JP2003175372A - Soil manufacturing method, soil treatment apparatus, treatment method and treatment apparatus - Google Patents

Soil manufacturing method, soil treatment apparatus, treatment method and treatment apparatus

Info

Publication number
JP2003175372A
JP2003175372A JP2002228009A JP2002228009A JP2003175372A JP 2003175372 A JP2003175372 A JP 2003175372A JP 2002228009 A JP2002228009 A JP 2002228009A JP 2002228009 A JP2002228009 A JP 2002228009A JP 2003175372 A JP2003175372 A JP 2003175372A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heating
treated
gas
chamber
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002228009A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Yokoyama
芳昭 横山
Toru Kigami
徹 樹神
Yasuo Mishima
泰雄 三島
Katsuo Takamiya
勝雄 高宮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoei Shokai Co Ltd
Original Assignee
Hoei Shokai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoei Shokai Co Ltd filed Critical Hoei Shokai Co Ltd
Priority to JP2002228009A priority Critical patent/JP2003175372A/en
Publication of JP2003175372A publication Critical patent/JP2003175372A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a soil manufacturing method for manufacturing clean soil from soil polluted with an organohalogen compound such as dioxins or the like, and a soil treatment apparatus. <P>SOLUTION: Matter to be treated such as soil, incineration ash or the like containing the organohalogen compound is introduced into a hermetically closable pyrolytic furnace 310 to be heated under reduced pressure. The gaseous discharged matter of the matter to be treated is treated so as to suppress the formation and re-synthesis of dioxins. The heated residue of the matter to be treated is purged with a substitution gas free from the organohalogen compound or having organohalogen compound forming capacity before cooled. By this method, the concentration of the organohalogen compound remaining in the heated residue of the matter to be treated can be suppressed to an extremely low level. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はダイオキシンの発生
を抑制することが可能な処理方法及び処理装置に関し、
特に、廃車等の熱分解処理、工場、一般家庭等からでる
ゴミや、廃棄物の処理にあたってダイオキシンを含む有
機ハロゲン化物が発生することを抑制することが可能な
処理装置、処理方法に関する。また、ダイオキシンなど
の有害な有機ハロゲン化物を含有する熱分解残渣、焼却
残渣、残液、土壌、汚泥等中の残留ダイオキシン濃度を
低減することが可能な処理方法、処理装置に関するもの
である。さらに本発明はダイオキシンなどの有機ハロゲ
ン化物を含有する土壌から清浄な土壌を生産するための
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a treatment method and a treatment apparatus capable of suppressing the generation of dioxin,
In particular, the present invention relates to a treatment device and a treatment method capable of suppressing the thermal decomposition treatment of abandoned vehicles and the like, the generation of dust from factories, general households, etc., and the generation of organic halides containing dioxin in the treatment of waste. The present invention also relates to a treatment method and a treatment device capable of reducing the residual dioxin concentration in a thermal decomposition residue, an incineration residue, a residual liquid, soil, sludge, etc., containing a harmful organic halide such as dioxin. The invention further relates to a method for producing clean soil from soil containing organic halides such as dioxins.

【0002】[0002]

【従来の技術】近時乗用車、バス、トラック等の車両の
生産台数が増加するに伴い、廃棄する車両も大幅に増加
し、また、一般家庭や工場等から出るゴミ類、家電品等
の廃品等の量も増加して来ており、それ等の廃棄処理に
伴い新たな公害が指摘されている。即ち、これ等の廃
車、廃品、ゴミ、シュレッダー類には鉄、非鉄金属、プ
ラスチック、ゴム等種々の物質が含まれており、それ等
を熱分解したり焼却処理したりする場合にNOx、SO
x、あるいはダイオキシン類等の有害な有機ハロゲン化
物が発生してしまう。そしてそれが熱分解残渣、焼却残
渣などの加熱残渣中、あるいは焼却、熱分解に伴うガス
状排出物、液状排出物、残留液体に多く残留することに
なる。ダイオキシン類が猛毒であって、それが人体に及
ぼす悪影響については、近時連日のように報道されてい
る。また実際に、焼却飛灰、熱分解残渣、焼却廃ガス、
残液、更には煤塵中にダイオキシン類などの有機ハロゲ
ン化物が残留し、このことは大きな社会問題になってい
る。
2. Description of the Related Art Recently, as the number of vehicles such as passenger cars, buses, trucks, etc. produced has increased, the number of vehicles to be disposed of has also increased significantly, and garbage such as households and factories, household appliances, etc. The amount of such substances has also increased, and new pollution has been pointed out with the disposal of such substances. That is, these junk cars, scraps, garbage, shredders contain various substances such as iron, non-ferrous metals, plastics and rubbers, and when these substances are pyrolyzed or incinerated, NOx, SO
x, or harmful organic halides such as dioxins are generated. Then, a large amount thereof remains in the heating residue such as the thermal decomposition residue and the incineration residue, or in the gaseous emission, the liquid emission, and the residual liquid due to the incineration and thermal decomposition. Dioxins are extremely poisonous and their adverse effects on the human body are reported every day. In fact, incineration fly ash, thermal decomposition residue, incineration waste gas,
Organic halides such as dioxins remain in the residual liquid and further in soot and dust, which is a big social problem.

【0003】したがってこのダイオキシン類対策のた
め、ダイオキシンの発生の抑制と、ダイオキシン類の安
全で効果的な無害化処理についての種々の研究がなされ
ている。しかしながらこれまでダイオキシン類を含む有
機ハロゲン化物の効果的な処理技術は未だ確立されてい
るとはいえない。
Therefore, as measures against this dioxins, various studies have been conducted on the suppression of the generation of dioxins and the safe and effective detoxification treatment of dioxins. However, until now, it cannot be said that an effective treatment technique for organic halides containing dioxins has been established.

【0004】焼却飛灰、土壌、汚泥、農産物、水産物等
のダイオキシン類、PCB、コプラナPCB等の有害な
有機ハロゲン化物を含有する処理対象物体、あるいは、
家庭ゴミ、シュレッダーダスト、回路基板などの有機ハ
ロゲン化物を生成しうる処理対象物体を、還元性雰囲気
で加熱すると脱塩素反応が生じ、このことがダイオキシ
ン類の濃度低減に有効であることが知られている。また
一般にダイオキシン類は還元性雰囲気で約500℃程度
以上に加熱することによって分解することが知られてい
る。したがって系内を還元性雰囲気に保持して処理対象
物体の加熱を行えばダイオキシン類の分解することがで
きる。しかしながら、焼却にしても熱分解にしても、常
温から約500℃に到達する加熱の過程においてはダイ
オキシン類が生成することは不可避であり、この加熱過
程で生じるダイオキシン類の効果的な対策は未だ確立さ
れていない。このため処理対象物体が所定の加熱温度へ
到達する過程で発生するダイオキシン類の効果的な処理
技術の確立が求められている。また、上述したように有
機ハロゲン化物を含有する処理対象物体、または有機ハ
ロゲン化物を生成しうる処理対象物体の蒸し焼き処理
(熱分解処理)を従来のダイオキシン対策によった場
合、加熱室内を所定真空度に保持するとともに一気に所
定温度に昇温させることが困難であるという問題があ
る。
Objects to be treated containing incineration fly ash, soil, sludge, dioxins such as agricultural products and marine products, and harmful organic halides such as PCB and coplanar PCB, or
It is known that when an object to be treated that can generate organic halides such as household waste, shredder dust, and circuit boards is heated in a reducing atmosphere, a dechlorination reaction occurs, which is effective in reducing the concentration of dioxins. ing. It is generally known that dioxins are decomposed by heating at about 500 ° C. or higher in a reducing atmosphere. Therefore, if the object to be treated is heated while maintaining the system in a reducing atmosphere, dioxins can be decomposed. However, whether incinerated or pyrolyzed, it is inevitable that dioxin will be produced in the heating process from room temperature to about 500 ° C, and effective measures against dioxins generated in this heating process have not yet been taken. Not established. Therefore, it is required to establish an effective treatment technique for dioxins generated in the process of reaching a predetermined heating temperature of the object to be treated. Further, when the steaming treatment (pyrolysis treatment) of the object to be treated containing an organic halide or the object to be treated which can generate an organic halide as described above is carried out according to the conventional dioxin countermeasure, a predetermined vacuum is applied to the inside of the heating chamber. However, there is a problem that it is difficult to hold the temperature once and raise the temperature to a predetermined temperature all at once.

【0005】ダイオキシン、PCB、コプラナPCB等
の有機ハロゲン化物の環境への拡散とその影響が大きな
社会問題となっている。例えば廃棄物を燃焼処理、熱分
解処理した加熱残渣(灰、チャー、カーボン)にはダイ
オキシン類などの有害な有機ハロゲン化物が残留してい
る。また例えばごみ焼却場、産業廃棄物処分場の周辺土
壌等から高濃度のダイオキシン類が検出されており、住
民の健康への悪影響が深刻に懸念されている。また土
壌、汚泥などにも有機ハロゲン化物は含まれている。
Diffusion of organic halides such as dioxins, PCBs and coplanar PCBs into the environment and their effects have become a serious social problem. For example, harmful organic halides such as dioxins remain in the heating residues (ash, char, carbon) obtained by burning and pyrolyzing waste. Further, for example, high concentrations of dioxins have been detected in the soil around the refuse incineration plant and the industrial waste disposal site, and there is a serious concern about the adverse effects on the health of the residents. Soil and sludge also contain organic halides.

【0006】このように廃棄物の加熱残渣や、特殊条件
における土壌、汚泥などの固体、液体中にはダイオキシ
ン類などの有機ハロゲン化物、または重金属などが残留
しているものが多い。
[0006] As described above, in many cases, residues of organic waste such as dioxins, or heavy metals remain in the heating residue of waste, solids such as soil and sludge under special conditions, and liquids.

【0007】これら有機ハロゲン化物または重金属を含
む有害物質を除去する方法としては、有機ハロゲン化物
を含有する処理対象物体を高温加熱したり、約1500
°C前後の高温で溶融処理することにより有機ハロゲン
化物濃度を低減する手法が提案されている。しかしなが
らこのような方法は、高価で大規模な設備が必要となる
こと、ランニングコストが高いこと等の問題がある。さ
らに、常温からダイオキシンの分解温度に達するまでの
間に発生するダイオキシンについては対応することがで
きないという問題がある。焼却施設周辺など、ダイオキ
シン等の有機ハロゲン化物、As、Hg、Cd、Pb、
Cr+6などが降りそそいだ土壌などの効果的な処理技
術は確立されていない。
As a method for removing harmful substances containing these organic halides or heavy metals, the object to be treated containing the organic halide is heated to a high temperature, or about 1500
A method has been proposed in which the concentration of the organic halide is reduced by performing a melting process at a high temperature of about ° C. However, such a method has problems that an expensive and large-scale facility is required, running cost is high, and the like. Further, there is a problem that it is not possible to deal with dioxins generated during the period from room temperature to the decomposition temperature of dioxins. Organic halides such as dioxins around the incineration facility, As, Hg, Cd, Pb,
No effective treatment technology has been established for soil or the like that has been flooded with Cr +6 and the like.

【0008】また、燃焼(焼却)等で都市ゴミなどを処
理する場合、完全燃焼することができれば有機ハロゲン
化物の生成を低減することができる。しかしながら、量
が多く不均質な処理対象物体を完全燃焼することは非常
に困難である。また完全燃焼することが可能だとしても
所定の温度へ到達するまでの間に、ダイオキシン類など
の有害な有機ハロゲン化物は生成してしまう。
In the case of treating municipal wastes by burning (incineration) or the like, the production of organic halides can be reduced if they can be completely burned. However, it is very difficult to completely burn a large amount of non-uniform object to be treated. Even if complete combustion is possible, harmful organic halides such as dioxins will be produced before reaching a predetermined temperature.

【0009】焼却や熱分解などの処理対象物体の加熱処
理の残渣である加熱残渣にはダイオキシン類などの有機
ハロゲン化物が残留しており、加熱残渣に残留する有機
ハロゲン化物濃度を低減、除去する加熱処理の技術を確
立することが求められている。
Organic halides such as dioxins remain in the heating residue which is the residue of the heat treatment of the object to be treated such as incineration and thermal decomposition, and the concentration of the organic halide remaining in the heating residue is reduced and removed. It is required to establish heat treatment technology.

【0010】ところで、ダイオキシンが生成されるため
にはベンゼン核の炭素と結合する反応性の塩素原子と、
ベンゼン核を結合する酸素が存在することが必要となる
(図6参照)。図6は米国のチャウドリー(Choud
hry)らが推定した焼却時の化学反応の流れである。
熱分解に際してダイオキシンが生成されることを抑制す
るためには、熱分解炉内におけるこれらの反応性の塩素
原子と酸素の量をコントロールすることが有効と考えら
れる。しかしながら従来このような視点からダイオキシ
ンの発生を防止するために好適な熱分解炉は提案されて
いない。特に所定の加熱温度までの昇温過程における比
較的低温時(常温〜500℃)におけるダイオキシン
類、コプラナPCB等の有機ハロゲン化物の生成抑制、
並びに、残灰等の加熱残渣中に残留する有機ハロゲン化
物の低温での分解などを実現する技術は未だ確立されて
いない。
By the way, in order to generate dioxin, a reactive chlorine atom that bonds with the carbon of the benzene nucleus,
The presence of oxygen that binds the benzene nucleus is required (see Figure 6). Figure 6 shows Choudrey in the United States.
It is the flow of the chemical reaction at the time of incineration estimated by hry) et al.
In order to suppress the production of dioxins during thermal decomposition, it is considered effective to control the amounts of these reactive chlorine atoms and oxygen in the thermal decomposition furnace. However, a thermal decomposition furnace suitable for preventing the generation of dioxins has not been proposed from such a viewpoint. In particular, suppression of formation of organic halides such as dioxins and coplanar PCB at relatively low temperature (normal temperature to 500 ° C.) in the temperature rising process up to a predetermined heating temperature,
In addition, a technique for realizing decomposition of organic halide remaining in a heating residue such as residual ash at a low temperature has not been established yet.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような問
題点を解決するためになされたものである。本発明はダ
イオキシン等の有機ハロゲン化物で汚染された土壌から
清浄な土壌を生産する土壌の生産方法、土壌の処理装置
を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems. It is an object of the present invention to provide a soil production method for producing clean soil from soil contaminated with organic halides such as dioxins, and a soil treatment device.

【0012】また本発明は焼却灰、シュレッダーダスト
などの処理対象物体を安全に処理する処理方法、処理装
置を提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide a processing method and a processing apparatus for safely processing an object to be processed such as incineration ash and shredder dust.

【0013】また本発明は、処理対象物体の加熱処理に
際して加熱室内における圧力及び温度を変化させるとい
う手段により、ダイオキシンの発生を極力防止するとと
もに加熱残渣に残留するダイオキシンの濃度を低く抑制
することを課題とする。
Further, according to the present invention, generation of dioxin is prevented as much as possible and the concentration of dioxin remaining in the heating residue is suppressed to a low level by means of changing the pressure and temperature in the heating chamber during the heat treatment of the object to be treated. It is an issue.

【0014】また本発明は地方自治体のゴミ焼却施設や
工場等からでる残灰などの加熱残渣、残液、煤塵等中に
含まれるダイオキシン、これらに汚染された土壌、汚泥
などから安全で確実にダイオキシンを除去することがで
きる処理方法及び処理装置を提供することを課題とす
る。
Further, the present invention is safe and reliable from heating residues such as residual ash generated from garbage incineration facilities and factories of local governments, residual liquid, dioxin contained in soot, etc., soil and sludge contaminated with these. An object of the present invention is to provide a processing method and a processing device capable of removing dioxin.

【0015】また本発明は、熱分解時における炉内の温
度、圧力、塩素と酸素の量に応じてこれらをコントロー
ルすることによりダイオキシンが発生すること自体を抑
止し得るとともに、仮にダイオキシンが発生し、あるい
は残留ダイオキシンが存在するとしても、それを確実に
分解、除去することができ、しかも、比較的低温におけ
る常圧熱分解であっても有効にダイオキシンの処理をな
し得る熱分解方法及び装置を提供することを課題とす
る。
Further, according to the present invention, it is possible to suppress the generation of dioxin itself by controlling these in accordance with the temperature, pressure, chlorine and oxygen amount in the furnace at the time of pyrolysis, and at the same time, if dioxin is generated. , Or even if residual dioxin is present, it can be reliably decomposed and removed, and moreover, a thermal decomposition method and apparatus capable of effectively treating dioxin even at atmospheric pressure thermal decomposition at a relatively low temperature. The challenge is to provide.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るため本発明は以下のような構成を採用している。
In order to solve such a problem, the present invention has the following constitution.

【0017】本発明の土壌の生産方法は、有機ハロゲン
化物を第1の濃度で含有する第1の土壌から、前記有機
ハロゲン化物を第1の濃度より低い第2の濃度で含有す
る第2の土壌を生産する土壌の生産方法において、前記
第1の土壌を気密領域に導入し、前記第1の土壌を減圧
下で加熱することにより前記有機ハロゲン化物の少なく
とも一部を熱分解する、ことを特徴とする。処理対象物
体は前記有機ハロゲン化物の分解温度以上、または沸点
以上に加熱される。
The method for producing soil according to the present invention comprises a second soil containing the organic halide in a second concentration lower than the first concentration from the first soil containing the organic halide in a first concentration. In a method of producing soil for producing soil, at least a part of the organic halide is thermally decomposed by introducing the first soil into an airtight region and heating the first soil under reduced pressure. Characterize. The object to be treated is heated above the decomposition temperature of the organic halide or above the boiling point.

【0018】前記有機ハロゲン化物としては、例えばダ
イオキシン、PCB、コプラナPCBなどをあげること
ができる。
Examples of the organic halide include dioxin, PCB, coplanar PCB and the like.

【0019】さらに、前記土壌の熱分解により生じたガ
ス状排出物中のハロゲン濃度を低減する工程をさらに有
するようにしてもよい。これによりガス状排出物中で有
機ハロゲン化物が生成、再生成する可能性を低減するこ
とができる。
Further, a step of reducing the halogen concentration in the gaseous effluent generated by the thermal decomposition of the soil may be further included. This can reduce the possibility of organic halides being produced and regenerated in the gaseous effluent.

【0020】前記第1の土壌の熱分解残渣は、前記気密
領域内を実質的に前記有機ハロゲン化物フリーかつ有機
ハロゲン化物生成能を有しない置換ガスで置換した後に
冷却するようにしてもよい。これにより冷却に伴ってダ
イオキシンなどの有機ハロゲン化物が残渣中に固定され
るのを防止することができる。
The pyrolysis residue of the first soil may be cooled after the airtight region is replaced with a replacement gas that is substantially free of the organic halide and has no organic halide forming ability. This makes it possible to prevent organic halides such as dioxins from being fixed in the residue due to cooling.

【0021】このような実質的に前記有機ハロゲン化物
フリーかつ有機ハロゲン化物生成能を有しない置換ガス
の形態としては、例えば、ヘリウム、ネオン、アルゴ
ン、クリプトン、キセノン、窒素、及び水素からなる群
から選択された少なくとも1種のガス、これらの混合ガ
ス、これらのガスまたは混合ガスを主体としたガスをあ
げることができる。
Examples of the form of the substitution gas which is substantially free of the organic halide and does not have the ability to form an organic halide include, for example, helium, neon, argon, krypton, xenon, nitrogen and hydrogen. At least one selected gas, a mixed gas thereof, and a gas mainly containing these gas or mixed gas can be used.

【0022】前記熱分解工程は、前記気密領域内の酸素
濃度を制御しながら行うようにしてもよい。これにより
処理対象物体の不均一さ、部分燃焼などにかかわらずガ
ス状排出物の生成量の変動を抑制し、ガス状排出物の処
理をより確実に、かつ効率的に行えるようになる。また
酸素濃度、ハロゲンの濃度を抑制することによりダイオ
キシン生成を防止することもできる。
The thermal decomposition step may be performed while controlling the oxygen concentration in the hermetic zone. As a result, it is possible to suppress fluctuations in the production amount of the gaseous emission regardless of the non-uniformity of the object to be treated, partial combustion, etc., and to perform the treatment of the gaseous emission more reliably and efficiently. Further, by suppressing the oxygen concentration and the halogen concentration, it is possible to prevent dioxin formation.

【0023】本発明の土壌の生産方法は、有機ハロゲン
化物を第1の濃度で含有する第1の土壌から、前記有機
ハロゲン化物を第1の濃度より低い第2の濃度で含有す
る第2の土壌を生産する土壌の生産方法において、前記
第1の土壌を前記有機ハロゲン化物の少なくとも一部が
蒸発または分解するように加熱し、前記土壌の加熱残渣
を気密領域に導入し、前記気密領域内を実質的に前記有
機ハロゲン化物フリーかつ有機ハロゲン化物生成能を有
しない置換ガスで置換した後に前記土壌の加熱残渣を冷
却することを特徴とする。
The method for producing soil according to the present invention comprises a second soil containing the organic halide in a second concentration lower than the first concentration from the first soil containing the organic halide in a first concentration. In a method for producing soil for producing soil, the first soil is heated so that at least a part of the organic halide is evaporated or decomposed, and a heating residue of the soil is introduced into an airtight region, Is replaced with a replacement gas that is substantially free of the organic halide and does not have the ability to form an organic halide, and then the heating residue of the soil is cooled.

【0024】また本発明の土壌の生産方法は、有機ハロ
ゲン化物を含む土壌を減圧下で熱分解することを特徴と
する。減圧下では分子の平均自由行程が長く、また系内
が非酸化雰囲気に保たれるために、ダイオキシンなどの
有機ハロゲン化物の生成、再生成を防止することができ
る。また、減圧下では有機ハロゲン化物自体の分圧も小
さいので加熱残渣に残留するダイオキシン濃度を小さく
することができる。
The method for producing soil according to the present invention is characterized in that soil containing an organic halide is pyrolyzed under reduced pressure. Under reduced pressure, the mean free path of molecules is long, and since the system is kept in a non-oxidizing atmosphere, it is possible to prevent the formation and regeneration of organic halides such as dioxins. Moreover, since the partial pressure of the organic halide itself is small under reduced pressure, the concentration of dioxins remaining in the heating residue can be reduced.

【0025】例えば、ゴミ処理施設や工場等からでる残
留ダイオキシンを含む土壌、加熱残渣、蒸し焼き品、残
灰、残液、煤塵等を、常圧下から減圧しつつかつ昇温さ
せつつ熱処理することによりダイオキシンを効果的に処
理することができる。
[0025] For example, by subjecting soil containing residual dioxins, heating residues, steamed products, residual ash, residual liquid, soot dust, etc., generated from waste treatment facilities and factories to heat treatment while reducing pressure from normal pressure and increasing temperature. Dioxins can be effectively treated.

【0026】また、前記土壌の熱分解により生じたガス
状排出物のハロゲン濃度を低減するようにしてもよい。
The halogen concentration of the gaseous effluent generated by the thermal decomposition of the soil may be reduced.

【0027】本発明の土壌処理装置は、有機ハロゲン化
物を含有するか、または、加熱により有機ハロゲン化物
を生成可能な土壌を処理する土壌処理装置において、前
記土壌を加熱する手段と、気密領域と、前記土壌の加熱
残渣を気密領域に導入する手段と、前記気密領域内を実
質的に前記有機ハロゲン化物フリー(有機ハロゲン化物
が欠乏していること)な置換ガスで置換する手段と、記
加熱残渣を冷却する手段と、を具備したことを特徴とす
る。本発明では、燃焼、熱分解、減圧熱分解を問わず、
処理対象物体である土壌を加熱した後、気密領域内でパ
ージ、冷却するのである。前記置換手段は、前記置換ガ
スを、前記気密領域内を減圧した後に導入するようにし
てもよい。
The soil treating apparatus of the present invention is a soil treating apparatus for treating soil containing an organic halide or capable of producing an organic halide by heating, a means for heating the soil, and an airtight region. A means for introducing a heating residue of the soil into an airtight area, a means for substantially replacing the inside of the airtight area with the organic halide-free (being deficient in organic halide) replacement gas, and And means for cooling the residue. In the present invention, regardless of combustion, pyrolysis, reduced pressure pyrolysis,
After heating the soil, which is the object to be treated, it is purged and cooled in the airtight region. The replacement means may introduce the replacement gas after depressurizing the airtight region.

【0028】また、前記土壌の加熱により生じるガス状
排出物中に含まれるハロゲンと化合物を形成する金属、
または前記ガス状排出物中のハロゲンを吸着する吸着材
が配置されたハロゲン除去手段をさらに具備するように
してもよい。
A metal which forms a compound with halogen contained in the gaseous effluent produced by heating the soil,
Alternatively, a halogen removing means may be further provided in which an adsorbent for adsorbing halogen in the gaseous emission is arranged.

【0029】また前記土壌の加熱により生じるガス状排
出物をダイオキシンが分解するような第1の温度で改質
する改質手段と、改質された前記ガス状排出物中のダイ
オキシン濃度の増加が抑制されるように前記ガス状排出
物を第2の温度まで冷却する冷却手段と、をさらに具備
するようにしてもよい。前記冷却手段としては、前記ガ
ス状排出物に油を噴射して急冷するようにしてもよい。
Further, the reforming means for reforming the gaseous effluent generated by heating the soil at the first temperature such that dioxin is decomposed, and the increase of the dioxin concentration in the reformed gaseous effluent are Cooling means for cooling the gaseous effluent to a second temperature so as to be suppressed. As the cooling means, oil may be jetted to the gaseous emission for rapid cooling.

【0030】すなわち本発明の処理方法は、有機ハロゲ
ン化物を含む処理対象物体を減圧下で熱分解することを
特徴とするものである。
That is, the treatment method of the present invention is characterized by thermally decomposing an object to be treated containing an organic halide under reduced pressure.

【0031】また本発明の処理装置は、有機ハロゲン化
物を含むか、または、加熱により有機ハロゲン化物を生
成可能な処理対象物体を処理する処理装置において、前
記処理対象物体を加熱する手段と、気密領域と、前記加
熱残渣を気密領域に導入する手段と、前記気密領域内を
実質的に前記有機ハロゲン化物フリー(有機ハロゲン化
物が欠乏していること)な置換ガスで置換する手段と、
前記加熱残渣を冷却する手段と、を具備したことを特徴
とする。前記加熱手段としては、前記処理対象物体を燃
焼する燃焼炉、前記処理対象物体を熱分解する熱分解
炉、前記処理対象物体を減圧下で熱分解する減圧熱分解
炉等をあげることができる。
The processing apparatus of the present invention is a processing apparatus for processing an object to be processed which contains an organic halide or is capable of producing an organic halide by heating, and means for heating the object to be processed and airtightness. An area, means for introducing the heating residue into the airtight area, and means for replacing the inside of the airtight area with the organic halide-free (being deficient in organic halide) replacement gas.
A means for cooling the heating residue is provided. Examples of the heating means include a combustion furnace that burns the object to be treated, a pyrolysis furnace that thermally decomposes the object to be treated, a decompression pyrolysis furnace that thermally decomposes the object to be treated under reduced pressure, and the like.

【0032】本発明の処理装置は、処理対象物体を常圧
下から減圧しつつ熱分解(蒸し焼き)処理するにあた
り、熱分解温度を制御可能にした炉、あるいは、熱分解
温度の異なる複数の減圧炉を通過させることを特徴とす
る。例えば、炉の圧力をほぼ一定に処理し、温度を変化
させながら処理対象物体の熱分解を行うようにしてもよ
い。
The treatment apparatus of the present invention is a furnace in which the pyrolysis temperature can be controlled or a plurality of decompression furnaces having different pyrolysis temperatures are used for pyrolyzing (steaming) the object to be treated while decompressing the object from normal pressure. It is characterized by passing through. For example, the pressure in the furnace may be treated substantially constant, and the object to be treated may be thermally decomposed while changing the temperature.

【0033】また、処理対象物体を熱分解処理する熱分
解温度の制御を可能にした炉を設け、前記炉内を常圧か
ら所定真空度に変化させてその真空度を維持し得るよう
にしたことを特徴とする。例えば炉内の温度をほぼ一定
に保持し、圧力を変化させながら処理対象物体の熱分解
を行うようにしてもよい。
Further, a furnace capable of controlling the pyrolysis temperature for pyrolyzing the object to be treated is provided, and the inside of the furnace is changed from normal pressure to a predetermined degree of vacuum so that the degree of vacuum can be maintained. It is characterized by For example, the temperature in the furnace may be kept substantially constant, and the object to be treated may be thermally decomposed while changing the pressure.

【0034】また処理対象物体を熱分解処理する常圧炉
及び複数の減圧炉を連設し、前記各炉における熱分解温
度を後段にいくにしたがって高くなるように設定しても
よい。
Further, a normal pressure furnace for thermally decomposing the object to be treated and a plurality of decompression furnaces may be connected in series, and the pyrolysis temperature in each of the furnaces may be set so as to increase toward the subsequent stage.

【0035】前記減圧炉と接続して配設され、前記処理
対象物体の熱分解により生じるガス状排出物中に含まれ
るハロゲンと化合物を形成する金属、または前記ガス状
排出物中のハロゲンを吸着する吸着材を内部に保持した
ハロゲン除去手段をさらに具備したことを特徴とする。
ハロゲン除去手段の例えばハロゲンをトラップする金
属、分解する触媒などが装填された部分は、常温〜約1
000℃程度の範囲、より好ましくは約400℃〜約1
000℃の範囲でほぼ恒温に保持するようにしてもよ
い。ハロゲンを吸着する部分は低温に保持することが好
ましい。
A metal that forms a compound with the halogen contained in the gaseous emission produced by the thermal decomposition of the object to be treated, which is arranged in connection with the decompression furnace, or the halogen in the gaseous emission, is adsorbed. It is characterized in that it further comprises a halogen removing means holding the adsorbent therein.
For example, a portion of the halogen removing means that is loaded with a metal that traps halogen, a catalyst that decomposes, or the like is at room temperature to about 1
In the range of about 000 ° C, more preferably about 400 ° C to about 1
You may make it hold | maintain at substantially constant temperature in the range of 000 degreeC. It is preferable to keep the portion that adsorbs halogen at a low temperature.

【0036】また本発明では、ゴミ処理施設や工場等か
らでる残留ダイオキシンを含む加熱残渣を減圧させつ
つ、かつ加熱しつつ処理するようにしてもよい。またゴ
ミ処理施設や工場等からでる残留ダイオキシンを含む蒸
し焼き品、残灰、残液、煤塵等を、常圧下から減圧しつ
つ且つ昇温させつつ処理するようにしてもよい。
Further, in the present invention, the heating residue containing residual dioxins from the waste treatment facility or factory may be treated while being decompressed and heated. Further, steamed foods, residual ash, residual liquid, soot dust, etc. containing residual dioxins generated from waste treatment facilities, factories, etc. may be treated while reducing the pressure from normal pressure and raising the temperature.

【0037】また本発明では、密閉可能な熱分解炉のガ
ス出口に配した加熱状態の還元手段にガス状排出物を導
入することによって前記ガス状排出物を分解して還元
し、前記還元手段の下流側の酸素、酸化物ガス、塩素、
塩化物ガスの少なくとも一つのガス濃度を計測し、その
計測値に応じて前記熱分解炉内の温度、圧力、酸素濃度
等を制御するようにしてもよい。
Further, according to the present invention, the gaseous effluent is decomposed and reduced by introducing the gaseous effluent into the heated reducing means arranged at the gas outlet of the heat-decomposable furnace, which can be sealed. Oxygen, oxide gas, chlorine,
At least one gas concentration of chloride gas may be measured, and the temperature, pressure, oxygen concentration, etc. in the pyrolysis furnace may be controlled according to the measured value.

【0038】また、密閉可能な熱分解炉のガス出口に配
した加熱状態の還元手段にガス状排出物を導入すること
によって前記ガス状排出物を分解して還元し、前記熱分
解炉内又は前記還元手段の下流側の酸素、酸化物ガス、
塩素、塩化物ガスの少なくとも一つのガス濃度を計測
し、その計測値に応じて前記熱分解炉内に金属還元剤を
供給するようにしてもよい。
In addition, by introducing the gaseous effluent into the reducing means in a heated state disposed at the gas outlet of the heat-decomposable furnace, the gaseous effluent is decomposed and reduced, and the inside of the thermal decomposition furnace or Oxygen on the downstream side of the reducing means, oxide gas,
At least one gas concentration of chlorine and chloride gas may be measured, and a metal reducing agent may be supplied into the thermal decomposition furnace according to the measured value.

【0039】また本発明の処理装置は、密閉可能な熱分
解炉のガス出口に昇温可能な還元レトルトを設け、その
下流側に酸素と酸化物ガスの少なくとも一方並びに塩素
と塩化物ガスの少なくとも一方のガス濃度計測手段を配
置し、前記ガス濃度計測手段による計測値に基いて炉内
の温度制御を行うようにしてもよい。
Further, in the processing apparatus of the present invention, a retort capable of raising the temperature is provided at the gas outlet of the heat-decomposable pyrolysis furnace, and at least one of oxygen and oxide gas and at least chlorine and chloride gas are provided downstream thereof. One of the gas concentration measuring means may be arranged and the temperature inside the furnace may be controlled based on the value measured by the gas concentration measuring means.

【0040】また、密閉可能な熱分解炉のガス出口に昇
温可能な還元レトルトを設け、その下流側に酸素と酸素
ガスの少なくとも一方並びに塩素と塩化物ガスの少なく
とも一方のガス濃度計測手段を配置するとともに、前記
ガス濃度計測手段による計測値に基いて炉内にアルミニ
ウム、マグネシウム等の金属還元剤を供給する金属還元
剤供給手段を設置し、以て炉内の酸素及び塩素の量、炉
内圧力並びに温度の制御を行うようにしてもよい。
Further, a reduction retort capable of raising the temperature is provided at the gas outlet of the heat-sealable pyrolysis furnace, and a gas concentration measuring means for at least one of oxygen and oxygen gas and at least one of chlorine and chloride gas is provided downstream thereof. A metal reducing agent supply means for supplying a metal reducing agent such as aluminum or magnesium is installed in the furnace based on the value measured by the gas concentration measuring means, so that the amount of oxygen and chlorine in the furnace, the furnace You may make it control internal pressure and temperature.

【0041】例えば、 前記熱分解炉内又は前記還元手段
の下流側酸素と酸化物ガスの少なくとも一方並びに塩素
と塩化物ガスの少なくとも一方のガス濃度を計測し、 そ
の計測値に応じて前記熱分解炉内にアルミニウム、 マグ
ネシウム等の金属還元剤を供給することにより、 前記熱
分解炉内の酸素濃度及び塩素濃度、 並びに炉内の温度、
圧力等の制御を行うようにしてもよい。
For example, the gas concentration of at least one of oxygen and oxide gas and at least one of chlorine and chloride gas in the thermal decomposition furnace or downstream of the reducing means is measured, and the thermal decomposition is performed according to the measured value. By supplying a metal reducing agent such as aluminum or magnesium into the furnace, the oxygen concentration and chlorine concentration in the pyrolysis furnace, and the temperature in the furnace,
You may make it control pressure etc.

【0042】なた、前記熱分解炉に減圧手段を備えるこ
とにより減圧下での熱分解を行うようにしてもよい。そ
の場合、 家庭ゴミ、 シュレッダーダスト等の水分を含有
する処理対象物体の減圧下での熱分解を行う際には、 排
気系として水封ポンプなどの液封ポンプを用いることが
好ましい。液封ポンプの封液は水に限ることなく有機溶
媒を用いるようにしてもよい。通例上記熱分解装置は、
凝縮による金属回収装置と粉体除去装置を備える。 粉体
除去装置は、 金属粉体フィルターと、 ガス状排出物を油
に浸した布等の油膜を通過させることによりダイオキシ
ン等の粉体を溶解補足する油膜粉体トラップとから構成
される。本発明は、 更に、 上記熱分解炉を複数連続し、
前記各熱分解炉間に、 隣接する前記熱分解炉との間にお
けるガス分離及び同圧化が可能で処理対象物体を一時貯
留可能にした分離室を配置し、前室にパージ室、後室に
冷却室をゆうして成る連続熱分解装置、 を備えるように
してもよい。また前記還元手段中には、金属還元剤及び
/又はアルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の水
酸化物を添加するようにしてもよい。また、熱分解によ
り発生するガス状排出物を、凝縮による蒸発金属の回収
工程、油膜付き油槽による粉体除去行程、アルカリ溶液
との接触による塩類生成行程及びイオン交換樹脂膜によ
る塩類除去行程を経て処理するようにしてもよい。
It should be noted that the thermal decomposition furnace may be provided with a pressure reducing means to perform thermal decomposition under reduced pressure. In that case, it is preferable to use a liquid ring pump such as a water ring pump as an exhaust system when the thermal decomposition of an object to be treated containing water such as household waste and shredder dust under reduced pressure. The sealing liquid of the liquid ring pump is not limited to water, and an organic solvent may be used. Usually, the thermal decomposition device is
It is equipped with a metal recovery device by condensation and a powder removal device. The powder removing device is composed of a metal powder filter and an oil film powder trap that dissolves and captures powder such as dioxins by passing the gaseous emission through an oil film such as a cloth soaked in oil. The present invention further comprises a plurality of the above pyrolysis furnaces,
A separation chamber that allows gas separation and pressure equalization between adjacent pyrolysis furnaces and that can temporarily store objects to be processed is arranged between the pyrolysis furnaces, and a purge chamber and a rear chamber are provided in the front chamber. A continuous thermal decomposition device having a cooling chamber may be provided. Further, a metal reducing agent and / or an alkali metal hydroxide or an alkaline earth metal hydroxide may be added to the reducing means. In addition, the gaseous effluent generated by thermal decomposition undergoes a process of collecting evaporated metal by condensation, a powder removal process by an oil tank with an oil film, a salt production process by contact with an alkaline solution, and a salt removal process by an ion exchange resin film. You may make it process.

【0043】本発明では、有機ハロゲン化物とは、ダイ
オキシン類、PCB、コプラナPCB、DDT、トリク
ロロエチレン、トリハロメタン等を含むものとする(図
6参照)。
In the present invention, the organic halide includes dioxins, PCB, coplanar PCB, DDT, trichlorethylene, trihalomethane and the like (see FIG. 6).

【0044】また本発明では特に説明しないかぎり、ポ
リ塩化ダイベンゾパラダイオキシン(Polychlo
rinated dibenzo−p−dioxin
s:PCDDs)、ポリ塩化ダイベンゾフラン(Pol
ychlorinateddibenzofuran
s:PCDFs)およびこれらの塩素数および置換位置
の異なる同族体を総称してダイオキシンという。さらに
ダイオキシンの塩素をフッ素、臭素などほかのハロゲン
で置換した化合物も本発明でいう有機ハロゲン化物に含
まれる。
In the present invention, unless otherwise specified, polychlorinated dibenzoparadioxin (Polychlo) is used.
lined dibenzo-p-dioxin
s: PCDDs), polychlorinated dibenzofuran (Pol
ychlorinated dibenzofuran
s: PCDFs) and their homologues having different chlorine numbers and substitution positions are collectively called dioxins. Further, a compound obtained by substituting chlorine of dioxin with other halogen such as fluorine or bromine is also included in the organic halide in the present invention.

【0045】処理対象物体の加熱残渣中のダイオキシン
類、PCB、コプラナPCBなどの有機ハロゲン化物の
濃度を低減するためには、このような有機ハロゲン化物
の少なくとも一部が分解するような温度で処理対象物体
を加熱するとともに、処理対象物体を、できるかぎり有
機ハロゲン化物、および有機ハロゲン化物生成能を有す
る物質の濃度の低い雰囲気中で冷却することが重要であ
る。
In order to reduce the concentration of organic halides such as dioxins, PCBs and coplanar PCBs in the heating residue of the object to be treated, the treatment is carried out at a temperature at which at least a part of such organic halides is decomposed. It is important to heat the object to be treated and to cool the object to be treated in an atmosphere in which the concentration of the organic halide and the substance capable of forming an organic halide is as low as possible.

【0046】一方、処理対象物体の加熱により生じるガ
ス状排出物についても、ダイオキシン類の濃度、例えば
ハロゲンなどダイオキシンを生成可能な物質の濃度をで
きるかぎり低減することが好ましい。
On the other hand, it is preferable to reduce the concentration of dioxins, for example, the concentration of substances capable of producing dioxins such as halogen as much as possible also in the gaseous emission generated by heating the object to be treated.

【0047】処理対象物体の冷却の際に、冷却雰囲気に
有機ハロゲン化物が共存していると、この有機ハロゲン
化物は処理対象物体中に固定されてしまう。また処理対
象物体の冷却の際に、有機ハロゲン化物を生成しうる材
料物質が共存していると、冷却の過程で有機ハロゲン化
物が合成ないしは再合成され、やはり残渣に有機ハロゲ
ン化物が残留してしまうことになる。
If an organic halide coexists in the cooling atmosphere when the object to be treated is cooled, the organic halide is fixed in the object to be treated. In addition, when a material substance capable of forming an organic halide coexists during cooling of the object to be treated, the organic halide is synthesized or re-synthesized during the cooling process, and the organic halide remains in the residue. Will end up.

【0048】したがって本発明においては、有機ハロゲ
ン化物を含有するか、または加熱により有機ハロゲン化
物を生成する処理対象物体を処理するにあたり、燃焼、
熱分解などの加熱を行った後、この加熱残渣を有機ハロ
ゲン化物、および有機ハロゲン化物生成能を有する物質
の濃度を低減した状態で冷却する。このため加熱残渣の
冷却は、例えば有機ハロゲン化物の材料物質を含まない
冷却ガスでパージされた雰囲気で行うようにすればよ
い。したがって冷却ガスとしては、ハロゲン、酸素、有
機化合物を含有しないガスを用いることが好ましく、例
えばアルゴン等の希ガス、窒素などを用いることができ
る。
Therefore, in the present invention, in treating an object to be treated which contains an organic halide or produces an organic halide by heating, combustion,
After heating such as thermal decomposition, the heating residue is cooled in a state where the concentration of the organic halide and the substance having the ability to form an organic halide is reduced. Therefore, the heating residue may be cooled in an atmosphere purged with a cooling gas containing no organic halide material, for example. Therefore, it is preferable to use a gas containing no halogen, oxygen, or organic compound as the cooling gas, and for example, a rare gas such as argon, nitrogen, or the like can be used.

【0049】処理対象物体としては例えば都市ゴミ、都
市ゴミの焼却灰、ダイオキシンやPCB等の有機ハロゲ
ン化物に汚染された土壌、汚泥、農産物、水産物、また
シュレッダーダスト、廃家電製品、各種廃棄物等をあげ
ることができる。
Examples of the object to be treated are municipal waste, incinerated ash of municipal waste, soil contaminated with organic halides such as dioxins and PCBs, sludge, agricultural products, marine products, shredder dust, waste home electric appliances and various wastes. Can be raised.

【0050】本発明の処理方法は、加熱により有機ハロ
ゲン化物を生成可能な処理対象物体を処理する処理方法
において、前記処理対象物体を加熱し、前記加熱残渣を
気密領域に導入し、前記気密領域内を実質的に前記有機
ハロゲン化物フリーかつ有機ハロゲン化物生成能を有し
ない置換ガスで置換し、前記加熱残渣を冷却する、こと
を特徴とする。
The treatment method of the present invention is a treatment method for treating an object to be treated capable of producing an organic halide by heating, wherein the object to be treated is heated, and the heating residue is introduced into an airtight region, The inside is replaced with a replacement gas that is substantially free of the organic halide and has no ability to form an organic halide, and the heating residue is cooled.

【0051】また本発明の処理方法は、加熱により有機
ハロゲン化物を生成可能な処理対象物体を処理する処理
方法において、前記処理対象物体を加熱し、前記加熱残
渣を気密領域に導入し、前記気密領域内を実質的に前記
有機ハロゲン化物フリー(有機ハロゲン化物が欠乏して
いること)な置換ガスで置換し、前記加熱残渣を冷却す
ることを特徴とする。ここで「有機ハロゲン化物フリ
ー」とは、有機ハロゲン化物が欠乏していることを意味
する。置換ガスの形態としては、希ガス、窒素、水素、
またはこれらの混合ガスなどをあげることができる。ま
た酸素濃度が問題にならない範囲では空気を置換ガスと
し用いることも可能である。
Further, the treatment method of the present invention is a treatment method of treating an object to be treated capable of producing an organic halide by heating, wherein the object to be treated is heated, and the heating residue is introduced into an airtight region, It is characterized in that the inside of the region is replaced with the organic halide-free (the organic halide is deficient) replacement gas, and the heating residue is cooled. Here, “organic halide-free” means that the organic halide is deficient. The form of the replacement gas is noble gas, nitrogen, hydrogen,
Alternatively, a mixed gas of these can be given. Further, air can be used as the replacement gas as long as the oxygen concentration does not matter.

【0052】前記処理対象物体の加熱の形態としては、
例えば燃焼、熱分解などをあげることができる。このよ
うな加熱は酸素濃度を調節しながら行うようにしてもよ
い。また熱分解は減圧、加圧など気密領域内の圧力を調
節しながら行うようにしてもよい。
The heating mode of the object to be treated is as follows:
For example, combustion, thermal decomposition, etc. can be mentioned. Such heating may be performed while adjusting the oxygen concentration. The thermal decomposition may be performed while adjusting the pressure in the airtight region such as depressurization or pressurization.

【0053】前記気密領域内への前記置換ガスの導入
は、前記気密領域内を減圧した後に行うようにしてもよ
い。
The introduction of the replacement gas into the airtight region may be performed after depressurizing the airtight region.

【0054】また前記処理対象物体の加熱により生じる
ガス状排出物についても、ダイオキシンなどの有機ハロ
ゲン化物の濃度を減ずるための処理を施す。
The gaseous emission produced by heating the object to be treated is also treated to reduce the concentration of organic halides such as dioxin.

【0055】このような処理としては、例えば前記ガス
状排出物をダイオキシンが分解するような第1の温度で
改質し、改質された前記ガス状排出物中のダイオキシン
濃度の増加が抑制されるように前記ガス状排出物を第2
の温度まで冷却するようにしてもよい。
As such a treatment, for example, the gaseous effluent is reformed at a first temperature at which dioxin is decomposed, and an increase in the dioxin concentration in the reformed gaseous effluent is suppressed. So that the gaseous emissions are second
You may make it cool to the temperature of.

【0056】処理対象物体の加熱により生じた前記ガス
状排出物の冷却は、前記ガス状排出物に油を噴射して急
冷するようにしてもよい。これにより、有機ハロゲン化
物の再合成を抑制することができるとともに、改質され
たガス状排出物中の炭化水素等をトラップすることがで
きる。
Cooling of the gaseous effluent produced by heating the object to be treated may be carried out by injecting oil into the gaseous effluent to quench it. This makes it possible to suppress the re-synthesis of the organic halide and trap the hydrocarbons and the like in the reformed gaseous exhaust.

【0057】さらに、油を噴射して冷却したガス状排出
物は、再びダイオキシンなどの有機ハロゲン化物が分解
するような高温に再加熱し、この後冷却水を噴射して急
冷するようにしてもよい。この冷却水はアルカリ性にす
るようにしてもよい。
Further, the gaseous effluent cooled by spraying oil is reheated to a high temperature at which organic halides such as dioxins are decomposed again, and then cooling water is sprayed to quench it. Good. This cooling water may be made alkaline.

【0058】また、処理対象物体の加熱により生じたガ
ス状排出物中に含まれる塩素などのハロゲンの濃度を低
減するようにしてもよい。例えば熱分解炉の後段にガス
状排出物中のハロゲンを除去するハロゲン除去装置等を
配設するようにしてもよい。ハロゲン除去装置の形態と
しては、例えばチャンバ内にガス状排出物中の塩素と反
応して塩化物を構成する鉄などの金属、ダライ粉及び/
または水酸化カルシウムなどの化合物を装填したものが
ある。またチャンバ内にガス状排出物中のハロゲンの固
定反応や、ガス状排出物中の有機ハロゲン化物の分解を
促進する触媒などを装填してもよい。さらにガス状排出
物中に含まれるハロゲンを吸着する吸着材を装填するよ
うにしてもよい。これらのハロゲン除去装置の構成は複
数組み合わせるようにしてもよい。
Further, the concentration of halogen such as chlorine contained in the gaseous emission produced by heating the object to be treated may be reduced. For example, a halogen removing device or the like for removing halogen in the gaseous emission may be provided at the subsequent stage of the thermal decomposition furnace. Examples of the form of the halogen removing device include a metal such as iron that reacts with chlorine in the gaseous emission in the chamber to form a chloride, a Dalai powder, and / or
Alternatively, there is one loaded with a compound such as calcium hydroxide. Further, the chamber may be loaded with a catalyst that accelerates the fixing reaction of halogen in the gaseous effluent or the decomposition of the organic halide in the gaseous effluent. Further, an adsorbent that adsorbs halogen contained in the gaseous emission may be loaded. A plurality of these halogen removing devices may be combined.

【0059】なお、ハロゲン除去のためにゼオライトな
どの吸着材を用いる場合、吸着効率を向上するために
は、吸着材をなるべく低温に維持することが好ましい。
この場合、ガス状排出物は吸着材が装填されたチャンバ
内で冷却されることになるが、この冷却はガス状排出物
の温度がダイオキシン類などの有機ハロゲン化物の再生
温度範囲への滞留時間ができるだけ短くなるように急速
に行うことが好ましい。
When using an adsorbent such as zeolite for removing halogen, it is preferable to keep the adsorbent at a temperature as low as possible in order to improve the adsorption efficiency.
In this case, the gaseous effluent will be cooled in the chamber loaded with the adsorbent, and this cooling will be carried out when the temperature of the gaseous effluent stays in the regeneration temperature range of organic halides such as dioxins. It is preferable to do so rapidly so that is as short as possible.

【0060】上述した、ダイオキシンなどの有機ハロゲ
ン化物のガス状排出物中の濃度を減ずるための各種処理
は複数組み合わせて用いるようにしてもよい。
The above-mentioned various treatments for reducing the concentration of the organic halide such as dioxin in the gaseous emission may be used in combination.

【0061】このような処理を実現する本発明の処理装
置としては、例えば、処理対象物体を気密に保持するこ
とができる気密領域と、前記気密領域の温度を調節する
手段と、前記気密領域内のガスを置換するための置換手
段と、前記処理対象物体の加熱残渣を冷却するための冷
却手段とを備えるようにすればよい。また気密領域内を
減圧するようにしてもよい。
As the processing apparatus of the present invention for realizing such processing, for example, an airtight area capable of holding an object to be processed airtight, means for adjusting the temperature of the airtight area, and inside the airtight area It is sufficient to include a replacement means for replacing the gas of 1) and a cooling means for cooling the heating residue of the object to be treated. Further, the pressure inside the airtight region may be reduced.

【0062】置換手段は、単に気密領域内のガスを置換
するだけではなく、気密領域内を減圧して排気したうえ
で、置換ガスを導入するようにしてもよい。この排気系
はガス置換以外の気密領域内の減圧に用いることもでき
る。
The replacement means may not only replace the gas in the airtight region, but may also reduce the pressure in the airtight region and exhaust it before introducing the replacement gas. This exhaust system can also be used for depressurization in the hermetic zone other than gas replacement.

【0063】さらに気密領域内で処理対象物体を移動す
るための移動手段を備えるようにしてもよい。この移動
手段としては、ロータリーキルン、スクリューコンベ
ア、トレープッシャやドロワー、ローラーハウスなどを
備えるようにしてもよい。
Further, moving means for moving the object to be processed in the airtight region may be provided. The moving means may include a rotary kiln, a screw conveyor, a tray pusher, a drawer, a roller house, and the like.

【0064】また気密領域内部のガスを温度調節しなが
ら循環させるガス循環装置を設けるようにしてもよい。
ガス循環装置としては、例えば気密領域(チャンバ)と
連なったバイパスを設け、このバイパスに循環ポンプ、
温度調節装置または熱交換器、ガス流に含まれる粉塵、
ミスト等を除去するフィルタ手段等を備えるようにすれ
ばよい。これらは、フィルタ、温度調節装置、循環ポン
プの順に配設するようにしてもよい。とくにフィルタは
循環ポンプ、温度調節装置の前段に配設することが好ま
しい。フィルタとしては例えば油膜を用いるようにして
もよい。
A gas circulating device may be provided to circulate the gas inside the airtight region while adjusting the temperature.
As a gas circulation device, for example, a bypass connected to an airtight region (chamber) is provided, and a circulation pump,
Temperature control device or heat exchanger, dust contained in gas stream,
A filter means for removing mist or the like may be provided. These may be arranged in the order of the filter, the temperature control device, and the circulation pump. In particular, it is preferable that the filter is arranged before the circulation pump and the temperature control device. For example, an oil film may be used as the filter.

【0065】前述したような本発明の処理方法、処理装
置は、減圧熱分解炉に限ることなく、焼却炉、常圧熱分
解炉等の加熱炉における処理にも適用することができ
る。
The above-described treatment method and treatment apparatus of the present invention can be applied not only to a reduced pressure pyrolysis furnace but also to a treatment in a heating furnace such as an incinerator or an atmospheric pressure pyrolysis furnace.

【0066】例えば従来の焼却炉、常圧熱分解炉の後段
に本発明の処理装置を付帯させることができる。したが
って焼却炉で大量に発生する焼却残渣から安全にかつ効
果的にダイオキシンなどの有機ハロゲン化物等を除去す
ることができる。
For example, the treatment apparatus of the present invention can be attached after the conventional incinerator and atmospheric pressure pyrolysis furnace. Therefore, organic halides such as dioxins can be safely and effectively removed from a large amount of incineration residues generated in an incinerator.

【0067】毒性を有する有機ハロゲン化物の環境中へ
の拡散は深刻な問題であり、焼却設備を新たな処理設備
に建て替えるには、莫大な費用と時間を要し、なおかつ
日々発生する廃棄物の処理も行わなければならない。本
発明は現状の焼却設備に付帯設備として適用することも
可能である。したがって、現状の設備を利用しつつ、有
機ハロゲン化物生成能を有する処理対象物体を処理する
ことができる。
Diffusion of toxic organic halides into the environment is a serious problem, and it takes enormous cost and time to rebuild the incineration facility with a new treatment facility, and the waste generated daily Processing must also be done. The present invention can also be applied to an existing incineration facility as an incidental facility. Therefore, it is possible to process an object to be processed having an organic halide-forming ability while using the existing equipment.

【0068】本発明の土壌の生産方法は、有機ハロゲン
化物を第1の濃度で含有する第1の土壌から、前記有機
ハロゲン化物を第1の濃度より低い第2の濃度で含有す
る第2の土壌を生産する土壌の生産方法において、前記
第1の土壌を気密領域に導入する工程と、前記第1の土
壌を減圧下で加熱することにより前記有機ハロゲン化物
の少なくとも一部を熱分解する工程と、を有することを
特徴とする。
The method for producing soil according to the present invention comprises a second soil containing the organic halide in a second concentration lower than the first concentration from the first soil containing the organic halide in the first concentration. In the method of producing soil for producing soil, the step of introducing the first soil into an airtight region, and the step of thermally decomposing at least a part of the organic halide by heating the first soil under reduced pressure. And are included.

【0069】前記第1の土壌の熱分解残渣は、前記気密
領域内を実質的に前記有機ハロゲン化物フリーかつ有機
ハロゲン化物生成能を有しない置換ガスで置換した後に
冷却することが好ましい。
The pyrolysis residue of the first soil is preferably cooled after the airtight region is replaced with a replacement gas that is substantially free of the organic halide and does not have the ability to form an organic halide.

【0070】これは前述のように、処理対象物体の冷却
の際に冷却雰囲気に有機ハロゲン化物が共存している
と、この有機ハロゲン化物は処理対象物体中の加熱残渣
中に固定されてしまうためである。加熱により有機ハロ
ゲン化物が蒸発したり、有機ハロゲン化物が生成する処
理対象物体の加熱残渣から有機ハロゲン化物を除くため
には、有機ハロゲン化物を含んでいる加熱雰囲気ガスを
置換するか、減圧などにより有機ハロゲン化物、および
有機ハロゲン化物生成能を有する物質の濃度を低減した
状態で加熱残渣を冷却することが大切である。したがっ
て、第1の土壌の熱分解残渣の冷却を有機ハロゲン化
物、または有機ハロゲン化物の生成能を有する物質の濃
度を低減した状態で行うことにより、第1の土壌の加熱
残渣である第2の土壌に残留する有機ハロゲン化物の濃
度を低減、除去することができる。
As described above, if an organic halide coexists in the cooling atmosphere when the object to be treated is cooled, this organic halide is fixed in the heating residue in the object to be treated. Is. In order to remove the organic halide from the heating residue of the object to be treated, in which the organic halide is evaporated by heating or the organic halide is generated, the heating atmosphere gas containing the organic halide is replaced or the pressure is reduced. It is important to cool the heating residue while reducing the concentration of the organic halide and the substance capable of forming the organic halide. Therefore, by cooling the thermal decomposition residue of the first soil in a state in which the concentration of the organic halide or the substance having the ability to form an organic halide is reduced, the second residue that is the heating residue of the first soil can be obtained. The concentration of organic halides remaining in soil can be reduced and removed.

【0071】なお、第1の土壌の熱分解は、前記気密領
域内の酸素濃度を制御しながら行うようにすることが好
ましい。例えば気密領域内の酸素濃度を測定し、測定し
た酸素濃度に応じて気密領域内の酸素濃度を調節するよ
うにすればよい。また前記酸素濃度の制御は、前記気密
領域内に還元性のキャリアガスまたは還元剤を導入する
ことにより行うようにしてもよい。
The thermal decomposition of the first soil is preferably carried out while controlling the oxygen concentration in the hermetic zone. For example, the oxygen concentration in the airtight region may be measured, and the oxygen concentration in the airtight region may be adjusted according to the measured oxygen concentration. The control of the oxygen concentration may be performed by introducing a reducing carrier gas or a reducing agent into the airtight region.

【0072】このように気密領域内の酸素濃度を能動的
に制御することにより、処理対象物体が不均質な場合で
あっても、安定した状態で熱分解することができる。ま
た気密領域内を還元性雰囲気に保持しながら熱分解を行
うことにより、ダイオキシンなどの有機ハロゲン化物の
生成を抑制することができる。さらに気密領域内を減圧
することにより、分子間の平均自由工程がより長くな
り、ダイオキシン等の有機ハロゲン化物の生成確率を低
減することができる。
By actively controlling the oxygen concentration in the airtight region in this way, even if the object to be treated is heterogeneous, it can be thermally decomposed in a stable state. Further, by performing thermal decomposition while maintaining the airtight region in a reducing atmosphere, it is possible to suppress the production of organic halides such as dioxins. Furthermore, by reducing the pressure in the airtight region, the mean free path between molecules becomes longer, and the probability of formation of organic halides such as dioxins can be reduced.

【0073】また前述の第1の土壌に、例えば重金属な
どの金属が含まれている場合には、この土壌を加熱、減
圧して金属を気化させて回収するようにしてもよい。こ
のようにすることにより、土壌が水銀、カドミウム、亜
鉛、鉛、砒素、などで汚染されている場合でも、このよ
うな金属を土壌から分離、回収することができる。また
6価クロムなどは例えば3価のクロムに還元することが
できる。
When the first soil contains a metal such as a heavy metal, the soil may be heated and decompressed to vaporize and recover the metal. By doing so, even if the soil is contaminated with mercury, cadmium, zinc, lead, arsenic, etc., such metal can be separated and recovered from the soil. Also
Hexavalent chromium can be reduced to, for example, trivalent chromium.

【0074】なお本発明は汚染土壌に限ることなく、焼
却灰、汚泥、廃液、農産物、水産物などの処理にも同様
に適用することができる。本発明により処理した土壌は
多孔質なカーボンなど無機成分を多く含むため、土壌と
して用いるだけではなく、有効な土壌改良剤として用い
ることもできる。また例えば腐葉土、コンポストなどの
有機物と混合して用いるようにしてもよい。
The present invention is not limited to contaminated soil but can be similarly applied to the treatment of incinerated ash, sludge, waste liquid, agricultural products, marine products and the like. Since the soil treated according to the present invention contains a large amount of inorganic components such as porous carbon, it can be used not only as soil but also as an effective soil improver. Further, it may be used by mixing with organic matter such as mulch and compost.

【0075】また、本発明の処理方法は、加熱によりダ
イオキシンを生成可能な処理対象物体の加熱残渣を冷却
するにあたり、雰囲気中のダイオキシン濃度を低減して
前記加熱残渣を冷却することを特徴とする。
Further, the treatment method of the present invention is characterized in that, when cooling the heating residue of the object to be treated capable of producing dioxin by heating, the dioxin concentration in the atmosphere is reduced to cool the heating residue. .

【0076】さらに冷却雰囲気中のダイオキシンそのも
のの濃度だけではなく、ダイオキシン類の原材料となる
物質の濃度(例えば塩素、酸素、有機物などの濃度)、
あるいはダイオキシンの生成反応を促進するような触媒
物質の濃度、量も低減することが好ましい。
Further, not only the concentration of dioxin itself in the cooling atmosphere, but also the concentration of substances that are raw materials of dioxins (for example, concentration of chlorine, oxygen, organic matter, etc.),
Alternatively, it is preferable to reduce the concentration and amount of the catalytic substance that promotes the dioxin formation reaction.

【0077】本発明の処理装置は、内部に処理対象物体
を気密に保持することができる気密領域と、前記気密領
域の温度を調節する手段と、前記気密領域内のガスを置
換するための置換手段と、前記処理対象物体の加熱残渣
を冷却するための冷却手段とを備えるようにすればよ
い。置換手段は、単に気密領域内のガスを置換するだけ
ではなく、気密領域内を減圧して排気したうえで、置換
ガスを導入するようにしてもよい。この排気系はガス置
換以外の気密領域内の減圧に用いることもできる。さら
に気密領域内で処理対象物体を移動するための移動手段
を備えるようにしてもよい。この移動手段としては、ロ
ータリーキルン、スクリューコンベア、トレープッシャ
やドロワー、ローラーハウスなどを備えるようにしても
よい。
In the processing apparatus of the present invention, an airtight region inside which an object to be processed can be kept airtight, a means for adjusting the temperature of the airtight region, and a replacement for replacing the gas in the airtight region. Means and cooling means for cooling the heating residue of the object to be treated may be provided. The replacement means may not only replace the gas in the airtight region, but may decompress and exhaust the air in the airtight region and then introduce the replacement gas. This exhaust system can also be used for depressurization in the hermetic zone other than gas replacement. Further, a moving means for moving the object to be processed in the airtight region may be provided. The moving means may include a rotary kiln, a screw conveyor, a tray pusher, a drawer, a roller house, and the like.

【0078】また気密領域内部のガスを温度調節しなが
ら循環させるガス循環装置を設けるようにしてもよい。
ガス循環装置としては、例えば気密領域(チャンバ)と
連なったバイパスを設け、このバイパスに循環ポンプ、
温度調節装置または熱交換器、ガス流に含まれる粉塵、
ミスト等を除去するフィルタ手段等を備えるようにすれ
ばよい。これらは、フィルタ、温度調節装置、循環ポン
プの順に配設するようにしてもよい。とくにフィルタは
循環ポンプ、温度調節装置の前段に配設することが好ま
しい。フィルタとしては例えば油膜を用いるようにして
もよい。
A gas circulating device may be provided for circulating the gas inside the airtight region while controlling the temperature.
As a gas circulation device, for example, a bypass connected to an airtight region (chamber) is provided, and a circulation pump,
Temperature control device or heat exchanger, dust contained in gas stream,
A filter means for removing mist or the like may be provided. These may be arranged in the order of the filter, the temperature control device, and the circulation pump. In particular, it is preferable that the filter is arranged before the circulation pump and the temperature control device. For example, an oil film may be used as the filter.

【0079】また本発明の処理装置では、前記気密領域
と接続され、前記処理対象物体から発生するガス状排出
物を分解、反応、除去させる分解反応除去装置と、それ
につらなり分解反応除去装置からでるガスを急冷しアル
カリと反応させるためのアルカリ水(油)ガスイジェク
ター式(ベンチュリー)冷却装置と、それに連なり前記
冷却装置で用いる冷却媒(水、油)をアルカリ性にする
ための循環装置を備えるようにしてもよい。循環装置に
はアルカリ水中の粉塵を除去するためのフィルターを備
えるようにしてもよい。
Further, in the processing apparatus of the present invention, a decomposition reaction removing apparatus, which is connected to the airtight region and decomposes, reacts, and removes a gaseous emission generated from the object to be processed, and a decomposition reaction removing apparatus which is consequent thereto. An alkaline water (oil) gas ejector type (venturi) cooling device for quenching gas and reacting with alkali, and a circulation device connected to it for making the cooling medium (water, oil) used in the cooling device alkaline You may The circulation device may be equipped with a filter for removing dust in the alkaline water.

【0080】さらに本発明の処理装置では、上述の冷却
装置に連なり、前記冷却装置からでる水分を含むガスか
ら水分を除去する除去装置と、それにつらなり水分除去
後のガス中の有毒成分を吸着する吸着装置と、吸着装置
からでるガスを吸引(排気)する吸引装置とを具備する
ようにしてもよい。
Further, in the processing apparatus of the present invention, a removing device connected to the cooling device described above for removing water from the gas containing water, which is discharged from the cooling device, and a toxic component in the gas after the removal of the water due to the removal device are adsorbed. An adsorbing device and a suction device for sucking (exhausting) gas emitted from the adsorbing device may be provided.

【0081】また本発明の処理装置は、処理対象物体か
ら発生するガスを加熱分解するガス分解装置と、それに
連なり炉を遮断する真空扉と、それに連なり蒸発物を回
収する凝縮装置と、それに連なり粉塵を除去する粉塵除
去装置と、それに連なり運転中凝縮物を炉体から遮断し
回収するための真空バルブと、それに連なり気密領域内
の圧力を調節する(減圧、加圧)するための圧力調節手
段とを具備したことを特徴とする。
Further, the processing apparatus of the present invention comprises a gas decomposition apparatus for heating and decomposing gas generated from an object to be processed, a vacuum door connected to the gas decomposition apparatus for shutting down the furnace, a condensing apparatus connected to the vacuum door for collecting evaporate, and connected to the vacuum apparatus. Dust removal device for removing dust, vacuum valve connected to it to shut off and collect condensate from the furnace body during operation, and pressure control to connect to it and adjust the pressure in the airtight region (decompression, pressurization) Means and means are provided.

【0082】さらに、圧力調節装置が備える排気系など
の減圧手段より排気されるガスを加熱分解するガス分解
装置と、その分解ガスを急冷しアルカリと反応させるた
めのアルカリ水(油)ガスイジェクター式(ベンチュリ
ー)冷却装置と、それにつらなり水分除去後のガス中の
有毒成分を吸着する吸着装置と、吸着装置からでるガス
を吸引(排気)する吸引装置とを具備するようにしても
よい。
Further, a gas decomposing device for heating and decomposing gas exhausted from decompression means such as an exhaust system provided in the pressure adjusting device, and an alkaline water (oil) gas ejector type for quenching the decomposed gas to react with alkali A (Venturi) cooling device, an adsorbing device that adsorbs a toxic component in the gas after removing the water, and a suction device that sucks (exhausts) the gas emitted from the adsorbing device may be provided.

【0083】また本発明の連続式の処理装置は、気密領
域の入口側に、気密領域と真空扉で仕切られた気密室少
なくとも2室をさらに設け、その2つの気密室のうちの
少なくとも1室を減圧するための減圧装置を配設する。
2つの気密室も真空扉で仕切られている。気密室内には
処理対象物体を収納するトレー(治具)が装備される。
Further, in the continuous processing apparatus of the present invention, at least two airtight chambers partitioned by the airtight region and a vacuum door are further provided on the inlet side of the airtight region, and at least one of the two airtight chambers is provided. A pressure reducing device for reducing the pressure is provided.
The two airtight chambers are also separated by a vacuum door. The airtight chamber is equipped with a tray (jig) for storing the object to be processed.

【0084】そして2つの気密室の間をトレーが往来す
るための移動装置と、トレーに収容された処理対象物体
を気密領域に隣接した気密室から気密領域に投入するた
めの投入装置と、気密領域内に投入された処理対象物体
を加熱しながら気密領域の出口側まで搬送する搬送手段
とを備える。処理対象物体は気密領域からは冷却され、
空気等によりージの上排出される。
Then, a moving device for moving the tray between the two hermetic chambers, a charging device for charging the object to be treated contained in the tray from the hermetic chamber adjacent to the hermetic region to the hermetic region, and the hermetic chamber. A transport means for transporting the object to be treated placed in the area to the outlet side of the airtight area while heating the object. The object to be treated is cooled from the airtight area,
It is discharged on the page by air etc.

【0085】そして気密容器の処理対象物体の出口に
は、気密に加熱残渣を収納することができる収納室と、
加熱残渣を冷却する冷却室と、置換ガスまたは排気系で
雰囲気を置換して空トレーを収納するパージ室と、常圧
で加熱残渣をコンベア等に排出する排出室の4室を設け
る。これらの4室は独立に気密を保てるように真空扉を
それぞれ備えるようにしてもよい。また投入室は常圧で
もよいので3室を気密にするようにしてもよい。そして
これらの4室をトレー等の治具を移動させることで加熱
残渣を搬送する。移動を容易にするため、これら各室は
グリッド状に設けるようにしてもよい(例えば四角形の
各頂点に各室を配設する)。加熱処理を行う気密容器か
ら収納室への加熱残渣の搬送は、各種の搬送手段のほ
か、収納室を気密容器の下方に設け、重力により加熱残
渣を落下させるようにしてもよい。
At the outlet of the object to be treated in the airtight container, there is a storage chamber capable of airtightly storing the heating residue,
A cooling chamber for cooling the heated residue, a purge chamber for replacing the atmosphere with a replacement gas or an exhaust system to store an empty tray, and a discharge chamber for discharging the heated residue to a conveyor or the like at normal pressure are provided. Each of these four chambers may be equipped with a vacuum door so that it can be kept airtight independently. Further, since the charging chamber may be at normal pressure, the three chambers may be made airtight. Then, the heating residue is conveyed by moving a jig such as a tray through these four chambers. In order to facilitate movement, these chambers may be provided in a grid shape (for example, each chamber is provided at each vertex of a quadrangle). For transporting the heating residue from the airtight container to be subjected to the heat treatment to the storage chamber, the storage chamber may be provided below the airtight container in addition to various transporting means, and the heating residue may be dropped by gravity.

【0086】[0086]

【発明の実施の形態】(実施形態1)本発明の実施の形
態を添付図面に依拠して説明する。 図1 は本発明に係わ
る方法を実施するための本発明に係わる熱分解装置の全
体構成を示す図であり、 図2はその要部を示す図であ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (Embodiment 1) An embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of a thermal decomposition apparatus according to the present invention for carrying out a method according to the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing a main part thereof.

【0087】熱分解炉1 は炉内の温度を制御する制御装
置2 と、 蒸発金属の回収装置3 と、炉内還元手段と、 炉
内の加熱手段20並びに冷却手段21を備える。 また、 更
に、 後述する真空バルブ40、42 以降の部品によって構成
される減圧のための構成、機構を設置することにより、
減圧熱分解炉として有価物の回収を可能にすることもで
きる。また、 熱分解炉1 には温度センサ、 真空度センサ、
酸素及び酸化物濃度センサ並びに塩素及び塩化物濃度
センサ等から成るセンサ群5 が配置され、 それにより、
炉内の温度、 真空度、酸素と酸化物ガスの少なくとも一
方の濃度等が計測され、 そのデータ信号が制御装置2 に
送られる。熱分解炉1 は断熱材で包囲されていて、 その
処理対象物体18の搬入口には、 エアシリンダー等によっ
て昇降駆動される真空ドア17が配備される。 処理対象物
体18は、 治具19に収納した状態で、 真空ドア17を開けて
炉内に搬入する。 熱分解炉1 には、 炉内の加熱手段20と
冷却手段21の外に必要に応じ、 処理対象物体18の撹拌手
段23が設置される。 図示した撹拌手段23はファンである
が、 これに限られる訳ではなく、 それに代え、 あるい
は、 それとともに、 治具19内に進入して処理対象物体18
を掻き回すスクリュウを配置してもよいし、 炉ごと回転
させるロータリーキルン方式を採用してもよい。通例、
加熱手段20としてはヒータが用いられ、 冷却手段21とし
てはチッ素ガスの循環回路が用いられる。 チッ素ガスの
循環回路21には、 チッ素ガス冷却のための水冷式冷却器
24と、 チッ素ガスを熱分解炉1 内に循環させるためのポ
ンプ25とが設置される。 循環回路にはさらにフィルタを
備えるとなおよい。
The thermal decomposition furnace 1 is provided with a control device 2 for controlling the temperature inside the furnace, a recovery device 3 for evaporated metal, a reducing means in the furnace, a heating means 20 and a cooling means 21 in the furnace. In addition, by installing a structure and mechanism for decompressing, which will be described later with the vacuum valves 40, 42 and subsequent parts,
It is also possible to enable recovery of valuables as a vacuum pyrolysis furnace. In addition, the pyrolysis furnace 1 has a temperature sensor, a vacuum sensor,
A sensor group 5 consisting of oxygen and oxide concentration sensors, chlorine and chloride concentration sensors, etc. is arranged, whereby
The temperature in the furnace, the degree of vacuum, the concentration of at least one of oxygen and oxide gas, etc. are measured, and the data signal is sent to the control device 2. The thermal decomposition furnace 1 is surrounded by a heat insulating material, and a vacuum door 17 which is driven up and down by an air cylinder or the like is provided at a carry-in entrance of the object 18 to be treated. The object 18 to be processed is loaded into the furnace by opening the vacuum door 17 while being housed in the jig 19. In the thermal decomposition furnace 1, a stirring means 23 for the object to be treated 18 is installed outside the heating means 20 and the cooling means 21 in the furnace, if necessary. The stirring means 23 shown in the figure is a fan, but it is not limited to this, and instead of or in addition to it, the stirring target 23 enters the jig 19 to be treated 18
You may arrange the screw which stirs, and you may employ the rotary kiln system which rotates with the furnace. Usually,
A heater is used as the heating means 20, and a nitrogen gas circulation circuit is used as the cooling means 21. The nitrogen gas circulation circuit 21 includes a water-cooled cooler for cooling the nitrogen gas.
24 and a pump 25 for circulating nitrogen gas in the thermal decomposition furnace 1 are installed. It is more preferable that the circulation circuit further includes a filter.

【0088】熱分解炉1 に突接されるガス状排出物還元
部に、 炉内還元手段としての還元レトルト4 が配置され
る。 還元レトルト4 内にはアルミニウム粉等の金属還元
剤が単独で、 あるいは、 それとアルカリ水酸化物とが充
填され、 また、 還元レトルト4 内の温度を検知する温度
センサ5aが配備される。還元レトルト4 を取り巻く断熱
材内には、 還元レトルト4 内を約800℃〜約1200
℃位まで加熱することができるヒータ7 が埋設される。
還元レトルト4の下流側に形成される還元ガス流出口8
内には、 酸素濃度センサ5bと塩素濃度センサ5cとが配備
される。 還元ガス流出口8 は後続の回収装置3 に通ずる
もので、その途中に、 通例シリンダーによって昇降駆動
される耐真空性能を備えた真空扉26が設置される。 回収
装置3 には熱分解炉1 で発生する蒸発物が導入され、 ガ
ス状排出物中には、 加熱によって発生するダイオキシン
及び処理対象物体18中の残留ダイオキシンを除去する機
能を果たす。周知のように、 ダイオキシンは200℃以上の
温度域において発生し、 また、 残灰中のダイオキシン等
は500℃以上になると分解する。 熱分解炉1 における熱
分解は、500℃ 前後の範囲の常圧熱分解であって、 多量
のダイオキシンが発生するが、 そのガス状排出物を500
℃以上に加熱された還元レトルト4 内に導入することに
より、 ガス中のダイオキシンが分解され、 酸素及び塩素
原子が解離する。 この解離した酸素及び塩素は、 直ちに
還元レトルト4 内に充填されているアルミニウム、 マグ
ネシウム等の反応エネルギーの小さい金属還元剤と化学
反応を起こして除去され、 再びダイオキシンの生成に寄
与することになる。この還元レトルト4 を通したとして
も、 酸素及び塩素の除去が完全に行われるとは限らな
い。 殊に、 熱分解による分解が早すぎる場合にはそれら
の除去が不完全となって、 還元ガス流出口8 に流出す
る。 そこで、 酸素濃度センサ5bと塩素濃度センサ5cによ
り、 流出した酸素と酸化物ガスの少なくとも一方、 並び
に塩素と塩化物の少なくとも一方の濃度を検出して分析
し、 それらが多い場合には、 炉内温度を下げたり加熱を
停止したりして分解を遅らせる等の処置をとる。 また、
減圧手段が装備されている場合には、 減圧処理によって
酸素及び塩素の発生を少なくし、 ダイオキシンの生成を
防止する。なお、 ガスの混合成分比による分析はできな
いため、 酸素濃度センサ5bによる酸素及び酸化物の濃度
分析は、O、CO、CO等の少なくともいずれか一つ
について行えばよく、 また、 塩素濃度センサ5cによる塩
素及び塩化物の濃度分析は、Cl、HCl、HClO等
のいずれか一つについて行うようにしてもよい。熱分解
炉1 内に処理対象物体18を投入した直後に、 冷却手段21
からチッ素ガスで炉内をパージしたり、 減圧手段を備え
ている場合には炉内を約1〜10―2Torr位に真空引き
して、系内の酸素量を低減した後に加熱したりすること
ができ、還元剤の消費を少なくすることができる。また本
発明の熱分解装置は上記実施形態における酸素濃度セン
サ5bと塩素濃度センサ5cを、 還元ガス流出口8 にではな
く熱分解炉1 内に配置するとともに、 熱分解炉1 に炉内
にアルミニウム、 マグネシウム、 亜鉛等の粉状、 液状又
は、 ガス状の金属還元剤を供給する還元剤供給手段22
を設置したもので、その他の構成は上記第1の実施形態
におけると同じである。
A reducing retort 4 as an in-furnace reducing means is arranged in the gaseous emission reducing portion which is brought into contact with the thermal decomposition furnace 1. The reducing retort 4 is filled with a metal reducing agent such as aluminum powder alone or with an alkali hydroxide, and a temperature sensor 5a for detecting the temperature in the reducing retort 4 is provided. In the heat insulation material surrounding the reduction retort 4, the inside of the reduction retort 4 is about 800 ° C to about 1200 ° C.
A heater 7 capable of heating up to about ℃ is embedded.
Reduction gas outlet 8 formed on the downstream side of the reduction retort 4
Inside, an oxygen concentration sensor 5b and a chlorine concentration sensor 5c are provided. The reducing gas outlet 8 communicates with the subsequent recovery device 3, and a vacuum door 26 having vacuum resistance, which is normally driven up and down by a cylinder, is installed in the middle thereof. Evaporants generated in the thermal decomposition furnace 1 are introduced into the recovery device 3, and the gaseous effluent serves to remove dioxin generated by heating and residual dioxin in the object to be treated 18. As is well known, dioxins are generated in a temperature range of 200 ° C or higher, and dioxins and the like in residual ash decompose at temperatures of 500 ° C or higher. Pyrolysis in Pyrolysis Furnace 1 is atmospheric pressure pyrolysis in the range of around 500 ° C, and a large amount of dioxin is generated.
By introducing into the reduction retort 4 heated above ℃, dioxin in the gas is decomposed and oxygen and chlorine atoms are dissociated. The dissociated oxygen and chlorine are immediately removed by causing a chemical reaction with a metal reducing agent having a small reaction energy such as aluminum and magnesium filled in the reduction retort 4, and again contribute to the generation of dioxin. Even if the reduction retort 4 is used, oxygen and chlorine are not completely removed. Especially, when the decomposition by the thermal decomposition is too early, the removal of them becomes incomplete, and they flow out to the reducing gas outlet 8. Therefore, the oxygen concentration sensor 5b and the chlorine concentration sensor 5c detect and analyze the concentrations of at least one of the outflowing oxygen and oxide gas, and at least one of chlorine and chloride. Take measures such as lowering the temperature or stopping heating to delay decomposition. Also,
When equipped with a decompression means, the decompression process reduces the generation of oxygen and chlorine and prevents the formation of dioxins. Since it is not possible to analyze the mixed component ratio of the gas, the concentration analysis of oxygen and oxide by the oxygen concentration sensor 5b may be performed for at least one of O 2 , CO, CO 2, etc. The concentration analysis of chlorine and chloride by the sensor 5c may be performed for any one of Cl 2 , HCl, HClO and the like. Immediately after the object 18 to be treated is put into the pyrolysis furnace 1, the cooling means 21
To purge the inside of the furnace with nitrogen gas, or, if a decompression means is provided, evacuate the inside of the furnace to about 1 to 10 -2 Torr to heat it after reducing the amount of oxygen in the system. It is possible to reduce the consumption of the reducing agent. Further, in the thermal decomposition apparatus of the present invention, the oxygen concentration sensor 5b and the chlorine concentration sensor 5c in the above embodiment are arranged not in the reducing gas outlet 8 but in the thermal decomposition furnace 1 and the thermal decomposition furnace 1 is provided with aluminum in the furnace. Reducing agent supply means 22 for supplying a powdery, liquid or gaseous metal reducing agent such as magnesium, zinc, etc.
Is installed, and other configurations are the same as those in the first embodiment.

【0089】この場合、酸素濃度センサ5bと塩素濃度
センサ5cによってそれぞれ熱分解炉1内の酸素、塩素
等の濃度が検出分析され、それが所定値を越えたときな
ど、検出値に応じて炉内温度の昇温を停止させるととも
に、還元剤供給手段22から熱分解炉1内にアルミニウ
ム、マグネシウム等の金属還元剤が供給される。これに
より、酸化アルミニウムや塩化アルミニウム等が生成さ
れ、したがって熱分解炉1内の酸素及び塩素の量、並び
に圧力がコントロールされ、ダイオキシン類の発生が防
止される。
In this case, the oxygen concentration sensor 5b and the chlorine concentration sensor 5c respectively detect and analyze the concentrations of oxygen, chlorine and the like in the thermal decomposition furnace 1, and when the concentration exceeds a predetermined value, the furnace is detected according to the detected value. While the temperature rise of the internal temperature is stopped, a metal reducing agent such as aluminum or magnesium is supplied from the reducing agent supply means 22 into the thermal decomposition furnace 1. As a result, aluminum oxide, aluminum chloride, etc. are generated, and therefore the amounts of oxygen and chlorine in the thermal decomposition furnace 1 and the pressure are controlled, and the generation of dioxins is prevented.

【0090】次いで、図1に依拠して、本発明共通して
設置されることのある蒸発金属の回収装置3、粉体除去
手段、真空引手段等の構成について説明する。回収装置
3は周囲を水冷空間27によって囲まれていて、一側面
に真空ドア28を有し、そこから回収レトルト29を、
蒸発作業中にも、図示せぬシリンダーによって真空扉2
6を経て還元ガス流出口8にまで押送することができ
る。また、真空扉26の開閉により、蒸発作業中に回収
レトルト29を出し入れすることができるようになって
いる。回収装置3には、上記熱分解炉1におけるのと同
様のチッ素ガス循環による回収品冷却手段30が設置さ
れ、回収品が迅速に冷却されるよう配慮される。
Next, with reference to FIG. 1, a description will be given of the configurations of the evaporated metal recovery device 3, the powder removing means, the vacuuming means, etc. which may be commonly installed in the present invention. The recovery device 3 is surrounded by a water-cooled space 27 and has a vacuum door 28 on one side, from which a recovery retort 29,
Even during the evaporation work, the vacuum door 2 by the cylinder (not shown)
It can be pushed to the reducing gas outlet 8 via 6. Further, by opening and closing the vacuum door 26, the recovery retort 29 can be taken in and out during the evaporation work. The recovery device 3 is provided with a recovery product cooling means 30 by nitrogen gas circulation similar to that in the thermal decomposition furnace 1 so that the recovery product can be cooled quickly.

【0091】回収装置3の後段には粉体フィルターが連
設され、回収装置3において回収されなかった粉体が捕
捉される。粉体フィルターは、金網粉体フィルター31
と油粉体トラップ32で構成される。
A powder filter is connected to the subsequent stage of the recovery device 3 to capture the powder which has not been recovered by the recovery device 3. The powder filter is a wire mesh powder filter 31.
And an oil powder trap 32.

【0092】油粉体トラップ32は、図3に示すよう
に、底に油34を貯留する筐体33内に、下部を油34
に浸した通例布製の油膜35を張り、金網粉体フィルタ
ー31を通過してきたガスを強制的にこの油膜35に導
いて通過させることにより、油膜35に粉体を捕捉させ
るものである。油34は毛細管現象によって油膜35中
を上昇して油の膜を形成し、そこを通過しようとするガ
ス中の粉体を捕捉し、粉体と一体となって油34中に落
ちる。
As shown in FIG. 3, the oil powder trap 32 has a bottom portion in which an oil 34 is stored in a casing 33 which stores the oil 34 in the bottom.
An oil film 35 usually made of cloth dipped in is stretched, and the gas that has passed through the wire mesh powder filter 31 is forcibly guided to the oil film 35 and allowed to pass therethrough, whereby the powder is captured by the oil film 35. The oil 34 rises in the oil film 35 by a capillary phenomenon to form an oil film, captures the powder in the gas passing therethrough, and falls into the oil 34 together with the powder.

【0093】殊に、この油粉体トラップ32は、油に溶
解しやすい性質を持つダイオキシンを捕捉除去するのに
有効である。油粉体トラップ32には、ポンプ36、フ
ィルター37及び油水分離器38を備えた油循環回路3
9が設置され、そこにおいて油水の分離と、油34中の
捕捉粉体の除去とが行われる。
In particular, the oil powder trap 32 is effective for capturing and removing dioxin, which has a property of being easily dissolved in oil. The oil powder trap 32 includes a pump 36, a filter 37, and an oil / water separator 38.
9 is installed, in which oil-water separation and trapped powder removal in the oil 34 are performed.

【0094】続いて、上記回収系に連設される真空引系
の構成について説明する。真空引系は、この例では熱分
解炉1内が所定真空度(例えば10−3Torr)以下
のときに動作する主系統と、それ以上になったときに動
作する副系統とに分岐している。主系統は、真空バルブ
40を経て設置されるブースターポンプ41と水封ポン
プ47とで構成され、副系統は、真空バルブ42を経て
設置される拡散ポンプ43とロータリーポンプ44とで
構成される。
Next, the structure of the vacuum system connected to the recovery system will be described. In this example, the evacuation system is divided into a main system that operates when the inside of the pyrolysis furnace 1 has a predetermined vacuum degree (for example, 10 −3 Torr) or less, and a sub system that operates when the inside of the pyrolysis furnace 1 becomes higher than that. There is. The main system includes a booster pump 41 and a water seal pump 47 that are installed via the vacuum valve 40, and the sub system includes a diffusion pump 43 and a rotary pump 44 that are installed via the vacuum valve 42.

【0095】系内の真空引きを行うための真空ポンプと
しては一般に油回転ポンプが用いられるが、この排気手
段は水が混入した場合に使用できなくなるおそれがあ
る。したがって本発明では、家庭ゴミやシュレッダーダ
スト等の水分が多く発生する処理対象物体の熱分解処理
をも行うことを考慮して、排気系として水封ポンプ47
を用いるようにしてもよい。
An oil rotary pump is generally used as a vacuum pump for evacuating the inside of the system, but this exhaust means may be unusable when water is mixed. Therefore, in the present invention, the water ring pump 47 is used as the exhaust system in consideration of performing the thermal decomposition treatment of the object to be treated, such as household waste and shredder dust, which generates a large amount of water.
May be used.

【0096】熱分解炉1内の真空度を高めるためにブー
スターポンプ41及び水封ポンプ47が動作し、炉内の
ガス状排出物を排出させるが、熱分解が進んで炉内のガ
ス状排出物量が減少し、所定の真空度に達すると、真空
バルブ40、42およびその他のバルブが開閉動作を
し、ガスの流れが主系統から副系統に移動する。この副
系統は、主として、金属の回収、脱元素等のために使用
される。副系統の拡散ポンプ43及びロータリーポンプ
44が動作して、熱分解炉1内を上記所定の真空度以上
の真空度に維持し、蒸発物の回収を行う。なお、45
は、ロータリーポンプ44とともに拡散ポンプ43を補
助するホールディングポンプである。
The booster pump 41 and the water seal pump 47 operate to raise the degree of vacuum in the pyrolysis furnace 1 to discharge the gaseous emission in the furnace, but the thermal decomposition proceeds and the gaseous emission in the furnace progresses. When the amount of material decreases and reaches a predetermined degree of vacuum, the vacuum valves 40 and 42 and other valves open and close, and the gas flow moves from the main system to the sub system. This sub-system is mainly used for metal recovery, element removal and the like. The sub-system diffusion pump 43 and rotary pump 44 operate to maintain the inside of the thermal decomposition furnace 1 at a vacuum degree higher than or equal to the predetermined vacuum degree, and recover the evaporated material. In addition, 45
Is a holding pump that assists the diffusion pump 43 together with the rotary pump 44.

【0097】ブースターポンプ41の下流側に、水封ポ
ンプ47の水循環を利用した塩素、NOx、SOx等除
去装置が設置される。塩素等除去装置は、水封ポンプ4
7の他に、水封ポンプ水槽48、フィルター49、油水
分離装置50、アルカリ給水槽51、イオン交換樹脂層
52、冷却器53及びポンプ54を含む。
On the downstream side of the booster pump 41, a chlorine, NOx, SOx, etc. removing device utilizing the water circulation of the water ring pump 47 is installed. Chlorine removal device is a water ring pump 4
In addition to 7, a water seal pump water tank 48, a filter 49, an oil / water separator 50, an alkaline water supply tank 51, an ion exchange resin layer 52, a cooler 53, and a pump 54 are included.

【0098】アルカリ給水槽51には、通例水酸化カル
シウム又は水酸化ナトリウムの溶液槽であるアルカリ槽
55が接続され、アルカリ給水槽51内の水がポンプ5
6によってアルカリ槽55内を循環するようにされ、以
てpH調整された水がイオン交換樹脂層52に送られる
ようになっている。
The alkaline water tank 51 is connected to an alkaline tank 55 which is usually a solution tank of calcium hydroxide or sodium hydroxide, and the water in the alkaline water tank 51 is pumped by the pump 5.
The water is circulated in the alkaline tank 55 by 6 and the pH-adjusted water is sent to the ion exchange resin layer 52.

【0099】イオン交換樹脂槽52を経ることにより塩
化ナトリウム等の塩類を除去されたイオン交換水は、冷
却水53で冷却された後、ポンプ54の作用で水封式真
空ポンプ47内に送り込まれる。水封式真空ポンプ47
内には、真空引系の主系統からガスが送られてくるが、
このガス中に含まれる塩素ガス、NOx及びSOx等
は、水封式真空ポンプ47内のアルカリ溶液と化学反応
を起こすことにより、カルシウム塩又はナトリウム塩等
の塩類に変えられて、水封ポンプ水槽48に送られる。
この塩類の一部は、上述したように一部は交換樹脂槽5
2において除去される。
The ion-exchanged water from which salts such as sodium chloride have been removed by passing through the ion-exchange resin tank 52 is cooled by the cooling water 53 and then sent into the water-sealed vacuum pump 47 by the action of the pump 54. . Water-sealed vacuum pump 47
Gas is sent from the main system of the vacuum system,
The chlorine gas, NOx, SOx, etc. contained in this gas are converted into salts such as calcium salt or sodium salt by causing a chemical reaction with the alkaline solution in the water-sealed vacuum pump 47, and the water-sealed pump water tank. Sent to 48.
A part of this salt is a part of the exchange resin tank 5 as described above.
Removed in 2.

【0100】水封ポンプ水槽48には、水封式真空ポン
プ47からガスと水溶液とが送り込まれるが、そこにお
いて水銀が沈殿して底に貯まるので、それを適時コック
を開いて取り出す。水封ポンプ水槽48には、排気系と
して、吸着装置58とポンプ59を備えたガス抜き路5
7が設置され、ポンプ59の作用で吸い出されたガスが
吸着装置58に導入されるようになっている。吸着装置
58は活性炭、ゼオライト等の吸着材、ダイオキシン等
を分解する酸化バナジウムなどの触媒を含むもので、主
としてガス中の有害成分を吸着除去する。このようにし
て有害成分を除去されたガスは、ポンプ59の作用で排
出される。
Gas and aqueous solution are sent from the water-sealed vacuum pump 47 to the water-sealed pump water tank 48. Since mercury precipitates and accumulates at the bottom there, it is taken out by opening the cock at an appropriate time. The water-sealing pump water tank 48 is equipped with an adsorption device 58 and a pump 59 as an exhaust system, and the degassing path 5 is provided.
7 is installed so that the gas sucked by the action of the pump 59 is introduced into the adsorption device 58. The adsorption device 58 includes activated carbon, an adsorbent such as zeolite, and a catalyst such as vanadium oxide that decomposes dioxin and the like, and mainly adsorbs and removes harmful components in the gas. The gas from which the harmful components have been removed in this way is discharged by the action of the pump 59.

【0101】このような構成の本発明に係る装置におい
ては、上述したように減圧下での熱分解時において、セ
ンサ群5中の酸素濃度センサ5b及び塩素濃度センサ5
cにより、熱分解炉1内の酸素等と塩素等の濃度が検出
され、その検出値に応じて還元剤供給手段22から熱分
解炉1内にアルミニウム及び酸化アルミニウムが生成さ
れ、以て、塩素及び酸素の量、並びに真空度がコントロ
ールされる。
In the apparatus according to the present invention having such a configuration, the oxygen concentration sensor 5b and the chlorine concentration sensor 5 in the sensor group 5 during the thermal decomposition under reduced pressure as described above.
The concentration of oxygen and chlorine in the thermal decomposition furnace 1 is detected by c, and aluminum and aluminum oxide are generated in the thermal decomposition furnace 1 from the reducing agent supply means 22 in accordance with the detected values. And the amount of oxygen and the degree of vacuum are controlled.

【0102】また、低温域において発生したガス状排出
物は、還元レトルト4内に導入されて加熱分解され、塩
素、酸素等はそこにおいて金属還元剤ないしアルカリ金
属、アルカリ土類金属の水酸化物に捕捉除去される。
Further, the gaseous effluent generated in the low temperature region is introduced into the reduction retort 4 and decomposed by heat, and chlorine, oxygen and the like are contained therein as a metal reducing agent or a hydroxide of an alkali metal or an alkaline earth metal. Are captured and removed by.

【0103】なお、本発明では酸素濃度だけではなく、
一酸化炭素、二酸化炭素等の酸化物ガスの濃度をも測定
することが好ましい。これは、ガス状排出物が各種分解
生成物の混合ガスであり、酸素の分析をppmオーダー
では正確には行えない場合があるからである。還元剤と
してはアルミニウム粉が好適である。それは、アルミニ
ウム粉は廉価で、マグネシウムに次いで反応エネルギー
が小さく、低温でも2O+3Al→Al等の
酸化還元反応が起こるからである。
In the present invention, not only the oxygen concentration but also
It is also preferable to measure the concentration of an oxide gas such as carbon monoxide or carbon dioxide. This is because the gaseous emission is a mixed gas of various decomposition products, and oxygen analysis may not be performed accurately in the ppm order. Aluminum powder is suitable as the reducing agent. This is because aluminum powder is inexpensive, has the second smallest reaction energy after magnesium, and undergoes a redox reaction such as 2O 2 + 3Al → Al 3 O 4 even at low temperatures.

【0104】熱分解炉62内において発生するガス状排
出物は、上述したように真空扉26を開くことにより回
収装置3に導入され、回収レトルト29内においてカド
ミウム、鉛、亜鉛、クロム、ニッケル等の金属蒸発物、
水、油等が凝縮されて回収される。
The gaseous emission generated in the thermal decomposition furnace 62 is introduced into the recovery device 3 by opening the vacuum door 26 as described above, and in the recovery retort 29, cadmium, lead, zinc, chromium, nickel, etc. Of metal vapor,
Water, oil, etc. are condensed and collected.

【0105】熱分解炉1は、上述したような1室に加熱
手段20及び冷却手段21を設置するものの外、処理対
象物体18を導入して予備真空引を行うパージ室61、
真空加熱処理を行う還元手段を備えた加熱室62及び処
理品の冷却を行う冷却室63の3室構造のものとするこ
とができる。(図4参照)。この場合、各室間に真空断
熱扉系及び真空引系統が連設される。
In the thermal decomposition furnace 1, the heating means 20 and the cooling means 21 are installed in one chamber as described above, but a purge chamber 61 for introducing the object 18 to be treated and performing preliminary vacuuming,
A three-chamber structure having a heating chamber 62 provided with a reducing means for performing vacuum heat treatment and a cooling chamber 63 for cooling the processed product can be adopted. (See Figure 4). In this case, a vacuum heat insulation door system and a vacuum evacuation system are connected between the chambers.

【0106】熱分解炉62をこのような3室構造とした
場合は、処理量が増大して処理効率が向上し、無人化も
可能となる。
When the thermal decomposition furnace 62 has such a three-chamber structure, the processing amount increases, the processing efficiency improves, and unmanned operation is possible.

【0107】上記熱分解炉62、回収系及び真空引系の
構成を複数連設して構成することもある。その場合、複
数の熱分解炉62における処理温度をそれぞれ異ならし
める。連設する場合は直線的であってもよいが、これを
四角形等に配置した方が、省スペース上有利である。図
5はその例として、熱分解炉62を4つ備え、全体を四
角形に構成した装置を示すものである。それは、処理対
象物体を導入するパージ室71、パージ室71に隣接す
る予熱室72、四角形の装置の3辺を構成する3つの真
空加熱室(熱分解炉1に相当)73〜75、各真空加熱
室間、換言すれば装置の4隅に配置される4つの分離室
76〜79、並びに、最終段の分離室79に隣接設置さ
れる1又は複数の冷却室80、81を備える。
A plurality of the pyrolysis furnace 62, the recovery system and the vacuuming system may be connected in series. In that case, the processing temperatures in the plurality of pyrolysis furnaces 62 are made different. When they are connected in series, they may be linear, but it is advantageous to arrange them in a square shape or the like in order to save space. FIG. 5 shows, as an example, an apparatus which is provided with four pyrolysis furnaces 62 and has a quadrangular shape as a whole. It includes a purge chamber 71 for introducing the object to be treated, a preheating chamber 72 adjacent to the purge chamber 71, three vacuum heating chambers (corresponding to the pyrolysis furnace 1) 73 to 75, which form the three sides of the quadrangular apparatus, and vacuums. Between the heating chambers, in other words, four separation chambers 76 to 79 arranged at the four corners of the apparatus, and one or a plurality of cooling chambers 80 and 81 adjacent to the final separation chamber 79 are provided.

【0108】処理対象物体は搬送ローラー82によって
パージ室71の出入口前に搬送され、真空扉71aを開
けた後、搬送ローラー82に添設された押込シリンダー
83によってパージ室71内に押送される。処理対象物
体は、総ての処理終了後にパージ室71に戻される。即
ち、パージ室71は本装置の入口と出口を兼ねるもので
ある。パージ室71には処理対象物体押出し用の押出シ
リンダー84が設置されており、これで以てパージ室7
1に戻された処理済物が室外に押し出されて搬送ローラ
ー82上に載せられ、搬出される。図示して内が、パー
ジ室71には真空ポンプが設置され、空気置換が行われ
る。
The object to be processed is transported by the transport roller 82 before the entrance / exit of the purge chamber 71, and after the vacuum door 71a is opened, it is pushed into the purge chamber 71 by the pushing cylinder 83 attached to the transport roller 82. The object to be treated is returned to the purge chamber 71 after the completion of all treatments. That is, the purge chamber 71 doubles as an inlet and an outlet of this device. The purge chamber 71 is provided with an extrusion cylinder 84 for pushing out the object to be treated.
The processed product returned to 1 is extruded out of the room, placed on the transport roller 82, and unloaded. In the figure, a vacuum pump is installed in the purge chamber 71 to perform air replacement.

【0109】パージ室71を間にして、冷却室80、8
1から予熱室71及び第1分離室76にまで延びる搬送
コンベア86が配置されてイる。パージ室71の両側面
には真空扉87、88が配備され、処理対象物体の各室
間移動が可能となっている。上記総ての室間には、それ
ぞれ開閉バルブを備えたバイパス89〜99(バイパス
96は必要に応じて設置する。)が設置され、各室間に
存する真空扉を開く前にオいて各室あいだの動圧化が図
られる。
Cooling chambers 80, 8 with the purge chamber 71 in between.
A transfer conveyor 86 extending from 1 to the preheating chamber 71 and the first separation chamber 76 is arranged. Vacuum doors 87 and 88 are provided on both side surfaces of the purge chamber 71 so that the object to be processed can be moved between the chambers. Bypasses 89 to 99 each having an opening / closing valve (the bypass 96 is installed if necessary) are installed between all the above-mentioned chambers, and each room is opened before opening a vacuum door existing between the chambers. The dynamic pressure between them is achieved.

【0110】予熱室72は、搬送コンベア86によっ
て、パージ室71から送られてくる処理対象物体を、通
例最高150°C程度にまで予熱するための加熱手段を
備えた室で、上記単炉の場合と同様に、真空扉26を介
して回収装置3、粉体フィルター31、ブースターポン
プ41、水封式真空ポンプ47以下の回収系、真空引系
並びに排気系の構成が設置される。これらのガス状排出
物処理系等の構成及び作用は上述したところと同じであ
るので、説明を省略する。なお、500°C以下の真空
加熱室には、上記同様にガス出口に還元レトルト4が配
備される。
The preheating chamber 72 is a chamber provided with a heating means for preheating the object to be treated sent from the purging chamber 71 by the transfer conveyor 86 to a maximum of about 150 ° C. in general. Similar to the case, the recovery device 3, the powder filter 31, the booster pump 41, the recovery system below the water-sealed vacuum pump 47, the vacuum system, and the exhaust system are installed via the vacuum door 26. Since the configuration and operation of these gaseous emission treatment systems and the like are the same as those described above, the description thereof will be omitted. In the vacuum heating chamber at 500 ° C. or lower, the reduction retort 4 is provided at the gas outlet in the same manner as above.

【0111】予熱室72と第1分離室76との間には、
予熱室72側に向く断熱扉100と、第1分離室76側
に向く真空扉101とから成る真空二重扉が配置され
る。また、第1分離室76とこれに隣接する第1真空加
熱室73との間には、第1分離室76側に向く真空扉1
02と、第1真空加熱室73側に向く断熱扉103とか
ら成る真空二重扉が配置される。第1分離室76は、予
熱室72から送られてくる処理対象物体を第1真空加熱
室73へ移送する押送シリンダー104を備える。
Between the preheating chamber 72 and the first separation chamber 76,
A vacuum double door including a heat insulating door 100 facing the preheating chamber 72 side and a vacuum door 101 facing the first separation chamber 76 side is arranged. In addition, the vacuum door 1 facing the first separation chamber 76 side is provided between the first separation chamber 76 and the first vacuum heating chamber 73 adjacent thereto.
02 and a heat insulating door 103 facing the first vacuum heating chamber 73 side, a vacuum double door is arranged. The first separation chamber 76 includes a pushing cylinder 104 that transfers the object to be processed sent from the preheating chamber 72 to the first vacuum heating chamber 73.

【0112】第1分離室76は、予熱室72と第1真空
加熱室73とを隔離させ、予熱室72からの蒸発物が第
1真空加熱室73に流入することを防止するとともに、
室間真空度を調整す役目を果たす。また、そこにおいて
蒸発物の沈殿化が図られ、以て真空二重扉の真空シール
性が保護される。後出の各分離室77〜79も、第1分
離室76と同じ作用を果たす。なお、各分離室76〜7
9の真空引きは、前室(第1分離室76の場合は予熱室
72)のブースターポンプ41及び水封式真空ポンプ4
7で行うことができる。
The first separation chamber 76 separates the preheating chamber 72 and the first vacuum heating chamber 73 from each other and prevents the vaporized substances from the preheating chamber 72 from flowing into the first vacuum heating chamber 73.
It plays the role of adjusting the degree of vacuum between rooms. In addition, the evaporation material is precipitated there, so that the vacuum sealing property of the vacuum double door is protected. Each of the later-described separation chambers 77 to 79 also performs the same operation as the first separation chamber 76. In addition, each separation chamber 76-7
The vacuum evacuation of 9 is performed by the booster pump 41 in the front chamber (the preheating chamber 72 in the case of the first separation chamber 76) and the water-sealed vacuum pump 4.
Can be done at 7.

【0113】第1真空加熱室73も、予熱室72と同様
の回収系及び真空引系系の構成を備える。第1真空加熱
室73と第2分離室77との間には、第1真空加熱室7
3側に向く断熱扉105と、第2分離室77側に向く真
空扉106とから成る真空二重扉が配置される。処理対
象物体の第1真空加熱室73内及びそこから第2分離室
77への移送は押送シリンダー104によるプッシャー
駆動、トレープッシャー等により(複数の処理対象物体
が後押しして進行することになる。)、また、第2分離
室77内に入ってからの移動はローラー駆動による。
The first vacuum heating chamber 73 also has a recovery system and a vacuuming system configuration similar to those of the preheating chamber 72. A first vacuum heating chamber 7 is provided between the first vacuum heating chamber 73 and the second separation chamber 77.
A vacuum double door including a heat insulating door 105 facing the third side and a vacuum door 106 facing the second separation chamber 77 side is arranged. The transfer of the object to be processed into the first vacuum heating chamber 73 and from there to the second separation chamber 77 is carried out by pusher driving by the pushing cylinder 104, tray pusher, etc. (a plurality of objects to be processed are pushed and proceed. ), And the movement after entering the second separation chamber 77 is driven by a roller.

【0114】第1真空加熱室73は、例えば真空度は6
00〜10-2Torr、温度は150〜500°Cで稼
働され、ここにおいて殆どの物質の熱分解が完了する。
発生するガス状排出物は、炉内還元剤又は還元レトルト
4において処理されて酸素及び塩素が除去され、更に、
温度及び真空殿コントロールにより、酸素及び塩素の発
生量が制御される。このことは、以下の真空加熱室にお
いても同様である。第2分離室77は、第1真空加熱室
73から送られてくる処理対象物体を第2真空加熱室7
4へ送入するための押送シリンダー107を備える。第
2分離室77と第2真空加熱室74との間には、第2分
離室77側に向く真空扉108と第2真空加熱室74側
に向く断熱扉109とから成る真空二重扉が配置され
る。
The first vacuum heating chamber 73 has, for example, a vacuum degree of 6
00-10 to 2 Torr, temperature is operated at 150-500 ° C, where thermal decomposition of most substances is completed.
The generated gaseous effluent is treated in the reducing agent or reduction retort 4 in the furnace to remove oxygen and chlorine, and further,
The amount of oxygen and chlorine generated is controlled by controlling the temperature and vacuum. This also applies to the following vacuum heating chambers. The second separation chamber 77 receives the object to be processed sent from the first vacuum heating chamber 73 from the second vacuum heating chamber 7.
4 is equipped with a pushing cylinder 107 for feeding. Between the second separation chamber 77 and the second vacuum heating chamber 74, there is a vacuum double door including a vacuum door 108 facing the second separation chamber 77 side and a heat insulating door 109 facing the second vacuum heating chamber 74 side. Will be placed.

【0115】第2真空加熱室74も、上記同様の回収
系、真空引き系及び排ガス系の構成を備える。第2真空
加熱室74は、例えば真空度は約10-1 〜10-3To
rr、温度は500〜900°Cで稼働され、熱分解残
渣中の未分解成分を完全に分解蒸発させるとともに、蒸
発金属の回収を行うことが目的となる。
The second vacuum heating chamber 74 also has the same configuration of the recovery system, the evacuation system and the exhaust gas system as described above. The second vacuum heating chamber 74 has, for example, a vacuum degree of about 10 −1 to 10 −3 To.
It is operated at rr and temperature of 500 to 900 ° C., and the purpose is to completely decompose and evaporate the undecomposed components in the thermal decomposition residue and to recover the evaporated metal.

【0116】第2真空加熱室74と第3分離室78との
間には、第2真空加熱室74側に向く断熱扉110と、
第3分離室78側に向く真空扉111とから成る真空二
重扉が配置される。処理品の第2真空加熱室74内及び
そこから第3分離室78への移送は押送シリンダー10
7によるプッシャー駆動により、また、第3分離室78
内に入ってからの移動はローラー駆動による。
Between the second vacuum heating chamber 74 and the third separation chamber 78, a heat insulating door 110 facing the second vacuum heating chamber 74 side,
A vacuum double door including a vacuum door 111 facing the third separation chamber 78 side is arranged. The transfer of the processed product into and out of the second vacuum heating chamber 74 and the third separation chamber 78 is performed by the pushing cylinder 10.
By the pusher drive by 7, the third separation chamber 78
The movement after entering the inside is by roller drive.

【0117】第3分離室78は、第2真空加熱室74か
ら送られてくる処理対象物体を第3真空加熱室75へ送
入するための押送シリンダー112を備える。第3分離
室78と第3真空加熱室75との間には、第3分離室7
8側に向く真空扉113と第3真空加熱室75側に向く
断熱扉114とから成る真空二重扉が配置される。
The third separation chamber 78 is provided with a pushing cylinder 112 for feeding the object to be treated sent from the second vacuum heating chamber 74 into the third vacuum heating chamber 75. The third separation chamber 7 is provided between the third separation chamber 78 and the third vacuum heating chamber 75.
A vacuum double door including a vacuum door 113 facing the 8 side and a heat insulating door 114 facing the third vacuum heating chamber 75 side is arranged.

【0118】第3真空加熱室75は、上記真空加熱室と
同様の回収系及び真空引系の外に、真空引系に拡散ポン
プ115とロータリーポンプ116を付加した機構を備
える。そして更に、第3真空加熱室75と第4分離室7
9との間には、第4分離室79側に向く断熱扉117が
配置される。処理対象物体の第3真空加熱室75内及び
そこから第4分離室79への移送は、プッシャー112
によるプッシャー駆動により、また、第4分離室79内
においての移動はローラー駆動による。
The third vacuum heating chamber 75 is provided with a mechanism in which a diffusion pump 115 and a rotary pump 116 are added to the vacuum evacuation system in addition to the recovery system and the evacuation system similar to the above vacuum heating chamber. Further, the third vacuum heating chamber 75 and the fourth separation chamber 7
A heat insulating door 117 facing the fourth separation chamber 79 side is arranged between the heat insulating door 117 and the second heat insulating door 9. The pusher 112 transfers the object to be processed into the third vacuum heating chamber 75 and from the third vacuum heating chamber 75 to the fourth separation chamber 79.
Is driven by a pusher, and the movement in the fourth separation chamber 79 is driven by a roller.

【0119】第4分離室79は、第1真空冷却室を兼ね
ており、処理対象物体の冷却手段を備えるとともに、第
3真空加熱室75から送られてくる処理対象物体を第2
冷却室80へ送入するための押送シリンダー118を備
える。第4分離室79とこれに隣接する第2冷却室80
との間には、真空扉119が配置される。
The fourth separation chamber 79 also serves as the first vacuum cooling chamber, is equipped with a cooling means for the object to be treated, and is provided with a second object to be treated sent from the third vacuum heating chamber 75.
A pushing cylinder 118 for feeding into the cooling chamber 80 is provided. Fourth separation chamber 79 and second cooling chamber 80 adjacent thereto
A vacuum door 119 is disposed between and.

【0120】第2冷却室80には、真空扉26を介して
回収装置3、粉体フィルター31、ブースターポンプ4
1及びロータリーポンプ116が設置され、更に、真空
扉26の下流側とパージ室71を結ぶバイパス路120
が形成される。また、第2冷却室80には真空扉121
を介して第3冷却室81が連設され、第3冷却室81は
真空扉88を介してパージ室71に隣接する。
In the second cooling chamber 80, the recovery device 3, the powder filter 31, the booster pump 4 via the vacuum door 26.
1 and the rotary pump 116 are installed, and further, a bypass passage 120 connecting the downstream side of the vacuum door 26 and the purge chamber 71.
Is formed. Further, the second cooling chamber 80 has a vacuum door 121.
The third cooling chamber 81 is connected to the purge chamber 71 through the vacuum door 88.

【0121】かかる構成において、搬送ローラー82に
よってパージ室71の真空扉71aの前に搬送された処
理対象物体は、パージ室に空気を入れて外部と同圧に
し、真空扉71aを開けた後押送シリンダー83によっ
てパージ室71内に送入し、その後真空扉71aが閉じ
られる。その際真空扉87、88は閉じている。
In such a structure, the object to be treated, which has been conveyed by the conveying roller 82 to the front of the vacuum door 71a of the purge chamber 71, is forced into the purge chamber by bringing air into the same pressure as the outside, and then the vacuum door 71a is opened before being pushed. It is fed into the purge chamber 71 by the cylinder 83, and then the vacuum door 71a is closed. At that time, the vacuum doors 87 and 88 are closed.

【0122】その状態でバイパス路120に設置される
真空ポンプが動作して、パージ室71内が減圧される。
そして、バイパス89を開通させることによりパージ室
71と予熱室72とが同圧にされた後、真空扉87が開
く。ついで、搬送コンベア86によって処理対象物体が
予熱室72に送り込まれた後、真空扉87が閉じられる
とともに、バイパス89が閉鎖される。
In this state, the vacuum pump installed in the bypass 120 operates to reduce the pressure in the purge chamber 71.
Then, by opening the bypass 89, the purge chamber 71 and the preheating chamber 72 are made to have the same pressure, and then the vacuum door 87 is opened. Then, after the object to be processed is sent to the preheating chamber 72 by the conveyor 86, the vacuum door 87 is closed and the bypass 89 is closed.

【0123】予熱室72は、例えば真空度が760〜1
Torrで、温度が0〜150℃であり、ここにおいて
発生する還元レトルト4を経た分解ガスは、真空扉26
を開けることにより回収装置3に導かれ、蒸発物の回
収、粉体の除去、並びに酸素及び塩素の除去が行われ
る。
The preheating chamber 72 has a vacuum degree of 760 to 1 for example.
Torr, the temperature is 0 to 150 ° C., and the decomposition gas generated here through the reduction retort 4 is the vacuum door 26.
When opened, it is guided to the recovery device 3 where the evaporate is recovered, the powder is removed, and the oxygen and chlorine are removed.

【0124】予熱室72における処理終了後、バイパス
90が開通して予熱室72と第1分離室76とが同圧に
される。次いで、二重真空扉100、101が開き、搬
送コンベア86によって処理対象物体が第1分離室76
内に搬送された後、二重真空扉100、101が閉じ、
バイパス90が閉鎖される。
After the processing in the preheating chamber 72 is completed, the bypass 90 is opened and the preheating chamber 72 and the first separation chamber 76 are made to have the same pressure. Then, the double vacuum doors 100 and 101 are opened, and the object to be processed is transferred to the first separation chamber 76 by the transfer conveyor 86.
After being transported inside, the double vacuum doors 100, 101 are closed,
Bypass 90 is closed.

【0125】次に、真空ポンプ41、47で第1分離室
76内の真空引きをした後、バイパス91が開通して第
1分離室76と第1真空加熱室73とが同圧にされた
後、二重真空扉102、103が開き、押送シリンダー
104によって処理対象物体が第1真空加熱室73内に
搬入される。第1真空加熱室73内においては、例えば
150〜500℃の範囲で真空下(真空度600〜10
-2Torr)にての加熱が行われる。この温度範囲では
殆どの有機物等が分解蒸発し、還元レトルト4を経て開
かれた真空扉26を通って回収装置3において回収され
る。また、上記同様に粉体の除去並びに酸素及び塩素の
除去が行われる。
Next, after vacuuming the inside of the first separation chamber 76 with the vacuum pumps 41 and 47, the bypass 91 is opened and the first separation chamber 76 and the first vacuum heating chamber 73 are brought to the same pressure. After that, the double vacuum doors 102 and 103 are opened, and the object to be processed is carried into the first vacuum heating chamber 73 by the pushing cylinder 104. In the first vacuum heating chamber 73, for example, in a range of 150 to 500 ° C. under vacuum (vacuum degree of 600 to 10).
-2 Torr) is heated. In this temperature range, most of the organic substances are decomposed and evaporated, and are recovered in the recovery device 3 through the reduction retort 4 and the vacuum door 26 opened. In addition, the removal of powder and the removal of oxygen and chlorine are performed in the same manner as above.

【0126】後続の真空加熱室74、75においても同
様のことが行われる。即ち、バイパス92が開通して第
1真空加熱室73と第2分離室77とが同圧にされた
後、二重真空扉105、106が開き、押送シリンダー
104によって処理対象物体が第2分離室77内に搬入
される。そして、二重真空扉105、106が閉じると
ともにバイパス92が閉鎖された後、バイパス93が開
通して第2分離室77と第2真空加熱室74とが同圧に
される。次いで、二重真空扉108、109が開き、押
送シリンダー107によって処理対象物体が第2真空加
熱室74に搬入された後、二重真空扉108、109が
閉じるとともにバイパス93が閉鎖される。なお、各分
離室と真空加熱室の圧力差が大きい場合は、真空ポンプ
で圧力調整をした後、バイパスを開くようにする。後続
の真空加熱室74、75においても同様である。
The same applies to the subsequent vacuum heating chambers 74 and 75. That is, after the bypass 92 is opened and the first vacuum heating chamber 73 and the second separation chamber 77 are made to have the same pressure, the double vacuum doors 105 and 106 are opened, and the object to be processed is secondly separated by the pushing cylinder 104. It is carried into the chamber 77. Then, after the double vacuum doors 105 and 106 are closed and the bypass 92 is closed, the bypass 93 is opened and the second separation chamber 77 and the second vacuum heating chamber 74 are made to have the same pressure. Next, the double vacuum doors 108 and 109 are opened, the object to be processed is carried into the second vacuum heating chamber 74 by the pushing cylinder 107, and then the double vacuum doors 108 and 109 are closed and the bypass 93 is closed. When the pressure difference between each separation chamber and the vacuum heating chamber is large, the bypass is opened after adjusting the pressure with the vacuum pump. The same applies to the subsequent vacuum heating chambers 74 and 75.

【0127】第2真空加熱室74内においては、例えば
500℃〜900℃の範囲で真空下(真空度10-1〜1
0-3Torr)にての加熱が行われる。この温度範囲で
は、カドミウム、亜鉛、鉛等が分解蒸発し、開かれた真
空扉26を経て回収装置3において回収される。また、
上記同様に粉体の除去並びに塩素の除去が行われる。
In the second vacuum heating chamber 74, for example, under a vacuum in the range of 500 ° C. to 900 ° C. (degree of vacuum 10 -1 to 1
Heating at 0-3 Torr). In this temperature range, cadmium, zinc, lead, etc. are decomposed and evaporated, and are recovered in the recovery device 3 through the opened vacuum door 26. Also,
Powder removal and chlorine removal are performed in the same manner as above.

【0128】同様にして、バイパス94が開通して第2
真空加熱室74と第3分離室78とが同圧にされた後、
二重真空扉110、111が開き、押送シリンダー10
7によって処理対象物体が第3分離室78内に搬送され
る。そして、二重真空扉110、111が閉じるととも
にバイパス94が閉鎖された後、バイパス95が開通し
て第3分離室78と第3真空加熱室75とが同圧にされ
る。次いで、二重真空扉113、114が開き、押送シ
リンダー112によって処理対象物体が第3真空加熱室
75に搬送された後、二重真空扉113、114が閉じ
るとともにバイパス95が閉鎖される。
Similarly, the bypass 94 is opened and the second
After the vacuum heating chamber 74 and the third separation chamber 78 are made to have the same pressure,
Double vacuum doors 110 and 111 open, pushing cylinder 10
The object to be processed is transported into the third separation chamber 78 by 7. Then, after the double vacuum doors 110 and 111 are closed and the bypass 94 is closed, the bypass 95 is opened and the third separation chamber 78 and the third vacuum heating chamber 75 are made to have the same pressure. Next, the double vacuum doors 113 and 114 are opened, and the object to be processed is transferred to the third vacuum heating chamber 75 by the pushing cylinder 112, and then the double vacuum doors 113 and 114 are closed and the bypass 95 is closed.

【0129】第3真空加熱室75内においては、例えば
900℃〜1300℃の範囲で真空下(真空度約10-2
〜約10-5Torr程度)にての加熱が行われる。この
温度範囲で、銅、スズ、クロム等が分解蒸発し、開かれ
た真空扉26を経て回収装置3において回収される。ま
た、上記同様に粉体の除去並びに塩素の除去が行われ
る。
In the third vacuum heating chamber 75, for example, under vacuum in the range of 900 ° C. to 1300 ° C. (vacuum degree of about 10 −2
The heating is performed at about 10 −5 Torr). In this temperature range, copper, tin, chromium, etc. are decomposed and evaporated, and are recovered in the recovery device 3 through the opened vacuum door 26. In addition, the powder removal and chlorine removal are performed in the same manner as above.

【0130】第3真空加熱室75と第4分離室79とは
常時同圧であって、断熱扉117が開いた後、押送シリ
ンダー112によって処理対象物体が第4分離室79内
に搬入され、そこにおいて真空による処理対象物体の一
時冷却が行われる。
The third vacuum heating chamber 75 and the fourth separation chamber 79 are always under the same pressure, and after the heat insulating door 117 is opened, the object to be treated is carried into the fourth separation chamber 79 by the pushing cylinder 112. There, the object to be treated is temporarily cooled by a vacuum.

【0131】この一時冷却終了後処理対象物体は第2冷
却室80に搬送されるが、それに先立ち第2冷却室80
にオいては、バイパス120を閉じた状態で、ロータリ
ーポンプ116、ブースターポンプ41の作用で室内の
残留チッ素ガスを排出する。この処理がなされた後、バ
イパス97が開通して第4分離室79と第2冷却室80
とが同圧化される。次いで、真空扉119が開き、押送
シリンダー118によって処理対象物体が第2冷却室8
0に搬送された後、真空扉119が閉じるとともにバイ
パス97が閉鎖される。
The object to be treated after the completion of the temporary cooling is conveyed to the second cooling chamber 80, but prior to that, the second cooling chamber 80 is carried out.
Then, with the bypass 120 closed, the residual nitrogen gas in the room is discharged by the action of the rotary pump 116 and the booster pump 41. After this processing is performed, the bypass 97 is opened to open the fourth separation chamber 79 and the second cooling chamber 80.
And are made the same pressure. Then, the vacuum door 119 is opened, and the object to be processed is moved to the second cooling chamber 8 by the pushing cylinder 118.
After being transported to 0, the vacuum door 119 is closed and the bypass 97 is closed.

【0132】第2冷却室80においてはチッ素ガスによ
る処理対象物体の二次冷却が、排出したチッ素分を補給
した後に行われる。この二次冷却終了後の、バイパス9
8が開通して第2冷却室80と第3冷却室81の同圧化
処理が行われ、次いで真空扉121が開いて処理対象物
体が搬送コンベア86によって第3冷却室81へ搬送さ
れる。そして、真空扉121が閉じるとともにバイパス
98が閉鎖され、冷却室81で窒素冷却が行われる。
In the second cooling chamber 80, the object to be treated is secondarily cooled with nitrogen gas after the exhausted nitrogen component is replenished. Bypass 9 after completion of this secondary cooling
8, the second cooling chamber 80 and the third cooling chamber 81 are pressure-equalized, then the vacuum door 121 is opened and the object to be processed is transferred to the third cooling chamber 81 by the transfer conveyor 86. Then, the vacuum door 121 is closed, the bypass 98 is closed, and nitrogen cooling is performed in the cooling chamber 81.

【0133】第3冷却室81においてチッ素ガスによる
三次冷却が終了すると、バイパス99が開通して第3冷
却室81とパージ室71の同圧化処理が行われ、次いで
真空扉88が開いて処理済物が搬送コンベア86によっ
てパージ室71に搬出される。そして、真空扉88が閉
じてバイパス99が閉鎖された後、パージ室71が復圧
され、真空扉71aが開いて、処理済物が押出シリンダ
ー84によって搬送ローラー82上に搬出される。
When the tertiary cooling by the nitrogen gas in the third cooling chamber 81 is completed, the bypass 99 is opened and the third cooling chamber 81 and the purge chamber 71 are made to have the same pressure, and then the vacuum door 88 is opened. The processed product is carried out to the purge chamber 71 by the transfer conveyor 86. Then, after the vacuum door 88 is closed and the bypass 99 is closed, the pressure in the purge chamber 71 is restored, the vacuum door 71 a is opened, and the processed product is carried out by the extrusion cylinder 84 onto the transport roller 82.

【0134】なお、第3冷却室81においては冷却用の
チッ素ガスの交換を行うのみで、真空引きを行わない。
そのため、処理時間が短縮されるとともに真空引系機器
の設置コスト及びチッ素ガスを節減でき、処理量も増大
する。 (実施形態2)常圧(760Torr)でダイオキシン
などの有機ハロゲン化物を含むガスを置換する処理装置
について説明する(図7参照)。
In the third cooling chamber 81, only the nitrogen gas for cooling is exchanged, and the vacuum is not drawn.
Therefore, the processing time is shortened, the installation cost of the vacuum system equipment and the nitrogen gas can be reduced, and the processing amount is increased. (Embodiment 2) A processing device for substituting a gas containing an organic halide such as dioxin at atmospheric pressure (760 Torr) will be described (see FIG. 7).

【0135】この処理装置は密閉容器に投入した前記処
理対象物体を加熱するための加熱装置と、それにつらな
り処理対象物体の加熱残渣を冷却する冷却装置と、密閉
容器内の塩素、酸素等の濃度を検出し、それに基づいて
濃度を制御する手段と、処理対象物体を搬送する手段
と、密閉容器内をガス置換するための置換手段と、を備
える。
This processing apparatus comprises a heating device for heating the object to be treated put in a closed container, a cooling device for cooling the heating residue of the object to be treated which is contaminated with the heating device, and a concentration of chlorine, oxygen or the like in the closed container. Is detected and the concentration is controlled based on the detected concentration, a means for transporting the object to be treated, and a replacement means for replacing the gas in the closed container with gas.

【0136】なおここでは、加熱によりダイオキシン、
ハロゲン化炭化水素等の有機ハロゲン化物を生成可能な
処理対象物体の加熱残渣中の有機ハロゲン化物の濃度を
低減するための手法を中心に説明するが、処理対象物体
の加熱により生じる有機ハロゲン化物についても、有機
ハロゲン化物の回収、分解等の措置を講ずるようにすれ
ばよい。
In this case, dioxin,
A method for reducing the concentration of organic halides in the heating residue of the object to be treated, which can generate organic halides such as halogenated hydrocarbons, will be mainly explained. Regarding the organic halides generated by heating the object to be treated Also, measures such as recovery and decomposition of the organic halide may be taken.

【0137】処理対象物体を燃焼、熱分解などの加熱処
理の残渣は、加熱処理終了後直ちに置換ガスで有機ハロ
ゲン化物、有機ハロゲン化物生成能を有する物質を含む
加熱雰囲気ガスをパージして、処理容器内の有機ハロゲ
ン化物、有機ハロゲン化物生成能を有する物質の濃度を
低減する。そしてこの状態で処理対象物体を冷却する。
これにより処理対象物体中のダイオキシンなどの有機ハ
ロゲン化物の残留濃度を低減、除去することができる。
The residue of the heat treatment such as burning and thermal decomposition of the object to be treated is treated immediately after the heat treatment is completed by purging the heating atmosphere gas containing the organic halide and the substance having the ability to form an organic halide with the replacement gas. The concentration of the organic halide and the substance having the ability to form an organic halide in the container is reduced. Then, the object to be processed is cooled in this state.
This makes it possible to reduce and remove the residual concentration of organic halides such as dioxins in the object to be treated.

【0138】置換ガスとしては、窒素、アルゴンなどの
希ガス、空気などを用いることができる。置換ガスに要
求される条件は、実質的に有機ハロゲン化物フリーであ
ることである。さらに処理対象物体と反応して有機ハロ
ゲン化物を生成できない置換ガスを用いることが好適で
ある。空気は酸素を含むので、これを置換ガスとして用
いた場合、加熱残渣の構成、状態によっては冷却中に有
機ハロゲン化物を再生成する可能性がある。したがって
窒素、希ガスを用いることがより好ましい。さらに単な
るパージではなく、容器内を減圧し、その後置換ガスで
パージして(減圧置換)、その後冷却するようにしても
よい。
As the replacement gas, nitrogen, rare gas such as argon, air, or the like can be used. The requirement for the replacement gas is that it be substantially free of organic halides. Further, it is preferable to use a replacement gas that cannot react with the object to be treated to generate an organic halide. Since air contains oxygen, when it is used as a replacement gas, organic halides may be regenerated during cooling depending on the composition and state of the heating residue. Therefore, it is more preferable to use nitrogen or a rare gas. Further, instead of mere purging, the inside of the container may be depressurized, then purged with a replacement gas (replacement under reduced pressure), and then cooled.

【0139】処理対象物体の容器内の搬送手段は、処理
対象物体の形態、処理条件により選択するようにすれば
よい。例えばスクリューコンベア、ロータリーキルン、
ローラーハウス、トレープッシャ、メッシュベルト連続
などを用いることができる。 (実施形態3)つぎに減圧置換処理について説明する(図
8、図9、図10参照)。
The means for transporting the object to be processed in the container may be selected according to the form of the object to be processed and the processing conditions. For example, screw conveyor, rotary kiln,
A roller house, tray pusher, continuous mesh belt or the like can be used. (Embodiment 3) Next, the decompression replacement process will be described (see FIGS. 8, 9, and 10).

【0140】この減圧置換処理に用いる装置では、前述
した常圧での置換で説明した装置の気密容器に、気密容
器内を減圧するための減圧装置と、圧力を制御するため
の制御装置をさらに備える。処理対象物体の加熱処理の
後、気密容器内を真空ポンプで10乃至10−2Tor
r程度に減圧し、処理対象物体を冷却する。処理対象物
体の冷却は減圧のまま行ってもよいし、前述の置換ガス
を気密容器内に導入して行うようにしてもよい。
In the apparatus used for this decompression / substitution process, a decompression device for decompressing the inside of the airtight container and a control device for controlling the pressure are further provided in the airtight container of the device described in the above-mentioned replacement at normal pressure. Prepare After the heat treatment of the object to be treated, the inside of the airtight container is vacuum pumped to 10 to 10 −2 Tor.
The pressure is reduced to about r and the object to be processed is cooled. The object to be treated may be cooled under reduced pressure, or may be introduced by introducing the above-mentioned replacement gas into the airtight container.

【0141】気密容器内の圧力が低いと、処理対象物体
の冷却に時間を要し、タクトタイムが長くなるので、生
産性の観点からは置換ガスを導入して冷却することが好
ましい。
If the pressure in the airtight container is low, it takes time to cool the object to be treated and the takt time becomes long. Therefore, from the viewpoint of productivity, it is preferable to introduce the replacement gas for cooling.

【0142】また処理対象物体の加熱処理自体を減圧下
下で行うことにより、処理対象物体の加熱残渣に残留す
る有機ハロゲン化物の濃度の低減にさらに有効である。
By performing the heat treatment itself of the object to be treated under reduced pressure, it is more effective to reduce the concentration of the organic halide remaining in the heating residue of the object to be treated.

【0143】加熱処理を減圧下で行い、減圧置換のあと
置換ガスを導入せずに冷却した場合、この冷却した加熱
残渣を大気中に排出する前に、加熱残渣を非酸化性ガス
にさらすことが好ましい。これは減圧加熱により処理対
象物体の表面積が非常に大きく、また表面自由エネルギ
ーが過剰な状態になり易いため、そのまま大気中に排出
すると激しく発火したりして危険な場合があるからであ
る。特に加熱残渣がMg、Al、その他の金属を含む場
合は加熱残渣を大気中に排出する前に、加熱残渣を非酸
化性ガスにさらすことが好ましい。 (実施形態4)さて、処理対象物体の加熱処理と冷却処
理を同一の気密容器で行う場合、処理対象物体の加熱残
渣の冷却を終えるまで、次バッチの処理対象物体を導入
することができない。連続的な処理を実現するために
は、加熱室、冷却室を断熱扉、真空扉で隔てて配設する
ようにすればよい。また処理対象物体の加熱も減圧して
行う場合には、加熱室の前段にパージ室を配設するよう
にすればよい。
When the heat treatment is carried out under reduced pressure, and after cooling under reduced pressure and cooling without introducing a replacement gas, the heating residue is exposed to a non-oxidizing gas before being discharged into the atmosphere. Is preferred. This is because the object to be treated has a very large surface area due to heating under reduced pressure, and the surface free energy is likely to be in an excessive state, so if it is discharged into the atmosphere as it is, it may be ignited violently and may be dangerous. In particular, when the heating residue contains Mg, Al, and other metals, it is preferable to expose the heating residue to a non-oxidizing gas before discharging the heating residue into the atmosphere. (Embodiment 4) When the heating treatment and the cooling treatment of the object to be treated are carried out in the same airtight container, the object to be treated in the next batch cannot be introduced until the cooling of the heating residue of the object to be treated is finished. In order to realize continuous processing, the heating chamber and the cooling chamber may be separated by a heat insulating door and a vacuum door. Further, when the object to be treated is also heated under reduced pressure, a purge chamber may be arranged in front of the heating chamber.

【0144】例えば、加熱手段と圧力調節手段とを備え
た気密領域の投入口に真空扉をそれぞれ備えたパージ室
を配設するようにすればよい。パージ室内に処理対象物
体を導入し、パージ室内を減圧乃至は置換ガスでパージ
した後、加熱処理のための気密容器との間の真空扉を開
いて処理対象物体を気密容器ないに導入する。このよう
な構成を採用することにより、処理対象物体の加熱処理
中にも、気密容器内に空気等を混入することなく新たな
処理対象物体を導入することができる。
For example, a purge chamber provided with a vacuum door may be provided at the inlet of the airtight region provided with the heating means and the pressure adjusting means. After the object to be treated is introduced into the purge chamber and the inside of the purge chamber is depressurized or purged with a replacement gas, the vacuum door to the airtight container for heat treatment is opened and the object to be treated is introduced into the airtight container. By adopting such a configuration, it is possible to introduce a new object to be processed even during the heat treatment of the object to be processed without mixing air or the like into the airtight container.

【0145】また例えば処理対象物体を冶具トレーを用
いずにチャンバ内を搬送する場合には、真空加熱チャン
バの前段に、2つの連接したパージ室を配設するように
してもよい。また2室のパージ室間を往来可能なトレー
などの治具、真空加熱室への投入装置も備えるようにす
ればよい。このトレーはドロワー、プッシャーなどの搬
送手段により、2つのパージ室間を往来させるようにす
ればよい。また真空加熱室へは処理対象物体をバラの状
態で投入するようにしてもよい。そして気密容器と真空
扉で隔てられた側のパージ室を減圧し、空気をパージす
ればよい。
Further, for example, when the object to be treated is transported in the chamber without using the jig tray, two connected purge chambers may be arranged in the preceding stage of the vacuum heating chamber. Further, a jig such as a tray that can move between the two purging chambers and a charging device for the vacuum heating chamber may be provided. This tray may be moved back and forth between the two purge chambers by a transfer means such as a drawer or a pusher. Further, the object to be treated may be thrown into the vacuum heating chamber in a loose state. Then, the purge chamber on the side separated by the airtight container and the vacuum door may be decompressed to purge the air.

【0146】加熱処理のための気密容器からの処理対象
物体の加熱残渣の取り出しについても同様に行うことが
できる。また加熱残渣の冷却には時間を要するので、ト
レーを回流させるようにすれば、生産性が向上する。例
えば、気密容器の処理対象物体の出口には、気密に加熱
残渣を収納することができる収納室と、加熱残渣を冷却
する冷却室と、置換ガスで雰囲気を置換してトレー、ケ
ーシング等の加熱残渣の搬送手段を収納してパージする
パージ室と、常圧で加熱残渣をコンベア等に排出する排
出室の4室を設ける。これらの4室は独立に気密を保て
るように真空扉をそれぞれ備えるようにしてもよい。そ
してこれらの4室をトレー等の治具を移動させることで
加熱残渣を搬送する。移動を容易にするため、これら各
室はグリッド状に設けるようにしてもよい(例えば四角
形の各頂点に各室を配設する)。
The removal of the heating residue of the object to be treated from the airtight container for the heat treatment can be similarly performed. Further, since it takes time to cool the heating residue, it is possible to improve productivity by circulating the tray. For example, at the outlet of the object to be processed of the airtight container, a storage chamber capable of hermetically storing the heating residue, a cooling chamber for cooling the heating residue, and a tray, a casing, or the like for heating the tray by replacing the atmosphere with a replacement gas. There are provided four chambers: a purge chamber for accommodating and purging the residue conveying means and a discharge chamber for discharging the heated residue to a conveyor or the like at normal pressure. Each of these four chambers may be equipped with a vacuum door so that it can be kept airtight independently. Then, the heating residue is conveyed by moving a jig such as a tray through these four chambers. In order to facilitate movement, these chambers may be provided in a grid shape (for example, each chamber is provided at each vertex of a quadrangle).

【0147】加熱処理を行う気密容器から収納室への加
熱残渣の搬送は、各種の搬送手段のほか、収納室を気密
容器の下方に設け、重力により加熱残渣を落下させるよ
うにしてもよい。
In order to convey the heating residue from the airtight container to be heat-treated to the storage chamber, the storage chamber may be provided below the airtight container in addition to various kinds of conveying means, and the heating residue may be dropped by gravity.

【0148】気密容器で加熱処理された処理対象物体の
加熱残渣は、気密容器内に配設された処理対象物体の搬
送装置により気密容器内の出口側に移動される。そして
この出口と隣接して配設された収納室に搬送される。収
納室内にはトレーが待っており、加熱残渣はこのトレー
に収納される。ついでトレーとケーシングとを冷却室に
移動し、加熱残渣を前述のように冷却する。加熱残渣を
冷却後トレーを排出室に移動し、この排出室からコンベ
ア等に加熱残渣を排出する。
The heating residue of the object to be treated, which has been heat-treated in the airtight container, is moved to the outlet side in the airtight container by the conveying device for the object to be treated arranged in the airtight container. Then, it is transported to a storage chamber arranged adjacent to this outlet. A tray is waiting in the storage room, and the heated residue is stored in this tray. The tray and casing are then moved to the cooling chamber and the heated residue is cooled as described above. After cooling the heated residue, the tray is moved to the discharge chamber, and the heated residue is discharged from the discharge chamber to a conveyor or the like.

【0149】加熱残渣を排出した空のトレーは、空気を
パージするためのパージ室を経て、最初の収納室へと戻
される。このようにトレーは各室を巡回することができ
る。
The empty tray from which the heating residue has been discharged is returned to the first storage chamber through the purge chamber for purging air. In this way, the tray can go around each room.

【0150】このようにすれば複数のトレーを用いて各
室を巡回させながら所定の処理を行うことができ、処理
効率を向上することができる。特に加熱残渣の冷却には
時間がかかるので、このような巡回処理は有効である。
最初の収納室と排出室との間に複数の冷却室を並列に配
設すればさらに生産性を向上することができる。
In this way, it is possible to perform a predetermined processing while circulating each chamber using a plurality of trays, and it is possible to improve the processing efficiency. Since it takes time to cool the heating residue in particular, such a cyclic treatment is effective.
The productivity can be further improved by disposing a plurality of cooling chambers in parallel between the first storage chamber and the discharge chamber.

【0151】なお各室間のトレーの移動は、プッシャ
ー、ローラーなどの搬送手段により行うようにすればよ
い。複数の搬送手段を組み合わせて用いるようにしても
よい。
The tray may be moved between the chambers by a transporting means such as a pusher or a roller. You may make it use combining several conveyance means.

【0152】このように気密容器の処理対象物体の入り
口と出口に減圧パージ可能な室を設けることで、処理対
象物体の加熱処理を行っている間にも新たな処理対象物
体を導入したり、加熱残渣を取出したりすることができ
るようになる。これにより運転の自動化、生産性の向上
を図ることができる。 (実施形態5)つぎに処理対象物体の加熱処理、予熱、
パージ、冷却などにより生じるガス状排出物の処理の例
について説明する。ここでガス状排出物とは、基本的に
は処理対象物体の燃焼や熱分解等の加熱処理に伴って排
出される排出ガスであるが、この排出ガスに混入する固
体状、液体状の物質などが含まれる場合を排除しない。
By providing a chamber capable of decompression purging at the entrance and the exit of the object to be processed in the airtight container as described above, a new object to be processed can be introduced even while the object to be processed is heated. It becomes possible to remove the heating residue. As a result, operation can be automated and productivity can be improved. (Embodiment 5) Next, heat treatment, preheating, and
An example of processing of gaseous emission generated by purging, cooling, etc. will be described. Here, the gaseous emission is basically an exhaust gas emitted along with a heat treatment such as combustion or thermal decomposition of an object to be treated, but a solid or liquid substance mixed in the exhaust gas. Does not exclude cases including

【0153】処理対象物体のガス状排出物には多くの場
合ダイオキシンなどの有機ハロゲン化物が含まれてい
る。また、処理対象物体由来の水分、油、金属、金属の
酸化物などの化合物が含まれている。このような物質
は、ガスを環境中へ放出する前に、分解したり、除去し
たり、回収したりする必要がある。
The gaseous emissions of the object to be treated often contain organic halides such as dioxins. In addition, compounds derived from the object to be treated, such as water, oil, metals, metal oxides, etc., are included. Such substances need to be decomposed, removed or recovered before the gas is released into the environment.

【0154】処理対象物体のガス状排出物は、約500
°C乃至約950°C程度、あるいは約500°C乃至
約1200°C程度に加熱することにより、改質、分解
される。この処理は還元性雰囲気で行うことが好まし
い。
The gaseous emission of the object to be treated is about 500.
By heating to about ° C to about 950 ° C, or about 500 ° C to about 1200 ° C, it is reformed and decomposed. This treatment is preferably performed in a reducing atmosphere.

【0155】この改質の際には、酸化パラジウムをはじ
めとする有機ハロゲン化物分解のための各種触媒、ハニ
カム形状等のセラミック、アルミニウムなどの金属を用
いて有機ハロゲン化物の分解を促進するようにしてもよ
い。
At the time of this reforming, various catalysts for decomposing organic halides such as palladium oxide, ceramics such as honeycomb shapes, and metals such as aluminum are used to promote decomposition of the organic halides. May be.

【0156】またNaOH、Ca(OH)などのアルカリによ
り、ガス状排出物中のNOx、SO Clを除去す
るようにしてもよい。
Also, NaOH, Ca (OH)TwoBy alkali such as
NOx and SO in gaseous emissions X  ClTwoRemove
You may do it.

【0157】さらに改質したガスにダイオキシンなどの
有機ハロゲン化物が残留したり、再合成される場合もあ
るため、改質したガスを水、油などの冷媒により冷却す
る冷却装置を備えるようにすればよい。この冷却は、ガ
ス状排出物の、ダイオキシンなどの有機ハロゲン化物の
生成温度での滞留時間が、できるだけ短くなるように急
冷することが好ましい。また、ガス状排出物中のハロゲ
ンをアルカリと反応させて、有機ハロゲン化物の生成を
防止するため、冷媒をアルカリ性にしたり、冷媒にアル
カリ助剤を混合したり、冷媒とは別にアルカリを噴射す
るようにしてもよい。冷媒は、ガスイジェクター、ベン
チュリーなどによりガス状排出物に噴射するようにして
もよい。またガス状排出物に粉塵が含まれる場合もある
ので、これらを除去するためのフィルターを備えること
が好ましい。
Further, since organic halides such as dioxins may remain in the reformed gas or may be resynthesized, it is necessary to provide a cooling device for cooling the reformed gas with a refrigerant such as water or oil. Good. This cooling is preferably performed by quenching so that the residence time of the gaseous effluent at the formation temperature of organic halides such as dioxins is as short as possible. Also, in order to prevent the formation of organic halides by reacting the halogen in the gaseous effluent with alkali, the refrigerant is made alkaline, the alkali auxiliary agent is mixed with the refrigerant, or the alkali is injected separately from the refrigerant. You may do it. The refrigerant may be injected into the gaseous emission by a gas ejector, Venturi, or the like. Further, since the gaseous emission may contain dust, it is preferable to provide a filter for removing these.

【0158】このため冷却装置は、粉塵フィルター、ア
ルカリ槽、熱交換器、ポンプなどが装備される。
Therefore, the cooling device is equipped with a dust filter, an alkali tank, a heat exchanger, a pump and the like.

【0159】冷却装置通過後のガスは、ガス中の残留凝
縮物を凝縮して回収するための回収装置へ送られる。ま
た前述の処理系内を排気する排気ポンプの前段には、前
述したガス状排出物の無害化のための各装置の故障、オ
ーバーロード等に備えて活性炭フィルターなどの吸着部
材を配設することが好ましい。 (実施形態6)ここで加熱処理が減圧下下で行われる場
合のガス状排出物の処理の例について説明する。
The gas that has passed through the cooling device is sent to a recovery device for condensing and recovering the residual condensate in the gas. In addition, in front of the exhaust pump that exhausts the inside of the processing system, an adsorption member such as an activated carbon filter should be installed in preparation for failure of each device for detoxifying the above-mentioned gaseous emission and overload. Is preferred. (Embodiment 6) Here, an example of the treatment of gaseous effluent when the heat treatment is performed under reduced pressure will be described.

【0160】処理対象物体のガス状排出物は、上述のよ
うに改質される。そしてガス状排出物中に含まれる水、
油、蒸発金属、酸化物などを凝縮回収するための回収装
置へ送られる。さらに、ガス状排出物中になお残留する
粉塵等を除去するためのフィルター、サイクロン、油ト
ラップなどの液体トラップなどにより粉塵除去が行われ
る。
The gaseous effluent of the object to be treated is reformed as described above. And the water contained in the gaseous emissions,
It is sent to a recovery device for condensing and recovering oil, evaporated metal, oxides and the like. Further, dust removal is performed by a filter for removing dust and the like still remaining in the gaseous emission, a cyclone, a liquid trap such as an oil trap, and the like.

【0161】ガス状排出物処理系には、これら回収装
置、粉塵除去装置間を気密に保持して凝縮物の回収、フ
ィルターの交換などを処理対象物体の加熱処理中に行う
ことができるようにするための真空扉、真空バルブが設
けられている。
In the gaseous effluent treatment system, the space between the collecting device and the dust removing device is kept airtight so that the condensate can be collected and the filter can be replaced during the heat treatment of the object to be treated. A vacuum door and a vacuum valve are provided for this purpose.

【0162】なお凝縮物の系外への取出しは、前述のよ
うに冷却した後、大気中に排出する前に、凝縮物を非酸
化性ガスにさらすことが好ましい。これは減圧加熱によ
り凝縮物の表面積が非常に大きく、また表面自由エネル
ギーが過剰な状態になり易いためである。そのため、そ
のまま大気中に排出すると激しく発火したりして危険な
場合があり、特にMg、Alなどの金属では火災を生じる場
合があって危険である。
For taking out the condensate from the system, it is preferable to expose the condensate to a non-oxidizing gas after cooling it as described above and before discharging it to the atmosphere. This is because the surface area of the condensate is very large due to heating under reduced pressure, and the surface free energy easily becomes excessive. Therefore, if it is discharged into the atmosphere as it is, it may be dangerous because it may ignite violently, and in particular, metals such as Mg and Al may cause a fire, which is dangerous.

【0163】またその後段には処理対象物体の減圧加熱
を行う気密容器およびガス状排出物処理系を減圧するた
めの真空ポンプが設けられている。真空ポンプとしては
ブースターポンプ、ロータリーポンプ、水封ポンプなど
を必要に応じて選択、組み合わせて用いるようにすれば
よい。真空ポンプの後側を吸引するポンプを備えるよう
にしてもよい。
At the subsequent stage, an airtight container for heating the object to be treated under reduced pressure and a vacuum pump for reducing the pressure of the gaseous effluent treatment system are provided. As the vacuum pump, a booster pump, a rotary pump, a water ring pump or the like may be selected and used in combination as necessary. A pump for sucking the rear side of the vacuum pump may be provided.

【0164】また前述同様に、ガス状排出物中の有機ハ
ロゲン化物、NOx、SO Cl を除去する冷却装
置を備えるようにしてもよい。フェイルセーフのための
吸着装置も同様に備えることが好ましい。 (実施形態7)図7は本発明の処理装置の構成の例を概
略的に示す図である。この処理装置はほぼ常圧で処理対
象物体を加熱し、その加熱残渣にダイオキシンなどの有
機ハロゲン化物が残留するのを防ぐことができるもので
ある。
Further, as described above, the organic gas in the gaseous emission is
Rogenide, NOx, SOX  Cl TwoCooling equipment to remove
You may make it equipped with a device. For failsafe
An adsorption device is preferably provided as well. (Embodiment 7) FIG. 7 schematically shows an example of the configuration of a processing apparatus of the present invention.
It is a figure showing roughly. This processing device is processed at almost normal pressure.
The elephant object is heated and the heating residue contains dioxin and other substances.
Which can prevent machine halide from remaining
is there.

【0165】図8は本発明の処理装置の構成の例を概略
的に示す図である。この処理装置は減圧下で処理対象物
体を加熱し、その加熱残渣にダイオキシンなどの有機ハ
ロゲン化物が残留するのを防ぐことができるものであ
る。
FIG. 8 is a diagram schematically showing an example of the configuration of the processing apparatus of the present invention. This processing apparatus can heat an object to be processed under reduced pressure and prevent organic halides such as dioxins from remaining in the heating residue.

【0166】図9は本発明の処理装置の構成の例を概略
的に示す図である。この処理装置は連続処理が可能であ
り、図8に例示した減圧型の処理装置に、処理対象物体
の自動投入装置と、加熱残渣の自動取出し装置を装備し
たものである。
FIG. 9 is a diagram schematically showing an example of the configuration of the processing apparatus of the present invention. This processing apparatus is capable of continuous processing, and is the decompression-type processing apparatus illustrated in FIG. 8 equipped with an automatic charging device for an object to be processed and an automatic removal device for heated residues.

【0167】図7の常圧型の処理装置は減圧型に比べ低
コストである。この処理装置は、処理対象物体の加熱処
理後、有機ハロゲン化物を含む雰囲気ガスを窒素等の置
換ガスで置換し、雰囲気中の有機ハロゲン化物濃度を低
減した状態で処理対象物体を冷却する。これにより加熱
残渣に残留する有機ハロゲン化物濃度を低減することが
できる。
The atmospheric pressure type processing apparatus of FIG. 7 is lower in cost than the reduced pressure type processing apparatus. After the heat treatment of the object to be treated, this treatment apparatus replaces the atmosphere gas containing the organic halide with a substitution gas such as nitrogen, and cools the object to be treated in a state where the concentration of the organic halide in the atmosphere is reduced. As a result, the concentration of organic halide remaining in the heating residue can be reduced.

【0168】図7の例では、投入口101から加熱処理
炉103に投入された処理対象物体は、ヒータ105で
加熱される。昇温効率を向上するために、図示しない攪
拌装置を備え、炉内雰囲気を攪拌したり、処理対象物体
を攪拌したりするようにしてもよい。炉内の温度は、温
度センサ107、ヒータを制御可能な制御装置110b
により制御する。なお炉内のガス濃度を検出するための
ガスセンサ108は、酸素濃度、塩素濃度等検出したい
ガスの種類に応じて備えるようにする。このようなガス
の濃度は、窒素、希ガスなどのキャリアガスを導入して
調節するようにしてもよい。
In the example of FIG. 7, the object to be treated introduced into the heat treatment furnace 103 through the inlet 101 is heated by the heater 105. In order to improve the temperature raising efficiency, a stirrer (not shown) may be provided to stir the atmosphere in the furnace or stir the object to be treated. The temperature in the furnace is controlled by the temperature sensor 107 and the control device 110b capable of controlling the heater.
Controlled by. The gas sensor 108 for detecting the gas concentration in the furnace is provided according to the type of gas to be detected such as oxygen concentration and chlorine concentration. The concentration of such a gas may be adjusted by introducing a carrier gas such as nitrogen or a rare gas.

【0169】加熱処理炉103により処理対象物体を加
熱した後、置換ガス導入系106のバルブを開いて置換
ガスを導入し、炉内雰囲気ガス中の有機ハロゲン化物を
低減、除去する。
After the object to be treated is heated in the heat treatment furnace 103, the valve of the replacement gas introduction system 106 is opened to introduce the replacement gas, and the organic halide in the atmosphere gas in the furnace is reduced and removed.

【0170】そして置換ガス導入系106のバルブを閉
じ、バイパスにフィルター、ガスクーラー、ポンプを備
えたガス冷却装置104を作動させ加熱残渣を置換ガス
雰囲気で冷却する。冷却終了後、処理対象物体の加熱残
渣は排出口102より取出す。
Then, the valve of the replacement gas introduction system 106 is closed and the gas cooling device 104 equipped with a filter, a gas cooler and a pump in the bypass is operated to cool the heating residue in the replacement gas atmosphere. After completion of cooling, the heating residue of the object to be treated is taken out from the outlet 102.

【0171】一方、加熱により生じるガス状排出物は分
解反応容器131に引かれ加熱炉103から出るガス状
排出物をヒータ加熱で再加熱して熱分解、改質する。未
分解ガスも分解される。
On the other hand, the gaseous effluent generated by heating is drawn into the decomposition reaction vessel 131, and the gaseous effluent emitted from the heating furnace 103 is reheated by heating with a heater to be thermally decomposed and reformed. Undecomposed gas is also decomposed.

【0172】この分解反応容器131にはガス状排出物
の熱分解を促進するために球状やハニカム形のセラミッ
ク材、触媒及び還元剤(例えばZn,Al,Mgなど)
等を投入し、更に分解ガスのNO、SO、Cl
を反応除去させるアルカリ剤を投入するようにしてもよ
い。なお、上記セラミック、触媒、還元剤はガスの条件
により組合せや単独などで使用できる。
In the decomposition reaction container 131, a spherical or honeycomb-shaped ceramic material, a catalyst, and a reducing agent (for example, Zn, Al, Mg, etc.) for promoting the thermal decomposition of the gaseous emission.
Etc., and an alkali agent for reacting and removing the decomposed gases NO X , SO X , Cl 2 and the like may be added. The ceramics, catalysts and reducing agents can be used alone or in combination depending on the gas conditions.

【0173】分解反応器131から出たガスにはなお種
種の炭化水素が含まれている場合がある。この成分は、
凝縮装置111でガス状排出物に含まれる油や水分を凝
縮する。
The gas exiting the cracking reactor 131 may still contain various hydrocarbons. This ingredient is
The condenser 111 condenses oil and water contained in the gaseous emission.

【0174】凝縮装置111を通ったガスはフィルター
112で粉塵などを除去する。フィルター112の後段
には、ロータリーポンプなどの真空ポンプ114が設け
られている。加熱処理炉103内のガス置換を置換ガス
の導入だけで行うのは時間がかかるし、また大量の置換
ガスが必要で処理すべきガス量も増大する。このためま
ず真空ポンプ114により加熱処理炉103を排気し、
それから置換ガスを導入して復圧して冷却することが好
ましい。
The filter 112 removes dust and the like from the gas that has passed through the condenser 111. A vacuum pump 114 such as a rotary pump is provided after the filter 112. It takes time to replace the gas in the heat treatment furnace 103 only by introducing the replacement gas, and a large amount of replacement gas is required, so that the amount of gas to be processed increases. Therefore, first, the heat treatment furnace 103 is evacuated by the vacuum pump 114,
Then, it is preferable to introduce a replacement gas, restore the pressure and cool.

【0175】処理対象物体のガス状排出物は、フィルタ
ー112、真空バルブ113を経て、ガス加熱炉115
に導入される。ここではガス状排出物の未分解ガス、再
生成したダイオキシン、残留ダイオキシンなどをは約7
00°C乃至約1100°C程度に高温で分解、改質す
る。ガス加熱炉115で分解、改質したガスは、ガスイ
ジェクター付きの冷却装置116でミキシングしながら
冷却され油水分離槽付き冷却水槽118に導入される。
この冷却は、ダイオキシンの生成温度の滞留時間を短く
するためできるだけ急速に行うことが好ましい。例えば
この冷却を10秒以内に行うことが好ましい。冷却水
は、冷却に用いる水をアルカリ性に管理するためのアル
カリ槽117、ポンプ、熱交換器、を経て冷却装置11
6へと循環利用される。ここでは分解ガス中のNO
SO、Cl等も反応除去される。
The gaseous effluent of the object to be treated is passed through the filter 112 and the vacuum valve 113, and then the gas heating furnace 115.
Will be introduced to. About 7% of undecomposed gas, regenerated dioxin, residual dioxin, etc.
Decomposes and reforms at a high temperature of about 00 ° C to about 1100 ° C. The gas decomposed and reformed in the gas heating furnace 115 is cooled while being mixed by a cooling device 116 with a gas ejector and introduced into a cooling water tank 118 with an oil / water separation tank.
This cooling is preferably performed as rapidly as possible in order to shorten the residence time of the dioxin production temperature. For example, it is preferable to perform this cooling within 10 seconds. The cooling water passes through an alkaline tank 117 for controlling the water used for cooling to be alkaline, a pump, a heat exchanger, and a cooling device 11.
It is recycled to 6. Here, NO X in the decomposition gas,
SO X , Cl 2, etc. are also removed by reaction.

【0176】また油水分水槽付き冷却水槽118では、
冷却により凝縮した油等の凝縮物も回収される。
Also, in the cooling water tank 118 with the oil / water tank,
Condensates such as oil condensed by cooling are also collected.

【0177】油水分離槽118を通ったガスは、なお粉
塵等を含んでいる場合があるのでフィルター119、バ
グフィルター120などにより粉塵を除去する。なおア
ルカリ水の循環系に捕捉された粉塵は、フィルター13
2により除去するようにすればよい。
Since the gas that has passed through the oil / water separation tank 118 may still contain dust and the like, the dust is removed by the filter 119, the bag filter 120 and the like. The dust trapped in the circulation system of alkaline water is filtered by the filter 13
It may be removed by 2.

【0178】バグフィルター120を通過した処理対象
物体のガス状排出物に除去しきれない有害成分が含まれ
る場合に備えて、バグフィルター120の後段にはさら
にガス吸着装置121が配設されている。そしてこの吸
着装置121の後側は吸引ポンプ122により引かれて
排気される。この排気ガスは有害成分の濃度をモニター
してから排出することが好ましい。また排気ガスをガス
加熱炉115へと回流させるバイパスを設けるようにし
てもよい。 (実施形態8)次に、減圧形処理炉について図9を使用
して説明する。
A gas adsorbing device 121 is further provided at the subsequent stage of the bag filter 120 in case the gaseous emission of the object to be treated which has passed through the bag filter 120 contains harmful components which cannot be completely removed. . Then, the rear side of the adsorption device 121 is pulled by a suction pump 122 and exhausted. This exhaust gas is preferably discharged after monitoring the concentration of harmful components. Further, a bypass for circulating the exhaust gas to the gas heating furnace 115 may be provided. (Embodiment 8) Next, a decompression type processing furnace will be described with reference to FIG.

【0179】この装置では、処理対象物体の無人化処理
で図8の手動式減圧処理装置より多量に処理対象物体を
処理することができる。
In this apparatus, the object to be processed can be processed in a larger amount than the manual decompression processing apparatus of FIG. 8 by the unmanned processing of the object to be processed.

【0180】なお、図8の手動式減圧処理装置は、減圧
式連続装置と共通点が多いため相違箇所のみ説明する。
Since the manual depressurization processing apparatus of FIG. 8 has many points in common with the depressurization type continuous apparatus, only different points will be described.

【0181】処理対象物体をコンベア301で真空置換
室302へ搬送し、上部真空ドアー303を開き、搬送
された処理対象物体を設置してあるトレー304(治
具)内へ投入し、真空ドアー303を閉じる。その後、
真空ポンプ305で置換室302を減圧する。続いて、
置換室302と連結された次室の投入室309へ中間扉
306を開き搬送装置307でトレー具内の処理対象物
体を投入室309に移動させる。
The object to be processed is transferred to the vacuum displacement chamber 302 by the conveyor 301, the upper vacuum door 303 is opened, and the transferred object to be processed is placed in the tray 304 (jig) in which it is installed, and the vacuum door 303 Close. afterwards,
The pressure in the substitution chamber 302 is reduced by the vacuum pump 305. continue,
The intermediate door 306 is opened to the next charging chamber 309 connected to the substitution chamber 302, and the object to be processed in the tray is moved to the charging chamber 309 by the transfer device 307.

【0182】その後、中間扉306を閉じ、投入室30
9に搬送された処理対象物体は投入室309に配設させ
た回転装置などの投入装置308により処理対象物体の
み加熱炉310に投入される。
Thereafter, the intermediate door 306 is closed and the charging chamber 30
Only the object to be treated is introduced into the heating furnace 310 by the introduction device 308 such as a rotating device disposed in the introduction chamber 309.

【0183】投入後の空治具304は真空扉306を開
け307bの搬送装置により真空置換室302へと戻さ
れる。その後中間扉6を閉じ、真空置換室302に空気
を入れ常圧に復圧する。その後、真空置換室302の上
部ドアー303を開き次の処理対象物体をトレー304
の中に投入する。
After the loading, the empty jig 304 opens the vacuum door 306 and is returned to the vacuum substitution chamber 302 by the transfer device 307b. Thereafter, the intermediate door 6 is closed, air is introduced into the vacuum displacement chamber 302, and the pressure is restored to normal pressure. After that, the upper door 303 of the vacuum displacement chamber 302 is opened and the next object to be processed is moved to the tray 304.
Throw in.

【0184】以上の操作を繰り返しにより、加熱炉31
0内に空気を混入させることなく、処理対象物体を加熱
炉310へ投入することができる。
By repeating the above operation, the heating furnace 31
The object to be treated can be charged into the heating furnace 310 without mixing air into the heating chamber 310.

【0185】加熱室310に投入された処理対象物体は
ヒーター311で加熱されながらスクリューコンベヤー
312で処理出口側へ移動される。そして炉内温度は温
度センサー313とヒータの制御装置314でコントロ
ールする。尚、ガスセンサー313aはガスの種類内容
に応じて設置するようにする。
The object to be treated put in the heating chamber 310 is heated by the heater 311 and moved to the treatment outlet side by the screw conveyor 312. The temperature inside the furnace is controlled by the temperature sensor 313 and the heater controller 314. The gas sensor 313a is installed according to the type of gas.

【0186】スクリューコンベヤー312で加熱炉内で
加熱されながら移送された処理対象物体は出口側取り出
し口315の収納室ないに置かれたトレーに落下する。
そして落下数量が設定値に達するとスクリューコンベヤ
ー312が停止し、その後次室への真空扉317を開
き、搬送装置316により冷却室318へ搬送する。そ
の後真空扉317は閉じる。
The object to be treated, which is transferred while being heated in the heating furnace by the screw conveyor 312, drops onto the tray placed in the storage chamber of the outlet side outlet 315.
Then, when the number of drops reaches the set value, the screw conveyor 312 is stopped, then the vacuum door 317 to the next chamber is opened, and the conveying device 316 conveys it to the cooling chamber 318. After that, the vacuum door 317 is closed.

【0187】搬送された処理対象物体は窒素などの冷却
ガスを循環させるガス冷却装置321により冷却され
る。
The transported object to be treated is cooled by a gas cooling device 321 which circulates a cooling gas such as nitrogen.

【0188】この冷却している間に真空置換室323に
おかれた空のトレーを中間扉322aを開け搬送装置3
24により収納室315に搬送する。
During this cooling, the empty tray placed in the vacuum displacement chamber 323 is opened with the intermediate door 322a, and the transfer device 3 is opened.
It is conveyed to the storage chamber 315 by 24.

【0189】その後真空扉322aを閉じスクリューコ
ンベヤー312を回転させる。この間真空置換(パー
ジ)室に真空バルブ332を開き空気を入れ復圧する。
Thereafter, the vacuum door 322a is closed and the screw conveyor 312 is rotated. During this time, the vacuum valve 332 is opened in the vacuum replacement (purge) chamber and air is introduced to restore the pressure.

【0190】冷却室318で冷却された処理対象物体は
直角方向にある出口側真空扉322を開き搬送装置31
9でコンベヤ326上に搬出する。その後真空扉322
を閉じ真空ポンプ320で減圧する。
The object to be treated cooled in the cooling chamber 318 opens the exit side vacuum door 322 in the right-angled direction, and the transfer device 31.
At 9, it is carried onto the conveyor 326. Then the vacuum door 322
Is closed and the pressure is reduced by the vacuum pump 320.

【0191】コンベヤー326上の処理対象物体は回転
投入室327に搬送され回転装置328により処理対象
物体のみ取出コンベヤ329上に投入する。
The object to be processed on the conveyor 326 is conveyed to the rotary charging chamber 327, and only the object to be processed is charged on the take-out conveyor 329 by the rotating device 328.

【0192】そして投入後の空トレーは搬送装置330
により真空扉331を開き真空パージ室323に回送す
る。その後真空扉331を閉じ真空ポンプ325で真空
置換室を減圧する。
The empty tray after loading is the transport device 330.
Then, the vacuum door 331 is opened, and the vacuum door 331 is sent to the vacuum purge chamber 323. Thereafter, the vacuum door 331 is closed and the vacuum pump 325 depressurizes the vacuum replacement chamber.

【0193】このような構成により、加熱炉の気密を保
持しながら処理対象物体の加熱残査を加熱炉から取出す
ことができる。
With such a structure, the heating residue of the object to be treated can be taken out from the heating furnace while keeping the heating furnace airtight.

【0194】なお手動式減圧炉と連続減圧炉の相違は処
理対象物体の投入、取出しが手動と自動の差であり、加
熱炉入口、出口に連続炉は真空置換室、投入室、収納
室、冷却室がある。又手動式減圧炉は、冷却が加熱炉内
で行われる。 (実施形態9)次いで、加熱炉310から出るガス状排
出物の処理について、図10により説明する。
The difference between the manual decompression furnace and the continuous decompression furnace is the difference between manual and automatic loading and unloading of the object to be treated. The continuous furnace at the heating furnace inlet and outlet is a vacuum displacement chamber, charging chamber, storage chamber, There is a cooling room. Further, in the manual decompression furnace, cooling is performed in the heating furnace. (Embodiment 9) Next, the processing of the gaseous emission discharged from the heating furnace 310 will be described with reference to FIG.

【0195】処理対象物体の加熱により生じるガス状排
出物は加熱炉310につながる分解反応室332に引か
れ、未分解成分を含めて再加熱し、熱分解、改質する。
そして、前記したように分解反応室332にセラミック
スや触媒及び還元剤を投入し、各ガスの分解を促進す
る。さらに分解したガス中のNOx、SO Cl
どの有害ガスを除去するためにアルカリ剤を投入する。
尚上記分解促進剤アルカリ剤はガス条件により、単独又
は組合わせにより使用する。
The gaseous effluent generated by heating the object to be treated is drawn into the decomposition reaction chamber 332 connected to the heating furnace 310 and reheated including undecomposed components to be thermally decomposed and reformed.
Then, as described above, the ceramics, the catalyst and the reducing agent are charged into the decomposition reaction chamber 332 to accelerate the decomposition of each gas. Further decomposed NOx in the gas, introducing the alkaline agent in order to remove harmful gases such as SO X Cl 2.
The above-mentioned decomposition-promoting alkaline agents are used alone or in combination depending on the gas conditions.

【0196】分解反応室332の後段には、加熱炉31
0と分解反応室332を密閉する真空扉333がある。
分解反応室332を経たガス状排出物は、分解反応室3
32につらなりガス状排出物中の水、油、金属、酸化物
を凝縮して回収することができる回収装置334に導か
れる。さらにそれにつらなり、ガス中の粉塵を除去する
サクロン335、フィルター336油液体トラップ33
7へと導かれる。油液体トラップ337の後段には、真
空扉333から油液体トラップ337の間を密閉する真
空バルブ338が設置されている。この真空バルブ33
8、真空扉333のによる2重密閉があるため、運転中
に処理対象物体由来の蒸発物を凝縮回収したり、フィル
ターの取替えを行うことができる。また前述のように、
回収装置には窒素等の冷却ガスを循環させて冷却すると
回収時間も短く、火災なども起こりにくい。
The heating furnace 31 is provided downstream of the decomposition reaction chamber 332.
There is a vacuum door 333 that seals 0 and the decomposition reaction chamber 332.
The gaseous emission that has passed through the decomposition reaction chamber 332 is
It is led to a recovery device 334 which can condense and recover water, oil, metals, and oxides contained in the gaseous effluent. Furthermore, the Sakuron 335 and the filter 336 which remove the dust in the gas and the filter 336 oil liquid trap 33
Guided to 7. A vacuum valve 338 that seals the space between the vacuum door 333 and the oil-liquid trap 337 is installed at the subsequent stage of the oil-liquid trap 337. This vacuum valve 33
8. Due to the double sealing by the vacuum door 333, it is possible to condense and collect evaporants derived from the object to be treated and replace the filter during operation. Also, as mentioned above,
If a cooling gas such as nitrogen is circulated through the recovery device to cool it, the recovery time is short and fire is unlikely to occur.

【0197】真空バルブ338の後段には前述の処理系
を減圧する、ロータリーポンプ、ブースターポンプ、エ
ジェクター付水封ポンプ等の減圧装置339と、減圧装
置につらなり、ガス中に残留ダイオキシンやNOx、S
Clなどその他の公害ガスを除去する公害ガス
除去装置340が配設されている。この公害ガス除去の
ための公害ガス除去装置340はヒーターでガスを高温
加熱し、約10秒以内にエジェクター式冷却装置にガス
を混入して急冷して有機ハロゲン化物の再合成を防止す
る。その装置は前述のようにエジェクター方式を用いる
ようにすればよい。使用する水はアルカリ性にして循環
し、上記ガスと混合して有害成分をすることが好まし
い。また乾式処理であるプラズマ分解、コロナ放電分
解、グロー放電分解などほかの手法を用いるようにして
もよい。
After the vacuum valve 338, a decompression device 339 such as a rotary pump, a booster pump, a water ring pump with an ejector, etc. for decompressing the above-mentioned processing system and a decompression device are connected, and residual dioxins, NOx, S and S in the gas are connected.
A pollution gas removing device 340 for removing other pollution gas such as O X Cl 2 is provided. The pollution gas removing device 340 for removing the pollution gas heats the gas at a high temperature with a heater, mixes the gas into the ejector cooling device within about 10 seconds and rapidly cools it to prevent re-synthesis of the organic halide. The device may use the ejector system as described above. It is preferable that the water used is made alkaline and circulated, and mixed with the above-mentioned gas to form harmful components. Further, other methods such as dry decomposition such as plasma decomposition, corona discharge decomposition and glow discharge decomposition may be used.

【0198】公害ガス除去装置340を出たガスはそれ
につらなり、さらに残留する公害ガスを吸着する吸着装
置341とそれにつらなり前記真空ポンプ339以後の
装置のガスを吸引する吸引ポンプ342に導入される。 (実施形態10)本発明を適用してシュレッダーダスト
の処理を行った。自動車のシュレッダーダストを試料と
して作成した。この試料は以下のような6種のフラクシ
ョンからなっている。なお自動車はミニカ(三菱自動車
工業製)を用いた。
The gas discharged from the pollution gas removing device 340 is introduced into the adsorbing device 341 which adsorbs the remaining pollutant gas and the adsorbing device 341 which adsorbs the remaining polluting gas and sucks the gas of the device after the vacuum pump 339. (Embodiment 10) The present invention is applied to treat shredder dust. We made automobile shredder dust as a sample. This sample consists of the following six types of fractions. The automobile used was a Minica (manufactured by Mitsubishi Motors Corporation).

【0199】(1)塩化ビニル(10wt%) (2)ポリプロピレン(10wt%) (3)ポリウレタン(10wt%) (4)ゴム(10wt%) (5)ポリウレタン(10wt%) (6)その他(50wt%) (6)のフラクションはプレス処理を行った。このよう
なシュレッダーダストを常圧熱分解(600°C、80
0°C)、減圧熱分解(600°C、800°C)で処
理し、その熱分解残渣中に含まれるダイオキシンの濃度
を測定した。
(1) Vinyl chloride (10 wt%) (2) Polypropylene (10 wt%) (3) Polyurethane (10 wt%) (4) Rubber (10 wt%) (5) Polyurethane (10 wt%) (6) Others (50 wt %) The fraction of (6) was pressed. Such shredder dust is pyrolyzed at atmospheric pressure (600 ° C, 80
0 ° C.) and vacuum pyrolysis (600 ° C., 800 ° C.), and the concentration of dioxin contained in the pyrolysis residue was measured.

【0200】図11は熱分解の処理条件を説明するため
の図である。600°Cの場合、常温から600°Cま
で2時間で昇温し、600°Cで2.5時間保持した後
に冷却した。800°Cの場合、常温から800°Cま
で2.5時間で昇温し、その温度で2.15時間保持し
たあと冷却した。なお、減圧熱分解の冷却の場合本発明
の減圧置換が適用されているが、常圧熱分解の冷却の場
合には本発明を適用せずに空気冷却した。さらにダイオ
キシンが残留している800°Cの常圧での熱分解残渣
はさらに800°Cで減圧熱分解し、その熱分解残渣中
に含まれるダイオキシンの濃度を測定した(図中800
℃熱分解Bのフラクション)。
FIG. 11 is a diagram for explaining processing conditions for thermal decomposition. In the case of 600 ° C., the temperature was raised from room temperature to 600 ° C. in 2 hours, kept at 600 ° C. for 2.5 hours, and then cooled. In the case of 800 ° C., the temperature was raised from room temperature to 800 ° C. in 2.5 hours, and the temperature was maintained for 2.15 hours and then cooled. In the case of cooling under reduced pressure pyrolysis, the reduced pressure substitution of the present invention was applied, but in the case of cooling under atmospheric pressure pyrolysis, air cooling was performed without applying the present invention. Further, the thermal decomposition residue at 800 ° C. under atmospheric pressure where dioxin remains was further thermally decomposed under reduced pressure at 800 ° C., and the concentration of dioxin contained in the thermal decomposition residue was measured (800 in the figure).
℃ pyrolysis B fraction).

【0201】図12にその測定結果を示す。測定はPCDD
sとPCDFsとを別に行い、これらの和をダイオキシン濃
度(ng/g)とした。また図中n.d.(not d
etected)はダイオキシンが検出されなかったこ
とを示している。
FIG. 12 shows the measurement result. Measurement is PCDD
s and PCDFs were performed separately, and the sum of them was used as the dioxin concentration (ng / g). In addition, n. d. (Not d
indicated that dioxin was not detected.

【0202】このように本発明によれば、加熱残渣中の
ダイオキシンを大幅に低減することができる。特に常圧
の熱分解では、800°Cで処理してもダイオキシンが
残留しているが、この残渣を減圧下で再処理した場合に
は、ダイオキシンを除去することができている。ここで
はシュレッダーダストを処理対象物体とした処理例につ
いて説明したが、土壌、焼却灰、汚泥などの場合にも同
様の結果を得ることができる。本発明は廃棄物処理装置
として一般工場用の少量処理などに適した手動式として
も、自治体などの多量処理に適した連続処理炉としても
よく、処理コストに応じて組み合わせることができる。 (実施形態11)図13、図14、図15、図16は本
発明の処理装置の構成の別の例を概略的に示す図であ
る。
As described above, according to the present invention, dioxins in the heating residue can be significantly reduced. Especially in the thermal decomposition under atmospheric pressure, dioxin remains even after the treatment at 800 ° C., but when the residue is retreated under reduced pressure, the dioxin can be removed. Here, an example of the process in which the shredder dust is used as the object to be processed has been described, but similar results can be obtained in the case of soil, incinerated ash, sludge and the like. The present invention may be used as a waste treatment apparatus as a manual type suitable for small-scale treatment for general factories, or as a continuous treatment furnace suitable for large-scale treatment in municipalities, etc., and can be combined depending on the treatment cost. (Embodiment 11) FIGS. 13, 14, 15, and 16 are diagrams schematically showing another example of the configuration of the processing apparatus of the present invention.

【0203】図13、図14、図15では加熱処理室と
して常圧熱分解のための乾留チャンバ701と、減圧熱
分解のための真空蒸発チャンバ702の2室を備えてい
る。また加熱残渣を冷却するための冷却室703をその
後段に配設している。そして、これらの処理室は真空扉
によって開閉可能に隔てられている。
In FIGS. 13, 14, and 15, two heating chambers, a dry distillation chamber 701 for atmospheric pyrolysis and a vacuum evaporation chamber 702 for vacuum pyrolysis, are provided. Further, a cooling chamber 703 for cooling the heating residue is arranged in the subsequent stage. These processing chambers are separated by a vacuum door so that they can be opened and closed.

【0204】図13、図14、図15に例示した構成で
は、例えば土壌などの処理対象物体は乾留加熱チャンバ
701へ導入され熱分解される、ついで真空蒸発チャン
バ702へ導入され例えば砒素、カドミウム、鉛などの
重金属を蒸発除去される。そして、処理対象物体の加熱
残渣は冷却チャンバ703へ導入され前述同様の有機ハ
ロゲン化物フリーかつ有機ハロゲン化物生成能をゆうし
ない雰囲気で冷却される。系内の排気はブースターポン
プ705、712、ロータリーポンプ706、713に
より行っている。処理対象物体のガス状排出物の処理は
前述同様にガス処理装置により行う構成となっている。
乾留加熱チャンバ701からのガス状排出物は、ガスク
ラッキング装置707、ガス状排出物中の蒸発物を凝縮
回収するコンデンサ708を経てガス処理装置714に
導入される。真空加熱チャンバ702からのガス状排出
物はコンデンサ709、オイルフィルタ711を経てガ
ス処理装置714へ導入される。ガス処理装置714
は、ガスクラッキング装置715、ジェットスクラバ7
16、活性炭フィルター、排気ブロワ718を備えてい
る。また図15の例ではガス処理装置714ではガスク
ラッキング装置715を省略している。また、ジェット
スクラバ716に代えてガス状排出物を燃焼させるガス
燃焼装置を、活性炭フィルタ717に代えてガス状排出
物をアルカリ洗浄するアルカリシャワーを備えるように
してもよい。
In the configurations illustrated in FIGS. 13, 14 and 15, an object to be treated such as soil is introduced into the carbonization heating chamber 701 and thermally decomposed, and then introduced into the vacuum evaporation chamber 702 such as arsenic and cadmium. Heavy metals such as lead are removed by evaporation. Then, the heating residue of the object to be treated is introduced into the cooling chamber 703 and cooled in the same atmosphere as described above, which is free of organic halide and does not have the ability to generate organic halide. The exhaust of the system is performed by booster pumps 705 and 712 and rotary pumps 706 and 713. The processing of the gaseous effluent of the object to be processed is performed by the gas processing device as described above.
The gaseous effluent from the dry distillation heating chamber 701 is introduced into the gas treatment device 714 via a gas cracking device 707 and a condenser 708 for condensing and recovering the vaporized substances in the gaseous effluent. The gaseous emission from the vacuum heating chamber 702 is introduced into the gas processing device 714 via the condenser 709 and the oil filter 711. Gas treatment device 714
Is a gas cracking device 715, a jet scrubber 7
16, equipped with an activated carbon filter and an exhaust blower 718. Further, in the example of FIG. 15, the gas cracking device 715 is omitted in the gas processing device 714. Further, a gas combustion device that burns the gaseous emission may be provided instead of the jet scrubber 716, and an alkaline shower that cleans the gaseous emission with an alkali may be provided instead of the activated carbon filter 717.

【0205】図13、図15では乾留加熱チャンバ70
1に処理対象物体を導入するためのローディングチャン
バ704と乾留加熱チャンバを共通にしているが、個別
に備えるようにしてもよい。また図15ではガス処理装
置として油ジェットスクラバー708bを装備し、ここ
でガス状排出物中の油分を回収する構成となっているが
コンデンサ708を備えるようにしてもよい。
13 and 15, the dry distillation heating chamber 70 is shown.
The loading chamber 704 for introducing the object to be treated and the dry distillation heating chamber are common to each other, but they may be provided separately. Further, in FIG. 15, an oil jet scrubber 708b is provided as a gas treatment device, and the oil content in the gaseous emission is collected here, but a condenser 708 may be provided.

【0206】図16は本発明の処理装置の構成の別の例
を概略的に示す図である。
FIG. 16 is a diagram schematically showing another example of the configuration of the processing apparatus of the present invention.

【0207】図16の例は、従来より地方自治体等で用
いられているごみ焼却炉に付加することができる本発明
の処理装置の例である。ここでは加熱炉からの加熱残渣
の取出し処理を、図9の入り口側の投入操作と同様に行
う構成を例示した。このような構成により各種廃棄物の
焼却残渣中に含まれるダイオキシンなどの有機ハロゲン
化物の濃度を低減することができる。
The example of FIG. 16 is an example of the processing apparatus of the present invention which can be added to a refuse incinerator that has been conventionally used in local governments and the like. Here, a configuration is exemplified in which the removal processing of the heating residue from the heating furnace is performed in the same manner as the input operation on the inlet side in FIG. With such a configuration, the concentration of organic halides such as dioxin contained in the incineration residues of various wastes can be reduced.

【0208】図15、図16の例示した処理装置におい
ても前述した本発明の処理装置同様、冷却チャンバを並
列に複数備えるようにしてもよい。これにより各室での
処理に時間を要する場合にも生産性を向上することがで
きる。また各室には複数のトレーを導入して処理を行う
ようにしてもよい。 (実施形態12)図17は本発明の単炉構成での実施態
様を示す図である。減圧炉1は、制御装置2を備えると
ともに通常二重に配置した真空扉3を介して恒温ハロゲ
ン除去装置4を備える。減圧炉1は制御装置2によって
温度制御される加熱手段を備えた蒸し焼き炉(熱分解
炉)であり、排気系である真空ポンプ5の作用で常圧か
ら所定真空度に維持されつつ、廃車等の処理対象物体を
蒸し焼き(熱分解)処理する。
Also in the processing apparatus illustrated in FIGS. 15 and 16, a plurality of cooling chambers may be provided in parallel, like the processing apparatus of the present invention described above. As a result, productivity can be improved even when it takes time to perform the processing in each room. In addition, a plurality of trays may be introduced into each chamber for processing. (Embodiment 12) FIG. 17 is a diagram showing an embodiment of the present invention in a single furnace configuration. The decompression furnace 1 is provided with a control device 2 and a constant temperature halogen removing device 4 via a vacuum door 3 which is normally arranged in double. The decompression furnace 1 is a steaming furnace (pyrolysis furnace) equipped with heating means whose temperature is controlled by the control device 2. The vacuum pump 5, which is an exhaust system, keeps the atmospheric pressure at a predetermined degree of vacuum while abandoned a vehicle or the like. The object to be processed is steamed (pyrolysis).

【0209】ガス状排出物中に含まれる塩素などのハロ
ゲンを除去する手段である恒温ハロゲン除去装置(恒温
塩化物除去装置)4は減圧炉1からの蒸発ガスが導入さ
れる室で、室温は約400℃〜約1000℃程度の所定
値に設定されている。またこの例では恒温ハロゲン除去
装置4は2室から構成されており、第1室4aにはガス
状排出物中の塩素と反応して塩化物を構成する鉄などの
金属、ダライ粉及び/または水酸化カルシウムなどの化
合物が装填される。またガス状排出物中のハロゲンの固
定反応や、ガス状排出物中の有機ハロゲン化物の分解を
促進する触媒などが装填される。
[0209] A constant temperature halogen removing device (constant temperature chloride removing device) 4 which is a means for removing halogen such as chlorine contained in the gaseous emission is a chamber into which the evaporative gas from the decompression furnace 1 is introduced, and the room temperature is It is set to a predetermined value of about 400 ° C to about 1000 ° C. Further, in this example, the constant temperature halogen removing device 4 is composed of two chambers, and in the first chamber 4a, a metal such as iron that reacts with chlorine in the gaseous effluent to form chloride, Dalai powder and / or A compound such as calcium hydroxide is loaded. In addition, a catalyst that accelerates the fixing reaction of halogen in the gaseous effluent and the decomposition of the organic halide in the gaseous effluent is loaded.

【0210】第2室4bは第1室4aを通過してしまっ
たハロゲンを吸着するための室であり、内部には例えば
球状ゼオライト等のゼオライト、活性炭などの吸着材が
装填される。恒温ハロゲン除去装置4内は、この吸着材
の吸着効果、吸着効率を高めるためになるべく低温に維
持することが好ましい。第1室4aを通過したガス状排
出物は、第2室4b内で冷却されることになるが、この
冷却はガス状排出物の温度がダイオキシン類などの有機
ハロゲン化物の再生温度範囲への滞留時間ができるだけ
短くなるように急速に行うことが好ましい。
The second chamber 4b is a chamber for adsorbing halogen that has passed through the first chamber 4a, and is loaded with an adsorbent such as zeolite such as spherical zeolite or activated carbon. In the constant temperature halogen removing device 4, it is preferable to maintain the temperature as low as possible in order to enhance the adsorption effect and adsorption efficiency of the adsorbent. The gaseous effluent that has passed through the first chamber 4a is cooled in the second chamber 4b, but this cooling keeps the temperature of the gaseous effluent within the regeneration temperature range of organic halides such as dioxins. It is preferred to do it rapidly so that the residence time is as short as possible.

【0211】このように恒温ハロゲン除去装置4は、減
圧炉1内の真空度が機器の故障、処理対象物体の構成等
により設定値に至らない場合に、蒸発ガスを含むガス状
排出物を加熱し、ガス状排出物中に含まれるダイオキシ
ンなどの脱塩素化を行うとともに、塩素と金属ダライ
粉、水酸化カルシウム等を反応させて塩化物として固定
し、さらに反応しきれずに流出しようとする塩素を吸着
材に吸着させて除去する役目を果たすものである。
As described above, the constant temperature halogen removing device 4 heats the gaseous emission containing the evaporative gas when the vacuum degree in the decompression furnace 1 does not reach the set value due to the breakdown of the equipment, the structure of the object to be treated, or the like. However, while dechlorinating the dioxin contained in the gaseous effluent, chlorine reacts with metallic Dalai powder, calcium hydroxide, etc. to fix as chloride, and chlorine that does not react further and tries to flow out It plays a role of adsorbing and removing the adsorbent.

【0212】恒温ハロゲン除去装置4と真空ポンプ5と
の間にはガス状排出物に含まれる金属、水、油、酸化物
等を凝縮させて回収する蒸発物回収除去のための凝縮装
置(コンデンサ)6が設置される。凝縮装置6はガス状
排出物中に含まれる金属、水、油、酸化物等を凝縮させ
て回収する。凝縮装置6は必要に応じて複数系統設置す
ることもある。
Between the constant temperature halogen removing device 4 and the vacuum pump 5, a condenser device (condenser) for condensing and recovering metal, water, oil, oxides and the like contained in the gaseous emission is recovered. ) 6 is installed. The condenser 6 condenses and collects metals, water, oil, oxides, etc. contained in the gaseous emission. If necessary, the condenser 6 may be installed in a plurality of systems.

【0213】その後蒸発ガスは真空ポンプ5の後段に設
置された、ガス状排出物中のSOx等を除去するフィル
タである除去装置7に送られ、そこにおいてNOx、塩
素、NH(アンモニア)及びSOxを除去されて無害
化された後、系外に排出される。除去装置7は例えばハ
ニカム形状にしたゼオライト、活性炭、その他の吸着材
を含む。 (実施形態13)図18は本発明の連続炉構成での実施
態様を示す図である。図18に例示した処理装置は基本
的には図17に例示した各減圧炉1を連結して連続炉を
構成したものである。この場合例えば連即して設置する
加熱炉では、それぞれの炉内における熱分解温度が徐々
に高くなるように設定する。
Thereafter, the vaporized gas is sent to a removing device 7, which is a filter for removing SOx and the like in the gaseous emission, which is installed in the latter stage of the vacuum pump 5, and there, NOx, chlorine, NH 3 (ammonia) and After SOx is removed and rendered harmless, it is discharged to the outside of the system. The removing device 7 includes, for example, honeycomb-shaped zeolite, activated carbon, and other adsorbents. (Embodiment 13) FIG. 18 is a view showing an embodiment of the continuous furnace configuration of the present invention. The processing apparatus illustrated in FIG. 18 is basically a continuous furnace configured by connecting the pressure reducing furnaces 1 illustrated in FIG. In this case, for example, in heating furnaces installed in series, the thermal decomposition temperature in each furnace is set to gradually increase.

【0214】例えば予熱室である第1炉1aでは、常圧
下において例えば土壌、汚泥、農産物、水産物、プラス
ティック、繊維、ゴム、金属、金属酸化物等の処理対象
物体を約0〜100℃程度の範囲で加熱することによ
り、主に水分及び油分を処理対象物体から蒸発させる。
炉内雰囲気を置換して非酸化性雰囲気にするための置換
室である第2炉1bでは、炉内を約1〜500Torr
程度に保持し、約100〜160℃の範囲で加熱するこ
とにより、主に残留油及び塩素などのハロゲンを処理対
象物体から蒸発させる。この約180℃以下の温度条件
においてはダイオキシンは生成しないので、この段階で
できるだけ多くの水分、油などの蒸発可能な有機物成分
及び塩素などのハロゲンを蒸発させることが、有機ハロ
ゲン化物の低減のためには好ましい。このような構成に
より、後段の減圧炉における圧力制御に負担がかからな
くなる。また、ダイオキシン類などの有害な有機ハロゲ
ン化物の生成する可能性を低減することができる。
For example, in the first furnace 1a, which is a preheating chamber, for example, soil, sludge, agricultural products, marine products, plastics, fibers, rubbers, metals, metal oxides and the like to be treated under normal pressure at about 0 to 100 ° C. By heating in the range, mainly water and oil are evaporated from the object to be treated.
In the second furnace 1b, which is a replacement chamber for replacing the atmosphere in the furnace to a non-oxidizing atmosphere, the inside of the furnace is about 1 to 500 Torr.
The residual oil and halogens such as chlorine are mainly evaporated from the object to be treated by maintaining the temperature to some extent and heating in the range of about 100 to 160 ° C. Dioxins are not produced under the temperature condition of about 180 ° C. or below, so it is necessary to evaporate as much water as possible, vaporizable organic components such as oil and halogens such as chlorine at this stage in order to reduce organic halides. Is preferred. With such a configuration, pressure control in the pressure reducing furnace at the subsequent stage is not burdened. Further, it is possible to reduce the possibility that harmful organic halides such as dioxins are produced.

【0215】また比較的低温に維持される第1炉1a及
び第2炉1bではダイオキシン類が発生しないので、こ
れらに接続して設置される蒸発物(ガス状排出物を含
む)処理系においては前述した恒温ハロゲン除去装置4
などのハロゲントラップの配設を省略することもでき
る。
[0215] Further, since dioxins are not generated in the first furnace 1a and the second furnace 1b which are maintained at a relatively low temperature, in an evaporative substance (including gaseous effluent) treatment system connected to them, Constant temperature halogen removal device 4 described above
It is also possible to omit the provision of halogen traps such as.

【0216】第3炉1cでは真空度を約10−1〜約1
−4Torrに保持し、約180〜400℃程度の範
囲で加熱して例えば土壌、汚泥、農産物、水産物、プラ
スティック、繊維、ゴム、金属、金属酸化物等の処理対
象物体を熱分解する。そして第4炉1dでは真空度を約
10−2〜約10−6Torrに保持し、約400〜約
1400℃の範囲で処理対象物体を加熱する。また上記
各炉1a乃至1dに設置される蒸発物処理ラインの末端
は、個別にまたは複数結集して装置外へ向けられ、そこ
から無公害化された蒸発ガスが系外へと排出される。
In the third furnace 1c, the degree of vacuum is about 10 -1 to about 1.
It is held at 0 −4 Torr and heated in a range of about 180 to 400 ° C. to thermally decompose an object to be treated such as soil, sludge, agricultural products, marine products, plastics, fibers, rubbers, metals, metal oxides. Then, in the fourth furnace 1d, the degree of vacuum is maintained at about 10 −2 to about 10 −6 Torr, and the object to be treated is heated in the range of about 400 to about 1400 ° C. Further, the ends of the evaporative substance treatment lines installed in each of the furnaces 1a to 1d are individually or collectively collected and directed to the outside of the apparatus, from which the pollution-free evaporative gas is discharged to the outside of the system.

【0217】また最終段の第4炉1dに隣接して冷却沈
殿室8が設けられている。この冷却凝縮室8内は、減圧
下において水冷管その他の熱交換装置等で50〜200
℃の低温に保持され第4炉1dから流入してくる蒸発ガ
スを冷却して処理対象物体からの蒸発物を凝縮させ、冷
却兼空気置換室9の入り口真空パッキンを保護する。
A cooling settling chamber 8 is provided adjacent to the final stage fourth furnace 1d. The inside of the cooling condensing chamber 8 is heated to 50 to 200 with a water cooling pipe or other heat exchange device under reduced pressure.
The evaporative gas flowing from the fourth furnace 1d, which is kept at a low temperature of ℃, is cooled to condense the evaporant from the object to be treated and protect the inlet vacuum packing of the cooling / air displacement chamber 9.

【0218】空気置換室9は冷却凝縮室8に隣接設置さ
れ、冷却凝縮室8と同様に常圧下で窒素ガスが供給さ
れ、水冷管そのほかの熱交換器等により約50℃〜15
0℃程度の低温に冷却される。処理対象物体は室内で十
分に冷却された後、この空気置換室9において処理物が
取り出される。
The air replacement chamber 9 is installed adjacent to the cooling condensing chamber 8 and is supplied with nitrogen gas under normal pressure in the same manner as the cooling condensing chamber 8.
It is cooled to a low temperature of about 0 ° C. After the object to be treated is sufficiently cooled in the room, the object to be treated is taken out in the air displacement chamber 9.

【0219】上記処理方法及び処理装置は例えば地方自
治体のゴミ処理施設や、工場等からでるダイオキシン類
などの有機ハロゲン化物を含む、加熱残渣、焼却飛灰、
残灰、あるいは残液などの処理対象物体、並びに、ゴミ
処理施設、廃棄物処理施設、工場の煙突等からの降り注
ぎによりダイオキシン類などの有機ハロゲン化物を含有
する土壌などの処理対象物体の処理にも適用することが
できる。
The above-mentioned treatment method and treatment apparatus include, for example, a heating residue, incineration fly ash, containing organic halides such as dioxins from a municipal waste treatment facility or a factory.
For treating objects such as residual ash or residual liquid, as well as objects such as soil containing organic halides such as dioxins by pouring from garbage treatment facilities, waste treatment facilities, factory chimneys, etc. Can also be applied.

【0220】本発明は上述したとおり、廃車等の熱分解
処理を加熱室内における処理圧力と温度の両者を変化さ
せつつ行いダイオキシンの発生しない初期処理段階にお
いて水分、油分、塩素等を蒸発させることができる。こ
のため後続の処理段階における蒸発ガスの発生量を抑制
することができ、圧力制御が容易となる。また室内の昇
温も段階的に行うので無理がなく、廃車等の熱分解を円
滑に行うことができる。
As described above, the present invention is capable of evaporating water, oil, chlorine and the like in the initial treatment stage in which dioxin is not generated by performing thermal decomposition treatment of a scrap car while changing both the treatment pressure and temperature in the heating chamber. it can. Therefore, the amount of vaporized gas generated in the subsequent processing stage can be suppressed, and pressure control becomes easy. Further, since the temperature inside the room is also raised stepwise, it is possible to smoothly carry out the thermal decomposition of a scrap car or the like.

【0221】本発明に係る方法及び処理装置は、これ以
外にも例えば自治体のゴミ処理施設や工場等からでる加
熱残渣、焼却飛灰、残灰、あるいは残液中のに含まれる
ダイオキシンにも適用することができる。
In addition to the above, the method and the treatment apparatus according to the present invention are also applied to, for example, heating residues, incinerated fly ash, residual ash, or dioxins contained in residual liquid from municipal waste treatment facilities and factories. can do.

【0222】また本発明によれば、機器の故障等によっ
て減圧炉内が所定の真空度に至らない状況に陥っても、
蒸発ガスの脱塩素化を十分に達成してダイオキシンが生
成されることを防止することができる。
Further, according to the present invention, even if the inside of the decompression furnace does not reach a predetermined vacuum degree due to equipment failure or the like,
It is possible to sufficiently achieve dechlorination of the evaporative gas and prevent dioxins from being produced.

【0223】[0223]

【発明の効果】本発明は上述した通りであって、ダイオ
キシンの生成抑制のためには反応性の塩素原子と酸素の
量をコントロールすることが有効との見地から、熱分解
により発生する分解ガスを還元レトルト内に導入するこ
とにより塩素及び酸素を除去するとともに、この還元レ
トルトから出るガス中の酸素及び塩素の濃度分析を行
い、それに基いて炉内に還元剤を投入するとともに温度
調整及び圧力調整を行うものであって、熱分解に際して
のダイオキシンの発生を抑制するとともに、発生したダ
イオキシン、あるいは、残灰、土壌等中に残留するダイ
オキシンの分解除去を、確実に行い得る効果がある。
The present invention is as described above, and from the viewpoint that it is effective to control the amounts of reactive chlorine atoms and oxygen in order to suppress the production of dioxins, the decomposition gas generated by thermal decomposition. Is introduced into the reduction retort to remove chlorine and oxygen, and the concentration of oxygen and chlorine in the gas discharged from this reduction retort is analyzed. The adjustment is performed, and it is possible to suppress the generation of dioxin at the time of thermal decomposition and to surely perform the decomposition and removal of the generated dioxin or the residual ash, dioxin remaining in the soil or the like.

【0224】また、本発明においては減圧下で熱分解を
行うことで、より効率のよいダイオキシンの発生抑制、
分解処理が可能となり、その場合真空ポンプとして水封
ポンプを用いることで、家庭ゴミやシュレッダーダスト
等の水分が多く発生する熱分解処理を可能にする効果が
ある。
Further, in the present invention, by carrying out the thermal decomposition under reduced pressure, it is possible to more efficiently suppress the generation of dioxin,
Decomposition processing becomes possible, and in this case, by using a water ring pump as a vacuum pump, there is an effect of enabling thermal decomposition processing in which a large amount of water such as household waste and shredder dust is generated.

【0225】更に、熱分解により発生するガス状排出物
を、凝縮による蒸発金属の回収工程、油膜による粉体除
去工程、アルカリ溶液との接触による塩類生成工程及び
イオン交換樹脂膜による塩類除去工程を経て処理する場
合は、ダイオキシンの除去が一層確実なものとなる効果
がある。
Further, a gaseous effluent generated by thermal decomposition is subjected to a step of collecting evaporated metal by condensation, a step of removing powder with an oil film, a step of generating salts by contact with an alkaline solution, and a step of removing salts with an ion exchange resin film. When it is processed after that, there is an effect that the removal of dioxin becomes more reliable.

【0226】本発明は、処理対象物体の加熱残渣をダイ
オキシンなどの有機ハロゲン化物含有ガスを除去してか
ら冷却することにより、加熱残渣中にダイオキシン等の
有機ハロゲン化物が含まれないようにすることができ
る。
In the present invention, the heating residue of the object to be treated is cooled after removing the organic halide-containing gas such as dioxin so that the heating residue does not contain an organic halide such as dioxin. You can

【0227】本発明の処理装置を従来の廃棄物処理の燃
焼炉や蒸焼炉の後に追加することにより、加熱残渣中の
ダイオキシンなどを効果的に減少させることができる。
By adding the treatment apparatus of the present invention after the conventional combustion furnace or waste treatment furnace for waste treatment, it is possible to effectively reduce dioxin and the like in the heating residue.

【0228】また、ダイオキシンを含む土壌や焼却灰な
どの加熱残渣、これらから流れ出した汚泥や水、油など
も上記発明を使用することにより、残渣ダイオキシンを
除去することができる。
Further, the residual dioxin can be removed from the soil containing dioxin, the heating residue such as incinerated ash, and the sludge, water, oil and the like flowing out from these by using the above invention.

【0229】さらに本発明では加熱残渣ばかりでなく処
理対象物体からのガス状排出物中の有害物質も低減する
ことができる。またガス状排出物処理系に有害物質対策
を多重に備えることにより安全、確実に処理を行うこと
ができる。
Furthermore, the present invention can reduce not only the heating residue but also harmful substances in the gaseous emission from the object to be treated. In addition, by providing multiple measures for harmful substances in the gaseous effluent treatment system, safe and reliable treatment can be performed.

【0230】また加熱中の炉内に還元性物質を投入しガ
ス状排出物中のダイオキシンを低減、除去してから加熱
残渣を冷却するガス置換方法と異なる方式も実現されて
おり、必要に応じて組み合わせて用いるようにすればよ
い。
Also, a method different from the gas replacement method in which a reducing substance is charged into the furnace during heating to reduce and remove dioxins in the gaseous emission and then the heating residue is cooled has been realized. They may be used in combination.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施形態の全体構成図である。FIG. 1 is an overall configuration diagram of an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施形態の要部構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of a main part of the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施形態における油粉体トラップの構
成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of an oil powder trap according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の他の実施形態の要部構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of main parts of another embodiment of the present invention.

【図5】本発明の更に他の実施形態の全体構成図であ
る。
FIG. 5 is an overall configuration diagram of still another embodiment of the present invention.

【図6】チャウドリーらが推定したダイオキシンの発生
系統図である。
FIG. 6 is a dioxin generation system diagram estimated by Chowdry et al.

【図7】本発明の処理装置の構成の例を概略的に示す図
である。
FIG. 7 is a diagram schematically showing an example of the configuration of a processing apparatus of the present invention.

【図8】本発明の処理装置の構成の例を概略的に示す図
である。
FIG. 8 is a diagram schematically showing an example of the configuration of a processing apparatus of the present invention.

【図9】本発明の処理装置の構成の例を概略的に示す図
である。
FIG. 9 is a diagram schematically showing an example of the configuration of a processing apparatus of the present invention.

【図10】本発明の処理装置の構成の例を概略的に示す
図である。
FIG. 10 is a diagram schematically showing an example of the configuration of a processing apparatus of the present invention.

【図11】処理対象物体の処理条件を説明するための図
である。
FIG. 11 is a diagram for explaining processing conditions of a processing target object.

【図12】加熱残渣の残留ダイオキシン濃度の測定結果
を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a measurement result of residual dioxin concentration of a heating residue.

【図13】本発明の処理装置の構成の例を概略的に示す
図である。
FIG. 13 is a diagram schematically showing an example of the configuration of a processing apparatus of the present invention.

【図14】本発明の処理装置の構成の例を概略的に示す
図である。
FIG. 14 is a diagram schematically showing an example of the configuration of a processing apparatus of the present invention.

【図15】本発明の処理装置の構成の例を概略的に示す
図である。
FIG. 15 is a diagram schematically showing an example of the configuration of a processing apparatus of the present invention.

【図16】本発明の処理装置の構成の例を概略的に示す
図である。
FIG. 16 is a diagram schematically showing an example of the configuration of a processing apparatus of the present invention.

【図17】本発明の処理装置の構成の例を概略的に示す
図である。
FIG. 17 is a diagram schematically showing an example of the configuration of a processing apparatus of the present invention.

【図18】本発明の処理装置の構成の例を概略的に示す
図である。
FIG. 18 is a diagram schematically showing an example of the configuration of a processing apparatus of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 熱分解炉 2 制御装置 3 回収装置 5 センサ 18 処理対象物体 20 加熱手段 21 冷却手段 40 真空バルブ 41 ブースターポンプ 47 水封ポンプ 1 Pyrolysis furnace 2 controller 3 collection device 5 sensors 18 Object to be processed 20 Heating means 21 Cooling means 40 vacuum valve 41 booster pump 47 Water ring pump

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C02F 11/00 F23G 7/14 C07B 35/06 B09B 3/00 303A C07D 319/24 303C F23G 7/00 303E 7/14 303H 303L 303M 303P 303Z B01D 53/34 134E 136A 136Z (72)発明者 三島 泰雄 愛知県豊田市堤町寺池66番地 株式会社豊 栄商会内 (72)発明者 高宮 勝雄 愛知県豊田市堤町寺池66番地 株式会社豊 栄商会内 Fターム(参考) 2E191 BA12 BB01 BC01 BD11 BD13 4D002 AA02 AA12 AA17 AA18 AA28 AA29 AC10 BA02 BA06 BA12 BA13 BA14 CA01 DA02 DA05 DA06 DA08 DA11 DA12 DA21 DA35 DA70 EA02 FA02 FA04 GA02 GA03 GB02 GB03 GB06 4D004 AA02 AA04 AA07 AA22 AA28 AA36 AA41 AA46 AB03 AB06 AB07 AC05 CA22 CA32 CB09 CB32 CB45 CC01 DA02 DA06 4D059 AA09 AA12 AA14 AA30 BD01 BD12 BD32 CA14 EB06 EB08 4H006 AA05 AC13 BC10 BC11 BD84─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C02F 11/00 F23G 7/14 C07B 35/06 B09B 3/00 303A C07D 319/24 303C F23G 7/00 303E 7/14 303H 303L 303M 303P 303Z B01D 53/34 134E 136A 136Z (72) Inventor Yasuo Mishima 66 Tsujimachi Teraike, Toyota City, Aichi Prefecture Toyohei Shokai Co., Ltd. (72) Katsuo Takamiya Tsutsumachi Town, Toyota City, Aichi Prefecture 66 Teraike F-house in Hoei Shokai Co., Ltd. (reference) 2E191 BA12 BB01 BC01 BD11 BD13 4D002 AA02 AA12 AA17 AA18 AA28 AA29 AC10 BA02 BA06 BA12 BA13 BA14 CA01 DA02 DA05 DA06 DA08 DA11 DA12 DA21 DA35 DA70 EA02 FA02 FA02 GA02 GA03 GA02 GA03 GB06 4D004 AA02 AA04 AA07 AA22 AA28 AA36 AA41 AA46 AB03 AB06 AB07 AC05 CA22 CA32 CB09 CB32 CB45 CC01 DA02 DA06 4D059 AA09 AA12 AA14 AA30 BD01 BD12 BD32 CA14 EB06 EB08 4H006 AA05 AC13 BC10 BC11 BD84

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機ハロゲン化物と重金属とを含む処理
対象物体を減圧下で加熱する工程と、 この加熱により生じるガス状排出物を減圧下で加熱する
工程と、 前記加熱により前記処理対象物体から蒸発した前記重金
属を凝縮する工程とを有することを特徴とする処理方
法。
1. A step of heating an object to be treated containing an organic halide and a heavy metal under a reduced pressure, a step of heating a gaseous emission generated by this heating under a reduced pressure, and a step of heating the object to be treated by the heating. And a step of condensing the evaporated heavy metal.
【請求項2】 前記加熱工程及び前記凝縮工程は、前記
処理対象物体を加熱する空間を減圧するための排気系内
で行われることを特徴とする請求項1に記載の処理方
法。
2. The processing method according to claim 1, wherein the heating step and the condensing step are performed in an exhaust system for decompressing a space for heating the object to be processed.
【請求項3】 有機ハロゲン化物と重金属とを含む処理
対象物体を気密に保持することができる気密領域と、 前記有機ハロゲン化物の少なくとも一部が熱分解し、前
記重金属の少なくとも一部が蒸発するように、前記気密
領域を減圧し、加熱する手段と、 前記加熱により生じるガス状排出物中を減圧下で加熱す
る手段と前記加熱により前記処理対象物体から蒸発した
前記重金属を減圧下で凝縮する手段とを具備することを
特徴とする処理装置。
3. An airtight region capable of holding an object to be treated containing an organic halide and a heavy metal in an airtight manner, and at least a part of the organic halide is thermally decomposed, and at least a part of the heavy metal is evaporated. Thus, the means for decompressing and heating the airtight region, the means for heating under reduced pressure the gaseous effluent generated by the heating, and the heavy metal evaporated from the object to be treated by the heating is condensed under reduced pressure And a processing unit.
【請求項4】 請求項3に記載の処理装置において、 前記気密領域を減圧するための排気系を有し、 前記ガス状排出物中を減圧下で加熱する手段は、前記排
気系内で減圧し、加熱することを特徴とする処理装置。
4. The processing apparatus according to claim 3, further comprising an exhaust system for decompressing the airtight region, wherein the means for heating the gaseous exhaust under reduced pressure decompresses in the exhaust system. And a heating device.
【請求項5】 前記処理対象物体の加熱残渣は、前記気
密領域内を実質的に前記有機ハロゲン化物フリーかつ有
機ハロゲン化物生成能を有しない置換ガスで置換した後
に冷却することを特徴とする請求項3に記載の処理装
置。
5. The heating residue of the object to be treated is cooled after the inside of the hermetically sealed region is replaced with a replacement gas that is substantially free of the organic halide and does not have the ability to form an organic halide. Item 5. The processing device according to item 3.
【請求項6】 重金属を第1の濃度で含有し、かつ有機
ハロゲン化物を含有する第1の土壌から、前記重金属を
第1の濃度より低い第2の濃度で含有する第2の土壌を
生産する土壌の生産方法において、 前記第1の土壌を気密領域に導入し、 前記第1の土壌を減圧下で加熱することにより前記有機
ハロゲン化物の少なくとも一部を熱分解するとともに、
前記重金属の少なくとも一部を蒸発し、 この熱分解により生じるガス状排出物中を減圧下で加熱
し、 前記蒸発した重金属を減圧下で凝縮することを特徴とす
る土壌の生産方法。
6. A second soil containing a heavy metal in a first concentration and an organic halide in a second soil containing the heavy metal in a second concentration lower than the first concentration. In the method of producing a soil, the first soil is introduced into an airtight region, and at least a part of the organic halide is thermally decomposed by heating the first soil under reduced pressure,
A method for producing soil, characterized in that at least a part of the heavy metal is evaporated, the gaseous effluent generated by the thermal decomposition is heated under reduced pressure, and the evaporated heavy metal is condensed under reduced pressure.
【請求項7】 前記有機ハロゲン化物はダイオキシン類
であることを特徴とする請求項6に記載の土壌の生産方
法。
7. The method for producing soil according to claim 6, wherein the organic halide is dioxins.
【請求項8】 前記土壌の熱分解により生じたガス状排
出物中のハロゲン濃度を低減することを特徴とする請求
項6に記載の土壌の生産方法。
8. The method for producing soil according to claim 6, wherein the halogen concentration in the gaseous effluent generated by the thermal decomposition of the soil is reduced.
【請求項9】 前記第1の土壌の熱分解残渣は、前記気
密領域内を実質的に前記有機ハロゲン化物フリーかつ有
機ハロゲン化物生成能を有しない置換ガスで置換した後
に冷却することを特徴とする請求項6に記載の土壌の生
産方法。
9. The thermal decomposition residue of the first soil is cooled after the inside of the airtight region is replaced with a replacement gas that is substantially free of the organic halide and does not have the ability to form an organic halide. The method for producing soil according to claim 6.
JP2002228009A 1998-03-31 2002-08-05 Soil manufacturing method, soil treatment apparatus, treatment method and treatment apparatus Pending JP2003175372A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002228009A JP2003175372A (en) 1998-03-31 2002-08-05 Soil manufacturing method, soil treatment apparatus, treatment method and treatment apparatus

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10-103297 1998-03-31
JP10329798 1998-03-31
JP27341798 1998-09-28
JP10-377175 1998-12-27
JP10-273417 1998-12-27
JP37717598 1998-12-27
JP2002228009A JP2003175372A (en) 1998-03-31 2002-08-05 Soil manufacturing method, soil treatment apparatus, treatment method and treatment apparatus

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000542123A Division JP3395148B2 (en) 1998-03-31 1999-03-31 Soil production method, soil treatment device, treatment method and treatment device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003175372A true JP2003175372A (en) 2003-06-24

Family

ID=27469104

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002228009A Pending JP2003175372A (en) 1998-03-31 2002-08-05 Soil manufacturing method, soil treatment apparatus, treatment method and treatment apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003175372A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009072709A (en) * 2007-09-21 2009-04-09 Nishimatsu Constr Co Ltd Method for regenerating asbestos-containing waste
CN110586621A (en) * 2019-09-20 2019-12-20 中核环保产业有限公司 Complete set of efficient treatment equipment and method for mercury-containing or organic pollution solid waste

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009072709A (en) * 2007-09-21 2009-04-09 Nishimatsu Constr Co Ltd Method for regenerating asbestos-containing waste
CN110586621A (en) * 2019-09-20 2019-12-20 中核环保产业有限公司 Complete set of efficient treatment equipment and method for mercury-containing or organic pollution solid waste

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20060293551A1 (en) Method for producing soil, soil-processing unit, method for processing and unit for processing
KR100583892B1 (en) Treating apparatus, treating method and method of treating soil
JP2008272534A (en) Heat treatment method and heat treatment apparatus of waste containing organic halogen compound utilizing psa type nitrogen gas generator
US20100075830A1 (en) Activated carbon separation and reuse
EP0724008A2 (en) Method and plant for the pyrolytic treatment of waste containing organic material, particularly for treating municipal solid waste
JP2003175372A (en) Soil manufacturing method, soil treatment apparatus, treatment method and treatment apparatus
JP2002331273A (en) Treatment method and treatment apparatus
JP5111955B2 (en) Exhaust gas treatment method and apparatus for waste treatment facility
JP2007196229A (en) Treatment apparatus
JP3023479B1 (en) Processing apparatus, processing method, and soil processing method
EP1015143B1 (en) Treatment of contaminated soil
JP3310245B2 (en) Processing device and processing method
JP2007152350A (en) Treatment apparatus and treatment method
JP3818936B2 (en) Processing equipment
JP3642995B2 (en) Processing apparatus, processing method, and method for producing detoxified object to be processed
JP4160065B2 (en) Soil treatment equipment
JP3926290B2 (en) Processing apparatus and processing method
JP3095609B2 (en) Ash pyrolysis equipment
WO2009110071A1 (en) Treating apparatus for solid containing hazardous substance such as organohalogen compound
JP2003001234A (en) Treating method
JP2005058979A (en) Detoxifying apparatus of injurious substance
JPWO2002038252A1 (en) Processing device and processing method
JPH07108249A (en) Process and device for treating ash containing dioxin and mercury
JPH0639242A (en) Method for making organic chlorine compounds harmless
CZ9903253A3 (en) Process for successive controlled reduction of content of organic substances and cyclic autogenous reactor for making the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060329

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080318

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080325

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080523

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080930