JP2003191605A - インクジェット記録体 - Google Patents

インクジェット記録体

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JP2003191605A
JP2003191605A JP2001391217A JP2001391217A JP2003191605A JP 2003191605 A JP2003191605 A JP 2003191605A JP 2001391217 A JP2001391217 A JP 2001391217A JP 2001391217 A JP2001391217 A JP 2001391217A JP 2003191605 A JP2003191605 A JP 2003191605A
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jet recording
ink absorbing
temperature
ink jet
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Seiji Sato
静司 佐藤
Tadashi Shimizu
正 清水
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Asahi Kasei Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 インク吸収性、成膜性、透明性に優れたイン
クジェット記録体を提供すること。 【解決手段】 支持体上に一層以上のインク吸収層を設
けたインクジェット記録媒体において、該インク吸収層
の少なくとも一層は動的光散乱法によって測定される平
均粒子径が10〜200nmで、強熱減量が20%以下
である結晶性の金属酸化物からなるメソポーラス物質を
含むことを特徴とするインクジェット記録体。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はインクジェット方式
の印刷、記録に使用されるインクジェット記録用の紙、
シート、フィルム、布等のインクジェット記録体に関す
る。
【0002】
【従来の技術】インクジェット記録方式は、記録時の騒
音が少なく、カラー化が容易であること、高速記録が可
能であることから広い分野で利用が進められている。し
かし、一般の印刷に使用される上質紙等はインク吸収
性、乾燥性が劣り、解像度などの画質も劣るためにこれ
らを改善した専用紙の提案がなされており、インクの発
色性や再現性を高めるために無定形シリカを始めとする
種々の無機顔料類を塗布した記録用紙が開示されてい
る。しかし、近年のインクジェットプリンター性能の進
歩に伴い記録媒体側にも更なる性能の向上が要求され前
記の技術のみでは必ずしも満足のゆく性能が得られなく
なっている。特に、銀塩写真並の高画質を得るために記
録体の単位面積当たりのインク吐出量が増加することに
よるインク吸収性の不足、滲みの発生が上げられる。さ
らには、銀塩写真に匹敵する高画質、色濃度発現のため
にインク吸収層の透明性も要求されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、インク吸収
性、成膜性、透明性に優れたインクジェット記録体を提
供する事を目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記課題
を解決するため種々検討を行った結果、特定のメソポー
ラス物質を含有した以下のインクジェット記録体を見出
し、本発明をなすに至った。すなわち、本発明は以下の
通りである。 (1)支持体上に一層以上のインク吸収層を設けたイン
クジェット記録体において、該インク吸収層の少なくと
も一層は動的光散乱法によって測定される平均粒子径が
10〜200nmで、強熱減量が20%以下である結晶
性の金属酸化物からなるメソポーラス物質を含むことを
特徴とするインクジェット記録体。 (2)該金属酸化物が酸化ケイ素であることを特徴とす
る(1)に記載のインクジェット記録体。 (3)該メソポーラス物質が、金属酸化物の前駆体とテ
ンプレートから得られる複合体を製造する工程と、該複
合体から限外濾過によりテンプレートを除去する工程と
から製造されることを特徴とする(1)または(2)記
載のインクジェット記録体。
【0005】(4)該インク吸収層の少なくとも一層に
該メソポーラス物質とラテックスポリマーを含有するこ
とを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載のイン
クジェット記録体。 (5)該インク吸収層の少なくとも1層に該メソポーラ
ス物質と一定の温度(感温点)を境界にして親水性と疎
水性が可逆的に変化する高分子化合物を含有することを
特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載のインクジ
ェット記録体。 (6)該インク吸収層の少なくとも1層の形成の工程
に、該高分子化合物の感温点以下に冷却して乾燥する工
程を含むことを特徴とする(5)に記載のインクジェッ
ト記録体。 (7)該インク吸収層の少なくとも一層の空隙率が0.
70以上である(1)〜(6)のいずれかに記載のイン
クジェット記録体。
【0006】本発明について、以下に具体的に説明す
る。本発明においてインク吸収層は支持体上に少なくと
も1層設けられる。必要に応じてインク吸収層を2層以
上設けることができる。このように、インク吸収層を多
層化することにより表面に光沢性を付与する等の機能を
各層に分担することができる。本発明のメソポーラス物
質は少なくとも1層に含有される必要がある。本発明に
おける結晶性のメソポーラス物質とは、直径が1〜30
nmの範囲の細孔を有し、その細孔構造がヘキサゴナル
構造などの規則性を持つことで、粉末X線回折で明確な
結晶性を示すピークを有するものを言う。
【0007】本発明のメソポーラス物質は金属酸化物で
あることを特徴とするが、本発明において金属酸化物と
は、金属種として、ケイ素、2族のマグネシウム、カル
シウム等のアルカリ土類金属、亜鉛、3 族のアルミニウ
ム、ガリウム、希土類等、4族のチタン、ジルコニウム
等、5 族のリン、バナジウム、7 族のマンガン、テルル
等、8 族の鉄、コバルト等の単独または複合の酸化物で
ある。特に、酸化ケイ素を含むことが好ましい。また、
本発明における平均粒子直径(直径を単に径ということ
がある。)とは動的光散乱法で測定された平均粒子径を
意味する。たとえば、粒子の形状が棒状である場合は長
径と短径の間の粒子径を示す。さらに、本発明における
強熱減量とはメソポーラス物質が強熱により減量した重
量率を意味する。強熱とは、製造時に使用した水やアル
コールなどの溶媒を充分乾燥できる温度から、メソポー
ラス物質の構造が変化する温度の範囲で加熱することを
意味する。具体的には105℃〜500℃まで通常毎分
5〜50度、好ましくは毎分10度で昇温した時の昇温
前後で減量した重量率である。
【0008】本発明のメソポーラス物質の製造方法は、
本発明の課題が解決できれば特に限定されるものではな
いが、メソポ−ラス物質を構成する金属酸化物の前駆体
とメソポ−ラス物質の細孔構造を制御するテンプレート
とから先ず金属酸化物の細孔径内にテンプレートが存在
している複合体を製造し、引き続き複合体からテンプレ
ートを除去する方法が好ましい。具体的には、本発明の
メソポ−ラス物質は、溶媒に溶解あるいは分散した金属
酸化物前駆体と、同じく溶媒に溶解、あるいは分散した
カチオン性、あるいは非イオン性のテンプレートとを攪
拌混合して金属酸化物の細孔内にテンプレートが残って
いる複合体を製造する複合体化工程と、引き続き、複合
体化工程で得られた複合体からテンプレートを限外濾過
で除去するテンプレート除去工程を経て得ることが可能
である。
【0009】本発明のメソポーラス物質を構成する金属
酸化物のその前駆体は、先記した金属種の硝酸塩、塩酸
塩等の無機塩、酢酸塩、ナフテン酸塩等の有機酸塩、ア
ルキルアルミニウム等の有機金属塩、アルコキシド、水
酸化物が挙げられるが、複合体化工程で最終的に金属酸
化物になるものであれば構わない。具体的には金属種と
してケイ素を選んだ場合、テトラメトキシシランやテト
ラエトキシシラン等のアルコキシドや活性シリカを用い
ることができる。活性シリカは、水ガラスから有機溶媒
で抽出したり、水ガラスをイオン交換するなどして調製
することができる。
【0010】一方、本発明に用いるテンプレートはメソ
ポ−ラス物質の細孔直径(直径を単に径ということがあ
る。)を制御できるものであれば特に限定されないが、
4級アンモニウム系などのカチオン性やトリブロック系
やアミン系などの非イオン性テンプレートが好ましく、
より好ましくは4級アンモニウム系テンプレートであ
る。4級アンモニウム系テンプレートとしてはセチルト
リメチルアンモニウムクロライド、オクタデシルトリメ
チルアンモニウムブロマイドなどが挙げられる。また、
細孔径を制御するために、有機助剤として、炭素数6〜
20の芳香族炭化水素、炭素数5〜20の脂環式炭化水
素、炭素数3〜16の脂肪族炭化水素およびこれらのア
ミンならびにハロゲン置換体、たとえば、トルエン、ト
リメチルベンゼン、トリイソプロピルベンゼン等を加え
ることもできる。本発明の複合体化工程で用いる溶媒と
しては、水、有機溶媒あるいは水と有機溶媒の混合溶媒
のいずれを用いてもよいが、有機溶媒としては、アルコ
ール類が好ましい。アルコール類としては、エタノール
やメタノール等の低級アルコールが好ましい。
【0011】次に複合体の製造条件について説明する。
本発明のメソポ−ラス物質の製造は複合体化工程で、出
発原料の仕込み組成を制御することと、系内のpHを制
御することを特徴の一つとしている。出発原料の仕込み
組成は、金属酸化物の前駆体、テンプレート、溶媒など
により若干異なるが、金属酸化物の前駆体とテンプレー
トが会合したものがミセルを形成でき、かつミセル中で
金属酸化物の前駆体が反応して金属酸化物となってテン
プレートと複合体を形成した時に凝集や沈殿等が生じて
複合体の粒子径が大きくならない条件を選ぶことが必要
である。なお、複合体の凝集や沈殿を防ぐために水酸化
ナトリウムやテトラメチルアンモニウムヒドロキシドな
どpH調製剤や低分子ポリビニルアルコール(PVA)
等の安定化剤を加えても構わない。具体的には、金属酸
化物の前駆体としてトリメトキシシラン等のケイ素のア
ルコキシドを、テンプレートとして4級アンモニウム塩
系を、溶媒としてアルコール水溶液を用いる場合は、次
のような仕込み組成を用いることができる。
【0012】テンプレート/酸化ケイ素(SiO2 )の
重量比としては、好ましくは0.01〜30、より好ま
しくは0.1〜5の範囲が用いられる。なお、酸化ケイ
素は金属酸化物の前駆体であるケイ素のアルコキシドが
全て酸化ケイ素になったものと仮定した場合の重量であ
る。そして、溶媒/SiO2 の重量比としては、好まし
くは10〜1000、より好ましくは30〜300の範
囲が用いられる。一方、複合体化工程における系内の好
ましいpHは金属酸化物の金属種により異なるが、金属
酸化物が酸化ケイ素の場合好ましくは4〜12の範囲で
ある。pHが4より低いと生成した複合体が凝集し粒径
が大きくなってしまう、逆にpHが12より大きいと金
属酸化物の前駆体から金属酸化物への反応が妨げられ金
属酸化物の生成が妨げられる。pHの制御のために水酸
化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ド、アンモニアなどの塩基や塩酸、硫酸、酢酸などの酸
を加えてもよい。
【0013】複合体化工程は、以上に示した条件下で出
発原料を混合攪拌することで容易に実施することができ
る。複合体化は常温でも容易に進行するが、必要に応じ
て100℃までの加温下で行うこともできる。しかし、
100℃以上の水熱反応のような条件は不要である。ま
た、複合化に要する時間としては0.5〜100時間、
好ましくは3〜50時間の範囲が用いられる。以上のよ
うにして製造された複合体は金属酸化物とテンプレート
が複合体化したものであるが、本発明では、複合体から
テンプレートを除去することでメソポーラス物質とな
す。
【0014】次に、複合体からテンプレートを除去する
テンプレート除去工程について説明する。テンプレート
を除去するにはテンプレートを溶解する溶媒で希釈した
後限外濾過法で行うことが好ましいが、テンプレートを
除去した後のメソポーラス物質を凝集させない方法であ
れば特に限定されるものではない。
【0015】本発明の限外濾過法について説明する。複
合体化工程で得られた複合体は溶媒中に分散した状態で
ある。テンプレートを除去するためには、テンプレート
の溶解力が高く、取り扱いが簡単なアルコール類でさら
に2〜10倍に希釈した後限外濾過することが好まし
い。アルコール類としては、複合体化工程と同様にメタ
ノール、エタノール等の低級アルコールが好ましい。溶
解力を高めるために必要に応じて、酢酸などの酸や水な
どを添加することもできる。
【0016】除去温度は、用いる溶媒やテンプレートに
より異なるが、20〜80℃が好ましい。また、本発明
では限外濾過は上記条件で1〜5回繰り返すことでテン
プレートの除去は充分可能である。テンプレートの除去
が達成したかどうかは、得られたメソポ−ラス物質の強
熱減量から確認することもできるが、限外濾過に用いた
溶媒中に含まれるテンプレートの重量と、複合体形成に
用いられたテンプレートの重量とのマスバランスから確
認することもできる。そして、複合体から除去されたテ
ンプレートは溶媒を除くことで再利用することができ
る。尚、テンプレートが除去されたメソポ−ラス物質の
粒子の凝集を防ぐために溶媒とともに水酸化ナトリウム
等のアルカリや低分子PVA等の安定化剤を加えてもよ
い。
【0017】上記の限外濾過方法によって得られたメソ
ポ−ラス物質はゾルとして得られるが、目的に応じ他の
溶媒を添加しても構わない。用いられる溶媒は、メソポ
−ラス物質が沈殿を生じたりしないものであれば何でも
よく、限外濾過に用いた溶媒が好ましい。また、粒子の
凝集を防ぐために水酸化ナトリウム等のアルカリや低分
子PVA、ジメチルアセトアミド等の安定化剤を添加す
ることも可能である。上記のゾルから溶媒を除去するこ
とによりメソポーラス物質を単離することは可能である
が、単離されたメソポーラス物質は微粒であるため取り
扱いが難しく凝集などの変化を受けやすいので、ゾルの
ままで保存や取り扱いをする方が好ましい。メソポーラ
ス物質を単離する方法としては、スプレードライ法など
があるがこれに限定されるものではない。
【0018】本発明に用いるメソポーラス物質は、シラ
ンカップリング剤で処理されていることが好ましい。シ
ランカップリング剤としては、従来公知のいずれのシラ
ンカップリング剤でもよいが、カチオン性を示す官能基
を有するシランカップリング剤が好ましい。インクジェ
ット用インク中のアニオン性の色素と結合し、印字部の
耐水性を向上させることができる。アミノ基、4級化ア
ンモニウム塩基がより好ましい。本発明において用いら
れるシランカップリング剤は、単独でも2種以上を組み
合わせてもよく、メソポーラス物質100重量部に対
し、0.2〜20重量部、より好ましくは1〜15重量
部の割合で用いることが好ましい。本発明のインク吸収
層には、上記メソポーラス物質のインク吸収性を損なわ
ないバインダーとしてラテックスを含有することが好ま
しい。係るラテックスは、例えば、乳化重合により得ら
れる樹脂分散液中の樹脂粒子成分であり、例示すると酢
酸ビニル重合体ラテックス、スチレンーイソプレン共重
合体ラテックス、スチレン−ブタジエン共重合体ラテッ
クス、メチルメタクリレートーブタジエン共重合体ラテ
ックス、アクリル酸エステル共重合体ラテックス、これ
ら共重合体をカルボキシル基等の官能基含有モノマーで
変性した官能基変性重合体ラテックスなどである。
【0019】本発明のメソポーラス物質のバインダーと
して従来のポリビニールアルコールなどの水溶性のバイ
ンダーのみを用いる場合は成膜性が良好なレベルの使用
量ではインク吸収性が低下し、使用量を減じるとインク
吸収性は向上するが成膜性が低下するが、本発明のメソ
ポーラス物質とラッテクスを併用する場合はインク吸収
性と成膜性を両立させることが可能である。この理由は
明確ではないが、インク吸収層において、ラテックスの
粒子径が該物質の細孔より大きいため細孔を塞ぐことが
無く、良好なインク吸収性を発現させるためと推測して
いる。本発明に用いるラテックスのガラス転移点、平均
粒径は特に限定されないが、ガラス転移点−30〜10
0℃、平均粒子径10〜200nmのものが好ましく用
いられる。本発明に用いられるラテックスの含有量は特
に限定されないが、メソポーラス物質100重量部に対
して5〜400重量部含有することが好ましく、5〜1
00重量部含有することが特に好ましい。含有量が少な
いと成膜性が低下し、多いとインク吸収性が低下するた
め好ましくない。
【0020】また、一定の温度(感温点)を境界にして
親水性と疎水性が可逆的に変化する温度応答性高分子化
合物を含むことが好ましい。さらに、インク吸収層用塗
工液中において温度応答性高分子が高分子エマルジョン
となっている場合には、塗工液の粘度は、温度応答性高
分子が高分子エマルジョンとなっていない場合と比較し
てきわめて低く、良好な塗工性を示す。インク吸収層用
塗工液を塗工した後速やかに、温度応答性高分子化合物
が、親水性を示す温度環境下に冷却し(すなわち感温点
以下に冷却し)乾燥を開始すると、極めて優れた表面平
滑性、表面光沢をもつ記録体が得られるため好ましい。
本発明に用いる、一定の温度を境界にして親水性と疎水
性が可逆的に変化する温度応答性高分子化合物は、単独
重合することによって該温度応答性を呈する重合体が得
られるモノマー(主モノマー)の単独重合体、あるいは
二種類以上の主モノマーの共重合体、さらには、該主モ
ノマーと反応して重合体を作ることができかつ単独重合
によっては上記の温度応答性を呈する重合体が得られな
いモノマー(副モノマー)と主モノマーとの共重合体で
ある。
【0021】主モノマーとしてはN−アルキルまたはN
−アルキレン置換(メタ)アクリルアミド誘導体(ここ
で、(メタ)アクリルとはメタアクリル(あるいはメタ
クリル)またはアクリルを簡便に表記したものであ
る)、ビニルメチルエーテルなどが挙げられ、具体的に
は例えば、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N−イ
ソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−シクロプロピ
ル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリ
ルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N,N−
ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−n−プロピル
(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−n−プロピ
ルアクリルアミド、N−メチル−N−イソプロピルアク
リルアミド、N−(メタ)アクリロイルピロリジン、N
−(メタ)アクリロイルピペリジン、N−テトラヒドロ
フルフリル(メタ)アクリルアミド、N−メトキシプロ
ピル(メタ)アクリルアミド、N−エトキシプロピル
(メタ)アクリルアミド、N−イソプロポキシプロピル
(メタ)アクリルアミド、N−エトキシエチル(メタ)
アクリルアミド、N−(2,2−ジメトキシエチル)−
N−メチルアクリルアミド、N−メトキシエチル(メ
タ)アクリルアミド、N−(メタ)アクリロイルモルホ
リンなどが挙げられる。
【0022】副モノマーとしては親油性ビニル化合物、
親水性ビニル化合物、イオン性ビニル化合物などが挙げ
られ、具体的にはメチル(メタ)アクリレート、エチル
(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレー
ト、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレ
ン、α−メチルスチレン、エチレン、イソプレン、ブタ
ジエン、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、(メ
タ)アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、2−
メチル−5−ビニルピリジン、N−ビニル−2−ピロリ
ドン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、塩化ビニル、ア
クリル酸、メタクリル酸、2−アクリルアミド−2−メ
チル−プロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸、N,
N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,
N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレートなど
が挙げられる。主モノマーと副モノマーの共重合割合
は、得られる共重合体が一定の温度を境界にして親水性
と疎水性が可逆的に変化する温度応答性を呈する範囲の
中で決められる。つまり、副モノマーの割合が多すぎれ
ば得られる共重合体が該温度応答性を示さなくなる。
【0023】本発明に用いる、該温度応答性を呈する高
分子重合体のガラス転移点は特に限定されないが、成膜
性及び得られる記録体の柔軟性などの観点からガラス転
移点は−30〜100℃が好ましい。本発明に用いられ
る、一定の温度を境界にして親水性と疎水性が可逆的に
変化する高分子化合物の、インク吸収層中の含有量は特
に限定されないが、該温度応答性高分子が含有される各
々のインク吸収層において、メソポーラス物質100重
量部に対して製膜性の観点から5重量部以上が好まし
く、インク吸収性の観点から400重量部以下含有する
ことが好ましい。5〜100重量部含有することが特に
好ましい。
【0024】本発明においてインク吸収層に良好な製膜
性を付与するため、バインダーとしてポリビニルアルコ
ール、又はポリビニルアルコール誘導体をラテックスと
併用することが好ましい。ポリビニルアルコール誘導体
としてはカチオン変成ポリビニルアルコール、シラノー
ル変性ポリビニルアルコール等が例示される。本発明に
用いられるポリビニルアルコール、又はポリビニルアル
コール誘導体の含有量は、ラテックス100重量部に対
して1〜400重量部含有することが好ましく、5〜1
00重量部含有することが特に好ましい。含有量が少な
いと効果が十分でなく、多いとインク吸収性が低下する
ため好ましくない。更に、該インク吸収層を塗工する際
には、必要に応じて顔料分散剤、増粘剤、流動調整剤、
消泡剤、抑泡剤、離型剤、発泡剤、着色剤等を配合する
ことができる。
【0025】本発明においてはその他の有機バインダー
を併用することができる。例えば、ポリ酢酸ビニル類、
ポリビニルピロリドン類、ポリアセタール類、ポリウレ
タン類、ポリビニルブチラール類、ポリ(メタ)アクリ
ル酸(エステル)類、ポリアミド類、ポリアクリルアミ
ド類、ポリエステル樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、天
然高分子由来であるデンプン及びデンプン誘導体、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチル等のセルロ
ース誘導体、カゼイン、ゼラチン等が上げられる。本発
明においてはインク吸収層の少なくとも1層がカチオン
性ポリマーを含有することが好ましい。カチオン性ポリ
マーを含有することにより印字部の耐水性が向上する。
該カチオン性ポリマーとしてはカチオン性を示すもので
あれば特に限定されないが、第一アミン、第2アミン、
第3アミン置換基及びこれらの塩、第4級アンモニウム
塩置換基の少なくとも1種を含むものが好ましく用いら
れる。例えばジメチルジアリルアンモニウムクロライド
重合物、ジメチルジアリルアンモウウムクロライド−ア
クリルアミド共重合物、アルキルアミン重合物、ポリア
ミンジシアン重合物、ポリアリルアミン塩酸塩などが上
げられる。該カチオン性ポリマーの分子量は特に限定さ
れないが重量平均分子量1,000〜200,000の
物が好ましく用いられる。
【0026】本発明においてインク吸収層の少なくとも
1層が紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、一
重項酸素クエンチャー、酸化防止剤を含有することが好
ましい。該物質を含有することにより印字部の耐光性が
向上する。紫外線吸収剤としては特に限定されないがベ
ンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、酸化チタン、
酸化セリウム、酸化亜鉛等が好ましく用いられる。ヒン
ダードアミン系光安定剤としては特に限定されないがピ
ペリジン環のN原子がN−R(Rは水素原子、アルキル
基、ベンジル基、アリル基、アセチル基、アルコキシル
基、シクロヘキシル基、ベンジルオキシ基)であるもの
が好ましく用いられる。一重項酸素クエンチャーとして
は特に限定されないがアニリン誘導体、有機ニッケル
系、スピロクロマン系、スピロインダン系が好ましく用
いられる。酸化防止剤としては特に限定されないがフェ
ノール系、ハイドロキノン系、有機イオウ系、リン系、
アミン系が好ましく用いられる。
【0027】本発明においてインク吸収層の少なくとも
1層がアルカリ土類金属化合物を含有することが好まし
い。アルカリ土類金属化合物を含有することにより耐光
性が向上する。アルカリ土類金属化合物としてはマグネ
シウム、カルシウム、バリウムの酸化物、ハロゲン化
物、水酸化物が好ましく用いられる。アルカリ土類金属
化合物をインク吸収層に含有させる方法は特に限定され
ない。塗工液スラリーに添加しても良いし、メソポーラ
ス物質の合成時、または合成後に添加、付着含有させて
使用しても良い。アルカリ土類金属化合物の使用量はメ
ソポーラス物質100重量部に対して酸化物換算で0.
5〜20重量部が好ましい。本発明においてインク吸収
層の少なくとも1層がノニオン系界面活性剤を含有する
ことが好ましい。ノニオン系界面活性剤を含有すること
により画質、耐光性が向上する。ノニオン系界面活性剤
としては特に限定されないが高級アルコール、カルボン
酸のエチレンオキサイド付加物、エチレンオキサイド−
プロピレンオキサド共重合物が好ましく用いられ、エチ
レンオキサイド−プロピレンオキサド共重合物がより好
ましく用いられる。ノニオン系界面活性剤をインク吸収
層に含有させる方法は特に限定されない。塗工液スラリ
ーに添加しても良いし、メソポーラス物質の合成時、ま
たは合成後に添加、付着含有させて使用しても良い。
【0028】本発明においてインク吸収層の少なくとも
1層がアルコール化合物を含有することが好ましい。ア
ルコール化合物を含有することにより画質、耐光性が向
上する。アルコール化合物としては特に限定されないが
脂肪族アルコール、芳香族アルコール、多価アルコー
ル、水酸基含有オリゴマーが好ましく用いられ、多価ア
ルコールがより好ましく用いられる。アルコール化合物
をインク吸収層に含有させる方法は特に限定されない。
塗工液スラリーに添加しても良いし、メソポーラス物質
の合成時、または合成後に添加、付着含有させて使用し
ても良い。本発明においてインク吸収層の少なくとも1
層がアルミナ水和物を含有することが好ましい。アルミ
ナ水和物を含有することにより画質、耐水性が向上す
る。アルミナ水和物としては特に限定されず、ベーマイ
ト構造、擬ベーマイト構造、非晶質構造のアルミナ水和
物が用いられるが、擬ベーマイト構造のアルミナ水和物
が好ましく用いられる。
【0029】本発明においてインク吸収層の少なくとも
1層がコロイダルシリカ及び/又は乾式シリカを含有す
ることが好ましい。コロイダルシリカ及び/又は乾式シ
リカを含有することにより画質が向上し、光沢を付与す
ることができる。コロイダルシリカとしては特に限定さ
れず、通常のアニオン性のコロイダルシリカ、アルミニ
ウムイオン等の多価金属化合物を反応するなどの方法で
得られるカチオン性コロイダルシリカが用いられる。乾
式シリカとしては特に限定されないが、四塩化ケイ素を
水素及び酸素で燃焼して合成される気相法シリカが好ま
しく用いられる。乾式法シリカはそのまま用いても良い
し、表面をシランカップリング剤他で修飾した物でも良
い。本発明において最表層に光沢層を設けることができ
る。光沢層を設ける手段としては特に限定されないがコ
ロイダルシリカ及び/又は乾式シリカ等の超微粒径顔料
を含有させる方法、スーパーカレンダー法、グロスカレ
ンダー法、キャスト法などが用いられる。
【0030】本発明において使用される支持体は特に限
定されないが紙、ポリマーシート、ポリマーフィルム、
布が好ましく用いられる。これらの支持体は必要に応じ
てコロナ放電等の表面処理をすることもできる。インク
吸収層の厚みは特に限定されないが1〜100μm、塗
工量は1〜100g/m2 が好ましい。塗工液の塗工方
法としては特に限定されないがブレードコーター、エア
ーナイフコーター、ロールコーター、ブラシュコータ
ー、カーテンコーター、バーコーター、グラビアコータ
ー、スプレー等が使用できる。本発明のインク吸収層の
少なくとも一層の空隙率が0.70以上であることが好
ましい。0.70より小さい場合、インク吸収量が少な
くなりにじみやすい。本発明における空隙率A とは、イ
ンク吸収層の厚みより求めた見かけ体積V1と水銀圧入法
により求めた直径6nmから1μm までの細孔量V2により
A=V2/V1 であらわされる。
【0031】
【発明の実施の形態】以下に実施例を挙げて本発明を具
体的に説明する。実施例において、粉末X線回折は理学
製RINT2500を用いて測定をおこなった。メソポ
ーラス物質の細孔分布はカンタクロム社製オートソーブ
−1を用い窒素により測定した。メソポーラス物質の平
均細孔直径はBJH法より求めた微分細孔分布曲線のメ
ソポア領域におけるピーク値より算出した。動的光散乱
法による平均粒子径は大塚電子製レーザーゼータ電位計
ELS−800により測定した。強熱減量はセイコー電
子製TG/DTAにより測定した。強熱減量の測定条件
は105℃から500℃まで10℃/min で昇温した際
の昇温前後の重量変化から求めた。水銀圧入法によるイ
ンク吸収層の細孔量は、島津製作所製ポアサイザー93
20を用いて測定した。一定の温度を境界にして親水性
と疎水性が可逆的に変化する高分子化合物の親水性と疎
水性が変化する温度(感温点)は、該高分子化合物の1
0wt%水溶液の温度を徐々に変化させた時、該水溶液
が白濁あるいは透明化あるいはゲル化し始める温度を測
定することによって求めた。
【0032】印字特性の評価は市販インクジェットプリ
ンター(セイコー・エプソン製PM−800C)を用い
てイエロー、マゼンタ、シアン、ブラック、グリーン、
レッド、ブルーのベタ印字を行ったものを用いた。評価
項目は以下に示した。 (1)成膜性:塗工膜のひび割れ、付着状態を目視判定
した。 ◎:良好、○:やや良好、△:劣る (2)インク吸収性:印字後の滲みや印字直後に印字部
を白紙で押さえインク転写の程度により判定した。 ◎:良好、○:やや良好、△:劣る (3)表面性状:塗工膜の光沢、表面平滑性を目視判定
した。 ◎:良好、○:やや良好、△:劣る
【0033】
【参考例1】攪拌器、還流冷却器、滴下槽および温度計
を取り付けた反応容器に、水500部を投入し反応容器
内を80℃にした。次に「アデカリアソープSE102
5N」の25%水溶液7部と過硫酸アンモニウムの2%
水溶液14部を添加した。その5分後に、メタクリル酸
メチル360部、アクリル酸ブチル540部、メタクリ
ル酸18部、「アデカリアソープSE1025N」の2
5%水溶液40部、過硫酸アンモニウムの2%水溶液4
5部と水450部をホモジナイザーによりプレ乳化液と
したものを反応容器に添加開始し、4時間かけて添加を
終了させた。添加中および添加終了後1時間、反応容器
内液温を80℃に保った後、室温まで冷却を行った。数
平均粒径が100nmのラテックス(バインダー
(い))を得た。その感温点の測定を試みたが、感温点
と判断される変化は生じなかった。
【0034】
【参考例2】攪拌器、還流冷却器、滴下槽および温度計
を取り付けた反応容器に、水45部を投入し反応容器内
を80℃にした。次に「アデカリアソープSE1025
N」の25%水溶液5部とメタクリル酸メチル2部、ア
クリル酸ブチル2部を予めプレ乳化しておき、過硫酸ア
ンモニウムの2%水溶液1部を添加した後1.5時間、
反応容器内液温を80℃に保った後、過硫酸アンモニウ
ムの2%水溶液1部、N −イソプロピルアクリルアミド
40部、水170部の混合液を反応容器に添加開始し、
2.5時間かけて添加を終了させた。添加中および添加
終了後1時間、反応容器内液温を80℃に保った後、5
0℃で保存することによって50℃における数平均粒径
が30nmの高分子エマルジョン(バインダー(ろ))
を得た。その感温点を測定したところ31℃であった。
【0035】
【実施例1】セチルトリメチルアンモニウムクロライド
2重量部、水74重量部、メタノール19重量部、テト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド25%含有メタノー
ル溶液1.1重量部を入れたフラスコに、テトラメトキ
シシラン6.25重量部を充分攪拌させながら加え、8
0℃で24時間静置して反応させた。この時のpHは7
であった。この溶液を酢酸含有エタノール水溶液で3倍
希釈した後、限外濾過装置で濃縮した。この操作を3回
繰り返すことでテンプレートなどを除去した後、エタノ
ール水溶液(エタノール/水=50/50)で再度希釈
と濃縮をおこない、メソポーラス物質を5重量%含有す
る透明なゾルを得た。このゾル中の試料の動的光散乱法
によって測定される平均粒子径は100nmであった。
また、このゾルをスプレードライ法で単離した後105
℃で乾燥しメソポーラス物質を得た。この試料のX線回
折はd間隔4nmの相当するピークを示した。この試料
の平均細孔直径は2nmであった。また、この試料の強
熱減量は5%であった。このメソポーラス物質ゾル溶液
に、参考例1で作製したラテックス(バインダー
(い))をSiO2 100重量部に対し表1に示した割
合で混合し室温で塗工液を作成した。ポリエチレンテレ
フタレート製シート(厚さ100μm)にバーコーター
で前記塗工液を室温で塗布、乾燥し、厚さ約25μmの
インク吸収層を設けた記録シートを得た。得られた記録
シートはいずれも透明であった。シートの評価結果を表
1に示す。シートの空隙率は0.65であった。
【0036】
【実施例2】実施例1のメソポーラス物質ゾル溶液に、
参考例2で作製した高分子エマルジョン(バインダー
(ろ))をSiO2 100重量部に対し表1に示した割
合で混合し60℃で塗工液を作成した。ポリエチレンテ
レフタレート製シート(厚さ100μm)にバーコータ
ーで前記塗工液を60℃のままで塗布し、速やかに20
℃まで冷却、乾燥し、厚さ約25μmのインク吸収層を
設けた記録シートを得た。得られた記録シートは透明で
あった。シートの評価結果を表1に示す。シートの空隙
率は0.72であった。
【実施例3】実施例1のメソポーラス物質のゾル液にポ
リビニールアルコール、及びシラノール変性ポリビニー
ルアルコールをSiO2 100重量部に対し表1に示し
た割合で混合し室温で塗工液を作成した。ポリエチレン
テレフタレート製シート(厚さ100μm)にバーコー
ターで前記塗工液を室温で塗布、乾燥し、厚さ約25μ
mのインク吸収層を設けた記録シートを得た。得られた
記録シートは透明であった。シートの評価結果を表1に
示す。空隙率は0.63であった。
【0037】
【比較例1】乾式シリカ(平均粒子径約12nm、日本
アエロジル(株)製、アエロジル200:商品名)とポ
リビニールアルコール、及びシラノール変性ポリビニー
ルアルコールををSiO2 100重量部に対し表1に示
した割合で混合し室温で塗工液を作成した。ポリエチレ
ンテレフタレート製シート(厚さ100μm)にバーコ
ーターで前記塗工液を室温で塗布、乾燥し、厚さ約25
μmのインク吸収層を設けた記録シートを得た。得られ
た記録シートは透明であった。シートの評価結果を表1
に示す。シートの空隙率は0.60であった。
【0038】
【表1】
【0039】
【発明の効果】本発明のインクジェット記録体はインク
吸収性、成膜性、透明性に優れた効果を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C056 EA04 EA05 FC06 2H086 BA15 BA33 BA34 BA36 BA41 BA45

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に一層以上のインク吸収層を設
    けたインクジェット記録体において、該インク吸収層の
    少なくとも一層は動的光散乱法によって測定される平均
    粒子径が10〜200nmで、強熱減量が20%以下で
    ある結晶性の金属酸化物からなるメソポーラス物質を含
    むことを特徴とするインクジェット記録体。
  2. 【請求項2】 該金属酸化物が酸化ケイ素であることを
    特徴とする請求項1に記載のインクジェット記録体。
  3. 【請求項3】 該メソポーラス物質が、金属酸化物の前
    駆体とテンプレートから得られる複合体を製造する工程
    と、該複合体から限外濾過によりテンプレートを除去す
    る工程とから製造されることを特徴とする請求項1また
    は2に記載のインクジェット記録体。
  4. 【請求項4】 該インク吸収層の少なくとも一層に該メ
    ソポーラス物質とラテックスポリマーを含有することを
    特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のインクジェ
    ット記録体。
  5. 【請求項5】 該インク吸収層の少なくとも1層に該メ
    ソポーラス物質と一定の温度(感温点)を境界にして親
    水性と疎水性が可逆的に変化する高分子化合物を含有す
    ることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のイ
    ンクジェット記録体。
  6. 【請求項6】 該インク吸収層の少なくとも1層の形成
    の工程に、該高分子化合物の感温点以下に冷却して乾燥
    する工程を含むことを特徴とする請求項5に記載のイン
    クジェット記録体。
  7. 【請求項7】 該インク吸収層の少なくとも一層の空隙
    率が0.70以上である請求項1〜6のいずれかに記載
    のインクジェット記録体。
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