EP3226073A3
(en)
|
2003-04-09 |
2017-10-11 |
Nikon Corporation |
Exposure method and apparatus, and method for fabricating device
|
EP2722703A3
(en)
*
|
2003-05-06 |
2014-07-23 |
Nikon Corporation |
Projection optical system, and exposure apparatus and exposure method
|
JP2005115127A
(ja)
*
|
2003-10-09 |
2005-04-28 |
Nikon Corp |
反射屈折投影光学系、露光装置及び露光方法
|
US7348575B2
(en)
|
2003-05-06 |
2008-03-25 |
Nikon Corporation |
Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
|
JP2004333761A
(ja)
*
|
2003-05-06 |
2004-11-25 |
Nikon Corp |
反射屈折型の投影光学系、露光装置、および露光方法
|
US7085075B2
(en)
|
2003-08-12 |
2006-08-01 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projection objectives including a plurality of mirrors with lenses ahead of mirror M3
|
WO2006005547A1
(en)
|
2004-07-14 |
2006-01-19 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Catadioptric projection objective
|
US8208198B2
(en)
|
2004-01-14 |
2012-06-26 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Catadioptric projection objective
|
TWI457712B
(zh)
|
2003-10-28 |
2014-10-21 |
尼康股份有限公司 |
照明光學裝置、投影曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
|
TWI519819B
(zh)
|
2003-11-20 |
2016-02-01 |
尼康股份有限公司 |
光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法
|
US7466489B2
(en)
|
2003-12-15 |
2008-12-16 |
Susanne Beder |
Projection objective having a high aperture and a planar end surface
|
WO2005059645A2
(en)
|
2003-12-19 |
2005-06-30 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Microlithography projection objective with crystal elements
|
US20080151365A1
(en)
|
2004-01-14 |
2008-06-26 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Catadioptric projection objective
|
CN1910494B
(zh)
|
2004-01-14 |
2011-08-10 |
卡尔蔡司Smt有限责任公司 |
反射折射投影物镜
|
TWI494972B
(zh)
|
2004-02-06 |
2015-08-01 |
尼康股份有限公司 |
偏光變換元件、光學照明裝置、曝光裝置以及曝光方法
|
WO2005098504A1
(en)
|
2004-04-08 |
2005-10-20 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Imaging system with mirror group
|
DE602005003665T2
(de)
|
2004-05-17 |
2008-11-20 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Katadioptrisches projektionsobjektiv mit zwischenbildern
|
CN101061409B
(zh)
|
2004-10-08 |
2011-06-29 |
卡尔蔡司Smt有限责任公司 |
光学投影系统
|
JP5366405B2
(ja)
*
|
2004-12-23 |
2013-12-11 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
遮光瞳を有する高開口率対物光学系
|
DE102005042005A1
(de)
|
2004-12-23 |
2006-07-06 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Hochaperturiges Objektiv mit obskurierter Pupille
|
US7218453B2
(en)
|
2005-02-04 |
2007-05-15 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projection system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus
|
US7324185B2
(en)
|
2005-03-04 |
2008-01-29 |
Asml Netherlands B.V. |
Lithographic apparatus and device manufacturing method
|
JP2006309220A
(ja)
|
2005-04-29 |
2006-11-09 |
Carl Zeiss Smt Ag |
投影対物レンズ
|
US8248577B2
(en)
|
2005-05-03 |
2012-08-21 |
Asml Netherlands B.V. |
Lithographic apparatus and device manufacturing method
|
KR20170089028A
(ko)
|
2005-05-12 |
2017-08-02 |
가부시키가이샤 니콘 |
투영 광학계, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
|
JP2009508150A
(ja)
|
2005-09-13 |
2009-02-26 |
カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー |
マイクロリソグラフィ投影光学系、ある機器を製造するための方法、光学面を設計する方法
|
JP5068271B2
(ja)
|
2006-02-17 |
2012-11-07 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
マイクロリソグラフィ照明システム、及びこの種の照明システムを含む投影露光装置
|
DE102006014380A1
(de)
|
2006-03-27 |
2007-10-11 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage mit negativer Schnittweite der Eintrittspupille
|
US7920338B2
(en)
|
2006-03-28 |
2011-04-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Reduction projection objective and projection exposure apparatus including the same
|
US7738188B2
(en)
|
2006-03-28 |
2010-06-15 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projection objective and projection exposure apparatus including the same
|
DE102007023411A1
(de)
|
2006-12-28 |
2008-07-03 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Optisches Element, Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie mit mindestens einem derartigen optischen Element sowie Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
|
JP5267029B2
(ja)
|
2007-10-12 |
2013-08-21 |
株式会社ニコン |
照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法
|
US8379187B2
(en)
|
2007-10-24 |
2013-02-19 |
Nikon Corporation |
Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
|
US9116346B2
(en)
|
2007-11-06 |
2015-08-25 |
Nikon Corporation |
Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
|
JP2010026526A
(ja)
*
|
2009-10-26 |
2010-02-04 |
Nikon Corp |
反射屈折型の投影光学系、露光装置、および露光方法
|
JP5877965B2
(ja)
*
|
2011-07-04 |
2016-03-08 |
株式会社ニコン |
投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
|
JP5664697B2
(ja)
*
|
2013-05-13 |
2015-02-04 |
株式会社ニコン |
反射屈折型の投影光学系、露光装置、および露光方法
|
JP2014194552A
(ja)
*
|
2014-04-28 |
2014-10-09 |
Nikon Corp |
反射屈折型の投影光学系、露光装置、および露光方法
|
JP6358242B2
(ja)
*
|
2015-11-30 |
2018-07-18 |
株式会社ニコン |
露光装置、露光方法、デバイス製造方法およびパターン形成方法
|