JP2003115390A - Light emitting element and its usage - Google Patents

Light emitting element and its usage

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JP2003115390A
JP2003115390A JP2001305896A JP2001305896A JP2003115390A JP 2003115390 A JP2003115390 A JP 2003115390A JP 2001305896 A JP2001305896 A JP 2001305896A JP 2001305896 A JP2001305896 A JP 2001305896A JP 2003115390 A JP2003115390 A JP 2003115390A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a contrast characteristic while raising light emitting efficiency of a light emitting element (an organic electric field light emitting element, an inorganic electric field light emitting element) and maintaining high luminosity. SOLUTION: In the light emitting element, in which a layer containing a light emitting domain is prepared between a positive electrode 2 and a negative electrode 9 on a substrate 1, the emitted light 11 generated in the light emitting domain is taken out from the negative electrode 9 side, the work function of the positive electrode 2 is 5.0 to 7.0 eV, and the visible light reflectance of the positive electrode 2 is 50% or less.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえばカラーデ
ィスプレイ等の表示素子として用いられる自発光型の発
光素子、及びその用途に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a self-luminous light emitting device used as a display device such as a color display, and its use.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、特にマルチメディア指向の製品等
においては、人間と機械とのインターフェースの重要性
が高まってきている。その機械をより快適に効率よく操
作するには、機械の側から充分な量の情報を簡潔に瞬時
に取り出す必要があり、そのため、ディスプレイを初め
とする様々な表示素子の研究が行われている。
2. Description of the Related Art In recent years, especially in multimedia-oriented products and the like, the importance of human-machine interfaces has been increasing. In order to operate the machine more comfortably and efficiently, it is necessary to simply and instantly retrieve a sufficient amount of information from the side of the machine. Therefore, various display elements including a display have been studied. .

【0003】こうした表示素子は、機械の小型化に伴
い、小型化、薄型化に対する要求が日々強くなってい
る。以下、主な表示素子の具体例について説明する。
With the miniaturization of machines, demands for miniaturization and thinning of such display elements are increasing day by day. Hereinafter, specific examples of main display elements will be described.

【0004】液晶ディスプレイは、代表的な表示素子の
一つとして今日、種々の製品のインターフェースに用い
られており、ラップトップ型情報処理機器を始め、小型
テレビジョン受像機、時計、電子式卓上計算機等々、日
常生活製品に多く用いられている。
Liquid crystal displays are used as interfaces of various products today as one of the typical display elements, and include laptop type information processing equipment, small television receivers, watches, electronic desk calculators. And so on, it is often used in daily life products.

【0005】この液晶ディスプレイは、液晶が低電圧駆
動、低消費電力であるという特徴を生かして、小型から
大容量表示デバイスに至るまで、専らかなめのインター
フェースとして、研究されてきた。
This liquid crystal display has been researched as a dedicated interface from small size to large capacity display device by taking advantage of the characteristics that liquid crystal is driven at low voltage and low power consumption.

【0006】しかし、この液晶ディスプレイは、受光型
なのでバックライトが欠かせず、そのバックライトの駆
動には液晶のそれより大きな電力を必要とする。したが
って、蓄電池等が内蔵されているとはいえ、給電に限界
があり、稼動時間が短くなるなど、使用上の制限が出る
という問題がある。
However, since this liquid crystal display is of a light receiving type, a backlight is indispensable, and the driving of the backlight requires electric power larger than that of the liquid crystal. Therefore, although the storage battery and the like are built in, there is a problem in that there is a limitation in use such as a limitation in power supply and a shortened operating time.

【0007】さらに、この液晶ディスプレイについて
は、特有の問題点を指摘することができる。
Further, it is possible to point out a particular problem with this liquid crystal display.

【0008】まず、液晶ディスプレイは、液晶分子の配
向状態による表示であるので、その視野角の中において
も、角度によってはコントラストが変化してしまい、こ
のために視野角が狭く、大型ディスプレイ等の大型表示
には適していないこと、また液晶分子の配向速度が遅い
ため、動画の表示には適していないこと、が問題であ
る。
First, since the liquid crystal display is a display based on the alignment state of liquid crystal molecules, even within the viewing angle, the contrast changes depending on the angle. Therefore, the viewing angle is narrow and the display is large. The problem is that it is not suitable for large-scale display and that it is not suitable for displaying moving images due to the slow alignment speed of liquid crystal molecules.

【0009】一方、駆動方式からみると、液晶ディスプ
レイのアクティブマトリクス方式は、動画を扱うのに十
分な応答速度を示す反面、TFT(薄膜トランジスタ)
駆動回路を用いるので、画素欠陥により画面サイズを大
型化することが困難であり、またコストダウンを図る上
からも得策ではない。
On the other hand, in terms of the driving system, the active matrix system of the liquid crystal display has a response speed sufficient for handling a moving image, while it has a TFT (thin film transistor).
Since a drive circuit is used, it is difficult to increase the screen size due to pixel defects, and it is not a good idea from the viewpoint of cost reduction.

【0010】また、もう一つの駆動方式である単純マト
リクス方式は、上記とは逆にコストは低いし、画面サイ
ズの大型化も比較的容易であるが、動画を扱うのに十分
な応答速度が出せない、という問題がある。
On the other hand, the simple matrix method, which is another driving method, is low in cost contrary to the above, and it is relatively easy to increase the screen size, but it has a sufficient response speed for handling moving images. There is a problem that you can not put it out.

【0011】このような液晶素子に対して、以下に述べ
るプラズマ表示素子や無機電界発光素子(無機EL素
子)、有機電界発光素子(有機EL素子)などは、自発
光型に属する表示素子である。
In contrast to such a liquid crystal element, a plasma display element, an inorganic electroluminescent element (inorganic EL element), an organic electroluminescent element (organic EL element), etc. described below are display elements belonging to a self-luminous type. .

【0012】まず、プラズマ表示素子は低圧ガス中での
プラズマ発光を表示に利用したものであり、大型化、大
容量化に適している。しかし、薄型化やコスト面で問題
を抱えており、さらに駆動に高電圧の交流バイアスを必
要とし、携帯用デバイスには適していない。
First, the plasma display element utilizes plasma light emission in a low-pressure gas for display, and is suitable for increasing size and capacity. However, it has problems in thinning and cost, and further requires a high-voltage AC bias for driving, and is not suitable for portable devices.

【0013】また、無機電界発光素子は、緑色発光ディ
スプレイ等が商品化されたが、プラズマ表示素子と同
様、交流バイアス駆動で数百Vを必要としたため、ユー
ザーに受け入れられなかった。
Further, as the inorganic electroluminescent device, a green light emitting display and the like have been commercialized, but like the plasma display device, several hundred V has been required for AC bias driving, and therefore it has not been accepted by users.

【0014】もっとも、その後の技術進歩の結果、今日
ではカラーディスプレイ表示に必要なR(赤)、G
(緑)、B(青)の三原色の発光に成功しているが、構
成に無機材料が欠かせないので、分子設計等による発光
波長などの制御は無理であり、フルカラー化には困難が
伴うと予想される。
However, as a result of subsequent technological progress, R (red) and G, which are required for color display, are nowadays used.
Although it has succeeded in emitting light of the three primary colors of (green) and B (blue), it is impossible to control the emission wavelength by molecular design and the like because an inorganic material is indispensable for the configuration, and full colorization is difficult. It is expected to be.

【0015】一方、有機電界発光素子は、有機化合物に
よる電界発光を利用するものであり、この現象は既に今
から約30数年前に発見されている。すなわち、196
0年代前半に、強く蛍光を発生するアントラセン単結晶
へキャリアを注入すると、特異な発光現象(ルミネセン
スの誘起による)が生じるのが観測された。それ以来、
有機電界発光素子は長期間にわたって研究の対象にされ
てきたが、何分にも低輝度、単色で、しかも単結晶を用
いるため、主に有機材料へのキャリア注入の点に技術的
重点が置かれ、基礎的研究段階の域を出なかった。
On the other hand, the organic electroluminescence device utilizes electroluminescence from an organic compound, and this phenomenon has already been discovered about 30 years ago. That is, 196
In the first half of the 0's, it was observed that a peculiar luminescence phenomenon (due to the induction of luminescence) occurs when carriers are injected into an anthracene single crystal that strongly emits fluorescence. Since then,
Organic electroluminescent devices have been the subject of research for a long period of time, but because of their extremely low brightness, single color, and the use of single crystals, technical emphasis is placed mainly on the injection of carriers into organic materials. He went beyond the basic research stage.

【0016】それが、1980年代も半ばを過ぎる頃に
なると、事情が変わってくる。1987年にEastm
an Kodak社のTangらが当時としては画期的
な有機薄膜電界発光素子を発表した。これは、アモルフ
ァス発光層を有する積層構造体で、低電圧駆動、高輝度
発光が可能である。この積層構造体の発明がきっかけと
なって有機電界発光素子の研究開発は一段と弾みがつ
き、RGB三原色の発光、安定性、輝度上昇、積層構
造、及び製造方法と研究が多方面で盛んに行われるよう
になり、今日に至っている。
The situation changes when the mid-1980s is reached. Eastm in 1987
Tang et al. of an Kodak Company announced an epoch-making organic thin film electroluminescent device at that time. This is a laminated structure having an amorphous light emitting layer, which can be driven at a low voltage and emit light with high brightness. With the invention of this laminated structure, the research and development of the organic electroluminescence device was further accelerated, and the emission of the three primary colors of RGB, stability, brightness increase, the laminated structure, and the manufacturing method and research were actively conducted in various fields. It has come to be seen, and it has come to today.

【0017】なお、そのほかにも、有機材料の特長であ
る分子設計等を利用して次々とディスプレイ用の新規材
料が開発され、直流電圧駆動、薄型、自発光性など、そ
れなりに優れた特徴を有する有機電界発光素子が相次い
で出現し、そのカラーディスプレイへの応用研究も盛ん
に行われつつある。
In addition to the above, new materials for displays have been developed one after another by utilizing the molecular design, which is a characteristic of organic materials, and have excellent characteristics such as DC voltage drive, thinness, and self-luminance. The organic electroluminescent elements possessed by this technology are successively emerging, and their applied research to color displays is being actively conducted.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】以上、代表的な表示素
子の長所、短所、あるいは開発の歴史について述べてき
たが、本発明は特に、これらの表示素子のうち、有機電
界発光素子と無機電界発光素子の改良に係わるものであ
るため、以下、それらの発光素子が今日抱えている、各
方面からとくに改善の要ありと指摘されている問題点に
ついて説明する。
The advantages, disadvantages, and development history of typical display elements have been described above. The present invention is particularly concerned with organic electroluminescent elements and inorganic electric fields among these display elements. Since the present invention relates to the improvement of light emitting elements, the problems which these light emitting elements have today and are pointed out to be particularly important from various points of view will be described below.

【0019】コントラスト特性は、ディスプレイの主た
る性能の一つであるが、前述した有機電界発光素子や無
機電界発光素子などの自発光型表示素子では、メタルバ
ック(金属陰極による外光の反射)等の影響により、充
分なコントラストが得られていない。とくに有機電界発
光素子のコントラストは、せいぜい200:1程度であ
り、これを上回る充分なコントラストを有する表示素子
の開発が各方面から要求されている。
The contrast characteristic is one of the main performances of the display, but in the self-luminous display elements such as the organic electroluminescent element and the inorganic electroluminescent element described above, the metal back (reflection of external light by the metal cathode), etc. Due to the influence of, sufficient contrast is not obtained. In particular, the contrast of an organic electroluminescence device is at most about 200: 1, and development of a display device having a sufficient contrast exceeding this is required from various fields.

【0020】また、有機電界発光素子の発光効率も未だ
不十分である。その原因の一つとして、電極から有機層
へのキャリアの注入効率が小さいこと、陽極−陰極間の
エネルギー差が充分でないために有機層間のエネルギー
障壁が存在することが挙げられる。
Further, the luminous efficiency of the organic electroluminescent device is still insufficient. One of the causes is that the efficiency of carrier injection from the electrode to the organic layer is small, and the energy difference between the anode and the cathode is not sufficient, so that an energy barrier exists between the organic layers.

【0021】さらに、一般的な有機電界発光素子は、陽
極側からEL発光光を取出す素子構造のため、陽極材料
がITO(インジウムにスズをドープしたインジウム−
スズ酸化物)、ZnO、SnO2及びそれらの関連物質
にほぼ限定されていて、ホール(正孔)注入材料が、陽
極材料とのエネルギーマッチングに大きく制約されてい
ることである。
Further, since a general organic electroluminescence device has a device structure in which EL emission light is taken out from the anode side, the anode material is made of ITO (indium-tin-doped indium-
Almost limited to tin oxide), ZnO, SnO 2 and their related substances, the hole injection material is largely restricted in energy matching with the anode material.

【0022】一方、もう一つの有機EL素子の素子構造
として、陰極側からEL発光光を取り出す素子構造が存
在する。
On the other hand, as another element structure of the organic EL element, there is an element structure in which EL emission light is taken out from the cathode side.

【0023】この場合には、陰極は非常に薄い低仕事関
数の金属[例えばMg:Ag(3.5eV)やAl:L
i(2.9eV)]からなり、場合によって更にIT
O、ZnO、SnO2などの透明電極を積層する。ま
た、陽極は一般的に高仕事関数の金属を用いうるが、I
TO、ZnO、SnO2などの透明電極を用いてもよ
い。これら陽極材料の選択は、陽極薄膜の平滑性、パタ
ーニングプロセスとの親和性などに依存する。
In this case, the cathode is a very thin metal having a low work function [eg Mg: Ag (3.5 eV) or Al: L].
i (2.9 eV)], and in some cases IT
Transparent electrodes such as O, ZnO, and SnO 2 are laminated. In general, a metal having a high work function can be used for the anode.
TO, ZnO, may be used transparent electrode such as SnO 2. Selection of these anode materials depends on the smoothness of the anode thin film, compatibility with the patterning process, and the like.

【0024】更に、基板に積層する順序としては、陽極
から有機材料、陰極の順に積層してもよいし、その逆に
陰極から有機材料、陽極の順でもよい。
Further, the order of laminating on the substrate may be from the anode to the organic material and then to the cathode, or vice versa.

【0025】前者の場合には、基板はガラスやポリマー
のように可視光に対し透明なものでもよいし、Siのよ
うな不透明のものでもよい。
In the former case, the substrate may be transparent to visible light such as glass or polymer, or opaque such as Si.

【0026】TFT基板は、基板上に多数のトランジス
タや金属配線が存在するため、ガラス基板側から光を取
り出そうとすると、どうしても開口率が小さくなる。し
かし、上記のようにTFT基板上に陽極から有機材料、
陰極の順に積層し、陰極の側からEL発光光を取り出せ
ば、開口率の影響を極小にできる。
Since the TFT substrate has a large number of transistors and metal wirings on the substrate, the aperture ratio is inevitably small when light is to be extracted from the glass substrate side. However, as described above, the organic material from the anode on the TFT substrate,
The effect of the aperture ratio can be minimized by stacking the cathodes in this order and extracting the EL emission light from the cathode side.

【0027】TFT基板上に陽極を設ける場合、上記し
た材料選択の問題から、Cr(仕事関数4.5eV)な
ど、仕事関数がそれほど高くない金属が陽極として選択
される場合が多々ある。
When the anode is provided on the TFT substrate, a metal having a not so high work function such as Cr (work function of 4.5 eV) is often selected as the anode because of the above-mentioned material selection problem.

【0028】このような場合、陽極と陰極の仕事関数の
差は、例えばCr−Mg:Agで1eV、Cr−Al:
Liで1.6eVとなり、発光すべきRGBのフォトン
エネルギーよりも小さく、素子としての効率は非常に低
くなる。
In such a case, the work function difference between the anode and the cathode is, for example, 1 eV for Cr-Mg: Ag and Cr-Al:
Li becomes 1.6 eV, which is smaller than the photon energies of RGB that should emit light, and the efficiency as an element is extremely low.

【0029】そこで本発明の目的は、陽極材料によって
発光効率を向上させ、同時に高輝度を維持しながらコン
トラストを向上させた発光素子(有機電界発光素子、無
機電界発光素子など)を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a light emitting device (organic electroluminescent device, inorganic electroluminescent device, etc.) in which the luminous efficiency is improved by the anode material and at the same time the contrast is improved while maintaining high brightness. is there.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、発光領
域を含む層が陽極と陰極との間に設けられた発光素子に
おいて、前記陰極の側から発光光が取出されるようにな
され、前記陽極の仕事関数が5.0〜7.0eVである
ことを特徴とする発光素子(以下、本発明の第1の発光
素子と称する。)に係るものである。ただし、前記発光
領域を含む前記層とは、後述するように、しかるべき機
能を備えた有機化合物層及び/又は無機化合物層で構成
されるものである(以下、同様)。
That is, according to the present invention, in a light emitting device in which a layer including a light emitting region is provided between an anode and a cathode, emitted light is taken out from the cathode side, The work function of the anode is 5.0 to 7.0 eV, which relates to a light emitting device (hereinafter referred to as a first light emitting device of the present invention). However, the layer including the light emitting region is composed of an organic compound layer and / or an inorganic compound layer having appropriate functions, as described later (the same applies hereinafter).

【0031】本発明の第1の発光素子によれば、前記陽
極に高仕事関数の材料、即ち仕事関数が5.0eV〜
7.0eV(好ましくは5.5eV〜6.0eV)と特
定範囲の材料を用いることによって、前記発光領域を含
む材料層に適切な材料を選択すれば、陽極−陰極間のエ
ネルギー差が充分となり、エネルギー障壁の少ない電界
発光素子を構成することができる。これによって、発光
効率は向上し、陰極の側から、低消費電力、高輝度で光
を取出せる発光素子を実現できる。このためには、陽極
の仕事関数は5.0eV以上でなければならず、またそ
の上限は発光領域の材料の選択性等から7.0eVでな
ければならない。
According to the first light emitting device of the present invention, the anode has a high work function material, that is, a work function of 5.0 eV to.
By using a material having a specific range of 7.0 eV (preferably 5.5 eV to 6.0 eV) and selecting an appropriate material for the material layer including the light emitting region, the energy difference between the anode and the cathode becomes sufficient. Thus, an electroluminescent device having a small energy barrier can be formed. As a result, the luminous efficiency is improved, and it is possible to realize a light emitting element that can extract light with low power consumption and high brightness from the cathode side. For this purpose, the work function of the anode must be 5.0 eV or more, and the upper limit must be 7.0 eV from the selectivity of the material of the light emitting region.

【0032】特に、有機電界発光素子の場合は、陽極の
仕事関数を5.0eV〜7.0eVの範囲内に規定で
き、陽極材料としてホール注入層とエネルギーマッチン
グがとれるもの(即ち、両者間のエネルギーマッチング
の最適化をはかること)によって、ホールの注入効率を
向上させ、発光効率を高めることができる。しかも、こ
のようにすれば、陽極材料は選択幅が広がり、ホール注
入材料に対する制約が解消されるとともに、ホール注入
材料についても、陽極材料に対する制約が解消され、両
者ともこれまでに比べてより広範囲な材料を用いること
が可能である。
In particular, in the case of an organic electroluminescent device, the work function of the anode can be specified within the range of 5.0 eV to 7.0 eV, and the hole injection layer as the anode material can achieve energy matching (that is, between the both). By optimizing energy matching), hole injection efficiency can be improved and light emission efficiency can be increased. Moreover, by doing so, the selection range of the anode material is widened, the restriction on the hole injection material is eliminated, and the restriction on the anode material is also eliminated for the hole injection material, both of which are wider than before. It is possible to use various materials.

【0033】また、本発明は、発光領域を含む層が陽極
と陰極との間に設けられた発光素子において、前記陰極
の側から発光光が取出されるようになされ、前記陽極の
可視光反射率が50%以下であることを特徴とする発光
素子(以下、本発明の第2の発光素子と称する。)も提
供するものである。
Further, according to the present invention, in a light emitting element in which a layer including a light emitting region is provided between an anode and a cathode, emitted light is extracted from the cathode side, and visible light reflection of the anode is performed. Also provided is a light emitting element characterized by having a ratio of 50% or less (hereinafter referred to as a second light emitting element of the present invention).

【0034】本発明の第2の発光素子によれば、陽極の
可視光反射率が50%以下であるため、陰極の側から発
光光を取出すときの可視の外光による反射の影響(陽極
によるメタルバック)を抑制し、高輝度を維持しながら
コントラストを確実に向上させることができる。このた
めには、陽極の可視光反射率は50%以下でなくてはな
らない。なお、一般的な金属陽極材料の可視光反射率は
70%程度以上あるが、これでは、陽極での反射が多
く、コントラストが大きく低下する。
According to the second light-emitting element of the present invention, the visible light reflectance of the anode is 50% or less, and therefore the influence of reflection by visible external light when the emitted light is extracted from the cathode side (by the anode It is possible to suppress the metal back) and surely improve the contrast while maintaining high brightness. For this purpose, the visible light reflectance of the anode must be 50% or less. Note that the visible light reflectance of a general metal anode material is about 70% or more, but with this, there is a large amount of reflection at the anode, and the contrast is greatly reduced.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】本発明の第1の発光素子及び第2
の発光素子において、高輝度の維持及びコントラストの
向上の効果を発揮させるには、前記陽極の仕事関数を
5.0eV〜7.0eVの範囲に特定すること、更に可
視光域(通常、波長が380〜780nmのもの)全体
にわたって、前記陽極の反射率を50%以下に維持する
ことが重要である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION First and second light emitting elements of the present invention
In order to exert the effect of maintaining high brightness and improving the contrast in the light emitting device, the work function of the anode is specified in the range of 5.0 eV to 7.0 eV, and the visible light range (usually, the wavelength is It is important to keep the reflectivity of the anode below 50% over the entire wavelength range (380 to 780 nm).

【0036】このためには、前記陽極の構成材料とし
て、周期表のIIIA族、IVA族、VA族、、VIA族、VII
A族、VIII族及びIB族から選ばれた1種又は2種以上
の金属、合金、又はその化合物を用いることが好まし
い。
For this purpose, as the constituent material of the anode, there are IIIA group, IVA group, VA group, VIA group, VII of the periodic table.
It is preferable to use one or more metals, alloys or compounds thereof selected from Group A, Group VIII and Group IB.

【0037】上記金属の具体例としては、Ni、Ru、
Ir、Rh、Pt、Pd、Re、Ti、Zr、Nb、M
o及びWなどがある。
Specific examples of the above metals include Ni, Ru,
Ir, Rh, Pt, Pd, Re, Ti, Zr, Nb, M
There are o and W.

【0038】また、上記化合物としては、金属間化合
物、酸化物、窒化物又は酸窒化物が好ましい。これらの
具体例を挙げると、LiNiO2、PtRhOx、TiN
bOx、WReOx、NiO、RuOx、IrOx、PtO
x、RhOx、PdOx、ReO x、WOx、NiNO、L
iNiNO、RuNO、IrNO、PtNO、RhN
O、ReNO、WNO、TiNO、TiNおよびZrN
などがある。
The above compounds include intermetallic compounds.
Preferred are oxides, oxides, nitrides or oxynitrides. these
To give a specific example, LiNiO2, PtRhOx, TiN
bOx, WReOx, NiO, RuOx, IrOx, PtO
x, RhOx, PdOx, ReO x, WOx, NiNO, L
iNiNO, RuNO, IrNO, PtNO, RhN
O, ReNO, WNO, TiNO, TiN and ZrN
and so on.

【0039】また、前記陽極の物理化学的特性を向上さ
せるために、陽極材にドーパントを添加するとよい。そ
のドーパントを添加した陽極材の主な例を挙げると、R
XNiO(R=H、Li、Na、K、Rb、Cs、C
u、Ag、Au)、RxWO3(R=H、Li、Na、
K、Rb、Cs、Cu、Ag、Au)、TiNbxy
どがある。
In addition, a dopant may be added to the anode material in order to improve the physicochemical properties of the anode. The main examples of the anode material added with the dopant are R
X NiO (R = H, Li, Na, K, Rb, Cs, C
u, Ag, Au), R x WO 3 (R = H, Li, Na,
K, Rb, Cs, Cu, Ag, Au), TiNb x O y and the like.

【0040】ただし、上記陽極材料の組成は、必ずしも
化学量論組成である必要はなく、不定比であってもよ
い。
However, the composition of the above anode material does not necessarily have to be a stoichiometric composition, and may be a nonstoichiometric ratio.

【0041】さらに、陽極材料の結晶相については単
相、複数相のどちらでもよい。
Further, the crystal phase of the anode material may be either a single phase or a plurality of phases.

【0042】もちろん、陽極層のモルフォロジー(Morp
hology:形態)については、特に限定しない。平滑度が
高くて一様な膜、たとえばアモルファス、微結晶、エピ
タキシャル膜、単結晶膜もしくはこれらに類似したもの
が望ましい。
Of course, the morphology of the anode layer (Morp
The hology: form) is not particularly limited. A film having a high smoothness and uniformity, such as an amorphous film, a microcrystal film, an epitaxial film, a single crystal film, or a film similar to these is desirable.

【0043】また、ホールの注入効率を上げるために、
陽極材料はp型の電気伝導特性を有していることが好ま
しい。
In order to increase the hole injection efficiency,
The anode material preferably has p-type electrical conductivity.

【0044】前記陽極は単層でも複数層でもよい。とく
にITO等の透明電極と積層構造にする場合は、組成と
層厚とを最適化することによって、前記可視光反射率
と、前記仕事関数と、電気抵抗率とを、他の特性を損な
うことなく所望にコントロールすることができる。
The anode may be a single layer or a plurality of layers. In particular, in the case of forming a laminated structure with a transparent electrode such as ITO, by optimizing the composition and layer thickness, the visible light reflectance, the work function, and the electrical resistivity are impaired in other characteristics. Can be controlled as desired.

【0045】前記相及び層に関して好ましい陽極の構造
例を挙げると、既述した金属又は金属化合物を含む相
と、亜鉛、インジウム又はスズを含む相とが単層化又は
積層化された構造が好ましい。
Preferred examples of the anode structure relating to the above-mentioned phases and layers include a structure in which the phase containing the metal or metal compound described above and the phase containing zinc, indium or tin are monolayered or laminated. .

【0046】或いは、既述した金属又は金属化合物を含
む相と、Cr、Au、W等を含む相とが単層化又は積層
化された構造が、陽極を不透明化、低抵抗化、平滑面化
する上で好ましい。
Alternatively, the structure in which the phase containing the metal or the metal compound described above and the phase containing Cr, Au, W, etc. are formed into a single layer or laminated layers makes the anode opaque, has a low resistance, and has a smooth surface. It is preferable in terms of conversion.

【0047】これらの条件を満足すると、陽極−陰極間
の仕事関数の差を大きくすることができ、それら電極間
の有機材料等の発光素子構成材料のエネルギーレベルを
最適化することによって、発光効率を高めることができ
る。また、陽極−陰極間の仕事関数を大きくすることに
よって、有機材料等の発光素子構成材料を拘束する制約
を解消でき、より広範囲の材料系を用いることが可能で
ある。
When these conditions are satisfied, the difference in work function between the anode and the cathode can be increased, and the energy level of the light emitting device constituent material such as an organic material between the electrodes can be optimized to improve the luminous efficiency. Can be increased. Further, by increasing the work function between the anode and the cathode, it is possible to eliminate the constraint of constraining the constituent material of the light emitting device such as an organic material, and it is possible to use a wider range of material systems.

【0048】なお、本発明における発光素子の陽極を製
造するには、この分野で公知の成膜法、たとえばスパッ
タッリング、電子ビーム蒸着、イオンプレーティング、
レーザアブレーションなどの手法によればよい。
In order to manufacture the anode of the light emitting device of the present invention, a film forming method known in this field, such as sputtering, electron beam evaporation, ion plating,
A method such as laser ablation may be used.

【0049】次に、本発明の発光素子が実際にどのよう
な構造をもつのかを好ましい例について、適宜、図面を
参照しながら具体的に説明する。
Next, a preferable example of the actual structure of the light emitting device of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

【0050】まず、本発明の発光素子の好ましい実際的
な基本構造は、TFT(薄膜トランジスタ)基板、又は
ガラス等の透明又は半透明の(或いは不透明の)基板の
上に、陽極と、発光領域を含む有機又は無機層と、陰極
とが順次積層されているものである。ここで「不透明」
とは透過率が数%以下、「半透明」とは透過率が数%〜
80%を意味する(以下、同様)。
First, a preferred practical basic structure of the light emitting device of the present invention is that a positive electrode and a light emitting region are provided on a TFT (thin film transistor) substrate or a transparent or semitransparent (or opaque) substrate such as glass. The organic or inorganic layer including the cathode and the cathode are sequentially laminated. "Opaque" here
Is a transmittance of several% or less, and "translucent" is a few% or more.
It means 80% (hereinafter the same).

【0051】更に、前記有機層は目的に応じてその層構
成に種々の変形が可能であり、たとえば前記陽極側にホ
ール(正孔)輸送層、前記陰極側に電子輸送層を夫々、
設けることができる。
Further, the organic layer may be modified in various layers according to the purpose. For example, a hole transport layer may be provided on the anode side and an electron transport layer may be provided on the cathode side.
Can be provided.

【0052】また、前記陽極と前記ホール輸送層との間
にホール(正孔)注入層を設けることができる。
A hole injection layer may be provided between the anode and the hole transport layer.

【0053】また、前記陰極と前記電子輸送層との間に
電子注入層を設けることができる。
An electron injection layer may be provided between the cathode and the electron transport layer.

【0054】さらにまた、前記ホール輸送層と前記電子
輸送層との間に発光層を設けることができる。
Furthermore, a light emitting layer can be provided between the hole transport layer and the electron transport layer.

【0055】図1に、本発明の発光素子の一例10を示
す。これは有機電界発光素子(有機EL素子)と呼ばれ
るものであり、ここでは上述した層構造にさらに若干の
工夫がこらされたものを示す。すなわち、図1(A)の
発光素子は、TFT基板(又はガラス基板)1の上に陽
極2、ホール注入層3、ホール輸送層4、発光層5、電
子輸送層6、電子注入層7、バッファ層8及び陰極9が
真空蒸着等により順に積層されたものである(但し、ホ
ール注入層、電子注入層、バッファ層は必ずしも設けな
くてもよく、また電子輸送層又はホール輸送層は発光層
を兼ねてもよい)。発光光11は陰極9の側から取出さ
れる。
FIG. 1 shows an example 10 of the light emitting device of the present invention. This is called an organic electroluminescence device (organic EL device), and here, a device in which the layer structure described above is slightly modified is shown. That is, in the light emitting element of FIG. 1A, the anode 2, the hole injection layer 3, the hole transport layer 4, the light emitting layer 5, the electron transport layer 6, the electron injection layer 7, the TFT substrate (or the glass substrate) 1, The buffer layer 8 and the cathode 9 are sequentially laminated by vacuum deposition or the like (however, the hole injection layer, the electron injection layer, and the buffer layer may not necessarily be provided, and the electron transport layer or the hole transport layer is the light emitting layer. May also serve as). The emitted light 11 is extracted from the cathode 9 side.

【0056】それに対して、図1(B)に示す発光素子
12は、図1(A)に示した発光素子と各層が丁度逆に
構成されたものである。
On the other hand, the light emitting element 12 shown in FIG. 1 (B) has a structure in which each layer is just reverse to that of the light emitting element shown in FIG. 1 (A).

【0057】また、図2に示す発光素子は、いわゆる無
機電界発光素子と呼ばれるものであって、透明基板1の
上に陽極2、発光層5、及び陰極9が順次、積層された
ものである。
The light emitting device shown in FIG. 2 is a so-called inorganic electroluminescent device, in which an anode 2, a light emitting layer 5 and a cathode 9 are sequentially laminated on a transparent substrate 1. .

【0058】前述したホール注入層、ホール輸送層、発
光層、電子輸送層、電子注入層、バッファ層及び陰極の
材料については、この種の分野で公知の材料が使え、と
くに限定はない。
As the materials for the hole injecting layer, hole transporting layer, light emitting layer, electron transporting layer, electron injecting layer, buffer layer and cathode described above, materials known in this kind of field can be used without any particular limitation.

【0059】たとえば、ホール輸送層の構成材料には、
ベンジジン誘導体、スチリルアミン誘導体、トリフェニ
ルメタン誘導体、トリフェニル(又はアリール)アミン
誘導体、及びヒドラゾン誘導体などが用いられる。中で
も、図3に示すα−NPD(α−naphtyl phenyl diami
ne)などは、よく用いられるホール輸送材料である。
For example, as the constituent material of the hole transport layer,
A benzidine derivative, a styrylamine derivative, a triphenylmethane derivative, a triphenyl (or aryl) amine derivative, a hydrazone derivative and the like are used. Among them, α-NPD (α-naphtyl phenyl diami) shown in FIG.
ne) is a commonly used hole transport material.

【0060】また、電子輸送層の構成材料には、ベリレ
ン誘導体、ビススチリル誘導体、ピラジン誘導体などが
用いられる。たとえば、図4に示すAlq3(8−hydro
xyquinoline aluminium)などは、好ましい電子輸送材
料である。
Further, a beryllene derivative, a bisstyryl derivative, a pyrazine derivative or the like is used as a constituent material of the electron transport layer. For example, Alq 3 (8-hydro shown in FIG.
xyquinoline aluminum) is a preferred electron transport material.

【0061】また、ホール注入層の構成材料には、たと
えば図5に示すm−MTDATA(4,4',4”-tris(3-me
thylphenylphenylamino)triphenylamine)などは好まし
いホール注入材料である。
The constituent material of the hole injection layer is, for example, m-MTDATA (4,4 ', 4 "-tris (3-me shown in FIG.
thylphenylphenylamino) triphenylamine) is a preferred hole injection material.

【0062】また、電子注入層の構成材料には、オキシ
ジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体などが用いられ
る。
As a constituent material of the electron injection layer, an oxydiazole derivative, a triazole derivative or the like is used.

【0063】発光層の構成材料としては、前述のAlq
3などが用いられる。この発光層の発光スペクトル制御
のためには、他の有機材料との共蒸着を行ってもよく、
たとえばペリレン誘導体、クマリン誘導体、ベンジジン
誘導体などがある。もちろん、ピラン誘導体等の材料を
含む有機膜であってもよい。
As the constituent material of the light emitting layer, the above-mentioned Alq is used.
3 etc. are used. In order to control the emission spectrum of this light emitting layer, co-evaporation with another organic material may be performed,
Examples include perylene derivatives, coumarin derivatives, and benzidine derivatives. Of course, it may be an organic film containing a material such as a pyran derivative.

【0064】陰極材料としては、効率よく電子を他層へ
注入するために、材料の真空準位からの仕事関数の小さ
な金属を用いるのが好ましく、たとえば、In、Mg、
Ca、Sr、Ba、Liなどを他の金属との合金とし
て、安定性を高めて使用するのがよい。
As the cathode material, it is preferable to use a metal having a small work function from the vacuum level of the material in order to efficiently inject electrons into the other layer. For example, In, Mg,
It is preferable to use Ca, Sr, Ba, Li or the like as an alloy with another metal to improve stability.

【0065】バッファ層については、効率よく電子を他
層へ注入するために、たとえば陰極と電子注入層との間
にLi2O、LiF、SrO、CaF2などのアルカリ金
属酸化物、アルカリ金属弗化物、アルカリ土類金属酸化
物、アルカリ土類金属弗化物を介在させるとよい。
For the buffer layer, in order to efficiently inject electrons into another layer, for example, an alkali metal oxide such as Li 2 O, LiF, SrO or CaF 2 or an alkali metal fluoride is provided between the cathode and the electron injection layer. It is advisable to interpose a halide, an alkaline earth metal oxide, or an alkaline earth metal fluoride.

【0066】なお、本発明の発光素子を駆動するとき
は、大気中の酸素等による影響を排除し、安定性を高め
るために、あらかじめ例えばゲルマニウム酸化物やSi
Nxなどで封止を行ったり、あるいは周囲空間を真空に
引いた状態にしておくことが望ましい。
When driving the light emitting device of the present invention, in order to eliminate the influence of oxygen and the like in the atmosphere and enhance the stability, for example, germanium oxide or Si is previously prepared.
It is desirable to seal with Nx or the like, or to keep the surrounding space in a vacuum.

【0067】本発明の発光素子は、ディスプレイ又は表
示装置、コンピュータ、テレビジョン受像機、ビルボー
ド、スタジオ用スクリーン、ファクシミリ、携帯電話、
携帯端末、発光性ネームプレート、乗り物、音響機器又
は車載用音響機器に用いて好適である。
The light emitting device of the present invention is used for a display or a display device, a computer, a television receiver, a billboard, a studio screen, a facsimile, a mobile phone,
It is suitable for use in mobile terminals, luminescent nameplates, vehicles, audio equipment or vehicle-mounted audio equipment.

【0068】例えば図6には、TFTを組み込んだアク
ティブマトリクス駆動の有機EL素子からなるディスプ
レイを示し、上述した各アモルファス有機化合物層3、
4、5、6、7からなる有機EL層(これはZnS:M
nを用いた無機EL層に置き換えてもよい。)13を基
板1上に設け、その下部に既述した陽極2を形成し、上
部にバッファ層を介して陰極9を形成し、これら両極間
の電圧印加によって所定色の発光光11がフィルタ(図
示せず)を通して陰極9側から得られる。
For example, FIG. 6 shows a display comprising an organic EL element of active matrix drive incorporating a TFT, and the above-mentioned amorphous organic compound layers 3,
Organic EL layer consisting of 4, 5, 6, 7 (this is ZnS: M
It may be replaced with an inorganic EL layer using n. ) 13 is provided on the substrate 1, the above-mentioned anode 2 is formed below the substrate 1, and the cathode 9 is formed above the buffer layer via the buffer layer. By applying a voltage between these electrodes, the emitted light 11 of a predetermined color is filtered ( It is obtained from the cathode 9 side through (not shown).

【0069】アクティブマトリクス駆動により陽極2へ
データ電圧を印加するために、例えば基板1上に形成し
たゲート電極14、ゲート絶縁膜15、及びソース領域
S、ドレイン領域D、チャネル領域Chに区画された半
導体薄膜16で構成されたボトムゲート型のMOSTF
T(Metal Oxide Semiconductor Thin Film Transisto
r)TFT1が基板1上に作り込まれている。なお、図
中の17は層間絶縁膜、18はソース電極、19はドレ
イン電極、20は層間絶縁膜である。なお、このような
ボトムゲート型は公知であるが、これに代えて公知のト
ップゲート型又はデュアルゲート型のMOSTFTを構
成してもよい。
In order to apply a data voltage to the anode 2 by active matrix driving, for example, it is partitioned into a gate electrode 14, a gate insulating film 15, and a source region S, a drain region D, and a channel region Ch formed on the substrate 1. Bottom-gate MOSTF composed of semiconductor thin film 16
T (Metal Oxide Semiconductor Thin Film Transisto
r) The TFT 1 is built on the substrate 1. In the figure, 17 is an interlayer insulating film, 18 is a source electrode, 19 is a drain electrode, and 20 is an interlayer insulating film. Although such a bottom-gate type is known, a known top-gate type or dual-gate type MOSTFT may be used instead.

【0070】図7は、有機EL素子10を有する画素部
PXLの等価回路であり、図6に示した有機EL素子1
0を駆動するトランジスタTFT1のゲートに対し、X
走査線にゲートが、Yデータ線にソースが接続されたT
FTトランスファゲートTFT2のドレインが接続さ
れ、このドレインとZ停止制御線との間に停止制御トラ
ンジスタTFT3が接続されている(なお、Csはリー
ク電流による電圧低下を補うための補助容量である)。
FIG. 7 is an equivalent circuit of the pixel portion PXL having the organic EL element 10, and the organic EL element 1 shown in FIG.
X to the gate of the transistor TFT1 which drives 0
A gate connected to the scanning line and a source connected to the Y data line
The drain of the FT transfer gate TFT2 is connected, and the stop control transistor TFT3 is connected between this drain and the Z stop control line (note that Cs is an auxiliary capacitance for compensating for the voltage drop due to the leak current).

【0071】ここで、TFT基板1は、基板上に多数の
トランジスタや金属配線が存在するため、ガラス基板1
側から光を取り出そうとすると、どうしても開口率が小
さくなる。しかし、上記のようにTFT基板1上に陽極
2から有機材料13、陰極9の順に積層し、陰極9の側
からEL発光光11を取り出しているので、開口率の影
響を極小にして効率良く発光光11を取出すことができ
る。
Here, since the TFT substrate 1 has many transistors and metal wirings on the substrate, the glass substrate 1
If you try to extract light from the side, the aperture ratio will decrease. However, as described above, since the organic material 13 and the cathode 9 are laminated in this order on the TFT substrate 1 and the EL light emission 11 is extracted from the cathode 9 side, the influence of the aperture ratio is minimized and the efficiency is improved. The emitted light 11 can be extracted.

【0072】この場合も、上述した理由から、高輝度の
維持及びコントラストの向上の効果を発揮させるには、
陽極2の仕事関数を5.0eV〜7.0eVの範囲に特
定すること、更に可視光域(通常、波長が380〜78
0nmのもの)全体にわたって、陽極2の反射率を50
%以下に維持することが重要である。
Also in this case, from the above-mentioned reason, in order to exert the effect of maintaining the high brightness and improving the contrast,
The work function of the anode 2 is specified in the range of 5.0 eV to 7.0 eV, and the visible light range (usually, the wavelength is 380 to 78).
0 nm), the anode 2 has a reflectance of 50
It is important to keep the percentage below.

【0073】[0073]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail based on the following examples.

【0074】実施例1 30mm×30mmの透明ガラス基板上に、陽極層とし
Cr(膜厚約200nm)をDCスパッタリングによ
り、LiNiO2(膜厚約100nm)をRFスパッタ
リングにより積層した。この陽極の可視光反射率は52
0nmで18%(図8参照)、仕事関数は5.80eV
であった。
Example 1 Cr (thickness: about 200 nm) was deposited as an anode layer on a 30 mm × 30 mm transparent glass substrate by DC sputtering, and LiNiO 2 (thickness: about 100 nm) was deposited by RF sputtering. The visible light reflectance of this anode is 52
18% at 0 nm (see FIG. 8), work function 5.80 eV
Met.

【0075】この基板上に、SiO2蒸着により2mm
×2mmの発光領域以外をマスクした有機電界発光素子
作製用のセルを作製した。次に、ホール(正孔)輸送層
としてα−NPD(α−naphtyl phenyl diamine)を真
空蒸着法により真空下で50nm蒸着(蒸着速度0.2
nm/s)し、続いて電子輸送性発光層としてAlq 3
(8−hydroxy quinoline aluminium)を50nm蒸着
し、更に陰極としてMg:Agを約15nm蒸着して、
有機電界発光素子を作製した。
On this substrate, SiO22 mm by vapor deposition
An organic electroluminescence device in which a region other than a 2 mm emission region is masked
A cell for production was produced. Next, the hole transport layer
As α-NPD (α-naphtyl phenyl diamine)
Vapor deposition of 50 nm under vacuum (vacuum deposition rate 0.2
nm / s), followed by Alq as an electron-transporting light-emitting layer. 3
(8-hydroxy quinoline aluminum) deposited to 50 nm
Then, Mg: Ag is vapor-deposited as a cathode by about 15 nm,
An organic electroluminescent device was produced.

【0076】こうして作製された有機電界発光素子の特
性を、陰極側から発光光を取り出して測定したところ、
最大発光波長は520nm、CIE色度座標上での座標
は(0.32,0.55)であり、良好な緑色発光を呈
した。また、駆動電圧6V時の電流密度は39.6mA
/cm2、輝度は1200cd/m2(図9参照)であっ
た。また、300lX照射時の非発光輝度は2.92c
d/m2であり、コントラストは410:1であった。
The characteristics of the organic electroluminescent device thus produced were measured by taking out emitted light from the cathode side.
The maximum emission wavelength was 520 nm, the coordinates on the CIE chromaticity coordinate were (0.32, 0.55), and good green emission was exhibited. Moreover, the current density when the driving voltage is 6 V is 39.6 mA.
/ Cm 2 , and the brightness was 1200 cd / m 2 (see FIG. 9). Also, the non-luminous brightness at 300 l X irradiation is 2.92c.
d / m 2 and the contrast was 410: 1.

【0077】実施例2 30mm×30mmの透明ガラス基板上に、陽極層とし
てCr(膜厚約200nm)とW(膜厚約100nm)
をDCスパッタリングにより積層した。この陽極の可視
光反射率は520nmで70%、仕事関数は5.2eV
であった。
Example 2 Cr (thickness: about 200 nm) and W (thickness: about 100 nm) were used as an anode layer on a transparent glass substrate of 30 mm × 30 mm.
Were laminated by DC sputtering. This anode has a visible light reflectance of 70% at 520 nm and a work function of 5.2 eV.
Met.

【0078】この基板上に、SiO2蒸着により2mm
×2mmの発光領域以外をマスクした有機電界発光素子
作製用のセルを作製した。次に、正孔輸送層としてα−
NPD(α−naphtyl phenyl diamine)を真空蒸着法に
より真空下で50nm蒸着(蒸着速度0.2nm/s)
し、電子輸送性発光層としてAlq3(8-hydroxy quino
line aluminium)を50nm蒸着し、更に陰極としてM
g:Agを約15nm蒸着して、有機電界発光素子を作
製した。
[0078] 2mm on the substrate, the SiO 2 deposition
A cell for producing an organic electroluminescence device was produced by masking a portion other than the emission region of × 2 mm. Next, as a hole transport layer, α-
Vapor deposition of NPD (α-naphtyl phenyl diamine) in vacuum by vacuum deposition method to 50 nm (deposition rate 0.2 nm / s)
As an electron-transporting light-emitting layer, Alq 3 (8-hydroxy quino
line aluminum) is deposited to a thickness of 50 nm, and M is used as a cathode.
g: Ag was vapor-deposited with a thickness of about 15 nm to prepare an organic electroluminescence device.

【0079】こうして作製された有機電界発光素子の特
性を、陰極側から発光を取り出して測定したところ、最
大発光波長は520nm、CIE色度座標上での座標は
(0.32,0.55)であり、良好な緑色発光を呈し
た。また、駆動電圧6V時の電流密度は39.6mA/
cm2、輝度は750cd/m2であった。また、300
lx照射時の非発光輝度は4.2cd/m2で、コント
ラストは180:1であった。
The characteristics of the organic electroluminescent device thus produced were measured by taking out the emitted light from the cathode side. The maximum emission wavelength was 520 nm, and the coordinates on the CIE chromaticity coordinate were (0.32, 0.55). And exhibited good green emission. The current density at a driving voltage of 6 V is 39.6 mA /
cm 2 , and the brightness was 750 cd / m 2 . Also, 300
The non-luminous luminance at the time of 1x irradiation was 4.2 cd / m 2 , and the contrast was 180: 1.

【0080】実施例3 実施例1において、ガラス基板の代りに不透明のシリコ
ン基板を用いること以外は同様にして有機電界発光素子
を作製した。この発光素子も、実施例1の素子と同等の
最大発光波長、発光色、電流及び輝度特性、コントラス
トを示した。
Example 3 An organic electroluminescence device was prepared in the same manner as in Example 1, except that an opaque silicon substrate was used instead of the glass substrate. This light emitting device also showed the same maximum emission wavelength, emission color, current and luminance characteristics, and contrast as those of the device of Example 1.

【0081】実施例4 30mm×30mmのガラス基板上に、陽極としてCr
(膜厚約200nm)をDCスパッタリングにより、L
iNiO2(膜厚約10nm)をRFスパッタリングに
より積層した。この陽極の反射率は波長520nmで1
8%、仕事関数は5.80eVであった。
Example 4 Cr was used as an anode on a glass substrate of 30 mm × 30 mm.
(Film thickness of about 200 nm) by DC sputtering
iNiO 2 (film thickness of about 10 nm) was laminated by RF sputtering. The reflectance of this anode is 1 at a wavelength of 520 nm.
The work function was 8% and the work function was 5.80 eV.

【0082】この積層体上に、SiO2蒸着により2m
m×2mmの発光領域以外をマスクした発光素子作製用
のセルを作製した。この上に、発光中心の蛍光体がCa
Ga 24:Ceからなる無機EL及びMg:Ag陰極
(膜厚約15nm)を蒸着して無機電界発光素子を作製
した。
On this laminated body, SiO22m by vapor deposition
For making light emitting device with masking other than the light emitting area of mx 2 mm
The cell of was produced. On top of this, the luminescent center phosphor is Ca
Ga 2SFour: Inorganic EL composed of Ce and Mg: Ag cathode
Inorganic electroluminescent device is prepared by vapor deposition (thickness: about 15 nm).
did.

【0083】こうして作製された無機電界発光素子を5
V、60Hzで駆動したところ、最高輝度は15cd/
2であった。300lX照射時の非発光輝度は2.55
cd/m2で、コントラストは6:1であった。
The inorganic electroluminescent device thus prepared was
When driven at V and 60 Hz, the maximum brightness is 15 cd /
It was m 2 . Non-luminous brightness at 300l X irradiation is 2.55
The contrast was 6: 1 at cd / m 2 .

【0084】比較例1 30mm×30mmの透明ガラス基板上に、陽極層とし
てCr(膜厚約200nm)をDCスパッタリングによ
り成膜した。この陽極の可視光反射率は520nmで6
8%(図8参照)、仕事関数は4.60eVであった。
Comparative Example 1 Cr (thickness: about 200 nm) was deposited as an anode layer on a 30 mm × 30 mm transparent glass substrate by DC sputtering. The visible light reflectance of this anode is 6 at 520 nm.
8% (see FIG. 8) and the work function was 4.60 eV.

【0085】この基板上に、SiO2蒸着により2mm
×2mmの発光領域以外をマスクした有機電界発光素子
作製用のセルを作製した。次に、ホール(正孔)輸送層
としてα−NPD(α−naphtyl phenyl diamine)を真
空蒸着法により真空下で50nm蒸着(蒸着速度0.2
nm/s)し、続いて電子輸送性発光層としてAlq 3
(8−hydroxy quinoline aluminium)を50nm蒸着
し、バッファ層としてLi2Oを0.5nm蒸着し、更
に陰極としてAlを約200nm蒸着して、有機電界発
光素子を作製した。
On this substrate, SiO22 mm by vapor deposition
An organic electroluminescence device in which a region other than a 2 mm emission region is masked
A cell for production was produced. Next, the hole transport layer
As α-NPD (α-naphtyl phenyl diamine)
Vapor deposition of 50 nm under vacuum (vacuum deposition rate 0.2
nm / s), followed by Alq as an electron-transporting light-emitting layer. 3
(8-hydroxy quinoline aluminum) deposited to 50 nm
As a buffer layer2O is vapor-deposited to 0.5 nm and
Al as a cathode is vapor-deposited with about 200 nm to generate an organic electric field.
An optical device was produced.

【0086】こうして作製された有機電界発光素子の特
性を、陰極側から発光光を取り出して測定したところ、
最大発光波長は520nm、CIE色度座標上での座標
は(0.32,0.55)であり、良好な緑色発光を呈
した。また、駆動電圧6V時の電流密度は21.9mA
/cm2、輝度は556cd/m2(図9参照)であっ
た。また、300lX照射時の非発光輝度は3.92c
d/m2であり、コントラストは140:1であった。
The characteristics of the organic electroluminescent device thus produced were measured by extracting emitted light from the cathode side.
The maximum emission wavelength was 520 nm, the coordinates on the CIE chromaticity coordinate were (0.32, 0.55), and good green emission was exhibited. Moreover, the current density when the driving voltage is 6 V is 21.9 mA.
/ Cm 2 , and the brightness was 556 cd / m 2 (see FIG. 9). In addition, the non-luminous brightness at 300 l X irradiation is 3.92c.
d / m 2 and the contrast was 140: 1.

【0087】比較例2 30mm×30mmのガラス基板上に、陽極層としてC
r(膜厚約200nm)をDCスパッタリングにより積
層した。この陽極の反射率は520nmで68%、仕事
関数は4.60eVであった。
Comparative Example 2 C was used as an anode layer on a 30 mm × 30 mm glass substrate.
r (film thickness of about 200 nm) was laminated by DC sputtering. The reflectance of this anode was 68% at 520 nm, and the work function was 4.60 eV.

【0088】この基板上に、SiO2蒸着により2mm
×2mmの発光領域以外をマスクした発光素子作製用の
セルを作製した。この上に、発光中心の蛍光体がCaG
24:Ceからなる無機EL及びMg:Ag陰極(膜
厚約15nm)を蒸着して無機電界発光素子を作製し
た。
[0088] 2mm on the substrate, the SiO 2 deposition
A cell for producing a light emitting element was produced by masking the area other than the light emitting area of × 2 mm. On top of this, the luminescent center phosphor is CaG.
An inorganic EL device made of a 2 S 4 : Ce and a Mg: Ag cathode (film thickness of about 15 nm) were vapor-deposited to prepare an inorganic electroluminescent device.

【0089】こうして作製された無機電界発光素子を5
V、60Hzで駆動したところ、最高輝度は8cd/m
2であった。300lx照射時の非発光輝度は3.9c
d/m2で、コントラストは2:1であった。
The inorganic electroluminescent device thus prepared was
When driven at V and 60 Hz, the maximum brightness is 8 cd / m
Was 2 . Non-luminous brightness at 300 lx irradiation is 3.9c
The contrast was 2: 1 at d / m 2 .

【0090】以上説明したように、本発明に基づく発光
素子(実施例1〜4)によれば、仕事関数が5.0eV
以上、7.0eV以下(好ましくは5.5eV以上、
6.0eV以下)であって、可視光反射率が50%以下
である陽極を使用し、有機材料層に適切な材料を選択す
ることによって、エネルギー障壁の少ない有機又は無機
電界発光素子を構成でき、発光効率を向上させ、コント
ラスト特性を向上させることができる。
As described above, according to the light emitting devices (Examples 1 to 4) according to the present invention, the work function is 5.0 eV.
Or more and 7.0 eV or less (preferably 5.5 eV or more,
It is possible to construct an organic or inorganic electroluminescent device having a small energy barrier by using an anode having a visible light reflectance of 50% or less and selecting an appropriate material for the organic material layer. The luminous efficiency can be improved and the contrast characteristics can be improved.

【0091】[0091]

【発明の作用効果】本発明は、上述したように、仕事関
数が5.0eV以上、7.0eV以下であり、また可視
光反射率が50%以下である陽極を使用しているので、
有機又は無機材料層に適切な材料を選択することによっ
て、エネルギー障壁の少ない電界発光素子を構成でき、
発光効率を向上させ、コントラスト特性を向上させるこ
とができる。
As described above, the present invention uses an anode having a work function of 5.0 eV or more and 7.0 eV or less and a visible light reflectance of 50% or less.
By selecting an appropriate material for the organic or inorganic material layer, an electroluminescence device with a small energy barrier can be constructed,
Luminous efficiency can be improved and contrast characteristics can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態による有機電界発光
素子の構成を示す模式的な断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an organic electroluminescent device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施の形態による無機電界発光
素子の構成を示す模式的な断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of an inorganic electroluminescent device according to a second embodiment of the present invention.

【図3】有機電界発光素子のホール輸送層に用いられる
α−NPDの構造式を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a structural formula of α-NPD used in a hole transport layer of an organic electroluminescent device.

【図4】同、発光素子の電子輸送層に用いられるAlq
3の構造式を示す図である。
FIG. 4 is an Alq used in an electron transport layer of a light emitting device.
FIG. 3 is a diagram showing a structural formula of 3 .

【図5】同、ホール注入層に用いられるm−MTDAT
Aの構造式を示す図である。
[FIG. 5] Similarly, m-MTDAT used for the hole injection layer.
It is a figure which shows the structural formula of A.

【図6】本発明に基づくTFT駆動の有機EL素子から
なるディスプレイの要部断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a main part of a display including a TFT driven organic EL element according to the present invention.

【図7】同、ディスプレイの画素部の等価回路図であ
る。
FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of the pixel portion of the display.

【図8】発光素子の陽極の光反射率の波長依存性を示す
グラフである。
FIG. 8 is a graph showing the wavelength dependence of the light reflectance of the anode of the light emitting device.

【図9】発光素子の輝度の電圧依存性を示すグラフであ
る。
FIG. 9 is a graph showing voltage dependence of luminance of a light emitting element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基板、2…陽極、3…ホール注入層、4…ホール輸
送層、5…発光層、6…電子輸送層、7…電子注入層、
8…バッファ層、9…陰極、10…有機EL素子、11
…発光光、12…無機EL素子
1 ... Substrate, 2 ... Anode, 3 ... Hole injection layer, 4 ... Hole transport layer, 5 ... Light emitting layer, 6 ... Electron transport layer, 7 ... Electron injection layer,
8 ... Buffer layer, 9 ... Cathode, 10 ... Organic EL element, 11
… Emitting light, 12… Inorganic EL element

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 眞一郎 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB02 AB03 CB00 DB03    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Shinichiro Tamura             6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Soni             -Inside the corporation F term (reference) 3K007 AB02 AB03 CB00 DB03

Claims (44)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 発光領域を含む層が陽極と陰極との間に
設けられた発光素子において、前記陰極の側から発光光
が取出されるようになされ、前記陽極の仕事関数が5.
0〜7.0eVであることを特徴とする発光素子。
1. In a light emitting device in which a layer including a light emitting region is provided between an anode and a cathode, emitted light is extracted from the side of the cathode, and the work function of the anode is 5.
A light-emitting device having a voltage of 0 to 7.0 eV.
【請求項2】 前記陽極が、周期表のIIIA族、IVA
族、VA族、VIA族、VIIA族、VIII族及びIB族から
選ばれた1種又は2種以上の金属、合金、又はその化合
物を含有する、請求項1に記載の発光素子。
2. The anode is a group IIIA or IVA of the periodic table.
The light emitting device according to claim 1, which contains one or more metals, alloys, or compounds thereof selected from Group, VA, VIA, VIIA, VIII, and IB groups.
【請求項3】 前記化合物が金属間化合物、酸化物、窒
化物又は酸窒化物である、請求項2に記載の発光素子。
3. The light emitting device according to claim 2, wherein the compound is an intermetallic compound, an oxide, a nitride or an oxynitride.
【請求項4】 前記金属、合金、又はその化合物が単層
化又は積層化され、これによって前記陽極が構成されて
いる、請求項2に記載の発光素子。
4. The light emitting device according to claim 2, wherein the metal, alloy, or compound thereof is formed into a single layer or laminated to form the anode.
【請求項5】 前記金属、合金、又はその化合物を含む
相と、亜鉛、インジウム又はスズを含む相とが単層化又
は積層化され、これによって前記陽極が構成されてい
る、請求項2に記載の発光素子。
5. The phase according to claim 2, wherein the phase containing the metal, alloy, or a compound thereof and the phase containing zinc, indium, or tin are formed into a single layer or laminated to form the anode. The light emitting device described.
【請求項6】 前記陽極の可視光反射率が50%以下で
ある、請求項1に記載の発光素子。
6. The light emitting device according to claim 1, wherein the visible light reflectance of the anode is 50% or less.
【請求項7】 薄膜トランジスタ基板の上に、前記陽
極、前記発光領域を含む有機又は無機層、及び前記陰極
が積層されている、請求項1に記載の発光素子。
7. The light emitting device according to claim 1, wherein the anode, an organic or inorganic layer including the light emitting region, and the cathode are laminated on a thin film transistor substrate.
【請求項8】 前記有機層が、前記陽極側にホール輸送
層、前記陰極側に電子輸送層を夫々有する、請求項7に
記載の発光素子。
8. The light emitting device according to claim 7, wherein the organic layer has a hole transport layer on the anode side and an electron transport layer on the cathode side.
【請求項9】 前記有機層が、前記陽極と前記ホール輸
送層との間にホール注入層を有する、請求項7に記載の
発光素子。
9. The light emitting device according to claim 7, wherein the organic layer has a hole injection layer between the anode and the hole transport layer.
【請求項10】 前記有機層が、前記ホール輸送層と前
記電子輸送層との間に発光層を有する、請求項7に記載
の発光素子。
10. The light emitting device according to claim 7, wherein the organic layer has a light emitting layer between the hole transport layer and the electron transport layer.
【請求項11】 前記有機層が、前記陰極と前記電子輸
送層との間に電子注入層を有する、請求項7に記載の発
光素子。
11. The light emitting device according to claim 7, wherein the organic layer has an electron injection layer between the cathode and the electron transport layer.
【請求項12】 不透明又は半透明基板の上に、前記陽
極、前記発光領域を含む有機又は無機層、及び前記陰極
が積層されている、請求項1に記載の発光素子。
12. The light emitting device according to claim 1, wherein the anode, the organic or inorganic layer including the light emitting region, and the cathode are laminated on an opaque or semitransparent substrate.
【請求項13】 前記有機層が、前記陽極側にホール輸
送層、前記陰極側に電子輸送層を夫々有する、請求項1
2に記載の発光素子。
13. The organic layer has a hole transport layer on the anode side and an electron transport layer on the cathode side, respectively.
2. The light emitting device according to 2.
【請求項14】 前記有機層が、前記陽極と前記ホール
輸送層との間にホール注入層を有する、請求項12に記
載の発光素子。
14. The light emitting device according to claim 12, wherein the organic layer has a hole injection layer between the anode and the hole transport layer.
【請求項15】 前記有機層が、前記ホール輸送層と前
記電子輸送層との間に発光層を有する、請求項12に記
載の発光素子。
15. The light emitting device according to claim 12, wherein the organic layer has a light emitting layer between the hole transport layer and the electron transport layer.
【請求項16】 前記有機層が、前記陰極と前記電子輸
送層との間に電子注入層を有する、請求項12に記載の
発光素子。
16. The light emitting device according to claim 12, wherein the organic layer has an electron injection layer between the cathode and the electron transport layer.
【請求項17】 透明基板の上に、前記陽極、前記発光
領域を含む有機又は無機層、及び前記陰極が積層されて
いる、請求項1に記載の発光素子。
17. The light emitting device according to claim 1, wherein the anode, the organic or inorganic layer including the light emitting region, and the cathode are laminated on a transparent substrate.
【請求項18】 前記有機層が、前記陽極側にホール輸
送層、前記陰極側に電子輸送層を夫々有する、請求項1
7に記載の発光素子。
18. The organic layer has a hole transport layer on the anode side and an electron transport layer on the cathode side, respectively.
7. The light emitting device according to 7.
【請求項19】 前記有機層が、前記陽極と前記ホール
輸送層との間にホール注入層を有する、請求項17に記
載の発光素子。
19. The light emitting device according to claim 17, wherein the organic layer has a hole injection layer between the anode and the hole transport layer.
【請求項20】 前記有機層が、前記ホール輸送層と前
記電子輸送層との間に発光層を有する、請求項17に記
載の発光素子。
20. The light emitting device according to claim 17, wherein the organic layer has a light emitting layer between the hole transport layer and the electron transport layer.
【請求項21】 前記有機層が、前記陰極と前記電子輸
送層との間に電子注入層を有する、請求項17に記載の
発光素子。
21. The light emitting device according to claim 17, wherein the organic layer has an electron injection layer between the cathode and the electron transport layer.
【請求項22】 請求項1〜21のいずれか1項に記載
された発光素子を用いたディスプレイ又は表示装置、コ
ンピュータ、テレビジョン受像機、ビルボード、スタジ
オ用スクリーン、ファクシミリ、携帯電話、携帯端末、
発光性ネームプレート、乗り物、音響機器又は車載用音
響機器。
22. A display or a display device using the light emitting device according to claim 1, a computer, a television receiver, a billboard, a studio screen, a facsimile, a mobile phone, a mobile terminal. ,
Luminescent nameplates, vehicles, audio equipment or vehicle audio equipment.
【請求項23】 発光領域を含む層が陽極と陰極との間
に設けられた発光素子において、前記陰極の側から発光
光が取出されるようになされ、前記陽極の可視光反射率
が50%以下であることを特徴とする発光素子。
23. In a light emitting device having a layer including a light emitting region provided between an anode and a cathode, emitted light is extracted from the side of the cathode, and the visible light reflectance of the anode is 50%. A light emitting device characterized by the following:
【請求項24】 前記可視光が、380nm〜780n
mの波長を有する、請求項23に記載の発光素子。
24. The visible light is 380 nm to 780 n
24. The light emitting device according to claim 23, having a wavelength of m.
【請求項25】 前記陽極が、周期表のIIIA族、IVA
族、VA族、VIA族、VIIA族、VIII族及びIB族から
選ばれた1種又は2種以上の金属、合金、又はその化合
物を含有する、請求項23に記載の発光素子。
25. The anode is a group IIIA or IVA of the periodic table.
24. The light emitting device according to claim 23, which contains one or more metals, alloys, or compounds thereof selected from Group, VA, VIA, VIIA, VIII and IB.
【請求項26】 前記化合物が金属間化合物、酸化物、
窒化物又は酸窒化物である、請求項25に記載の発光素
子。
26. The compound is an intermetallic compound, an oxide,
The light emitting device according to claim 25, which is a nitride or an oxynitride.
【請求項27】 前記金属、合金、又はその化合物が単
層化又は積層化され、これによって前記陽極が構成され
ている、請求項25に記載の発光素子。
27. The light emitting device according to claim 25, wherein the metal, alloy, or compound thereof is formed into a single layer or laminated to form the anode.
【請求項28】 前記金属、合金、又はその化合物を含
む相と、亜鉛、インジウム又はスズを含む相とが単層化
又は積層化され、これによって前記陽極が構成されてい
る、請求項25に記載の発光素子。
28. The anode according to claim 25, wherein the phase containing the metal, alloy, or compound thereof and the phase containing zinc, indium, or tin are monolayered or laminated to form the anode. The light emitting device described.
【請求項29】 薄膜トランジスタ基板の上に、前記陽
極、前記発光領域を含む有機又は無機層、及び前記陰極
が積層されている、請求項23に記載の発光素子。
29. The light emitting device according to claim 23, wherein the anode, the organic or inorganic layer including the light emitting region, and the cathode are stacked on a thin film transistor substrate.
【請求項30】 前記有機層が、前記陽極側にホール輸
送層、前記陰極側に電子輸送層を夫々有する、請求項2
9に記載の発光素子。
30. The organic layer has a hole transport layer on the anode side and an electron transport layer on the cathode side, respectively.
9. The light emitting device according to item 9.
【請求項31】 前記有機層が、前記陽極と前記ホール
輸送層との間にホール注入層を有する、請求項29に記
載の発光素子。
31. The light emitting device according to claim 29, wherein the organic layer has a hole injection layer between the anode and the hole transport layer.
【請求項32】 前記有機層が、前記ホール輸送層と前
記電子輸送層との間に発光層を有する、請求項29に記
載の発光素子。
32. The light emitting device according to claim 29, wherein the organic layer has a light emitting layer between the hole transport layer and the electron transport layer.
【請求項33】 前記有機層が、前記陰極と前記電子輸
送層との間に電子注入層を有する、請求項29に記載の
発光素子。
33. The light emitting device according to claim 29, wherein the organic layer has an electron injection layer between the cathode and the electron transport layer.
【請求項34】 不透明又は半透明基板の上に、前記陽
極、前記発光領域を含む有機又は無機層、及び前記陰極
が積層されている、請求項23に記載の発光素子。
34. The light emitting device according to claim 23, wherein the anode, the organic or inorganic layer including the light emitting region, and the cathode are laminated on an opaque or semitransparent substrate.
【請求項35】 前記有機層が、前記陽極側にホール輸
送層、前記陰極側に電子輸送層を夫々有する、請求項3
4に記載の発光素子。
35. The organic layer has a hole transport layer on the anode side and an electron transport layer on the cathode side, respectively.
4. The light emitting device according to item 4.
【請求項36】 前記有機層が、前記陽極と前記ホール
輸送層との間にホール注入層を有する、請求項34に記
載の発光素子。
36. The light emitting device according to claim 34, wherein the organic layer has a hole injection layer between the anode and the hole transport layer.
【請求項37】 前記有機層が、前記ホール輸送層と前
記電子輸送層との間に発光層を有する、請求項34に記
載の発光素子。
37. The light emitting device according to claim 34, wherein the organic layer has a light emitting layer between the hole transport layer and the electron transport layer.
【請求項38】 前記有機層が、前記陰極と前記電子輸
送層との間に電子注入層を有する、請求項34に記載の
発光素子。
38. The light emitting device according to claim 34, wherein the organic layer has an electron injection layer between the cathode and the electron transport layer.
【請求項39】 透明基板の上に、前記陽極、前記発光
領域を含む有機又は無機層、及び前記陰極が積層されて
いる、請求項23に記載の発光素子。
39. The light emitting device according to claim 23, wherein the anode, the organic or inorganic layer including the light emitting region, and the cathode are laminated on a transparent substrate.
【請求項40】 前記有機層が、前記陽極側にホール輸
送層、前記陰極側に電子輸送層を夫々有する、請求項3
9に記載の発光素子。
40. The organic layer has a hole transport layer on the anode side and an electron transport layer on the cathode side, respectively.
9. The light emitting device according to item 9.
【請求項41】 前記有機層が、前記陽極と前記ホール
輸送層との間にホール注入層を有する、請求項39に記
載の発光素子。
41. The light emitting device according to claim 39, wherein the organic layer has a hole injection layer between the anode and the hole transport layer.
【請求項42】 前記有機層が、前記ホール輸送層と前
記電子輸送層との間に発光層を有する、請求項39に記
載の発光素子。
42. The light emitting device according to claim 39, wherein the organic layer has a light emitting layer between the hole transport layer and the electron transport layer.
【請求項43】 前記有機層が、前記陰極と前記電子輸
送層との間に電子注入層を有する、請求項39に記載の
発光素子。
43. The light emitting device according to claim 39, wherein the organic layer has an electron injection layer between the cathode and the electron transport layer.
【請求項44】 請求項23〜43のいずれか1項に記
載された発光素子を用いたディスプレイ又は表示装置、
コンピュータ、テレビジョン受像機、ビルボード、スタ
ジオ用スクリーン、ファクシミリ、携帯電話、携帯端
末、発光性ネームプレート、乗り物、音響機器又は車載
用音響機器。
44. A display or display device using the light-emitting element according to claim 23,
Computers, televisions, billboards, studio screens, facsimiles, mobile phones, mobile terminals, luminescent nameplates, vehicles, audio equipment or vehicle audio equipment.
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