JP2003190729A - 排ガス処理方法及び装置 - Google Patents
排ガス処理方法及び装置Info
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Landscapes
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Processes For Solid Components From Exhaust (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 排気ガスに含まれるPMを効率的に除去す
る。装置のシンプル化、低コスト化を図る。 【解決手段】 排ガス中のPMを捕捉する粒子が堆積し
た粒子層10に、その下方から排ガスを導入し、排ガス
で流動化された粒子層10でPMを捕捉して、PMを除
去した処理ガスを上方に排出する方法であって、粒子層
10の下側に上段の分散板12と下段の孔径の大きい分
散板18を設け、分散板12と分散板18との間隙に開
口率の大きな強度部材としての多孔板16を設置して、
多孔板16の穴に粒径の大きな流動媒体を装填して粒子
層14とし、排ガスを導入したときに、上段の分散板1
2の下側を流動化した粒子層14の粒径の大きな流動媒
体が叩いて分散板12の詰まりを無くすとともに、PM
を一次的に捕集してトータルのPM除去率を向上させ
る。
る。装置のシンプル化、低コスト化を図る。 【解決手段】 排ガス中のPMを捕捉する粒子が堆積し
た粒子層10に、その下方から排ガスを導入し、排ガス
で流動化された粒子層10でPMを捕捉して、PMを除
去した処理ガスを上方に排出する方法であって、粒子層
10の下側に上段の分散板12と下段の孔径の大きい分
散板18を設け、分散板12と分散板18との間隙に開
口率の大きな強度部材としての多孔板16を設置して、
多孔板16の穴に粒径の大きな流動媒体を装填して粒子
層14とし、排ガスを導入したときに、上段の分散板1
2の下側を流動化した粒子層14の粒径の大きな流動媒
体が叩いて分散板12の詰まりを無くすとともに、PM
を一次的に捕集してトータルのPM除去率を向上させ
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディーゼルエンジ
ン、ガソリンエンジン、ガスタービン、ボイラ、燃焼炉
などの燃焼装置から排出される排ガスに含まれる固体炭
素(すす)、SOF、サルフェートのような微粒子(P
M)を効率的に除去でき、かつ、装置のシンプル化を図
ることができる排ガス処理方法及び装置に関するもので
ある。
ン、ガソリンエンジン、ガスタービン、ボイラ、燃焼炉
などの燃焼装置から排出される排ガスに含まれる固体炭
素(すす)、SOF、サルフェートのような微粒子(P
M)を効率的に除去でき、かつ、装置のシンプル化を図
ることができる排ガス処理方法及び装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】例えば、ディーゼルエンジンでは、負荷
の変動時などに固体炭素からなる1μm以下の微粒子
(PM)が多量に発生し、排気ガスとともに大気に排出
されて問題となっている。従来から知られているPMの
除去技術としては、フィルタを用いてエンジン排ガス中
のPMを捕集し、フィルタで捕集したPMを燃焼させて
処理する方法がある(実公平5−13934号公報、特
開平7−286512号公報など)。
の変動時などに固体炭素からなる1μm以下の微粒子
(PM)が多量に発生し、排気ガスとともに大気に排出
されて問題となっている。従来から知られているPMの
除去技術としては、フィルタを用いてエンジン排ガス中
のPMを捕集し、フィルタで捕集したPMを燃焼させて
処理する方法がある(実公平5−13934号公報、特
開平7−286512号公報など)。
【0003】また、特開平4−4019号公報には、排
気ガスの下流に、球状セラミック表面に燃焼用触媒を担
持した粒子を下方から導入する排ガスによって流動化さ
せた流動層を設け、その流動層の下流に発泡セラミック
表面に酸化触媒を担持した粒子からなる固定層を設け、
前記流動層と前記固定層とを加熱する手段を設けた排気
ガス浄化装置が開示されている。
気ガスの下流に、球状セラミック表面に燃焼用触媒を担
持した粒子を下方から導入する排ガスによって流動化さ
せた流動層を設け、その流動層の下流に発泡セラミック
表面に酸化触媒を担持した粒子からなる固定層を設け、
前記流動層と前記固定層とを加熱する手段を設けた排気
ガス浄化装置が開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述したフィルタによ
るPM除去技術は、フィルタとして大きな面積のものが
必要であり装置が大型化する。また、フィルタは目詰ま
りを起こしやすく、圧力損失が増大するなどして性能劣
化を招くことになる。また、フィルタには高温に強いセ
ラミック繊維などが使用されているが、この種のフィル
タは耐久性が低い上に、高価格であり、コストが高くな
る。さらに、フィルタに捕集したPMの燃焼処理におい
ても、PMの完全燃焼がうまく行えないという問題があ
る。
るPM除去技術は、フィルタとして大きな面積のものが
必要であり装置が大型化する。また、フィルタは目詰ま
りを起こしやすく、圧力損失が増大するなどして性能劣
化を招くことになる。また、フィルタには高温に強いセ
ラミック繊維などが使用されているが、この種のフィル
タは耐久性が低い上に、高価格であり、コストが高くな
る。さらに、フィルタに捕集したPMの燃焼処理におい
ても、PMの完全燃焼がうまく行えないという問題があ
る。
【0005】また、上記の流動層と固定層による排ガス
浄化装置は、流動層で捕捉された炭素粒子が排ガス中の
窒素酸化物を窒素に還元し、炭素粒子は一酸化炭素又は
炭酸ガスに酸化され、固定層で一酸化炭素も炭酸ガスに
酸化されて、浄化ガスが排出されるという構成であり、
流動層で排ガス中のPMを捕捉し、流動媒体に付着した
PMを燃焼させる除去方法とは技術的思想が基本的に異
なっている。
浄化装置は、流動層で捕捉された炭素粒子が排ガス中の
窒素酸化物を窒素に還元し、炭素粒子は一酸化炭素又は
炭酸ガスに酸化され、固定層で一酸化炭素も炭酸ガスに
酸化されて、浄化ガスが排出されるという構成であり、
流動層で排ガス中のPMを捕捉し、流動媒体に付着した
PMを燃焼させる除去方法とは技術的思想が基本的に異
なっている。
【0006】本発明は上記の諸点に鑑みなされたもの
で、本発明の目的は、流動層を利用した簡単な構造で、
排気ガスに含まれる固体炭素(すす)、SOF、サルフ
ェートのような微粒子(PM)を効率的に除去すること
ができ、しかも、安価で、装置のシンプル化を図ること
ができる排ガス処理方法及び装置を提供することにあ
る。
で、本発明の目的は、流動層を利用した簡単な構造で、
排気ガスに含まれる固体炭素(すす)、SOF、サルフ
ェートのような微粒子(PM)を効率的に除去すること
ができ、しかも、安価で、装置のシンプル化を図ること
ができる排ガス処理方法及び装置を提供することにあ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の方法は、排ガスに含まれる微粒子を捕捉
する粒子が堆積した粒子層に、その下方から前記排ガス
を導入し、排ガスによって流動化された粒子層で前記微
粒子を捕捉して、微粒子を除去した処理ガスを上方に排
出する排ガス処理方法であって、粒子層の下側に、上段
の分散板と下段の孔径の大きな分散板を設け、上段の分
散板と下段の分散板との間に開口率の大きな強度部材と
しての多孔板を設置して、該多孔板の穴に粒径の大きな
流動媒体を装填し、排ガスを導入したときに、上段の分
散板の下側を流動化した前記流動媒体が叩いて上段の分
散板の下側の詰まりを無くし、下段の分散板は孔径が大
きいので詰まらなくなるとともに、排ガス中の微粒子を
一次的に捕集してトータルの微粒子除去率を向上させる
ように構成されている。
めに、本発明の方法は、排ガスに含まれる微粒子を捕捉
する粒子が堆積した粒子層に、その下方から前記排ガス
を導入し、排ガスによって流動化された粒子層で前記微
粒子を捕捉して、微粒子を除去した処理ガスを上方に排
出する排ガス処理方法であって、粒子層の下側に、上段
の分散板と下段の孔径の大きな分散板を設け、上段の分
散板と下段の分散板との間に開口率の大きな強度部材と
しての多孔板を設置して、該多孔板の穴に粒径の大きな
流動媒体を装填し、排ガスを導入したときに、上段の分
散板の下側を流動化した前記流動媒体が叩いて上段の分
散板の下側の詰まりを無くし、下段の分散板は孔径が大
きいので詰まらなくなるとともに、排ガス中の微粒子を
一次的に捕集してトータルの微粒子除去率を向上させる
ように構成されている。
【0008】また、本発明の方法は、排ガスに含まれる
微粒子を捕捉する粒子が堆積した粒子層に、その下方か
ら前記排ガスを導入し、排ガスによって流動化された粒
子層で前記微粒子を捕捉して、微粒子を除去した処理ガ
スを上方に排出する排ガス処理方法であって、粒子層の
下側に、上段の分散板と下段の孔径の大きな分散板を設
け、上段の分散板と下段の分散板との間に開口率の大き
な強度部材としての多孔板及び流動層高を十分とるため
の側壁を設置して、下段の分散板上に粒径の大きな流動
媒体を装填し、排ガスを導入したときに、上段の分散板
の下側を流動化した前記流動媒体が叩いて上段の分散板
の下側の詰まりを無くし、下段の分散板は孔径が大きい
ので詰まらなくなるとともに、排ガス中の微粒子を一次
的に捕集してトータルの微粒子除去率を向上させるよう
に構成されている。
微粒子を捕捉する粒子が堆積した粒子層に、その下方か
ら前記排ガスを導入し、排ガスによって流動化された粒
子層で前記微粒子を捕捉して、微粒子を除去した処理ガ
スを上方に排出する排ガス処理方法であって、粒子層の
下側に、上段の分散板と下段の孔径の大きな分散板を設
け、上段の分散板と下段の分散板との間に開口率の大き
な強度部材としての多孔板及び流動層高を十分とるため
の側壁を設置して、下段の分散板上に粒径の大きな流動
媒体を装填し、排ガスを導入したときに、上段の分散板
の下側を流動化した前記流動媒体が叩いて上段の分散板
の下側の詰まりを無くし、下段の分散板は孔径が大きい
ので詰まらなくなるとともに、排ガス中の微粒子を一次
的に捕集してトータルの微粒子除去率を向上させるよう
に構成されている。
【0009】また、本発明の方法は、排ガスに含まれる
微粒子を捕捉する粒子が堆積した粒子層に、その下方か
ら前記排ガスを導入し、排ガスによって流動化された粒
子層で前記微粒子を捕捉して、微粒子を除去した処理ガ
スを上方に排出する排ガス処理方法であって、粒子層内
の一部を下側に開口を有し、上方に行くに従って粒子層
の断面積が増大するように傾斜させた仕切部材により区
分し、仕切部材と壁面で囲まれた区画の粒子層下側の分
散板開孔率をそれ以外の分散板開孔率より小さく設定す
るか、あるいは分散板の一部の孔を塞ぐか、あるいは仕
切部材の傾斜角、仕切部材と壁面の距離を調整して、前
記区画の粒子層を移動層とし、該粒子層内に加熱手段を
設置して粒子表面に付着した微粒子を燃焼させ粒子を再
生することを特徴としている。
微粒子を捕捉する粒子が堆積した粒子層に、その下方か
ら前記排ガスを導入し、排ガスによって流動化された粒
子層で前記微粒子を捕捉して、微粒子を除去した処理ガ
スを上方に排出する排ガス処理方法であって、粒子層内
の一部を下側に開口を有し、上方に行くに従って粒子層
の断面積が増大するように傾斜させた仕切部材により区
分し、仕切部材と壁面で囲まれた区画の粒子層下側の分
散板開孔率をそれ以外の分散板開孔率より小さく設定す
るか、あるいは分散板の一部の孔を塞ぐか、あるいは仕
切部材の傾斜角、仕切部材と壁面の距離を調整して、前
記区画の粒子層を移動層とし、該粒子層内に加熱手段を
設置して粒子表面に付着した微粒子を燃焼させ粒子を再
生することを特徴としている。
【0010】また、本発明の方法は、排ガスに含まれる
微粒子を捕捉する粒子が堆積した粒子層に、その下方か
ら前記排ガスを導入し、排ガスによって流動化された粒
子層で前記微粒子を捕捉して、微粒子を除去した処理ガ
スを上方に排出する排ガス処理方法であって、粒子層下
側における分散板の隅部の孔の一部を塞ぐことにより、
粒子層の一部に移動層を形成させ、該移動層部分に加熱
手段を設置して粒子表面に付着した微粒子を燃焼させ粒
子を再生することを特徴としている。
微粒子を捕捉する粒子が堆積した粒子層に、その下方か
ら前記排ガスを導入し、排ガスによって流動化された粒
子層で前記微粒子を捕捉して、微粒子を除去した処理ガ
スを上方に排出する排ガス処理方法であって、粒子層下
側における分散板の隅部の孔の一部を塞ぐことにより、
粒子層の一部に移動層を形成させ、該移動層部分に加熱
手段を設置して粒子表面に付着した微粒子を燃焼させ粒
子を再生することを特徴としている。
【0011】また、本発明の方法は、排ガスに含まれる
微粒子を捕捉する粒子が堆積した粒子層に、その下方か
ら前記排ガスを導入し、排ガスによって流動化された粒
子層で前記微粒子を捕捉して、微粒子を除去した処理ガ
スを上方に排出する排ガス処理方法であって、粒子層内
の一部を下側に開口を有する仕切部材により区分し、仕
切部材と壁面で囲まれた区画の上方に行くに従って粒子
層の断面積が増大するように仕切部材を傾斜させて、前
記区画の粒子層を移動層とするか、又は/及び壁面の一
部を粒子層の上方に行くに従って外側に拡がるように傾
斜させて、傾斜壁面近傍の粒子層を移動層とし、移動層
部分に加熱手段を設置して粒子表面に付着した微粒子を
燃焼させ粒子を再生することを特徴としている。
微粒子を捕捉する粒子が堆積した粒子層に、その下方か
ら前記排ガスを導入し、排ガスによって流動化された粒
子層で前記微粒子を捕捉して、微粒子を除去した処理ガ
スを上方に排出する排ガス処理方法であって、粒子層内
の一部を下側に開口を有する仕切部材により区分し、仕
切部材と壁面で囲まれた区画の上方に行くに従って粒子
層の断面積が増大するように仕切部材を傾斜させて、前
記区画の粒子層を移動層とするか、又は/及び壁面の一
部を粒子層の上方に行くに従って外側に拡がるように傾
斜させて、傾斜壁面近傍の粒子層を移動層とし、移動層
部分に加熱手段を設置して粒子表面に付着した微粒子を
燃焼させ粒子を再生することを特徴としている。
【0012】また、本発明の方法は、排ガスに含まれる
微粒子を捕捉する粒子が堆積した粒子層に、その下方か
ら前記排ガスを導入し、排ガスによって流動化された粒
子層で前記微粒子を捕捉して、微粒子を除去した処理ガ
スを上方に排出する排ガス処理方法であって、底面に分
散板を配し内部に粒子層を装填した内槽を、排ガス入口
を備えた外槽内に設置し、外槽の上部に排ガス出口を備
えた上蓋を設置し、導入した排ガスを外槽と内槽の間で
下降させた後に分散板に通し、内槽の粒子層で流動層を
形成させて排ガス中の微粒子を除去し、処理ガスを内槽
から上蓋に流して排出することを特徴としている。上記
の方法においては、複数の内槽を外槽内に並列に設置し
てもよい。
微粒子を捕捉する粒子が堆積した粒子層に、その下方か
ら前記排ガスを導入し、排ガスによって流動化された粒
子層で前記微粒子を捕捉して、微粒子を除去した処理ガ
スを上方に排出する排ガス処理方法であって、底面に分
散板を配し内部に粒子層を装填した内槽を、排ガス入口
を備えた外槽内に設置し、外槽の上部に排ガス出口を備
えた上蓋を設置し、導入した排ガスを外槽と内槽の間で
下降させた後に分散板に通し、内槽の粒子層で流動層を
形成させて排ガス中の微粒子を除去し、処理ガスを内槽
から上蓋に流して排出することを特徴としている。上記
の方法においては、複数の内槽を外槽内に並列に設置し
てもよい。
【0013】本発明の排ガス処理装置は、排ガスに含ま
れる微粒子を捕捉するための粒子からなる粒子層の下側
に、上段の分散板と下段の孔径が大きい分散板が設けら
れ、上段の分散板と下段の分散板との間に開口率の大き
な強度部材としての多孔板が設置されて、該多孔板の穴
に粒径の大きな流動媒体が装填され、下段の分散板の下
方から排ガスが導入され、上段の分散板の上側の粒子層
が流動層となって排ガス中の微粒子が捕捉され処理ガス
が上方に排出されるとともに、上段の分散板の下側が流
動化した前記粒径の大きな流動媒体によって叩かれ詰ま
りを除去できるようにしたことを特徴としている。
れる微粒子を捕捉するための粒子からなる粒子層の下側
に、上段の分散板と下段の孔径が大きい分散板が設けら
れ、上段の分散板と下段の分散板との間に開口率の大き
な強度部材としての多孔板が設置されて、該多孔板の穴
に粒径の大きな流動媒体が装填され、下段の分散板の下
方から排ガスが導入され、上段の分散板の上側の粒子層
が流動層となって排ガス中の微粒子が捕捉され処理ガス
が上方に排出されるとともに、上段の分散板の下側が流
動化した前記粒径の大きな流動媒体によって叩かれ詰ま
りを除去できるようにしたことを特徴としている。
【0014】また、本発明の装置は、排ガスに含まれる
微粒子を捕捉するための粒子からなる粒子層の下側に、
上段の分散板と下段の孔径が大きい分散板が設けられ、
上段の分散板と下段の分散板との間に開口率の大きな強
度部材としての多孔板及び流動層高を十分とるための側
壁が設置されて、下段の分散板の上に粒径の大きな流動
媒体が装填され、下段の分散板の下方から排ガスが導入
され、上段の分散板の上側の粒子層が流動層となって排
ガス中の微粒子が捕捉され処理ガスが上方に排出される
とともに、上段の分散板の下側が流動化した前記粒径の
大きな流動媒体によって叩かれ詰まりを除去できるよう
にしたことを特徴としている。これらの装置において
は、装置本体の長手方向に補強用支え棒を設けて、補強
用支え棒の上に、上段の分散板とこれを補強する部材で
ある多孔板及び下段の分散板からなる分散板構造を載せ
ることが好ましい。
微粒子を捕捉するための粒子からなる粒子層の下側に、
上段の分散板と下段の孔径が大きい分散板が設けられ、
上段の分散板と下段の分散板との間に開口率の大きな強
度部材としての多孔板及び流動層高を十分とるための側
壁が設置されて、下段の分散板の上に粒径の大きな流動
媒体が装填され、下段の分散板の下方から排ガスが導入
され、上段の分散板の上側の粒子層が流動層となって排
ガス中の微粒子が捕捉され処理ガスが上方に排出される
とともに、上段の分散板の下側が流動化した前記粒径の
大きな流動媒体によって叩かれ詰まりを除去できるよう
にしたことを特徴としている。これらの装置において
は、装置本体の長手方向に補強用支え棒を設けて、補強
用支え棒の上に、上段の分散板とこれを補強する部材で
ある多孔板及び下段の分散板からなる分散板構造を載せ
ることが好ましい。
【0015】また、上記の装置において、エッチング加
工により孔径が0.3〜1mmである無数の小孔をあけた
分散板を用いた流動層式排ガス処理装置とすることが好
ましい。また、上段の分散板の下側の流動媒体は、径が
1.5〜10mm、かさ密度0.1〜1g/ccの中空球、
あるいは径が0.5〜2mm、かさ密度3〜4g/ccのア
ルミナボールで、下段の分散板上に装填され、下段の分
散板の孔径は0.5〜5mmである。この場合、中空球か
らなる流動媒体は、球径(mm)×かさ密度(g/cc)が
1〜3、望ましくは1.5〜2.0の範囲である。
工により孔径が0.3〜1mmである無数の小孔をあけた
分散板を用いた流動層式排ガス処理装置とすることが好
ましい。また、上段の分散板の下側の流動媒体は、径が
1.5〜10mm、かさ密度0.1〜1g/ccの中空球、
あるいは径が0.5〜2mm、かさ密度3〜4g/ccのア
ルミナボールで、下段の分散板上に装填され、下段の分
散板の孔径は0.5〜5mmである。この場合、中空球か
らなる流動媒体は、球径(mm)×かさ密度(g/cc)が
1〜3、望ましくは1.5〜2.0の範囲である。
【0016】また、本発明の装置は、排ガスに含まれる
微粒子を捕捉するための粒子からなる粒子層と、粒子層
下側の分散板とが装置本体内に設けられ、分散板の下方
から排ガスが導入されて粒子層が流動層となって排ガス
中の微粒子が捕捉され処理ガスが上方に排出される排ガ
ス処理装置であって、粒子層内の一部が下側に開口を有
し上方に行くに従って粒子層の断面積が増大するように
傾斜させた仕切部材で区分され、仕切部材と装置壁面で
囲まれた区画の粒子層下側の分散板開孔率がそれ以外の
分散板開孔率より小さく設定されるか、あるいは分散板
の一部の孔が塞がれるか、あるいは仕切部材の傾斜角、
仕切部材と装置壁面の距離が調整されて、前記区画の粒
子層が移動層を形成するようにし、該粒子層内に設置し
た電気ヒータで粒子表面に付着した微粒子を燃焼させ粒
子を再生するようにしたことを特徴としている。このよ
うに、仕切部材と装置壁面で囲まれた区画の上方に行く
に従って粒子層の断面積が増大するように、仕切部材を
傾斜させる。
微粒子を捕捉するための粒子からなる粒子層と、粒子層
下側の分散板とが装置本体内に設けられ、分散板の下方
から排ガスが導入されて粒子層が流動層となって排ガス
中の微粒子が捕捉され処理ガスが上方に排出される排ガ
ス処理装置であって、粒子層内の一部が下側に開口を有
し上方に行くに従って粒子層の断面積が増大するように
傾斜させた仕切部材で区分され、仕切部材と装置壁面で
囲まれた区画の粒子層下側の分散板開孔率がそれ以外の
分散板開孔率より小さく設定されるか、あるいは分散板
の一部の孔が塞がれるか、あるいは仕切部材の傾斜角、
仕切部材と装置壁面の距離が調整されて、前記区画の粒
子層が移動層を形成するようにし、該粒子層内に設置し
た電気ヒータで粒子表面に付着した微粒子を燃焼させ粒
子を再生するようにしたことを特徴としている。このよ
うに、仕切部材と装置壁面で囲まれた区画の上方に行く
に従って粒子層の断面積が増大するように、仕切部材を
傾斜させる。
【0017】また、本発明の装置は、排ガスに含まれる
微粒子を捕捉するための粒子からなる粒子層と、粒子層
下側の分散板とが装置本体内に設けられ、分散板の下方
から排ガスが導入されて粒子層が流動層となって排ガス
中の微粒子が捕捉され処理ガスが上方に排出される排ガ
ス処理装置であって、粒子層内の一部が下側に開口を有
する仕切部材で区分され、仕切部材と装置壁面で囲まれ
た区画の上方に行くに従って粒子層の断面積が増大する
ように仕切部材を傾斜させて、前記区画の粒子層が移動
層を形成するようにし、該粒子層内に設置した電気ヒー
タで粒子表面に付着した微粒子を燃焼させ粒子を再生す
るようにしたことを特徴としている。これらの装置にお
いては、仕切部材の傾斜角度を水平面に対して65〜8
0度とすることが好ましい。
微粒子を捕捉するための粒子からなる粒子層と、粒子層
下側の分散板とが装置本体内に設けられ、分散板の下方
から排ガスが導入されて粒子層が流動層となって排ガス
中の微粒子が捕捉され処理ガスが上方に排出される排ガ
ス処理装置であって、粒子層内の一部が下側に開口を有
する仕切部材で区分され、仕切部材と装置壁面で囲まれ
た区画の上方に行くに従って粒子層の断面積が増大する
ように仕切部材を傾斜させて、前記区画の粒子層が移動
層を形成するようにし、該粒子層内に設置した電気ヒー
タで粒子表面に付着した微粒子を燃焼させ粒子を再生す
るようにしたことを特徴としている。これらの装置にお
いては、仕切部材の傾斜角度を水平面に対して65〜8
0度とすることが好ましい。
【0018】また、これらの装置においては、粒子層の
静止層高をLcとすると、仕切部材の設置高さh=(1
〜1.5)Lc、仕切部材下側の開口部の隙間距離d=
(0.1〜0.5)Lc、仕切部材下端部と装置壁面と
の隙間幅w=(0.1〜0.5)Lc、電気ヒータの設
置高さTh=(0.5〜1.0)Lcとすることが好まし
い。
静止層高をLcとすると、仕切部材の設置高さh=(1
〜1.5)Lc、仕切部材下側の開口部の隙間距離d=
(0.1〜0.5)Lc、仕切部材下端部と装置壁面と
の隙間幅w=(0.1〜0.5)Lc、電気ヒータの設
置高さTh=(0.5〜1.0)Lcとすることが好まし
い。
【0019】また、本発明の装置は、排ガスに含まれる
微粒子を捕捉するための粒子からなる粒子層と、粒子層
下側の分散板とが装置本体内に設けられ、分散板の下方
から排ガスが導入されて粒子層が流動層となって排ガス
中の微粒子が捕捉され処理ガスが上方に排出される排ガ
ス処理装置であって、分散板の隅部に一部分散板の穴を
塞いだ区画を作製して、粒子層の一部が移動層を形成す
るようにし、移動層を形成する粒子層内に設置した電気
ヒータで粒子表面に付着した微粒子を燃焼させ粒子を再
生するようにしたことを特徴としている。
微粒子を捕捉するための粒子からなる粒子層と、粒子層
下側の分散板とが装置本体内に設けられ、分散板の下方
から排ガスが導入されて粒子層が流動層となって排ガス
中の微粒子が捕捉され処理ガスが上方に排出される排ガ
ス処理装置であって、分散板の隅部に一部分散板の穴を
塞いだ区画を作製して、粒子層の一部が移動層を形成す
るようにし、移動層を形成する粒子層内に設置した電気
ヒータで粒子表面に付着した微粒子を燃焼させ粒子を再
生するようにしたことを特徴としている。
【0020】また、これらの装置においては、粒子層が
排ガスによって流動層を形成している時に再生操作が行
われるように、排ガスの排出源であるエンジンの回転数
及び/又は流動層温度が所定値以上(例えば、200℃
以上)でオンとなり、エンジンの回転数及び/又は流動
層温度が所定値以下になるとオフになるスイッチを電気
ヒータに接続することが好ましい。また、排ガスの排出
源であるエンジンがかかるとオンになり、エンジンが切
れるとオフになるスイッチを電気ヒータに接続してもよ
い。また、これらの装置において、電気ヒータを粒子層
内に千鳥状に配置してもよい。
排ガスによって流動層を形成している時に再生操作が行
われるように、排ガスの排出源であるエンジンの回転数
及び/又は流動層温度が所定値以上(例えば、200℃
以上)でオンとなり、エンジンの回転数及び/又は流動
層温度が所定値以下になるとオフになるスイッチを電気
ヒータに接続することが好ましい。また、排ガスの排出
源であるエンジンがかかるとオンになり、エンジンが切
れるとオフになるスイッチを電気ヒータに接続してもよ
い。また、これらの装置において、電気ヒータを粒子層
内に千鳥状に配置してもよい。
【0021】また、これらの装置においては、分散板の
下側の装置本体内に、排ガス入口から導入された排ガス
を衝突させて拡散させ均一に分散板に導入するためのガ
イドベーンを設けることが好ましい。また、これらの装
置においては、分散板下側の風箱の排ガス入口部にヘッ
ダとディフューザを組み込み、流動化状態を均一にする
ことが好ましい。
下側の装置本体内に、排ガス入口から導入された排ガス
を衝突させて拡散させ均一に分散板に導入するためのガ
イドベーンを設けることが好ましい。また、これらの装
置においては、分散板下側の風箱の排ガス入口部にヘッ
ダとディフューザを組み込み、流動化状態を均一にする
ことが好ましい。
【0022】また、本発明の装置は、排ガスに含まれる
微粒子を捕捉するための粒子からなる粒子層が底面に分
散板を備えた内槽に装填され、該内槽が排ガス入口を備
えた外槽内に設置され、外槽の上部に排ガス出口を備え
た上蓋が設置された排ガス処理装置であって、排ガス入
口から導入された排ガスが外槽と内槽の間を下降してか
ら分散板に導入され、内槽の粒子層で流動層が形成され
て排ガス中の微粒子が除去され、処理ガスが上蓋から排
出されるようにしたことを特徴としている。上記の装置
においては、複数の内槽を並列に外槽内に設置した構成
としてもよい。
微粒子を捕捉するための粒子からなる粒子層が底面に分
散板を備えた内槽に装填され、該内槽が排ガス入口を備
えた外槽内に設置され、外槽の上部に排ガス出口を備え
た上蓋が設置された排ガス処理装置であって、排ガス入
口から導入された排ガスが外槽と内槽の間を下降してか
ら分散板に導入され、内槽の粒子層で流動層が形成され
て排ガス中の微粒子が除去され、処理ガスが上蓋から排
出されるようにしたことを特徴としている。上記の装置
においては、複数の内槽を並列に外槽内に設置した構成
としてもよい。
【0023】また、これらの装置においては、粒子層の
上方に、流動化した粒子の飛散を防止するための多孔板
からなる飛散防止板を設ける。この場合、飛散防止板
は、エッチング加工により無数の小孔をあけた多孔板と
することが好ましい。また、分散板の下側面に燃焼触媒
を担持させて、分散板下側に付着した粘着性の高い未燃
物を低温で燃焼させる構成としてもよい。
上方に、流動化した粒子の飛散を防止するための多孔板
からなる飛散防止板を設ける。この場合、飛散防止板
は、エッチング加工により無数の小孔をあけた多孔板と
することが好ましい。また、分散板の下側面に燃焼触媒
を担持させて、分散板下側に付着した粘着性の高い未燃
物を低温で燃焼させる構成としてもよい。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明するが、本発明は下記の実施の形態に何ら限定さ
れるものではなく、適宜変更して実施することが可能な
ものである。図1〜図4は、本発明の実施の第1形態に
よる排ガス処理装置の一例を示している。図1、図2に
示すように、粒子径0.2〜1mmのアルミナ、シリカ、
ゼオライト、ジルコニア、焼結金属等からなる粒子が堆
積した粒子層10が、エッチング加工により無数の小孔
を形成させた分散板12の上に設けられ、エッチング加
工した分散板12の下に、静止層高1〜100mmで、流
動媒体の径が1.5〜10mm、かさ密度0.1〜1g/c
cの真鍮、アルミニウム、ステンレス等からなる中空
球、あるいは径が0.5〜2mm、かさ密度3〜4g/cc
のアルミナボールで構成された粒子層14が、開口率の
大きな強度部材としての多孔板16の穴の中に設けられ
ている。その下の分散板18は穴径が0.5〜5mm程度
であり、圧力損失は上の分散板12に比べ若干小さいも
のとなっている。なお、分散板12、18は鉄、ステン
レス等で構成されている。また、図3に示すように、分
散板12と分散板18との間に、流動層高を十分にとる
ための側壁19を多孔板16に加えて設置し、分散板1
8の上に粒子層14を形成させる構成としてもよい。
て説明するが、本発明は下記の実施の形態に何ら限定さ
れるものではなく、適宜変更して実施することが可能な
ものである。図1〜図4は、本発明の実施の第1形態に
よる排ガス処理装置の一例を示している。図1、図2に
示すように、粒子径0.2〜1mmのアルミナ、シリカ、
ゼオライト、ジルコニア、焼結金属等からなる粒子が堆
積した粒子層10が、エッチング加工により無数の小孔
を形成させた分散板12の上に設けられ、エッチング加
工した分散板12の下に、静止層高1〜100mmで、流
動媒体の径が1.5〜10mm、かさ密度0.1〜1g/c
cの真鍮、アルミニウム、ステンレス等からなる中空
球、あるいは径が0.5〜2mm、かさ密度3〜4g/cc
のアルミナボールで構成された粒子層14が、開口率の
大きな強度部材としての多孔板16の穴の中に設けられ
ている。その下の分散板18は穴径が0.5〜5mm程度
であり、圧力損失は上の分散板12に比べ若干小さいも
のとなっている。なお、分散板12、18は鉄、ステン
レス等で構成されている。また、図3に示すように、分
散板12と分散板18との間に、流動層高を十分にとる
ための側壁19を多孔板16に加えて設置し、分散板1
8の上に粒子層14を形成させる構成としてもよい。
【0025】排ガス導入口20から風箱22に導入され
た排ガスは、ガイドベーン24に衝突して拡散され、下
方から均一に分散板18に入る。なお、ガイドベーン2
4aのような形状とすることも可能である。分散板12
上側の粒子層10は排ガス流量が流動化開始速度以上に
なると流動層となり、排ガス中のPMは流動層を形成し
た粒子層10で捕捉される。排ガスの排出源であるエン
ジンからのPM排出量と排ガス温度/流動層温度に依存
する燃焼量は300〜450℃程度でバランスすると想
定されており、排ガス温度が300〜450℃以下の場
合は、粒子層10内に設置した電気ヒータ26(グロー
プラグ、シースヒータなど)で粒子を昇温して、粒子に
付着したPMを燃焼させ再生を行う。PMが除去された
排ガスは、粒子(流動媒体)の飛散防止板28を通って
排ガス排出口30から排出される。飛散防止板28とし
ては、流動媒体の最も小さい粒径より若干小さい径の穴
をエッチング加工により無数にあけたもので、圧力損失
が極めて小さく飛散し衝突した流動媒体をはじき返す多
孔板を使用する。
た排ガスは、ガイドベーン24に衝突して拡散され、下
方から均一に分散板18に入る。なお、ガイドベーン2
4aのような形状とすることも可能である。分散板12
上側の粒子層10は排ガス流量が流動化開始速度以上に
なると流動層となり、排ガス中のPMは流動層を形成し
た粒子層10で捕捉される。排ガスの排出源であるエン
ジンからのPM排出量と排ガス温度/流動層温度に依存
する燃焼量は300〜450℃程度でバランスすると想
定されており、排ガス温度が300〜450℃以下の場
合は、粒子層10内に設置した電気ヒータ26(グロー
プラグ、シースヒータなど)で粒子を昇温して、粒子に
付着したPMを燃焼させ再生を行う。PMが除去された
排ガスは、粒子(流動媒体)の飛散防止板28を通って
排ガス排出口30から排出される。飛散防止板28とし
ては、流動媒体の最も小さい粒径より若干小さい径の穴
をエッチング加工により無数にあけたもので、圧力損失
が極めて小さく飛散し衝突した流動媒体をはじき返す多
孔板を使用する。
【0026】また、孔径の大きな分散板18から粒子層
14に入った排ガスによって粒子層14の流動媒体が流
動化され、上段の孔径の小さい分散板12の下側を流動
層を形成した粒子層14の流動媒体が叩くことで、分散
板12の穴の裏側でPMが詰まらないようにする。ま
た、流動層を形成した粒子層14でPMが一次的に捕集
され、トータルのPM除去率が向上する。なお、下段の
分散板18は、穴径が大きいものとすることができるの
で、詰まりは生じない。また、上段の分散板12の下側
にPtなどの燃焼触媒を担持させて、PMを低温で燃焼
させるようにしてもよい。
14に入った排ガスによって粒子層14の流動媒体が流
動化され、上段の孔径の小さい分散板12の下側を流動
層を形成した粒子層14の流動媒体が叩くことで、分散
板12の穴の裏側でPMが詰まらないようにする。ま
た、流動層を形成した粒子層14でPMが一次的に捕集
され、トータルのPM除去率が向上する。なお、下段の
分散板18は、穴径が大きいものとすることができるの
で、詰まりは生じない。また、上段の分散板12の下側
にPtなどの燃焼触媒を担持させて、PMを低温で燃焼
させるようにしてもよい。
【0027】また、エッチング加工した分散板12は板
厚が薄く強度が高くないので、前記の多孔板16、分散
板18が補強部材としての役割も果たしている。分散板
12、多孔板16及び分散板18からなる構造体は、図
4の平面図に示すように、装置本体32の長手方向に設
けられた補強用支え棒34の上に載せて設置することが
できる。なお、分散板12としては、エッチング加工に
よる分散板の他に、厚さ1mm以上の鉄やステンレスの板
に幅数百ミクロン程度の細長いスリット状の穴をあけた
もの、厚さ1mm程度の板にレーザで無数の丸穴をあけた
もの等が使用可能である。
厚が薄く強度が高くないので、前記の多孔板16、分散
板18が補強部材としての役割も果たしている。分散板
12、多孔板16及び分散板18からなる構造体は、図
4の平面図に示すように、装置本体32の長手方向に設
けられた補強用支え棒34の上に載せて設置することが
できる。なお、分散板12としては、エッチング加工に
よる分散板の他に、厚さ1mm以上の鉄やステンレスの板
に幅数百ミクロン程度の細長いスリット状の穴をあけた
もの、厚さ1mm程度の板にレーザで無数の丸穴をあけた
もの等が使用可能である。
【0028】図5は、本発明の実施の第1形態による排
ガス処理装置の他の例を示しており、排ガス導入口20
から導入された排ガスを衝突させて拡散させ均一に分散
板18、12に導入するためのガイドベーン36が、風
箱22の長手方向に延設された構成である。延設された
部分はディフューザとすることができる。他の構成及び
作用は図1〜図4と同様である。分散板下の風箱内に、
排ガス入口部が接続されたヘッダとディフューザを組み
込んだ構成が図6、図7である。図6、図7は分散板下
側の概略平面図であり、図6のように排ガス導入口20
aをヘッダ80に接続した構成や、図7のように排ガス
導入口20bをヘッダ80aに接続した構成とすること
ができ、ディフューザ82によって排ガス流れが調整さ
れ、流動化状態が良好に維持される。
ガス処理装置の他の例を示しており、排ガス導入口20
から導入された排ガスを衝突させて拡散させ均一に分散
板18、12に導入するためのガイドベーン36が、風
箱22の長手方向に延設された構成である。延設された
部分はディフューザとすることができる。他の構成及び
作用は図1〜図4と同様である。分散板下の風箱内に、
排ガス入口部が接続されたヘッダとディフューザを組み
込んだ構成が図6、図7である。図6、図7は分散板下
側の概略平面図であり、図6のように排ガス導入口20
aをヘッダ80に接続した構成や、図7のように排ガス
導入口20bをヘッダ80aに接続した構成とすること
ができ、ディフューザ82によって排ガス流れが調整さ
れ、流動化状態が良好に維持される。
【0029】図8、図9は、本発明の実施の第2形態に
よる排ガス処理装置の一例を示している。粒子径0.3
〜1mmのアルミナ、シリカ、ゼオライト、ジルコニア、
焼結金属等からなる粒子が堆積した粒子層38と、その
下側の分散板40とが装置本体42内に設けられ、排ガ
ス導入口44から風箱46に導入された排ガスは分散板
40に入る。粒子層38は排ガス量が多くなると流動層
となり、排ガス中のPMは流動層を形成した粒子層38
で捕捉される。PMが除去された排ガスは、粒子(流動
媒体)の飛散防止板48を通って排ガス排出口50から
排出される。
よる排ガス処理装置の一例を示している。粒子径0.3
〜1mmのアルミナ、シリカ、ゼオライト、ジルコニア、
焼結金属等からなる粒子が堆積した粒子層38と、その
下側の分散板40とが装置本体42内に設けられ、排ガ
ス導入口44から風箱46に導入された排ガスは分散板
40に入る。粒子層38は排ガス量が多くなると流動層
となり、排ガス中のPMは流動層を形成した粒子層38
で捕捉される。PMが除去された排ガスは、粒子(流動
媒体)の飛散防止板48を通って排ガス排出口50から
排出される。
【0030】粒子層38の一部は仕切板52により下側
に開口を有するように区分され、仕切板52と装置本体
42の壁面54で囲まれた区画の分散板40の開孔率を
それ以外の分散板40の開孔率より小さく設定して、仕
切板52と壁面54で囲まれた区画の粒子層38aが移
動層を形成するようにし、この粒子層38a内に粒子を
加熱するための電気ヒータ56(グロープラグ、シース
ヒータなど)を設置する。仕切板52の高さは流動層界
面と同程度又はそれより高くし、粒子層38a下側の分
散板開孔率を小さく設定する。例えば、粒子層38の静
止層高Lcに対して、仕切板52の高さhは(1〜1.
5)Lcであり、また、孔径0.3〜1mmの分散板40
で粒子層38a下側が10〜20mmのピッチ、粒子層3
8下側が2〜10mmのピッチであれば分散板開孔率を上
記のように設定できる。また、仕切板52は、粒子層3
8aの上方に行くに従って断面積が増大するように傾斜
しており、傾斜角度θは65〜80度、望ましくは75
度程度である。なお、仕切板52下側の開口部の隙間距
離dは(0.1〜0.5)Lc、仕切板52下端部と壁
面54との隙間幅wは(0.1〜0.5)Lc、電気ヒ
ータ56の設置高さThは(0.5〜1.0)Lcとする
ことが好ましい。電気ヒータ56は、例えば、千鳥状に
配置することができる。
に開口を有するように区分され、仕切板52と装置本体
42の壁面54で囲まれた区画の分散板40の開孔率を
それ以外の分散板40の開孔率より小さく設定して、仕
切板52と壁面54で囲まれた区画の粒子層38aが移
動層を形成するようにし、この粒子層38a内に粒子を
加熱するための電気ヒータ56(グロープラグ、シース
ヒータなど)を設置する。仕切板52の高さは流動層界
面と同程度又はそれより高くし、粒子層38a下側の分
散板開孔率を小さく設定する。例えば、粒子層38の静
止層高Lcに対して、仕切板52の高さhは(1〜1.
5)Lcであり、また、孔径0.3〜1mmの分散板40
で粒子層38a下側が10〜20mmのピッチ、粒子層3
8下側が2〜10mmのピッチであれば分散板開孔率を上
記のように設定できる。また、仕切板52は、粒子層3
8aの上方に行くに従って断面積が増大するように傾斜
しており、傾斜角度θは65〜80度、望ましくは75
度程度である。なお、仕切板52下側の開口部の隙間距
離dは(0.1〜0.5)Lc、仕切板52下端部と壁
面54との隙間幅wは(0.1〜0.5)Lc、電気ヒ
ータ56の設置高さThは(0.5〜1.0)Lcとする
ことが好ましい。電気ヒータ56は、例えば、千鳥状に
配置することができる。
【0031】上記のような構成とすることで、粒子層で
粒子の内部循環が起こり、粒子層38aでは移動層が形
成されることになる。粒子層38a内に設置した電気ヒ
ータ56を表面温度600〜900℃程度に加熱し、こ
れに接した粒子表面のPMを燃焼させて粒子を再生す
る。再生操作(電気ヒータ56への通電)は、粒子層3
8が流動層を形成して粒子内部循環がある時に行えば良
いので、排ガスの排出源であるエンジンの回転数をRP
M計58で計測したり、粒子層38(流動層)の温度を
層温度計60で計測して、エンジン回転数が所定値以上
(例えば、1400rpm以上)の時、及び/又は流動層
温度が所定値以上(例えば、200℃以上)の時に電気
ヒータ56のスイッチ62がオンとなり、エンジンの回
転数が所定値以下になったり、流動層温度が所定値以下
(例えば、200℃以下)になると電気ヒータ56のス
イッチ62がオフとなるように制御すればよい。また、
より簡易な制御として、エンジンがかかると電気ヒータ
56のスイッチ62がオンになり、エンジンが切れると
電気ヒータ56のスイッチ62がオフになるようにして
もよい。この構成では少量の粒子(流動媒体)と少量の
排ガスを昇温させればよいので、電気ヒータ56の電源
は蓄電池64(車両に搭載されたバッテリなど)で賄う
ことができる。なお、排ガスの温度が低くてもある程度
のPMは燃焼する。排ガスの排出源であるエンジンから
のPM排出量と排ガス温度に依存する燃焼量は、排ガス
温度が300〜450℃程度でバランスすると考えられ
る。
粒子の内部循環が起こり、粒子層38aでは移動層が形
成されることになる。粒子層38a内に設置した電気ヒ
ータ56を表面温度600〜900℃程度に加熱し、こ
れに接した粒子表面のPMを燃焼させて粒子を再生す
る。再生操作(電気ヒータ56への通電)は、粒子層3
8が流動層を形成して粒子内部循環がある時に行えば良
いので、排ガスの排出源であるエンジンの回転数をRP
M計58で計測したり、粒子層38(流動層)の温度を
層温度計60で計測して、エンジン回転数が所定値以上
(例えば、1400rpm以上)の時、及び/又は流動層
温度が所定値以上(例えば、200℃以上)の時に電気
ヒータ56のスイッチ62がオンとなり、エンジンの回
転数が所定値以下になったり、流動層温度が所定値以下
(例えば、200℃以下)になると電気ヒータ56のス
イッチ62がオフとなるように制御すればよい。また、
より簡易な制御として、エンジンがかかると電気ヒータ
56のスイッチ62がオンになり、エンジンが切れると
電気ヒータ56のスイッチ62がオフになるようにして
もよい。この構成では少量の粒子(流動媒体)と少量の
排ガスを昇温させればよいので、電気ヒータ56の電源
は蓄電池64(車両に搭載されたバッテリなど)で賄う
ことができる。なお、排ガスの温度が低くてもある程度
のPMは燃焼する。排ガスの排出源であるエンジンから
のPM排出量と排ガス温度に依存する燃焼量は、排ガス
温度が300〜450℃程度でバランスすると考えられ
る。
【0032】移動層を形成させる部分は、粒子層の角部
など一部でよく、例えば、図10〜図13の平面図に示
すような構成で移動層の区画を作ることができる。52
a、52b、52c、52dは仕切板である。また、上
述したように、移動層部分の分散板開孔率を流動層部分
の分散板開孔率より小さく設定する方法としては、分散
板の穴径は同じとして移動層部分の穴のピッチを大きく
とったり、あるいは、図13に示すように、分散板40
bの移動層部分の一部の穴を塞ぐ方法、あるいは、仕切
板の傾斜角度、仕切板と側壁との距離を調整して分散板
には手を加えない方法などが考えられる。
など一部でよく、例えば、図10〜図13の平面図に示
すような構成で移動層の区画を作ることができる。52
a、52b、52c、52dは仕切板である。また、上
述したように、移動層部分の分散板開孔率を流動層部分
の分散板開孔率より小さく設定する方法としては、分散
板の穴径は同じとして移動層部分の穴のピッチを大きく
とったり、あるいは、図13に示すように、分散板40
bの移動層部分の一部の穴を塞ぐ方法、あるいは、仕切
板の傾斜角度、仕切板と側壁との距離を調整して分散板
には手を加えない方法などが考えられる。
【0033】図15は、本発明の実施の第2形態による
排ガス処理装置の他の例を示している。図15に示すよ
うに、流動層を形成する粒子層38の角部で一部分散板
40の穴を塞ぐだけでも、穴を塞いだ部分の上方の粒子
層38bが固定層となり、固定層を形成する粒子層38
bの上に、移動層を形成する粒子層38cができる。こ
の粒子層38cに電気ヒータ56(グロープラグ、シー
スヒータなど)を設置して再生操作を行えばよい。他の
構成及び作用は図8と同様である。
排ガス処理装置の他の例を示している。図15に示すよ
うに、流動層を形成する粒子層38の角部で一部分散板
40の穴を塞ぐだけでも、穴を塞いだ部分の上方の粒子
層38bが固定層となり、固定層を形成する粒子層38
bの上に、移動層を形成する粒子層38cができる。こ
の粒子層38cに電気ヒータ56(グロープラグ、シー
スヒータなど)を設置して再生操作を行えばよい。他の
構成及び作用は図8と同様である。
【0034】図16は、本発明の実施の第2形態による
排ガス処理装置のさらに他の例を示している。図16に
示すように、装置の壁面54aを分散板40より上の流
動層部で若干外側に傾斜させるだけでも、傾斜した壁面
54a近傍の粒子層38は移動層となるので、この部分
に電気ヒータ56(グロープラグ、シースヒータなど)
を設置して再生操作を行えばよい。他の構成及び作用は
図8と同様である。
排ガス処理装置のさらに他の例を示している。図16に
示すように、装置の壁面54aを分散板40より上の流
動層部で若干外側に傾斜させるだけでも、傾斜した壁面
54a近傍の粒子層38は移動層となるので、この部分
に電気ヒータ56(グロープラグ、シースヒータなど)
を設置して再生操作を行えばよい。他の構成及び作用は
図8と同様である。
【0035】図8〜図16に示す実施の第2形態におけ
る他の構成及び作用等は、実施の第1形態の場合と同様
である。また、実施の第2形態の構成に、前述した実施
の第1形態の構成を適用することも可能である。
る他の構成及び作用等は、実施の第1形態の場合と同様
である。また、実施の第2形態の構成に、前述した実施
の第1形態の構成を適用することも可能である。
【0036】図17、図18は、本発明の実施の第3形
態による排ガス処理装置の一例を示している。粒子径
0.2〜1mmのアルミナ、シリカ、ゼオライト、ジルコ
ニア、焼結金属等からなる粒子が堆積した粒子層66が
内槽68に設けられ、排ガス導入口70が外槽74に取
り付けられ、排ガス排出口72が外槽74上部の上蓋8
4に取り付けられ、排ガス導入口70から外槽74と内
槽68との間の排ガス通路75に導入された排ガスは、
排ガス通路75を下降して内槽68の底面に設けられた
分散板76に入る。粒子層66は排ガス量が多くなると
流動層となり、排ガス中のPMは流動層を形成した粒子
層66で捕捉される。PMが除去された排ガスは、粒子
(流動媒体)の飛散防止板78を通って排ガス排出口7
2から排出される。なお、粒子を昇温して再生操作を行
うための電気ヒータ(グロープラグ、シースヒータな
ど)は図示を省略している。
態による排ガス処理装置の一例を示している。粒子径
0.2〜1mmのアルミナ、シリカ、ゼオライト、ジルコ
ニア、焼結金属等からなる粒子が堆積した粒子層66が
内槽68に設けられ、排ガス導入口70が外槽74に取
り付けられ、排ガス排出口72が外槽74上部の上蓋8
4に取り付けられ、排ガス導入口70から外槽74と内
槽68との間の排ガス通路75に導入された排ガスは、
排ガス通路75を下降して内槽68の底面に設けられた
分散板76に入る。粒子層66は排ガス量が多くなると
流動層となり、排ガス中のPMは流動層を形成した粒子
層66で捕捉される。PMが除去された排ガスは、粒子
(流動媒体)の飛散防止板78を通って排ガス排出口7
2から排出される。なお、粒子を昇温して再生操作を行
うための電気ヒータ(グロープラグ、シースヒータな
ど)は図示を省略している。
【0037】図19、図20は、本発明の実施の第3形
態による排ガス処理装置の他の例を示している。本例
は、粒子層を装填した内槽を分割した構造であり、例え
ば、3個の内槽68a、68b、68cを排ガス導入口
70から排ガス排出口72に向かって外槽74内に設置
しており、粒子層を装填した内槽を並列に複数設置した
排ガス処理装置となっている。66a、66b、66c
は粒子層、76a、76b、76cは分散板である。内
槽を並列に分割して配置することで、同じ処理能力の内
槽1個を外槽内に設置するのに比べて強度が高くなり、
かつ、処理する排ガス量などに応じて設置する内槽の個
数を調整することができる。他の構成及び作用は図1
7、図18と同様である。
態による排ガス処理装置の他の例を示している。本例
は、粒子層を装填した内槽を分割した構造であり、例え
ば、3個の内槽68a、68b、68cを排ガス導入口
70から排ガス排出口72に向かって外槽74内に設置
しており、粒子層を装填した内槽を並列に複数設置した
排ガス処理装置となっている。66a、66b、66c
は粒子層、76a、76b、76cは分散板である。内
槽を並列に分割して配置することで、同じ処理能力の内
槽1個を外槽内に設置するのに比べて強度が高くなり、
かつ、処理する排ガス量などに応じて設置する内槽の個
数を調整することができる。他の構成及び作用は図1
7、図18と同様である。
【0038】図17〜図20に示す実施の第3形態にお
ける他の構成及び作用等は、実施の第1形態の場合と同
様である。また、実施の第3形態の構成に、前述した実
施の第1形態の構成及び/又は実施の第2形態の構成を
適用することも可能である。
ける他の構成及び作用等は、実施の第1形態の場合と同
様である。また、実施の第3形態の構成に、前述した実
施の第1形態の構成及び/又は実施の第2形態の構成を
適用することも可能である。
【0039】
【発明の効果】本発明は上記のように構成されているの
で、つぎのような効果を奏する。 (1) 流動層を利用した簡単な構造で、排気ガスに含
まれる固体炭素(すす)、SOF、サルフェートのよう
な微粒子(PM)を効率的に除去することができ、しか
も、装置のシンプル化、低コスト化を図ることができ
る。 (2) 流動層の分散板の下に孔径の大きな別の分散板
を設け、これら分散板の間に中空球又はアルミナボール
からなる粒径の大きな流動媒体を装填して二段流動層と
することにより、上段の分散板の下側を前記流動媒体が
叩いて上段の分散板の詰まりを無くすとともに、PMが
一次的に捕集されてトータルのPM除去率が向上する。 (3) エッチング加工により無数の小孔をあけた分散
板は、価格が安い上に、寸法精度が高い。また、板厚が
薄いため、上下から叩くと詰まりを除去できる。 (3) 粒子層の一部に移動層を形成させて移動層内に
電気ヒータ(グロープラグ、シースヒータなど)を設置
することにより、移動層に入ってきた粒子を昇温して付
着したPMを燃焼させ、粒子の再生を行うことができ
る。 (4) 流動層を形成する粒子層を内槽に置き、排ガス
の入口を外槽に取り付け、排気ガスが外槽と内槽の間を
下降した後、分散板に入る構造の2槽方式とすることも
可能であり、また、内槽を並列に分割した構造とするこ
ともできる。 (5) 分散板の下側に燃焼触媒を担持させる場合は、
分散板の裏側に付着した粘着性の高い未燃物を低温で燃
焼させ除去することができる。
で、つぎのような効果を奏する。 (1) 流動層を利用した簡単な構造で、排気ガスに含
まれる固体炭素(すす)、SOF、サルフェートのよう
な微粒子(PM)を効率的に除去することができ、しか
も、装置のシンプル化、低コスト化を図ることができ
る。 (2) 流動層の分散板の下に孔径の大きな別の分散板
を設け、これら分散板の間に中空球又はアルミナボール
からなる粒径の大きな流動媒体を装填して二段流動層と
することにより、上段の分散板の下側を前記流動媒体が
叩いて上段の分散板の詰まりを無くすとともに、PMが
一次的に捕集されてトータルのPM除去率が向上する。 (3) エッチング加工により無数の小孔をあけた分散
板は、価格が安い上に、寸法精度が高い。また、板厚が
薄いため、上下から叩くと詰まりを除去できる。 (3) 粒子層の一部に移動層を形成させて移動層内に
電気ヒータ(グロープラグ、シースヒータなど)を設置
することにより、移動層に入ってきた粒子を昇温して付
着したPMを燃焼させ、粒子の再生を行うことができ
る。 (4) 流動層を形成する粒子層を内槽に置き、排ガス
の入口を外槽に取り付け、排気ガスが外槽と内槽の間を
下降した後、分散板に入る構造の2槽方式とすることも
可能であり、また、内槽を並列に分割した構造とするこ
ともできる。 (5) 分散板の下側に燃焼触媒を担持させる場合は、
分散板の裏側に付着した粘着性の高い未燃物を低温で燃
焼させ除去することができる。
【図1】本発明の実施の第1形態による排ガス処理装置
の一例を示す断面構成説明図である。
の一例を示す断面構成説明図である。
【図2】図1における分散板構造の詳細を示す一部切欠
拡大断面構成図である。
拡大断面構成図である。
【図3】本発明の実施の第1形態における分散板構造の
他の例を示す一部切欠拡大断面構成図である。
他の例を示す一部切欠拡大断面構成図である。
【図4】本発明の実施の第1形態における分散板構造の
補強手段(補強用支え棒)を示す概略平面説明図であ
る。
補強手段(補強用支え棒)を示す概略平面説明図であ
る。
【図5】本発明の実施の第1形態による排ガス処理装置
の他の例を示す断面構成説明図である。
の他の例を示す断面構成説明図である。
【図6】本発明の実施の第1形態において分散板下の風
箱にヘッダとディフューザを組み込んだ装置の一例を示
す分散板下側の概略平面図である。
箱にヘッダとディフューザを組み込んだ装置の一例を示
す分散板下側の概略平面図である。
【図7】本発明の実施の第1形態において分散板下の風
箱にヘッダとディフューザを組み込んだ装置の他の例を
示す分散板下側の概略平面図である。
箱にヘッダとディフューザを組み込んだ装置の他の例を
示す分散板下側の概略平面図である。
【図8】本発明の実施の第2形態による排ガス処理装置
の一例を示す断面構成説明図である。
の一例を示す断面構成説明図である。
【図9】図8における粒子再生手段の詳細を示す一部切
欠拡大断面構成図である。
欠拡大断面構成図である。
【図10】本発明の実施の第2形態における仕切構造の
一例を示す概略平面説明図である。
一例を示す概略平面説明図である。
【図11】本発明の実施の第2形態における仕切構造の
他の例を示す概略平面説明図である。
他の例を示す概略平面説明図である。
【図12】本発明の実施の第2形態における仕切構造の
他の例を示す概略平面説明図である。
他の例を示す概略平面説明図である。
【図13】本発明の実施の第2形態における仕切構造の
さらに他の例を示す概略平面説明図である。
さらに他の例を示す概略平面説明図である。
【図14】本発明の実施の第2形態における分散板構造
の一例を示す一部切欠概略平面図である。
の一例を示す一部切欠概略平面図である。
【図15】本発明の実施の第2形態による排ガス処理装
置の他の例を示す一部切欠断面構成説明図である。
置の他の例を示す一部切欠断面構成説明図である。
【図16】本発明の実施の第2形態による排ガス処理装
置のさらに他の例を示す一部切欠断面構成説明図であ
る。
置のさらに他の例を示す一部切欠断面構成説明図であ
る。
【図17】本発明の実施の第3形態による排ガス処理装
置の一例を示す断面構成説明図である。
置の一例を示す断面構成説明図である。
【図18】図17の概略平面説明図である。
【図19】本発明の実施の第3形態による排ガス処理装
置の他の例を示す断面構成説明図である。
置の他の例を示す断面構成説明図である。
【図20】図19の概略平面説明図である。
10、14、38、38a、38b、38c、66、6
6a、66b、66c粒子層 12、18、40、40b、76、76a、76b、7
6c 分散板 16 多孔板 19 側壁 20、20a、20b、44、70 排ガス導入口 22、46 風箱 24、24a、36 ガイドベーン 26、56 電気ヒータ 28、48、78 飛散防止板 30、50、72 排ガス排出口 32、42 装置本体 34 補強用支え棒 52、52a、52b、52c、52d 仕切板 54、54a 壁面 58 RPM計 60 層温度計 62 スイッチ 64 蓄電池 68、68a、68b、68c 内槽 74 外槽 75 排ガス通路 80、80a ヘッダ 82 ディフューザ 84 上蓋
6a、66b、66c粒子層 12、18、40、40b、76、76a、76b、7
6c 分散板 16 多孔板 19 側壁 20、20a、20b、44、70 排ガス導入口 22、46 風箱 24、24a、36 ガイドベーン 26、56 電気ヒータ 28、48、78 飛散防止板 30、50、72 排ガス排出口 32、42 装置本体 34 補強用支え棒 52、52a、52b、52c、52d 仕切板 54、54a 壁面 58 RPM計 60 層温度計 62 スイッチ 64 蓄電池 68、68a、68b、68c 内槽 74 外槽 75 排ガス通路 80、80a ヘッダ 82 ディフューザ 84 上蓋
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
B01J 8/00 B01J 8/12 311
8/12 311 8/24 311
8/24 311 321
321 8/26
8/26 8/44
8/44 F01N 3/02 301Z
F01N 3/02 301 341D
341 341H
341T
B01D 53/36 103C
(72)発明者 徳永 佳郎
兵庫県明石市川崎町1番1号 川崎重工業
株式会社明石工場内
(72)発明者 熊谷 親徳
兵庫県明石市川崎町1番1号 川崎重工業
株式会社明石工場内
Fターム(参考) 3G090 AA01 BA04 CB12 CB13 DA13
DA18
4D048 AA02 AA14 AA21 AB01 BA30X
BB07 BC01 CA07 CC29 CC43
CD10
4D058 JA58 JA62 JB02 JB33 JB34
KB05 KB11 MA41 MA42 MA51
QA01 QA11 QA17 SA08 TA06
UA05 UA21 UA25
4G070 AA01 AB06 BA02 BB06 BB11
BB32 BB33 CA06 CA17 CA19
CA25 CB19 CB25 DA02 DA14
DA16 DA22
Claims (27)
- 【請求項1】 排ガスに含まれる微粒子を捕捉する粒子
が堆積した粒子層に、その下方から前記排ガスを導入
し、排ガスによって流動化された粒子層で前記微粒子を
捕捉して、微粒子を除去した処理ガスを上方に排出する
排ガス処理方法であって、粒子層の下側に、上段の分散
板と下段の孔径の大きな分散板を設け、上段の分散板と
下段の分散板との間に開口率の大きな強度部材としての
多孔板を設置して、該多孔板の穴に粒径の大きな流動媒
体を装填し、排ガスを導入したときに、上段の分散板の
下側を流動化した前記流動媒体が叩いて上段の分散板の
詰まりを無くし、下段の分散板は孔径が大きいので詰ま
らなくなるとともに、排ガス中の微粒子を一次的に捕集
してトータルの微粒子除去率を向上させることを特徴と
する排ガス処理方法。 - 【請求項2】 排ガスに含まれる微粒子を捕捉する粒子
が堆積した粒子層に、その下方から前記排ガスを導入
し、排ガスによって流動化された粒子層で前記微粒子を
捕捉して、微粒子を除去した処理ガスを上方に排出する
排ガス処理方法であって、粒子層の下側に、上段の分散
板と下段の孔径の大きな分散板を設け、上段の分散板と
下段の分散板との間に開口率の大きな強度部材としての
多孔板及び流動層高を十分とるための側壁を設置して、
下段の分散板上に粒径の大きな流動媒体を装填し、排ガ
スを導入したときに、上段の分散板の下側を流動化した
前記流動媒体が叩いて上段の分散板の詰まりを無くし、
下段の分散板は孔径が大きいので詰まらなくなるととも
に、排ガス中の微粒子を一次的に捕集してトータルの微
粒子除去率を向上させることを特徴とする排ガス処理方
法。 - 【請求項3】 排ガスに含まれる微粒子を捕捉する粒子
が堆積した粒子層に、その下方から前記排ガスを導入
し、排ガスによって流動化された粒子層で前記微粒子を
捕捉して、微粒子を除去した処理ガスを上方に排出する
排ガス処理方法であって、粒子層内の一部を下側に開口
を有し、上方に行くに従って粒子層の断面積が増大する
ように傾斜させた仕切部材により区分し、仕切部材と壁
面で囲まれた区画の粒子層下側の分散板開孔率をそれ以
外の分散板開孔率より小さく設定するか、あるいは分散
板の一部の孔を塞ぐか、あるいは仕切部材の傾斜角、仕
切部材と壁面の距離を調整して、前記区画の粒子層を移
動層とし、該粒子層内に加熱手段を設置して粒子表面に
付着した微粒子を燃焼させ粒子を再生することを特徴と
する排ガス処理方法。 - 【請求項4】 排ガスに含まれる微粒子を捕捉する粒子
が堆積した粒子層に、その下方から前記排ガスを導入
し、排ガスによって流動化された粒子層で前記微粒子を
捕捉して、微粒子を除去した処理ガスを上方に排出する
排ガス処理方法であって、粒子層下側における分散板の
隅部の孔の一部を塞ぐことにより、粒子層の一部に移動
層を形成させ、該移動層部分に加熱手段を設置して粒子
表面に付着した微粒子を燃焼させ粒子を再生することを
特徴とする排ガス処理方法。 - 【請求項5】 排ガスに含まれる微粒子を捕捉する粒子
が堆積した粒子層に、その下方から前記排ガスを導入
し、排ガスによって流動化された粒子層で前記微粒子を
捕捉して、微粒子を除去した処理ガスを上方に排出する
排ガス処理方法であって、粒子層内の一部を下側に開口
を有する仕切部材により区分し、仕切部材と壁面で囲ま
れた区画の上方に行くに従って粒子層の断面積が増大す
るように仕切部材を傾斜させて、前記区画の粒子層を移
動層とするか、又は/及び壁面の一部を粒子層の上方に
行くに従って外側に拡がるように傾斜させて、傾斜壁面
近傍の粒子層を移動層とし、移動層部分に加熱手段を設
置して粒子表面に付着した微粒子を燃焼させ粒子を再生
することを特徴とする排ガス処理方法。 - 【請求項6】 排ガスに含まれる微粒子を捕捉する粒子
が堆積した粒子層に、その下方から前記排ガスを導入
し、排ガスによって流動化された粒子層で前記微粒子を
捕捉して、微粒子を除去した処理ガスを上方に排出する
排ガス処理方法であって、底面に分散板を配し内部に粒
子層を装填した内槽を、排ガス入口を備えた外槽内に設
置し、外槽の上部に排ガス出口を備えた上蓋を設置し、
導入した排ガスを外槽と内槽の間で下降させた後に分散
板に通し、内槽の粒子層で流動層を形成させて排ガス中
の微粒子を除去し、処理ガスを内槽から上蓋に流して排
出することを特徴とする排ガス処理方法。 - 【請求項7】 内槽をユニット化して、外槽内に並列に
複数設置する請求項6記載の排ガス処理方法。 - 【請求項8】 排ガスに含まれる微粒子を捕捉するため
の粒子からなる粒子層の下側に、上段の分散板と下段の
孔径が大きい分散板が設けられ、上段の分散板と下段の
分散板との間に開口率の大きな強度部材としての多孔板
が設置されて、該多孔板の穴に粒径の大きな流動媒体が
装填され、下段の分散板の下方から排ガスが導入され、
上段の分散板の上側の粒子層が流動層となって排ガス中
の微粒子が捕捉され処理ガスが上方に排出されるととも
に、上段の分散板の下側が流動化した前記粒径の大きな
流動媒体によって叩かれ詰まりを除去できるようにした
ことを特徴とする排ガス処理装置。 - 【請求項9】 排ガスに含まれる微粒子を捕捉するため
の粒子からなる粒子層の下側に、上段の分散板と下段の
孔径が大きい分散板が設けられ、上段の分散板と下段の
分散板との間に開口率の大きな強度部材としての多孔板
及び流動層高を十分とるための側壁が設置されて、下段
の分散板の上に粒径の大きな流動媒体が装填され、下段
の分散板の下方から排ガスが導入され、上段の分散板の
上側の粒子層が流動層となって排ガス中の微粒子が捕捉
され処理ガスが上方に排出されるとともに、上段の分散
板の下側が流動化した前記粒径の大きな流動媒体によっ
て叩かれ詰まりを除去できるようにしたことを特徴とす
る排ガス処理装置。 - 【請求項10】 装置本体の長手方向に補強用支え棒を
設けて、補強用支え棒の上に、上段の分散板とこれを補
強する部材である多孔板及び下段の分散板からなる分散
板構造を載置した請求項8又は9記載の排ガス処理装
置。 - 【請求項11】 エッチング加工により孔径が0.3〜
1mmである無数の小孔をあけた分散板を用いた流動層式
の装置である請求項8、9又は10記載の排ガス処理装
置。 - 【請求項12】 上段の分散板の下側の流動媒体は、径
が1.5〜10mm、かさ密度0.1〜1g/ccの中空
球、あるいは径が0.5〜2mm、かさ密度3〜4g/cc
のアルミナボールで、下段の分散板の上に装填され、下
段の分散板の孔径は0.5〜5mmである請求項8〜11
のいずれかに記載の排ガス処理装置。 - 【請求項13】 中空球からなる流動媒体は、球径(m
m)×かさ密度(g/cc)が1〜3の範囲である請求項1
2記載の排ガス処理装置。 - 【請求項14】 排ガスに含まれる微粒子を捕捉するた
めの粒子からなる粒子層と、粒子層下側の分散板とが装
置本体内に設けられ、分散板の下方から排ガスが導入さ
れて粒子層が流動層となって排ガス中の微粒子が捕捉さ
れ処理ガスが上方に排出される排ガス処理装置であっ
て、粒子層内の一部が下側に開口を有し上方に行くに従
って粒子層の断面積が増大するように傾斜させた仕切部
材で区分され、仕切部材と装置壁面で囲まれた区画の粒
子層下側の分散板開孔率がそれ以外の分散板開孔率より
小さく設定されるか、あるいは分散板の一部の孔が塞が
れるか、あるいは仕切部材の傾斜角、仕切部材と装置壁
面の距離が調整されて、前記区画の粒子層が移動層を形
成するようにし、該粒子層内に設置した電気ヒータで粒
子表面に付着した微粒子を燃焼させ粒子を再生するよう
にしたことを特徴とする排ガス処理装置。 - 【請求項15】 仕切部材の傾斜角度が水平面に対して
65〜80度である請求項14記載の排ガス処理装置。 - 【請求項16】 粒子層の静止層高をLcとすると、仕
切部材の設置高さh=(1〜1.5)Lc、仕切部材下
側の開口部の隙間距離d=(0.1〜0.5)Lc、仕
切部材下端部と装置壁面との隙間幅w=(0.1〜0.
5)Lc、電気ヒータの設置高さTh=(0.5〜1.
0)Lcである請求項14又は15記載の排ガス処理装
置。 - 【請求項17】 排ガスに含まれる微粒子を捕捉するた
めの粒子からなる粒子層と、粒子層下側の分散板とが装
置本体内に設けられ、分散板の下方から排ガスが導入さ
れて粒子層が流動層となって排ガス中の微粒子が捕捉さ
れ処理ガスが上方に排出される排ガス処理装置であっ
て、分散板の隅部に一部分散板の穴を塞いだ区画を作製
して、粒子層の一部が移動層を形成するようにし、移動
層を形成する粒子層内に設置した電気ヒータで粒子表面
に付着した微粒子を燃焼させ粒子を再生するようにした
ことを特徴とする排ガス処理装置。 - 【請求項18】 粒子層が排ガスによって流動層を形成
している時に再生操作が行われるように、排ガスの排出
源であるエンジンの回転数及び/又は流動層温度が所定
値以上でオンとなり、エンジンの回転数及び/又は流動
層温度が所定値以下になるとオフになるスイッチを電気
ヒータに接続した請求項14〜17のいずれかに記載の
排ガス処理装置。 - 【請求項19】 排ガスの排出源であるエンジンがかか
るとオンになり、エンジンが切れるとオフになるスイッ
チを電気ヒータに接続した請求項14〜17のいずれか
に記載の排ガス処理装置。 - 【請求項20】 電気ヒータを粒子層内に千鳥状に配置
した請求項14〜19のいずれかに記載の排ガス処理装
置。 - 【請求項21】 分散板の下側の装置本体内に、排ガス
入口から導入された排ガスを衝突させて拡散させ均一に
分散板に導入するためのガイドベーンを設けた請求項8
〜20のいずれかに記載の排ガス処理装置。 - 【請求項22】 分散板下側の風箱の排ガス入口部にヘ
ッダとディフューザを組み込み、流動化状態を均一にす
るようにした請求項8〜20のいずれかに記載の排ガス
処理装置。 - 【請求項23】 排ガスに含まれる微粒子を捕捉するた
めの粒子からなる粒子層が底面に分散板を備えた内槽に
装填され、該内槽が排ガス入口を備えた外槽内に設置さ
れ、外槽の上部に排ガス出口を備えた上蓋が設置された
排ガス処理装置であって、排ガス入口から導入された排
ガスが外槽と内槽の間を下降してから分散板に導入さ
れ、内槽の粒子層で流動層が形成されて排ガス中の微粒
子が除去され、処理ガスが上蓋から排出されるようにし
たことを特徴とする排ガス処理装置。 - 【請求項24】 複数のユニット化された内槽を、並列
に外槽内に設置した請求項23記載の排ガス処理装置。 - 【請求項25】 粒子層の上方に、流動化した粒子の飛
散を防止するための多孔板からなる飛散防止板を設けた
請求項8〜24のいずれかに記載の排ガス処理装置。 - 【請求項26】 飛散防止板が、エッチング加工により
無数の小孔をあけた多孔板である請求項25記載の排ガ
ス処理装置。 - 【請求項27】 分散板の下側面に燃焼触媒を担持させ
て、分散板下側に付着した粘着性の高い未燃物を低温で
燃焼させるようにした請求項8〜26のいずれかに記載
の排ガス処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001395991A JP2003190729A (ja) | 2001-12-27 | 2001-12-27 | 排ガス処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001395991A JP2003190729A (ja) | 2001-12-27 | 2001-12-27 | 排ガス処理方法及び装置 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2001395991A Pending JP2003190729A (ja) | 2001-12-27 | 2001-12-27 | 排ガス処理方法及び装置 |
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JP (1) | JP2003190729A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN110159397A (zh) * | 2018-04-19 | 2019-08-23 | 北京纳米能源与系统研究所 | 气体中颗粒物捕集器和机动车尾气颗粒物捕集器 |
CN113289432A (zh) * | 2021-05-19 | 2021-08-24 | 盐城工学院 | 一种节能改良型颗粒床除尘器 |
JP7458815B2 (ja) | 2019-02-19 | 2024-04-01 | 大阪瓦斯株式会社 | 触媒容器 |
-
2001
- 2001-12-27 JP JP2001395991A patent/JP2003190729A/ja active Pending
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