JP2003116886A - 沈殿物含有排水分離装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】石膏等の沈殿物含有排水を一般排水とは別に処
理し、沈殿物粒子を沈降、分離、回収し、石膏トラップ
等の負荷を軽減すると共に下流側配管の詰まりをなく
し、メンテナンス費用を削減する。 【解決手段】上部が開口しかつ底部が湾曲した内部水槽
１５と、上部が開口した外部水槽１４とが、上下に重な
り、遊嵌可能であり、又内部水槽の底部が丸底で、又外
部水槽の上部に排水口１８が設けられた装置１６。又密
閉された１槽式の沈殿槽からなり、排水出口２７が排水
入口２６よりも高い位置にある装置２４。又内部水槽２
９の底部外側にフロート３３が取付けられ、内部水槽の
周壁にスリット３２が縦方向に穿設された装置。内部水
槽の上部に排水孔３６が穿設され、かつ湾曲部に排出孔
３７が穿設され、更に内部水槽の下部にエアフロート３
９が形成され、外部水槽３５の上部に排水口４１が設け
られ、外部水槽の下端部近傍にエアノズル４３が貫設さ
れ、エアノズルの吹出口４４がエアフロートの下方に位
置する装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は例えば歯科医院や歯
科技工所等で多量に排出される石膏含有排水、或は一般
的な雑ぱい含有排水等の沈殿物含有排水の分離装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】歯科医院や歯科技工所等では、石膏を練
和して種々の義歯製作用の作業模型を作成している。

【０００３】石膏の練和には、ラバーボウルとスパチュ
ラを使用するが、石膏注入後、ラバーボウルとスパチュ
ラに付着した石膏を水道水により洗い落としている。

【０００４】石膏を含有する排水は、石膏粒子が沈降、
分離して堆積すると下流側配管の詰まりの原因となる。

【０００５】そのため、石膏含有排水は石膏トラップに
導入され、石膏粒子を沈降、分離するようにしている。

【０００６】従来の石膏トラップを図１８に示す。

【０００７】沈殿槽１の一端側の側板２に排水入口３が
設けられ、沈殿槽１の他端側の側板４に排水出口５が設
けられている。

【０００８】前記沈殿槽１の内部に入口側仕切板６、中
間仕切板７、出口側仕切板８が相互に平行に取り付けら
れている。該各仕切板６，７，８は前記排水入口３と排
水出口５を結ぶ線に交わるように位置し、前記出口側仕
切板８の高さは前記排水出口５の位置よりも高く、該出
口側仕切板８の高さよりも前記中間仕切板７の高さが高
く、更に該中間仕切板７の高さよりも入口側仕切板６の
高さが高くなっており、前記各仕切板６，７，８の下部
に通孔９，９，９が前記排水出口とほぼ同じ高さに夫々
穿設されている。

【０００９】こうして沈殿槽１には第１槽１０、第２槽
１１、第３槽１２及び第４槽１３が形成されている。

【００１０】石膏含有排水が排水入口３から第１槽１０
に流入すると、該第１槽１０内の水位が徐々に上昇す
る。この間にも石膏含有排水中の石膏粒子は沈降し始め
ている。前記第１槽内１０の水位が入口側仕切板６の高
さを超えたとき、石膏粒子の濁度が比較的低下した石膏
含有排水が前記入口側仕切板６を伝って第２槽１１に流
れ込む。

【００１１】第２槽１１内の水位が徐々に上昇する間
に、石膏粒子は更に沈降し、該第２槽１１内の水位が中
間仕切板７の高さを超えたとき、石膏粒子の濁度が更に
低下した石膏含有排水が前記中間仕切板７を伝って第３
槽に流れ込む。

【００１２】続いて、該第３槽１２内の水位が徐々に上
昇する間に、石膏粒子は更に沈降し、該第３槽内１２の
水位が出口側仕切板８の高さを超えたとき、石膏粒子が
僅かに含まれる排水が前記出口側仕切板８を伝って第４
槽１３に流れ込む。

【００１３】更に、該第４槽１３内の水位が徐々に上昇
する間に、石膏粒子は大部分沈降し、該第４槽１３内の
水位が排水出口５の高さを超えたとき、石膏粒子が減少
した排水が排水管に排出される仕組みとなっており、数
十分間放置されると、前記各槽１０，１１，１２，１３
内の石膏粒子が殆ど沈降すると共に石膏含有排水の上澄
が前記各仕切板６，７，８の各通孔９，９，９を順次経
て前記排水管に流出し、前記各槽１０，１１，１２の液
面は第排水出口５の高さまで低下する。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】前記ラバーボウル及び
スパチュラの洗浄時に排出される石膏含有排水の量を考
慮して、前記沈殿槽１の容積は十分な大きさに設計され
ているが、該沈殿槽１にはその他の一般排水も流入する
ため、第１槽１０、第２槽１１、第３槽１２における石
膏含有排水の上層部分が各仕切板６，７，８を順次越え
て次の槽に流れ込み、連続的な水流が常に生じている。

【００１５】前記一般排水が大量の場合には、各槽１
０，１１，１２の上層部分が大量に各仕切板６，７，８
を越えて次の槽に流れ込み、沈降していた石膏粒子が舞
い上げられる。舞い上げられた石膏粒子が次の槽に流出
し、ついには排水出口５から排水管に流出する。

【００１６】又、石膏の練和頻度が多くなると、前記ラ
バーボウル及びスパチュラの洗浄回数が多くなり、前記
沈殿槽１の各槽１０，１１，１２，１３における石膏粒
子の沈降が不十分のまま、次の石膏含有排水が流入する
ため、多量の石膏粒子が排水管に流出する。

【００１７】従って、更に下流側の配管内で石膏粒子が
沈降、堆積し、下流側の配管が詰まり、多額の配管修理
費がかかる。又、配管の詰まりを防止するため、定期的
にメンテナンスを行なわなければらないため、メンテナ
ンスコストがかかる。

【００１８】他方、分離回収した石膏を除去するため、
前記石膏トラップは定期的にメンテナンスを行なわなけ
ればならない。通常の場合、前記石膏トラップはシンク
の下に置かれて、排水管と接続されているため、場所が
狭く、メンテナンス作業がやりにくい。更に、様々な排
水が流れ込むため、悪臭を伴う場合も多く、困難な作業
となっていた。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明は、上部が開口し
かつ底部が湾曲した内部水槽と、上部が開口した外部水
槽とが、上下に重なり、前記内部水槽が前記外部水槽に
遊嵌可能である沈殿物含有排水分離装置に係り、又内部
水槽の底部が丸底である沈殿物含有排水分離装置に係
り、又外部水槽の上部に排水口が設けられ、該排水口に
排水管又は排水ホースが外部水槽の外部から接続可能で
ある沈殿物含有排水分離装置に係り、又沈殿物含有排水
が石膏含有排水、雑ぱい含有排水である沈殿物含有排水
分離装置に係り、又密閉された１槽式の沈殿槽からな
り、排水入口と排水出口とを有し、排水出口が排水入口
よりも高い位置にある沈殿物含有排水分離装置に係り、
又上部が開口しかつ底部が湾曲した内部水槽と、上部が
開口した外部水槽とが、上下に重なって遊嵌可能であ
り、前記外部水槽の上部に排水口が設けられ、該排水口
に排水管が接続され、該排水管の下流側に、排水入口と
排水出口とを有する密閉された１槽式の沈殿槽が、前記
排水入口よりも高い位置にある前記排水入口において前
記排水管に接続された沈殿物含有排水分離装置に係り、
又上部が開口した内部水槽と、上部が開口した外部水槽
とが、上下に重なって遊嵌可能であり、該外部水槽の上
部に排水口が設けられ、該排水口に排水管が前記外部水
槽の外部から接続可能であり、前記内部水槽の底部外側
にフロートが取付けられ、前記内部水槽の周壁にスリッ
トが縦方向に穿設された沈殿物含有排水分離装置に係
り、上部が開口しかつ底部が湾曲した円筒状容器からな
る内部水槽と、上部が開口した円筒状容器からなる外部
水槽とが、上下に重なって遊嵌可能であり、前記内部水
槽の上部に排水孔が穿設され、かつ前記湾曲部に排出孔
が穿設され、更に前記内部水槽の下部に該内部水槽と同
径の円筒が同心に固着され、該円筒と前記内部水槽の湾
曲部とによりエアフロートが形成され、前記外部水槽の
上部に排水口が設けられ、該排水口に排水管が前記外部
水槽の外部から接続可能であり、該外部水槽の下端部近
傍にエアノズルが貫設され、該エアノズルの吹出口が前
記エアフロートの下方に位置する沈殿物含有排水分離装
置に係るものである。

【００２０】内部水槽の底部が湾曲しているので、該内
部水槽は外部水槽内で容易に反転可能であり、前記内部
水槽内に溜められた石膏含有排水等の沈殿物含有排水を
外部水槽にあけることができる。

【００２１】前記内部水槽の底部が丸底の場合、前記外
部水槽内の沈殿物含有排水をかき乱すことなく、静かに
反転することができる。

【００２２】外部水槽の上部に排水口が設けられると、
前記内部水槽内に沈殿物含有排水が貯溜された重みによ
り、前記内部水槽が沈下する際に前記外部水槽内の沈殿
物含有排水の上澄が排除され、該上澄が前記排水口から
排出される。

【００２３】排水口に排水管又は排水ホースが接続され
ると、前記外部水槽内の上澄が前記排水管又は排水ホー
スを通って排出される。

【００２４】密閉された一層式の沈殿槽に排水入口から
導入された沈殿物含有排水は、前記沈殿槽内に貯溜さ
れ、沈殿物が分離、沈降したあと、次の沈殿物含有排水
が導入されると、前記沈殿槽内の沈殿物含有排水上澄の
水位が上昇し、前記排水入口よりも高い位置にある排水
出口から排出される。

【００２５】内部水槽と外部水槽との組み合わせで排出
された沈殿物含有排水の上澄が、一層式の沈殿槽に導入
され、更に沈殿物が沈降、分離されるので、殆どの沈殿
物が分離、回収される。

【００２６】内部水槽に沈殿物含有排水が貯溜される
と、沈殿物含有排水は垂直方向のスリットを通って徐々
に外部水槽に流れ込むと共に、沈殿物の沈降、分離が始
まる。更に前記内部水槽は底部のフロートの浮力によ
り、前記外部水槽内で増加する沈殿物含有排水の液面上
に浮上する。次に、前記内部水槽に新たな沈殿物含有排
水が貯溜され、該内部水槽が沈下する際に、前記外部水
槽内の沈殿物含有排水の上澄が前記内部水槽により排除
され、前記上澄が排水口から排出される。

【００２７】円筒状容器からなる内部水槽に沈殿物含有
排水が貯溜されると、沈殿物含有排水は排水孔及び排出
孔を通って徐々に外部水槽に流れ込むと共に、沈殿物の
沈降、分離が始まる。更に前記内部水槽は底部外側のエ
アフロートの浮力により、前記外部水槽内で増加する沈
殿物含有排水の液面上に浮上する。次に、前記内部水槽
に新たな沈殿物含有排水が貯溜され、該内部水槽が沈下
する際に、前記外部水槽内の沈殿物含有排水の上澄が前
記内部水槽により排除され、前記上澄が排水口から排出
される。エアノズルからエアが前記エアフロートに補給
され、前記内部水槽の浮力が増強され、前記外部水槽内
で増加する沈殿物含有排水の液面上に浮上する。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。

【００２９】図１〜図６は本発明の第１の実施の形態で
あり、上部が開口した丸底のボール状外部水槽１４と、
上部が開口した丸底のボール状内部水槽１５とから上下
２槽式の沈殿物含有排水分離装置１６が構成される。

【００３０】前記ボール状外部水槽１４は上縁部１７の
直径が大径化しており、該上縁部１７の下側に排水口１
８が設けられ、底部の外側にリブ状の環状台座１９が同
心に突設されている。

【００３１】前記ボール状内部水槽１５は曲率が前記ボ
ール状外部水槽１４とほぼ同じであり、上縁部２０に取
手２１が設けられ、底部の外側に不連続なリブ状の環状
台座２２が同心に突設されている。

【００３２】該ボール状内部水槽１５は前記ボール状外
部水槽１４の上部から重ね合わせることができ、該ボー
ル状外部水槽１４の内部に遊嵌可能である。

【００３３】前記ボール状内部水槽１５は、図示しない
ラバーボウル及びスパチュラの洗浄排水を一回分貯溜し
得る容積があればよく、前記ボール状外部水槽１４は前
記ボール状内部水槽１５よりも大きな容積となってい
る。

【００３４】前記排水口１８に排水ホース２３の１端側
が接続されている。

【００３５】沈殿物含有排水分離装置１６は水道の蛇口
が届く範囲であってシンク内のコーナー部に設置されて
いる。

【００３６】石膏の練和、注入後、ラバーボウル及びス
パチュラが水道水により洗浄される。水道の蛇口が沈殿
物含有排水分離装置１６の上方に移動され、図７（イ）
に示すようにボール状内部水槽１５内に石膏含有排水が
貯溜される。

【００３７】前記洗浄終了後、取手２１を手で持ち、前
記ボール状内部水槽１５を反転させることにより、図７
（ロ）に示すように前記石膏含有排水がボール状外部水
槽１４内にあけられ、前記ボール状内部水槽１５が前記
ボール状外部水槽１４内の前記石膏含有排水上に浮かべ
られる。

【００３８】次の石膏の練和まで、前記沈殿物含有排水
分離装置１６は水道の蛇口が遠ざけられると共に、前記
ボール状外部水槽１４に一般排水が流入しないようにし
て、数十分間放置される。図７（ハ）に示すように、前
記石膏含有排水内の石膏粒子が大部分沈降し、底部に堆
積される。

【００３９】次の石膏の練和、注入後、ラバーボウル及
びスパチュラが再び水道水により洗浄される。水道の蛇
口は前記沈殿物含有排水分離装置１６の上方に再び移動
されており、浮かんでいる前記ボール状内部水槽１５内
に石膏含有排水が貯溜される。

【００４０】該石膏含有排水の貯溜量が増加すると、前
記ボール状内部水槽１５が沈みはじめ、前記ボール状外
部水槽１４内上部の上澄が前記ボール状内部水槽１５の
沈下に比例して排除され、図７（ニ）に示すように石膏
粒子が殆ど含まれない上澄の液面が上昇し、排水口１８
から流出する。

【００４１】前記洗浄後、前述と同様の操作によって、
前記ボール状内部水槽１５を反転させることにより、前
記石膏含有排水がボール状外部水槽１４内にあけられ、
前記ボール状内部水槽１５が前記ボール状外部水槽１４
内の前記石膏含有排水上に浮かべられる。

【００４２】以上の操作が繰り返され、石膏含有排水が
処理される。前記ボール状外部水槽１４に多量の石膏が
堆積した場合でも、該ボール状外部水槽１４から石膏が
容易に剥離、除去される。特にボール状の場合、より簡
単に石膏の除去が行なえる。

【００４３】前記排水口１８から流出した排水は、排水
ホース２３により図示しないシンクの排水口に導かれ
る。前記排水中には石膏粒子が僅かしか含まれないの
で、石膏トラップの負荷が軽減され、石膏トラップのメ
ンテナンス頻度が減少すると共に、下流側配管の詰まり
を生じさせることが防止される。

【００４４】図８〜図１０は本発明の第２の実施の形態
を示すもので、前記第１の実施の形態と同一の構成に加
え、前記排水ホース２３に沈殿物含有二次排水分離装置
２４を接続したものである。

【００４５】前記沈殿物含有二次排水分離装置２４は直
方体状の密閉容器２５を横長に配置して使用するもの
で、該密閉容器２５の長手方向一端側のほぼ中央部に二
次排水入口２６が設けられ、長手方向他端側の上端部に
排水細孔２７が適数穿設されている。該排水細孔２７は
細長のスリット状であり、１個〜２０個（本実施の形態
では９個）あればよい。

【００４６】前記密閉容器２５は、例えば１〜２リット
ルの合成樹脂製ボトルを加工して、製作してもよい。

【００４７】沈殿物含有二次排水分離装置２４はシンク
内の側部に置かれ、二次排水入口２６に排水ホース２３
の下流側端部が接続される。排水出口１８（図１参照）
から二次排水が排出されると、該二次排水が前記排水ホ
ース２３を経由して前記二次排水入口２６から導入さ
れ、密閉容器２５に貯溜される（図１１（イ）参照）。

【００４８】次の二次排水が導入されるまで、静置され
る間に、密閉容器２５内において二次排水中の石膏粒子
が大部分沈降、分離する（図１１（ロ）参照）。

【００４９】次の二次排水が前記密閉容器２５内に導入
されると、石膏粒子を殆ど含まない排水が排水細孔２７
から排出される（図１１（ハ）参照）。次の二次排水が
導入されるまで、静置される間に、密閉容器２５内にお
いて二次排水中の石膏粒子が大部分沈降、分離する（図
１１（ニ）参照）。

【００５０】従って、石膏トラップの負荷が殆どなくな
り、石膏トラップのメンテナンス頻度が著しく減少し、
更に下流側配管の詰まりを生じさせるおそれがなくな
る。

【００５１】該沈殿物含有二次排水分離装置２４に石膏
が大量に溜まったら、二次排水入口２６から排水ホース
２３を外し、水切りをした後、廃棄し、新しい沈殿物含
有二次排水分離装置に交換することが容易である。前記
沈殿物含有二次排水分離装置２４は安価に大量生産する
ことが可能であり、前記石膏トラップのメンテナンスコ
ストを更に低減することができる。

【００５２】図１２〜図１４は本発明の第３の実施の形
態を示すもので、上部が開口しかつ下すぼまりの円筒状
外部水槽２８と上部が開口しかつ下すぼまりの円筒状内
部水槽２９とが上下に重なって遊嵌可能となっている。

【００５３】前記円筒状外部水槽２８の周壁上端縁近傍
に排水出口３１が設けられている。

【００５４】前記円筒状内部水槽２９の周壁に細長のス
リット３２が軸線方向に穿設されている。該スリット３
２の幅及び数は石膏含有二次排水の流量を考慮して、１
〜８ｍｍの幅で、１〜１０本の範囲とする。

【００５５】前記円筒状内部水槽２９の底部にフロート
３３が取付けられている。該フロート３３の材質及び大
きさは、空の状態の前記円筒状内部水槽２９が水面上に
ほぼ完全に浮かび上がるように選択する。エアバッグ、
発泡スチロール等の耐水性の材質のものを使用する。

【００５６】石膏の練和、注入後、ラバーボウル及びス
パチュラが水道水により洗浄される。沈殿物含有排水分
離装置は円筒状外部水槽２８に円筒状内部水槽２９が重
ねられた状態にあり、図１５（イ）に示すように円筒状
内部水槽２９内に石膏含有排水が貯溜される。

【００５７】前記洗浄終了後、次の石膏の練和まで、前
記沈殿物含有排水分離装置に一般排水が流入しないよう
に、静置される。

【００５８】前記円筒状内部水槽２９内の石膏含有排水
中の石膏粒子は沈降し始めると共に、前記石膏含有排水
はスリット３２（図１４参照）を通過して円筒状外部水
槽２８に流出し始める。時間の経過と共に前記円筒状外
部水槽２８内の石膏含有排水の量が多くなり、前記円筒
状内部水槽２９内の石膏含有排水が少なくなる。前記円
筒状内部水槽２９はフロート３３の浮力により円筒状外
部水槽２８内の石膏含有排水に浮上する（図１５（ロ）
参照）。

【００５９】数十分間放置されると図１５（ハ）に示す
ように、前記石膏含有排水内の石膏粒子が大部分沈降
し、前記円筒状外部水槽２８の底部及び前記円筒状内部
水槽２９の底部に堆積される。

【００６０】次の石膏の練和、注入後、ラバーボウル及
びスパチュラは、前記円筒状内部水槽２９内の上澄によ
り大まかに洗浄され、次いで少しの水道水によりすすぎ
洗浄される。石膏含有排水は、浮かんでいる前記円筒状
内部水槽２９内に貯溜される。

【００６１】該石膏含有排水の貯溜量が増加すると、前
記円筒状内部水槽２９が沈みはじめ、前記円筒状外部水
槽２８内上部の上澄が前記円筒状内部水槽２９の沈下に
比例して排除され、図１５（ニ）に示すように石膏粒子
が殆ど含まれない上澄の液面が上昇し、排水出口３１か
ら流出する。

【００６２】前記洗浄後、前述と同様に、前記円筒状内
部水槽２９内の石膏含有排水中の石膏粒子が沈降し始め
ると共に、前記石膏含有排水はスリット３２を通過して
円筒状外部水槽２８に流出し始める。時間の経過と共に
前記円筒状外部水槽２８内の石膏含有排水の量が多くな
り、前記円筒状内部水槽２９内の石膏含有排水が少なく
なり、図１５（ホ）に示すように、フロート３３の浮力
により前記円筒状内部水槽２９が浮上する。

【００６３】数十分間放置されると図１５（ヘ）に示す
ように、前記石膏含有排水内の石膏粒子が大部分沈降
し、前記円筒状外部水槽２８の底部及び前記円筒状内部
水槽２９の底部に堆積される。

【００６４】以上の操作が繰り返され、石膏含有排水が
処理される。

【００６５】本第３の実施の形態の場合も、前述の実施
の形態と同様に、石膏トラップの負荷が軽減され、石膏
トラップのメンテナンス頻度が減少し、下流側配管の詰
まりを生じさせることが防止される。特に、前記円筒状
内部水槽２９内の上澄により、前記ラバーボウルと前記
スパチュラの一次洗浄を行えるので、洗浄操作に使用す
る水量を大幅に節減できる。

【００６６】図１６及び図１７は本発明の第４の実施の
形態であり、上部が開口した丸底の円筒状容器からなる
内部水槽３４と、上部が開口した平底の円筒状容器から
なる外部水槽３５とが、上下に重なって遊嵌可能となっ
ている。

【００６７】前記内部水槽３４の周壁上部に排水孔３６
が穿設され、かつ前記丸底部に排出孔３７が穿設され、
前記内部水槽３４の下部に該内部水槽３４と同径の円筒
３８が同心に固着され、該円筒３８と前記内部水槽３４
の丸底部とによりエアフロート３９が形成されるように
なっている。

【００６８】前記外部水槽３５の上部に排水口４１が設
けられ、該排水口４１に排水管４２が前記外部水槽３５
の外部から接続されている。該外部水槽３５の下端部近
傍にエアノズル４３が貫設され、前記外部水槽３５内部
側に突出された前記エアノズル４３の先端部が鉛直方向
に立ち上がり、該先端部に吹出口４４を有し、該吹出口
４４は前記エアフロート３９の下方に位置している。

【００６９】前記エアノズル４３は図示しない簡易エア
コンプレッサ等のエア供給装置に給気／排気切り替えバ
ルブを介在して接続されている。

【００７０】沈殿物含有排水分離装置は外部水槽３５に
内部水槽３４が重ねられた状態で、水道の蛇口の可動範
囲内に設置されている。石膏の練和、注入後、ラバーボ
ウル及びスパチュラが水道水により洗浄され、内部水槽
３４内に石膏含有排水が貯溜される。

【００７１】前記沈殿物含有排水分離装置は一般排水が
流入しないように、水道の蛇口が遠ざけられ、前記洗浄
終了後、次の石膏の練和まで、静置される。

【００７２】前記円筒状内部水槽２９内の石膏含有排水
中の石膏粒子は沈降し始めると共に、前記石膏含有排水
は排水孔３６を通過して外部水槽３５に流出し始める。
時間の経過と共に前記内部水槽３４内の石膏含有排水は
少なくなり、前記外部水槽３５内の石膏含有排水の量が
多くなり、該外部水槽３５内の液面が上昇する。

【００７３】前記液面の上昇により、丸底部と円筒３８
により空気が閉じこめられてエアフロート３９が形成さ
れる。更に、前記内部水槽３４に比重の大きい石膏が堆
積し、該内部水槽が重くなり、十分な浮力が得られなく
なった場合は、図示しないエア供給装置により空気がエ
アノズル４３に送られ、前記空気が吹出口４４からエア
フロート３９に供給される。該エアフロート３９の浮力
により、前記内部水槽３４は徐々に浮上する。

【００７４】該内部水槽３４の上昇により、該内部水槽
３４内底部付近の石膏含有排水が排出孔３７を通って前
記外部水槽３５に流出し、更に該外部水槽３５の液面が
上昇する。前記内部水槽３４は該内部水槽３４及び石膏
含有排水の重量と前記エアフロート３９の浮力とが平衡
するところで停止する。

【００７５】数十分間放置されると、前記石膏含有排水
内の石膏粒子が大部分沈降し、前記外部水槽３５の底部
及び前記内部水槽３４の底部に堆積される。

【００７６】次の石膏の練和、注入後、ラバーボウル及
びスパチュラは、前記内部水槽３４内の上澄みにより大
まかに洗浄され、次いで少しの水道水によりすすぎ洗浄
される。水道の蛇口は前記沈殿物含有排水分離装置の上
方に再び移動されており、浮かんでいる前記内部水槽３
４内に石膏含有排水が貯溜される。

【００７７】該石膏含有排水の貯溜量が増加すると、前
記内部水槽３４が沈下しはじめ、前記外部水槽３５内上
部の上澄が前記内部水槽３４の沈下に比例して排除さ
れ、石膏粒子が殆ど含まれない排水の水位が上昇し、排
水口４１から流出する。

【００７８】前記洗浄後、前述と同様に、前記内部水槽
３４内の石膏含有排水中の石膏粒子は沈降し始めると共
に、前記石膏含有排水は排水孔３６を通過して前記外部
水槽３５に流出し始める。

【００７９】前述と同様に、図示しないエア供給装置に
より空気がエアノズル４３に送られ、前記空気が吹出口
４４からエアフロート３９に供給される。或は、前記エ
アフロート３９の浮力が大きすぎて、前記内部水槽３４
の上昇速度が速すぎることが予測される場合には、前記
図示しない給気／排気切り替えバルブの切り替えによ
り、前記エアフロート３９内のエアをエアノズル４３か
ら排出することにより、浮力が調整される。

【００８０】時間の経過と共に前記外部水槽３５内の石
膏含有排水の量が多くなり、前記内部水槽３４内の石膏
含有排水が少なくなり、前記内部水槽３４が再び徐々に
浮上する。

【００８１】数十分間放置されると、前記石膏含有排水
内の石膏粒子が大部分沈降し、前記外部水槽３５の底部
及び前記内部水槽３４の底部に石膏粒子が堆積される。

【００８２】以上の操作が繰り返される際、必要な浮力
を得る程度に、図示しないエア供給装置により空気がエ
アノズル４３に送られ、前記空気が吹出口からエアフロ
ート３９に供給されて、石膏含有排水が処理される。

【００８３】本第４の実施の形態の場合も、前記実施の
形態と同様に、石膏トラップの負荷が軽減され、石膏ト
ラップのメンテナンス頻度が減少し、下流側配管の詰ま
りを生じさせることが防止される。前記内部水槽３４内
の上澄により、前記ラバーボウルと前記スパチュラの洗
浄を行えるので、洗浄に使用する水量を大幅に節減でき
る。特に、エアノズル４３から空気を供給又は排出する
ことにより、前記エアフロート３９の浮力を調整し、前
記内部水槽３４の上昇速度を必要に応じて速く又は遅く
して適正化することができ、石膏含有排水の処理を最短
時間で行うことができる。大きな浮力が容易に得られる
ので、沈殿物含有排水分離装置の大きさを使用条件に合
わせて自由に設計することができる。

【００８４】尚、本発明の沈殿物含有排水分離装置は上
述の実施の形態に限定されるものではなく、石膏含有排
水、雑ぱい含有排水以外の、沈殿可能な粒子が懸濁した
沈殿物含有排水にも適用できること、外部水槽は丸底で
なくてもよく、内部水槽の底部は湾曲面で構成されてい
ればよく、湾曲面の形状はボール状に限らず、半球状、
扁平半球状でもよい。又、エアノズルをフレキシブルな
ホース状とし、吹出口をエアフロート上端付近に固定し
ておくことにより、前記エアフロート内のエアをいつで
も抜くことが可能になり、エアフロート内のエアを抜く
ことにより外部水槽に貯留した上澄を内部水槽に戻すこ
とも可能である。

【００８５】

【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、内部水
槽と外部水槽とを上下に重ねて遊嵌可能としたので、石
膏含有排水等の沈殿物含有排水を一般排水から隔離して
処理することができ、石膏粒子等の沈殿物の流出を大幅
に減少することができる。

【００８６】従って、石膏含有排水の処理の場合、石膏
トラップの負荷が軽減され、石膏トラップのメンテナン
ス頻度が減少し、狭い場所で悪臭に耐えながら行う作業
の回数が削減される。下流側配管の詰まりを生じさせる
ことが防止されるので、下流側配管の修理費用及びメン
テナンスコストが大幅に節約される。

【００８７】沈殿物含有二次排水分離装置によれば、石
膏含有二次排水中等の沈殿物含有排水中の沈殿物を殆ど
分離回収することができ、石膏トラップの負荷が更に軽
減されると共に、廃棄及び交換が容易である。

【００８８】フロート又はエアフロートを備えた場合に
は、内部水槽内の沈殿含有排水の上澄により、ラバーボ
ウル、スパチュラ等の洗浄が行えるので、洗浄に使用す
る水量を大幅に減少できる。

【００８９】又、エアノズルから空気を供給することに
より、前記エアフロートの浮力を調整することができ、
沈殿物含有排水の処理を最短時間で行うことができ、沈
殿物含有排水分離装置の大きさを使用条件に合わせて自
由に設計することができる、等種々の優れた効果を発揮
する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態の断面図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態の正面図である。

【図３】本発明の第１の実施の形態の平面図である。

【図４】本発明の第１の実施の形態におけるボール状外
部水槽の平面図である。

【図５】本発明の第１の実施の形態におけるボール状内
部水槽の正面図である。

【図６】本発明の第１の実施の形態におけるボール状内
部水槽の平面図である。

【図７】本発明の第１の実施の形態の作動説明図であ
る。

【図８】本発明の第２の実施の形態の平面図である。

【図９】本発明の第２の実施の形態の正面図である。

【図１０】本発明の第２の実施の形態の側面図である。

【図１１】本発明の第２の実施の形態の使用状態の説明
図である。

【図１２】本発明の第３の実施の形態の断面図である。

【図１３】本発明の第３の実施の形態における円筒状外
部水槽の正面図である。

【図１４】本発明の第３の実施の形態における円筒状内
部水槽の正面図である。

【図１５】本発明の第３の実施の形態の使用状態の説明
図である。

【図１６】本発明の第４の実施の形態の断面図である。

【図１７】本発明の第４の実施の形態の平面図である。

【図１８】従来の石膏トラップの原理を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１ 沈殿槽 １４ ボール状外部水槽 １５ ボール状内部水槽 １６ 沈殿物含有排水分離装置 ２１ 取手 ２３ 排水ホース ２４ 沈殿物含有二次排水分離装置 ２５ 密閉容器 ２６ 二次排水入口 ２７ 排水細孔 ２８ 円筒状外部水槽 ２９ 円筒状内部水槽 ３１ 排水出口 ３２ スリット ３３ フロート ３４ 内部水槽 ３５ 外部水槽 ３６ 排水孔 ３７ 排出孔 ３８ 円筒 ３９ エアフロート ４１ 排水口 ４２ 排水管 ４３ エアノズル ４４ 吹出口

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上部が開口しかつ底部が湾曲した内部水
   槽（１５）と、上部が開口した外部水槽（１４）とが、
   上下に重なり、前記内部水槽が前記外部水槽に遊嵌可能
   であることを特徴とする沈殿物含有排水分離装置（１
   ６）。
2. 【請求項２】 内部水槽の底部が丸底である請求項１に
   記載の沈殿物含有排水分離装置。
3. 【請求項３】 外部水槽の上部に排水口（１８）が設け
   られ、該排水口に排水管又は排水ホース（２３）が外部
   水槽の外部から接続可能な請求項１又は請求項２に記載
   の沈殿物含有排水分離装置。
4. 【請求項４】 沈殿物含有排水が石膏含有排水、雑ぱい
   含有排水である請求項１から請求項３に記載の沈殿物含
   有排水分離装置。
5. 【請求項５】 密閉された１槽式の沈殿槽からなり、排
   水入口（２６）と排水出口（２７）とを有し、排水出口
   が排水入口よりも高い位置にあることを特徴とする沈殿
   物含有排水分離装置（２４）。
6. 【請求項６】 上部が開口しかつ底部が湾曲した内部水
   槽（１５）と、上部が開口した外部水槽（１４）とが、
   上下に重なって遊嵌可能であり、前記外部水槽の上部に
   排水口（１８）が設けられ、該排水口に排水管（２３）
   が接続され、該排水管の下流側に、排水入口（２６）と
   排水出口（２７）とを有する密閉された１槽式の沈殿槽
   が、前記排水入口よりも高い位置にある前記排水入口に
   おいて前記排水管に接続されたことを特徴とする沈殿物
   含有排水分離装置。
7. 【請求項７】 上部が開口した内部水槽（２９）と、上
   部が開口した外部水槽（２８）とが、上下に重なって遊
   嵌可能であり、該外部水槽の上部に排水口（３１）が設
   けられ、該排水口に排水管が前記外部水槽の外部から接
   続可能であり、前記内部水槽の底部外側にフロート（３
   ３）が取付けられ、前記内部水槽の周壁にスリット（３
   ２）が縦方向に穿設されたことを特徴とする沈殿物含有
   排水分離装置。
8. 【請求項８】 上部が開口しかつ底部が湾曲した円筒状
   容器からなる内部水槽（３４）と、上部が開口した円筒
   状容器からなる外部水槽（３５）とが、上下に重なって
   遊嵌可能であり、前記内部水槽の上部に排水孔（３６）
   が穿設され、かつ前記湾曲部に排出孔（３７）が穿設さ
   れ、更に前記内部水槽の下部に該内部水槽と同径の円筒
   （３８）が同心に固着され、該円筒と前記内部水槽の湾
   曲部とによりエアフロート（３９）が形成され、前記外
   部水槽の上部に排水口（４１）が設けられ、該排水口に
   排水管（４２）が前記外部水槽の外部から接続可能であ
   り、該外部水槽の下端部近傍にエアノズル（４３）が貫
   設され、該エアノズルの吹出口（４４）が前記エアフロ
   ートの下方に位置することを特徴とする沈殿物含有排水
   分離装置。