JP2003161921A - エピスルフィド化合物を用いてなる光学製品 - Google Patents

エピスルフィド化合物を用いてなる光学製品

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JP2003161921A
JP2003161921A JP2001362376A JP2001362376A JP2003161921A JP 2003161921 A JP2003161921 A JP 2003161921A JP 2001362376 A JP2001362376 A JP 2001362376A JP 2001362376 A JP2001362376 A JP 2001362376A JP 2003161921 A JP2003161921 A JP 2003161921A
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bis
acid
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thio
episulfide compound
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Takeshi Okubo
毅 大久保
Takeshi Takamatsu
健 高松
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Hoya Corp
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Hoya Corp
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 屈折率とアッベ数が共に高く、かつ耐熱性、
耐候性、透明性などに優れており、プラスチックレン
ズ、プリズム、光ファイバー、情報記録用基板、赤外吸
収用フィルター、着色フィルターなどに好ましく用いら
れる光学製品を提供する。 【解決手段】 モノマー必須成分として少なくとも一般
式 (1)で表されるエピスルフィド化合物を用いて得られ
た重合体からなる光学製品。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はエピスルフィド化合
物を用いてなる光学製品に関する。さらに詳しくは、本
発明の光学製品は、屈折率とアッベ数が共に高く、かつ
耐熱性、耐候性、透明性なども優れており、プラスチッ
クレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録用基板、
赤外吸収用フィルター、着色フィルターなどに好ましく
用いられる光学製品に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プラスチックはガラスに比較し軽量で割
れにくく染色が容易であるため、近年、レンズ等の各種
光学用途に使用されている。そして、光学用プラスチッ
ク材料としては、ポリ(ジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート) (CR−39)やポリ(メチルメタクリレー
ト)が、一般的に用いられている。しかしながら、これ
らのプラスチックは1.50以下の屈折率を有するため、そ
れらを例えばレンズ材料に用いた場合、度数が強くなる
ほどレンズが厚くなり軽量を長所とするプラスチックの
優位性が損なわれてしまう。特に強度の凹レンズは、レ
ンズ周辺が肉厚となり、複屈折や色収差が生じることか
ら好ましくない。さらに眼鏡用途において肉厚のレンズ
は、審美性を悪くする傾向にある。肉薄のレンズを得る
ためには、材料の屈折率を高めることが効果的である。
一般的にガラスやプラスチックは、屈折率の増加に伴い
アッベ数が減少し、その結果、それらの色収差は増加す
る。従って、高い屈折率とアッベ数を兼ね備えたプラス
チック材料が望まれている。
【0003】このような性能を有するプラスチック材料
としては、例えば(1) 分子内に臭素を有するポリオー
ルとポリイソシアネートとの重付加により得られるポリ
ウレタン(特開昭58−164615号公報)、(2) ポリチオ
ールとポリイソシアネートとの重付加により得られるポ
リチオウレタン(特公平4−58489号公報、特公平5−148
340号公報)が提案されている。そして、特に(2)のポリ
チオウレタンの原料となるポリチオールとして、イオウ
原子の含有率を高めた分岐鎖(特開平2−270859号公
報、特開平5−148340号公報)や、イオウ原子を高める
ためジチアン構造を導入したポリチオール(特公平6−5
323号公報、特開平7−118390号公報)が提案されてい
る。さらに、(3) エピスルフィドを重合官能基としたア
ルキルスルフィドの重合体が提案されている(特開平9
−72580号公報、特開平9−110979号公報)。しかしなが
ら上記(1)のポリウレタンは、屈折率がわずかに改良さ
れているものの、アッベ数が低く、かつ耐光性に劣る
上、比重が高く、軽量性が損なわれるなどの欠点を有し
ている。また(2)のポリチオウレタンのうち、原料のポ
リチオールして高イオウ含有率のポリチオールを用いて
得られたポリチオウレタンは、例えば屈折率が1.60〜1.
68程度に高められているが、同等の屈折率を有する光学
用無機ガラスに比べてアッベ数が低く、さらにアッベ数
を高めなければならないという課題を有している。さら
に、(3)のアルキルスルフィド重合体は、一例としてア
ッベ数が36において、屈折率が1.70に高められており、
この重合体を用いて得られたレンズは、著しく肉薄、軽
量化されているが、屈折率とアッベ数を同時に、さらに
高めたプラスチック材料が望まれている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の課題
を解決するためなされたもので、屈折率とアッベ数が共
に高く、かつ耐熱性、耐候性、透明性なども優れる光学
製品を提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、モノマー必須
成分として少なくともエピスルフィドを重合官能基とす
る1,3,5−トリチアンを用いて得られた重合体が高屈折
率、高アッベ数、耐熱性、透明性などの特性を有し、光
学製品として好適に用いられることを見出し、本発明を
完成させた。すなわち、本発明は、モノマー必須成分と
して少なくとも一般式 (1)で表されるエピスルフィド化
合物を用いて得られた重合体からなる光学製品、およ
び、プラスチックレンズである前記光学製品を提供する
ものである。
【化2】 (式中nは0〜2の整数を示す。)
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の光学製品で使用する一般
式 (1)で示されるエピスルフィド化合物は、トリチアン
環に3つの同一のエピスルフィド含有置換基が結合して
いる。
【化3】 (式中nは0〜2の整数を示す。)
【0007】一般式(1)のエピスルフィド化合物にお
けるトリチアン環は原子屈折の高いイオウを高い割合で
含有しておりエピスルフィド化合物の重合体の屈折率を
大きく高める。さらにエピスルフィド化合物の開環重合
で生成したエチレンスルフィド連鎖もまた屈折率の増加
に寄与する。通常、アモルファス材料のアッベ数はその
屈折率の増加とともに減少する傾向にある。イオウを高
い割合で含有するポリマーの場合、イオウの電子共鳴が
顕著となりアッベ数の大きな低下がよく観測されるが、
本発明で用いるエピスルフィド化合物ではそのようなこ
とがない。屈折率増加の別の要因として分子容の減少が
挙げられ、ポリマーの場合、高い架橋密度や強い分子間
力によりそれが発現される。本発明で用いるエピスルフ
ィド化合物は3つの重合官能基を有しており、その重合
体は特に前者の効果により屈折率が高められる。一般式
(1) のエピスルフィド化合物において、nの増加はイオ
ウ含有量と架橋密度を低下させ、屈折率を低下させたポ
リマーを与えることから、nの範囲は0〜2でなければな
らない。さらに本発明で用いるエピスルフィド化合物を
用いて得られたポリマーのガラス転移温度(Tg)は一般
式(1)におけるnの増加とともに減少するため、耐熱性の
良いポリマーを得るためにもnの範囲は0〜2でなければ
ならない。
【0008】一般式(1)で表されるエピスルフィド化合
物としては、具体的に2,4,6−トリス(エピチオメチル
チオメチル)−1,3,5−トリチアン、2,4,6−トリス(エ
ピチオエチルチオメチル)−1,3,5−トリチアン、2,4,6
−トリス(エピチオプロピルチオメチル)−1,3,5−ト
リチアンなどが挙げられる。
【0009】これらの本発明で用いるエピスルフィド化
合物は、トリチアン環の2、4、6位に導入した2,4,6−ト
リメチレン−1,3,5−トリチアンのメチレン基とメルカ
プト基を有するエピスルフィド化合物とをエン−チオー
ル反応させることにより効率よく製造することができ
る。メルカプト基を有するエピスルフィド化合物として
は、例えば、3-メルカプトプロペンスルフィド、4-メル
カプトブテンスルフィド、5-メルカプトペンテンスルフ
ィド等が挙げられる。例えば、3-メルカプトプロペンス
ルフィドはF. P. Doyle等、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサエティー、2660頁、1960年に記載の方法で調製
することができる。
【0010】このエピスルフィド化合物の代表的な製造
法として2,4,6−トリス(エピチオメチルチオ)−1,3,5
−トリチアン(一般式(1)においてn=0の化合物)の合成を
スキーム1に示す。クロロアセトアルデヒドの40重量%水
溶液を70重量%硫酸に溶解し0°C硫化水素を通じること
で2,4,6−トリス(クロロメチル)−1,3,5−トリチアン
が得られる。酸性溶媒として硫酸以外に60:40(v/v)95重
量%硫酸−酢酸および塩化水素を飽和させた酢酸、エー
テル、95重量%エタノールなどを用いることができる。得
られた塩素化合物のメタノール溶液に水酸化カリウムを
加えることで脱塩化水素により2,4,6−トリメチレン−
1,3,5−トリチアンが得られ、これをラジカル発生剤の
存在下、3-メルカプトプロペンスルフィドと加熱反応さ
せることで目的物である2,4,6−トリス(エピチオメチ
ルチオ)−1,3,5−トリチアンが得られる。ラジカル発生
剤としてはアゾビスブチロニトリル、過酸化ベンゾイ
ル、ビス(シクロヘキシルカルボニル)パーオキサイドな
どが用いられる。3-メルカプトプロペンスルフィド以外
に4-メルカプトブテンスルフィド及び5-メルカプトペン
テンスルフィドを用いることで2,4,6−トリス(エピチ
オエチルチオ)−1,3,5−トリチアン及び2,4,6−トリス
(エピチオプロピルチオ)−1,3,5−トリチアンがそれ
ぞれ得られる。.
【0011】スキーム1
【化4】 ※Meはメチル基
【0012】次に、一般式(1)で表されるエピスルフィ
ド化合物を用いて得られる、本発明の光学製品ついて説
明する。一般式(1)で示されるエピスルフィド化合物は
必須成分であり、一種用いてもよいし、二種以上を組み
合わせて用いてもよい。さらに、このエピスルフィド化
合物は、得られる重合体の物性などを適宜改良するため
の任意成分として、一般式(1)で示されるエピスルフィ
ド化合物以外のエピスルフィド化合物、エポキシ化合物
及び単独重合可能なビニルモノマーを含有することがで
きる。また、従来より知られているポリイソ(チオ)シ
アネ−ト化合物およびポリチオ−ル化合物と重合して光
学製品を作製することもできる。なお、イソ(チオ)シ
アネートとはイソシアネートとイソチオシアネートの両
者を意味する。
【0013】上記一般式(1)で示されるエピスルフィド
化合物以外の適宜用いられるエピスルフィド化合物の例
としては、ビス(β−エピチオプロピルチオ)メタン、
1,2−ビス(β−エピチオプロピルチオ)エタン、
1,3−ビス(β−エピチオプロピルチオ)プロパン、
1,2−ビス(β−エピチオプロピルチオ)プロパン、
1−(β−エピチオプロピルチオ)−2−(β−エピチ
オプロピルチオメチル)プロパン、1,4−ビス(β−
エピチオプロピルチオ)ブタン、1,3−ビス(β−エ
ピチオプロピルチオ)ブタン、1−(β−エピチオプロ
ピルチオ)−3−(β−エピチオプロピルチオメチル)
ブタン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ペ
ンタン、1−(β−エピチオプロピルチオ)−4−(β
−エピチオプロピルチオメチル)ペンタン、1,6−ビ
ス(β−エピチオプロピルチオ)ヘキサン、1−(β−
エピチオプロピルチオ)−5−(β−エピチオプロピル
チオメチル)ヘキサン、1−(β−エピチオプロピルチ
オ)−2−〔(2−β−エピチオプロピルチオエチル)
チオ〕エタン、1−(β−エピチオプロピルチオ)−2
−[〔2−(2−β−エピチオプロピルチオエチル)チ
オエチル〕チオ]エタン等の鎖状有機化合物等;テトラ
キス(β−エピチオプロピルチオメチル)メタン、1,
1,1−トリス(β−エピチオプロピルチオメチル)プ
ロパン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−
2−(β−エピチオプロピルチオメチル)−3−チアペ
ンタン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−
2,4−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3
−チアペンタン、1−(β−エピチオプロピルチオ)−
2,2−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−4
−チアヘキサン、1,5,6−トリス(β−エピチオプ
ロピルチオ)−4−(β−エピチオプロピルチオメチ
ル)−3−チアヘキサン、1,8−ビス(β−エピチオ
プロピルチオ)−4−(β−エピチオプロピルチオメチ
ル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(β−エ
ピチオプロピルチオ)−4,5ビス(β−エピチオプロ
ピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−
ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4,4−ビス(β
−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオク
タン、1,8−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−
2,4,5−トリス(β−エピチオプロピルチオメチ
ル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(β−エ
ピチオプロピルチオ)−2,5−ビス(β−エピチオプ
ロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,9
−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−5−(β−エピ
チオプロピルチオメチル)−5−〔(2−β−エピチオ
プロピルチオエチル)チオメチル〕−3,7−ジチアノ
ナン、1,10−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−
5,6−ビス〔(2−β−エピチオプロピルチオエチ
ル)チオ〕−3,6,9−トリチアデカン、1,11−
ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4,8−ビス(β
−エピチオプロピルチオメチル)−3,6,9−トリチ
アウンデカン、1,11−ビス(β−エピチオプロピル
チオ)−5,7−ビス(β−エピチオプロピルチオメチ
ル)−3,6,9−トリチアウンデカン、1,11−ビ
ス(β−エピチオプロピルチオ)−5,7−〔(2−β
−エピチオプロピルチオエチル)チオメチル〕−3,
6,9−トリチアウンデカン、1,11−ビス(β−エ
ピチオプロピルチオ)−4,7−ビス(β−エピチオプ
ロピルチオメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン
等の分岐状有機化合物およびこれらの化合物のエピスル
フィド基の水素の少なくとも1個がメチル基で置換され
た化合物等;1,3および1,4−ビス(β−エピチオ
プロピルチオ)シクロヘキサン、1,3および1,4−
ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)シクロヘキサ
ン、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)シクロヘ
キシル〕メタン、2,2−ビス〔4−(β−エピチオプ
ロピルチオ)シクロヘキシル〕プロパン、ビス〔4−
(β−エピチオプロピルチオ)シクロヘキシル〕スルフ
ィド、2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオメチ
ル)−1,4−ジチアン、2,5−ビス(β−エピチオ
プロピルチオエチルチオメチル)−1,4−ジチアン等
の環状脂肪族有機化合物およびこれらの化合物のエピス
ルフィド基の水素の少なくとも1個がメチル基で置換さ
れた化合物;1,3および1,4−ビス(β−エピチオ
プロピルチオ)ベンゼン、1,3および1,4−ビス
(β−エピチオプロピルチオメチル)ベンゼン、ビス
〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕メタ
ン、2,2−ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)
フェニル〕プロパン、ビス〔4−(β−エピチオプロピ
ルチオ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(β−エピ
チオプロピルチオ)フェニル〕スルフォン、4,4’−
ビス(β−エピチオプロピルチオ)ビフェニル等の芳香
族有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基
の水素の少なくとも1個がメチル基で置換された化合物
等が挙げられ、これらは単独もしくは二種以上を組み合
わせて用いてもよい。これらの使用量は一般式(1)で示
されるエピスルフィド化合物の総量に対して0.01〜50モ
ル%が好ましい。
【0014】上記の適宜用いられるエポキシ化合物の例
としては、ヒドロキノン、カテコール、レゾルシン、ビ
スフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールス
ルフォン、ビスフェノールエーテル、ビスフェノールス
ルフィド、ビスフェノールスルフィド、ハロゲン化ビス
フェノールA、ノボラック樹脂等の多価フェノール化合
物とエピハロヒドリンの縮合により製造されるフェノー
ル系エポキシ化合物;エチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレング
リコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、1、3−プロパンジ
オール、1、4−ブタンジオール、1、6−ヘキサンジ
オール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリ
トール、1、3−および1、4−シクロヘキサンジオー
ル、1、3−および1、4−シクロヘキサンジメタノー
ル、水添ビスフェノールA、ビスフェノルA・エチレン
オキサイド付加物、ビスフェノルA・プロピレンオキサ
イド付加物等の多価アルコール化合物とエピハロヒドリ
ンの縮合により製造されるアルコール系エポキシ化合
物;アジピン酸、セバチン酸、ドデカンジカルボン酸、
ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、
テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、
ヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、ヘ
キサヒドロテレフタル酸、ヘット酸、ナジック酸、マレ
イン酸、コハク酸、フマール酸、トリメリット酸、ベン
ゼンテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン
酸、ナフタリンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸
等の多価カルボン酸化合物とエピハロヒドリンの縮合に
より製造されるグリシジルエステル系エポキシ化合物;
エチレンジアミン、1,2−ジアミノプロパン、1,3
−ジアミノプロパン、1,2−ジアミノブタン、1,3
−ジアミノブタン、1,4−ジアミノブタン、1,5−
ジアミノペンタン、1,6−ジアミノヘキサン、1,7
−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオクタン、ビス
−(3−アミノプロピル)エーテル、1,2−ビス−
(3−アミノプロポキシ)エタン、1,3−ビス−(3
−アミノプロポキシ)−2,2’−ジメチルプロパン、
1,2−、1,3−および1,4−ビスアミノシクロヘ
キサン、1,3−および1,4−ビスアミノメチルシク
ロヘキサン、1,3−および1,4−ビスアミノエチル
シクロヘキサン、1,3−および1,4−ビスアミノプ
ロピルシクロヘキサン、水添4,4’−ジアミノジフェ
ニルメタン、イソホロンジアミン、1,4−ビスアミノ
プロピルピペラジン、m−およびp−フェニレンジアミ
ン、2,4−および2,6−トリレンジアミン、m−お
よびp−キシリレンジアミン、1,5−および2,6−
ナフタレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメ
タン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2
−(4,4’−ジアミノジフェニル)プロパン等の一級
ジアミン、N,N’−ジメチルエチレンジアミン、N,
N’−ジメチル−1,2−ジアミノプロパン、N,N’
−ジメチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N’−ジ
メチル−1,2−ジアミノブタン、N,N’−ジメチル
−1,3−ジアミノブタン、N,N’−ジメチル−1,
4−ジアミノブタン、N,N’−ジメチル−1,5−ジ
アミノペンタン、N,N’−ジメチル−1,6−ジアミ
ノヘキサン、N,N’−ジメチル−1,7−ジアミノヘ
プタン、N,N’−ジエチルエチレンジアミン、N,
N’−ジエチル−1,2−ジアミノプロパン、N,N’
−ジエチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N’−ジ
エチル−1,2−ジアミノブタン、N,N’−ジエチル
−1,3−ジアミノブタン、N,N’−ジエチル−1,
4−ジアミノブタン、N,N’−ジエチル−1,6−ジ
アミノヘキサン、ピペラジン、2−メチルピペラジン、
2,5−および2,6−ジメチルピペラジン、ホモピペ
ラジン、1,1−ジ−(4−ピペリジル)−メタン、
1,2−ジ−(4−ピペリジル)−エタン、1,3−ジ
−(4−ピペリジル)−プロパン、1,4−ジ−(4−
ピペリジル)−ブタン等のニ級ジアミンとエピハロヒド
リンの縮合により製造されるアミン系エポキシ化合物;
3、4−エポキシシクロヘキシル−3、4−エポキシシ
クロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクリヘキサン
ジオキサイド、2−(3、4−エポキシシクロヘキシ
ル)−5、5−スピロ−3、4−エポキシシクロヘキサ
ン−メタ−ジオキサン、ビス(3、4−エポキシシクロ
ヘキシル)アジペート等の脂環式エポキシ化合物;シク
ロペンタジエンエポキシド、エポキシ化大豆油、エポキ
シ化ポリブタジエン、ビニルシクロヘキセンエポキシド
等の不飽和化合物のエポキシ化により製造されるエポキ
シ化合物;上述の多価アルコール、フェノール化合物と
ジイソシアネートおよびグリシドール等から製造される
ウレタン系エポキシ化合物等が挙げられ、これらは単独
もしくは二種以上を組み合わせて用いてもよい。これら
の使用量は一般式(1)で示されるエピスルフィド化合物
の総量に対して0.01〜50モル%が好ましい。
【0015】上記の適宜用いられる単独重合可能なビニ
ルモノマーの例としては、メチルアクリレート、メチル
メタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタク
リレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレー
ト、1,3−ブチレングリコールジメタクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、
ポリプロピレングリコールジメタクリレート、2,2−
ビス〔4−(アクリロキシエトキシ)フェニル〕プロパ
ン、2,2−ビス〔4−(メタクリロキシエトキシ)フ
ェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(アクリロキシ
・ジエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4
−(メタクリロキシ・ジエトキシ)フェニル〕プロパ
ン、2,2−ビス〔4−(アクリロキシ・ポリエトキ
シ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(メタク
リロキシ・ポリエトキシ)フェニル〕プロパン、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリ
レート、ビス(2,2,2−トリメチロールエチル)エ
ーテルのヘキサアクリレート、ビス(2,2,2−トリ
メチロールエチル)エーテルのヘキサメタクリレート等
の1価以上のアルコールとアクリル酸、メタクリル酸の
エステル構造を有する化合物;アリルスルフィド、ジア
リルフタレート、ジエチレングリコールビスアリルカー
ボネート等のアリル化合物;アクロレイン、アクリロニ
トリル、ビニルスルフィド等のビニル化合物;スチレ
ン、α−メチルスチレン、メチルビニルベンゼン、エチ
ルビニルベンゼン、α−クロロスチレン、クロロビニル
ベンゼン、ビニルベンジルクロライド、パラジビニルベ
ンゼン、メタジビニルベンゼン等の芳香族ビニル化合物
等が挙げられ、これらは単独もしくは二種以上を組み合
わせて用いてもよい。これらの使用量は一般式(1)で示
されるエピスルフィド化合物の総量に対して0.01〜20モ
ル%が好ましい。
【0016】また、本発明の光学製品は、一般式(1)
で表されるポリスルフィド化合物と、ポリチオ−ル化合
物と、ポリイソ(チオ)シアネ−ト化合物とを混合して
作製することもできる。ポリチオ−ル化合物の例として
は、1,2−エタンジチオール、1,3−プロパンジチオー
ル、テトラキスメルカプトメチルメタン、ペンタエリス
リトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ペンタ
エリスリトールテトラキスメルカプトアセテート、2−
メルカプトエタノール、2,3−ジメルカプトプロパノー
ル、1,2−ジヒドロキシ−3−メルカプトプロパン、4−
メルカプトフェノール、1,2−ベンゼンジチオール、1,3
−ベンゼンジチオール、1,4−ベンゼンジチオール、1,
3,5−ベンゼントリチオール、1,2−ジメルカプトメチル
ベンゼン、1,3−ジメルカプトメチルベンゼン、1,4−ジ
メルカプトメチルベンゼン、1,3,5−トリメルカプトメ
チルベンゼン、トルエン−3,4−ジチオール、4,4'−ジ
ヒドロキシフェニルスルフィド等が挙げられる。
【0017】ポリイソ(チオ)シアネート化合物として
は、キシリレンジイソ(チオ)シアネート、3,3'−ジク
ロロジフェニル−4,4'−ジイソ(チオ)シアネート、4,
4'−ジフェニルメタンジイソ(チオ)シアネート、ヘキ
サメチレンジイソ(チオ)シアネート、2,2',5,5'−テ
トラクロロジフェニル−4,4'−ジイソ(チオ)シアネー
ト、トリレンジイソ(チオ)シアネート等が挙げられ
る。さらに、一つ以上のシクロヘキシル環を有するもの
として、ビス(イソ(チオ)シアネートメチル)シクロ
ヘキサン、ビス(4−イソ(チオ)シアネートシクロヘ
キシル)メタン、ビス(4−イソ(チオ)シアネートメ
チルシクロヘキシル)メタン、シクロヘキサンジイソ
(チオ)シアネート、イソフォロンジイソ(チオ)シア
ネート、2,5−ビス(イソ(チオ)シアネートメチル)
ビシクロ[2.2.2]オクタン、2,5−ビス(イソ(チオ)
シアネートメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2−イ
ソ(チオ)シアネートメチル−3−(3−イソ(チオ)シ
アネートプロピル)−5−イソ(チオ)シアネートメチ
ル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シ
アネートメチル−3−(3−イソ(チオ)シアネートプロ
ピル)−6−イソ(チオ)シアネートメチル−ビシクロ
[2.2.1]ヘプタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル
−2−[3−イソ(チオ)シアネートプロピル]−5−イ
ソ(チオ)シアネートメチル−ビシクロ[2.2.1]−ヘ
プタン、2−イソ(チオ)シアネートメチル−2−(3−
イソ(チオ)シアネートプロピル)−6−イソ(チオ)
シアネートメチル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−
イソ(チオ)シアネートメチル−3−(3−イソ(チオ)
シアネートプロピル)−6−(2−イソ(チオ)シアネー
トエチル)−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ
(チオ)シアネートメチル−3−(3−イソ(チオ)シア
ネートプロピル)−6−(2−イソ(チオ)シアネートエ
チル)−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チ
オ)シアネートメチル−2−(3−イソ(チオ)シアネー
トプロピル)−5−(2−イソ(チオ)シアネートエチ
ル)−ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)
シアネートメチル−2−(3−イソ(チオ)シアネートプ
ロピル)−6−(2−イソ(チオ)シアネートエチル)−
ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン等が挙げられる。
【0018】上記の必須成分および任意成分からなる重
合性組成物には、本発明の目的が損なわれない範囲で、
所望により、耐候性改良のため、紫外線吸収剤、酸化防
止剤、着色防止剤、蛍光染料などの添加剤を適宜加えて
もよい。また、重合反応向上のための触媒を適宜使用し
てもよく、例えばアミン類、フォスフィン類、第4級ア
ンモニウム塩類、第4級ホスホニウム塩類、第3級スル
ホニウム塩類、第2級ヨードニウム塩類、鉱酸類、ルイ
ス酸類、有機酸類、ケイ酸類、四フッ化ホウ酸等が効果
的である。
【0019】本発明のエピスルフィド化合物を用いて得
られる光学製品は、例えば以下に示す方法に従って製造
することができる。まず、上記重合性組成物、および必
要に応じて用いられる各種添加剤を含む均一な組成物を
調製する。次いで、この組成物を公知の注型重合法を用
いて、ガラス製または金属製のモールドと樹脂性のガス
ケットを組み合わせた型の中に注入し、加熱して硬化さ
せる。この際、成形後の樹脂の取り出しを容易にするた
めにあらかじめモールドを離型処理したり、この組成物
に離型剤を混合してもよい。重合温度は、使用する化合
物により異なるが、一般には−20〜+150℃で、重合時
間は0.5〜72時間程度である。重合後離型された重合体
は通常の分散染料を用い、水もしくは有機溶媒中で容易
に染色できる。この際さらに染色を容易にするために、
染料分散液にキャリアーを加えてもよく、また加熱して
も良い。このようにして得られた光学製品は、これに限
定されるものではないが、プラスチックレンズ等の光学
製品として特に好ましく用いられる。
【0020】
【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限
定されるものではない。なお、参考例で得られたエピス
ルフィド化合物の物性、および実施例、比較例で得られ
た重合体の物性は以下に示す方法にしたがって測定し
た。
【0021】<エピスルフィド化合物の物性> 屈折率 (nD)、アッベ数 (nD): アタゴ社製アッベ屈折
率計DR−M4を用いて25°Cにて測定した。 <重合体の物性> 1)屈折率 (nD)、アッベ数 (nD): 上記と同様にして測
定した。 2)外 観: 肉眼により観察した。 3)耐熱性: リガク社製TMA装置により0.5 mmφのピン
を用いて98 mN (10 gf)の荷重でTMA測定を行ない、10℃
/minの昇温で得られたチャートのピーク温度により評価
した。 4)透明性: 日立社製紫外分光器UV−330を用いて550 n
mにおける光線透過率により評価した。
【0022】参考例12,4,6−トリス(エピチオメチルチオメチル)−1,3,5−
トリチアン (T1) (一般式(1)においてn=0)の製造例 70重量%(v/v)硫酸 (100 mL)に0°Cにて硫化水素を30分
バブリングし、40重量%クロロアセトアルデヒド (17.5
mL)を0°Cにて7.5時間で滴下し、この温度を維持しなが
ら硫化水素を24時間バブリングした。上層の水溶液をデ
カンテーションし、残査のジクロロメタン (150 mL)可
溶分を水洗 (25 mL × 3回)、無水硫酸マグネシウム上
で乾燥、ろ過し、溶媒溜去により淡黄色の粗生成物 (9.
5 g)を得た。この粗生成物をヘキサン (40 mL × 4
回)、ヘキサン/エーテル (6/1) (50 mL× 2回)、加熱ヘ
キサン (30 mL × 2回)で洗浄し、真空乾燥することで
白色結晶の2,4,6−トリス(クロロメチル)−1,3,5−トリ
チアン (2.50 g)を得た。この化合物 (0.3 g, 1.06 mmo
l)のメタノール (25 mL)溶液に水酸化カリウム (0.62
g, 11 mmol)のメタノール溶液 (5 mL)を激しく攪拌しな
がら室温にて一度に加え、室温にて75分攪拌した。水
(30 mL)で希釈した反応混合物のジクロロメタン (20 mL
× 5回)抽出液を無水硫酸マグネシウム上で乾燥、ろ過
した。濾液から溶媒を溜去し、黄色い油状残査として2,
4,6−トリメチレン−1,3,5−トリチアン (150mg)を得
た。この化合物 (0.47 g)のベンゼン (1 mL)溶液に3−
メルカプトプロペンスルフィド (1.14 g)とアゾビスブ
チロニトリル (0.2 mg)を加え、アルゴン雰囲気で40°C
で2時間攪拌した。反応混合物から溶媒を溜去し得られ
た残査をクロロフォルム/メタノールから再結晶し2,4,
6−トリス(エピチオメチルチオメチル)−1,3,5−トリ
チアン(411 mg)の結晶 (mp=55〜56°C)を得た。以下に
この化合物の構造特定のための分析結果を示す。1 H−NMR (溶媒:CDCl3 、内部標準物質:TMS): d2.27
(d, 3H), d2.59 (d, 3H),d2.76 (m, 3H), d3.19-3.29
(m, 12H), d4.37〜4.63 (t, t, m, 3H)。IR (KBr錠剤
法): 620, 660, 710, 740, 800, 860, 920, 1060, 109
5, 1190, 1250, 1420, 1440 cm-1
【0023】参考例22,4,6−トリス(エピチオプロピルチオメチル)−1,3,5
−トリチアン (T3) (一般式(1)においてn=2)の製造例 実施例1において3−メルカプトプロペンスルフィドおよ
びアゾビスブチロニトリルの代わりにそれぞれ5−メル
カプトペンテンスルフィド (1.45 mg)およびシクロヘキ
シルカルボニルパーオキサイド (0.3 mg)を用いた以外
は実施例1と同様の操作により2,4,6−トリス(エピチオ
プロピルチオメチル)−1,3,5−トリチアン (T3) (481
mg)を得た。この化合物の屈折率 (nD)は1.696、アッベ数
(nD)は30.1であった。以下にこの化合物の構造特定の
ための分析結果を示す。1 H−NMR (溶媒:CDCl3 、内部標準物質:TMS): d2.29
(d, 3H), d2.44−2.52 (m, 12H), d2.58 (d, 3H), d2.7
4 (m, 3H), d3.12−3.16 (m, 6H), d3.25−3.31 (m, 6
H), d4.39−4.66 (t, t, m, 3H)。IR (KBr錠剤法): 62
0, 658, 714, 738, 803, 861, 918, 1064, 1099, 1185,
1244, 1444, 1446 cm-1
【0024】実施例1重合体からなる光学製品の製造 実施例1で得られたT1 (0.05)モルと重合触媒であるテト
ラ(ノルマルブチル)フォスフォニウムブロマイド(CT1)
2×10-5 モルの混合物を60°Cにて均一に攪拌し、二枚
のレンズ成形用ガラス型に注入し、70°Cで10時間、そ
の後80°Cで5時間、さらに100°Cで3時間加熱重合させ
てレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体の諸物性
を表1に示す。表1から、本実施例1で得られた重合体は
無色透明であり、屈折率 (nD)は1.796と非常に高く、ア
ッベ数 (nD)も30と高い (低分散)ものであり、耐熱性
(135°C)および透明性 (92%)に優れたものであった。従
って、得られた重合体は光学製品として好適であった。
【0025】実施例2〜5重合体からなる光学製品の製造 一般式(1)で示されるエピスルフィド化合物 (C1成
分)、それ以外のエピスルフィド化合物、エポキシ化合
物および/またはビニルモノマー (C2成分)、および重
合触媒を表1に示すように使用して、重合条件を適宜変
更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、レンズ形
状の重合体を得た。これらの重合体の諸物性を表1に示
す。表1から、本実施例2〜5で得られた重合体も無色透
明であり、屈折率 (nD)は1.709〜1.778と非常に高く、
アッベ数 (nD)も31〜36と高い (低分散)ものであり、耐
熱性 (111〜141°C)、透明性 (89〜96%)に優れたもので
あった。従って、得られた重合体は光学製品材料として
好適であった。
【0026】比較例1 表1に示すようにペンタエリスリトールテトラキスメル
カプトプロピオネート(CE5) 0.1 モル、m−キシリレ
ンジイソシアネート (CE6) 0.2モルおよびジブチル
スズジクロライド (CT5) 1.0×10-4モルの混合物を
均一に撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、
50°Cで10時間、その後60°Cで5時間、さらに120°Cで3
時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られ
た重合体の諸物性を表1に示す。表1から、本比較例1の
重合体は無色で透明性(92%)も良かったが、nD/nDが1.59
/36と屈折率が低く、耐熱性も86°Cと劣っていた。
【0027】比較例2、3 表1に示した原料組成物を使用した以外は、比較例1と同
様の操作を行ない、レンズ形状の重合体を得た。これら
の重合体の諸物性を表1に示す。表1から、本比較例2の
重合体はnD/nDが1.67/28といずれも低く、耐熱性 (94
°C)は比較的良好であるが、着色が見られ透明性(81%)
が低かった。本比較例3の重合体は、nDが36と比較的高
く、耐候性に優れており、無色で透明性(89%)も良かっ
たが、耐熱性(90°C)が劣り、nDが1.70とそれほど高く
なく、また、重合体は脆弱であった。
【0028】
【表1】
【0029】(表1の略号) T1: 2,4,6−トリス(エピチオメチルチオメチル)−
1,3,5−トリチアン T2: 2,4,6−トリス(エピチオエチルチオメチル)−
1,3,5−トリチアン T3: 2,4,6−トリス(エピチオプロピルチオメチル)
−1,3,5−トリチアン CE1: ビス(エピチオメチル)スルフィド CE2: 2,2−ビス(4−(2−グリシジルオキシ)エトキ
シフェニル)プロパン CE3: シクロヘキセンオキサイド CE4: ビス(2−アクリロキシエチル)−1,4−キシリ
ルカルバメート CE5: ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプ
ロピオネート CE6: m−キシリレンジイソシアネート CE7: 1,3,5−トリメルカプトベンゼン CT1: テトラ(ノルマルブチル)フォスフォニウムブ
ロマイド CT2: トリエチルアミン CT3: 2,4,6−トリジメチルアミノフェノール CT4: 三弗化ホウ素−ピリジン錯体 CT5: ジブチルスズジクロライド
【0030】
【発明の効果】本発明の光学製品は、屈折率、アッベ数
が高く、耐熱性、透明性に優れているので眼鏡レンズ、
カメラレンズ等のレンズ、プリズム、光ファイバー、光
ディスク、磁気ディスク等に用いられる記録媒体基板、
着色フィルター、赤外線吸収フィルター等として好適で
ある。
【手続補正書】
【提出日】平成14年10月11日(2002.10.
11)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正内容】
【0010】このエピスルフィド化合物の代表的な製造
法として2,4,6−トリス(エピチオメチルチオメチル
−1,3,5−トリチアン(一般式(1)においてn=0の化合物)
の合成をスキーム1に示す。クロロアセトアルデヒドの40
重量%水溶液を70重量%硫酸に溶解し0°C硫化水素を通じ
ることで2,4,6−トリス(クロロメチル)−1,3,5−トリ
チアンが得られる。酸性溶媒として硫酸以外に60:40(v/
v)95重量%硫酸−酢酸および塩化水素を飽和させた酢
酸、エーテル、95重量%エタノールなどを用いることが
できる。得られた塩素化合物のメタノール溶液に水酸化
カリウムを加えることで脱塩化水素により2,4,6−トリ
メチレン−1,3,5−トリチアンが得られ、これをラジカ
ル発生剤の存在下、3-メルカプトプロペンスルフィドと
加熱反応させることで目的物である2,4,6−トリス(エ
ピチオメチルチオメチル)−1,3,5−トリチアンが得ら
れる。ラジカル発生剤としてはアゾビスブチロニトリ
ル、過酸化ベンゾイル、ビス(シクロヘキシルカルボニ
ル)パーオキサイドなどが用いられる。3-メルカプトプロ
ペンスルフィド以外に4-メルカプトブテンスルフィド及
び5-メルカプトペンテンスルフィドを用いることで2,4,
6−トリス(エピチオエチルチオメチル)−1,3,5−トリ
チアン及び2,4,6−トリス(エピチオプロピルチオメチ
)−1,3,5−トリチアンがそれぞれ得られる。.
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0014
【補正方法】変更
【補正内容】
【0014】上記の適宜用いられるエポキシ化合物の例
としては、ヒドロキノン、カテコール、レゾルシン、ビ
スフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールス
ルフォン、ビスフェノールエーテル、ビスフェノールス
ルフィド、ハロゲン化ビスフェノールA、ノボラック樹
脂等の多価フェノール化合物とエピハロヒドリンの縮合
により製造されるフェノール系エポキシ化合物;エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、1、3−プロパンジオール、1、4−ブタンジオ
ール、1、6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、グリセリン、トリメチロールプロパントリメタク
リレート、ペンタエリスリトール、1、3−および1、
4−シクロヘキサンジオール、1、3−および1、4−
シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールA、
ビスフェノルA・エチレンオキサイド付加物、ビスフェ
ノルA・プロピレンオキサイド付加物等の多価アルコー
ル化合物とエピハロヒドリンの縮合により製造されるア
ルコール系エポキシ化合物;アジピン酸、セバチン酸、
ドデカンジカルボン酸、ダイマー酸、フタル酸、イソフ
タル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチル
テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ヘキサ
ヒドロイソフタル酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘッ
ト酸、ナジック酸、マレイン酸、コハク酸、フマール
酸、トリメリット酸、ベンゼンテトラカルボン酸、ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸、ナフタリンジカルボン
酸、ジフェニルジカルボン酸等の多価カルボン酸化合物
とエピハロヒドリンの縮合により製造されるグリシジル
エステル系エポキシ化合物;エチレンジアミン、1,2
−ジアミノプロパン、1,3−ジアミノプロパン、1,
2−ジアミノブタン、1,3−ジアミノブタン、1,4
−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,6
−ジアミノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,
8−ジアミノオクタン、ビス−(3−アミノプロピル)
エーテル、1,2−ビス−(3−アミノプロポキシ)エ
タン、1,3−ビス−(3−アミノプロポキシ)−2,
2’−ジメチルプロパン、1,2−、1,3−および
1,4−ビスアミノシクロヘキサン、1,3−および
1,4−ビスアミノメチルシクロヘキサン、1,3−お
よび1,4−ビスアミノエチルシクロヘキサン、1,3
−および1,4−ビスアミノプロピルシクロヘキサン、
水添4,4’−ジアミノジフェニルメタン、イソホロン
ジアミン、1,4−ビスアミノプロピルピペラジン、m
−およびp−フェニレンジアミン、2,4−および2,
6−トリレンジアミン、m−およびp−キシリレンジア
ミン、1,5−および2,6−ナフタレンジアミン、
4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジア
ミノジフェニルエーテル、2,2−(4,4’−ジアミ
ノジフェニル)プロパン等の一級ジアミン、N,N’−
ジメチルエチレンジアミン、N,N’−ジメチル−1,
2−ジアミノプロパン、N,N’−ジメチル−1,3−
ジアミノプロパン、N,N’−ジメチル−1,2−ジア
ミノブタン、N,N’−ジメチル−1,3−ジアミノブ
タン、N,N’−ジメチル−1,4−ジアミノブタン、
N,N’−ジメチル−1,5−ジアミノペンタン、N,
N’−ジメチル−1,6−ジアミノヘキサン、N,N’
−ジメチル−1,7−ジアミノヘプタン、N,N’−ジ
エチルエチレンジアミン、N,N’−ジエチル−1,2
−ジアミノプロパン、N,N’−ジエチル−1,3−ジ
アミノプロパン、N,N’−ジエチル−1,2−ジアミ
ノブタン、N,N’−ジエチル−1,3−ジアミノブタ
ン、N,N’−ジエチル−1,4−ジアミノブタン、
N,N’−ジエチル−1,6−ジアミノヘキサン、ピペ
ラジン、2−メチルピペラジン、2,5−および2,6
−ジメチルピペラジン、ホモピペラジン、1,1−ジ−
(4−ピペリジル)−メタン、1,2−ジ−(4−ピペ
リジル)−エタン、1,3−ジ−(4−ピペリジル)−
プロパン、1,4−ジ−(4−ピペリジル)−ブタン等
のニ級ジアミンとエピハロヒドリンの縮合により製造さ
れるアミン系エポキシ化合物;3、4−エポキシシクロ
ヘキシル−3、4−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート、ビニルシクリヘキサンジオキサイド、2−
(3、4−エポキシシクロヘキシル)−5、5−スピロ
−3、4−エポキシシクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、ビス(3、4−エポキシシクロヘキシル)アジペー
ト等の脂環式エポキシ化合物;シクロペンタジエンエポ
キシド、エポキシ化大豆油、エポキシ化ポリブタジエ
ン、ビニルシクロヘキセンエポキシド等の不飽和化合物
のエポキシ化により製造されるエポキシ化合物;上述の
多価アルコール、フェノール化合物とジイソシアネート
およびグリシドール等から製造されるウレタン系エポキ
シ化合物等が挙げられ、これらは単独もしくは二種以上
を組み合わせて用いてもよい。これらの使用量は一般式
(1)で示されるエピスルフィド化合物の総量に対して0.0
1〜50モル%が好ましい。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】<エピスルフィド化合物の物性> 屈折率 (nD)、アッベ数 (ν D): アタゴ社製アッベ屈
折率計DR−M4を用いて25°Cにて測定した。 <重合体の物性> 1)屈折率 (nD)、アッベ数 (ν D): 上記と同様にして
測定した。 2)外 観: 肉眼により観察した。 3)耐熱性: リガク社製TMA装置により0.5 mmφのピン
を用いて98 mN (10 gf)の荷重でTMA測定を行ない、10℃
/minの昇温で得られたチャートのピーク温度により評価
した。 4)透明性: 日立社製紫外分光器UV−330を用いて550 n
mにおける光線透過率により評価した。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】参考例12,4,6−トリス(エピチオメチルチオメチル)−1,3,5−
トリチアン (T1) (一般式(1)においてn=0)の製造例 70重量%(v/v)硫酸 (100 mL)に0°Cにて硫化水素を30分
バブリングし、40重量%クロロアセトアルデヒド (17.5
mL)を0°Cにて7.5時間で滴下し、この温度を維持しなが
ら硫化水素を24時間バブリングした。上層の水溶液をデ
カンテーションし、残査のジクロロメタン (150 mL)可
溶分を水洗 (25 mL × 3回)、無水硫酸マグネシウム上
で乾燥、ろ過し、溶媒溜去により淡黄色の粗生成物 (9.
5 g)を得た。この粗生成物をヘキサン (40 mL × 4
回)、ヘキサン/エーテル (6/1) (50 mL× 2回)、加熱ヘ
キサン (30 mL × 2回)で洗浄し、真空乾燥することで
白色結晶の2,4,6−トリス(クロロメチル)−1,3,5−トリ
チアン (2.50 g)を得た。この化合物 (0.3 g, 1.06 mmo
l)のメタノール (25 mL)溶液に水酸化カリウム (0.62
g, 11 mmol)のメタノール溶液 (5 mL)を激しく攪拌しな
がら室温にて一度に加え、室温にて75分攪拌した。水
(30 mL)で希釈した反応混合物のジクロロメタン (20 mL
× 5回)抽出液を無水硫酸マグネシウム上で乾燥、ろ過
した。濾液から溶媒を溜去し、黄色い油状残査として2,
4,6−トリメチレン−1,3,5−トリチアン (150mg)を得
た。この化合物 (0.47 g)のベンゼン (1 mL)溶液に3−
メルカプトプロペンスルフィド (1.14 g)とアゾビスブ
チロニトリル (0.2 mg)を加え、アルゴン雰囲気で40°C
で2時間攪拌した。反応混合物から溶媒を溜去し得られ
た残査をクロロフォルム/メタノールから再結晶し2,4,
6−トリス(エピチオメチルチオメチル)−1,3,5−トリ
チアン(411 mg)の結晶 (mp=55〜56°C)を得た。以下に
この化合物の構造特定のための分析結果を示す。1 H−NMR (溶媒:CDCl3 、内部標準物質:TMS): δ2.27
(d, 3H),δ2.59 (d, 3H),δ2.76 (m, 3H),δ3.19-3.29
(m, 12H),δ4.37〜4.63 (t, t, m, 3H)。IR (KBr錠剤
法): 620, 660, 710, 740, 800, 860, 920, 1060, 109
5, 1190, 1250, 1420, 1440 cm-1
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0023
【補正方法】変更
【補正内容】
【0023】参考例22,4,6−トリス(エピチオプロピルチオメチル)−1,3,5
−トリチアン (T3) (一般式(1)においてn=2)の製造例 実施例1において3−メルカプトプロペンスルフィドおよ
びアゾビスブチロニトリルの代わりにそれぞれ5−メル
カプトペンテンスルフィド (1.45 mg)およびシクロヘキ
シルカルボニルパーオキサイド (0.3 mg)を用いた以外
は実施例1と同様の操作により2,4,6−トリス(エピチオ
プロピルチオメチル)−1,3,5−トリチアン (T3) (481
mg)を得た。この化合物の屈折率 (nD)は1.696、アッベ数
(nD)は30.1であった。以下にこの化合物の構造特定の
ための分析結果を示す。1 H−NMR (溶媒:CDCl3 、内部標準物質:TMS): δ2.29
(d, 3H),δ2.44−2.52 (m, 12H),δ2.58 (d, 3H),δ2.7
4 (m, 3H),δ3.12−3.16 (m, 6H),δ3.25−3.31(m, 6
H),δ4.39−4.66 (t, t, m, 3H)。IR (KBr錠剤法): 62
0, 658, 714, 738,803, 861, 918, 1064, 1099, 1185,
1244, 1444, 1446 cm-1
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0024
【補正方法】変更
【補正内容】
【0024】実施例1重合体からなる光学製品の製造 実施例1で得られたT1 (0.05)モルと重合触媒であるテト
ラ(ノルマルブチル)フォスフォニウムブロマイド(CT1)
2×10-5 モルの混合物を60°Cにて均一に攪拌し、二枚
のレンズ成形用ガラス型に注入し、70°Cで10時間、そ
の後80°Cで5時間、さらに100°Cで3時間加熱重合させ
てレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体の諸物性
を表1に示す。表1から、本実施例1で得られた重合体は
無色透明であり、屈折率 (nD)は1.796と非常に高く、ア
ッベ数 (ν D)も30と高い (低分散)ものであり、耐熱性
(135°C)および透明性 (92%)に優れたものであった。従
って、得られた重合体は光学製品として好適であった。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】変更
【補正内容】
【0025】実施例2〜5重合体からなる光学製品の製造 一般式(1)で示されるエピスルフィド化合物 (C1成
分)、それ以外のエピスルフィド化合物、エポキシ化合
物および/またはビニルモノマー (C2成分)、および重
合触媒を表1に示すように使用して、重合条件を適宜変
更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、レンズ形
状の重合体を得た。これらの重合体の諸物性を表1に示
す。表1から、本実施例2〜5で得られた重合体も無色透
明であり、屈折率 (nD)は1.709〜1.778と非常に高く、
アッベ数 (ν D)も31〜36と高い (低分散)ものであり、
耐熱性 (111〜141°C)、透明性 (89〜96%)に優れたもの
であった。従って、得られた重合体は光学製品材料とし
て好適であった。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】比較例1 表1に示すようにペンタエリスリトールテトラキスメル
カプトプロピオネート(CE5) 0.1 モル、m−キシリレ
ンジイソシアネート (CE6) 0.2モルおよびジブチル
スズジクロライド (CT5) 1.0×10-4モルの混合物を
均一に撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、
50°Cで10時間、その後60°Cで5時間、さらに120°Cで3
時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られ
た重合体の諸物性を表1に示す。表1から、本比較例1の
重合体は無色で透明性(92%)も良かったが、nD/ν Dが1.5
9/36と屈折率が低く、耐熱性も86°Cと劣っていた。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0027
【補正方法】変更
【補正内容】
【0027】比較例2、3 表1に示した原料組成物を使用した以外は、比較例1と同
様の操作を行ない、レンズ形状の重合体を得た。これら
の重合体の諸物性を表1に示す。表1から、本比較例2の
重合体はnD/ν Dが1.67/28といずれも低く、耐熱性 (94
°C)は比較的良好であるが、着色が見られ透明性(81%)
が低かった。本比較例3の重合体は、ν Dが36と比較的高
く、耐候性に優れており、無色で透明性(89%)も良かっ
たが、耐熱性 (90°C)が劣り、nDが1.70とそれほど高く
なく、また、重合体は脆弱であった。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0028
【補正方法】変更
【補正内容】
【0028】
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J030 BA03 BB03 BB06 BB07 BB12 BB13 BG25 4J034 BA02 CA02 CA31 CA32 CB03 CB04 CB05 CB08 CC03 CC30 CC39 CC45 CC62 CC65 CD08 HA01 HA07 HB02 HB03 HB17 HC03 HC12 HC17 HC22 HC46 HC52 HC54 HC61 HC64 HC67 HC71 HC73 RA13

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 モノマー必須成分として少なくとも一般
    式 (1)で表されるエピスルフィド化合物を用いて得られ
    た重合体からなる光学製品。 【化1】 (式中nは0〜2の整数を示す。)
  2. 【請求項2】 一般式 (1)で示されるエピスルフィド化
    合物が、2,4,6−トリス(エピチオメチルチオメチル)
    −1,3,5−トリチアン、2,4,6−トリス(エピチオエチル
    チオメチル)−1,3,5−トリチアンまたは2,4,6−トリス
    (エピチオプロピルチオメチル)−1,3,5−トリチアン
    である請求項1記載の光学製品。
  3. 【請求項3】 重合体が、前記一般式(1)で表される
    エピスルフィド化合物と、それ以外のエピスルフィド化
    合物とからなる請求項1記載の光学製品。
  4. 【請求項4】 重合体が、前記一般式(1)で表される
    エピスルフィド化合物と、エポキシ化合物とからなる請
    求項1記載の光学製品。
  5. 【請求項5】 重合体が、前記一般式(1)で表される
    エピスルフィド化合物と、単独重合可能なビニルモノマ
    ーとからなる請求項1記載の光学製品。
  6. 【請求項6】 重合体が、前記一般式(1)で表される
    エピスルフィド化合物と、ポリイソシアネ−ト化合物お
    よび/またはポリイソチオシアネート化合物と、ポリチ
    オ−ル化合物とからなる請求項1記載の光学製品。
  7. 【請求項7】 プラスチックレンズである請求項1〜6
    のいずれか1項に記載の光学製品。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005298742A (ja) * 2004-04-14 2005-10-27 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 樹脂用組成物
JP2006299217A (ja) * 2004-06-23 2006-11-02 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 重合性組成物

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JP2006299217A (ja) * 2004-06-23 2006-11-02 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 重合性組成物
JP4595706B2 (ja) * 2004-06-23 2010-12-08 三菱瓦斯化学株式会社 重合性組成物

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