JP2003144427A - X線ctシステム、操作コンソールおよびその制御方法、ならびにプログラム - Google Patents

X線ctシステム、操作コンソールおよびその制御方法、ならびにプログラム

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JP2003144427A
JP2003144427A JP2001340923A JP2001340923A JP2003144427A JP 2003144427 A JP2003144427 A JP 2003144427A JP 2001340923 A JP2001340923 A JP 2001340923A JP 2001340923 A JP2001340923 A JP 2001340923A JP 2003144427 A JP2003144427 A JP 2003144427A
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JP2001340923A
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Naoyuki Kawachi
直幸 河内
Masayasu Nukui
正健 貫井
Tetsuya Horiuchi
哲也 堀内
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GE Medical Systems Global Technology Co LLC
Original Assignee
GE Medical Systems Global Technology Co LLC
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 2つのリファレンスチャネルが同時にブロッ
クされた場合の悪影響を回避し、もって再構成されるX
線断層像の画質の劣化を抑えること。 【解決手段】 各ビュー(v)毎に、X線管の放射X線強
度を監視するための基準検出チャネルの出力(d(v, Lre
f)、d(v, Rref))が所定のしきい値(T・Lmax、T・Rma
x)を下回っているか否かを判断する判断し(S503, S50
5)、基準検出チャネルの出力(d(v, Lref)、d(v, Rre
f))がしきい値を下回っていると判断されたときにその
出力を所定値で置き換える補正を行う(S504, S506)。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、X線照射によって
被検体のX線断層像を得るX線CT(Computerized Tom
ography)システム、X線CTシステムにおける操作コ
ンソールおよびその制御方法、ならびにプログラムに関
する。
【0002】
【従来の技術】X線CTシステムは、テーブルに横たえ
た患者(被検体)に複数のビュー方向からX線を照射す
るスキャンを行い、被検体を透過した各ビュー方向から
のX線より得られる投影データに基づいて画像再構成処
理を行うことによって、診断部位の断層像を提供するも
のである。
【0003】図12Aは、スキャンのようすを示す模式
図である。被検体領域を覆うファンビームX線(一般に
30°から60°のファン角度を有する)を放射するX線管
31と、ファンの広がり方向に配された多数(例えば1,
000個)の検出チャネル(検出素子ともいう)を有し、
被検体(テーブル33に横たえられている)を挟んでX
線管31に対向して設けられたX線検出器32と、が一
体となって被検体の周りを回転運動する。この回転運動
中に、X線管31からファンビームX線を所定角度ごと
に曝射し、被検体を透過したX線をX線検出器32で検
出することによって投影データの収集が行われる。収集
された投影データは不図示の操作コンソールに転送さ
れ、所定の再構成演算によりX線断層像が提供されるこ
とになる。
【0004】ところで、X線発生源(X線管31)から
放射されるX線は、その強度や線質(スペクトル分布)
が時間的に変動したり、ファンビームにおいて空間的ま
たは時間的に一様でなかったりするため、これを補償す
る必要がある。これに対しては、放射X線強度を監視す
るためのリファレンス検出器を用いて放射X線強度の空
間的・時間的な変動を補償する技術(一般に「リファレ
ンス補正」とよばれる。)が従来より知られている。
【0005】従来より、図12Aに示すように、X線検
出部32の検出チャネルのうちの一端部に位置する検出
チャネル(例えば32a)がリファレンスチャネルとし
て使用される。
【0006】ここで、リファレンスチャネル32aで放
射X線強度を監視するためには、X線管31からリファ
レンスチャネルに向かうX線パスが被検体に遮られずに
(ブロックされずに)、X線が直接入射することが必要
である。通常は、スキャンに際して、回転中心が被検体
のスライス面のほぼ中央に位置するようにテーブル33
の高さを調整しさえすれば、リファレンスチャネルに向
かうX線が被検体にブロックされないように設計されて
いる。
【0007】しかし、例えば被検体の体格が大きい場合
には、あるビュー角度でリファレンスチャネルに向かう
X線パスがブロックされてしまう場合がある。ブロック
された場合にはリファレンスチャネルの出力をそのまま
リファレンスデータとして用いることはできない。
【0008】そこで、一般には、両端の検出チャネル3
2aおよび32bを共にリファレンスチャネルとして使
用することとし、両方のリファレンスチャネルの出力の
重み付け加算値をリファレンスデータとして用いること
で、いずれかのリファレンスデータのブロックによる出
力の落ち込みをリカバーするようにしている。
【0009】具体的には、リファレンスチャネル32a
の出力をL、32bの出力をRとすると、投影データが
収集されるごとに、例えばL/Rを計算する。そして、
L/Rの値に応じた重み付け係数w(L/R)を用いて、次式
によりリファレンスデータrefを算出する。
【0010】 ref = w(L/R)・L + (1-w(L/R))・R (1)
【0011】図13は、L/Rに対する重み付け係数w
(L/R)の関係の一例を示す図である。いずれのリファレ
ンスチャネルもがブロックされていない状態であれば、
L/Rの値は1に近い値となるから、重み付け係数w(L/
R)は0.5程度に設定されて、リファレンスデータrefはお
よそLとRとの平均値に近くなる。
【0012】一方、例えばリファレンスチャネル32a
がブロックされてLの値が落ち込んだ場合にはL/Rの
値は1未満の値となり、それに応じて重み付け係数w(L/
R)が0に近い値に設定される。これにより、リファレン
スチャネル32aのブロックの影響を小さくすることが
できる。
【0013】同様に、例えばリファレンスチャネル32
bがブロックされてRの値が落ち込んだ場合には、L/
Rの値は1以上の値となり、それに応じて、重み付け係
数w(L/R)が1に近い値に設定される。これにより、リフ
ァレンスチャネル32bのブロックの影響を小さくする
ことができる。
【0014】このように、従来は両方のリファレンスチ
ャネルの出力比に応じて、リファレンス補正のためのリ
ファレンスデータを生成するようにしていた。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
例においては、両方のリファレンスチャネルが同時にブ
ロックされてしまった場合を考慮していない。
【0016】図12Bは、図12Aに示した被検体に比
べて体格の大きい被検体をテーブル33に載置したよう
すを示している。ここで、被検体の体格が想定以上に大
きい場合には、ガントリの空洞部の大きさ等の関係でテ
ーブル33の位置を下げざるを得ず、その結果、図12
Bに示すように回転中心が被検体のスライス面の中央に
位置させることができない場合がある。
【0017】この場合、たとえ初期の投影角度(例えば
X線管31が真上にある状態)付近においてはリファレ
ンスチャネル32a、32bに向かうX線パスが被検体
にブロックされていなかったとしても、図12Cに示す
ように、例えば投影角度180°付近ではリファレンスチ
ャネル32a、32bが同時にブロックされてしまう、
という事態が起こりうる。
【0018】そして、リファレンスチャネル32a、3
2bが同時にブロックされたときの両方のリファレンス
チャネルの出力比は、いずれのリファレンスチャネルも
がブロックされていないときと同様に1に近い値とな
り、リファレンスデータは両方のリファレンスチャネル
の出力の平均値あたりに設定されることになる。そのた
め、リファレンス補正が正しく行われず、再構成される
X線断層像の画質が劣化するという問題がある。
【0019】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであり、2つのリファレンスチャネルが同時にブロッ
クされた場合の悪影響を回避し、もって再構成されるX
線断層像の画質の劣化を抑えることを目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するた
め、例えば本発明のX線CTシステムは以下の構成を備
える。すなわち、X線発生源からのX線を複数のビュー
方向から被検体に照射し、それぞれの透過X線を複数の
検出チャネルを有するX線検出部で検出することで投影
データを収集するスキャンを行うX線CTシステムであ
って、前記複数の検出チャネルのうちの一端側に位置す
る第1の検出チャネルおよび他端側に位置する第2の検
出チャネルそれぞれの出力に基づいて各ビューのリファ
レンスデータを生成する生成手段と、生成された前記リ
ファレンスデータの、所定数のビューにわたる変動の低
周波成分を抽出する抽出手段と、抽出された前記低周波
成分が所定値を下回っているか否かを判断する判断手段
と、前記低周波成分が前記所定値を下回っていると判断
したときは、前記リファレンスデータを、前記低周波成
分に対応する高周波成分を用いて補正する補正手段と、
を備えることを特徴とする。
【0021】
【発明の実施の形態】(実施形態1)図1は、本実施形
態におけるX線CTシステムのブロック構成図である。
図示の如く、本システムは、被検体へのX線照射と被検
体を透過したX線を検出するためのガントリ装置100
と、ガントリ装置100に対して各種動作設定を行うと
ともに、ガントリ装置100から出力されてきたデータ
に基づいてX線断層像を再構成し、出力(表示)する操
作コンソール200により構成されている。
【0022】ガントリ装置100は、その全体の制御を
司るメインコントローラ1を始め以下の構成を備える。
【0023】2aおよび2bは操作コンソール200と
の通信を行うためのインタフェース、3はテーブル11
上に横たえた被検体(患者)を図面に垂直な方向(以
下、z軸といい、一般に患者の体軸の方向と一致する)
に搬送するための空洞部を有するガントリであり、その
内部には、X線発生源であるX線管4(X線管コントロ
ーラ5により駆動が制御される)、X線の照射範囲を制
限するための開口を有するコリメータ6、コリメータ6
のz軸方向の開口幅を調整するための開口制御モータ7
(開口制御モータドライバ8により駆動が制御される)
が設けられている。
【0024】また、ガントリ3には、コリメータ6およ
び空洞部を経由してきたX線管4からのX線を検出する
X線検出部14、および、X線検出部14より得られた
投影データを収集するデータ収集部15も備える。X線
管4およびコリメータ6とX線検出部14とは、互いに
空洞部を挟んで、すなわち、被検体を挟んで、対向する
位置に設けられ、その関係が維持された状態で空洞部の
周りを回転するようになっている。この回転は、回転モ
ータドライバ10からの駆動信号により駆動される回転
モータ9によって行われる。また、被検体を乗せるテー
ブル11は、z軸方向への搬送がなされるが、その駆動
は、テーブルモータドライバ13からの駆動信号により
駆動されるテーブルモータ12によって行われる。
【0025】メインコントローラ1は、インタフェース
2aを介して受信した各種コマンドの解析を行い、それ
に基づいて上記のX線管コントローラ5、開口制御モー
タドライバ8、回転モータドライバ10、テーブルモー
タドライバ13、およびデータ収集部15に対し、各種
制御信号を出力することになる。
【0026】データ収集部15で収集されたデータは、
インタフェース2bを介して操作コンソール200に送
出される。
【0027】一方、操作コンソール200は、いわゆる
ワークステーションであり、図示するように、装置全体
の制御を司るCPU51、ブートプログラム等を記憶し
ているROM52、主記憶装置として機能するRAM5
3を始め、以下の構成を備える。
【0028】HDD54は、ハードディスク装置であっ
て、ここにOSのほか、ガントリ装置100に各種指示
を与えたり、ガントリ装置100より受信したデータに
基づいてX線断層像を再構成するための画像再構成プロ
グラムが格納されている。また、VRAM55は表示し
ようとするイメージデータを展開するメモリであり、こ
こにイメージデータ等を展開することでCRT56に表
示させることができる。57および58は、各種設定を
行うためのキーボードおよびマウスである。また、59
および60はガントリ装置100と通信を行うためのイ
ンタフェースであり、それぞれガントリ装置100のイ
ンタフェース2aおよび2bに接続される。
【0029】図2は、ガントリ装置100におけるX線
管4、コリメータ6、テーブル11、およびX線検出部
14を示す模式図である。
【0030】図示の如く、コリメータ6によって、X線
管4から放射されたX線より、所定のX線照射角(ファ
ン角)のファンビームが形成される。実施形態における
ファン角は、例えば、60°であるとする。上記したX線
検出部14は、ファン角に依存した長さにわたるQ個
(例えば、Q=1,000)の検出チャネルを有し、一列の検
出器を形成している。実施形態ではX線検出部14は一
列の検出器を有するものとするが、検出器をz軸方向に
複数列配し、マトリクス状の検出チャネル群を形成す
る、いわゆるマルチスライス型のX線検出部であっても
よい。
【0031】このX線検出部14において、Q個の検出
チャネルのうちの紙面に対して左端部の検出チャネルLr
ef(例えば、第0チャネル)、および、右端部の検出チ
ャネルRref(例えば、第Q-1チャネル)は、X線量補正
のためのX線量変動の監視等を行うリファレンスチャネ
ルとして使用される。
【0032】本実施形態におけるX線CTシステムの構
成は概ね上記のとおりである。かかる構成のX線CTシ
ステムにおいて、投影データの収集は次のように行われ
る。
【0033】まず、被検体をガントリ3の空洞部に位置
させた状態でz軸方向の位置を固定し、X線管4からの
X線ビームを被検体に照射し(X線の投影)、その透過
X線をX線検出部14で検出する。そして、この透過X
線の検出を、X線管4とX線検出部14を被検体の周囲
を回転させながら(すなわち、投影角度(ビュー角度)
を変化させながら)複数N(例えば、N=1,000)のビュー
方向で、360度分行う。検出された各透過X線は、デー
タ収集部15でディジタル値に変換されて投影データと
してインタフェース2bを介して操作コンソール200
に転送される。これら一連の工程を1つの単位として1
スキャンとよぶ。そして、順次z軸方向にスキャン位置
を所定量移動して、次のスキャンを行っていく。このよ
うなスキャン方式はアキシャルスキャン方式とよばれる
が、投影角度の変化に同期してテーブル11を所定速度
で移動させることでスキャン位置を移動させながら(X
線管4とX線検出部14とが被検体の周囲をらせん状に
周回することになる)投影データを収集する、ヘリカル
スキャン方式であってもよい。操作コンソール200
は、転送された投影データに基づいて、X線断層画像を
再構成し、CRT56に表示出力する。
【0034】本実施形態は、X線断層像の再構成に先立
ち、リファレンスチャネルLrefおよび/またはRrefがブ
ロックされた場合に、そのリファレンスチャネルの出力
を補正する処理を含む。
【0035】図3は、本実施形態における操作コンソー
ル200の処理の概要を示すフローチャートである。こ
のフローチャートに対応するプログラムは、操作コンソ
ール200のハードディスク54に画像再構成プログラ
ムとして格納され、電源投入後、RAM53にロードさ
れ、CPU51により実行されるものである。
【0036】まず、スキャン計画を立てる(ステップS
1)。一般には、画像再構成プログラムが提供するGU
I(CRT56に設定画面が表示され、キーボード57
および/またはマウス58を用いて入力することを可能
にするユーザインタフェース)を介して、諸種のスキャ
ン条件(スライス厚、スキャン開始/終了位置、X線管
4に与える電流値、ガントリ3の回転速度等)が設定さ
れることになる。このスキャン計画そのものは公知のも
のであるので、その詳細は省略する。設定されたスキャ
ン条件はRAM53に記憶される。
【0037】次のステップS2では、スキャン開始指示
がなされたか否かをキーボード57またはマウス58の
入力に基づき判断する。スキャン開始指示がなされる
と、ステップS1で設定したスキャン条件をパラメータ
とするスキャン開始指令をガントリ装置100に送信
し、ガントリ装置100にスキャンを行わせる。
【0038】そして、ステップS3で、そのスキャンに
よってガントリ装置100からのデータを受信し、ステ
ップS4で、受信データが終了したかどうかを監視して
いる。
【0039】ステップS5では、受信した投影データか
ら、リファレンスチャネルLref、Rrefの出力補正を行う
(詳細は後述する。)。
【0040】ステップS6では、従来と同様の手法で、
補正されたリファレンスチャネルLref、Rrefの出力に基
づきリファレンス補正のためのリファレンスデータを生
成する。
【0041】ステップS7では、リファレンス補正、線
質硬化(Beam Hardning)補正、X線検出器の物理特性
の補正等を含む、所定の前処理を行う。
【0042】ステップS8では、フィルタード・バック
プロジェクション等の所定のアルゴリズムに従って画像
再構成処理を実施して被検体のX線断層像を生成し、ス
テップS9で、CRT56にそのX線断層像を表示出力
する。
【0043】以上が、実施形態における操作コンソール
200の処理の概要である。
【0044】次に、上記ステップS5のリファレンスチ
ャネルLref、Rrefの出力の補正処理について説明する。
本実施形態は、各ビューにおけるリファレンスチャネル
Lref、Rrefそれぞれの出力が、当該ビューの直前のビュ
ーまでの最大値から所定の割合を下回った場合に、当該
ビューにおけるリファレンスチャネルの出力を所定の値
に置き換えることで補正するものである。以下、図4の
フローチャートを用いて詳しく説明する。
【0045】まず、ステップS501で、ビュー番号
(ビュー角度に対応する)を示す変数vを0に初期化す
る。
【0046】次に、ステップS502で、第vビューで
のリファレンスチャネルLrefの出力d(v, Lref)を、各ビ
ューでのリファレンスチャネルLrefの出力の最大値を示
すLmaxとして設定する。同様に、第vビューでのリファ
レンスチャネルRrefの出力d(v,Rref)を、各ビューでの
リファレンスチャネルRrefの出力の最大値を示すRmaxと
して設定する。なお、本明細書では特に明示しない限
り、記号「=」は右辺の値を左辺に代入することを意味
するものとする。
【0047】続くステップS503では、Lmaxに対する
d(v, Lref)の割合が所定のしきい値T(例えば0.9)よ
り小さいか否かを判定する。ここで、Lmaxに対するd(v,
Lref)の割合がしきい値Tより小さくないときはそのま
まステップS505に進む。一方、Lmaxに対するd(v, L
ref)の割合がしきい値Tより小さい場合には、当該ビュ
ーvでリファレンスチャネルLrefがブロックされたと判
断してステップS504に進み、このときのd(v, Lref)
を、所定値(例えば、当該第vビューの直前のビューま
での最大値であるLmax)で置き換えたのち、ステップS
505に進む。
【0048】ステップS505では、ステップS503
と同様に、Rmaxに対するd(v, Rref)の割合がしきい値T
より小さいか否かを判定する。ここで、Rmaxに対するd
(v, Rref)の割合がしきい値Tより小さくないときはそ
のままステップS507に進む。一方、Rmaxに対するd
(v, Rref)の割合がしきい値Tより小さい場合には、当
該ビューvでリファレンスチャネルRrefがブロックされ
たと判断してステップS506に進み、このときのd(v,
Rref)を所定値(例えば、当該第vビューの直前のビュ
ーまでの最大値であるRmax)で置き換えたのち、ステッ
プS507に進む。
【0049】ステップS507〜S510では、現在の
ビューvまでにおけるリファレンスチャネルLrefおよびR
refそれぞれの最大値の更新を行う。
【0050】まず、d(v, Lref)がLmaxより大きいか否か
を判断し(ステップS507)、この条件を満たす場合
にはこのときのd(v, Lref)をLmaxに設定する(ステップ
S508)。また、d(v, Rref)がRmaxより大きいか否か
を判断し(ステップS509)、この条件を満たす場合
にはこのときのd(v, Rref)をRmaxに設定する(ステップ
S510)。
【0051】そして、ステップS511で、vをインク
リメントして、ステップS512で、vが1回転のビュ
ーの総数N未満であるか否かを判断する。vがN未満であ
ればステップS503に戻って処理を繰り返す。vがN未
満でなくなれば、最後の第N-1ビューまで処理を終えた
ことになるので、このステップS5の処理を抜ける。
【0052】以上の処理によれば、2つのリファレンス
チャネルの出力比を用いずに、各リファレンスチャネル
毎に単独で、各ビュー毎にそのリファレンスチャネルが
ブロックされたかどうかを判断し、ブロックされたと判
断したときにはそのリファレンスチャネルの出力を所定
の値で置き換えるようにしたので、2つのリファレンス
チャネルが同時にブロックされたことによる悪影響を小
さくすることができる。よって、スキャン中に2つのリ
ファレンスチャネルが同時にブロックされたとしても、
それによる断層像の画質の劣化を抑えることが可能にな
る。
【0053】(実施形態2)上述した実施形態1は、図
3のフローチャートのステップS5において、各ビュー
毎にそのリファレンスチャネルがブロックされたかどう
かを判断し、ブロックされたと判断したときにはそのリ
ファレンスチャネルの出力を一定の値で置き換えるもの
であったが、本実施形態では、一定値ではなく、より実
際に近い値で補正を行う。
【0054】本実施形態におけるX線CTシステムのハ
ードウェア構成は実施形態1と同様であるので、図1お
よび図2をそのまま適用する。
【0055】図5は、本実施形態における操作コンソー
ル200の処理の概要を示すフローチャートである。こ
のフローチャートに対応するプログラムは、操作コンソ
ール200のハードディスク54に画像再構成プログラ
ムとして格納され、電源投入後、RAM53にロードさ
れ、CPU51により実行されるものである。
【0056】まず、ステップS10で、スキャン計画を
立て、次のステップS11で、スキャン開始指示がなさ
れたか否かをキーボード57またはマウス58の入力に
基づき判断する。スキャン開始指示がなされると、ステ
ップS10で設定したスキャン条件をパラメータとする
スキャン開始指令をガントリ装置100に送信し、ガン
トリ装置100にスキャンを行わせる。
【0057】そして、ステップS12で、そのスキャン
によってガントリ装置100からのデータを受信し、ス
テップS13で、受信データが終了したかどうかを監視
している。
【0058】ステップS14では、受信した投影データ
のうち、リファレンスチャネルLref、Rrefのデータに基
づき、リファレンスデータを生成する。その方法は従来
と同様の方法を適用することができるが、一例を後述す
ることにする。
【0059】ステップS15では、リファレンスチャネ
ルLref、Rrefが同時にブロックされたことによって、ス
テップS14で生成されたリファレンスデータに含まれ
得る不正確なデータを補償するための補正処理を行う。
その具体的な方法は後述する。
【0060】ステップS16では、リファレンス補正、
線質硬化(Beam Hardning)補正、X線検出器の物理特
性の補正等を含む、所定の前処理を行う。
【0061】ステップS17では、フィルタード・バッ
クプロジェクション等の所定のアルゴリズムに従って画
像再構成処理を実施して被検体のX線断層像を生成し、
ステップS18で、CRT56にそのX線断層像を表示
出力する。
【0062】以上が、本実施形態における操作コンソー
ル200の処理の概要である。
【0063】図6は、上記ステップS14における、本
実施形態のリファレンスデータの生成処理の詳細を示す
フローチャートである。本ステップでは、従来と同様
に、両方のリファレンスチャネルLrefおよびRrefの出力
の重み付け加算値をリファレンスデータとする。
【0064】まず、ステップS1401で、ビュー番号
を示す変数vを0に初期化する。
【0065】次に、ステップS1402で、重み付け係
数Wを算出する。重み付け係数Wは、第vビューにおけるL
refの出力d(v, Lref)と第vビューにおけるRrefの出力d
(v, Rref)との比d(v, Lref)/d(v, Rref)を計算し、例え
ば図13に示した関係から導き出す。そして、導出され
たWを用いて、次式により第vビューにおけるリファレン
スデータref(v)を算出する。
【0066】 ref(v) = W・d(v, Lref) + (1-W)・d(v, Rref) (2)
【0067】従来の技術の項で説明したように、図13
の関係によれば、どちらのリファレンスチャネルもがブ
ロックされていない状態であれば、d(v, Lref)/d(v, Rr
ef)は1に近い値をとるから、重み付け係数Wは0.5程度
に設定されて、リファレンスデータref(v)はd(v, Lref)
とd(v, Rref)との平均値に近くなる。
【0068】一方、例えばリファレンスチャネルLrefが
ブロックされてd(v, Lref)が落ち込んだ場合にはd(v, L
ref)/d(v, Rref)の値は1未満の値となり、それに応じ
て重み付け係数Wが0に近い値に設定される。これによ
り、リファレンスチャネルLrefのブロックの影響を小さ
くすることができる。
【0069】同様に、例えばリファレンスチャネルRref
がブロックされてd(v, Rref)の値が落ち込んだ場合に
は、d(v, Lref)/d(v, Rref)の値は1以上の値となり、
それに応じて、重み付け係数Wが1に近い値に設定され
る。これにより、リファレンスチャネルRrefのブロック
の影響を小さくすることができる。
【0070】このように、両方のリファレンスチャネル
の出力比に応じてリファレンスデータが生成される。
【0071】しかし、ステップS14においては、先述
したとおり、両方のリファレンスチャネルが同時にブロ
ックされてしまった場合にそのまま生成された不正確な
リファレンスデータを含んでいる可能性がある。そこ
で、本実施形態では、ステップS15のリファレンスデ
ータ補正処理が適用される。
【0072】図7は、上記ステップS15における、本
実施形態のリファレンスデータの補正処理の詳細を示す
フローチャートである。
【0073】この処理は、初期ビューである第0ビュー
の次の第1ビューから開始する(ステップS150
1)。
【0074】ステップS1502では、各ビューでのリ
ファレンスデータrefの出力の最大値を示すmaxおよび、
第vビューにおけるリファレンスデータrefの所定数のビ
ューにわたる出力変動の低周波成分を表すs(v)のそれぞ
れに、第vビューでのリファレンスデータrefの出力ref
(v)の値を設定する。
【0075】ステップS1503では、次式により出力
変動の低周波成分s(v)を設定する。
【0076】 s(v) = f・s(v-1) + (1-f)・ref(v) (3)
【0077】ただし、fは低周波成分を得るための係数
であり、0〜1のいずれかの値が設定される。fの値を
大きくとると、より低周波の成分を取り出すことができ
るが、もとの出力変動データに対する追従性が劣ること
になる。一方、fの値を小さくすれば、追従性は向上す
るものの、高周波成分が入り込むことになる。このよう
なトレードオフを考慮して、f=0.7程度に設定すること
が好ましい。
【0078】この演算操作は、移動平均により出力変動
を平滑化するものであるともいえる。ここでは、1つ手
前のビューにおけるデータのみを用いて移動平均をとる
ことにしたが、過去の複数のビューにおけるデータを用
いて移動平均をとることで低周波成分を抽出するように
してもよい。
【0079】次に、ステップS1504で、s(v)がmax
に所定の係数T(例えばT=0.9)を乗じた値(T・max)よ
り小さいかどうかを判断することで、2つのリファレン
スチャネルLrefおよびRrefが同時にブロックされたか否
かを判定する。ここで、s(v)<T・maxを満たさないとき
は、そのままステップS1507に進む。一方、s(v)<
T・maxを満たすときは、当該第vビューでリファレンス
チャネルLrefおよびRrefが同時にブロックされたと判断
してステップS1505に進み、maxとref(v)との比率m
ax/ref(v)を変数ratioに設定する。そして、次のステッ
プS1506で、次式によりref(v)を補正する。
【0080】 ref(v)=T・max + ratio・(ref(v)-s(v)) (4)
【0081】式(4)右辺第2項の ref(v)-s(v) は、リフ
ァレンスデータref(v)から低周波成分s(v)を減じること
でref(v)の高周波成分を求めることを表す。つまり、式
(4)によって、リファレンスチャネルLrefおよびRrefが
同時にブロックされたときのリファレンスデータref(v)
が、両方のリファレンスチャネルが同時にブロックされ
たか否かの判断基準値T・maxに高周波成分を重畳した値
で補正されることになる。
【0082】ステップS1507では、現在のビューv
までにおけるリファレンスデータref(v)の最大値の更新
を行う。すなわち、ref(v)がmaxより大きいか否かを判
断し、この条件を満たす場合には、ステップS1508
に進み、このときのref(v)をmaxに設定する。
【0083】そして、ステップS1509で、vをイン
クリメントして、ステップS1510で、vが1回転の
ビューの総数N未満であるか否かを判断する。vがN未満
であればステップS1503に戻って処理を繰り返す。
vがN未満でなくなれば、最後の第N-1ビューまで処理を
終えたことになるので、このステップS5の処理を抜け
る。
【0084】以上の処理によれば、まず、リファレンス
チャネルの複数ビューわたる出力変動の低周波成分、す
なわち平滑化された出力変動に対するしきい値判定によ
り両側のリファレンスチャネルが同時にブロックされた
かどうかを判定するので、安定した判定を行うことがで
きる。
【0085】また、両側のリファレンスチャネルが同時
にブロックされた場合には、そのときのリファレンスチ
ャネルの出力を、出力変動の高周波成分を用いて補正す
るようにしたので、より実際に近い値で補正され、これ
により断層像の画質の劣化をさらに抑えることが可能に
なる。
【0086】(実施形態3)ヘリカルスキャンの場合、
目的のスライス位置における投影データは1つの投影角
度におけるデータしか収集されないため、そのスライス
位置の投影データを補間して得る必要がある(ヘリカル
補間)。ヘリカル補間の手法としては、対向ビームの投
影データ(以下、「対向データ」という。)を用いた重
み付け加算を行うものが知られている。
【0087】ところで、マルチスライスのヘリカルスキ
ャンの場合、ヘリカル補間は隣接する検出器列の投影デ
ータをも用いて行われることになる。ここで、隣接する
検出器列における投影データ収集の開始ビュー角度が相
違するので、重みのかかり具合が検出器列によって異な
る。その結果、2つのリファレンスチャネルがブロック
された場合、ブロックされたビューにおけるリファレン
スチャネルの出力の重みが大きくなる場合と小さくなる
場合が存在し、そのようなデータでもって再構成された
各断層像のCT値は規則的にシフトするという問題があ
る。
【0088】本実施形態は、2つのリファレンスチャネ
ルがブロックされた場合のヘリカル補間に用いる重み付
け係数を調整することにより、上記の問題点を解消す
る。
【0089】本実施形態におけるX線CTシステムのハ
ードウェア構成は、実施形態1と同様であるので、図1
および図2をそのまま適用する。ただし、X線検出部1
4は検出器をz軸方向にたとえば2列配したマルチスラ
イス型のX線検出部とし、また、スキャンはヘリカルス
キャンにより行うものとする。
【0090】図8は、本実施形態における操作コンソー
ル200の処理の概要を示すフローチャートである。こ
のフローチャートに対応するプログラムは、操作コンソ
ール200のハードディスク54に画像再構成プログラ
ムとして格納され、電源投入後、RAM53にロードさ
れ、CPU51により実行されるものである。
【0091】まず、スキャン計画を立ててスライス厚等
のスキャン条件を設定する(ステップS21)。設定さ
れたスキャン条件はRAM53に記憶される。
【0092】次のステップS22では、スキャン開始指
示がなされたか否かをキーボード57またはマウス58
の入力に基づき判断する。スキャン開始指示がなされる
と、ステップS21で設定したスキャン条件をパラメー
タとするスキャン開始指令をガントリ装置100に送信
し、ガントリ装置100にスキャンを行わせる。
【0093】そして、ステップS23で、そのスキャン
によってガントリ装置100からのデータを受信し、ス
テップS24で、受信データが終了したかどうかを監視
している。
【0094】ステップS25では、リファレンス補正、
線質硬化(Beam Hardning)補正、X線検出器の物理特
性の補正等を含む、所定の前処理を行う。
【0095】続いて、ステップS26で、リファレンス
チャネルLref、Rrefが同時にブロックされた時のビュー
を検出し、ステップS27で、検出されたビューの投影
データの重み付けを調整しつつヘリカル補間を行う。こ
のステップS26およびS27の詳細は後述する。
【0096】ステップS28では、フィルタード・バッ
クプロジェクション等の所定のアルゴリズムに従って画
像再構成処理を実施して被検体のX線断層像を生成し、
ステップS29で、CRT56にそのX線断層像を表示
出力する。
【0097】以上が、実施形態における操作コンソール
200の処理の概要である。
【0098】次に、上記ステップS26の、リファレン
スチャネルLref、Rref共にブロックされた時のビューを
検出する処理について説明する。
【0099】被検体の体格が想定以上に大きい場合に
は、ガントリ3の空洞部の大きさ等の関係でテーブル1
1の位置を下げることになるので、たとえ初期の投影角
度(X線管4が真上にある状態)付近においてリファレ
ンスチャネルLref、Rrefそれぞれに向かうX線が被検体
にブロックされていなかったとしても、投影角度180°
付近ではリファレンスチャネルLref、Rrefが同時にブロ
ックされてしまう、という事態が起こりうることは、先
に図12B、図12Cを用いて説明したとおりである。
本実施形態では、このように投影角度180°付近でリフ
ァレンスチャネルLref、Rrefが同時にブロックされてし
まう可能性が高いことを利用してLref、Rrefが同時にブ
ロックされた時のビューを検出する。
【0100】以下、スキャン中にリファレンスチャネル
Lref、Rref共にブロックされてしまう場合の状態変化
を、図11を用いて詳しく説明する。図11において、
(a)は投影角度に対するLref、Rrefそれぞれの出力を
示すグラフ、(b)は(a)の関係におけるLrefの出力
LとRrefの出力Rの比率L/Rを示すグラフである。た
だし、この場合、ガントリの回転方向は、図12Aに示
すとおりの時計回りであるとする。また、X線管が最も
高い位置にあるときの投影角度を0°とする。
【0101】(1)の範囲では、両方のリファレンスチ
ャネルは共にブロックされることなく、適正出力が確保
されている。そのため、出力比L/Rはほぼ1の値を維
持する。
【0102】その後、(2)の領域に入ると、まず一方
のリファレンスチャネル(この例ではRref)がブロック
されてその出力が落ち込み、その後、ある程度の角度遅
れをもって他方のリファレンスチャネル(この例ではLr
ef)もブロックされてその出力が落ち込んでいく。この
場合の出力比L/Rは、Rrefがブロックされるにつれて
いったん1以上の値に上昇し、その後Lrefもブロックさ
れていくに従って再びほぼ1に近づいていく、という推
移を示す。
【0103】そして、Rref、Lrefが同時にブロックされ
た(3)の範囲では、(1)の範囲と同様に出力比L/
Rはほぼ1の値を維持することになる。
【0104】回転がさらに進み、(4)の領域にはいる
と、(2)の領域で先に出力が落ち込んだリファレンス
チャネル(この例ではRref)がブロックされなくなるこ
とでその出力が回復し、その後、同様の角度遅れをもっ
て他方のリファレンスチャネル(この例ではLref)もブ
ロックされなくなりその出力が回復していく。この場合
の出力比L/Rは、Rrefのブロック状態から解放されて
いくにつれて1未満の値に下降し、その後Lrefのブロッ
ク状態も解放されていくに従って再びほぼ1に近づいて
いく、という推移を示す。
【0105】そして、Rref、Lref共にブロック状態か
ら完全に解放された状態の(4)の範囲では、(1)の
範囲と同様に出力比L/Rはほぼ1の値を維持すること
になる。
【0106】2つのリファレンスチャネルが共にブロッ
クされてしまう場合には、概ねこのような状態変化を示
す。
【0107】そうすると、0〜180°の範囲のビューに
おいて出力比L/Rが1以上のある値を超えるビューN1
が存在し、なおかつ、180〜360°の範囲のビューにおい
て出力比L/Rが1未満のある値を下回るビューN2が存
在する場合には、N1とN2の間のビューでは2つのリファ
レンスチャネルが同時にブロックされたと判断すること
ができる。
【0108】図9は、かかる考え方に基づき実現した、
ステップS26の処理の詳細の一例を示すフローチャー
トである。
【0109】まず、ステップS2601で、ビュー番号
を示す変数vを0に初期化する。
【0110】次に、ステップS2602で、第vビュー
でのリファレンスチャネルRrefの出力d(v, Rref)とLref
の出力d(v, Lref)との比率rを計算する。そして、ステ
ップS2603で、rが所定のしきい値1+T(例えばT=0.
8とする)より大きいか否かを判断する。
【0111】rがしきい値1+Tより大きくないときはステ
ップS2604に進み、vをインクリメントして、ステ
ップS2605で、vがN/2未満であるか否かを判断す
る。ただし、Nは1回転のビュー総数であり、N/2は投影
角度180°に対応するビューを示す。vがN/2未満であれ
ばステップS2602に戻って処理を繰り返す。vがN/2
未満でなくなれば、0〜180°の範囲のビューにおいて
出力比rが1+Tを超えるビューN1が存在しなかった、すな
わち、2つのリファレンスチャネルが同時にブロックさ
れることはなかった、と判断して、この処理を抜ける。
【0112】一方、ステップS2603において、rが
しきい値1+Tより大きいときはステップS2606に進
み、vがN/2未満であるか否かを判断する。この判断条件
を満たすときはステップS2607に進み、現在のビュ
ーvをN1として設定する。また、ステップS2606の
判断を満たさないときはステップS2604に進む。
【0113】次に、ステップS2608で、vをN/2に設
定した後、ステップS2609で、出力比rを計算す
る。そして、ステップS2610で、rが所定のしきい
値1-Tを下回っているか否かを判断する。
【0114】rが1-T未満でないときはステップS261
1に進み、vをインクリメントして、ステップS261
2で、vがN未満であるか否かを判断する。vがN未満であ
ればステップS2609に戻って処理を繰り返す。vがN
未満でなくなれば、180〜360°の範囲のビューにおい
て出力比rが1-Tに満たないビューN2が存在しなかった、
すなわち、2つのリファレンスチャネルが同時にブロッ
クされることはなかった、と判断される。そこで、ステ
ップS2613で、2つのリファレンスチャネルが同時
にブロックされたことを示すフラグBROを0に設定した
後に、この処理を抜ける。
【0115】一方、ステップS2610で、rが1-Tを下
回っていると判断されたときは、ステップS2614に
進み、現在のビューvをN2として設定し、ステップS2
615で、フラグBROを1に設定して、この処理を抜け
る。
【0116】以上の図9のフローチャートに従う処理に
より、2つのリファレンスチャネルが同時にブロックさ
れた場合には、その2つのリファレンスチャネルが同時
にブロックされた時の開始ビューN1および終了ビューN2
が設定される。
【0117】図10は、ステップS27におけるヘリカ
ル補間の処理の一例を示すフローチャートである。
【0118】まず、ステップS2701で、ビュー番号
を示す変数vを0に初期化する。
【0119】次に、ステップS2702で、ステップS
26で設定された、2つのリファレンスチャネルが同時
にブロックされたビューが存在することを示すフラグBR
Oの値が0より大きいか否かをチェックする。さらに、
ステップS2703では、第vビューが、ステップS2
6で設定されたN1からN2までの範囲内のビューであるか
否かを判断する。
【0120】ここで、ステップS2702およびS27
03の判断条件を共に満たさない場合は、ステップS2
704に進み、従来どおりのヘリカル補間を行う。一
方、ステップS2702およびS2703の判断条件を
共に満たす場合には、ステップS2709に進み、2つ
のリファレンスチャネルが同時にブロックされたことに
よる悪影響を避けるために調整された重み付け係数を用
いたヘリカル補間を行う。
【0121】まず、ステップS2704〜S2708で
行われるヘリカル補間を説明する。
【0122】ステップS2704では、第vビューにお
けるz軸位置z(v)の注目スライス位置Zに対する距離
に応じた重み付け係数w(Z-z(v))を、ヘリカル重み付け
係数Whe ricalとして設定する。
【0123】次に、ステップS2705で、X線検出部
14における検出チャネルのチャネル番号を示す変数ch
を0に初期化する。
【0124】そして、ステップS2706で、ヘリカル
補間データを計算する。第vビューにおける第chチャネ
ルのヘリカル補間データd'(v, ch)は、例えば次式の対
向データを用いた重み付け加算により計算される。
【0125】 d'(v, ch) = Wherical・d(v, ch) + (1-Wherical)・d(v', ch') (6) ただし、d(v', ch')は、d(v, ch)の対向データを示す。
【0126】次に、ステップS2707でchをインクリ
メントし、ステップS2708で、chがチャネル総数Q
未満であるか否かを判断する。chがQ未満であればステ
ップS2706に戻って処理を繰り返し、chがQ未満で
なくなったときに、ステップS2714に進む。
【0127】ステップS2709〜S2713で行われ
るヘリカル補間を説明する。
【0128】ステップS2709では、重み付け係数W
BROを0に設定する。なお、ここでWB ROを0としたのは
一例であって、2つのリファレンスチャネルが同時にブ
ロックされたことによる悪影響を回避するのに十分な、
小さな値であればよい。好ましくは、WBROは、当該ビュ
ーにおいて2つのリファレンスチャネルが同時にブロッ
クはされなかったとした場合における重み付け係数W
hericalよりも小さい値に調整される。
【0129】次に、ステップS2710で、X線検出部
14における検出チャネルのチャネル番号を示す変数ch
を0に初期化する。
【0130】そして、ステップS2711で、ヘリカル
補間データを計算する。第vビューにおける第chチャネ
ルのヘリカル補間データd'(v, ch)は、例えば次式の重
み付け加算により計算される。
【0131】 d'(v, ch) = WBRO・d(v, ch) + (1-WBRO)・d(v', ch') (7)
【0132】WBROは小さな値(本実施形態では0)に設
定されるから、ほぼ対向データそのものの値がヘリカル
補間データとして使用されることが理解されよう。
【0133】次に、ステップS2712でchをインクリ
メントし、ステップS2713で、chがチャネル総数Q
未満であるか否かを判断する。chがQ未満であればステ
ップS2711に戻って処理を繰り返し、chがQ未満で
なくなったときに、ステップS2714に進む。
【0134】ステップS2714では、vをインクリメ
ントして、ステップS2715で、vが1回転のビュー
の総数N未満であるか否かを判断する。vがN未満であれ
ばステップS2702に戻って処理を繰り返す。vがN未
満でなくなれば、最後の第N-1ビューまで処理を終えた
ことになるので、この処理を抜ける。
【0135】以上説明した本実施形態によれば、2つの
リファレンスチャネルが同時にブロックされた場合のヘ
リカル補間に用いる重み付け係数を非常に小さな値に調
整するので、2つのリファレンスチャネルが同時にブロ
ックされたときのデータを用いることによる画質への悪
影響を抑えることができる。
【0136】なお、上述したヘリカル補間は、一例とし
て対向データを用いて行うものを示したが、例えば、隣
接する同位相のデータを用いて行う補間(360°データ
補間)等、他の補間手法にも適用が可能である。
【0137】また、ステップS2711におけるヘリカ
ル補間は、上記(5)式のかわりに、例えは次式で示され
るような、注目投影データおよびその対向データそれぞ
れの高周波成分と、対向データの低周波成分とを用いた
補間式を適用することも考えられる。
【0138】 d'(v, ch) = (1-WBRO)・Lowpass(d(v', ch')) + Wherical・Highpass(d(v, ch )) + (1-Wherical)・Highpass(d(v', ch')) (8)
【0139】ただし、Lowpass(d(v', ch')) は、対向デ
ータd(v', ch')をローパスフィルタに通過させて得られ
た低周波成分、Highpass(d(v, ch)) は、注目投影デー
タd(v, ch)をハイパスフィルタに通過させて得られた高
周波成分、Highpass(d(v', ch'))は、対向データd(v',
ch')をハイパスフィルタに通過させて得られた高周波成
分を表す。
【0140】このように、2つのリファレンスチャネル
が同時にブロックされたときの投影データを一律に抑圧
するのではなく、その高周波成分のみに対して、従来ど
おりのヘリカル補間を適用することで、より高精度の補
間が期待できる。
【0141】なお、実施形態におけるX線CTシステム
の制御のほとんどは操作コンソール200において行っ
た。操作コンソール200の構成自体は、汎用の情報処
理装置(ワークステーションやパーソナルコンピュータ
等)で実現できるものであるので、ソフトウェアを同装
置にインストールし、それでもって実現することが可能
である。
【0142】したがって、本発明の機能処理をコンピュ
ータで実現するためにそのコンピュータにインストール
されるプログラムコード自体も本発明を実現するもので
ある。つまり、本発明の特許請求の範囲には、本発明の
機能処理を実現するためのコンピュータプログラム自体
も含まれる。
【0143】プログラムを供給するための記憶媒体とし
ては、例えば、フロッピー(登録商標)ディスク、光デ
ィスク(CD-ROM、CD-R、CD-RW、DVD等)、光磁気ディス
ク、磁気テープ、メモリカード等がある。
【0144】その他、プログラムの供給方法としては、
インターネットを介して本発明のプログラムをファイル
転送によって取得する態様も含まれる。
【0145】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
2つのリファレンスチャネルが同時にブロックされた場
合の悪影響を回避し、もって再構成されるX線断層像の
画質の劣化を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態におけるX線CTシステムのブロック
構成図である。
【図2】実施形態におけるX線管、コリメータ、テーブ
ル、およびX線検出部を示す模式図である。
【図3】実施形態1における操作コンソールの処理の概
要を示すフローチャートである。
【図4】実施形態1におけるリファレンスチャネルの出
力の補正処理を示すフローチャートである。
【図5】実施形態2における操作コンソールの処理の概
要を示すフローチャートである。
【図6】実施形態2におけるリファレンスデータ生成処
理を示すフローチャートである。
【図7】実施形態2におけるリファレンスチャネルの出
力の補正処理を示すフローチャートである。
【図8】実施形態3における操作コンソールの処理の概
要を示すフローチャートである。
【図9】実施形態3における、2つのリファレンスチャ
ネルが同時にブロックされた時のビューの検出処理を示
すフローチャートである。
【図10】実施形態3における、ヘリカル補間処理の一
例を示すフローチャートである。
【図11】リファレンスチャネルのブロックの状態変化
を説明する図である。
【図12A】スキャンのようすを示す模式図である。
【図12B】リファレンスチャネルのブロックについて
説明するための図である。
【図12C】リファレンスチャネルのブロックについて
説明するための図である。
【図13】リファレンスデータの生成について説明する
ための図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河内 直幸 東京都日野市旭が丘4丁目7番地の127 ジーイー横河メディカルシステム株式会社 内 (72)発明者 貫井 正健 東京都日野市旭が丘4丁目7番地の127 ジーイー横河メディカルシステム株式会社 内 (72)発明者 堀内 哲也 東京都日野市旭が丘4丁目7番地の127 ジーイー横河メディカルシステム株式会社 内 Fターム(参考) 4C093 AA22 CA09 FC15 FC16 FC17 FC18 FD05 FD07 FD09 FD12 FF06

Claims (38)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X線発生源からのX線を複数のビュー方
    向から被検体に照射し、それぞれの透過X線を複数の検
    出チャネルを有するX線検出部で検出することで投影デ
    ータを収集するスキャンを行うX線CTシステムであっ
    て、 前記X線発生源の放射X線強度を監視するための基準検
    出チャネルと、 各ビュー毎に、前記基準検出チャネルの出力が所定のし
    きい値を下回っているか否かを判断する判断手段と、 各ビュー毎に、前記出力が前記しきい値を下回っている
    と判断したときに当該出力を所定値で置き換える補正を
    行う補正手段と、 を備えることを特徴とするX線CTシステム。
  2. 【請求項2】 前記所定値は、初期ビューから当該ビュ
    ーの直前のビューまでの前記出力の最大値とし、 前記所定のしきい値は、前記所定値に応じた値に設定さ
    れることを特徴とする請求項1に記載のX線CTシステ
    ム。
  3. 【請求項3】 X線発生源からのX線を複数のビュー方
    向から被検体に照射し、それぞれの透過X線を複数の検
    出チャネルを有するX線検出部で検出することで投影デ
    ータを収集するスキャンを行うX線CTシステムの制御
    方法であって、 各ビュー毎に、前記X線発生源の放射X線強度を監視す
    るための基準検出チャネルの出力が所定のしきい値を下
    回っているか否かを判断する判断ステップと、 各ビュー毎に、前記出力が前記しきい値を下回っている
    と判断したときに当該出力を所定値で置き換える補正を
    行う補正ステップと、 を有することを特徴とするX線CTシステムの制御方
    法。
  4. 【請求項4】 前記所定値は、初期ビューから当該ビュ
    ーの直前のビューまでの前記出力の最大値とし、 前記所定のしきい値は、前記所定値に応じた値に設定さ
    れることを特徴とする請求項3に記載のX線CTシステ
    ムの制御方法。
  5. 【請求項5】 X線発生源からのX線を複数のビュー方
    向から被検体に照射し、それぞれの透過X線を複数の検
    出チャネルを有するX線検出部で検出することで投影デ
    ータを収集するスキャンを行うガントリ装置に接続さ
    れ、当該ガントリ装置に対してスキャンに係る情報の出
    力および当該ガントリ装置から転送されてきた各ビュー
    の投影データに基づいてX線断層像を再構成する、X線
    CTシステムにおける操作コンソールであって、 前記X線発生源の放射X線強度を監視するための基準検
    出チャネルと、 各ビュー毎に、前記基準検出チャネルの出力が所定のし
    きい値を下回っているか否かを判断する判断手段と、 各ビュー毎に、前記出力が前記しきい値を下回っている
    と判断したときに当該出力を所定値で置き換える補正を
    行う補正手段と、 を備えることを特徴とする操作コンソール。
  6. 【請求項6】 前記所定値は、初期ビューから当該ビュ
    ーの直前のビューまでの前記出力の最大値とし、 前記所定のしきい値は、前記所定値に応じた値に設定さ
    れることを特徴とする請求項5に記載の操作コンソー
    ル。
  7. 【請求項7】 X線発生源からのX線を複数のビュー方
    向から被検体に照射し、それぞれの透過X線を複数の検
    出チャネルを有するX線検出部で検出することで投影デ
    ータを収集するスキャンを行うガントリ装置に接続さ
    れ、当該ガントリ装置に対してスキャンに係る情報の出
    力および当該ガントリ装置から転送されてきた各ビュー
    の投影データに基づいてX線断層像を再構成する、X線
    CTシステムにおける操作コンソールの制御方法であっ
    て、 各ビュー毎に、前記X線発生源の放射X線強度を監視す
    るための基準検出チャネルの出力が所定のしきい値を下
    回っているか否かを判断する判断ステップと、 各ビュー毎に、前記出力が前記しきい値を下回っている
    と判断したときに当該出力を所定値で置き換える補正を
    行う補正ステップと、 を有することを特徴とする操作コンソールの制御方法。
  8. 【請求項8】 前記所定値は、初期ビューから当該ビュ
    ーの直前のビューまでの前記出力の最大値とし、 前記所定のしきい値は、前記所定値に応じた値に設定さ
    れることを特徴とする請求項7に記載の操作コンソール
    の制御方法。
  9. 【請求項9】 X線発生源からのX線を複数のビュー方
    向から被検体に照射し、それぞれの透過X線を複数の検
    出チャネルを有するX線検出部で検出することで投影デ
    ータを収集するスキャンを行うガントリ装置に接続さ
    れ、当該ガントリ装置に対してスキャンに係る情報の出
    力および当該ガントリ装置から転送されてきた各ビュー
    の投影データに基づいてX線断層像を再構成する、X線
    CTシステムにおける操作コンソールを、 各ビュー毎に、前記X線発生源の放射X線強度を監視す
    るための前記基準検出チャネルの出力が所定のしきい値
    を下回っているか否かを判断する判断手段、 各ビュー毎に、前記出力が前記しきい値を下回っている
    と判断したときに当該出力を所定値で置き換える補正を
    行う補正手段、 として機能させるためのプログラム。
  10. 【請求項10】 前記所定値は、初期ビューから当該ビ
    ューの直前のビューまでの前記出力の最大値とし、 前記所定のしきい値は、前記所定値に応じた値に設定さ
    れることを特徴とする請求項9に記載のプログラム。
  11. 【請求項11】 請求項9または10に記載のプログラ
    ムを格納した記憶媒体。
  12. 【請求項12】 X線発生源と、被検体搬送用のテーブ
    ルの搬送方向に直交する方向に配される複数の検出チャ
    ネルを有するX線検出部と、前記X線発生源からのX線
    を複数のビュー方向から被検体に照射し、それぞれの透
    過X線を前記X線検出部で検出することで投影データを
    収集するデータ収集手段とを備えるX線CTシステムで
    あって、 前記複数の検出チャネルのうちの一端側に位置する第1
    の検出チャネルおよび他端側に位置する第2の検出チャ
    ネルそれぞれの出力に基づいて各ビューのリファレンス
    データを生成する生成手段と、 生成された前記リファレンスデータの、所定数のビュー
    にわたる変動の低周波成分を抽出する抽出手段と、 抽出された前記低周波成分が所定値を下回っているか否
    かを判断する判断手段と、 前記低周波成分が前記所定値を下回っていると判断した
    ときは、前記リファレンスデータを、前記低周波成分に
    対応する高周波成分を用いて補正する補正手段と、 を備えることを特徴とするX線CTシステム。
  13. 【請求項13】 前記所定値は、初期ビューから当該ビ
    ューの直前のビューまでの前記リファレンスデータの最
    大値の所定の割合とすることを特徴とする請求項12に
    記載のX線CTシステム。
  14. 【請求項14】 X線発生源と、被検体搬送用のテーブ
    ルの搬送方向に直交する方向に配される複数の検出チャ
    ネルを有するX線検出部と、前記X線発生源からのX線
    を複数のビュー方向から被検体に照射し、それぞれの透
    過X線を前記X線検出部で検出することで投影データを
    収集するデータ収集手段とを備えるX線CTシステムの
    制御方法であって、 前記複数の検出チャネルのうちの一端側に位置する第1
    の検出チャネルおよび他端側に位置する第2の検出チャ
    ネルそれぞれの出力に基づいて各ビューのリファレンス
    データを生成する生成ステップと、 生成された前記リファレンスデータの、所定数のビュー
    にわたる変動の低周波成分を抽出する抽出ステップと、 抽出された前記低周波成分が所定値を下回っているか否
    かを判断する判断ステップと、 前記低周波成分が前記所定値を下回っていると判断した
    ときは、前記リファレンスデータを、前記低周波成分に
    対応する高周波成分を用いて補正する補正ステップと、 を有することを特徴とするX線CTシステムの制御方
    法。
  15. 【請求項15】 前記所定値は、初期ビューから当該ビ
    ューの直前のビューまでの前記リファレンスデータの最
    大値の所定の割合とすることを特徴とする請求項14に
    記載のX線CTシステムの制御方法。
  16. 【請求項16】 X線発生源と、被検体搬送用のテーブ
    ルの搬送方向に直交する方向に配される複数の検出チャ
    ネルを有するX線検出部と、前記X線発生源からのX線
    を複数のビュー方向から被検体に照射し、それぞれの透
    過X線を前記X線検出部で検出することで投影データを
    収集するデータ収集手段とを備えるガントリ装置に接続
    され、当該ガントリ装置に対してスキャンに係る情報の
    出力および当該ガントリ装置から転送されてきた各ビュ
    ーの投影データに基づいてX線断層像を再構成する、X
    線CTシステムにおける操作コンソールであって、 前記複数の検出チャネルのうちの一端側に位置する第1
    の検出チャネルおよび他端側に位置する第2の検出チャ
    ネルそれぞれの出力に基づいて各ビューのリファレンス
    データを生成する生成手段と、 生成された前記リファレンスデータの、所定数のビュー
    にわたる変動の低周波成分を抽出する抽出手段と、 抽出された前記低周波成分が所定値を下回っているか否
    かを判断する判断手段と、 前記低周波成分が前記所定値を下回っていると判断した
    ときは、前記リファレンスデータを、前記低周波成分に
    対応する高周波成分を用いて補正する補正手段と、 を備えることを特徴とする操作コンソール。
  17. 【請求項17】 前記所定値は、初期ビューから当該ビ
    ューの直前のビューまでの前記リファレンスデータの最
    大値の所定の割合とすることを特徴とする請求項16に
    記載の操作コンソール。
  18. 【請求項18】 X線発生源と、被検体搬送用のテーブ
    ルの搬送方向に直交する方向に配される複数の検出チャ
    ネルを有するX線検出部と、前記X線発生源からのX線
    を複数のビュー方向から被検体に照射し、それぞれの透
    過X線を前記X線検出部で検出することで投影データを
    収集するデータ収集手段とを備えるガントリ装置に接続
    され、当該ガントリ装置に対してスキャンに係る情報の
    出力および当該ガントリ装置から転送されてきた各ビュ
    ーの投影データに基づいてX線断層像を再構成する、X
    線CTシステムにおける操作コンソールの制御方法であ
    って、前記複数の検出チャネルのうちの一端側に位置す
    る第1の検出チャネルおよび他端側に位置する第2の検
    出チャネルそれぞれの出力に基づいて各ビューのリファ
    レンスデータを生成する生成ステップと、 生成された前記リファレンスデータの、所定数のビュー
    にわたる変動の低周波成分を抽出する抽出ステップと、 抽出された前記低周波成分が所定値を下回っているか否
    かを判断する判断ステップと、 前記低周波成分が前記所定値を下回っていると判断した
    ときは、前記リファレンスデータを、前記低周波成分に
    対応する高周波成分を用いて補正する補正ステップと、 を有することを特徴とする操作コンソールの制御方法。
  19. 【請求項19】 前記所定値は、初期ビューから当該ビ
    ューの直前のビューまでの前記リファレンスデータの最
    大値の所定の割合とすることを特徴とする請求項18に
    記載の操作コンソールの制御方法。
  20. 【請求項20】 X線発生源と、被検体搬送用のテーブ
    ルの搬送方向に直交する方向に配される複数の検出チャ
    ネルを有するX線検出部と、前記X線発生源からのX線
    を複数のビュー方向から被検体に照射し、それぞれの透
    過X線を前記X線検出部で検出することで投影データを
    収集するデータ収集手段とを備えるガントリ装置に接続
    され、当該ガントリ装置に対してスキャンに係る情報の
    出力および当該ガントリ装置から転送されてきた各ビュ
    ーの投影データに基づいてX線断層像を再構成する、X
    線CTシステムにおける操作コンソールを、前記複数の
    検出チャネルのうちの一端側に位置する第1の検出チャ
    ネルおよび他端側に位置する第2の検出チャネルそれぞ
    れの出力に基づいて各ビューのリファレンスデータを生
    成する生成手段、 生成された前記リファレンスデータの、所定数のビュー
    にわたる変動の低周波成分を抽出する抽出手段、 抽出された前記低周波成分が所定値を下回っているか否
    かを判断する判断手段、 前記低周波成分が前記所定値を下回っていると判断した
    ときは、前記リファレンスデータを、前記低周波成分に
    対応する高周波成分を用いて補正する補正手段、 として機能させるためのプログラム。
  21. 【請求項21】 前記所定値は、初期ビューから当該ビ
    ューの直前のビューまでの前記リファレンスデータの最
    大値の所定の割合とすることを特徴とする請求項20に
    記載のプログラム。
  22. 【請求項22】 請求項20または21に記載のプログ
    ラムを格納した記憶媒体。
  23. 【請求項23】 X線発生源と、被検体搬送用のテーブ
    ルの搬送方向に直交する方向に配される複数の検出チャ
    ネルを有するX線検出部と、前記テーブルを所定速度で
    搬送しながら前記X線発生源からのX線を複数のビュー
    方向から被検体に照射し、それぞれの透過X線を前記X
    線検出部で検出することで投影データを収集するヘリカ
    ルスキャン手段と、を備えるX線CTシステムであっ
    て、 各ビュー毎に、前記複数の検出チャネルのうちの一端側
    に位置する第1の検出チャネルおよび他端側に位置する
    第2の検出チャネルの出力比を計算する計算手段と、 計算された前記出力比に基づいて、前記第1および第2
    の検出チャネルに向かうX線パスのいずれもが遮られた
    時のビューを検出する検出手段と、 前記ヘリカルスキャン手段で収集された各ビューの投影
    データとその対向投影データとを重み付け加算すること
    で目的スライス位置における投影データを補間する補間
    手段と、 を備え、 前記補間手段は、前記検出手段で検出されたビューにお
    ける投影データの重み付け係数を、当該ビューにおいて
    前記第1および第2の検出チャネルに向かうX線パスの
    いずれもが遮られなかったとした場合における重み付け
    係数よりも小さな値に調整する係数調整手段を含むこと
    を特徴とするX線CTシステム。
  24. 【請求項24】 前記検出手段は、 前記出力比が第1のしきい値より大きくなる第1のビュ
    ーを検出する第1の検出手段と、 前記出力比が第2のしきい値より小さくなる第2のビュ
    ーを検出する第2の検出手段と、を含み、 前記第1のビューから前記第2のビューまでのビュー
    を、前記第1および第2の検出チャネルに向かうX線パ
    スのいずれもが遮られた時のビューとして検出すること
    を特徴とする請求項23に記載のX線CTシステム。
  25. 【請求項25】 前記補間手段は、 前記検出手段で検出されたビューにおいては、当該ビュ
    ーにおける投影データおよびその対向投影データそれぞ
    れの高周波成分どうしの重み付け加算値を、当該対向投
    影データの低周波成分に重畳することで目的スライス位
    置における投影データを補間することを特徴とする請求
    項23または24に記載のX線CTシステム。
  26. 【請求項26】 X線発生源と、被検体搬送用のテーブ
    ルの搬送方向に直交する方向に配される複数の検出チャ
    ネルを有するX線検出部と、前記テーブルを所定速度で
    搬送しながら前記X線発生源からのX線を複数のビュー
    方向から被検体に照射し、それぞれの透過X線を前記X
    線検出部で検出することで投影データを収集するヘリカ
    ルスキャン手段と、を備えるX線CTシステムの制御方
    法であって、 各ビュー毎に、前記複数の検出チャネルのうちの一端側
    に位置する第1の検出チャネルおよび他端側に位置する
    第2の検出チャネルの出力比を計算する計算ステップ
    と、 計算された前記出力比に基づいて、前記第1および第2
    の検出チャネルに向かうX線パスのいずれもが遮られた
    時のビューを検出する検出ステップと、前記ヘリカルス
    キャン手段で収集された各ビューの投影データとその対
    向投影データとを重み付け加算することで目的スライス
    位置における投影データを補間する補間ステップと、 を有し、 前記補間ステップは、前記検出ステップで検出されたビ
    ューにおける投影データの重み付け係数を、当該ビュー
    において前記第1および第2の検出チャネルに向かうX
    線パスのいずれもが遮られなかったとした場合における
    重み付け係数よりも小さな値に調整する係数調整ステッ
    プを含むことを特徴とするX線CTシステムの制御方
    法。
  27. 【請求項27】 前記検出ステップは、 前記出力比が第1のしきい値より大きくなる第1のビュ
    ーを検出する第1の検出ステップと、 前記出力比が第2のしきい値より小さくなる第2のビュ
    ーを検出する第2の検出ステップと、を含み、 前記第1のビューから前記第2のビューまでのビュー
    を、前記第1および第2の検出チャネルに向かうX線パ
    スのいずれもが遮られた時のビューとして検出すること
    を特徴とする請求項26に記載のX線CTシステムの制
    御方法。
  28. 【請求項28】 前記補間ステップは、 前記検出ステップで検出されたビューにおいては、当該
    ビューにおける投影データおよびその対向投影データそ
    れぞれの高周波成分どうしの重み付け加算値を、当該対
    向投影データの低周波成分に重畳することで目的スライ
    ス位置における投影データを補間することを特徴とする
    請求項26または27に記載のX線CTシステムの制御
    方法。
  29. 【請求項29】 X線発生源と、被検体搬送用のテーブ
    ルの搬送方向に直交する方向に配される複数の検出チャ
    ネルを有するX線検出部と、前記テーブルを所定速度で
    搬送しながら前記X線発生源からのX線を複数のビュー
    方向から被検体に照射し、それぞれの透過X線を前記X
    線検出部で検出することで投影データを収集するヘリカ
    ルスキャン手段と、を備えるガントリ装置に接続され、
    当該ガントリ装置に対してスキャンに係る情報の出力お
    よび当該ガントリ装置から転送されてきた各ビューの投
    影データに基づいてX線断層像を再構成する、X線CT
    システムにおける操作コンソールであって、 各ビュー毎に、前記複数の検出チャネルのうちの一端側
    に位置する第1の検出チャネルおよび他端側に位置する
    第2の検出チャネルの出力比を計算する計算手段と、 計算された前記出力比に基づいて、前記第1および第2
    の検出チャネルに向かうX線パスのいずれもが遮られた
    時のビューを検出する検出手段と、 前記ヘリカルスキャン手段で収集された各ビューの投影
    データとその対向投影データとを重み付け加算すること
    で目的スライス位置における投影データを補間する補間
    手段と、 を備え、 前記補間手段は、前記検出手段で検出されたビューにお
    ける投影データの重み付け係数を、当該ビューにおいて
    前記第1および第2の検出チャネルに向かうX線パスの
    いずれもが遮られなかったとした場合における重み付け
    係数よりも小さな値に調整する係数調整手段を含むこと
    を特徴とする操作コンソール。
  30. 【請求項30】 前記検出手段は、 前記出力比が第1のしきい値より大きくなる第1のビュ
    ーを検出する第1の検出手段と、 前記出力比が第2のしきい値より小さくなる第2のビュ
    ーを検出する第2の検出手段と、を含み、 前記第1のビューから前記第2のビューまでのビュー
    を、前記第1および第2の検出チャネルに向かうX線パ
    スのいずれもが遮られた時のビューとして検出すること
    を特徴とする請求項29に記載の操作コンソール。
  31. 【請求項31】 前記補間手段は、 前記検出手段で検出されたビューにおいては、当該ビュ
    ーにおける投影データおよびその対向投影データそれぞ
    れの高周波成分どうしの重み付け加算値を、当該対向投
    影データの低周波成分に重畳することで目的スライス位
    置における投影データを補間することを特徴とする請求
    項29または30に記載の操作コンソール。
  32. 【請求項32】 X線発生源と、被検体搬送用のテーブ
    ルの搬送方向に直交する方向に配される複数の検出チャ
    ネルを有するX線検出部と、前記テーブルを所定速度で
    搬送しながら前記X線発生源からのX線を複数のビュー
    方向から被検体に照射し、それぞれの透過X線を前記X
    線検出部で検出することで投影データを収集するヘリカ
    ルスキャン手段と、を備えるガントリ装置に接続され、
    当該ガントリ装置に対してスキャンに係る情報の出力お
    よび当該ガントリ装置から転送されてきた各ビューの投
    影データに基づいてX線断層像を再構成する、X線CT
    システムにおける操作コンソールの制御方法であって、 各ビュー毎に、前記複数の検出チャネルのうちの一端側
    に位置する第1の検出チャネルおよび他端側に位置する
    第2の検出チャネルの出力比を計算する計算ステップ
    と、 計算された前記出力比に基づいて、前記第1および第2
    の検出チャネルに向かうX線パスのいずれもが遮られた
    時のビューを検出する検出ステップと、 前記ヘリカルスキャン手段で収集された各ビューの投影
    データとその対向投影データとを重み付け加算すること
    で目的スライス位置における投影データを補間する補間
    ステップと、 を有し、 前記補間ステップは、前記検出ステップで検出されたビ
    ューにおける投影データの重み付け係数を、当該ビュー
    において前記第1および第2の検出チャネルに向かうX
    線パスのいずれもが遮られなかったとした場合における
    重み付け係数よりも小さな値に調整する係数調整ステッ
    プを含むことを特徴とする操作コンソールの制御方法。
  33. 【請求項33】 前記検出ステップは、 前記出力比が第1のしきい値より大きくなる第1のビュ
    ーを検出する第1の検出ステップと、 前記出力比が第2のしきい値より小さくなる第2のビュ
    ーを検出する第2の検出ステップと、を含み、 前記第1のビューから前記第2のビューまでのビュー
    を、前記第1および第2の検出チャネルに向かうX線パ
    スのいずれもが遮られた時のビューとして検出すること
    を特徴とする請求項32に記載の操作コンソールの制御
    方法。
  34. 【請求項34】 前記補間ステップは、 前記検出ステップで検出されたビューにおいては、当該
    ビューにおける投影データおよびその対向投影データそ
    れぞれの高周波成分どうしの重み付け加算値を、当該対
    向投影データの低周波成分に重畳することで目的スライ
    ス位置における投影データを補間することを特徴とする
    請求項32または33に記載の操作コンソールの制御方
    法。
  35. 【請求項35】 X線発生源と、被検体搬送用のテーブ
    ルの搬送方向に直交する方向に配される複数の検出チャ
    ネルを有するX線検出部と、前記テーブルを所定速度で
    搬送しながら前記X線発生源からのX線を複数のビュー
    方向から被検体に照射し、それぞれの透過X線を前記X
    線検出部で検出することで投影データを収集するヘリカ
    ルスキャン手段と、を備えるガントリ装置に接続され、
    当該ガントリ装置に対してスキャンに係る情報の出力お
    よび当該ガントリ装置から転送されてきた各ビューの投
    影データに基づいてX線断層像を再構成する、X線CT
    システムにおける操作コンソールを制御するためのプロ
    グラムであって、 各ビュー毎に、前記複数の検出チャネルのうちの一端側
    に位置する第1の検出チャネルおよび他端側に位置する
    第2の検出チャネルの出力比を計算する計算ステップの
    プログラムコードと、 計算された前記出力比に基づいて、前記第1および第2
    の検出チャネルに向かうX線パスのいずれもが遮られた
    時のビューを検出する検出ステップのプログラムコード
    と、 前記ヘリカルスキャン手段で収集された各ビューの投影
    データとその対向投影データとを重み付け加算すること
    で目的スライス位置における投影データを補間する補間
    ステップのプログラムコードと、 を有し、 前記補間ステップは、前記検出ステップで検出されたビ
    ューにおける投影データの重み付け係数を、当該ビュー
    において前記第1および第2の検出チャネルに向かうX
    線パスのいずれもが遮られなかったとした場合における
    重み付け係数よりも小さな値に調整する係数調整ステッ
    プを含むことを特徴とするプログラム。
  36. 【請求項36】 前記検出ステップは、 前記出力比が第1のしきい値より大きくなる第1のビュ
    ーを検出する第1の検出ステップと、 前記出力比が第2のしきい値より小さくなる第2のビュ
    ーを検出する第2の検出ステップと、を含み、 前記第1のビューから前記第2のビューまでのビュー
    を、前記第1および第2の検出チャネルに向かうX線パ
    スのいずれもが遮られた時のビューとして検出すること
    を特徴とする請求項35に記載のプログラム。
  37. 【請求項37】 前記補間ステップは、 前記検出ステップで検出されたビューにおいては、当該
    ビューにおける投影データおよびその対向投影データそ
    れぞれの高周波成分どうしの重み付け加算値を、当該対
    向投影データの低周波成分に重畳することで目的スライ
    ス位置における投影データを補間することを特徴とする
    請求項35または36に記載のプログラム。
  38. 【請求項38】 請求項35から37までのいずれかに
    記載のプログラムを格納した記憶媒体。
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