JP2003168291A - Semiconductor integrated circuit and power source supply method - Google Patents

Semiconductor integrated circuit and power source supply method

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JP2003168291A
JP2003168291A JP2001364684A JP2001364684A JP2003168291A JP 2003168291 A JP2003168291 A JP 2003168291A JP 2001364684 A JP2001364684 A JP 2001364684A JP 2001364684 A JP2001364684 A JP 2001364684A JP 2003168291 A JP2003168291 A JP 2003168291A
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Japan
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power supply
voltage
supply voltage
semiconductor integrated
circuit
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JP2001364684A
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Japanese (ja)
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Katsuhiro Mori
勝宏 森
Shinya Fujioka
伸也 藤岡
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit in which influence of noise in high voltage is little, dispersion of voltage in low voltage is eliminated, and current consumption at standby is little, and a power source supply method. <P>SOLUTION: A Vdet signal becomes a signal 'H' of a high level when external power source voltage is high. Hence, when external power source voltage is high, a nMOS 75 is turned on and a pMOS 74 is turned off, thereby, a power source of a nMOS regulator generating power source 72 is supplied to an internal circuits 73. Also, when external power source voltage is low, a nMOS 75 is turned off and a pMOS 74 is turned on, thereby, a power source of a pMOS regulator generating power source 71 is supplied to the internal circuits 73. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路及
び電源供給方法に係り、特に、外部電源電圧を所定の内
部電源電圧に降圧する二つの降圧電源を有する半導体集
積回路及び電源供給方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit and a power supply method, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having two step-down power supplies for stepping down an external power supply voltage to a predetermined internal power supply voltage and a power supply method.

【0002】[0002]

【従来の技術】DRAM(Dynamic Rando
m Access Memory)は、ノート型のPC
(Personal Computer)、携帯電話機
等の携帯機器への用途が拡大してきている。このような
携帯機器は、電源として電池を使用しており、電池寿命
を延ばすために、低消費電力で動作することが要求され
る。
2. Description of the Related Art DRAM (Dynamic Rando)
m Access Memory) is a notebook PC
Applications for portable devices such as (Personal Computer) and mobile phones are expanding. Such a portable device uses a battery as a power source, and is required to operate with low power consumption in order to extend the battery life.

【0003】そこで、DRAMにおける電力消費を低減
するために、外部電源電圧を降圧して、この降圧した電
圧を動作電源電圧として用いることが従来より行われて
いる。
Therefore, in order to reduce the power consumption in the DRAM, it has been conventionally practiced to step down the external power supply voltage and use this stepped down voltage as the operating power supply voltage.

【0004】図1を用いて、従来の半導体集積回路(D
RAM5)を説明する。図1の半導体集積回路は、メモ
リコア1、インタフェース回路2、論理回路3及び電源
4から構成されている。インタフェース回路2には、図
示されていないCPU(Central Proces
sing Unit)から、アドレス・コントロール線
(Add・Contl)及びデータ線(DQ)から、ア
ドレス信号、コントロール信号及びデータ信号を受け
て、論理回路3に送出し、また、論理回路3から受けた
信号を、データ線(DQ)を介して、CPUにデータを
送出する。論理回路3は、CPUから受信したアドレス
信号及びコントロール信号等に基づいて、内部の各回路
の動作タイミングを決定する制御信号を生成し、メモリ
コア1の書き込み及び読み出しを行って、書き込みデー
タ及び読み出しデータを生成する。電源4は、外部電源
(高位電圧Vdd/アース電圧Vss)からの電源を受
けて、メモリコア1、インタフェース回路2及び論理回
路3に所定の電位を供給する。
Referring to FIG. 1, a conventional semiconductor integrated circuit (D
The RAM 5) will be described. The semiconductor integrated circuit of FIG. 1 includes a memory core 1, an interface circuit 2, a logic circuit 3 and a power supply 4. The interface circuit 2 includes a CPU (Central Processes) (not shown).
signal, control signal and data signal from the address / control line (Add / Cont) and the data line (DQ) from the Sing Unit, and sends them to the logic circuit 3 and the signal received from the logic circuit 3. Is sent to the CPU via the data line (DQ). The logic circuit 3 generates a control signal that determines the operation timing of each internal circuit based on an address signal, a control signal, and the like received from the CPU, writes and reads the memory core 1, and writes data and read data. Generate data. The power supply 4 receives power from an external power supply (high voltage Vdd / ground voltage Vss) and supplies a predetermined potential to the memory core 1, the interface circuit 2 and the logic circuit 3.

【0005】図2を用いて、電源回路4が供給する電源
を説明する。電源回路4は、降圧電源12、昇圧電源1
3、プリチャージ電源14及び負電源15を、メモリコ
ア1、インタフェース回路2及び論理回路を有する内部
回路6に供給する。これら降圧電源12、昇圧電源1
3、プリチャージ電源14及負電圧源15は、参照電圧
発生器11が出力する参照電圧を参照して、所定の電圧
を生成して、出力する。
The power supply provided by the power supply circuit 4 will be described with reference to FIG. The power supply circuit 4 includes a step-down power supply 12 and a step-up power supply 1.
3, the precharge power supply 14 and the negative power supply 15 are supplied to the internal circuit 6 having the memory core 1, the interface circuit 2, and the logic circuit. These step-down power source 12 and step-up power source 1
3. The precharge power source 14 and the negative voltage source 15 generate a predetermined voltage by referring to the reference voltage output from the reference voltage generator 11 and output it.

【0006】降圧電源12が生成する電圧は、内部電源
電圧であり、例えば、メモリコア1のビット線、インタ
フェース回路2、論理回路3に供給される。昇圧電源1
3が生成する電圧は、昇圧された電圧であり、例えば、
メモリコア1のワード線に供給される。プリチャージ電
源14は、例えば、メモリコア1に対して、プリチャー
ジ電圧を供給する。負電圧源15は、例えば、メモリコ
ア1の基板に供給される。
The voltage generated by the step-down power supply 12 is an internal power supply voltage and is supplied to, for example, the bit line of the memory core 1, the interface circuit 2 and the logic circuit 3. Step-up power supply 1
The voltage generated by 3 is a boosted voltage, for example,
It is supplied to the word line of the memory core 1. The precharge power supply 14 supplies a precharge voltage to the memory core 1, for example. The negative voltage source 15 is supplied to the substrate of the memory core 1, for example.

【0007】図3に、外部電源を投入したときであっ
て、外部電源電圧Vccがゼロ電圧から、その電圧が上
昇していく状況における、降圧電源12、昇圧電源1
3、プリチャージ電源14及び負電源15から出力され
る電圧の関係を示す。負電源15から出力される電圧
は、外部電源電圧Vccが所定の電圧になると、Vbb
(負電圧)21となる。また、プリチャージ電源14か
ら出力される電圧は、外部電源電圧Vccが所定の電圧
になると、Vpr(プリチャージ電圧)22となる。同
様に、降圧電源12及び昇圧電源13から出力される電
圧は、外部電源電圧Vccが所定の電圧になると、Vi
i(内部電源電圧)23及びVpp(昇圧された電圧)
24となる。
FIG. 3 shows the step-down power supply 12 and the step-up power supply 1 when the external power supply voltage Vcc rises from zero voltage when the external power supply is turned on.
3 shows the relationship between the voltages output from the precharge power supply 14 and the negative power supply 15. The voltage output from the negative power supply 15 is Vbb when the external power supply voltage Vcc reaches a predetermined voltage.
(Negative voltage) 21. Further, the voltage output from the precharge power supply 14 becomes Vpr (precharge voltage) 22 when the external power supply voltage Vcc reaches a predetermined voltage. Similarly, the voltage output from the step-down power supply 12 and the step-up power supply 13 is Vi when the external power supply voltage Vcc reaches a predetermined voltage.
i (internal power supply voltage) 23 and Vpp (boosted voltage)
24.

【0008】図4に、参照電圧発生器11における参照
電圧の発生回路の例を説明する。図4の回路は、pMO
S31、pMOS32、nMOS33、nMOS34、
バッファ増幅器35及び抵抗素子36から構成されてい
る。
An example of a reference voltage generating circuit in the reference voltage generator 11 will be described with reference to FIG. The circuit of FIG.
S31, pMOS32, nMOS33, nMOS34,
It is composed of a buffer amplifier 35 and a resistance element 36.

【0009】pMOS31とpMOS32は、カレント
ミラー回路を構成している。ここで、電源電圧Vccが
上昇したとすると、pMOS31の電流が増大し、nM
OS34が深い導通状態となり、抵抗素子36における
電圧降下が大きくなり、B点の電位が上昇する。その結
果、nMOS33が深い導通状態となり、A点の電位が
低下する。同様に、電源電圧Vccが低下したとする
と、A点の電位は上昇する。このようにして、A点は、
電源電圧Vccの変動に対して、安定した電位に設定さ
れる。
The pMOS 31 and pMOS 32 form a current mirror circuit. Here, if the power supply voltage Vcc rises, the current of the pMOS 31 increases and nM
The OS 34 enters a deep conductive state, the voltage drop in the resistance element 36 increases, and the potential at the point B rises. As a result, the nMOS 33 becomes deeply conductive and the potential at the point A decreases. Similarly, if the power supply voltage Vcc decreases, the potential at the point A increases. In this way, point A is
It is set to a stable potential with respect to fluctuations in the power supply voltage Vcc.

【0010】なお、A点の電位は、温度変動、外部電源
電圧の変動に対してそれらの補償を行うが、回路を構成
するトランジスタのバラツキの影響が残る。そこで、A
点にバッファ増幅器35を接続し、トランジスタのバラ
ツキを除去して、参照電圧発生器11の出力(Vre
f)としている。
The potential at the point A compensates for temperature fluctuations and fluctuations in the external power supply voltage, but the effects of variations in the transistors forming the circuit remain. So A
A buffer amplifier 35 is connected to the point to eliminate the variation of the transistor and output of the reference voltage generator 11 (Vre
f).

【0011】図5を用いて、pMOSレギュレータ発生
電源の例を説明する。図5(A)のpMOSレギュレー
タ発生電源は、pMOS41、pMOS42、pMOS
43、nMOS44、nMOS45及びnMOS46か
ら構成されている。なお、pMOS41とpMOS42
は、カレントミラー回路を構成し、nMOS44、nM
OS45及びnMOS46は、差動増幅器48を構成
し、pMOS43は、ドライバ47として機能する。図
5(A)は、図5(B)として、簡略に図示できる。
An example of the pMOS regulator generation power supply will be described with reference to FIG. The pMOS regulator generation power source of FIG. 5A is composed of pMOS41, pMOS42, pMOS
43, nMOS44, nMOS45 and nMOS46. Note that pMOS41 and pMOS42
Constitutes a current mirror circuit, and includes nMOS44, nM
The OS 45 and the nMOS 46 form a differential amplifier 48, and the pMOS 43 functions as a driver 47. FIG. 5 (A) can be simply illustrated as FIG. 5 (B).

【0012】動作を説明すると、ドライバ47の出力電
圧Viiと参照電圧Vrefとを差動増幅器48で比較
して、その出力(Vref−vii)がゼロと成るよう
に制御する。その結果、最終的には、ドライバ47の出
力電圧Viiは、参照電圧Vrefと同一の電圧とな
る。
To explain the operation, the output voltage Vii of the driver 47 and the reference voltage Vref are compared by the differential amplifier 48, and the output (Vref-vii) is controlled to be zero. As a result, finally, the output voltage Vii of the driver 47 becomes the same voltage as the reference voltage Vref.

【0013】なお、図5のpMOSレギュレータ発生電
源は、 ドライバ47の出力電圧Viiに対して、帰還をかけ
るため、負荷電流に依存しない出力電圧Viiを得るこ
とができる。 ドライバ47のソース電極に外部電源電圧が印加され
ているため、外部電源電圧Vccのノイズに対して、感
度が高くなりやすい。 負荷電流変動に対する出力電圧Viiの安定性を高め
るためには、差動増幅器48の応答性を良くする必要が
ある。このためには、差動増幅器48における消費電流
をmAオーダとする必要があり、消費電流が大きくな
る。
Since the pMOS regulator generation power supply of FIG. 5 feeds back the output voltage Vii of the driver 47, the output voltage Vii independent of the load current can be obtained. Since the external power supply voltage is applied to the source electrode of the driver 47, the sensitivity to the noise of the external power supply voltage Vcc tends to be high. In order to improve the stability of the output voltage Vii with respect to load current fluctuations, it is necessary to improve the responsiveness of the differential amplifier 48. For this purpose, the current consumption in the differential amplifier 48 needs to be on the order of mA, which increases the current consumption.

【0014】pMOSレギュレータ発生電源は、発生電
圧のフラット性高く、省面積化し易いという長所を持つ
反面、ノイズ影響度が大きく、消費電力が大きいという
短所を有している。なお、フラット性が高いとは、負荷
の変動に対する出力の変動及び/又は外部電源電圧を内
部電源電圧に近づけた場合の影響が少ないことをいう。
The pMOS regulator generated power supply has the advantages that the generated voltage has a high flatness and the area can be easily saved. On the other hand, the pMOS regulator generated power supply has the disadvantages that the noise influence is large and the power consumption is large. Note that the high flatness means that there is little influence when the output fluctuation and / or the external power supply voltage approaches the internal power supply voltage with respect to the load fluctuation.

【0015】図6を用いて、nMOSレギュレータ発生
電源の例を説明する。図6(A)のnMOSレギュレー
タ発生電源は、pMOS51、pMOS52、nMOS
54、nMOS55n、MOS56、pMOS53から
なる第1のドライバ57、nMOS59からなる第2の
ドライバ61、ダイオード接続されたnMOS60から
なるVthキャンセラ62及び抵抗素子63から構成さ
れている。なお、pMOS51とpMOS52は、カレ
ントミラー回路を構成し、nMOS54、nMOS55
及びnMOS56は、差動増幅器58を構成している。
図6(A)は、図6(B)として、簡略に図示できる。
An example of the nMOS regulator generated power supply will be described with reference to FIG. The nMOS regulator generation power source of FIG. 6A is composed of pMOS51, pMOS52, and nMOS.
54, an nMOS 55n, a MOS 56, a first driver 57 including a pMOS 53, a second driver 61 including an nMOS 59, a Vth canceller 62 including a diode-connected nMOS 60, and a resistance element 63. The pMOS 51 and the pMOS 52 form a current mirror circuit, and the nMOS 54 and the nMOS 55 are included.
And the nMOS 56 form a differential amplifier 58.
FIG. 6A can be simply illustrated as FIG. 6B.

【0016】図6(A)のnMOSレギュレータ発生電
源において、差動増幅器58には、参照電位Vrefと
帰還電圧Vinが印加されている。Vthキャンセラ6
2が存在するので、第2のドライバ61のnMOS59
のゲートには、(Vin+Vth)の電圧が印加されて
いる(これは、nMOS55のゲート電位に対して、V
thキャンセラ62によって、その出力がVthだけ電
位が低下していることを意味している。)。従って、n
MOS59のソースからは、nMOS59のゲート電位
に対してVth低い電位が出力されるので、Vinの電
圧を得ることができる。
In the nMOS regulator generation power supply of FIG. 6A, the reference potential Vref and the feedback voltage Vin are applied to the differential amplifier 58. Vth canceller 6
2 exists, the nMOS 59 of the second driver 61 is present.
The voltage of (Vin + Vth) is applied to the gate of the
This means that the output of the th canceller 62 is reduced in potential by Vth. ). Therefore, n
Since a potential Vth lower than the gate potential of the nMOS 59 is output from the source of the MOS 59, the voltage Vin can be obtained.

【0017】動作を説明すると、第1のドライバ57の
出力電圧(Vin+Vth)は、Vthキャンセラ62
で、Vinとなり、差動増幅器58に印加される。差動
増幅器58、第1のドライバ57及びVthキャンセラ
62は、参照電圧VrefとVthキャンセラ62の出
力Vinが同じ電位となるように制御する。その結果、
最終的には、ドライバ57の出力電圧(Vin+Vt
h)は、(Vref+Vth)となり、nMOS59の
ソースからは、nMOS59のゲート電位に対してVt
h低い電位である参照電圧Vrefと同電位の電圧を得
ることができる。
In operation, the output voltage (Vin + Vth) of the first driver 57 is the Vth canceller 62.
Then, it becomes Vin and is applied to the differential amplifier 58. The differential amplifier 58, the first driver 57, and the Vth canceller 62 control the reference voltage Vref and the output Vin of the Vth canceller 62 so that they have the same potential. as a result,
Finally, the output voltage of the driver 57 (Vin + Vt
h) becomes (Vref + Vth), and from the source of the nMOS 59 to the gate potential of the nMOS 59 is Vt.
It is possible to obtain a voltage having the same potential as the reference voltage Vref which is a low potential.

【0018】なお、Vthキャンセラ62が無いと、第
2のドライバ61からは、(Vref-Vth)が出力
され、出力電圧がVthに関係することから、出力電圧
Viiは、温度に依存した出力となる。
If the Vth canceller 62 is not provided, (Vref-Vth) is output from the second driver 61, and since the output voltage is related to Vth, the output voltage Vii is an output that depends on temperature. Become.

【0019】なお、図6のnMOSレギュレータ発生電
源は、 ドライバ61の出力電圧Viiに対して、帰還をかけ
ていないため、負荷電流に依存した電圧となり、負荷電
流に対して変動する。また、動作状態によっては、ドラ
イバ61の電源電圧Vccが変動し、出力電圧Viiに
近づいた場合、nMOS59のドレイン・ソース間電圧
(Vds)が小さくなり、フラット性が低下するという
問題がある。 ドライバ61はnMOSで構成され、外部電源電圧V
ccのノイズに対する安定性は高い。しかしながら、駆
動能力を下げて動作(低い電圧領域で動作)させれば、
外部電源電圧Vcc変動に対する影響が小さい。 ドライバ57の出力変動はなく、差動増幅器48の応
答性は要求されない。そのため、差動増幅器48はμA
オーダで十分であり、消費電流は小さい。
Since the nMOS regulator generation power supply of FIG. 6 does not feed back the output voltage Vii of the driver 61, it becomes a voltage dependent on the load current and fluctuates with respect to the load current. Further, depending on the operating state, when the power supply voltage Vcc of the driver 61 fluctuates and approaches the output voltage Vii, the drain-source voltage (Vds) of the nMOS 59 becomes small, and there is a problem that the flatness deteriorates. The driver 61 is composed of an nMOS and has an external power supply voltage V
The stability of cc against noise is high. However, if the drive capability is reduced to operate (operate in the low voltage region),
The influence on the fluctuation of the external power supply voltage Vcc is small. The output of the driver 57 does not fluctuate, and the responsiveness of the differential amplifier 48 is not required. Therefore, the differential amplifier 48 has μA
The order is sufficient and the current consumption is small.

【0020】nMOSレギュレータ発生電源は、耐ノイ
ズ性が高いという長所を持つ反面、出力電圧のフラット
性が低いという短所を有している。
The nMOS regulator generated power source has the advantage of high noise resistance, but has the disadvantage of low flatness of the output voltage.

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】上記の通り、pMOS
レギュレータ発生電源は、発生電圧のフラット性高く、
省面積化し易いという長所を持つ反面、ノイズ影響度が
大きく、消費電力が大きいという短所を有している。ま
た、nMOSレギュレータ発生電源は、耐ノイズ性が高
いという長所を持つ反面、発生電圧のフラット性が低い
という短所を有している。
As described above, the pMOS
The regulator generated power supply has a high flatness of generated voltage,
While it has the advantage of being easy to save area, it has the disadvantage of high noise impact and high power consumption. Further, the nMOS regulator generated power source has an advantage of high noise resistance, but has a disadvantage of low generated voltage flatness.

【0022】このように、pMOSレギュレータ発生電
源とnMOSレギュレータ発生電源は、それぞれ、長所
と短所を有している。広範囲に作動する外部電源電圧と
いう観点では、pMOSレギュレータ発生電源では高電
圧側のノイズの影響が懸念され、また、nMOSレギュ
レータ発生電源では、外部電源電圧が低い領域でのバラ
ツキによる安定性に難点がある。
As described above, the pMOS regulator generation power supply and the nMOS regulator generation power supply have advantages and disadvantages, respectively. From the viewpoint of the external power supply voltage operating in a wide range, the pMOS regulator generation power supply is concerned about the influence of noise on the high voltage side, and the nMOS regulator generation power supply has a problem in stability due to variation in a region where the external power supply voltage is low. is there.

【0023】またpMOSレギュレータ発生電源では、
スタンバイ時における消費電流が大きいという問題があ
る。
In the pMOS regulator generation power source,
There is a problem that the current consumption during standby is large.

【0024】本発明は、上記問題に鑑みなされたもので
あり、高電圧におけるノイズの影響が小さく、低電圧に
おける電圧のバラツキが無く、さらに、スタンバイ時に
おける消費電流が小さい、半導体集積回路及び電源供給
方法を提供することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above problems, and has a small influence of noise at high voltage, no variation in voltage at low voltage, and a small current consumption during standby, and a semiconductor integrated circuit and a power supply. The purpose is to provide a supply method.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本件発明は、以下の特徴を有する課題を解決するた
めの手段を採用している。
In order to solve the above problems, the present invention employs means for solving the problems having the following features.

【0026】請求項1に記載された発明は、外部電源電
圧を所定の内部電源電圧に降圧する降圧手段を有する半
導体集積回路において、第1の降圧電源と、第2の降圧
電源と、前記第1の降圧電源の出力及び前記第2の降圧
電源の出力を切り替える切り替え手段とを有し、前記切
り替え手段は、外部電源電圧が所定の電圧より高い場合
は、前記第1の降圧電源を内部回路に供給し、外部電源
電圧が所定の電圧より低い場合は、前記第2の降圧電源
を前記内部回路に供給するように切り替えることを特徴
とする。
According to a first aspect of the present invention, in a semiconductor integrated circuit having a step-down means for stepping down an external power supply voltage to a predetermined internal power supply voltage, a first step-down power supply, a second step-down power supply, and the first step-down power supply are provided. A switching means for switching between the output of the first step-down power supply and the output of the second step-down power supply, and the switching means sets the first step-down power supply to an internal circuit when the external power supply voltage is higher than a predetermined voltage. And the external power supply voltage is lower than a predetermined voltage, the second step-down power supply is switched to be supplied to the internal circuit.

【0027】請求項1に記載された発明によれば、外部
電源電圧が所定の電圧より高い場合は、第1の降圧電源
を内部回路に供給し、外部電源電圧が所定の電圧より低
い場合は、第2の降圧電源を前記内部回路に供給するよ
うに切り替えることにより、二つの降圧電源の特性の良
いところのみを使用することができ、高電圧におけるノ
イズの影響が小さく、低電圧における電圧のバラツキが
無い半導体集積回路を提供することができる。
According to the invention described in claim 1, when the external power supply voltage is higher than a predetermined voltage, the first step-down power supply is supplied to the internal circuit, and when the external power supply voltage is lower than the predetermined voltage. By switching the second step-down power supply to supply to the internal circuit, only the part having good characteristics of the two step-down power supplies can be used, the influence of noise at high voltage is small, and the voltage at low voltage is small. It is possible to provide a semiconductor integrated circuit having no variation.

【0028】請求項2に記載された発明は、請求1項記
載の半導体集積回路において、前記外部電源電圧を所定
の電圧にクランプするクランプ手段を有し、スタンバイ
時には、クランプ手段により、所定の電圧にクランプさ
れた電圧を前記内部回路に供給することを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, there is provided a clamp means for clamping the external power supply voltage to a predetermined voltage, and at the standby time, the clamp means provides a predetermined voltage. The voltage clamped at is supplied to the internal circuit.

【0029】請求項2に記載された発明によれば、スタ
ンバイ時には、クランプ手段により、所定の電圧にクラ
ンプされた電圧を内部回路に供給することにより、スタ
ンバイ時の無駄な電力の消費を防止することができる。
According to the second aspect of the present invention, during standby, the clamp means supplies a voltage clamped to a predetermined voltage to the internal circuit, thereby preventing wasteful power consumption during standby. be able to.

【0030】請求項3に記載された発明は、請求項1又
は2記載の半導体集積回路において、前記第1の降圧電
源は、nMOSレギュレータ発生電源であり、前記第2
の降圧電源は、pMOSレギュレータ発生電源であるこ
とを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the first or second aspect, the first step-down power supply is an nMOS regulator generation power supply, and the second
The step-down power supply of is a pMOS regulator generation power supply.

【0031】請求項3に記載された発明によれば、第1
の降圧電源はnMOSレギュレータ発生電源であり、第
2の降圧電源は、pMOSレギュレータ発生電源とする
ことにより、高電圧におけるノイズの影響が小さく、低
電圧における電圧のバラツキが無い半導体集積回路を提
供することができる。
According to the invention described in claim 3, the first
The step-down power supply is an nMOS regulator generation power supply, and the second step-down power supply is a pMOS regulator generation power supply, thereby providing a semiconductor integrated circuit in which the influence of noise at high voltage is small and there is no voltage variation at low voltage. be able to.

【0032】請求項4に記載された発明は、請求項3記
載の半導体集積回路において、前記pMOSレギュレー
タ発生電源は、降圧電源電圧を発生する降圧電源電圧生
成回路と外部電源電圧を所定の電圧にクランプするクラ
ンプ手段とを有し、前記pMOSレギュレータ発生電源
は、アクティブ時には、前記降圧電源電圧生成回路で生
成した降圧電源電圧を出力し、アクティブでないとき
は、前記降圧電源電圧生成回路の動作を停止し、クラン
プ手段により所定の電圧にクランプされた外部電源電圧
を出力することを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the third aspect, the pMOS regulator generating power source sets a step-down power source voltage generating circuit for generating a step-down power source voltage and an external power source voltage to predetermined voltages. The pMOS regulator generating power supply outputs the step-down power supply voltage generated by the step-down power supply voltage generation circuit when active, and stops the operation of the step-down power supply voltage generation circuit when not active. However, the external power supply voltage clamped to a predetermined voltage by the clamp means is output.

【0033】請求項4に記載された発明によれば、pM
OSレギュレータ発生電源は、降圧電源電圧を発生する
降圧電源電圧生成回路と外部電源電圧を所定の電圧にク
ランプするクランプ手段とを有し、pMOSレギュレー
タ発生電源は、アクティブ時には、降圧電源電圧生成回
路で生成した降圧電源電圧を出力し、アクティブでない
ときは、降圧電源電圧生成回路の動作を停止し、クラン
プ手段により所定の電圧にクランプされた外部電源電圧
を出力することにより、pMOSレギュレータ発生電源
を特性の良いところで使用でき、pMOSレギュレータ
発生電源におけるスタンバイ時の消費電流の問題を無く
すことができる。
According to the invention described in claim 4, pM
The OS regulator generation power supply has a step-down power supply voltage generation circuit that generates a step-down power supply voltage and a clamp unit that clamps an external power supply voltage to a predetermined voltage. The pMOS regulator generation power supply is a step-down power supply voltage generation circuit when active. The generated step-down power supply voltage is output, and when it is not active, the operation of the step-down power supply voltage generation circuit is stopped, and the external power supply voltage clamped to a predetermined voltage by the clamp means is output, so that the pMOS regulator generated power supply is characterized. It can be used in a good condition, and the problem of current consumption during standby in the pMOS regulator generated power supply can be eliminated.

【0034】請求項5に記載された発明は、請求項1な
いし4いずれか一項記載の半導体集積回路において、前
記外部電源電圧の電圧を検出する電源電圧検出手段を有
し、該電源電圧検出手段の出力に基づいて、前記切り替
え手段は、前記第1の降圧電源と前記第2の降圧電源を
内部回路に供給するように切り替えることを特徴とす
る。
According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to any one of the first to fourth aspects, there is provided a power supply voltage detecting means for detecting a voltage of the external power supply voltage, and the power supply voltage detecting means. The switching means switches to supply the first step-down power supply and the second step-down power supply to an internal circuit based on the output of the means.

【0035】請求項5に記載された発明によれば、電源
電圧検出手段の出力に基づいて、前記切り替え手段は、
第1の降圧電源と第2の降圧電源を内部回路に供給する
ように切り替えることにより、接続された外部電源に基
づいて、自動的に、外部電源電圧に適した電源を選択す
ることができる。
According to the invention described in claim 5, based on the output of the power supply voltage detection means, the switching means is
By switching the first step-down power supply and the second step-down power supply to supply to the internal circuit, it is possible to automatically select the power supply suitable for the external power supply voltage based on the connected external power supply.

【0036】請求項6に記載された発明は、請求項5記
載の半導体集積回路において、前記電源電圧検出手段
は、前記外部電源電圧の電圧と所定の電圧とを比較する
比較手段と、該比較手段の出力がラッチされるラッチ回
路と、ラッチ回路の出力部と当該半導体集積回路の接地
電位間に接続されえたスイッチ回路とを有し、前記外部
電源電圧が所定の電圧を超えた場合は、前記ラッチ回路
の出力部から、検出信号を出力し、外部電源電圧が所定
の電圧以下の場合は、前記スイッチ回路がオンとなり、
当該電源電圧検出手段の出力として、前記ラッチ回路の
出力部から接地電位が出力されることを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the fifth aspect, the power supply voltage detecting means includes a comparing means for comparing a voltage of the external power supply voltage with a predetermined voltage, and the comparing means. A latch circuit for latching the output of the means, and a switch circuit that can be connected between the output part of the latch circuit and the ground potential of the semiconductor integrated circuit, and when the external power supply voltage exceeds a predetermined voltage, When a detection signal is output from the output section of the latch circuit and the external power supply voltage is equal to or lower than a predetermined voltage, the switch circuit is turned on,
As the output of the power supply voltage detecting means, a ground potential is output from the output section of the latch circuit.

【0037】請求項6に記載された発明によれば、電源
電圧検出手段がラッチ回路とその出力部にスイッチ回路
を設けることにより、nMOSレギュレータ発生電源及
びpMOSレギュレータ発生電源の両者に対して、使用
することができる。
According to the sixth aspect of the invention, the power supply voltage detecting means is provided for both the nMOS regulator generating power supply and the pMOS regulator generating power supply by providing the latch circuit and the switch circuit at the output portion thereof. can do.

【0038】請求項7に記載された発明は、請求項1な
いし4いずれか一項記載の半導体集積回路において、前
記切り替え手段の切り替えを制御する制御手段を有し、
該制御手段は、半導体集積回路におけるマスクの生成段
階で、制御内容が決定されることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the invention, in the semiconductor integrated circuit according to any one of the first to fourth aspects, there is provided control means for controlling switching of the switching means,
The control means is characterized in that the control content is determined at the mask generation stage in the semiconductor integrated circuit.

【0039】請求項7に記載された発明によれば、マス
クの生成段階で使用される電源電圧に適した電源のみを
使用するように設定することができる。その結果、実際
の使用時に、使用する外部電源に適した降圧電源を使用
することができる。また、実際の使用時において、外部
電源電圧の電圧の検出等を行うことがなく、誤検出等の
誤りを防止することができる。
According to the invention described in claim 7, it is possible to set only the power source suitable for the power source voltage used in the mask generation step. As a result, it is possible to use a step-down power supply suitable for the external power supply used during actual use. In addition, in actual use, the voltage of the external power supply voltage is not detected, and an error such as an erroneous detection can be prevented.

【0040】請求項8に記載された発明は、請求項1な
いし4いずれか一項記載の半導体集積回路において、前
記切り替え手段の切り替えを制御する制御手段を有し、
該制御手段は、フューズを有し、該フューズの溶解/非
溶解に基づいて、前記制御手段の制御内容が決定される
ことを特徴とする。
The invention described in claim 8 is the semiconductor integrated circuit according to any one of claims 1 to 4, further comprising control means for controlling switching of the switching means,
The control means has a fuse, and the control content of the control means is determined based on melting / non-melting of the fuse.

【0041】請求項8に記載された発明によれば、試験
段階で、実際に使用される電源電圧に適した電源のみを
使用するように設定することができる。その結果、実際
の使用時に、使用する外部電源に適した降圧電源を使用
することができる。また、実際の使用時において、外部
電源電圧の電圧の検出等を行うことがなく、誤検出等の
誤りを防止することができる。
According to the invention described in claim 8, in the test stage, it can be set so that only the power source suitable for the actually used power source voltage is used. As a result, it is possible to use a step-down power supply suitable for the external power supply used during actual use. In addition, in actual use, the voltage of the external power supply voltage is not detected, and an error such as an erroneous detection can be prevented.

【0042】請求項9に記載された発明は、外部電源電
圧を所定の内部電源電圧に降圧する二つの降圧電源と、
該二つの降圧電源の出力を切り替える切り替え手段とを
有する半導体集積回路における電源供給方法であって、
前記切り替え手段は、外部電源電圧が所定の電圧より高
い場合は、第1の降圧電源を内部回路に供給し、外部電
源電圧が所定の電圧より低い場合は、第2の降圧電源を
前記内部回路に供給するように切り替えることを特徴と
する。
According to a ninth aspect of the present invention, two step-down power sources for stepping down the external power source voltage to a predetermined internal power source voltage are provided.
A power supply method in a semiconductor integrated circuit, comprising a switching means for switching the outputs of the two step-down power supplies,
The switching means supplies the first step-down power supply to the internal circuit when the external power supply voltage is higher than a predetermined voltage, and supplies the second step-down power supply to the internal circuit when the external power supply voltage is lower than the predetermined voltage. It is characterized by switching to supply to.

【0043】請求項10に記載された発明は、請求項9
記載の電源供給方法において、スタンバイ時に、所定の
電圧にクランプされた外部電源電圧を前記内部回路に供
給することを特徴とする。
The invention described in claim 10 is claim 9
In the power supply method described above, the external power supply voltage clamped to a predetermined voltage is supplied to the internal circuit during standby.

【0044】請求項9又は10記載の発明は、請求項1
〜8記載の外部電源電圧を所定の内部電源電圧に降圧す
る降圧手段を有する半導体集積回路に適した電源供給方
法である。
The invention according to claim 9 or 10 is the same as claim 1.
8 is a power supply method suitable for a semiconductor integrated circuit having a step-down means for stepping down the external power supply voltage to a predetermined internal power supply voltage.

【0045】[0045]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面と共に説明する。図7は、本実施の形態のブロッ
ク例である。即ち、図7のブロックは、pMOSレギュ
レータ発生電源71、nMOSレギュレータ発生電源7
2、内部回路73、第1のトランスファーゲート74及
び第2のトランスファーゲート75から構成されてい
る。これらの回路が、半導体集積回路に一つ、又は、半
導体集積回路において安定な電源回路が必要な箇所に、
任意の数、設けてもよい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 7 is a block example of the present embodiment. That is, the block of FIG. 7 includes a pMOS regulator generation power source 71 and an nMOS regulator generation power source 7
2, an internal circuit 73, a first transfer gate 74, and a second transfer gate 75. These circuits are one in the semiconductor integrated circuit, or in a place where a stable power supply circuit is required in the semiconductor integrated circuit,
Any number may be provided.

【0046】nMOSレギュレータ発生電源72(第1
の降圧電源)と、pMOSレギュレータ発生電源(第2
の降圧電源)と、内部回路73の接続を、Vdet信号
が、第1のトランスファーゲート74及び第2のトラン
スファーゲート75を制御して行なっている。
NMOS regulator generated power source 72 (first
Step-down power supply) and pMOS regulator generation power supply (second
The Vdet signal controls the first transfer gate 74 and the second transfer gate 75 so as to connect the internal circuit 73 to the step-down power supply of FIG.

【0047】Vdet信号については、図9を用いて、
後述するが、外部電源電圧が、高い場合に、ハイレベル
の信号「H」となる信号である。従って、外部電源電圧
が、高い場合に、第2のトランスファーゲート75がオ
ンし、第1のトランスファーゲート74がオフされるの
で、内部回路73には、nMOSレギュレータ発生電源
72の電源が供給される。また、外部電源電圧が、低い
場合は、第2のトランスファーゲート75がオフし、第
1のトランスファーゲート74がオンされるので、内部
回路73には、pMOSレギュレータ発生電源71の電
源が供給される。
Regarding the Vdet signal, referring to FIG.
As will be described later, this is a signal that becomes a high level signal “H” when the external power supply voltage is high. Therefore, when the external power supply voltage is high, the second transfer gate 75 is turned on and the first transfer gate 74 is turned off, so that the power of the nMOS regulator generation power supply 72 is supplied to the internal circuit 73. . When the external power supply voltage is low, the second transfer gate 75 is turned off and the first transfer gate 74 is turned on. Therefore, the internal circuit 73 is supplied with the power of the pMOS regulator generation power supply 71. .

【0048】このように、外部電源電圧が所定の電圧よ
り高い場合は、nMOSレギュレータ発生電源72を内
部回路73に供給し、外部電源電圧が所定の電圧より低
い場合は、pMOSレギュレータ発生電源71を内部回
路73に供給するように切り替えることにより、高電圧
におけるノイズの影響が小さく、低電圧における電圧の
バラツキが無い電源回路を得ることができる。
As described above, when the external power supply voltage is higher than the predetermined voltage, the nMOS regulator generation power supply 72 is supplied to the internal circuit 73, and when the external power supply voltage is lower than the predetermined voltage, the pMOS regulator generation power supply 71 is supplied. By switching to supply to the internal circuit 73, it is possible to obtain a power supply circuit in which the influence of noise at high voltage is small and there is no voltage variation at low voltage.

【0049】図8に、図7で用いられるpMOSレギュ
レータ発生電源の例を説明する。なお、図7で用いられ
るnMOSレギュレータ発生電源は、図6のnMOSレ
ギュレータ発生電源を利用することができる。
An example of the pMOS regulator generation power source used in FIG. 7 will be described with reference to FIG. The nMOS regulator generation power supply used in FIG. 7 can use the nMOS regulator generation power supply of FIG.

【0050】図8のpMOSレギュレータ発生電源にお
けるpMOS41、pMOS42、pMOS43、nM
OS44、nMOS45及びnMOS46から構成され
ている回路は、図5(A)と同じである。図8のpMO
Sレギュレータ発生電源は、図5(A)の回路に、pM
OS81、nMOS82及びインバータ83が付加され
た回路である。
PMOS41, pMOS42, pMOS43, nM in the pMOS regulator generation power supply of FIG.
The circuit including the OS 44, the nMOS 45, and the nMOS 46 is the same as that in FIG. PMO of FIG.
The S regulator generated power source is the same as the circuit shown in FIG.
It is a circuit to which an OS 81, an nMOS 82, and an inverter 83 are added.

【0051】図におけるVref信号は、図5(A)と
同じく、例えば、図2の参照電圧発生器11が、降圧電
源12向けに生成した参照電圧である。また、図におけ
るActive信号は、例えば、図9に示すように、論
理回路3から、電源回路4、メモリコア1へ出力される
信号であり、外部からDRAMへのアクセス要求のあっ
たとき、DRAMのリフレッシュ要求時等に、論理回路
3が発生する信号である。
The Vref signal in the figure is a reference voltage generated for the step-down power supply 12 by the reference voltage generator 11 in FIG. 2, for example, as in FIG. 5A. Further, the Active signal in the figure is a signal output from the logic circuit 3 to the power supply circuit 4 and the memory core 1 as shown in FIG. 9, and when an access request to the DRAM is issued from the outside, the DRAM Is a signal generated by the logic circuit 3 when a refresh request is issued.

【0052】アクティブになると、アクティブ信号がハ
イレベルの信号「H」となり、pMOS81がオフとな
り、nMOS46がオンとなり、nMOS82がオフと
なる。その結果、pMOS41、pMOS42、pMO
S43、nMOS44、nMOS45及びnMOS46
から構成される図5と同等のpMOSレギュレータ発生
電源が、図5と同じように動作する。
When activated, the active signal becomes a high level signal "H", the pMOS 81 turns off, the nMOS 46 turns on, and the nMOS 82 turns off. As a result, pMOS41, pMOS42, pMO
S43, nMOS44, nMOS45 and nMOS46
The pMOS regulator generated power supply equivalent to that in FIG. 5 configured in the same manner operates as in FIG.

【0053】アクティブでなくなると、アクティブ信号
がローレベルの信号「L」となり、pMOS81がオン
状態となり、nMOS46がオフ状態となり、nMOS
82がオン状態となる。
When the signal becomes inactive, the active signal becomes the low level signal "L", the pMOS 81 is turned on, the nMOS 46 is turned off, and the nMOS 46 is turned off.
82 is turned on.

【0054】nMOS46がオフとなるので、差動増幅
器44、45のドレイン側が浮き、更に、pMOS81
がオンとなるので、nMOS44のソースに、カレント
ミラー回路41、42とは別に、外部電源Vccから電
流が流れ、差動増幅器44、45は差動増幅器としての
機能が停止される。
Since the nMOS 46 is turned off, the drain sides of the differential amplifiers 44 and 45 float, and the pMOS 81
Is turned on, a current flows from the external power supply Vcc to the source of the nMOS 44 in addition to the current mirror circuits 41 and 42, and the differential amplifiers 44 and 45 stop functioning as differential amplifiers.

【0055】また、nMOS82がオンとなるので、p
MOSレギュレータ発生電源の出力電圧Viiは、(V
cc-Vth)にクランプされる。
Since the nMOS 82 is turned on, p
The output voltage Vii of the MOS regulator generated power supply is (V
cc-Vth).

【0056】図8の回路によれば、活性状態のみpMO
Sレギュレータ発生電源を作動させることにより、消費
電力の問題を無くし、pMOSレギュレータ発生電源の
非活性時は、その出力を(Vcc-Vth)にクランプ
するので、非活性時における消費電力の問題を無くすこ
とができる。
According to the circuit shown in FIG. 8, only pMO is activated in the active state.
By operating the S regulator generation power supply, the problem of power consumption is eliminated, and when the pMOS regulator generation power supply is inactive, its output is clamped to (Vcc-Vth), so the problem of power consumption when inactive is eliminated. be able to.

【0057】図10を用いて、外部電源電圧が、所定の
電圧より高い場合に、ハイレベルの信号「H」を出力す
る電圧検出回路を説明する。
A voltage detection circuit for outputting a high level signal "H" when the external power supply voltage is higher than a predetermined voltage will be described with reference to FIG.

【0058】図10(A)の電圧検出回路は、抵抗素子
91(その抵抗値:R91)、抵抗素子92(その抵抗
値:R92)、抵抗素子93、N段のダイオード接続さ
れたnMOS94〜nMOS94、差動増幅器9
5、インバータ96、nMOS101、nMOS10
2、ラッチ回路103及びインバータ104から構成さ
れている。なお、ラッチ回路103は、pMOS97、
nMOS98、pMOS99及びnMOS103から構
成されている。
In the voltage detection circuit of FIG. 10A, a resistance element 91 (its resistance value: R91), a resistance element 92 (its resistance value: R92), a resistance element 93, and n-stage diode-connected nMOS94 1 ... nMOS94 N , differential amplifier 9
5, inverter 96, nMOS101, nMOS10
2, the latch circuit 103 and the inverter 104. The latch circuit 103 includes a pMOS 97,
It is composed of an nMOS 98, a pMOS 99 and an nMOS 103.

【0059】外部電源電圧Vccは、抵抗素子91及び
抵抗素子92により、その電圧が分割され、電圧Vc
c’(Vcc’=Vcc×R92/(R91+R9
2))が、差動増幅器95の反転入力端子に印加され
る。一方、差動増幅器95の非反転入力端子には、N段
のダイオード接続されたnMOS94〜nMOS94
により、N×Vthの電圧が印加されている。
External power supply voltage Vcc is divided by resistance element 91 and resistance element 92 to obtain voltage Vc.
c '(Vcc' = Vcc × R92 / (R91 + R9
2)) is applied to the inverting input terminal of the differential amplifier 95. On the other hand, the non-inverting input terminal of the differential amplifier 95 has n-stage diode-connected nMOS94 1 to nMOS94.
The N, the voltage of the N × Vth is applied.

【0060】 いま、Vcc’>=N×Vth ・・・・(1) となると、差動増幅器95からローレベルの「L」信号
が出力される。この「L」信号は、インバータ96で反
転され、ハイレベルの「H」信号がnMOS101のゲ
ート及びインバータ104に印加される。nMOS10
1のゲートに印加された「H」信号は、ラッチ回路10
3に「L」信号として印加され、ラッチ回路103か
ら、「H」信号が出力される。また、インバータ104
に印加された「H」信号は、インバータ104で反転さ
れて、nMOS102のゲートに、「L」信号が印加さ
れる。その結果、nMOS102は、オフとなる。これ
により、電圧検出回路から、「H」信号が出力される。
When Vcc ′> = N × Vth (1), the differential amplifier 95 outputs a low level “L” signal. This "L" signal is inverted by the inverter 96, and a high level "H" signal is applied to the gate of the nMOS 101 and the inverter 104. nMOS10
The "H" signal applied to the gate of 1 is applied to the latch circuit 10
3 is applied as an “L” signal, and the latch circuit 103 outputs an “H” signal. In addition, the inverter 104
The "H" signal applied to the inverter is inverted by the inverter 104, and the "L" signal is applied to the gate of the nMOS 102. As a result, the nMOS 102 is turned off. As a result, the voltage detection circuit outputs the "H" signal.

【0061】 一方、Vcc’<N×Vth ・・・・(2) となると、差動増幅器95からハイレベルの「H」信号
が出力される。この「H」信号は、インバータ96で反
転され、「L」信号がnMOS101のゲート及びイン
バータ104に印加される。nMOS101のゲートに
印加された「L」信号は、ラッチ回路103に「H」信
号として印加され、ラッチ回路103から、「L」信号
が出力される。
On the other hand, when Vcc ′ <N × Vth (2), the differential amplifier 95 outputs a high level “H” signal. The "H" signal is inverted by the inverter 96, and the "L" signal is applied to the gate of the nMOS 101 and the inverter 104. The “L” signal applied to the gate of the nMOS 101 is applied to the latch circuit 103 as an “H” signal, and the latch circuit 103 outputs the “L” signal.

【0062】また、インバータ104に印加された
「L」信号は、インバータ104で反転されて、nMO
S102のゲートに、「H」信号が印加される。その結
果、nMOS102は、オンとなり、Vdet信号とし
て、接地電位Vssの信号が出力される。
Further, the "L" signal applied to the inverter 104 is inverted by the inverter 104 and the nMO signal is output.
The "H" signal is applied to the gate of S102. As a result, the nMOS 102 is turned on, and the signal of the ground potential Vss is output as the Vdet signal.

【0063】差動増幅器95における比較信号として、
ダイオードのVthレベルを用いているので、この電圧
検出回路は、温度の影響を受けるが、ラッチ回路103
を設けて、更に、レベルシフトさせて、検出出力におけ
るレベル変動を抑えている。この電圧検出回路は、nM
OSレギュレータ発生電源及びpMOSレギュレータ発
生電源に対して使用できるので、使い易い回路である。
As a comparison signal in the differential amplifier 95,
Since the Vth level of the diode is used, this voltage detection circuit is affected by temperature, but the latch circuit 103
Is provided and the level is further shifted to suppress the level fluctuation in the detection output. This voltage detection circuit is
The circuit is easy to use because it can be used for the OS regulator generation power supply and the pMOS regulator generation power supply.

【0064】図10(B)は、Vdetの検出される電圧
範囲を示している。このように、Vccの不使用領域が
ある場合に、有効である。
FIG. 10B shows the voltage range in which Vdet is detected. Thus, it is effective when there is an unused area of Vcc.

【0065】図11を用いて、半導体集積回路における
マスクの生成段階で、Vdetの信号を決定することを
説明する。この場合は、半導体集積回路の作成段階で、
既に、この半導体集積回路が使用される外部電源電圧の
使用電圧が判明している場合である。半導体集積回路に
おけるマスクの生成段階でマスクを二通り用意して、使
用される外部電源電圧に対応した、Vdetの信号が得
られるようにする。
The determination of the Vdet signal at the mask generation stage in the semiconductor integrated circuit will be described with reference to FIG. In this case, at the stage of creating the semiconductor integrated circuit,
This is the case when the operating voltage of the external power supply voltage used for this semiconductor integrated circuit is already known. Two kinds of masks are prepared at the mask generation stage in the semiconductor integrated circuit so that a signal of Vdet corresponding to the external power supply voltage used can be obtained.

【0066】図11(A)は、外部電源電圧Vccと接
地電圧Vss間に設けた、二つのスイッチSW0、SW
1及びインバータ105から構成されている。半導体集
積回路におけるマスクの生成段階でマスクを二通り用意
し、図11(B)に示すように、外部電源電圧が低い場
合は、スイッチSW0をオンし、スイッチSW1をオフ
するようなマスクを選んでマスクを行う。一方、外部電
源電圧が高い場合は、スイッチSW0をオフし、スイッ
チSW1をオンするようなマスクを選んでマスクを行
う。
FIG. 11A shows two switches SW0 and SW provided between the external power supply voltage Vcc and the ground voltage Vss.
1 and an inverter 105. Two masks are prepared at the mask generation stage in the semiconductor integrated circuit. As shown in FIG. 11B, when the external power supply voltage is low, the switch SW0 is turned on and the switch SW1 is turned off. Mask with. On the other hand, when the external power supply voltage is high, masking is performed by selecting a mask that turns off the switch SW0 and turns on the switch SW1.

【0067】その結果、Vdet信号として、外部電源
電圧が低い場合は、ローレベルの信号「L」を、外部電
源電圧が高い場合は、ハイレベルの信号「H」を、得る
ことができる。
As a result, as the Vdet signal, a low level signal "L" can be obtained when the external power supply voltage is low, and a high level signal "H" can be obtained when the external power supply voltage is high.

【0068】なお、上記のように、使用される外部電源
電圧に対応した、Vdetの信号が得られるようにする
代わりに、半導体集積回路におけるマスクの生成段階で
マスクを二通り用意して、例えば、図7において、Vd
et信号により制御される第1のトランスファーゲート
74及び第2のトランスファーゲート75自体を制御
(変形)してもよい。つまり、外部電源電圧が低い場合
は、第1のトランスファーゲート74を導通又はショー
トさせ、第2のトランスファーゲート75をオフ又は切
断するようなマスクを選んでマスクを行う。一方、外部
電源電圧が高い場合は、第1のトランスファーゲート7
4をオフ又は切断させ、第2のトランスファーゲート7
5を導通又はショートするようなマスクを選んでマスク
を行う。
Instead of obtaining the Vdet signal corresponding to the external power supply voltage used as described above, two masks are prepared at the mask generation stage in the semiconductor integrated circuit, for example, , In FIG. 7, Vd
The first transfer gate 74 and the second transfer gate 75 themselves controlled by the et signal may be controlled (modified). That is, when the external power supply voltage is low, masking is performed by selecting a mask that turns on or off the first transfer gate 74 and turns off or disconnects the second transfer gate 75. On the other hand, when the external power supply voltage is high, the first transfer gate 7
4 is turned off or cut off, and the second transfer gate 7
Masking is performed by selecting a mask that connects or short-circuits 5.

【0069】図12を用いて、半導体集積回路におけ
る、例えば、試験段階で、Vdetの信号を決定するこ
とを説明する。この場合は、半導体集積回路の試験段階
で、既に、この半導体集積回路が使用される外部電源電
圧の使用電圧が判明している場合である。半導体集積回
路における試験段階で、フューズの溶解/非溶解を行な
い、使用される外部電源電圧に対応した、Vdetの信
号が得られるようにする。
The determination of the Vdet signal in the semiconductor integrated circuit, for example, at the test stage will be described with reference to FIG. In this case, the used voltage of the external power supply voltage for using the semiconductor integrated circuit is already known at the test stage of the semiconductor integrated circuit. In the test stage of the semiconductor integrated circuit, the fuse is melted / unmelted so that a signal of Vdet corresponding to the external power supply voltage used can be obtained.

【0070】図12の回路は、pMOS111、nMO
S112、pMOS113、pMOS114、nMOS
115、pMOS116、nMOS117及びフューズ
118から構成されている。なお、pMOS111、n
MOS112及びフューズ118は、フューズ状態を設
定する回路で、pMOS113、pMOS114、nM
OS115、pMOS116及びnMOS117は、ラ
ッチ回路を構成している。
The circuit of FIG. 12 has pMOS111, nMO.
S112, pMOS113, pMOS114, nMOS
115, pMOS 116, nMOS 117 and fuse 118. In addition, pMOS111, n
The MOS 112 and the fuse 118 are circuits for setting the fuse state, and include the pMOS 113, the pMOS 114, and the nM.
The OS 115, the pMOS 116, and the nMOS 117 form a latch circuit.

【0071】図12(B)に示すように、外部電源電圧
が低い場合は、フューズは非溶解とし、一方、外部電源
電圧が高い場合は、フューズを溶解する。その結果、V
det信号として、外部電源電圧が低い場合は、ローレ
ベルの信号「L」を、外部電源電圧が高い場合は、ハイ
レベルの信号「H」を、得ることができる。
As shown in FIG. 12B, when the external power supply voltage is low, the fuse is unmelted, while when the external power supply voltage is high, the fuse is melted. As a result, V
As the det signal, a low level signal "L" can be obtained when the external power supply voltage is low, and a high level signal "H" can be obtained when the external power supply voltage is high.

【0072】図12(A)の動作を説明する。先ず、フ
ューズが非溶解の場合について説明する。nMOS11
2及びpMOS113のゲートに、起動時に発生するs
ttz信号を制御回路から受ける。sttz信号は、起
動時に所定の期間、正の信号を出力する信号である。起
動時に、nMOS112のゲートに正の信号が印加され
るので、nMOS112は導通し、pMOS113は非
導通となる。その結果、ラッチ回路のP点は、接地電位
Vssとなり、ラッチ回路がリセットされる。次いで、
所定時間経過すると、sttz信号は、ローレベルの信
号となる。すると、pMOS111のゲート、nMOS
112のゲート及びpMOS113のゲートにローレベ
ルの信号が印加されるので、nMOS112は非導通と
なり、pMOS111及びpMOS113は導通する。
この状態では、ラッチ回路のP点には、外部電源電圧V
ccから、pMOS111を介して、電源が供給されハ
イレベル「H」となる。その結果、ラッチ回路の出力の
Q点には、常時、ローレベルの「L」信号が得られる。
The operation of FIG. 12A will be described. First, the case where the fuse is not melted will be described. nMOS11
2 and the gate of pMOS113, s generated at startup
The ttz signal is received from the control circuit. The sttz signal is a signal that outputs a positive signal for a predetermined period at startup. At startup, a positive signal is applied to the gate of the nMOS 112, so that the nMOS 112 becomes conductive and the pMOS 113 becomes non-conductive. As a result, the point P of the latch circuit becomes the ground potential Vss, and the latch circuit is reset. Then
After a lapse of a predetermined time, the sttz signal becomes a low level signal. Then, the gate of the pMOS111, the nMOS
Since a low-level signal is applied to the gate of 112 and the gate of pMOS 113, the nMOS 112 becomes non-conductive and the pMOS 111 and pMOS 113 become conductive.
In this state, the external power supply voltage V
Power is supplied from cc through the pMOS 111 and goes to a high level “H”. As a result, a low level “L” signal is always obtained at the point Q of the output of the latch circuit.

【0073】一方、フューズが溶解された場合について
説明する。同じように、起動時に、nMOS112のゲ
ートに正の信号が印加されるので、nMOS112は導
通し、ラッチ回路のP点は、接地電位Vssとなり、ラ
ッチ回路がリセットされる。次いで、所定時間経過して
sttz信号がローレベルの信号となり、nMOS11
2は非導通となり、pMOS111は、導通する。この
状態では、ラッチ回路のP点には、外部電源電圧Vcc
から、pMOS111を介して、電源の供給を受けよう
するが、フューズが溶解されており、P点はローレベル
状態を維持する。その結果、ラッチ回路の出力のP点に
は、常時、ハイレベルの「H」信号が得られる。
On the other hand, the case where the fuse is melted will be described. Similarly, at the time of startup, a positive signal is applied to the gate of the nMOS 112, so that the nMOS 112 becomes conductive, the point P of the latch circuit becomes the ground potential Vss, and the latch circuit is reset. Next, after a lapse of a predetermined time, the sttz signal becomes a low level signal, and the nMOS 11
2 becomes non-conductive, and the pMOS 111 becomes conductive. In this state, the external power supply voltage Vcc is applied to the point P of the latch circuit.
Therefore, the power is supplied from the pMOS 111, but the fuse is melted and the point P maintains the low level state. As a result, a high level "H" signal is always obtained at the point P of the output of the latch circuit.

【0074】図13及び図14を用いて、DRAMに適
用した具体例を説明する。図13は、図9のメモリコア
の一部を示す回路図である。センスアンプ回路は、セル
アレイAとセルアレイBの信号を増幅する。BT0、B
T1の線に印加された信号により、センスアンプ回路が
処理するセルアレイが選択される。メモリセルは、nM
OS121、キャパシタ122から構成されている。n
MOS121のゲートには、ワード線(WL)によっ
て、Vppが供給される。また、nMOS121のソー
スはビット線(BL)に接続され、nMOS121のド
レインにはキャパシタ122が接続されている。なお、
キャパシタ122の他端には、セルプレート電位が供給
されている。メモリセルの書き込み動作及び読み込み動
作が周知の方法で行われる。ここでは、供給される電源
を中心に説明する。
A specific example applied to a DRAM will be described with reference to FIGS. 13 and 14. FIG. 13 is a circuit diagram showing a part of the memory core of FIG. The sense amplifier circuit amplifies the signals of the cell array A and the cell array B. BT0, B
The cell array processed by the sense amplifier circuit is selected by the signal applied to the line T1. Memory cell is nM
It is composed of an OS 121 and a capacitor 122. n
The word line (WL) supplies Vpp to the gate of the MOS 121. The source of the nMOS 121 is connected to the bit line (BL), and the drain of the nMOS 121 is connected to the capacitor 122. In addition,
The cell plate potential is supplied to the other end of the capacitor 122. The write operation and the read operation of the memory cell are performed by a well-known method. Here, the description will focus on the power supplied.

【0075】PSA線及びNSA線には、pMOSレギ
ュレータ発生電源71又はnMOSレギュレータ発生電
源72で生成された内部電源電圧(Vii)、Vssが
供給されている。ビット線(BL、/BL)には、pM
OS111、pMOS112、nMOS113及びnM
OS114を介して、内部電源電圧(Vii)、Vss
が供給される。BRS線に印加された制御信号に基づい
て、所定のタイミングで、VPR線のプリチャージ電位
Vprが、ビット線(BL、/BL)に与えられる。
The PSA line and the NSA line are supplied with the internal power supply voltage (Vii) and Vss generated by the pMOS regulator generation power supply 71 or the nMOS regulator generation power supply 72. PM for the bit lines (BL, / BL)
OS111, pMOS112, nMOS113 and nM
Via the OS 114, the internal power supply voltage (Vii), Vss
Is supplied. Based on the control signal applied to the BRS line, the precharge potential Vpr of the VPR line is applied to the bit lines (BL, / BL) at a predetermined timing.

【0076】図14に基づいて、読み出し動作を簡単に
説明する。 センスアンプ非活性時に、ビット線をVprレベルに
制御するために、BRS線にBRS信号を供給する。 左右のセルアレイで共有されているセンスアンプ回路
のセルアレイ接続を、BT0、BT1の線に印加された
信号により選択する。 メモリセルのキャパシタ122のデータを読み出し要
求に基づいて、論理回路が要求信号を生成し、これによ
り、ワード線のWL信号が活性化されて、Vppレベル
となる。 nMOS121のゲートにVppが印加されると、キ
ャパシタ122の電荷(データ)が読み出される
(X)。 PSA線及びNSA線から供給されたVii及びVs
sの信号により、ビット線(BL、/BL)には、増幅
されたデータが得られる(Y)。 読み出されたデータが、DB線により出力される。
The read operation will be briefly described with reference to FIG. When the sense amplifier is inactive, the BRS signal is supplied to the BRS line in order to control the bit line to the Vpr level. The cell array connection of the sense amplifier circuit shared by the left and right cell arrays is selected by the signal applied to the lines BT0 and BT1. The logic circuit generates a request signal based on a read request for reading data from the capacitor 122 of the memory cell, whereby the WL signal of the word line is activated and becomes the Vpp level. When Vpp is applied to the gate of the nMOS 121, the charge (data) of the capacitor 122 is read (X). Vii and Vs supplied from PSA line and NSA line
Amplified data is obtained on the bit lines (BL, / BL) by the signal s (Y). The read data is output via the DB line.

【0077】[0077]

【発明の効果】上述の如く本発明によれば、高電圧にお
けるノイズの影響が小さく、低電圧における電圧のバラ
ツキが無く、さらに、スタンバイ時における消費電流が
小さい、半導体集積回路及び電源供給方法を提供するこ
とができる。
As described above, according to the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit and a power supply method in which the influence of noise at a high voltage is small, there is no voltage variation at a low voltage, and the current consumption in standby is small. Can be provided.

【0078】[0078]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の半導体集積回路を説明するための図であ
る。
FIG. 1 is a diagram for explaining a conventional semiconductor integrated circuit.

【図2】電源回路が供給する電源を説明するための図で
ある。
FIG. 2 is a diagram for explaining power supplied by a power supply circuit.

【図3】外部電源を投入時の降圧電源、昇圧電源、プリ
チャージ電源及び負電源から出力される電圧の関係を説
明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a relationship among voltages output from a step-down power source, a boost power source, a precharge power source, and a negative power source when an external power source is turned on.

【図4】参照電圧発生器における参照電圧の発生回路を
説明するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining a reference voltage generation circuit in the reference voltage generator.

【図5】pMOSレギュレータ発生電源の例を説明する
ための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining an example of a pMOS regulator generated power supply.

【図6】nMOSレギュレータ発生電源の例を説明する
ための図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining an example of an nMOS regulator generated power supply.

【図7】本実施の形態を説明するためのブロック構成図
の例である
FIG. 7 is an example of a block configuration diagram for explaining the present embodiment.

【図8】図7で用いられるpMOSレギュレータ発生電
源の例を説明するための図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining an example of a pMOS regulator generation power source used in FIG. 7.

【図9】アクティブ信号を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining an active signal.

【図10】電圧検出回路の例を説明するための図であ
る。
FIG. 10 is a diagram for explaining an example of a voltage detection circuit.

【図11】マスクにより所定Vdetの信号を得る回路
を説明するための図である。
FIG. 11 is a diagram for explaining a circuit for obtaining a signal of a predetermined Vdet by using a mask.

【図12】フューズの溶解/非溶解により所定のVde
tの信号を得る回路を説明するための図である。
[Fig. 12] Predetermined Vde depending on whether the fuse is melted or not melted
It is a figure for demonstrating the circuit which obtains the signal of t.

【図13】DRAMに適用した具体例を説明するための
図である。
FIG. 13 is a diagram for explaining a specific example applied to a DRAM.

【図14】読み出し動作を説明するための図である。FIG. 14 is a diagram for explaining a read operation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリコア 2 インタフェース回路 3 論理回路 4 電源回路 5 半導体集積回路(DRAM) 6 内部回路 11 参照電圧発生器 12 降圧電源 13 昇圧電源 14 プリチャージ電源 15 負電圧源 57 第1のドライバ 58 差動増幅器 61 第2のドライバ 62 Vthキャンセラ 71 pMOSレギュレータ発生電源 72 nMOSレギュレータ発生電源 73 内部回路 74、75 トランスファーゲート 103 ラッチ回路 1 memory core 2 Interface circuit 3 logic circuits 4 power supply circuit 5 Semiconductor integrated circuits (DRAM) 6 Internal circuit 11 Reference voltage generator 12 Step-down power supply 13 Step-up power supply 14 Precharge power supply 15 Negative voltage source 57 First Driver 58 Differential amplifier 61 Second driver 62 Vth canceller 71 pMOS regulator power supply 72 nMOS regulator power supply 73 Internal circuit 74,75 Transfer Gate 103 Latch circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H03K 19/00 H01L 21/82 S Fターム(参考) 5F038 AV06 AV12 AV13 AV15 BB01 BB08 DF05 DF08 EZ20 5F064 BB14 BB35 CC09 DD34 EE45 FF08 FF27 FF36 FF48 5H420 NB02 NB16 NC02 NC26 NE26 5J056 AA00 BB17 BB40 CC00 CC04 CC10 CC12 CC14 DD13 DD28 DD29 DD51 DD60 GG06 KK01 5M024 AA14 AA20 AA22 AA24 BB29 BB37 BB40 FF02 FF07 FF20 FF22 FF23 FF26 FF30 HH01 PP01 PP03 PP07 PP09 PP10─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H03K 19/00 H01L 21/82 SF term (reference) 5F038 AV06 AV12 AV13 AV15 BB01 BB08 DF05 DF08 EZ20 5F064 BB14 BB35 CC09 DD34 EE45 FF08 FF27 FF36 FF48 5H420 NB02 NB16 NC02 NC26 NE26 5J056 AA00 BB17 BB40 CC00 CC04 CC10 CC12 CC14 DD13 DD28 DD29 DD51 DD60 GG06 KK01 5M024 AA14 AFF22 FF30 FF29 FF30 FF29 FF29FF02 FF29FF02 FF29FF02 FF29FF02 FF29FF02 FF29FF02 FF29FF02 FF29FF02 FF29FF02 FF29FF02 FF29FF02 FF29FF02 FF29FF02FFFFFF20FFFFFF20FF

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外部電源電圧を所定の内部電源電圧に降
圧する降圧手段を有する半導体集積回路において、 第1の降圧電源と、第2の降圧電源と、前記第1の降圧
電源の出力及び前記第2の降圧電源の出力を切り替える
切り替え手段とを有し、 前記切り替え手段は、外部電源電圧が所定の電圧より高
い場合は、前記第1の降圧電源を内部回路に供給し、外
部電源電圧が所定の電圧より低い場合は、前記第2の降
圧電源を前記内部回路に供給するように切り替えること
を特徴とする半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit having a step-down means for stepping down an external power supply voltage to a predetermined internal power supply voltage, wherein a first step-down power supply, a second step-down power supply, an output of the first step-down power supply and the Switching means for switching the output of the second step-down power supply, the switching means supplies the first step-down power supply to the internal circuit when the external power supply voltage is higher than a predetermined voltage, and the external power supply voltage A semiconductor integrated circuit, wherein when the voltage is lower than a predetermined voltage, the second step-down power supply is switched to be supplied to the internal circuit.
【請求項2】 前記外部電源電圧を所定の電圧にクラン
プするクランプ手段を有し、 スタンバイ時には、クランプ手段により、所定の電圧に
クランプされた電圧を前記内部回路に供給することを特
徴とする請求1項記載の半導体集積回路。
2. A clamp means for clamping the external power supply voltage to a predetermined voltage, wherein the clamp means supplies the voltage clamped to the predetermined voltage to the internal circuit during standby. 2. The semiconductor integrated circuit according to item 1.
【請求項3】 前記第1の降圧電源は、nMOSレギュ
レータ発生電源であり、前記第2の降圧電源は、pMO
Sレギュレータ発生電源であることを特徴とする請求項
1又は2記載の半導体集積回路。
3. The first step-down power supply is an nMOS regulator generation power supply, and the second step-down power supply is pMO.
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is an S regulator generation power source.
【請求項4】 前記pMOSレギュレータ発生電源は、
降圧電源電圧を発生する降圧電源電圧生成回路と外部電
源電圧を所定の電圧にクランプするクランプ手段とを有
し、 前記pMOSレギュレータ発生電源は、アクティブ時に
は、前記降圧電源電圧生成回路で生成した降圧電源電圧
を出力し、アクティブでないときは、前記降圧電源電圧
生成回路の動作を停止し、クランプ手段により所定の電
圧にクランプされた外部電源電圧を出力することを特徴
とする請求項3記載の半導体集積回路。
4. The pMOS regulator generation power source,
A step-down power supply voltage generation circuit that generates a step-down power supply voltage and a clamp unit that clamps an external power supply voltage to a predetermined voltage, and the pMOS regulator generation power supply is a step-down power supply generated by the step-down power supply voltage generation circuit when active. 4. The semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein a voltage is output, and when it is not active, the operation of the step-down power supply voltage generation circuit is stopped and the external power supply voltage clamped to a predetermined voltage by the clamp means is output. circuit.
【請求項5】 前記外部電源電圧の電圧を検出する電源
電圧検出手段を有し、 該電源電圧検出手段の出力に基づいて、前記切り替え手
段は、前記第1の降圧電源と前記第2の降圧電源を内部
回路に供給するように切り替えることを特徴とする請求
項1ないし4いずれか一項記載の半導体集積回路。
5. A power supply voltage detecting means for detecting a voltage of the external power supply voltage, wherein the switching means is configured to control the first step-down power supply and the second step-down power supply based on an output of the power supply voltage detecting means. 5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the power supply is switched so as to be supplied to an internal circuit.
【請求項6】 前記電源電圧検出手段は、 前記外部電源電圧の電圧と所定の電圧とを比較する比較
手段と、該比較手段の出力がラッチされるラッチ回路
と、ラッチ回路の出力部と当該半導体集積回路の接地電
位間に接続されえたスイッチ回路とを有し、 前記外部電源電圧が所定の電圧を超えた場合は、前記ラ
ッチ回路の出力部から、検出信号を出力し、外部電源電
圧が所定の電圧以下の場合は、前記スイッチ回路がオン
となり、当該電源電圧検出手段の出力として、前記ラッ
チ回路の出力部から接地電位が出力されることを特徴と
する請求項5記載の半導体集積回路。
6. The power supply voltage detection means includes a comparison means for comparing the voltage of the external power supply voltage with a predetermined voltage, a latch circuit for latching an output of the comparison means, an output section of the latch circuit, and And a switch circuit that can be connected between the ground potential of the semiconductor integrated circuit, when the external power supply voltage exceeds a predetermined voltage, the detection signal is output from the output unit of the latch circuit, the external power supply voltage is 6. The semiconductor integrated circuit according to claim 5, wherein when the voltage is equal to or lower than a predetermined voltage, the switch circuit is turned on, and the ground potential is output from the output section of the latch circuit as an output of the power supply voltage detecting means. .
【請求項7】 前記切り替え手段の切り替えを制御する
制御手段を有し、 該制御手段は、半導体集積回路におけるマスクの生成段
階で、制御内容が決定されることを特徴とする請求項1
ないし4いずれか一項記載の半導体集積回路。
7. The control means for controlling the switching of the switching means, wherein the control means determines the control content at a mask generation stage in a semiconductor integrated circuit.
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 4.
【請求項8】 前記切り替え手段の切り替えを制御する
制御手段を有し、 該制御手段は、フューズを有し、 該フューズの溶解/非溶解に基づいて、前記制御手段の
制御内容が決定されることを特徴とする請求項1ないし
4いずれか一項記載の半導体集積回路。
8. A control unit for controlling switching of the switching unit, the control unit having a fuse, and the control content of the control unit is determined based on melting / non-melting of the fuse. 5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is a semiconductor integrated circuit.
【請求項9】 外部電源電圧を所定の内部電源電圧に降
圧する二つの降圧電源と、該二つの降圧電源の出力を切
り替える切り替え手段とを有する半導体集積回路におけ
る電源供給方法であって、 前記切り替え手段は、外部電源電圧が所定の電圧より高
い場合は、第1の降圧電源を内部回路に供給し、外部電
源電圧が所定の電圧より低い場合は、第2の降圧電源を
前記内部回路に供給するように切り替えることを特徴と
する電源供給方法。
9. A power supply method in a semiconductor integrated circuit, comprising: two step-down power supplies for stepping down an external power supply voltage to a predetermined internal power supply voltage; and switching means for switching outputs of the two step-down power supplies. The means supplies the first step-down power supply to the internal circuit when the external power supply voltage is higher than a predetermined voltage, and supplies the second step-down power supply to the internal circuit when the external power supply voltage is lower than the predetermined voltage. A power supply method characterized by switching to
【請求項10】 スタンバイ時に、所定の電圧にクラン
プされた外部電源電圧を前記内部回路に供給することを
特徴とする請求項9記載の電源供給方法。
10. The power supply method according to claim 9, wherein an external power supply voltage clamped to a predetermined voltage is supplied to the internal circuit during standby.
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