JP2003137601A

JP2003137601A - 低透過率帯電防止膜形成用塗液とこの塗液が適用された低透過率帯電防止膜および低透過率帯電防止基材の製造方法とこの基材が適用された表示装置

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Publication number: JP2003137601A
Application number: JP2001337414A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiro Otsuka; 良広大塚; Takeshi Naganami; 武長南
Original assignee: Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date: 2001-11-02
Filing date: 2001-11-02
Publication date: 2003-05-14

Abstract

(57)【要約】【課題】導電性と低透過性に加えて黒色から青黒色系
の良好な透過色が得られる低透過率帯電防止膜形成用塗
液と低透過率帯電防止膜および低透過率帯電防止基材の
製造方法とこの基材が適用された表示装置を提供する。【解決手段】この低透過率帯電防止膜形成用塗液は、
極性溶剤に均一に分散される固形分として、平均粒径１
０〜２００ｎｍの透明導電性酸化物が０．４〜４．０重
量％、平均粒径１０〜２００ｎｍの鉄、マンガン、銅の
複合酸化物が０．２〜２．０重量％、アルキルシリケー
トの加水分解物がＳｉＯ₂換算で０．４〜４．０重量％
含まれることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、陰極線管
（ＣＲＴ）等の前面ガラス（フェースパネル）外表面に
形成される低透過率帯電防止膜に係り、特に、導電性と
低透過性に加えて黒色から青黒色系の良好な透過色が得
られる低透過率帯電防止膜形成用塗液と低透過率帯電防
止膜および低透過率帯電防止基材の製造方法とこの基材
が適用された表示装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】カラーテレビやパソコンモニターなどに
用いられるＣＲＴは、フェースパネルの帯電によって表
示画面上に埃が付着堆積して画質が低下したり、あるい
は手が触れると不快な電撃ショックを受けることがあ
る。

【０００３】フェースパネルの帯電を防止するにはパネ
ル外表面に抵抗値が１０⁸〜１０¹⁰Ω／□程度の導電性
皮膜を形成し帯電を防止する必要があり、いくつかの提
案がなされている。その一つとして、ＣＶＤ法によりパ
ネル外表面に酸化錫の導電性皮膜を形成する方法が知ら
れている。この方法を用いて形成した皮膜は、酸化錫単
一の組成で構成されるため、素材の導電性がそのまま現
れて帯電防止に十分な低い抵抗値が得られる。しかしな
がら、各ＣＲＴ毎に雰囲気を制御して処理しなければな
らず、大型の成膜装置が必要となり皮膜形成に多大のコ
ストがかかるため、実用的なＣＲＴ製造には極めて不都
合である。したがって特殊な用途のＣＲＴを除いてはこ
の方法は不適切と考えられ、低コストで高速に処理でき
る皮膜形成方法が望まれていた。

【０００４】最近では、フェースパネルの外表面をフラ
ットにして画像の視認性を向上させた平面ＣＲＴが急速
に普及しつつある。これに使用されるフラットフェース
パネルは、所望の機械的強度を得るためフェース部内面
に曲率があり、パネルの中心部から周辺部に向かってガ
ラスの厚さが厚くなっている。このようなパネルでは、
低透過率パネルを用いると画面の中央部と周辺部で輝度
差が生じてしまうことから、高透過率パネルが採用され
ているが、そのまま用いるとパネル内面に塗布された蛍
光体による外光反射が増加してコントラストが低下する
という欠点がある。高コントラストの画像を得るには、
パネル自体への透過光量を低下させて外光反射を抑える
必要があり、パネル外表面に低透過率（５０〜８０％程
度）の皮膜を形成する試みがなされている。

【０００５】上述のように、平面ＣＲＴでは帯電防止に
加えて低透過性を有した皮膜、すなわち低透過率帯電防
止膜の要求があり、低透過性については画面を暗くする
だけでなく、蛍光体の発光色である赤色（Ｒ）、緑色
（Ｇ）、青色（Ｂ）の発光強度バランスおよび電源ＯＦ
Ｆ時における画面の概観が良好である黒色から青黒色系
の透過色が望ましいとされている。

【０００６】このような要望に対処して、カーボンブラ
ック等の黒色顔料、導電顔料、バインダーを極性溶剤に
分散させた塗液を用い、この塗液をフェースパネル外表
面に塗布、乾燥させて低透過率帯電防止膜を形成する方
法が検討されている。この方法は、低コストで高速に皮
膜を形成することができ、実用的なＣＲＴ製造方法であ
る。しかし、黒色顔料には可視光領域に材料特有の光吸
収があり、単一の黒色顔料では所望の黒色から青黒色系
の透過色が得られないという問題があった。

【０００７】一方、特開平８−２０８２７４号公報では
黒色顔料として複合酸化物顔料を適用した着色膜形成用
塗布液を提案しているが、この公報に記載された発明で
は得られる着色膜の耐熱性、耐薬品性、耐擦傷性等の改
善を目的としており、透過色を黒色から青黒色系に調整
する方法については記載が皆無であった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこの様な問題
点に着目してなされたもので、その課題とするところ
は、導電性と低透過性に加えて黒色から青黒色系の良好
な透過色が得られる低透過率帯電防止膜形成用塗液と低
透過率帯電防止膜および低透過率帯電防止基材の製造方
法とこの基材が適用された表示装置を提供することにあ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明において
は、塗液に加える黒色顔料として平均粒径１０〜２００
ｎｍの鉄、マンガン、銅の複合酸化物を適用することに
より、目的とする黒色から青黒色系の良好な透過色が得
られるように調整を図っている。

【００１０】すなわち、鉄、マンガン、銅の複合酸化物
は、塗液化して皮膜を形成すると黒色から青黒色の透過
色が得られ、一般に良く知られているカーボンブラッ
ク、チタンブラック、酸化鉄（Ｆｅ₃Ｏ₄）などの黒色顔
料を用いた場合よりも良好な透過色が得られる。本発明
はこの様な技術的知見に基づき完成されている。

【００１１】まず、請求項１に係る発明は、極性溶剤と
この溶剤に均一に分散された固形分とを主成分とする低
透過率帯電防止膜を形成するための低透過率帯電防止膜
形成用塗液を前提とし、上記固形分として、平均粒径１
０〜２００ｎｍの透明導電性酸化物が０．４〜４．０重
量％、平均粒径１０〜２００ｎｍの鉄、マンガン、銅の
複合酸化物が０．２〜２．０重量％、アルキルシリケー
トの加水分解物がＳｉＯ₂換算で０．４〜４．０重量％
含まれることを特徴とする。

【００１２】また、請求項２に係る発明は、請求項１記
載の発明に係る低透過率帯電防止膜形成用塗液を前提と
し、上記鉄、マンガン、銅の複合酸化物が、化学式（Ｃ
ｕ，Ｆｅ，Ｍｎ）（Ｆｅ，Ｍｎ）₂Ｏ₄で表されかつ鉄を
２０重量％以下、マンガンを２０〜５０重量％、銅を１
０〜４０重量％含有するスピネル構造の化合物で構成さ
れると共に、上記透明導電性酸化物が、アルミニウム添
加酸化亜鉛、アンチモン添加酸化錫、錫添加酸化インジ
ウムの中から選ばれる１種若しくは２種以上であること
を特徴とするものである。

【００１３】次に、請求項３に係る発明は、請求項１若
しくは２記載の低透過率帯電防止膜形成用塗液を用いて
透明基板上に形成される低透過率帯電防止膜を前提と
し、その表面抵抗値が１０¹⁰Ω／□以下、透過率が５０
〜８０％、ヘーズ値が２％以下、可視光線領域３８０〜
７８０ｎｍにおいて５ｎｍ毎に測定した透過率から求め
られるＬ^*ａ^*ｂ^*表色系色指数（標準光源Ｄ６５、視野
角２度）のａ^*値が−５〜＋５、ｂ^*値が−１０〜０の範
囲内にあり、かつ、波長５５０ｎｍにおける膜面の反射
率が６％以下であることを特徴とする。

【００１４】また、請求項４に係る発明は、透明基板上
に低透過率帯電防止膜を有する低透過率帯電防止基材の
製造方法を前提とし、請求項１若しくは２記載の低透過
率帯電防止膜形成用塗液を透明基板上に塗布・乾燥させ
た後、１００〜４５０℃の温度で熱処理することにより
請求項３記載の低透過率帯電防止膜を形成することを特
徴とする。

【００１５】次に、請求項５に係る発明は、装置本体と
この前面側に配置された前面板を備える表示装置を前提
とし、上記前面板として請求項４記載の低透過率帯電防
止基材がその低透過率帯電防止膜面を外面にして組込ま
れていることを特徴とする。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。

【００１７】まず、本発明に係る低透過率帯電防止膜形
成用塗液においては、黒色顔料として鉄、マンガン、銅
の複合酸化物、導電顔料として透明導電性酸化物、バイ
ンダーとしてアルキルシリケートの加水分解物を適用す
ることを前提とし、かつ、鉄、マンガン、銅の複合酸化
物と透明導電性酸化物については、その平均粒径が１０
〜２００ｎｍの微粒子であることを必要とする（請求項
１）。これは、平均粒径が１０ｎｍ未満の微粒子は製造
が困難であり、一方、平均粒径が２００ｎｍより大きい
と皮膜のヘーズ値が高くなり、実用的でないからであ
る。尚、ここで述べる平均粒径とは、透過電子顕微鏡
（ＴＥＭ）で観察される一次粒子の平均粒径を示してい
る。また、ヘーズとは透明な基材の曇りとして観察され
る現象であり、ヘーズ値は全透過率に対する拡散透過光
の割合を数値化したもので、ヘーズ値が高いと、人間の
目には透明基材の曇りとして認識されるものである。

【００１８】上記鉄、マンガン、銅の複合酸化物は、化
学式（Ｃｕ，Ｆｅ，Ｍｎ）（Ｆｅ，Ｍｎ）₂Ｏ₄で表され
るスピネル構造の化合物であり、鉄を２０重量％以下、
マンガンを２０〜５０重量％、銅を１０〜４０重量％含
有するものを用いる。この複合酸化物は、高い着色力を
有した黒色顔料で、微量の添加で皮膜の透過率を低下さ
せることができる。また、組成や合成条件によって皮膜
の透過色を黒色から青黒色に調整できるという特長があ
り、透過色に対しての種々な要望に対応可能である。透
過色の微調整を目的として、透過色が異なる２種類の顔
料を併用してもよい。

【００１９】また、上記透明導電性酸化物は、皮膜に導
電性を付与する成分であり、市販のアルミニウム添加酸
化亜鉛（ＡＺＯ）、アンチモン添加酸化錫（ＡＴＯ）、
錫添加酸化インジウム（ＩＴＯ）などを用いることがで
きる。。

【００２０】アルキルシリケートの加水分解物は、透明
基板上に皮膜を固着させるための成分であり、例えば市
販のエチルシリケート２８［Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄］、メ
チルシリケート３９［Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₄］、エチルシリ
ケート４０［Ｓｉ_nＯ_(n-1)（ＯＣ₂Ｈ₅）_(2n+2)］、およ
び、メチルシリケート５１［Ｓｉ_nＯ_(n-1)（ＯＣＨ₃）
_(2n+2)］等を加水分解処理して適用することができる。

【００２１】次に、低透過率帯電防止膜形成用塗液の製
造方法について説明する。製造工程は、解砕処理工程と
希釈処理工程とに大別され、以下のようにして製造す
る。

【００２２】まず、解砕処理工程は、鉄、マンガン、銅
の複合酸化物と透明導電性酸化物を解砕して極性溶剤に
分散させる工程である。ここでは、解砕に有効な分散剤
と分散用極性溶剤を加え、強力な分散機を使用して平均
分散粒径が２００ｎｍ以下になるまで解砕処理を行い、
各々の濃縮分散液を作製する。解砕に用いる分散剤と分
散用極性溶剤は、形成する皮膜の各種特性を悪化させる
ものでなければよい。分散機については、ボールミル、
サンドミル、アトライター、超音波ホモジナイサー等が
使用できる。

【００２３】希釈処理工程では、鉄、マンガン、銅の複
合酸化物の濃縮分散液、透明導電性酸化物の濃縮分散
液、アルキルシリケートの加水分解物が含まれる溶液、
希釈用極性溶剤を所定の割合で混合・攪拌し、固形分と
して透明導電性酸化物が０．４〜４．０重量％、鉄、マ
ンガン、銅の複合酸化物が０．２〜２．０重量％、アル
キルシリケートの加水分解物がＳｉＯ₂換算で０．４〜
４．０重量％含まれる塗液を製造する。塗液は、粗粒や
異物の除去を目的として、ろ過処理してもよい。

【００２４】希釈用極性溶剤は、透明基板上に平滑でム
ラのない皮膜を形成するために必要な極性溶剤を含むも
のであり、当業者は公知の技術により適当な極性溶剤を
選択して用いることができる。

【００２５】アルキルシリケートの加水分解物は、アル
キルシリケートに水、極性溶剤、微量の酸を加えて混合
し、加水分解処理して作製する。加水分解処理は、アル
キルシリケート分子の末端にあるアルコキシ基を水酸基
に置換する処理であり、この処理が不十分であるとアル
コキシ基の残存によって固着力が低下して皮膜強度を悪
化させるため、十分な処理時間が必要である。酸は、ア
ルキルシリケートの加水分解反応を促進させるための触
媒であり、硝酸、塩酸、硫酸等の強酸を用いれば、極微
量の添加で容易に加水分解反応を完結させることができ
る。

【００２６】低透過率帯電防止基材は、上述した低透過
率帯電防止膜形成用塗液を、例えば、ガラス基板、プラ
スチック等の透明基板上にスプレーコート、スピンコー
ト、ワイヤーバーコート、ドクターブレードコート等の
手法によって塗布・乾燥した後、大気中で１００〜４５
０℃の温度で熱処理し、塗布膜を硬化させることによっ
て製造する。

【００２７】塗布膜の熱処理温度については、真空封着
前のフェースパネルに成膜する場合は、ガラス軟化点直
下の４５０℃まで昇温可能であるが、封着後のＣＲＴ完
成球の成膜に対しては加熱温度が高いと爆発する危険性
があるため２００℃以下で行うことが好ましい。

【００２８】熱処理中には、塗布膜に残存する極性溶剤
の蒸発とアルキルシリケート加水分解物の縮重合反応が
起り、塗布膜は乾燥、収縮、硬化する。熱処理温度は、
１００℃以上であれば未蒸発成分の残存は避けられない
ものの実用的な強度を有する皮膜を形成できる。一般的
には熱処理温度は高い方が好ましく、特に２５０℃以上
であればアルキルシリケート加水分解物の縮重合反応が
促進され、更に強固な皮膜を形成することができる。

【００２９】

【実施例】以下、本発明の実施例を示す。本文中の
『部』は『重量部』を示し、また平均分散粒径は大塚電
子（株）社製の粒度分布計（ＥＬＳ−８００）を用いて
測定した平均粒径を示している。

【００３０】［実施例１］鉄、マンガン、銅の複合酸化
物微粒子として、鉄を約９重量％，マンガンを約３５重
量％，銅を約２５重量％含有する大日精化工業（株）製
の商品名ＴＭブラック＃３５５０（以下、ＴＭＢ）を用
い、ＴＭＢを１５．０部、水４６．８部、エタノール２
１．３部、イソプロパノール３．７部、分散剤１３．２
部の割合で混合し、ボールミルを使用して解砕処理し
た。処理後におけるＴＭＢの平均分散粒径は１１０ｎｍ
であった。

【００３１】この処理液をエタノールとイソプロパノー
ルで希釈し、ＴＭＢが１０．０部、水３１．２部、エタ
ノール４２．５部、イソプロパノール７．５部、分散剤
８．８部からなるＴＭＢの濃縮分散液を作製した（Ａ
液）。

【００３２】次に、透明導電性酸化物微粒子として市販
のアンチモン添加酸化錫微粒子（ＡＴＯ）を用い、ＡＴ
Ｏを２０．０部、エタノール６３．８部、イソプロパノ
ール１１．２部、分散剤５．０部の割合で混合し、ボー
ルミルを使用して解砕処理した。処理後のＡＴＯの平均
分散粒径は１１２ｎｍであった。

【００３３】この処理液をエタノールとイソプロパノー
ルで希釈し、ＡＴＯが１０．０部、エタノール７４．４
部、イソプロパノール１３．１部、分散剤２．５部から
なるＡＴＯの濃縮分散液を作製した（Ｂ液）。

【００３４】アルキルシリケートの加水分解物について
は、アルキルシリケートとして多摩化学工業（株）製メ
チルシリケート５１を用い、メチルシケート５１を１
９．６部、エタノール５４．８部、イソプロパノール
９．７部、水２．１部の混合溶液を調製し、これに６０
％硝酸０．１部、水７.９部、エタノール４．９部、イ
ソプロパノール０．９部の混合溶液を加えて約１時間攪
拌した後、これをエタノールとイソプロパノールで希釈
し、メチルシリケート５１が９．８部、水５部、エタノ
ール７２．４部、イソプロパノール１２．８部からなる
アルキルシリケートの加水分解物を作製した（Ｃ液）。

【００３５】Ａ液４．０部、Ｂ液９．８部、Ｃ液１６．
０部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５．
０部、ジメチルホルムアミド２．５部、エタノール４
４．８部、イソプロパノール７．９部の割合で混合・攪
拌し、固形分としてＴＭＢが０．４０重量％、ＡＴＯが
０．９８重量％、メチルシリケート５１がＳｉＯ₂換算
で０．８０重量％含まれる塗液を作製した。

【００３６】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布・乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００３７】［実施例２］Ａ液５．０部、Ｂ液１２．３
部、Ｃ液２０．０部、プロピレングリコールモノメチル
エーテル１５．０部、ジメチルホルムアミド２．５部、
エタノール３８．４部、イソプロパノール６．８部の割
合で混合・攪拌し、固形分としてＴＭＢが０．５０重量
％、ＡＴＯが１．２３重量％、メチルシリケート５１が
ＳｉＯ₂換算で１．００重量％含まれる塗液を作製し
た。

【００３８】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布・乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００３９】［実施例３］Ａ液６．０部、Ｂ液１４．７
部、Ｃ液２４．０部、プロピレングリコールモノメチル
エーテル１５．０部、ジメチルホルムアミド２．５部、
エタノール３２．１部、イソプロパノール５．７部の割
合で混合・攪拌し、固形分としてＴＭＢが０．６０重量
％、ＡＴＯが１．４７重量％、メチルシリケート５１が
ＳｉＯ₂換算で１．２０重量％含まれる塗液を作製し
た。

【００４０】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布・乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００４１】［実施例４］Ａ液７．０部、Ｂ液１７．２
部、Ｃ液２８．０部、プロピレングリコールモノメチル
エーテル１５．０部、ジメチルホルムアミド２．５部、
エタノール３２．１部、イソプロパノール５．７部の割
合で混合・攪拌し、固形分としてＴＭＢが０．７０重量
％、ＡＴＯが１．７２重量％、メチルシリケート５１が
ＳｉＯ₂換算で１．４０重量％含まれる塗液を作製し
た。

【００４２】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布・乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００４３】［実施例５］Ａ液８．０部、Ｂ液１９．６
部、Ｃ液３２．０部、プロピレングリコールモノメチル
エーテル１５．０部、ジメチルホルムアミド２．５部、
エタノール１９．５部、イソプロパノール３．４部の割
合で混合、攪拌し、固形分としてＴＭＢが０．８０重量
％、ＡＴＯが１．９６重量％、メチルシリケート５１が
ＳｉＯ₂換算で１．６０重量％含まれる塗液を作製し
た。

【００４４】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布、乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００４５】［実施例６］鉄，マンガン，銅の複合酸化
物微粒子として、鉄を約３重量％，マンガンを約４０重
量％，銅を約２５重量％含有するＴＭブラック改良品
（以下、ＴＭＢ改良品）を用い、ＴＭ改良品を１５．０
部、水４６．８部、エタノール２１．３部、イソプロパ
ノール３．７部、分散剤１３．２部の割合で混合し、ボ
ールミルを使用して解砕処理した。処理後のＴＭＢ改良
品の平均分散粒径は１１０ｎｍであった。この処理液を
エタノールとイソプロパノールで希釈し、ＴＭＢ改良品
が１０．０部、水３１．２部、エタノール４２．５部、
イソプロパノール７．５部、分散剤８．８部からなるＴ
ＭＢ改良品の濃縮分散液を作製した（Ｄ液）。

【００４６】Ｄ液４．０部、Ｂ液９．８部、Ｃ液１６．
０部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５．
０部、ジメチルホルムアミド２．５部、エタノール４
４．８部、イソプロパノール７．９部の割合で混合かつ
攪拌し、固形分としてＴＭＢ改良品が０．４０重量％、
ＡＴＯが０．９８重量％、メチルシリケート５１がＳｉ
Ｏ₂換算で０．８０重量％含まれる塗液を作製した。

【００４７】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布、乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００４８】［実施例７］Ｄ液５．０部、Ｂ液１２．３
部、Ｃ液２０．０部、プロピレングリコールモノメチル
エーテル１５．０部、ジメチルホルムアミド２．５部、
エタノール３８．４部、イソプロパノール６．８部の割
合で混合、攪拌し、固形分としてＴＭＢ改良品が０．５
０重量％、ＡＴＯが１．２３重量％、メチルシリケート
５１がＳｉＯ₂換算で１．００重量％含まれる塗液を作
製した。

【００４９】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布、乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００５０】［実施例８］Ｄ液６．０部、Ｂ液１４．７
部、Ｃ液２４．０部、プロピレングリコールモノメチル
エーテル１５．０部、ジメチルホルムアミド２．５部、
エタノール３２．１部、イソプロパノール５．７部の割
合で混合、攪拌し、固形分としてＴＭＢ改良品が０．６
０重量％、ＡＴＯが１．４７重量％、メチルシリケート
５１がＳｉＯ₂換算で１．２０重量％含まれる塗液を作
製した。

【００５１】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布、乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００５２】［実施例９］Ｄ液７．０部、Ｂ液１７．２
部、Ｃ液２８．０部、プロピレングリコールモノメチル
エーテル１５．０部、ジメチルホルムアミド２．５部、
エタノール３２．１部、イソプロパノール５．７部の割
合で混合、攪拌し、固形分としてＴＭＢ改良品が０．７
０重量％、ＡＴＯが１．７２重量％、メチルシリケート
５１がＳｉＯ₂換算で１．４０重量％含まれる塗液を作
製した。

【００５３】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布、乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００５４】［実施例１０］Ｄ液８．０部、Ｂ液１９．
６部、Ｃ液３２．０部、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル１５．０部、ジメチルホルムアミド２．５
部、エタノール１９．５部、イソプロパノール３．４部
の割合で混合、攪拌し、固形分としてＴＭＢ改良品が
０．８０重量％、ＡＴＯが１．９６重量％、メチルシリ
ケート５１がＳｉＯ₂換算で１．６０重量％含まれる塗
液を作製した。

【００５５】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布、乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００５６】［比較例１］市販のカーボンブラックを１
０．０部、イソプロパノール８２．０部、分散剤８．０
部の割合で混合した後、ボールミルを使用して解砕処理
し、平均分散粒径が１３３ｎｍのカーボンブラック濃縮
分散液を作製した（Ｅ液）。

【００５７】Ｅ液１．３部、Ｂ液３．２部、Ｃ液５．２
部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５．０
部、ジメチルホルムアミド２．５部、エタノール６１．
９部、イソプロパノール１０．９部の割合で混合、攪拌
し、固形分としてカーボンブラックが０．１３重量％、
ＡＴＯが０．３２重量％、メチルシリケート５１がＳｉ
Ｏ₂換算で０．２６重量％含まれる塗液を作製した。

【００５８】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布、乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００５９】［比較例２］Ｅ液１．７部、Ｂ液４．２
部、Ｃ液６．８部、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル１５．０部、ジメチルホルムアミド２．５部、エ
タノール５９．３部、イソプロパノール１０．５部の割
合で混合、攪拌し、固形分としてカーボンブラックが
０．１７重量％、ＡＴＯが０．４２重量％、メチルシリ
ケート５１がＳｉＯ₂換算で０．３４重量％含まれる塗
液を作製した。

【００６０】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布、乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００６１】［比較例３］Ｅ液２．０部、Ｂ液４．９
部、Ｃ液８．０部、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル１５．０部、ジメチルホルムアミド２．５部、エ
タノール５７．５部、イソプロパノール１０．１部の割
合で混合、攪拌し、固形分としてカーボンブラックが
０．２０重量％、ＡＴＯが０．４９重量％、メチルシリ
ケート５１がＳｉＯ₂換算で０．４０重量％含まれる塗
液を作製した。

【００６２】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布、乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００６３】［比較例４］Ｅ液２．３部、Ｂ液５．６
部、Ｃ液９．２部、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル１５．０部、ジメチルホルムアミド２．５部、エ
タノール５５．６部、イソプロパノール９．８部の割合
で混合かつ攪拌し、固形分としてカーボンブラックが
０．２３重量％、ＡＴＯが０．５６重量％、メチルシリ
ケート５１がＳｉＯ₂換算で０．４６重量％含まれる塗
液を作製した。

【００６４】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布、乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００６５】［比較例５］Ｅ液２．７部、Ｂ液６．６
部、Ｃ液１０．８部、プロピレングリコールモノメチル
エーテル１５．０部、ジメチルホルムアミド２．５部、
エタノール５３．０部、イソプロパノール９．４部の割
合で混合、攪拌し、固形分としてカーボンブラックが
０．２７重量％、ＡＴＯが０．６６重量％、メチルシリ
ケート５１がＳｉＯ₂換算で０．５４重量％含まれる塗
液を作製した。

【００６６】この塗液を約４０℃に加温したガラス基板
上にスピンコート法で塗布、乾燥して、熱処理前の低透
過率帯電防止基材を得た。

【００６７】こうして得られた各実施例と各比較例に係
る熱処理前の低透過率帯電防止基材を電気炉に入れて１
８０℃で３０分間の熱処理を施し、形成した低透過率帯
電防止膜の各種特性（表面抵抗値、透過率、ヘーズ値、
透過色指数、反射率）を測定した。この結果を以下の表
１に示す。

【００６８】尚、上記表面抵抗値は三菱油化（株）製の
表面抵抗計ロレスタＡＰ（ＭＣＰ−Ｔ４００）を用いて
測定し、透過率とヘーズ値は村上色彩技術研究所製のヘ
ーズメータ（ＨＲ−２００）を用いて測定した。

【００６９】また、透過色指数と反射率は日立製作所
（株）製の分光光度計（Ｕ−４０００）を用いて測定し
た。透過色指数は、Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系で表わされる色指
数を用いており、この表色系ではａ^*値が高いほど赤色
が強く、逆にａ^*値が低いほど緑色が強いことを示し、
またｂ^*値が高いほど黄色が強く、逆にｂ^*値が低いほど
青色が強いことを示す。

【００７０】尚、本明細書における低透過率帯電防止膜
の透過率と透過プロファイルは、ガラス基板を除く透過
率と透過プロファイルを示しており、以下のようにして
求めている。

【００７１】ガラス基板を除く低透過率透明導電膜の透過率（％）＝〔（ガラス基板を含む透過率）／（ガラス基板の透過率）〕×１００この様にして得られた各透過プロファイルを、図１、図
３、図５、図７および図９に示し、また、上記分光光度
計（Ｕ−４０００）で測定された各反射プロファイル
を、図２、図４、図６、図８および図１０に示す。

【００７２】

【表１】［確認］（１）表１に示された結果から分かるように、黒色顔料
としてカーボンブラックを用いた比較例１〜５に係る塗
液は、形成する皮膜の透過色指数ｂ^*値が０以上とな
り、黄色味の強い低透過率帯電防止膜が得られるのに対
して、黒色顔料としてＴＭＢおよびＴＭＢ改良品を用い
た実施例１〜１０に係る塗液では、形成する皮膜の透過
色指数ｂ^*値が０以下であり、黒色から青黒色の低透過
率帯電防止膜が得られることが確認される。（２）他の特性についても、表１と図１〜図１０に示さ
れた結果から分かるように、実施例１〜１０に係る塗液
では、形成する皮膜の表面抵抗値が１０¹⁰Ω／□台以
下、透過率が５０〜８０％、ヘーズ値が２％以下、反射
率が６％以下であり、低透過率帯電防止黒色膜として良
好であることが確認される。

【００７３】

【発明の効果】請求項１〜２記載の発明に係る低透過率
帯電防止膜形成用塗液によれば、塗液に加える黒色顔料
として平均粒径１０〜２００ｎｍの鉄、マンガン、銅の
複合酸化物が適用されており、また、請求項３記載の発
明に係る低透過率帯電防止膜によれば、上記請求項１若
しくは２に係る低透過率帯電防止膜形成用塗液を用いて
形成されているため、導電性と低透過性に加えて黒色か
ら青黒色系の良好な透過色が得られる低透過率帯電防止
膜とすることができる効果を有する。

【００７４】次に、請求項４記載の発明に係る低透過率
帯電防止基材の製造方法によれば、請求項１若しくは２
に係る低透過率帯電防止膜形成用塗液を透明基板上に塗
布・乾燥させた後、１００〜４５０℃の温度で熱処理す
ることにより請求項３記載の低透過率帯電防止膜を形成
しているため、導電性と低透過性に加えて黒色から青黒
色系の良好な透過色が得られる低透過率帯電防止膜を備
える低透過率帯電防止基材を高速かつ低コストで製造で
きる効果を有する。

【００７５】更に、請求項５記載の発明に係る表示装置
によれば、前面板として請求項４記載の低透過率帯電防
止基材がその低透過率帯電防止膜面を外面にして組込ま
れているため、基材外面の帯電を防止できると共に高コ
ントラストの画像が得られる他、電源ＯＦＦ時における
画面の概観も良好にできる効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１、実施例６および比較例１に係る低透
過率帯電防止基材の透過プロファイルを示すグラフ図。

【図２】実施例１、実施例６および比較例１に係る低透
過率帯電防止基材の反射プロファイルを示すグラフ図。

【図３】実施例２、実施例７および比較例２に係る低透
過率帯電防止基材の透過プロファイルを示すグラフ図。

【図４】実施例２、実施例７および比較例２に係る低透
過率帯電防止基材の反射プロファイルを示すグラフ図。

【図５】実施例３、実施例８および比較例３に係る低透
過率帯電防止基材の透過プロファイルを示すグラフ図。

【図６】実施例３、実施例８および比較例３に係る低透
過率帯電防止基材の反射プロファイルを示すグラフ図。

【図７】実施例４、実施例９および比較例４に係る低透
過率帯電防止基材の透過プロファイルを示すグラフ図。

【図８】実施例４、実施例９および比較例４に係る低透
過率帯電防止基材の反射プロファイルを示すグラフ図。

【図９】実施例５、実施例１０および比較例５に係る低
透過率帯電防止基材の透過プロファイルを示すグラフ
図。

【図１０】実施例５、実施例１０および比較例５に係る
低透過率帯電防止基材の反射プロファイルを示すグラフ
図。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4G059 AA07 AC04 AC08 AC11 AC30 EA01 EA02 EA03 EA07 EB09 FA05 FA22 FA28 FB06 4J038 DL031 HA216 NA20 PB09 PC03 5C032 AA02 DD02 DE01 DF01 DF03 EF05 5G301 DA23 DA42 DD02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】極性溶剤とこの溶剤に均一に分散された固
形分とを主成分とする低透過率帯電防止膜を形成するた
めの低透過率帯電防止膜形成用塗液において、上記固形分として、平均粒径１０〜２００ｎｍの透明導
電性酸化物が０．４〜４．０重量％、平均粒径１０〜２
００ｎｍの鉄、マンガン、銅の複合酸化物が０．２〜
２．０重量％、アルキルシリケートの加水分解物がＳｉ
Ｏ₂換算で０．４〜４．０重量％含まれることを特徴と
する低透過率帯電防止膜形成用塗液。
【請求項２】上記鉄、マンガン、銅の複合酸化物が、化
学式（Ｃｕ，Ｆｅ，Ｍｎ）（Ｆｅ，Ｍｎ）₂Ｏ₄で表され
かつ鉄を２０重量％以下、マンガンを２０〜５０重量
％、銅を１０〜４０重量％含有するスピネル構造の化合
物で構成されると共に、上記透明導電性酸化物が、アル
ミニウム添加酸化亜鉛、アンチモン添加酸化錫、錫添加
酸化インジウムの中から選ばれる１種若しくは２種以上
であることを特徴とする請求項１記載の低透過率帯電防
止膜形成用塗液。
【請求項３】請求項１若しくは２記載の低透過率帯電防
止膜形成用塗液を用いて透明基板上に形成される低透過
率帯電防止膜において、その表面抵抗値が１０¹⁰Ω／□以下、透過率が５０〜８
０％、ヘーズ値が２％以下、可視光線領域３８０〜７８
０ｎｍにおいて５ｎｍ毎に測定した透過率から求められ
るＬ^*ａ^*ｂ^*表色系色指数（標準光源Ｄ６５、視野角２
度）のａ^*値が−５〜＋５、ｂ^*値が−１０〜０の範囲内
にあり、かつ、波長５５０ｎｍにおける膜面の反射率が
６％以下であることを特徴とする低透過率帯電防止膜。
【請求項４】透明基板上に低透過率帯電防止膜を有する
低透過率帯電防止基材の製造方法において、請求項１若しくは２記載の低透過率帯電防止膜形成用塗
液を透明基板上に塗布・乾燥させた後、１００〜４５０
℃の温度で熱処理することにより請求項３記載の低透過
率帯電防止膜を形成することを特徴とする低透過率帯電
防止基材の製造方法。
【請求項５】装置本体とこの前面側に配置された前面板
を備える表示装置において、上記前面板として請求項４記載の低透過率帯電防止基材
がその低透過率帯電防止膜面を外面にして組込まれてい
ることを特徴とする表示装置。