JP2003131006A - Optical film and manufacturing method therefor - Google Patents
Optical film and manufacturing method thereforInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光学用途やディス
プレー分野などに用いられる光学フィルム及びその製造
方法に関し、より詳細には、押出成形により得られ光学
歪み(複屈折)の少ない光学フィルム及びその製造方法
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical film used for optical applications and display fields, and a method for producing the same, and more specifically, an optical film obtained by extrusion molding and having a small optical distortion (birefringence) and the same. It relates to a manufacturing method.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、光学用途やディスプレーにおいて
は、透明性に優れておりかつ残留位相差の小さいフィル
ムが求められている。しかしながら、溶融押出によりフ
ィルムを製造した場合、製膜時の変形による応力歪みが
発生し、光学歪みが残留するという問題があった。2. Description of the Related Art In recent years, a film having excellent transparency and a small residual retardation has been required for optical applications and displays. However, when a film is manufactured by melt extrusion, there is a problem that stress distortion occurs due to deformation during film formation, and optical distortion remains.
【0003】この光学歪みは位相差としてフィルムに残
留するため、該フィルムを光ディスクの基板用や液晶デ
ィスプレーに用いた場合に大きな問題となる。Since this optical distortion remains in the film as a phase difference, it becomes a serious problem when the film is used for a substrate of an optical disk or a liquid crystal display.
【0004】この光学歪みを低減する手段として、例え
ば、特開平4−275129号公報には、ポリカーボネ
ート樹脂を用い、樹脂温度300〜330℃、即ち、ガ
ラス転移温度(Tg)+150℃〜Tg+180℃の温
度で、エアギャップを80〜100mmとし、かつ、冷
却ロールの温度を100〜140℃として押出成形する
光学フィルムの製造方法が開示されている。ここでは、
押出に際しての剪断歪みとフィルムの冷却収縮力とがバ
ランスされ、それによって光学歪みが5×10 -5以下の
光学フィルムが得られるとされている。As a means for reducing this optical distortion, for example,
For example, Japanese Patent Laid-Open No. 4-275129 discloses a polycarbonate.
Resin, using a resin temperature of 300 to 330 ° C.
Lass transition temperature (Tg) + 150 ° C to Tg + 180 ° C
The air gap is 80 to 100 mm and the
Extrusion is performed with the temperature of the waste roll set to 100 to 140 ° C.
A method of making an optical film is disclosed. here,
The shear strain during extrusion and the cooling shrinkage force of the film are
Lance, which results in an optical distortion of 5 × 10 -Fivebelow
It is said that an optical film can be obtained.
【0005】また、特開2000−280268号公報
には、厚さ0.1〜2mm及び残留位相差10nm以下
のシートの製造方法として、シートを構成する樹脂のガ
ラス転移温度をTgとしたとき、押出成形用ベルト及び
ロールの温度をTg〜Tg+50℃として押出成形する
光学フィルムの製造方法が開示されている。Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-280268, as a method for producing a sheet having a thickness of 0.1 to 2 mm and a residual phase difference of 10 nm or less, when the glass transition temperature of the resin constituting the sheet is Tg, A method for producing an optical film is disclosed in which the temperature of the extrusion belt and the roll is Tg to Tg + 50 ° C. and the extrusion molding is performed.
【0006】しかしながら、特開平4−275129号
公報に記載の製造方法では、ポリカーボネート以外の樹
脂、例えばノルボルネン系樹脂などを用いた場合には、
樹脂温度が高くなり過ぎるため、フィルムが劣化する恐
れがあった。However, in the manufacturing method described in Japanese Patent Laid-Open No. 4-275129, when a resin other than polycarbonate, such as a norbornene-based resin, is used,
Since the resin temperature becomes too high, the film may be deteriorated.
【0007】また、特開2000−280268号公報
に記載の製造方法では、100μm未満の薄い光学フィ
ルムを得ることができなかった。更に、ベルトからフィ
ルムを剥離する際にフィルムが伸びることによって、光
学歪みが残留する懸念があった。フィルムに光学歪みが
残留すると、フィルムを光が通過する場合に位相差が生
じるため、光学用途やディスプレー分野には不適当であ
る。Further, according to the manufacturing method described in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-280268, it was not possible to obtain a thin optical film having a thickness of less than 100 μm. Further, when the film is peeled off from the belt, there is a concern that the film may be stretched and optical distortion may remain. The residual optical strain in the film causes a phase difference when light passes through the film, and is not suitable for optical applications and display fields.
【0008】フィルムに位相差(光学歪み)が残留する
現象は、フィルム内の分子が一方向に配向していること
により起こる。残留位相差は、Tg以上の温度で樹脂を
変形させた場合に、変形時の応力の大きさに比例して生
じる。変形時の応力は、樹脂の温度と変形量に依存する
ため、変形量が同じ場合は樹脂の温度によって応力が変
わってくる。The phenomenon that the retardation (optical strain) remains in the film occurs because the molecules in the film are oriented in one direction. The residual retardation occurs when the resin is deformed at a temperature of Tg or higher in proportion to the magnitude of stress at the time of deformation. Since the stress at the time of deformation depends on the temperature of the resin and the amount of deformation, when the amount of deformation is the same, the stress changes depending on the temperature of the resin.
【0009】押出成形法によりフィルムを得る場合、通
常、ダイスから押し出された樹脂がエアギャップにおい
て目標のフィルム厚みとなるように引き落とされるが、
この際に樹脂温度が低下する。樹脂温度が低下すると、
温度が低いほど変形時に大きな応力が発生し、該応力に
基づく大きな位相差が残留することとなる。When a film is obtained by an extrusion molding method, usually, the resin extruded from a die is drawn down to a target film thickness in an air gap.
At this time, the resin temperature decreases. When the resin temperature drops,
The lower the temperature is, the larger stress is generated during the deformation, and the large phase difference based on the stress remains.
【0010】また、光学用途やディスプレー分野に用い
られる光学フィルムでは、光学歪みの大きさを示す残留
位相差だけでなく、光学歪みの方向である光軸がばらつ
いていることが問題となっている。Further, in optical films used for optical applications and display fields, not only the residual phase difference indicating the magnitude of optical distortion but also the optical axis that is the direction of optical distortion is a problem. .
【0011】従来、冷却ロールと樹脂との接点を安定化
し、かつ、光軸ズレの発生を抑制するために、エアーチ
ャンバー、タッチロール、全面ピニングなどのフィルム
を冷却ロールに圧接する方法が一般的に用いられてい
る。しかしながら、これらの方法を用いた場合、上記接
点において更なる応力がフィルムに対して加えられるこ
とで、より多くの位相差が残留しがちであった。Conventionally, in order to stabilize the contact point between the cooling roll and the resin and suppress the occurrence of optical axis deviation, a method of pressing a film such as an air chamber, a touch roll, and full-face pinning to the cooling roll is generally used. Is used for. However, when these methods were used, more stress was likely to remain on the film at the contact, leaving more retardation.
【0012】更に、光学用途においては主として非晶性
熱可塑性樹脂が用いられるが、中でも、飽和ノルボルネ
ン系樹脂は耐熱性及び透明性に優れており、固有複屈折
率が小さくかつ光弾性係数が小さいという利点を有す
る。従って、飽和ノルボルネン系樹脂からなるフィルム
は光学フィルムとして好適であり、そのため、飽和ノル
ボルネン系樹脂からなる光学フィルムにおいて、残留位
相差を低減すること及び光軸ズレの抑制を図ることが強
く求められている。Further, although amorphous thermoplastic resins are mainly used in optical applications, among them, saturated norbornene resins are excellent in heat resistance and transparency, have a small intrinsic birefringence and a small photoelastic coefficient. Has the advantage. Therefore, a film made of a saturated norbornene-based resin is suitable as an optical film, and therefore, in an optical film made of a saturated norbornene-based resin, it is strongly demanded to reduce the residual retardation and suppress the optical axis shift. There is.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
した従来技術の現状に鑑み、残留位相差が小さいだけで
なく、光軸のばらつきが少ない、非晶性熱可塑性樹脂か
らなる光学フィルム及びその製造方法を提供することに
ある。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned state of the art, an object of the present invention is to provide an optical film made of an amorphous thermoplastic resin which has a small residual retardation and a small variation in the optical axis. And to provide a manufacturing method thereof.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本願の第1の発明に係る
光学フィルムは、非晶性熱可塑性樹脂を用いて押出成形
された光学フィルムであって、厚みが100μm未満で
あり、残留位相差が10nm以下であり、かつ、光軸ズ
レが±10°以下であることを特徴とする。The optical film according to the first invention of the present application is an optical film extruded using an amorphous thermoplastic resin, has a thickness of less than 100 μm, and has a residual phase difference. Is 10 nm or less, and the optical axis deviation is ± 10 ° or less.
【0015】また、本願の第2の発明に係る光学フィル
ムは、非晶性熱可塑性樹脂を用いて押出成形された光学
フィルムであって、厚みが100μm未満であり、残留
位相差が3nm以下であり、かつ、光軸ズレが±10°
以下であることを特徴とする。The optical film according to the second invention of the present application is an optical film extruded using an amorphous thermoplastic resin, having a thickness of less than 100 μm and a residual retardation of 3 nm or less. Yes, and the optical axis shift is ± 10 °
It is characterized by the following.
【0016】残留位相差が10nm以下の光学フィル
ム、特に残留位相差が3nm以下の光学フィルムは、光
ディスクや液晶ディスプレーなどの光学用途に好適であ
る。特に、液晶ディスプレーでは、例えば位相差板の原
反フィルムや偏光板の保護フィルムでは、特に低位相差
であることが求められている。従って、本発明に係る光
学フィルムは、残留位相差が非常に小さいため、このよ
うな用途に特に効果的に用いられる。An optical film having a residual retardation of 10 nm or less, particularly an optical film having a residual retardation of 3 nm or less is suitable for optical applications such as optical discs and liquid crystal displays. In particular, in liquid crystal displays, for example, a raw film of a retardation plate or a protective film of a polarizing plate is required to have a particularly low retardation. Therefore, the optical film according to the present invention has a very small residual retardation, and is particularly effectively used for such applications.
【0017】また、光学フィルムの光軸ズレが±10°
以下の場合には、位相差の向きが揃っているため、本発
明に係る光学フィルムを光学用途に用いた場合、良品率
を高めることができる。更に、光学フィルムの厚みが1
00μm未満であるため、光ディスクや液晶ディスプレ
ーなどの小型化を図ることができる。The optical axis deviation of the optical film is ± 10 °.
In the following cases, since the directions of retardation are aligned, when the optical film according to the present invention is used for optical applications, the non-defective rate can be increased. Furthermore, the thickness of the optical film is 1
Since the thickness is less than 00 μm, it is possible to reduce the size of an optical disc, a liquid crystal display, or the like.
【0018】本願の第3の発明に係る光学フィルムは、
本願の第1又は第2の発明に係る光学フィルムにおい
て、非晶性熱可塑性樹脂として後述するノルボルネン系
樹脂が用いられる。そのことによって耐熱性及び透明性
に優れ、固有複屈折率並びに光弾性係数が小さいノルボ
ルネン系樹脂の長所を活かし、より残留位相差が小さ
く、かつ、光軸のばらつきが少ない光学フィルムを提供
することができる。The optical film according to the third invention of the present application is
In the optical film according to the first or second invention of the present application, a norbornene-based resin described later is used as the amorphous thermoplastic resin. As a result, by utilizing the advantages of norbornene-based resin having excellent heat resistance and transparency, and having a small intrinsic birefringence and photoelastic coefficient, it is possible to provide an optical film having a smaller residual retardation and less variation in the optical axis. You can
【0019】本願の第1又は第3の発明に係る光学フィ
ルムは、特に限定されるものではないが、下記する第4
又は第6の発明に係る製造方法に従って製造することが
できる。The optical film according to the first or third invention of the present application is not particularly limited, but the fourth film described below is used.
Alternatively, it can be manufactured according to the manufacturing method of the sixth invention.
【0020】また、本願の第1〜第3の発明に係る光学
フィルムは、特に限定されるものではないが、下記する
第5の発明に係る製造方法に従って製造することができ
る。The optical film according to the first to third inventions of the present application is not particularly limited, but can be manufactured by the manufacturing method according to the fifth invention described below.
【0021】第4の発明に係る光学フィルムの製造方法
では、非晶性熱可塑性樹脂のガラス転移温度をTgとす
ると、押出機に取り付けられたダイスからシート状に押
し出された非晶性熱可塑性樹脂からなるフィルムが冷却
ロールに密着される際に、冷却ロールとフィルムとの接
点直前におけるフィルム温度がTg+50℃以上とされ
る。In the method for producing an optical film according to the fourth aspect of the present invention, assuming that the glass transition temperature of the amorphous thermoplastic resin is Tg, the amorphous thermoplastic resin extruded into a sheet form from a die attached to an extruder. When the resin film is brought into close contact with the cooling roll, the film temperature immediately before the contact between the cooling roll and the film is set to Tg + 50 ° C. or higher.
【0022】図1に示すように、ダイスから押し出され
たフィルムの冷却ロールとの接点直前におけるフィルム
温度をTg+50℃以上とすることにより、この状態で
フィルムが変形されたとしても、樹脂における応力歪み
は小さくなり、フィルム中の残留位相差を10nm以下
とすることができる。As shown in FIG. 1, by setting the film temperature immediately before the contact of the film extruded from the die with the cooling roll to Tg + 50 ° C. or more, even if the film is deformed in this state, stress strain in the resin Becomes smaller, and the residual retardation in the film can be 10 nm or less.
【0023】また、第5の発明に係る光学フィルムの製
造方法では、非晶性熱可塑性樹脂のガラス転移温度をT
gとすると、押出機に取り付けられたダイスからシート
状に押し出されたフィルムが冷却ロールに密着される際
に、冷却ロールとフィルムとの接点直前におけるフィル
ム温度がTg+80℃以上とされる。In the method for producing an optical film according to the fifth aspect of the invention, the glass transition temperature of the amorphous thermoplastic resin is set to T
When g is set, the film temperature immediately before the contact point between the cooling roll and the film is Tg + 80 ° C. or higher when the film extruded in a sheet shape from the die attached to the extruder is brought into close contact with the cooling roll.
【0024】図2に示すように、ダイスから押し出され
たフィルムの冷却ロールとの接点直前におけるフィルム
温度をTg+80℃以上とすることにより、この状態で
フィルムが変形されたとしても、樹脂における応力は著
しく小さくなり、フィルム中の残留位相差を10nm以
下とすることは勿論のこと、3nm以下とすることも可
能となる。As shown in FIG. 2, by setting the film temperature immediately before the contact of the film extruded from the die with the cooling roll to Tg + 80 ° C. or more, even if the film is deformed in this state, the stress in the resin is It becomes remarkably small, and it is possible to set the residual retardation in the film to 3 nm or less as well as 10 nm or less.
【0025】これは、非晶性熱可塑性樹脂は、樹脂の温
度が高温になればなるほど、変形時に応力を発生しない
ためである。従って、製膜時に樹脂に変形を与える際、
適切な温度制御を行うことにより、発生する樹脂の応力
歪みを小さくすることができ、残留位相差を発生し難く
することができる。This is because the amorphous thermoplastic resin does not generate stress during deformation as the temperature of the resin becomes higher. Therefore, when the resin is deformed during film formation,
By performing appropriate temperature control, it is possible to reduce the stress strain of the resin that is generated, and it is possible to make it difficult for the residual phase difference to occur.
【0026】ただし、冷却ロールとフィルムとの接点直
前におけるフィルム温度がTg+50℃以上或いはTg
+80℃以上に制御されたとしても、フィルムの幅方向
に温度バラツキがあると樹脂の変形に対する応力にバラ
ツキが生じるために、樹脂によっては残留位相差がばら
つく恐れがあり、特定部分への応力の集中による光軸ズ
レが生じる恐れもある。そのため、冷却ロールとフィル
ムとの接点直前におけるフィルムの幅方向の温度バラツ
キは10℃以内とすることが望ましい。However, the film temperature immediately before the contact between the cooling roll and the film is Tg + 50 ° C. or higher or Tg.
Even if the temperature is controlled to + 80 ° C or higher, if the temperature varies in the width direction of the film, the stress due to the deformation of the resin will vary. Therefore, the residual phase difference may vary depending on the resin, and the stress applied to a specific part There is a possibility that the optical axis may be displaced due to concentration. Therefore, it is preferable that the temperature variation in the width direction of the film immediately before the contact between the cooling roll and the film is within 10 ° C.
【0027】冷却ロールとフィルムとの接点直前におけ
るフィルム温度をTg+50℃以上或いはTg+80℃
以上とする具体的な方法については、例えば金型の温度
を制御する方法が考えられる。この場合、金型温度を上
げ過ぎると樹脂によっては熱劣化するが、熱劣化しない
程度の温度条件を採用することにより、上記残留位相差
を満足できる光学フィルムを確実に得ることができる。
また、上記接点直前におけるフィルム温度をTg+50
℃以上或いはTg+80℃以上とするために、エアギャ
ップを狭める方法を用いることができる。この場合に
は、ダイライン及びフィルムの厚み精度を十分に考慮し
てエアギャップの大きさを設定すればよい。The film temperature immediately before the contact between the cooling roll and the film is set to Tg + 50 ° C. or higher or Tg + 80 ° C.
As a specific method described above, for example, a method of controlling the temperature of the mold can be considered. In this case, if the mold temperature is raised excessively, some resins are thermally deteriorated, but by adopting a temperature condition that does not cause thermal deterioration, it is possible to reliably obtain an optical film that can satisfy the above-mentioned residual retardation.
In addition, the film temperature immediately before the contact is Tg + 50
A method of narrowing the air gap can be used in order to set the temperature to not less than 0 ° C or Tg + 80 ° C. In this case, the size of the air gap may be set in consideration of the thickness accuracy of the die line and the film.
【0028】一方、冷却ロールとフィルムとの接点直前
におけるフィルムの幅方向の温度バラツキを10℃以内
とする具体的な方法としては、特に限定されるものでは
ないが、例えば、金型温度の精度を上げたり、エアギャ
ップにおいて、幅方向に出力可変のヒーターを用いて幅
方向の樹脂温度を均一に保つ方法や、保温ボックス等で
囲って外乱を防ぐ方法などが考えられる。On the other hand, a specific method for keeping the temperature variation in the width direction of the film within 10 ° C. immediately before the contact between the cooling roll and the film is not particularly limited, but, for example, the accuracy of the mold temperature is accurate. It is conceivable to raise the temperature, to maintain a uniform resin temperature in the width direction by using a heater whose output is variable in the width direction in the air gap, or to enclose the resin in a heat insulation box to prevent disturbance.
【0029】第6の発明に係る光学フィルムの製造方法
では、押出機に取り付けられたダイスからシート状に押
し出された非晶性熱可塑性樹脂からなるフィルムが冷却
ロールに密着された直後の厚みをA、前記ダイスのリッ
プクリアランスをBとすると、B/Aの値が、前記フィ
ルムの厚みが70μm以上、100μm未満の場合には
10以下であり、50μm以上、70μm未満の場合に
は15以下であり、50μm以下の場合には20以下で
あり、かつ、前記非晶性熱可塑性樹脂のガラス転移温度
をTgとすると、前記フィルムが冷却ロールに密着され
る際に、冷却ロールとフィルムとの接点直前のフィルム
温度がTg+30℃以上とされる。In the method for producing an optical film according to the sixth aspect of the invention, the thickness immediately after the film made of the amorphous thermoplastic resin extruded in a sheet shape from the die attached to the extruder is adhered to the cooling roll is adjusted. When A and the lip clearance of the die are B, the value of B / A is 10 or less when the thickness of the film is 70 μm or more and less than 100 μm, and 15 or less when 50 μm or more and less than 70 μm. If it is 50 μm or less, it is 20 or less, and, assuming that the glass transition temperature of the amorphous thermoplastic resin is Tg, the contact point between the cooling roll and the film when the film is brought into close contact with the cooling roll. The film temperature immediately before is set to Tg + 30 ° C. or higher.
【0030】図4に示すように、この製造方法では、リ
ップクリアランスがBであるダイス11から非晶性熱可
塑性樹脂からなる溶融樹脂が押し出され、冷却ロール1
3に供給される。冷却ロール13の外表面にフィルム1
2が密着される直前のフィルム温度は、非晶性熱可塑性
樹脂のガラス転移温度をTgとすると、Tg+30℃以
上とされている。また、上記冷却ロールに密着された直
後のフィルムの厚みをAとした場合、B/Aの値は、上
記のように設定されている。上記B/Aを上記特定の範
囲とするには、目標とする光学フィルムの厚みに対し、
ダイス11のリップクリアランスBを調整する方法を用
いることができる。As shown in FIG. 4, in this manufacturing method, the molten resin composed of the amorphous thermoplastic resin is extruded from the die 11 having the lip clearance B, and the cooling roll 1
3 is supplied. Film 1 on the outer surface of the cooling roll 13
When the glass transition temperature of the amorphous thermoplastic resin is set to Tg, the film temperature immediately before 2 is adhered is set to Tg + 30 ° C. or higher. When the thickness of the film immediately after being brought into close contact with the cooling roll is A, the value of B / A is set as described above. In order to set the above B / A to the above specific range, with respect to the target thickness of the optical film,
A method of adjusting the lip clearance B of the die 11 can be used.
【0031】もっとも、溶融粘度の高い非晶性熱可塑性
樹脂を押し出す際には、ダイス11のリップに掛かる樹
脂の圧力により、リップクリアランスBを小さくするこ
とができないことがある。その場合には、樹脂温度を上
昇させて溶融粘度を低くする方法や樹脂の押出量を少な
くする方法により、リップクリアランスBを小さくすれ
ばよい。However, when the amorphous thermoplastic resin having a high melt viscosity is extruded, the lip clearance B may not be reduced due to the resin pressure applied to the lip of the die 11. In that case, the lip clearance B may be reduced by increasing the resin temperature to reduce the melt viscosity or reducing the resin extrusion rate.
【0032】B/A比すなわちドロー比が上記特定の値
よりも大きくなると、エアギャップにおいて樹脂の温度
が低くなり、樹脂が伸長されると得られる光学フィルム
における残留位相差が大きくなりがちとなる。When the B / A ratio, that is, the draw ratio becomes larger than the above specific value, the temperature of the resin becomes low in the air gap, and when the resin is stretched, the residual retardation in the obtained optical film tends to become large. .
【0033】上記のように、B/A比を20以下とし、
かつ、フィルムを冷却ロールに密着させる際に、冷却ロ
ールとフィルムとの接点直前のフィルム温度をTg+3
0℃以上とすることにより、エアギャップにおいて樹脂
に発生する応力が低減され、それによって残留位相差の
小さい光学フィルムを提供することができる。As described above, the B / A ratio is set to 20 or less,
Moreover, when the film is brought into close contact with the cooling roll, the film temperature immediately before the contact point between the cooling roll and the film is Tg + 3.
By setting the temperature to 0 ° C. or higher, the stress generated in the resin in the air gap is reduced, whereby an optical film having a small residual retardation can be provided.
【0034】本願の第7の発明に係る光学フィルムの製
造方法は、本願の第4〜第6の発明のいずれかに係る製
造方法において、押出機に取り付けられたダイスからシ
ート状に押し出された非晶性熱可塑性樹脂からなるフィ
ルムが冷却ロールに密着される際に、前記ダイス出口か
ら冷却ロールとの接点の直前までのエアギャップにおい
てフィルムが保温される。The method for producing an optical film according to the seventh invention of the present application is the sheet manufacturing method according to any one of the fourth to sixth inventions of the present application, in which the film is extruded from a die attached to an extruder. When the film made of the amorphous thermoplastic resin is brought into close contact with the cooling roll, the film is kept warm in the air gap from the die outlet to immediately before the contact point with the cooling roll.
【0035】即ち、上記冷却ロールとの接点の直前まで
のフィルム温度の制御が、エアギャップにおいてフィル
ムを保温することにより行われる。この場合には、図3
に示すように、金型温度を変更する方法に比べて高精度
に温度制御を行うことができてフィルムの幅方向の温度
バラツキも少なくなり、特にノルボルネン系樹脂のよう
に温度制御を高精度に行うことが求められる樹脂に効果
的である。また、金型温度を過度に上昇させる必要がな
いため、樹脂の劣化を抑制するメリットもある。That is, the film temperature is controlled just before the contact with the cooling roll by keeping the film warm in the air gap. In this case,
As shown in, the temperature control can be performed with higher accuracy compared to the method of changing the mold temperature, and the temperature variation in the width direction of the film is reduced. Especially, the temperature control can be performed with high accuracy like the norbornene resin. It is effective for the resin required to be performed. Further, since it is not necessary to raise the mold temperature excessively, there is an advantage that the deterioration of the resin is suppressed.
【0036】上記エアギャップにおける保温は、樹脂の
Tg+30℃以上となるような温度が好ましく、より好
ましくはTg+50℃以上であり、特に好ましくはTg
+80℃以上である。特に、上記保温をTg+80℃以
上の温度とすることにより、光学フィルムの残留位相差
を3nm以下に抑えることが可能となる。The heat retention in the air gap is preferably such that the resin has a temperature of Tg + 30 ° C. or higher, more preferably Tg + 50 ° C. or higher, and particularly preferably Tg + 50 ° C. or higher.
It is + 80 ° C or higher. In particular, by setting the heat retention to a temperature of Tg + 80 ° C. or higher, the residual retardation of the optical film can be suppressed to 3 nm or less.
【0037】上記エアギャップにおける保温の手段は、
ダイスやエアギャップ条件を変えることなく、エアギャ
ップにおいて、ヒーターや保温ボックスのような適宜の
加熱源或いは保温装置を取り付ければよい。保温するエ
アギャップの長さは、通常30〜150mmの範囲で適
宜設計すればよい。The means for keeping heat in the air gap is as follows.
An appropriate heating source such as a heater or a heat retaining box or a heat retaining device may be attached in the air gap without changing the conditions of the die and the air gap. The length of the air gap to be kept warm may be appropriately designed usually in the range of 30 to 150 mm.
【0038】本願の第8の発明に係る光学フィルムの製
造方法は、本願の第4〜第7の発明のいずれかに係る製
造方法において、前記冷却ロールとの接点において、フ
ィルムが冷却ロールに対して押圧されることにより、又
は、冷却ロール側から吸引されることにより、冷却ロー
ルに対してフィルムが密着されるものである。The method for producing an optical film according to an eighth aspect of the present invention is the method for producing an optical film according to any one of the fourth to seventh aspects of the present application, wherein the film is attached to the cooling roll at the contact point with the cooling roll. The film is brought into close contact with the cooling roll by being pressed by or being sucked from the cooling roll side.
【0039】このように冷却ロールとフィルムとの接点
においてフィルムを冷却ロールに対して強制的に密着さ
せることにより、冷却ロールに対するフィルムの接点が
全面で安定化される結果、光軸のばらつきを一層小さく
することができる。By forcibly bringing the film into close contact with the cooling roll at the contact point between the cooling roll and the film, the contact point of the film with respect to the cooling roll is stabilized over the entire surface, resulting in further variation in the optical axis. Can be made smaller.
【0040】本発明に係る光学フィルムの製造方法にお
いて、ダイスから出た溶融樹脂を引き落とし冷却ロール
に強制的に密着させて製膜する際の接点安定化方法とし
て、限定されるものではないが、例えば、エアーチャン
バー、バキュームノズル、静電ピニング、タッチロール
等の幅方向に均一な力を与えることができる通常の装置
を用いればよい。In the method for producing an optical film according to the present invention, the contact stabilizing method for forming a film by forcing the molten resin discharged from the die into close contact with a cooling roll to form a film is not limited, For example, an ordinary device that can apply a uniform force in the width direction, such as an air chamber, a vacuum nozzle, electrostatic pinning, and a touch roll may be used.
【0041】また、本発明に係る光学フィルムの製造方
法における冷却ロールの温度は、用いられる樹脂によっ
ても異なるが、総じて樹脂のTg〜Tg−100℃の範
囲であることが好ましい。Although the temperature of the cooling roll in the method for producing an optical film according to the present invention varies depending on the resin used, it is preferably in the range of Tg to Tg-100 ° C. of the resin as a whole.
【0042】本発明に係る光学フィルムに用いられる非
晶性熱可塑性樹脂とは、殆ど結晶構造をとりえない無定
形状態を保つ高分子であり、そのTgは、樹脂によって
異なるため特に限定されないが、総じて100℃以上の
ものである。The amorphous thermoplastic resin used in the optical film according to the present invention is a polymer that maintains an amorphous state with almost no crystal structure, and its Tg varies depending on the resin, but is not particularly limited. Generally, the temperature is 100 ° C or higher.
【0043】上記非晶性熱可塑性樹脂としては、例え
ば、ポリサルホン、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチ
レン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ノルボルネ
ン系樹脂等が挙げられ、中でも、飽和ノルボルネン系樹
脂が上述した理由により好適に用いられる。これらの非
晶性熱可塑性樹脂は、単独で用いられてもよいし、2種
類以上が併用されてもよい。Examples of the above-mentioned amorphous thermoplastic resin include polysulfone, polymethylmethacrylate, polystyrene, polycarbonate, polyvinyl chloride, norbornene-based resin and the like, and among them, saturated norbornene-based resin is preferable. Used for. These amorphous thermoplastic resins may be used alone or in combination of two or more kinds.
【0044】上記飽和ノルボルネン系樹脂としては、例
えば、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素添加
物、ノルボルネン系モノマーとオレフィンとの付加型重
合体、ノルボルネン系モノマー同士の付加重合体並びに
これらの誘導体等が挙げられる。これらの飽和ノルボル
ネン系樹脂は、単独で用いられてもよいし、2種類以上
が併用されてもよい。Examples of the saturated norbornene-based resin include ring-opening polymer hydrogenated products of norbornene-based monomers, addition-type polymers of norbornene-based monomers and olefins, addition polymers of norbornene-based monomers and their derivatives, and the like. Is mentioned. These saturated norbornene-based resins may be used alone or in combination of two or more kinds.
【0045】上記ノルボルネン系モノマーとしては、例
えば、ビシクロ〔2,2,1〕ヘプト−2−エン(ノル
ボルネン)や、6−メチルビシクロ〔2,2,1〕ヘプ
ト−2−エン、5,6−ジメチルビシクロ〔2,2,
1〕ヘプト−2−エン、1−メチルビシクロ〔2,2,
1〕ヘプト−2−エン、6−エチルビシクロ〔2,2,
1〕ヘプト−2−エン、6−n−ブチルビシクロ〔2,
2,1〕ヘプト−2−エン、6−イソブチルビシクロ
〔2,2,1〕ヘプト−2−エン、7−メチルビシクロ
〔2,2,1〕ヘプト−2−エンなどのノルボルネンや
その置換体等の2環体が挙げられるが、これらに限られ
るものでなく、3環体以上のノルボルネン系モノマーや
その置換体も使用できる。Examples of the norbornene-based monomer include bicyclo [2,2,1] hept-2-ene (norbornene), 6-methylbicyclo [2,2,1] hept-2-ene, 5,6. -Dimethylbicyclo [2,2,2
1] hept-2-ene, 1-methylbicyclo [2,2,2]
1] hept-2-ene, 6-ethylbicyclo [2,2,2]
1] hept-2-ene, 6-n-butylbicyclo [2,2]
Norbornene such as 2,1] hept-2-ene, 6-isobutylbicyclo [2,2,1] hept-2-ene, and 7-methylbicyclo [2,2,1] hept-2-ene, and their substitution products Examples thereof include, but are not limited to, bicyclic compounds such as tricyclic or higher norbornene-based monomers and substituted compounds thereof.
【0046】上記ノルボルネン系モノマーの開環重合体
水素添加物としては、上記ノルボルネン系モノマーを公
知の方法で開環重合させた後、残留している二重結合が
水素添加されているものが広く用いられる。これは、ノ
ルボルネン系モノマーの単独重合体であっても共重合体
であってもよく、ノルボルネン系モノマーと他の環状オ
レフィン系モノマーとの共重合体であってもよい。As the hydrogenated product of the ring-opening polymer of the norbornene-based monomer, those obtained by subjecting the norbornene-based monomer to ring-opening polymerization by a known method and then hydrogenating the remaining double bond are widely used. Used. This may be a homopolymer or a copolymer of norbornene-based monomers, or a copolymer of norbornene-based monomers and other cyclic olefin-based monomers.
【0047】また、上記ノルボルネン系モノマーとオレ
フィンとの付加型重合体としては、ノルボルネン系モノ
マーとα−オレフィンとの共重合体が挙げられる。上記
α−オレフィンとしては、炭素数2〜20、好ましくは
2〜10のα−オレフィン、例えば、エチレン、プロピ
レン、1−ブテン、3−メチル−1−ブテン、1−ペン
テン、3−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペ
ンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1
−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン等が
挙げられ、中でも、共重合性が高いことから、エチレン
が好ましく、他のα−オレフィンをノルボルネン系モノ
マーと共重合させる場合にも、エチレンが存在している
方が共重合性が高められる。Further, examples of the addition type polymer of the norbornene-based monomer and the olefin include a copolymer of the norbornene-based monomer and the α-olefin. The α-olefin has 2 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, for example, ethylene, propylene, 1-butene, 3-methyl-1-butene, 1-pentene, 3-methyl-1. -Pentene, 4-methyl-1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1
-Dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, and the like. Among them, ethylene is preferable because of high copolymerizability, and ethylene is present even when other α-olefin is copolymerized with a norbornene-based monomer. The copolymerizability is improved by increasing the temperature.
【0048】[0048]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光学フィルム
の実施形態及び具体的な実施例を説明することにより、
本発明を明らかにする。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the embodiments and specific examples of the optical film according to the present invention will be explained.
The present invention will be clarified.
【0049】尚、以下において、残留位相差及び光軸ズ
レは、王子計測機器社製の商品名「KOBRA−21A
DH」を用い、測定波長590nmで測定された値であ
る。具体的には、残留位相差は、得られたフィルムの幅
方向に対しては両端をそれぞれ幅方向寸法の10%切断
した後に50mmピッチで全点を測定し、また、流れ方
向(長さ方向)に対しては1mピッチで3点を測定し、
これらの測定値の平均を示した。また、光軸ズレは平均
の光軸方向を0°とした。In the following, the residual phase difference and the optical axis shift are referred to as "KOBRA-21A" manufactured by Oji Scientific Instruments.
DH "is a value measured at a measurement wavelength of 590 nm. Specifically, the residual retardation was measured at all points at a 50 mm pitch after cutting both ends in the width direction of the obtained film by 10% of the width direction dimension respectively, and also in the flow direction (length direction). ) Is measured at 1m pitch at 3 points,
The average of these measurements is shown. Further, the optical axis shift was set to 0 ° in the average optical axis direction.
【0050】使用した樹脂‥‥飽和ノルボルネン系樹
脂(日本ゼオン社製、商品名「ゼオノア1600」、T
g=168℃)、ポリサルホン樹脂(帝人アモコエンジ
ニアリングプラスチックス社製、商品名「ユーデル35
00」、Tg=193℃)を予備乾燥したもの。Resin used: saturated norbornene resin (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name "Zeonor 1600", T
g = 168 ° C.), polysulfone resin (manufactured by Teijin Amoco Engineering Plastics, trade name “Udel 35”)
00 ", Tg = 193 ° C).
【0051】押出機‥‥内径50mm、L/D=2
8、単軸押出機、押出温度は270〜320℃で調整し
た。
Tダイ‥‥幅500mmのコートハンガータイプを使
用した。
冷却ロール‥‥エアーチャンバーを取り付けたものを
用い、その温度は140℃とした。Extruder: Internal diameter 50 mm, L / D = 2
8. Single screw extruder, the extrusion temperature was adjusted at 270 to 320 ° C. T-die: A coat hanger type with a width of 500 mm was used. Cooling roll: A roll equipped with an air chamber was used, and the temperature was 140 ° C.
【0052】上記装置を用い、以下の実施例及び比較例
では、幅430mm、厚み40μmのフィルムを製造し
た。In the following examples and comparative examples, a film having a width of 430 mm and a thickness of 40 μm was produced using the above apparatus.
【0053】(実施例1)飽和ノルボルネン系樹脂を使
用し、金型温度を310℃、エアギャップを80mmと
して押し出した。冷却ロールとの接点直前のフィルム温
度を放射温度計を用いて測定したところ220℃であ
り、残留位相差は平均9.50nm、光軸ズレは±7°
であった。(Example 1) A saturated norbornene-based resin was used and extruded with a mold temperature of 310 ° C and an air gap of 80 mm. When the film temperature immediately before the contact with the cooling roll was measured with a radiation thermometer, it was 220 ° C., the average residual phase difference was 9.50 nm, and the optical axis deviation was ± 7 °.
Met.
【0054】(実施例2)飽和ノルボルネン系樹脂を金
型温度310℃、エアギャップ70mmで押し出した。
冷却ロールとの接点直前のフィルム温度は250℃であ
り、残留位相差は平均2.75nm、光軸ズレは±7°
であった。Example 2 A saturated norbornene resin was extruded at a mold temperature of 310 ° C. and an air gap of 70 mm.
The film temperature immediately before contact with the cooling roll was 250 ° C, the residual phase difference was 2.75 nm on average, and the optical axis deviation was ± 7 °.
Met.
【0055】(実施例3)飽和ノルボルネン系樹脂を金
型温度290℃、エアギャップ80mmとして押し出
し、エアギャップにおいてフィルムから30mm離れた
所にヒーターを設置してフィルムを保温したところ、冷
却ロールとの接点直前のフィルム温度は232℃であ
り、残留位相差は平均9.00nm、光軸ズレは±7°
であった。Example 3 Saturated norbornene-based resin was extruded at a mold temperature of 290 ° C. with an air gap of 80 mm, and a heater was placed at a distance of 30 mm from the film in the air gap to keep the film warm. The film temperature immediately before the contact was 232 ° C, the average residual retardation was 9.00 nm, and the optical axis deviation was ± 7 °.
Met.
【0056】(実施例4)飽和ノルボルネン系樹脂を金
型温度を290℃、エアギャップを70mmとして押し
出し、エアギャップにおいてフィルムから30mm離れ
た所にヒーターを設置してフィルムを保温したところ、
冷却ロールとの接点直前のフィルム温度は258℃であ
り、残留位相差は平均2.50nm、光軸ズレは±7°
であった。Example 4 A saturated norbornene resin was extruded with a mold temperature of 290 ° C. and an air gap of 70 mm, and a heater was installed at a position 30 mm away from the film in the air gap to keep the film warm.
The film temperature immediately before contact with the cooling roll was 258 ° C, the residual phase difference was 2.50 nm on average, and the optical axis deviation was ± 7 °.
Met.
【0057】(実施例5)ポリサルホン樹脂を使用し、
金型温度を310℃、エアギャップを80mmとして押
し出した。エアギャップにおいてフィルムから30mm
離れた所にヒーターを設置してフィルムを保温したとこ
ろ、冷却ロールとの接点直前のフィルム温度は250℃
であり、残留位相差は平均8.90nm、光軸ズレは±
7°であった。Example 5 Using polysulfone resin,
Extrusion was performed with the mold temperature set at 310 ° C. and the air gap set at 80 mm. 30 mm from the film in the air gap
When a heater is installed at a remote place to keep the film warm, the film temperature immediately before contact with the cooling roll is 250 ° C.
The average residual phase difference is 8.90 nm, and the optical axis deviation is ±
It was 7 °.
【0058】(実施例6)ポリサルホン樹脂を金型温度
320℃、エアギャップを70mmとして押し出し、エ
アギャップにおいてフィルムから30mm離れた所にヒ
ーターを設置してフィルムを保温したところ、冷却ロー
ルとの接点直前のフィルム温度は278℃であり、残留
位相差は平均2.90nm、光軸ズレは±7°であっ
た。Example 6 Polysulfone resin was extruded with a mold temperature of 320 ° C. and an air gap of 70 mm, and a heater was installed at a position 30 mm away from the film in the air gap to keep the film warm. The film temperature immediately before was 278 ° C., the average residual retardation was 2.90 nm, and the optical axis deviation was ± 7 °.
【0059】(実施例7)リップクリアランスを500
μm、冷却ロールに密着した後のフィルム厚みを50μ
m(ドロー比B/A=10)とし、他は実施例1と同様
にしてフィルムを得た。得られたフィルムの残留位相差
は平均5.20nm、光軸ズレは±4°であった。ま
た、このときの冷却ロールとの接点直前のフィルム温度
は212℃であった。(Embodiment 7) The lip clearance is set to 500.
μm, film thickness after adhesion to the cooling roll is 50μ
A film was obtained in the same manner as in Example 1 except that m (draw ratio B / A = 10). The resulting film had an average residual retardation of 5.20 nm and an optical axis shift of ± 4 °. The film temperature immediately before contact with the cooling roll at this time was 212 ° C.
【0060】(実施例8)リップクリアランスを500
μm、冷却ロールに密着した後のフィルム厚みを30μ
m(ドロー比B/A=17)とし、他は実施例1と同様
にしてフィルムを得た。得られたフィルムの残留位相差
は平均8.80nm、光軸ズレは±3°であった。ま
た、このときの冷却ロールとの接点直前のフィルム温度
は203℃であった。(Embodiment 8) Lip clearance of 500
μm, film thickness after adhesion to the cooling roll is 30μ
A film was obtained in the same manner as in Example 1 except that m (draw ratio B / A = 17). The resulting film had an average residual retardation of 8.80 nm and an optical axis shift of ± 3 °. The film temperature immediately before the contact with the cooling roll at this time was 203 ° C.
【0061】(実施例9)実施例5で使用した樹脂を用
いて、リップクリアランスを500μm、冷却ロールに
密着した後のフィルム厚みを50μm(ドロー比B/A
=10)とし、他は実施例1と同様にしてフィルムを得
た。得られたフィルムの残留位相差は平均6.00n
m、光軸ズレは±5°であった。また、このときの冷却
ロールとの接点直前のフィルム温度は235℃であっ
た。(Example 9) Using the resin used in Example 5, the lip clearance was 500 μm, and the film thickness after being adhered to a cooling roll was 50 μm (draw ratio B / A).
= 10), and other conditions were the same as in Example 1 to obtain a film. The residual retardation of the obtained film is 6.00n on average.
m, optical axis deviation was ± 5 °. The film temperature immediately before contact with the cooling roll was 235 ° C.
【0062】(比較例1)実施例1で使用した樹脂を用
いて、金型温度290℃、エアギャップ80mmで押し
出したところ、冷却ロールとの接点直前のフィルム温度
は207℃であり、得られたフィルムの残留位相差は平
均12.10nm、光軸ズレは±7°であった。Comparative Example 1 The resin used in Example 1 was extruded with a mold temperature of 290 ° C. and an air gap of 80 mm. The film temperature immediately before contact with the cooling roll was 207 ° C. The average residual retardation of the film was 12.10 nm, and the optical axis deviation was ± 7 °.
【0063】(比較例2)実施例1で使用した樹脂を用
いて、リップクリアランスを1000μm、冷却ロール
に密着された後のフィルム厚みを50μm(ドロー比B
/A=20)とし、他は実施例1と同様にしてフィルム
を得た。得られたフィルムの残留位相差は平均11.6
0nm、光軸ズレは±3°であった。また、このときの
冷却ロールとの接点直前のフィルム温度は195℃であ
った。(Comparative Example 2) Using the resin used in Example 1, the lip clearance was 1000 μm, and the film thickness after being adhered to the cooling roll was 50 μm (draw ratio B).
/ A = 20), and otherwise a film was obtained in the same manner as in Example 1. The residual retardation of the obtained film is 11.6 on average.
The optical axis deviation was 0 nm and the deviation was ± 3 °. The film temperature immediately before contact with the cooling roll at this time was 195 ° C.
【0064】[0064]
【発明の効果】第1の発明に係る光学フィルムでは、厚
みが100μm未満であり、残留位相差が10nm以下
であり、かつ、光軸ズレが±10°以下であるため、光
学歪みが小さく、光ディスクや液晶ディスプレーなどの
光学用途に好適なフィルムを提供することができる。In the optical film according to the first invention, the thickness is less than 100 μm, the residual retardation is 10 nm or less, and the optical axis deviation is ± 10 ° or less, so that the optical distortion is small, It is possible to provide a film suitable for optical applications such as optical disks and liquid crystal displays.
【0065】第2の発明に係る光学フィルムでは、厚み
が100μm未満であり、残留位相差が3nm以下であ
り、かつ、光軸ズレが±10°以下であるため、光学歪
みが非常に小さく、光ディスクや液晶ディスプレーなど
の光学用途に極めて好適なフィルムを提供することがで
きる。In the optical film according to the second invention, since the thickness is less than 100 μm, the residual retardation is 3 nm or less, and the optical axis deviation is ± 10 ° or less, the optical distortion is very small, It is possible to provide a film extremely suitable for optical applications such as an optical disk and a liquid crystal display.
【0066】第4の発明に係る製造方法では、ダイス出
口から冷却ロールとフィルムとの接点直前までのフィル
ムの温度がTg+50℃以上に設定されるので、第1の
発明に係る光学歪みの小さいフィルムを提供することが
できる。In the manufacturing method according to the fourth aspect of the invention, since the temperature of the film from the die exit to immediately before the contact point between the cooling roll and the film is set to Tg + 50 ° C. or higher, the film with small optical distortion according to the first aspect of the invention. Can be provided.
【0067】第5の発明に係る製造方法では、ダイス出
口から冷却ロールとフィルムとの接点直前までのフィル
ムの温度がTg+80℃以上に設定されるので、第1の
発明に係る光学フィルムは勿論のこと、第2の発明に係
る光学歪みの非常に小さいフィルムを提供することがで
きる。In the manufacturing method according to the fifth aspect of the invention, the temperature of the film from the die exit to immediately before the contact point between the cooling roll and the film is set to Tg + 80 ° C. or higher. That is, it is possible to provide a film having very small optical distortion according to the second invention.
【0068】第6の発明に係る製造方法では、前記ドロ
ー比B/Aが特定の値とされており、かつ、フィルムが
冷却ロールに密着する直前の温度がTg+30℃以上と
されているので、厚みが100μm未満であり、残留位
相差が10nm以下であり、かつ、光軸ズレが±10°
以下である第1の発明に係る光学フィルムを確実に提供
することが可能となる。In the manufacturing method according to the sixth aspect of the invention, the draw ratio B / A is set to a specific value, and the temperature immediately before the film is brought into close contact with the cooling roll is Tg + 30 ° C. or higher. The thickness is less than 100 μm, the residual phase difference is 10 nm or less, and the optical axis shift is ± 10 °.
It is possible to reliably provide the following optical film according to the first invention.
【0069】以上の本発明に係る光学フィルム及び本発
明に係る製造方法に従って得られる光学フィルムは、ま
た、その光学歪みが小さいことにより、これを原反フィ
ルムとして一軸もしくは二軸に或いは斜め方向に延伸配
向させてなる各種位相差補償用フィルムにも好適に採用
され得る。The optical film according to the present invention and the optical film obtained by the production method according to the present invention have a small optical strain, and thus are used as a raw film uniaxially or biaxially or in an oblique direction. It can also be suitably used for various retardation compensation films formed by stretching and orientation.
【図1】本発明において、ダイスの出口からの距離とフ
ィルム温度との関係を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a relationship between a distance from an exit of a die and a film temperature in the present invention.
【図2】本発明において、ダイスの出口からの距離とフ
ィルム温度との関係を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a distance from an exit of a die and a film temperature in the present invention.
【図3】本発明において、エアギャップでフィルムが保
温される場合のダイスの出口からの距離とフィルム温度
との関係を示す図。FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the distance from the die exit and the film temperature when the film is kept warm in the air gap in the present invention.
【図4】第6の発明に係る製造方法におけるダイスリッ
プと冷却ロールとの間における光学フィルム成形工程を
説明するための略図的断面図。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining an optical film molding step between a die slip and a cooling roll in the manufacturing method according to the sixth aspect of the invention.
11‥‥ダイス 12‥‥フィルム 13‥‥冷却ロール 11 ... Dice 12 ... film 13 ... Cooling roll
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // B29K 45:00 B29K 45:00 B29L 11:00 B29L 11:00 (72)発明者 西村 克巳 京都市南区上鳥羽上調子町2−2 積水化 学工業株式会社内 Fターム(参考) 2H090 JB03 JB06 JB13 JC06 JC07 JD01 JD05 LA05 LA06 LA07 LA08 LA09 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FB02 FC07 FC22 GA01 GA07 GA16 KA10 LA03 LA16 4F207 AA12 AG01 AH73 AR06 AR12 KA01 KA17 KK64 KL76 KL84 KM15 KM16 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) // B29K 45:00 B29K 45:00 B29L 11:00 B29L 11:00 (72) Inventor Katsumi Nishimura Kyoto City 2-2 Kamitobagami-chochocho, Minami-ku Sekisui Kagaku Kogyo Co., Ltd. F-term (reference) 2H090 JB03 JB06 JB13 JC06 JC07 JD01 JD05 LA05 LA06 LA07 LA08 LA09 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FB02 FC07 FC22 GA01 GA07 GA16 KA10 LA03 LA16 LA16 LA16 LA207 AA12 AG01 AH73 AR06 AR12 KA01 KA17 KK64 KL76 KL84 KM15 KM16
Claims (8)
れた光学フィルムであって、厚みが100μm未満であ
り、残留位相差が10nm以下であり、かつ、光軸ズレ
が±10°以下であることを特徴とする光学フィルム。1. An optical film extruded using an amorphous thermoplastic resin, having a thickness of less than 100 μm, a residual retardation of 10 nm or less, and an optical axis deviation of ± 10 ° or less. Is an optical film.
れた光学フィルムであって、厚みが100μm未満であ
り、残留位相差が3nm以下であり、かつ、光軸ズレが
±10°以下であることを特徴とする光学フィルム。2. An optical film extruded using an amorphous thermoplastic resin, having a thickness of less than 100 μm, a residual retardation of 3 nm or less, and an optical axis deviation of ± 10 ° or less. Is an optical film.
ネン系樹脂であることを特徴とする請求項1又は2に記
載の光学フィルム。3. The optical film according to claim 1, wherein the amorphous thermoplastic resin is a saturated norbornene-based resin.
度をTgとすると、押出機に取り付けられたダイスから
シート状に押し出された非晶性熱可塑性樹脂からなるフ
ィルムが冷却ロールに密着される際に、冷却ロールとフ
ィルムとの接点直前におけるフィルム温度がTg+50
℃以上とされることを特徴とする請求項1又は3に記載
の光学フィルムの製造方法。4. When the glass transition temperature of the amorphous thermoplastic resin is Tg, a film made of the amorphous thermoplastic resin extruded in a sheet form from a die attached to an extruder is closely attached to a cooling roll. The film temperature immediately before the contact between the cooling roll and the film is Tg + 50
The temperature is set to not less than 0 ° C, and the method for producing an optical film according to claim 1 or 3, wherein.
度をTgとすると、押出機に取り付けられたダイスから
シート状に押し出された非晶性熱可塑性樹脂からなるフ
ィルムが冷却ロールに密着される際に、冷却ロールとフ
ィルムとの接点直前におけるフィルム温度がTg+80
℃以上とされることを特徴とする請求項1〜3のいずれ
かに記載の光学フィルムの製造方法。5. When the glass transition temperature of the amorphous thermoplastic resin is Tg, a film made of the amorphous thermoplastic resin extruded in a sheet form from a die attached to an extruder is brought into close contact with a cooling roll. The temperature of the film just before the contact between the cooling roll and the film is Tg + 80
4. The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 3, wherein the temperature is not lower than 0 ° C.
ト状に押し出された前記非晶性熱可塑性樹脂からなるフ
ィルムが冷却ロールに密着された直後の厚みをA、前記
ダイスのリップクリアランスをBとすると、B/Aの値
が、前記フィルムの厚みが70μm以上、100μm未
満の場合には10以下であり、50μm以上、70μm
未満の場合には15以下であり、50μm未満の場合に
は20以下であり、かつ、前記非晶性熱可塑性樹脂のガ
ラス転移温度をTgとすると、前記フィルムが冷却ロー
ルに密着される際に、冷却ロールとフィルムとの接点直
前のフィルム温度がTg+30℃以上とされることを特
徴とする請求項1又は3に記載の光学フィルムの製造方
法。6. A is a thickness immediately after a film made of the amorphous thermoplastic resin extruded in a sheet shape from a die attached to an extruder is closely attached to a cooling roll, and A is a lip clearance of the die. Then, the value of B / A is 10 or less when the thickness of the film is 70 μm or more and less than 100 μm, and 50 μm or more, 70 μm
If it is less than 15, it is not more than 15; if it is less than 50 μm, it is not more than 20; The film temperature immediately before the contact between the cooling roll and the film is Tg + 30 ° C. or higher, and the method for producing an optical film according to claim 1, wherein
ト状に押し出された非晶性熱可塑性樹脂からなるフィル
ムが冷却ロールに密着される際に、前記ダイス出口から
冷却ロールとフィルムとの接点の直前までのエアギャッ
プにおいてフィルムが保温されることを特徴とする請求
項4〜6のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。7. When a film made of an amorphous thermoplastic resin extruded in a sheet form from a die attached to an extruder is brought into close contact with a cooling roll, the contact between the cooling roll and the film comes out from the die outlet. The method for producing an optical film according to any one of claims 4 to 6, wherein the film is kept warm in the air gap immediately before.
いて、フィルムが冷却ロールに対して押圧されることに
より、又は、冷却ロール側から吸引されることにより、
冷却ロールに対してフィルムが密着されることを特徴と
する請求項4〜7のいずれかに記載の光学フィルムの製
造方法。8. At the contact point between the cooling roll and the film, the film is pressed against the cooling roll, or sucked from the cooling roll side,
The method for producing an optical film according to claim 4, wherein the film is closely attached to the cooling roll.
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