JP2003190118A - Rfパルスの調整方法およびmri装置 - Google Patents

Rfパルスの調整方法およびmri装置

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JP2003190118A
JP2003190118A JP2001402086A JP2001402086A JP2003190118A JP 2003190118 A JP2003190118 A JP 2003190118A JP 2001402086 A JP2001402086 A JP 2001402086A JP 2001402086 A JP2001402086 A JP 2001402086A JP 2003190118 A JP2003190118 A JP 2003190118A
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intensity
power amplifier
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JP2001402086A
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Kenji Sato
健志 佐藤
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GE Medical Systems Global Technology Co LLC
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 被検体の個体差に対応して、RFパルスの強
度を適切に設定し、高体重の人の撮像時間の短縮化に寄
与し、RFパワーを効率よく使用する。 【解決手段】 本スキャン用RFパルスの照射に先立っ
て、所定強度の基準RFパルスを送信コイル13を介し
て被検体50に照射し、照射中におけるパワーアンプ1
6から送信コイル13に供給されるRFパルスの強度と
被検体50に照射されるRFパルスの強度とを検出し、
検出した2つの検出値の対応関係および本スキャンの際
に送信コイル13から被検体50に照射されるべきRF
パルスの目標強度に基づいて本スキャンの際にパワーア
ンプ16から送信コイル13に出力するRFパルスの最
適強度を求め、該求めた最適強度がパワーアンプ16で
出力不可能なときにのみ本スキャン用RFパルスのパル
ス幅を延長する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、送信コイルを介し
て被検体に照射されるRFパルスの強度が所定の目標強
度になるように、RFパルス発生器からのRFパルスに
対する利得をパワーアンプによってチューニングするR
Fパルスの調整方法およびMRI装置に関し、さらに詳
しくは、有限のパワーアンプの利得を有効にかつ被検体
毎に適切に利用するための改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、人間を含む生体の内部を非侵襲的
に観察するために、所定の静磁場に配置された被検体に
対して、送信コイルから出射された高周波のRFパルス
を照射し、このRFパルスの照射によって被検体のプロ
トンを励起(フリップ)させ、プロトンの励起によって
得られたエコー信号(核磁気共鳴信号、NMR信号)を
受信コイルによって検出し、検出されたNMR信号に基
づいて被検体の内部構造物を可視化するMRI(核磁気
共鳴断層撮影)装置が広く普及している。
【0003】このMRI装置は、従来の放射線を用いた
撮像装置(たとえば、X線CT等)によっては得ること
ができなかった臓器や筋肉、脂肪等の軟部構造物の画像
を、鮮明な画像として得ることができ、また、被爆の懸
念がある放射線を用いるものではないため安全性が高
く、近年の医療診断においては欠かせないものとなって
いる。
【0004】ところで、MRI装置においては、各種の
撮像手法が確立されているが、いずれの場合も、被検体
に照射するRFパルスの強度および持続時間を、被検体
ごとに最適に調整する必要がある。なぜならば、被検体
に照射するRFパルスは、通常、被検体のプロトンを9
0度あるいは180度フリップさせるだけのエネルギー
を持たなくてはならないが、このRFパルスのエネルギ
ーは、被検体が有するプロトンの数や密度等に応じて異
なるので、被検体毎に異なるものとなるからである。
【0005】このため、本スキャン用のRFパルスを被
検体に照射する前に、被検体を静磁場に実際に配置した
うえで、本スキャン用RFパルスの周波数、強度等を探
索、調整するためのプリスキャンが通常行われている。
【0006】このプリスキャンにおいては、パワーアン
プによって送信コイルに供給するRFパルスの電圧を変
化させながらプリスキャン用RFパルスを被検体に照射
して、受信コイルを介して被検体からのエコー信号を検
出し、エコー信号が最大となるパワーアンプの出力電圧
を求めることで、本スキャンの際に、被検体に照射する
RFパルスの強度を所定の目標強度B1に一致させるこ
とができるパワーアンプの出力電圧を測定するといった
パワーアンプのチューニングを行っている。前記RFパ
ルスの目標強度B1は、各種の撮像手法(スピンエコー
法など)毎に固定的に設定されている。
【0007】ところで、一般に、送信コイルに被検体が
近接すると、コイルのQ特性(電圧の利得に相当)が低
下するため、送信コイルに印加するRFパルスの電力
(パワー)を一定と仮定すると、被検体が近接した状態
(Qが低下した状態)のときの送信コイルから出射され
るRFパルスの強度は、被検体が近接しない状態(Qが
低下しない状態)のときの送信コイルから出射されるR
Fパルスの強度よりも小さくなる。このため、被検体が
近接した状態のときの送信コイルから出射されるRFパ
ルスの強度を、被検体が近接しない状態のときの送信コ
イルから出射されるRFパルスの強度と同一とするため
には、パワーアンプの出力を上げて、送信コイルへの印
加電力を高める必要がある。また、Qの低下の程度は、
一般には被検体の体重が重くなるのにしたがって大きく
なるため、被検体の体重が重くなるのにしたがって、被
検体のプロトンを励起させるのに最適な振幅の本スキャ
ン用RFパルスを出射させるための送信コイルへの印加
パワーを大きくする必要がある。
【0008】ところで、この種のMRI装置において、
送信コイルにRFパルスを供給するためのパワーアンプ
の最大出力は、当然有限である。すなわち、最大出力の
非常に大きなパワーアンプを用いれば、200〜300
kgの体重を持つ被検体までへも対応可能となるが、こ
のようなハイパワーのアンプは高価であり消費電力も大
きく、初期コストおよびランニングコストが高騰するこ
とになる。
【0009】そこで、このような問題を解決するため
に、従来は、図3に示すような、体重によって一義的に
決まる体重−RFパルス磁場強度B1特性を設定し、こ
の設定した体重−RFパルス磁場強度B1特性によって
RFパルスの目標強度を決定していた。すなわち、図3
によれば、体重0〜A(=例えば100)kgまでは、
RFパルスの目標強度B1を一定値Ba(μT)とし、
体重Akg以上の場合は、RFパルスの目標強度B1を
一定値Baから体重増加に伴って低下させている。
【0010】上記体重−RFパルス磁場強度B1特性を
用いた従来手法によれば、体重0〜Akgまでの被検体
の場合は、目標強度Baが得られるように前述したプリ
スキャンによるパワーアンプのチューニングを行って本
スキャンの際のパワーアンプの出力を決定している。こ
のような通常体重用の一般的な磁場強度Baを目標値と
するときは、RFパルスのパルス長(持続時間)は、予
め設定された所定の標準時間としている。一方、体重が
Akgを超過した場合は、図3に示した特性から得られ
る体重によって一義的に決定される値に目標値を低下さ
せ、かつそのパルス長を目標値を低下させた分延長させ
ることで、目標値低下分のエネルギーを補償して、体重
の大きな被検体についても、プロトンを適切にフリップ
させるRFパルスを得るようにしている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】このように従来技術で
は、体重のみによって一義的にRFパルスによる磁場強
度の目標値B1を決定するようにしており、同一体重で
あっても内部構造物が含む脂肪や水分等の割合などに応
じてQの低下の程度が異なるという個体差が考慮されて
いない。すなわち、体重が所定の上限値A以上の高体重
の人の場合は、体重が増加するに伴ってRFパルスによ
る磁場強度の目標値B1が一律に減少し、その分RFパ
ルスのパルス長が大きく延長される。
【0012】このため、この従来技術では、人によって
は、目標値B1を下げ過ぎる場合があり、その分撮像時
間が長くなる問題がある。すなわち、目標値B1が下が
ってRFパルス長が延びるということは、本スキャンの
際に1つのRFパルスを印加してから次のRFパルスを
印加するまでの繰り返し時間TRが延びるということで
あり、この繰り返し時間の延長化が撮像時間の長大化に
つながっている。
【0013】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
あって、被検体の個体差に対応して、RFパルスの強度
を適切に設定し、撮像時間が無用に長くなるのを防止す
ることができるRFパルスの調整方法およびMRI装置
を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】第1の観点では、本発明
にかかるRFパルスの調整方法は、送信コイルを介して
被検体に照射されるRFパルスの強度が所定の目標強度
になるように、RFパルス発生器からのRFパルスに対
する利得をパワーアンプによってチューニングするRF
パルスの調整方法において、本スキャン用RFパルスの
照射に先立って、所定強度の基準RFパルスを送信コイ
ルを介して被検体に照射し、この照射中に前記パワーア
ンプから送信コイルに供給されるRFパルスの強度と前
記被検体に照射されるRFパルスの強度とを検出する第
1工程と、前記検出された2つのRFパルスの強度と前
記目標強度とに基づいて本スキャンの際に前記パワーア
ンプから送信コイルに出力するべきRFパルスの最適強
度を求める第2工程と、前記求めた最適強度をもつRF
パルスが前記パワーアンプで出力可能なときは、本スキ
ャンの際に前記最適強度を持つ本スキャン用RFパルス
が前記パワーアンプから出力されるように制御し、前記
最適強度が前記パワーアンプで出力不可能なときは、前
記パワーアンプの出力を最大にするとともに前記本スキ
ャン用RFパルスのパルス幅を延長するように制御する
第3工程とを備えることを特徴とするものである。
【0015】この第1の観点による発明によれば、本ス
キャン用RFパルスの照射に先立って、所定強度の基準
RFパルスを送信コイルを介して被検体に照射し、この
照射中にパワーアンプから送信コイルに供給されるRF
パルスの強度と被検体に照射されるRFパルスの実際の
強度(Qの低下に応じた強度)とを検出し、これら検出
された2つのRFパルスの強度の対応関係と被検体に照
射されるべきRFパルスの目標強度とに基づいて本スキ
ャンの際にパワーアンプから送信コイルに出力するべき
RFパルスの最適強度(通常のパルス長で被検体のプロ
トンを90度あるいは180度フリップさせるのに必要
なRFパルスの強度)を求めるようにしている。そし
て、前記最適強度をもつRFパルスが前記パワーアンプ
で出力可能なときは、本スキャンの際に前記最適強度を
持つ本スキャン用RFパルスが前記パワーアンプから出
力されるように制御し、前記最適強度がパワーアンプで
出力不可能なときは、パワーアンプの出力を最大にする
とともに本スキャン用RFパルスのパルス幅を延長する
ように制御するようにしている。最適強度がパワーアン
プで出力不可能なときは、パワーアンプの出力を最大と
するが、この場合は被検体は高体重でQの低下が大きい
ので、送信コイルから照射されるRFパルスの強度は、
最適強度よりも小さくなるが、その分パルス長を延長す
ることで、被検体のプロトンを90度あるいは180度
フリップさせるのに必要なRFパルスのエネルギーを得
るようにしている。
【0016】この第1の観点による発明は、パワーアン
プから送信コイルに供給されるRFパルスの強度と被検
体に照射されるRFパルスの実際の強度とを検出し、こ
れら検出値の対応関係に基づいて最適強度をもつRFパ
ルスがパワーアンプで出力可能か否かを判定し、出力不
可能なときにのみ、RFパルスの最適強度を下げてパル
ス長を延ばすような被検体個々の個体差を考慮した制御
を行っているので、従来のように体重のみの要因によっ
てパルス長が無用に延長されることが無くなり、高体重
の人の撮像時間の短縮化に寄与する。
【0017】第2の観点では、本発明にかかるRFパル
スの調整方法は、前記第3の工程において、前記最適強
度が前記パワーアンプで出力不可能なときに、本スキャ
ン用RFパルスの延長長さを、前記最適強度と前記パワ
ーアンプの最大出力に対応する本スキャン用RFパルス
の強度との差分に対応する分を補償する長さとすること
を特徴とする。
【0018】この第2の観点による発明によれば、本ス
キャン用RFパルスの延長長さを、最適強度と、パワー
アンプの最大出力に対応する本スキャン用RFパルスの
強度との差分に対応する分を補償する長さとしているの
で、パルス長を延長する場合においても被検体のプロト
ンを90度あるいは180度フリップさせるのに必要な
RFパルスのエネルギーを正確に得ることができる。
【0019】第3の観点では、本発明にかかるRFパル
スの調整方法は、前記第1の工程において、パワーアン
プから送信コイルに供給されるRFパルスの強度を、前
記送信コイルの進行波電圧によって検出することを特徴
とする。
【0020】この第3の観点による発明によれば、パワ
ーアンプから送信コイルに供給されるRFパルスの強度
を、送信コイルの進行波電圧によって検出するようにし
ており、パワーアンプから送信コイルに供給されるRF
パルスの強度を容易に検出することができる。
【0021】第4の観点では、本発明にかかるRFパル
スの調整方法は、前記第1の工程において、パワーアン
プから送信コイルに供給されるRFパルスの強度を、前
記送信コイルの反射波電圧によって検出することを特徴
とする。
【0022】この第4の観点による発明によれば、パワ
ーアンプから送信コイルに供給されるRFパルスの強度
を、送信コイルの反射波電圧によって検出するようにし
ており、パワーアンプから送信コイルに供給されるRF
パルスの強度を容易に検出することができる。
【0023】第5の観点では、本発明にかかるMRI装
置は、静磁場を発生させる静磁場発生手段と、前記静磁
場に勾配磁場を与える勾配磁場発生手段と、RFパルス
を発生するRFパルス発生部と、このRFパルス発生部
からのRFパルスを電力増幅するパワーアンプと、この
パワーアンプからのRFパルスを前記静磁場に配置され
る被検体に対して照射する送信コイルと、前記RFパル
スが照射された前記被検体から発せられた磁気共鳴信号
を受信する受信コイルと、前記受信された磁気共鳴信号
に基づいて前記被検体の断層像を形成する断層像形成手
段とを備えたMRI装置であって、前記パワーアンプか
ら前記送信コイルへ供給されるRFパルスの強度を検出
する第1の検出手段と、前記送信コイルから被検体に照
射されるRFパルスの強度を検出する第2の検出手段
と、本スキャン用RFパルスの照射に先立って、所定強
度の基準RFパルスを送信コイルを介して被検体に照射
し、この照射中における前記第1および第2の検出手段
の検出出力を取得し、該取得した2つの検出値および本
スキャンの際に送信コイルから被検体に照射されるRF
パルスの目標強度に基づいて本スキャンの際に前記パワ
ーアンプから送信コイルに出力するRFパルスの最適強
度を求め、前記最適強度が前記パワーアンプで出力可能
なときは、該最適強度を持つ本スキャン用RFパルスが
前記パワーアンプから出力されるように制御し、前記最
適強度が前記パワーアンプで出力不可能なときは、前記
パワーアンプの出力を最大にするとともに前記本スキャ
ン用RFパルスのパルス幅を延長するように制御する制
御手段とを備えたことを特徴とする。
【0024】この第5の観点による発明によれば、第1
の検出手段によってパワーアンプから送信コイルに供給
されるRFパルスの強度を検出し、ピックアップコイル
などの第2の検出手段によって被検体に照射されるRF
パルスの実際の強度を検出し、これらの検出値の対応関
係に基づいて最適強度をもつRFパルスがパワーアンプ
で出力可能か否かを判定し、出力不可能なときにのみ、
RFパルスの最適強度を下げてパルス長を延ばすような
被検体個々の個体差を考慮した制御を行っているので、
従来のように体重のみの要因によってパルス長が無用に
延長されることが無くなり、高体重の人の撮像時間の短
縮化に寄与する。
【0025】第6の観点では、本発明にかかるMRI装
置は、前記制御手段は、前記最適強度が前記パワーアン
プで出力不可能なときに、本スキャン用RFパルスの延
長長さを、前記最適強度と前記パワーアンプの最大出力
に対応する本スキャン用RFパルスの強度との差分に対
応する分を補償する長さとすることを特徴とする。
【0026】この第6の観点による発明によれば、本ス
キャン用RFパルスの延長長さを、最適強度と、パワー
アンプの最大出力に対応する本スキャン用RFパルスの
強度との差分に対応する分を補償する長さとしているの
で、パルス長を延長する場合においても被検体のプロト
ンを90度あるいは180度フリップさせるのに必要な
RFパルスのエネルギーを正確に得ることができる。
【0027】第7の観点では、本発明にかかるMRI装
置は、前記第1の検出手段は、パワーアンプから送信コ
イルに出力されるRFパルスの強度を、前記送信コイル
の進行波電圧によって検出することを特徴とする。
【0028】この第7の観点による発明によれば、パワ
ーアンプから送信コイルに供給されるRFパルスの強度
を、送信コイルの進行波電圧によって検出するようにし
ており、パワーアンプから送信コイルに供給されるRF
パルスの強度を容易に検出することができる。
【0029】第8の観点では、本発明にかかるMRI装
置は、前記第1の検出手段は、パワーアンプから送信コ
イルに出力されるRFパルスの強度を、前記送信コイル
の反射波電圧によって検出することを特徴とする。
【0030】この第8の観点による発明によれば、パワ
ーアンプから送信コイルに供給されるRFパルスの強度
を、送信コイルの反射波電圧によって検出するようにし
ており、パワーアンプから送信コイルに供給されるRF
パルスの強度を容易に検出することができる。
【0031】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
かかるRFパルスの調整方法およびMRI装置の実施の
形態について説明する。なお、これらの実施の形態によ
って、各発明の解釈が限定されるものではない。
【0032】ここで、図1はこの発明にかかるMRI装
置の概念的構成を示すブロック図である。
【0033】このMRI装置においては、本スキャン用
RFパルスの照射に先立って、所定強度の基準RFパル
スを送信コイルを介して被検体に照射し、この照射結果
を用いて本スキャン用のパワーアンプの出力を導出す
る。図1では、MRI装置を水平磁場型として示した
が、本発明は垂直磁場型にも適用することができる。
【0034】図1に示すMRI装置10は、静磁場を発
生させる1組の静磁場コイル11と、この静磁場コイル
11によって形成された静磁場に勾配磁場を形成する1
組の勾配磁場コイル12と、勾配磁場に配置される被検
体50に対してRFパルスを照射する1組の送信コイル
13と、RFパルスが照射された被検体50から発せら
れたNMR信号を受信する受信コイル14と、受信コイ
ル14によって受信されたNMR信号に基づいて被検体
50の断層像を再構成する再構成手段(断層像形成手
段)15とを備えている。
【0035】また、MRI装置10は、RFパルスを発
生し、発生したRFパルスを振幅変調して出力するRF
パルス発生器9と、RFパルス発生器9からのRFパル
スを電力増幅して送信コイル13に印加するパワーアン
プ16と、このパワーアンプ16の利得すなわち出力電
力を調整制御する出力制御手段17と、送信コイル13
へ印加されるRFパルスの電力を検出する印加パワー検
出手段18と、被検体50の近傍に配設されて、本スキ
ャン前に被検体50に対して照射された基準RFパルス
の実際の強度を検出するピックアップコイル19と、本
スキャン印加パワー算出手段21および指令手段22を
含む制御手段20とを備えている。
【0036】印加パワー検出手段18は、パワーアンプ
16から送信コイル13に伝えられるRFパルスの電圧
としての進行波電圧V1を検出する進行波電圧検出手段
18aと、この検出された進行波電圧V1に基づいて送
信コイル13に伝えられるRFパルスの電力を算出する
パワー算出手段18bとを備えている。
【0037】また、本スキャン印加パワー算出手段21
は、印加パワー検出手段18によって検出された基準R
Fパルス(進行波)の電力およびピックアップコイル1
9によって検出された基準RFパルスの強度との対応関
係と、本スキャンで被検体50に照射されるべきRFパ
ルスの目標強度B1とに基づき、本スキャンにおいてパ
ワーアンプ16から送信コイル13へ印加するべきRF
パルスの電力すなわちパワーアンプ16での利得を算出
する。
【0038】例えば、本スキャン印加パワー算出手段2
1での演算を電圧比較によって行う場合は、 V1:進行波電圧検出手段18aで検出した基準RFパ
ルスの進行波電圧 V2:ピックアップコイル19の検出電圧 Vc:本スキャンの際に必要なRFパルスの目標磁場強
度B1を得るに必要なピックアップコイル19での検出
電圧 とすると、本スキャンにおいてパワーアンプ16から出
力されるべきRFパルスの出力電圧Vgは、送信コイル
13のインピーダンスが50Ωの無反射であってかつ系
の損失は一定であるという条件下では、 Vg=Vc(V1/V2) …(1) となる。
【0039】指令手段22は、本スキャン印加パワー算
出手段21によって算出された本スキャン用RFパルス
を出射するのに要する印加パワーがパワーアンプ16の
出力可能上限値を下回っているとき、すなわち算出され
たパワーを持つRFパルスがパワーアンプ16で出力可
能なときは、パワーアンプ16がその算出された印加パ
ワーを出力するように出力制御手段17に指令を出力す
るとともに、RFパルス発生器9に対し標準的なパルス
幅(持続時間)t0のRFパルスを出力するように指令
する。
【0040】また、指令手段22は、本スキャン用RF
パルスを出射するのに要する印加パワーがパワーアンプ
16の出力可能上限値を上回っているとき、すなわち算
出されたパワーを持つRFパルスがパワーアンプ16で
出力不可能なときは、パワーアンプ16がその出力可能
上限値の印加パワーを出力するように出力制御手段17
に指令を出力するとともに、前記算出されたパワーとパ
ワーアンプ16の出力可能上限との差分に対応するエネ
ルギーに応じた時間Δtだけ印加時間tを、上記設定さ
れた時間t0に対して延長(t=t0+Δt)して出力
するようにRFパルス発生器9に対し指令を出力する。
【0041】次に、図2に従って図1に示したMRI装
置による動作を説明する。まず、被検体50をMRI装
置10の所定の位置にセッティングして(ステップS
1)、この被検体50に対して、静磁場コイル11によ
って形成された静磁場および勾配磁場コイル12によっ
て磁場強度に勾配が形成された勾配磁場をかける。
【0042】次いで、制御手段20は、指令手段22を
介して出力制御手段17およびRFパルス発生器9に基
準RFパルスを出力するよう指令を出力する。この基準
RFパルスとしては、例えば本スキャン用RFパルスよ
りも小さな所定強度を有するものが採用される。すなわ
ち、RFパルス発生器9からRFパルスが発生され、こ
のRFパルスが出力制御手段17の制御によってパワー
アンプ16で増幅されることで、パワーアンプ16から
所定強度の基準RFパルスが出力される(ステップS
2)。
【0043】パワーアンプ16から出力された基準RF
パルスは、送信コイル13を介して勾配磁場中に配され
た被検体50に照射される。
【0044】この基準RFパルスの照射中、進行波電圧
検出手段18aは、パワーアンプ16から送信コイル1
3に伝えられるRFパルスの電圧としての進行波電圧V
1を検出する(ステップS3)。パワー算出手段18b
は、検出された進行波電圧V1に基づいて送信コイル1
3に伝えられるRFパルスの電力を算出する。パワー算
出手段18bで算出されたRFパルスの電力は本スキャ
ン印加パワー算出手段21に入力される。
【0045】一方、基準RFパルスの照射中、被検体5
0の近傍に設けられたピックアップコイル19は、被検
体50に実際に照射された基準RFパルスの強度を検出
し、この検出値を制御手段20の本スキャン印加パワー
算出手段21に入力する(ステップS4)。
【0046】制御手段20の本スキャン印加パワー算出
手段21は、ピックアップコイル19から入力された基
準RFパルスの強度とパワー算出手段18bから入力さ
れた送信コイル13に伝えられるRFパルスの電力との
対応関係と、本スキャンで被検体50に照射されるべき
RFパルスの目標強度B1とに基づき、本スキャンにお
いてパワーアンプ16から送信コイル13へ印加するべ
きRFパルスの電力を算出する。そして、指令手段22
は、この算出されたRFパルスの電力をパワーアンプ1
6の最大出力と比較する(ステップS5)。
【0047】指令手段22は、上記比較結果を参照し
て、算出されたRFパルスのパワーをパワーアンプ16
で出力可能と判断したときは、本スキャンの際に、パワ
ーアンプ16から出力するRFパルスのパワーが、この
算出されたRFパルスのパワーとなりかつそのパルス幅
が所定の標準的な印加時間t0となるように、出力制御
手段17およびRFパルス発生器9に指令する(ステッ
プS6)。
【0048】この結果、本スキャンの際には、上記指令
に対応するパワー(<最大出力)およびパルス幅を有す
るRFパルスがパワーアンプ16から出力され、送信コ
イル13はこのRFパルスに応じた本スキャン用RFパ
ルスを照射する(ステップS6)。このとき送信コイル
13から出射される本スキャン用RFパルスの強度は、
被検体50のプロトンを最適にフリップさせるために必
要とされる強度の本スキャン用RFパルスを送信コイル
13から出射させることができるものであるため、被検
体50のプロトンを適切にフリップさせることができ、
したがって、被検体50からは所望とするNMR信号が
発生される。この発生したNMR信号は受信コイル14
によって検出される(ステップS7)。再構成手段15
は、検出されたFID信号に基づいて、被検体50の磁
気共鳴断層像を可視的に再構成する(ステップS8)。
【0049】一方、ステップS5の比較結果により、算
出されたRFパルスのパワーをパワーアンプ16で出力
不可能と判断したとき、指令手段22は、パワーアンプ
16の出力を最大出力にしかつ本スキャン用RFパルス
のパルス幅を延長するように出力制御手段17およびR
Fパルス発生器9に指令する(ステップS9)。パルス
幅に関しては、算出されたRFパルスのパワーとパワー
アンプ16の最大出力値との差分に応じたエネルギー分
を補償する長さ(Δt)だけ、標準パルス幅t0より延
長させる(t=t0+Δt)ようにしている。
【0050】この結果、本スキャンの際には、上記指令
に対応する印加パワー(=最大出力値)およびパルス幅
を有するRFパルスがパワーアンプ16から出力され、
送信コイル13はこのRFパルスに応じた本スキャン用
RFパルスを照射する(ステップS10)。このとき送
信コイル13から出射される本スキャン用RFパルスの
強度は、被検体50のプロトンを最適にフリップさせる
のに必要な強度に満たないが、その強度に満たないエネ
ルギー分を、印加時間の延長(+Δt)によって補償し
ているため、被検体50のプロトンを適切にフリップさ
せることができる。したがって、被検体50からは所望
とするNMR信号が発生される。この発生したNMR信
号は受信コイル14によって検出される(ステップS
7)。再構成手段15は、検出されたFID信号に基づ
いて、被検体50の磁気共鳴断層像を可視的に再構成す
る(ステップS8)。
【0051】このように、本実施の形態によれば、本ス
キャンに先立って、基準RFパルスを被検体50に照射
して、被検体50のプロトンを励起させるのに最適な強
度の本スキャン用RFパルスを出射するのに必要な送信
コイル13へ供給されるRFパルスの強度を計算し、該
計算した強度のRFパルスをパワーアンプ16から出力
不可能なときに限って、本スキャン用RFパルスの照射
に際して、パワーアンプの出力を最大にするとともに本
スキャン用RFパルスのパルス幅を延長するようにして
いるので、被検体の体重が所定の上限値以上の高体重の
場合であっても、計算した最適強度のRFパルスがパワ
ーアンプで出力不可能なときにしかパルス長の延長制御
が行われなくなり、これにより各被検体の個体差に応じ
たRFパルスの調整が行われることになる。したがっ
て、従来のように体重のみの要因によってパルス長が無
用に延長されることが無くなり、高体重の人の撮像時間
の短縮化に寄与し、さらにRFパワーを効率よく使用す
ることが可能となる。
【0052】ところで、本MRI装置においては、本ス
キャンに先だって基準RFパルスを照射することに基づ
き本スキャンの際のパワーアンプ16の出力を決定して
いるので、前述した通常のプリスキャンにおいて、受信
コイル14の出力に基づいてパワーアンプ16の出力を
チューニングする手順は必要なくなり、これを省略する
ことが可能となる。勿論、上記プリスキャンにおいて
は、RFパルスの周波数をラーモア周波数に一致させる
ための周波数チューニングを行う必要はある。
【0053】なお、本実施の形態においては、パワーア
ンプ16から送信コイル13に伝えられるRFパルスの
電圧としての進行波電圧に基づいて、本スキャン用のR
Fパルスを調整したが、前記進行波が送信コイル13か
ら反射してきた信号波の電圧としての反射波電圧に基づ
いて、本スキャン用のRFパルスを調整してもよい。
【0054】また、本実施の形態においては、出射され
た基準RFパルスの実際の強度を、被検体の近傍に配設
したピックアップコイル19によって検出するようにし
たが、出射された基準RFパルスの実際の強度を、被検
体から出射されたNMR信号を検出する受信コイル14
の出力に基づいて検出してもよく、さらに他の任意の検
出手段を用いても良い。
【0055】また、上述した通常のプリスキャン中に照
射するプリスキャンRFパルスの一部を基準RFパルス
として利用し、この基準RFパルスをピックアップコイ
ル19で検出することにより、被検体50のプロトンを
励起させるのに最適な強度の本スキャン用RFパルスを
出射するのに必要な送信コイル13へ供給されるRFパ
ルスの強度を計算するようにしてもよい。すなわち、通
常行われるオートプリスキャンの一環として、上記処理
を行うようにすれば、新たな行程が追加されることもな
くなり、能率良くMRI撮像をなし得る。
【0056】
【発明の効果】本発明にかかるRFパルスの調整方法お
よびMRI装置によれば、つぎのような効果が得られ
る。
【0057】第1に、本スキャン用RFパルスの照射に
先立って、所定強度の基準RFパルスを送信コイルを介
して被検体に照射し、この照射中におけるパワーアンプ
から送信コイルに供給されるRFパルスの強度と被検体
に照射されるRFパルスの強度とを検出し、該検出した
2つの検出値の対応関係および本スキャンの際に送信コ
イルから被検体に照射されるべきRFパルスの目標強度
に基づいて本スキャンの際にパワーアンプから送信コイ
ルに出力するRFパルスの最適強度を求め、該求めた最
適強度がパワーアンプで出力可能なときは、該最適強度
を持つ本スキャン用RFパルスがパワーアンプから出力
されるように制御し、最適強度がパワーアンプで出力不
可能なときは、パワーアンプの出力を最大にするととも
に本スキャン用RFパルスのパルス幅を延長するように
しているので、被検体の体重が所定の上限値以上の高体
重の場合であっても、最適強度のRFパルスをパワーア
ンプで出力不可能なときにしかパルス長の延長制御が行
われなくなり、これにより各被検体の個体差に応じたR
Fパルスの調整が行われる。したがって、従来のように
体重のみの要因によってパルス長が無用に延長されるこ
とが無くなり、高体重の人の撮像時間の短縮化に寄与
し、さらにRFパワーを効率よく使用することが可能と
なり、さらにはパワーアンプのチューニングを簡単且つ
能率よくすることが可能となる。
【0058】第2に、通常行われるオートプリスキャン
の一環として、上記処理を行うようにすれば、新たな行
程が追加されることもなくなり、能率良くMRI撮像を
なし得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の構成を概念的に示すブロ
ック図である。
【図2】図1に示したMRI装置の動作を説明するフロ
ーチャートである。
【図3】従来技術を説明するための図である。
【符号の説明】
9 RFパルス発生器 10 MRI装置 11 静磁場コイル 12 勾配磁場コイル 13 送信コイル 14 受信コイル 15 再構成手段 16 パワーアンプ 17 出力制御手段 18a 進行波電圧検出手段 18b パワー算出手段 18 印加パワー検出手段 19 ピックアップコイル 20 制御手段 21 本スキャン印加パワー算出手段 22 指令手段 50 被検体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 健志 東京都日野市旭が丘四丁目7番地の127 ジーイー横河メディカルシステム株式会社 内 Fターム(参考) 4C096 AB25 AB34 AD07 AD10 AD24 BB03 BB32 CC34 CC38

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 送信コイルを介して被検体に照射される
    RFパルスの強度が所定の目標強度になるように、RF
    パルス発生器からのRFパルスに対する利得をパワーア
    ンプによってチューニングするRFパルスの調整方法に
    おいて、 本スキャン用RFパルスの照射に先立って、所定強度の
    基準RFパルスを送信コイルを介して被検体に照射し、
    この照射中に前記パワーアンプから送信コイルに供給さ
    れるRFパルスの強度と前記被検体に照射されるRFパ
    ルスの強度とを検出する第1工程と、 前記検出された2つのRFパルスの強度と前記目標強度
    とに基づいて本スキャンの際に前記パワーアンプから送
    信コイルに出力するべきRFパルスの最適強度を求める
    第2工程と、 前記求めた最適強度をもつRFパルスが前記パワーアン
    プで出力可能なときは、本スキャンの際に前記最適強度
    を持つ本スキャン用RFパルスが前記パワーアンプから
    出力されるように制御し、前記最適強度が前記パワーア
    ンプで出力不可能なときは、前記パワーアンプの出力を
    最大にするとともに前記本スキャン用RFパルスのパル
    ス幅を延長するように制御する第3工程と、 を備えることを特徴とするRFパルスの調整方法。
  2. 【請求項2】 前記第3の工程において、前記最適強度
    が前記パワーアンプで出力不可能なときに、本スキャン
    用RFパルスの延長長さを、前記最適強度と前記パワー
    アンプの最大出力に対応する本スキャン用RFパルスの
    強度との差分に対応する分を補償する長さとすることを
    特徴とする請求項1に記載のRFパルスの調整方法。
  3. 【請求項3】 前記第1の工程において、パワーアンプ
    から送信コイルに供給されるRFパルスの強度を、前記
    送信コイルの進行波電圧によって検出することを特徴と
    する請求項1または2に記載のRFパルスの調整方法。
  4. 【請求項4】 前記第1の工程において、パワーアンプ
    から送信コイルに供給されるRFパルスの強度を、前記
    送信コイルの反射波電圧によって検出することを特徴と
    する請求項1または2に記載のRFパルスの調整方法。
  5. 【請求項5】 静磁場を発生させる静磁場発生手段と、
    前記静磁場に勾配磁場を与える勾配磁場発生手段と、R
    Fパルスを発生するRFパルス発生部と、このRFパル
    ス発生部からのRFパルスを電力増幅するパワーアンプ
    と、このパワーアンプからのRFパルスを前記静磁場に
    配置される被検体に対して照射する送信コイルと、前記
    RFパルスが照射された前記被検体から発せられた磁気
    共鳴信号を受信する受信コイルと、前記受信された磁気
    共鳴信号に基づいて前記被検体の断層像を形成する断層
    像形成手段とを備えたMRI装置であって、 前記パワーアンプから前記送信コイルへ供給されるRF
    パルスの強度を検出する第1の検出手段と、 前記送信コイルから被検体に照射されるRFパルスの強
    度を検出する第2の検出手段と、 本スキャン用RFパルスの照射に先立って、所定強度の
    基準RFパルスを送信コイルを介して被検体に照射し、
    この照射中における前記第1および第2の検出手段の検
    出出力を取得し、該取得した2つの検出値および本スキ
    ャンの際に送信コイルから被検体に照射されるRFパル
    スの目標強度に基づいて本スキャンの際に前記パワーア
    ンプから送信コイルに出力するRFパルスの最適強度を
    求め、前記最適強度が前記パワーアンプで出力可能なと
    きは、該最適強度を持つ本スキャン用RFパルスが前記
    パワーアンプから出力されるように制御し、前記最適強
    度が前記パワーアンプで出力不可能なときは、前記パワ
    ーアンプの出力を最大にするとともに前記本スキャン用
    RFパルスのパルス幅を延長するように制御する制御手
    段と、 を備えたことを特徴とするMRI装置。
  6. 【請求項6】 前記制御手段は、前記最適強度が前記パ
    ワーアンプで出力不可能なときに、本スキャン用RFパ
    ルスの延長長さを、前記最適強度と前記パワーアンプの
    最大出力に対応する本スキャン用RFパルスの強度との
    差分に対応する分を補償する長さとすることを特徴とす
    る請求項5に記載のMRI装置。
  7. 【請求項7】 前記第1の検出手段は、パワーアンプか
    ら送信コイルに出力されるRFパルスの強度を、前記送
    信コイルの進行波電圧によって検出することを特徴とす
    る請求項5または6に記載のMRI装置。
  8. 【請求項8】 前記第1の検出手段は、パワーアンプか
    ら送信コイルに出力されるRFパルスの強度を、前記送
    信コイルの反射波電圧によって検出することを特徴とす
    る請求項5または6に記載のMRI装置。
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