JP2003126768A - Drying method for optical thin film, method for manufacturing the same and optical thin film obtained from these methods - Google Patents

Drying method for optical thin film, method for manufacturing the same and optical thin film obtained from these methods

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JP2003126768A
JP2003126768A JP2001327585A JP2001327585A JP2003126768A JP 2003126768 A JP2003126768 A JP 2003126768A JP 2001327585 A JP2001327585 A JP 2001327585A JP 2001327585 A JP2001327585 A JP 2001327585A JP 2003126768 A JP2003126768 A JP 2003126768A
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JP
Japan
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thin film
optical thin
drying
coating
film
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JP2001327585A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Nakajima
孝治 中嶋
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Konica Minolta Inc
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Konica Minolta Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a drying method for an optical thin film uniform in film thickness distribution, free of defects such as irregular color and cissing and having high quality and good transportability and to provide a method for manufacturing the same and an optical thin film obtained from these methods. SOLUTION: In the drying method for an optical thin film obtained by coating and drying on a support, the surface of a coating film of the optical thin film having 1-50% solid concentration is dried at 0.2-1 m/sec velocity of air.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光学薄膜、特に平
面性、膜厚分布に優れ、色むら等故障がない光学薄膜の
乾燥方法、その製造方法及びこれらの方法で得られる光
学薄膜に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical thin film, and more particularly to a method for drying an optical thin film which is excellent in flatness and film thickness distribution and has no trouble such as color unevenness, a method for producing the same and an optical thin film obtained by these methods.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示装置の普及、大型化や野
外使用化に伴い、光学薄膜の使用条件下での耐久性、反
射光耐性等が求められている状況の中で、様々な光学機
能薄膜が作製され、液晶表示装置用に用いる光学薄膜の
需要は大きく伸長している。
2. Description of the Related Art In recent years, along with the widespread use of liquid crystal display devices, their upsizing, and their outdoor use, durability has been required under the use conditions of optical thin films, and resistance to reflected light. The demand for optical thin films for use in liquid crystal display devices has been growing significantly since functional thin films have been produced.

【0003】一般に液晶表示装置視認性を低下させるの
は外光の表面反射による景色の写り込みであり、これに
対して最表面に反射防止などの光学薄膜を設ける方法が
一般的に行われる。
Generally, the visibility of a liquid crystal display device is reduced by the reflection of a scene due to the surface reflection of external light, and a method of providing an optical thin film for antireflection on the outermost surface is generally performed.

【0004】しかしながら、この反射防止などの光学薄
膜はその機能発現のために最表面に設けられるため、必
然的に光学薄膜の性能に対してタフネス化の観点から多
くの高品質化の課題を負っている。例えば、極限までの
反射率低下、色むら等の外観、傷の付き難さ、指紋や油
脂等の付着防止や易除去性などである。
However, since the optical thin film for antireflection is provided on the outermost surface in order to realize its function, it inevitably suffers from many issues of high quality from the viewpoint of toughness with respect to the performance of the optical thin film. ing. For example, it is possible to reduce the reflectance to the limit, the appearance such as color unevenness, the scratch resistance, the prevention of adhesion of fingerprints and oils and fats, and the ease of removal.

【0005】反射防止薄膜としては可視光の波長域を全
てカバーできる性能を有する広波長域/低反射率の、フ
ッ化マグネシウムや二酸化ケイ素等金属酸化物の透明薄
膜を蒸着等の方法により積層させた多層膜が用いられて
来た。蒸着等の方法は予め最適に設計された各層の屈折
率と膜厚との関係に従い、その膜厚を高精度に制御する
操作を何回も行う必要があり、非常に高コストなもので
あり、かつ、広い面積の膜を得ることが非常に困難で大
量製造適性に乏しいものであった。
As the antireflection thin film, a transparent thin film of a metal oxide such as magnesium fluoride or silicon dioxide having a wide wavelength range / low reflectance, which has the ability to cover the entire wavelength range of visible light, is laminated by a method such as vapor deposition. Multilayer films have been used. A method such as vapor deposition is very expensive because it requires a number of operations to control the film thickness with high accuracy according to the relationship between the refractive index and the film thickness of each layer that is optimally designed in advance. In addition, it is very difficult to obtain a film having a large area, and the suitability for mass production is poor.

【0006】一方、塗布方式による光学薄膜の開発も行
われているが、膜の最上層(空気側界面)の屈折率を如
何に低くし、かつ色むら等の外観、膜の物理的特性を強
化するかに課題がある。これらの反射防止技術は、基材
との屈折率差が小さく反射防止効果が不十分であること
に加えて、膜が脆くなり柔軟なフィルム上への反射防止
機能付与時にひび割れし易く取り扱い性が難しくなるな
どの問題があった。
On the other hand, although an optical thin film by a coating method has been developed, how to lower the refractive index of the uppermost layer (air side interface) of the film, and to improve the appearance such as color unevenness and the physical characteristics of the film. There is a problem in strengthening. These antireflection technologies have a small refractive index difference with the base material and have an insufficient antireflection effect, and in addition, the film becomes brittle and is easily cracked when an antireflection function is imparted to a flexible film, and the handleability is low. There were problems such as becoming difficult.

【0007】また、膜物理性改良の目的で硬化反応を充
分進行させるべく加熱処理を加えると、プラスチック支
持体の変形が進み良好な平面性を維持できなくなり均一
な光学性能を有する光学薄膜を得られない。反射防止フ
ィルム等薄膜の光学材料を塗布乾燥によって製造する場
合、数nmの厚みむらにより、光学的機能が損なわれ
る。
Further, when heat treatment is carried out to sufficiently advance the curing reaction for the purpose of improving the physical properties of the film, the plastic support is deformed and good flatness cannot be maintained, and an optical thin film having uniform optical performance is obtained. I can't. When a thin optical material such as an antireflection film is produced by coating and drying, the optical function is impaired due to uneven thickness of several nm.

【0008】特に低屈折率層は、多層光学薄膜の表面側
に設けられる。そのため、低屈折率層にわずかな厚みム
ラが生じると、反射光の色ムラになる。塗布では、段状
の塗布ムラや乾燥時の風紋が生じやすく、均一な厚さの
低屈折率層を形成することが難しい。
In particular, the low refractive index layer is provided on the surface side of the multilayer optical thin film. Therefore, if slight thickness unevenness occurs in the low refractive index layer, color unevenness of reflected light will occur. In the coating, stepwise coating unevenness and a wind ripple during drying are likely to occur, and it is difficult to form a low refractive index layer having a uniform thickness.

【0009】このため、乾燥むらやはじきのない均一な
膜厚で、且つ、ウエブ方式で連続加工する際に搬送性の
良好な光学薄膜(反射防止光学薄膜)の乾燥方法及び製
造方法技術が求められていた。
Therefore, there is a demand for a method of drying and a method of manufacturing an optical thin film (antireflection optical thin film) which has a uniform film thickness without drying unevenness and repellency and has good transportability when continuously processed by a web method. It was being done.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、膜厚
分布が均一であり、色むらやはじき等の故障がない高品
質で、且つ、搬送性の良好な光学薄膜の乾燥方法、その
製造方法及びこれらの方法から得られる光学薄膜を提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for drying an optical thin film which has a uniform film thickness distribution, is free from defects such as color unevenness and repellency, and has good transportability. It is to provide a manufacturing method and an optical thin film obtained by these methods.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は以下
の構成により達成される。
The above object of the present invention can be achieved by the following constitutions.

【0012】1.支持体上に塗布乾燥して得られる光学
薄膜の乾燥方法において、光学薄膜の塗布膜の固形分濃
度が1〜50%である光学薄膜の塗布膜表面の風速を
0.2〜1m/secにて乾燥することを特徴とする光
学薄膜の乾燥方法。
1. In the method for drying an optical thin film obtained by coating and drying on a support, the air velocity of the coating film surface of the optical thin film having a solid content concentration of 1 to 50% is 0.2 to 1 m / sec. A method for drying an optical thin film, which comprises:

【0013】2.乾燥室の気流温度が40〜130℃で
あることを特徴とする前記1に記載の光学薄膜の乾燥方
法。
2. 2. The method for drying an optical thin film as described in 1 above, wherein the airflow temperature in the drying chamber is 40 to 130 ° C.

【0014】3.赤外線で乾燥することを特徴とする前
記1又は2に記載の光学薄膜の乾燥方法。
3. 3. The method for drying an optical thin film as described in 1 or 2 above, which comprises drying with infrared rays.

【0015】4.支持体上に塗布乾燥して得られる光学
薄膜の乾燥方法において、光学薄膜の塗布膜の固形分濃
度が10〜98%になるまでの間、光学薄膜の塗布膜裏
面に接触するローラーと基材との温度差が0〜15℃で
あることを特徴とする光学薄膜の乾燥方法。
4. In a method for drying an optical thin film obtained by coating and drying on a support, a roller and a base material which are in contact with the back surface of the coating film of the optical thin film until the solid content concentration of the coating film of the optical thin film becomes 10 to 98%. The method for drying an optical thin film is characterized in that the temperature difference from the temperature is 0 to 15 ° C.

【0016】5.支持体上に塗布乾燥して得られる光学
薄膜の乾燥方法において、光学薄膜の塗布膜の固形分濃
度が10〜98%になるまでの間、光学薄膜の塗布膜裏
面をローラーに接触させずに搬送することを特徴とする
光学薄膜の乾燥方法。
5. In a method for drying an optical thin film obtained by coating and drying on a support, the back side of the coating film of the optical thin film is not brought into contact with a roller until the solid content concentration of the coating film of the optical thin film becomes 10 to 98%. A method for drying an optical thin film, which comprises transporting.

【0017】6.光学薄膜の塗布膜裏面を非接触フロー
ターで支持することを特徴とする前記1〜3の何れか1
項に記載の光学薄膜の乾燥方法。
6. Any one of the above 1 to 3, characterized in that the back surface of the coating film of the optical thin film is supported by a non-contact floater.
Item 5. A method for drying an optical thin film according to item.

【0018】7.光学薄膜の塗布直後の膜厚が3〜10
μmであることを特徴とする前記1〜6の何れか1項に
記載の光学薄膜の乾燥方法。
7. Immediately after coating the optical thin film, the film thickness is 3 to 10
7. The method for drying an optical thin film as described in any one of 1 to 6 above, wherein the method is dry.

【0019】8.支持体上に塗布乾燥して得られる光学
薄膜の乾燥方法において、光学薄膜の塗布膜の固形分濃
度が10〜98%である光学薄膜の塗布膜を乾燥する際
の塗布温度が25〜55℃であることを特徴とする光学
薄膜の乾燥方法。
8. In the method for drying an optical thin film obtained by coating and drying on a support, the coating temperature for drying the optical thin film coating film has a solid content concentration of 10 to 98%. And a method for drying an optical thin film.

【0020】9.支持体上に塗布乾燥して得られる光学
薄膜の乾燥方法において、光学薄膜の塗布膜の固形分濃
度が10〜98%である光学薄膜の塗布膜を乾燥する
際、前記のh×ΔTで表される乾燥速度が400〜15
00w/m2であることを特徴とする光学薄膜の乾燥方
法。
9. In the method for drying an optical thin film obtained by coating and drying on a support, when the solid content concentration of the coating film of the optical thin film is 10 to 98% and the coating film of the optical thin film is dried, it is represented by the above h × ΔT. Drying speed is 400 ~ 15
A method for drying an optical thin film, wherein the method is 00 w / m 2 .

【0021】10.前記1〜9の何れか1項に記載の乾
燥方法を用いて製造することを特徴とする光学薄膜の製
造方法。
10. A method for producing an optical thin film, which is produced using the drying method according to any one of 1 to 9 above.

【0022】11.前記1〜9の何れか1項に記載の乾
燥方法を用いて得られることを特徴とする光学薄膜。
11. An optical thin film obtained by using the drying method according to any one of 1 to 9 above.

【0023】12.光学薄膜が反射防止光学薄膜である
ことを特徴とする前記11に記載の光学薄膜。
12. 12. The optical thin film as described in 11 above, wherein the optical thin film is an antireflection optical thin film.

【0024】13.光学薄膜が反射防止光学薄膜である
ことを特徴とする前記10に記載の光学薄膜の製造方
法。
13. 11. The method for producing an optical thin film as described in 10 above, wherein the optical thin film is an antireflection optical thin film.

【0025】以下、本発明を更に詳細に説明する。本発
明の光学薄膜の乾燥方法及び製造方法について説明す
る。
The present invention will be described in more detail below. The drying method and manufacturing method of the optical thin film of the present invention will be described.

【0026】本発明の塗布膜の固形分濃度は以下の式で
求められる。 固形分濃度(%)=(固形分質量/全質量)×100 本発明の請求項1の発明は、光学薄膜の塗布膜の固形分
濃度が1〜50%である光学薄膜の塗布膜表面の風速を
0.2〜1m/secにして乾燥することを特徴として
いる。
The solid content concentration of the coating film of the present invention is determined by the following formula. Solid content concentration (%) = (mass of solid content / total mass) × 100 In the invention of claim 1, the solid content concentration of the coating film of the optical thin film is 1 to 50% of the coating film surface of the optical thin film. It is characterized by drying at a wind speed of 0.2 to 1 m / sec.

【0027】この乾燥する際の光学薄膜の塗布膜表面の
風速は0.2〜1.0m/secであり、好ましくは
0.2〜0.5m/secである。これは非常に乾燥速
度が速い溶媒を用いた場合、微風によっても塗布膜が乱
され、局所的に乾燥が進み、乾燥むらとなってしまうか
らである。
The air velocity on the surface of the coating film of the optical thin film during this drying is 0.2 to 1.0 m / sec, preferably 0.2 to 0.5 m / sec. This is because when a solvent having a very high drying rate is used, the coating film is disturbed by a slight wind and the drying locally progresses, resulting in uneven drying.

【0028】乾燥室の気流温度は40〜130℃である
ことが好ましく、40〜110℃であることがより好ま
しく、更に55〜110℃が好ましい。
The airflow temperature in the drying chamber is preferably 40 to 130 ° C, more preferably 40 to 110 ° C, and further preferably 55 to 110 ° C.

【0029】乾燥室の気流温度が40℃未満であると乾
燥速度が落ち、生産性に影響すると同時に、はじき故障
が発生してしまい均一膜とならない。また、温度が13
0℃を越えると乾燥速度が速くなりすぎ、局所的に乾燥
が進行し、乾燥むらの原因となる。
If the airflow temperature in the drying chamber is lower than 40 ° C., the drying speed will be reduced, which will affect the productivity and, at the same time, a repellant failure will occur and a uniform film will not be formed. Also, the temperature is 13
If the temperature exceeds 0 ° C, the drying speed becomes too fast, and the drying locally progresses, which causes unevenness in drying.

【0030】本発明の光学薄膜の乾燥方法は赤外線で乾
燥することが好ましい。赤外線は中長波赤外線ヒーター
を用い、搬送する光学薄膜との距離は3〜5cmに設定
することが好ましく、この距離での赤外線温度は200
℃〜300℃に設定することが好ましい。
The method for drying the optical thin film of the present invention is preferably drying with infrared rays. For infrared rays, it is preferable to use a medium to long wave infrared heater and set the distance to the optical thin film to be conveyed to 3 to 5 cm, and the infrared temperature at this distance is 200.
It is preferable to set the temperature to 300 ° C to 300 ° C.

【0031】赤外線乾燥の特徴は風の流れを発生させず
に乾燥を進めることが可能であり、乾燥むらが発生しな
い均一な光学薄膜が得られることである。
The feature of infrared drying is that it is possible to proceed with the drying without generating a wind flow, and to obtain a uniform optical thin film with no uneven drying.

【0032】本発明の請求項4の発明は、光学薄膜の塗
布膜の固形分濃度が10〜98%になるまでの間、光学
薄膜の塗膜膜裏面に接触するローラーと基材との温度差
が0〜15℃であることを特徴としており、好ましい該
温度差は0〜10℃である。
According to a fourth aspect of the present invention, the temperature of the roller and the substrate which come into contact with the back surface of the coating film of the optical thin film is maintained until the solid content concentration of the coating film of the optical thin film reaches 10 to 98%. The difference is 0 to 15 ° C., and the preferable temperature difference is 0 to 10 ° C.

【0033】光学薄膜の裏面からのローラー温度が高い
場合、急激な熱の移動により、膜面温度が上昇し、局所
的に乾燥が進み、乾燥むらとなる。ローラーからの伝熱
係数は気流に比較して極端に高く、支持体の微妙な接触
面積差異によっても影響される。特に支持体がツレを発
生しやすい場合、巾手の接触面積違いから縦状の乾燥む
らの発生が顕著である。したがって、ローラー温度が十
分に低い場合、熱の移動がなく、ムラの発生もない。し
かしながら、固形分濃度が10%未満では、乾燥が不均
一になることはない。
When the roller temperature from the back surface of the optical thin film is high, the temperature of the film surface rises due to the abrupt movement of heat, and the drying locally progresses, resulting in uneven drying. The heat transfer coefficient from the roller is extremely high compared to the air flow, and is also affected by the slight difference in the contact area of the support. In particular, when the support is apt to cause a crack, vertical uneven drying is remarkable due to the difference in contact area of the width. Therefore, when the roller temperature is sufficiently low, heat does not move and unevenness does not occur. However, when the solid content concentration is less than 10%, the drying does not become uneven.

【0034】また、本発明の請求項5の発明は、光学薄
膜の塗布膜の固形分濃度が10〜98%であり、光学薄
膜の塗布膜が乾燥終了するまでの間、光学薄膜の塗布膜
裏面をローラーに接触させずに搬送することを特徴とし
ている。
According to a fifth aspect of the present invention, the optical thin film coating film has a solid content concentration of 10 to 98% and the optical thin film coating film is dried until the drying is completed. The feature is that the back side is conveyed without contacting the roller.

【0035】本発明の請求項6の発明は、光学薄膜を乾
燥する際、光学薄膜の塗布膜裏面を非接触フローターで
支持することが好ましい。
In the sixth aspect of the present invention, when the optical thin film is dried, it is preferable that the back surface of the coating film of the optical thin film is supported by a non-contact floater.

【0036】本発明の光学薄膜の乾燥方法は光学薄膜の
塗布膜の塗布直後の膜厚が3〜10μmであることが好
ましい。
In the method of drying an optical thin film of the present invention, it is preferable that the thickness of the coating film of the optical thin film immediately after coating is 3 to 10 μm.

【0037】塗布直後の膜厚が3μm未満では均一な塗
布膜を形成するのが難しく、乾燥終了までの距離が短
く、装置的には比較的容易に裏面に接触させない状況を
作り出せるが、逆に10μmを越えると、乾燥期間が長
くなり、塗布して乾燥終了まで光学薄膜を支えきれなく
なり搬送安定性の観点から好ましくない。これを解決す
る方法として、裏面から非接触のフローターで気流によ
り光学薄膜支持をすることにより搬送安定性と乾燥ムラ
がない良好な品質を有する光学薄膜を得ることができ
る。この非接触フローターの気流温度と塗布膜面温度と
の差は塗布膜裏面とローラーと同様、0〜15℃にする
ことが好ましい。このような温度差でないと、様々な外
乱を受けやすくなり、乾燥ムラ等を解決することが困難
となる。
If the film thickness immediately after coating is less than 3 μm, it is difficult to form a uniform coating film, the distance to the end of drying is short, and it is possible to create a situation in which the back surface cannot be brought into contact relatively easily in terms of equipment. If it exceeds 10 μm, the drying period becomes long, and the optical thin film cannot be supported until the coating and drying are completed, which is not preferable from the viewpoint of transport stability. As a method for solving this problem, an optical thin film having good quality with no transport unevenness and no drying unevenness can be obtained by supporting the optical thin film from the back surface with a non-contact floater by an air flow. The difference between the airflow temperature of the non-contact floater and the surface temperature of the coating film is preferably 0 to 15 ° C., like the back surface of the coating film and the roller. If there is no such temperature difference, various disturbances are likely to be received, and it becomes difficult to solve uneven drying and the like.

【0038】本発明の請求項8の発明の光学薄膜の乾燥
方法は、光学薄膜の塗布膜の固形分濃度が10〜98%
である光学薄膜の塗布膜を乾燥する際の塗布温度が25
〜55℃であることを特徴としており、好ましくは、塗
布温度が30〜50℃である。塗布温度が25℃未満で
あると、はじき故障が発生してしまい、均一膜とならな
い。また、塗布温度が55℃を越えると乾燥速度が速く
なりすぎ、局所的に乾燥が進行し、乾燥むらの原因とな
る。
According to the eighth aspect of the present invention, in the method for drying an optical thin film, the solid concentration of the coating film of the optical thin film is 10 to 98%.
The coating temperature for drying the coating film of the optical thin film is 25
The coating temperature is preferably 30 to 50 ° C. If the coating temperature is less than 25 ° C., a repellant failure will occur and a uniform film will not be formed. On the other hand, if the coating temperature exceeds 55 ° C., the drying speed becomes too fast and the drying locally progresses, which causes unevenness in drying.

【0039】本発明の請求項9の発明の光学薄膜の乾燥
方法は、光学薄膜の塗布膜の固形分濃度が10〜98%
である光学薄膜の塗布膜を乾燥する際、下記のh×ΔT
で表される乾燥速度が400〜1500w/m2である
ことを特徴としている。
In the method for drying an optical thin film according to a ninth aspect of the present invention, the solid content concentration of the coating film of the optical thin film is 10 to 98%.
When drying the coating film of the optical thin film, the following h × ΔT
Is characterized by a drying rate of 400 to 1500 w / m 2 .

【0040】乾燥速度:h×ΔT(w/m2) h(伝熱係数):(w/(m2K)) ΔT:気流と基材との温度差(K) 上記乾燥速度は好ましくは、600〜1000w/m2
である。乾燥速度が400未満であると、はじき故障が
発生してしまい、均一膜とならない。また、乾燥速度が
1500を越えると、局所的に乾燥が進行し、乾燥むら
の原因となる。
Drying rate: h × ΔT (w / m 2 ) h (heat transfer coefficient): (w / (m 2 K)) ΔT: Temperature difference between air flow and substrate (K) The above drying rate is preferably , 600-1000 w / m 2
Is. If the drying speed is less than 400, a repellency failure will occur and a uniform film will not be formed. Further, if the drying speed exceeds 1500, the drying locally progresses, which causes unevenness in drying.

【0041】本発明の光学薄膜の製造方法は前述した何
れかの光学薄膜の乾燥工程を経て光学薄膜を得る事を特
徴としている。
The method for producing an optical thin film of the present invention is characterized in that the optical thin film is obtained through the drying step of any one of the above-mentioned optical thin films.

【0042】且つ、本発明の光学薄膜は、上記の製造方
法を経て得られることを特徴としており、本発明におい
ては、該光学薄膜が反射防止光学薄膜であることが好ま
しい。
The optical thin film of the present invention is characterized by being obtained through the above-mentioned manufacturing method, and in the present invention, the optical thin film is preferably an antireflection optical thin film.

【0043】本発明における反射防止光学薄膜の特徴は
支持体上の少なくとも一方の面に、支持体側から高屈折
層、低屈折層を順に積層した光学干渉層の積層体である
(場合によっては他の層を追加することもあり得
る。)。
A feature of the antireflection optical thin film in the present invention is a laminated body of optical interference layers in which a high refractive layer and a low refractive layer are laminated in that order from the support side on at least one surface of the support (in some cases, other It is possible to add layers of.

【0044】波長λの光に対して、高屈折層および低屈
折層の光学膜厚をλ/4に設定して、反射防止積層体を
作製する。光学膜厚とは、層の屈折nと膜厚dとの積に
よって定義される量である。屈折率の高低はそこに含ま
れる金属、または化合物によってほぼ決まり、例えば、
Tiは高く、Siは低く、Fを含有する化合物は更に低
く、このような組み合わせによって屈折率が設定され
る。屈折率と膜厚は、分光反射率の測定により、計算し
算出される。
With respect to the light of wavelength λ, the optical film thickness of the high-refractive layer and the low-refractive layer is set to λ / 4, and the antireflection laminate is produced. The optical film thickness is a quantity defined by the product of the layer refraction n and the film thickness d. The high or low of the refractive index is almost determined by the metal or compound contained therein, and for example,
Ti is high, Si is low, and compounds containing F are even lower, and such a combination sets the refractive index. The refractive index and the film thickness are calculated and calculated by measuring the spectral reflectance.

【0045】ここで、金属化合物を含む溶液を支持体に
塗工して膜を得る場合、この反射防止光学特性は上記の
ように物理的な膜厚のみによって決まる。
When a solution containing a metal compound is applied to a support to obtain a film, the antireflection optical characteristics are determined only by the physical film thickness as described above.

【0046】特に550nm近傍の反射光の色彩は膜厚
がわずか数nmずれることで、赤紫と青紫の間で変化す
る。この色むらはディスプレイからの透過光量が多い場
合はほとんど目立たないが、光量が少ない場合もしくは
ディスプレイを消したとき顕著に色ムラが目立ち品質が
劣化する。
In particular, the color of the reflected light near 550 nm changes between red purple and blue purple when the film thickness deviates by only a few nm. This color unevenness is hardly noticeable when the amount of light transmitted from the display is large, but when the amount of light is small or when the display is turned off, color unevenness is noticeable and the quality deteriorates.

【0047】また、膜厚のずれが大きい場合は、400
〜700nmでの反射率を下げることができず、所望の
反射防止特性を得ることが困難となる。
When the deviation of the film thickness is large, 400
The reflectance at ˜700 nm cannot be lowered, and it becomes difficult to obtain desired antireflection characteristics.

【0048】〔支持体〕本発明において、使用する支持
体としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステ
ルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリカーボ
ネートフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ノ
ルボルネン樹脂フィルム等を挙げることが出来る。中で
もセルロースエステルフィルムが本発明において好まし
く、特に、少なくとも一つの方向に延伸したセルロース
エステルフィルムが好ましい。
[Support] The support used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a polyester film, a cellulose ester film, a polycarbonate film, a polyether sulfone film, and a norbornene resin film. Of these, a cellulose ester film is preferable in the present invention, and a cellulose ester film stretched in at least one direction is particularly preferable.

【0049】延伸は縦方向(機械進行方向)に1.02
〜1.50倍、もしくは横方向(幅方向)に1.02〜
1.520倍に行うのが好ましく、更に好ましくは縦及
び横方向に2軸延伸されたものである。
Stretching is 1.02 in the machine direction (machine direction).
~ 1.50 times, or 1.02 in the lateral direction (width direction)
It is preferably performed 1.520 times, and more preferably biaxially stretched in the longitudinal and transverse directions.

【0050】延伸方法は、延伸出来る方法であれば特に
制限ないが、例えば、数本の密間ロールにウェブを通す
方法、クリップ等でウェブの両端を把持し幅方向に延伸
する方法、同じくクリップに把持しクリップ間隔を進行
方向に広げて延伸する方法等があり、何れも好ましく用
いることが出来る。延伸は、支持体の強度を増加させる
ことだけでなく、平面性を良くする効果があり、反射防
止光学薄膜としての支持体全面積の反射率の均一性を向
上させることが出来る。
The stretching method is not particularly limited as long as it can be stretched. For example, a method of passing the web through several tight rolls, a method of gripping both ends of the web with a clip or the like and stretching in the width direction, and a method of clipping There is a method of gripping the sheet and widening the clip interval in the traveling direction, and the like, and any of them can be preferably used. The stretching not only increases the strength of the support, but also has the effect of improving the flatness and can improve the uniformity of the reflectance over the entire area of the support as an antireflection optical thin film.

【0051】本発明に好ましく用いられるセルロースエ
ステルの原料のセルロースとしては、特に限定はない
が、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げるこ
とがきる。またそれらから得られたセルロースエステル
はそれぞれを単独であるいは任意の割合で混合使用する
ことが出来るが、綿花リンターを50質量%以上使用す
ることが好ましい。
The cellulose as a raw material of the cellulose ester preferably used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include cotton linter, wood pulp, kenaf and the like. The cellulose esters obtained from them can be used alone or as a mixture at an arbitrary ratio, but it is preferable to use 50% by mass or more of cotton linter.

【0052】セルロースエステルは、セルロース原料の
アシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、
無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸やメチ
レンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロ
トン性触媒を用いて反応が行われる。アシル化剤が酸ク
ロライド(CH3COCl、C25COCl、C37
OCl)の場合には、触媒としてアミンのような塩基性
化合物を用いて反応が行われる。具体的には特開平10
−45804号公報に記載の方法で合成することが出来
る。セルロースエステルはアシル基がセルロース分子の
水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニッ
トが多数連結したものからなっており、グルコースユニ
ットに3個の水酸基がある。この3個の水酸基にアシル
基が誘導された数を置換度という。
In the cellulose ester, the acylating agent of the cellulose raw material is an acid anhydride (acetic anhydride, propionic anhydride,
Butyric anhydride), the reaction is carried out using an organic acid such as acetic acid or an organic solvent such as methylene chloride and a protic catalyst such as sulfuric acid. The acylating agent is an acid chloride (CH 3 COCl, C 2 H 5 COCl, C 3 H 7 C
In the case of OCl), the reaction is carried out using a basic compound such as an amine as a catalyst. Specifically, JP-A-10
It can be synthesized by the method described in JP-A-45804. In the cellulose ester, the acyl group reacts with the hydroxyl group of the cellulose molecule. The cellulose molecule is composed of a large number of glucose units linked together, and each glucose unit has three hydroxyl groups. The number of acyl groups derived from these three hydroxyl groups is called the degree of substitution.

【0053】例えば、セルローストリアセテートはグル
コースユニットの3個の水酸基全てにアセチル基が結合
している。
For example, cellulose triacetate has an acetyl group bonded to all three hydroxyl groups of the glucose unit.

【0054】セルロースエステルフィルムに用いること
が出来るセルロースエステルには特に限定はないが、総
アシル基の置換度が2.40から2.98であることが
好ましく、アシル基のうちアセチル基の置換度が1.4
以上がより好ましく用いられる。
The cellulose ester that can be used in the cellulose ester film is not particularly limited, but the total degree of substitution of acyl groups is preferably 2.40 to 2.98, and the degree of substitution of acetyl groups among acyl groups is preferable. Is 1.4
The above is more preferably used.

【0055】アシル基の置換度の測定方法はASTM−
D817−96に準じて測定することが出来る。
The method of measuring the substitution degree of the acyl group is ASTM-
It can be measured according to D817-96.

【0056】セルロースエステルは、セルローストリア
セテートやセルロースジアセテート等のセルロースアセ
テート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロ
ースアセテートブチレート、またはセルロースアセテー
トプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他に
プロピオネート基あるいはブチレート基が結合したセル
ロースエステルであることが好ましい。なお、ブチレー
トは、n−の他にiso−も含む。プロピオネート基の
置換度が大きいセルロースアセテートプロピオネートは
耐水性が優れる。
Cellulose ester includes cellulose acetate such as cellulose triacetate and cellulose diacetate, acetyl group such as cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, or cellulose acetate propionate butyrate, as well as propionate group or butyrate group. It is preferably a cellulose ester in which is bonded. Note that butyrate includes iso-in addition to n-. Cellulose acetate propionate having a large degree of substitution of propionate groups has excellent water resistance.

【0057】セルロースエステルの数平均分子量Mn
(測定法は下記に記載)は、70,000〜250,0
00の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く、
且つ適度のドープ粘度となり好ましい。更に80,00
0〜150,000が好ましい。また、重量平均分子量
Mwとの比(MW/Mn)は1.0〜5.0のセルロー
スエステルが好ましく使用され、更に好ましくは1.5
〜4.5である。
Number average molecular weight Mn of cellulose ester
(The measuring method is described below) is 70,000 to 250,000.
In the range of 00, the mechanical strength of the obtained film is high,
In addition, the dope viscosity is appropriate, which is preferable. Further 80,00
0 to 150,000 is preferable. Further, a cellulose ester having a ratio (MW / Mn) to the weight average molecular weight Mw of 1.0 to 5.0 is preferably used, and more preferably 1.5.
~ 4.5.

【0058】《セルロースエステルの数平均分子量の測
定》高速液体クロマトグラフィーにより下記条件で測定
する。
<< Measurement of Number Average Molecular Weight of Cellulose Ester >> It is measured by high performance liquid chromatography under the following conditions.

【0059】 溶媒 :アセトン カラム :MPW×1(東ソー(株)製) 試料濃度 :0.2(質量/体積)% 流量 :1.0mL/分 試料注入量:300μL 標準試料 :ポリメチルメタクリレート(重量平均分子
量188,200) 温度 :23℃。
Solvent: Acetone column: MPW × 1 (manufactured by Tosoh Corporation) Sample concentration: 0.2 (mass / volume)% Flow rate: 1.0 mL / min Sample injection amount: 300 μL Standard sample: Polymethylmethacrylate (weight Average molecular weight 188,200) Temperature: 23 ° C.

【0060】また、セルロースエステルを製造中に使用
する、または使用材料に微量ながら混在しているセルロ
ースエステル中の金属は出来るだけ少ない方が好まし
く、Ca、Mg、Fe、Na等の金属の総含有量は10
0ppm以下が好ましい。
Further, it is preferable that the amount of metal in the cellulose ester used during the production of the cellulose ester during production or mixed in the used material in a small amount is as small as possible, and the total content of metals such as Ca, Mg, Fe and Na is contained. Quantity is 10
0 ppm or less is preferable.

【0061】〔有機溶媒〕セルロースエステルを溶解し
セルロースエステル溶液またはドープ形成に有用な有機
溶媒として、塩素系有機溶媒のメチレンクロライド(塩
化メチレン)を挙げることが出来、セルロースエステ
ル、特にセルローストリアセテートの溶解に適してい
る。非塩素系有機溶媒としては、例えば、酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラ
ン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シク
ロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロ
エタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プ
ロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル
−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサ
フルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペ
ンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙
げることが出来る。
[Organic Solvent] As a useful organic solvent for dissolving a cellulose ester to form a cellulose ester solution or dope, methylene chloride (methylene chloride), which is a chlorine-based organic solvent, can be mentioned. Dissolution of a cellulose ester, particularly cellulose triacetate Suitable for As the non-chlorine organic solvent, for example, methyl acetate,
Ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1- Propanol, 1,3-difluoro-2-propanol,
1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3 Examples thereof include 3-pentafluoro-1-propanol and nitroethane.

【0062】これらの有機溶媒をセルローストリアセテ
ートに対して使用する場合には、常温での溶解方法も使
用可能であるが、高温溶解方法、冷却溶解方法、高圧溶
解方法等の溶解方法を用いることにより不溶解物を少な
くすることが出来るので好ましい。
When these organic solvents are used for cellulose triacetate, a dissolving method at room temperature can be used, but by using a dissolving method such as a high temperature dissolving method, a cooling dissolving method and a high pressure dissolving method. Insoluble matter can be reduced, which is preferable.

【0063】セルローストリアセテート以外のセルロー
スエステルに対しては、メチレンクロライドを用いるこ
とも出来るが、メチレンクロライドを使用せずに、酢酸
メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用すること
が出来る。特に酢酸メチルが好ましい。本発明におい
て、上記セルロースエステルに対して良好な溶解性を有
する有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を
示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主(有機)溶
媒または主たる(有機)溶媒という。
For cellulose esters other than cellulose triacetate, methylene chloride can be used, but methyl acetate, ethyl acetate and acetone can be preferably used without using methylene chloride. Methyl acetate is particularly preferable. In the present invention, an organic solvent having good solubility in the above-mentioned cellulose ester is referred to as a good solvent, and also exhibits a main effect on dissolution, in which a large amount of organic solvent is the main (organic) solvent or the main ( Organic) solvent.

【0064】ドープには、上記有機溶媒の他に、1〜4
0質量%の炭素原子数1〜4のアルコールを含有させる
ことが好ましい。これらはドープを金属支持体に流延後
溶媒が蒸発をし始めアルコールの比率が多くなるとウェ
ブがゲル化し、ウェブを丈夫にし金属支持体から剥離す
ることを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、こ
れらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロース
エステルの溶解を促進する役割もある。
In the dope, in addition to the above organic solvent, 1 to 4
It is preferable to contain 0% by mass of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms. These are used as a gelling solvent that makes the web gel when the dope is cast on a metal support and the solvent begins to evaporate and the ratio of alcohol increases, and makes the web tough and easy to peel from the metal support. When these proportions are small, it also has a role of promoting the dissolution of the cellulose ester of the non-chlorine organic solvent.

【0065】炭素原子数1〜4のアルコールとしては、
メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−
プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、
tert−ブタノールを挙げることが出来る。
As the alcohol having 1 to 4 carbon atoms,
Methanol, ethanol, n-propanol, iso-
Propanol, n-butanol, sec-butanol,
Mention may be made of tert-butanol.

【0066】これらのうちドープの安定性に優れ、沸点
も比較的低く、乾燥性も良く、且つ毒性がないこと等か
らエタノールが好ましい。これらの有機溶媒は単独では
セルロースエステルに対して溶解性を有していないの
で、貧溶媒という。
Of these, ethanol is preferred because it is excellent in stability of the dope, has a relatively low boiling point, has good drying property, and has no toxicity. These organic solvents alone are not soluble in cellulose ester and are therefore called poor solvents.

【0067】〔溶液流延製膜方法によるセルロースエス
テルフィルムの作製〕支持体として使用するセルロース
エステルフィルムの製膜方法について述べる。セルロー
スエステルフィルムは溶液流延製膜方法によ作製する。
[Production of Cellulose Ester Film by Solution Casting Method] A method for forming a cellulose ester film used as a support will be described. The cellulose ester film is produced by a solution casting film forming method.

【0068】溶解工程:セルロースエステル(フレー
ク状の)に対する良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中
で該セルロースエステル、ポリマーや添加剤を攪拌しな
がら溶解しドープを形成する工程、あるいはセルロース
エステル溶液にポリマー溶液や添加剤溶液を混合してド
ープを形成する工程である。セルロースエステルの溶解
には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、
主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平9−95
544号、同9−95557号または同9−95538
号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平11
−21379号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々
の溶解方法を用いることができるが、本発明において
は、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好まし
い。
Dissolving step: a step of dissolving the cellulose ester, the polymer and additives in an organic solvent mainly containing a good solvent for the cellulose ester (flakes) while stirring to form a dope, or the cellulose ester This is a step of forming a dope by mixing a polymer solution and an additive solution with the solution. To dissolve the cellulose ester, a method carried out under normal pressure, a method carried out below the boiling point of the main solvent,
Method of pressurizing above the boiling point of the main solvent, JP-A-9-95
544, 9-95557 or 9-95538.
Japanese Patent Laid-Open Publication No. 11-1999
Although various dissolution methods such as a high pressure method described in JP-A-21379 can be used, in the present invention, a method of pressurizing above the boiling point of the main solvent is particularly preferable.

【0069】ドープ中のセルロースエステルの濃度は1
0〜35質量%が好ましい。溶解中または後のドープに
添加剤を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱
泡して送液ポンプで次工程に送る。
The concentration of cellulose ester in the dope is 1
0 to 35 mass% is preferable. An additive is added to the dope during or after the dissolution to dissolve and disperse it, and the dope is filtered through a filter medium, defoamed, and sent to the next step by a liquid sending pump.

【0070】流延工程:ドープを送液ポンプ(例え
ば、加圧型定量ギヤポンプ)を通して加圧ダイに送液
し、無限に移送する無端の金属ベルト、例えばステンレ
スベルト、あるいは回転する金属ドラム等の金属支持体
上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延す
る工程である。ダイの口金部分のスリット形状を調製出
来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイ
には、コートハンガーダイやTダイ等があるが、何れも
好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となって
いる。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上
に2基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。
Casting step: An endless metal belt, such as a stainless steel belt, or a rotating metal drum, which feeds the dope to a pressure die through a liquid feed pump (for example, a pressure-type metering gear pump) and transfers it indefinitely. This is a step of casting the dope from the pressure die slit at the casting position on the support. It is preferable to use a pressure die that can adjust the slit shape of the die die and facilitates uniform film thickness. The pressure die includes a coat hanger die and a T die, and any of them is preferably used. The surface of the metal support is a mirror surface. In order to increase the film formation speed, two or more pressure dies may be provided on the metal support, and the dope amount may be divided to form multiple layers.

【0071】溶媒蒸発工程:ウェブ(金属支持体上に
ドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとす
る)を金属支持体上で加熱し金属支持体からウェブが剥
離可能になるまで溶媒を蒸発させる工程である。溶媒を
蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び/
または金属支持体の裏面から液体により伝熱させる方
法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏
面液体伝熱の方法が乾燥効率がよく好ましい。またそれ
らを組み合わせる方法も好ましい。裏面液体伝熱の場合
は、ドープ使用有機溶媒の主溶媒または最も低い沸点を
有する有機溶媒の沸点以下で加熱するのが好ましい。
Solvent evaporation step: The web (the dope film is called the web after casting the dope on the metal support) is heated on the metal support until the web can be peeled from the metal support. This is a step of evaporating the solvent. To evaporate the solvent, a method of blowing a wind from the web side and / or
Alternatively, there are a method of transferring heat from the back surface of the metal support by a liquid, a method of transferring heat from the front and back sides by radiant heat, and the like, and the back surface liquid heat transfer method is preferable because of good drying efficiency. A method of combining them is also preferable. In the case of rear surface liquid heat transfer, it is preferable to heat at a temperature not higher than the boiling point of the main solvent of the organic solvent used for the dope or the organic solvent having the lowest boiling point.

【0072】剥離工程:金属支持体上で溶媒が蒸発し
たウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離され
たウェブは次工程に送られる。剥離する時点でのウェブ
の残留溶媒量(下記式)があまり大き過ぎると剥離し難
かったり、逆に金属支持体上で充分に乾燥させてから剥
離すると、途中でウェブの一部が剥がれたりする。
Peeling step: This is a step of peeling the web having the solvent evaporated on the metal support at the peeling position. The peeled web is sent to the next step. If the residual solvent amount of the web at the time of peeling (the following formula) is too large, it is difficult to peel, or conversely if you peel it after drying it sufficiently on the metal support, part of the web may peel off in the middle .

【0073】製膜速度を上げる方法(残留溶媒量が出来
るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることが
出来る)としてゲル流延法(ゲルキャスティング)があ
る。
As a method of increasing the film forming speed (the film forming speed can be increased by peeling while the residual solvent amount is as large as possible), there is a gel casting method (gel casting).

【0074】本発明の光学薄膜の乾燥方法及び製造方法
は、支持体として溶液流延製膜法によって製造されたセ
ルロースエステルフィルムを用いるが、溶液流延製膜方
法そのものには、特に制限はなく、当業界で一般に用い
られている方法、例えば、米国特許第2,492,97
8号、同第2,739,070号、同第2,739,0
69号、同第2,492,977号、同第2,336,
310号、同第2,367,603号、同第2,60
7,704号、英国特許第64,071号、同第73
5,892号、特公昭45−9074号、同49−45
54号、同49−5614号、同60−27562号、
同61−39890号、同62−4208号等に記載の
方法を参考にすることができる。
In the method for drying and producing the optical thin film of the present invention, a cellulose ester film produced by the solution casting film forming method is used as a support, but the solution casting film forming method itself is not particularly limited. , Methods commonly used in the art, eg, US Pat. No. 2,492,97.
No. 8, No. 2,739,070, No. 2,739,0
No. 69, No. 2,492,977, No. 2,336.
No. 310, No. 2,367,603, No. 2,60
7,704, British Patents 64,071, 73
No. 5,892, Japanese Patent Publication No. 45-9074, No. 49-45.
No. 54, No. 49-5614, No. 60-27562,
The methods described in No. 61-39890, No. 62-4208, etc. can be referred to.

【0075】溶液流延製膜法で用いるセルロースエステ
ルのドープ液の調製に用いられる溶剤は、単独で用いて
も2種以上併用してもよいが、セルロースエステルの良
溶剤と貧溶剤を混合して使用することが、生産効率の点
で好ましく、更に、良溶剤が多い方がセルロースエステ
ルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率
の好ましい範囲は、良溶剤が70〜98質量%であり、
貧溶剤が30〜2質量%である。
The solvent used in the preparation of the dope solution of the cellulose ester used in the solution casting film formation method may be used alone or in combination of two or more kinds, but a good solvent of the cellulose ester and a poor solvent are mixed. It is preferable to use it in terms of production efficiency, and it is preferable that the amount of the good solvent is large in terms of the solubility of the cellulose ester. The preferable range of the mixing ratio of the good solvent and the poor solvent is 70 to 98% by mass of the good solvent,
The poor solvent is 30 to 2 mass%.

【0076】良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロース
エステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独では膨潤
するかあるいは溶解しないものを貧溶剤と定義してい
る。そのため、セルロースエステルの平均酢化度によっ
ては、良溶剤、貧溶剤の対象が変化し、例えば、アセト
ンを溶剤として用いるときには、セルロースエステルの
結合酢酸量55%では良溶剤になり、結合酢酸量60%
では貧溶剤となる。
The good solvent and the poor solvent are defined as those in which the cellulose ester used alone is dissolved, and those in which the cellulose ester swells or does not dissolve alone are defined as the poor solvent. Therefore, depending on the average degree of acetylation of the cellulose ester, the target of good solvent and poor solvent changes. For example, when acetone is used as a solvent, the amount of bound acetic acid in the cellulose ester of 55% is a good solvent, and the amount of bound acetic acid is 60. %
Then it becomes a poor solvent.

【0077】本発明に用いられる良溶剤としては、特に
限定されないが、例えば、セルローストリアセテートの
場合は、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物や
ジオキソラン類、酢酸メチル、また、セルロースアセテ
ートプロピオネートの場合は、メチレンクロライド、ア
セトン、酢酸メチルなどが挙げられる。
The good solvent used in the present invention is not particularly limited. For example, in the case of cellulose triacetate, an organic halogen compound such as methylene chloride, dioxolanes, methyl acetate, or cellulose acetate propionate is used. , Methylene chloride, acetone, methyl acetate and the like.

【0078】また、本発明に用いられる貧溶剤として
は、特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノ
ール、i−プロピルアルコール、n−ブタノール、シク
ロヘキサン、アセトン、シクロヘキサノン等が好ましく
用いられる。
The poor solvent used in the present invention is not particularly limited, but for example, methanol, ethanol, i-propyl alcohol, n-butanol, cyclohexane, acetone, cyclohexanone and the like are preferably used.

【0079】上記のドープ液を調製する時のセルロース
エステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いるこ
とができるが、加圧下で、溶剤の常圧での沸点以上でか
つ溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱し、攪拌しながら
溶解する方法が、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物
の発生を防止することができるためより好ましい。
As a method for dissolving the cellulose ester when preparing the above dope solution, a general method can be used, but in a range above the boiling point of the solvent under normal pressure and under which the solvent does not boil under pressure. The method of heating at the temperature of 1 and dissolving with stirring is more preferable because it can prevent the generation of undissolved lumps called gel or mamako.

【0080】また、セルロースエステルを貧溶剤と混合
し、湿潤あるいは膨潤させた後、さらに良溶剤と混合し
て溶解する方法も好ましく用いられる。
A method in which the cellulose ester is mixed with a poor solvent, moistened or swollen, and then mixed with a good solvent to dissolve the cellulose ester is also preferably used.

【0081】加圧容器の種類は、特に問うところではな
く、所定の圧力に耐えることができ、加圧下で加熱、攪
拌ができればよい。加圧容器には、そのほかに圧力計、
温度計などの計器類を適宜配設する。加圧は、窒素ガス
などの不活性気体を圧入する方法や、加熱による溶剤の
蒸気圧の上昇によって行ってもよい。加熱は外部から行
うことが好ましく、例えば、ジャケットタイプのものは
温度コントロールが容易で好ましい。
The type of the pressure vessel is not particularly limited as long as it can withstand a predetermined pressure and can be heated and stirred under pressure. In addition to the pressure gauge,
Appropriately install thermometers and other instruments. The pressurization may be carried out by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas or by increasing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.

【0082】溶剤を添加しての加熱温度は、使用溶剤の
常圧での沸点以上で、かつ該溶剤が沸騰しない範囲の温
度がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましい
が、加熱温度が高すぎると必要とされる圧力が大きくな
り生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45〜120
℃であり、60〜110℃がより好ましく、70℃〜1
05℃の範囲が更に好ましい。又、圧力は設定温度で、
溶剤が沸騰しないように調整される。
The heating temperature after the addition of the solvent is preferably higher than the boiling point of the solvent used at normal pressure and within the range where the solvent does not boil from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester, but the heating temperature is too high. Therefore, the required pressure increases and the productivity deteriorates. The preferred heating temperature is 45 to 120.
℃, more preferably 60 ~ 110 ℃, 70 ℃ ~ 1
The range of 05 ° C is more preferable. Also, the pressure is the set temperature,
The solvent is adjusted so that it does not boil.

【0083】セルロースエステルと溶剤のほかに必要な
可塑剤、紫外線吸収剤等の添加剤は、予め溶剤と混合
し、溶解または分散してからセルロースエステル溶解前
の溶剤に投入しても、セルロースエステル溶解後のドー
プへ投入しても良い。
In addition to the cellulose ester and the solvent, necessary additives such as a plasticizer and an ultraviolet absorber are mixed with the solvent in advance and dissolved or dispersed, and then added to the solvent before the dissolution of the cellulose ester. It may be added to the dope after dissolution.

【0084】溶解後は、冷却しながら容器から取り出す
か、または容器からポンプ等で抜き出して熱交換器など
で冷却し、これを製膜に供するが、このときの冷却温度
は常温まで冷却してもよいが、沸点より5〜10℃低い
温度まで冷却し、その温度のままキャスティングを行う
ほうが、ドープ粘度を低減できるためより好ましい。セ
アシル基の置換度の測定方法はASTM−817−96
の規定に準じて測定することが出来る。
After the dissolution, the product is taken out from the container while being cooled, or is taken out from the container by a pump or the like and cooled by a heat exchanger and the like, and is used for film formation. At this time, the cooling temperature is cooled to room temperature. However, it is more preferable to cool to a temperature 5 to 10 ° C. lower than the boiling point and perform casting at that temperature because the dope viscosity can be reduced. The method for measuring the degree of substitution of the acetyl group is ASTM-817-96.
It can be measured according to the regulations of.

【0085】これらセルロースエステルは後述するよう
に一般的に溶液流延製膜法と呼ばれる方法で製造(製
膜)される。この方法は、無限に移送する無端の金属ベ
ルト(例えばステンレスベルト)あるいは回転する金属
ドラム(例えば鋳鉄で表面をクロムメッキしたドラム)
等の流延用金属支持体(以降、単に金属支持体というこ
ともある)上に、加圧ダイからドープ(セルロースエス
テル溶液のこと)を流延(キャスティング)し、金属支
持体上のウェブ(ドープ膜)を金属支持体から剥離し、
乾燥させて製造するものである。
These cellulose esters are manufactured (film formation) by a method generally called a solution casting film formation method as described later. This method is used for endless metal belts (eg stainless steel belts) or rotating metal drums (eg cast iron chrome-plated drums) that can be transferred indefinitely.
A dope (a cellulose ester solution) is cast from a pressure die onto a casting metal support (hereinafter, also simply referred to as a metal support), and a web (metal casting) on the metal support is cast. The doped film) from the metal support,
It is manufactured by drying.

【0086】セルロースエステルフィルムには、画像表
示装置として屋外に置かれた場合等の劣化防止の観点か
ら下記記載の紫外線吸収剤を含有させることが好まし
い。
From the viewpoint of preventing deterioration when the cellulose ester film is placed outdoors as an image display device, it is preferable to contain the ultraviolet absorber described below.

【0087】紫外線吸収剤としては、波長370nm以
下の紫外線の吸収能に優れ、かつ波長400nm以上の
可視光の吸収が少ないものを好ましく用いることが出来
る。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾト
リアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベ
ンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、
ニッケル錯塩系化合物などを挙げることが出来るが、本
発明はこれらに限定されない。
As the ultraviolet absorber, those which are excellent in absorption of ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and have little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more can be preferably used. For example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds,
Examples thereof include nickel complex salt compounds, but the present invention is not limited thereto.

【0088】本発明において、セルロースエステルフィ
ルムの膜厚としては、10〜500μmが好ましく用い
られるが、特に好ましいのは10〜80μmである。
In the present invention, the thickness of the cellulose ester film is preferably 10 to 500 μm, and particularly preferably 10 to 80 μm.

【0089】本発明の光学薄膜の膜厚としては、1〜1
000nmが好ましい。本発明においては、上記記載の
ような支持体面上に本発明の光学薄膜を設ける場合、平
均膜厚に対する膜厚偏差を±8%になるように設けるこ
とが出来、より好ましくは±5%以内とすることが出
来、特に±1%以内の均一に薄膜とすることが出来る。
The thickness of the optical thin film of the present invention is from 1 to 1
000 nm is preferred. In the present invention, when the optical thin film of the present invention is provided on the support surface as described above, it can be provided so that the film thickness deviation with respect to the average film thickness is ± 8%, more preferably within ± 5%. It is possible to form a thin film uniformly within ± 1%.

【0090】本発明の乾燥方法及び製造方法により多層
の薄膜を積層することにより各層のムラもなく、均一な
光学薄膜を得ることが出来る。
By laminating multiple thin films by the drying method and manufacturing method of the present invention, it is possible to obtain a uniform optical thin film without unevenness of each layer.

【0091】このように、本発明においては様々な機能
を有する薄膜を形成した光学薄膜を提供することが出来
る。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide an optical thin film formed with a thin film having various functions.

【0092】本発明は帯電防止層または導電性層とし
て、金属酸化物微粒子や架橋カチオンポリマーのような
導電性樹脂微粒子を塗設した膜厚0.1〜2μmの層を
設けてもよい。
In the present invention, as the antistatic layer or the conductive layer, a layer having a film thickness of 0.1 to 2 μm coated with conductive resin fine particles such as metal oxide fine particles and crosslinked cationic polymers may be provided.

【0093】本発明の光学薄膜の乾燥方法で得られる光
学薄膜は特に偏光板保護フィルムとして有用であり、こ
れを用いて公知の方法で偏光板を作製することが出来
る。これらの光学薄膜は薄膜の均一性が高いため、各種
表示装置に好ましく用いることが出来、優れた表示性能
を得ることが出来る。
The optical thin film obtained by the method for drying an optical thin film of the present invention is particularly useful as a polarizing plate protective film, and a polarizing plate can be produced by a known method using this. Since these optical thin films have high uniformity of thin films, they can be preferably used in various display devices and can obtain excellent display performance.

【0094】本発明の光学薄膜には必要に応じて、ハー
ドコート層、防眩層、反射防止層、帯電防止層、導電
層、光拡散層、易接着層、防汚層、易接着層、配向層、
液晶層、光学異方層等を単独であるいは適宜組み合わせ
て設けることができる。
In the optical thin film of the present invention, if necessary, a hard coat layer, an antiglare layer, an antireflection layer, an antistatic layer, a conductive layer, a light diffusion layer, an easy adhesion layer, an antifouling layer, an easy adhesion layer, Alignment layer,
A liquid crystal layer, an optically anisotropic layer and the like can be provided alone or in combination.

【0095】液晶表示装置には通常2枚の偏光板の間に
液晶を含む基板が配置されることが好ましいが、特に液
晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムにはハ
ードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるた
め、該偏光板をこの部分に用いることが特に好ましい。
In a liquid crystal display device, it is usually preferable to dispose a substrate containing a liquid crystal between two polarizing plates. In particular, a polarizing plate protective film on the outermost surface of the liquid crystal display device on the display side has a hard coat layer and an antiglare layer. Since a layer, an antireflection layer and the like are provided, it is particularly preferable to use the polarizing plate in this portion.

【0096】本発明の光学薄膜は、マット剤を後述する
セルロースエステルフィルム(支持体)中に含有させる
ことによって、搬送や巻き取りをし易くすることが出来
る。
The optical thin film of the present invention can be easily transported and wound by incorporating a matting agent into a cellulose ester film (support) described later.

【0097】マット剤は出来るだけ微粒子のものが好ま
しく、微粒子としては、例えば二酸化珪素、二酸化チタ
ン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシ
ウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和
ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネ
シウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や、ポリメタ
アクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチ
レン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、
シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカ
ーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メ
ラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエ
ステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド
系樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を
挙げることが出来るが、特に架橋高分子微粒子が好まし
い。本発明においては、これらに限定されない。
The matting agent is preferably as fine particles as possible. Examples of the fine particles include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, and silica. Inorganic fine particles such as aluminum oxide, magnesium silicate, and calcium phosphate, polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder,
Silicon-based resin powder, polystyrene-based resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine-based resin powder, melamine-based resin powder, polyolefin-based resin powder, polyester-based resin powder, polyamide-based resin powder, polyimide-based resin powder, or polyfluorinated ethylene-based powder Resin powder and the like can be mentioned, but crosslinked polymer fine particles are particularly preferable. The present invention is not limited to these.

【0098】上記のうちでも二酸化珪素が動摩擦係数の
調整するのに特に好ましく、またフィルムのヘイズを小
さく出来るので好ましい。微粒子の一次粒子または二次
粒子の平均粒径は0.01〜5.0μmの範囲で、その
含有量はセルロースエステルに対して0.005〜0.
5質量%が好ましい。
Of the above, silicon dioxide is particularly preferable for adjusting the dynamic friction coefficient, and is preferable because it can reduce the haze of the film. The average particle diameter of the primary particles or secondary particles of the fine particles is in the range of 0.01 to 5.0 μm, and the content thereof is 0.005 to 0.
5 mass% is preferable.

【0099】二酸化珪素のような微粒子は有機物により
表面処理されている場合が多いが、このようなものはフ
ィルムのヘイズを低下出来るため好ましい。
Fine particles such as silicon dioxide are often surface-treated with an organic substance, but such particles are preferable because they can reduce the haze of the film.

【0100】表面処理で好ましい有機物としては、ハロ
シラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサン
などがあげられる。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り
性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に
優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は2
0nm以下が好ましく、好ましくは、5〜16nmであ
り、特に好ましくは、5〜12nmである。
Preferred organic substances for the surface treatment include halosilanes, alkoxysilanes, silazanes, siloxanes and the like. The larger the average particle size of the fine particles, the greater the slippery effect, and the smaller the average particle size, the more excellent the transparency.
It is preferably 0 nm or less, preferably 5 to 16 nm, and particularly preferably 5 to 12 nm.

【0101】これらの微粒子はセルロースエステルフィ
ルム中では、セルロースエステルフィルム表面に0.0
1〜1.0μmの凹凸を生成させることが好ましい。
In the cellulose ester film, these fine particles have 0.0% on the surface of the cellulose ester film.
It is preferable to generate unevenness of 1 to 1.0 μm.

【0102】二酸化珪素の微粒子としては日本アエロジ
ル(株)製のアエロジル(AEROSIL)200、2
00V、300、R972、R972V、R974、R
202、R812、OX50、TT600等を挙げるこ
とが出来、好ましくはアエロジル200V、R972、
R972V、R974、R202、R812である。こ
れらの微粒子は2種以上併用してもよい。2種以上併用
する場合、任意の割合で混合して使用することが出来
る。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば
アエロジル200VとR972Vを質量比で0.1:9
9.9〜99.9〜0.1の範囲で使用出来る。酸化ジ
ルコニウムとして、例えばアエロジルR976またはR
811(日本アエロジル(株)製)等市販品も使用出来
る。
Fine particles of silicon dioxide include Aerosil 200 and 2 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
00V, 300, R972, R972V, R974, R
202, R812, OX50, TT600 and the like, preferably Aerosil 200V, R972,
R972V, R974, R202 and R812. Two or more kinds of these fine particles may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, they can be mixed and used at an arbitrary ratio. In this case, fine particles having different average particle diameters and different materials, for example, Aerosil 200V and R972V in a mass ratio of 0.1: 9.
It can be used in the range of 9.9 to 99.9 to 0.1. As zirconium oxide, for example, Aerosil R976 or R
Commercially available products such as 811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) can also be used.

【0103】有機物微粒子として、例えば、シリコーン
樹脂として、トスパール103、105、108、12
0、145、3120、240(東芝シリコーン(株)
製)等市販品も使用出来る。
As organic fine particles, for example, silicone resin, Tospearl 103, 105, 108, 12
0,145,3120,240 (Toshiba Silicone Co., Ltd.)
Commercially available products such as manufactured products can also be used.

【0104】本発明に好ましく用いられる微粒子の1次
平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡(倍率50万〜
200万倍)で粒子を観察を行い、粒子100個を観察
し、その平均値をもって、1次平均粒子径とした。
The primary average particle diameter of the fine particles preferably used in the present invention is measured by a transmission electron microscope (magnification: 500,000 to
The particles were observed at a magnification of 2,000,000), 100 particles were observed, and the average value was taken as the primary average particle diameter.

【0105】微粒子の、見掛比重としては、70g/リ
ットル以上が好ましく、更に好ましくは、90〜200
g/リットルであり、特に好ましくは、100〜200
g/リットルである。見掛比重が大きい程、高濃度の分
散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化す
るため好ましく、また、本発明のように固形分濃度の高
いドープを調製する際には、特に好ましく用いられる。
The apparent specific gravity of the fine particles is preferably 70 g / liter or more, more preferably 90 to 200.
g / liter, particularly preferably 100 to 200
g / liter. The larger the apparent specific gravity is, the higher the concentration of the dispersion liquid can be made, and the haze and the agglomerates are improved, which is preferable, and when the dope having a high solid content concentration is prepared as in the present invention. , Particularly preferably used.

【0106】1次粒子の平均径が20nm以下、見掛比
重が70g/L以上の二酸化珪素微粒子は、例えば、気
化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを1000
〜1200℃にて空気中で燃焼させることで得ることが
出来る。本発明において、上記記載の見掛比重は二酸化
珪素微粒子を一定量メスシリンダーに採り、この時の重
さを測定し、下記式で算出した。
The silicon dioxide fine particles having an average primary particle diameter of 20 nm or less and an apparent specific gravity of 70 g / L or more are, for example, 1000 obtained by mixing vaporized silicon tetrachloride and hydrogen.
It can be obtained by burning in air at ~ 1200 ° C. In the present invention, the apparent specific gravity described above was calculated by the following formula by taking a certain amount of silicon dioxide fine particles in a graduated cylinder and measuring the weight at this time.

【0107】見掛比重(g/L)=二酸化珪素質量
(g)÷二酸化珪素の容積(L) 本発明に有用な微粒子の分散液を調製する方法とそれを
ドープに添加する方法としては、例えば以下に示すよう
な三つの方法を挙げることが出来る。
Apparent specific gravity (g / L) = mass of silicon dioxide (g) / volume of silicon dioxide (L) As a method for preparing a dispersion of fine particles useful in the present invention and a method for adding it to a dope, For example, the following three methods can be mentioned.

【0108】《調製方法A》有機溶媒と微粒子を撹拌混
合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液と
する。微粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。
<< Preparation Method A >> An organic solvent and fine particles are mixed by stirring, and then dispersed by a disperser. This is referred to as a fine particle dispersion liquid. The fine particle dispersion liquid is added to the dope liquid and stirred.

【0109】《調製方法B》有機溶媒と微粒子を撹拌混
合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液と
する。別に有機溶媒に少量のセルロースエステルを加え
撹拌溶解した液に微粒子分散液を加えて撹拌する。これ
を微粒子添加液とし、インラインミキサーでドープ液と
十分混合する。ここで、下記の微粒子添加液の添加後、
紫外線吸収剤を添加しても良い。
<< Preparation Method B >> The organic solvent and the fine particles are mixed by stirring, and then dispersed by a disperser. This is referred to as a fine particle dispersion liquid. Separately, a small amount of cellulose ester is added to an organic solvent and stirred and dissolved, and the fine particle dispersion is added and stirred. This is used as a fine particle added liquid, and is thoroughly mixed with the dope liquid by an in-line mixer. Here, after the addition of the following fine particle additive liquid,
An ultraviolet absorber may be added.

【0110】《調製方法C》有機溶媒に少量のセルロー
スエステルを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加え
て分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微
粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合
する。
<< Preparation Method C >> A small amount of cellulose ester is added to an organic solvent and dissolved by stirring. Fine particles are added to this and dispersed by a disperser. This is used as a fine particle addition liquid. The fine particle added liquid is thoroughly mixed with the dope liquid by an in-line mixer.

【0111】調製方法Aは二酸化珪素微粒子の分散性に
優れ、調製方法Cは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい
点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Bは二酸
化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が更に再凝
集しにくい等、両方に優れている好ましい調製方法であ
る。
Preparation method A is excellent in dispersibility of silicon dioxide fine particles, and preparation method C is excellent in that silicon dioxide fine particles are less likely to reaggregate. Above all, the above-mentioned preparation method B is a preferable preparation method which is excellent in both the dispersibility of the silicon dioxide fine particles and the difficulty of re-aggregation of the silicon dioxide fine particles.

【0112】《分散方法》二酸化珪素微粒子を有機溶媒
などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は5〜
30質量%が好ましく、10〜25質量%が更に好まし
く、15〜20質量%が最も好ましい。
<< Dispersion Method >> When the silicon dioxide fine particles are mixed and dispersed with an organic solvent or the like, the concentration of silicon dioxide is 5 to 5.
30 mass% is preferable, 10 to 25 mass% is more preferable, and 15 to 20 mass% is the most preferable.

【0113】セルロースエステルに対する二酸化珪素微
粒子の添加量はセルロースエステル100質量部に対し
て、二酸化珪素微粒子は0.01〜0.5質量部が好ま
しく、0.05〜0.2質量部が更に好ましく、0.0
8〜0.12質量部が最も好ましい。添加量は多い方
が、セルロースエステルフィルムの動摩擦係数に優れ、
添加量が少ない方がヘイズが低く、凝集物も少ない点が
優れている。
The amount of the silicon dioxide fine particles added to the cellulose ester is preferably 0.01 to 0.5 parts by weight, more preferably 0.05 to 0.2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the cellulose ester. , 0.0
Most preferably, it is 8 to 0.12 parts by mass. The larger the amount added, the better the dynamic friction coefficient of the cellulose ester film,
The smaller the added amount is, the better the haze is and the less agglomerates are.

【0114】分散液に使用される有機溶媒は低級アルコ
ール類が好ましく、低級アルコールとしては、メタノー
ル、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルア
ルコール、ブタノール等を挙げることが出来、好ましく
用いることが出来る。低級アルコール以外の有機溶媒と
しては特に限定されないが、ドープ調製時に用いられる
有機溶媒が好ましい。
The organic solvent used in the dispersion is preferably lower alcohols, and examples of the lower alcohols include methanol, ethanol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butanol and the like. The organic solvent other than the lower alcohol is not particularly limited, but the organic solvent used when preparing the dope is preferable.

【0115】分散機は通常の分散機が使用出来る。分散
機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機
に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散には後者がヘイ
ズが低くなるので好ましい。メディア分散機としてはボ
ールミル、サンドミル、ダイノミル等を挙げることが出
来る。また、メディアレス分散機として、超音波型、遠
心型、高圧型等があるが、本発明においては高圧型が好
ましく、高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微
粒子と有機溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過
させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作り
出す装置である。高圧分散装置で処理する場合、例え
ば、管径1〜2000μmの細管中で装置内部の最大圧
力条件が9.8MPa以上であることが好ましい。更に
好ましくは19.6MPa以上である。またその際、最
高到達速度が100m/秒以上に達するもの、伝熱速度
が420kJ/時間以上に達するものが好ましい。
As the disperser, an ordinary disperser can be used. Dispersers are roughly divided into media dispersers and medialess dispersers. The latter is preferable for dispersing the silicon dioxide fine particles, since the haze is low. Examples of the media disperser include a ball mill, a sand mill and a dyno mill. Further, as the medialess disperser, there are an ultrasonic type, a centrifugal type, a high pressure type and the like. In the present invention, the high pressure type is preferable, and the high pressure dispersing device is preferable. The high-pressure dispersion device is a device that creates a special condition such as high shear or high-pressure state by passing a composition obtained by mixing fine particles and an organic solvent at high speed through a thin tube. In the case of processing with a high-pressure dispersion device, for example, the maximum pressure condition inside the device is preferably 9.8 MPa or more in a thin tube having a tube diameter of 1 to 2000 μm. More preferably, it is 19.6 MPa or more. At that time, it is preferable that the maximum reaching speed is 100 m / sec or more and the heat transfer speed is 420 kJ / hour or more.

【0116】上記のような高圧分散装置にはMicro
fluidics Corporation社製超高圧
ホモジナイザ(商品名マイクロフルイダイザ)あるいは
ナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴー
リン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホ
モジナイザ、三和機械(株)社製UHN−01等があ
る。
The high-pressure dispersing device as described above has a Micro
There is an ultra-high pressure homogenizer (trade name: Microfluidizer) manufactured by fluidics Corporation or a nanomizer manufactured by Nanomizer. In addition, there is a Manton-Gaulin type high-pressure disperser, for example, a homogenizer manufactured by Izumi Food Machinery, a UHN- manufactured by Sanwa Machinery Co., Ltd. There is 01 etc.

【0117】本発明において、上記微粒子を含有させる
際、セルロースエステルフィルムの厚さ方向に均一に分
布していることが好ましいが、主に表面近傍に存在する
ように分布させることがより好ましく、例えば、一つの
ダイから共流延法により、2種以上のドープを同時に流
延し、微粒子を含有するドープを表層側に配置させるよ
うにすることが好ましい。このようにすることによっ
て、ヘイズを少なくし、且つ、動摩擦係数を低めること
が出来る。更に好ましくは3種のドープを使用して表層
側の片側の層もしくは両層に微粒子を含有するドープ配
置にさせることが望ましい。
In the present invention, when the above fine particles are contained, it is preferable that they are uniformly distributed in the thickness direction of the cellulose ester film, but it is more preferable that they are mainly distributed near the surface, for example, It is preferable that two or more kinds of dope are simultaneously cast from one die by a co-casting method, and the dope containing fine particles is arranged on the surface layer side. By doing so, the haze can be reduced and the dynamic friction coefficient can be lowered. More preferably, it is desirable to use three types of dopes to arrange the dope containing fine particles in one surface layer or both surface layers.

【0118】支持体の動摩擦係数を調整するため、裏面
側に微粒子を含有するバックコート層を設けることもで
きる。添加する微粒子の大きさや添加量、材質等によっ
て動摩擦係数を調整することが出来る。
In order to adjust the dynamic friction coefficient of the support, a back coat layer containing fine particles may be provided on the back surface side. The coefficient of dynamic friction can be adjusted by the size and amount of the fine particles to be added, the material, and the like.

【0119】本発明に好ましく用いられる可塑剤として
は、非リン酸エステル系可塑剤が好ましく用いられる。
As the plasticizer preferably used in the present invention, a non-phosphate ester plasticizer is preferably used.

【0120】非リン酸エステル系可塑剤としては、フタ
ル酸系エステル、クエン酸エステル、グリコール酸エス
テル、脂肪酸エステル、ピロメリット酸エステル、トリ
メリット酸エステルなどがあげられる。
Examples of the non-phosphoric acid ester plasticizer include phthalic acid ester, citric acid ester, glycolic acid ester, fatty acid ester, pyromellitic acid ester and trimellitic acid ester.

【0121】具体例としては、例えば、ジベンジルフタ
レート、ジベンジルイソフタレート、ジベンジルテレフ
タレート、ジフェニルフタレート、ジフェニルイソフタ
レート、ジフェニルテレフタレート、ジシクロヘキシル
フタレート、ジシクロヘキシルイソフタレート、ジシク
ロヘキシルテレフタレート、フェニルシクロヘキシルイ
ソフタレート、フェニルシクロヘキシルテレフタレー
ト、フェニルシクロヘキシルフタレート、ベンジルシク
ロヘキシルフタレート、ベンジルシクロヘキシルテレフ
タレート、ベンジルシクロヘキシルイソフタレート、な
どのフタル酸系エステル等があげられるが本発明はこれ
らに限定されるものではない。
Specific examples include, for example, dibenzyl phthalate, dibenzyl isophthalate, dibenzyl terephthalate, diphenyl phthalate, diphenyl isophthalate, diphenyl terephthalate, dicyclohexyl phthalate, dicyclohexyl isophthalate, dicyclohexyl terephthalate, phenyl cyclohexyl isophthalate, phenyl cyclohexyl. Examples thereof include phthalic acid-based esters such as terephthalate, phenylcyclohexyl phthalate, benzyl cyclohexyl phthalate, benzyl cyclohexyl terephthalate, and benzyl cyclohexyl isophthalate, but the present invention is not limited thereto.

【0122】アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸、パ
ラストリン酸、KE−604(荒川化学製)、KE−8
5(荒川化学製)、アラルダイドEPN1139(旭チ
バ(株)製)、アラルダイドGY260(旭チバ(株)
製)等の樹脂オリゴマー、ハイラック110H(日立化
成(株)製)、ハイラック111(日立化成(株)製)
等のケトン樹脂なども好ましく用いられる。
Abietic acid, dehydroabietic acid, parastophosphoric acid, KE-604 (manufactured by Arakawa Kagaku), KE-8
5 (manufactured by Arakawa Chemical), Araldide EPN1139 (manufactured by Asahi Chiba Co., Ltd.), Araldide GY260 (Asahi Chiba Co., Ltd.)
(Made by Hitachi Chemical Co., Ltd.), Hirac 110H (made by Hitachi Chemical Co., Ltd.), Hirac 111 (made by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
Ketone resins and the like are also preferably used.

【0123】特開平11−124445号、同11−9
2574号、同11−246704号、同11−635
60号、特開2001−48840記載の非リン酸エス
テル系可塑剤も用いることができる。これらは単独ある
いは併用して用いることが好ましい。
JP-A-11-124445 and 11-9.
2574, 11-246704, 11-635.
No. 60, a non-phosphate ester plasticizer described in JP 2001-48840 A can also be used. These are preferably used alone or in combination.

【0124】本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤
について説明する。紫外線吸収剤の具体例としては、例
えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾー
ル系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェ
ノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル
錯塩系化合物などが挙げられ、特にこれらに限定される
ものではなく、これ以外の紫外線吸収剤も用いられる。
The ultraviolet absorber preferably used in the present invention will be described. Specific examples of the ultraviolet absorber include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex salt compounds, and the like. However, other UV absorbers may also be used.

【0125】具体例としては、例えば、以下の化合物を
挙げられる。 UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−
tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−
ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−
tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,
4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)
−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,
3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリア
ゾール−2−イル)フェノール) UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−
ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾト
リアゾール UV−8 :2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン UV−9 :2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフェノン UV−10:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スル
ホベンゾフェノン UV−11:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5
−ベンゾイルフェニルメタン) 紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の
吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長
400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく
用いられる。本発明の光学薄膜の紫外線吸収能として
は、380nmの波長の光に対して透過率10%以下で
あることが好ましく、更に好ましくは、透過率6%未
満、特に好ましくは透過率0〜4%未満である。
Specific examples include the following compounds. UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-
tert-Butylphenyl) benzotriazole UV-3: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-
Butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-
tert-Butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ",
4 ", 5", 6 "-tetrahydrophthalimidomethyl)
-5'-Methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3)
3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol) UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-
Butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-9: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-10: 2-hydroxy-4-methoxy -5-Sulfobenzophenone UV-11: Bis (2-methoxy-4-hydroxy-5)
-Benzoylphenylmethane) As the ultraviolet absorber, those having excellent absorption of ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display property. The ultraviolet absorption capacity of the optical thin film of the present invention is preferably 10% or less, more preferably less than 6%, particularly preferably less than 6%, with respect to light having a wavelength of 380 nm. Is less than.

【0126】光学薄膜に用いられる紫外線吸収剤の含有
量は、波長380nmの光の透過率の設定に従い、適切
な添加量で用いられる。
The content of the ultraviolet absorber used in the optical thin film is an appropriate addition amount according to the setting of the transmittance of light having a wavelength of 380 nm.

【0127】本発明における光学薄膜及び反射防止薄膜
は高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を有することが
好ましい。
The optical thin film and antireflection thin film in the present invention preferably have a high refractive index layer, a medium refractive index layer and a low refractive index layer.

【0128】高屈折率層及び中屈折率層に使用するチタ
ン化合物としては、有機チタン化合物、チタン水素化合
物、ハロゲン化チタン等があり、有機チタン化合物とし
ては、トリエチルチタン、トリメチルチタン、トリイソ
プロピルチタン、トリブチルチタン、テトラエチルチタ
ン、テトライソプロピルチタン、テトラブチルチタン、
トリエトキシチタン、トリメトキシチタン、トリイソプ
ロポキシチタン、トリブトキシチタン、テトラエトキシ
チタン、テトライソプロポキシチタン、メチルジメトキ
シチタン、エチルトリエトキシチタン、メチルトリイソ
プロポキシチタン、テトラジメチルアミノチタン、ジメ
チルチタンジアセトアセトナート、エチルチタントリア
セトアセトナート等、チタン水素化合物としてはモノチ
タン水素化合物、ジチタン水素化合物等、ハロゲン化チ
タンとしては、三塩化チタン、四塩化チタン等を挙げる
ことが出来、何れも本発明において好ましく用いること
が出来る。
Titanium compounds used in the high refractive index layer and the medium refractive index layer include organic titanium compounds, titanium hydrogen compounds, titanium halides, and the like, and organic titanium compounds include triethyl titanium, trimethyl titanium, and triisopropyl titanium. , Tributyl titanium, tetraethyl titanium, tetraisopropyl titanium, tetrabutyl titanium,
Triethoxy titanium, trimethoxy titanium, triisopropoxy titanium, tributoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, methyldimethoxy titanium, ethyl triethoxy titanium, methyl triisopropoxy titanium, tetradimethylamino titanium, dimethyl titanium diacetate Acetonate, ethyltitanium triacetoacetonate, etc., examples of titanium hydrogen compounds include monotitanium hydrogen compounds, dititanium hydrogen compounds, etc., and examples of titanium halides include titanium trichloride, titanium tetrachloride, etc. Can be preferably used in.

【0129】また、低屈折率層に使用する珪素化合物と
しては、有機珪素化合物、珪素水素化合物、ハロゲン化
珪素化合物等を挙げることが出来、有機珪素化合物とし
ては、テトラエチルシラン、テトラメチルシラン、テト
ライソプロピルシラン、テトラブチルシラン、テトラエ
トキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブ
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジ
エトキシシラン、ジエチルシランジアセトアセトナー
ト、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン等、珪素水素化合物と
しては、テトラ水素化シラン、ヘキサ水素化ジシラン等
を挙げることが出来、何れも本発明において好ましく用
いることが出来る。
The silicon compound used for the low refractive index layer may be an organic silicon compound, a silicon hydrogen compound, a silicon halide compound, or the like, and the organic silicon compound may be tetraethylsilane, tetramethylsilane or tetramethylsilane. Isopropylsilane, tetrabutylsilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethylsilanediacetoacetonate, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane As the silicon hydrogen compound, tetrahydrogenated silane, hexahydrogenated disilane and the like can be mentioned, and any of them can be preferably used in the present invention.

【0130】本発明の好ましい反射防止光学薄膜は、金
属酸化物層を支持体に直接形成させてもよいが、他の層
を少なくとも1層設けた上に形成させてもよい。本発明
において、他の層としては、ハードコート層等を挙げる
ことが出来、これらの層が紫外線等活性線により硬化す
る活性線硬化樹脂層であることが好ましい。このような
紫外線で硬化された樹脂層の上に金属酸化物層を形成さ
せることによって耐擦り傷性に優れた反射防止光学薄膜
を得ることが出来る。
The preferred antireflection optical thin film of the present invention may have the metal oxide layer formed directly on the support, but may also have the other layer provided thereon at least one layer. In the present invention, examples of the other layer include a hard coat layer and the like, and these layers are preferably actinic ray curable resin layers that are cured by actinic rays such as ultraviolet rays. By forming a metal oxide layer on such a resin layer cured by ultraviolet rays, an antireflection optical thin film having excellent scratch resistance can be obtained.

【0131】ハードコート層等の活性線硬化樹脂層は、
エチレン性不飽和モノマーを含む成分を重合させて形成
した樹脂層であることが好ましい。
The actinic radiation curable resin layer such as the hard coat layer is
The resin layer is preferably formed by polymerizing a component containing an ethylenically unsaturated monomer.

【0132】ここで、活性線硬化樹脂層とは、紫外線や
電子線のような活性線照射により架橋反応などを経て硬
化する樹脂を主たる成分とする層をいう。
Here, the actinic ray curable resin layer means a layer containing as a main component a resin which is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays and electron beams.

【0133】活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂
や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられ
るが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化す
る樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポ
リエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ
アクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレ
ート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げ
ることが出来る。
Typical examples of the actinic ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin. However, a resin which is cured by irradiation with an actinic ray other than an ultraviolet ray or an electron beam may be used. As the ultraviolet curable resin, for example,
Examples thereof include UV-curable acrylic urethane-based resin, UV-curable polyester acrylate-based resin, UV-curable epoxy acrylate-based resin, UV-curable polyol acrylate-based resin, and UV-curable epoxy resin.

【0134】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物
に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート(以下アクリレートと記載し
た場合、メタクリレートを包含するものとする)、2−
ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するア
クリレート系のモノマーを反応させることによって容易
に得ることが出来る(例えば、特開昭59−15111
0号等を参照)。
The UV-curable acrylic urethane resin is
In general, a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer further includes 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter, when it is described as acrylate, methacrylate is included), 2 −
It can be easily obtained by reacting an acrylate-based monomer having a hydroxyl group such as hydroxypropyl acrylate (for example, JP-A-59-15111).
(See No. 0).

【0135】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキ
シエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系
のモノマーを反応させることによって容易に得ることが
出来る(例えば、特開昭59−151112号の記載ケ
所を参照)。
The UV-curable polyester acrylate resin can generally be easily obtained by reacting a polyester polyol with a 2-hydroxyethyl acrylate or a 2-hydroxy acrylate monomer (for example, JP-A-59-151112). (See the description of).

【0136】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマー
とし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反
応させたものを挙げることが出来る(例えば、特開平1
−105738号)。この光反応開始剤としては、ベン
ゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン
誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、1種もし
くは2種以上を選択して使用することが出来る。
Specific examples of the ultraviolet-curable epoxy acrylate resin include epoxy acrylate as an oligomer, to which a reactive diluent and a photoreaction initiator are added and reacted (for example, Kaihei 1
-105738). As the photoreaction initiator, one or more selected from benzoin derivatives, oxime ketone derivatives, benzophenone derivatives, thioxanthone derivatives and the like can be used.

【0137】また、紫外線硬化型ポリオールアクリレー
ト系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出
来る。
Specific examples of the UV-curable polyol acrylate resin include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and alkyl-modified dipenta. Examples thereof include erythritol pentaacrylate.

【0138】これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に
使用される。また上記光反応開始剤も光増感剤としても
使用出来る。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェ
ノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、
α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれ
らの誘導体を挙げることが出来る。また、エポキシアク
リレート系の光反応剤の使用の際、n−ブチルアミン、
トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増
感剤を用いることが出来る。塗布乾燥後に揮発する溶媒
成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応
開始剤また光増感剤は該組成物の通常1〜10質量%添
加することが出来、2.5〜6質量%が好ましい。
These resins are usually used together with known photosensitizers. The above photoreaction initiator can also be used as a photosensitizer. Specifically, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone,
Examples thereof include α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. When using an epoxy acrylate-based photoreactive agent, n-butylamine,
Sensitizers such as triethylamine and tri-n-butylphosphine can be used. The photoreaction initiator or photosensitizer contained in the ultraviolet curable resin composition excluding the solvent component which volatilizes after coating and drying can be added in an amount of usually 1 to 10% by mass of the composition, and 2.5 to 6 can be added. Mass% is preferred.

【0139】本発明に好ましく用いられる活性線硬化樹
脂層は公知の方法で塗設することが出来る。
The actinic radiation curable resin layer preferably used in the present invention can be applied by a known method.

【0140】活性線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化
皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生す
る光源であれば何れでも使用出来る。
As the light source for forming the cured film layer by the photo-curing reaction of the actinic ray curable resin, any light source which emits ultraviolet rays can be used.

【0141】例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライ
ドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照
射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量
は20〜10000mJ/cm2あればよく、好ましく
は、50〜2000mJ/cm2である。近紫外線領域
〜可視光線領域にかけてはその領域に吸収極大のある増
感剤を用いることによって使用出来る。
For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a super high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, etc. can be used. The irradiation conditions vary depending on individual lamps, but the amount of light irradiated may if 20~10000mJ / cm 2, preferably from 50~2000mJ / cm 2. It can be used by using a sensitizer having an absorption maximum in the near-ultraviolet region to the visible light region.

【0142】活性線硬化樹脂層を塗設する際の溶媒とし
ては、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、
エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中
から適宜選択し、あるいはこれらを混合し利用出来る。
好ましくは、プロピレングリコールモノ(炭素数1〜4
のアルキル基)アルキルエーテル出来はプロピレングリ
コールモノ(炭素数1〜4のアルキル基)アルキルエー
テルエステルを5質量%以上、さらに好ましくは5〜8
0質量%以上含有する溶媒が用いられる。
As the solvent for applying the actinic radiation curable resin layer, for example, hydrocarbons, alcohols, ketones,
It can be appropriately selected from esters, glycol ethers and other solvents, or can be used by mixing them.
Preferably, propylene glycol mono (having 1 to 4 carbon atoms
Alkyl group) alkyl ether of propylene glycol mono (alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) alkyl ether ester is 5% by mass or more, more preferably 5 to 8%.
A solvent containing 0% by mass or more is used.

【0143】紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法
としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイ
ヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコータ
ー、押し出しコーター、エアードクターコーター等公知
の方法を用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚で
通常0.1〜30μmであり、好ましくは、0.5〜1
5μmである。塗布速度は好ましくは10〜60m/分
で行われる。
As a method for applying the ultraviolet curable resin composition coating solution, known methods such as a gravure coater, a spinner coater, a wire bar coater, a roll coater, a reverse coater, an extrusion coater and an air doctor coater can be used. The coating amount is usually 0.1 to 30 μm in terms of wet film thickness, preferably 0.5 to 1
It is 5 μm. The coating speed is preferably 10 to 60 m / min.

【0144】紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥された
後、紫外線を光源より照射するが、照射時間は0.5秒
〜5分がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率
とから3秒〜2分がより好ましい。
The UV-curable resin composition is coated and dried, and then irradiated with UV rays from a light source. The irradiation time is preferably 0.5 seconds to 5 minutes. Seconds to 2 minutes are more preferable.

【0145】こうして得た硬化皮膜層に、ブロッキング
を防止するため、また対擦り傷性等を高めるために無機
あるいは有機の微粒子を加えることが好ましい。
Inorganic or organic fine particles are preferably added to the thus obtained cured film layer in order to prevent blocking and enhance scratch resistance.

【0146】例えば、無機微粒子としては酸化ケイ素、
酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭
酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸
カルシウム等を挙げることが出来、また有機微粒子とし
ては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉
末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリ
レート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系
樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミ
ン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系
樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂
粉末、ポリイミド系樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレ
ン系樹脂粉末等を挙げることが出来、紫外線硬化性樹脂
組成物に加えることが出来る。これらの微粒子粉末の平
均粒径としては、0.005〜1μmが好ましく0.0
1〜0.1μmであることが特に好ましい。
For example, as the inorganic fine particles, silicon oxide,
Examples thereof include titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, zinc oxide, calcium carbonate, barium sulfate, talc, kaolin, calcium sulfate, and the like, and as the organic fine particles, polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin Powder, polymethylmethacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin Powders, polyfluorinated ethylene-based resin powders and the like can be mentioned, which can be added to the ultraviolet curable resin composition. The average particle size of these fine particle powders is preferably 0.005 to 1 μm, and 0.0
Particularly preferably, it is 1 to 0.1 μm.

【0147】紫外線硬化樹脂組成物と微粒子粉末との割
合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜10
質量部となるように配合することが望ましい。
The ratio of the ultraviolet curable resin composition to the fine particle powder is 0.1 to 10 relative to 100 parts by mass of the resin composition.
It is desirable to mix them in such an amount that they will be part by mass.

【0148】本発明においては、上記のような支持体面
に対して本発明の光学薄膜を設ける場合、平均膜厚の膜
厚偏差を±10%になるように設けることが好ましく、
更に好ましくは±5%以内であり、特に好ましくは±1
%以内になるように設けることが好ましい。
In the present invention, when the optical thin film of the present invention is provided on the surface of the support as described above, it is preferable to provide it so that the deviation of the average film thickness is ± 10%.
It is more preferably within ± 5%, and most preferably ± 1.
It is preferable to provide it so as to be within%.

【0149】また、酸化防止剤としては、ヒンダードフ
ェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、2,
6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリ
チル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレ
ングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,
6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、
2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,
5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,
3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ト
リス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)−イソシアヌレイト等を挙げることが出来る。特
に2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエ
リスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリ
エチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕
が好ましい。また例えば、N,N′−ビス〔3−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤や
トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファ
イト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。これらの
化合物の添加量は、セルロースエステルに対して質量割
合で1ppm〜1.0%が好ましく、10〜1000p
pmが更に好ましい。
As the antioxidant, hindered phenol type compounds are preferably used.
6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4)
-Hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,
6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-t-
Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate],
2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -1,3
5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3-
(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)
Propionate], octadecyl-3- (3,5-di-
t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-t-
Butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,
3,5-Trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, Tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)- Isocyanurate and the like can be mentioned. In particular, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5
-Methyl-4-hydroxyphenyl) propionate]
Is preferred. Further, for example, N, N'-bis [3- (3,3
5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine and other hydrazine-based metal deactivators and tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and other phosphorus-based processing stabilizers You may. The addition amount of these compounds is preferably 1 ppm to 1.0% by mass ratio with respect to the cellulose ester, and is 10 to 1000 p.
pm is more preferred.

【0150】これらの酸化防止剤は劣化防止剤ともいわ
れ、高湿高温の状態に液晶画像表示装置などがおかれた
場合、セルロースエステルフィルムの劣化が起こる場合
があり、例えば、セルロースエステルフィルム中の残留
溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等によりセ
ルロースエステルフィルムが分解を遅らせたり、防いだ
りする役割を有するので前記セルロースエステルフィル
ム中に含有させるのが好ましい。
These antioxidants are also called deterioration inhibitors, and when the liquid crystal image display device is placed in a high-humidity and high-temperature state, the cellulose ester film may be deteriorated. Since the cellulose ester film has a role of delaying or preventing decomposition due to the residual solvent amount of halogen, phosphoric acid of a phosphoric acid plasticizer, or the like, it is preferably contained in the cellulose ester film.

【0151】[0151]

【実施例】以下、本発明を実施例を挙げて具体的に説明
するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるもので
はない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto.

【0152】 実施例1 《ドープ液の調製》 (酸化ケイ素分散液の調製) アエロジル200V(日本アエロジル(株)製) 1kg エタノール 9kg 上記素材をディゾルバで30分間撹拌混合した後、マン
トンゴーリン型高圧分散装置を用いて分散を行った。
Example 1 << Preparation of Dope Liquid >> (Preparation of Silicon Oxide Dispersion Liquid) Aerosil 200V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 1 kg Ethanol 9 kg After stirring and mixing the above materials with a dissolver for 30 minutes, Manton-Gaulin type high pressure dispersion Dispersion was performed using the device.

【0153】 (添加液Aの調製) セルロースアセテートプロピオネート(アセチル置換度:1.9、プロピオニ ル基置換度0.7) 4kg メチレンクロライド 76kg チヌビン326(チバスペシャルティケミカルズ社製) 3kg チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ社製) 4kg チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ社製) 4kg 上記素材を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、
完全に溶解、濾過した。これに9kgの上記酸化ケイ素
分散液を撹拌しながら加えて、さらに30分間撹拌した
後、濾過し、添加液Aを調製した。
(Preparation of Additive Liquid A) Cellulose acetate propionate (acetyl substitution degree: 1.9, propionyl group substitution degree: 0.7) 4 kg Methylene chloride 76 kg Tinuvin 326 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 3 kg Tinuvin 109 (Ciba) Specialty Chemicals Co., Ltd.) 4 kg Tinuvin 171 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 4 kg The above materials are placed in a closed container, heated and stirred,
It was completely dissolved and filtered. To this, 9 kg of the above silicon oxide dispersion was added with stirring, and the mixture was further stirred for 30 minutes and then filtered to prepare an addition liquid A.

【0154】 (ドープAの調製) 化合物1 18kg メチレンクロライド 320kg エタノール 60kg セルロースアセテートプロピオネート(アセチル置換度:1.9、プロピオニ ル基置換度0.7) 110kg 上記素材を順に、攪拌しながら密閉容器に投入し、加
熱、撹拌しながら、完全に溶解、混合した。ドープを流
延する温度まで下げて一晩放置し、脱泡操作を施した
後、溶液を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を
使用して濾過した。更に溶液100kgあたり添加液A
を2kgの割合で添加し、インラインミキサー(東レ静
止型管内混合機Hi−Mixer、SWJ)で十分混合
し、濾過し、をドープ(A)を調製した。
(Preparation of Dope A) Compound 1 18 kg Methylene chloride 320 kg Ethanol 60 kg Cellulose acetate propionate (acetyl substitution degree: 1.9, propionyl group substitution degree: 0.7) 110 kg A closed container while stirring the above materials in order. It was put into a vessel and completely dissolved and mixed while heating and stirring. The dope was cooled to a temperature at which it was cast, allowed to stand overnight, and subjected to a defoaming operation. Then, the solution was added to Azumi Filter Paper No. Filtered using 244. Furthermore, the additive solution A per 100 kg of the solution
Was added at a rate of 2 kg, thoroughly mixed with an in-line mixer (Toray static type in-tube mixer Hi-Mixer, SWJ), and filtered to prepare a dope (A).

【0155】[0155]

【化1】 [Chemical 1]

【0156】《透明支持体の作製》ドープ液Aを濾過
後、ベルト流延装置を用い、ドープ温度35℃で30℃
のステンレスバンド支持体上に均一に流延した。該支持
体上で90秒間乾燥させた後、ステンレスバンド支持体
上から形成したウェブを剥離した。
<< Preparation of Transparent Support >> After filtering the dope solution A, a dope temperature of 35 ° C. and a temperature of 30 ° C.
It was evenly cast on the stainless steel band support. After drying on the support for 90 seconds, the web formed on the stainless band support was peeled off.

【0157】ステンレスバンド支持体からウェブを剥離
した後、80℃の乾燥ゾーンをロール搬送しながら乾燥
させた後、ウェブ中の残留溶媒量が20質量%以下とな
ったところで、2軸延伸テンターでTD方向(幅手方
向)に1.07倍及びMD方向(製膜方向)に1.01
倍に延伸しながら90℃で乾燥させた後、幅把持を解放
し、さらにロール搬送しながら120℃の乾燥ゾーンで
乾燥を終了させ、膜厚60μmの透明支持体を作製し
た。
After the web was peeled from the stainless band support and dried while being conveyed by a roll in a drying zone of 80 ° C., when the residual solvent amount in the web was 20% by mass or less, a biaxial stretching tenter was used. 1.07 times in TD direction (width direction) and 1.01 in MD direction (film formation direction)
After being double-stretched and dried at 90 ° C., the width grip was released, and further drying was completed in a drying zone at 120 ° C. while being conveyed by rolls to prepare a transparent support having a film thickness of 60 μm.

【0158】フィルム幅は1300mm、巻き取り長は
2000mとした。巻き取り後のフィルム中の残留溶媒
量は0.1質量%未満であった。
The film width was 1300 mm and the winding length was 2000 m. The amount of residual solvent in the film after winding was less than 0.1% by mass.

【0159】ここで、MD方向とは、流延製膜時のフィ
ルムの製膜方向を示し、TD方向とは、流延製膜時のフ
ィルムの幅手方向を示す。
Here, the MD direction indicates the film forming direction of the film during the casting film formation, and the TD direction indicates the width direction of the film during the casting film formation.

【0160】下記のハードコート層組成物を上記透明支
持体上の片面に下記ハードコート層組成物(1)を乾燥
膜厚3.5μmとなるように塗布し、80℃にて5分間
乾燥した。次に80W/cm高圧水銀灯を12cmの距
離から4秒間照射して硬化させ、ハードコート層を有す
る透明支持体を作製した。ハードコート層の屈折率は
1.50であった。
The following hard coat layer composition was applied on one surface of the transparent support to the following hard coat layer composition (1) so that the dry film thickness was 3.5 μm, and dried at 80 ° C. for 5 minutes. . Next, an 80 W / cm high-pressure mercury lamp was irradiated from a distance of 12 cm for 4 seconds to be cured to prepare a transparent support having a hard coat layer. The refractive index of the hard coat layer was 1.50.

【0161】 〈ハードコート層組成物(1)〉 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20質量部 ジエトキシベンゾフェノン(UV光開始剤) 2質量部 アエロジルR−972V(日本アエロジル(株)製) 1質量部 メチルエチルケトン 50質量部 酢酸エチル 50質量部 イソプロピルアルコール 50質量部 上記組成物を撹拌しながら、超音波分散した。[0161]   <Hard coat layer composition (1)>   Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts by mass   Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts by mass   Dipentaerythritol hexaacrylate trimer or more components                                                           20 parts by mass   2 parts by weight of diethoxybenzophenone (UV photoinitiator)   Aerosil R-972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 1 part by mass   Methyl ethyl ketone 50 parts by mass   50 parts by mass of ethyl acetate   Isopropyl alcohol 50 parts by mass The above composition was ultrasonically dispersed while stirring.

【0162】 《多層反射防止光学薄膜の作製》 〈中屈折率層用塗布液〉 テトラ(n)ブトキシチタン 250質量部 末端反応性ジメチルシリコーンオイル(日本ユニカー社製L−9000) 0.48質量部 アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製KBE903) 22質量部 UV硬化性エポキシ樹脂(旭電化社製KR500) 21質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 4900質量部 イソプロピルアルコール 4840質量部 〈高屈折率層用塗布液〉 テトラ(n)ブトキシチタン 310質量部 末端反応性ジメチルシリコーンオイル(日本ユニカー社製L−9000) 0.4質量部 アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製KBE903) 4.8質量部 UV硬化性エポキシ樹脂(旭電化社製KR500) 4.6質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 4900質量部 イソプロピルアルコール 4800質量部 〈低屈折率層用塗布液〉 テトラエトキシシラン加水分解物A 1020質量部 末端反応性ジメチルシリコーンオイル(日本ユニカー社製L−9000) 0.42質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 2700質量部 イソプロピルアルコール 6300質量部 上記ハードコート層を有する透明支持体上に、前記中屈
折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、120
℃で乾燥した後、紫外線照射により塗布層を硬化させ、
中屈折率層(厚さ:0.081μm)を形成した。
<< Preparation of Multi-Layer Antireflection Optical Thin Film >><Coating Liquid for Medium Refractive Index Layer> Tetra (n) butoxytitanium 250 parts by mass Terminal reactive dimethyl silicone oil (L-9000 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 0.48 parts by mass Aminopropyltrimethoxysilane (KBE903 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 22 parts by mass UV curable epoxy resin (KR500 manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) 21 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 4900 parts by mass Isopropyl alcohol 4840 parts by mass <Coating liquid for high refractive index layer > Tetra (n) butoxy titanium 310 mass parts Terminal reactive dimethyl silicone oil (L-9000 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 0.4 mass part Aminopropyltrimethoxysilane (KBE903 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 4.8 mass parts UV curability Epoxy resin (KR500 manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) 4.6 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 4900 parts by mass Isopropyl alcohol 4800 parts by mass <Coating liquid for low refractive index layer> Tetraethoxysilane hydrolyzate A 1020 parts by mass Terminal reactive dimethyl silicone oil (L-9000 manufactured by Unicar Japan) ) 0.42 parts by mass propylene glycol monomethyl ether 2700 parts by mass isopropyl alcohol 6300 parts by mass On the transparent support having the hard coat layer, the medium refractive index layer coating solution is applied using a bar coater, and 120
After drying at ℃, cure the coating layer by UV irradiation,
A medium refractive index layer (thickness: 0.081 μm) was formed.

【0163】中屈折率層の上に前記高屈折率層用塗布液
をバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥した
後、紫外線照射により塗布層を硬化させ、高屈折率層
(厚さ:0.060μm)を形成した。
The coating liquid for a high refractive index layer was applied onto the medium refractive index layer using a bar coater, dried at 120 ° C., and then the coating layer was cured by irradiation with ultraviolet rays to give a high refractive index layer (thickness). : 0.060 μm) was formed.

【0164】高屈折率層の上に前記低屈折率用塗布液を
バーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥した後、
紫外線照射により塗布層を硬化させ、低屈折率層(厚
さ:0.090μm)を形成し、多層反射防止薄膜を作
製した。出来上がった各層単独の屈折率は中屈折率層
1.65、高屈折率層1.90、低屈折率層1.45で
あった。
The coating liquid for low refractive index was applied onto the high refractive index layer using a bar coater and dried at 120 ° C.,
The coating layer was cured by UV irradiation to form a low refractive index layer (thickness: 0.090 μm), and a multilayer antireflection thin film was produced. The refractive index of each of the completed layers was a medium refractive index layer 1.65, a high refractive index layer 1.90, and a low refractive index layer 1.45.

【0165】尚、屈折率、膜厚及びセルロースエステル
のアシル基置換度は以下の方法で求めた。
The refractive index, the film thickness and the degree of acyl group substitution of cellulose ester were determined by the following methods.

【0166】(屈折率、膜厚)各屈折率層の屈折率と膜
厚は、各層を単独で塗設したサンプルについて、分光光
度計の分光反射率の測定結果から求める。分光光度計は
U−4000型(日立製作所製)を用いて、サンプルの
測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光
吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正
反射の条件にて可視光領域(400〜700nm)の反
射率の測定を行う。
(Refractive Index, Film Thickness) The refractive index and film thickness of each refractive index layer are obtained from the measurement results of the spectral reflectance of a spectrophotometer for a sample in which each layer is applied alone. A spectrophotometer of U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.) is used to roughen the back surface of the sample on the measurement side and then perform light absorption processing with a black spray to prevent reflection of light on the back surface. Then, the reflectance in the visible light region (400 to 700 nm) is measured under the condition of regular reflection of 5 degrees.

【0167】(セルロースエステルのアシル基置換度)
ASTM−D817−96に規定の方法に準じて行う。
(Substitution degree of acyl group of cellulose ester)
It is performed according to the method specified in ASTM-D817-96.

【0168】(セルロースエステルの数平均分子量)高
速液体クロマトグラフィーにより下記条件で測定する 溶媒:アセトン カラム:MPW×1(東ソー(株)製) 試料濃度:0.2質量/容量% 流量:1.0ml/分 試料注入量:300μl 標準試料:ポリメタクリル酸メチル(MW=188,2
00) 温度:23℃ 検出器:示差屈折計。
(Number average molecular weight of cellulose ester) Solvent to be measured by high performance liquid chromatography under the following conditions: Acetone column: MPW × 1 (manufactured by Tosoh Corporation) Sample concentration: 0.2 mass / volume% Flow rate: 1. 0 ml / min Sample injection rate: 300 μl Standard sample: polymethylmethacrylate (MW = 188,2
00) Temperature: 23 ° C. Detector: Differential refractometer.

【0169】塗布膜の固形分濃度が1〜50%の間の塗
布膜表面の風速をそれぞれ変化させて塗膜を作製した。
A coating film was prepared by changing the wind speed on the surface of the coating film when the solid content concentration of the coating film was 1 to 50%.

【0170】各々の反射防止多層光学薄膜の裏に黒いア
クリル板を貼り付け、乾燥むら、はじきを目視により3
段階に評価した。
A black acrylic plate was attached to the back of each antireflection multilayer optical thin film, and unevenness in drying and repellency were visually observed.
Graded.

【0171】 (乾燥むら) 評価基準 ○:むらなし △:むらがあるが実用上問題なし ×:むらがあり、実用不可 (はじき:膜厚) 評価基準 ○:50μm未満のものが5個/m2以下 △:50〜100μm未満のものが5個/m2以下 ×:100μm以上のものが5個/m2以上(Dry unevenness) Evaluation Criteria ◯: No unevenness Δ: There is unevenness, but there is no problem in practical use ×: There is unevenness and cannot be used in practice (repelling: film thickness) Evaluation Criteria ◯: 5 pieces / m less than 50 μm 2 or less Δ: 5 to less than 50 to 100 μm / m 2 or less ×: 5 to 100 μm or more / m 2 or more

【0172】[0172]

【表1】 [Table 1]

【0173】以上の結果から明らかなように、反射防止
多層光学薄膜の塗布直後の表面風速を0.2〜1.0m
/secとなるよう本発明の値に制御することによっ
て、はじき、乾燥むらのない高品質な反射防止多層光学
薄膜が得られることが分かる。
As is clear from the above results, the surface wind velocity immediately after coating the antireflection multilayer optical thin film was 0.2 to 1.0 m.
It can be seen that by controlling the value of the present invention so that it is / sec, a high-quality antireflection multilayer optical thin film free from repellency and drying unevenness can be obtained.

【0174】実施例2 実施例1と同様にして、反射防止多層光学薄膜を塗布し
た。塗布膜表面の風速を0.5m/secと一定とし、
気流温度を30〜160℃まで変化させた以外は、実施
例1と同様にして、反射防止多層光学薄膜を作製し、は
じき、乾燥むらを評価した。
Example 2 In the same manner as in Example 1, an antireflection multilayer optical thin film was applied. The air velocity on the surface of the coating film is kept constant at 0.5 m / sec,
An antireflection multilayer optical thin film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the airflow temperature was changed to 30 to 160 ° C., and repellency and unevenness of drying were evaluated.

【0175】[0175]

【表2】 [Table 2]

【0176】以上の結果から明らかなように、塗布膜の
塗布直後の光学塗布膜の近辺の気流温度を40〜130
℃となるよう本発明の値に制御することによって、はじ
き、乾燥むらのない高品質な反射防止多層光学薄膜が得
られることが分かる。
As is clear from the above results, the temperature of the air flow in the vicinity of the optical coating film immediately after coating the coating film is 40 to 130.
It can be seen that by controlling to the value of the present invention so as to be ℃, it is possible to obtain a high-quality antireflection multilayer optical thin film free from repellency and drying unevenness.

【0177】実施例3 塗布ライン上でダイを用いて塗布した反射防止多層光学
薄膜の裏面をローラーで支える乾燥装置を用いて、ロー
ラーの温度を変化させ乾燥して得られた反射防止多層光
学薄膜を実施例1と同様に乾燥むらとはじきを評価し
た。このときの温度差は(ローラー温度)−(基材の温
度)とした。
Example 3 An antireflection multilayer optical thin film obtained by drying by changing the temperature of the roller by using a drying device in which a back surface of the antireflection multilayer optical thin film coated with a die on a coating line is supported by a roller. In the same manner as in Example 1, the uneven dryness and repellency were evaluated. The temperature difference at this time was (roller temperature)-(base material temperature).

【0178】[0178]

【表3】 [Table 3]

【0179】以上の表から明らかなように、上記のよう
にローラーと基材の温度差を、0〜15℃(本発明の温
度差)にすることで、乾燥むら、はじきのない高品質な
反射防止多層光学薄膜が得られることが分かる。
As is clear from the above table, by setting the temperature difference between the roller and the substrate to be 0 to 15 ° C. (temperature difference of the present invention) as described above, it is possible to obtain high quality without unevenness in drying and repelling. It can be seen that an antireflection multilayer optical thin film is obtained.

【0180】実施例4 実施例1において、反射防止多層光学薄膜の固形分濃度
を10%にした塗布膜の膜面温度、乾燥速度を変化させ
て反射防止多層光学薄膜試料を作製し、実施例1と同様
にして、乾燥むらとはじきを評価した。
Example 4 In Example 1, an antireflection multilayer optical thin film sample was prepared by changing the film surface temperature and the drying speed of the coating film in which the solid content concentration of the antireflection multilayer optical thin film was 10%. In the same manner as in 1, the unevenness of dryness and the repellency were evaluated.

【0181】[0181]

【表4】 [Table 4]

【0182】[0182]

【表5】 [Table 5]

【0183】表の結果から明らかなように、反射防止多
層光学薄膜の膜面温度と乾燥速度を本発明の値に制御す
ることにより、乾燥むら、はじきのない高品質な反射防
止多層光学薄膜が得られることが分かる。
As is clear from the results in the table, by controlling the film surface temperature and the drying rate of the antireflection multilayer optical thin film to the values of the present invention, a high quality antireflection multilayer optical thin film free from unevenness in drying and repellency can be obtained. You can see that you can get it.

【0184】実施例5 塗布ライン上で赤外線ヒーターを具備した乾燥装置(図
1)を用いて実施例1の反射防止多層光学薄膜の塗布後
の乾燥を行った。赤外線はドイツヘレウス社製の中長波
赤外線ヒーターを用い、搬送するフィルムとの距離は5
cmに設定した。この距離での塗布後の光学膜面近傍の
温度は120℃であった。
Example 5 The antireflection multilayer optical thin film of Example 1 was dried after coating using a drying device (FIG. 1) equipped with an infrared heater on the coating line. For infrared rays, a medium- and long-wave infrared heater made by Heraeus Germany is used and the distance to the film to be conveyed is 5
It was set to cm. The temperature in the vicinity of the optical film surface after coating at this distance was 120 ° C.

【0185】また、非接触フローターを具備した乾燥装
置(図2)を用い実施例1の塗布後の反射防止多層光学
薄膜の乾燥を行った。非接触フローターはベルマッティ
ク社製の水平フロータータイプのエアータンバーを使用
した。フローター内静圧は9.8kPaとし、約2mm
巾手均一に浮上させて搬送させた。
The coated antireflection multilayer optical thin film of Example 1 was dried using a drying device (FIG. 2) equipped with a non-contact floater. As the non-contact floater, a horizontal floater type air tumbler manufactured by Belle Mattique was used. Static pressure in the floater is 9.8 kPa, approx. 2 mm
The width was evenly floated and conveyed.

【0186】《搬送性の評価》 評価基準 ○:支持体蛇行巾5mm未満 △:5〜7mm未満 ×:7mm以上<< Evaluation of Transportability >> Evaluation criteria ◯: Support meander width less than 5 mm △: less than 5 to 7 mm ×: 7 mm or more

【0187】[0187]

【表6】 [Table 6]

【0188】以上の結果から、赤外線乾燥は風の流れを
発生させずに乾燥を進めることが可能であり、乾燥むら
が発生しない均一な反射防止多層光学薄膜が得られるこ
とが分かる。
From the above results, it is understood that the infrared drying can proceed the drying without generating the flow of the wind, and the uniform antireflection multilayer optical thin film without the uneven drying can be obtained.

【0189】また、非接触フローターを使用することで
乾燥むら及び搬送性も優れていることが分かる。
Further, it can be seen that by using the non-contact floater, unevenness in drying and transportability are excellent.

【0190】[0190]

【発明の効果】実施例で実証した如く、本発明による光
学薄膜の乾燥方法、その製造方法及びこれらの方法から
得られる光学薄膜は膜厚分布が均一であり、色むらやは
じきの故障がない高品質で、搬送性の良好な優れた効果
を有する。
As demonstrated in the examples, the method for drying an optical thin film according to the present invention, the method for producing the same, and the optical thin film obtained by these methods have a uniform film thickness distribution and are free from color unevenness and repellency failure. It has a high quality and an excellent effect of good transportability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の乾燥方法に用いられる乾燥装置の一例
を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of a drying device used in a drying method of the present invention.

【図2】本発明の乾燥方法に用いられる乾燥装置の他の
例を示す概略図である。
FIG. 2 is a schematic view showing another example of a drying device used in the drying method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 タンク 2 コーター 3 バックアップロール 4 光学薄膜 5 ローラー 6 赤外線ヒーター 7 非接触ローター P ポンプ 1 tank 2 coaters 3 backup roll 4 Optical thin film 5 rollers 6 infrared heater 7 Non-contact rotor P pump

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1335 G02B 1/10 A Fターム(参考) 2H091 FA48X FB02 FB12 FC08 FC09 FD14 GA02 GA06 GA16 LA02 LA03 LA07 LA12 2K009 AA06 AA15 BB28 CC03 CC06 CC09 CC21 CC42 DD02 DD06 3L113 AA03 AB06 AC10 AC32 AC35 BA01 DA24 4D075 AC72 AC78 AC80 AC93 AC96 BB24Z BB37Z BB92Z BB93Y BB95Y CA02 CA47 CA48 CB02 DA04 DB31 DB33 DB48 DC24 EA07 EA21 EB22 EB33 EB35 EB38 EB60 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02F 1/1335 G02B 1/10 A F term (reference) 2H091 FA48X FB02 FB12 FC08 FC09 FD14 GA02 GA06 GA16 LA02 LA03 LA07 LA12 2K009 AA06 AA15 BB28 CC03 CC06 CC09 CC21 CC42 DD02 DD06 3L113 AA03 AB06 AC10 AC32 AC35 BA01 DA24 4D075 AC72 AC78 AC80 AC93 AC96 BB24Z BB37Z BB92Z BB93YBA38EB22 EB38 EB32 EB32 EB32 EB32 DB24 DB24 DB24 DB31 DB33 DB24 DB24 DB31 DB33 DB24 DB24 DB24

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に塗布乾燥して得られる光学薄
膜の乾燥方法において、光学薄膜の塗布膜の固形分濃度
が1〜50%である光学薄膜の塗布膜表面の風速を0.
2〜1m/secにて乾燥することを特徴とする光学薄
膜の乾燥方法。
1. A method for drying an optical thin film obtained by coating and drying it on a support, wherein the air velocity on the surface of the coating of the optical thin film is 1 to 50%.
A method for drying an optical thin film, which comprises drying at 2-1 m / sec.
【請求項2】 乾燥室の気流温度が40〜130℃であ
ることを特徴とする請求項1に記載の光学薄膜の乾燥方
法。
2. The method for drying an optical thin film according to claim 1, wherein the air temperature in the drying chamber is 40 to 130 ° C.
【請求項3】 赤外線で乾燥することを特徴とする請求
項1又は2に記載の光学薄膜の乾燥方法。
3. The method for drying an optical thin film according to claim 1, wherein the method is drying with infrared rays.
【請求項4】 支持体上に塗布乾燥して得られる光学薄
膜の乾燥方法において、光学薄膜の塗布膜の固形分濃度
が10〜98%になるまでの間、光学薄膜の塗布膜裏面
に接触するローラーと基材との温度差が0〜15℃であ
ることを特徴とする光学薄膜の乾燥方法。
4. A method of drying an optical thin film obtained by coating and drying on a support, wherein the back side of the optical thin film is contacted until the solid content concentration of the optical thin film becomes 10 to 98%. The method for drying an optical thin film, wherein the temperature difference between the roller and the substrate is 0 to 15 ° C.
【請求項5】 支持体上に塗布乾燥して得られる光学薄
膜の乾燥方法において、光学薄膜の塗布膜の固形分濃度
が10〜98%になるまでの間、光学薄膜の塗布膜裏面
をローラーに接触させずに搬送することを特徴とする光
学薄膜の乾燥方法。
5. A method for drying an optical thin film obtained by coating and drying on a support, wherein a roller is provided on the back surface of the optical thin film until the solid content concentration of the optical thin film reaches 10 to 98%. A method for drying an optical thin film, characterized in that the optical thin film is conveyed without being brought into contact with the substrate.
【請求項6】 光学薄膜の塗布膜裏面を非接触フロータ
ーで支持することを特徴とする請求項1〜3の何れか1
項に記載の光学薄膜の乾燥方法。
6. The back surface of the coating film of the optical thin film is supported by a non-contact floater.
Item 5. A method for drying an optical thin film according to item.
【請求項7】 光学薄膜の塗布直後の膜厚が3〜10μ
mであることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に
記載の光学薄膜の乾燥方法。
7. The film thickness immediately after coating the optical thin film is 3 to 10 μm.
The method for drying an optical thin film according to any one of claims 1 to 6, wherein m is m.
【請求項8】 支持体上に塗布乾燥して得られる光学薄
膜の乾燥方法において、光学薄膜の塗布膜の固形分濃度
が10〜98%である光学薄膜の塗布膜を乾燥する際の
塗布温度が25〜55℃であることを特徴とする光学薄
膜の乾燥方法。
8. A method for drying an optical thin film obtained by coating and drying on a support, wherein the coating temperature for drying the optical thin film coating film has a solid content concentration of 10 to 98%. Is from 25 to 55 ° C., a method for drying an optical thin film.
【請求項9】 支持体上に塗布乾燥して得られる光学薄
膜の乾燥方法において、光学薄膜の塗布膜の固形分濃度
が10〜98%である光学薄膜の塗布膜を乾燥する際、
下記のh×ΔTで表される乾燥速度が400〜1500
w/m2であることを特徴とする光学薄膜の乾燥方法。 乾燥速度:h×ΔT(w/m2) h(伝熱係数):w/(m2K) ΔT:気流と基材との温度差(K)
9. A method for drying an optical thin film obtained by coating and drying on a support, wherein when the optical thin film coating film has a solid content concentration of 10 to 98%,
The drying rate represented by the following h × ΔT is 400 to 1500
A method for drying an optical thin film, wherein the method is w / m 2 . Drying rate: h × ΔT (w / m 2 ) h (heat transfer coefficient): w / (m 2 K) ΔT: Temperature difference (K) between air flow and substrate
【請求項10】 請求項1〜9の何れか1項に記載の乾
燥方法を用いて製造することを特徴とする光学薄膜の製
造方法。
10. A method for producing an optical thin film, which is produced by using the drying method according to claim 1.
【請求項11】 請求項1〜9の何れか1項に記載の乾
燥方法を用いて得られることを特徴とする光学薄膜。
11. An optical thin film obtained by using the drying method according to any one of claims 1 to 9.
【請求項12】 光学薄膜が反射防止光学薄膜であるこ
とを特徴とする請求項11に記載の光学薄膜。
12. The optical thin film according to claim 11, wherein the optical thin film is an antireflection optical thin film.
【請求項13】 光学薄膜が反射防止光学薄膜であるこ
とを特徴とする請求項10に記載の光学薄膜の製造方
法。
13. The method for producing an optical thin film according to claim 10, wherein the optical thin film is an antireflection optical thin film.
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