JP2003128737A - Resin composition, resin composition for optical waveguide and cured product of the same - Google Patents

Resin composition, resin composition for optical waveguide and cured product of the same

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JP2003128737A
JP2003128737A JP2001321308A JP2001321308A JP2003128737A JP 2003128737 A JP2003128737 A JP 2003128737A JP 2001321308 A JP2001321308 A JP 2001321308A JP 2001321308 A JP2001321308 A JP 2001321308A JP 2003128737 A JP2003128737 A JP 2003128737A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a resin composition for optical waveguide solved of problems caused by solvents and excellent in processability and provide a cured product of the same. SOLUTION: This resin composition comprises a urethane methacrylate compound (A) which is a reaction product of a compound (a) expressed by general formula (1) (wherein R1 expresses H or CH3 ; R2 , R3 , R4 and R5 are the same or different and each expresses H, a halogen or a 1-6C alkyl) with 2-isocyanate- ethyl methacrylate (b) and an ethylenically unsaturated compound (B) except the component (A).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光回路、光電子混
載基板などに使用できる平坦性に優れ、加工が容易な光
導波路に適する樹脂組成物及びその硬化物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin composition suitable for an optical waveguide which is excellent in flatness and can be easily processed, which can be used for an optical circuit, an opto-electronic hybrid board, etc.

【0002】[0002]

【従来の技術】光導波路の材料として石英がよく用いら
れているが、加工温度が高い、大面積のものが作製しが
たいという問題があった。最近、加工のし易さの観点か
らポリメチルメタクリレート等を利用したプラスチック
導波路の研究が進んでいるが、このような樹脂を用いた
場合でも樹脂は溶剤に溶かした状態で基板などに塗布し
た後、溶剤を除去してコア部等にするため、溶剤を除去
するときに適度な速度で溶剤を除去しなければならな
い。除去速度が大きい場合には気泡やボイドが生じたり
内部歪が発生する。また、除去速度が小さい場合には、
時間が長くかかるという欠点があった。除去温度を上げ
る場合にはやはり気泡やボイドの発生や樹脂と基板との
熱膨張率の差に起因する内部歪が起きる可能性がある。
また、溶剤可溶性の樹脂を光導波路に用いる場合はクラ
ッド部とコア部を形成させるときに既に形成している樹
脂部分が溶剤に溶けないようにしなければならない。こ
のため、樹脂に架橋成分を導入したり、コア部とクラッ
ド部の樹脂成分を変えることが必要であった。光導波路
における光伝送損失要因、固有要因として、赤外振動吸
収の高周波、電子遷移に基づく紫外吸収などの吸収損
失、密度・濃度ゆらぎによるレイリー散乱による散乱損
失が挙げられ、外的要因としては遷移金属・OH基・そ
の他不純物による吸収損失、ほこり・気泡などの不純
物、コア/クラッドの界面不整・コア径の変動・マイク
ロベンディング・配向複屈折などの構造不整による散乱
損失が挙げられる。レイリー散乱に関しては、屈折率の
異なる領域の共存は好ましくなく、光導波部においても
結晶性高分子、ブロック共重合、グラフト共重合などの
ミクロ相分離構造を呈するものは好ましくない。また、
熱運動による固体内の揺らぎも押さえるためには線形高
分子よりも紫外線等により三次元硬化する樹脂が望まれ
ている。また、コア/クラッド界面のはく離も、伝送損
失の要因となるため、クラッド樹脂にはコア材への良好
な密着性、接着性が要求される。このため、コア部とク
ラッド部は類似の成分であることが望まれている。光導
波路のコアの屈折率はクラッドの屈折率よりも大きいこ
とが要求される。一般的なマルチモードの導波路のクラ
ッド材はコア材の2〜3%以上の屈折率差があれば好適
である。また、シングルモードで光導波させる場合、コ
ア部の断面が一辺8μmの正方形であるとき、0.3%
ほど屈折率の小さなクラッドが要求されるため、このよ
うな導波路に用いるコア材とクラッド材の屈折率ゆらぎ
は1000分の5の精度が要求される。したがって、良
くクラッド材に用いられるシリコン樹脂、ポリメタクリ
レート樹脂、ポリカーボネート樹脂等の屈折率範囲
(1.45〜1.60)を制御できるコア材(屈折率
1.46〜1.62)が望まれていた。
2. Description of the Related Art Quartz is often used as a material for optical waveguides, but it has a problem that it is difficult to fabricate a large area having a high processing temperature. Recently, research on plastic waveguides using polymethylmethacrylate, etc. has progressed from the viewpoint of ease of processing. Even when such a resin is used, the resin is applied to the substrate in a state of being dissolved in a solvent. After that, in order to remove the solvent to form the core portion and the like, the solvent must be removed at an appropriate rate when removing the solvent. When the removal rate is high, bubbles or voids are generated or internal strain is generated. If the removal rate is low,
It had the drawback of taking a long time. When the removal temperature is increased, bubbles or voids may be generated and internal strain may occur due to the difference in coefficient of thermal expansion between the resin and the substrate.
Further, when a solvent-soluble resin is used for the optical waveguide, it is necessary to prevent the resin portion already formed when forming the clad portion and the core portion from dissolving in the solvent. Therefore, it has been necessary to introduce a cross-linking component into the resin or change the resin components in the core and clad portions. Optical transmission loss factors in optical waveguides, intrinsic factors include high frequency of infrared vibration absorption, absorption loss such as ultraviolet absorption due to electronic transition, scattering loss due to Rayleigh scattering due to density / concentration fluctuation, and external factors are transitions. Absorption loss due to metals, OH groups, and other impurities, impurities such as dust and bubbles, scattering loss due to structural irregularities such as core / cladding interface irregularity, core diameter fluctuation, microbending, and orientation birefringence. Regarding Rayleigh scattering, the coexistence of regions having different refractive indices is not preferable, and those exhibiting a microphase-separated structure such as crystalline polymer, block copolymer, or graft copolymer in the optical waveguide are not preferable. Also,
In order to suppress fluctuations in the solid due to thermal motion, a resin that is three-dimensionally cured by ultraviolet rays is desired rather than a linear polymer. Further, peeling at the core / clad interface also causes a transmission loss, so that the clad resin is required to have good adhesion and adhesiveness to the core material. Therefore, it is desired that the core part and the clad part have similar components. The refractive index of the core of the optical waveguide is required to be higher than that of the cladding. It is preferable that the cladding material of a general multimode waveguide has a refractive index difference of 2 to 3% or more of that of the core material. In the case of optical waveguide in a single mode, 0.3% when the cross section of the core part is a square of 8 μm on a side.
Since a clad having a smaller refractive index is required, the accuracy of the refractive index fluctuation of the core material and the clad material used for such a waveguide is required to be 5/1000. Therefore, a core material (refractive index 1.46 to 1.62) capable of controlling the refractive index range (1.45 to 1.60) such as silicon resin, polymethacrylate resin, or polycarbonate resin which is often used as a clad material is desired. Was there.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
した課題を解決し、加工性に優れる光導波路用樹脂組成
物及びその硬化物を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a resin composition for an optical waveguide which is excellent in processability and a cured product thereof.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
の結果、特定のウレタンメタクリレート化合物(A)と
(A)成分以外のエチレン性不飽和基含有化合物(B)
を主成分とする樹脂組成物は、組成を変えることにより
屈折率をある程度自由に制御できること、これらの樹脂
は硬化前の粘度が低く、スピンコーティング等の塗布性
に優れ、光導波路のコア部やクラッド層に適用したとき
光透過性に優れ、且つ平坦性に極めて優れていることを
見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明
は、(1)、一般式(1)で表される化合物(a)
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that a specific urethane methacrylate compound (A) and an ethylenically unsaturated group-containing compound (B) other than the component (A) are used.
The resin composition containing as a main component, the refractive index can be controlled to some extent by changing the composition, these resins have a low viscosity before curing, excellent coating properties such as spin coating, and the core portion of the optical waveguide or It was found that when it is applied to a clad layer, it has excellent light transmittance and extremely excellent flatness, and has completed the present invention. That is, the present invention provides the compound (a) represented by (1) and the general formula (1).

【0005】[0005]

【化2】 [Chemical 2]

【0006】(式(1)中、R1は水素原子又はCH3
2、R3、R4、R5は同一又は異なって、水素原子、ハ
ロゲン原子、又は炭素数1〜6のアルキル基を示す)と
2−イソシアネート−エチルメタクリレート(b)の反
応物であるウレタンメタクリレート化合物(A)と
(A)成分以外のエチレン性不飽和基含有化合物(B)
を含有することを特徴とする樹脂組成物、(2)、光重
合開始剤(C)を含有する(1)記載の樹脂組成物、
(3)、光導波路用樹脂組成物である(1)又は(2)
記載の樹脂組成物、(4)、(1)ないし(3)のいず
れか1項に記載の樹脂組成物の硬化物、に関する。
(In the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or CH 3 ,
R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) and a reaction product of 2-isocyanate-ethyl methacrylate (b). Urethane methacrylate compound (A) and ethylenically unsaturated group-containing compound (B) other than component (A)
A resin composition comprising: (2), a resin composition according to (1) containing a photopolymerization initiator (C),
(3), which is a resin composition for an optical waveguide (1) or (2)
And a cured product of the resin composition according to any one of (4) and (1) to (3).

【0007】[0007]

【本発明の実施の形態】本発明の光導波路に適する樹脂
組成物は、特定のウレタンメタクリレート化合物(A)
と(A)成分以外のエチレン性不飽和基含有化合物
(B)との混合物である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The resin composition suitable for the optical waveguide of the present invention is a specific urethane methacrylate compound (A).
And an ethylenically unsaturated group-containing compound (B) other than the component (A).

【0008】本発明では、ウレタンメタクリレート化合
物(A)を使用するウレタンメタクリレート化合物
(A)は、前記一般式(1)で表される化合物(a)と
2−イソシアネート−エチルメタクリレート(b)を反
応させることにより得ることができる。
In the present invention, the urethane methacrylate compound (A) using the urethane methacrylate compound (A) is obtained by reacting the compound (a) represented by the general formula (1) with 2-isocyanate-ethyl methacrylate (b). Can be obtained.

【0009】一般式(1)で表される化合物(a)の具
体例としては、ビス(4−ヒドロキシエチルチオフェニ
ル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシプロピルチオフ
ェニル)スルフィド、ビス(3−メチル−4−ヒドロキ
シエチルチオフェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシエチルチオフェニル)スルフィ
ド、ビス(2,3,5,6−テトラメチル−4−ヒドロ
キシエチルチオフェニル)スルフィド、ビス(3−ヘキ
シル−4−ヒドロキシエチルチオフェニル)スルフィ
ド、ビス(3,5−ジヘキシル−4−ヒドロキシエチル
チオフェニル)スルフィド、ビス(3−クロロ−4−ヒ
ドロキシエチルチオフェニル)スルフィド、ビス(2,
3,5,6−テトラクロロ−4−ヒドロキシエチルチオ
フェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジブロモ−4−
ヒドロキシエチルチオフェニル)スルフィド、ビス(3
−ブロモ−4−ヒドロキシエチルチオフェニル)スルフ
ィド、ビス(2,3,5,6−テトラブロモ−4−ヒド
ロキシエチルチオフェニル)スルフィド。好ましくは、
ビス(4−ヒドロキシエチルチオフェニル)スルフィ
ド、ビス(2,3,5,6−テトラブロム−4−ヒドロ
キシエチルチオフェニル)スルフィド等を挙げることが
できる。
Specific examples of the compound (a) represented by the general formula (1) include bis (4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide, bis (4-hydroxypropylthiophenyl) sulfide and bis (3-methyl-). 4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide, bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide, bis (2,3,5,6-tetramethyl-4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide, bis ( 3-hexyl-4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide, bis (3,5-dihexyl-4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide, bis (3-chloro-4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide, bis (2,2
3,5,6-Tetrachloro-4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide, bis (3,5-dibromo-4-)
Hydroxyethylthiophenyl) sulfide, bis (3
-Bromo-4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide, bis (2,3,5,6-tetrabromo-4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide. Preferably,
Examples thereof include bis (4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide and bis (2,3,5,6-tetrabromo-4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide.

【0010】(a)成分と(b)成分の反応割合は、
(a)成分中の水酸基1当量に対して(b)成分中のイ
ソシアネート基0.5〜1.1当量を反応させるのが好
ましく、0.95〜1.05当量を反応させるのが特に
好ましい。
The reaction ratio between the components (a) and (b) is
It is preferable to react 0.5 to 1.1 equivalents of the isocyanate groups in the component (b) with respect to 1 equivalent of the hydroxyl group in the component (a), and it is particularly preferable to react 0.95 to 1.05 equivalents. .

【0011】反応を促進させるために反応触媒を使用す
るのが好ましい。反応触媒の具体例としては、ジブチル
スズジラウレート、ジ(n−ブチル)スズジ(2−エチ
ルヘキサノエート)等のスズ化合物が挙げられ、反応触
媒の使用量は、反応混合物中50ppm〜1000pp
mが好ましい。
It is preferable to use a reaction catalyst to accelerate the reaction. Specific examples of the reaction catalyst include tin compounds such as dibutyltin dilaurate and di (n-butyl) tin di (2-ethylhexanoate). The amount of the reaction catalyst used is 50 ppm to 1000 pp in the reaction mixture.
m is preferred.

【0012】反応溶媒を使用するのが好ましく、反応溶
媒としては、イソシアネート基や水酸基と不活性の有機
溶剤を好ましく用いることができる。有機溶剤の具体例
としてはメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類、γーブチロラクトン、
εーカプロラクトン等のラクトン類、酢酸エチル、酢酸
ブチル、カルビトールアセテート、ブチるセロソルブア
セテート等のエステル類などを挙げることができる。反
応温度は20〜100℃が好ましく、特に好ましくは3
0〜80℃である。
It is preferable to use a reaction solvent, and as the reaction solvent, an organic solvent inert to isocyanate groups and hydroxyl groups can be preferably used. Specific examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, ketones such as cyclohexanone, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, ethers such as tetrahydrofuran, γ-butyrolactone,
Examples thereof include lactones such as ε-caprolactone and esters such as ethyl acetate, butyl acetate, carbitol acetate, and butyro cellosolve acetate. The reaction temperature is preferably 20 to 100 ° C, particularly preferably 3
It is 0 to 80 ° C.

【0013】本発明では、(A)成分以外のエチレン性
不飽和基含有化合物(B)を使用する。(B)成分の具
体例としては、(メタ)アクリレートモノマー類、(メ
タ)アクリレートオリゴマー類、マレイミド化合物類、
ビニルエーテル化合物類及びN−ビニル化合物類等を挙
げることができる。
In the present invention, the ethylenically unsaturated group-containing compound (B) other than the component (A) is used. Specific examples of the component (B) include (meth) acrylate monomers, (meth) acrylate oligomers, maleimide compounds,
Examples thereof include vinyl ether compounds and N-vinyl compounds.

【0014】(メタ)アクリレートモノマー類の具体例
としては、ドデシル(メタ)アクリレート、2−エチル
ヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリ
ル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリ
レート、アダマンチル(メタ)アクリレート、トリブロ
モフェニル(メタ)アクリレート、メトキシフェニル
(メタ)アクリレート、シアノフェニル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グ
リシジル(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)
アクリレート等の単官能(メタ)アクリレート。ジエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、1,4−ブチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオール
ジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールポリエト
キシジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール
ポリプロポキシジ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ(又はテトラ)(メタ)アクリレートネオペ
ンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパンのε−カプ
ロラクトン付加物のトリ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールのε−カプロラクトン付加物のトリ又は
テトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタ又はヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールのε−カプロラクトン付加物のポリ(メタ)
アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メ
タ)アクリレートテトラブロモビスフェノールAポリエ
トキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAポリ
エトキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールヘキ
サフルオロプロピルポリエトキシジ(メタ)アクリレー
ト、水添ビスフェノールヘキサフルオロプロピルポリエ
トキシジ(メタ)アクリレート等の多官能性(メタ)ア
クリレート等を挙げることができる。
Specific examples of the (meth) acrylate monomers include dodecyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate and tri-. Bromophenyl (meth) acrylate, methoxyphenyl (meth) acrylate, cyanophenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate,
Polyethylene glycol mono (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, carbitol (meth)
Monofunctional (meth) acrylates such as acrylates. Diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butylene glycol di (Meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol polyethoxydi (meth) Acrylate, neopentyl glycol polypropoxydi (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (or tetra) (meth) acrylate neopentylglyce Di- (meth) acrylate of the ε-caprolactone adduct of trimethylol, tri (meth) acrylate of the ε-caprolactone adduct of trimethylolpropane, tri- or tetra (meth) acrylate of the ε-caprolactone adduct of pentaerythritol, dipenta Erythritol penta or hexa (meth) acrylate, poly (meth) adduct of dipentaerythritol with ε-caprolactone
Acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate tetrabromobisphenol A polyethoxydi (meth) acrylate, bisphenol A polyethoxydi (meth) acrylate, bisphenol hexafluoropropyl polyethoxydi (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol hexafluoropropyl polyethoxydi ( Examples thereof include polyfunctional (meth) acrylates such as (meth) acrylate.

【0015】(メタ)アクリレートオリゴマー類の具体
例としては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレ
タン(メタ)アクリレート及びエポキシ(メタ)アクリ
レートを代表的なものとして挙げることができる。
Specific examples of (meth) acrylate oligomers include polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate and epoxy (meth) acrylate.

【0016】ポリエステル(メタ)アクリレートの具体
例としては、(ポリ)エチレングリコール、(ポリ)プ
ロピレングリコール、(ポリ)テトラメチレングリコー
ル、(ポリ)ブチレングリコール、ネオペンチルグリコ
ール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5
−ペンタンジオール、シクロヘキサン−1,4−ジメタ
ノール、ビスフェノールAポリエトキシジオール、水添
ビスフェノールA、トリメチロールプロパン等のポリオ
ール成分とマレイン酸、コハク酸、フマル酸、アジピン
酸、フタル酸、イソフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、
テトラヒドロフタル酸、ダイマー酸、セバチン酸、アゼ
ライン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、等の多
塩基酸及びこれらの無水物との反応物であるポリエステ
ルポリオールの(メタ)アクリレート;前記ポリオール
成分と多塩基酸及びこれらの無水物とε−カプロラクト
ンとの反応物である環状ラクトン変性ポリエステルポリ
オールの(メタ)アクリレート等の多官能性ポリエステ
ル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
Specific examples of polyester (meth) acrylates include (poly) ethylene glycol, (poly) propylene glycol, (poly) tetramethylene glycol, (poly) butylene glycol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5
A polyol component such as pentanediol, cyclohexane-1,4-dimethanol, bisphenol A polyethoxydiol, hydrogenated bisphenol A, trimethylolpropane and maleic acid, succinic acid, fumaric acid, adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, Hexahydrophthalic acid,
Polymethacrylic acid such as tetrahydrophthalic acid, dimer acid, sebacic acid, azelaic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid and the like, and a (meth) acrylate of polyester polyol which is a reaction product thereof; Examples thereof include polyfunctional polyester (meth) acrylates such as (meth) acrylates of cyclic lactone-modified polyester polyols, which are reaction products of acids and their anhydrides with ε-caprolactone.

【0017】ウレタン(メタ)アクリレートの具体例と
しては、有機イソシアネート化合物とポリオール化合物
と水酸基含有(メタ)アクリレート化合物との反応物を
代表的なものとして挙げることができる。
As a specific example of urethane (meth) acrylate, a reaction product of an organic isocyanate compound, a polyol compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound can be mentioned as a typical example.

【0018】有機ポリイソシアネートの具体例として
は、P−フェニレンジイソシアネート、m−フェニレン
ジイソシアネート、P−キシレンジイソシアネート、m
−キシレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソ
シアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,
4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレン
ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類;イソ
ホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、
4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、
水添キシレンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシ
アネート、リジンジイソシアネート等の脂肪族又は脂環
構造のジイソシアネート類;イソシアネートモノマーの
1種類以上のビュレット体又は、上記ジイソシアネート
化合物を三量化したイソシアネート体等のポリイソシア
ネート;等が挙げられる。
Specific examples of the organic polyisocyanate include P-phenylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, P-xylene diisocyanate and m.
-Xylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,
Aromatic diisocyanates such as 4'-diphenylmethane diisocyanate and naphthalene diisocyanate; isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate,
4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate,
Aliphatic or alicyclic diisocyanates such as hydrogenated xylene diisocyanate, norbornene diisocyanate, and lysine diisocyanate; one or more burettes of isocyanate monomers, or polyisocyanates such as isocyanates obtained by trimerizing the above diisocyanate compound; and the like. To be

【0019】ポリオール化合物の具体例としては、前
記、ポリオール成分、ポリエステルポリオール、環状ラ
クトン変性ポリエステルポリオール等を挙げることがで
きる。
Specific examples of the polyol compound include the above-mentioned polyol component, polyester polyol, cyclic lactone-modified polyester polyol and the like.

【0020】水酸基含有(メタ)アクリレート化合物の
具体例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、シク
ロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、4
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリエチレ
ングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレ
ングリコールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−
3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレートなどを挙
げることができる。
Specific examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate and cyclohexanedimethanol mono (meth). Acrylate, 4
-Hydroxybutyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, 2-hydroxy-
3-phenoxypropyl (meth) acrylate etc. can be mentioned.

【0021】エポキシ(メタ)アクリレートの具体例と
しては、2官能性以上のエポキシ基を含有するエポキシ
樹脂と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる生成
物を挙げることができる。
Specific examples of the epoxy (meth) acrylate include a product obtained by reacting an epoxy resin containing a bifunctional or higher epoxy group with (meth) acrylic acid.

【0022】エポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェ
ノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールA
ジグリシジルエーテル、ビスフェノールヘキサフルオロ
アセトンジグリシジルエーテル、テトラブロモビスフェ
ノールAジグリシジルエーテル、1,3−ビス〔1−
(2,3−エポキシプロポキシ)−1−トリフルオロメ
チル−2,2,2−トリフルオロエチル〕ベンゼン、
1,4−ビス〔1−(2,3−エポキシプロポキシ)−
1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエ
チル〕ベンゼン、4,4’−ビス(2,3−エポキシプ
ロポキシ)オクタフルオロビフェニル、スピログリコー
ルジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグ
リシジルエーテル、フェノール・ノボラック型エポキシ
樹脂等が代表的なものとして挙げることができるが、こ
れに限定されるものではない。
Specific examples of the epoxy resin include bisphenol A diglycidyl ether and hydrogenated bisphenol A.
Diglycidyl ether, bisphenol hexafluoroacetone diglycidyl ether, tetrabromobisphenol A diglycidyl ether, 1,3-bis [1-
(2,3-epoxypropoxy) -1-trifluoromethyl-2,2,2-trifluoroethyl] benzene,
1,4-bis [1- (2,3-epoxypropoxy)-
1-trifluoromethyl-2,2,2-trifluoroethyl] benzene, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) octafluorobiphenyl, spiroglycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, phenol Typical examples are novolac type epoxy resins, but the present invention is not limited thereto.

【0023】マレイミド化合物類の具体例としては、マ
レイミド基を含有する化合物であれば使用可能であり、
特開昭58−40374号に記載されている1〜3官能
性マレイミド化合物、特開平3−12414号に記載の
マレイミド基含有ウレタンオリゴマー等を挙げることが
できる。
As specific examples of maleimide compounds, any compound containing a maleimide group can be used.
Examples thereof include a 1 to 3 functional maleimide compound described in JP-A-58-40374 and a maleimide group-containing urethane oligomer described in JP-A-3-12414.

【0024】更に、代表的な具体例としては、N−メチ
ルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−n−プロピ
ルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド、N−アリ
ルマレイミド、N−n−ブチルマレイミド、N−2−メ
チル−プロピルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイ
ミド、N−2−エチルヘキシルマレイミド、N−(2−
ジメチルアミノエチル)マレイミド、N−(1−メトキ
シメチルプロピル)マレイミド、N、N’−1,6−ヘ
キサンビスマレイミド、ビス(3−N−マレイミドプロ
ピル)ポリテトラメチレングリコール、ビス(2−N−
マレイミドプロピル)ポリプロピレングリコール、ビス
(2−N−マレイミドエチル)ポリエチレングリコー
ル、1,2(1,3または1,4)−ビス(N−マレイ
ミドメチル)シクロヘキサン、
Further, as typical examples, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-n-propylmaleimide, N-isopropylmaleimide, N-allylmaleimide, Nn-butylmaleimide, N-2. -Methyl-propylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-2-ethylhexylmaleimide, N- (2-
Dimethylaminoethyl) maleimide, N- (1-methoxymethylpropyl) maleimide, N, N'-1,6-hexane bismaleimide, bis (3-N-maleimidopropyl) polytetramethylene glycol, bis (2-N-
Maleimidopropyl) polypropylene glycol, bis (2-N-maleimidoethyl) polyethylene glycol, 1,2 (1,3 or 1,4) -bis (N-maleimidomethyl) cyclohexane,

【0025】[0025]

【化3】 [Chemical 3]

【0026】[0026]

【化4】 [Chemical 4]

【0027】[0027]

【化5】 [Chemical 5]

【0028】等のマレイミド化合物、これらマレイミド
化合物のマレイミド基中の不飽和炭素原子に結合した水
素原子が塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、メ
トキシ基等で置換されたマレイミド化合物等を挙げるこ
とができる(化4において、a,b,cはそれぞれ独立
して0〜3の数を示し、a+b+cは1〜5の数を示
す)。
And maleimide compounds in which hydrogen atoms bonded to unsaturated carbon atoms in maleimide groups of these maleimide compounds are substituted with chlorine atom, bromine atom, methyl group, ethyl group, methoxy group and the like. (In Chemical formula 4, a, b, and c each independently represent a number of 0 to 3, and a + b + c represents a number of 1 to 5).

【0029】ビニルエーテル化合物類の具体例として
は、ヒドロキシメチルビニルエーテル、クロロメチルビ
ニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、1,
4−ブタンジオールジビニルエーテル、1,6−ヘキサ
ンジオールジビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビ
ニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエー
テル、シクロヘキサンジメタノールモノ又はジビニルエ
ーテル、シクロヘキサンモノ又はジビニルエーテル、ト
リエチレングリコールジビニルエーテルポリテトラメチ
レングリコールジビニルエーテル、ポリウレタンポリビ
ニルエーテル、ポリエステルポリビニルエーテル等を挙
げることができる。
Specific examples of vinyl ether compounds include hydroxymethyl vinyl ether, chloromethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, 1,
4-butanediol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, cyclohexanedimethanol mono- or divinyl ether, cyclohexane mono- or divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether polytetramethylene Examples thereof include glycol divinyl ether, polyurethane polyvinyl ether, polyester polyvinyl ether and the like.

【0030】N−ビニル化合物類の具体例としては、N
−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、N−
ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド等を挙げ
ることができる。
Specific examples of N-vinyl compounds include N
-Vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, N-
Examples thereof include vinylformamide and N-vinylacetamide.

【0031】これら(A)成分以外のエチレン性不飽和
基含有化合物(B)の好ましいものとしては、アクリレ
ートモノマー類、アクリレートオリゴマー類及びマレイ
ミド化合物類等を挙げることができる。
Preferred examples of the ethylenically unsaturated group-containing compound (B) other than the component (A) include acrylate monomers, acrylate oligomers and maleimide compounds.

【0032】本発明では、任意成分として光重合開始剤
(C)を使用する。光重合開始剤(C)の具体例として
は、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジエ
トキシ−2−フェニルアセトフェノン、ベンゾフェノ
ン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−
2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、1−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、メチルベンゾイソホメー
ト、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキサイド等が挙げられる。
In the present invention, a photopolymerization initiator (C) is used as an optional component. Specific examples of the photopolymerization initiator (C) include 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, benzophenone and 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl. Propan-1-one, 2-hydroxy-
2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether,
Examples thereof include benzoin isopropyl ether, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, methylbenzisoformate, and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.

【0033】本発明の光導波路用樹脂組成物中、前記
(A)〜(C)成分の使用割合としては、(A)成分1
00重量部に対して、(B)成分は10〜500重量部
が好ましく、特に好ましくは20〜200重量部であ
り、(A)+(B)成分の総量100重量部に対して、
(C)成分は0〜10重量部が好ましく、特に好ましく
は0.05〜6重量部である。
In the resin composition for an optical waveguide of the present invention, the ratio of the components (A) to (C) to be used is (A) component 1
The component (B) is preferably 10 to 500 parts by weight, particularly preferably 20 to 200 parts by weight, based on 00 parts by weight, and the total amount of the components (A) + (B) is 100 parts by weight.
The component (C) is preferably 0 to 10 parts by weight, particularly preferably 0.05 to 6 parts by weight.

【0034】なお、本発明において、必要な場合は、シ
ランカップリング剤、チタン系カップリング剤、可とう
性付与剤、特性改質剤等を加えることができる。これら
の材料を単独あるいは混合して主成分に加えることによ
り樹脂組成物の特性を改質することができる。
In the present invention, if necessary, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a flexibility imparting agent, a characteristic modifier and the like can be added. The properties of the resin composition can be modified by adding these materials alone or in combination to the main component.

【0035】例えば、本発明の樹脂組成物の接着性を高
めるために加えるシランカップリング剤としては、γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミ
ノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、
N−β−(アミノエチル)−β−(アミノエチル)−γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカ
プトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエ
チル)−γ−アモノプロピルトリメトキシシラン塩酸
基、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、γ−
アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメト
キシシラン、オクタデシルジメチル〔3−(トリメトキ
シシリル)プロピル〕アンモニウムクロライド、γ−ク
ロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリクロロシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、などが挙げられる。
For example, the silane coupling agent added to enhance the adhesiveness of the resin composition of the present invention is γ-
Aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ
-Aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane,
N-β- (aminoethyl) -β- (aminoethyl) -γ
-Aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, N-β- (N-vinyl Benzylaminoethyl) -γ-amonopropyltrimethoxysilane hydrochloride group, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, γ-
Anilinopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, methyltrichlorosilane, vinyltriethoxy Silane, γ-methacryloxypropyltris (2-methoxyethoxy) silane, β-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and the like.

【0036】本発明の樹脂組成物は、(A)〜(C)成
分及び所望により前記のカップリング剤等を混合、溶解
し、クリーンルーム内でのロ過をすることにより得るこ
とができる。
The resin composition of the present invention can be obtained by mixing and dissolving the components (A) to (C) and optionally the above-mentioned coupling agent and the like, and filtering in a clean room.

【0037】本発明における光導波路の作製方法として
はクラッドは通常の高分子樹脂を用いる場合とコア材と
同様の紫外線硬化樹脂を用いる場合では若干異なるが、
その一例として、
As a method of producing an optical waveguide in the present invention, the clad is slightly different when an ordinary polymer resin is used and when an ultraviolet curable resin similar to the core material is used.
As an example,

【0038】(1)任意の基板に下層クラッドとなるコ
アよりも屈折率の小さなな樹脂を塗布する。塗布後、加
熱乾燥などにより溶媒を除去する。ここに紫外線硬化樹
脂を用いるときは樹脂を塗布した後に紫外線により硬化
するだけで良い。これらの硬化樹脂を用いると溶媒除去
の工程は省くことができる。 (2)この上にコアとなる本発明の樹脂を塗布し、次
に、導波路パターンを有するネガマスクを介して紫外線
を照射し硬化した。その後、この試料を有機溶剤で現像
したところ、マスクパターンに従い、光照射部のみ硬化
し、導波路パターンが作製できた。 (3)その後、この上に、クラッド用の高分子樹脂又は
紫外線硬化樹脂を塗布し溶媒除去又は紫外線により硬化
する。ここで下層クラッド、並びに最後に形成するコア
側面部及び上部のクラッドは同じ屈折率であることが望
ましく、同一の材料である方が好適である。更に、クラ
ッドに紫外線硬化樹脂を用いた場合、最上面表面が平坦
化できる。この場合、多層の光配線が可能になり多層化
を行う場合は、上記(2)、(3)を繰り返せばよい。
(1) A resin having a refractive index smaller than that of the core to be the lower clad is applied to an arbitrary substrate. After coating, the solvent is removed by heating and drying. When an ultraviolet curable resin is used here, it suffices that the resin is applied and then cured by ultraviolet rays. By using these cured resins, the step of removing the solvent can be omitted. (2) The resin of the present invention, which serves as a core, was applied thereon, and then was irradiated with ultraviolet rays through a negative mask having a waveguide pattern to be cured. After that, when this sample was developed with an organic solvent, only the light irradiation part was cured according to the mask pattern, and a waveguide pattern could be produced. (3) After that, a polymer resin for clad or an ultraviolet curable resin is applied on this, and the solvent is removed or the resin is cured by ultraviolet rays. Here, it is desirable that the lower clad and the clad on the side surface of the core and the upper clad to be finally formed have the same refractive index, and the same material is more preferable. Furthermore, when an ultraviolet curable resin is used for the clad, the uppermost surface can be flattened. In this case, in the case where a multi-layered optical wiring becomes possible and the multi-layering is performed, the above (2) and (3) may be repeated.

【0039】[0039]

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。 (ウレタンメタクリレート化合物(A)の合成例) 合成例1 ビス(4−ヒドロキシエチルチオフェニル)スルフィド
338.2g、テトラヒドロフラン(THF)500m
リットルを加えた。次いで加熱溶解し、50℃でジブチ
ルスズジラウレート0.26g及びP−メトキシフェノ
ール0.26gを仕込み、攪拌しながら50〜60℃で
2−イソシアネート−エチルメタクリレート310gを
約1時間で滴下し、その後、約2時間、反応を継続し、
イソシアネート−基が残っていないことを確認し反応を
終了し、エバポレーターでTHFを留去してから、40
℃で約3時間減圧乾燥(5mmHg)させることによ
り、液状の淡黄色物質を得た。生成物の屈折率(20
℃、589nm)は1.60で下記構造式の成分が主成
分であった。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. (Synthesis Example of Urethane Methacrylate Compound (A)) Synthesis Example 1 Bis (4-hydroxyethylthiophenyl) sulfide 338.2 g, tetrahydrofuran (THF) 500 m
Added liters. Then, it is heated to dissolve, 0.26 g of dibutyltin dilaurate and 0.26 g of P-methoxyphenol are charged at 50 ° C., 310 g of 2-isocyanate-ethyl methacrylate is added dropwise at 50 to 60 ° C. with stirring for about 1 hour, and then about Continue the reaction for 2 hours,
After confirming that no isocyanate-group remained, the reaction was terminated, and THF was distilled off with an evaporator.
By drying under reduced pressure (5 mmHg) for about 3 hours at 0 ° C., a liquid pale yellow substance was obtained. Refractive index of product (20
C., 589 nm) was 1.60, and the components of the following structural formula were the main components.

【0040】[0040]

【化6】 [Chemical 6]

【0041】(実施例1)合成例1で得た生成物(一般
式(1)中、R1=H、R2〜R5=Hの化合物と2−イ
ソシアネート−エチルメタクリレートの反応物)57.
1g、フェノキシエチルアクリレート42.9g及び1
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(光重合開
始剤)3gから調製した樹脂組成物(a)を準備した。
この樹脂組成物(a)の硬化後の屈折率は、波長589
nmで1.590であった。
Example 1 Product obtained in Synthesis Example 1 (reaction product of a compound of the general formula (1) where R 1 = H and R 2 to R 5 = H and 2-isocyanate-ethyl methacrylate) 57 .
1 g, phenoxyethyl acrylate 42.9 g and 1
-A resin composition (a) prepared from 3 g of hydroxycyclohexyl phenyl ketone (photopolymerization initiator) was prepared.
The refractive index of the resin composition (a) after curing has a wavelength of 589.
It was 1.590 in nm.

【0042】次に、シリコン基板に、合成例1で得た生
成物14.3g、フェノキシエチルアクリレート85.
7g及び/−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
(光重合開始剤)3gから調製した樹脂組成物(b)を
スピンコートにより塗布して、その全面に紫外線を照射
して10μmの下部クラッド層を作製した。
Next, on a silicon substrate, 14.3 g of the product obtained in Synthesis Example 1, phenoxyethyl acrylate 85.
The resin composition (b) prepared from 7 g and / or 3 g of hydroxycyclohexyl phenyl ketone (photopolymerization initiator) was applied by spin coating, and the entire surface was irradiated with ultraviolet rays to form a lower clad layer having a thickness of 10 μm.

【0043】次に、この下部クラッド層の上に、前記、
樹脂組成物(a)スピンコートにより5μmの厚さに塗
布した。なお、下部クラッド層の硬化後の屈折率は波長
589nmで1.560であった。
Next, on the lower clad layer,
The resin composition (a) was applied by spin coating to a thickness of 5 μm. The refractive index of the lower clad layer after curing was 1.560 at a wavelength of 589 nm.

【0044】次に、導波路パターンを有するネガマスク
を介して紫外線を照射し、その後、この試料をγ−ブチ
ロラクトンで現像し、導波路パターンを作製した。その
後、この導波路パターンおよび下部クラッド層の上に、
前記、樹脂組成物(b)を15μmの厚さに塗布し、紫
外線を照射して硬化させ、光導波路を作製した。この操
作により、硬化後の屈折率1.560の樹脂組成物
(b)の硬化物からなる下部クラッド層と上部クラッド
層および硬化後の屈折率1.590の樹脂組成物(a)
の硬化物からなるコアを有するマルチモードチャンネル
導波路が作製できた。
Next, ultraviolet rays were irradiated through a negative mask having a waveguide pattern, and then this sample was developed with γ-butyrolactone to prepare a waveguide pattern. Then, on this waveguide pattern and the lower clad layer,
The above resin composition (b) was applied to a thickness of 15 μm and irradiated with ultraviolet rays to be cured to prepare an optical waveguide. By this operation, the lower clad layer and the upper clad layer made of the cured product of the resin composition (b) having a refractive index of 1.560 after curing, and the resin composition (a) having a refractive index of 1.590 after curing.
A multi-mode channel waveguide having a core made of the cured product was prepared.

【0045】得られた光導波路を5cmの長さに切り出
し、波長633nmのHe−Neレーザー光を用いて光
導波損失を調べたら0.35dB/cmであった。
The obtained optical waveguide was cut into a length of 5 cm, and the optical waveguide loss was examined by using a He-Ne laser beam having a wavelength of 633 nm, and it was 0.35 dB / cm.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は溶媒を用
いないコア材を使用するために、溶媒による問題が解消
され、導波路形成工程が簡略化される。また平坦化も容
易であるため、多層の光配線が可能な光導波路が実現で
きる。
As described above, according to the present invention, since the core material which does not use the solvent is used, the problem caused by the solvent is solved and the waveguide forming process is simplified. Further, since the flattening is easy, it is possible to realize an optical waveguide capable of multilayer optical wiring.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H047 PA15 PA28 QA05 TA05 TA41 4J027 AA02 AG04 AG09 AG26 AG33 BA07 BA09 BA10 BA13 BA19 BA20 BA21 BA23 BA24 CA29 CA31 CB10 CC05 CD03 4J100 AE10Q AL04Q AL05Q AL08Q AL10Q AL65P AL65Q AL82Q AM43Q AQ08Q BA03Q BA04Q BA08Q BA34P BA40Q BA51P BB01P BB03P BB03Q BC08Q BC43P BC43Q BC53Q BC58Q   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H047 PA15 PA28 QA05 TA05 TA41                 4J027 AA02 AG04 AG09 AG26 AG33                       BA07 BA09 BA10 BA13 BA19                       BA20 BA21 BA23 BA24 CA29                       CA31 CB10 CC05 CD03                 4J100 AE10Q AL04Q AL05Q AL08Q                       AL10Q AL65P AL65Q AL82Q                       AM43Q AQ08Q BA03Q BA04Q                       BA08Q BA34P BA40Q BA51P                       BB01P BB03P BB03Q BC08Q                       BC43P BC43Q BC53Q BC58Q

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式(1)で表される化合物(a) 【化1】 (式(1)中、R1は水素原子又はCH3、R2、R3、R
4、R5は同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、
又は炭素数1〜6のアルキル基を示す)と2−イソシア
ネート−エチルメタクリレート(b)の反応物であるウ
レタンメタクリレート化合物(A)と(A)成分以外の
エチレン性不飽和基含有化合物(B)を含有することを
特徴とする樹脂組成物。
1. A compound (a) represented by the general formula (1): (In the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or CH 3 , R 2 , R 3 , R
4 , R 5 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom,
Or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) and a urethane methacrylate compound (A) which is a reaction product of 2-isocyanate-ethyl methacrylate (b) and an ethylenically unsaturated group-containing compound (B) other than the component (A). A resin composition comprising:
【請求項2】光重合開始剤(C)を含有する請求項1記
載の樹脂組成物。
2. The resin composition according to claim 1, which contains a photopolymerization initiator (C).
【請求項3】光導波路用樹脂組成物である請求項1又は
2記載の樹脂組成物。
3. The resin composition according to claim 1, which is a resin composition for an optical waveguide.
【請求項4】請求項1ないし3のいずれか1項に記載の
樹脂組成物の硬化物。
4. A cured product of the resin composition according to claim 1.
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