JP2003137546A - Method for manufacturing tin oxide powder - Google Patents

Method for manufacturing tin oxide powder

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JP2003137546A
JP2003137546A JP2001338922A JP2001338922A JP2003137546A JP 2003137546 A JP2003137546 A JP 2003137546A JP 2001338922 A JP2001338922 A JP 2001338922A JP 2001338922 A JP2001338922 A JP 2001338922A JP 2003137546 A JP2003137546 A JP 2003137546A
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JP
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tin oxide
jet mill
powder
oxide powder
raw material
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JP2001338922A
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Japanese (ja)
Inventor
Masataka Yahagi
政隆 矢作
Atsushi Nakamura
篤志 中村
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Nippon Mining Holdings Inc
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Nikko Materials Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a tin oxide powder using a jet mill capable of obtaining a sintered compact excellent in densification and in homogeneity of ingredients preferable for forming an ITO thin film. SOLUTION: The method of manufacturing the tin oxide powder using the jet mill is characterized in that at the time of grinding the tin oxide powder in the jet mill, the linear velocity of the tin oxide raw material powder is set at >=300 m/sec, thereby the grains of raw material powder are ground by colliding to each other in an air flow.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、特にITOスパ
ッタリングターゲットの製造に好適な酸化錫粉末の製造
方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing tin oxide powder, which is particularly suitable for producing an ITO sputtering target.

【0002】[0002]

【従来の技術】ITO(インジウム−錫の複合酸化物)
膜は液晶ディスプレーを中心とする表示デバイスの透明
電極(膜)として広く使用されている。このITO膜を
形成する方法として、真空蒸着法やスパッタリング法な
ど、一般に物理蒸着法と言われている手段によって行わ
れるのが普通である。特に、操作性や皮膜の安定性から
マグネトロンスパッタリング法を用いて形成することが
多い。
2. Description of the Related Art ITO (indium-tin composite oxide)
The film is widely used as a transparent electrode (film) of a display device centering on a liquid crystal display. As a method for forming this ITO film, it is usual to use a method generally called physical vapor deposition, such as vacuum vapor deposition or sputtering. In particular, the magnetron sputtering method is often used in terms of operability and film stability.

【0003】スパッタリング法による膜の形成は、陰極
に設置したターゲットにArイオンなどの正イオンを物
理的に衝突させ、その衝突エネルギーでターゲットを構
成する材料を放出させて、対面している陽極側の基板に
ターゲット材料とほぼ同組成の膜を積層することによっ
て行われる。スパッタリング法による被覆法は処理時間
や供給電力等を調節することによって、安定した成膜速
度でオングストローム単位の薄い膜から数十μmの厚い
膜まで形成できるという特徴を有している。
The film is formed by the sputtering method, in which positive ions such as Ar ions are physically made to collide with a target placed on the cathode, and the material constituting the target is emitted by the collision energy, and the facing anode side. It is carried out by laminating a film having substantially the same composition as the target material on the substrate. The coating method by the sputtering method is characterized in that a thin film of angstrom unit to a thick film of several tens of μm can be formed at a stable film formation rate by adjusting the processing time, the power supply, and the like.

【0004】ITO膜を形成する場合に特に問題となる
のは、スパッタリング時に発生するノジュールである。
ITO膜形成用スパッタリングターゲットは酸化錫粉末
と酸化インジウム粉末とを所定の割合に混合した粉末を
焼結して製造されるが、もともと異なる成分組成の粉末
であるから、混合の段階ですでに同一成分粉末よりも両
者の分散性が劣ることは避けられない。
A particular problem in forming an ITO film is nodules generated during sputtering.
The sputtering target for forming an ITO film is manufactured by sintering a powder in which tin oxide powder and indium oxide powder are mixed in a predetermined ratio, but since they are powders having different component compositions from the beginning, they are already the same at the mixing stage. It is unavoidable that the dispersibility of both is inferior to that of the component powder.

【0005】焼結用粉末の粒径、特に酸化錫の粒が粗大
であると、混合した酸化インジウムに十分に固溶でき
ず、焼結体中に酸化錫の塊として存在する外、焼結体中
の空孔(ポア)の原因となる。また、焼結体ターゲット
の密度が低くなり緻密性に欠け、ITOスパッタリング
膜の形成に際して、ITOターゲットのエロージョン部
にノジュール(突起物)が多発し、これが不規則なスパ
ッタリングを誘発して、異常放電(マイクロアーキン
グ)やクラスター状(固まりになった)の被膜が形成さ
れショートの原因になる問題がある。
If the particle size of the powder for sintering, especially the particles of tin oxide, is large, it cannot be sufficiently dissolved in the mixed indium oxide to form a solid oxide of tin oxide in the sintered body. Causes pores in the body. In addition, the density of the sintered target becomes low and lacks in denseness, and when forming the ITO sputtering film, nodules (protrusions) frequently occur in the erosion part of the ITO target, which induces irregular sputtering and abnormal discharge. There is a problem that (micro-arcing) or cluster-like (hardened) coating is formed, which causes a short circuit.

【0006】また、ノジュールや異常放電に起因して、
スパッタチャンバ内に粗大化した粒子(パーティクル)
が浮遊するようになり、これが基板上に再付着して薄膜
回路を短絡させたり、薄膜の突起物の原因となる問題が
発生する。粉砕機として一般に知られているものとして
は、原料の相互衝突又はライナーに衝突させて粉砕する
ジェットミルや粉砕メディアを使用してメディア間若し
くはライナー間との摩砕によって粉砕するビーズミル等
がある。しかし、一般にジェットミル法では、酸化錫粉
のように固く凝集性の強い原料をサブミクロン領域の粒
径まで粉砕するためには、パス回数の増大など、極端な
処理量の低下を招きコスト的に不利となると言われてい
る。
In addition, due to nodules and abnormal discharge,
Coarse particles in the sputter chamber
Becomes floating, which causes redeposition on the substrate to short-circuit the thin film circuit, or causes a problem of a thin film protrusion. Commonly known pulverizers include a jet mill that pulverizes materials by mutually colliding or colliding with liners for pulverization, and a bead mill that pulverizes by grinding between media or liners using a pulverizing media. However, in general, in the jet mill method, in order to pulverize a hard and highly cohesive raw material such as tin oxide powder to a particle size in the submicron region, the number of passes is increased and the amount of processing is extremely reduced, resulting in cost reduction. It is said to be disadvantageous to.

【0007】このようなことから、ITOターゲットの
焼結用粉末はメディア攪拌型の粉砕機を使用することが
行われており、原料の凝集を制御するのに容易な湿式の
ビーズミルが最適であると言われた。このビーズミルは
粉砕用の硬質ビーズ(ジルコニアビーズ等)とスラリー
化した原料粉を挿入して行うが、原料粉の粒径と粉砕メ
ディア径をコントロールすることにより、原料粉の粒径
が大きいものほど選択的に粉砕されるため、粗大粒の少
ないシャープな粒度分布を得ることができる。このビー
ズミル粉砕機において粉砕動力又はパス回数を増すと、
より微粉化するが、余り強すぎると粉砕量の制御が難し
くなり、また弱すぎるとミル内のビーズとスラリーの動
きが悪くなり、粉砕効率が著しく低下するため、適度な
強さに制御して粉砕を行うことが要求される。
For this reason, a media stirring type pulverizer is used for the sintering powder of the ITO target, and the wet type bead mill, which is easy to control the agglomeration of the raw materials, is the most suitable. I was told. This bead mill is performed by inserting hard beads for grinding (such as zirconia beads) and raw material powder made into a slurry. By controlling the particle diameter of the raw material powder and the diameter of the grinding media, the larger the raw material powder particle size, Since it is selectively ground, a sharp particle size distribution with few coarse particles can be obtained. If you increase the grinding power or the number of passes in this bead mill,
It becomes finer, but if it is too strong, it becomes difficult to control the grinding amount, and if it is too weak, the movement of the beads and slurry in the mill deteriorates, and the grinding efficiency decreases significantly, so control it to an appropriate strength. Grinding is required.

【0008】ITOターゲットの原料粉である酸化イン
ジウム粉については、粉砕が容易であり特に問題となる
ことはないが、酸化錫のように固く、凝集性の強い粉は
酸化インジウム粉に比べて粉砕が難しくなる。したがっ
て、原料粉としては特に酸化錫の粉砕が問題であり、こ
れをコントロールすることが必要となる。上記のよう
に、酸化錫の粉砕に際しては、通常ならば粉砕動力又は
パス回数を増すことによって、より細かく粉砕ができる
と考えられるが、上記の粉砕動力又はパス回数を増すこ
とによる問題以外に、ミル粉砕機内のライナーや硬質ビ
ーズ材料等が酸化錫粉末中にコンタミ(汚染物質)とし
て混入してしまう。これはビーズミル粉砕機を使用した
場合における大きな問題である。また、一般にITOタ
ーゲット焼結体を製造する場合に、上記のようにノジュ
ールやパーティクル発生の問題から高密度化することが
望ましく、そのためには粉砕を強めて粉末の粒径をより
細かくすることが必要となる。しかし、細粒化した粉を
用いて焼結することによる高密度化と細粒化に伴う焼結
材料の汚染の問題は相互に矛盾する問題であり、高密度
化を行うための最適な粉末が得られているとは言えない
のが現状である。以上のことから、ITO薄膜形成に
は、成分が均一でかつ高密度の焼結体ターゲットを得る
ことが必要であったが、これらの要求に満足できる最適
な酸化錫粉末を安定した製造方法により得ることができ
ないという問題があった。
Indium oxide powder, which is the raw material powder for the ITO target, is easy to pulverize and does not cause any particular problem, but powders that are hard and have a strong cohesive property, such as tin oxide, are pulverized as compared with indium oxide powder. Becomes difficult. Therefore, pulverization of tin oxide is particularly problematic as a raw material powder, and it is necessary to control this. As described above, when pulverizing tin oxide, by increasing the pulverizing power or the number of passes, it is considered that the pulverization can be performed more finely, but in addition to the problem due to increasing the pulverizing power or the number of passes, The liner, hard bead material, etc. in the mill grinder are mixed in the tin oxide powder as contaminants. This is a major problem when using a bead mill grinder. Further, in general, when manufacturing an ITO target sintered body, it is desirable to increase the density because of the problem of nodule and particle generation as described above. For that purpose, it is necessary to strengthen the pulverization to make the particle diameter of the powder finer. Will be needed. However, the problem of densification by sintering using finely divided powder and the problem of contamination of the sintered material due to the refinement of powder are contradictory to each other. The current situation is that it cannot be said that From the above, in order to form an ITO thin film, it was necessary to obtain a sintered compact target having a uniform composition and a high density. However, an optimum tin oxide powder satisfying these requirements can be produced by a stable production method. There was a problem that I could not get it.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の諸問
題点の解決、特にITO薄膜形成に好適な高密度化と成
分の均一性に優れた焼結体を得ることができるジェット
ミルを用いた酸化錫粉末の製造方法を提供するものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a jet mill capable of solving the above-mentioned various problems, and in particular, obtaining a sintered body having a high density and excellent component uniformity suitable for forming an ITO thin film. A method for producing a tin oxide powder used is provided.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めの技術的な手段は、安定しかつ効率良く微細な酸化錫
粉末を製造するためには、ジェットミルの粉砕条件を工
夫することによって得ることができるとの知見を得た。
この知見に基づき、本発明は 1.ジェットミルによる酸化錫粉末の粉砕に際し、酸化
錫原料粉末の線速度を300m/sec以上とし、気流
中で相互に衝突させて粉砕することを特徴とするジェッ
トミルによる酸化錫粉末の製造方法 2.酸化錫原料粉末の線速度を400m/sec以上と
することを特徴とする上記1記載のジェットミルによる
酸化錫粉末の製造方法 3.ジェットミルによる酸化錫粉末の粉砕に際し、酸化
錫原料粉末のジェットミル内の滞留時間を250秒以上
とすることを特徴とするジェットミルによる酸化錫粉末
の製造方法 4.ジェットミル内の滞留時間を300秒以上とするこ
とを特徴とする上記3記載のジェットミルによる酸化錫
粉末の製造方法 5.酸化錫原料粉末のジェットミル内の滞留時間を25
0秒以上とすることを特徴とする上記1又は2記載のジ
ェットミルによる酸化錫粉末の製造方法 6.ジェットミル内の滞留時間を300秒以上とするこ
とを特徴とする上記1又は2記載のジェットミルによる
酸化錫粉末の製造方法 7.粒度分布から求めた粒径の90wt%以上が0.1
〜3.0μm、粒度分布から求めたメジアン径が0.4
0〜0.6μmである酸化錫に粉砕することを特徴とす
る上記1〜6のそれぞれに記載の酸化錫粉末の製造方法 8.粒度分布から求めた粒径の90wt%以上が0.1
〜1.0μm、かつ粒度分布から求めたメジアン径が
0.40〜0.60μmである酸化錫に粉砕することを
特徴とする上記1〜6のそれぞれに記載の酸化錫粉末の
製造方法を提供する。
A technical means for solving the above problems is to devise the pulverizing conditions of a jet mill in order to stably and efficiently produce fine tin oxide powder. We obtained the knowledge that it can be obtained.
Based on this finding, the present invention provides 1. 1. When pulverizing tin oxide powder with a jet mill, the linear velocity of the tin oxide raw material powder is set to 300 m / sec or more, and the tin oxide powder is made to collide with each other in an air stream and pulverized. 2. The method for producing tin oxide powder by the jet mill as described in 1 above, wherein the linear velocity of the tin oxide raw material powder is 400 m / sec or more. 3. A method for producing a tin oxide powder by a jet mill, characterized in that, when the tin oxide powder is pulverized by the jet mill, a residence time of the tin oxide raw material powder in the jet mill is 250 seconds or more. 4. The method for producing tin oxide powder by the jet mill as described in 3 above, wherein the residence time in the jet mill is 300 seconds or more. The residence time of the tin oxide raw material powder in the jet mill was set to 25.
5. The method for producing tin oxide powder by the jet mill according to 1 or 2 above, which is set to 0 second or longer. 6. The method for producing tin oxide powder by the jet mill according to the above 1 or 2, wherein the residence time in the jet mill is 300 seconds or more. 90 wt% or more of the particle size obtained from the particle size distribution is 0.1
~ 3.0 μm, the median diameter obtained from the particle size distribution is 0.4
7. A method for producing a tin oxide powder according to each of 1 to 6 above, which comprises pulverizing to a tin oxide having a diameter of 0 to 0.6 μm. 90 wt% or more of the particle size obtained from the particle size distribution is 0.1
To 1.0 μm, and a pulverized into tin oxide having a median diameter of 0.40 to 0.60 μm determined from a particle size distribution, the method for producing tin oxide powder according to each of 1 to 6 above. To do.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明は、例えば塩化錫の溶液又
はスラリーを噴霧熱分解法により得た酸化錫粉末を原料
とし、これを気流中で相互に衝突させて粉砕する、いわ
ゆるジェットミル法を用いてITOスパッタリングター
ゲット用に好適な酸化錫粉末を得るものである。上記の
ように、ジェットミル法では酸化錫粉のように固く凝集
性の強い原料をサブミクロン領域の粒径まで粉砕するた
めには、パス回数の増大など、極端な処理量の低下を招
きコスト的に不利となると言われていたが、ジェットミ
ルによる粉砕条件を改善することにより、効率良く酸化
錫粉末を粉砕できることが分かった。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention uses a so-called jet mill method in which tin oxide powder obtained by spray pyrolysis method from a solution or slurry of tin chloride is used as a raw material and is crushed by colliding with each other in an air stream. Is used to obtain a tin oxide powder suitable for an ITO sputtering target. As mentioned above, in the jet mill method, in order to pulverize a hard and highly cohesive raw material such as tin oxide powder to a particle size in the submicron range, the number of passes increases and the amount of processing decreases drastically, resulting in cost reduction. However, it was found that the tin oxide powder can be efficiently pulverized by improving the pulverization conditions by the jet mill.

【0012】ジェットミル法は、上記の通り、粉砕物同
士の自生粉砕を行うものであるが、このジェットミルの
粉砕効率を上げるためには、ジェットミルの粉砕室内に
導入する粉体である酸化錫原料粉末の線速度及び又はジ
ェットミル内での滞留時間を上げることにより達成でき
ることが分かった。すなわち、ジェットミルによる酸化
錫粉末の粉砕に際して、酸化錫原料粉末の線速度を30
0m/sec以上とし、気流中で相互に激しく衝突させ
て粉砕することにより、粉砕効率を著しく高めることが
可能となった。線速度を300m/sec未満では、粉
砕効率を上げることへの期待ができない。特に、酸化錫
原料粉末の線速度を400m/sec以上とすることに
より、さらに高効率となる。
As described above, the jet mill method performs self-pulverization of pulverized products. In order to improve the pulverization efficiency of this jet mill, the oxidization which is a powder introduced into the pulverization chamber of the jet mill. It has been found that this can be achieved by increasing the linear velocity of the tin raw material powder and / or the residence time in the jet mill. That is, when the tin oxide powder was pulverized by the jet mill, the linear velocity of the tin oxide raw material powder was 30%.
By setting the speed to 0 m / sec or more and violently colliding with each other in the air current and pulverizing, it became possible to remarkably enhance the pulverizing efficiency. If the linear velocity is less than 300 m / sec, it cannot be expected to improve the grinding efficiency. In particular, when the linear velocity of the tin oxide raw material powder is 400 m / sec or more, the efficiency becomes higher.

【0013】また、ジェットミルによる酸化錫粉末の粉
砕に際して、酸化錫原料粉末のジェットミル内の滞留時
間を250秒以上とすることにより、気流中での衝突の
機会を増加させることにより、粉砕効率を著しく高める
ことができる。特に、ジェットミル内の滞留時間を30
0秒以上とすることにより、一層粉砕効率を増加させる
ことができる。上記酸化錫原料粉末の線速度及びジェッ
トミル内の滞留時間の同時調整により著しい粉砕効率の
上昇を図ることができる。
When the tin oxide powder is pulverized by the jet mill, the retention time of the tin oxide raw material powder in the jet mill is set to 250 seconds or more to increase the chances of collision in the air flow, thereby improving the pulverization efficiency. Can be significantly increased. Especially, the residence time in the jet mill is 30
By setting the time to 0 seconds or more, the pulverization efficiency can be further increased. By simultaneously adjusting the linear velocity of the tin oxide raw material powder and the residence time in the jet mill, the grinding efficiency can be significantly increased.

【0014】ジェットミルの概念説明図を図1に示す。
ジェットミルの基本構造は、粉砕室1、その粉砕室1の
内壁のほぼ接線方向に噴出し口を有するグラインディン
グノズル2、及び同様に粉砕室1の内壁のほぼ接線方向
に噴出し口を有する原料を供給するためのベンチュリノ
ズル3からなる。粉砕室1の内部はグラインディングノ
ズル2とベンチュリノズル3からグラインディングエア
10の噴射により旋回気流5が形成される。これによっ
て酸化錫原料粉末が相互に激しく衝突し、粉砕される。
粉砕室1の中央の粉砕物出口4からは被粉砕物9が連続
的又は半連続的に抜き出される。ベンチュリノズル3
は、プッシャーエアー6を噴射するプッシャノズル7を
備え、原料投入口8から供給される粉末原料をベンチュ
リノズル3の先端から粉砕室1の内部に噴射する構造と
なっている。
A conceptual explanatory view of the jet mill is shown in FIG.
The basic structure of the jet mill has a crushing chamber 1, a grinding nozzle 2 having an ejection port in the tangential direction of the inner wall of the crushing chamber 1, and a jet nozzle in the tangential direction of the inner wall of the crushing chamber 1 as well. It comprises a Venturi nozzle 3 for supplying raw materials. A swirling airflow 5 is formed in the crushing chamber 1 by jetting grinding air 10 from the grinding nozzle 2 and the venturi nozzle 3. As a result, the tin oxide raw material powders violently collide with each other and are ground.
The crushed material 9 is continuously or semi-continuously extracted from the crushed material outlet 4 at the center of the crushing chamber 1. Venturi nozzle 3
Has a pusher nozzle 7 for injecting pusher air 6, and has a structure for injecting the powder raw material supplied from the raw material inlet 8 into the crushing chamber 1 from the tip of the venturi nozzle 3.

【0015】一般に、酸化錫原料粉末の線速度は、ジェ
ットミルの粉砕室1内への原料導入部であるベンチュリ
ノズル3の径を絞ることにより、原料粉末の線速度を上
げることができる。しかし、ベンチュリノズル3の径を
絞っただけでは、線速度は上がるものの、粉砕室1内に
供給される空気量が少なくなってしまう。その結果、粉
砕室からの逆流という問題が発生する。これを防止する
ために、時間当たりの原料粉末の処理量を一定量に保つ
必要がある。しかし、この場合は、その分だけ逆に粉砕
室1内での滞留時間を上げることができず、粉砕効率を
上げることができないことを意味する。このようなこと
から、ジェットミルのプッシャノズル7の径を大きくし
て、空気の供給量を増やし、粉砕室内からの逆流を防ぐ
対策をとった。これにより、線速度を上げた場合でも粉
末の処理量を落とすことができ、滞留時間を増やし、粉
砕効率を増加させることが可能となった。
Generally, the linear velocity of the tin oxide raw material powder can be increased by narrowing the diameter of the Venturi nozzle 3 which is a raw material introducing portion into the crushing chamber 1 of the jet mill. However, only by reducing the diameter of the Venturi nozzle 3, although the linear velocity increases, the amount of air supplied into the crushing chamber 1 decreases. As a result, the problem of backflow from the crushing chamber occurs. In order to prevent this, it is necessary to keep the throughput of the raw material powder constant. However, in this case, it means that the residence time in the crushing chamber 1 cannot be increased correspondingly and the crushing efficiency cannot be increased. For this reason, measures were taken to increase the diameter of the pusher nozzle 7 of the jet mill, increase the amount of air supplied, and prevent backflow from the grinding chamber. As a result, the amount of powder to be treated can be reduced even when the linear velocity is increased, the residence time can be increased, and the pulverization efficiency can be increased.

【0016】上記ジェットミルによる酸化錫の粉砕によ
り、ITOスパッタリングターゲットの製造に好適な、
粒度分布から求めた粒径の90wt%以上が0.1〜
3.0μm、粒度分布から求めたメジアン径が0.40
〜0.6μmである酸化錫を安定して高効率に得ること
ができる。特に、粒度分布から求めた粒径の90wt%
以上が0.1〜1.0μm、かつ粒度分布から求めたメ
ジアン径が0.40〜0.60μmである酸化錫粉末を
製造することができる。
By crushing tin oxide by the above jet mill, suitable for manufacturing an ITO sputtering target,
90 wt% or more of the particle size obtained from the particle size distribution is 0.1
3.0 μm, the median diameter obtained from the particle size distribution is 0.40
Tin oxide having a thickness of up to 0.6 μm can be stably obtained with high efficiency. In particular, 90 wt% of the particle size obtained from the particle size distribution
It is possible to produce a tin oxide powder in which the above is 0.1 to 1.0 μm and the median diameter determined from the particle size distribution is 0.40 to 0.60 μm.

【0017】[0017]

【実施例及び比較例】本発明の実施例について説明す
る。なお、本実施例はあくまで1例であり、この例に制
限されるものではない。すなわち、本発明の技術思想の
範囲内で、実施例以外の態様あるいは変形を全て包含す
るものである。
EXAMPLES AND COMPARATIVE EXAMPLES Examples of the present invention will be described. It should be noted that this embodiment is merely an example, and the present invention is not limited to this example. That is, it includes all aspects or modifications other than the examples within the scope of the technical idea of the present invention.

【0018】(実施例1)噴霧・熱分解法によって得た
酸化錫の原料粉末をジェットミルにより気流中で相互に
衝突させて酸化錫の微粉を得た。酸化錫の原料粉末のメ
ジアン径は2.5μmのものを使用した。ジェットミル
のグラインディングノズル(2mmφ×6本)とプッシ
ャノズルにそれぞれコンプレッサから同圧力の空気を供
給する。ジェットミル全体に供給する空気量を2.7m
/minとした。プッシャノズルの空気量はグライン
ディングノズル断面積との比で決まる。プッシャノズル
径を4.2mmφとし、空気量を1.5m/minと
した。プッシャノズルからの空気量とベンチュリ径より
粉末原料の線速度が求められる。ベンチュリノズル径を
8mmφとした。この時の線速度は497m/secで
あった。処理量を3.0kg/hrとしたときは、粒度
分布から求めたメジアン径が0.55μmであり、処理
量を1.0kg/hrとしたときは、粒度分布から求め
たメジアン径が0.38μmとなった。
(Example 1) Tin oxide raw material powders obtained by the spraying / pyrolysis method were made to collide with each other in an air stream by a jet mill to obtain tin oxide fine powders. The raw material powder of tin oxide used had a median diameter of 2.5 μm. Air of the same pressure is supplied from the compressor to the grinding nozzle (2 mmφ x 6) and the pusher nozzle of the jet mill. The amount of air supplied to the entire jet mill is 2.7 m
3 / min. The amount of air in the pusher nozzle is determined by the ratio with the cross-sectional area of the grinding nozzle. The pusher nozzle diameter was 4.2 mmφ and the air amount was 1.5 m 3 / min. The linear velocity of the powder raw material can be obtained from the amount of air from the pusher nozzle and the venturi diameter. The venturi nozzle diameter was 8 mmφ. The linear velocity at this time was 497 m / sec. When the treatment amount was 3.0 kg / hr, the median diameter obtained from the particle size distribution was 0.55 μm, and when the treatment amount was 1.0 kg / hr, the median diameter obtained from the particle size distribution was 0. It became 38 μm.

【0019】(実施例2)上記実施例と同様のメジアン
径2.5μmの酸化錫原料粉末を使用し、同一のジェッ
トミルで、同様の粉砕条件で粉砕した。この時の処理量
から滞留時間を求めた。処理量1kg/hrの時、粉砕
室内の粉体量は97gで滞留時間は348秒であった。
この時の線速度は42.8m/secで、滞留時間は3
48秒であり、粒度分布から求めたメジアン径が0.3
8μmであった。
(Example 2) Using the same tin oxide raw material powder with a median diameter of 2.5 µm as in the above example, the same jet mill was used to pulverize under the same pulverization conditions. The residence time was determined from the amount of treatment at this time. When the treatment amount was 1 kg / hr, the amount of powder in the crushing chamber was 97 g, and the residence time was 348 seconds.
The linear velocity at this time was 42.8 m / sec, and the residence time was 3
48 seconds and the median diameter obtained from the particle size distribution is 0.3.
It was 8 μm.

【0020】(比較例1)上記実施例と同様のメジアン
径2.5μmの酸化錫原料粉末を使用し、同一のジェッ
トミルで、同様の粉砕条件で粉砕した。この時の処理量
から滞留時間を求めた。処理量3kg/hrの時、粉砕
室内の粉体量は176gで滞留時間は211秒であっ
た。この時の線速度は122m/secで、滞留時間は
211秒であり、粒度分布から求めたメジアン径が0.
70μmであった。
Comparative Example 1 Tin oxide raw material powder having a median diameter of 2.5 μm similar to that in the above example was used, and was pulverized by the same jet mill under the same pulverization conditions. The residence time was determined from the amount of treatment at this time. When the treatment amount was 3 kg / hr, the amount of powder in the crushing chamber was 176 g, and the residence time was 211 seconds. The linear velocity at this time was 122 m / sec, the residence time was 211 seconds, and the median diameter determined from the particle size distribution was 0.
It was 70 μm.

【0021】上記実施例1、2から明らかなように、ジ
ェットミルによる酸化錫粉末の粉砕に際し、酸化錫原料
粉末の線速度を30m/sec以上とすることにより、
粒度分布から求めたメジアン径が0.40〜0.6μm
の範囲にある酸化錫に粉砕することができる。また、ジ
ェットミル内の滞留時間を300秒以上とすることによ
り、同様に粒度分布から求めたメジアン径が0.40〜
0.6μmの範囲にある酸化錫に粉砕することができ
る。これに対して、線速度は122m/secで、滞留
時間は211秒である比較例1は、粒度分布から求めた
メジアン径が0.70μmであり、十分な粒度が得られ
ていない。
As is clear from Examples 1 and 2, when the tin oxide powder is pulverized by the jet mill, the linear velocity of the tin oxide raw material powder is set to 30 m / sec or more.
The median diameter obtained from the particle size distribution is 0.40 to 0.6 μm
Can be crushed to tin oxide in the range. Further, by setting the residence time in the jet mill to 300 seconds or more, the median diameter similarly obtained from the particle size distribution is 0.40 to 0.40.
It can be ground to tin oxide in the range of 0.6 μm. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the linear velocity is 122 m / sec and the residence time is 211 seconds, the median diameter obtained from the particle size distribution is 0.70 μm, and sufficient particle size is not obtained.

【0022】[0022]

【発明の効果】ジェットミルによる酸化錫粉末の粉砕に
際して、酸化錫原料粉末の線速度を300m/sec以
上とし、特に線速度を400m/sec以上として、気
流中で相互に激しく衝突させて粉砕することにより、粉
砕効率を著しく高めることが可能となるという優れた効
果を有する。また、ジェットミルによる酸化錫粉末の粉
砕に際して、酸化錫原料粉末のジェットミル内の滞留時
間を250秒以上、特に300秒以上とすることによ
り、気流中での衝突の機会を増加させ、粉砕効率を著し
く高めることができるという著しい効果を有する。特
に、上記酸化錫原料粉末の線速度及びジェットミル内の
滞留時間の同時調整により著しい粉砕効率の上昇を図る
ことができる
When the tin oxide powder is pulverized by the jet mill, the tin oxide raw material powder is crushed by violently colliding with each other in an air stream with a linear velocity of 300 m / sec or more, particularly a linear velocity of 400 m / sec or more. This has an excellent effect that the pulverization efficiency can be remarkably increased. In addition, when the tin oxide powder is pulverized by the jet mill, the residence time of the tin oxide raw material powder in the jet mill is set to 250 seconds or longer, particularly 300 seconds or longer, thereby increasing the chances of collision in the air flow and pulverizing efficiency. Has a remarkable effect that can significantly increase. In particular, it is possible to significantly increase the grinding efficiency by simultaneously adjusting the linear velocity of the tin oxide raw material powder and the residence time in the jet mill.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ジェットミルの概念説明図である。FIG. 1 is a conceptual explanatory view of a jet mill.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 粉砕室 2 グラインディングノズル 3 ベンチュリノズル 4 粉砕物出口 5 旋回気流 6 プッシャーエアー 7 プッシャノズル 8 原料投入口 9 被粉砕物 10 グラインディングエア 1 crushing room 2 grinding nozzle 3 Venturi nozzle 4 crushed material outlet 5 swirling airflow 6 pusher air 7 pusher nozzle 8 Raw material inlet 9 crushed objects 10 grinding air

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ジェットミルによる酸化錫粉末の粉砕に
際し、酸化錫原料粉末の線速度を300m/sec以上
とし、気流中で相互に衝突させて粉砕することを特徴と
するジェットミルによる酸化錫粉末の製造方法。
1. A tin oxide powder produced by a jet mill, characterized in that when a tin oxide powder is pulverized by a jet mill, the linear velocity of the tin oxide raw material powder is 300 m / sec or more, and the tin oxide powder is pulverized by colliding with each other in an air stream. Manufacturing method.
【請求項2】 酸化錫原料粉末の線速度を400m/s
ec以上とすることを特徴とする請求項1記載のジェッ
トミルによる酸化錫粉末の製造方法。
2. The linear velocity of the tin oxide raw material powder is 400 m / s.
ec or more, The manufacturing method of the tin oxide powder by the jet mill of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
【請求項3】 ジェットミルによる酸化錫粉末の粉砕に
際し、酸化錫原料粉末のジェットミル内の滞留時間を2
50秒以上とすることを特徴とするジェットミルによる
酸化錫粉末の製造方法。
3. When the tin oxide powder is ground by a jet mill, the residence time of the tin oxide raw material powder in the jet mill is set to 2
A method for producing tin oxide powder by a jet mill, which is characterized in that the time is 50 seconds or more.
【請求項4】 ジェットミル内の滞留時間を300秒以
上とすることを特徴とする請求項3記載のジェットミル
による酸化錫粉末の製造方法。
4. The method for producing tin oxide powder by a jet mill according to claim 3, wherein the residence time in the jet mill is 300 seconds or more.
【請求項5】 酸化錫原料粉末のジェットミル内の滞留
時間を250秒以上とすることを特徴とする請求項1又
は2記載のジェットミルによる酸化錫粉末の製造方法。
5. The method for producing tin oxide powder by a jet mill according to claim 1, wherein the residence time of the tin oxide raw material powder in the jet mill is 250 seconds or more.
【請求項6】 ジェットミル内の滞留時間を300秒以
上とすることを特徴とする請求項1又は2記載のジェッ
トミルによる酸化錫粉末の製造方法。
6. The method for producing tin oxide powder by a jet mill according to claim 1, wherein the residence time in the jet mill is 300 seconds or more.
【請求項7】 粒度分布から求めた粒径の90wt%以
上が0.1〜3.0μm、粒度分布から求めたメジアン
径が0.40〜0.6μmである酸化錫に粉砕すること
を特徴とする請求項1〜6のそれぞれに記載の酸化錫粉
末の製造方法。
7. A tin oxide having a particle size of 90 wt% or more determined from a particle size distribution of 0.1 to 3.0 μm and a median diameter determined from a particle size distribution of 0.40 to 0.6 μm. The method for producing the tin oxide powder according to each of claims 1 to 6.
【請求項8】 粒度分布から求めた粒径の90wt%以
上が0.1〜1.0μm、かつ粒度分布から求めたメジ
アン径が0.40〜0.60μmである酸化錫に粉砕す
ることを特徴とする請求項1〜6のそれぞれに記載の酸
化錫粉末の製造方法。
8. A pulverized product into tin oxide having 90 wt% or more of the particle size determined from the particle size distribution of 0.1 to 1.0 μm and a median diameter determined from the particle size distribution of 0.40 to 0.60 μm. The method for producing a tin oxide powder according to claim 1, wherein the tin oxide powder is produced.
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