JP2003165718A - Non-porous spherical silica and method for producing the same - Google Patents

Non-porous spherical silica and method for producing the same

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JP2003165718A
JP2003165718A JP2001360595A JP2001360595A JP2003165718A JP 2003165718 A JP2003165718 A JP 2003165718A JP 2001360595 A JP2001360595 A JP 2001360595A JP 2001360595 A JP2001360595 A JP 2001360595A JP 2003165718 A JP2003165718 A JP 2003165718A
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JP
Japan
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spherical silica
porous spherical
silica
silica fine
fine particles
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Application number
JP2001360595A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Nakanaga
陽 中永
Hideyuki Kunitoki
英之 国時
Masatoshi Sakai
正年 酒井
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Fuso Chemical Co Ltd
Original Assignee
Fuso Chemical Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a non-porous spherical silica and a method for producing the same having high purity and a substantially same particle size, in which silica fine particles are substantially monodispersed without forming aggregates. <P>SOLUTION: The method for producing the non-porous spherical silica comprises subjecting to surface modification by a surface-modifying agent of a silica fine particle dispersion obtained by hydrolyzing a hydrolyzable silicon compound, and then drying and burning at a temperature of 650-1,100°C before shredding. The non-porous spherical silica has silica fine particles that are substantially monodispersed without forming aggregates and a purity of 99.9% or more and a number average particle size of 0.05-50 μm, and satisfies a relational expression of [S×d<5] (wherein S denotes a specific surface area (m<SP>2</SP>/g) as measured by a BET method, and a denotes a number average particles size (μm)). <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は無孔質球状シリカ及
びその製造方法に関し、その目的は、高純度でほぼ一定
の粒径を有するとともに、実質的にシリカ微粒子同士が
凝集体を形成せずに単分散している無孔質球状シリカ及
びその製造方法を提供することにある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to non-porous spherical silica and a method for producing the same, and its object is to have a high purity and a substantially constant particle size, and to prevent silica particles from substantially forming aggregates. A non-porous spherical silica monodispersed in and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】無孔質球状シリカは充填剤として広く利
用されている。無孔質球状シリカは、原料である加水分
解可能なケイ素化合物を水の存在下、有機溶媒中で加水
分解してシリカ微粒子分散液を形成した後に、乾燥,焼
成することにより製造することができる。しかしなが
ら、原料として使用される加水分解可能なケイ素化合物
の表面には、シラノール基が多数存在しているために、
この方法では、製造されたシリカ微粒子同士が結合して
しまい、解砕困難なシリカ微粒子の凝集体が形成され
る。そこで、シリカ微粒子の凝集体が形成されないよう
な無孔質球状シリカの製造方法が、種々提案されてい
る。例えば、特開平1−145318号公報には、原料
であるテトラアルコキシシランを水または水/アルコー
ル混合溶液中で加水分解してシリカゾルを形成し、得ら
れたシリカゾルを油性分散媒中に添加して乳化した後
に、乳化状態でシリカゾルをゲル化させ、得られたシリ
カゲルを脱水して、900〜1200℃で焼成する無孔
質球状シリカの製造方法が開示されている。油性分散媒
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼン等の芳香族炭化水素と、長鎖有機カルボン酸または
界面活性剤等の乳化剤、とからなる油性分散媒が用いら
れている。
Non-porous spherical silica is widely used as a filler. Non-porous spherical silica can be produced by hydrolyzing a raw material hydrolyzable silicon compound in an organic solvent in the presence of water to form a silica fine particle dispersion, followed by drying and firing. . However, since many silanol groups are present on the surface of the hydrolyzable silicon compound used as a raw material,
In this method, the produced silica fine particles are bound to each other, and an aggregate of silica fine particles that is difficult to disintegrate is formed. Therefore, various methods for producing non-porous spherical silica have been proposed in which aggregates of silica fine particles are not formed. For example, in JP-A-1-145318, a tetraalkoxysilane as a raw material is hydrolyzed in water or a water / alcohol mixed solution to form a silica sol, and the obtained silica sol is added to an oil dispersion medium. A method for producing non-porous spherical silica is disclosed in which, after emulsification, the silica sol is gelled in an emulsified state, the resulting silica gel is dehydrated, and calcined at 900 to 1200 ° C. As the oily dispersion medium, an oily dispersion medium composed of an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene, xylene and ethylbenzene and an emulsifier such as a long chain organic carboxylic acid or a surfactant is used.

【0003】また特開平3−187913号公報には、
テトラアルコキシシランをメタノール中で加水分解して
得られるシリカ微粒子分散液に、シリカ微粒子に対して
トリメチルシリル基が5モル%以上となる割合でトリメ
チルシリル化剤を加えてシリカ微粒子表面のシラノール
基をトリメチルシリル化し、余剰のトリメチルシリル化
剤を除去した後に、この分散液を乾燥する無孔質球状シ
リカの製造方法が開示されている。トリメチルシリル化
剤としては、クロロトリメチルシラン、トリメチルシラ
ノール、メトキシトリメチルシラン、ヘキサメチルジシ
ラザン等が用いられている。
Japanese Patent Laid-Open No. 3-187913 discloses that
To the silica fine particle dispersion liquid obtained by hydrolyzing tetraalkoxysilane in methanol, a trimethylsilylating agent is added at a ratio of 5 mol% or more of trimethylsilyl groups to silica fine particles to trimethylsilylate silanol groups on the surface of the silica fine particles. A method for producing non-porous spherical silica is disclosed in which the excess trimethylsilylating agent is removed and then the dispersion is dried. As the trimethylsilylating agent, chlorotrimethylsilane, trimethylsilanol, methoxytrimethylsilane, hexamethyldisilazane, etc. are used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
無孔質球状シリカの製造方法には、以下のような問題が
存在した。まず、特開平1−145318号公報に記載
された無孔質球状シリカの製造方法は、油性分散媒中で
シリカゾルをゲル化させることでシリカ微粒子同士の凝
集を防ぐ技術である。しかしながら、使用する油性分散
媒の種類によっては、焼成後に油性分散媒を構成する油
や乳化剤由来の炭素分或いは不純物がシリカ微粒子中に
残留してしまい、高純度の無孔質球状シリカを得ること
ができなかった。また得られる無孔質球状シリカの粒径
が不揃いであり、ほぼ一定の粒径を有する無孔質球状シ
リカを得ることができなかった。
However, the conventional methods for producing non-porous spherical silica have the following problems. First, the method for producing non-porous spherical silica described in JP-A-1-145318 is a technique for preventing agglomeration of silica fine particles by gelating silica sol in an oil dispersion medium. However, depending on the type of oil dispersion medium used, carbon or impurities derived from the oil or emulsifier constituting the oil dispersion medium remains in the silica fine particles after firing, and high purity non-porous spherical silica is obtained. I couldn't. Further, the particle diameters of the non-porous spherical silica obtained were not uniform, and it was not possible to obtain non-porous spherical silica having a substantially constant particle diameter.

【0005】また、特開平3−187913号公報に記
載された無孔質球状シリカの製造方法は、トリメチルシ
リル化剤によりシリカ微粒子表面のシラノール基を封鎖
することで球状シリカ同士の凝集を防ぐ技術である。し
かしながら、トリメチルシリル化剤を使用したとしても
シリカ表面のシラノール基を全て封鎖することはでき
ず、かりにトリメチルシリル化剤によりシリカ表面の全
てのシラノール基をトリメチルシリル化することができ
たとしても、トリメチルシリル基は容易に加水分解し
て、新たなシラノール基が生じる。このシラノール基同
士が結合して凝集体が形成されることがあり、凝集の無
い無孔質球状シリカを製造することは困難であった。
The method for producing non-porous spherical silica described in JP-A-3-187913 is a technique for preventing the aggregation of spherical silica particles by blocking silanol groups on the surface of silica fine particles with a trimethylsilylating agent. is there. However, even if the trimethylsilylating agent is used, it is not possible to block all the silanol groups on the silica surface, and even if all the silanol groups on the silica surface can be trimethylsilylated with the trimethylsilylating agent, the trimethylsilyl group is It is easily hydrolyzed to give new silanol groups. Since the silanol groups may be bound to each other to form an aggregate, it is difficult to produce a non-porous spherical silica without aggregation.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】即ち、請求項1に係る発
明は、加水分解可能なケイ素化合物を加水分解,縮合し
て得られるシリカ微粒子分散液を表面改質剤で表面改質
し、高沸点有機溶媒の存在下で加熱処理した後に、65
0〜1100℃の温度で乾燥,焼成した後に解砕するこ
とを特徴とする、純度が99.9%以上であり、数平均
粒子径が0.05〜50μmであり、以下の関係式(式
3)を満たす、実質的にシリカ微粒子同士が凝集せずに
単分散していることを特徴とする無孔質球状シリカの製
造方法に関する。
[Means for Solving the Problems] That is, in the invention according to claim 1, a silica fine particle dispersion obtained by hydrolyzing and condensing a hydrolyzable silicon compound is surface-modified with a surface modifier, After heat treatment in the presence of a boiling point organic solvent, 65
Drying at a temperature of 0 to 1100 ° C., calcination after calcination, the purity is 99.9% or more, the number average particle diameter is 0.05 to 50 μm, and the following relational expression (equation The present invention relates to a method for producing non-porous spherical silica, wherein the silica fine particles satisfying 3) are substantially monodispersed without agglomeration.

【式3】 (但し、式中、SはBET法で測定した比表面積(m
/g)、dは数平均粒子径(μm)である。)請求項2
に係る発明は、加水分解可能なケイ素化合物の加水分
解,縮合物が表面改質剤で表面改質されて、高沸点有機
溶媒の存在下で加熱処理された後に、650〜1100
℃の温度で乾燥,焼成され、解砕されてなり、純度が9
9.9%以上であり、以下の関係式(式4)を満たす、
実質的にシリカ微粒子同士が凝集せずに単分散している
ことを特徴とする無孔質球状シリカに関する。
[Formula 3] (However, in the formula, S is a specific surface area (m 2
/ G) and d are number average particle diameters (μm). ) Claim 2
In the invention according to 1, the hydrolyzable and condensate of a hydrolyzable silicon compound is surface-modified with a surface modifier and heat-treated in the presence of a high-boiling organic solvent, and then 650 to 1100.
It is dried and baked at a temperature of ℃, crushed, and has a purity of 9
9.9% or more, and the following relational expression (Equation 4) is satisfied,
The present invention relates to non-porous spherical silica in which silica fine particles are substantially monodispersed without agglomeration.

【式4】 (但し、式中、SはBET法で測定した比表面積(m
/g)、dは数平均粒子径(μm)である。)
[Formula 4] (However, in the formula, S is a specific surface area (m 2
/ G) and d are number average particle diameters (μm). )

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る無孔質球状シ
リカの製造方法について詳細に説明する。本発明に係る
無孔質球状シリカを製造するための原料としては、加水
分解可能なケイ素化合物が用いられる。加水分解可能な
ケイ素化合物は特に限定されないが、アルコキシシラン
化合物又はこれらの誘導体を例示することができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The method for producing non-porous spherical silica according to the present invention will be described in detail below. A hydrolyzable silicon compound is used as a raw material for producing the non-porous spherical silica according to the present invention. The hydrolyzable silicon compound is not particularly limited, and examples thereof include an alkoxysilane compound and derivatives thereof.

【0008】具体的には、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトライソプロポキシシランなどを
例示することができる。またこれらの化合物の誘導体と
しては、上記のケイ素化合物を部分的に加水分解して得
られる低縮合物を例示することができる。さらに、以上
説明した加水分解可能なケイ素化合物のうちの二種以上
を混合して使用することもできる。
Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane and the like can be exemplified. Further, examples of derivatives of these compounds include low condensation products obtained by partially hydrolyzing the above silicon compounds. Furthermore, two or more kinds of the hydrolyzable silicon compounds described above can be mixed and used.

【0009】上記した原料は、水を含む有機溶媒中で加
水分解,縮合されてシリカ微粒子分散液とされる。用い
られる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、n−ブタノール、t−ブタノール、ペ
ンタノール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,4−ブタンジオール等のアルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル等の
エステル類、イソオクタン、シクロヘキサン等のパラフ
ィン類、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン等の芳香族化合物などを例示す
ることができる。特に本発明では、アルコール類を用い
ることが好ましく、メタノール、エタノール、イソプロ
パノールを使用することがより好ましい。これらの有機
溶媒は単独で使用することもでき、また二種以上を混合
して使用することもできる。
The above raw materials are hydrolyzed and condensed in an organic solvent containing water to obtain a silica fine particle dispersion liquid. Examples of the organic solvent used include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, t-butanol, pentanol, ethylene glycol, propylene glycol and 1,4-butanediol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, acetic acid. Examples thereof include esters such as ethyl, paraffins such as isooctane and cyclohexane, ethers such as dioxane and diethyl ether, and aromatic compounds such as benzene and toluene. Particularly in the present invention, it is preferable to use alcohols, and it is more preferable to use methanol, ethanol or isopropanol. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

【0010】用いられる有機溶媒の量は特に限定されな
いが、使用される原料1モル当たり、5〜50モルとさ
れる。この理由は、5モル未満の場合、原料のケイ素化
合物との相溶性が失われるために、また50モルを超え
て使用すると、製造効率が極めて低くなるために、いず
れの場合も好ましくないからである。また水の量は特に
限定されないが、使用される原料1モル当り、2〜15
モルとされる。ここで、使用される水の量は形成される
シリカ微粒子の粒径に影響を与える。水の量が相対的に
増加すれば、シリカ微粒子の粒径を大きくすることがで
き、水の量が相対的に低下すれば、シリカ微粒子の粒径
を小さくすることができる。従って、水と有機溶媒の比
によりシリカ微粒子の粒径を任意に調整することができ
る。
The amount of the organic solvent used is not particularly limited, but is 5 to 50 mol per mol of the raw material used. The reason for this is that if it is less than 5 mol, the compatibility with the silicon compound as the raw material is lost, and if it is used in excess of 50 mol, the production efficiency becomes extremely low, and in either case it is not preferable. is there. In addition, the amount of water is not particularly limited, but is 2 to 15 per 1 mol of the raw material used.
Mole Here, the amount of water used affects the particle diameter of the silica fine particles formed. When the amount of water is relatively increased, the particle size of silica fine particles can be increased, and when the amount of water is relatively decreased, the particle size of silica fine particles can be decreased. Therefore, the particle size of the silica fine particles can be arbitrarily adjusted by the ratio of water and the organic solvent.

【0011】また、有機溶媒には、アンモニア、尿素、
エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロ
オキサイド等の触媒を配合することができる。触媒を使
用する場合、その量は特に限定されないが、用いられる
原料1モル当り、0.05〜2モルとされる。尚、有機
溶媒と水,触媒が相溶しない場合、界面活性剤を添加し
て均一なミセルを形成しても構わない。
The organic solvent includes ammonia, urea,
A catalyst such as ethanolamine or tetramethylammonium hydroxide can be added. When a catalyst is used, its amount is not particularly limited, but is 0.05 to 2 mol per mol of the raw material used. When the organic solvent, water and the catalyst are incompatible with each other, a surfactant may be added to form uniform micelles.

【0012】水を含む有機溶媒中で原料を加水分解,縮
合するには、原料を有機溶媒に添加して、0〜100
℃、好ましくは0〜70℃の条件で撹拌すればよい。こ
のように、水を含む有機溶媒中で原料を撹拌して加水分
解,縮合することにより、球状でしかも粒径のそろった
球状シリカとすることができる。
In order to hydrolyze and condense the raw material in an organic solvent containing water, the raw material is added to the organic solvent, and 0 to 100 is added.
C., preferably 0 to 70.degree. C. for stirring. Thus, by stirring the raw materials in an organic solvent containing water to hydrolyze and condense, spherical silica having a uniform particle size can be obtained.

【0013】原料を、水の存在下、有機溶媒中で加水分
解,縮合して得られたシリカ微粒子分散液中のシリカ微
粒子は、表面改質剤で表面改質される。本発明で使用す
ることができる表面改質剤としては、次式1(化1)に
示されるものを例示することができる。具体的には、メ
チルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、
ヘキサメチルジシラザン、トリメチルクロロシラン、フ
ルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、ヘキサメチ
ルジシロキサン、トリメチルメトキシシラン、トリメチ
ルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリエ
チルメトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチ
ルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、メチ
ルトリクロロシラン、エチルトリクロロシランなどを例
示することができる。また、前記した表面改質剤のうち
の一種を単独で使用することもでき、また二種以上の表
面改質剤を混合して使用することもできる。
The silica fine particles in the silica fine particle dispersion obtained by hydrolyzing and condensing the raw material in an organic solvent in the presence of water are surface-modified with a surface modifier. Examples of the surface modifier that can be used in the present invention include those represented by the following formula 1 (Formula 1). Specifically, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane,
Hexamethyldisilazane, trimethylchlorosilane, fluorooctylethyltrimethoxysilane, hexamethyldisiloxane, trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, triethylethoxysilane, triethylmethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldiethoxysilane, Examples thereof include methyltrichlorosilane and ethyltrichlorosilane. Further, one of the above surface modifiers may be used alone, or two or more kinds of surface modifiers may be mixed and used.

【化1】 (但し、Rはアルキル基、フルオロ基等の疎水基、Mは
Si、Xはハロゲン、アルコキシ基などの官能基、aは
1〜3の整数、bは4〜2の整数である。)
[Chemical 1] (However, R is a hydrophobic group such as an alkyl group or a fluoro group, M is Si, X is a functional group such as halogen or an alkoxy group, a is an integer of 1 to 3, and b is an integer of 4 to 2.)

【0014】原料を、水の存在下、有機溶媒中で加水分
解,縮合して得られたシリカ微粒子分散液中のシリカ微
粒子を表面改質剤で表面改質するには、前記の表面改質
剤をシリカ微粒子分散液に添加して、0〜100℃の条
件で攪拌すればよい。表面改質剤の添加量は特に限定さ
れないが、原料1モル当り、0.01〜0.5モルを添
加すればよい。このようにして、シリカ微粒子分散液中
のシリカ微粒子を表面改質することができる。
The surface modification of the silica fine particles in the silica fine particle dispersion obtained by hydrolyzing and condensing the raw material in an organic solvent in the presence of water is carried out by the above surface modification. The agent may be added to the silica fine particle dispersion and stirred under the condition of 0 to 100 ° C. The amount of the surface modifier added is not particularly limited, but 0.01 to 0.5 mol may be added to 1 mol of the raw material. In this way, the silica fine particles in the silica fine particle dispersion can be surface-modified.

【0015】原料を、水の存在下、有機溶媒中で加水分
解,縮合し、表面改質剤で表面改質されて得られたシリ
カ微粒子分散液中のシリカ微粒子は、高沸点有機溶媒の
存在下で加熱処理される。本発明で使用される高沸点有
機溶媒とは、常圧における沸点が120℃以上の有機溶
媒のことであり、具体的には、炭素数5以上の一価アル
コール、エチレングリコール、プロピレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等の二
価アルコール、グリセリン等の多価アルコール、ポリエ
チレングリコール、ポリビニルアルコール等の高分子ア
ルコール、或いはエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等を例
示することができる。特に本発明では、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、ジエチレングリコールを
使用することが好ましい。高沸点有機溶媒の使用量は、
シリカ微粒子表面上のシラノール基を十分に封鎖するこ
とができる量であれば特に限定されない。原料を加水分
解,縮合して得られたシリカ微粒子を高沸点有機溶媒で
加熱処理することで、シリカ微粒子の表面に存在してい
るシラノール基を封鎖することができる。これにより、
シラノール基同士が結合することを防止することができ
るために、実質的に凝集の無い単分散したシラカ微粒子
を得ることができる。また高沸点有機溶媒を使用するこ
とで、原料を加水分解,縮合する際に使用した有機溶媒
と高沸点有機溶媒とが混合したとしても、これらを分離
精製することは容易であり、溶媒を回収して再利用する
ことができる。
The silica fine particles in the silica fine particle dispersion obtained by subjecting the raw material to hydrolysis and condensation in an organic solvent in the presence of water and surface modification with a surface modifier are present in the presence of a high-boiling organic solvent. Heat treated below. The high boiling point organic solvent used in the present invention is an organic solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher under normal pressure, and specifically, a monohydric alcohol having 5 or more carbon atoms, ethylene glycol, propylene glycol,
Examples include dihydric alcohols such as diethylene glycol and triethylene glycol, polyhydric alcohols such as glycerin, polymer alcohols such as polyethylene glycol and polyvinyl alcohol, ethylene glycol monobutyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether acetate. Particularly in the present invention, it is preferable to use ethylene glycol, propylene glycol or diethylene glycol. The amount of high boiling organic solvent used is
There is no particular limitation as long as it is an amount capable of sufficiently blocking the silanol groups on the surface of the silica fine particles. By heating the silica fine particles obtained by hydrolyzing and condensing the raw material with a high-boiling point organic solvent, silanol groups present on the surface of the silica fine particles can be blocked. This allows
Since it is possible to prevent the silanol groups from binding to each other, it is possible to obtain monodispersed silaka fine particles having substantially no aggregation. Also, by using a high-boiling organic solvent, even if the organic solvent used when the raw material is hydrolyzed and condensed and the high-boiling organic solvent are mixed, it is easy to separate and purify them, and the solvent is recovered. And can be reused.

【0016】シリカ微粒子と高沸点有機溶媒の存在下で
加熱処理する方法は特に限定されないが、例えばシリカ
微粒子分散液を所要温度に加熱した高沸点有機溶媒に滴
下して、有機溶媒(及び触媒)を除去するとともにシリ
カ微粒子と高沸点有機溶媒とを反応させる方法、シリカ
微粒子分散液中のシリカ微粒子を分離した後に、このシ
リカ微粒子と所要温度に加熱した高沸点有機溶媒とを反
応させる方法などを例示することができる。尚、この操
作は常圧下であっても、加圧下であっても、また減圧下
であっても構わない。
The method of heat treatment in the presence of silica fine particles and a high-boiling point organic solvent is not particularly limited. For example, the silica fine particle dispersion liquid is dropped into a high-boiling point organic solvent heated to a required temperature to form an organic solvent (and a catalyst). And a method of reacting silica fine particles with a high-boiling point organic solvent, a method of separating the silica fine particles in the silica fine particle dispersion, and then reacting the silica fine particles with a high-boiling point organic solvent heated to a required temperature. It can be illustrated. Incidentally, this operation may be carried out under normal pressure, under pressure, or under reduced pressure.

【0017】加熱温度は特に限定されないが、100〜
250℃とされる。この理由は、加熱温度が100℃未
満の場合、シリカ表面のシラノール基と高沸点有機溶媒
が十分に反応することができずに、シラノール基を十分
満足できるほど封鎖することができないために、また加
熱温度が250℃を超えたとしても、それ以上の効果が
得られないばかりか、経済性に劣るために、いずれの場
合も好ましくないからである。また加熱時間も特に限定
されないが、30分〜10時間とされる。この理由は、
30分未満の加熱処理では、シリカ表面のシラノール基
と高沸点有機溶媒が十分に反応しないことがあるため
に、また10時間を超えて加熱しても、それ以上の効果
が得られないために、いずれの場合も好ましくないから
である。
The heating temperature is not particularly limited, but it is 100-
It is set to 250 ° C. The reason for this is that when the heating temperature is lower than 100 ° C., the silanol groups on the silica surface and the high-boiling point organic solvent cannot sufficiently react and the silanol groups cannot be sufficiently blocked, and This is because even if the heating temperature exceeds 250 ° C., no further effect can be obtained and the economical efficiency is poor, which is not preferable in any case. The heating time is also not particularly limited, but is 30 minutes to 10 hours. The reason for this is
If the heat treatment is performed for less than 30 minutes, the silanol groups on the silica surface may not sufficiently react with the high boiling point organic solvent, and even if heating is performed for more than 10 hours, no further effect can be obtained. This is because neither case is preferable.

【0018】最後に、高沸点有機溶媒の存在下で加熱処
理されたシリカ微粒子を、乾燥,焼成することで、本発
明に係る無孔質球状シリカを製造することができる。焼
成温度は、650〜1100℃とされる。この理由は、
650℃未満の場合、球状シリカ表面に無数の孔が形成
されるために無孔質の球状シリカを得ることができず、
また1100℃を超える場合、シリカ微粒子同士が縮合
して凝集体が形成されてしまい、単分散した無孔質球状
シリカを得ることができず、いずれの場合も好ましくな
いからである。また焼成時間は特に限定されないが、1
0分〜5時間とされる。この理由は、10分未満の焼成
処理では、球状シリカ表面に孔が形成されてしまうため
に、また5時間を超えて焼成すると、解砕が困難な凝集
体が形成されることがあるために、いずれの場合も好ま
しくないからである。尚、シラノール基の封鎖をするた
めに使用した高沸点有機溶媒は約300〜500℃程度
の加熱により完全に分解するために、無孔質球状シリカ
中に残留することはない。
Finally, the non-porous spherical silica according to the present invention can be produced by drying and calcining the silica fine particles which have been heat-treated in the presence of the high boiling point organic solvent. The firing temperature is 650 to 1100 ° C. The reason for this is
If the temperature is lower than 650 ° C., numerous pores are formed on the surface of the spherical silica, so that non-porous spherical silica cannot be obtained,
On the other hand, when the temperature exceeds 1100 ° C., the silica fine particles are condensed with each other to form an aggregate, and monodispersed non-porous spherical silica cannot be obtained, which is not preferable in any case. The firing time is not particularly limited, but is 1
It is set to 0 minutes to 5 hours. The reason for this is that if the firing treatment is performed for less than 10 minutes, pores are formed on the surface of the spherical silica, and if firing is performed for more than 5 hours, aggregates that are difficult to disintegrate may be formed. This is because neither case is preferable. The high-boiling point organic solvent used for blocking the silanol groups is completely decomposed by heating at about 300 to 500 ° C., and therefore does not remain in the non-porous spherical silica.

【0019】さらに本発明では、得られた無孔質球状シ
リカの解砕処理を行う。解砕処理することにより、凝集
体の形成がない無孔質球状シリカを得ることができる。
解砕処理の方法は球状シリカの球を破壊することがなけ
れば、特に限定されず、例えば、開孔100〜300μ
m程度の篩いを使用して無孔質球状シリカを篩い分けす
る方法などを例示することができる。
Further, in the present invention, the obtained non-porous spherical silica is crushed. By the crushing treatment, it is possible to obtain non-porous spherical silica without formation of aggregates.
The method of crushing treatment is not particularly limited as long as it does not destroy the spherical silica spheres.
A method of sieving the non-porous spherical silica using a sieve of about m can be exemplified.

【0020】こうして得られた本発明に係る無孔質球状
シリカは、数平均粒子径が0.05〜50μmであり、
以下の関係式(式5)を満たす。また純度は99.9%
以上である。従来の方法で得られた無孔質球状シリカと
異なり、油性分散媒などを使用することがないために不
純物が殆ど含まれておらず高純度な無孔質球状シリカで
ある。また無孔質球状シリカの粒径はほぼ一定の値を示
し、粒子が揃っている。さらに、実質的に無孔質球状シ
リカ同士が凝集しておらず、単分散している。
The thus obtained non-porous spherical silica according to the present invention has a number average particle diameter of 0.05 to 50 μm,
The following relational expression (Expression 5) is satisfied. The purity is 99.9%
That is all. Unlike the non-porous spherical silica obtained by the conventional method, it is a highly pure non-porous spherical silica that contains almost no impurities because it does not use an oil-based dispersion medium. Further, the particle size of the non-porous spherical silica shows a substantially constant value, and the particles are uniform. Furthermore, the non-porous spherical silica particles are not aggregated, but are monodispersed.

【式5】 (但し、式中、SはBET法で測定した比表面積(m
/g)、dは数平均粒子径(μm)である。)
[Formula 5] (However, in the formula, S is a specific surface area (m 2
/ G) and d are number average particle diameters (μm). )

【0021】[0021]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づき説明するが、
本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではな
い。 <実施例の試料の調製>水68.8g、25%アンモニ
ア水235.8g、メタノール1019.8gの混合液
に、テトラメトキシシラン274g、メタノール74.
3gの混合液を20℃で滴下して、60分間撹拌して反
応させ、さらに、メチルトリメトキシシラン5.5gを
滴下して60分間攪拌して反応させた。得られた反応液
を常圧、120℃の条件でエチレングリコールに連続的
に滴下して、水、メタノール、アンモニアを除去しなが
ら濃縮した。得られた球状シリカ微粒子のエチレングリ
コール分散液(濃度約30重量%)を、エバポレーター
を使用して蒸発乾固して、乾燥球状シリカ微粒子を得
た。これを650℃、800℃、1000℃、1100
℃で二時間焼成し、さらに開孔150μmの篩いを使用
して篩い分けを行い、実施例1(焼成温度;650
℃)、実施例2(焼成温度;800℃)、実施例3(焼
成温度;1000℃)、実施例4(焼成温度;1100
℃)の実質的に単分散した無孔質球状シリカを得た。
尚、実施例1〜4の無孔質球状シリカの平均粒径を測定
したところ、いずれも約0.3μmであった。
EXAMPLES The present invention will be described below based on examples.
The invention is in no way limited to these examples. <Preparation of Samples of Examples> A mixed solution of 68.8 g of water, 235.8 g of 25% aqueous ammonia and 1019.8 g of methanol was added to 274 g of tetramethoxysilane and 74.
3 g of the mixed solution was added dropwise at 20 ° C. and stirred for 60 minutes to cause reaction, and 5.5 g of methyltrimethoxysilane was added dropwise and stirred for 60 minutes to cause reaction. The obtained reaction solution was continuously added dropwise to ethylene glycol under the conditions of atmospheric pressure and 120 ° C., and concentrated while removing water, methanol and ammonia. The ethylene glycol dispersion liquid (concentration: about 30% by weight) of the obtained spherical silica fine particles was evaporated to dryness using an evaporator to obtain dry spherical silica fine particles. This is 650 ℃, 800 ℃, 1000 ℃, 1100
Firing was carried out for 2 hours at 0 ° C., and sieving was further carried out using a sieve having openings of 150 μm, and Example 1 (firing temperature: 650
° C), Example 2 (firing temperature; 800 ° C), Example 3 (firing temperature; 1000 ° C), Example 4 (firing temperature; 1100)
A substantially monodisperse non-porous spherical silica of (° C.) was obtained.
The average particle size of the non-porous spherical silica of Examples 1 to 4 was about 0.3 μm.

【0022】<比較例の試料の調製>前記実施例の試料
の調製に使用した乾燥球状シリカ微粒子を開孔150μ
mの篩いを使用して篩い分けを行い、比較例1の試料と
した。また前記乾燥球状シリカ微粒子を、500℃、1
300℃で二時間焼成し、さらに開孔150μmで篩い
分けを行い、比較例2(焼成温度;500℃)、比較例
3(焼成温度;1300℃)の球状シリカを得た。
<Preparation of Sample of Comparative Example> The dried spherical silica fine particles used in the preparation of the sample of the above-mentioned example were opened to 150 μm.
Sieving was performed using a m sieve to obtain a sample of Comparative Example 1. Further, the dried spherical silica fine particles were
The spherical silica was calcined at 300 ° C. for 2 hours and further sieved with an opening of 150 μm to obtain spherical silica of Comparative Example 2 (calcination temperature: 500 ° C.) and Comparative Example 3 (calcination temperature: 1300 ° C.).

【0023】<試験例1;比表面積の測定>上記調製し
た実施例1〜4及び比較例2の各試料の比表面積を、B
ET法により測定した。結果を後記表1に記載する。
<Test Example 1; Measurement of Specific Surface Area> The specific surface area of each of the samples of Examples 1 to 4 and Comparative Example 2 prepared above was measured by B
It was measured by the ET method. The results are shown in Table 1 below.

【0024】<試験例2;凝集度合の測定>上記調製し
た実施例1〜4及び比較例1の、それぞれの試料0.0
2gを、100gの水に分散させた後に、Model 780 Ac
cuSizer(Particle Sizing Svstems.Inc.製)を用い
て、0.5μm以上の粗粒数を測定した。実施例1〜4
の結果を、それぞれ図1〜4に、比較例1の結果を、そ
れぞれ図5に記載する。
<Test Example 2; Measurement of degree of aggregation> 0.0 of each of the above-prepared Examples 1 to 4 and Comparative Example 1
After dispersing 2 g in 100 g of water, Model 780 Ac
The number of coarse particles of 0.5 μm or more was measured using cuSizer (manufactured by Particle Sizing Svstems. Inc.). Examples 1 to 4
1 to 4 and the result of Comparative Example 1 to FIG. 5, respectively.

【0025】<試験例3;電子顕微鏡撮影>上記調製し
た実施例3の試料及び比較例3の電子顕微鏡撮影を行っ
た。結果を図6、7に記載する。
<Test Example 3; Electron Microscope Photograph> The sample of the above-prepared Example 3 and Comparative Example 3 were photographed by an electron microscope. The results are shown in FIGS.

【0026】<試験例4;赤外線吸収スペクトル(I
R)測定>前記実施例の試料の調製に使用した乾燥球状
シリカ微粒子の赤外線吸収スペクトルを、FT−IRに
より測定した。結果を図8に記載する。
<Test Example 4; Infrared absorption spectrum (I
R) Measurement> The infrared absorption spectrum of the dry spherical silica fine particles used in the preparation of the samples of the above examples was measured by FT-IR. The results are shown in FIG.

【0027】<試験例5;純度測定>上記調製した実施
例1〜4及び比較例1〜3の試料の純度は、灼熱減量の
測定及び金属元素の定量分析を行うことにより算出し
た。結果を表1に記載する。
<Test Example 5; Purity Measurement> The purity of the samples of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 prepared above was calculated by measuring the loss on ignition and the quantitative analysis of metallic elements. The results are shown in Table 1.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】表1に示される結果のとおり、平均粒子径
0.3μmの無孔質球状シリカの比表面積は、11m
/g以下であり、比表面積S(m/g)と平均粒子径
d(μm)は、「S×d=2.8〜3.0」となり、関
係式「S×d<5」を満たすことから、無孔質の球状で
あることが分かる。さらに図1〜4及び図6の結果のと
おり、本発明に係る無孔質球状シリカは凝集体が形成さ
れておらず、単分散していることが分かる。一方、図7
に示されるとおり、比較例3の試料は凝集体を形成して
いることが分かる。また、図8に示される結果のとお
り、乾燥球状シリカのFT−IRスペクトルからは、3
650cm−1付近のSi−OHに由来するピークが存
在しないことから、シリカ微粒子分散液をエチレングリ
コールで処理することで、極めて効率的にシラノール基
を封鎖しているといえる。
As shown in the results shown in Table 1, the specific surface area of non-porous spherical silica having an average particle diameter of 0.3 μm is 11 m 2
/ G or less, the specific surface area S (m 2 / g) and the average particle diameter d (μm) are “S × d = 2.8 to 3.0”, and the relational expression “S × d <5” is From filling, it can be seen that it is a non-porous sphere. Further, as can be seen from the results of FIGS. 1 to 4 and 6, in the non-porous spherical silica according to the present invention, no aggregates are formed and they are monodispersed. On the other hand, FIG.
It can be seen that the sample of Comparative Example 3 forms aggregates as shown in FIG. Moreover, as shown in the results shown in FIG. 8, the FT-IR spectrum of the dried spherical silica shows 3
Since there is no peak derived from Si—OH near 650 cm −1, it can be said that the silanol groups are blocked very efficiently by treating the silica fine particle dispersion with ethylene glycol.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上詳述した如く、本発明に係る無孔質
球状シリカの製造方法は、シラノール基同士が結合して
凝集体が形成されることが無く、実質的に凝集の無い無
孔質球状シリカを製造することができる。また、シリカ
微粒子中に炭素分或いは不純物が残留することがなく、
高純度の無孔質球状シリカを得ることができる。さらに
は、得られる無孔質球状シリカの粒径はほぼ一定であ
り、粒径の揃った無孔質球状シリカを得ることができ
る。また本発明に係る無孔質球状シリカは、実質的に無
孔質球状シリカ同士が凝集しておらず、単分散してい
る。かりに凝集体が形成されたとしても、その凝集体は
篩い分け程度の簡単な操作で解砕することができる。ま
た不純物が殆ど含まれておらず高純度な無孔質球状シリ
カである。さらには無孔質球状シリカの粒径はほぼ一定
の値を示し、粒子が揃っている。
As described in detail above, the method for producing a non-porous spherical silica according to the present invention is substantially free from agglomeration without silanol groups being bonded to each other to form an aggregate. Spherical silica can be produced. Also, no carbon content or impurities remain in the silica fine particles,
High-purity non-porous spherical silica can be obtained. Furthermore, the particle size of the obtained non-porous spherical silica is almost constant, and non-porous spherical silica having a uniform particle size can be obtained. Further, in the non-porous spherical silica according to the present invention, the non-porous spherical silica is substantially not aggregated but monodispersed. Even if aggregates are formed, the aggregates can be crushed by a simple operation such as sieving. In addition, it is a highly pure non-porous spherical silica that contains almost no impurities. Furthermore, the particle size of the non-porous spherical silica shows a substantially constant value, and the particles are uniform.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1の試料を使用した場合の、試験例2の
結果を示すチャートである。
1 is a chart showing the results of Test Example 2 when the sample of Example 1 is used.

【図2】実施例2の試料を使用した場合の、試験例2の
結果を示すチャートである。
FIG. 2 is a chart showing the results of Test Example 2 when the sample of Example 2 is used.

【図3】実施例3の試料を使用した場合の、試験例2の
結果を示すチャートである。
FIG. 3 is a chart showing the results of Test Example 2 when the sample of Example 3 is used.

【図4】実施例4の試料を使用した場合の、試験例2の
結果を示すチャートである。
FIG. 4 is a chart showing the results of Test Example 2 when the sample of Example 4 is used.

【図5】比較例1の試料を使用した場合の、試験例2の
結果を示すチャートである。
5 is a chart showing the results of Test Example 2 when the sample of Comparative Example 1 is used. FIG.

【図6】実施例3の試料の電子顕微鏡写真(SEM)で
ある(試験例3)。
FIG. 6 is an electron micrograph (SEM) of the sample of Example 3 (Test Example 3).

【図7】比較例3の試料の電子顕微鏡写真(SEM)で
ある(試験例3)。
FIG. 7 is an electron micrograph (SEM) of a sample of Comparative Example 3 (Test Example 3).

【図8】実施例及び比較例の試料の調製に使用した乾燥
球状シリカ微粒子の赤外線吸収スペクトルである。
FIG. 8 is an infrared absorption spectrum of dry spherical silica fine particles used in the preparation of the samples of Examples and Comparative Examples.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 酒井 正年 京都府福知山市長田野町1丁目5番地 扶 桑化学工業株式会社京都工場内 Fターム(参考) 4G072 AA26 BB07 GG01 HH30 JJ23 LL14 MM36 QQ06 RR05 TT01 TT06    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Sakai Masatoshi             5-5 Nagatanocho, Fukuchiyama City, Kyoto Prefecture             Mulberry Chemical Co., Ltd. Kyoto Factory F-term (reference) 4G072 AA26 BB07 GG01 HH30 JJ23                       LL14 MM36 QQ06 RR05 TT01                       TT06

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 加水分解可能なケイ素化合物を加水分
解,縮合して得られるシリカ微粒子分散液を表面改質剤
で表面改質し、高沸点有機溶媒の存在下で加熱処理した
後に、650〜1100℃の温度で乾燥,焼成した後に
解砕することを特徴とする、純度が99.9%以上であ
り、数平均粒子径が0.05〜50μmであり、以下の
関係式(式1)を満たす、実質的にシリカ微粒子同士が
凝集せずに単分散していることを特徴とする無孔質球状
シリカの製造方法。 【式1】 (但し、式中、SはBET法で測定した比表面積(m
/g)、dは数平均粒子径(μm)である。)
1. A silica fine particle dispersion obtained by hydrolyzing and condensing a hydrolyzable silicon compound is surface-modified with a surface-modifying agent and heat-treated in the presence of a high-boiling organic solvent, and then 650 to 650. It has a purity of 99.9% or more, a number average particle diameter of 0.05 to 50 μm, and is characterized by crushing after drying and firing at a temperature of 1100 ° C., and the following relational expression (Equation 1). A method for producing non-porous spherical silica, characterized in that the silica fine particles are substantially monodispersed without agglomerating. [Formula 1] (However, in the formula, S is a specific surface area (m 2
/ G) and d are number average particle diameters (μm). )
【請求項2】 加水分解可能なケイ素化合物の加水分
解,縮合物が表面改質剤で表面改質されて、高沸点有機
溶媒の存在下で加熱処理された後に、650〜1100
℃の温度で乾燥,焼成され、解砕されてなり、純度が9
9.9%以上であり、以下の関係式(式2)を満たす、
実質的にシリカ微粒子同士が凝集せずに単分散している
ことを特徴とする無孔質球状シリカ。 【式2】 (但し、式中、SはBET法で測定した比表面積(m
/g)、dは数平均粒子径(μm)である。)
2. A hydrolyzable silicon compound hydrolyzate or condensate is surface-modified with a surface modifier and heat-treated in the presence of a high-boiling organic solvent, and then 650 to 1100.
It is dried and baked at a temperature of ℃, crushed, and has a purity of 9
9.9% or more, satisfying the following relational expression (Equation 2),
A non-porous spherical silica characterized in that the silica fine particles are substantially monodispersed without agglomeration. [Formula 2] (However, in the formula, S is a specific surface area (m 2
/ G) and d are number average particle diameters (μm). )
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