JP2003157510A - 薄膜書込みヘッド、データ記憶システム、及び薄膜書込みヘッドの製造方法 - Google Patents

薄膜書込みヘッド、データ記憶システム、及び薄膜書込みヘッドの製造方法

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JP2003157510A
JP2003157510A JP2002269155A JP2002269155A JP2003157510A JP 2003157510 A JP2003157510 A JP 2003157510A JP 2002269155 A JP2002269155 A JP 2002269155A JP 2002269155 A JP2002269155 A JP 2002269155A JP 2003157510 A JP2003157510 A JP 2003157510A
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インジャン・チェン
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フランシス・エイチ・リュウ
Stanimirov Stoev Croum
クロウム・スタニミロフ・ストエフ
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ハイ・ジャン
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ユウギャン・ワン
Shii Shiizen
シーゼン・シイ
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Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 データの垂直磁気記録のために、ディス
クドライブのようなデータ記憶システムに読出し／書込
みヘッド及びその製造方法を用いる。このヘッドは、ス
パッタした高モーメント磁気材料で形成された主磁極
と、電気めっきした軟磁性薄膜で形成された補助磁極と
を有する二層磁極構造を用いる。補助磁極は、空気ベア
リング面から実質的に凹ませて設けられる。 【効果】 本発明のヘッド構造は、書込み磁場を大きく
増大させ、かつ磁気記録媒体の隣接トラックに意図しな
いデータの消去を生じることになるサイド書込みを実質
的に低減させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般にディスクド
ライブのようなデータ記憶システム及びそれを製造する
方法に関し、特に、このようなデータ記憶システムにお
いて使用するための薄膜読出し／書込みヘッドに関す
る。より詳細にいえば、本発明は、垂直磁気記録のため
の薄膜インダクティブ型書込みヘッドの改良された構造
を開示するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の磁気記憶装置では、薄膜磁気ヘッ
ドがスライダ上に取り付けられたインダクティブ読出し
／書込み素子を有する。磁気ヘッドが、サスペンション
と、回転する磁気ディスクの表面の上に配置されたアク
チュエータアームとにより回転アクチュエータマグネッ
ト及びボイスコイルアセンブリに接続されている。動作
時には、磁気ヘッドと回転磁気ディスクとの間の空気力
学的相互作用により持上げ力が発生する。この持上げ力
は、回転磁気ディスクの表面の上方に回転アクチュエー
タアセンブリの半径方向の全ストロークに亘って所定の
浮上高さが維持されるように、サスペンションによって
与えられる等しい逆向きのばね力に対抗するものであ
る。
【０００３】現在の磁気記憶技術において、薄膜インダ
クティブ書込みヘッドは、一般に長手記録ヘッド及び垂
直記録ヘッドの２つのカテゴリに入る。最近まで、長手
記録ヘッドが垂直記録ヘッドに先行していた。この技術
分野における傾向として、非常に高密度の記憶媒体に対
する継続的な強い要求が確立されていることから、垂直
記録ヘッドは、長手記録ヘッドよりも高密度の用途に対
してより有効な記録方法を提供するという垂直記録ヘッ
ドの能力によって、益々受け入れられている。
【０００４】垂直記録ヘッドは、磁気ディスクのような
媒体に関して磁束を配向する向きにおいて、長手記録ヘ
ッドとは機能的に区別される。目標トラックへの書込み
動作中、垂直記録ヘッドは磁束を、磁気ディスクの表面
に対して概ね直角に配向する。この直角方向は媒体の異
方性の向きでもある。対照的に、長手記録ヘッドにより
発生する磁束は、一般に磁気ディスク表面の面内にあ
る。
【０００５】これら２種類の薄膜インダクティブ書込み
ヘッドの特徴における他の典型的な相違は、次のように
要約することができる。即ち、長手書込みヘッドは一般
に、長手方向の磁場を最適化するべく、その間を狭いギ
ャップで分離した２つの磁極からなるリング状ヘッド構
造を使用する。図３Ａ及び図３Ｂを参照すると、典型的
な長手書込みヘッドは一般的に、下側磁極（Ｐ１）及び
上側磁極（Ｐ２）を有する薄膜書込みヘッドからなる。
【０００６】磁極Ｐ１は、一般に「スロートハイト」と
呼ばれる磁極先端部の高さ寸法を有する。完成した書込
みヘッドでは、スロートハイトは、磁極先端部のラッピ
ング及びポリッシング加工により形成される空気ベアリ
ング面（「ＡＢＳ」）と、書込みヘッドのポール先端部
が後部領域に移行する位置のゼロスロート高さとの間で
画定される。この磁極先端領域は、ＡＢＳとゼロスロー
ト高さ間の領域として定義される。この領域は、磁極Ｐ
１の延長部であるペデスタルとしても知られている。
【０００７】同様に、磁極Ｐ２は、一般に「ノーズ長
さ」と呼ばれる磁極先端部の高さ寸法を有する。完成し
た書込みヘッドでは、ノーズは、ＡＢＳと磁極先端部が
後部領域に移行する位置である「フレア位置」間の磁極
Ｐ２の領域として定義される。
【０００８】各磁極Ｐ１及びＰ２は、磁極先端領域に配
置された磁極先端部を有する。磁極Ｐ１及びＰ２の先端
領域は、絶縁材料の薄膜である磁気記録ギャップにより
分離されている。書込み動作において、磁極Ｐ１により
発生する磁場は、磁束を磁極Ｐ１から中間の磁気ディス
クを介して磁極Ｐ２へと通し、それによってデジタルデ
ータを磁気ディスク上に記録させる。
【０００９】磁極Ｐ１から発せられかつ磁極Ｐ２へ向け
られた直後の磁束は、磁気ディスクの表面に関して概ね
平行である。この磁場の部分が一般に、長手書込みヘッ
ドの書込み動作の役目を負うフリンジ（縁端）磁場と考
えられている。
【００１０】現在の磁気記録技術において、長手磁気記
録は、それを越えては長手記録ヘッドを用いる磁気媒体
の面密度の大きな増加が全く達成され得ない熱安定性の
限界に達していると考えられる。これは、面密度の増加
により必要とされる遷移幅の減少を実現するために、磁
気媒体の厚さを小さくしたことによるものである。この
遷移幅は、記憶ビットの磁化が変化する距離である。
【００１１】更に、信号対ノイズ比はビットボリューム
における結晶粒の数に比例することから、ビットボリュ
ームが小さくなるにつれて、結晶粒度を小さくする必要
がある。これは、磁性結晶粒の磁化にとって熱安定性の
重大な問題をもたらす。
【００１２】上述した問題及びより高密度の磁気記録デ
バイスに対する継続的な技術的要求を処理するために、
垂直書込みヘッドが益々望ましいものになっている。特
に、垂直に書込まれたビットにおける消磁磁場は、隣接
するビットの安定性を高める性質がある。その結果、垂
直記録モードではより狭い遷移を記録することができ
る。垂直記録ヘッドについて使用される磁気媒体はより
薄くすることができ、従って長手記録ヘッドについて使
用するものよりも、より高い熱安定性を有することがで
きる。軟下地層を用いることによって、垂直書込みヘッ
ドにより発生する磁場の垂直または直角方向の成分及び
磁場勾配を大きくすることができる。
【００１３】この目的を達成するために、記録層の下側
に配置される軟下地層は、高モーメント磁気材料で形成
される。書込み動作において、書込み磁極から軟下地層
に接近する全ての磁束が効果的に書込み磁極の虚像を作
り出し、それによってより高い書込み磁場及びより鋭角
な磁場勾配を可能にする。
【００１４】実際には、垂直書込みヘッドは、従来の長
手書込みヘッドを適当に変更することによって構成する
ことができる。この派生的な技術を用いた場合、典型的
な垂直書込みヘッドは依然として、同様にＰ１及びＰ２
と呼ばれる２つの磁極を有する従来の長手書込みヘッド
のリング状ヘッド構造を用いることになる。
【００１５】図４に関し、従来の長手書込みヘッドとは
実質的に区別される垂直書込みヘッドの重要な特徴は、
磁極Ｐ１及びＰ２間の距離が大きいことである。磁極Ｐ
１及びＰ２間の狭いギャップは、長手書込みヘッドでは
基本的なことであるが、垂直書込みヘッドでは必要でな
い。これは、垂直書込みヘッドの最適の形態が通常単磁
極構造だからである。
【００１６】従って、図４の典型的な垂直書込みヘッド
では、磁極Ｐ２は、書込み動作において垂直方向に磁束
を発生させる役目を果たす書込み磁極と考えられる。前
記磁束は、垂直書込みヘッドについて使用するための磁
気媒体を透過して、磁気ディスクへのデジタルデータの
記録を可能にする。磁極Ｐ１によって磁束の復路が提供
される。
【００１７】磁気記憶媒体の高面密度設計が引き続き要
求されることによって、記憶媒体のジオメトリを大きく
変更することなくトラック密度を増加させる手段とし
て、トラック幅の減少が必要となっている。トラック幅
を減少させると、従来の垂直書込みヘッドの構造には大
きな問題が生じる。
【００１８】図５に関し、従来の垂直書込みヘッドの磁
極Ｐ２の破線で示す磁極先端部１０９は一般に、空気ベ
アリング面（ＡＢＳ）から見たとき、幅と厚さとによっ
て画定される矩形形状（またはフットプリント）を有す
る。磁極Ｐ２の先端部の幅はトラック幅と呼ばれ、かつ
磁極Ｐ２の先端部の厚さは一般にトラック幅より非常に
大きい。
【００１９】書込み動作において、磁極Ｐ２の先端部
は、磁気ディスクの目標データトラック上に磁極Ｐ２先
端部の物理的領域の寸法を有する磁気活性領域を押し付
ける。データトラックは一般に同心状であるが、磁極Ｐ
２先端部は矩形であるので、前記磁気活性領域の一部分
のみがその焦点を目標トラック上に適当に合わせるのに
対し、残りの磁気活性領域は実際上その焦点を隣接トラ
ック上に合わせ（斜めになり）、それにより先に記録さ
れたビットを妨害する。
【００２０】この現象は、サイド書込みとも呼ばれてい
る。このサイド書込み動作は、最悪の場合、これら隣接
トラックのデータを意図せずに完全に消去することにな
る場合がある。従って、各書込み動作間におけるデータ
の検査及び訂正がない場合、磁気ディスクのデータ品質
を著しく危うくする虞がある。
【００２１】また、従来の垂直書込みヘッド構造に関す
る別の重大な問題は、磁極Ｐ２の材料特性によって書込
み磁極Ｐ２の性能が最善のものではないことにある。従
来の垂直書込みヘッドでは、磁極Ｐ２は、従来の垂直書
込みヘッド構造が派生した長手書込みヘッド技術に従っ
て、ＮｉＦｅまたはＣｏＮｉＦｅのような従来の電気め
っきによる磁性材料で形成される。
【００２２】従来の電気めっきによる磁性材料は、２つ
の書込み磁極を用いる長手書込みヘッド構造では充分で
あるが、従来の垂直書込みヘッドの単磁極書込み構造に
は不充分と考えられる。書込み磁極が単磁極構造のた
め、従来の磁気材料は、最適のデータ記録を達成する充
分な磁場強度を発生するのに充分な高度の磁気モーメン
ト、透過率及び他の必要な特性を示さない。
【００２３】従って、上述した問題に照らして、垂直書
込みヘッドの技術的により効果的な構造に対する要求は
依然として満足されていない。この構造は、サイド書込
みによる隣接トラックのデータの消去という長年の問題
を解決しつつ、垂直書込みヘッドの製造性に妥協するこ
となく、磁気書込み磁場強度を高めようとする要求を目
的とするものでなければならない。
【００２４】
【発明を解決するための手段】本発明の特徴は、書込み
磁場を高めるため及び隣接トラックの意図しないデータ
消去をもたらすことがあるサイド書込みを排除するため
に、新規な薄膜インダクティブ垂直書込みヘッド構造を
提供することにある。
【００２５】本発明の上述した及び他の特徴および利点
は、単磁極書込み素子を組み込んだ垂直書込みヘッド構
造によって実現される。データを記録する役割を果たす
主磁極の主要部は、厚さ約０．１μｍ〜０．７μｍのス
パッタされた高モーメント磁気材料で形成される。前記
主磁極の補助部分は、電気めっきによる軟磁性材料で形
成される。
【００２６】ＡＢＳからの凹みが、書込み磁場を高くし
つつ、線形記録密度及びサイド書込みがないことを確保
するために、主磁極構造の補助部分に組み込まれる。
【００２７】本発明の垂直書込みヘッド構造によって、
従来の長手書込みヘッドにおいて発生するよりも高い書
込み磁場及び高い磁場勾配、飛行高さに対する感度の低
下、スパッタによる高モーメント磁気材料付着の実行容
易性、優れたオーバライト及びＮＬＴＳ（非線形遷移シ
フト）性能のような幾つかの性能及び製造上の利点が得
られる。本発明の垂直書込みヘッド構造は、例えば１
５．５Ｇｂ／ｃｍ2（１００Ｇｂ／ｉｎ2）の高線密度の
垂直記録に使用される読出し／書込みヘッドに用いるこ
とができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】添付図面において、類似の構成要
素には類似の番号が付与される。図中の各構成要素の寸
法は正確に比例させたものではなく、見やすさ及び説明
の目的で表示されたものであることを理解されたい。
【００２９】図１は、ヘッド積層体アセンブリ１２と、
共通の軸１５に関して回転可能な、離隔された磁気デー
タ記憶ディスクまたは媒体の積層体１４とからなるディ
スクドライブ１０を示している。ヘッド積層体アセンブ
リ１２は、アクチュエータ軸１６に関して矢印Ｃの向き
に回転可能である。ヘッド積層体アセンブリ１２は、デ
ィスク１４の間の間隙内に延長する多数のアクチュエー
タアームを有するが、添付図面にはその内の３つ１８
Ａ、１８Ｂ、１８Ｃのみが示されている。
【００３０】ヘッド積層体アセンブリ１２は、更にＥ字
型ブロック１９と、該ブロック１９にアクチュエータア
ーム１８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃとは直径方向反対側の位置
に取り付けられた磁気ロータ２０とを有する。ロータ２
０は、アクチュエータ軸１６に関して円弧状に回転する
ために、図示しないステータと協働する。ロータ２０の
コイルをある極性または逆の極性の直流電流で通電する
と、アクチュエータアーム１８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃを含
むヘッド積層体アセンブリ１２が、アクチュエータ軸１
６に関してディスク１４の概ね半径方向に回転する。
【００３１】ヘッドジンバルアセンブリ（ＨＧＡ）２８
は、各アクチュエータアーム、例えば１８Ａに固定され
ている。図２を参照すると、ＨＧＡ２８はサスペンショ
ン３３及び読出し／書込みヘッド３５を備える。サスペ
ンション３３は、弾性ロードビーム３６と、ヘッド３５
が固定されたフレクシャ４０とを有する。
【００３２】ヘッド３５は、フレクシャ４０によりロー
ドビーム３６の自由端に固定されたスライダ４７と、ス
ライダ４７に支持された読出し／書込み素子５０とで形
成されている。
【００３３】図２を参照すると、読出し／書込み素子５
０は、その最前の先端部が概ねスライダ４７のＡＢＳと
同一平面上にあるように、スライダ４７の後縁部に取り
付けられる。スライダ４７は、従来のまたは利用可能な
あらゆるスライダとすることができる。本発明による別
の実施例では、複数の読出し／書込み素子５０をスライ
ダ４７の後縁部５５または他の側面に固定することがで
きる。
【００３４】図６を参照すると、本発明の好適実施例に
より形成された読出し／書込み素子５０の垂直書込みヘ
ッド６０は、ＡＢＳ面からバックギャップ９２まで延長
する第１磁極層即ち下側磁極Ｐ１（符号９０で示す）か
らなる。下側磁極Ｐ１は、好ましくはＮｉＦｅまたはＣ
ｏＮｉＦｅ合金のような導磁性材料で形成される。下側
磁極Ｐ１（９０）によって、磁気ディスク１４への書込
み動作における磁束の復路が提供される。
【００３５】垂直書込みヘッド６０は、更に複数の単層
からなるまたは多層構造からなる導電コイル要素（また
は導体）９４Ａで形成された書込みコイル９４を有す
る。図６には、少数のコイル要素９４Ａのみが例示的に
示されている。コイル要素９４Ａは、絶縁層９５の上に
形成される。書込みコイル９４は必要に応じて１つ、２
つ、４つまたはそれ以上の巻線を有し、所望の書込み磁
場を発生させることができる。書込みコイル９４の前部
は、ＡＢＳ面とバックギャップ９２との間に存在する。
【００３６】バックギャップ９２は、書込みコイル９４
の背後に配置され、かつ好ましくはＮｉＦｅまたはＣｏ
ＮｉＦｅ合金のような導磁性材料で形成される。バック
ギャップ９２は、磁束の通路を提供するために、磁極Ｐ
１（９０）を第２磁極層即ち補助磁極９６に接続する。
【００３７】補助磁極９６は、好ましくはＮｉＦｅまた
はＣｏＮｉＦｅ合金のような導磁性材料の軟質薄膜で形
成される。書込みヘッド６０の好適な実施例では、補助
磁極層９６が書込みコイル９４の上に形成される。補助
磁極層９６の厚さは、下側磁極Ｐ１（９０）のそれと実
質的に同じまたは同程度にすることができる。
【００３８】本発明の書込みヘッド６０の構造の重要な
特徴は、補助磁極９６が前記ＡＢＳ面から例えば約０．
５μｍ乃至２．０μｍの距離だけ実質的に凹ませてある
ことである。凹み９８は、大きな体積の補助磁極９６を
必要とする強化された磁場強度と、他方補助磁極９６の
先端部がより後方に配置されることを必要とするサイド
書込みの実質的な低減または除去との間で、最適に平衡
させるように設計される。補助磁極９６は実質的にサイ
ド書込みを低減しつつ、磁束を磁極先端部１０８に送る
ことを補助する。
【００３９】書込みヘッド６０の更に別の顕著な特徴
は、第３の磁極即ち主磁極１０２の追加である。主磁極
１０２は、磁気ディスク１４上にデジタルデータを書き
込む役割を有する。好適な実施例では、主磁極１０２は
補助磁極９６の上に形成される。
【００４０】書込みヘッド６０の性能を高めるために、
主磁極１０２は、スパッタされた高モーメント磁気材料
で形成され、かつその厚さは例えば０．１μｍ乃至０．
７μｍの範囲内である。垂直記録モードにおける高線形
密度のために、磁極の厚さは小さいことが望ましい。
【００４１】前記スパッタされた高モーメント磁気材料
は、単層または積層ＦｅＸＮ（ここで、Ｘ＝Ｒｈ、Ｔ
ａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ等）、ＣｏＦｅＮ、ＣｏＦｅＸ
Ｎ、またはＣｏＮｉＦｅＸ膜とすることができる。Ｆｅ
ＸＮの磁気モーメントＢｓは、一般に１９〜２５キロガ
ウスの範囲内である。前記スパッタされた高モーメント
磁気材料は一般に、従来の電気めっきされたＮｉＦｅま
たはＣｏＮｉＦｅ材料と比較して、より高いモーメン
ト、高透磁率、より高い周波数におけるより低い渦電流
損失、及び改善された耐食性のような有利な特徴を有す
る。
【００４２】主磁極１０２の結果として得られる磁場強
度は、従来の上側磁極Ｐ２（図４）の例えば１．０〜
１．７テスラの磁場強度と比較して、例えば２．３テス
ラより大きくすることができる。書込み動作において、
補助磁極９６は主磁極１０２と磁気的に協働して、磁極
先端部１０８に十分な磁束を伝導させる。
【００４３】図８を参照すると、主磁極１０２は、（波
線で示す）補助磁極９６の後方の面に亘って配置され
る。主磁極１０２は、凹み９８を画定する補助磁極９６
の前縁部と後縁部１０４との間で、補助磁極９６のそれ
と実質的に同じフットプリントを有する。
【００４４】主磁極１０２のフレア位置１０６は、凹み
９８の前方に延長している。前記主磁極の先端部１０８
は、フレア位置１０６の前方に配置され、かつ本実施例
では、ＡＢＳ面から下側磁極Ｐ１の先端部までと同じ高
さである、前記フレア位置から前記ＡＢＳ面まで延長し
ている。
【００４５】図５を参照すると、主磁極１０６の先端部
１０８の好適なフットプリントは一般に正方形であり、
４つの概ね等しい辺で画定される。主磁極先端部１０８
の各辺は、実質的にトラック幅に等しい。主磁極先端部
１０８の正方形のフットプリントにより、それから発生
する磁極が、書込み動作時に隣接トラックへの好ましく
ないサイド書込みを生じさせることなく、目標トラック
に実質的に制限され得るようにしている。別の実施例で
は、主磁極先端部１０８のフットプリントが異なる形状
をとり得ることが理解される。
【００４６】図７は別の書込みヘッド７０を示してお
り、主磁極１０２及び補助磁極９６の位置が、図６の好
適実施例と比較して逆になっている。この変形例では、
主磁極１０２が書込みコイル９４の上に形成され、かつ
補助磁極９６が主磁極１０２の上に形成されて、図６に
関して前述した凹み９８を画定している。
【００４７】図６及び図７の書込みヘッド６０の製造方
法が、それぞれ図９及び図１０に示されている。図６の
書込みヘッド６０を製造する方法４００について、図９
に関連して以下に説明する。方法４００は概ね次の各工
程から構成される。即ち、 １．Ｐ１の形成（ステップ４０５）； ２．中間層の付着及び化学的機械的ポリッシング加工即
ちＣＭＰ（ステップ４１０）； ３．コイルの形成（ステップ４１５）； ４．コイルの検査（ステップ４２０）； ５．コイル絶縁及び硬化（ステップ４２５）； ６．バックギャップの形成（ステップ４３０）； ７．Ａｌ2Ｏ3絶縁物の付着及びＣＭＰ（ステップ４３
３）； ８．補助磁極の電気めっき（ステップ４３５）； ９．絶縁層の付着及びＣＭＰ（ステップ４４０）； １０．高モーメント材料のスパッタ付着（ステップ４４
５）；及び １１．スパッタした主磁極のパターニング（ステップ４
５０）。
【００４８】これら各ステップについて以下に詳細に説
明する。磁極戻り層９０とも称される下側磁極Ｐ１を、
ステップ４０５において電気めっき加工により形成す
る。ある実施例では、下側磁極Ｐ１は、読出し／書込み
素子５０の読出しヘッドのための第２シールドとして機
能させることができる。
【００４９】中間層の付着及び化学的機械的ポリッシン
グ（ＣＭＰ）工程は、ステップ４１０で実行され、例え
ばＡｌ2Ｏ3からなる絶縁層が磁極Ｐ１（９０）上にスパ
ッタにより付着される。次に、ウエハをＣＭＰ加工によ
り平坦化する。下側磁極Ｐ１（９０）の上に、書込みコ
イル９４と下側磁極Ｐ１間を絶縁する機能を有するＡｌ
2Ｏ3からなる層を付着させる。
【００５０】次に、ステップ４１５において書込みコイ
ル９４を平坦なウエハ表面上に、狭コイルピッチを達成
するように形成する。コイルの形成過程は、従来の銅め
っき技術により実行してフォトリソグラフィで画定する
パターンにすることができ、その後でウェットまたはド
ライエッチング加工により銅下地層を除去する。
【００５１】書込みコイル９４の抵抗は、許容される歩
留まりを確保するべく、ステップ４２０において検査さ
れる。フォトレジスト絶縁層をコイル９４の上に付着さ
せ、かつ続いて硬化させる。
【００５２】次に、バックギャップ９２を、磁束の通路
を提供するために、磁気材料を付着させて下側磁極Ｐ１
と補助磁極９６とを接続することにより、書込みコイル
９４の背後に形成する。
【００５３】ステップ４２５において、厚いＡｌ2Ｏ3絶
縁層をスパッタして、書込みコイル９４及びフォトレジ
ストコイル絶縁層の上に付着させる。前記Ａｌ2Ｏ3絶縁
層を付着させる前に、コイル巻線９４Ａ間の狭い隙間を
埋めるのに、硬化させたフォトレジスト材料の絶縁層を
必要とする場合がある。ウエハを平坦化するのに、別の
ＣＭＰ工程を必要とする場合がある。別の実施例では、
書込みコイル９４は、誘電層の付着に始まり、溝の異方
性エッチング、化学蒸着法による銅下地層の付着、銅の
めっき、及び銅／誘電層のＣＭＰからなる銅ダマシン技
術を用いて形成することができる。
【００５４】次にステップ４３５において、補助磁極９
６を、予め画定されたフォトリソグラフィパターンに電
気めっきすることによって形成する。補助磁極９６は、
例えばＮｉＦｅまたはＣｏＮｉＦｅ合金で形成すること
ができる。補助磁極９６の前縁部９６は、前記ＡＢＳ面
から約０．５μｍ乃至２．０μｍ凹ませる。
【００５５】前記電気めっき及び前記フォトレジストの
除去及び下地のめっきに続いて、ステップ４４０におい
て、Ａｌ2Ｏ3からなる絶縁層をスパッタして補助磁極９
６の上に付着させ、次にＣＭＰ工程を用いてウエハを平
坦化し、かつそれにより補助磁極９６の上面を露出させ
る。主磁極１０２を形成する次の工程の準備として、即
ち主磁極１０２の磁極先端部１０８を支持するために、
前記絶縁層で凹み９８を充填する。
【００５６】ステップ４４５において、厚さ約０．１μ
ｍ乃至０．７μｍの高モーメント膜を、主磁極１０２を
形成するためにスパッタして前記平坦なウエハ表面の上
に付着させる。ステップ４５において、前記スパッタ膜
（ステップ４４５）の上にフォトリソグラフィによるパ
ターンを形成し、かつエッチング過程におけるマスクと
して用いて、主磁極１０２構造を画定する。また、フォ
トリソグラフィ技術を平坦なウエハ表面に用いることが
できる。ハードマスク層を用いて、高モーメント膜に関
する前記マスクのエッチング選択性を改善することがで
きる。この場合、主磁極１０２をパターニングする前に
前記ハードマスクをパターニングする別個のエッチング
工程が必要である。
【００５７】図７の書込みヘッド７０を製造する方法５
００について、以下に図１０に関連して説明する。方法
５００は一般に次の工程から構成される。即ち、 １．Ｐ１の形成（ステップ４０５）； ２．中間層の付着及び化学的機械的ポリッシング即ちＣ
ＭＰ（ステップ４１０） ； ３．コイルの形成（ステップ４１５）； ４．コイルの検査（ステップ４２０）； ５．コイル絶縁及び硬化（ステップ４２５）； ６．バックギャップの形成（ステップ４３０）； ７．Ａｌ2Ｏ3絶縁物の付着及びＣＭＰ（ステップ４３
３）； ８．高モーメント材料のスパッタ付着（ステップ５３
５）； ９．スパッタした主磁極のパターニング（ステップ５４
０）；及び １０．補助磁極の電気めっき（ステップ５４５）。
【００５８】これら各工程は、書込みヘッド６０（図
６）の製造方法に関連して上述したものと類似または一
致している。図６の方法と図７の変形例による製造方法
５００との主な相違の１つは、主磁極１０２及び補助磁
極９６の製造の順序である。
【００５９】変形例の方法５００では、主磁極１０２が
補助磁極９６より前に形成される。そのために、高モー
メント材料のスパッタ付着であるステップ５３５及びス
パッタした主磁極１０２のパターニングであるステップ
５４０は、補助磁極９６を形成するステップ５４５に先
行する。
【００６０】本発明の書込みヘッドによりいくつかの利
点が得られるが、その中には次のようなものが含まれ
る。即ち、書込みヘッドは約０．１μｍの狭いトラック
幅において媒体に５５３、０００Ａ／ｍ（７０００エル
ステッド）の磁場を発生させることができること；磁場
勾配が従来の長手書込みヘッドより非常に高いこと；本
発明の垂直書込みヘッド構造は、従来の垂直書込みヘッ
ドより飛行高さに関する感度が低いこと；及び本発明の
垂直書込みヘッドは優れたオーバーライト及びＮＬＴＳ
性能を有することである。
【００６１】本明細書中に記載される構成要素のジオメ
トリ、構成及び寸法は本発明の技術的範囲内において変
更することができ、かつ排他的であることを意味するも
のでなく、むしろ本発明の技術的範囲内において様々に
変更・変形し得ることが理解できる。特定の環境におい
て本発明を実行する場合には、他の変形・変更を行うこ
とが可能である。
【００６２】
【発明の効果】本発明の書込みヘッドは、スパッタされ
た高モーメント磁気材料からなる主磁極と、電気めっき
された軟磁性膜からなりかつ実質的に空気ベアリング面
から凹ませた補助磁極とを有する二層磁極構造を用いて
いる。この新規な構成によって、書込み磁場が実質的に
増大し、かつ磁気記録媒体上の隣接トラックにおけるデ
ータの意図しない消去を生じさせ得るサイド書込みを実
質的に低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の読出し／書込みヘッドを用いたデータ
記憶システムの部分斜視図。
【図２】ヘッド積層体アセンブリに使用するための、サ
スペンション及び図１の読出し／書込みヘッドに固定さ
れたスライダからなるヘッドジンバルアセンブリの斜視
図。
【図３】（Ａ）図及び（Ｂ）図からなり、（Ａ）図は従
来構造を有する長手書込みヘッドの側部断面図、（Ｂ）
図はその上面図。
【図４】磁束の作用と共にデータ記憶媒体に関する位置
を示す従来構造の垂直書込みヘッドを示す断面図。
【図５】図４の従来の垂直書込みヘッド及び図６の本発
明の垂直書込みヘッドのサイド書込み過程を比較して示
す図。
【図６】本発明の好適実施例による垂直書込みヘッドの
断面図。
【図７】本発明の別の実施例による垂直書込みヘッドの
断面図。
【図８】図６または図７の垂直書込みヘッドの主磁極を
示す上面図。
【図９】図６の書込みヘッドの製造方法を工程順に示す
フロー図。
【図１０】図７の書込みヘッドの製造方法を工程順に示
すフロー図。
【符号の簡単な説明】
１０ ディスクドライブ １２ ヘッド積層体アセンブリ １４ 磁気ディスク １５ 軸 ２０ 磁気ロータ ２８ ヘッドジンバルアセンブリ、ＨＧＡ ３３ サスペンション ３５ 読出し／書込みヘッド ４７ スライダ ５０ 読出し／書込み素子 ６０ 垂直書込みヘッド ７０ 書込みヘッド ９０ 下側磁極Ｐ１ ９２ バックギャップ ９４ 書込みコイル ９５ 絶縁層 ９６ 補助磁極 ９８ 凹み １０２ 主磁極 １０４ 後縁部 １０６ フレア位置 １０８ 磁極先端部 ４００、５００ 方法
フロントページの続き (72)発明者 インジャン・チェン アメリカ合衆国，カリフォルニア州・ 94555，フリーモント，ボウイ・コモン・ 34759 (72)発明者 シャオゾン・ダン アメリカ合衆国，カリフォルニア州・ 94536，フリーモント，レッド・セダー・ テラス・3300 (72)発明者 フランシス・エイチ・リュウ アメリカ合衆国，カリフォルニア州・ 94539，フリーモント，オノンドーガ・ウ ェイ・1131 (72)発明者 クロウム・スタニミロフ・ストエフ アメリカ合衆国，カリフォルニア州・ 94536，フリーモント，ル・カウント・ウ ェイ・38774 (72)発明者 ハイ・ジャン アメリカ合衆国，カリフォルニア州・ 94536，フリーモント，フリーモント・ブ ールバード・37950・＃52 (72)発明者 ユウギャン・ワン アメリカ合衆国，カリフォルニア州・ 95035，ミルピタス，タホー・ドライブ・ 1687 (72)発明者 シーゼン・シイ アメリカ合衆国，カリフォルニア州・ 94539，フリーモント，エクセルソ・ドラ イブ・43587 Ｆターム(参考） 5D033 AA05 BA08 BA12 BA35 DA02 DA31

Claims (30)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 導磁性材料で形成され、媒体への書込
    み動作における磁束の復路を提供する第１磁極（Ｐ１）
    と、 前記第１磁極（Ｐ１）の上に配置されたインダクティブ
    書込みコイルと、 薄膜導磁性材料で形成されかつ前記書込みコイルの上に
    配置され、空気ベアリング面（ＡＢＳ）から凹ませた前
    縁部を有する補助磁極と、 前記補助磁極の上に形成されかつ前記ＡＢＳまで延長す
    る、前記媒体上に書込むための主磁極とを備える垂直磁
    気記録用薄膜書込みヘッド。
  2. 【請求項２】 前記主磁極が、前記ＡＢＳから前記補
    助磁極の前縁部から所定の距離まで延長する先端部を有
    することを特徴とする請求項１に記載の薄膜書込みヘッ
    ド。
  3. 【請求項３】 前記主磁極の先端部が概ね正方形のフ
    ットプリントを有することを特徴とする請求項２に記載
    の薄膜書込みヘッド。
  4. 【請求項４】 前記先端部の一辺が前記媒体のトラッ
    ク幅と等しいことを特徴とする請求項３に記載の薄膜書
    込みヘッド。
  5. 【請求項５】 前記主磁極が、スパッタされた高モー
    メント磁気材料で形成されていることを特徴とする請求
    項４に記載の薄膜書込みヘッド。
  6. 【請求項６】 前記主磁極が、約０．１μｍ乃至０．
    ７μｍの範囲内の厚さを有することを特徴とする請求項
    ５に記載の薄膜書込みヘッド。
  7. 【請求項７】 前記スパッタされた高モーメント磁気
    材料が、約１９乃至２５キロガウスの範囲内の磁気モー
    メントを有することを特徴とする請求項５に記載の薄膜
    書込みヘッド。
  8. 【請求項８】 前記第１磁極（Ｐ１）が、磁束の通路
    を提供するために、前記ＡＢＳから前記第１磁極（Ｐ
    １）を前記補助磁極に接続するバックギャップまで延長
    していることを特徴とする請求項５に記載の薄膜書込み
    ヘッド。
  9. 【請求項９】 前記バックギャップが前記書込みコイ
    ルの後方に配置されていることを特徴とする請求項８に
    記載の薄膜書込みヘッド。
  10. 【請求項１０】 前記バックギャップが導磁性材料で形
    成されていることを特徴とする請求項９に記載の薄膜書
    込みヘッド。
  11. 【請求項１１】 前記補助磁極の前記前縁部が、前記Ａ
    ＢＳから約０．５μｍ乃至２．０μｍだけ凹まされてい
    ることを特徴とする請求項５に記載の薄膜書込みヘッ
    ド。
  12. 【請求項１２】 前記補助磁極及び前記第１磁極（Ｐ
    １）が概ね等しい厚さを有することを特徴とする請求項
    ５に記載の薄膜書込みヘッド。
  13. 【請求項１３】 導磁性材料で形成され、媒体への書込
    み動作における磁束の復路を提供する第１磁極（Ｐ１）
    と、 前記第１磁極（Ｐ１）の上に配置されたインダクティブ
    書込みコイルと、 前記書込みコイルの上に形成されかつ空気ベアリング面
    （ＡＢＳ）まで延長する、前記媒体にデータを書込むた
    めの主磁極と、 薄膜導磁性材料で形成されかつ前記主磁極の上に形成さ
    れた補助磁極とを備え、 前記補助磁極が、空気ベアリング面から凹ませた前縁部
    を有することを特徴とする垂直磁気記録用薄膜書込みヘ
    ッド。
  14. 【請求項１４】 前記主磁極が、前記ＡＢＳから前記補
    助磁極の前縁部から所定の距離まで延長する先端部を有
    することを特徴とする請求項１３に記載の薄膜書込みヘ
    ッド。
  15. 【請求項１５】 前記主磁極の先端部が概ね正方形のフ
    ットプリントを有することを特徴とする請求項１４に記
    載の薄膜書込みヘッド。
  16. 【請求項１６】 前記先端部の一辺が前記媒体のトラッ
    ク幅と等しいことを特徴とする請求項１５に記載の薄膜
    書込みヘッド。
  17. 【請求項１７】 前記主磁極が、スパッタされた高モー
    メント磁気材料で形成されていることを特徴とする請求
    項１２に記載の薄膜書込みヘッド。
  18. 【請求項１８】 前記主磁極が、約０．１μｍ乃至０．
    ７μｍの範囲内の厚さを有することを特徴とする請求項
    １７に記載の薄膜書込みヘッド。
  19. 【請求項１９】 前記スパッタされた高モーメント磁気
    材料が、約１９乃至２５キロガウスの範囲内の磁気モー
    メントを有することを特徴とする請求項１７に記載の薄
    膜書込みヘッド。
  20. 【請求項２０】 前記第１磁極（Ｐ１）が、磁束の通路
    を提供するために、前記ＡＢＳから前記第１磁極（Ｐ
    １）を前記補助磁極に接続するバックギャップまで延長
    していることを特徴とする請求項１７に記載の薄膜書込
    みヘッド。
  21. 【請求項２１】 前記バックギャップが前記書込みコイ
    ルの後方に配置されていることを特徴とする請求項２０
    に記載の薄膜書込みヘッド。
  22. 【請求項２２】 前記バックギャップが導磁性材料で形
    成されていることを特徴とする請求項２１に記載の薄膜
    書込みヘッド。
  23. 【請求項２３】 前記補助磁極の前記前縁部が、前記Ａ
    ＢＳから約０．５μｍ乃至２．０μｍだけ凹まされてい
    る請求項１７に記載の薄膜書込みヘッド。
  24. 【請求項２４】 前記補助磁極及び前記第１磁極（Ｐ
    １）が概ね等しい厚さを有することを特徴とする請求項
    １７に記載の薄膜書込みヘッド。
  25. 【請求項２５】 垂直磁気記録用薄膜書込みヘッドを有
    し、前記書込みヘッドが、導磁性材料で形成され、媒体
    への書込み動作における磁束の復路を提供する第１磁極
    （Ｐ１）と、 前記第１磁極（Ｐ１）の上に配置されたインダクティブ
    書込みコイルと、 薄膜導磁性材料で形成されかつ前記書込みコイルの上に
    配置され、空気ベアリング面（ＡＢＳ）から凹ませた前
    縁部を有する補助磁極と、 前記補助磁極の上に形成されかつ前記ＡＢＳまで延長す
    る、前記媒体上に書込むための主磁極とを備えるデータ
    記憶システム。
  26. 【請求項２６】 垂直磁気記録用薄膜書込みヘッドを有
    し、前記書込みヘッドが、導磁性材料で形成され、媒体
    への書込み動作における磁束の復路を提供する第１磁極
    （Ｐ１）と、 前記第１磁極（Ｐ１）の上に配置されたインダクティブ
    書込みコイルと、 前記書込みコイルの上に形成されかつ空気ベアリング面
    （ＡＢＳ）まで延長する、前記媒体にデータを書込むた
    めの主磁極と、 薄膜導磁性材料で形成されかつ前記主磁極の上に形成さ
    れた補助磁極とを備え、 前記補助磁極が、空気ベアリング面から凹ませた前縁部
    を有するデータ記憶システム。
  27. 【請求項２７】 垂直磁気記録用薄膜書込みヘッドの製
    造方法であって、 媒体への書込み動作における磁束の復路を設けるべく、
    導磁性材料の第１磁極（Ｐ１）を形成する過程と、 前記第１磁極（Ｐ１）の上にインダクティブ書込みコイ
    ルを形成する過程と、前記書込みコイルの上に薄膜導磁
    性材料の補助磁極を形成する過程と、 前記補助磁極を空気ベアリング面（ＡＢＳ）から凹ませ
    る過程と、 前記媒体にデータを書込むための主磁極を、前記補助磁
    極の上に、前記主磁極が前記ＡＢＳまで延長するように
    形成する過程とからなる方法。
  28. 【請求項２８】 バックギャップを形成する過程を更に
    含むことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
  29. 【請求項２９】 垂直磁気記録用薄膜書込みヘッドの製
    造方法であって、 媒体への書込み動作における磁束の復路を設けるべく、
    導磁性材料の第１磁極（Ｐ１）を形成する過程と、 前記第１磁極（Ｐ１）の上にインダクティブ書込みコイ
    ルを形成する過程と、 前記媒体の上にデータを書込むための主磁極を、前記書
    込みコイルの上に、前記主磁極が空気ベアリング面（Ａ
    ＢＳ）まで延長するように形成する過程と、 薄膜導磁性材料の補助磁極を前記主磁極の上に形成する
    過程と、 前記補助磁極を前記ＡＢＳから凹ませる過程とからなる
    方法。
  30. 【請求項３０】バックギャップを形成する過程を更に含
    むことを特徴とする請求項２９に記載の方法。
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