JP2003144903A - Gas-liquid contact column type apparatus and gas-liquid contact method - Google Patents

Gas-liquid contact column type apparatus and gas-liquid contact method

Info

Publication number
JP2003144903A
JP2003144903A JP2001296070A JP2001296070A JP2003144903A JP 2003144903 A JP2003144903 A JP 2003144903A JP 2001296070 A JP2001296070 A JP 2001296070A JP 2001296070 A JP2001296070 A JP 2001296070A JP 2003144903 A JP2003144903 A JP 2003144903A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
liquid
liquid contact
water
tower
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001296070A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidehiko Hosokawa
秀彦 細川
Junichi Maejima
淳一 前島
Shigenori Nojiri
繁範 野尻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DuPont Toray Specialty Materials KK
Original Assignee
Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dow Corning Toray Silicone Co Ltd filed Critical Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
Priority to JP2001296070A priority Critical patent/JP2003144903A/en
Publication of JP2003144903A publication Critical patent/JP2003144903A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas-liquid contact column type apparatus preventing the deposition of a solid at any place even in such a case that a hydrolyzable compound in inert gas containing the hydrolyzable compound in a gaseous or misty state is reacted with water to form the solid, generating no clogging and capable of being continuously operated over a long period of time, and a gas-liquid contact method. SOLUTION: In the gas-liquid contact column type apparatus for bringing the inert gas containing the hydrolyzable compound in a gaseous or misty state into contact with water, a gas introducing pipe is attached to the top part of the body part of the column type apparatus almost downwardly and a liquid introducing pipe is attached to the body part of the column type apparatus horizontally or obliquely downwardly in an almost tangential direction with respect to the outer periphery of the body part. The gas-liquid contact method using the column type apparatus is also disclosed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、気体状もしくはミスト
状の加水分解性化合物含有不活性気体と水とを接触させ
る気液接触用塔型装置および塔型装置を使用して気体状
もしくはミスト状の加水分解性化合物と水とを接触させ
る気液接触方法に関する。特には、気体状もしくはミス
ト状の加水分解性化合物含有不活性気体中の該化合物と
水とが反応して固形物を生成するような場合であって
も、塔型装置内のいずれの箇所にも固形物が堆積せず、
該塔型装置内の閉塞が起こらずに長期間気液接触を続け
ることができる気液接触用塔型装置および気液接触方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas-liquid contact tower apparatus for contacting water with a gas or mist-like inert gas containing a hydrolyzable compound, and a gas or mist using the tower apparatus. The present invention relates to a gas-liquid contacting method of bringing a hydrolyzable compound in the form of a water into contact with water. In particular, even when the compound in the gaseous or mist-like hydrolyzable compound-containing inert gas reacts with water to produce a solid matter, it may be anywhere in the tower apparatus. Solids do not accumulate,
The present invention relates to a gas-liquid contact tower device and a gas-liquid contact method capable of continuing gas-liquid contact for a long period of time without blockage in the tower device.

【0002】[0002]

【従来の技術と問題点】気体と液体を接触させる操作や
反応は、吸収塔,サイクロンスクラバー,ベンチュリー
スクラバー,ミキシングスクラバー,スプレー塔,濡れ
壁塔,充填塔,段塔,気泡塔,気泡攪拌槽等を使用し
て、化学工場やガス製造工場,廃棄ガス処理場などで広
く行われている。この場合、気体と液体をそれぞれ別々
に気液接触用装置内に供給して合流させることにより接
触させており、通常、液体をノズルから気体中へ吐出す
る方法、液体をスプレーノズル等で気体中に噴霧する方
法、あるいは気体をノズルあるいは多孔板等を介して液
体中へ吹き込む方法等が知られている(平成元年3月30
日丸善株式会社発行の社団法人化学工学協会編「化学装
置便覧改定2版」参照)。
[Prior Art and Problems] The operation and reaction of bringing gas and liquid into contact are as follows: absorption tower, cyclone scrubber, venturi scrubber, mixing scrubber, spray tower, wetting wall tower, packed tower, plate tower, bubble tower, bubble stirring tank. It is widely used in chemical factories, gas manufacturing factories, waste gas treatment plants, etc. In this case, the gas and the liquid are separately supplied into the gas-liquid contacting device so as to be brought into contact with each other, and the liquid is usually discharged from the nozzle into the gas, or the liquid is sprayed into the gas with a spray nozzle or the like. There are known methods such as spraying into the liquid or blowing gas into the liquid through a nozzle or a porous plate (March 30, 1989).
See "Chemical Equipment Handbook 2nd Edition" edited by The Japan Society of Chemical Engineering, published by Himaru Zen Co., Ltd.).

【0003】しかしながら、気体と液体とが反応して、
あるいは、気体中の成分が液体あるいは液体中の成分と
反応して固形物を生成するような場合、上記いずれの方
法や装置であっても、気体導入部あるいは液体導入部の
近傍で固形物が生成し、それが徐々に成長して気体導入
用あるいは液体導入用の管の先端部あるいは気液接触装
置内を閉塞させてしまうという問題があることに本発明
者らは気づいた。固形物が堆積してきた場合は、やむを
得ず操業を止めて、付着した固形物を取り除くことが必
要であり、煩雑、非効率である。
However, gas and liquid react with each other,
Alternatively, when the component in the gas reacts with the liquid or the component in the liquid to produce a solid substance, in any of the above methods and apparatuses, the solid substance is generated in the vicinity of the gas introduction part or the liquid introduction part. The present inventors have noticed that there is a problem in that it is generated and gradually grows to block the tip of a gas introduction tube or a liquid introduction tube or the inside of a gas-liquid contactor. When solid matter is deposited, it is necessary to stop the operation and remove the adhered solid matter, which is complicated and inefficient.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者らは
このような従来技術の問題点を解決すべく鋭意研究して
本発明を完成するに至った。本発明の目的は、気体状も
しくはミスト状の加水分解性化合物含有不活性気体中の
加水分解性化合物と水とが反応して固形物を生成するよ
うな場合であっても、気液接触用塔型装置内のいずれの
箇所にも固形物が堆積せず、該塔型装置内の閉塞が起こ
らずに長期間操業を続けることができる気液接触用塔型
装置および気液接触方法を提供することにある。
Therefore, the inventors of the present invention completed the present invention through intensive research to solve the problems of the prior art. The object of the present invention is to contact gas and liquid even when the hydrolyzable compound in a gaseous or mist-like hydrolyzable compound-containing inert gas reacts with water to produce a solid. Provided is a tower-type apparatus for gas-liquid contact and a gas-liquid contact method capable of continuing a long-term operation without solid matter being deposited on any part of the tower-type apparatus and causing no blockage in the tower-type apparatus. To do.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、気体状もしく
はミスト状の加水分解性化合物含有不活性気体と水とを
接触させる気液接触用塔型装置において、該塔型装置の
胴部の頂部には気体導入管が略下向きに取り付けられて
おり、該塔型装置の胴部には液体導入管が該胴部の外周
に対して略接線方向に、かつ、水平ないし斜め下向きに
取り付けられていることを特徴とする気液接触用塔型装
置、および、気体状もしくはミスト状の加水分解性化合
物含有不活性気体と水とを接触させる気液接触方法にお
いて、該不活性気体を、塔型装置の胴部の頂部に略下向
きに取り付けられた気体導入管から該胴部内に導入し、
水を該胴部内に導入して該気体導入管の外周面上および
該胴部の内周面上を旋回しながら流下せしめることを特
徴とする気液接触方法に関する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a gas-liquid contact tower apparatus for contacting water with a gaseous or mist-like inert gas containing a hydrolyzable compound, and a tower unit of the tower apparatus. A gas introduction pipe is attached to the top in a substantially downward direction, and a liquid introduction pipe is attached to the body of the tower type device in a substantially tangential direction with respect to the outer periphery of the body and horizontally or obliquely downward. In the gas-liquid contacting tower type apparatus, and the gas-liquid contacting method of contacting water with a gaseous or mist-like inert gas containing a hydrolyzable compound, the inert gas is Introduced into the body from a gas introduction tube attached to the top of the body of the mold device substantially downward,
The present invention relates to a gas-liquid contact method characterized in that water is introduced into the body to flow down while rotating on the outer peripheral surface of the gas introducing pipe and on the inner peripheral surface of the body.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】気液接触用塔型装置の胴部は、内
部で水が旋回しやすいので円筒形であることが好ましい
が、樽形、楕球型、球形であってもよい。該塔型装置の
頂部には、気体状もしくはミスト状の加水分解性化合物
含有不活性気体を該塔型装置内に導入するための気体導
入管が略下向きに、好ましくは下向きに取り付けられて
いる。この気体導入管は、該塔型装置の胴部の頂部を貫
通して該胴部内に延出しており、その下端は該胴部の下
端部よりは上に位置することが好ましい。該気体導入管
は該頂部の中心に取り付けられていることが好ましい
が、中心から多少ずれた位置に取り付けられていてもよ
い。該胴部には、水を導入するための液体導入管が該胴
部の外周に対して略接線方向に、かつ、水平ないし斜め
下向きに取り付けられている。すなわち、該塔型装置を
真上から見下ろしたときに,該液体導入管は該胴部の外
周に対して略接線方向に、すなわち、接線方向か、該液
体導入管の中心軸と接線とのなす角度が45度以下にな
るように取り付けられている。また、該塔型装置を横か
ら見たときに,液体導入管は水平、あるいは、斜め下向
き、すなわち、該液体導入管が該胴部に近づくにしたが
って低くなるように取り付けられている。すなわち、該
胴部の中心軸と該液体導入管とのなす角度が90度〜1
5度、好ましくは90度〜30度になるように取り付け
られている。該液体導入管は該胴部の側壁に取り付けら
れていることが好ましいが、該胴部の頂部の周端部に取
り付けられていてもよい。これにより、不活性気体中の
気体状もしくはミスト状の加水分解性化合物と水とが反
応して固形物を生成するような場合であっても、気体導
入管の外周面上および該塔型装置の胴部の内周面上を水
が旋回するように流下して、固形物が絶えず洗い流され
るので、気体導入管,液体導入管,胴部内のいずれの個
所にも固形物が堆積せず、そのため該塔型装置内の閉塞
が起こらずに長時間操業を続けることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The body of the gas-liquid contact tower apparatus is preferably cylindrical because water easily swirls inside, but it may be barrel, ellipsoidal or spherical. A gas introduction pipe for introducing a gaseous or mist-like inert gas containing a hydrolyzable compound into the tower type apparatus is attached to the top of the tower type apparatus in a substantially downward direction, preferably downward. . The gas introducing pipe extends through the top of the body of the tower type apparatus and extends into the body, and the lower end thereof is preferably located above the lower end of the body. The gas introducing pipe is preferably attached to the center of the top portion, but may be attached to a position slightly displaced from the center. A liquid introducing pipe for introducing water is attached to the body portion in a substantially tangential direction to the outer periphery of the body portion and horizontally or obliquely downward. That is, when the tower type apparatus is viewed from directly above, the liquid introducing pipe is substantially tangential to the outer periphery of the body, that is, the tangential direction, or the tangent to the central axis of the liquid introducing pipe. It is attached so that the angle it makes is 45 degrees or less. Further, when the tower type apparatus is viewed from the side, the liquid introduction pipe is installed horizontally or obliquely downward, that is, the liquid introduction pipe is attached so as to be lowered as it approaches the body. That is, the angle formed by the central axis of the body and the liquid introduction tube is 90 degrees to 1
It is attached at 5 degrees, preferably 90 degrees to 30 degrees. The liquid introducing pipe is preferably attached to the side wall of the body, but may be attached to the peripheral end of the top of the body. As a result, even in the case where the gaseous or mist-like hydrolyzable compound in the inert gas reacts with water to produce a solid, the gas is introduced on the outer peripheral surface of the pipe and the tower type apparatus. Since the water flows down on the inner peripheral surface of the body of the body so that the solid matter is constantly washed away, solid matter does not accumulate on any of the gas introduction pipe, the liquid introduction pipe, and the body, Therefore, it is possible to continue the operation for a long time without the blockage in the tower type device.

【0007】該塔型装置の胴部、気体導入管および液体
導入管の材質は、加水分解性化合物やその加水分解生成
物に腐食性がないときは、スチール、ステンレススチー
ル、ジュラルミンなどの金属が好ましいが、加水分解性
化合物やその加水分解生成物に腐食性があるときはガラ
スライニングした金属や、ホウロウ、セラミック、テト
ラフルオロエチレン樹脂が好ましい。本発明では、不活
性気体とは加水分解性化合物や水に対して不活性な気体
を意味し、空気、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガ
スが例示される。不活性気体は常温が一般的であるが、
2℃〜70℃であってもよい。
The material of the body, gas inlet pipe and liquid inlet pipe of the tower type apparatus is steel, stainless steel, duralumin, etc. when the hydrolyzable compound and its hydrolyzate are not corrosive. Preferred is glass-lined metal, enamel, ceramic, or tetrafluoroethylene resin when the hydrolyzable compound or its hydrolysis product is corrosive. In the present invention, the inert gas means a gas inert to the hydrolyzable compound or water, and examples thereof include air, nitrogen gas, argon gas, and helium gas. Inert gas is generally at room temperature,
It may be 2 ° C to 70 ° C.

【0008】気体状もしくはミスト状の加水分解性化合
物は、ケイ素原子結合加水分解性基を1分子中に3個以
上有するケイ素化合物、例えば、テトラメトキシシラ
ン、トリメトキシシラン、メチル(トリメトキシ)シラ
ン、テトラエトキシシラン、トリエトキシシランのよう
なアルコキシシラン類;テトラクロルシラン、トリクロ
ルシラン、テトラフルオロシランのようなハロゲノシラ
ン類;トリ(N,N−ジメチルアミノ)メチルシラン、お
よび、金属原子結合加水分解性基を1分子中に3個以上
有する金属化合物、例えば、テトラメトキシチタン、テ
トラクロルチタン、テトラメトキシジルコニウム、テト
ラクロルジルコニウム、トリメトキシアルミニウム、ト
リクロルアルミニウムが例示される。これらの化合物は
ケイ素原子結合加水分解性基あるいは金属原子結合加水
分解性基を3個または4個有しているので、加水分解し
つつ縮合して固形物を生成する。沸点は常温より高いも
のが多いが、蒸気圧が大きいので、不活性気体中の濃度
が小さければ気体状あるいはミスト状で存在することが
できる。これらのケイ素化合物はケイ素原子結合加水分
解性基を1分子中に1個または2個有しているケイ素化
合物との混合物であってもよい。また、これらの金属化
合物は金属原子結合加水分解性基を1個または2個有し
ている金属化合物との混合物であってもよい。
The gaseous or mist-type hydrolyzable compound is a silicon compound having three or more silicon atom-bonded hydrolyzable groups in one molecule, such as tetramethoxysilane, trimethoxysilane, methyl (trimethoxy) silane, Alkoxysilanes such as tetraethoxysilane and triethoxysilane; halogenosilanes such as tetrachlorosilane, trichlorosilane and tetrafluorosilane; tri (N, N-dimethylamino) methylsilane and metal atom bond hydrolyzability Examples thereof include metal compounds having three or more groups in one molecule, such as tetramethoxytitanium, tetrachlorotitanium, tetramethoxyzirconium, tetrachlorozirconium, trimethoxyaluminum, and trichloroaluminum. Since these compounds have three or four silicon atom-bonded hydrolyzable groups or metal atom-bonded hydrolyzable groups, they are condensed while hydrolyzing to form a solid. Most of them have a boiling point higher than normal temperature, but since the vapor pressure is large, they can exist in the form of gas or mist if the concentration of the inert gas is low. These silicon compounds may be a mixture with a silicon compound having one or two silicon atom-bonded hydrolyzable groups in one molecule. Further, these metal compounds may be a mixture with a metal compound having one or two metal atom-bonded hydrolyzable groups.

【0009】気体状もしくはミスト状の加水分解性化合
物含有不活性気体は、加水分解性化合物あるいは加水分
解性化合物と他の化合物との混合物を不活性気体でパー
ジしたときや、加水分解性化合物あるいは加水分解性化
合物と他の化合物との混合物を不活性気体存在下でスト
リッピングしたときに生成することが多い。
The inert gas containing a hydrolyzable compound in the form of a gas or a mist is used when the hydrolyzable compound or a mixture of the hydrolyzable compound and another compound is purged with an inert gas, or the hydrolyzable compound or It is often formed when a mixture of a hydrolyzable compound and another compound is stripped in the presence of an inert gas.

【0010】水は不活性気体中の加水分解性化合物を洗
い落とし、加水分解するために使用される。加水分解性
化合物が極めて加水分解しやすいもの(例,テトラクロ
ルシラン、トリクロルシランのようなハロゲン化ケイ素
化合物、ハロゲン化金属化合物)であると、水が好適で
あるが、酸性や塩基性でないと加水分解しにくいもの
(例,テトラメトキシシラン、トリメトキシシランのよ
うなアルコキシシラン、アルコキシ金属化合物)である
と水溶性の塩基(例、苛性ソーダ、苛性カリ)含有水あ
るいは水溶性の酸(例、塩酸、硫酸)含有水であること
が好ましい。気液接触に使用した水を再利用する場合
は、加水分解して生成した塩酸やアルコール(メチルア
ルコール、エチルアルコール)を含有していてもよい。
加水分解性化合物含有不活性気体中には、微粉体や他の
液体のミストや蒸気が混在していてもよい。
Water is used to wash out and hydrolyze hydrolyzable compounds in an inert gas. Water is suitable when the hydrolyzable compound is one that is extremely easily hydrolyzed (eg, a silicon halide compound such as tetrachlorosilane and trichlorosilane, a metal halide compound), but must be acidic or basic. If it is difficult to hydrolyze (eg, alkoxysilane such as tetramethoxysilane or trimethoxysilane, or an alkoxy metal compound), water containing a water-soluble base (eg, caustic soda, potassium hydroxide) or water-soluble acid (eg, hydrochloric acid) , Sulfuric acid) -containing water is preferred. When the water used for gas-liquid contact is reused, it may contain hydrochloric acid or alcohol (methyl alcohol, ethyl alcohol) produced by hydrolysis.
Fine powder or other liquid mist or vapor may be mixed in the hydrolyzable compound-containing inert gas.

【0011】気体導入管を通って気液接触用塔型装置の
胴部内に導入された気体状もしくはミスト状の加水分解
性化合物含有不活性気体は、該塔型装置の胴部内に充満
し、液体導入管を通って気液接触用塔型装置内に導入さ
れた水と接触する。水は該塔型装置の胴部の外周に対し
て略接線方向に、かつ、水平ないし斜め下方向に導入さ
れるので、気体導入管の外周面上および塔型装置の胴部
の内周面上を旋回しながら流下していく。加水分解性化
合物が加水分解して固形物が生成しても洗い流されるの
で、固形物が気体導入管の外周面および胴部の内周面に
堆積することがない。
The inert gas containing a hydrolyzable compound in the form of gas or mist introduced into the body of the tower type apparatus for gas-liquid contact through the gas introduction pipe fills the body of the tower type apparatus, It comes into contact with the water introduced into the gas-liquid contact tower device through the liquid introduction pipe. Since water is introduced substantially tangentially to the outer periphery of the body of the tower type device and horizontally or obliquely downward, the water is introduced on the outer peripheral surface of the gas introducing pipe and the inner peripheral surface of the body of the tower type device. It flows down while turning above. Even if the hydrolyzable compound is hydrolyzed to form a solid, it is washed away, so that the solid does not deposit on the outer peripheral surface of the gas introduction pipe and the inner peripheral surface of the body.

【0012】加水分解が迅速な場合は、不活性気体、水
および加水分解生成物は、該塔型装置の胴部の排出口か
ら外部に流れ出て行く。加水分解が迅速でない場合は、
不活性気体、水、未分解の加水分解性化合物および加水
分解生成物は、排出口から外部に流れ出て行く。なお、
水が水溶性の塩基や酸のような加水分解触媒を含有して
いるときは、塩基含有水や酸含有水として排出口から外
部に流れ出て行く。加水分解が迅速でない場合は、排出
口にさらに気液接触を促進させるための構造や貯蔵槽を
接続して、それらの構造部分や貯蔵槽で加水分解を完了
させるとよい。加水分解終了後、不活性気体を他のもの
から分離すると、加水分解性化合物を含有しない不活性
気体になるので、再利用したり、他の用途に使用するこ
とができる。不純物を含まないので、そのまま大気中に
放出してもよい。加水分解生成物を含む水は、そのまま
再利用したり、加水分解生成物を分離除去して再利用す
ることができる。あるいは、廃液として処理してもよ
い。
If the hydrolysis is rapid, the inert gas, water and hydrolysis products will flow out through the outlet of the barrel of the tower apparatus. If the hydrolysis is not fast,
Inert gas, water, undecomposed hydrolyzable compounds and hydrolysis products flow out through the outlet. In addition,
When water contains a hydrolysis catalyst such as a water-soluble base or acid, it flows out from the outlet as base-containing water or acid-containing water. When the hydrolysis is not rapid, it is advisable to connect a structure or a storage tank for further promoting gas-liquid contact to the discharge port, and complete the hydrolysis in the structural portion or the storage tank. When the inert gas is separated from other substances after completion of hydrolysis, it becomes an inert gas containing no hydrolyzable compound, and can be reused or used for other purposes. Since it contains no impurities, it may be released into the atmosphere as it is. The water containing the hydrolysis product can be reused as it is, or can be separated and removed for reuse. Alternatively, it may be treated as a waste liquid.

【0013】[0013]

【実施例】実施例と比較例における気液接触は20℃で
行った。
EXAMPLES Gas-liquid contact in Examples and Comparative Examples was carried out at 20 ° C.

【0014】[0014]

【実施例1】図1に示す気液接触用塔型装置1の円筒状
胴部6(内径:150mm、高さ:500mm)内に、
液体導入管3(内径:25mm)から苛性ソーダ水含有
4(濃度:4重量%)を導入した。ここで、液体導入管
3は円筒状胴部6の側壁に、その外周に対して接線方
向、かつ、斜め下方向(円筒状胴部6の中心軸と液体導
入管3の中心軸との角度は80度である)に取り付けら
れている。同時に、該塔型装置1の頂部を貫通して下方
向に取り付けられている気体導入管2(内径:50m
m、長さ:300mm)から気体状ないしミスト状のテ
トラクロルシランを含む窒素ガス5(テトラクロルシラ
ン濃度:10ppm)を円筒状胴部6内に供給した(流
量:3m3/hr)。苛性ソーダ含有水4は気体導入管
2の外周面上および円筒状胴部6の内周面上を旋回する
ように絶えず流下した(流量:13m3/hr)。この
条件で操業を350時間継続したところ、気体導入管2
の外周面と先端部,液体導入管3の開口部,円筒状胴部
6の内周面のいずれにも固形物が堆積せず、堆積に伴う
気液接触用塔型装置1内の閉塞が起こらずに操業を続け
ることができた。
Example 1 In the cylindrical body 6 (inner diameter: 150 mm, height: 500 mm) of the tower device 1 for gas-liquid contact shown in FIG.
Caustic soda water-containing 4 (concentration: 4% by weight) was introduced from the liquid introducing pipe 3 (inner diameter: 25 mm). Here, the liquid introduction tube 3 is provided on the side wall of the cylindrical body portion 6 in a tangential direction to the outer periphery thereof and in an obliquely downward direction (angle between the central axis of the cylindrical body portion 6 and the central axis of the liquid introduction tube 3) Is 80 degrees). At the same time, the gas introduction pipe 2 (inner diameter: 50 m) that is attached downward through the top of the tower type device 1
m, length: 300 mm), and nitrogen gas 5 (tetrachlorosilane concentration: 10 ppm) containing gaseous or mist-like tetrachlorosilane was supplied into the cylindrical body 6 (flow rate: 3 m 3 / hr). The caustic soda-containing water 4 constantly flowed down so as to swirl on the outer peripheral surface of the gas introduction pipe 2 and the inner peripheral surface of the cylindrical body portion 6 (flow rate: 13 m 3 / hr). When the operation was continued for 350 hours under these conditions, the gas inlet pipe 2
No solid matter is deposited on the outer circumferential surface and the tip of the liquid, the opening of the liquid introduction tube 3, and the inner circumferential surface of the cylindrical body 6, and the blockage in the gas-liquid contact tower apparatus 1 due to the deposition is caused. I was able to continue operation without happening.

【0015】[0015]

【実施例2】図1に示す気液接触用塔型装置1の円筒状
胴部6(内径:150mm、高さ:500mm)内に、
液体導入管3(内径:25mm)から苛性ソーダ水溶液
(濃度:4重量%)を導入した。ここで、液体導入管3
は円筒状胴部4の側壁に、その外周に対して接線方向、
かつ、斜め下方向(円筒状胴部6の中心軸と液体導入管
3の中心軸との角度は80度である)に取り付けられて
いる。同時に、該塔型装置1の頂部を貫通して下方向に
取り付けられている気体導入管2(内径:50mm、長
さ:300mm)から気体状ないしミスト状のテトラメ
トキシシランを含む窒素ガス5(テトラメトキシシラン
濃度:10ppm)を円筒状胴部6内に供給した(流
量:3m3/hr)。苛性ソーダ含有水4は気体導入管
2の外周面上および円筒状胴部6の内周面上を旋回する
ように絶えず流下した(流量:13m3/hr)。この
条件で操業を350時間継続したところ、気体導入管2
の外周面と先端部,液体導入部3の開口部,円筒状胴部
6の内周面のいずれにも固形物が堆積せず、堆積に伴う
気液接触用塔型装置1内の閉塞が起こらずに操業を続け
ることができた。
[Embodiment 2] In the cylindrical body 6 (inner diameter: 150 mm, height: 500 mm) of the gas-liquid contact tower apparatus 1 shown in FIG.
A caustic soda aqueous solution (concentration: 4% by weight) was introduced from the liquid introduction pipe 3 (inner diameter: 25 mm). Here, the liquid introducing pipe 3
Is on the side wall of the cylindrical body 4, in a tangential direction to its outer periphery,
In addition, it is attached in an obliquely downward direction (the angle between the central axis of the cylindrical body 6 and the central axis of the liquid introduction tube 3 is 80 degrees). At the same time, a nitrogen gas 5 containing a gaseous or mist-like tetramethoxysilane is supplied from a gas introduction pipe 2 (inner diameter: 50 mm, length: 300 mm) that is attached downward through the top of the tower type apparatus 1. Tetramethoxysilane concentration: 10 ppm) was supplied into the cylindrical body portion 6 (flow rate: 3 m 3 / hr). The caustic soda-containing water 4 constantly flowed down so as to swirl on the outer peripheral surface of the gas introduction pipe 2 and the inner peripheral surface of the cylindrical body portion 6 (flow rate: 13 m 3 / hr). When the operation was continued for 350 hours under these conditions, the gas inlet pipe 2
No solid matter is deposited on the outer peripheral surface and the tip portion, the opening portion of the liquid introduction portion 3, and the inner peripheral surface of the cylindrical body portion 6, and the blockage in the gas-liquid contact tower apparatus 1 due to the deposition is caused. I was able to continue operation without happening.

【0016】[0016]

【比較例1】従来公知の気液接触用塔型装置の円筒状胴
部(内径:100mm、高さ500mm)内の上部に取
り付けられた多数のスプレーノズルから苛性ソーダ水溶
液(濃度:4重量%)を下方向に噴霧しつつ(噴霧量:
0.05m3/hr)、気体状ないしミスト状のテトラ
メトキシシランを含む窒素ガス(流量:0.3m3/h
r、テトラメトキシシラン濃度:10ppm)を、該円
筒状胴部の側壁下部に開口した気体供給部から該円筒状
胴部内に供給し、該円筒状胴部の頂部に開口した排出口
から排出させた。この条件で操業を350時間継続した
ところ、該スプレーノズル周囲にシリカと思われる固形
物が堆積し、それに伴う該円筒状胴部内の閉塞が起き
た。
Comparative Example 1 A caustic soda aqueous solution (concentration: 4% by weight) was obtained from a large number of spray nozzles attached to the upper part of the cylindrical body (inner diameter: 100 mm, height 500 mm) of a conventionally known tower device for gas-liquid contact. While spraying downward (spray amount:
0.05 m 3 / hr), nitrogen gas containing tetramethoxysilane in gaseous or mist form (flow rate: 0.3 m 3 / h)
r, tetramethoxysilane concentration: 10 ppm) is supplied to the inside of the cylindrical body from a gas supply section opened at the lower part of the side wall of the cylindrical body, and discharged from a discharge port opened at the top of the cylindrical body. It was When the operation was continued for 350 hours under these conditions, a solid substance considered to be silica was deposited around the spray nozzle, and the clogging of the cylindrical body part was caused accordingly.

【0017】[0017]

【発明の効果】本発明による気液接触用塔型装置および
気液接触方法を使用して気体状もしくはミスト状の加水
分解性化合物含有不活性気体と水を接触させると、加水
分解性化合物が加水分解して固形物を生成するような場
合であっても、気体供給管,液体供給管,胴部内のいず
れにも固形物が堆積せず、堆積に伴う該塔型装置内の閉
塞が起こらずに長期間操業を続けることができる。
EFFECT OF THE INVENTION When a gas-liquid contact tower apparatus and a gas-liquid contacting method according to the present invention are used to bring a gaseous or mist-containing inert gas containing a hydrolyzable compound into contact with water, the hydrolyzable compound is produced. Even in the case of hydrolyzing to form solids, solids do not accumulate in any of the gas supply pipe, the liquid supply pipe, and the body, and clogging of the tower-type apparatus occurs due to the accumulation. It is possible to continue the operation for a long period of time.

【0018】[0018]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例1、実施例2で使用した気液接
触用塔型装置1の側面図である。
FIG. 1 is a side view of a gas-liquid contact tower apparatus 1 used in Examples 1 and 2 of the present invention.

【図2】図1のA−A線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA of FIG.

【図3】本発明の実施例1、実施例2で使用した気液接
触用塔型装置1の斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view of the gas-liquid contact tower apparatus 1 used in Examples 1 and 2 of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.気液接触用塔型装置 2.気体導入管 3.液体導入管 4.苛性ソーダ含有水 5.シラン含有窒素ガス 6.円筒状胴部 1. Tower device for gas-liquid contact 2. Gas introduction pipe 3. Liquid introduction tube 4. Water containing caustic soda 5. Silane-containing nitrogen gas 6. Cylindrical body

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 前島 淳一 千葉県市原市千種海岸2番2 東レ・ダウ コーニング・シリコーン株式会社生産本部 エンジニアリング部内 (72)発明者 野尻 繁範 福井県坂井郡金津町矢地 東レ・ダウコー ニング・シリコーン株式会社生産本部福井 工場内 Fターム(参考) 4D020 AA08 BA23 CB34 CC03 4D032 BB18 4G075 AA03 BA05 BB04 BB05 BD03 BD08 BD13 BD26 DA02 EB21   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Junichi Maejima             2-2 Chikusaigan, Ichihara-shi, Chiba Toray Dow             Corning Silicone Co., Ltd. Production Division             Inside the engineering department (72) Inventor Shigenori Nojiri             Yachi Toray Douco, Kanazu Town, Sakai District, Fukui Prefecture             Fukui Production Headquarters Ning Silicone Co., Ltd.             in the factory F-term (reference) 4D020 AA08 BA23 CB34 CC03                 4D032 BB18                 4G075 AA03 BA05 BB04 BB05 BD03                       BD08 BD13 BD26 DA02 EB21

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 気体状もしくはミスト状の加水分解性化
合物含有不活性気体と水とを接触させる気液接触用塔型
装置において、該塔型装置の胴部の頂部には気体導入管
が略下向きに取り付けられており、該胴部には液体導入
管が該胴部の外周に対して略接線方向に、かつ、水平な
いし斜め下向きに取り付けられていることを特徴とする
気液接触用塔型装置。
1. A tower apparatus for contacting gas and liquid in which a gaseous or mist-like inert gas containing a hydrolyzable compound is contacted with water, wherein a gas introduction pipe is provided at the top of the body of the tower apparatus. A gas-liquid contact tower, which is attached downward, and in which the liquid introduction pipe is attached in a substantially tangential direction to the outer periphery of the body and horizontally or obliquely downward. Mold device.
【請求項2】 該胴部が円筒状であることを特徴とする
請求項1記載の接触用塔型装置。
2. The tower device for contact according to claim 1, wherein the body is cylindrical.
【請求項3】 気液接触用塔型装置がスクラバーである
ことを特徴とする請求項1または請求項2記載の気液接
触用塔型装置。
3. The tower type apparatus for gas-liquid contact according to claim 1, wherein the tower type apparatus for gas-liquid contact is a scrubber.
【請求項4】 気体状もしくはミスト状の加水分解性化
合物含有不活性気体と水とを接触させる気液接触方法に
おいて、該不活性気体を、塔型装置の胴部の頂部に下向
きに取り付けられた気体導入管から該胴部内に導入し、
水を該胴部内に導入して該気体導入管の外周面上および
該胴部の内周面上を旋回しながら流下せしめることを特
徴とする気液接触方法。
4. A gas-liquid contacting method in which a gaseous or mist-like inert gas containing a hydrolyzable compound is contacted with water, wherein the inert gas is attached downward to the top of the body of a tower type apparatus. Introduced into the body from the gas introduction pipe,
A gas-liquid contacting method, characterized in that water is introduced into the body to flow down while rotating on the outer peripheral surface of the gas introducing pipe and on the inner peripheral surface of the body.
【請求項5】 水は、該胴部に、その外周に対して略接
線方向に、かつ、水平ないし斜め下方向に取り付けられ
た液体導入管から該胴部内に導入されることを特徴とす
る請求項4記載の気液接触方法。
5. Water is introduced into the body through a liquid introducing pipe attached to the body in a direction substantially tangential to the outer periphery of the body and horizontally or obliquely downward. The gas-liquid contact method according to claim 4.
【請求項6】 加水分解生成物が固形物であることを特
徴とする請求項4、または請求項5記載の気液接触反応
方法。
6. The gas-liquid contact reaction method according to claim 4, wherein the hydrolysis product is a solid substance.
【請求項7】 気体状もしくはミスト状の加水分解性化
合物がケイ素原子結合加水分解性基を1分子中に3個以
上有するケイ素化合物であることを特徴とする請求項4
〜請求項6のいずれか1項記載の気液接触方法。
7. The gaseous or mist-like hydrolyzable compound is a silicon compound having three or more silicon atom-bonded hydrolyzable groups in one molecule.
~ The gas-liquid contact method according to claim 6.
【請求項8】 ケイ素化合物がテトラアルコキシシラン
またはテトラクロルシランであることを特徴とする請求
項7記載の気液接触方法。
8. The gas-liquid contact method according to claim 7, wherein the silicon compound is tetraalkoxysilane or tetrachlorosilane.
【請求項9】 水が塩基含有水または酸含有水であるこ
とを特徴とする請求項4〜請求項8のいずれか1項記載
の気液接触方法。
9. The gas-liquid contact method according to claim 4, wherein the water is base-containing water or acid-containing water.
JP2001296070A 2001-08-31 2001-09-27 Gas-liquid contact column type apparatus and gas-liquid contact method Pending JP2003144903A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001296070A JP2003144903A (en) 2001-08-31 2001-09-27 Gas-liquid contact column type apparatus and gas-liquid contact method

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001263839 2001-08-31
JP2001-263839 2001-08-31
JP2001296070A JP2003144903A (en) 2001-08-31 2001-09-27 Gas-liquid contact column type apparatus and gas-liquid contact method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003144903A true JP2003144903A (en) 2003-05-20

Family

ID=26621414

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001296070A Pending JP2003144903A (en) 2001-08-31 2001-09-27 Gas-liquid contact column type apparatus and gas-liquid contact method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003144903A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103120876A (en) * 2013-03-11 2013-05-29 骆金山 Air washer
CN114768484A (en) * 2022-04-12 2022-07-22 江苏永大化工机械有限公司 Process purifier

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000271421A (en) * 1999-03-24 2000-10-03 Seikow Chemical Engineering & Machinery Ltd Waste gas washing device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000271421A (en) * 1999-03-24 2000-10-03 Seikow Chemical Engineering & Machinery Ltd Waste gas washing device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103120876A (en) * 2013-03-11 2013-05-29 骆金山 Air washer
CN114768484A (en) * 2022-04-12 2022-07-22 江苏永大化工机械有限公司 Process purifier

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5511667B2 (en) Method for producing hydrogen gas from hydrogen halide, mixed gas containing hydrogen and silicon halide, method for producing silicon compound using the hydrogen gas, and plant for the method
US20020192129A1 (en) Abatement of fluorine gas from effluent
KR101577823B1 (en) Polymer inactivation method for polycrystalline silicon manufacturing device
EP1637211A1 (en) Exhaust gas decomposition processor and method for processing exhaust gas
ATE538069T1 (en) METHOD FOR THE CONTINUOUS PRODUCTION OF POLYCRYSTALLINE HIGH-PURITY SILICON GRANULES
TWI410411B (en) Wet scrubbing for removing particulate solids from oxygen supply line
US4923687A (en) Method for removing silane compounds from silane-containing exhaust gases
JP2003144903A (en) Gas-liquid contact column type apparatus and gas-liquid contact method
JP4793407B2 (en) Method and apparatus for treating waste gas containing chloropolysilane
JP3318340B2 (en) Scrubber
JPH04131121A (en) Method and apparatus for treating exhaust gas
JPS6359337A (en) Method and apparatus for treating exhaust gas
CN209242693U (en) Purify the device of trichlorosilane
CN109467089A (en) A kind of method for preparing polysilicon
CN202516455U (en) System for removing dust from trichlorosilane synthesis gas
CN108659030B (en) Reaction system and method for continuously producing hexamethyldisilazane
CN204981169U (en) Utilize device of chlorosilane waste gas production nanometer silica and by -product hydrochloric acid
JP4067067B2 (en) Silane-containing liquid processing equipment
JPH08257359A (en) Method for processing perfluorocarbon-containinggas flow
CN214552239U (en) A dust collector for trimethylsilane laboratory
KR101884156B1 (en) Removing Method of SiO2 in Semiconductor Process
CN108946743A (en) The method for purifying trichlorosilane
JP2004209399A (en) Apparatus for removing dissimilar substance in gas
CN217188801U (en) Hydrogen chloride tail gas processing apparatus
JP2001302228A (en) Method for producing hydrophobic silicon dioxide fine powder

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080919

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100707

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100803

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101214