JP2003159885A

JP2003159885A - 名刺、名刺作製装置及び名刺作製方法

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Publication number: JP2003159885A
Application number: JP2001362780A
Authority: JP
Inventors: Matsuo Kiyokudan; 松雄極檀; Nobuyuki Kanazawa; 伸之金澤
Original assignee: Laser Technology Inc
Current assignee: Laser Technology Inc
Priority date: 2001-11-28
Filing date: 2001-11-28
Publication date: 2003-06-03

Abstract

(57)【要約】【課題】他人の名刺との差別化を図って、自分の印象
を相手に強く与えることができるとともに、環境汚染に
つながることのない名刺、名刺作製装置及び名刺作製方
法を提供する。【解決手段】名刺基材１１と、名刺基材１１の表面に
対して、レーザマーキング加工によって形成された文字
又は絵柄を有する文字絵柄部１２〜１４とを備える。な
お、名刺基材１１は、合成樹脂製のものが好適であり、
特に、酸化チタンを含有するポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）製のものが最適である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、挨拶時に相手に渡
す名刺、名刺作製装置及び名刺作製方法に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】図４は、従来の名刺を示す図であり、図
４（Ａ）は平面図、図４（Ｂ）は図４（Ａ）のＢ−Ｂ断
面図である。図４に示す通り、従来の名刺１０は、紙製
の基材１１の表面に、会社名１２や氏名１３（１３ａ，
１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ）等が、印刷インキを使用して
印刷されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、名刺は、初め
ての挨拶時に渡すものであり、他人の名刺との差別化を
図って、自分の印象を強くしたいという要望が多い。そ
のため、カラー化したり、顔写真を入れたものも使用さ
れているが、最近は、そのようなものも、広く普及して
おり、他人よりも強い印象を与えるという効果も少なく
なりつつある。また、従来の名刺は、インキや溶剤等を
使用するので、環境汚染につながる可能性がある。名刺
の使用数量を考えると、その影響は小さくないと考えら
れる。

【０００４】本発明の課題は、他人の名刺との差別化を
図って、自分の印象を相手に強く与えることができると
ともに、環境汚染につながることのない名刺、名刺作製
装置及び名刺作製方法を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、以下のような
解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容
易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付
して説明するが、これに限定されるものではない。前記
課題を解決するために、請求項１の発明は、名刺基材
（１１）と、前記名刺基材（１１）の表面に対して、レ
ーザマーキング加工によって形成された文字又は絵柄を
有する文字絵柄部（１２〜１４）とを備える名刺であ
る。

【０００６】請求項２の発明は、請求項１に記載の名刺
において、前記名刺基材（１１）は、合成樹脂製である
ことを特徴とする名刺である。

【０００７】請求項３の発明は、請求項１又は請求項２
に記載の名刺において、前記名刺基材（１１）は、酸化
チタンを含有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）製であることを特徴とする名刺である。

【０００８】請求項４の発明は、請求項１に記載の名刺
において、前記名刺基材（１１）は、金属製であること
を特徴とする名刺である。

【０００９】請求項５の発明は、請求項１から請求項４
までのいずれか１項に記載の名刺において、前記文字絵
柄部（１２〜１４）の文字又は絵柄は、４０μｍ以下の
線部を有することを特徴とする名刺である。

【００１０】請求項６の発明は、名刺基材（１１）にレ
ーザ光線を照射して文字又は絵柄を描画するレーザ光線
射出手段（２１〜２３）と、前記レーザ光線射出手段
（２１〜２３）が射出するレーザ光線の前記名刺基材
（１１）に対する照射位置を制御して、その名刺基材
（１１）に、文字又は絵柄を描画する照射位置制御手段
（２６）とを備える名刺作製装置である。

【００１１】請求項７の発明は、請求項６に記載の名刺
作製装置において、前記レーザ光線射出手段（２１〜２
３）は、ＹＶＯ₄ 結晶をレーザ媒質としていることを特
徴とする名刺作製装置である。

【００１２】請求項８の発明は、請求項６又は請求項７
に記載の名刺作製装置において、前記レーザ光線射出手
段（２１〜２３）は、射出するレーザ光線の波長を変換
する波長変換手段を有することを特徴とする名刺作製装
置である。

【００１３】請求項９の発明は、名刺基材（１１）にレ
ーザ光線を照射して文字又は絵柄を描画するレーザ光線
射出工程（＃１１０）と、前記レーザ光線射出工程（＃
１１０）が射出するレーザ光線の前記名刺基材（１１）
に対する照射位置を制御して、その名刺基材（１１）
に、文字又は絵柄を描画する照射位置制御工程（＃１２
０）とを備える名刺作製方法である。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、図面等を参照して、本発明
の実施の形態について、さらに詳しく説明する。図１
は、本発明による名刺の一実施形態を示す図であり、図
１（Ａ）は平面図、図１（Ｂ）は図１（Ａ）のＢ−Ｂ断
面図、図１（Ｃ）は図１（Ａ）のＣ部拡大図である。な
お、前述した従来例と同様の機能を果たす部分には、同
一の符号を付する。名刺１０は、名刺基材１１に、会社
名１２と、氏名１３と、顔写真１４とが描画されてい
る。

【００１５】名刺基材１１は、その大きさ（横×縦×厚
さ）が、約９０ｍｍ×約５５ｍｍ×約０．２ｍｍ程度の
基材である。名刺基材１１は、合成樹脂製である。具体
的には、無機系顔料（酸化チタン、酸化鉄、酸化クロ
ム、焼成顔料など）や、有機系顔料（縮合アゾ系など）
などの着色剤を含有するポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリカーボネート
（ＰＣ）等が好適である。特に、見た目の綺麗さ（白色
度、下地の隠蔽性など）や生産性などを考慮すると、酸
化チタンを含有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）が最適である。

【００１６】会社名１２、氏名１３、顔写真１４は、後
述の通り、レーザ光線を照射して、その熱作用やグレー
ビング等によって行うレーザマーキング加工で描画され
ている。そのため、会社名１２、氏名１３、顔写真１４
は、図１（Ｂ）に示すように、表面が平滑である。ま
た、後述のような方法を採用することで、太さ４０μｍ
程度の細線をも描画可能であり、図１（Ｃ）に示すよう
に、顔写真１４の髪の毛も描画することができる。

【００１７】図２は、本発明による名刺作製装置の一実
施形態を示す図である。名刺作製装置２０は、加工対象
物である名刺基材１１に対して、レーザ光線を照射し
て、会社名１２、氏名１３、顔写真１４等を描画するレ
ーザ加工機（レーザマーカ）であり、ＹＶＯ₄ 結晶をレ
ーザ媒質としている。名刺作製装置２０は、レーザ媒質
２１と、出力ミラー２２と、終端ミラー２３と、ＴＥ冷
却部２４と、Ｑスイッチ２５と、ガルバノスキャナ２６
と、集光レンズ２７と、搬送テーブル２８と、コントロ
ーラ２９と、描画情報入力コンピュータ３０を備える。

【００１８】レーザ媒質２１は、上述の通り、ＹＶＯ₄
結晶である。なお、ＹＶＯ₄ 結晶を使用する理由は、後
述する。出力ミラー２２及び終端ミラー２３は、レーザ
媒質２１から照射されたレーザ光線を共振させる共振器
を形成する。共振させられたレーザ光線の一部は、出力
ミラー２２から射出される。なお、レーザ媒質２１は、
励起すると、温度が上昇するが、その温度上昇は、ＴＥ
（ＴｈｅｒｍｏＥｌｅｃｔｏｒｉｃ）冷却部２４によ
って、冷却される。

【００１９】Ｑスイッチ２５は、共振器のＱ（メリット
数）を急速に変えることで、ジャイアントパルスを発生
させる。ここに、Ｑ＝２πｘ（共振器内に蓄積した平均
エネルギ）／（サイクル当たりの消費エネルギ）として
定義される。共振器の表面の反射率が高いほどＱは高く
なり、望ましいモードからのエネルギロスは少なくな
る。

【００２０】ガルバノスキャナ２６は、図２の矢印に示
すように回転し、出力ミラー２２から射出したレーザ光
線を偏向させる反射ミラーである。この反射ミラーは、
磁界中の可動コイル軸に取り付けられている。コイルに
電流が流れると電磁力が発生し、電流に比例したトルク
が得られるが、この電流の制御により反射ミラーの傾斜
が制御される。集光レンズ２７は、ガルバノスキャナ２
６の反射光を搬送テーブル２８上の名刺基材１１に集光
するｆθレンズである。

【００２１】搬送テーブル２８は、加工対象物である名
刺基材１１を、集光レンズ２７の下に搬送する。搬送テ
ーブル２８は、基材供給部２８ａと、基材搬送部２８ｂ
と、名刺回収部２８ｃとを備える。基材供給部２８ａ
は、基材載置テーブル２８ｄと、基材供給ローラ２８ｅ
とを有する。作業者によって、基材載置テーブル２８ｄ
に載置されて投入された基材は、基材供給ローラ２８ｅ
で送り出される。基材搬送部２８ｂは、駆動ローラ２８
ｆと、従動ローラ２８ｇと、搬送ベルト２８ｈとを有す
る。搬送ベルト２８ｈは、駆動ローラ２８ｆ及び従動ロ
ーラ２８ｇに掛けられている。基材供給ローラ２８ｅで
送り出された名刺基材１１は、搬送ベルト２８ｈに載置
されて搬送される。名刺基材１１が集光レンズ２７の下
に到達すると、停止して、レーザ光線による絵柄や文字
等の描写をした後、名刺回収部２８ｃに送り出される。
名刺回収部２８ｃは、スロープ２８ｉと、回収ボックス
２８ｊとを備える。搬送ベルト２８ｈから送り出された
名刺は、スロープ２８ｉを滑って回収ボックス２８ｊに
貯められる。

【００２２】コントローラ２９は、レーザを射出するた
めの励起レーザ供給源であり、また、その動作を制御す
る。コントローラ２９は、電源部２９ａを備える。ま
た、コントローラ２９は、操作パネルにパスワードを入
力して行う。

【００２３】描画情報入力コンピュータ３０は、外部装
置から描画する会社名１２、氏名１３、顔写真１４等の
情報を入力し、その情報を名刺作製装置２０で利用可能
に変換するマーキングソフトを含む。

【００２４】図３は、ＹＶＯ₄ レーザ及びＹＡＧレーザ
の性質を説明する図である。図３（Ａ）は、ビーム断面
を示し、図３（Ｂ）は、光の強度分布を示す。本実施形
態では、レーザ媒質として、ＹＶＯ₄ 結晶を使用してい
るが、図３（Ａ）を見てわかるように、ＹＶＯ₄ 結晶の
ビーム断面は、ほぼ真円に近い形状を示し、その大きさ
（断面面積）も小さい。また、１本のみのビームが現れ
るシングルモードである。一方、一般的なＹＡＧ結晶の
ビーム断面は、扁平した楕円であって、その大きさ（断
面面積）も大きく、複数のビームが現れるマルチモード
である。

【００２５】図３（Ｂ）に示されているように、ＹＶＯ
₄ レーザの場合は、φ２０〜４０μｍの範囲に集中し、
光の強度も強い。一方、ＹＡＧレーザの場合は、約φ１
００μｍの範囲に分散してしまい、光の強度が弱い。ま
た、ピークが３山出現していることがわかる。なお、レ
ーザ媒質２１から照射されるレーザ光線の発振波長を、
波長変換器によって、調整することで、さらに、集光さ
せることができる。

【００２６】以上より、レーザ媒質として、ＹＶＯ₄ 結
晶を使用することによって、本実施形態の名刺作製装置
２０は、細線をきれいに描画することができる。したが
って、会社名１２、氏名１３、顔写真１４が細かい場合
であっても、自在に描画することができる。また、エネ
ルギー効率も良好である。

【００２７】名刺作製装置２０は、以下のように作動
し、名刺基材１１に、会社名１２、氏名１３、顔写真１
４等を描画する。レーザ媒質２１は、コントローラ２９
の電源部２９ａから励起レーザの供給を受けると、レー
ザ光線を射出する。そのレーザ光線は、出力ミラー２２
と終端ミラー２３との間で共振され、その一部が出力ミ
ラー２２から射出される（＃１１０；レーザ光線射出工
程）。

【００２８】射出されたレーザ光線は、ガルバノスキャ
ナ２６で反射する。このとき、ガルバノスキャナ２６を
回転させて、反射方向を変更し、搬送テーブル２８上の
名刺基材１１への照射位置を制御する（＃１２０；照射
位置制御工程）。

【００２９】そして、ガルバノスキャナ２６で反射した
レーザ光線は、集光レンズ２７で集光されて、搬送テー
ブル２８上の名刺基材１１に照射される。この照射され
たレーザ光線によって、名刺基材１１に、会社名１２、
氏名１３、顔写真１４等が描画される。

【００３０】本実施形態によれば、名刺基材の材料が、
ＰＥＴであり、名刺としては、あまり一般的な材料では
ないので、注目を集めやすく、相手に自分の印象を強く
与えることができる。また、酸化チタンを含有するの
で、白色度や下地の隠蔽性が高く、見た目が綺麗であ
る。

【００３１】また、名刺基材１１にレーザ光線を照射し
て、その熱作用によるレーザマーキング加工で会社名１
２、氏名１３、顔写真１４等を描画し、インキを使用し
ないので、インキや溶剤による環境汚染がない。また、
インキを使用しないので、文字、絵柄の剥がれ、薄れを
生じず、耐久性に富む。さらに、名刺基材１１の表面
に、直接、レーザ光線を照射して、絵柄や文字を描画す
るので、少量生産にも、好適である。

【００３２】さらに、名刺作製装置２０のレーザ媒質２
１として、ＹＶＯ₄ 結晶を使用するので、細線をきれい
に描画することができる。そのため、名刺基材１１に、
直接、写真のように高精細な絵柄を描画することができ
る。さらにまた、レーザ光線の発振波長を、波長変換器
によって調整することで、一層、集光させることが可能
となり、極細線を描画することが可能になる。

【００３３】（変形形態）以上説明した実施形態に限定
されることなく、種々の変形や変更が可能であって、そ
れらも本発明の均等の範囲内である。例えば、名刺基材
１１の材料として、金属プレートを用いても、上記名刺
作製装置２０を使用することができる。特に、ステンレ
ス、金、金合金、アルミニウム、金メッキした鉄などを
使用すると、見栄えがよく、高級感がある。また、細線
を描画するには、上述の通り、ＹＶＯ₄ レーザが最適で
あるといえるが、ＹＡＧレーザその他のレーザを使用し
てもよい。特に、ある程度広い面積を塗り潰すときなど
に使用するとよい。さらに、波長変換器によって、レー
ザ光線の発振波長を、さらに半減させて、ＵＶ光として
使用してもよい。

【００３４】

【発明の効果】以上、詳しく説明したように、請求項１
の発明によれば、名刺基材の表面に対して、レーザマー
キング加工によって形成された文字又は絵柄を有するの
で、文字、絵柄の剥がれ、薄れを生じない。また、環境
を汚染することがない。

【００３５】請求項２の発明によれば、名刺基材は、合
成樹脂製であるので、注目を集めやすく、相手に自分の
印象を強く与えることができる。

【００３６】請求項３の発明によれば、名刺基材は、酸
化チタンを含有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）製であるので、白色度や下地の隠蔽性に優れ、見た
目の綺麗である。

【００３７】請求項４の発明によれば、名刺基材は、金
属製であるので、見栄えがよく、高級感がある。

【００３８】請求項５の発明によれば、文字絵柄部の文
字又は絵柄は、４０μｍ以下の線部を有するので、精細
な描画を行うことができる。

【００３９】請求項６の発明によれば、名刺基材にレー
ザ光線を照射して文字又は絵柄を描画するレーザ光線射
出手段と、前記レーザ光線射出手段が射出するレーザ光
線の前記名刺基材に対する照射位置を制御して、その名
刺基材に、文字又は絵柄を描画する照射位置制御手段と
を備えるので、文字、絵柄の剥がれ、薄れを生じない名
刺を作製することができる。

【００４０】請求項７の発明によれば、レーザ光線射出
手段は、ＹＶＯ₄ 結晶をレーザ媒質としているので、精
細な描画を行うことができる。

【００４１】請求項８の発明によれば、レーザ光線射出
手段は、射出するレーザ光線の波長を変換する波長変換
手段を有するので、さらに、精細な描画を行うことがで
きる。

【００４２】請求項９の発明によれば、名刺基材にレー
ザ光線を照射して文字又は絵柄を描画するレーザ光線射
出工程と、前記レーザ光線射出工程が射出するレーザ光
線の前記名刺基材に対する照射位置を制御して、その名
刺基材に、文字又は絵柄を描画する照射位置制御工程と
を備えるので、文字、絵柄の剥がれ、薄れを生じない名
刺を作製することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による名刺の一実施形態を示す図であ
る。

【図２】本発明による名刺作製装置の一実施形態を示す
図である。

【図３】ＹＶＯ₄ レーザ及びＹＡＧレーザの性質を説明
する図である。

【図４】従来の名刺を示す図である。

【符号の説明】

１０名刺１１名刺基材１２会社名１３氏名１４顔写真２０名刺作製装置２１レーザ媒質２２出力ミラー２３終端ミラー２４ＴＥ冷却部２５Ｑスイッチ２６ガルバノスキャナ２７集光レンズ２８搬送テーブル２９コントローラ３０描画情報入力コンピュータ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2C005 UA05 UA08 2C362 CB67 4E068 AB02 CA01 CD05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】名刺基材と、前記名刺基材の表面に対して、レーザマーキング加工に
よって形成された文字又は絵柄を有する文字絵柄部とを
備える名刺。
【請求項２】請求項１に記載の名刺において、前記名刺基材は、合成樹脂製であることを特徴とする名
刺。
【請求項３】請求項１又は請求項２に記載の名刺にお
いて、前記名刺基材は、酸化チタンを含有するポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）製であることを特徴とする名
刺。
【請求項４】請求項１に記載の名刺において、前記名刺基材は、金属製であることを特徴とする名刺。
【請求項５】請求項１から請求項４までのいずれか１
項に記載の名刺において、前記文字絵柄部の文字又は絵柄は、４０μｍ以下の線部
を有することを特徴とする名刺。
【請求項６】名刺基材にレーザ光線を照射して文字又
は絵柄を描画するレーザ光線射出手段と、前記レーザ光線射出手段が射出するレーザ光線の前記名
刺基材に対する照射位置を制御して、その名刺基材に、
文字又は絵柄を描画する照射位置制御手段とを備える名
刺作製装置。
【請求項７】請求項６に記載の名刺作製装置におい
て、前記レーザ光線射出手段は、ＹＶＯ₄ 結晶をレーザ媒質
としていることを特徴とする名刺作製装置。
【請求項８】請求項６又は請求項７に記載の名刺作製
装置において、前記レーザ光線射出手段は、射出するレーザ光線の波長
を変換する波長変換手段を有することを特徴とする名刺
作製装置。
【請求項９】名刺基材にレーザ光線を照射して文字又
は絵柄を描画するレーザ光線射出工程と、前記レーザ光線射出工程が射出するレーザ光線の前記名
刺基材に対する照射位置を制御して、その名刺基材に、
文字又は絵柄を描画する照射位置制御工程とを備える名
刺作製方法。