS). In the type retroreflective element, the side faces (c1 face, c2 face) facing each other share one base (x) and form a pair, and the bottom face (S-S ') is the pair of triangular pyramids. One side (a1 surface, a2 surface) of the retroreflective element has a base (z,
z) and the bottom of the other side surface (b1 surface, b2 surface) (y,
y) and a pair of triangular-pyramidal retroreflective elements that share a base (x) and have a common side surface (c1 surface, c2 surface) different from each other. In addition, a specular reflection type prism element having different heights from the plane (S-S ') to the apex can be mentioned. A triangular-pyramidal cube-corner retroreflective sheet including such an element is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-264525, and here, the citation of this document is used instead of this specific description.

【0026】再帰反射素子の鏡面反射層を構成する物質に
は,例えば,アルミニウム,銀,ニッケル,銅、金など
の金属薄膜をそれぞれ単独に,あるいは複合して設置す
ることができる。鏡面反射層を設置する方法としては,
蒸着法,スパッタリング法,電気メッキ法,化学メッキ
法または金属光沢調の外観をもつインキまたは塗料によ
る金属調樹脂層設置法などを適宜採用することができ
る。また,設置する鏡面反射層の厚さは,0.2〜2μ
m,好ましくは0.5〜1.5μmの厚さを例示するこ
とができる。
[0026] As the material forming the specular reflection layer of the retroreflective element, for example, metal thin films such as aluminum, silver, nickel, copper, and gold can be installed individually or in combination. As a method of installing the specular reflection layer,
A vapor deposition method, a sputtering method, an electroplating method, a chemical plating method, or a metal-tone resin layer installation method using an ink or paint having a metallic luster appearance can be appropriately adopted. Moreover, the thickness of the specular reflection layer to be installed is 0.2 to 2 μm.
The thickness may be, for example, m, preferably 0.5 to 1.5 μm.

【0027】上記の鏡面反射層は特にアルミニウム鏡面反射
層が好ましい。アルミニウム鏡面反射層の連続蒸着処理
装置は、真空度が7〜9×10−4mmHg程度に維持
できる真空容器、その中に設置された基体シート及びそ
の光入射側表面上に積層された表面保護層からなるプリ
ズム原反シートを繰り出す巻き出し装置、蒸着処理され
たプリズム原反シートを巻き取る巻き取り装置、並びに
それらの間にあって、黒鉛坩堝中で電熱ヒーターでアル
ミニウムを溶融させることが可能な加熱装置よりなって
いる。黒鉛坩堝中には純度が99.99重量%以上の純
アルミニウムペレットが投入され、例えば、交流電圧3
50〜360V、電流が115〜120A、処理速度が
30〜70m/分の条件で、溶融され蒸気化されたアル
ミニウム原子によって再帰反射素子の表面に鏡面反射層
を例えば0.2〜2μmの厚さで蒸着処理することがで
きる。
[0027] The above specular reflection layer is particularly preferably an aluminum specular reflection layer. The continuous vapor deposition processing apparatus for the aluminum specular reflection layer includes a vacuum container capable of maintaining a vacuum degree of about 7 to 9 × 10 −4 mmHg, a substrate sheet installed therein, and a surface protective layer laminated on the light incident side surface thereof. An unwinding device for unwinding a prismatic raw sheet made of, a winding device for winding up a vapor-deposited prismatic raw sheet, and a heating device between them, which is capable of melting aluminum with an electric heater in a graphite crucible. Has become Pure aluminum pellets having a purity of 99.99% by weight or more are put into the graphite crucible.
A specular reflection layer having a thickness of, for example, 0.2 to 2 μm is formed on the surface of the retroreflective element by the molten and vaporized aluminum atoms under the conditions of 50 to 360 V, current of 115 to 120 A, and treatment speed of 30 to 70 m / min. It can be vapor-deposited.

【0028】本発明における,平坦な第1面をもつ実質的に
透明な層を含んでなる第1層は,封入型の再帰反射素子
の場合は再帰反射部分を構成する再帰反射素子の直径が
30〜500μmの微小硝子球型再帰反射素子と直接接触して
おり,カプセルレンズ型再帰反射素子の場合には部分的
な密封封入構造を介して空気層で隔たれている。また,
鏡面反射式プリズム型素子の場合には反射素子層と密着
するように独立した層として構成されていてもよく,あ
るいは,プリズム型素子を構成する樹脂層と同一の層と
して構成されていてもよい。
In the present invention, the first layer including a substantially transparent layer having a flat first surface has a diameter of a retroreflective element forming a retroreflective portion in the case of an encapsulation type retroreflective element.
It is in direct contact with a micro-glass type retroreflective element of 30 to 500 μm, and in the case of a capsule lens type retroreflective element, it is separated by an air layer through a partially sealed encapsulation structure. Also,
In the case of the specular reflection type prism type element, it may be formed as an independent layer so as to be in close contact with the reflection element layer, or may be formed as the same layer as the resin layer forming the prism type element. .

【0029】本発明における第1層の厚さは,本発明の目的
である形成された像の視認性を妨げない範囲で適宜選択
することができるが,好ましい厚さとしてはいずれのタ
イプの素子においても,10〜2000μm,さらに好
ましくは,20〜100μmが例示される。
The thickness of the first layer in the present invention can be appropriately selected within a range that does not impair the visibility of the formed image which is the object of the present invention, but a preferable thickness is any type of element. In the above, the thickness is, for example, 10 to 2000 μm, more preferably 20 to 100 μm.

【0030】さらに,第1層に用いることのできる樹脂は,
再帰反射性能や像の視認性を向上するために透明性の優
れたものを用いることが望ましい。本発明に用いる第1
層の透明性としては,着色されていない無色の樹脂の場
合には,光線透過率が50〜98%,好ましくは,60
〜97%のものを用いることができる。
Further, the resin that can be used for the first layer is
It is desirable to use one having excellent transparency in order to improve retroreflective performance and image visibility. First used in the present invention
As for the transparency of the layer, in the case of a colorless resin which is not colored, the light transmittance is 50 to 98%, preferably 60.
˜97% can be used.

【0031】本発明における,平坦な第1面をもつ実質的に
透明な層を含んでなる第1層に用いることのできる樹脂
といては,各種の透明プラスチック材質を用いることが
でき,例えば,ポリカーボネート樹脂,塩化ビニル樹
脂,(メタ)アクリル樹脂,エポキシ樹脂,ポリスチレ
ン樹脂,ポリエステル樹脂,フッ素樹脂,ポリエチレン
樹脂やポリプロピレン樹脂などのポリオレフィン樹脂,
セルロース系樹脂及びポリウレタン樹脂などをそれぞれ
単独又は組み合わせて用いることができる。
Various transparent plastic materials can be used as the resin that can be used in the first layer including the substantially transparent layer having the flat first surface in the present invention. Polycarbonate resin, vinyl chloride resin, (meth) acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, polyester resin, fluororesin, polyolefin resin such as polyethylene resin and polypropylene resin,
Cellulosic resins and polyurethane resins may be used alone or in combination.

【0032】さらに、耐候性を向上する目的で紫外線吸収
剤、光安定剤及び酸化防止剤などをそれぞれ単独あるい
は組み合わせて用いることができる。さらに着色剤とし
て各種の有機顔料、無機顔料、蛍光顔料、染料および蛍
光染料などを含有させることができる。
[0032] Further, for the purpose of improving weather resistance, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant and the like can be used alone or in combination. Furthermore, various organic pigments, inorganic pigments, fluorescent pigments, dyes, fluorescent dyes and the like can be contained as colorants.

【0033】つぎに,本発明において,平坦な第1面をもつ
実質的に透明な層を含んでなる第1層と,鏡面反射層が
露出している第2面をもつ再帰反射素子層を含んでなる
第2層とからなる再帰反射性物品を用いて, A.第2面の鏡面反射層上に光反応性樹脂層を設置する工
程 B.選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に反応させ
る工程 C.光反応性樹脂層の選択領域を部分的に除去をする工程 D.鏡面反射層の部分的除去により像を形成する工程 により像が形成する工程を以下に説明する。
[0033] Next, in the present invention, a first layer comprising a substantially transparent layer having a flat first surface and a retroreflective element layer having a second surface from which the specular reflection layer is exposed are provided. Using a retroreflective article consisting of a second layer containing A. Step of placing a photoreactive resin layer on the specular reflection layer of the second surface B. Part of the photoreactive resin by selective light irradiation The step of forming an image by the step C. the step of partially removing the selected region of the photoreactive resin layer and the step of forming the image by the partial removal of the specular reflection layer will be described below.

【0034】第1の工程である第2面の鏡面反射層上に光反
応性樹脂層を設置する工程としては,鏡面反射層が露出
している第2面に連続または枚様でのスクリーン印刷
法,グラビア印刷法,各種のコーティング法,スプレー
法などで直接塗工する方法が採用できる。
[0034] The step of installing the photoreactive resin layer on the specular reflection layer of the second surface which is the first step includes continuous or sheet-like screen printing on the second surface where the specular reflection layer is exposed. Direct coating methods such as coating method, gravure printing method, various coating methods, and spraying method can be adopted.

【0035】この際に,あらかじめ光反応性樹脂を設置する
領域を限定して,印刷法やコーティング法などによって
部分的に設置することもできる。
[0035] At this time, the region where the photoreactive resin is installed can be limited in advance, and the photoreactive resin can be partially installed by a printing method or a coating method.

【0036】または,シート状の光反応性樹脂を鏡面反射層
に熱ロールで圧力をかけて積層する方法も採用すること
ができる。
Alternatively, a method in which a sheet-shaped photoreactive resin is laminated on the specular reflection layer by applying pressure with a heat roll may be employed.

【0037】本発明において,第2面の鏡面反射層上に設置
する光反応性樹脂層を形成する層の最小部分の厚みが1
0〜200μmであることが望ましい。さらに好ましく
は30〜100μmが望ましい。
In the present invention, the thickness of the minimum portion of the layer forming the photoreactive resin layer provided on the specular reflection layer on the second surface is 1
It is preferably 0 to 200 μm. More preferably, the thickness is 30 to 100 μm.

【0038】10μm未満の場合には鏡面反射層を部分的に
除去する際に,鏡面反射層を除去する薬剤が光反応性樹
脂層を通じて浸透して鏡面反射層と反応するので好まし
くない。また,200μmを超える場合には,選択的に
光反応を行う際に光反応性樹脂層の内部において光の散
乱が起こりやすく,鮮明な像の形成が困難になるので好
ましくない。さらに,鏡面反射層を部分的に除去する際
に,鏡面反射層を除去する薬剤の進入が困難になり鏡面
反射層を除去が困難になり,やはり,鮮明な像の形成が
困難になるので好ましくない。また,光反応性樹脂層の
厚さが過大となり柔軟なシート製品を得にくいので好ま
しくない。
[0038] When the thickness is less than 10 µm, the agent for removing the specular reflection layer penetrates through the photoreactive resin layer and reacts with the specular reflection layer when partially removing the specular reflection layer. On the other hand, when the thickness exceeds 200 μm, light scattering is likely to occur inside the photoreactive resin layer during selective photoreaction, which makes it difficult to form a clear image, which is not preferable. Furthermore, when the specular reflection layer is partially removed, it becomes difficult for a chemical agent for removing the specular reflection layer to enter, which makes it difficult to remove the specular reflection layer, and again it is difficult to form a clear image, which is preferable. Absent. In addition, the thickness of the photoreactive resin layer becomes excessively large, which makes it difficult to obtain a flexible sheet product, which is not preferable.

【0039】本発明において,第2面の鏡面反射層上に設置
する光反応性樹脂層は光重合性,光縮合成,光架橋性お
よび光分解性の樹脂を適宜用いることができる。これら
の樹脂は光の照射により溶解性の変化,液体から固体へ
の相変化および接着性の変化などの物理的性質変化を起
こし部分的な像の形成を可能とする。
[0039] In the present invention, the photoreactive resin layer provided on the specular reflection layer on the second surface may be appropriately selected from photopolymerizable, photocondensed, photocrosslinkable and photodegradable resins. These resins undergo a change in physical properties such as a change in solubility, a change in phase from a liquid to a solid, and a change in adhesiveness upon irradiation with light, and thus a partial image can be formed.

【0040】本発明に用いることのできる光反応性樹脂の第
1の例としては,いわゆる,UV硬化型インキとして用
いられるようなアクリルプレポリマーをビヒクルとし
て,これに反応性モノマー,光重合開始剤および助剤類
を加えたUV硬化型樹脂を用いることができる。ビヒク
ルとしては重量分子量が1000〜5000程度のポリ
エステルアクリラート,エポキシアクリラート,ウレタ
ンアクリラートなどのアクリルポリマー類やアクリロイ
ル基が導入された変性アルキッド樹脂などを用いること
ができる。
[0040] As a first example of the photoreactive resin that can be used in the present invention, a so-called acrylic prepolymer used as a UV curable ink is used as a vehicle, and a reactive monomer and a photopolymerization initiator are added to the vehicle. A UV-curable resin containing additives and auxiliaries can be used. As the vehicle, acrylic polymers such as polyester acrylate, epoxy acrylate, and urethane acrylate having a weight molecular weight of about 1,000 to 5,000, and modified alkyd resins having an acryloyl group introduced can be used.

【0041】ポリエステルアクリラートの例としてはアジピ
ン酸と1,6−ヘキサンジオールより得られるポリエス
テル樹脂の両末端にアクリロイル基を導入したプレポリ
マーなどが上げられる。エポキシアクリラートの例とし
てはエポキシ樹脂の両末端のグリシジル基とアクリル酸
とを反応させたプレポリマーなどを用いることができ
る。ポリウレタンアクリラートの例としてはアジピン酸
と1,6−ヘキサンジオールより得られるポリエステル
樹脂の両末端をトリレンジイソシアネート樹脂で反応さ
せた後に,引き続いて,2−ヒドロキシエチルアクリレ
ートで反応させたプレポリマーなどを用いることができ
る。
[0041] Examples of the polyester acrylate include a prepolymer in which an acryloyl group is introduced into both ends of a polyester resin obtained from adipic acid and 1,6-hexanediol. As an example of the epoxy acrylate, a prepolymer obtained by reacting glycidyl groups at both ends of an epoxy resin with acrylic acid can be used. Examples of polyurethane acrylate include a prepolymer obtained by reacting both ends of a polyester resin obtained from adipic acid and 1,6-hexanediol with tolylene diisocyanate resin, and subsequently with 2-hydroxyethyl acrylate. Can be used.

【0042】用いることのできる反応性モノマーの例として
は,ジエチレングリコールジアクリレート,ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート,1,6−ヘキサンジオー
ルジアクリレート,トリメチロールプロパントリアクリ
レート,ペンタエリスリトールトリアクリレートなどの
多官能性アクリラート類を用いることができる。
[0042] Examples of reactive monomers that can be used include polyfunctional acrylates such as diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, and pentaerythritol triacrylate. A class can be used.

【0043】上記の光反応性樹脂に用いることのできる光重
合開始剤としては,UV光を吸収して重合反応に有効な
ラジカルを効率よく発生するものが好ましい。たとえ
ば,各種のベンゾイン誘導体,2,2−ジメトキシ−2
−フェニルアセトフェノン,水素供与体の存在下でUV
光照射により水素引き抜き反応を起こしてラジカルを発
生するベンゾフェノン,チオキサントンなどの芳香族カ
ルボニル化合物を用いることができる。さらに,アミン
類を添加することによりラジカルの発生を効率的にする
こともできる。
As the photopolymerization initiator that can be used in the above photoreactive resin, those that absorb UV light and efficiently generate radicals effective for the polymerization reaction are preferable. For example, various benzoin derivatives, 2,2-dimethoxy-2
UV in the presence of phenylacetophenone, hydrogen donor
Aromatic carbonyl compounds such as benzophenone and thioxanthone that generate a radical by causing a hydrogen abstraction reaction by irradiation with light can be used. Further, the addition of amines can make the generation of radicals efficient.

【0044】さらに,各種の顔料,チキソトロピー付与剤,
熱重合禁止剤,ワックス類などを添加することもでき
る。
[0044] Further, various pigments, thixotropy imparting agents,
It is also possible to add a thermal polymerization inhibitor, waxes and the like.

【0045】これらの,UV硬化型の樹脂は各種の印刷法,
たとえば,スクリーン印刷法,グラビア印刷法,さら
に,各種のコーティング法により鏡面反射層上に設置す
ることができる。
[0045] These UV-curable resins can be printed by various printing methods,
For example, it can be installed on the specular reflection layer by a screen printing method, a gravure printing method, and various coating methods.

【0046】本発明に用いることのできる光反応性樹脂の第
2の例としては,p−ジアゾフェニルアミンをパラホル
ムアルデヒドで縮合して芳香族スルホン酸塩とすること
で得られる,いわゆるネガ型のジアゾ樹脂感光材料を用
いることができる。
[0046] As a second example of the photoreactive resin that can be used in the present invention, a so-called negative-type resin obtained by condensing p-diazophenylamine with paraformaldehyde to form an aromatic sulfonate. A diazo resin photosensitive material can be used.

【0047】上記の芳香族スルホン酸塩は2−エチルヒドロ
キシメタクリラート−メチルメタクリラート共重合樹脂
などのバインダーポリマーと混合して用いることが好ま
しい。このような光反応性の樹脂は光照射によりジアゾ
基が分解して不溶化することができる。
The above-mentioned aromatic sulfonate is preferably used by mixing with a binder polymer such as 2-ethylhydroxymethacrylate-methylmethacrylate copolymer resin. In such a photoreactive resin, the diazo group can be decomposed and insolubilized by light irradiation.

【0048】本発明に用いることのできる光反応性樹脂の第
3の例としては,側鎖にアリール基が導入されたアクリ
ルポリマーバインダー,多官能性アクリラートモノマー
および光重合開始剤から構成されている光重合型フォト
ポリマーを用いることができる。
A third example of the photoreactive resin that can be used in the present invention is composed of an acrylic polymer binder having an aryl group introduced in its side chain, a polyfunctional acrylate monomer, and a photopolymerization initiator. Photopolymerizable photopolymers that are present can be used.

【0049】側鎖にアリール基が導入されたアクリルポリマ
ーバインダーに用いることのできるアクリルモノマーの
例としては各種のアクリル酸,メタクリル酸,アクリル
酸エステル類,メタクリル酸エステル類およびアリール
メタクリレートなどを用いることができる。
[0049] As an example of an acrylic monomer that can be used for an acrylic polymer binder in which an aryl group is introduced into a side chain, various acrylic acids, methacrylic acid, acrylic acid esters, methacrylic acid esters, and aryl methacrylate are used. You can

【0050】本発明に用いることのできる多官能性アクリラ
ートモノマーの例としては,ジエチレングリコールジア
クリレート,ネオペンチルグリコールジアクリレート,
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート,トリメチロ
ールプロパントリアクリレート,ペンタエリスリトール
トリアクリレートなどを用いることができる。
[0050] Examples of polyfunctional acrylate monomers that can be used in the present invention include diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate,
1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, etc. can be used.

【0051】本発明に用いることのできる光重合開始剤の例
としては,各種の有機過酸化物,ジフェニルヨウドニウ
ム塩,N−フェニルグリシン,トリクロロメチルトリア
ジンおよび鉄アレーン錯体などを用いることができ,さ
らに,チオピリリウム塩,ケトクマリン色素,チオキサ
ンテン色素などの光増感剤と併用して用いることが好ま
しい。
[0051] As examples of the photopolymerization initiator that can be used in the present invention, various organic peroxides, diphenyliodonium salts, N-phenylglycine, trichloromethyltriazine, iron arene complexes, and the like can be used. Further, it is preferably used in combination with a photosensitizer such as a thiopyrylium salt, a ketocoumarin dye or a thioxanthene dye.

【0052】本発明に用いることのできる第3の光反応性樹
脂の例としては,一般的にフォトレジスト材料として光
照射により耐エッチング性の薄膜を形成して金属の部分
的なエッチング処理を行うために用いられるレジスト用
光反応性樹脂をあげることができる。
[0052] As an example of the third photoreactive resin that can be used in the present invention, generally, a photoresist material is used to form an etching-resistant thin film by light irradiation and a partial etching treatment of metal is performed. The photoreactive resin for resist used for that purpose can be mentioned.

【0053】レジスト用光反応性樹脂の具体的な例として
は,o−ナフトキノンジアゾスルフォン酸をノボラック
樹脂,2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンある
いはテトラヒドロキシベンゾフェノンなどにエステル化
した感光剤と,クレゾール型ノボラック樹脂とを混合し
たポジ型のフォトレジスト樹脂をあげることができる。
[0053] Specific examples of the photoreactive resin for a resist include a photosensitizer obtained by esterifying o-naphthoquinonediazosulfonic acid into a novolac resin, 2,3,4-trihydroxybenzophenone or tetrahydroxybenzophenone, and cresol. A positive type photoresist resin mixed with a type novolak resin may be used.

【0054】o−ナフトキノンジアジド化合物は光照射によ
り分解して,カルベン,ケテン構造を経由して,アルカ
リ可溶な3−インデンカルボン酸型化合物に変化する。
光照射前にはo−ナフトキノンジアジドスルフォニル基
は,ノボラック樹脂に対して溶解促進剤として作用する
が,光分解後には溶解促進剤として作用するので,アル
カリ水溶液に対する光照射部分の溶解性が増大して,露
光部分のみが溶解除去されてポジ型の像が形成される。
[0054] The o-naphthoquinonediazide compound is decomposed by light irradiation and is converted to an alkali-soluble 3-indenecarboxylic acid type compound via a carbene and ketene structure.
Before the light irradiation, the o-naphthoquinonediazidosulfonyl group acts as a dissolution accelerator for the novolak resin, but after the photodecomposition acts as a dissolution accelerator, so that the solubility of the light-irradiated portion in the alkaline aqueous solution increases. As a result, only the exposed portion is dissolved and removed to form a positive image.

【0055】上記のようなタイプのポジ型のフォトレジスト
樹脂は,紫外線領域から可視光領域にわたって優れた解
像度と耐アルカリ性を持つのでエッチング適性に優れて
おり,本発明の像の形成された再帰反射性物品の形成に
好ましい。
The above-mentioned type of positive photoresist resin is excellent in etching suitability because it has excellent resolution and alkali resistance in the ultraviolet region to the visible light region, and has a retroreflective property in which the image of the present invention is formed. Preferred for forming sexual articles.

【0056】水溶性のフォトレジスト材料例としては,カゼ
イン,グルー,ポリビニールアルコールなどの水溶性高
分子に2〜9%の重クロム酸塩を添加した材料をあげる
ことができる。
[0056] Examples of water-soluble photoresist materials include materials obtained by adding 2 to 9% of dichromate to water-soluble polymers such as casein, glue, and polyvinyl alcohol.

【0057】また,ケイ皮酸系レジスト材料も用いることが
できる。このレジスト材料はポリビニールアルコール
に,光二量化型の感光基をもつケイ皮酸クロリドを反応
させたものであり,230〜450nmの紫外線を照射
することにより不溶の樹脂を生成する。さらに,光増感
剤として5−ニトロアセナフテンや1,2−ベンズアン
トラキノンなどを添加することが好ましい。
A cinnamic acid-based resist material can also be used. This resist material is made by reacting polyvinyl alcohol with cinnamic acid chloride having a photodimerization type photosensitive group, and produces an insoluble resin by irradiating ultraviolet rays of 230 to 450 nm. Furthermore, it is preferable to add 5-nitroacenaphthene, 1,2-benzanthraquinone or the like as a photosensitizer.

【0058】さらに,ゴム系のレジスト材料も用いることが
できる。このレジスト材料は,たとえば,天然ゴム,環
化ポリイソプレン,ポリブタジエンなどのゴムに感光剤
としてビスアジド化合物を添加したものである。光照射
によりアジド基が分解して反応性のニトレン中間体とな
り,これがゴムと反応して不溶化する。
Further, a rubber-based resist material can also be used. This resist material is, for example, a rubber such as natural rubber, cyclized polyisoprene, or polybutadiene to which a bisazide compound is added as a photosensitizer. Upon irradiation with light, the azido group decomposes to become a reactive nitrene intermediate, which reacts with rubber and becomes insoluble.

【0059】これらゴム系のレジスト材料に用いるビスアジ
ド化合物としては,2,6−ジ−(4‘−アジドベンジ
リデン)シクロヘキサンや2,6−ジ−(4‘−アジド
ベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサンなどをあげ
ることができる。
[0059] Examples of bisazide compounds used for these rubber-based resist materials include 2,6-di- (4'-azidobenzylidene) cyclohexane and 2,6-di- (4'-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexane. Can be raised.

【0060】これらのゴム系のレジスト材料は耐薬品性,耐
久性および解像度に優れているので,本発明の像の形成
された再帰反射性物品の形成に好ましい。
Since these rubber-based resist materials are excellent in chemical resistance, durability and resolution, they are preferable for forming the image-formed retroreflective article of the present invention.

【0061】本発明で用いることのできる第4の光反応性樹
脂の例としては,一般にドライフイルムフォトレジスト
として電子機器のプリント配線の形成等の用途に製品と
して販売されているシート状の光反応性樹脂である。通
常は両面に保護フイルムをサンドイッチされた形状で販
売されており,保護フイルムを剥離しながら本発明に用
いる再帰反射性物品の鏡面反射層と加熱圧着してラミネ
ートする。
[0061] As an example of the fourth photoreactive resin that can be used in the present invention, a sheet-shaped photoreactive resin that is generally sold as a product for use as a dry film photoresist for forming printed wiring of electronic devices and the like is used. Resin. Usually, it is sold in the form of sandwiching a protective film on both sides. While peeling off the protective film, it is laminated on the specular reflection layer of the retroreflective article used in the present invention by thermocompression bonding.

【0062】ドライフイルムフォトレジストに用いる材料は
バインダーポリマー,多官能性モノマー,重合開始剤,
熱重合禁止剤,密着付与剤および可塑剤などで構成され
ている。バインダーポリマーの例としてはメチルメタア
クリラートを主成分とする(メタ)アクリラート樹脂,
または,スチレン,アクリロニトリルと(メタ)アクリ
ル酸共重合物を用いることができる。重合開始剤として
はベンゾイン誘導体や2,2−ジメトキシ−2−フェニ
ルアセトフェノンなどを用いることができる。
The materials used for the dry film photoresist are a binder polymer, a polyfunctional monomer, a polymerization initiator,
It is composed of a thermal polymerization inhibitor, adhesion promoter and plasticizer. An example of the binder polymer is a (meth) acrylate resin whose main component is methyl methacrylate,
Alternatively, styrene, acrylonitrile and a (meth) acrylic acid copolymer can be used. A benzoin derivative, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, or the like can be used as the polymerization initiator.

【0063】このドライフイルムフォトレジストは紫外線の
照射によりアルカリ現像液に不溶となる。用いることの
できるシートの厚みとしては,10〜100μm,好ま
しくは10〜50μmを例示することができる。このよ
うなシート状の光反応性樹脂は,均一な膜形成が可能で
あるために解像度に優れており,本発明の像の形成され
た再帰反射性物品の形成にとくに好ましい。また,溶剤
を用いないために再帰反射性物品の鏡面層を通じて再帰
反射素子の溶剤による変形が起こらないために,プリズ
ム型再帰反射性物品の場合にとくに好ましい。
This dry film photoresist becomes insoluble in an alkali developing solution upon irradiation with ultraviolet rays. The thickness of the sheet that can be used is 10 to 100 μm, and preferably 10 to 50 μm. Such a sheet-shaped photoreactive resin is excellent in resolution because it can form a uniform film, and is particularly preferable for forming the image-formed retroreflective article of the present invention. Further, since a solvent is not used, the retroreflective element is not deformed by the solvent through the mirror surface layer of the retroreflective article, which is particularly preferable in the case of the prism type retroreflective article.

【0064】ドライフイルムフォトレジストと再帰反射性物
品の鏡面反射層と加熱圧着してラミネートするさいに
は,熱による素子の変形が起こらないように注意する必
要がある。たとえば,プリズム層にポリカーボネート樹
脂を用いた鏡面反射式プリズム型再帰反射性物品の場合
には,たとえば,加熱温度50〜90度で加圧力2kg
/cm2の条件を例示することができる。加熱温度が低
い場合には鏡面反射層との密着が不十分となり現像液の
浸入がおこり好ましくなく,高すぎる場合にはプリズム
素子の変形により再帰反射性能が低下して好ましくな
い。この圧着温度と圧力は再帰反射性物品に用いられて
いる樹脂とレジストフイルムの熱変形温度により適宜選
択されるべきである。
[0064] When laminating the dry film photoresist and the specular reflection layer of the retroreflective article by thermocompression bonding, it is necessary to take care not to deform the element due to heat. For example, in the case of a specular reflection type prism type retroreflective article using polycarbonate resin for the prism layer, for example, a heating temperature of 50 to 90 degrees and a pressing force of 2 kg.
The condition of / cm2 can be illustrated. When the heating temperature is low, the adhesion with the specular reflection layer is insufficient and the infiltration of the developer occurs, which is not preferable, and when the heating temperature is too high, the retroreflection performance is deteriorated due to the deformation of the prism element, which is not preferable. The pressure and pressure should be appropriately selected depending on the heat deformation temperature of the resin and resist film used in the retroreflective article.

【0065】上記のようにして設置された光反応性樹脂は,
第2の工程として選択的に光を照射することにより,光
重合,光縮合,光架橋および光分解を行なわれ,所望の
像に一致したパターンで光反応性樹脂層を除去すること
ができる。
[0065] The photoreactive resin installed as described above is
By selectively irradiating light as the second step, photopolymerization, photocondensation, photocrosslinking and photolysis are performed, and the photoreactive resin layer can be removed in a pattern corresponding to a desired image.

【0066】選択的な光の照射法としては,像パターンが印
刷又はくり抜かれた光遮蔽マスクを用いる方法,レーザ
ービームなどを用いて像を連続的に形成する方法などを
用いることができる。用いるレーザービームとしては可
視光レーザーである波長436nmのg線,紫外線レー
ザーとしては波長365nmのi線やKrFによる発生
される波長248nmのエキシマレーザー線などを用い
ることができる。
[0066] As a method of selectively irradiating light, a method of using a light-shielding mask in which an image pattern is printed or cut out, a method of continuously forming an image using a laser beam, or the like can be used. The laser beam used may be a g-line having a wavelength of 436 nm which is a visible light laser, and the i-line having a wavelength of 365 nm and an excimer laser line having a wavelength of 248 nm generated by KrF may be used as an ultraviolet laser.

【0067】本発明において,光反応性樹脂の反応に用いる
光とは,光重合,光縮合,光架橋および光分解を行うこ
とができれば,特に可視光に限定されるものではなく,
紫外線光,赤外線光、遠赤外線あるいはX線などの電磁
波も含まれる。
In the present invention, the light used for the reaction of the photoreactive resin is not particularly limited to visible light as long as photopolymerization, photocondensation, photocrosslinking and photodecomposition can be performed,
Electromagnetic waves such as ultraviolet rays, infrared rays, far infrared rays and X-rays are also included.

【0068】生成する像の形状は特に限定されるものではな
く,文字やロゴなどの情報パターンを設置したり,部分
的に鏡面反射層を除去することにより夜間における再帰
反射性を低下あるいは消失せしめたり,昼間での色相や
反射光色相の変化によって視別可能な模様,情報の設置
などを行うことができる。
The shape of the image to be generated is not particularly limited, and information patterns such as characters and logos are provided, or the specular reflection layer is partially removed to reduce or eliminate retroreflectivity at night. Alternatively, it is possible to set patterns and information that can be distinguished by the change of the hue or reflected light hue in the daytime.

【0069】さらに,薄層アンテナ付の非接触型IC通信装
置が積層された再帰反射性物品においては,鏡面反射層
を部分的に除去し,その反射素子層の下面に設置した情
報通信用の薄層アンテナの受信感度を向上することもで
きる。
[0069] Further, in the retroreflective article in which the non-contact type IC communication device with the thin layer antenna is laminated, the specular reflection layer is partially removed, and the information communication is installed on the lower surface of the reflection element layer. It is also possible to improve the receiving sensitivity of the thin layer antenna.

【0070】上記で記載した選択的に光反応を行った光反応
性樹脂は,第3の工程として各種の溶剤などを用いて,
光重合性,光縮合性,ネガ型の光架橋性樹脂の場合には
光を照射しなかった非反応部分を,また,ポジ型の光分
解性樹脂の場合には光を照射した分解反応部分を部分的
に除去する。
[0070] The photoreactive resin that has been selectively photoreacted as described above uses various solvents and the like in the third step,
In the case of photopolymerizable, photocondensable, and negative type photocrosslinkable resins, the non-reacted part that was not irradiated with light, and in the case of positive type photodegradable resin, the decomposed reaction part that was irradiated with light Are partially removed.

【0071】光反応をおこなった後に,可溶性部分として残
った部分は各種の溶剤で除去されるが,用いることので
きる除去するための溶剤としては用いる光反応性樹脂の
溶解性に合わせて適宜選択できるが,たとえば,水系の
エマルジョンタイプ樹脂の場合には水や酸水溶液,アル
カリ水溶液を用いることができ,また,各種の有機溶剤
を用いてもよい。
[0071] After the photoreaction, the portion that remains as the soluble portion is removed with various solvents, but the solvent that can be used for removal is appropriately selected according to the solubility of the photoreactive resin used. However, for example, in the case of a water-based emulsion type resin, water, an acid aqueous solution, an alkaline aqueous solution can be used, and various organic solvents may be used.

【0072】ついで,第4の工程として部分的に光反応性樹
脂を除去し鏡面反射層が露出している再帰反射性物品
を,各種の酸やアルカリ水溶液または有機酸を用いて露
出した鏡面反射層を部分的に除去する。
[0072] Then, in the fourth step, the retroreflective article in which the photoreactive resin has been partially removed and the specular reflection layer is exposed is exposed to specular reflection using various acids, alkaline aqueous solutions or organic acids. The layer is partially removed.

【0073】この鏡面反射層の除去工程は前記で説明した光
反応性樹脂の除去工程で用いる除去溶剤がアルカリ水溶
液などの場合には,一連の工程として引き続いて行われ
てもよい。
[0073] When the removal solvent used in the removal step of the photoreactive resin described above is an alkaline aqueous solution or the like, this removal step of the specular reflection layer may be successively performed as a series of steps.

【0074】さらに,光反応性樹脂や鏡面反射層を除去する
のに用いたアルカリや酸は,中和剤や水を用いて洗浄を
行い,近接する鏡面反射層の残留部分が侵されないよう
にするのが好ましい。
[0074] Further, the alkali and acid used for removing the photoreactive resin and the specular reflection layer are washed with a neutralizing agent and water so that the residual portion of the adjacent specular reflection layer is not damaged. Preferably.

【0075】残留した光反応性樹脂層はそのまま残しても残
さなくても構わない。光反応性樹脂層を除去するには,
さらに強力な溶剤などを用いて取り除いたり,粘着剤シ
ートを積層した後に光反応性樹脂層と共に引き剥がすな
どの方法を用いることができる。
[0075] The remaining photoreactive resin layer may or may not be left as it is. To remove the photoreactive resin layer,
It is possible to use a method such as removing using a stronger solvent or the like, or laminating an adhesive sheet and then peeling it off together with the photoreactive resin layer.

【0076】本発明においては鏡面反射層を除去した領域に
着色剤を設置して像を着色することも可能である。着色
する方法としては各種の顔料や染料などを含有した着色
樹脂を塗布する方法が採用できる。また,着色樹脂中に
金属箔やパール顔料を含有せしめた金属調外観をもつ樹
脂を設置したり,光透過性の着色樹脂層を設置した後に
再び鏡面反射層を設置することにより,着色領域に再帰
反射性能を付与することも可能である。
[0076] In the present invention, it is also possible to dispose a colorant in the region where the specular reflection layer is removed to color the image. As a method of coloring, a method of applying a colored resin containing various pigments or dyes can be adopted. Also, by installing a resin with a metallic appearance in which a metal foil or pearl pigment is contained in the colored resin, or by installing a light-transmitting colored resin layer and then installing a specular reflection layer again, It is also possible to provide retroreflective performance.

【0077】上記のようにして作成した像の形成された再帰
反射性物品は,アルミニウム,鉄,プラスチック、ガラ
ス,紙や木板などに積層する目的で接着剤や粘着剤を積
層することができる。積層する方法としては接着剤と剥
離ライナーを積層した接着剤ライナーと再帰反射性物品
とを圧着ロールで必要に応じて熱をかけながら圧着する
方法が採用できる。
The image-formed retroreflective article formed as described above may be laminated with an adhesive or a pressure-sensitive adhesive for the purpose of laminating on aluminum, iron, plastic, glass, paper, wood board, or the like. As a method for laminating, a method may be employed in which an adhesive liner obtained by laminating an adhesive and a release liner and a retroreflective article are pressed by a pressing roll while applying heat as necessary.

【0078】本発明の再帰反射シートに用いることのできる
接着剤としては、感圧型接着剤、感熱型接着剤、架橋型
接着剤などを適宜選択できる。感圧接着剤としてはブチ
ルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、イ
ソオクチルアクリレート、ノニルアクリレートなどアク
リル酸エステルをアクリル酸、酢酸ビニルなどと共重合
して得られるポリアクリル酸エステル粘着剤やシリコン
樹脂系粘着剤、ゴム系粘着剤などを用いることができ
る。感熱型接着剤としてはアクリル系、ポリエステル
系、エポキシ系樹脂などを用いることができる。
[0078] As the adhesive that can be used in the retroreflective sheeting of the present invention, a pressure-sensitive adhesive, a heat-sensitive adhesive, a cross-linking adhesive, or the like can be appropriately selected. As the pressure-sensitive adhesive, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isooctyl acrylate, nonyl acrylate, etc. Polyacrylate ester adhesive obtained by copolymerizing acrylic acid ester with acrylic acid, vinyl acetate, etc. A rubber-based pressure-sensitive adhesive or the like can be used. As the heat-sensitive adhesive, acrylic resin, polyester resin, epoxy resin or the like can be used.

【0079】次に図によって本発明をより詳しく説明する。[0079] Next, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

【0080】図1は従来技術に基づく封入型再帰反射性物品
を説明する断面図である。印刷層3が印刷法により設置
されて像が形成されている。鏡面反射層7が焦点層6を
介して微小硝子球5に設置された再帰反射素子を形成
し,固着層を介して平坦で透明な表面層2に積層されて
いる。さらに,鏡面反射層には接着剤層8および剥離材
層9が設置されており,入射光1を光の入射した方向に
再帰反射するように作られている。
[0080] Fig. 1 is a cross-sectional view illustrating an encapsulated retroreflective article based on a conventional technique. The printing layer 3 is placed by a printing method to form an image. The specular reflection layer 7 forms a retroreflective element provided on the minute glass bulb 5 via the focal layer 6, and is laminated on the flat and transparent surface layer 2 via the fixing layer. Further, an adhesive layer 8 and a release material layer 9 are provided on the specular reflection layer, and are designed to retroreflect the incident light 1 in the direction in which the light is incident.

【0081】つぎに,図2〜図7によって本発明における像
が形成された封入型再帰反射性物品の形成方法を詳細に
説明する。
[0081] Next, a method for forming an image-formed encapsulated retroreflective article according to the present invention will be described in detail with reference to Figs.

【0082】図2は従来技術により形成された像の形成され
ていない封入型再帰反射性物品の断面図である。第1面
は平坦で透明な表面層2をもち,第2面は鏡面反射層7
が焦点層6を介して微小硝子球5に設置された再帰反射
素子が露出している。
FIG. 2 is a cross-sectional view of an image-free encapsulated retroreflective article formed by the prior art. The first surface has a flat and transparent surface layer 2 and the second surface has a specular reflection layer 7
The retroreflective element installed on the minute glass bulb 5 is exposed through the focal layer 6.

【0083】図3は露出した鏡面反射層7の上に光反応性樹
脂10が積層されている。
In FIG. 3, the photoreactive resin 10 is laminated on the exposed specular reflection layer 7.

【0084】図4は積層された光反応性樹脂10の上に,光
遮蔽マスク11を設置し,光を照射して選択的な光反応
を行う工程を説明する図である。選択的な光反応は図4
に示されるようなマスクを用いずにレーザービーム法に
より選択的に光を照射することにより達成することも出
来る。
[0084] FIG. 4 is a diagram illustrating a step of setting a light shielding mask 11 on the laminated photoreactive resin 10 and irradiating light to perform a selective photoreaction. Figure 4 shows the selective photoreaction.
It can also be achieved by selectively irradiating light by a laser beam method without using a mask as shown in FIG.

【0085】図5は選択的光反応により形成された光反応部
分を各種の溶剤などを用いて,光重合性,光縮合性のネ
ガ型の光架橋性樹脂の場合には光を照射しなかった非反
応部分を,また,ポジ型の光分解性樹脂の場合には光を
照射した分解反応部分を部分的に除去する工程を説明す
る図である。光反応性樹脂層10は像を形成する部分が
除去されており,鏡面反射層が露出している。
[0085] FIG. 5 shows that the photoreactive portion formed by the selective photoreaction is not exposed to light in the case of a photopolymerizable or photocondensable negative-type photocrosslinkable resin using various solvents. It is a figure explaining the process which partially removes the non-reacting part, and in the case of a positive type photodegradable resin, the decomposition reaction part irradiated with light. The photoreactive resin layer 10 has the image forming portion removed, and the specular reflection layer is exposed.

【0086】図6は図5の工程で露出した鏡面反射層7を除
去溶剤により除いて,その部分に像が形成された再帰反
射性物品である。
[0086] Fig. 6 shows a retroreflective article in which the specular reflection layer 7 exposed in the step of Fig. 5 is removed by a removing solvent, and an image is formed in that portion.

【0087】図7は図6における像が形成された再帰反射性
物品を,各種の基材に貼り付けるために接着剤層8を設
置した図である。
[0087] Fig. 7 is a diagram in which an adhesive layer 8 is provided for attaching the image-formed retroreflective article to various base materials.

【0088】図8は従来技術に基づき,印刷法により像3が
形成された鏡面反射式プリズム型再帰反射性物品を説明
する断面図である。第1面は透明で平坦な表面層2をも
ち,プリズム層12におけるプリズム素子の反射表面に
は鏡面層7があり,さらに,接着剤層8および剥離材層
9が設置されている。
[0088] FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a specular reflection type prism retroreflective article on which an image 3 is formed by a printing method based on a conventional technique. The first surface has a transparent and flat surface layer 2, a prismatic layer 7 is provided on the reflecting surface of the prism element in the prism layer 12, and an adhesive layer 8 and a release material layer 9 are further provided.

【0089】つぎに,図9〜図12によって本発明における
像が形成された鏡面反射式プリズム型再帰反射性物品の
形成方法を詳細に説明する。
[0089] Next, a method for forming an image-formed specular reflection prism type retroreflective article according to the present invention will be described in detail with reference to Figs. 9 to 12.

【0090】図9は光反応性樹脂10が鏡面層7に設置され
たプリズム型再帰反射性物品に光遮蔽マスク11を設置
し,光を照射して選択的な光反応を行う工程を説明する
図である。選択的な光反応は図9に示されるようなマス
クを用いずにレーザービーム法により選択的に光を照射
することにより達成することも出来る。
[0090] FIG. 9 illustrates a process of installing a light shielding mask 11 on a prism type retroreflective article in which the photoreactive resin 10 is installed on the mirror surface layer 7 and irradiating light to perform a selective photoreaction. It is a figure. The selective photoreaction can also be achieved by selectively irradiating light by a laser beam method without using a mask as shown in FIG.

【0091】図10は選択的光反応により形成された光反応
部分を各種の溶剤などを用いて,光重合性,光縮合性の
ネガ型の光架橋性樹脂の場合には光を照射しなかった非
反応部分を,また,ポジ型の光分解性樹脂の場合には光
を照射した分解反応部分を部分的に除去する工程を説明
する図である。光反応性樹脂層10は像を形成する部分
が除去されており,鏡面反射層が露出している。
[0091] FIG. 10 shows that the photoreactive portion formed by the selective photoreaction is not irradiated with light in the case of a photopolymerizable or photocondensable negative-type photocrosslinkable resin using various solvents. It is a figure explaining the process which partially removes the non-reacting part, and in the case of a positive type photodegradable resin, the decomposition reaction part irradiated with light. The photoreactive resin layer 10 has the image forming portion removed, and the specular reflection layer is exposed.

【0092】図11は図10の工程で露出した鏡面反射層7
を除去溶剤により除いて,その部分に像が形成された再
帰反射性物品である。
[0092] FIG. 11 shows the specular reflection layer 7 exposed in the step of FIG.
Is a retroreflective article in which an image is formed by removing the solvent with a removing solvent.

【0093】図12は図11における像が形成された再帰反
射性物品を,各種の基材に貼り付けるために接着剤層8
を設置した図である。
FIG. 12 shows an adhesive layer 8 for attaching the image-formed retroreflective article in FIG. 11 to various base materials.
It is the figure which installed.

【発明の効果】【The invention's effect】

【0094】本発明による方法で形成された像は、反射素子
に直接構成されており、像そのものが印刷インキなどに
よる着色剤やバインダー樹脂などの本質的に光や水など
の浸入により分解しやすい構成物を必要としていないの
で、耐侯性や耐久性の優れた像を形成することができ
る。
The image formed by the method according to the present invention is directly formed on the reflective element, and the image itself is essentially easily decomposed by infiltration of a coloring agent such as a printing ink or a binder resin by light or water. Since no component is required, an image with excellent weather resistance and durability can be formed.

【0095】従来公知の像を形成する方法である表面保護層
の表面(第1面)や内面などに印刷インキを用いて印刷
法により像を形成する方法においては,樹脂層が外部か
らの光や水の侵入によって劣化が促進されやすく,耐久
性の優れた像を得ることが困難であった。しかしなが
ら,本発明による鏡面反射層の部分的な除去により像の
形成方法においては,印刷インキの劣化という不具合が
発生しないので耐久性に優れた像が形成される。
[0095] In the method of forming an image by a printing method using a printing ink on the surface (first surface) or the inner surface of the surface protective layer, which is a conventionally known method of forming an image, the resin layer does not emit light from the outside. Deterioration is likely to be promoted by the entry of water and water, making it difficult to obtain images with excellent durability. However, in the method of forming an image by partially removing the specular reflection layer according to the present invention, the problem of deterioration of the printing ink does not occur, so an image having excellent durability is formed.

【0096】さらに,マーチンの特開平4-229244号や特開平
1-231004号に開示されているような,逆反射マイクロ
プリズム面上に形成された金属付着層に部分的に接着層
を形成し,接着層により保護されていない金属層を引き
剥がすことにより,部分的に金属層の設置されていない
逆反射マイクロプリズムシートの形成方法においては,
接着剤層を印刷法などで設置する必要があるためにプリ
ズム間の溝に沿って溶剤を含んだ接着剤が流れ出して鮮
明な像が形成できないという問題点があった。さらに,
溶剤によりプリズムが変形を起こし再帰反射性能が低下
するという問題点がおこりがちであった。しかしなが
ら,本発明による鏡面反射層の部分的な除去により像の
形成方法においては,上記のような不具合がおこらず鮮
明な像の形成が可能である。
[0096] Further, an adhesive layer is partially formed on the metal adhesion layer formed on the retroreflective microprism surface as disclosed in Martin JP-A-4-229244 and JP-A-1-231004. , In the method of forming a retroreflective microprism sheet in which a metal layer is not partially provided by peeling off a metal layer which is not protected by an adhesive layer,
Since it is necessary to install the adhesive layer by a printing method or the like, the adhesive containing the solvent flows out along the grooves between the prisms, and a clear image cannot be formed. further,
The problem that the prism is deformed by the solvent and the retroreflective performance is deteriorated is apt to occur. However, in the method of forming an image by partially removing the specular reflection layer according to the present invention, a clear image can be formed without causing the above problems.

【0097】また,レーザー法による像の形成方法は反射素
子である微小硝子球やプリズムの部分的破壊を起こすた
めに,再帰反射性能を低下させるという問題点があっ
た。さらに,用いることのできるレーザー光線の径が小
さいために形成しうる像は微小点の集合像として得られ
るために,鮮明な像が得られにくく,広範囲の像を形成
するのが困難であったが,本発明による鏡面反射層の部
分的な除去により像の形成方法においては,上記のよう
な不具合が発生しにくく鮮明で広範な像の形成が可能で
ある。
Further, the method of forming an image by the laser method has a problem that the retroreflection performance is deteriorated because the minute glass spheres and prisms that are the reflection elements are partially destroyed. Furthermore, since the diameter of the laser beam that can be used is small, the image that can be formed is obtained as a collective image of minute points, so it is difficult to obtain a clear image, and it is difficult to form an image in a wide range. In the method of forming an image by partially removing the specular reflection layer according to the present invention, it is possible to form a clear and wide-ranging image in which the above-mentioned problems do not easily occur.

【0098】以下,実施例によって本発明をさらに具体的に
説明する。
[0098] Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

【実施例】【Example】

【0099】<実施例1>日本カーバイド工業株式会社製の
鏡面反射式プリズム型再帰反射シート、ニッカライトク
リスタルグレード#96002タイプの粘着材層を設置
する前の、鏡面反射層が露出している第2面をもつ再帰
反射シートを出発原料(出発原料1)として、下記の工
程により像が形成された再帰反射シートを作成した。以
下に、この製造工程を詳細に説明する。
<Example 1> Specular reflection type prism type retroreflective sheet manufactured by Nippon Carbide Industry Co., Ltd., the specular reflection layer is exposed before the adhesive layer of Nikkalite Crystal Grade # 96002 type is installed. A retroreflective sheet having two surfaces was used as a starting material (starting material 1) to prepare a retroreflective sheet having an image formed by the following steps. The manufacturing process will be described in detail below.

【0100】この実施例でもちいた出発原料1は、図8に示
される従来公知の鏡面反射式プリズム型再帰反射シート
の印刷層3、粘着剤層8および剥離材層9がない構造で
あり、第1面は平坦で透明な厚さ50μmのアクリル樹
脂製の表面層2であり、ポリカーボネート製のプリズム
層12におけるプリズム素子の反射表面には厚さ0.8
μmのアルミニウム製の鏡面層7が真空蒸着法により設
置されて露出している。
[0100] The starting material 1 used in this example has a structure in which the printing layer 3, the pressure-sensitive adhesive layer 8 and the release material layer 9 of the conventionally known specular reflection type prism retroreflective sheet shown in FIG. 8 are not provided, The first surface is a flat and transparent surface layer 2 made of acrylic resin having a thickness of 50 μm, and the reflecting surface of the prism element in the prism layer 12 made of polycarbonate has a thickness of 0.8.
A mirror layer 7 made of aluminum and having a thickness of 7 μm is installed and exposed by a vacuum deposition method.

【0101】光反応性樹脂として、ドライフイルムフォトレ
ジストタイプの日立化成工業株式会社製アルカリ現像型
感光性フイルム「フォテック」H2300を用いた。このドラ
イフイルムレジストは膜厚が48μmであり、光透過性
のキャリアフイルムと保護フイルムにより両面が保護さ
れていた。
As the photoreactive resin, a dry film photoresist type alkali development type photosensitive film “Photec” H2300 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. was used. The dry film resist had a film thickness of 48 μm, and both surfaces were protected by a light-transmitting carrier film and a protective film.

【0102】一対の加熱圧着ロールを用いて、上記の出発原
料1にドライフイルムレジストの保護フイルムを剥離し
ながら鏡面反射層の露出した側の面に空気が残留しない
ようにして積層を行い、出発原料1、ドライフイルムレ
ジストおよびキャリアフイルムが積層された工程品1−
1を得た。
[0102] Using a pair of thermocompression-bonding rolls, the starting raw material 1 was laminated while peeling off the protective film of the dry film resist while leaving no air on the exposed surface of the specular reflection layer, Process product 1 in which the raw material 1, the dry film resist and the carrier film are laminated 1-
Got 1.

【0103】この工程品1−1のキャリアフイルム側の面
に、黒色インキにより文字像が印刷された厚さ75μm
のポリエステル樹脂製のマスクフイルムを設置して、ラ
ンプ入力80w/cmの高圧水銀ランプタイプの紫外線
照射装置(ウシオ電機社製)を用いて20秒間露光処理を
おこない、選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に
反応させる工程品1−2を得た。なお、用いたマスクフ
イルムには視認性の評価を目的として文字大きさ11ポ
イントで文字体がCenturyのアルファベット文字
“ABC”が印刷されていた。
[0103] A thickness of 75 μm in which a character image was printed with black ink on the surface of the process film 1-1 on the carrier film side.
The mask film made of polyester resin of No.1 is installed, and the exposure process is performed for 20 seconds using a high-pressure mercury lamp type ultraviolet irradiation device (manufactured by Ushio Inc.) with a lamp input of 80 w / cm, and photoreactivity is achieved by selective light irradiation. Process product 1-2 for partially reacting the resin was obtained. The mask film used was printed with alphabetic characters "ABC" with a character size of 11 points and a character size of Century for the purpose of evaluation of visibility.

【0104】ついで、上記の工程品1−2のキャリアフイル
ムを取り除いた後に、濃度3重量%の水酸化ナトリウム
水溶液を現像液として用いて、温度40度の条件で未反
応部分の光反応性樹脂を取り除いたのちに、水洗浄を行
って工程品1−3の作成を行った。
[0104] Then, after removing the carrier film of the above-mentioned process product 1-2, an aqueous solution of sodium hydroxide having a concentration of 3% by weight was used as a developer, and the photoreactive resin in the unreacted portion was heated at a temperature of 40 ° C. After removing, the product was washed with water to prepare process products 1-3.

【0105】上記の工程品1−3は引き続いて、濃度10重
量%の硝酸水溶液を用いて鏡面反射層を部分的に取り除
いたのちに、水洗浄と乾燥を行って工程品1−4を得
た。硝酸処理の条件としては温度40度、エッチング時
間15秒であった。
[0105] In the process product 1-3, the specular reflection layer was partially removed using a nitric acid aqueous solution having a concentration of 10% by weight, and then the product was washed with water and dried to obtain a process product 1-4. It was The conditions for the nitric acid treatment were a temperature of 40 degrees and an etching time of 15 seconds.

【0106】上記の工程品1−4の、像が形成された側の第
2面に厚さ50μmのアクリル樹脂製の粘着剤(日本カ
ーバイド工業株式会社製ニッセツKP1818)と厚さ8
0μmの大倉工業株式会社製ポリプロピレン製の剥離材
を積層して、像が形成された再帰反射シート(試作品
1)を作成した。
An acrylic resin adhesive (Nisset KP1818 manufactured by Nippon Carbide Industries Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm and a thickness of 8 on the second surface on the image-formed side of Process Product 1-4 described above.
An image-formed retroreflective sheet (Prototype 1) was prepared by laminating 0 μm polypropylene release material manufactured by Okura Industry Co., Ltd.

【0107】<実施例2>実施例1で用いた出発原料1にか
わり、日本カーバイド工業株式会社製の封入レンズ型再
帰反射シートELGタイプの粘着材層を設置する前の、
鏡面反射層が露出している第2面をもつ再帰反射シート
を出発原料(出発原料2)をもちいた以外は、実施例1
と同じ方法で、像が形成された再帰反射シート(試作品
2)を作成した。
<Example 2> Instead of the starting material 1 used in Example 1, before installing an adhesive lens layer of an enclosed lens type retroreflective sheet ELG type manufactured by Nippon Carbide Industry Co., Ltd.,
Example 1 except that a starting material (starting material 2) was used as the retroreflective sheet having the second surface with the specular reflection layer exposed.
An image-formed retroreflective sheet (Prototype 2) was prepared in the same manner as in (1).

【0108】実施例2でもちいた出発原料2は、図1に示さ
れる従来公知の封入レンズ型再帰反射シートの印刷層
3、粘着剤層8および剥離材層9がない構造をもつ。第
2図に示されるように第1面は平坦で透明な厚さ35μ
mのポリエステル樹脂製の表面層2であり、微小硝子球
5には厚さ1μmのアルミニウム製の鏡面層7が真空蒸
着法により設置されて露出している。
[0108] The starting material 2 used in Example 2 has a structure in which the printing layer 3, the adhesive layer 8 and the release material layer 9 of the conventionally known enclosed lens type retroreflective sheet shown in FIG. 1 are not provided. As shown in FIG. 2, the first surface is flat and has a transparent thickness of 35 μ.
A surface layer 2 made of polyester resin having a thickness of m and a mirror surface layer 7 made of aluminum having a thickness of 1 μm are provided on the minute glass bulb 5 by a vacuum deposition method and exposed.

【0109】<実施例3>実施例2で用いた出発原料2を用
いて、実施例2に記載の工程品2−1を作成するのに用
いたドライフイルムレジストフイルムに代わり、東京応
化工業株式会社社製のポジ型g線レジスト樹脂OFPR
800を用いて、スクリーン印刷法で鏡面反射層が露出
している第2面の全面に積層後乾燥処理を行って厚さ4
0g/m の光反応性樹脂層を設置した以外は、実施例
2と同じ方法で像が形成された再帰反射シート(試作品
3)を得た。
<Example 3> The starting material 2 used in Example 2 was used.
And to create the process product 2-1 described in Example 2.
Replaced the dry film resist film
Positive type g-line resist resin OFPR manufactured by Kaka Kogyo Co., Ltd.
800 is used to expose the specular reflection layer by screen printing
The entire second surface is laminated and dried to a thickness of 4
0 g / m TwoExample except that the photoreactive resin layer of
A retroreflective sheet with an image formed in the same way as in 2 (prototype
3) was obtained.

【0110】実施例3で用いたレジスト樹脂はナフトキノン
ジアジド(NQD)化合物を溶解禁止剤として用いたノ
ボラック樹脂をバインダーとする組成として成り立って
いると信じられる。露光に用いた紫外線は波長436n
mの紫外線を用いた。また、露光液としては濃度3重量
%の水酸化ナトリウム水溶液を用いて、温度40度の条
件で未反応部分のレジスト樹脂を取り除いたのちに、水
洗浄を行って工程品3−3の作成を行った。
[0110] It is believed that the resist resin used in Example 3 has a composition using a novolak resin containing a naphthoquinonediazide (NQD) compound as a dissolution inhibitor as a binder. Ultraviolet light used for exposure has a wavelength of 436n
m of ultraviolet light was used. Further, an aqueous solution of sodium hydroxide having a concentration of 3% by weight was used as the exposure liquid, the unreacted portion of the resist resin was removed under the condition of a temperature of 40 ° C., and then washed with water to prepare a process product 3-3. went.

【0111】<実施例4>実施例1により作成した、鏡面反
射層を部分的に取り除いたのちに、水洗浄と乾燥を行っ
た工程品1−4の鏡面反射層が露出している部分を含め
た第2面側の全面に赤色のスクリーンインキを用いて赤
色の樹脂層を設置して、第1面側から見たときの像の色
が赤色になるようにした。
<Example 4> [0111] A part where the specular reflection layer of Process Product 1-4, which was created in Example 1 and was partially washed with water and then washed with water, was exposed. A red resin layer was placed on the entire surface of the second surface including the second screen ink so that the color of the image when viewed from the first surface was red.

【0112】しかる後に、像が形成された側の第2面に厚さ
50μmのアクリル樹脂製の粘着剤と厚さ80μmのポ
リプロピレン製の剥離材を積層して、像が形成された再
帰反射シート(試作品4)を作成した。
[0112] After that, an acrylic resin adhesive having a thickness of 50 µm and a polypropylene release material having a thickness of 80 µm were laminated on the second surface on which the image was formed, and the image-formed retroreflective sheet. (Prototype 4) was created.

【0113】<比較例>比較品として、実施例1で用いた出
発原料1にかわり、日本カーバイド工業株式会社製の封
入レンズ型再帰反射シートELGタイプに印刷像が形成
された再帰反射シートを用いた。比較例でもちいた再帰
反射シートは、図1に示される従来公知の封入レンズ型
再帰反射シートに赤色の印刷層3がグラビア印刷方で設
置されている。第2図に示されるように第1面は平坦で
透明な厚さ35μmのポリエステル樹脂製の表面層2で
あり、微小硝子球5には厚さ1μmのアルミニウム製の
鏡面層7が真空蒸着法により設置されて露出している。
<Comparative Example> As a comparative product, instead of the starting material 1 used in Example 1, a retroreflective sheet having a printed image formed on a sealed lens type retroreflective sheet ELG type manufactured by Nippon Carbide Industry Co., Ltd. is used. I was there. In the retroreflective sheet used in the comparative example, the red printing layer 3 is provided by the gravure printing method on the conventionally known enclosed lens type retroreflective sheet shown in FIG. As shown in FIG. 2, the first surface is a flat and transparent surface layer 2 made of polyester resin having a thickness of 35 μm, and the minute glass bulb 5 has a mirror surface layer 7 made of aluminum having a thickness of 1 μm formed by a vacuum deposition method. It has been installed and exposed.

【0114】<測定法1>視認性試験 文字像“ABC”が形成された試作品を水平に置き、高
さ1mの真上から蛍光灯の光を照射し、角度45度の観
察角で距離45cmの条件で形成された像の視認性を目
視で判断して以下のようにランク付けを行った。 A:像“ABC”の存在が鮮明に確認できる。 B:像“ABC”の存在が確認できる。 C:像“ABC”の存在がかすかに確認できる。 D:像“ABC”の存在が確認できない。
<Measurement method 1> Visibility test The prototype on which the character image "ABC" is formed is placed horizontally, and the light of the fluorescent lamp is irradiated from directly above the height of 1 m, and the distance is observed at an angle of 45 degrees. The visibility of the image formed under the condition of 45 cm was visually judged and ranked as follows. A: The presence of the image "ABC" can be clearly confirmed. B: Presence of image "ABC" can be confirmed. C: The presence of the image “ABC” can be confirmed slightly. D: Presence of image "ABC" cannot be confirmed.

【0115】<測定法2>耐侯性試験後の視認性 耐候性試験機として、アトラスエレクトリックデバイス
社製CXW−B−812501500を用いて、暴露時
間を3000時間とした以外は、JIS Z−9117
に準じて、耐候性試験を行った。促進耐侯性試験後の像
の視認性を測定法1に規定の視認性試験法に基づいて評
価を行った。
<Measurement method 2> Visibility after weather resistance test As a weather resistance tester, CXW-B-812501500 manufactured by Atlas Electric Device Co. was used, and the exposure time was set to 3000 hours, except that JIS Z-9117 was used.
A weather resistance test was conducted according to the above. The visibility of the image after the accelerated weather resistance test was evaluated based on the visibility test method specified in Measurement Method 1.

【0116】<測定法3>耐侯性前の再帰反射性能の測定 再帰反射性能測定器として、アドバンスト・レトロ・テ
クノロジー社製「モデル920」を用い、測定法2で規
定された促進耐侯性試験前の100mm×100mmの
試作品の再帰反射性能をJIS Z−9117に準じ
て、観測角0.2°、入射角5°により適宜の5点につ
いて測定し、その平均値をもって再帰反射シートの再帰
反射性能とした。
<Measurement Method 3> Measurement of Retroreflective Performance Before Weather Resistance As a retroreflective performance measuring instrument, “Model 920” manufactured by Advanced Retro Technology Co., Ltd. is used, and before the accelerated weather resistance test defined in Measurement Method 2. The retroreflective performance of a 100 mm × 100 mm prototype is measured at appropriate 5 points according to JIS Z-9117 with an observation angle of 0.2 ° and an incident angle of 5 °, and the average value is used to measure the retroreflection of the retroreflective sheet. The performance.

【0117】<測定法4>耐侯性後の再帰反射性能の測定 測定法3と同じく,再帰反射性能測定器としてアドバン
スト・レトロ・テクノロジー社製「モデル920」を用
い、促進耐侯性試験後の100mm×100mmの試作
品の再帰反射性能をJIS Z−9117に準じて、観
測角0.2°、入射角5°により適宜の5点について測
定し、その平均値をもって再帰反射シートの促進耐侯性
評価後の再帰反射性能とした。
<Measurement method 4> Measurement of retroreflective performance after weather resistance As in measurement method 3, a retroreflective performance measuring instrument “Model 920” manufactured by Advanced Retro Technology, Inc. was used, and 100 mm after accelerated weather resistance test. According to JIS Z-9117, the retroreflection performance of a × 100 mm prototype was measured at appropriate 5 points with an observation angle of 0.2 ° and an incident angle of 5 °, and the average value was used to evaluate the accelerated weather resistance of the retroreflective sheet. The later retroreflective performance.

【0118】上記実施例に記載の試作品を上記の測定法によ
り対比した表を以下に示す。
[0118] A table in which the prototypes described in the above examples are compared by the above measurement method is shown below.

【0119】[0119]

【表1】 [Table 1]

【0120】本発明の記載により像が形成された試作品1〜
4はいずれも優れた視認性と耐久性を示した。
[0120] The prototype 1 to which the image is formed according to the description of the present invention
No. 4 exhibited excellent visibility and durability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 従来技術による封入型再帰反射物再帰反射性
物品
FIG. 1 Encapsulated retroreflector retroreflective article according to prior art

【図2】 本発明の封入型再帰反射物再帰反射性物品の
工程を説明する図
FIG. 2 is a diagram illustrating a process of the encapsulated retroreflective article of the present invention.

【図3】 本発明の封入型再帰反射物再帰反射性物品の
工程を説明する図
FIG. 3 is a diagram illustrating a process of the encapsulated retroreflective article of the present invention.

【図4】 本発明の封入型再帰反射物再帰反射性物品の
工程を説明する図
FIG. 4 is a diagram illustrating a process of the encapsulated retroreflective article of the present invention.

【図5】 本発明の封入型再帰反射物再帰反射性物品の
工程を説明する図
FIG. 5 is a diagram illustrating a process of the encapsulated retroreflective article retroreflective article of the present invention.

【図6】 本発明の封入型再帰反射物再帰反射性物品の
工程を説明する図
FIG. 6 is a diagram illustrating a process of an encapsulated retroreflective article retroreflective article of the present invention.

【図7】 本発明の封入型再帰反射物再帰反射性物品の
工程を説明する図
FIG. 7 is a diagram illustrating a process of the encapsulated retroreflective article retroreflective article of the present invention.

【図8】 従来技術による鏡面反射式プリズム型再帰反
射物再帰反射性物品
FIG. 8 is a conventional specular prism type retroreflective article retroreflective article.

【図9】 本発明のプリズム型再帰反射物再帰反射性物
品の工程を説明する図
FIG. 9 is a diagram illustrating a process of a prism type retroreflective article retroreflective article of the present invention.

【図10】 本発明のプリズム型再帰反射物再帰反射性
物品の工程を説明する図
FIG. 10 is a diagram illustrating a process of a prism-type retroreflector retroreflective article of the present invention.

【図11】 本発明のプリズム型再帰反射物再帰反射性
物品の工程を説明する図
FIG. 11 is a diagram illustrating a process of a prism type retroreflective article retroreflective article of the present invention.

【図12】 本発明のプリズム型再帰反射性物品の工程
を説明する図
FIG. 12 is a diagram illustrating a process of the prism type retroreflective article of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 入射光 2 表面層 3 印刷層(像) 4 固着層 5 微小硝子球 6 焦点層 7 鏡面反射層 8 接着剤層 9 剥離材層 10 光反応性樹脂層 11 光遮蔽マスク 12 プリズム層 1 incident light 2 surface layer 3 printing layers (image) 4 fixed layer 5 Micro glass bulb 6 Focus layer 7 Specular reflection layer 8 Adhesive layer 9 Release material layer 10 Photoreactive resin layer 11 Light-shielding mask 12 Prism layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H042 AA02 BA12 BA15 DA17 EA02 EA07 EA14 EA16 EA20 EA21 4F100 AB10 AK01C AK07 AK25 AK41 AK45 AR00C BA03 BA07 BA10A BA10C EJ19 EJ192 EJ42 EJ422 EJ54 EJ542 GB32 GB72 GB90 JN01A JN06B    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 2H042 AA02 BA12 BA15 DA17 EA02                       EA07 EA14 EA16 EA20 EA21                 4F100 AB10 AK01C AK07 AK25                       AK41 AK45 AR00C BA03                       BA07 BA10A BA10C EJ19                       EJ192 EJ42 EJ422 EJ54                       EJ542 GB32 GB72 GB90                       JN01A JN06B

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】平坦な第1面をもつ実質的に透明な層を含
んでなる第1層と,鏡面反射層が露出している第2面を
もつ再帰反射素子層を含んでなる第2層とからなる再帰
反射性物品を用いて, A.第2面の鏡面反射層上に光反応性樹脂層を設置する工
程 B.選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に反応させ
る工程 C.光反応性樹脂層の選択領域を部分的に除去をする工程 D.鏡面反射層の部分的除去により像を形成する工程 により像が形成された再帰反射性物品。
1. A first layer comprising a substantially transparent layer having a flat first surface and a second layer comprising a retroreflective element layer having a second surface from which a specular reflection layer is exposed. Using a retroreflective article composed of a layer and A. a step of installing a photoreactive resin layer on the specular reflection layer of the second surface B. a step of partially reacting the photoreactive resin by selective light irradiation C. Step of partially removing selected areas of the photoreactive resin layer D. Retroreflective article on which an image is formed by the step of forming an image by partially removing the specular reflection layer.
【請求項2】再帰反射素子層が封入レンズ型,カプセル
レンズ型および鏡面反射式プリズム型再帰反射素子の群
より選ばれた再帰反射素子より構成されてなる請求項1
に記載の像が形成された再帰反射性物品。
2. A retroreflective element layer comprising a retroreflective element selected from the group consisting of an encapsulated lens type, a capsule lens type, and a specular reflective prism type retroreflective element.
A retroreflective article on which the image according to item 1 is formed.
【請求項3】鏡面反射式プリズム型再帰反射素子を構成
する再帰反射素子が,3方向から交差する断面が実質的
に対称な平行V溝群により切取られて形成された三角錐
型キューブコーナー型再帰反射素子対である請求項1ま
たは2に記載の像が形成された再帰反射性物品。
3. A triangular-pyramidal cube-corner type in which a retroreflective element forming a specular reflective prism type retroreflective element is cut out by parallel V-groove groups whose cross sections intersecting in three directions are substantially symmetrical. An image-formed retroreflective article according to claim 1, which is a retroreflective element pair.
【請求項4】鏡面反射式プリズム型再帰反射素子を構成
する再帰反射素子が,3方向から交差する断面が実質的
に対称な平行V溝群により切取られて形成された三角錐
型キューブコーナー型再帰反射素子対であって,3方向
のV溝の少なくとも1方向のV溝の深さが異なっている
請求項3に記載の像が形成された再帰反射性物品。
4. A triangular-pyramidal cube-corner type in which a retroreflective element forming a specular reflective prism type retroreflective element is cut out by parallel V-groove groups whose cross sections intersecting from three directions are substantially symmetrical. The retroreflective article on which an image is formed according to claim 3, wherein the retroreflective element pair is one in which the V-grooves in three directions have different depths in at least one direction.
【請求項5】第2面の鏡面反射層上に設置する光反応性
樹脂層が光重合性,光縮合性,光架橋性および光分解性
であのいずれかである請求項1〜4のいずれかに記載の
像が形成された再帰反射性物品。
5. The photoreactive resin layer provided on the specular reflection layer on the second surface is any of photopolymerizable, photocondensable, photocrosslinkable and photodegradable. A retroreflective article on which the image according to (1) is formed.
【請求項6】第2面の鏡面反射層上に設置する光反応性
樹脂層が光重合性,光縮合性,光架橋性および光分解性
であのいずれかであり,光反応性樹脂層を形成する層の
最小部分の厚みが10〜200μmである請求項1〜5
のいずれかに記載の像が形成された再帰反射性物品。
6. The photoreactive resin layer provided on the specular reflection layer on the second surface is any one of photopolymerizable, photocondensable, photocrosslinkable and photodegradable, and the photoreactive resin layer is formed. The minimum thickness of the layer to be formed is 10 to 200 μm.
A retroreflective article having the image according to any one of 1.
【請求項7】第2面の鏡面反射層上に設置する光反応性
樹脂層が、シート状の形態である請求項1〜6のいずれ
かに記載の像が形成された再帰反射性物品。
7. The retroreflective article with an image formed thereon according to claim 1, wherein the photoreactive resin layer provided on the second surface of the specular reflection layer is in the form of a sheet.
【請求項8】選択的に光を照射する方法が光遮蔽マスク
法および/または光走査法である請求項1〜7のいずれ
かに記載の像が形成された再帰反射性物品。
8. The image-formed retroreflective article according to claim 1, wherein the method of selectively irradiating light is a light-shielding mask method and / or an optical scanning method.
【請求項9】平坦な第1面をもつ第1層と,鏡面反射層
が露出している第2面をもつ再帰反射素子層を含んでな
る第2層からなる再帰反射性物品を用いて, A.第2面の鏡面反射層上に光反応性樹脂層を設置する工
程 B.選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に反応させ
る工程 C.光反応性樹脂層の選択領域を部分的に除去をする工程 D.鏡面反射層の部分的除去により像を形成する工程 により像を形成する方法。
9. A retroreflective article comprising a first layer having a flat first surface and a second layer comprising a retroreflective element layer having a second surface from which a specular reflection layer is exposed. , A. Step of setting the photoreactive resin layer on the specular reflection layer on the second surface B. Step of partially reacting the photoreactive resin by selective light irradiation C. Select area of the photoreactive resin layer Partly removing step D. Method of forming image by step of forming image by partially removing specular reflection layer.
【請求項10】第2面の鏡面反射層上に設置する光反応
性樹脂層が光重合性,光縮合性,光架橋性および光分解
性のいずれかである請求項9に記載の像を形成する方
法。
10. The image according to claim 9, wherein the photoreactive resin layer provided on the specular reflection layer on the second surface is photopolymerizable, photocondensable, photocrosslinkable or photodegradable. How to form.
【請求項11】第2面の鏡面反射層上に設置する光反応
性樹脂層が光重合性,光縮合性,光架橋性および光分解
性のいずれかであり,光反応性樹脂層を形成する層の最
小部分の厚みが10〜200μmである請求項9または
10に記載の像を形成する方法。
11. The photoreactive resin layer provided on the specular reflection layer on the second surface is photopolymerizable, photocondensable, photocrosslinkable or photodegradable, and forms a photoreactive resin layer. The method for forming an image according to claim 9 or 10, wherein the minimum portion of the layer to be formed has a thickness of 10 to 200 µm.
【請求項12】第2面の鏡面反射層上に設置する光反応
性樹脂層が、シート状の形態で供給され、第2面の鏡面
反射層上に設置される請求項9〜11のいずれかに記載
の像を形成する方法。
12. The method according to claim 9, wherein the photoreactive resin layer provided on the specular reflection layer on the second surface is supplied in the form of a sheet and is provided on the specular reflection layer on the second surface. A method of forming an image according to claim 1.
【請求項13】選択的に光を照射する方法が光遮蔽マス
ク法および/または光走査法である請求項9〜12のい
ずれかに記載の像を形成する方法。
13. The method for forming an image according to claim 9, wherein the method of selectively irradiating light is a light shielding mask method and / or an optical scanning method.
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