JP2003176149A - 光ファイバ素線の製造方法および装置 - Google Patents
光ファイバ素線の製造方法および装置Info
- Publication number
- JP2003176149A JP2003176149A JP2001374320A JP2001374320A JP2003176149A JP 2003176149 A JP2003176149 A JP 2003176149A JP 2001374320 A JP2001374320 A JP 2001374320A JP 2001374320 A JP2001374320 A JP 2001374320A JP 2003176149 A JP2003176149 A JP 2003176149A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- temperature
- bare
- slow cooling
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 生産効率を高くすることができ、かつ伝送損
失を低減することができる光ファイバ素線の製造方法お
よび装置を提供する。 【解決手段】 光ファイバ母材１を紡糸炉２で溶融紡糸
して得られた光ファイバ裸線３を冷却し、その上に被覆
層を形成する光ファイバ素線の製造方法であって、紡糸
炉２内の温度を、１０００℃以上となる領域の光ファイ
バ引取り方向距離が５０ｃｍ以上、１ｍ以下となるよう
にする。
失を低減することができる光ファイバ素線の製造方法お
よび装置を提供する。 【解決手段】 光ファイバ母材１を紡糸炉２で溶融紡糸
して得られた光ファイバ裸線３を冷却し、その上に被覆
層を形成する光ファイバ素線の製造方法であって、紡糸
炉２内の温度を、１０００℃以上となる領域の光ファイ
バ引取り方向距離が５０ｃｍ以上、１ｍ以下となるよう
にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ素線の
製造方法および装置に関し、特に波長１．５５μｍにお
ける伝送損失を低減することができる光ファイバ素線を
製造する方法および装置に関する。
製造方法および装置に関し、特に波長１．５５μｍにお
ける伝送損失を低減することができる光ファイバ素線を
製造する方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光ファイバ素線は、次のような方
法によって製造されている。光ファイバ母材を、紡糸炉
で溶融紡糸して光ファイバ裸線とし、この光ファイバ裸
線を引取り（線引き）しつつ、その上に１次被覆層およ
び２次被覆層を形成し、光ファイバ素線を得る。近年で
は、生産効率を高めることを目的として、光ファイバ裸
線の線引きを高速で行うことが要望されている。
法によって製造されている。光ファイバ母材を、紡糸炉
で溶融紡糸して光ファイバ裸線とし、この光ファイバ裸
線を引取り（線引き）しつつ、その上に１次被覆層およ
び２次被覆層を形成し、光ファイバ素線を得る。近年で
は、生産効率を高めることを目的として、光ファイバ裸
線の線引きを高速で行うことが要望されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、線引き
を高速で行う場合には、波長１．５５μｍにおける光フ
ァイバ素線の伝送損失が悪化する問題がある。特開平１
０−２１８６３５号公報には、ガラスの粘度に基づいて
定められた温度領域から所定の冷却速度で光ファイバを
徐冷する熱処理工程を行うことによって、レーリ散乱損
失の低減を図ることができる製造方法が開示されてい
る。しかしながら、従来技術では、伝送損失を十分に低
減するのが難しい問題があった。本発明は、上記事情に
鑑みてなされたもので、生産効率を高くすることがで
き、かつ伝送損失を低減することができる光ファイバ素
線の製造方法および装置を提供することを目的とする。
を高速で行う場合には、波長１．５５μｍにおける光フ
ァイバ素線の伝送損失が悪化する問題がある。特開平１
０−２１８６３５号公報には、ガラスの粘度に基づいて
定められた温度領域から所定の冷却速度で光ファイバを
徐冷する熱処理工程を行うことによって、レーリ散乱損
失の低減を図ることができる製造方法が開示されてい
る。しかしながら、従来技術では、伝送損失を十分に低
減するのが難しい問題があった。本発明は、上記事情に
鑑みてなされたもので、生産効率を高くすることがで
き、かつ伝送損失を低減することができる光ファイバ素
線の製造方法および装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】伝送損失が悪化する原因
としては、レーリ散乱を挙げることができる。レーリ散
乱損失αdは、屈折率をｎ、光弾性係数をｐ、ボルツマ
ン定数をｋ、仮想温度をＴF、仮想温度ＴFにおける等温
圧縮率をβTとすると、波長λに対して、αd＝８π3／
３λ4・ｎ8ｐ2ｋＴFβTと表される。一般に、レーリ散
乱は、密度揺らぎおよび濃度揺らぎによって生じる。密
度揺らぎおよび濃度揺らぎの支配的要因は、製造過程に
おける熱履歴である。レーリ散乱損失に影響するパラメ
ータのうち、最も熱履歴の影響を受けるものは仮想温度
ＴFである。ガラスは高温の液体構造が凍結されたもの
と考えられ、仮想温度ＴFは凍結された構造に対応する
温度である。従って、仮想温度ＴFは、紡糸時の光ファ
イバ温度に大きな影響を受けると考えられる。
としては、レーリ散乱を挙げることができる。レーリ散
乱損失αdは、屈折率をｎ、光弾性係数をｐ、ボルツマ
ン定数をｋ、仮想温度をＴF、仮想温度ＴFにおける等温
圧縮率をβTとすると、波長λに対して、αd＝８π3／
３λ4・ｎ8ｐ2ｋＴFβTと表される。一般に、レーリ散
乱は、密度揺らぎおよび濃度揺らぎによって生じる。密
度揺らぎおよび濃度揺らぎの支配的要因は、製造過程に
おける熱履歴である。レーリ散乱損失に影響するパラメ
ータのうち、最も熱履歴の影響を受けるものは仮想温度
ＴFである。ガラスは高温の液体構造が凍結されたもの
と考えられ、仮想温度ＴFは凍結された構造に対応する
温度である。従って、仮想温度ＴFは、紡糸時の光ファ
イバ温度に大きな影響を受けると考えられる。
【０００５】本発明者は、紡糸時の光ファイバ温度と伝
送損失との関係について検討を加え、以下の知見を得
た。紡糸炉内の温度分布は、紡糸炉のヒータの長さや紡
糸炉の断熱構造などによって定められ、一般に、炉内温
度分布が狭いと炉内最高温度が高くなり、温度分布が広
いと炉内最高温度が低くなる。炉内温度分布が狭すぎる
場合には、得られる光ファイバ素線の伝送損失が悪化す
る。また温度分布が広すぎる場合には、光ファイバ母材
のネックダウン部が長くなりすぎるため、製造開始時の
条件設定が難しくなるとともに、製造終了時の光ファイ
バ母材の残留量（引き残り）が多くなる。
送損失との関係について検討を加え、以下の知見を得
た。紡糸炉内の温度分布は、紡糸炉のヒータの長さや紡
糸炉の断熱構造などによって定められ、一般に、炉内温
度分布が狭いと炉内最高温度が高くなり、温度分布が広
いと炉内最高温度が低くなる。炉内温度分布が狭すぎる
場合には、得られる光ファイバ素線の伝送損失が悪化す
る。また温度分布が広すぎる場合には、光ファイバ母材
のネックダウン部が長くなりすぎるため、製造開始時の
条件設定が難しくなるとともに、製造終了時の光ファイ
バ母材の残留量（引き残り）が多くなる。
【０００６】本発明は、この知見に基づいてなされたも
ので、本発明の光ファイバ素線の製造方法は、紡糸炉内
の温度を、１０００℃以上となる領域の光ファイバ引取
り方向距離が５０ｃｍ以上、１ｍ以下となるようにする
ことを特徴とする。これによって、光ファイバの熱履歴
を最適化し、仮想温度ＴFを低く抑え、レーリ散乱を低
減し、レーリ散乱に起因する伝送損失を低減することが
できる。さらには、製造開始時の条件設定を容易にする
とともに、製造終了時の光ファイバ母材の残留量（引き
残り）を最小限に抑え、製造コスト低減を図ることがで
きる。
ので、本発明の光ファイバ素線の製造方法は、紡糸炉内
の温度を、１０００℃以上となる領域の光ファイバ引取
り方向距離が５０ｃｍ以上、１ｍ以下となるようにする
ことを特徴とする。これによって、光ファイバの熱履歴
を最適化し、仮想温度ＴFを低く抑え、レーリ散乱を低
減し、レーリ散乱に起因する伝送損失を低減することが
できる。さらには、製造開始時の条件設定を容易にする
とともに、製造終了時の光ファイバ母材の残留量（引き
残り）を最小限に抑え、製造コスト低減を図ることがで
きる。
【０００７】光ファイバ裸線を冷却するにあたっては、
光ファイバ裸線の温度が１１００℃以上となる領域にお
いて、光ファイバ裸線の冷却速度が大きすぎると、波長
１．５５μｍにおける伝送損失が大きくなる。従って、
冷却速度は、４０００℃／ｓｅｃ以下とするのが好まし
い。冷却速度をこの範囲とすることによって、熱履歴を
さらに改善し、仮想温度Ｔ Fを低く抑え、伝送損失をさ
らに低減することができる。冷却速度は、小さいほど伝
送損失の点で有利となるが、小さすぎれば徐冷部を大型
化することが必要となり、設備コストや装置の設置スペ
ースの点で不利となる。従って、冷却速度は、１０００
℃／ｓｅｃ以上とするのが好ましい。
光ファイバ裸線の温度が１１００℃以上となる領域にお
いて、光ファイバ裸線の冷却速度が大きすぎると、波長
１．５５μｍにおける伝送損失が大きくなる。従って、
冷却速度は、４０００℃／ｓｅｃ以下とするのが好まし
い。冷却速度をこの範囲とすることによって、熱履歴を
さらに改善し、仮想温度Ｔ Fを低く抑え、伝送損失をさ
らに低減することができる。冷却速度は、小さいほど伝
送損失の点で有利となるが、小さすぎれば徐冷部を大型
化することが必要となり、設備コストや装置の設置スペ
ースの点で不利となる。従って、冷却速度は、１０００
℃／ｓｅｃ以上とするのが好ましい。
【０００８】本発明の光ファイバ素線の製造装置は、光
ファイバ母材を溶融紡糸して光ファイバ裸線とする紡糸
炉と、光ファイバ裸線を徐冷する徐冷装置と、光ファイ
バ裸線上に被覆層を形成する樹脂被覆装置とを備え、紡
糸炉が、炉内温度が１０００℃以上となる領域の光ファ
イバ引取り方向距離を５０ｃｍ以上、１ｍ以下とするこ
とができるように構成されていることを特徴とする。徐
冷装置は、光ファイバ裸線が導入される徐冷部と、温度
調整用ガスによって徐冷部内の温度を調整する温度調整
手段とを備えた構成とすることができる。温度調整用ガ
スの導入によって、徐冷部内の対流伝熱を調整し、光フ
ァイバ裸線の冷却速度を調整することができる。温度調
節手段は、温度調整用ガスを加熱する加熱部を備えた構
成とすることができる。徐冷装置は、徐冷部内を加熱す
るヒータを備えた構成とすることができる。本発明の光
ファイバ素線は、上記製造方法によって製造されたもの
であることを特徴とする。
ファイバ母材を溶融紡糸して光ファイバ裸線とする紡糸
炉と、光ファイバ裸線を徐冷する徐冷装置と、光ファイ
バ裸線上に被覆層を形成する樹脂被覆装置とを備え、紡
糸炉が、炉内温度が１０００℃以上となる領域の光ファ
イバ引取り方向距離を５０ｃｍ以上、１ｍ以下とするこ
とができるように構成されていることを特徴とする。徐
冷装置は、光ファイバ裸線が導入される徐冷部と、温度
調整用ガスによって徐冷部内の温度を調整する温度調整
手段とを備えた構成とすることができる。温度調整用ガ
スの導入によって、徐冷部内の対流伝熱を調整し、光フ
ァイバ裸線の冷却速度を調整することができる。温度調
節手段は、温度調整用ガスを加熱する加熱部を備えた構
成とすることができる。徐冷装置は、徐冷部内を加熱す
るヒータを備えた構成とすることができる。本発明の光
ファイバ素線は、上記製造方法によって製造されたもの
であることを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の光ファイバ素線
の製造装置の一実施形態を示すものである。ここに示す
製造装置は、光ファイバ母材１を加熱して溶融紡糸する
紡糸炉２と、得られた光ファイバ裸線３を徐冷する徐冷
装置４と、光ファイバ裸線３上に１次被覆樹脂液を塗布
する第１の樹脂被覆装置５と、１次被覆樹脂液を硬化さ
せて１次被覆層とする架橋筒６と、１次被覆層上に２次
被覆樹脂液を塗布する第２の樹脂被覆装置７と、２次被
覆樹脂液を硬化させて２次被覆層とする架橋筒８と、タ
ーンプーリー１０と、引き取り機１１と、ダンサー１２
と、巻き取り機１３とを備えている。紡糸炉２は、内部
を加熱するヒータ（図示略）を備えている。紡糸炉２
は、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中で光
ファイバ母材１を溶融紡糸することができるように構成
するのが好ましい。
の製造装置の一実施形態を示すものである。ここに示す
製造装置は、光ファイバ母材１を加熱して溶融紡糸する
紡糸炉２と、得られた光ファイバ裸線３を徐冷する徐冷
装置４と、光ファイバ裸線３上に１次被覆樹脂液を塗布
する第１の樹脂被覆装置５と、１次被覆樹脂液を硬化さ
せて１次被覆層とする架橋筒６と、１次被覆層上に２次
被覆樹脂液を塗布する第２の樹脂被覆装置７と、２次被
覆樹脂液を硬化させて２次被覆層とする架橋筒８と、タ
ーンプーリー１０と、引き取り機１１と、ダンサー１２
と、巻き取り機１３とを備えている。紡糸炉２は、内部
を加熱するヒータ（図示略）を備えている。紡糸炉２
は、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中で光
ファイバ母材１を溶融紡糸することができるように構成
するのが好ましい。
【００１０】徐冷装置４は、光ファイバ裸線３が導入さ
れる徐冷部１４と、温度調整用ガスによって徐冷部１４
内の温度を調整する温度調整部（温度調整手段）１５
と、徐冷部１４内を加熱するヒータ１６とを備えてい
る。温度調整部１５は、温度調整用ガス供給源１７と、
ガス供給源１７からの温度調整用ガスを加熱する加熱部
１８とを備えており、ガス供給源１７からの温度調整用
ガスを、導入経路１９を通して徐冷部１４に導入するこ
とができるようになっている。徐冷部１４は、筒状に形
成するのが好ましい。徐冷部１４は、断熱材からなる断
熱層を備えた構造とすることができる。徐冷装置４は、
紡糸炉２の下部に、紡糸炉２と一体となるように設ける
のが好ましい。
れる徐冷部１４と、温度調整用ガスによって徐冷部１４
内の温度を調整する温度調整部（温度調整手段）１５
と、徐冷部１４内を加熱するヒータ１６とを備えてい
る。温度調整部１５は、温度調整用ガス供給源１７と、
ガス供給源１７からの温度調整用ガスを加熱する加熱部
１８とを備えており、ガス供給源１７からの温度調整用
ガスを、導入経路１９を通して徐冷部１４に導入するこ
とができるようになっている。徐冷部１４は、筒状に形
成するのが好ましい。徐冷部１４は、断熱材からなる断
熱層を備えた構造とすることができる。徐冷装置４は、
紡糸炉２の下部に、紡糸炉２と一体となるように設ける
のが好ましい。
【００１１】以下、図１に示す製造装置を用いた場合を
例として、本発明の光ファイバ素線の製造方法の一実施
形態を説明する。気相軸付け法（ＶＡＤ法）、外付け法
（ＯＶＤ法）、内付け法（ＣＶＤ法、ＭＣＶＤ法、ＰＣ
ＶＤ法）、ロッドインチューブ法等で得られた光ファイ
バ母材１を、紡糸炉２で加熱して溶融紡糸し、矢印で示
す引取り方向（線引き方向）に光ファイバ裸線３を引き
取る。
例として、本発明の光ファイバ素線の製造方法の一実施
形態を説明する。気相軸付け法（ＶＡＤ法）、外付け法
（ＯＶＤ法）、内付け法（ＣＶＤ法、ＭＣＶＤ法、ＰＣ
ＶＤ法）、ロッドインチューブ法等で得られた光ファイ
バ母材１を、紡糸炉２で加熱して溶融紡糸し、矢印で示
す引取り方向（線引き方向）に光ファイバ裸線３を引き
取る。
【００１２】本実施形態の製造方法においては、紡糸炉
２内の温度を、１０００℃以上となる領域の線引き方向
（光ファイバ引取り方向）距離が、５０ｃｍ以上、１ｍ
以下となるように設定する。１０００℃以上の温度領域
の線引き方向距離が５０ｃｍ未満である場合には、波長
１．５５μｍにおける伝送損失が悪化する。また、この
距離が１ｍを越えると、光ファイバ母材１のネックダウ
ン部１ａが長くなりすぎるため、製造開始時に所定の線
引き条件に安定させるための調整が難しくなる。また製
造終了時の光ファイバ母材１の残留量（引き残り）が多
くなるため好ましくない。紡糸炉２内の温度分布は、ヒ
ータの長さ（線引き方向長さ）や紡糸炉２の断熱構造を
調整することによって設定することができる。光ファイ
バ母材１を溶融紡糸する際の線引き速度（紡糸線速）は
特に制限がなく、１００〜１０００ｍ／ｍｉｎとするこ
とができる。
２内の温度を、１０００℃以上となる領域の線引き方向
（光ファイバ引取り方向）距離が、５０ｃｍ以上、１ｍ
以下となるように設定する。１０００℃以上の温度領域
の線引き方向距離が５０ｃｍ未満である場合には、波長
１．５５μｍにおける伝送損失が悪化する。また、この
距離が１ｍを越えると、光ファイバ母材１のネックダウ
ン部１ａが長くなりすぎるため、製造開始時に所定の線
引き条件に安定させるための調整が難しくなる。また製
造終了時の光ファイバ母材１の残留量（引き残り）が多
くなるため好ましくない。紡糸炉２内の温度分布は、ヒ
ータの長さ（線引き方向長さ）や紡糸炉２の断熱構造を
調整することによって設定することができる。光ファイ
バ母材１を溶融紡糸する際の線引き速度（紡糸線速）は
特に制限がなく、１００〜１０００ｍ／ｍｉｎとするこ
とができる。
【００１３】次いで、光ファイバ裸線３を徐冷装置４の
徐冷部１４内に導き、冷却する。徐冷装置４では、ガス
供給源１７からの温度調整用ガスを、導入経路１９を通
して徐冷部１４内に導入することができる。この温度調
整用ガスの種類や導入流量を適宜設定することによっ
て、徐冷部１４内の対流伝熱を調整し、光ファイバ裸線
３の冷却速度を調整することができる。温度調整用ガス
としては、空気より熱伝導率が低いガス、例えばヘリウ
ム、アルゴン、窒素等が使用可能であり、特に熱伝導率
が低いアルゴンを用いるのが好適である。温度調整用ガ
スは、必要に応じて加熱部１８で加熱し、温度を調整し
た後に徐冷部１４に導入することもできる。
徐冷部１４内に導き、冷却する。徐冷装置４では、ガス
供給源１７からの温度調整用ガスを、導入経路１９を通
して徐冷部１４内に導入することができる。この温度調
整用ガスの種類や導入流量を適宜設定することによっ
て、徐冷部１４内の対流伝熱を調整し、光ファイバ裸線
３の冷却速度を調整することができる。温度調整用ガス
としては、空気より熱伝導率が低いガス、例えばヘリウ
ム、アルゴン、窒素等が使用可能であり、特に熱伝導率
が低いアルゴンを用いるのが好適である。温度調整用ガ
スは、必要に応じて加熱部１８で加熱し、温度を調整し
た後に徐冷部１４に導入することもできる。
【００１４】徐冷部１４では、光ファイバ裸線３の温度
が１１００℃以上となる領域において、その冷却速度が
１０００℃／ｓｅｃ以上、４０００℃／ｓｅｃ以下とな
るようにするのが好ましい。この冷却速度を１０００℃
／ｓｅｃ未満とする場合には、徐冷部１４を大型化する
ことが必要となり、設備コストや装置の設置スペースの
点で不利となる。冷却速度が４０００℃／ｓｅｃを越え
ると、波長１．５５μｍにおける伝送損失が大きくな
る。
が１１００℃以上となる領域において、その冷却速度が
１０００℃／ｓｅｃ以上、４０００℃／ｓｅｃ以下とな
るようにするのが好ましい。この冷却速度を１０００℃
／ｓｅｃ未満とする場合には、徐冷部１４を大型化する
ことが必要となり、設備コストや装置の設置スペースの
点で不利となる。冷却速度が４０００℃／ｓｅｃを越え
ると、波長１．５５μｍにおける伝送損失が大きくな
る。
【００１５】次いで、光ファイバ裸線３を第１の樹脂被
覆装置５に導き、光ファイバ裸線３上に、ウレタンアク
リレート系紫外線硬化型樹脂などの１次被覆樹脂液を塗
布する。１次被覆樹脂液は、架橋筒６で紫外線照射、加
熱等により硬化され、１次被覆層が形成される。次い
で、第２の樹脂被覆装置７において、１次被覆層上にウ
レタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂などの２次被覆
樹脂液が塗布され、この樹脂液が架橋筒８で硬化され、
１次被覆層上に２次被覆層が形成された光ファイバ素線
９が得られる。光ファイバ素線９は、ターンプーリー１
０、引き取り機１１、ダンサー１２を経て、巻き取り機
１３に巻き取られる。
覆装置５に導き、光ファイバ裸線３上に、ウレタンアク
リレート系紫外線硬化型樹脂などの１次被覆樹脂液を塗
布する。１次被覆樹脂液は、架橋筒６で紫外線照射、加
熱等により硬化され、１次被覆層が形成される。次い
で、第２の樹脂被覆装置７において、１次被覆層上にウ
レタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂などの２次被覆
樹脂液が塗布され、この樹脂液が架橋筒８で硬化され、
１次被覆層上に２次被覆層が形成された光ファイバ素線
９が得られる。光ファイバ素線９は、ターンプーリー１
０、引き取り機１１、ダンサー１２を経て、巻き取り機
１３に巻き取られる。
【００１６】本実施形態の製造方法では、紡糸炉２内の
温度を、１０００℃以上となる領域の線引き方向距離が
５０ｃｍ以上、１ｍ以下となるように設定するので、線
引き速度を高く設定した場合でも、光ファイバ素線９の
波長１．５５μｍにおける伝送損失を低減することがで
きる。この伝送損失は、例えば０．１８８〜０．２００
ｄＢ／ｋｍとすることができる。従って、生産効率を高
くし、かつ伝送損失を低減することができる。
温度を、１０００℃以上となる領域の線引き方向距離が
５０ｃｍ以上、１ｍ以下となるように設定するので、線
引き速度を高く設定した場合でも、光ファイバ素線９の
波長１．５５μｍにおける伝送損失を低減することがで
きる。この伝送損失は、例えば０．１８８〜０．２００
ｄＢ／ｋｍとすることができる。従って、生産効率を高
くし、かつ伝送損失を低減することができる。
【００１７】紡糸炉２内の温度領域の線引き方向距離を
上記範囲とすることによって、伝送損失を低減すること
ができる理由については、次の推測が可能である。伝送
損失が悪化する原因としては、レーリ散乱を挙げること
ができる。レーリ散乱損失αdは、屈折率をｎ、光弾性
係数をｐ、ボルツマン定数をｋ、仮想温度をＴF、仮想
温度ＴFにおける等温圧縮率をβTとすると、波長λに対
して、αd＝８π3／３λ4・ｎ8ｐ2ｋＴFβTと表される
（D. A. Pinnow et. al., Appl. Phys. Lett., Vol.22,
1973, pp.527参照）。一般に、レーリ散乱は、密度揺
らぎおよび濃度揺らぎによって生じる。密度揺らぎおよ
び濃度揺らぎの支配的要因は、製造過程における熱履歴
である。レーリ散乱損失に影響するパラメータのうち、
最も熱履歴の影響を受けるものは仮想温度ＴFである。
ガラスは高温の液体構造が凍結されたものと考えられ、
仮想温度ＴFは凍結された構造に対応する温度である。
従って、仮想温度ＴFは、紡糸時の光ファイバ温度に大
きな影響を受けると考えられる。
上記範囲とすることによって、伝送損失を低減すること
ができる理由については、次の推測が可能である。伝送
損失が悪化する原因としては、レーリ散乱を挙げること
ができる。レーリ散乱損失αdは、屈折率をｎ、光弾性
係数をｐ、ボルツマン定数をｋ、仮想温度をＴF、仮想
温度ＴFにおける等温圧縮率をβTとすると、波長λに対
して、αd＝８π3／３λ4・ｎ8ｐ2ｋＴFβTと表される
（D. A. Pinnow et. al., Appl. Phys. Lett., Vol.22,
1973, pp.527参照）。一般に、レーリ散乱は、密度揺
らぎおよび濃度揺らぎによって生じる。密度揺らぎおよ
び濃度揺らぎの支配的要因は、製造過程における熱履歴
である。レーリ散乱損失に影響するパラメータのうち、
最も熱履歴の影響を受けるものは仮想温度ＴFである。
ガラスは高温の液体構造が凍結されたものと考えられ、
仮想温度ＴFは凍結された構造に対応する温度である。
従って、仮想温度ＴFは、紡糸時の光ファイバ温度に大
きな影響を受けると考えられる。
【００１８】本実施形態の製造方法では、紡糸炉２内の
１０００℃以上の温度領域の線引き方向距離を上記範囲
とすることによって、光ファイバの熱履歴を最適化し、
仮想温度ＴFを低く抑えることができる。従って、レー
リ散乱を低減し、レーリ散乱に起因する伝送損失を低減
することができる。
１０００℃以上の温度領域の線引き方向距離を上記範囲
とすることによって、光ファイバの熱履歴を最適化し、
仮想温度ＴFを低く抑えることができる。従って、レー
リ散乱を低減し、レーリ散乱に起因する伝送損失を低減
することができる。
【００１９】また、徐冷部１４において、光ファイバ裸
線３の温度が１１００℃以上となる領域における光ファ
イバ裸線３の冷却速度が１０００℃／ｓｅｃ以上、４０
００℃／ｓｅｃ以下となるようにすることによって、熱
履歴をさらに改善し、仮想温度ＴFを低く抑え、伝送損
失をさらに低減することができる。さらには、製造開始
時の条件設定を容易にするとともに、製造終了時の光フ
ァイバ母材の残留量（引き残り）を最小限に抑え、製造
コスト低減を図ることができる。
線３の温度が１１００℃以上となる領域における光ファ
イバ裸線３の冷却速度が１０００℃／ｓｅｃ以上、４０
００℃／ｓｅｃ以下となるようにすることによって、熱
履歴をさらに改善し、仮想温度ＴFを低く抑え、伝送損
失をさらに低減することができる。さらには、製造開始
時の条件設定を容易にするとともに、製造終了時の光フ
ァイバ母材の残留量（引き残り）を最小限に抑え、製造
コスト低減を図ることができる。
【００２０】本発明の製造方法では、気相軸付け法（Ｖ
ＡＤ法）、外付け法（ＯＶＤ法）、内付け法（ＣＶＤ
法、ＭＣＶＤ法、ＰＣＶＤ法）、ロッドインチューブ法
等で得られた光ファイバ母材を用いることができる。本
発明は、シングルモード光ファイバ、分散シフト、カッ
トオフシフト、分散補償光ファイバなど、いかなる種類
の光ファイバにも適用できる。
ＡＤ法）、外付け法（ＯＶＤ法）、内付け法（ＣＶＤ
法、ＭＣＶＤ法、ＰＣＶＤ法）、ロッドインチューブ法
等で得られた光ファイバ母材を用いることができる。本
発明は、シングルモード光ファイバ、分散シフト、カッ
トオフシフト、分散補償光ファイバなど、いかなる種類
の光ファイバにも適用できる。
【００２１】
【実施例】（実施例１）徐冷装置４を備えていないこと
以外は図１に示す製造装置と同じ構成の製造装置を用い
て、次のようにして光ファイバ素線９を作製した。波長
多重伝送用光ファイバ母材１（ＩＴＵ−Ｔ Ｇ６５５準
拠）を、紡糸炉２で加熱して溶融紡糸して光ファイバ裸
線３（外径０．１２５μｍ）とした。紡糸張力は１５０
ｇｆに設定した。第１の樹脂被覆装置５において、光フ
ァイバ裸線３上にウレタンアクリレート系紫外線硬化型
樹脂を塗布し、これを架橋筒６で紫外線照射により硬化
させ、１次被覆層を形成した。第２の樹脂被覆装置７に
おいて、１次被覆層上にウレタンアクリレート系紫外線
硬化型樹脂を塗布し、これを架橋筒８で硬化させ、１次
被覆層上に２次被覆層が形成された光ファイバ素線９
（外径０．２５０μｍ）を得た。本実施例では、紡糸炉
２内温度を、１０００℃以上となる領域の線引き方向距
離が２５ｃｍとなるように設定した。紡糸線速（線引き
速度）は、８００ｍ／ｍｉｎとした。紡糸炉２の出口付
近において、光ファイバ裸線３の温度が１１００℃以上
となる領域における光ファイバ裸線３の冷却速度は１０
０００℃／ｓｅｃであった。光ファイバ素線９の波長
１．５５μｍにおける伝送損失を測定したところ、０．
２００ｄＢ／ｋｍであった。
以外は図１に示す製造装置と同じ構成の製造装置を用い
て、次のようにして光ファイバ素線９を作製した。波長
多重伝送用光ファイバ母材１（ＩＴＵ−Ｔ Ｇ６５５準
拠）を、紡糸炉２で加熱して溶融紡糸して光ファイバ裸
線３（外径０．１２５μｍ）とした。紡糸張力は１５０
ｇｆに設定した。第１の樹脂被覆装置５において、光フ
ァイバ裸線３上にウレタンアクリレート系紫外線硬化型
樹脂を塗布し、これを架橋筒６で紫外線照射により硬化
させ、１次被覆層を形成した。第２の樹脂被覆装置７に
おいて、１次被覆層上にウレタンアクリレート系紫外線
硬化型樹脂を塗布し、これを架橋筒８で硬化させ、１次
被覆層上に２次被覆層が形成された光ファイバ素線９
（外径０．２５０μｍ）を得た。本実施例では、紡糸炉
２内温度を、１０００℃以上となる領域の線引き方向距
離が２５ｃｍとなるように設定した。紡糸線速（線引き
速度）は、８００ｍ／ｍｉｎとした。紡糸炉２の出口付
近において、光ファイバ裸線３の温度が１１００℃以上
となる領域における光ファイバ裸線３の冷却速度は１０
０００℃／ｓｅｃであった。光ファイバ素線９の波長
１．５５μｍにおける伝送損失を測定したところ、０．
２００ｄＢ／ｋｍであった。
【００２２】（実施例２）紡糸炉２内温度を、１０００
℃以上となる領域の線引き方向距離が５０ｃｍとなるよ
うに設定すること以外は実施例１と同様にして光ファイ
バ素線９を作製した。光ファイバ裸線３の冷却速度は１
００００℃／ｓｅｃであった。波長１．５５μｍにおけ
る光ファイバ素線９の伝送損失を測定したところ、０．
１９３ｄＢ／ｋｍであった。
℃以上となる領域の線引き方向距離が５０ｃｍとなるよ
うに設定すること以外は実施例１と同様にして光ファイ
バ素線９を作製した。光ファイバ裸線３の冷却速度は１
００００℃／ｓｅｃであった。波長１．５５μｍにおけ
る光ファイバ素線９の伝送損失を測定したところ、０．
１９３ｄＢ／ｋｍであった。
【００２３】（実施例３）紡糸炉２内温度を、１０００
℃以上となる領域の線引き方向距離が７５ｃｍとなるよ
うに設定すること以外は実施例１と同様にして光ファイ
バ素線９を作製した。光ファイバ裸線３の冷却速度は１
００００℃／ｓｅｃであった。波長１．５５μｍにおけ
る光ファイバ素線９の伝送損失を測定したところ、０．
１９２ｄＢ／ｋｍであった。
℃以上となる領域の線引き方向距離が７５ｃｍとなるよ
うに設定すること以外は実施例１と同様にして光ファイ
バ素線９を作製した。光ファイバ裸線３の冷却速度は１
００００℃／ｓｅｃであった。波長１．５５μｍにおけ
る光ファイバ素線９の伝送損失を測定したところ、０．
１９２ｄＢ／ｋｍであった。
【００２４】（実施例４）紡糸炉２内温度を、１０００
℃以上となる領域の線引き方向距離が１００ｃｍとなる
ように設定すること以外は実施例１と同様にして光ファ
イバ素線９を作製した。光ファイバ裸線３の冷却速度は
１００００℃／ｓｅｃであった。波長１．５５μｍにお
ける光ファイバ素線９の伝送損失を測定したところ、
０．１９１ｄＢ／ｋｍであった。
℃以上となる領域の線引き方向距離が１００ｃｍとなる
ように設定すること以外は実施例１と同様にして光ファ
イバ素線９を作製した。光ファイバ裸線３の冷却速度は
１００００℃／ｓｅｃであった。波長１．５５μｍにお
ける光ファイバ素線９の伝送損失を測定したところ、
０．１９１ｄＢ／ｋｍであった。
【００２５】実施例１〜４で得られた光ファイバ素線９
の波長１．５５μｍにおける伝送損失を図２に示す。ま
た紡糸炉２内の温度分布を図３に示す。図３において、
横軸は基準点からの線引き方向距離（相対位置）を示
し、縦軸は炉内温度を示す。図２より、紡糸炉２内温度
を、１０００℃以上となる領域の線引き方向距離が５０
ｃｍ以上となるように設定することによって、伝送損失
を低減することができたことがわかる。また、１０００
℃以上となる領域の線引き方向距離が１ｍを越える場合
には、光ファイバ母材１のネックダウン部１ａが長くな
りすぎ、製造開始時の条件設定が難しくなるとともに、
製造終了時の光ファイバ母材１の残留量（引き残り）が
多くなった。以上より、紡糸炉２内の温度は、１０００
℃以上となる領域の線引き方向（光ファイバ引取り方
向）距離が、５０ｃｍ以上、１ｍ以下となるように設定
するのが好ましいことがわかる。
の波長１．５５μｍにおける伝送損失を図２に示す。ま
た紡糸炉２内の温度分布を図３に示す。図３において、
横軸は基準点からの線引き方向距離（相対位置）を示
し、縦軸は炉内温度を示す。図２より、紡糸炉２内温度
を、１０００℃以上となる領域の線引き方向距離が５０
ｃｍ以上となるように設定することによって、伝送損失
を低減することができたことがわかる。また、１０００
℃以上となる領域の線引き方向距離が１ｍを越える場合
には、光ファイバ母材１のネックダウン部１ａが長くな
りすぎ、製造開始時の条件設定が難しくなるとともに、
製造終了時の光ファイバ母材１の残留量（引き残り）が
多くなった。以上より、紡糸炉２内の温度は、１０００
℃以上となる領域の線引き方向（光ファイバ引取り方
向）距離が、５０ｃｍ以上、１ｍ以下となるように設定
するのが好ましいことがわかる。
【００２６】（実施例５）図１に示す製造装置（徐冷装
置４を備えたもの）を用いて、次のようにして光ファイ
バ素線９を作製した。実施例１で用いたものと同様の光
ファイバ母材１を、紡糸炉２で加熱して溶融紡糸して光
ファイバ裸線３（外径０．１２５μｍ）とし、これを徐
冷装置４の徐冷部１４に導入して徐冷した。樹脂被覆装
置５、７、架橋筒６、８によって光ファイバ裸線３上に
１次被覆層および２次被覆層を形成し、光ファイバ素線
９（外径０．２５０μｍ）を得た。紡糸炉２内温度は、
１０００℃以上となる領域の線引き方向距離が５０ｃｍ
となるように設定した。徐冷装置４では、常温のアルゴ
ンガスをガス供給源１７から徐冷部１４内に導入するこ
とによって、光ファイバ裸線３の温度が１１００℃以上
となる領域における光ファイバ裸線３の冷却速度を６０
００℃／ｓｅｃとした。その他の試験条件は実施例１に
準じた。波長１．５５μｍにおける光ファイバ素線９の
伝送損失を測定したところ、０．１９１ｄＢ／ｋｍであ
った。
置４を備えたもの）を用いて、次のようにして光ファイ
バ素線９を作製した。実施例１で用いたものと同様の光
ファイバ母材１を、紡糸炉２で加熱して溶融紡糸して光
ファイバ裸線３（外径０．１２５μｍ）とし、これを徐
冷装置４の徐冷部１４に導入して徐冷した。樹脂被覆装
置５、７、架橋筒６、８によって光ファイバ裸線３上に
１次被覆層および２次被覆層を形成し、光ファイバ素線
９（外径０．２５０μｍ）を得た。紡糸炉２内温度は、
１０００℃以上となる領域の線引き方向距離が５０ｃｍ
となるように設定した。徐冷装置４では、常温のアルゴ
ンガスをガス供給源１７から徐冷部１４内に導入するこ
とによって、光ファイバ裸線３の温度が１１００℃以上
となる領域における光ファイバ裸線３の冷却速度を６０
００℃／ｓｅｃとした。その他の試験条件は実施例１に
準じた。波長１．５５μｍにおける光ファイバ素線９の
伝送損失を測定したところ、０．１９１ｄＢ／ｋｍであ
った。
【００２７】（実施例６）徐冷装置４において、アルゴ
ンガスを加熱部１８で加熱した後に徐冷部１４に導入す
ることによって、光ファイバ裸線３の冷却速度を４００
０℃／ｓｅｃとすること以外は実施例５と同様にして光
ファイバ素線９を作製した。波長１．５５μｍにおける
光ファイバ素線９の伝送損失を測定したところ、０．１
８９ｄＢ／ｋｍであった。
ンガスを加熱部１８で加熱した後に徐冷部１４に導入す
ることによって、光ファイバ裸線３の冷却速度を４００
０℃／ｓｅｃとすること以外は実施例５と同様にして光
ファイバ素線９を作製した。波長１．５５μｍにおける
光ファイバ素線９の伝送損失を測定したところ、０．１
８９ｄＢ／ｋｍであった。
【００２８】（実施例７）徐冷装置４において、加熱部
１８で加熱したアルゴンガスを徐冷部１４に導入すると
ともに、ヒータ１６によって徐冷部１４内を加熱するこ
とによって、光ファイバ裸線３の冷却速度を１０００℃
／ｓｅｃとすること以外は実施例５と同様にして光ファ
イバ素線９を作製した。波長１．５５μｍにおける光フ
ァイバ素線９の伝送損失を測定したところ、０．１８８
ｄＢ／ｋｍであった。
１８で加熱したアルゴンガスを徐冷部１４に導入すると
ともに、ヒータ１６によって徐冷部１４内を加熱するこ
とによって、光ファイバ裸線３の冷却速度を１０００℃
／ｓｅｃとすること以外は実施例５と同様にして光ファ
イバ素線９を作製した。波長１．５５μｍにおける光フ
ァイバ素線９の伝送損失を測定したところ、０．１８８
ｄＢ／ｋｍであった。
【００２９】実施例２、５〜７で得られた光ファイバ素
線９の波長１．５５μｍにおける伝送損失を図４に示
す。実施例２、５〜７において、紡糸炉２内の最高温度
位置（ピーク温度位置）から光ファイバ裸線３温度が１
１００℃になった位置（１１００℃位置）までの距離を
表１に示す。
線９の波長１．５５μｍにおける伝送損失を図４に示
す。実施例２、５〜７において、紡糸炉２内の最高温度
位置（ピーク温度位置）から光ファイバ裸線３温度が１
１００℃になった位置（１１００℃位置）までの距離を
表１に示す。
【００３０】
【表１】
【００３１】図４より、光ファイバ裸線３の冷却温度を
４０００℃／ｓｅｃ以下とすることによって、伝送損失
を低く抑えることができることがわかる。冷却速度は、
小さいほど伝送損失の点で有利であるが、表１に示すよ
うに、冷却速度を１０００℃／ｓｅｃ未満とする場合に
は、紡糸炉２のピーク温度位置から、１１００℃位置ま
での距離を４ｍを越える値とすることが必要となり、設
備コストや装置の設置スペースの点で実用的でない。以
上より、光ファイバ裸線３の冷却速度は、１０００℃／
ｓｅｃ以上、４０００℃／ｓｅｃ以下とするのが好まし
いことがわかる。
４０００℃／ｓｅｃ以下とすることによって、伝送損失
を低く抑えることができることがわかる。冷却速度は、
小さいほど伝送損失の点で有利であるが、表１に示すよ
うに、冷却速度を１０００℃／ｓｅｃ未満とする場合に
は、紡糸炉２のピーク温度位置から、１１００℃位置ま
での距離を４ｍを越える値とすることが必要となり、設
備コストや装置の設置スペースの点で実用的でない。以
上より、光ファイバ裸線３の冷却速度は、１０００℃／
ｓｅｃ以上、４０００℃／ｓｅｃ以下とするのが好まし
いことがわかる。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光ファイ
バ素線の製造方法では、紡糸炉内の温度を、１０００℃
以上となる領域の光ファイバ引取り方向距離が５０ｃｍ
以上、１ｍ以下となるように設定するので、光ファイバ
引取り速度を高く設定した場合でも、波長１．５５μｍ
における伝送損失を低減することができる。従って、生
産効率を高くし、かつ伝送損失を低減することができ
る。
バ素線の製造方法では、紡糸炉内の温度を、１０００℃
以上となる領域の光ファイバ引取り方向距離が５０ｃｍ
以上、１ｍ以下となるように設定するので、光ファイバ
引取り速度を高く設定した場合でも、波長１．５５μｍ
における伝送損失を低減することができる。従って、生
産効率を高くし、かつ伝送損失を低減することができ
る。
【００３３】また、光ファイバ裸線の温度が１１００℃
以上となる領域における光ファイバ裸線の冷却速度が１
０００℃／ｓｅｃ以上、４０００℃／ｓｅｃ以下となる
ようにすることによって、波長１．５５μｍにおける伝
送損失をさらに低減することができる。
以上となる領域における光ファイバ裸線の冷却速度が１
０００℃／ｓｅｃ以上、４０００℃／ｓｅｃ以下となる
ようにすることによって、波長１．５５μｍにおける伝
送損失をさらに低減することができる。
【図１】 本発明の光ファイバ素線の製造装置の一実
施形態を示す概略構成図である。
施形態を示す概略構成図である。
【図２】 試験結果を示すグラフである。
【図３】 試験結果を示すグラフである。
【図４】 試験結果を示すグラフである。
１・・・光ファイバ母材、２・・・紡糸炉、３・・・光ファイバ
裸線、４・・・徐冷装置、５、７・・・樹脂被覆装置、６、８
・・・架橋筒、９・・・光ファイバ素線、１４・・・徐冷部、１
５・・・温度調整部（温度調整手段）、１６・・・ヒータ、１
８・・・加熱部
裸線、４・・・徐冷装置、５、７・・・樹脂被覆装置、６、８
・・・架橋筒、９・・・光ファイバ素線、１４・・・徐冷部、１
５・・・温度調整部（温度調整手段）、１６・・・ヒータ、１
８・・・加熱部
フロントページの続き
(72)発明者 原田 光一
千葉県佐倉市六崎1440番地 株式会社フジ
クラ佐倉事業所内
Claims (7)
- 【請求項１】 光ファイバ母材を紡糸炉で溶融紡糸し
て得られた光ファイバ裸線を冷却し、その上に被覆層を
形成する光ファイバ素線の製造方法であって、 紡糸炉内の温度を、１０００℃以上となる領域の光ファ
イバ引取り方向距離が５０ｃｍ以上、１ｍ以下となるよ
うにすることを特徴とする光ファイバ素線の製造方法。 - 【請求項２】 光ファイバ裸線を冷却するにあたり、
光ファイバ裸線の温度が１１００℃以上となる領域にお
いて、その冷却速度を１０００℃／ｓｅｃ以上、４００
０℃／ｓｅｃ以下とすることを特徴とする請求項１記載
の光ファイバ素線の製造方法。 - 【請求項３】 光ファイバ母材を溶融紡糸して光ファ
イバ裸線とする紡糸炉と、光ファイバ裸線を徐冷する徐
冷装置と、光ファイバ裸線上に被覆層を形成する樹脂被
覆装置とを備え、 紡糸炉は、炉内温度が１０００℃以上となる領域の光フ
ァイバ引取り方向距離を５０ｃｍ以上、１ｍ以下とする
ことができるように構成されていることを特徴とする光
ファイバ素線の製造装置。 - 【請求項４】 徐冷装置は、光ファイバ裸線が導入さ
れる徐冷部と、温度調整用ガスによって徐冷部内の温度
を調整する温度調整手段とを備えていることを特徴とす
る請求項３記載の光ファイバ素線の製造装置。 - 【請求項５】 温度調節手段は、温度調整用ガスを加
熱する加熱部を備えていることを特徴とする請求項４記
載の光ファイバ素線の製造装置。 - 【請求項６】 徐冷装置は、徐冷部内を加熱するヒー
タを備えていることを特徴とする請求項４または５記載
の光ファイバ素線の製造装置。 - 【請求項７】 請求項１または２記載の光ファイバ素
線の製造方法によって製造されたものであることを特徴
とする光ファイバ素線。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001374320A JP2003176149A (ja) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | 光ファイバ素線の製造方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001374320A JP2003176149A (ja) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | 光ファイバ素線の製造方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003176149A true JP2003176149A (ja) | 2003-06-24 |
Family
ID=19182896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001374320A Pending JP2003176149A (ja) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | 光ファイバ素線の製造方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003176149A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103189322A (zh) * | 2011-08-12 | 2013-07-03 | 株式会社藤仓 | 光纤素线的制造方法和制造装置 |
| WO2013105579A1 (ja) | 2012-01-10 | 2013-07-18 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法および製造装置並びに光ファイバ |
-
2001
- 2001-12-07 JP JP2001374320A patent/JP2003176149A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103189322A (zh) * | 2011-08-12 | 2013-07-03 | 株式会社藤仓 | 光纤素线的制造方法和制造装置 |
| US9389361B2 (en) | 2011-08-12 | 2016-07-12 | Fujikura Ltd. | Method and apparatus for manufacturing optical fiber |
| WO2013105579A1 (ja) | 2012-01-10 | 2013-07-18 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法および製造装置並びに光ファイバ |
| EP2803643A1 (en) * | 2012-01-10 | 2014-11-19 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber production method and production device, and optical fiber |
| EP2803643A4 (en) * | 2012-01-10 | 2015-10-14 | Sumitomo Electric Industries | PROCESS FOR PRODUCING OPTICAL FIBER AND PRODUCTION DEVICE, AND OPTICAL FIBER |
| US9475722B2 (en) | 2012-01-10 | 2016-10-25 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber producing method and apparatus and optical fiber |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7658086B2 (en) | Drawing method for bare optical fiber with suppressed hydrogen diffusion | |
| US20060191293A1 (en) | Furnace and process for drawing radiation resistant optical fiber | |
| JP2007197273A (ja) | 光ファイバ素線及びその製造方法 | |
| JP6340390B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
| JP4663277B2 (ja) | 光ファイバ素線及びその製造方法 | |
| WO2000073224A1 (fr) | Dispositif de production et procede pour fibre optique | |
| CN107428592B (zh) | 光纤的制造方法 | |
| JP4482954B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
| CN107108327B (zh) | 光纤的制造方法 | |
| JPH09142890A (ja) | 光ファイバの引出方法及び装置 | |
| JP4302367B2 (ja) | 光ファイバの線引き方法および線引き装置 | |
| JP4459720B2 (ja) | 光ファイバ素線の製造方法 | |
| CN110845135B (zh) | 光纤的制造方法 | |
| JP2000335933A (ja) | 光ファイバの製造方法及び製造装置 | |
| JP2003176149A (ja) | 光ファイバ素線の製造方法および装置 | |
| US6935139B2 (en) | Method of manufacturing optical fiber | |
| US20200308043A1 (en) | Optical fiber drawing furnace heating element, optical fiber drawing furnace, and method for manufacturing optical fiber | |
| JP2004338972A (ja) | 光ファイバの製造方法及び製造装置 | |
| JP4215943B2 (ja) | 光ファイバ素線の製造方法 | |
| JP2004256367A (ja) | 光ファイバ素線の製造方法 | |
| JP2005187285A (ja) | 光ファイバの線引き方法およびその線引き装置 | |
| JPH0717400B2 (ja) | 光フアイバの製造方法 | |
| JP2006124191A (ja) | 光ファイバ素線の製造方法および光ファイバ素線の製造装置 | |
| JP2007063030A (ja) | 光ファイバ裸線の製造方法、光ファイバ素線の製造方法と製造装置並びに光ファイバ素線 | |
| JP2004352549A (ja) | 光ファイバ素線の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040603 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070515 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070522 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071002 |