JP2003177169A - 磁気センサ - Google Patents
磁気センサInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】紙幣に対する耐磨耗性の高い磁気センサを提供
する。 【解決手段】磁気抵抗素子１と永久磁石２とをケース５
に収容してなる磁気センサであって、磁気センサのケー
ス５の表面にセラミック粒子を含むニッケルメッキ層６
を形成する。 【効果】紙幣に対する磨耗寿命を１０００万パス以上に
することができる。この結果、２４時間対応の現金自動
預貯金機などに用いることができる。
する。 【解決手段】磁気抵抗素子１と永久磁石２とをケース５
に収容してなる磁気センサであって、磁気センサのケー
ス５の表面にセラミック粒子を含むニッケルメッキ層６
を形成する。 【効果】紙幣に対する磨耗寿命を１０００万パス以上に
することができる。この結果、２４時間対応の現金自動
預貯金機などに用いることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は現金自動預貯金機な
どの金融機器、自動販売機、券売機などに用いられる紙
幣などの紙葉状媒体の磁気情報読み取り用の磁気センサ
に関する。
どの金融機器、自動販売機、券売機などに用いられる紙
幣などの紙葉状媒体の磁気情報読み取り用の磁気センサ
に関する。
【０００２】
【従来の技術】現金自動預貯金機などに用いられる紙幣
の磁気情報読み取り用の磁気センサは、磁気抵抗素子と
永久磁石などがケースに収納されて構成されている。紙
幣に磁気インクで描かれた図柄などの磁気情報を読み取
るために、紙幣は高速で磁気センサのケース表面を擦っ
て送られる。このため、磁気センサのケース表面は紙幣
との摩擦により、磨耗が激しい。磨耗による磁気情報の
読み取り誤動作を防ぐために、ケース表面には硬度の高
いメッキが施されていた。このメッキには、ハードクロ
ムメッキが使用され、硬度８００Ｈｖ、膜厚７μｍ程度
に形成されていた。これによって、紙幣に対する磁気セ
ンサのケース表面のメッキ層の磨耗寿命が１０００万パ
スまで確保されていた。
の磁気情報読み取り用の磁気センサは、磁気抵抗素子と
永久磁石などがケースに収納されて構成されている。紙
幣に磁気インクで描かれた図柄などの磁気情報を読み取
るために、紙幣は高速で磁気センサのケース表面を擦っ
て送られる。このため、磁気センサのケース表面は紙幣
との摩擦により、磨耗が激しい。磨耗による磁気情報の
読み取り誤動作を防ぐために、ケース表面には硬度の高
いメッキが施されていた。このメッキには、ハードクロ
ムメッキが使用され、硬度８００Ｈｖ、膜厚７μｍ程度
に形成されていた。これによって、紙幣に対する磁気セ
ンサのケース表面のメッキ層の磨耗寿命が１０００万パ
スまで確保されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
銀行などは、顧客の生活の多様化に対応するためにＡＴ
Ｍ窓口の２４時間営業化を進めている。これにより、現
金自動預貯金機などの使用時間が大幅に増えて、紙幣に
対するケース表面のメッキ層の磨耗寿命を１０００万パ
ス以上に向上させた磁気センサが必要となってきた。こ
のため、ケース表面に形成するハードクロムメッキの膜
厚を７μｍ以上にすることによって、磨耗寿命を向上さ
せることが試みられた。しかし、ハードクロムメッキを
７μｍ以上の膜厚で形成しようとすると、ハードクロム
メッキの表面が徐々に白色化し、均一な厚さに形成でき
なかった。このため、製品ごとにケース表面のメッキ層
の磨耗寿命がばらつくとともに、ハードクロムメッキの
白色化した部分がもろくなり、磨耗寿命を十分向上させ
ることができないという問題があった。
銀行などは、顧客の生活の多様化に対応するためにＡＴ
Ｍ窓口の２４時間営業化を進めている。これにより、現
金自動預貯金機などの使用時間が大幅に増えて、紙幣に
対するケース表面のメッキ層の磨耗寿命を１０００万パ
ス以上に向上させた磁気センサが必要となってきた。こ
のため、ケース表面に形成するハードクロムメッキの膜
厚を７μｍ以上にすることによって、磨耗寿命を向上さ
せることが試みられた。しかし、ハードクロムメッキを
７μｍ以上の膜厚で形成しようとすると、ハードクロム
メッキの表面が徐々に白色化し、均一な厚さに形成でき
なかった。このため、製品ごとにケース表面のメッキ層
の磨耗寿命がばらつくとともに、ハードクロムメッキの
白色化した部分がもろくなり、磨耗寿命を十分向上させ
ることができないという問題があった。
【０００４】本発明の磁気センサは、上述の問題を鑑み
てなされたものであり、これらの問題を解決し、紙幣に
対するケース表面の金属層の磨耗寿命を向上させた磁気
センサを提供することを目的としている。
てなされたものであり、これらの問題を解決し、紙幣に
対するケース表面の金属層の磨耗寿命を向上させた磁気
センサを提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の磁気センサは、磁気検出素子と、前記磁気検出
素子に磁気バイアスを加える磁石とがケースに収容され
てなる磁気センサであって、前記ケースの表面がセラミ
ック粒子を含んだ金属層で覆われていることを特徴とす
る。
本発明の磁気センサは、磁気検出素子と、前記磁気検出
素子に磁気バイアスを加える磁石とがケースに収容され
てなる磁気センサであって、前記ケースの表面がセラミ
ック粒子を含んだ金属層で覆われていることを特徴とす
る。
【０００６】また、前記セラミック粒子がＳｉＣまたは
アルミナであることを特徴とする。
アルミナであることを特徴とする。
【０００７】また、前記セラミック粒子を含んだ金属層
が、無電解メッキによって形成されていることを特徴と
する。
が、無電解メッキによって形成されていることを特徴と
する。
【０００８】また、前記セラミック粒子を含んだ金属層
の表面が電解研磨されていることを特徴とする。
の表面が電解研磨されていることを特徴とする。
【０００９】また、前記セラミック粒子を含んだ金属層
の厚みが６μｍ〜４０μｍであることを特徴とする。
の厚みが６μｍ〜４０μｍであることを特徴とする。
【００１０】また、前記セラミック粒子を含んだ金属層
が熱処理されていることを特徴とする。
が熱処理されていることを特徴とする。
【００１１】また、前記セラミック粒子を含んだ金属層
の厚みが４μｍ〜４０μｍであることを特徴とする。
の厚みが４μｍ〜４０μｍであることを特徴とする。
【００１２】また、前記セラミック粒子を含んだ金属層
の下に下地金属層が形成されていることを特徴とする。
の下に下地金属層が形成されていることを特徴とする。
【００１３】また、前記セラミック粒子を含んだ金属層
の硬度が８００Ｈｖ以上であることを特徴とする。
の硬度が８００Ｈｖ以上であることを特徴とする。
【００１４】また、前記セラミック粒子の最大粒径が２
μｍであることを特徴とする。
μｍであることを特徴とする。
【００１５】また、前記セラミック粒子を含んだ金属層
の金属が、ニッケルであることを特徴とする。
の金属が、ニッケルであることを特徴とする。
【００１６】また、前記磁気検出素子が磁気抵抗素子で
あることを特徴とする。
あることを特徴とする。
【００１７】これにより、磁気センサのケース表面の金
属層の強度を大幅に向上させることができるため、紙幣
に対するケース表面の金属層の磨耗寿命を向上させるこ
とができる。
属層の強度を大幅に向上させることができるため、紙幣
に対するケース表面の金属層の磨耗寿命を向上させるこ
とができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】［第一実施例、図１ないし図３］
以下、本発明の第一実施例である磁気センサを、図１な
いし図３に基づいて説明する。
以下、本発明の第一実施例である磁気センサを、図１な
いし図３に基づいて説明する。
【００１９】図１は、本発明の磁気センサの概略断面図
である。図１に示すように、磁気センサ１０は磁気抵抗
素子１、永久磁石２、樹脂ホルダー３が開口を有するケ
ース５に収納され構成されている。ケース５は上面９が
平坦で、その表面にはセラミック粒子を含んだニッケル
メッキ層６が形成されている。
である。図１に示すように、磁気センサ１０は磁気抵抗
素子１、永久磁石２、樹脂ホルダー３が開口を有するケ
ース５に収納され構成されている。ケース５は上面９が
平坦で、その表面にはセラミック粒子を含んだニッケル
メッキ層６が形成されている。
【００２０】この樹脂ホルダー３のケース５開口部側に
は凹部が形成され、その中に永久磁石２が固着されてい
る。樹脂ホルダー３のケース５開口部側とは反対側には
凸凹部が形成され、凹部に磁気抵抗素子１が固着される
とともに、凸部がケース５の内面に接し、磁気抵抗素子
１とケース５との空隙が０．１ｍｍになるように形成さ
れている。永久磁石２はＮ磁極が磁気抵抗素子１に向け
られている。また、外部接続用端子４が磁気抵抗素子１
と永久磁石２の横に配置され、樹脂ホルダー３を貫通し
ている。外部接続用端子４と磁気抵抗素子１との間は金
属配線体１１により電気的に接続されている。また、ケ
ース接地端子７がケース５の開口部の内側に電気的、機
械的に取付けられている。さらに、注形樹脂８によって
樹脂ホルダー３などがケース５内に封止されている。
は凹部が形成され、その中に永久磁石２が固着されてい
る。樹脂ホルダー３のケース５開口部側とは反対側には
凸凹部が形成され、凹部に磁気抵抗素子１が固着される
とともに、凸部がケース５の内面に接し、磁気抵抗素子
１とケース５との空隙が０．１ｍｍになるように形成さ
れている。永久磁石２はＮ磁極が磁気抵抗素子１に向け
られている。また、外部接続用端子４が磁気抵抗素子１
と永久磁石２の横に配置され、樹脂ホルダー３を貫通し
ている。外部接続用端子４と磁気抵抗素子１との間は金
属配線体１１により電気的に接続されている。また、ケ
ース接地端子７がケース５の開口部の内側に電気的、機
械的に取付けられている。さらに、注形樹脂８によって
樹脂ホルダー３などがケース５内に封止されている。
【００２１】ここで、磁気抵抗素子１はＩｎＳｂの半導
体材料からなり、シリコンの基板上にミアンダライン状
に２個形成されている。２個の磁気抵抗素子１には共通
端子１本を含め３本の端子が設けられている。また、樹
脂ホルダー３はＰＰＳ樹脂、永久磁石２はＳｍＣｏ、ケ
ース５は黄銅でそれぞれ形成されている。なお、図１は
断面図のため、外部接続用端子４として３本のうち１本
のみ示されている。
体材料からなり、シリコンの基板上にミアンダライン状
に２個形成されている。２個の磁気抵抗素子１には共通
端子１本を含め３本の端子が設けられている。また、樹
脂ホルダー３はＰＰＳ樹脂、永久磁石２はＳｍＣｏ、ケ
ース５は黄銅でそれぞれ形成されている。なお、図１は
断面図のため、外部接続用端子４として３本のうち１本
のみ示されている。
【００２２】この磁気センサ１０において、紙幣はケー
ス５の上面９のメッキされた部分を擦るように１〜４ｍ
／秒の高速で送られる。このとき、２個の磁気抵抗素子
１が紙幣の磁気インキで描かれた図柄のインキの濃淡と
線幅、線間隔から固有の磁気信号を検出し、これによっ
て紙幣の真偽判定がおこなわれている。
ス５の上面９のメッキされた部分を擦るように１〜４ｍ
／秒の高速で送られる。このとき、２個の磁気抵抗素子
１が紙幣の磁気インキで描かれた図柄のインキの濃淡と
線幅、線間隔から固有の磁気信号を検出し、これによっ
て紙幣の真偽判定がおこなわれている。
【００２３】次に、ケース５の表面に形成されているセ
ラミック粒子を含んだニッケルメッキ層６について図２
に基づいて説明する。図２は、図１に示した磁気センサ
１０のケース５上面９部分の拡大断面図を示す。図２に
示すように、ケース５の表面にセラミック粒子２１を含
んだニッケルメッキ層６が形成されている。ケース５は
厚さ２００μｍの黄銅で形成されている。
ラミック粒子を含んだニッケルメッキ層６について図２
に基づいて説明する。図２は、図１に示した磁気センサ
１０のケース５上面９部分の拡大断面図を示す。図２に
示すように、ケース５の表面にセラミック粒子２１を含
んだニッケルメッキ層６が形成されている。ケース５は
厚さ２００μｍの黄銅で形成されている。
【００２４】以下、このニッケルメッキ層６の製造方法
および効果について説明する。
および効果について説明する。
【００２５】セラミック粒子２１は、最大粒径２μｍ、
硬度１４００ＨｖのＳｉＣ粒子を用いる。この粒径はニ
ッケルメッキ層６にセラミック粒子２１を均等に混ぜる
ことを考慮して、２μｍ以下が望ましい。このセラミッ
ク粒子２１を無電解ニッケルメッキ液に含有する。そし
て無電解メッキによりセラミック粒子２１を含んだニッ
ケルメッキ層６をケース５の表面に４０μｍ形成する。
ここで、通常のニッケルメッキ層の硬度は４００Ｈｖで
あるが、ＳｉＣ粒子の硬度が１４００Ｈｖであるため、
セラミック粒子２１を含んだニッケルメッキ層６の硬度
は８００Ｈｖ程度になった。これにより、ニッケルメッ
キ層６の磨耗寿命は約５５００万パスに向上した。この
ように、磁気センサの磨耗寿命は向上し、長時間使用に
対応できる。
硬度１４００ＨｖのＳｉＣ粒子を用いる。この粒径はニ
ッケルメッキ層６にセラミック粒子２１を均等に混ぜる
ことを考慮して、２μｍ以下が望ましい。このセラミッ
ク粒子２１を無電解ニッケルメッキ液に含有する。そし
て無電解メッキによりセラミック粒子２１を含んだニッ
ケルメッキ層６をケース５の表面に４０μｍ形成する。
ここで、通常のニッケルメッキ層の硬度は４００Ｈｖで
あるが、ＳｉＣ粒子の硬度が１４００Ｈｖであるため、
セラミック粒子２１を含んだニッケルメッキ層６の硬度
は８００Ｈｖ程度になった。これにより、ニッケルメッ
キ層６の磨耗寿命は約５５００万パスに向上した。この
ように、磁気センサの磨耗寿命は向上し、長時間使用に
対応できる。
【００２６】さらに、電界研磨をおこなうことによって
磁気センサを向上させることができる。セラミック粒子
２１を含んだニッケルメッキ層６の表面には小さな凸凹
があり、表面粗さは約３．９μｍであった。そこで、セ
ラミック粒子を含んだニッケルメッキ層６の表面を電界
研磨し、平坦にする。これによって表面粗さは約０．８
μｍとなり、１／５に低下させることができた。この結
果、紙幣と接する摩擦係数が低下し、紙幣の磨耗量を軽
減させることができる。このときニッケルメッキ層６の
磨耗寿命は約５５００万パスであり、ＡＴＭの２４時間
対応に十分対応できることになる。
磁気センサを向上させることができる。セラミック粒子
２１を含んだニッケルメッキ層６の表面には小さな凸凹
があり、表面粗さは約３．９μｍであった。そこで、セ
ラミック粒子を含んだニッケルメッキ層６の表面を電界
研磨し、平坦にする。これによって表面粗さは約０．８
μｍとなり、１／５に低下させることができた。この結
果、紙幣と接する摩擦係数が低下し、紙幣の磨耗量を軽
減させることができる。このときニッケルメッキ層６の
磨耗寿命は約５５００万パスであり、ＡＴＭの２４時間
対応に十分対応できることになる。
【００２７】また、熱処理することによって磨耗寿命を
さらに向上させることができる。セラミック粒子２１を
含んだニッケルメッキ層６を３００℃〜４００℃の温度
で２時間〜４時間熱処理する。この熱処理を行うことに
より、セラミック粒子２１を含んだニッケルメッキ層６
において、Ｎｉ−Ｎｉ3Ｐの共晶体ができるため、ニッ
ケルメッキ層６の硬度を高めることができる。本実施例
では、３００℃、２時間の熱処理をおこなって、セラミ
ック粒子２１を含んだニッケルメッキ層６の硬度を１４
００Ｈｖまで向上させることができた。これにより、従
来のハードクロムメッキ層の硬度８００Ｈｖに対して、
セラミック粒子２１を含んだニッケルメッキ層６は、
１．７倍程度の硬度を得ることができた。この結果、ニ
ッケルメッキ層６の磨耗寿命は約１１０００万パスまで
向上した。これにより、ＡＴＭの２４時間対応だけでは
なく、さらに４ｍ／秒以上の高速処理化に対応できる。
さらに向上させることができる。セラミック粒子２１を
含んだニッケルメッキ層６を３００℃〜４００℃の温度
で２時間〜４時間熱処理する。この熱処理を行うことに
より、セラミック粒子２１を含んだニッケルメッキ層６
において、Ｎｉ−Ｎｉ3Ｐの共晶体ができるため、ニッ
ケルメッキ層６の硬度を高めることができる。本実施例
では、３００℃、２時間の熱処理をおこなって、セラミ
ック粒子２１を含んだニッケルメッキ層６の硬度を１４
００Ｈｖまで向上させることができた。これにより、従
来のハードクロムメッキ層の硬度８００Ｈｖに対して、
セラミック粒子２１を含んだニッケルメッキ層６は、
１．７倍程度の硬度を得ることができた。この結果、ニ
ッケルメッキ層６の磨耗寿命は約１１０００万パスまで
向上した。これにより、ＡＴＭの２４時間対応だけでは
なく、さらに４ｍ／秒以上の高速処理化に対応できる。
【００２８】次に、セラミック粒子を含んだニッケルメ
ッキ層の厚さと出力比および磨耗寿命との関係について
図３の特性図に基づいて説明する。
ッキ層の厚さと出力比および磨耗寿命との関係について
図３の特性図に基づいて説明する。
【００２９】図３において、出力比はメッキが無いとき
の磁気センサの出力を１００％としたときに対して、メ
ッキを付けたときの出力の変化度合いを表わしている。
図３は、セラミック粒子を含んだニッケルメッキ層の厚
さが厚くなるほど磨耗寿命は長くなるが磁気センサの出
力は下がってくることを示している。ここで、ニッケル
メッキ層の厚さが４０μｍ以下であれば、磁気センサの
磁気信号出力の変化分を１０％以内に抑えることができ
る。この範囲であれば、磁気センサの増幅回路の入力信
号許容範囲を超えることがないので、安定して真偽判別
ができる。このため、ニッケルメッキ層の厚さは４０μ
ｍ以下にすることが必要である。また、図３によると、
紙幣に対する磨耗寿命を１０００万パス確保するために
は、ニッケルメッキ層の厚さは、熱処理しない場合には
約６μｍ必要であり、熱処理する場合には約４μｍ必要
である。以上により、ニッケルメッキ層の厚さは熱処理
しない場合には６μｍ〜４０μｍ、熱処理する場合には
４μｍ〜４０μｍに設定する必要がある。
の磁気センサの出力を１００％としたときに対して、メ
ッキを付けたときの出力の変化度合いを表わしている。
図３は、セラミック粒子を含んだニッケルメッキ層の厚
さが厚くなるほど磨耗寿命は長くなるが磁気センサの出
力は下がってくることを示している。ここで、ニッケル
メッキ層の厚さが４０μｍ以下であれば、磁気センサの
磁気信号出力の変化分を１０％以内に抑えることができ
る。この範囲であれば、磁気センサの増幅回路の入力信
号許容範囲を超えることがないので、安定して真偽判別
ができる。このため、ニッケルメッキ層の厚さは４０μ
ｍ以下にすることが必要である。また、図３によると、
紙幣に対する磨耗寿命を１０００万パス確保するために
は、ニッケルメッキ層の厚さは、熱処理しない場合には
約６μｍ必要であり、熱処理する場合には約４μｍ必要
である。以上により、ニッケルメッキ層の厚さは熱処理
しない場合には６μｍ〜４０μｍ、熱処理する場合には
４μｍ〜４０μｍに設定する必要がある。
【００３０】［第二実施例、図４］以下、本発明の第二
実施例である磁気センサを、図４に基づいて説明する。
図４に示すように、無電解メッキによってケース５の上
にニッケルメッキ層２２が５μｍの厚さで形成されてい
る。さらに、その上にセラミック粒子２１を含んだニッ
ケルメッキ層６が４０μｍの厚さで形成されている。こ
こで、セラミック粒子２１を含んだニッケルメッキ層６
の形成方法は第一実施例と同じである。このような構成
においても、第一実施例と同様な効果が得られる。特に
この場合、下地ニッケルメッキ層２２が緩衝となりセラ
ミック粒子２１を含んだニッケルメッキ層６表面の凹凸
を抑えることができる。本実施例では、磨耗しやすいが
表面が滑らかなニッケルメッキ層２２の上に、第一実施
例と同じセラミック粒子２１を含んだニッケルメッキ層
６を積層した。その結果、表面粗さが約１．６μｍと小
さく、磨耗寿命が長い特性を持つ磁気センサが得られ
た。なお、本実施例においては、セラミック粒子にＳｉ
Ｃ粒子を用いた場合しか説明しなかったが、セラミック
粒子は、硬度が８００Ｈｖ以上あれば良く、アルミナな
どを用いても良い。また、金属層のメッキ金属にニッケ
ルを用いた場合しか説明しなかったが、ニッケル合金を
用いても良い。また、銅系、アルミニューム系などの金
属を用いても良い。
実施例である磁気センサを、図４に基づいて説明する。
図４に示すように、無電解メッキによってケース５の上
にニッケルメッキ層２２が５μｍの厚さで形成されてい
る。さらに、その上にセラミック粒子２１を含んだニッ
ケルメッキ層６が４０μｍの厚さで形成されている。こ
こで、セラミック粒子２１を含んだニッケルメッキ層６
の形成方法は第一実施例と同じである。このような構成
においても、第一実施例と同様な効果が得られる。特に
この場合、下地ニッケルメッキ層２２が緩衝となりセラ
ミック粒子２１を含んだニッケルメッキ層６表面の凹凸
を抑えることができる。本実施例では、磨耗しやすいが
表面が滑らかなニッケルメッキ層２２の上に、第一実施
例と同じセラミック粒子２１を含んだニッケルメッキ層
６を積層した。その結果、表面粗さが約１．６μｍと小
さく、磨耗寿命が長い特性を持つ磁気センサが得られ
た。なお、本実施例においては、セラミック粒子にＳｉ
Ｃ粒子を用いた場合しか説明しなかったが、セラミック
粒子は、硬度が８００Ｈｖ以上あれば良く、アルミナな
どを用いても良い。また、金属層のメッキ金属にニッケ
ルを用いた場合しか説明しなかったが、ニッケル合金を
用いても良い。また、銅系、アルミニューム系などの金
属を用いても良い。
【００３１】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、磁気セン
サのケースの表面にセラミック粒子を含む金属層を形成
することにより、紙幣などに対する磨耗寿命を１０００
万パス以上確保することができる。この結果、２４時間
対応の現金自動預貯金機などに用いることができる。
サのケースの表面にセラミック粒子を含む金属層を形成
することにより、紙幣などに対する磨耗寿命を１０００
万パス以上確保することができる。この結果、２４時間
対応の現金自動預貯金機などに用いることができる。
【図１】本発明の第一実施例である磁気センサの概略断
面図である。
面図である。
【図２】上記磁気センサのケース上面部分の拡大断面図
である。
である。
【図３】セラミック粒子を含んだニッケルメッキ層の厚
さと磁気センサの出力比、磨耗寿命との関係を示す特性
図である。
さと磁気センサの出力比、磨耗寿命との関係を示す特性
図である。
【図４】本発明の第二実施例である磁気センサのケース
上面部分の拡大断面図である。
上面部分の拡大断面図である。
１ ----- 磁気抵抗素子
２ ----- 永久磁石
３ ----- 樹脂ホルダー
４ ----- 外部接続用端子
５ ----- ケース
６ ----- セラミック粒子を含
んだニッケルメッキ層 ７ ----- ケース接地端子 ８ ----- 注入樹脂 ９ ----- ケース上面 １０ ----- 磁気センサ １１ ----- 金属配線体 ２１ ----- セラミック粒子 ２２ ----- 下地ニッケルメッキ
層
んだニッケルメッキ層 ７ ----- ケース接地端子 ８ ----- 注入樹脂 ９ ----- ケース上面 １０ ----- 磁気センサ １１ ----- 金属配線体 ２１ ----- セラミック粒子 ２２ ----- 下地ニッケルメッキ
層
Claims (12)
- 【請求項１】磁気検出素子と、前記磁気検出素子に磁気
バイアスを加える磁石とがケースに収容されてなる磁気
センサであって、 前記ケースの表面がセラミック粒子を含んだ金属層で覆
われていることを特徴とする磁気センサ。 - 【請求項２】前記セラミック粒子がＳｉＣまたはアルミ
ナであることを特徴とする、請求項１に記載の磁気セン
サ。 - 【請求項３】前記セラミック粒子を含んだ金属層が、無
電解メッキによって形成されていることを特徴とする、
請求項１または請求項２に記載の磁気センサ。 - 【請求項４】前記セラミック粒子を含んだ金属層の表面
が電解研磨されていることを特徴とする、請求項１ない
し請求項３のいずれかに記載の磁気センサ。 - 【請求項５】前記セラミック粒子を含んだ金属層の厚み
が６μｍ〜４０μｍであることを特徴とする、請求項１
ないし請求項４のいずれかに記載の磁気センサ。 - 【請求項６】前記セラミック粒子を含んだ金属層が熱処
理されていることを特徴とする、請求項１ないし請求項
４のいずれかに記載の磁気センサ。 - 【請求項７】前記セラミック粒子を含んだ金属層の厚み
が４μｍ〜４０μｍであることを特徴とする、請求項６
に記載の磁気センサ。 - 【請求項８】前記セラミック粒子を含んだ金属層の下に
下地金属層が形成されていることを特徴とする、請求項
１ないし請求項７のいずれかに記載の磁気センサ。 - 【請求項９】前記セラミック粒子を含んだ金属層の硬度
が８００Ｈｖ以上であることを特徴とする、請求項１な
いし請求項８のいずれかに記載の磁気センサ。 - 【請求項１０】前記セラミック粒子の最大粒径が２μｍ
であることを特徴とする、請求項１ないし請求項９に記
載の磁気センサ。 - 【請求項１１】前記セラミック粒子を含んだ金属層の金
属が、ニッケルであることを特徴とする、請求項１ない
し請求項１０のいずれかに記載の磁気センサ。 - 【請求項１２】前記磁気検出素子が磁気抵抗素子である
ことを特徴とする、請求項１ないし請求項１１のいずれ
かに記載の磁気センサ。
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