JP2003166098A - Composition for anodizing magnesium alloy and anodizing method - Google Patents

Composition for anodizing magnesium alloy and anodizing method

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JP2003166098A
JP2003166098A JP2001365751A JP2001365751A JP2003166098A JP 2003166098 A JP2003166098 A JP 2003166098A JP 2001365751 A JP2001365751 A JP 2001365751A JP 2001365751 A JP2001365751 A JP 2001365751A JP 2003166098 A JP2003166098 A JP 2003166098A
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俊之 高橋
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健樹 松村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for forming an anodic oxide film having superior corrosion resistance without using hazardous heavy metal salts, and to provide an anodizing method. <P>SOLUTION: The composition for anodizing a magnesium alloy includes a silicate compound, an aluminum compound, a surface conditioner, a base, and water. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、マグネシウム合金
材料の陽極酸化処理に用いる組成物及びマグネシウム合
金材料の表面処理方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a composition used for anodizing a magnesium alloy material and a method for surface treating a magnesium alloy material.

【0002】[0002]

【従来の技術】マグネシウム合金は比較的新しい金属材
料であり、リサイクル法の成立によってリサイクルしに
くいプラスチック材料からの置き換え、マグネシウム合
金の持つ軽量性を利用した携帯電話やノート型パーソナ
ルコンピューターなどの筐体部分の材質などとして利用
範囲が増加している材料である。
2. Description of the Related Art Magnesium alloy is a relatively new metal material, and it is replaced by a plastic material that is difficult to recycle due to the enactment of the Recycling Law, and the weight of magnesium alloy is used to make housings for mobile phones and notebook personal computers. It is a material whose usage range is increasing as the material of the part.

【0003】マグネシウム合金の主成分であるマグネシ
ウムは、アルカリ土類金属に属する反応性の高い金属で
ある。従って、マグネシウム合金材料は、他の材料と比
較して耐食性が著しく劣っている。
Magnesium, which is the main component of the magnesium alloy, is a highly reactive metal belonging to the alkaline earth metals. Therefore, the magnesium alloy material is significantly inferior in corrosion resistance to other materials.

【0004】そこで、従来、マグネシウム合金材料の耐
食性を向上させるために、六価クロム酸塩やマンガン酸
塩、過マンガン酸塩の重金属塩を用いて陽極酸化皮膜を
形成することが行われている。しかしながら、これら重
金属塩類を用いた陽極酸化は、重金属塩類による排水の
汚染をもたらし、環境保全の観点からは好ましいもので
はない。
Therefore, conventionally, in order to improve the corrosion resistance of the magnesium alloy material, a heavy metal salt of hexavalent chromate, manganate or permanganate is used to form an anodized film. . However, anodic oxidation using these heavy metal salts causes pollution of wastewater by the heavy metal salts and is not preferable from the viewpoint of environmental protection.

【0005】特開平9−176894号公報には、アル
カリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩又は
重炭酸塩を1種類以上含む水溶液に、ケイ酸化物、水酸
基を有する有機化合物などの皮膜形成安定剤を添加して
なる電解液中が提案されているが、充分な耐食性を有す
る陽極酸化皮膜は得られていない。
JP-A-9-176894 discloses that an aqueous solution containing at least one kind of hydroxide, carbonate or bicarbonate of an alkali metal or an alkaline earth metal is added to an organic compound having a silicon oxide or a hydroxyl group. It has been proposed to use an electrolyte solution containing a film formation stabilizer, but an anodic oxide film having sufficient corrosion resistance has not been obtained.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、有害な重金
属塩を用いることなく、優れた耐食性を有する陽極酸化
皮膜を形成することができる陽極酸化処理用組成物及び
陽極酸化方法を提供することを目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention provides a composition for anodizing treatment and an anodizing method capable of forming an anodized film having excellent corrosion resistance without using harmful heavy metal salts. With the goal.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、ケイ酸化合
物、アルミニウム化合物、表面調整剤、塩基及び水を含
有する組成物を、マグネシウム合金の陽極酸化処理に用
いることにより上記目的を達成できることを見出し、本
発明を完成するに至った。
The present inventors can achieve the above object by using a composition containing a silicic acid compound, an aluminum compound, a surface conditioner, a base and water for anodizing treatment of a magnesium alloy. The present invention has been completed and the present invention has been completed.

【0008】即ち、本発明は、下記の各項に係る発明を
提供するものである。 項1 ケイ酸化合物、アルミニウム化合物、表面調整
剤、塩基及び水を含有することを特徴とするマグネシウ
ム合金の陽極酸化処理組成物。 項2 さらに、チオシアン酸化合物を含有することを特
徴とする項1に記載の組成物。 項3 水1Lに対して、ケイ酸化合物を0.01〜10mol
(無水物として)、アルミニウム化合物を0.01〜10mo
l、表面調整剤を0.01〜10mol、塩基を0.1〜10mol含有す
ることを特徴とする項1に記載の組成物。 項4 水1Lに対して、ケイ酸化合物を0.01〜10mol
(無水物として)、アルミニウム化合物を0.01〜10mo
l、表面調整剤を0.01〜10mol、塩基を0.1〜10mol、チオ
シアン酸化合物を0.01〜10mol含有することを特徴とす
る項2に記載の組成物。 項5 表面調整剤がグリコール化合物であり、塩基がア
ルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩又
は重炭酸塩の少なくとも1種であることを特徴とする項
1又は2に記載の組成物。 項6 ケイ酸化合物が、ケイ酸ナトリウム及びケイ酸リ
チウムの少なくとも1種であり、アルミニウム化合物
が、硝酸アルミニウム、リン酸アルミニウム、硫酸アル
ミニウム、塩化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、ア
ルミン酸ナトリウム及びアルミン酸カリウムの少なくと
も1種であり、表面調整剤が、エチレングリコール、エ
チルグリコール、エチルジグリコール、エチルトリグリ
コール、ブチルグリコール及びブチルジグリコールの少
なくとも1種であり、塩基が、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム及び水酸化リチウムの少なくとも1種である
ことを特徴とする項1に記載の組成物。 項7 ケイ酸化合物が、ケイ酸ナトリウム及びケイ酸リ
チウムの少なくとも1種であり、アルミニウム化合物
が、硝酸アルミニウム、リン酸アルミニウム、硫酸アル
ミニウム、塩化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、ア
ルミン酸ナトリウム及びアルミン酸カリウムの少なくと
も1種であり、表面調整剤が、エチレングリコール、エ
チルグリコール、エチルジグリコール、エチルトリグリ
コール、ブチルグリコール及びブチルジグリコールの少
なくとも1種であり、塩基が、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム及び水酸化リチウムの少なくとも1種であ
り、チオシアン酸化合物が、チオシアン酸カリウム、チ
オシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カルシウム及びチ
オシアン酸アンモニウムの少なくとも1種であることを
特徴とする項2に記載の組成物。 項8 マグネシウム合金を、項1に記載の組成物に浸漬
して陽極酸化処理を行い、得られた陽極酸化皮膜の封孔
処理をすることを特徴とするマグネシウム合金の表面処
理方法。 項9 封孔処理に用いる封孔処理剤として、側鎖に1級
アミノ基を含有する高分子を用いることを特徴とする項
8に記載の表面処理方法。 項10 封孔処理剤として、側鎖に1級アミノ基を含有
する高分子、エポキシ樹脂およびシランカップリング剤
を含有する組成物を用いることを特徴とする項9に記載
の表面処理方法。 項11 ケイ酸及びアルミナ、並びにケイ素とアルミニ
ウムの複合酸化物の少なくとも1種を含有する陽極酸化
皮膜を有するマグネシウム合金。 項12 項11に記載のマグネシウム合金からなる成形
体。
That is, the present invention provides the invention according to the following items. Item 1. An anodizing composition for a magnesium alloy, which contains a silicic acid compound, an aluminum compound, a surface conditioner, a base and water. Item 2 The composition according to Item 1, further containing a thiocyanic acid compound. Item 3 0.01 to 10 mol of silicic acid compound per 1 L of water
(As an anhydride), aluminum compound 0.01 ~ 10mo
Item 1. The composition according to Item 1, which contains 0.01 to 10 mol of a surface conditioner and 0.1 to 10 mol of a base. Item 4 0.01 to 10 mol of silicic acid compound per 1 L of water
(As an anhydride), aluminum compound 0.01 ~ 10mo
Item 3. The composition according to Item 2, which contains 0.01 to 10 mol of a surface conditioner, 0.1 to 10 mol of a base, and 0.01 to 10 mol of a thiocyanic acid compound. Item 5 The composition according to Item 1 or 2, wherein the surface modifier is a glycol compound and the base is at least one kind of hydroxide, carbonate or bicarbonate of an alkali metal or an alkaline earth metal. object. Item 6 The silicic acid compound is at least one of sodium silicate and lithium silicate, and the aluminum compound is aluminum nitrate, aluminum phosphate, aluminum sulfate, aluminum chloride, aluminum silicate, sodium aluminate or potassium aluminate. At least one kind, the surface modifier is at least one kind of ethylene glycol, ethyl glycol, ethyl diglycol, ethyl triglycol, butyl glycol and butyl diglycol, and the base is sodium hydroxide, potassium hydroxide and water. Item 2. The composition according to Item 1, which is at least one kind of lithium oxide. Item 7 The silicic acid compound is at least one of sodium silicate and lithium silicate, and the aluminum compound is aluminum nitrate, aluminum phosphate, aluminum sulfate, aluminum chloride, aluminum silicate, sodium aluminate or potassium aluminate. At least one kind, the surface modifier is at least one kind of ethylene glycol, ethyl glycol, ethyl diglycol, ethyl triglycol, butyl glycol and butyl diglycol, and the base is sodium hydroxide, potassium hydroxide and water. Item 3. The composition according to Item 2, which is at least one kind of lithium oxide and the thiocyanate compound is at least one kind of potassium thiocyanate, sodium thiocyanate, calcium thiocyanate and ammonium thiocyanate. Item 8. A surface treatment method for a magnesium alloy, which comprises immersing the magnesium alloy in the composition according to Item 1 to perform anodizing treatment, and sealing the resulting anodized film. Item 9. The surface treatment method according to Item 8, wherein a polymer having a primary amino group in a side chain is used as a pore-sealing agent used for the pore-sealing treatment. Item 10. The surface treatment method according to Item 9, wherein a composition containing a polymer having a primary amino group in a side chain, an epoxy resin, and a silane coupling agent is used as the pore-sealing agent. Item 11 A magnesium alloy having an anodized film containing silicic acid and alumina, and at least one compound oxide of silicon and aluminum. Item 12 A molded product made of the magnesium alloy according to Item 11.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.

【0010】本発明の組成物は、ケイ酸化合物、アルミ
ニウム化合物、表面調整剤、塩基及び水を含有する。
The composition of the present invention contains a silicic acid compound, an aluminum compound, a surface conditioner, a base and water.

【0011】ケイ酸化合物としては、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸リチウムなどのケイ酸塩が挙げられる。ケイ
酸化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて
用いることができる。
Examples of the silicic acid compound include silicates such as sodium silicate and lithium silicate. The silicic acid compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0012】アルミニウム化合物としては、硝酸アルミ
ニウム、リン酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化
アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、アルミン酸ナトリ
ウム、アルミン酸カリウムなどが例示できる。アルミニ
ウム化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせ
て用いることができる。
Examples of the aluminum compound include aluminum nitrate, aluminum phosphate, aluminum sulfate, aluminum chloride, aluminum silicate, sodium aluminate, potassium aluminate and the like. The aluminum compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0013】表面調整剤は、アルコール基、エーテル基
などを有する極性物質であればよく、例えば、アルコー
ルなどのプロトン性溶媒を好ましく用いることができ
る。アルコールとしては、具体的には、エチレングリコ
ール、エチルグリコール、エチルジグリコール、エチル
トリグリコール、ブチルグリコール、ブチルジグリコー
ルなどのグリコール化合物が好ましく例示できる。表面
調整剤としては、多価アルコールが好ましく、例示され
た化合物の中でもエチレングリコールがより好ましい。
これら表面調整剤は、1種を単独で又は2種以上を組み
合わせて用いることができる。表面調整剤は、電解液
(陽極酸化処理組成物)の表面張力を緩和することで酸
化膜表面を安定させていると思われる。
The surface conditioner may be any polar substance having an alcohol group, an ether group, etc. For example, a protic solvent such as alcohol can be preferably used. As the alcohol, specifically, glycol compounds such as ethylene glycol, ethyl glycol, ethyl diglycol, ethyl triglycol, butyl glycol and butyl diglycol can be preferably exemplified. As the surface conditioner, polyhydric alcohols are preferable, and among the exemplified compounds, ethylene glycol is more preferable.
These surface modifiers can be used alone or in combination of two or more. It is considered that the surface conditioner stabilizes the surface of the oxide film by relaxing the surface tension of the electrolytic solution (anodizing composition).

【0014】塩基としては、アルカリ金属又はアルカリ
土類金属の、水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩などが好まし
く用いられ、水酸化物がより好ましい。具体的には、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなど
のアルカリ金属の水酸化物が例示できる。塩基は、1種
を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができ
る。
As the base, hydroxides, carbonates, bicarbonates and the like of alkali metals or alkaline earth metals are preferably used, and hydroxides are more preferable. Specific examples thereof include hydroxides of alkali metals such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. The base may be used alone or in combination of two or more.

【0015】本発明の組成物は、上記成分に加えて、さ
らに、チオシアン酸化合物を含有していてもよい。チオ
シアン酸化合物を添加すると、耐食性が向上し、且つ、
塗膜の密着性も大幅に向上する。
The composition of the present invention may further contain a thiocyanate compound in addition to the above components. Addition of a thiocyanate compound improves the corrosion resistance, and
The adhesion of the coating film is also greatly improved.

【0016】チオシアン酸化合物としては、チオシアン
酸カリウム、チオシアン酸ナトリウムなどのチオシアン
酸のアルカリ金属塩、チオシアン酸カルシウムなどのチ
オシアン酸のアルカリ土類金属塩などのチオシアン酸
塩;チオシアン酸アンモニウムなどが例示できる。チオ
シアン酸化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合
わせて用いることができる。
Examples of thiocyanate compounds include alkali metal salts of thiocyanic acid such as potassium thiocyanate and sodium thiocyanate, thiocyanates such as alkaline earth metal salts of thiocyanic acid such as calcium thiocyanate; ammonium thiocyanate and the like. it can. The thiocyanic acid compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0017】本発明組成物において、各成分の配合量
は、本発明所期の効果が得られるようなものであれば特
に限定されず各成分の種類に応じて適宜設定することが
できるが、通常、水1Lに対して、ケイ酸化合物0.01〜
10mol(無水物として)程度、特に0.02〜5mol(無水物
として)程度;アルミニウム化合物0.01〜10mol程度、
特に0.02〜5mol程度、さらに0.04〜5mol程度;表面調整
剤0.01〜10mol、特に0.02〜5mol程度、さらに0.3〜5mol
程度;塩基0.1〜10mol程度、特に0.2〜10mol程度とする
ことが好ましい。
In the composition of the present invention, the blending amount of each component is not particularly limited as long as the intended effect of the present invention can be obtained, and can be appropriately set according to the type of each component. Normally, with respect to 1 L of water, a silicic acid compound of 0.01 to
About 10 mol (as an anhydride), especially about 0.02-5 mol (as an anhydride); about 0.01-10 mol of aluminum compound,
Especially about 0.02 to 5 mol, further about 0.04 to 5 mol; surface conditioning agent 0.01 to 10 mol, especially about 0.02 to 5 mol, further 0.3 to 5 mol
Amount: base 0.1 to 10 mol, preferably 0.2 to 10 mol.

【0018】ケイ酸化合物として、例えば3号水ガラス
を用いる場合の使用量は、上記したモル濃度の範囲にな
るように設定すればよく、水1Lに対して、1.2〜1000
g程度、特に2.4〜500g程度とするのが好ましい。
When using, for example, No. 3 water glass as the silicic acid compound, the amount used may be set so as to be in the above-mentioned molar concentration range, and 1.2 to 1000 per 1 L of water.
It is preferably about g, particularly about 2.4 to 500 g.

【0019】チオシアン酸化合物を配合する場合の配合
量は、通常、水1Lに対して、チオシアン酸化合物を0.
01〜10mol程度、特に0.02〜5mol程度配合することが好
ましい。
When the thiocyanic acid compound is added, the amount of the thiocyanic acid compound added is usually 0.
It is preferable to add about 01 to 10 mol, particularly about 0.02 to 5 mol.

【0020】本発明の組成物には、上記した成分以外に
も、アセチレニックアルコール、界面活性剤などを配合
することができる。
In addition to the above components, the composition of the present invention may contain acetylenic alcohol, a surfactant and the like.

【0021】本発明の組成物は、水に所定量の成分を溶
解させることにより調製することができる。
The composition of the present invention can be prepared by dissolving predetermined amounts of components in water.

【0022】かくして得られた組成物に、マグネシウム
合金を浸漬して電解(陽極酸化処理)を行い、マグネシ
ウム合金の表面に陽極酸化皮膜を得ることができる。
A magnesium alloy is immersed in the composition thus obtained and electrolysis (anodizing treatment) is performed to obtain an anodized film on the surface of the magnesium alloy.

【0023】陽極酸化処理の対象となるマグネシウム合
金としては、例えば、Li:5〜16重量%, Y,Zn, Al, Ag, M
n, Si,Ca,Zr,ランタノイドの少なくとも1種:6重量%以
下, Mg:残部という組成を有するような合金が挙げられ
る。
The magnesium alloy to be anodized is, for example, Li: 5 to 16% by weight, Y, Zn, Al, Ag, M.
An alloy having a composition of at least one of n, Si, Ca, Zr and lanthanoid: 6% by weight or less and Mg: balance is included.

【0024】本発明において、マグネシウム合金は、通
常、プレス加工などの塑性加工、ダイキャスト法、チク
ソモールド法などにより、所望の形状の成形体に加工し
た後に陽極酸化処理に供される。
In the present invention, the magnesium alloy is usually subjected to anodic oxidation after being processed into a molded product having a desired shape by plastic working such as press working, die casting, thixomolding and the like.

【0025】陽極酸化皮膜の膜厚としては、用途に応じ
た耐食性などが得られるようなものであれば特に限定さ
れるものではないが、通常、0.5〜30μm程度、好
ましくは1〜20μm程度である。陽極酸化処理の条件
は、所望の膜厚が得られるように、組成物に含まれる各
成分の種類、濃度などに応じて適宜設定することができ
る。
The thickness of the anodic oxide coating is not particularly limited as long as it provides corrosion resistance suitable for the intended use, but is usually about 0.5 to 30 μm, preferably 1 to 20 μm. It is a degree. The conditions of the anodizing treatment can be appropriately set depending on the type and concentration of each component contained in the composition so that a desired film thickness can be obtained.

【0026】具体的には、浴温は20〜90℃程度が好
ましく、30〜80℃程度とするのがより好ましい。電
解時間は、通常、2〜40分間程度であり、5〜30分
間程度が好ましい。電解の際の供給電源には、直流電
源、交流電源、PR電源、パルス電源等、任意の電源を
用いることができる。電流密度は、0.1〜30A/dm2
程度が好ましく、0.5〜20A/dm2程度がより好まし
い。
Specifically, the bath temperature is preferably about 20 to 90 ° C, more preferably about 30 to 80 ° C. The electrolysis time is usually about 2 to 40 minutes, preferably about 5 to 30 minutes. As a power supply for electrolysis, any power supply such as a DC power supply, an AC power supply, a PR power supply, and a pulse power supply can be used. Current density is 0.1-30A / dm 2
The degree is preferably about 0.5 to 20 A / dm 2 and more preferable.

【0027】陽極酸化により得られた皮膜は、通常、開
口部をもった空孔を有しており、かかる空孔から腐食が
生じ易い。従って、陽極酸化を行った後、通常、該空孔
を被覆するための封孔処理が行われる。
The film obtained by anodic oxidation usually has pores having openings, and corrosion easily occurs from the pores. Therefore, after the anodization is performed, usually, a sealing treatment for covering the pores is performed.

【0028】封孔処理は、通常、陽極酸化皮膜の封孔処
理に用いられているような封孔処理剤を用いて行うこと
ができる。封孔処理剤としては、例えば、側鎖に1級ア
ミノ基を含有する高分子(好ましくは、数平均分子量3
00〜500,000程度の高分子)が好ましく用いら
れる。かかる高分子としては、ポリエチレンイミンとメ
タクリル酸のグラフト重合体が挙げられる。封孔処理剤
には、かかる高分子に加えて、ソルビトールポリグリシ
ジルエーテル、グリセリンポリグリシジルエーテルなど
のエポキシ樹脂、ビニルトリメトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、p−スチリルト
リメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチル
ジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ランなどのシランカップリング剤などを配合してもよ
い。
The pore-sealing treatment can be carried out using a pore-sealing agent which is usually used for sealing the anodized film. As the pore-sealing agent, for example, a polymer containing a primary amino group in its side chain (preferably a number average molecular weight of 3
Polymers of about 00 to 500,000 are preferably used. Examples of such a polymer include a graft polymer of polyethyleneimine and methacrylic acid. In addition to such polymers, the pore-sealing agent includes epoxy resins such as sorbitol polyglycidyl ether and glycerin polyglycidyl ether, vinyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, A silane coupling agent such as γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane or γ-aminopropyltriethoxysilane may be added.

【0029】封孔処理の条件は、封孔処理剤の種類に応
じて適宜設定することができるが、例えば、溶剤で希釈
した後、その溶液に陽極酸化皮膜を浸漬させて含浸さ
せ、20〜250℃程度にて30秒〜60分間程度処理
すればよい。
The conditions for the pore-sealing treatment can be appropriately set depending on the kind of the pore-sealing treatment agent. For example, after diluting with a solvent, the anodic oxide film is dipped in the solution to impregnate it with 20 to 20. The treatment may be performed at about 250 ° C. for about 30 seconds to 60 minutes.

【0030】かくして得られた陽極酸化皮膜は、ケイ酸
及びアルミナ、又はケイ素とアルミニウムの複合酸化物
を主成分として含有するものである。かかる陽極酸化皮
膜を有するマグネシウム合金乃至マグネシウム合金の成
形体も、本発明に含まれる。
The anodic oxide film thus obtained contains silicic acid and alumina, or a composite oxide of silicon and aluminum as a main component. A magnesium alloy or a molded body of a magnesium alloy having such an anodized film is also included in the present invention.

【0031】本発明の成形体は、さらに、最終的な製品
の製造に用いることができ、例えば、携帯電話、PHS、P
DA(Personal Digital Assistance)などの移動情報端
末;ノート型パソコン;デジタルビデオ、デジタルカメ
ラなどの映像機器;産業ロボット、エンターテインメン
トロボットなどのロボット;CDプレイヤー、MDプレイヤ
ー、ポータブルカセットディスク、ポータブルDVDなど
の情報記録及び/又は再生装置;ゲーム機器の筐体部
分、内部機構部品(例えば、ゲーム機器の内部ピックア
ップ)などの用途に用いることができる。また、該成形
体は、自動車部品、航空宇宙産業用部品(人工衛星の筐
体、太陽電池用パドルの支え、宇宙ステーションの構造
材)などにも用いることができる。
The molded product of the present invention can be further used for manufacturing a final product, for example, a mobile phone, PHS, P.
Mobile information terminals such as DA (Personal Digital Assistance); notebook computers; video equipment such as digital video and digital cameras; robots such as industrial robots and entertainment robots; information about CD players, MD players, portable cassette disks, portable DVDs, etc. The recording and / or reproducing apparatus can be used for a housing part of a game machine, an internal mechanical part (for example, an internal pickup of a game machine) and the like. The molded product can also be used for automobile parts, parts for the aerospace industry (casings for artificial satellites, support for paddles for solar cells, structural materials for space stations, etc.).

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明の陽極酸化処理組成物によれば、
マグネシウム合金に対して優れた耐食性を付与すること
ができる。また、本発明によれば、有害物質(重金属
塩)を含んだ処理液を用いる工程を経ることなく、陽極
酸化皮膜が形成される。したがって、形成される陽極酸
化皮膜にも有害物質が含まれることはなく、例えばリサ
イクルの際に環境汚染が問題になることはない。
According to the anodizing composition of the present invention,
It is possible to impart excellent corrosion resistance to a magnesium alloy. Further, according to the present invention, the anodic oxide film is formed without the step of using the treatment liquid containing the harmful substance (heavy metal salt). Therefore, the formed anodic oxide film does not contain harmful substances, and environmental pollution does not pose a problem during recycling, for example.

【0033】[0033]

【実施例】以下に実施例を示して本発明をより詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0034】試験例1(Li系Mg合金の陽極酸化) 下記に示すリチウム系マグネシウム合金(LW91)の試験
片を脱脂し、エッチングした後、下記表1に示す組成物
を用いて陽極酸化を行った。 試験片:Li:9重量%、Y:1重量%、Mg:90重量%のマ
グネシウム合金 脱 脂:5%NaOH、60℃、3分間超音波脱脂 エッチング:5%リン酸、60℃、20秒間浸漬処理 陽極酸化条件:定電流電解法、電解装置:北斗電工製HA
310型使用60℃、4A/dm2、20分間陽極酸化
Test Example 1 (Anodic oxidation of Li-based Mg alloy) After degreasing and etching the test piece of lithium-based magnesium alloy (LW91) shown below, anodization was performed using the composition shown in Table 1 below. It was Specimen: Li: 9% by weight, Y: 1% by weight, Mg: 90% by weight, magnesium alloy degreasing: 5% NaOH, 60 ° C, 3 minutes Ultrasonic degreasing etching: 5% phosphoric acid, 60 ° C, 20 seconds Immersion treatment Anodizing condition: Constant current electrolysis method, Electrolysis device: HA by Hokuto Denko
Type 310 used 60 ° C, 4A / dm 2 , 20 minutes anodic oxidation

【0035】[0035]

【表1】 [Table 1]

【0036】[0036]

【表2】 [Table 2]

【0037】表1及び後述の表中、「水ガラス」は、3
号水ガラス(ケイ酸ナトリウム)を示す。また、表1及
び後述の表中、「LSS-75」はリチウムシリケートを示
す。
In Table 1 and the table below, "water glass" is 3
No. water glass (sodium silicate) is shown. In addition, in Table 1 and the table described later, “LSS-75” represents lithium silicate.

【0038】得られた試験片の陽極処理酸化膜の膜厚を
測定した。また、酸化膜の封孔処理後、長さ30mmのカッ
トを入れたもの、および入れないものについて塩水噴霧
試験を行ってその耐食性を評価した。 膜厚測定:株式会社フィッシャーインスツルメンツ製:
イソスコープMP30型 封孔処理:株式会社日本触媒製のポリメントNK−380
(ポリエチレンイミンとメタクリル酸の重合体)を2−
ブタノンで2倍希釈した後、陽極酸化処理後の試験片を
浸漬処理し、60℃で10分間処理することにより焼き付け
た。 塩水噴霧試験条件(SST試験):5%NaCl、35±1℃、24
時間 SST試験装置:スガ試験機株式会社製CASS90型使用 結果を表2に示す。
The thickness of the anodized oxide film of the obtained test piece was measured. In addition, after the oxide film was sealed, a salt spray test was carried out for those with and without the cut of 30 mm in length to evaluate their corrosion resistance. Film thickness measurement: Made by Fisher Instruments Inc .:
Isoscope MP30 type sealing treatment: Polyment NK-380 manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.
(Polyethyleneimine and methacrylic acid polymer)
After being diluted 2-fold with butanone, the anodized test piece was dipped and baked at 60 ° C. for 10 minutes. Salt spray test conditions (SST test): 5% NaCl, 35 ± 1 ℃, 24
Table 2 shows the results of using the SASS tester manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. with the CASS90 model.

【0039】[0039]

【表3】 [Table 3]

【0040】実施例の陽極酸化皮膜はいずれも全く点錆
が発生せず、またカット幅が広がることなく、優れた耐
食性を示した。
The anodic oxide coatings of the examples all showed excellent corrosion resistance with no rust spots and no widening of the cut width.

【0041】試験例2(AZ31B合金の陽極酸化) 下記に示すマグネシウム合金(AZ31B)の試験片を脱脂
し、エッチングした後、下記表3に示す組成物を用いて
陽極酸化を行った。 試験片:AZ31Bのマグネシウム合金(Al:3重量%, Zn:1重
量%, Mg:96重量%) 脱 脂:5%NaOH、60℃、3分間超音波脱脂 エッチング:5%リン酸、60℃、20秒間浸漬処理 スマット除去:10%水酸化ナトリウム、60℃、5分間浸漬
処理 陽極酸化条件:定電流電解法、電解装置:北斗電工製HA
310型使用60℃、4A/dm2、20分間陽極酸化
Test Example 2 (Anodic Oxidation of AZ31B Alloy) Specimens of magnesium alloy (AZ31B) shown below were degreased and etched, and then anodized using the compositions shown in Table 3 below. Specimen: AZ31B magnesium alloy (Al: 3% by weight, Zn: 1% by weight, Mg: 96% by weight) Degreasing: 5% NaOH, 60 ℃, 3 minutes ultrasonic degreasing etching: 5% phosphoric acid, 60 ℃ , 20 seconds immersion treatment Smut removal: 10% sodium hydroxide, 60 ° C, 5 minutes immersion treatment Anodizing condition: constant current electrolysis method, electrolysis device: Hokuto Denko HA
Type 310 used 60 ° C, 4A / dm 2 , 20 minutes anodic oxidation

【0042】[0042]

【表4】 [Table 4]

【0043】得られた試験片の陽極処理酸化膜の膜厚を
測定した。また、酸化膜の封孔処理後、長さ30mmのカッ
トを入れたもの、および入れないものについて塩水噴霧
試験を行ってその耐食性を評価した。 膜厚測定:株式会社フィッシャーインスツルメンツ製:
イソスコープMP30型 封孔処理:株式会社日本触媒製のポリメントNK−380
(ポリエチレンイミンとメタクリル酸の重合体)を2−
ブタノンで2倍希釈した後、陽極酸化処理後の試験片を
浸漬処理し、60℃で10分間処理することにより焼き付け
た。 塩水噴霧試験条件(SST試験):5%NaCl、35±1℃、120
時間 SST試験装置:スガ試験機株式会社製CASS90型使用 結果を表4に示す。
The film thickness of the anodized oxide film of the obtained test piece was measured. In addition, after the oxide film was sealed, a salt spray test was carried out for those with and without the cut of 30 mm in length to evaluate their corrosion resistance. Film thickness measurement: Made by Fisher Instruments Inc .:
Isoscope MP30 type sealing treatment: Polyment NK-380 manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.
(Polyethyleneimine and methacrylic acid polymer)
After being diluted 2-fold with butanone, the anodized test piece was dipped and baked at 60 ° C. for 10 minutes. Salt spray test conditions (SST test): 5% NaCl, 35 ± 1 ℃, 120
Table 4 shows the results of using the time SST test apparatus: CASS90 type manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

【0044】[0044]

【表5】 [Table 5]

【0045】実施例の陽極酸化皮膜はいずれも全く点錆
が発生せず、またカット幅が広がることなく、優れた耐
食性を示した。
The anodic oxide coatings of the examples all showed excellent corrosion resistance with no rust spots and no widening of the cut width.

【0046】試験例3(Li系Mg合金の陽極酸化) 各成分の濃度変化と得られる陽極酸化皮膜に対する影響
を評価するため、リチウムシリケート、硝酸アルミニウ
ム及びエチレングリコールの濃度をそれぞれ表5〜7に
示す通り変化させた組成物を用いて、下記に示すリチウ
ム系マグネシウム合金(LW91)の試験片を脱脂・エッチ
ングした後、陽極酸化を行った。 試験片:Li:9重量%、Y:1重量%、Mg:90重量%のマ
グネシウム合金 脱 脂:5%NaOH、60℃、3分間超音波脱脂 エッチング:5%リン酸、60℃、20秒間浸漬処理 陽極酸化条件:定電流電解法、電解装置:北斗電工製HA
310型使用60℃、4A/dm2、20分間陽極酸化
Test Example 3 (Anodic Oxidation of Li-based Mg Alloy) In order to evaluate the change in the concentration of each component and the effect on the obtained anodic oxide film, the concentrations of lithium silicate, aluminum nitrate and ethylene glycol are shown in Tables 5 to 7, respectively. Using the composition changed as shown, a lithium-based magnesium alloy (LW91) test piece shown below was degreased and etched, and then anodized. Specimen: Li: 9% by weight, Y: 1% by weight, Mg: 90% by weight, magnesium alloy degreasing: 5% NaOH, 60 ° C, 3 minutes Ultrasonic degreasing etching: 5% phosphoric acid, 60 ° C, 20 seconds Immersion treatment Anodizing condition: Constant current electrolysis method, Electrolysis device: HA by Hokuto Denko
Type 310 used 60 ° C, 4A / dm 2 , 20 minutes anodic oxidation

【0047】[0047]

【表6】 [Table 6]

【0048】[0048]

【表7】 [Table 7]

【0049】[0049]

【表8】 [Table 8]

【0050】得られた試験片の陽極処理酸化膜の膜厚を
測定した。また、酸化膜の封孔処理後、長さ30mmのカッ
トを入れたもの、および入れないものについて塩水噴霧
試験を行ってその耐食性を評価した。 膜厚測定:株式会社フィッシャーインスツルメンツ製:
イソスコープMP30型 封孔処理:株式会社日本触媒製のポリメントNK−380
(ポリエチレンイミンとメタクリル酸の重合体)を2−
ブタノンで2倍希釈した後、陽極酸化処理後の試験片を
浸漬処理し、60℃で10分間処理することにより焼き付け
た。 塩水噴霧試験条件(SST試験):5%NaCl、35±1℃、24
時間 SST試験装置:スガ試験機株式会社製CASS90型使用 結果を表8に示す。
The film thickness of the anodized oxide film of the obtained test piece was measured. In addition, after the oxide film was sealed, a salt spray test was carried out for those with and without the cut of 30 mm in length to evaluate their corrosion resistance. Film thickness measurement: Made by Fisher Instruments Inc .:
Isoscope MP30 type sealing treatment: Polyment NK-380 manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.
(Polyethyleneimine and methacrylic acid polymer)
After being diluted 2-fold with butanone, the anodized test piece was dipped and baked at 60 ° C. for 10 minutes. Salt spray test conditions (SST test): 5% NaCl, 35 ± 1 ℃, 24
Time SST test device: Suga Test Instruments Co., Ltd. CASS90 type use results are shown in Table 8.

【0051】[0051]

【表9】 [Table 9]

【0052】表8中、「EG」はエチレングリコールを意
味する。
In Table 8, "EG" means ethylene glycol.

【0053】試験例4(Li系Mg合金の陽極酸化) 陽極酸化処理の際の浴温度の,得られる皮膜に対する影
響を評価するため、リチウム系マグネシウム合金(LW9
1)の試験片を脱脂・エッチングした後、下記表9に示
す条件にて陽極酸化を行った。 試験片:Li:9重量%、Y:1重量%、Mg:90重量%のマ
グネシウム合金 脱 脂:5%NaOH、60℃、3分間超音波脱脂 エッチング:5%リン酸、60℃、20秒間浸漬処理 陽極酸化条件:定電流電解法、電解装置:北斗電工製HA
310型使用40、50、60又は70℃、4A/dm2、20分間陽極酸
Test Example 4 (Anodic oxidation of Li-based Mg alloy) In order to evaluate the influence of the bath temperature during the anodizing treatment on the obtained film, a lithium-based magnesium alloy (LW9
After degreasing and etching the test piece of 1), anodization was performed under the conditions shown in Table 9 below. Specimen: Li: 9% by weight, Y: 1% by weight, Mg: 90% by weight, magnesium alloy degreasing: 5% NaOH, 60 ° C, 3 minutes Ultrasonic degreasing etching: 5% phosphoric acid, 60 ° C, 20 seconds Immersion treatment Anodizing condition: Constant current electrolysis method, Electrolysis device: HA by Hokuto Denko
Type 310 used 40, 50, 60 or 70 ℃, 4A / dm 2 , 20 minutes anodic oxidation

【0054】[0054]

【表10】 [Table 10]

【0055】得られた試験片の陽極処理酸化膜の膜厚を
測定した。また、酸化膜の封孔処理後、長さ30mmのカッ
トを入れたもの、および入れないものについて塩水噴霧
試験を行ってその耐食性を評価した。 膜厚測定:株式会社フィッシャーインスツルメンツ製:
イソスコープMP30型 封孔処理:株式会社日本触媒製のポリメントNK−380
(ポリエチレンイミンとメタクリル酸の重合体)を2−
ブタノンで2倍希釈した後、陽極酸化処理後の試験片を
浸漬処理し、60℃で10分間処理することにより焼き付け
た。 塩水噴霧試験条件(SST試験):5%NaCl、35±1℃、24
時間 SST試験装置:スガ試験機株式会社製CASS90型使用 結果を表10に示す。
The film thickness of the anodized oxide film of the obtained test piece was measured. In addition, after the oxide film was sealed, a salt spray test was carried out for those with and without the cut of 30 mm in length to evaluate their corrosion resistance. Film thickness measurement: Made by Fisher Instruments Inc .:
Isoscope MP30 type sealing treatment: Polyment NK-380 manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.
(Polyethyleneimine and methacrylic acid polymer)
After being diluted 2-fold with butanone, the anodized test piece was dipped and baked at 60 ° C. for 10 minutes. Salt spray test conditions (SST test): 5% NaCl, 35 ± 1 ℃, 24
Table 10 shows the results of using the time SST test apparatus: CASGA 90 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

【0056】[0056]

【表11】 [Table 11]

【0057】試験例5(Li系Mg合金の陽極酸化) 陽極酸化処理の際の電流密度の、得られる皮膜の膜厚に
対する影響を評価するため、リチウム系マグネシウム合
金(LW91)の試験片を脱脂・エッチングした後、下記表
11に示す組成物を用いて陽極酸化を行った。 試験片:Li:9重量%、Y:1重量%、Mg:90重量%のマ
グネシウム合金 脱 脂:5%NaOH、60℃、3分間超音波脱脂 エッチング:5%リン酸、60℃、20秒間浸漬処理 陽極酸化条件:定電流電解法、電解装置:北斗電工製HA
310型使用60℃、1, 2, 3 又は4A/dm2、20分間陽極酸化
Test Example 5 (Anodic oxidation of Li-based Mg alloy) In order to evaluate the effect of the current density during the anodizing treatment on the thickness of the film obtained, a lithium-based magnesium alloy (LW91) test piece was degreased. -After etching, anodization was performed using the compositions shown in Table 11 below. Specimen: Li: 9% by weight, Y: 1% by weight, Mg: 90% by weight, magnesium alloy degreasing: 5% NaOH, 60 ° C, 3 minutes Ultrasonic degreasing etching: 5% phosphoric acid, 60 ° C, 20 seconds Immersion treatment Anodizing condition: Constant current electrolysis method, Electrolysis device: HA by Hokuto Denko
Type 310 used 60 ° C, 1, 2, 3 or 4A / dm 2 , anodizing for 20 minutes

【0058】[0058]

【表12】 [Table 12]

【0059】膜厚測定:株式会社フィッシャーインスツ
ルメンツ製:イソスコープMP30型 結果を図1に示す。
Film thickness measurement: manufactured by Fisher Instruments Inc .: Isoscope MP30 type The results are shown in FIG.

【0060】試験例6(Li系Mg合金の陽極酸化) 陽極酸化処理時間の、得られる皮膜の膜厚に対する影響
を評価するため、リチウム系マグネシウム合金(LW91)
の試験片を脱脂・エッチングした後、下記表12に示す
組成物を用いて陽極酸化を行った。 試験片:Li:9重量%、Y:1重量%、Mg:90重量%のマ
グネシウム合金 脱 脂:5%NaOH、60℃、3分間超音波脱脂 エッチング:5%リン酸、60℃、20秒間浸漬処理 陽極酸化条件:定電流電解法、電解装置:北斗電工製HA
310型使用60℃、4A/dm2、5, 10又は20分間陽極酸化
Test Example 6 (Anodic oxidation of Li-based Mg alloy) In order to evaluate the influence of the anodizing time on the thickness of the obtained film, a lithium-based magnesium alloy (LW91)
After degreasing and etching the test piece of 1 above, anodization was performed using the compositions shown in Table 12 below. Specimen: Li: 9% by weight, Y: 1% by weight, Mg: 90% by weight, magnesium alloy degreasing: 5% NaOH, 60 ° C, 3 minutes Ultrasonic degreasing etching: 5% phosphoric acid, 60 ° C, 20 seconds Immersion treatment Anodizing condition: Constant current electrolysis method, Electrolysis device: HA by Hokuto Denko
Type 310 used 60 ° C, 4A / dm 2 , anodizing for 5, 10 or 20 minutes

【0061】[0061]

【表13】 [Table 13]

【0062】膜厚測定:株式会社フィッシャーインスツ
ルメンツ製:イソスコープMP30型 結果を図2に示す。
Film thickness measurement: manufactured by Fisher Instruments Inc .: Isoscope MP30 type The results are shown in FIG.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】試験例5の結果を示す図。FIG. 1 is a diagram showing the results of Test Example 5.

【図2】試験例6の結果を示す図。FIG. 2 is a diagram showing the results of Test Example 6;

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 俊之 大阪府大阪市淀川区三津屋中2丁目15番21 号 株式会社カサタニ内 (72)発明者 木野 薪吾 大阪府大阪市淀川区三津屋中2丁目15番21 号 株式会社カサタニ内 (72)発明者 松村 健樹 大阪府摂津市正雀4丁目10番28号 ミリオ ン化学株式会社内   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Toshiyuki Takahashi             2-15-21 Mitsuyachu, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka             Issue Kasatani Co., Ltd. (72) Inventor Kino Gogo             2-15-21 Mitsuyachu, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka             Issue Kasatani Co., Ltd. (72) Inventor Kenki Matsumura             4-10-28, Seijaku, Settsu-shi, Osaka MIRIO             N Kagaku Co., Ltd.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ケイ酸化合物、アルミニウム化合物、表
面調整剤、塩基及び水を含有することを特徴とするマグ
ネシウム合金の陽極酸化処理組成物。
1. An anodizing composition for a magnesium alloy, which contains a silicic acid compound, an aluminum compound, a surface conditioner, a base and water.
【請求項2】 さらに、チオシアン酸化合物を含有する
ことを特徴とする請求項1に記載の組成物。
2. The composition according to claim 1, further comprising a thiocyanate compound.
【請求項3】 水1Lに対して、ケイ酸化合物を0.01〜
10mol(無水物として)、アルミニウム化合物を0.01〜1
0mol、表面調整剤を0.01〜10mol、塩基を0.1〜10mol含
有することを特徴とする請求項1に記載の組成物。
3. A silicic acid compound is added in an amount of 0.01 to 1 L of water.
10 mol (as anhydrous), 0.01-1 aluminum compound
The composition according to claim 1, which contains 0 mol, 0.01 to 10 mol of a surface modifier, and 0.1 to 10 mol of a base.
【請求項4】 水1Lに対して、ケイ酸化合物を0.01〜
10mol(無水物として)、アルミニウム化合物を0.01〜1
0mol、表面調整剤を0.01〜10mol、塩基を0.1〜10mol、
チオシアン酸化合物を0.01〜10mol含有することを特徴
とする請求項2に記載の組成物。
4. A silicic acid compound is added in an amount of 0.01 to 1 liter of water.
10 mol (as anhydrous), 0.01-1 aluminum compound
0 mol, 0.01 to 10 mol of surface conditioner, 0.1 to 10 mol of base,
The composition according to claim 2, which contains 0.01 to 10 mol of a thiocyanic acid compound.
【請求項5】 表面調整剤がグリコール化合物であり、
塩基がアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、
炭酸塩又は重炭酸塩の少なくとも1種であることを特徴
とする請求項1又は2に記載の組成物。
5. The surface conditioner is a glycol compound,
Hydroxide whose base is an alkali metal or alkaline earth metal,
The composition according to claim 1, which is at least one kind of carbonate and bicarbonate.
【請求項6】 ケイ酸化合物が、ケイ酸ナトリウム及び
ケイ酸リチウムの少なくとも1種であり、アルミニウム
化合物が、硝酸アルミニウム、リン酸アルミニウム、硫
酸アルミニウム、塩化アルミニウム、ケイ酸アルミニウ
ム、アルミン酸ナトリウム及びアルミン酸カリウムの少
なくとも1種であり、表面調整剤が、エチレングリコー
ル、エチルグリコール、エチルジグリコール、エチルト
リグリコール、ブチルグリコール及びブチルジグリコー
ルの少なくとも1種であり、塩基が、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム及び水酸化リチウムの少なくとも1
種であることを特徴とする請求項1に記載の組成物。
6. The silicic acid compound is at least one of sodium silicate and lithium silicate, and the aluminum compound is aluminum nitrate, aluminum phosphate, aluminum sulfate, aluminum chloride, aluminum silicate, sodium aluminate and alumina. At least one kind of potassium acid, the surface modifier is at least one kind of ethylene glycol, ethyl glycol, ethyl diglycol, ethyl triglycol, butyl glycol and butyl diglycol, and the base is sodium hydroxide, hydroxide. At least one of potassium and lithium hydroxide
The composition of claim 1, wherein the composition is a seed.
【請求項7】 ケイ酸化合物が、ケイ酸ナトリウム及び
ケイ酸リチウムの少なくとも1種であり、アルミニウム
化合物が、硝酸アルミニウム、リン酸アルミニウム、硫
酸アルミニウム、塩化アルミニウム、ケイ酸アルミニウ
ム、アルミン酸ナトリウム及びアルミン酸カリウムの少
なくとも1種であり、表面調整剤が、エチレングリコー
ル、エチルグリコール、エチルジグリコール、エチルト
リグリコール、ブチルグリコール及びブチルジグリコー
ルの少なくとも1種であり、塩基が、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム及び水酸化リチウムの少なくとも1
種であり、チオシアン酸化合物が、チオシアン酸カリウ
ム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カルシウム
及びチオシアン酸アンモニウムの少なくとも1種である
ことを特徴とする請求項2に記載の組成物。
7. The silicic acid compound is at least one of sodium silicate and lithium silicate, and the aluminum compound is aluminum nitrate, aluminum phosphate, aluminum sulfate, aluminum chloride, aluminum silicate, sodium aluminate and alumina. At least one kind of potassium acid, the surface modifier is at least one kind of ethylene glycol, ethyl glycol, ethyl diglycol, ethyl triglycol, butyl glycol and butyl diglycol, and the base is sodium hydroxide, hydroxide. At least one of potassium and lithium hydroxide
The composition according to claim 2, wherein the thiocyanate compound is at least one of potassium thiocyanate, sodium thiocyanate, calcium thiocyanate and ammonium thiocyanate.
【請求項8】 マグネシウム合金を、請求項1に記載の
組成物に浸漬して陽極酸化処理を行い、得られた陽極酸
化皮膜の封孔処理をすることを特徴とするマグネシウム
合金の表面処理方法。
8. A method for surface treatment of a magnesium alloy, which comprises immersing the magnesium alloy in the composition according to claim 1 for anodic oxidation treatment, and sealing the resulting anodic oxide film. .
【請求項9】 封孔処理に用いる封孔処理剤として、側
鎖に1級アミノ基を含有する高分子を用いることを特徴
とする請求項8に記載の表面処理方法。
9. The surface treatment method according to claim 8, wherein a polymer having a side chain containing a primary amino group is used as the pore-sealing agent used for the pore-sealing treatment.
【請求項10】 封孔処理剤として、側鎖に1級アミノ
基を含有する高分子、エポキシ樹脂およびシランカップ
リング剤を含有する組成物を用いることを特徴とする請
求項9に記載の表面処理方法。
10. The surface according to claim 9, wherein a composition containing a polymer having a primary amino group in a side chain, an epoxy resin and a silane coupling agent is used as a pore-sealing agent. Processing method.
【請求項11】 ケイ酸及びアルミナ、並びにケイ素と
アルミニウムの複合酸化物の少なくとも1種を含有する
陽極酸化皮膜を有するマグネシウム合金。
11. A magnesium alloy having an anodic oxide coating containing silicic acid and alumina, and at least one compound oxide of silicon and aluminum.
【請求項12】 請求項11に記載のマグネシウム合金
からなる成形体。
12. A molded body made of the magnesium alloy according to claim 11.
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