EP1857880B1
(en)
|
2003-04-09 |
2015-09-16 |
Nikon Corporation |
Exposure method and apparatus and device manufacturing method
|
JP2005115127A
(ja)
*
|
2003-10-09 |
2005-04-28 |
Nikon Corp |
反射屈折投影光学系、露光装置及び露光方法
|
JP2004333761A
(ja)
*
|
2003-05-06 |
2004-11-25 |
Nikon Corp |
反射屈折型の投影光学系、露光装置、および露光方法
|
US7348575B2
(en)
|
2003-05-06 |
2008-03-25 |
Nikon Corporation |
Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
|
KR101521407B1
(ko)
|
2003-05-06 |
2015-05-18 |
가부시키가이샤 니콘 |
투영 광학계, 노광 장치 및 노광 방법
|
US7085075B2
(en)
|
2003-08-12 |
2006-08-01 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projection objectives including a plurality of mirrors with lenses ahead of mirror M3
|
US8208198B2
(en)
|
2004-01-14 |
2012-06-26 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Catadioptric projection objective
|
TW201834020A
(zh)
|
2003-10-28 |
2018-09-16 |
日商尼康股份有限公司 |
照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
|
TWI519819B
(zh)
|
2003-11-20 |
2016-02-01 |
尼康股份有限公司 |
光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法
|
US7466489B2
(en)
|
2003-12-15 |
2008-12-16 |
Susanne Beder |
Projection objective having a high aperture and a planar end surface
|
JP5102492B2
(ja)
|
2003-12-19 |
2012-12-19 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
結晶素子を有するマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ
|
CN102207609B
(zh)
|
2004-01-14 |
2013-03-20 |
卡尔蔡司Smt有限责任公司 |
反射折射投影物镜
|
US20080151364A1
(en)
|
2004-01-14 |
2008-06-26 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Catadioptric projection objective
|
TWI511182B
(zh)
|
2004-02-06 |
2015-12-01 |
尼康股份有限公司 |
光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
|
WO2005098504A1
(en)
|
2004-04-08 |
2005-10-20 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Imaging system with mirror group
|
US8107162B2
(en)
|
2004-05-17 |
2012-01-31 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Catadioptric projection objective with intermediate images
|
JP4954067B2
(ja)
|
2004-07-14 |
2012-06-13 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
カタディオプトリック投影対物レンズ
|
JP5065031B2
(ja)
|
2004-10-08 |
2012-10-31 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
投影光学系
|
DE102005042005A1
(de)
|
2004-12-23 |
2006-07-06 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Hochaperturiges Objektiv mit obskurierter Pupille
|
CN101713864B
(zh)
*
|
2004-12-23 |
2013-10-30 |
卡尔蔡司Smt有限责任公司 |
具有暗化光瞳的大孔径物镜
|
US7218453B2
(en)
|
2005-02-04 |
2007-05-15 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projection system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus
|
US7324185B2
(en)
|
2005-03-04 |
2008-01-29 |
Asml Netherlands B.V. |
Lithographic apparatus and device manufacturing method
|
JP2006309220A
(ja)
|
2005-04-29 |
2006-11-09 |
Carl Zeiss Smt Ag |
投影対物レンズ
|
US8248577B2
(en)
|
2005-05-03 |
2012-08-21 |
Asml Netherlands B.V. |
Lithographic apparatus and device manufacturing method
|
KR101455551B1
(ko)
*
|
2005-05-12 |
2014-10-27 |
가부시키가이샤 니콘 |
투영 광학계, 노광 장치 및 노광 방법
|
JP2009508150A
(ja)
|
2005-09-13 |
2009-02-26 |
カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー |
マイクロリソグラフィ投影光学系、ある機器を製造するための方法、光学面を設計する方法
|
WO2007093433A1
(de)
|
2006-02-17 |
2007-08-23 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Beleuchtungssystem für die mikro-lithographie, projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen beleuchtungssystem
|
DE102006014380A1
(de)
|
2006-03-27 |
2007-10-11 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage mit negativer Schnittweite der Eintrittspupille
|
US7920338B2
(en)
|
2006-03-28 |
2011-04-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Reduction projection objective and projection exposure apparatus including the same
|
US7738188B2
(en)
|
2006-03-28 |
2010-06-15 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projection objective and projection exposure apparatus including the same
|
DE102007023411A1
(de)
|
2006-12-28 |
2008-07-03 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Optisches Element, Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie mit mindestens einem derartigen optischen Element sowie Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
|
JP5267029B2
(ja)
|
2007-10-12 |
2013-08-21 |
株式会社ニコン |
照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法
|
US8379187B2
(en)
|
2007-10-24 |
2013-02-19 |
Nikon Corporation |
Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
|
US9116346B2
(en)
|
2007-11-06 |
2015-08-25 |
Nikon Corporation |
Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
|
JP2010026526A
(ja)
*
|
2009-10-26 |
2010-02-04 |
Nikon Corp |
反射屈折型の投影光学系、露光装置、および露光方法
|
JP5877965B2
(ja)
*
|
2011-07-04 |
2016-03-08 |
株式会社ニコン |
投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
|
JP5664697B2
(ja)
*
|
2013-05-13 |
2015-02-04 |
株式会社ニコン |
反射屈折型の投影光学系、露光装置、および露光方法
|
JP2014194552A
(ja)
*
|
2014-04-28 |
2014-10-09 |
Nikon Corp |
反射屈折型の投影光学系、露光装置、および露光方法
|
JP6358242B2
(ja)
*
|
2015-11-30 |
2018-07-18 |
株式会社ニコン |
露光装置、露光方法、デバイス製造方法およびパターン形成方法
|