JP2003167339A - Radiation sensitive coloring composition - Google Patents

Radiation sensitive coloring composition

Info

Publication number
JP2003167339A
JP2003167339A JP2002221567A JP2002221567A JP2003167339A JP 2003167339 A JP2003167339 A JP 2003167339A JP 2002221567 A JP2002221567 A JP 2002221567A JP 2002221567 A JP2002221567 A JP 2002221567A JP 2003167339 A JP2003167339 A JP 2003167339A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
radiation
group
pigment
acid
coloring composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002221567A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4130102B2 (en
Inventor
Masayuki Dan
誠之 團
Tsutomu Okita
務 沖田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Electronic Materials Co Ltd
Original Assignee
Fujifilm Electronic Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Electronic Materials Co Ltd filed Critical Fujifilm Electronic Materials Co Ltd
Priority to JP2002221567A priority Critical patent/JP4130102B2/en
Priority to KR1020020048827A priority patent/KR100855600B1/en
Publication of JP2003167339A publication Critical patent/JP2003167339A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4130102B2 publication Critical patent/JP4130102B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0048Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation sensitive coloring composition that ensures satisfactory curing of exposed portions even at a high concentration of a pigment, has good developability, is excellent in solubility of a photopolymerization initiator, has high sensitivity and is excellent also in storage stability. <P>SOLUTION: In the radiation sensitive coloring composition having a radiation sensitive compound, a bonding resin, a colorant and a solvent, the radiation sensitive compound contains a photopolymerization initiator having a specified structure. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は感放射線性着色組成
物、詳しくは液晶表示素子や固体撮像素子に用いられる
カラーフィルターを作製するのに好適な感放射線性着色
組成物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a radiation-sensitive coloring composition, and more particularly to a radiation-sensitive coloring composition suitable for producing a color filter used in a liquid crystal display device or a solid-state image pickup device.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子や固体撮像素子に用いられ
るカラーフィルターを作製する方法としては、染色法、
印刷法、電着法および顔料分散法が知られている。
2. Description of the Related Art As a method for producing a color filter used in a liquid crystal display device or a solid-state image pickup device, a dyeing method,
Printing methods, electrodeposition methods and pigment dispersion methods are known.

【0003】これらの内、顔料分散法は、顔料粒子を感
放射線性化合物、結着樹脂を主体とする成分溶液中に分
散もしくは溶解させた感放射線性着色組成物を用いてフ
ォトリソグラフイー法によってカラーフィルターを作製
する方法である。この方法は、顔料を使用しているため
に比較的光や熱などに安定であると共にフォトリソ法に
よってパターニングするため、位置精度も十分で大画
面、高精細カラーディスプレイ用カラーフィルターの作
製に好適な方法である。
Among these, the pigment dispersion method is a photolithography method using a radiation-sensitive coloring composition in which pigment particles are dispersed or dissolved in a component solution mainly composed of a radiation-sensitive compound and a binder resin. This is a method of producing a color filter. Since this method is relatively stable to light and heat due to the use of pigments and is patterned by the photolithography method, it has sufficient positional accuracy and is suitable for the production of color filters for large screens and high-definition color displays. Is the way.

【0004】一方、レジスト用の感放射線性組成物の感
放射線性成分としての光重合開始剤として、各種のもの
が提案されている。これらの中で、カラーフィルター作
成用の感放射線性着色組成物に汎用されている光重合開
始剤としては、(4−モルフォリノフェニル)ベンジル
ブタノン(特開平4−340965号公報参照)、2−
(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−S−トリアジン(特開平6−201913号
公報参照)、ジエチルチオキサントン(特開平6−51
499号公報参照)、イルガキュア−369、−65
1、−907(以上商品名、Ciba−Geigy社
製)等のベンゾイル化合物等を挙げることができる。
On the other hand, various photopolymerization initiators have been proposed as the radiation-sensitive component of the radiation-sensitive composition for resists. Among these, photopolymerization initiators that are widely used in radiation-sensitive coloring compositions for producing color filters include (4-morpholinophenyl) benzylbutanone (see JP-A-4-340965), 2-
(P-Methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine (see JP-A-6-201913), diethylthioxanthone (JP-A-6-51).
499), Irgacure-369, -65
Examples thereof include benzoyl compounds such as 1, and -907 (trade names, manufactured by Ciba-Geigy).

【0005】特に、トリアジン系化合物を光重合開始剤
とする感光性組成物についてはこれまで多数知られてお
り、例えば、特開平9−203806号公報、同11−
38613号公報、同11−109614号公報、同1
1−258790号公報、同11−326624号公
報、特開2000−47022号公報等が挙げられ、こ
れらのうち、特開平11−38613号公報には特定の
構造を有するs−トリアジン系の光重合開始剤を含有す
る感放射線性着色組成物が開示されている。
In particular, many photosensitive compositions containing a triazine compound as a photopolymerization initiator have been known so far, for example, JP-A-9-203806 and 11-.
No. 38613, No. 11-109614, No. 1
Nos. 1-258790, 11-326624, and 2000-47022 are mentioned. Among them, JP-A-11-38613 discloses s-triazine-based photopolymerization having a specific structure. Radiation-sensitive coloring compositions containing an initiator are disclosed.

【0006】近年高い色純度を確保するため、顔料濃度
の高いカラーフィルターの開発が望まれており、従って
顔料濃度が高くなっても十分に硬化したレジストを与え
る感放射線性着色組成物の出現が望まれている。また、
光重合開始剤として溶解性に優れ、高感度で保存安定性
にも優れた感放射線性着色組成物が求められている。し
かしながら、カラーフィルター作成用に汎用されている
上記光重合開始剤では上記要望に十分に対応できず、ど
のような光重合開始剤を用いたらよいかよく分からなか
ったのが現状であった。
In order to secure high color purity in recent years, it has been desired to develop a color filter having a high pigment concentration, and therefore, a radiation-sensitive coloring composition which gives a sufficiently cured resist even when the pigment concentration is high has been developed. Is desired. Also,
There is a demand for a radiation-sensitive coloring composition having excellent solubility as a photopolymerization initiator, high sensitivity, and excellent storage stability. However, under the present circumstances, the photopolymerization initiators that are generally used for producing color filters cannot sufficiently meet the above demands and it is not clear what kind of photopolymerization initiator should be used.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、カラ
ーフィルターの製造に好適に用いられる感放射線性着色
組成物を提供することにある。詳しくは、本発明の目的
は、高顔料濃度でも露光部分が十分に硬化し、且つ現像
性が良好な感放射線性着色組成物を提供することにあ
る。本発明の他の目的は、光重合開始剤として溶解性に
優れ、高感度で保存安定性にも優れた感放射線性着色組
成物を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a radiation-sensitive coloring composition that is suitable for use in manufacturing color filters. More specifically, the object of the present invention is to provide a radiation-sensitive coloring composition in which the exposed portion is sufficiently cured even at a high pigment concentration and which has good developability. Another object of the present invention is to provide a radiation-sensitive coloring composition having excellent solubility as a photopolymerization initiator, high sensitivity, and excellent storage stability.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく研究を行い、感放射線性着色組成物、特に
顔料分散法によるカラーフィルターの製造用の感放射線
性着色組成物の光重合開始剤として鋭意検討した結果、
特定の構造を有する光重合開始剤としては新規なハロゲ
ン化トリアジン化合物が前記本発明の目的を効果的に達
成できることが分かった。即ち、本発明によれば、下記
構成により本発明の上記目的が達成されることが見いだ
された。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors of the present invention have conducted research to achieve the above-mentioned object, and have studied a radiation-sensitive coloring composition, particularly a radiation-sensitive coloring composition for producing a color filter by a pigment dispersion method. As a result of extensive studies as a photopolymerization initiator,
It was found that a novel halogenated triazine compound as a photopolymerization initiator having a specific structure can effectively achieve the object of the present invention. That is, according to the present invention, it was found that the above object of the present invention can be achieved by the following constitution.

【0009】(1)感放射線性化合物、結着樹脂、着色
剤、および溶剤を含有する感放射線性着色組成物におい
て、該感放射線性化合物が、下記式(I)及び(II)
で表される化合物からなる群から選択される少なくとも
一種の光重合開始剤を含むことを特徴とする感放射線性
着色組成物。
(1) In a radiation-sensitive coloring composition containing a radiation-sensitive compound, a binder resin, a colorant, and a solvent, the radiation-sensitive compound is represented by the following formulas (I) and (II).
A radiation-sensitive coloring composition comprising at least one photopolymerization initiator selected from the group consisting of compounds represented by:

【0010】[0010]

【化2】 [Chemical 2]

【0011】〔式中、R1は水素原子又は炭素数1〜4
のアルキル基を表し、XはF、Cl、Br又はIを表
し、nは1〜5の整数を表し、mは2又は3を表す。〕 (2)前記着色剤が顔料であって、その平均粒子径が
0.01μm〜0.1μmであり、且つ前記感放射線性
着色組成物中の前記着色剤濃度が固形分換算で30質量
%以上である上記(1)に記載の感放射線性着色組成
物。 (3)結着樹脂がカルボキシル基を有し、且つ30〜2
00の酸価を有する上記(1)または(2)に記載の感
放射線性着色組成物。
[Wherein R 1 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 4]
Represents an alkyl group, X represents F, Cl, Br or I, n represents an integer of 1 to 5, and m represents 2 or 3. (2) The colorant is a pigment, the average particle size of which is 0.01 μm to 0.1 μm, and the concentration of the colorant in the radiation-sensitive coloring composition is 30% by mass in terms of solid content. The radiation-sensitive coloring composition according to (1) above, which is as described above. (3) The binder resin has a carboxyl group and is 30 to 2
The radiation-sensitive coloring composition according to the above (1) or (2), which has an acid value of 00.

【0012】上記(I)〜(II)で表される特定の構
造を有するハロゲン化トリアジン系の光重合開始剤は、
これまで感放射線性着色組成物、特に顔料分散法による
カラーフィルター製造用の感放射線性着色組成物に使用
されたことはなく、該光重合開始剤を使用することによ
り、本発明の上記目的、例えば高顔料濃度でも本発明の
感放射線性着色組成物が、露光により十分に硬化し、且
つ現像性が十分であると共に、光重合開始剤として溶解
性に優れている。また、塗膜内により高濃度で均一に分
布できるので感度が高くなり、更に5〜10℃のような
低温下で保存しても結晶が析出することなく、保存安定
性(ポットライフ)にも優れる。また、ブラックマトリ
ックスにあっては照射される放射線を吸収しやすいカー
ボンブラックなどの黒色の着色剤を使用するので、従来
の光重合開始剤では多量に組成物中に添加する必要があ
った。本発明の特定構造の前記ハロゲン化トリアジン化
合物を使用すれば従来よりは使用量が少なくても充分な
感度が得られるし、また、さらなる高感度化が可能とな
る。さらに、本発明の前記ハロゲン化トリアジン化合物
は、感放射線性着色組成物の光重合開始剤として使用し
た場合、その極大吸収が従来公知の光重合開始剤よりも
短波長側にあるので、カラーフィルター業界で一般に使
用されている露光光源である高圧水銀灯の最も短波の輝
線(j線)でも活性化され得るので、近紫外領域(g
線、h線、i線)の輝線を強く遮蔽するカーボンブラッ
クのような顔料が着色剤として使用された組成物であっ
ても高感度を維持することができる。
The halogenated triazine-based photopolymerization initiator having the specific structure represented by the above (I) to (II) is
The radiation-sensitive coloring composition, particularly the radiation-sensitive coloring composition for producing a color filter by a pigment dispersion method has not been used so far, and by using the photopolymerization initiator, the above-mentioned object of the present invention, For example, even at a high pigment concentration, the radiation-sensitive coloring composition of the present invention is sufficiently cured by exposure, has sufficient developability, and has excellent solubility as a photopolymerization initiator. Further, since it can be evenly distributed at a higher concentration in the coating film, the sensitivity becomes higher, and even when stored at a low temperature such as 5 to 10 ° C., crystals do not precipitate and the storage stability (pot life) is also improved. Excel. Further, since a black colorant such as carbon black which easily absorbs the irradiated radiation is used in the black matrix, it has been necessary to add a large amount of the conventional photopolymerization initiator to the composition. When the halogenated triazine compound having the specific structure of the present invention is used, sufficient sensitivity can be obtained even when the amount used is smaller than before, and further higher sensitivity can be achieved. Further, the halogenated triazine compound of the present invention, when used as a photopolymerization initiator of the radiation-sensitive coloring composition, its maximum absorption is on the shorter wavelength side than conventionally known photopolymerization initiators, so that it is a color filter. Since it can be activated by the shortest-wavelength emission line (j-line) of a high-pressure mercury lamp, which is an exposure light source generally used in the industry, the near-ultraviolet region (g
High sensitivity can be maintained even with a composition in which a pigment such as carbon black that strongly shields the bright lines of the lines (h-line, i-line) is used as a colorant.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の感放射線性着色組成物は、感放射線性化
合物、結着樹脂、顔料、および溶剤から構成される。そ
して該感放射線性化合物は、光重合開始剤と感放射線性
重合成分を含む。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below. The radiation-sensitive coloring composition of the present invention comprises a radiation-sensitive compound, a binder resin, a pigment, and a solvent. The radiation-sensitive compound contains a photopolymerization initiator and a radiation-sensitive polymerization component.

【0014】1.光重合開始剤 まず、感放射線性成分である光重合開始剤について説明
する。本発明では、光重合開始剤として上記式(I)及
び(II)で表される化合物のうち少なくとも一種を用
いる。一般式(I)及び(II)において、R1が表す
炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル
基、n−またはi−プロピル基、n−、i−またはt−
ブチル基等を挙げることができる。R1 としては、水素
原子及びメチル基が好ましい。XはF、Cl、Br又は
Iを表す。nは1〜5の整数を表し、好ましくは1又は
2である。mは2又は3を表す。上記式(I)及び(I
I)の中でも、特に式(I)で表される化合物が好まし
く、その中でもXがCl、R1がHであるハロゲン化ト
リアジン化合物が本発明の目的を達成する上で特に好ま
しい。
1. Photopolymerization Initiator First, the photopolymerization initiator which is a radiation-sensitive component will be described. In the present invention, at least one of the compounds represented by the above formulas (I) and (II) is used as the photopolymerization initiator. In the general formulas (I) and (II), the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 1 is methyl group, ethyl group, n- or i-propyl group, n-, i- or t-.
A butyl group etc. can be mentioned. R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. X represents F, Cl, Br or I. n represents an integer of 1 to 5, preferably 1 or 2. m represents 2 or 3. The above formulas (I) and (I
Among I), the compound represented by the formula (I) is particularly preferable, and among them, a halogenated triazine compound in which X is Cl and R 1 is H is particularly preferable for achieving the object of the present invention.

【0015】本発明において、上記の光重合開始剤の好
ましい具体例として下記(1)〜(3)で示されるもの
を挙げることができる。
In the present invention, preferred examples of the above photopolymerization initiator include those shown by the following (1) to (3).

【0016】[0016]

【化3】 [Chemical 3]

【0017】上記化合物は、一種単独であるいは二種以
上組み合わせて使用することができる。なお、上記式
(I)及び(II)で表される化合物は、それ自体知ら
れている化合物であるが、感放射線性着色組成物、特に
顔料分散法によるカラーフィルター作成用の感放射線性
着色組成物に使用された例は、今までにない。
The above compounds can be used alone or in combination of two or more. The compounds represented by the above formulas (I) and (II) are known per se, but the radiation-sensitive coloring composition, particularly the radiation-sensitive coloring for producing a color filter by a pigment dispersion method. No example has ever been used in a composition.

【0018】本発明では、光重合開始剤として、上記式
(I)〜(II)で表される化合物のうち少なくとも一
種を用いることを必須とするが、更に上記以外の光重合
開始剤(以下「その他の光重合開始剤」という)を併用
することができる。併用してもよいその他の光重合開始
剤としては下記のものを挙げることができる。 (イ)ハロメチルオキサジアゾール化合物、ハロメチル
−s−トリアジン化合物から選択された少なくとも一つ
の活性ハロゲン化合物(但し、上記式(I)〜(II)
で示される化合物を除く)、および3−アリール置換ク
マリン化合物。 (ロ)少なくとも一種のロフィン2量体。
In the present invention, it is essential to use at least one of the compounds represented by the above formulas (I) to (II) as a photopolymerization initiator. “Other photopolymerization initiator”) can be used together. The following may be mentioned as other photopolymerization initiators that may be used in combination. (A) at least one active halogen compound selected from halomethyloxadiazole compounds and halomethyl-s-triazine compounds (provided that the above formulas (I) to (II)
And a 3-aryl-substituted coumarin compound. (B) At least one loffin dimer.

【0019】本発明の光重合開始剤と併用することがで
きるハロメチル−s−トリアジン系化合物としては、特
公昭59−1281号公報に記載の下記一般式(VIII)
に示されるビニル−ハロメチル−s−トリアジン化合
物、特開昭53−133428号公報に記載の下記一般
式(IX)に示される2−(ナフト−1−イル)−4,6−
ビス−ハロメチル−s−トリアジン化合物および下記一
般式(X)で示される4−(p−アミノフェニル)−2,
6−ジ−ハロメチル−s−トリアジン化合物が挙げられ
る。
As the halomethyl-s-triazine compound which can be used in combination with the photopolymerization initiator of the present invention, the following general formula (VIII) described in JP-B-59-1281 is used.
A vinyl-halomethyl-s-triazine compound represented by the formula: 2- (naphth-1-yl) -4,6- represented by the following general formula (IX) described in JP-A-53-133428.
A bis-halomethyl-s-triazine compound and 4- (p-aminophenyl) -2 represented by the following general formula (X),
6-di-halomethyl-s-triazine compounds can be mentioned.

【0020】[0020]

【化4】 [Chemical 4]

【0021】式(VIII)中、QはBr又はClを表し、Y
は−C(Q)3、−NH2、−NHR、−N(R)2又は
−OR(ここで、Rはフェニルまたはアルキル基であ
り、Qは上記と同義である。)、Wは任意に置換された
芳香族、複素環式核または下記一般式(VIIIA)で示され
るものである。
In the formula (VIII), Q represents Br or Cl, and Y
Is -C (Q) 3, -NH 2 , -NHR, -N (R) 2 , or -OR (wherein, R is phenyl or an alkyl group, Q is as defined above.), W is optionally An aromatic or heterocyclic nucleus substituted by or a compound represented by the following general formula (VIIIA).

【0022】[0022]

【化5】 [Chemical 5]

【0023】式(VIIIA)中、Zは−O−または−S−で
あり、Rは上記と同義である。
In formula (VIIIA), Z is --O-- or --S-- and R has the same meaning as above.

【0024】式(IX)中、Xは−Br又は−Clを表し、
m,nは0〜3の整数で、R'は下記一般式(IXA)で示さ
れる。
In the formula (IX), X represents --Br or --Cl,
m and n are integers of 0 to 3, and R'is represented by the following general formula (IXA).

【0025】[0025]

【化6】 [Chemical 6]

【0026】式(IXA)中、R1はHまたはORc (Rc は
アルキル、シクロアルキル、アルケニル、またはアリー
ル基を示す。)、R2 は−Cl,−Brまたはアルキ
ル、アルケニル、アリール、アルコキシ基を表す。
In the formula (IXA), R 1 is H or OR c (R c represents an alkyl, cycloalkyl, alkenyl or aryl group) and R 2 is —Cl, —Br or alkyl, alkenyl, aryl or alkoxy. Represents a group.

【0027】式(X)中、R1、R2は−H、アルキル基、
置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、または
下記一般式(XA)、(XB)で示される。R3、R4は−H、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基を表す。Xは−
Cl又は−Brを示し、m、nは0、1または2を表
す。
In the formula (X), R 1 and R 2 are --H, an alkyl group,
It is represented by a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or the following general formulas (XA) and (XB). R 3, R 4 represents -H, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group. X is-
Cl or -Br is shown, and m and n represent 0, 1 or 2.

【0028】[0028]

【化7】 [Chemical 7]

【0029】上記一般式(XA)、(XB)中、R5、R6、R7
はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリ
ール基を表す。置換アルキル基および置換アリール基に
おける置換基の例としては、フェニル基等のアリール
基、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボアルコキシ
基、カルボアリールオキシ基、アシル基、ニトロ基、ジ
アルキルアミノ基、スルホニル誘導体等が挙げられる。
In the above general formulas (XA) and (XB), R 5 , R 6 and R 7
Represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group. Examples of the substituent in the substituted alkyl group and the substituted aryl group include an aryl group such as a phenyl group, a halogen atom, an alkoxy group, a carboalkoxy group, a carboaryloxy group, an acyl group, a nitro group, a dialkylamino group and a sulfonyl derivative. Is mentioned.

【0030】式(X)において、R1とR2がそれと結合せ
る窒素原子と共に非金属原子からなる異節環を形成して
もよく、その場合、異節環としては下記に示されるもの
が挙げられる。
In the formula (X), R 1 and R 2 may form a heterocyclic ring composed of a non-metal atom together with the nitrogen atom to which it is bonded, and in this case, the heterocyclic ring is as shown below. Can be mentioned.

【0031】[0031]

【化8】 [Chemical 8]

【0032】一般式(VIII)の具体的な例としては、2,
4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチ
リル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチ
ル)−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル−1,3
−ブタジエニル)−s−トリアジン、2−トリクロロメ
チル−4−アミノ−6−p−メトキシスチリル−s−ト
リアジン等が挙げられる。
Specific examples of general formula (VIII) include:
4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (1-p-dimethylaminophenyl-1,3
-Butadienyl) -s-triazine, 2-trichloromethyl-4-amino-6-p-methoxystyryl-s-triazine and the like.

【0033】一般式(IX)の具体的な例としては、2−
(ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチ
ル−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1
−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリ
アジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−
4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2
−(4−ブトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス
−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−(2
−メトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビ
ス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−
(2−エトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6
−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4
−(2−ブトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,
6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−
(2−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−
トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−メトキ
シ−5−メチル−ナフト−2−イル)−4,6−ビス−
トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−メトキ
シ−ナフト−2−イル)−4,6−ビス−トリクロロメ
チル−s−トリアジン、2−(5−メトキシ−ナフト−
1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−ト
リアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジ
ン、2−(6−エトキシ−ナフト−2−イル)−4,6
−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−
(4,5−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−
ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン等が挙げられ
る。
Specific examples of the general formula (IX) include 2-
(Naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-methoxy-naphth-1)
-Yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-ethoxy-naphth-1-yl)-
4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2
-(4-butoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4- (2
-Methoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4-
(2-Ethoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6
-Bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4
-(2-butoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,
6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2-
(2-Methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-
Trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-methoxy-5-methyl-naphth-2-yl) -4,6-bis-
Trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-methoxy-naphth-2-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (5-methoxy-naphtho-
1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- ( 6-ethoxy-naphth-2-yl) -4,6
-Bis-trichloromethyl-s-triazine, 2-
(4,5-Dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-
Examples thereof include bis-trichloromethyl-s-triazine.

【0034】一般式(X)の具体例としては、4−〔p−
N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニ
ル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、4−〔o−メチル−p−N,N−ジ(エトキシカル
ボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N,N−ジ
(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−メチル−
p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−
2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4
−(p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−
ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−
N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,
6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−
〔p−N,N−ジ(フェニル)アミノフェニル〕−2,
6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−
(p−N−クロロエチルカルボニルアミノフェニル)−
2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4
−〔p−N−(p−メトキシフェニル)カルボニルアミ
ノフェニル〕2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、4−〔m−N,N−ジ(エトキシカルボニル
メチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、4−〔m−ブロモ−p−N,
N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕
−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
4−〔m−クロロ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニ
ルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、4−〔m−フロロ−p−
N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニ
ル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、4−〔o−ブロモ−p−N,N−ジ(エトキシカル
ボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−クロロ−p
−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェ
ニル−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、4−〔o−フロロ−p−N,N−ジ(エトキシカル
ボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−ブロモ−p
−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,
6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−
〔o−クロロ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノ
フェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、4−〔o−フロロ−p−N,N−ジ(クロロ
エチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、4−〔m−ブロモ−p−N,
N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−ク
ロロ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニ
ル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、4−〔m−フロロ−p−N,N−ジ(クロロエチ
ル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、4−(m−ブロモ−p−N−エ
トキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−ク
ロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニ
ル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、4−(m−フロロ−p−N−エトキシカルボニルメ
チルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ−p−N−エ
トキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ク
ロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニ
ル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、4−(o−フロロ−p−N−エトキシカルボニルメ
チルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、4−(m−ブロモ−p−N−ク
ロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、4−(m−クロロ−p−N
−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−フロロ−p
−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ
−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ク
ロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6
−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o
−フロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−
2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、等
が挙げられる。
Specific examples of the general formula (X) include 4- [p-
N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-methyl-p-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o -Methyl-
p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl]-
2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4
-(P-N-chloroethylaminophenyl) -2,6-
Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (p-
N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,
6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4-
[P-N, N-di (phenyl) aminophenyl] -2,
6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4-
(P-N-chloroethylcarbonylaminophenyl)-
2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4
-[P-N- (p-methoxyphenyl) carbonylaminophenyl] 2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2 , 6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-bromo-pN,
N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl]
-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine,
4- [m-chloro-p-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-fluoro-p-
N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-bromo-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-chloro-p
-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro-p-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-bromo-p
-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,
6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4-
[O-chloro-p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro-p-N, N-di (chloroethyl) Aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-bromo-pN,
N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-chloro-p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (Trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-fluoro-p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-bromo -P-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-chloro-p-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di ( Trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-fluoro-p-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4 (O-Bromo-p-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-chloro-p-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2, 6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-fluoro-p-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-bromo -P-N-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-chloro-p-N
-Chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-fluoro-p
-N-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-p-N-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl)- s-triazine, 4- (o-chloro-p-N-chloroethylaminophenyl) -2,6
-Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o
-Fluoro-p-N-chloroethylaminophenyl)-
2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine and the like can be mentioned.

【0035】これら開始剤には以下の増感剤を併用する
ことができる。その具体例として、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾイン、9−フルオレノン、
2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−9−フル
オレノン、9−アントロン、2−ブロモ−9−アントロ
ン、2−エチル−9−アントロン、9,10−アントラ
キノン、2−エチル−9,10−アントラキノン、2−
t−ブチル−9,10−アントラキノン、2,6−ジク
ロロ−9,10−アントラキノン、キサントン、2−メ
チルキサントン、2−メトキシキサントン、2−メトキ
シキサントン、チオキサントン、ベンジル、ジベンザル
アセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルスチリルケ
トン、p−(ジメチルアミノ)フェニル−p−メチルス
チリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノン(またはミヒラーケトン)、p−
(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾアントロン
等や特公昭51−48516号公報記載のベンゾチアゾ
ール系化合物が挙げられる。
The following sensitizers can be used in combination with these initiators. Specific examples thereof include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin, 9-fluorenone,
2-chloro-9-fluorenone, 2-methyl-9-fluorenone, 9-anthrone, 2-bromo-9-anthrone, 2-ethyl-9-anthrone, 9,10-anthraquinone, 2-ethyl-9,10-. Anthraquinone, 2-
t-Butyl-9,10-anthraquinone, 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone, xanthone, 2-methylxanthone, 2-methoxyxanthone, 2-methoxyxanthone, thioxanthone, benzyl, dibenzalacetone, p- (Dimethylamino) phenyl styryl ketone, p- (dimethylamino) phenyl-p-methylstyryl ketone, benzophenone, p- (dimethylamino) benzophenone (or Michler's ketone), p-
(Diethylamino) benzophenone, benzoanthrone and the like and benzothiazole compounds described in JP-B-51-48516.

【0036】本発明の光重合開始剤と併用できる3−ア
リール置換クマリン化合物は、下記一般式(XI)で示され
る化合物を指す。
The 3-aryl-substituted coumarin compound that can be used in combination with the photopolymerization initiator of the present invention is a compound represented by the following general formula (XI).

【0037】[0037]

【化9】 [Chemical 9]

【0038】一般式(XI)中、R8は水素原子、炭素数1
〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基(好ま
しくは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基)を、R9は水素原子、炭素数1〜8のアルキル
基、炭素数6〜10のアリール基、下記一般式(XIA)で
示される基(好ましくはメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、一般式(XIA)で示される基、特に好まし
くは一般式(XIA)で示される基)を表す。
In the general formula (XI), R 8 is a hydrogen atom and has 1 carbon atom.
~ 8 alkyl group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms (preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group), R 9 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, carbon Formula 6-10 aryl group, group represented by the following general formula (XIA) (preferably methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, group represented by general formula (XIA), particularly preferably general formula (XIA) ) Represents a group).

【0039】[0039]

【化10】 [Chemical 10]

【0040】R10、R11はそれぞれ水素原子、炭素数1
〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、オクチル基)、炭素数1〜8のハロア
ルキル基(例えばクロロメチル基、フロロメチル基、ト
リフロロメチル基など)、炭素数1〜8のアルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基)、置換
されてもよい炭素数6〜10のアリール基(例えばフェ
ニル基)、アミノ基、−N(R16)(R17)、ハロゲン
(例えば−Cl、−Br,−F)を表す。好ましくは水
素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、フェニル
基、−N(R16)(R17)、−Clである。R12は置換さ
れてもよい炭素数6〜16のアリール基(例えばフェニ
ル基、ナフチル基、トリル基、クミル基)を表す。置換
基としてはアミノ基、−N(R16)(R17)、炭素数1〜
8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、オクチル基)、炭素数1〜8のハロアル
キル基(例えばクロロメチル基、フロロメチル基、トリ
フロロメチル基など)、炭素数1〜8のアルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基)、ヒド
ロキシ基、シアノ基、ハロゲン(例えば−Cl、−B
r,−F)が挙げられる。R13、R14、R16、R17はそ
れぞれ水素原子、炭素数1〜8のアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル
基)を表す。R13とR14およびR16とR17はまた互いに
結合し窒素原子とともに複素環(例えばピペリジン環、
ピペラジン環、モルホリン環、ピラゾール環、ジアゾー
ル環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環等)を形
成してもよい。R15は水素原子、炭素数1〜8のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、オクチル基)、炭素数1〜8のアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基)、置換されて
もよい炭素数6〜10のアリール基(例えばフェニル
基)、アミノ基、N(R16)(R17)、ハロゲン(例えば
−Cl、−Br,−F)を表す。Zbは=O、=Sある
いは=C(R18)(R19)を表す。好ましくは=O、=
S、=C(CN)2であり、特に好ましくは=Oである。
18、R19はそれぞれ、シアノ基、−COOR20、−C
OR21を表す。R20、R21はそれぞれ炭素数1〜8のア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、オクチル基)、炭素数1〜8のハロアルキル基
(例えばクロロメチル基、フロロメチル基、トリフロロ
メチル基など)、置換されてもよい炭素数6〜10のア
リール基(例えばフェニル基)を表す。
R 10 and R 11 are each a hydrogen atom and have 1 carbon atom.
To 8 alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group), C1 to C8 haloalkyl groups (eg, chloromethyl group, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, etc.), carbon number 1 To 8 alkoxy groups (eg, methoxy group, ethoxy group, butoxy group), optionally substituted aryl groups having 6 to 10 carbon atoms (eg, phenyl group), amino groups, —N (R 16 ) (R 17 ), Represents halogen (for example, -Cl, -Br, -F). Preferred are a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, a phenyl group, —N (R 16 ) (R 17 ), and —Cl. R 12 represents an optionally substituted aryl group having 6 to 16 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, cumyl group). As the substituent, an amino group, —N (R 16 ) (R 17 ), and a carbon number of 1 to
8 alkyl groups (eg methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group), haloalkyl groups having 1 to 8 carbon atoms (eg chloromethyl group, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, etc.), 1 to carbon atoms 8 alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, butoxy group), hydroxy group, cyano group, halogen (eg, -Cl, -B)
r, -F). R 13 , R 14 , R 16 and R 17 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group). R 13 and R 14 and R 16 and R 17 are also bonded to each other with a nitrogen atom to form a heterocycle (eg piperidine ring,
A piperazine ring, a morpholine ring, a pyrazole ring, a diazole ring, a triazole ring, a benzotriazole ring, etc.) may be formed. R 15 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group), an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms (eg, methoxy group, ethoxy group, butoxy group) ), An optionally substituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms (for example, a phenyl group), an amino group, N (R 16 ) (R 17 ), and a halogen (for example, —Cl, —Br, —F). Zb represents = O, = S or = C (R 18 ) (R 19 ). Preferably = O, =
S, ═C (CN) 2 , and particularly preferably ═O.
R 18 and R 19 are a cyano group, —COOR 20 , and —C, respectively.
Represents OR 21 . R 20 and R 21 are each an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group), a haloalkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, chloromethyl group, fluoromethyl group, Trifluoromethyl group) and an optionally substituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms (eg, phenyl group).

【0041】特に好ましい3−アリール置換クマリン化
合物は一般式(XII)で示される{(s−トリアジン−2
−イル)アミノ}−3−アリールクマリン化合物類であ
る。
A particularly preferred 3-aryl-substituted coumarin compound is represented by the general formula (XII) {(s-triazine-2
-Yl) amino} -3-arylcoumarin compounds.

【0042】[0042]

【化11】 [Chemical 11]

【0043】一般式(XII)中、R12〜R15は上記と同義で
ある。
In the general formula (XII), R 12 to R 15 have the same meanings as described above.

【0044】(ロ)ロフィン二量体は2個のロフィン残
基からなる2,4,5−トリフェニルイミダゾリル二量
体を意味し、その基本構造を下記に示す。
The (b) loffin dimer means a 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer composed of two loffin residues, and its basic structure is shown below.

【0045】[0045]

【化12】 [Chemical 12]

【0046】その具体例としては、2−(o−クロルフ
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2
−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミ
ダゾリル二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,
5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(p−メトキ
シフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量
体、2−(p−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェ
ニルイミダゾリル二量体、2−(2,4−ジメトキシフ
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2
−(p−メチルメルカプトフェニル)−4,5−ジフェ
ニルイミダゾリル二量体等が挙げられる。
Specific examples thereof include 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2
-(O-Fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,
5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (2 , 4-Dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2
Examples include-(p-methylmercaptophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer.

【0047】本発明では、以上の開始剤の他に他の公知
のものも使用することができる。米国特許第2,36
7,660号明細書に開示されているビシナールポリケ
トルアルドニル化合物、米国特許第2,367,661
号および第2,367,670号明細書に開示されてい
るα位にカルボニル基があるアルコール化合物、米国特
許第2,448,828号明細書に開示されているアシ
ロインエーテル、米国特許第2,722,512号明細
書に開示されているα位が炭化水素基で置換された芳香
族アシロイン化合物、米国特許第3,046,127号
および第2,951,758号明細書に開示されている
多核キノン化合物、米国特許第3,549,367号明
細書に開示されているトリアリルイミダゾールダイマー
/p−アミノフェニルケトンの組合せ、特公昭51−4
8516号公報に開示されているベンゾチアゾール系化
合物/トリハロメチール−s−トリアジン系化合物。
In the present invention, other known ones can be used in addition to the above initiators. US Pat. No. 2,36
Vicinal polyketolualdonyl compounds disclosed in US Pat. No. 7,367,661.
And an alcohol compound having a carbonyl group at the α-position disclosed in US Pat. No. 2,367,670, an acyloin ether disclosed in US Pat. No. 2,448,828, US Pat. , 722, 512, and aromatic acyloin compounds substituted at the α-position with a hydrocarbon group, disclosed in U.S. Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758. A polynuclear quinone compound, a combination of triallyl imidazole dimer / p-aminophenyl ketone disclosed in US Pat. No. 3,549,367, JP-B-51-4.
A benzothiazole-based compound / trihalomethyl-s-triazine-based compound disclosed in Japanese Patent No. 8516.

【0048】本発明の感放射線性着色組成物において、
必須成分である前記式(I)及び/又は(II)で表さ
れる光重合開始剤の使用量は、光重合開始剤の全使用量
に対して、5〜100質量%、特には20〜100質量
%が好ましい。また、光重合開始剤の全使用量は、感放
射線性重合成分に対し、好ましくは1〜30質量%、よ
り好ましくは3〜15質量%である。過剰の光重合開始
剤の使用は、光重合によって形成される重合体の分子量
が低くなり膜強度が弱くなったり、また露光で分解せず
に膜中に残った開始剤は耐光性を劣化させるので好まし
くない。
In the radiation-sensitive coloring composition of the present invention,
The amount of the photopolymerization initiator represented by the formula (I) and / or (II), which is an essential component, is 5 to 100% by mass, particularly 20 to 10% by mass based on the total amount of the photopolymerization initiator. 100 mass% is preferable. Further, the total amount of the photopolymerization initiator used is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 3 to 15% by mass, based on the radiation-sensitive polymerization component. The use of excess photopolymerization initiator lowers the molecular weight of the polymer formed by photopolymerization and weakens the film strength, and the initiator left in the film without being decomposed by exposure deteriorates the light resistance. It is not preferable.

【0049】2.感放射線性重合成分 次に、本発明の感放射線性着色組成物において用いられ
る感放射線性重合成分について説明する。上記感放射線
性重合成分としては、少なくとも1個の付加重合可能な
エチレン性不飽和基をもち、沸点が常圧で100℃以上
の化合物が好ましく、なかでも、4官能以上のアクリレ
ート化合物がより好ましい。少なくとも1個の付加重合
可能なエチレン性不飽和基をもち、沸点が常圧で100
℃以上の化合物としては、ポリエチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アク
リレート、等の単官能のアクリレートやメタアクリレー
ト;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオー
ル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アク
リロイロキシエチル)イソシアヌレート、グリセリン、
トリメチロールエタン、ジペンタエリスリトール等の多
官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキ
サイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したも
の、ペンタエリスリトールまたはジペンタエリスリトー
ルのポリ(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48
−41708号公報、特公昭50−6034号公報、特
開昭51−37193号公報各公報に記載されているよ
うなウレタンアクリレート類、特開昭48−64183
号公報、特公昭49−43191号公報、特公昭52−
30490号公報に記載されているポリエステルアクリ
レート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生
成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタアクリレートを挙げることが出来る。更
に、日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜30
8頁に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介さ
れているものも使用できる。
2. Radiation-sensitive Polymerizable Component Next, the radiation-sensitive polymerizable component used in the radiation-sensitive colored composition of the present invention will be described. The radiation-sensitive polymerization component is preferably a compound having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group and having a boiling point of 100 ° C. or higher at normal pressure, and more preferably a tetrafunctional or higher functional acrylate compound. . It has at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group and has a boiling point of 100 at normal pressure.
Examples of the compound having a temperature of ℃ or higher include monofunctional acrylates and methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate,
Trimethylolethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) Acrylate, hexanediol (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, glycerin,
A poly (meth) acrylate of pentaerythritol or dipentaerythritol obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to a polyfunctional alcohol such as trimethylolethane or dipentaerythritol, or a poly (meth) acrylate of pentaerythritol, JP-B-48.
-41708, JP-B-50-6034, and JP-A-51-37193, urethane acrylates such as those described in JP-A-48-64183.
JP-B, JP-B-49-43191, JP-B-52-
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates, which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid, described in 30490 can be mentioned. Furthermore, the Journal of Japan Adhesion Association, Vol. 20, No. 7, 300-30
Those introduced as photocurable monomers and oligomers on page 8 can also be used.

【0050】なかでも、ジペンタエリスリトールペンタ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレートおよびこれらのアクリロイル基
が、エチレングリコール、プロピレングリコール残基を
介している構造が好ましい。これらの感放射線性重合成
分は1種単独でまたは2種以上を組み合わせて使用する
ことができる。これらの感放射線性重合成分の使用量
は、感放射線性着色組成物の全固形分に対し、好ましく
は5〜90質量%、より好ましくは10〜50質量%で
ある。
Of these, a structure in which dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and their acryloyl groups have an ethylene glycol or propylene glycol residue therebetween is preferable. These radiation-sensitive polymerization components can be used alone or in combination of two or more. The amount of these radiation-sensitive polymerization components used is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 10 to 50% by mass, based on the total solid content of the radiation-sensitive coloring composition.

【0051】光重合開始剤、感放射線性重合成分および
所望により使用される増感剤を包含して、感放射線性化
合物は、全組成物中の固形分に対して10〜90質量
%、とくに30〜80質量%の割合であることが好まし
い。
The radiation-sensitive compound, including the photopolymerization initiator, the radiation-sensitive polymerization component, and the sensitizer optionally used, is contained in an amount of 10 to 90% by mass, particularly preferably 10 to 90% by mass, based on the solid content of the entire composition. The proportion is preferably 30 to 80% by mass.

【0052】3.結着樹脂 次に、本発明感放射線性着色組成物に配合される結着樹
脂について説明する。本発明で使用可能な結着樹脂とし
ては、線状有機高分子重合体で、有機溶剤に可溶で、弱
アルカリ水溶液で現像できるものが好ましい。このよう
な線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を
有するポリマー、例えば特開昭59−44615号公
報、特公昭54−34327号公報、特公昭58−12
577号公報、特公昭54−25957号公報、特開昭
59−53836号公報、特開昭59−71048号公
報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アク
リル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重
合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸
共重合体等があり、また同様に側鎖にカルボン酸を有す
る酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有す
るポリマーに酸無水物を付加させたものなども有用であ
る。特にこれらのなかでベンジル(メタ)アクリレート
/(メタ)アクリル酸共重合体やベンジル(メタ)アク
リレート/(メタ)アクリル酸/および他のモノマーと
の多元共重合体が好適である。この他に水溶性ポリマー
として、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ポリビ
ニールピロリドンやポリエチレンオキサイド、ポリビニ
ールアルコール等も有用である。また硬化皮膜の強度を
あげるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロル
ヒドリンのポリエーテルなども有用である。これらのポ
リマーは任意な量を混合させることができる。
3. Binder Resin Next, the binder resin blended in the radiation-sensitive coloring composition of the present invention will be described. The binder resin usable in the present invention is preferably a linear organic high molecular polymer, which is soluble in an organic solvent and can be developed with a weak alkaline aqueous solution. Examples of such a linear organic polymer include polymers having a carboxylic acid in the side chain, for example, JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, and JP-B-58-12.
577, JP-B-54-25957, JP-A-59-53836, and JP-A-59-71048, a methacrylic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, and itaconic acid. There are copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, and the like, and similarly, acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid in the side chain. In addition to these, a polymer having an acid anhydride added to a polymer having a hydroxyl group is also useful. Among these, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymers and benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / and multi-component copolymers with other monomers are particularly preferable. In addition, 2-hydroxyethyl methacrylate, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, polyvinyl alcohol and the like are also useful as the water-soluble polymer. In addition, alcohol-soluble nylon and polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful for increasing the strength of the cured film. These polymers can be mixed in any amount.

【0053】また、特開平7−140654号公報に記
載の2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート/ポ
リスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/
メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシ−3−フエノキ
シプロピルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマ
クロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸
共重合体、2−ヒドロキシエチルメタアクリレート/ポ
リスチレンマクロモノマー/メチルメタクリレート/メ
タクリル酸共重合体、2−ヒドロキシエチルメタアクリ
レート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタク
リレート/メタクリル酸共重合体などが挙げられる。
Further, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / described in JP-A-7-140654.
Methacrylic acid copolymer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer Examples thereof include polymers and 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomers / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymers.

【0054】さらに,使用できる結着樹脂として、特開
平9−258445号公報に記載されている下記一般式
(XIII)で表されるポリビニルアセタール樹脂または変性
ポリビニルアセタール樹脂を挙げることができる。
Further, as a binder resin which can be used, the following general formula described in JP-A-9-258445 is used.
The polyvinyl acetal resin or modified polyvinyl acetal resin represented by (XIII) can be mentioned.

【0055】[0055]

【化13】 [Chemical 13]

【0056】但し一般式(XIII)中,R1は置換基を有し
てもよいアルキル基あるいは水素原子、R2は置換基を
有していないアルキル基、R3はカルボン酸基を有する
脂肪族あるいは芳香族炭化水素基、R4は少なくとも1
つのヒドロキシル基あるいはニトリル基を有し、更に他
の置換基を有していてもよい脂肪族あるいは芳香族炭化
水素基を示し、n1、n2、n3、n4、n5は各反覆単位
のモル%を示し、それぞれ次の範囲である。n1=5〜
85、n2=1〜60、n3=1〜20、n4=0〜6
0、n5=0〜10。
However, in the general formula (XIII), R 1 is an alkyl group which may have a substituent or a hydrogen atom, R 2 is an alkyl group which does not have a substituent, and R 3 is a fatty acid having a carboxylic acid group. Group or aromatic hydrocarbon group, R 4 is at least 1
Shows an aliphatic or aromatic hydrocarbon group having one hydroxyl group or a nitrile group and optionally having another substituent, and n1, n2, n3, n4 and n5 are mol% of each repeating unit. The ranges are shown below. n1 = 5
85, n2 = 1-60, n3 = 1-20, n4 = 0-6
0, n5 = 0-10.

【0057】本発明において好ましい結着樹脂は、カル
ボキシル基を、特には側鎖に有すものであり、とりわけ
ベンジルメタクリレート−メタクリル酸共重合体が好ま
しい。そして、露光後の現像性および塗布性を良好に維
持する観点から、酸価が30〜200のものが好まし
い。
The binder resin preferred in the present invention has a carboxyl group, particularly in the side chain, and particularly benzyl methacrylate-methacrylic acid copolymer is preferred. From the viewpoint of maintaining good developability and coatability after exposure, those having an acid value of 30 to 200 are preferable.

【0058】本発明の結着樹脂の総量は、感放射線性着
色組成物の全固形成分に対し5〜80質量%である。好
ましくは20〜60質量%である。結着樹脂の総量が5
質量%より少ないと膜強度が低下し、また、80質量%
より多いと、酸性分が多くなるので、溶解性のコントロ
ールが難しくなり、又相対的に顔料が少なくなるので十
分な画像濃度が得られない。
The total amount of the binder resin of the present invention is 5 to 80% by mass based on the total solid components of the radiation-sensitive coloring composition. It is preferably 20 to 60% by mass. The total amount of binder resin is 5
If the amount is less than 80% by mass, the film strength will decrease,
If the amount is larger, the acid content is increased, so that it becomes difficult to control the solubility, and the pigment is relatively decreased, so that a sufficient image density cannot be obtained.

【0059】4.着色剤 本発明の感放射線性着色組成物に含有される着色剤とし
て、種々の顔料、染料、カーボンブラックを一種又は二
種以上混合して用いることができる。
4. Colorant As the colorant contained in the radiation-sensitive coloring composition of the present invention, various pigments, dyes, and carbon black can be used alone or in combination of two or more.

【0060】本発明に用いることができる顔料として
は、従来公知の種々の無機顔料または有機顔料を用いる
ことができる。また、顔料は、無機顔料であれ有機顔料
であれ、高透過率であることが好ましいことを考慮する
と、なるべく細かいものの使用がよいが、ハンドリング
性をも考慮すると、好ましくは平均粒子径0.01μm
〜0.1μm、より好ましくは0.01μm〜0.05
μmの顔料が用いられる。無機顔料としては、金属酸化
物、金属錯塩等で示される金属化合物であり、具体的に
は鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、
チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の
金属酸化物、および前記金属の複合酸化物を挙げること
ができる。
As the pigment that can be used in the present invention, various conventionally known inorganic pigments or organic pigments can be used. Further, the pigment, whether it is an inorganic pigment or an organic pigment, preferably has a high transmittance in consideration of having a high transmittance, but in consideration of handling property, an average particle diameter of 0.01 μm is preferable.
To 0.1 μm, more preferably 0.01 μm to 0.05
A μm pigment is used. The inorganic pigment is a metal compound represented by a metal oxide, a metal complex salt or the like, and specifically, iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper,
Examples thereof include metal oxides such as titanium, magnesium, chromium, zinc and antimony, and complex oxides of the above metals.

【0061】有機顔料としては、 C.I.Pigment Yellow 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 10
8, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 185, 19
9; C.I.Pigment Orange 36, 38, 43; C.I.Pigment Red 105, 122, 149, 150, 155, 171, 175,
176, 177,209, 224,254; C.I.Pigment Violet 19, 23, 32, 39; C.I.Pigment Blue 1, 2, 15, 16, 22, 60, 66; C.I.Pigment Green 7, 36, 37; C.I.Pigment Brown 25, 28; C.I.Pigment Black 1, 7; などを挙げることができる。
Organic pigments include CIPigment Yellow 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 10
8, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 185, 19
9; CIPigment Orange 36, 38, 43; CIPigment Red 105, 122, 149, 150, 155, 171, 175,
176, 177,209, 224,254; CIPigment Violet 19, 23, 32, 39; CIPigment Blue 1, 2, 15, 16, 22, 60, 66; CIPigment Green 7, 36, 37; CIPigment Brown 25, 28; CIPigment Black 1, 7; and the like.

【0062】本発明では、特に顔料の構造式中に塩基性
のN原子をもつものを好ましく用いることができる。こ
れら塩基性のN原子をもつ顔料は本発明の組成物中で良
好な分散性を示す。その原因については十分解明されて
いないが、感放射線性重合成分と顔料の親和性の良さが
影響しているものと推定される。
In the present invention, particularly those having a basic N atom in the structural formula of the pigment can be preferably used. The pigments having these basic N atoms exhibit good dispersibility in the composition of the present invention. Although the cause has not been sufficiently clarified, it is presumed that the good affinity between the radiation-sensitive polymerization component and the pigment has an effect.

【0063】これら有機顔料は、単独もしくは色純度を
上げるため種々組合せて用いる。具体例を以下に示す。
赤の顔料としては、アントラキノン系顔料、ペリレン系
顔料単独またはそれらの少なくとも一種とジスアゾ系黄
色顔料またはイソインドリン系黄色顔料との混合が用い
られる。例えばアントラキノン系顔料としては、C.
I.ピグメントレッド177、ペリレン系顔料として
は、C.I.ピグメントレッド155、C.I.ピグメ
ントレッド224が挙げられ、色再現性の点でC.I.
ピグメントイエロー83またはC.I.ピグメントイエ
ロー139との混合が良好であった。赤色顔料と黄色顔
料の質量比は、100:5から100:50が良好であ
った。100:4以下では400nmから500nmの光透
過率を抑えることが出来ず色純度を上げることが出来な
かった。また100:51以上では主波長が短波長より
になりNTSC目標色相からのずれが大きくなった。特
に100:10より100:30の範囲が最適であっ
た。
These organic pigments are used alone or in various combinations for increasing the color purity. A specific example is shown below.
As the red pigment, an anthraquinone pigment, a perylene pigment alone or a mixture of at least one of them with a disazo yellow pigment or an isoindoline yellow pigment is used. For example, as the anthraquinone pigment, C.I.
I. Pigment Red 177 and perylene pigments include C.I. I. Pigment Red 155, C.I. I. Pigment Red 224, and C.I. I.
Pigment Yellow 83 or C.I. I. Pigment Yellow 139 was mixed well. The mass ratio of the red pigment to the yellow pigment was 100: 5 to 100: 50. When the ratio is 100: 4 or less, the light transmittance from 400 nm to 500 nm cannot be suppressed and the color purity cannot be increased. When the ratio is 100: 51 or more, the dominant wavelength becomes shorter and the deviation from the NTSC target hue becomes large. In particular, the range from 100: 10 to 100: 30 was optimal.

【0064】緑の顔料としては、ハロゲン化フタロシア
ニン系顔料単独またはジスアゾ系黄色顔料またはイソイ
ンドリン系黄色顔料との混合が用いられ例えばC.I.
ピグメントグリーン7、36、37とC.I.ピグメン
トイエロー83またはC.I.ピグメントイエロー13
9との混合が良好であった。緑顔料と黄色顔料の質量比
は、100:5より100:40が良好であった。10
0:4以下では400nmから450nmの光透過率を抑え
ることが出来ず色純度を上げることが出来なかった。ま
た100:41以上では主波長が長波長よりになりNT
SC目標色相からのずれが大きくなった。特に100:
5より100:20の範囲が最適であった。
As the green pigment, a halogenated phthalocyanine type pigment alone or a mixture with a disazo type yellow pigment or an isoindoline type yellow pigment may be used. I.
Pigment Green 7, 36, 37 and C.I. I. Pigment Yellow 83 or C.I. I. Pigment Yellow 13
Mixing with 9 was good. The mass ratio of the green pigment and the yellow pigment was 100: 40, which was better than 100: 5. 10
Below 0: 4, the light transmittance from 400 nm to 450 nm could not be suppressed and the color purity could not be increased. If the ratio is 100: 41 or more, the dominant wavelength becomes longer and NT
The deviation from the SC target hue became large. Especially 100:
The range of 100: 20 was optimal from 5.

【0065】青の顔料としては、フタロシアニン系顔料
単独またはジオキサジン系紫色顔料との混合が用いら
れ、例えばC.I.ピグメントブルー15:6とC.
I.ピグメントバイオレット23との混合が良好であっ
た。青色顔料と紫色顔料の質量比は、100:5より1
00:50が良好であった。100:4以下では400
nmから420nmの光透過率を抑えることが出来ず色純度
を上げることが出来なかった。100:51以上では主
波長が長波長よりになりNTSC目標色相からのずれが
大きくなった。特に100:5より100:20の範囲
が最適であった。
As the blue pigment, a phthalocyanine pigment alone or a mixture with a dioxazine purple pigment is used. I. Pigment Blue 15: 6 and C.I.
I. Pigment Violet 23 was mixed well. The mass ratio of blue pigment to purple pigment is 1 from 100: 5.
00:50 was good. 400 below 100: 4
The light transmittance from nm to 420 nm could not be suppressed, and the color purity could not be increased. When it was 100: 51 or more, the dominant wavelength was longer and the deviation from the NTSC target hue was large. In particular, the range of 100: 5 to 100: 20 was optimal.

【0066】更に上記の顔料をアクリル系樹脂、マレイ
ン酸系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマーおよび
エチルセルロース樹脂等に微分散させた粉末状加工顔料
を用いることにより分散性および分散安定性の良好な顔
料含有感光樹脂を得ることが出来る。
Further, by using a powdered processed pigment in which the above pigment is finely dispersed in an acrylic resin, a maleic acid resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, an ethyl cellulose resin, etc., a pigment having good dispersibility and dispersion stability. A photosensitive resin containing can be obtained.

【0067】ブラックマトリックス用の顔料としては、
カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄などが単独
でまたは混合して用いられる。中でも、カーボンブラッ
クとチタンカーボンを混合して用いる場合、その混合比
は質量比で100:5〜100:40の範囲が好まし
い。100:5に満たないと長波長領域での光透過率が
大きくなり、また、100:40を越えると組成物の分
散性に問題が出てくる。
As the pigment for the black matrix,
Carbon black, titanium carbon, iron oxide, etc. may be used alone or in combination. Above all, when carbon black and titanium carbon are mixed and used, the mixing ratio is preferably in the range of 100: 5 to 100: 40 in terms of mass ratio. If it is less than 100: 5, the light transmittance in the long wavelength region becomes large, and if it exceeds 100: 40, there is a problem in the dispersibility of the composition.

【0068】以下に顔料の処理法について説明する。一
般に、これら顔料は合成後、種々の方法で乾燥を経て供
給される。通常は水媒体から乾燥させて粉末体として供
給されるが、水が乾燥するには大きな蒸発潜熱を必要と
するため、乾燥して粉末とさせるには大きな熱エネルギ
ーを与える。そのため、顔料は一次粒子が集合した凝集
体(二次粒子)を形成しているのが普通である。
The method of treating the pigment will be described below. Generally, these pigments are supplied after being dried by various methods after synthesis. Usually, it is dried from an aqueous medium and supplied as a powder body, but since water requires a large latent heat of vaporization to dry, a large amount of heat energy is applied to dry it into a powder. Therefore, the pigment usually forms an aggregate (secondary particle) in which primary particles are aggregated.

【0069】この様な凝集体を形成している顔料を微粒
子に分散するのは容易ではない。そのため顔料をあらか
じめ種々の樹脂で処理しておくことが好ましい。これら
樹脂として、前述の結着樹脂を挙げることができる。処
理の方法としては、フラッシング処理やニーダー、エク
ストルーダー、ボールミル、2本または3本ロールミル
等による混練方法がある。このうち、フラッシング処理
や2本または3本ロールミルによる混練法が微粒子化に
好適である。
It is not easy to disperse the pigment forming such aggregates into fine particles. Therefore, it is preferable to treat the pigment with various resins in advance. Examples of these resins include the binder resins described above. As the treatment method, there are a flushing treatment and a kneading method using a kneader, an extruder, a ball mill, a two or three roll mill, or the like. Of these, the flushing process and the kneading method using a two- or three-roll mill are suitable for atomization.

【0070】フラッシング処理は通常、顔料の水分散液
と水と混和しない溶媒に溶解した樹脂溶液を混合し、水
媒体中から有機媒体中に顔料を抽出し、顔料を樹脂で処
理する方法である。この方法によれば、顔料の乾燥を経
ることがないので、顔料の凝集を防ぐことができ、分散
が容易となる。2本または3本ロールミルによる混練で
は、顔料と樹脂または樹脂の溶液を混合した後、高いシ
ェア(せん断力)をかけながら、顔料と樹脂を混練する
ことによって、顔料表面に樹脂をコーティングすること
によって、顔料を処理する方法である。この過程で凝集
していた顔料粒子はより低次の凝集体から一次粒子にま
で分散される。
The flushing treatment is usually a method in which an aqueous dispersion of a pigment and a resin solution dissolved in a solvent immiscible with water are mixed, the pigment is extracted from an aqueous medium into an organic medium, and the pigment is treated with a resin. . According to this method, since the pigment is not dried, aggregation of the pigment can be prevented and dispersion becomes easy. In a two- or three-roll mill, by mixing a pigment and a resin or a solution of a resin, and then applying a high shear (shearing force), the pigment and the resin are kneaded to coat the surface of the pigment with the resin. , A method of treating a pigment. The pigment particles aggregated in this process are dispersed from lower-order aggregates to primary particles.

【0071】また、本発明においては、あらかじめアク
リル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、マレイン酸樹
脂、エチルセルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂等で
処理した加工顔料も都合良く用いることができる。本発
明において、上記の種々の樹脂で処理された加工顔料の
形態としては、樹脂と顔料が均一に分散している粉末、
ペースト状、ペレット状、ペースト状が好ましい。ま
た、樹脂がゲル化した不均一な塊状のものは好ましくな
い。この様にして得られた着色分散体は、感放射線性化
合物と混合され、感放射線性着色組成物として供され
る。
In the present invention, a processed pigment previously treated with an acrylic resin, vinyl chloride-vinyl acetate resin, maleic acid resin, ethyl cellulose resin, nitrocellulose resin or the like can also be used conveniently. In the present invention, as a form of the processed pigment treated with the above various resins, a powder in which the resin and the pigment are uniformly dispersed,
A paste form, a pellet form, and a paste form are preferable. In addition, a gelled nonuniform mass of resin is not preferable. The colored dispersion thus obtained is mixed with a radiation-sensitive compound and provided as a radiation-sensitive coloring composition.

【0072】本発明の感放射線性着色組成物の全固形成
分中の着色剤濃度は特に限定されるものではないが、通
常5〜80質量%である。本発明の感放射線性着色組成
物の場合、着色剤濃度が30質量%以上であっても、露
光により十分な硬化が進み、着色剤濃度が35質量%以
上であると、上記効果が一層明らかになる。しかしなが
ら、80質量%を越えての使用は、非画像部の地汚れや
膜残りが生じやすい等の別の問題が生じる。
The concentration of the colorant in all solid components of the radiation-sensitive coloring composition of the present invention is not particularly limited, but is usually 5 to 80% by mass. In the case of the radiation-sensitive colored composition of the present invention, even if the colorant concentration is 30% by mass or more, sufficient curing proceeds by exposure, and the above effect is more apparent when the colorant concentration is 35% by mass or more. become. However, if it is used in an amount exceeding 80% by mass, another problem such as a background stain in the non-image area or a film residue is likely to occur.

【0073】本発明において、顔料の分散性を向上させ
る目的で従来公知の顔料分散剤や界面活性剤を添加する
ことが出来る。これらの分散剤としては、多くの種類の
化合物が用いられるが、例えば、フタロシアニン誘導体
(市販品EFKA−745(エフカ社製))、ソルスパ
ース5000(ゼネカ製);オルガノシロキサンポリマ
ーKP341(信越化学工業製)、(メタ)アクリル酸
系(共)重合体ポリフローNo.75、No.90、No.9
5(共栄社油脂化学工業製)、W001(裕商製)等の
カチオン系界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエ
ーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリ
オキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレン
オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレー
ト、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタ
ン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤;エフトッ
プEF301、EF303、EF352(新秋田化成
製)、メガファックF171、F172、F173(大
日本インキ製)、フロラードFC430、FC431
(住友スリーエム製)、アサヒガードAG710、サー
フロンS382、SC−101、SC−102、SC−
103、SC−104、SC−105、SC−1068
(旭硝子製)等のフッ素系界面活性剤;W004、W0
05、W017(裕商製)等のアニオン系界面活性剤;
EFKA−46、EFKA−47、EFKA−47E
A、EFKAポリマー100、EFKAポリマー40
0、EFKAポリマー401、EFKAポリマー450
(以上森下産業製)、ディスパースエイド6、ディスパ
ースエイド8、ディスパースエイド15、ディスパース
エイド9100(サンノプコ製)等の高分子分散剤;ソ
ルスパース3000、5000、9000、1200
0、13240、13940、17000、2400
0、26000、28000などの各種ソルスパース分
散剤(ゼネカ株式会社製);アデカプルロニックL3
1,F38,L42,L44,L61,L64,F6
8,L72,P95,F77,P84,F87、P9
4,L101,P103,F108、L121、P−1
23(旭電化製)およびイソネットS−20(三洋化成
製)が挙げられる。
In the present invention, conventionally known pigment dispersants and surfactants can be added for the purpose of improving the dispersibility of the pigment. Although many kinds of compounds are used as these dispersants, for example, a phthalocyanine derivative (commercial item EFKA-745 (manufactured by Efka)), Solsperse 5000 (manufactured by Zeneca); organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ), (Meth) acrylic acid-based (co) polymer polyflow No. 75, No. 90, No. 9
5 (manufactured by Kyoeisha Oil and Fat Chemical Co., Ltd.) and W001 (manufactured by Yusho); cationic surfactants; polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxy Nonionic surfactants such as ethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, and sorbitan fatty acid ester; F-top EF301, EF303, EF352 (manufactured by Shin-Akita Kasei), Megafac F171, F172, F173 (Dainippon Nihon) Ink), Florard FC430, FC431
(Manufactured by Sumitomo 3M), Asahi Guard AG710, Surflon S382, SC-101, SC-102, SC-
103, SC-104, SC-105, SC-1068
Fluorine-based surfactants such as (made by Asahi Glass); W004, W0
05, W017 (manufactured by Yusho) and the like anionic surfactants;
EFKA-46, EFKA-47, EFKA-47E
A, EFKA polymer 100, EFKA polymer 40
0, EFKA polymer 401, EFKA polymer 450
Polymer dispersants such as (made by Morishita Sangyo), Disperse Aid 6, Disperse Aid 8, Disperse Aid 15, Disperse Aid 9100 (manufactured by San Nopco); Solspers 3000, 5000, 9000, 1200
0, 13240, 13940, 17000, 2400
Various sol sparse dispersants such as 0, 26000 and 28000 (manufactured by Zeneca Corporation);
1, F38, L42, L44, L61, L64, F6
8, L72, P95, F77, P84, F87, P9
4, L101, P103, F108, L121, P-1
23 (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) and ISONET S-20 (manufactured by Sanyo Kasei).

【0074】本発明の感放射線性着色組成物に含まれ
る、着色剤としては、組成物中に分子状に溶解した状態
で組成物を着色する染料を選択できる。本発明で使用で
きる染料は、特に制限はなく、従来カラーフィルター用
として公知の染料が使用できる。例えば、特開昭64−
90403号公報、特開昭64−91102号公報、特
開平1−94301号公報、特開平6−11614号公
報、特登2592207号、米国特許第4,808,5
01号明細書、米国特許第5,667,920号明細
書、米国特許第5,059,500号明細書、特開平5
−333207号公報、特開平6−35183号公報、
特開平6−51115号公報、特開平6−194828
号公報等に開示されている色素が使用できる。化学構造
としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフ
ェニルメタン系、アントラキノン系、ベンジリデン系、
オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリド
ンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラ
ゾールアゾメチン系等の染料が使用できる。特に、硬化
性組成物は比較的低温での硬化が可能なので、顔料に比
較して耐熱性に劣る染料であっても硬化膜に耐久性を付
与するためのポスト・ベークの際の高温度下にさらされ
ても分解等の問題を軽減することができる。
As the colorant contained in the radiation-sensitive coloring composition of the present invention, a dye that colors the composition in a molecularly dissolved state in the composition can be selected. The dye that can be used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known dyes for color filters can be used. For example, JP-A-64-
No. 90403, No. 64-91102, No. 1-94301, No. 6-11614, No. 2592207, U.S. Pat. No. 4,808,5.
No. 01, US Pat. No. 5,667,920, US Pat. No. 5,059,500, JP-A-5
-333207, JP-A-6-35183,
JP-A-6-51115, JP-A-6-194828
The dyes disclosed in Japanese Unexamined Patent Publications can be used. As the chemical structure, pyrazole azo type, anilino azo type, triphenyl methane type, anthraquinone type, benzylidene type,
Dyes of oxonol type, pyrazolotriazole azo type, pyridone azo type, cyanine type, phenothiazine type, pyrrolopyrazole azomethine type and the like can be used. In particular, since the curable composition can be cured at a relatively low temperature, even a dye having a lower heat resistance than a pigment can be cured at a high temperature during post baking to impart durability to the cured film. Even when exposed to water, problems such as decomposition can be reduced.

【0075】本発明の組成物において用いることができ
るカーボンブラックとしては、例えば、三菱化学社製の
カーボンブラック#2400、#2350、#230
0、#2200、#1000、#980、#970、#
960、#950、#900、#850、MCF88、
#650、MA600、MA7、MA8、MA11、M
A100、MA220、IL30B、IL31B、IL
7B、IL11B、IL52B、#4000、#401
0、#55、#52、#50、#47、#45、#4
4、#40、#33、#32、#30、#20、#1
0、#5、CF9、#3050、#3150、#325
0、#3750、#3950、ダイヤブラックA、ダイ
ヤブラックN220M、ダイヤブラックN234、ダイ
ヤブラックI、ダイヤブラックLI、ダイヤブラックI
I、ダイヤブラックN339、ダイヤブラックSH、ダ
イヤブラックSHA、ダイヤブラックLH、ダイヤブラ
ックH、ダイヤブラックHA、ダイヤブラックSF、ダ
イヤブラックN550M、ダイヤブラックE、ダイヤブ
ラックG、ダイヤブラックR、ダイヤブラックN760
M、ダイヤブラックLP。キャンカーブ社製のカーボン
ブラックサーマックスN990、N991、N907、
N908、N990、N991、N908。旭カーボン
社製のカーボンブラック旭#80、旭#70、旭#70
L、旭F−200、旭#66、旭#66HN、旭#60
H、旭#60U、旭#60、旭#55、旭#50H、旭
#51、旭#50U、旭#50、旭#35、旭#15、
アサヒサーマル、デグサ社製のカーボンブラックCol
orBlack Fw200、ColorBlack
Fw2、ColorBlack Fw2V、Color
Black Fw1、ColorBlack Fw1
8、ColorBlack S170、ColorBl
ack S160、SpecialBlack6、Sp
ecialBlack5、SpecialBlack
4、SpecialBlack4A、Printex
U、PrintexV、Printex140U、Pr
intex140V等を挙げることができる。
The carbon black that can be used in the composition of the present invention is, for example, carbon black # 2400, # 2350, # 230 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.
0, # 2200, # 1000, # 980, # 970, #
960, # 950, # 900, # 850, MCF88,
# 650, MA600, MA7, MA8, MA11, M
A100, MA220, IL30B, IL31B, IL
7B, IL11B, IL52B, # 4000, # 401
0, # 55, # 52, # 50, # 47, # 45, # 4
4, # 40, # 33, # 32, # 30, # 20, # 1
0, # 5, CF9, # 3050, # 3150, # 325
0, # 3750, # 3950, Diamond Black A, Diamond Black N220M, Diamond Black N234, Diamond Black I, Diamond Black LI, Diamond Black I
I, diamond black N339, diamond black SH, diamond black SHA, diamond black LH, diamond black H, diamond black HA, diamond black SF, diamond black N550M, diamond black E, diamond black G, diamond black R, diamond black N760
M, diamond black LP. Carbon black Thermax N990, N991, N907, manufactured by Cancarb
N908, N990, N991, N908. Asahi Carbon Carbon Black Asahi # 80, Asahi # 70, Asahi # 70
L, Asahi F-200, Asahi # 66, Asahi # 66HN, Asahi # 60
H, Asahi # 60U, Asahi # 60, Asahi # 55, Asahi # 50H, Asahi # 51, Asahi # 50U, Asahi # 50, Asahi # 35, Asahi # 15,
Asahi Thermal, Degussa carbon black Col
orBlack Fw200, ColorBlack
Fw2, ColorBlack Fw2V, Color
Black Fw1, ColorBlack Fw1
8, ColorBlack S170, ColorBl
ack S160, SpecialBlack6, Sp
economicBlack5, SpecialBlack
4, SpecialBlack4A, Printex
U, PrintexV, Printex140U, Pr
For example, the index 140V can be used.

【0076】本発明の組成物においてはまた絶縁性カー
ボンブラックを用いることができる。絶縁性カーボンブ
ラックとは、例えば、カーボンブラック粒子表面に有機
物が吸着、被覆または化学結合(グラフト化)している
ことなど、カーボンブラック粒子表面に有機化合物を有
していることであり、そして、下記のような方法で粉末
としての体積抵抗を測定した場合絶縁性を示すカーボン
ブラックのことである。
Insulating carbon black can also be used in the composition of the present invention. Insulating carbon black, for example, having an organic compound on the surface of the carbon black particles, such as organic matter is adsorbed, coated or chemically bonded (grafted) on the surface of the carbon black particles, and Carbon black that exhibits insulating properties when the volume resistance as powder is measured by the following method.

【0077】絶縁性カーボンブラックをベンジルメタク
リレートとメタクリル酸がモル比で70:30の共重合
体(質量平均分子量30,000)と20:80質量比と
なるように、プロピレングリコールモノメチルエーテル
中に分散し塗布液を調製し、厚さ1.1mm、10cm
×10cmのクロム基板上に塗布して乾燥膜厚3μmの
塗膜を作製し、さらにその塗膜をオーブン中で200℃
で1時間熱処理した後に、JISK6911に準拠して
いる三菱化学(株)製高抵抗率計、ハイレスターUP
(MCP−HT450)で印加して、体積抵抗値を23
℃相対湿度65%の環境下で測定する。そして、この体
積抵抗値として、106Ω・cm以上、より好ましくは
108Ω・cm以上、特により好ましくは109Ω・cm
以上を示す絶縁性カーボンブラックが好ましい。
The insulating carbon black was dispersed in propylene glycol monomethyl ether so that the molar ratio of the benzyl methacrylate and the methacrylic acid was 70:30 and the copolymer (mass average molecular weight 30,000) was 20:30. To prepare a coating solution, thickness 1.1 mm, 10 cm
It is applied on a × 10 cm chrome substrate to prepare a coating film with a dry film thickness of 3 μm, and the coating film is further heated in an oven at 200 ° C.
High-resistivity meter, Hiresta UP manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd. according to JISK6911 after heat treatment for 1 hour.
(MCP-HT450) to apply a volume resistance value of 23
Measured in an environment of ℃ and 65% relative humidity. The volume resistance value is 10 6 Ω · cm or more, more preferably 10 8 Ω · cm or more, and particularly preferably 10 9 Ω · cm.
The insulating carbon blacks shown above are preferable.

【0078】絶縁性カーボンブラックとして、例えば、
特開平11−60988号、特開平11−60989
号、特開平10−330643号、特開平11−805
83号、特開平11−80584号、特開平9−124
969号、特開平9−95625号で開示されている樹
脂被覆カーボンブラックを使用することができる。
As the insulating carbon black, for example,
JP-A-11-60988, JP-A-11-60989
JP-A-10-330643 and JP-A-11-805.
83, JP-A-11-80584, and JP-A-9-124.
The resin-coated carbon black disclosed in Japanese Patent No. 969 and JP-A No. 9-95625 can be used.

【0079】その他、カーボンブラックを適宜樹脂で被
覆したものでよい。カーボンブラックを樹脂(被覆樹
脂)で被覆するには、カーボンブラックに被覆樹脂及び
溶剤を加えてミルベースをつくり、それをフラッシング
処理やニーダー、ボールミル、サンドミル、ビーズミ
ル、2本又は3本ロールミル、エクストルーダー、ペイ
ントシェーカー、超音波、ホモジナイザーなどの方法に
より分散処理を行う。これらの処理方法は2つ以上組合
わせることも可能である。必要に応じてカーボンブラッ
クを均一に分散させるため分散剤を用いることができ
る。
In addition, carbon black coated with a resin may be used. To coat carbon black with a resin (coating resin), a coating base and a solvent are added to carbon black to prepare a mill base, which is subjected to a flushing treatment, a kneader, a ball mill, a sand mill, a bead mill, a two or three roll mill, an extruder. The dispersion treatment is performed by a method such as a paint shaker, ultrasonic wave, or homogenizer. Two or more of these processing methods can be combined. If necessary, a dispersant can be used to uniformly disperse the carbon black.

【0080】被覆樹脂としては、例えば、以下のものを
挙げることができる。 1)ポリオレフィン系ポリマー ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン等 2)ジエン系ポリマー ポリブタジエン、ポリイソプレン等 3)共役ポリエン構造を有するポリマー ポリアセチレン系ポリマー、ポリフェニレン系ポリマー
等 4)ビニルポリマー ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、酢酸ビニル、ポリビニ
ルアルコール、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリ(メタ)
アクリル酸エステル、ポリアクリルアミド、ポリアクリ
ロニトリル、ポリビニルフェノール等 5)ポリエーテル ポリフェニレンエーテル、ポリオキシラン、ポリオキセ
タン、ポリテトラヒドロフラン、ポリエーテルケトン、
ポリエーテルエーテルケトン、ポリアセタール等 6)フェノール樹脂 ノボラック樹脂、レゾール樹脂等 7)ポリエステル ポリエチレンテレフタレート、ポリフェノールフタレイ
ンテレフタレート、ポリカーボネート、アルキッド樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂等 8)ポリアミド ナイロン−6、ナイロン66、水溶性ナイロン、ポリフ
ェニレンアミド等 9)ポリペプチド ゼラチン、カゼイン等 10)エポキシ樹脂及びその変性物 ノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールエポキシ樹
脂、ノボラックエポキシアクリレート及び酸無水物によ
る変性樹脂等 11)その他 ポリウレタン、ポリイミド、メラミン樹脂、尿素樹脂、
ポリイミダゾール、ポリオキサゾール、ポリピロール、
ポリアニリン、ポリスルフィド、ポリスルホン、セルロ
ース類等
Examples of the coating resin include the following. 1) Polyolefin polymer polyethylene, polypropylene, polyisobutylene, etc. 2) Diene polymer polybutadiene, polyisoprene, etc. 3) Polymer having a conjugated polyene structure Polyacetylene polymer, polyphenylene polymer, etc. 4) Vinyl polymer Polyvinyl chloride, polystyrene, vinyl acetate , Polyvinyl alcohol, poly (meth) acrylic acid, poly (meth)
Acrylic ester, polyacrylamide, polyacrylonitrile, polyvinylphenol, etc. 5) Polyether polyphenylene ether, polyoxirane, polyoxetane, polytetrahydrofuran, polyether ketone,
Polyether ether ketone, polyacetal, etc. 6) Phenolic resin Novolak resin, resole resin, etc. 7) Polyester polyethylene terephthalate, polyphenolphthalein terephthalate, polycarbonate, alkyd resin, unsaturated polyester resin, etc. 8) Polyamide nylon-6, nylon 66, water-soluble Nylon, polyphenylene amide, etc. 9) Polypeptide gelatin, casein, etc. 10) Epoxy resin and its modified products Novolac epoxy resin, bisphenol epoxy resin, novolac epoxy acrylate and modified resin with acid anhydride 11) Other polyurethane, polyimide, melamine resin, Urea resin,
Polyimidazole, polyoxazole, polypyrrole,
Polyaniline, polysulfide, polysulfone, celluloses, etc.

【0081】カーボンブラック(絶縁性カーボンブラッ
クを含む)の添加量は、組成物中、通常10〜60質量
%、好ましくは20〜55質量%、特に好ましくは25
〜50質量%である。
The amount of carbon black (including insulating carbon black) added is usually 10 to 60% by mass, preferably 20 to 55% by mass, and particularly preferably 25% in the composition.
Is about 50% by mass.

【0082】本発明の感放射線性着色組成物には、必要
に応じて各種添加物、例えば充填剤、上記の結着樹脂以
外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等を配合することかでき
る。
In the radiation-sensitive coloring composition of the present invention, various additives such as a filler, a polymer compound other than the above-mentioned binder resin, a surfactant, an adhesion promoter, an antioxidant are added, if necessary. An ultraviolet absorber, an anti-aggregation agent, etc. can be added.

【0083】これらの添加物の具体例としては、ガラ
ス、アルミナ等の充填剤;ポリビニルアルコール、ポリ
アクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエー
テル、ポリフロロアルキルアクリレート等のバインダー
ポリマー(A)以外の高分子化合物;ノニオン系、カチ
オン系、アニオン系等の界面活性剤;ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス
(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエ
チル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤;2,2
−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノー
ル)、2,6−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止
剤:2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキ
シフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコ
キシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤;およびポリアク
リル酸ナトリウム等の凝集防止剤を挙げることができ
る。
Specific examples of these additives include fillers such as glass and alumina; polymer compounds other than the binder polymer (A) such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polyfluoroalkyl acrylate. Nonionic, cationic, anionic and other surfactants; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane ,
N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3
-Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-
Adhesion promoters such as (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane ; 2,2
-Antioxidants such as thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butylphenol: 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5- Examples thereof include ultraviolet absorbers such as chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenone; and aggregation inhibitors such as sodium polyacrylate.

【0084】また、放射線未照射部のアルカリ溶解性を
促進し、本発明の組成物の現像性の更なる向上を図る場
合には、本発明の組成物に有機カルボン酸、好ましくは
分子量1000以下の低分子量有機カルボン酸の添加を
行うことができる。具体的には、例えばギ酸、酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジ
エチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカ
ルボン酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル
酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン
酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチル
マロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラ
メチルコハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン
酸;トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等
の脂肪族トリカルボン酸;安息香酸、トルイル酸、クミ
ン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボ
ン酸;フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメ
リト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等
の芳香族ポリカルボン酸;フェニル酢酸、ヒドロアトロ
パ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク
酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸
ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸
等のその他のカルボン酸が挙げられる。
When the alkali solubility of the unirradiated area is promoted and the developability of the composition of the present invention is further improved, an organic carboxylic acid, preferably a molecular weight of 1,000 or less is added to the composition of the present invention. The low molecular weight organic carboxylic acid can be added. Specifically, for example, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, caprylic acid and other aliphatic monocarboxylic acids; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid. Acids, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, citraconic acid and other aliphatic dicarboxylic acids; tri Aliphatic tricarboxylic acids such as carballylic acid, aconitic acid and camphoronic acid; aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid, mesitylene acid; phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, trimesin Aromatic polycarboxylic acids such as acids, melophanoic acid and pyromellitic acid; phenylacetic acid, Doroatoropa acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenyl succinic acid, atropic acid, cinnamic acid, methyl cinnamate, benzyl cinnamate, cinnamylidene acetic acid, coumaric acid, other carboxylic acids such as umbellic acid.

【0085】本発明の感放射線性着色組成物には以上の
他に、更に、熱重合防止剤を加えておくことが好まし
く、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノー
ル、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、
t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4'−チオ
ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,
2'−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェ
ノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用
である。
In addition to the above, it is preferable to add a thermal polymerization inhibitor to the radiation-sensitive coloring composition of the present invention, for example, hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-. Cresol, pyrogallol,
t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,
2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole and the like are useful.

【0086】本発明の感放射線性着色組成物を調製する
際に使用する溶媒としては、エステル類、例えば酢酸エ
チル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミ
ル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブ
チル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ア
ルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢
酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メト
キシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブ
チル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、
Solvents used in preparing the radiation-sensitive coloring composition of the present invention include esters such as ethyl acetate, -n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, propionic acid. Butyl, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, methyl lactate, ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethoxy Ethyl acetate,

【0087】3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキ
シプロピオン酸エチルなどの3−オキシプロピオン酸ア
ルキルエステル類;3−メトキシプロピオン酸メチル、
3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピ
オン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−
オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エ
チル、2−オキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシ
プロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチ
ル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシ
プロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチ
ル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−
オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ
−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−
メチルプロピオン酸エチル、
3-Oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate; methyl 3-methoxypropionate,
Ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, 2-
Methyl oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, 2-ethoxy Ethyl propionate, 2-oxy-2-methyl methyl propionate, 2-
Ethyl oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, 2-ethoxy-2-
Ethyl methyl propionate,

【0088】ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピ
ルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチ
ル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エ
チル等;エーテル類、例えばジエチレングリコールジメ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル、
Methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate, etc .; ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether,

【0089】プロピレングリコールメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート
等;ケトン類、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等;芳香族炭
化水素類、例えばトルエン、キシレシ等が挙げられる。
Propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate etc .; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone etc .; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylesi etc. Is mentioned.

【0090】これらのうち、3−エトキシプロピオン酸
メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル(EEP)、
エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレン
グリコールジメテルエーテル、酢酸ブチル、3−メトキ
シプロピオン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサ
ノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビト
ールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート(PGMEA)等が好ましく用いられ
る。
Of these, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate (EEP),
Ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimeter ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), etc. are preferably used. To be

【0091】これら溶媒は、単独で用いてもあるいは2
種以上組み合わせて用いてもよい。本発明の感放射線性
着色組成物は、上記主要成分、さらに必要に応じて用い
られるその他の添加剤を溶媒と混合し各種の混合機、分
散機を使用して混合分散することによって調製すること
ができる。
These solvents may be used alone or in a mixture of 2
You may use it in combination of 2 or more types. The radiation-sensitive coloring composition of the present invention is prepared by mixing the above-mentioned main components, and other additives used as necessary with a solvent, and mixing and dispersing using various mixers and dispersers. You can

【0092】本発明の感放射線性着色組成物は、回転塗
布、スリット塗布、流延塗布、ロール塗布等の塗布方法
を用いて、基板上に塗布することにより、感放射線性組
成物層の塗布膜が形成される。前記塗布方法の中でも、
回転塗布、スリット塗布が好ましい。回転塗布は、スピ
ンコーターを用いて、回転させた基板上の中心部に感放
射線性組成物を塗布液として滴下し、基板全面に該塗布
液を流延させて均一な塗布膜を形成する塗布方法であ
る。この方法によれば、比較的簡易な設備で数ミクロン
から1ミクロン以下の均一な厚さの薄膜を精度良く得る
ことができる。スリット塗布は、幅(数十ミクロン)、
長さ(塗布領域の一辺)となる隙間(slit)を持つ塗出
治具(slit head)と、基板との間隔を数十ミクロンに設
定したスリットから感放射線性着色組成物を塗出し、ス
リットヘッドを移動させることにより、基板上に感放射
線性着色組成物の塗布膜を形成する塗布方法である。ス
リット塗布は、回転塗布に比して、少量の塗布液量(回
転塗布の約1/10量)で、塗布膜を形成することができ、
膜厚分布も比較的良好で、均一な塗布膜が得られる。以
上の塗布方法により基板上に形成された塗布膜を乾燥
し、次いで、塗布膜に対して、所定のマスクパターンを
介して露光し、現像液で現像することによって、着色さ
れたパターンを形成する。この際に使用される放射線と
しては、特にg線、h線、i線等の紫外線が好ましく用
いられる。
The radiation-sensitive coloring composition of the present invention is coated on a substrate by a coating method such as spin coating, slit coating, cast coating, roll coating or the like to coat the radiation-sensitive composition layer. A film is formed. Among the coating methods,
Spin coating and slit coating are preferred. The spin coating is a spin coater in which a radiation-sensitive composition is dropped as a coating solution onto the center of a rotated substrate, and the coating solution is cast on the entire surface of the substrate to form a uniform coating film. Is the way. According to this method, a thin film having a uniform thickness of several microns to 1 μm or less can be accurately obtained with relatively simple equipment. For slit application, width (tens of microns),
A coating jig (slit head) having a slit (length of one side of the coating area) and a slit having a gap between the substrate and the substrate set to several tens of microns are used to coat the radiation-sensitive coloring composition and slit. In this coating method, the coating film of the radiation-sensitive coloring composition is formed on the substrate by moving the head. Compared to spin coating, slit coating can form a coating film with a small amount of coating liquid (about 1/10 of spin coating).
The film thickness distribution is relatively good, and a uniform coating film can be obtained. The coating film formed on the substrate by the above coating method is dried, and then the coating film is exposed through a predetermined mask pattern and developed with a developing solution to form a colored pattern. . Ultraviolet rays such as g-rays, h-rays and i-rays are preferably used as the radiation used in this case.

【0093】基板としては、例えば液晶表示素子等に用
いられるソーダガラス、パイレックス(登録商標)ガラ
ス、石英ガラスおよびこれらに透明導電膜を付着させた
ものや、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基
板、例えばシリコン基板等が挙げられる。これらの基板
は、一般的には各画素を隔離するブラックストライプが
形成されている。
As the substrate, for example, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, quartz glass used for liquid crystal display elements and the like, a transparent conductive film attached to these, or a photoelectric conversion element used for a solid-state image pickup element or the like is used. A substrate such as a silicon substrate may be used. These substrates are generally formed with black stripes that separate each pixel.

【0094】現像液としては、本発明の感放射線性着色
組成物を溶解し、一方放射線照射部を溶解しない組成物
であればいかなるものも用いることができる。具体的に
は種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性の水溶液を
用いることができる。有機溶剤としては、本発明の組成
物を調整する際に使用される前述の溶剤が挙げられる。
As the developing solution, any composition can be used as long as it is a composition that dissolves the radiation-sensitive coloring composition of the present invention but does not dissolve the radiation-irradiated portion. Specifically, a combination of various organic solvents and an alkaline aqueous solution can be used. Examples of the organic solvent include the above-mentioned solvents used when preparing the composition of the present invention.

【0095】アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム,硅酸ナトリウ
ム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアン
モニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジ
ン、1,8−ジアザビシクロ−〔5.4.0〕−7−ウ
ンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が0.001〜
10質量%、好ましくは0.01〜1質量%となるよう
に溶解したアルカリ性水溶液が使用される。なお、この
ようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合
には、一般に、現像後、水で洗浄する。
Examples of the alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide. , Choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene and other alkaline compounds at a concentration of 0.001-
An alkaline aqueous solution is used which is dissolved so as to be 10% by mass, preferably 0.01 to 1% by mass. When a developer containing such an alkaline aqueous solution is used, it is generally washed with water after development.

【0096】[0096]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。 (参考例)前記本発明の例示光重合開始剤(1)と特開
平11−38613号公報に記載の下記光重合開始剤
(1)に関して、25℃における溶剤(PGMEA及び
EEP)10g中への飽和溶解度(結晶として析出する
までの溶解量)を測定した。結果を表1に示す。
EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Reference Example Regarding the exemplified photopolymerization initiator (1) of the present invention and the following photopolymerization initiator (1) described in JP-A No. 11-38613, 10 g of the solvent (PGMEA and EEP) at 25 ° C. The saturated solubility (the amount of dissolution until precipitation as crystals) was measured. The results are shown in Table 1.

【0097】[0097]

【化14】 [Chemical 14]

【0098】[0098]

【表1】 [Table 1]

【0099】 (実施例1) ・結着樹脂:ベンジルメタクリレート・メタクリル酸 40部 共重合体(モル比70/30;質量平均分子量 30,000; 酸価 120) ・C.I.Pigment Blue #15:6 50部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 200部 を、サンドミルで一昼夜分散した。[0099] (Example 1) Binder resin: benzyl methacrylate / methacrylic acid 40 parts Copolymer (molar ratio 70/30; mass average molecular weight 30,000; acid value 120) -C. I. Pigment Blue # 15: 650 50 parts ・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 200 parts Was dispersed all day and night with a sand mill.

【0100】次いで、下記の成分を添加した。 ・アクリレートモノマ− 40部 (1)ジペンタエリスリト−ルにエチレンオキシドを 6個付加したヘキサア クリレ−ト 15質量% (2)ジペンタエリスリト−ルにエチレンオキシドを 個付加したペンタア クリレ−ト 85質量% ・本発明の例示光重合開始剤(1) 3部 ・ハイドロキノンモノメチルエーテル 0.01部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 150部Then, the following ingredients were added. -Acrylate monomer 40 parts (1) Hexaacrylate containing 6 ethylene oxides added to dipentaerythritol 15 mass% (2) Pentaacrylate containing 5 ethylene oxides added to dipentaerythritol 85 mass% -Exemplary photopolymerization initiator (1) of the present invention 3 parts-Hydroquinone monomethyl ether 0.01 part-Propylene glycol monomethyl ether acetate 150 parts

【0101】上記各成分を均一に混合後、孔径1μmの
フィルターで濾過し、本発明の感放射線性着色組成物
(カラーフィルター用塗料組成物)を得た。
After uniformly mixing the above components, the mixture was filtered through a filter having a pore size of 1 μm to obtain the radiation-sensitive coloring composition of the present invention (color filter coating composition).

【0102】(実施例2〜3および比較例1〜2)実施
例1において、光重合開始剤の種類および配合割合を下
記のように変更する以外は、実施例1と同様にして感放
射線性着色組成物を得た。 実施例2 前記式(2)で示される光重合開始剤 3部 実施例3 前記式(3)で示される光重合開始剤 3部 比較例1 下記構造の光重合開始剤(比較化合物A) 3部 比較例2 下記構造の光重合開始剤(比較化合物B) 3部
(Examples 2 to 3 and Comparative Examples 1 and 2) Radiation sensitivity was the same as in Example 1 except that the kind and blending ratio of the photopolymerization initiator were changed as follows. A colored composition was obtained. Example 2 Photopolymerization initiator represented by the formula (2) 3 parts Example 3 Photopolymerization initiator represented by the formula (3) 3 parts Comparative Example 1 Photopolymerization initiator having the following structure (Comparative Compound A) 3 Part Comparative Example 2 Photopolymerization initiator having the following structure (Comparative Compound B) 3 parts

【0103】[0103]

【化15】 [Chemical 15]

【0104】[感度(残膜率)評価]上記のように調製し
た組成物を、カラーフィルター用のガラス基板にスピン
コーターで乾燥膜厚が1.5μmとなるように塗布し、
90℃で2分間乾燥させて、均一な塗膜を得た。このと
きの顔料濃度は、固形分換算で37質量%であった。更
に、2.5Kwの超高圧水銀灯を使用し、20μm幅の
マスクを通して100mj/cm2 、150mj/cm
2 及び200mj/cm2 の露光量を照射した。次に
0.1%の炭酸ナトリウム水溶液に浸漬して現像した。
現像後、コンベクションオーブン中で220℃、30分
間ポストベークして、残膜率を測定した。残膜率は、現
像前の膜厚を100%とした。
[Evaluation of sensitivity (residual film rate)] The composition prepared as described above was applied to a glass substrate for a color filter by a spin coater so that the dry film thickness was 1.5 μm,
It was dried at 90 ° C. for 2 minutes to obtain a uniform coating film. The pigment concentration at this time was 37% by mass in terms of solid content. Furthermore, using a 2.5 Kw ultra-high pressure mercury lamp, 100 mj / cm 2 , 150 mj / cm 2 through a mask of 20 μm width.
Irradiation doses of 2 and 200 mj / cm 2 were applied. Then, it was immersed in a 0.1% sodium carbonate aqueous solution for development.
After development, post-baking was performed in a convection oven at 220 ° C. for 30 minutes to measure the residual film rate. Regarding the residual film rate, the film thickness before development was 100%.

【0105】[保存安定性評価]実施例1〜3及び比較例
1〜2の感放射線性着色組成物を褐色の保存用ガラス瓶
に約3.8ml入れて、5℃に保持された保管庫に10
日間及び30日間保存後、前記ガラス瓶の上層、中層及
び下層から前記組成物を採取し、各2枚づつ10cm角
のガラス基板上に1.5μmの厚さで塗布した。乾燥後
300倍率の光学顕微鏡で塗膜面をくまなく観察し、凝
集物、沈殿物、析出物等異物の有無をチェックした。結
果を表2に示す。
[Evaluation of Storage Stability] Approximately 3.8 ml of the radiation-sensitive coloring compositions of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were put in a brown glass bottle for storage and put in a storage kept at 5 ° C. 10
After storage for 30 days and 30 days, the composition was sampled from the upper layer, the middle layer, and the lower layer of the glass bottle, and each of the two compositions was applied onto a 10 cm square glass substrate in a thickness of 1.5 μm. After drying, the coating film surface was thoroughly observed with an optical microscope of 300 magnification to check the presence of foreign matters such as aggregates, precipitates, and precipitates. The results are shown in Table 2.

【0106】[0106]

【表2】 [Table 2]

【0107】表2の結果から明らかなように、本発明の
組成物は高感度でかつ保存安定性に優れていることが判
る。
As is clear from the results shown in Table 2, the composition of the present invention has high sensitivity and excellent storage stability.

【0108】 (実施例4) ・結着樹脂:ベンジルメタクリレート・メタクリル酸 24部 共重合体(モル比70/30;質量平均分子量 30,000; 酸価 120) ・カーボンブラック 63部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 162部 を、サンドミルで一昼夜分散した。[0108] (Example 4) Binder resin: benzyl methacrylate / methacrylic acid 24 parts Copolymer (molar ratio 70/30; mass average molecular weight 30,000; acid value 120) ・ Carbon black 63 parts ・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 162 parts Was dispersed all day and night with a sand mill.

【0109】次いで、下記の成分を添加した。 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 34部 ・上記結着樹脂 10部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 362部 ・本発明の例示光重合開始剤(1) 11部 Then, the following ingredients were added. ・ Dipentaerythritol hexaacrylate 34 parts ・ 10 parts of the above binder resin ・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 362 parts 11 parts of the exemplified photopolymerization initiator (1) of the present invention

【0110】上記各成分を均一に混合後、孔径1μmの
フィルターで濾過し、感放射線性黒色組成物を得た。
After uniformly mixing the above components, the mixture was filtered with a filter having a pore size of 1 μm to obtain a radiation-sensitive black composition.

【0111】(実施例5〜6および比較例3〜4)実施
例4において、光重合開始剤の種類および配合割合を下
記のように変更する以外は、実施例4と同様にして感放
射線性黒色組成物を得た。 実施例5 前記式(2)で示される光重合開始剤 11部 実施例6 前記式(3)で示される光重合開始剤 11部 比較例3 上記比較化合物A 11部 比較例4 上記比較化合物B 11部
(Examples 5 to 6 and Comparative Examples 3 to 4) Radiation sensitivity was the same as in Example 4 except that the type and blending ratio of the photopolymerization initiator were changed as follows. A black composition was obtained. Example 5 11 parts of the photopolymerization initiator represented by the formula (2) Example 6 11 parts of the photopolymerization initiator represented by the formula (3) Comparative Example 3 11 parts of the comparative compound A Comparative example 4 The comparative compound B 11 copies

【0112】[感度(残膜率)評価]上記のように調製し
た組成物を、カラーフィルター用のガラス基板にスピン
コーターで乾燥膜厚が1.2μmとなるように塗布し、
90℃で2分間乾燥させて、均一な塗膜を得た。このと
きの顔料濃度は、固形分換算で44質量%であった。更
に、2.5Kwの超高圧水銀灯を使用し、20μm幅の
マスクを通して100mj/cm2 、200mj/cm
2 及び300mj/cm2 の露光量を照射した。次に
0.05%の水酸化カリウム水溶液に浸漬して現像し
た。現像後、コンベクションオーブン中で220℃、3
0分間ポストベークして、残膜率を測定した。残膜率
は、現像前の膜厚を100%とした。
[Evaluation of Sensitivity (Remaining Film Ratio)] The composition prepared as described above was applied to a glass substrate for a color filter by a spin coater so that the dry film thickness would be 1.2 μm,
It was dried at 90 ° C. for 2 minutes to obtain a uniform coating film. The pigment concentration at this time was 44 mass% in terms of solid content. Furthermore, using a 2.5 Kw ultra-high pressure mercury lamp, through a mask of 20 μm width, 100 mj / cm 2 , 200 mj / cm 2.
Irradiation doses of 2 and 300 mj / cm 2 were applied. Next, it was immersed in a 0.05% aqueous solution of potassium hydroxide for development. After development, 220 ° C in convection oven, 3
After post-baking for 0 minutes, the residual film rate was measured. Regarding the residual film rate, the film thickness before development was 100%.

【0113】[保存安定性評価]実施例5〜6及び比較例
3〜4の感放射線性黒色組成物を褐色の保存用ガラス瓶
に入れ、5℃に保持された保管庫に10日間及び30日
間保存後、瓶の上層、中層及び下層から前記組成物を採
取し、ガラス基板上に乾燥膜厚1.2μmの厚さで塗布
した。これを300倍率の光学顕微鏡で観察し、凝集
物、沈殿物、析出物の有無を検査した。感度(残膜率)
評価及び保存安定性評価の結果を表3に示す。
[Evaluation of Storage Stability] The radiation-sensitive black compositions of Examples 5 to 6 and Comparative Examples 3 to 4 were put into a brown glass bottle for storage, and stored in a storage kept at 5 ° C. for 10 days and 30 days. After storage, the composition was sampled from the upper layer, the middle layer and the lower layer of the bottle, and applied on a glass substrate in a dry film thickness of 1.2 μm. This was observed with an optical microscope at 300 magnifications, and the presence or absence of aggregates, precipitates, and precipitates was inspected. Sensitivity (residual film rate)
Table 3 shows the results of the evaluation and the storage stability evaluation.

【0114】[0114]

【表3】 [Table 3]

【0115】[0115]

【発明の効果】本発明の感放射線性着色組成物は、溶解
性に優れた特定構造の光重合開始剤を用いることによ
り、高感度でかつ保存安定性にも優れている。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The radiation-sensitive coloring composition of the present invention is highly sensitive and excellent in storage stability by using a photopolymerization initiator having a specific structure which is excellent in solubility.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AA04 AA11 AB13 AC01 AD01 BC13 BC42 CA14 CA28 CB43 CC03 CC12 FA17 2H048 BA02 BA11 BA45 BA48 BA58 BB02 BB14 BB15 BB42 BB46 CA04 CA05 CA14 CA19 CA29 4J011 AC04 QA03 QA13 QA22 QA23 QA24 QA25 QB16 SA78 TA03 UA01 VA01 WA01    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H025 AA01 AA04 AA11 AB13 AC01                       AD01 BC13 BC42 CA14 CA28                       CB43 CC03 CC12 FA17                 2H048 BA02 BA11 BA45 BA48 BA58                       BB02 BB14 BB15 BB42 BB46                       CA04 CA05 CA14 CA19 CA29                 4J011 AC04 QA03 QA13 QA22 QA23                       QA24 QA25 QB16 SA78 TA03                       UA01 VA01 WA01

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】感放射線性化合物、結着樹脂、着色剤、お
よび溶剤を含有する感放射線性着色組成物において、該
感放射線性化合物が、下記式(I)及び(II)で表さ
れる化合物からなる群から選択される少なくとも一種の
光重合開始剤を含むことを特徴とする感放射線性着色組
成物。 【化1】 〔式中、R1は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基
を表し、XはF、Cl、Br又はIを表し、nは1〜5
の整数を表し、mは2又は3を表す。〕
1. A radiation-sensitive coloring composition containing a radiation-sensitive compound, a binder resin, a colorant, and a solvent, wherein the radiation-sensitive compound is represented by the following formulas (I) and (II). A radiation-sensitive coloring composition comprising at least one photopolymerization initiator selected from the group consisting of compounds. [Chemical 1] [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, X represents F, Cl, Br or I, and n is 1 to 5
Represents the integer, and m represents 2 or 3. ]
【請求項2】前記着色剤が顔料であって、その平均粒子
径が0.01μm〜0.1μmであり、且つ前記感放射
線性着色組成物中の前記着色剤濃度が固形分換算で30
質量%以上である請求項1に記載の感放射線性着色組成
物。
2. The colorant is a pigment, the average particle diameter is 0.01 μm to 0.1 μm, and the concentration of the colorant in the radiation-sensitive coloring composition is 30 in terms of solid content.
The radiation-sensitive coloring composition according to claim 1, which is contained in an amount of not less than mass%.
【請求項3】結着樹脂がカルボキシル基を有し、且つ3
0〜200の酸価を有する請求項1または2に記載の感
放射線性着色組成物。
3. The binder resin has a carboxyl group, and 3
The radiation-sensitive coloring composition according to claim 1, which has an acid value of 0 to 200.
JP2002221567A 2001-09-18 2002-07-30 Radiation sensitive coloring composition Expired - Fee Related JP4130102B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002221567A JP4130102B2 (en) 2001-09-18 2002-07-30 Radiation sensitive coloring composition
KR1020020048827A KR100855600B1 (en) 2001-09-18 2002-08-19 Radiation sensitive coloring composition

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001-283415 2001-09-18
JP2001283415 2001-09-18
JP2002221567A JP4130102B2 (en) 2001-09-18 2002-07-30 Radiation sensitive coloring composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003167339A true JP2003167339A (en) 2003-06-13
JP4130102B2 JP4130102B2 (en) 2008-08-06

Family

ID=26622423

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002221567A Expired - Fee Related JP4130102B2 (en) 2001-09-18 2002-07-30 Radiation sensitive coloring composition

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4130102B2 (en)
KR (1) KR100855600B1 (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008026858A (en) * 2006-07-18 2008-02-07 Cheil Industries Inc Photosensitive resin composition for color filter and color filter of image sensor using the same
JP2008046267A (en) * 2006-08-11 2008-02-28 Fujifilm Corp Photocurable colored composition and color filter using the same
JP2008268943A (en) * 2007-03-29 2008-11-06 Fujifilm Corp Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device
JP2009053625A (en) * 2007-08-29 2009-03-12 Dainippon Printing Co Ltd Method of manufacturing color filter
WO2013129173A1 (en) * 2012-02-28 2013-09-06 第一工業製薬株式会社 Alkylene oxide-modified dipentaerythritol (meth)acrylate and reactive composition containing same
WO2014103761A1 (en) * 2012-12-26 2014-07-03 第一工業製薬株式会社 Color filter, black matrix, or curable resin composition for circuit formation
JP2018165780A (en) * 2017-03-28 2018-10-25 富士フイルム株式会社 Housing body, housing body manufacturing method, and cured film manufacturing method

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4282518B2 (en) * 2004-03-22 2009-06-24 東京応化工業株式会社 Photosensitive insulating paste composition and photosensitive film using the same
JP4640971B2 (en) * 2005-09-08 2011-03-02 東京応化工業株式会社 Photosensitive resin composition for light shielding pattern formation of plasma display
WO2020090997A1 (en) 2018-11-01 2020-05-07 三和澱粉工業株式会社 Resistant starch and production method thereof

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4029795A1 (en) * 1990-09-20 1992-03-26 Hoechst Ag PHOTOPOLYMERIZABLE MIXTURE AND RECORDING MATERIAL MANUFACTURED THEREOF
DE4204949A1 (en) * 1992-02-19 1993-09-09 Hoechst Ag METHOD FOR PRODUCING A MULTICOLORED IMAGE AND LIGHT-SENSITIVE MATERIAL FOR CARRYING OUT THIS PROCESS
JP3929556B2 (en) * 1997-07-24 2007-06-13 富士フイルム株式会社 Radiation sensitive coloring composition

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008026858A (en) * 2006-07-18 2008-02-07 Cheil Industries Inc Photosensitive resin composition for color filter and color filter of image sensor using the same
JP2008046267A (en) * 2006-08-11 2008-02-28 Fujifilm Corp Photocurable colored composition and color filter using the same
JP4689553B2 (en) * 2006-08-11 2011-05-25 富士フイルム株式会社 Photocurable coloring composition and color filter using the same
JP2008268943A (en) * 2007-03-29 2008-11-06 Fujifilm Corp Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device
JP2009053625A (en) * 2007-08-29 2009-03-12 Dainippon Printing Co Ltd Method of manufacturing color filter
TWI461403B (en) * 2012-02-28 2014-11-21 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd (Meth) acrylate and the reactive composition containing the same
WO2013129173A1 (en) * 2012-02-28 2013-09-06 第一工業製薬株式会社 Alkylene oxide-modified dipentaerythritol (meth)acrylate and reactive composition containing same
JP2013177339A (en) * 2012-02-28 2013-09-09 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd Alkylene oxide-modified dipentaerythritol (meth)acrylate and reactive composition containing the same
US10344112B2 (en) 2012-02-28 2019-07-09 Dai-Ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Alkylene oxide-modified dipentaerythritol (meth)acrylate and reactive composition containing same
CN104159885A (en) * 2012-02-28 2014-11-19 第一工业制药株式会社 Alkylene oxide-modified dipentaerythritol (meth)acrylate and reactive composition containing same
JP2014126653A (en) * 2012-12-26 2014-07-07 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd Curable resin composition for color filter, black matrix or circuit formation
CN104871044A (en) * 2012-12-26 2015-08-26 第一工业制药株式会社 Color filter, black matrix, or curable resin composition for circuit formation
KR20150102015A (en) * 2012-12-26 2015-09-04 다이이치 고교 세이야쿠 가부시키가이샤 Color filter, black matrix, or curable resin composition for circuit formation
CN104871044B (en) * 2012-12-26 2018-08-28 第一工业制药株式会社 Colored filter, black matrix" or circuit formation hardening resin composition
WO2014103761A1 (en) * 2012-12-26 2014-07-03 第一工業製薬株式会社 Color filter, black matrix, or curable resin composition for circuit formation
KR102101239B1 (en) * 2012-12-26 2020-04-17 다이이치 고교 세이야쿠 가부시키가이샤 Color filter, black matrix, or curable resin composition for circuit formation
JP2018165780A (en) * 2017-03-28 2018-10-25 富士フイルム株式会社 Housing body, housing body manufacturing method, and cured film manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
KR100855600B1 (en) 2008-09-01
JP4130102B2 (en) 2008-08-06
KR20030035840A (en) 2003-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3824285B2 (en) Radiation-sensitive coloring composition
JP3564836B2 (en) Radiation-sensitive composition for color filter and color filter
JPH1062986A (en) Radiation sensitive colored composition
US6140016A (en) Photosensitive colored composition for color filter
JPH10142796A (en) Radiation sensitive colored composition
JP4428880B2 (en) Coloring composition and photosensitive coloring composition
JP2000089025A (en) Photosensitive colored composition for color filter
JP4130102B2 (en) Radiation sensitive coloring composition
JPH10160928A (en) Coating composition for green color filter
JP3893443B2 (en) Color filter composition
JP4025191B2 (en) Photocurable composition, color filter, and liquid crystal display device
JP3814667B2 (en) Photosensitive composition for black matrix
JP2005062494A (en) Photosetting composition and color filter using same
JP2004109989A (en) Photocurable composition, component part for lcd using same, as well as component for solid-state imaging device and method for manufacturing them
JP3929556B2 (en) Radiation sensitive coloring composition
JP2003342337A (en) Photo curable resin composition, color filter and liquid crystal display device
JP2007047756A (en) Photocurable composition, color filter, and method for producing same
JPH0962002A (en) Radiation sensitive composition
JP2002372618A (en) Red hardening composition for color filter and color filter using the same
JP4460796B2 (en) Photosensitive coloring composition
JP3753261B2 (en) Radiation-sensitive coloring composition
JP2001350011A (en) Radiation-sensitive colored composition for color filter
JP3773128B2 (en) Radiation sensitive composition
JP2001033615A (en) Red coloring composition for color filter
JP2002022934A (en) Radiation sensitive color filter composition

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050407

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060425

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070511

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070516

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070606

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070718

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070913

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20071119

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071205

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080129

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20080305

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080430

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080520

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110530

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110530

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120530

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130530

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140530

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees