JP2003107735A - Photosensitive material processor - Google Patents

Photosensitive material processor

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JP2003107735A
JP2003107735A JP2001296489A JP2001296489A JP2003107735A JP 2003107735 A JP2003107735 A JP 2003107735A JP 2001296489 A JP2001296489 A JP 2001296489A JP 2001296489 A JP2001296489 A JP 2001296489A JP 2003107735 A JP2003107735 A JP 2003107735A
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JP
Japan
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plate
processing
tank
photosensitive material
liquid
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001296489A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshie Nozawa
良衛 野沢
Hiroyuki Igarashi
浩幸 五十嵐
Hideaki Iijima
秀章 飯島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2001296489A priority Critical patent/JP2003107735A/en
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a processing liquid inside a processing tank from splashing and foaming when the processing liquid squeezed by a carrying roller pair from a photosensitive material carried on the outside of the liquid is dropped from the carrying roller pair. SOLUTION: A washing tank 26 is provided with a storage part 110 storing washing water on the side of a development part 14, an inclined wall 116 is formed on the side of a desensitizing processing part 18 and the washing water supplied to a PS plate 12 is dropped from the carrying roller pair 64 to the inclined wall 116 and then recovered to the storage part 110. Also, in the desensitizing processing part, a gum liquid supplied to the PS plate is dropped from the carrying roller pair 70 to the inclined wall 120 and then recovered to the storage part 112. Thus, the washing water and the gum liquid are surely prevented from splashing and foaming.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、処理液を貯留する
処理槽の液面の上方を搬送する感光材料に、処理槽内の
処理液を供給して処理すると共に、余剰となって感光材
料から落下する処理液を処理槽に回収する処理工程を備
えた感光材料処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention supplies a processing liquid in a processing tank to a photosensitive material which is conveyed above the liquid surface of a processing tank for storing the processing liquid and processes the photosensitive material. The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus having a processing step of collecting a processing liquid falling from the processing tank.

【0002】[0002]

【従来の技術】自動現像装置などの感光材料処理装置で
は、画像露光した感光材料を搬送しながら、この感光材
料を処理液に浸漬したり、感光材料の表面に処理液を吹
き付けるなどして、現像処理等の処理液処理を行なう。
2. Description of the Related Art In a photosensitive material processing apparatus such as an automatic developing apparatus, while conveying an image-exposed photosensitive material, the photosensitive material is immersed in a processing solution, or the processing solution is sprayed on the surface of the photosensitive material. Processing solution processing such as development processing is performed.

【0003】例えば、アルミニウム等の支持体に感光層
を設けた感光材料である感光性平版印刷版(以下「PS
版」と言う)を処理する自動現像装置であるPS版プロ
セッサーでは、PS版を現像液に浸漬して処理する現像
工程に加えて、現像処理の終了したPS版の表裏面に水
洗水を吹き付けて水洗処理する水洗工程、水洗処理した
PS版の表裏面にガム液等の不感脂化処理液を塗布して
不感脂化処理を行なう不感脂化工程等の処理工程が設け
られている。
For example, a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as "PS") which is a photosensitive material in which a photosensitive layer is provided on a support such as aluminum.
In the PS plate processor, which is an automatic developing device for processing a plate, the PS plate is dipped in a developing solution for processing, and washing water is sprayed on the front and back surfaces of the PS plate after the development processing. There are provided a treatment step such as a washing step of performing a washing treatment with water and a desensitization step of applying a desensitizing treatment liquid such as a gum solution to the front and back surfaces of the PS plate subjected to the water washing treatment.

【0004】ところで、このようなPS版プロセッサー
の水洗部や不感脂化処理部では、貯留している処理液の
液面の上方に搬送ローラ対を設けて、この搬送ローラ対
によってPS版を略水平状態から僅かに斜め下向きの範
囲で搬送しながら、スプレーパイプ等の処理液供給手段
を用いて、PS版の表面に処理液を供給するようにして
いる。
By the way, in such a water washing section or desensitizing section of the PS plate processor, a conveying roller pair is provided above the liquid surface of the stored processing liquid, and the PS plate is substantially formed by the conveying roller pair. The processing liquid is supplied to the surface of the PS plate by using a processing liquid supply means such as a spray pipe while being conveyed in a range slightly downward from the horizontal state.

【0005】また、PS版プロセッサーでは、PS版に
供給した後、余剰となった処理液を、処理槽内に回収す
るようにしている。このとき、搬送ローラ対によってP
S版を挟持しながら搬送することにより、PS版の表面
に付着している処理液を絞り余剰となった処理液を絞り
落とすようにしている。
Further, in the PS plate processor, after supplying to the PS plate, the excess processing liquid is collected in the processing tank. At this time, P
By conveying the S plate while sandwiching it, the processing liquid adhering to the surface of the PS plate is squeezed and the excess processing liquid is squeezed out.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、PS版
から絞り落とした処理液を処理槽内に回収するときに、
落下する処理液が、処理槽内の処理液の液面を叩いてし
まうことがある。特に、搬送ローラ対を形成するローラ
の周面に付着した処理液は、下側のローラの下端部から
雫となって処理槽内に落下することにより、処理液の液
面を叩くと、泡立ちや飛散等が生じる。
However, when collecting the processing liquid squeezed from the PS plate in the processing tank,
The falling processing liquid may hit the surface of the processing liquid in the processing tank. In particular, the treatment liquid adhering to the peripheral surfaces of the rollers forming the conveying roller pair becomes a drop from the lower end of the lower roller and drops into the treatment tank. And scattering.

【0007】特にPS版プロセッサーでは、不感脂化処
理に用いられる処理液であるガム液が、ローラから雫と
なって落下して不感脂化処理槽内のガム液の液面を叩く
ことにより、泡立ちが生じたり周囲に飛散してしまう。
Particularly in the PS plate processor, the gum solution, which is a treating solution used for desensitizing treatment, drops as drops from the roller and hits the surface of the gum solution in the desensitizing treatment tank. Foaming occurs and it is scattered around.

【0008】ガム液が飛散して周囲の部品に付着した時
には、清掃等のメンテナンスを行う必要があり、頻繁な
メンテナンスが要求される。また、不感脂化処理槽に貯
留しているガム液に泡立ちが生じると、このガム液によ
って処理したPS版に仕上がり品質の低下を生じさせて
しまうという問題がある。
When the gum solution is scattered and adheres to surrounding parts, it is necessary to perform maintenance such as cleaning, and frequent maintenance is required. Further, when foaming occurs in the gum solution stored in the desensitizing treatment tank, there is a problem that the PS plate treated with this gum solution deteriorates in finish quality.

【0009】本発明は上記事実に鑑みてなされたもので
あり、液外搬送される感光材料に供給した処理液が、ロ
ーラ等から雫となって落下したときに、処理槽内に貯留
している処理液に泡立ちや液跳ね等が発生するのを防止
した感光材料処理装置を提案することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above facts, and when the processing liquid supplied to the photosensitive material conveyed outside the liquid drops as a drop from a roller or the like, the processing liquid is stored in the processing tank. It is an object of the present invention to propose a light-sensitive material processing apparatus which prevents bubbling or liquid splashing in a processing liquid.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、処理槽に貯留している処理液の液面上方の
搬送路に沿って感光材料を搬送しながら、該搬送路に沿
って搬送される前記感光材料の表面に前記処理液を供給
して処理すると共に、余剰となった前記処理液を前記処
理槽内に回収する感光材料処理装置であって、前記処理
槽内の処理液の液面よりも上方に配置されて前記感光材
料を挟持しながら搬送する搬送ローラ対と、前記処理槽
の下部に設けられて前記処理液を貯留する処理液貯留部
と、前記感光材料の搬送方向に沿って前記処理槽の槽壁
から前記搬送ローラ対の下方を通過して前記処理液貯留
部へ向けて傾斜されて前記搬送ローラ対から落下する前
記処理液を受けとめて前記処理液貯留部へ案内する傾斜
壁と、を含むことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides a photosensitive material which is conveyed along a conveying path above a liquid surface of a processing liquid stored in a processing tank while the photosensitive material is being conveyed to the conveying path. A photosensitive material processing apparatus for supplying the processing liquid to the surface of the photosensitive material conveyed along the surface thereof for processing and collecting the excessive processing liquid in the processing tank. A pair of conveying rollers arranged above the liquid surface of the processing liquid to convey the photosensitive material while sandwiching it, a processing liquid storage section provided below the processing tank for storing the processing liquid, and the photosensitive material. The treatment liquid which passes from the tank wall of the treatment tank below the conveyance roller pair along the conveyance direction of the treatment tank, is inclined toward the treatment liquid storage section, and falls from the conveyance roller pair. Including an inclined wall that guides to the storage part And it features.

【0011】この発明によれば、処理槽の下部に処理液
貯留部を設けると共に、処理槽の槽壁から搬送ローラ対
の下方を経て処理液貯留部に達する傾斜壁を、処理液貯
留部側が下方となるように設ける。
According to the present invention, the processing liquid storage section is provided in the lower portion of the processing tank, and the inclined wall reaching the processing liquid storage section from the tank wall of the processing tank via the lower side of the conveying roller pair is disposed on the processing liquid storage section side. It is provided so that it is located below.

【0012】これにより、感光材料に供給した後に、搬
送ローラ対に付着した処理液は、下側のローラから傾斜
壁に落下し、この傾斜壁上を処理液貯留部へ向けて流れ
落ち、ローラから落下する処理液が、直接、処理槽内の
処理液の液面を叩いてしまうのを確実に防止することが
できる。
Thus, after being supplied to the photosensitive material, the processing liquid adhering to the conveying roller pair drops from the lower roller to the inclined wall, flows down on the inclined wall toward the processing liquid storage section, and then from the roller. It is possible to reliably prevent the falling processing liquid from directly hitting the surface of the processing liquid in the processing tank.

【0013】したがって、ローラから雫等となって落下
する処理液が、処理槽内の処理液の液面を叩くことによ
る飛散の発生や泡立ちを確実に防止することができ、飛
散した処理液を除去するための清掃等のメンテナンスの
頻度を少なくでき、また、処理槽内の処理液の泡立ちに
よる感光材料の仕上がり品質の低下を生じさせることが
ない。
Therefore, it is possible to reliably prevent the processing liquid that drops as drops from the rollers from spattering or foaming due to hitting the surface of the processing liquid in the processing tank. The frequency of maintenance such as cleaning for removal can be reduced, and the deterioration of the finished quality of the photosensitive material due to the bubbling of the processing liquid in the processing tank does not occur.

【0014】このような本発明では、処理液貯留部を感
光材料の搬送方向上流部または下流部のいずれか一方に
偏寄して形成したものが好ましいが、搬送方向上流側に
偏寄させて設けたものであることがより好ましい。これ
により、傾斜壁を搬送ローラ対の下方に形成するのが容
易となる。
In the present invention as described above, it is preferable that the processing liquid storage portion is formed at one of the upstream portion and the downstream portion of the photosensitive material in the conveying direction. More preferably, it is provided. This facilitates the formation of the inclined wall below the pair of conveying rollers.

【0015】また、本発明は、傾斜壁が少なくとも搬送
ローラ対の下方に達したものであればよく、搬送ローラ
対によって感光材料から絞り落とされることにより落下
する処理液が受けとめられる位置に達するものであるこ
とがより好ましく、これにより、搬送ローラ対から落下
する処理液のみならず、感光材料から落下する処理液に
よる泡立ちや飛散の発生を防止することができる。
Further, in the present invention, it is sufficient that the inclined wall reaches at least below the conveying roller pair, and reaches a position where the processing liquid dropped by being squeezed from the photosensitive material by the conveying roller pair is received. It is more preferable that the occurrence of bubbling or scattering due to not only the processing liquid falling from the pair of conveying rollers but also the processing liquid falling from the photosensitive material can be prevented.

【0016】また、本発明としては、前記傾斜壁がさら
に前記感光材料の搬送方向と直交する方向の中間部が凸
となるように前記処理槽の前記感光材料の搬送方向の両
側壁側へ向けて傾斜されてもよく、また、前記傾斜壁が
さらに前記感光材料の搬送方向の中間部が凸となるよう
に湾曲されていても良い。さらに本発明では、前記傾斜
壁の上面に凹部及び/又は凸部が形成されているもので
あっても良い。
Further, according to the present invention, the inclined wall is directed toward both side walls of the processing tank in the transport direction of the photosensitive material so that an intermediate portion in a direction orthogonal to the transport direction of the photosensitive material is convex. May be inclined, and the inclined wall may be further curved so that an intermediate portion in the transport direction of the photosensitive material is convex. Further, in the present invention, a concave portion and / or a convex portion may be formed on the upper surface of the inclined wall.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図1には、感光材料処置装置の一
例として適用した印刷版処理装置(以下「PS版プロセ
ッサー10」と言う)の概略構成を示している。このP
S版プロセッサー10は、感光材料として図示しない露
光装置によって画像露光された平版印刷版(以下「PS
版12」と言う)の処理液処理を行う。なお、PS版1
2は、アルミニウム板等の薄肉矩形平板を支持体とし
て、この支持体に感光層を形成している。また、PS版
12としては、光接合層、光重合層及びオーバーコート
層を重ねて感光層を形成し、レーザ光により走査露光さ
れることにより光重合層の画像部の重合反応が促進され
る所謂フォトポリマー版等の適用も可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a schematic configuration of a printing plate processing apparatus (hereinafter referred to as “PS plate processor 10”) applied as an example of a photosensitive material processing apparatus. This P
The S plate processor 10 is a lithographic printing plate (hereinafter referred to as “PS
Plate 12 "). In addition, PS version 1
2 has a thin rectangular flat plate such as an aluminum plate as a support, and a photosensitive layer is formed on the support. In addition, as the PS plate 12, an optical bonding layer, a photopolymerization layer, and an overcoat layer are overlapped to form a photosensitive layer, and scanning exposure with a laser beam accelerates the polymerization reaction of the image portion of the photopolymerization layer. A so-called photopolymer plate or the like can also be applied.

【0018】PS版プロセッサー10は、PS版12を
現像液によって処理するための現像部14と、現像液に
よって処理されたPS版12に水洗水を供給して水洗す
る水洗部16と、水洗後のPS版12に版面保護用のガ
ム液を塗布して不感脂化処理する不感脂化処理部18
と、PS版12を乾燥させる乾燥部20と、が配設され
ている。すなわち、PS版プロセッサー10では、PS
版12の搬送方向(図1の矢印A方向)に沿って、現像
工程、水洗工程、不感脂化処理工程及び乾燥工程が順に
配置されている。
The PS plate processor 10 comprises a developing section 14 for treating the PS plate 12 with a developing solution, a washing section 16 for supplying washing water to the PS plate 12 treated with the developing solution to wash it, and a washing section 16 after washing with water. Desensitization processing section 18 for applying a gum solution for plate surface protection to the PS plate 12 to desensitize the PS plate 12.
And a drying section 20 for drying the PS plate 12 are provided. That is, in the PS version processor 10,
A developing process, a water washing process, a desensitizing process process, and a drying process are sequentially arranged along the transport direction of the plate 12 (the direction of arrow A in FIG. 1).

【0019】PS版プロセッサー10内には、処理タン
ク22が設けられている。この処理タンク22には、処
理槽として現像部14となる位置に現像槽24が形成さ
れ、水洗部16及び不感脂化処理部18となる位置に水
洗槽26及び不感脂化処理槽28が形成されている。ま
た、処理タンク22には、現像槽24の上流側に、挿入
部34となるスペースが設けられ、不感脂化処理槽28
の下流側に、乾燥部20となるスペースが形成されてい
る。
A processing tank 22 is provided in the PS plate processor 10. In the processing tank 22, a developing tank 24 is formed as a processing tank at a position to be the developing section 14, and a washing tank 26 and a desensitizing processing tank 28 are formed at positions to be the water washing section 16 and the desensitizing processing section 18. Has been done. Further, in the processing tank 22, a space serving as an insertion portion 34 is provided on the upstream side of the developing tank 24, and the desensitizing processing tank 28 is provided.
A space to be the drying unit 20 is formed on the downstream side of the.

【0020】処理タンク22を覆う外板パネル30に
は、スリット状の挿入口32が形成され、挿入口32と
現像部14の間が挿入部34となっている。
A slit-shaped insertion opening 32 is formed in the outer panel 30 covering the processing tank 22, and an insertion portion 34 is provided between the insertion opening 32 and the developing portion 14.

【0021】また、PS版プロセッサー10には、処理
タンク22の上部及び乾燥部20の上部を覆うカバー3
6、38が設けられている。挿入口32側のカバー36
は、処理タンク22の挿入部34から水洗部16の上部
を覆い、カバー38は、水洗部16の上部から乾燥部2
0の上部の間を覆うように配置される。
The PS plate processor 10 has a cover 3 for covering the upper part of the processing tank 22 and the upper part of the drying section 20.
6, 38 are provided. Cover 36 on the side of the insertion opening 32
Covers the upper part of the washing part 16 from the insertion part 34 of the treatment tank 22, and the cover 38 covers the drying part 2 from the upper part of the washing part 16.
It is arranged so as to cover a space between the upper parts of 0.

【0022】また、カバー36には、現像部14と水洗
部16との間にPS版12を挿入するためのリエントリ
ー用の挿入口(副挿入口)40が設けられている。その
副挿入口40は、現像部14での処理を除くPS版プロ
セッサー10での処理を行うためときのPS版12の挿
入用となっている。
Further, the cover 36 is provided with an insertion opening (sub-insertion opening) 40 for inserting the PS plate 12 between the developing section 14 and the water washing section 16. The sub-insertion port 40 is for inserting the PS plate 12 when performing the process in the PS plate processor 10 excluding the process in the developing unit 14.

【0023】挿入口32に隣接する挿入部34には、ゴ
ム製の搬送ローラ対42が配設されている。画像が焼付
けられたPS版12は、挿入口32から矢印A方向に沿
って挿入されることにより、搬送ローラ対42の間に送
り込まれる。
At the insertion portion 34 adjacent to the insertion opening 32, a rubber conveying roller pair 42 is arranged. The PS plate 12 on which the image has been printed is inserted between the conveying roller pair 42 by being inserted from the insertion port 32 in the direction of the arrow A.

【0024】搬送ローラ対42は、回転駆動されること
により、このPS版12を挿入口32から引き入れなが
ら、水平方向に対して約15°から31°の範囲の角度
で傾斜させて現像部14へ送り込む。なお、本実施の形
態では、支持体の一方の面に感光層を形成した片面タイ
プのPS版12を用いており、PS版12は、感光層が
上方へ向けられた状態で挿入口32からPS版プロセッ
サー10内へ挿入される。
The conveying roller pair 42 is driven to rotate, so that the PS plate 12 is pulled in from the insertion opening 32, and is inclined at an angle of about 15 ° to 31 ° with respect to the horizontal direction. Send to. In this embodiment, a single-sided PS plate 12 having a photosensitive layer formed on one surface of the support is used, and the PS plate 12 is inserted from the insertion opening 32 with the photosensitive layer facing upward. It is inserted into the PS plate processor 10.

【0025】処理タンク22に形成されている現像槽2
4は、底部中央が下方へ向けて突出された略山形状とな
っており、PS版12の現像処理を行うための現像液を
貯留する。この現像槽24には、PS版12の搬送方向
に沿った下側にガイド板44、46が、底部に沿って配
設されている。また、現像槽24には、上流部(挿入部
34側)、中流部及び下流部(水洗部16側)に、搬送
ローラ対48、50、52が配設されている。
The developing tank 2 formed in the processing tank 22
4 has a substantially mountain shape in which the center of the bottom is projected downward, and stores a developing solution for developing the PS plate 12. In the developing tank 24, guide plates 44 and 46 are arranged on the lower side along the transport direction of the PS plate 12 along the bottom. Further, in the developing tank 24, conveying roller pairs 48, 50 and 52 are arranged at the upstream portion (insertion portion 34 side), the middle portion and the downstream portion (water washing portion 16 side).

【0026】搬送ローラ対42によって挿入口32から
引き入れられたPS版12は、搬送ローラ対48の間へ
送り込まれ、搬送ローラ対48は、このPS版12を現
像槽24内に引き入れる。
The PS plate 12 drawn from the insertion opening 32 by the pair of conveying rollers 42 is fed into the space between the pair of conveying rollers 48, and the pair of conveying rollers 48 draws the PS plate 12 into the developing tank 24.

【0027】ガイド板44は、搬送ローラ対48、50
の間に配置され、搬送ローラ対48によって現像槽24
内に引き入れられるPS版12を、斜め下方へ向けて案
内する。また、ガイド板46は、搬送ローラ対50、5
2の間に配置されて、搬送ローラ対50は、ガイド板4
4によって案内されてくるPS版12を、ガイド板46
へ向けて送りだし、ガイド板46は、このPS版12を
現像槽24の底面に沿って斜め上方へ向けて案内する。
The guide plate 44 includes a pair of conveying rollers 48, 50.
Between the developing roller 24 and the conveying roller pair 48.
The PS plate 12 drawn in is guided obliquely downward. In addition, the guide plate 46 is composed of the conveying roller pairs 50 and 5.
2, the pair of transport rollers 50 are arranged between the guide plates 4 and
The PS plate 12 guided by the guide plate 46
Then, the guide plate 46 guides the PS plate 12 obliquely upward along the bottom surface of the developing tank 24.

【0028】これにより、PS版12は、現像槽24内
を略U字状に案内搬送されながら、現像液に浸漬され
る。
As a result, the PS plate 12 is immersed in the developing solution while being guided and conveyed in the developing tank 24 in a substantially U-shape.

【0029】また、搬送ローラ対52は、例えば外周部
がゴム製のローラによって形成されており、ガイド板4
6によって案内されるPS版12を挟持して現像槽24
から引き出しながら、水洗部16へ送り込む。PS版1
2は、このようにして現像槽24内を搬送されるときに
現像液に浸漬され、露光されることにより不要となる感
光層が除去される。
Further, the conveying roller pair 52 has, for example, an outer peripheral portion formed by a roller made of rubber, and has a guide plate 4
The developing tank 24 with the PS plate 12 guided by 6 interposed therebetween.
While pulling out from, it is sent to the washing section 16. PS version 1
2 is immersed in a developing solution when it is conveyed in the developing tank 24 in this way, and an unnecessary photosensitive layer is removed by being exposed.

【0030】現像槽24内には、ガイド板44、46の
下面側にスプレーパイプ54、56が設けられている。
また、ガイド板44、46のそれぞれには、多数の通液
孔(図示省略)が穿設されている。
In the developing tank 24, spray pipes 54 and 56 are provided on the lower surface side of the guide plates 44 and 46.
Further, a large number of liquid passage holes (not shown) are formed in each of the guide plates 44 and 46.

【0031】スプレーパイプ54、56には、図示しな
いポンプによって吸引した現像槽24内の現像液が供給
されるようになっており、スプレーパイプ54、56か
らこの現像液を噴出する。これにより、現像槽24内の
現像液が攪拌されて、PS版12の均一な処理が可能と
なるようにしている。このとき、ガイド板44、46に
形成さている通液孔からPS版12の搬送路側に現像液
が回りこむことにより、PS版12の迅速な現像処理と
処理ムラの発生を防止するようにしている。
The spray pipes 54, 56 are supplied with the developer in the developing tank 24 sucked by a pump (not shown), and the developer is jetted from the spray pipes 54, 56. As a result, the developer in the developing tank 24 is agitated so that the PS plate 12 can be uniformly processed. At this time, the developing solution circulates from the liquid passage holes formed in the guide plates 44 and 46 to the transport path side of the PS plate 12 to prevent rapid development processing of the PS plate 12 and occurrence of processing unevenness. There is.

【0032】また、現像槽24内には、ガイド板46に
対向してブラシローラ58、搬送ローラ60が設けられ
ている。このブラシローラ58は、現像液に浸漬されな
がらガイド板46上を搬送されるPS版12の表面に毛
材を接触させながら回転することにより、PS版12の
表面をブラッシングして、PS版12の表面からの不要
な感光層の除去を促進している。このとき、搬送ローラ
60は、ブラシローラ58によってブラッシングされる
PS版12が、ガイド板46から浮き上がるのを防止し
ている。
A brush roller 58 and a conveying roller 60 are provided inside the developing tank 24 so as to face the guide plate 46. The brush roller 58 rotates while contacting the surface of the PS plate 12 conveyed on the guide plate 46 with the bristle material while being immersed in the developing solution, thereby brushing the surface of the PS plate 12 to make the PS plate 12 Promotes the removal of unwanted photosensitive layers from the surface of the. At this time, the transport roller 60 prevents the PS plate 12 brushed by the brush roller 58 from rising from the guide plate 46.

【0033】搬送ローラ対52によって現像槽24から
引き出されたPS版12は、この搬送ローラ対52によ
って表面に付着している現像液が絞り落とされながら水
洗部16へ送り込まれる。
The PS plate 12 pulled out from the developing tank 24 by the pair of conveying rollers 52 is sent to the water washing section 16 while the developing solution adhering to the surface thereof is squeezed by the pair of conveying rollers 52.

【0034】水洗部16には、水洗槽26の上方に配設
された搬送ローラ対62、64によってPS版12を略
水平状態で搬送する搬送路が形成されており、PS版1
2は、搬送ローラ対62、64に挟持されて水洗槽26
の上方を水平搬送される。
The washing section 16 is provided with a conveying path for conveying the PS plate 12 in a substantially horizontal state by means of conveying roller pairs 62 and 64 arranged above the washing tank 26.
2 is sandwiched between a pair of conveyance rollers 62 and 64, and the washing tank 26
Is transported horizontally above.

【0035】水洗部16には、搬送ローラ対62、64
の間に、PS版12の搬送路を挟んで上下に対で、スプ
レーパイプ66、68が設けられている。スプレーパイ
プ66、68は軸線方向がPS版12の幅方向(搬送方
向と直交する方向)に沿って配置され、PS版12の搬
送路に対向する複数の吐出孔(図示省略)が、軸線方向
に沿って形成されている。
The washing section 16 has a pair of conveying rollers 62, 64.
In between, spray pipes 66 and 68 are provided in a pair in the vertical direction with the transport path of the PS plate 12 interposed therebetween. The spray pipes 66 and 68 are arranged such that the axial direction is along the width direction of the PS plate 12 (direction orthogonal to the transport direction), and a plurality of discharge holes (not shown) facing the transport path of the PS plate 12 are provided in the axial direction. It is formed along.

【0036】水洗槽26には、水洗水が貯留されてお
り、PS版プロセッサー10では、図示しない給水ポン
プによって、PS版12の搬送に同期させて、スプレー
パイプ66、68に水洗水を供給する。これにより、水
洗水が、スプレーパイプ66、68からPS版12へ向
けて噴出されて、PS版12の表面に付着している現像
液を洗い流す。
The washing water is stored in the washing tank 26, and in the PS plate processor 10, the washing water is supplied to the spray pipes 66 and 68 in synchronization with the conveyance of the PS plate 12 by a water supply pump (not shown). . As a result, washing water is ejected from the spray pipes 66 and 68 toward the PS plate 12, and the developer adhering to the surface of the PS plate 12 is washed away.

【0037】PS版12に供給された水洗水は、PS版
12が搬送ローラ対64に挟持されて送り出されること
により、PS版12表裏面に付着していた現像液と共に
PS版12の表裏面から絞り落とされ、水洗槽26内に
回収される。なお、スプレーパイプ66、68からの水
洗水の噴出方向は、スプレーパイプ66がPS版12の
搬送方向上流側で、スプレーパイプ68がPS版12の
搬送方向下流側としているが、これに限定されず他の方
向であっても良い。また、水洗水の新液は、PS版12
の処理量に応じて図示しない手段によって水洗槽26に
供給される。
The rinsing water supplied to the PS plate 12 is sent out while the PS plate 12 is sandwiched by the conveying roller pair 64, and is sent out together with the developer adhered to the front and back surfaces of the PS plate 12. It is squeezed out from the water and collected in the washing tank 26. Note that the direction of jetting the washing water from the spray pipes 66 and 68 is such that the spray pipe 66 is upstream in the transport direction of the PS plate 12 and the spray pipe 68 is downstream in the transport direction of the PS plate 12, but is not limited to this. Instead, it may be in another direction. In addition, the new liquid for rinsing water is PS version 12
The water is supplied to the washing tank 26 by means not shown according to the treatment amount.

【0038】不感脂化処理部18には、不感脂化処理槽
28の上方に搬送ローラ対70が設けられ、PS版12
は、搬送ローラ対64によって搬送ローラ対70へ向け
て搬送されることにより、不感脂化処理部18内を搬送
された後に、搬送ローラ対70によって挟持されて乾燥
部20へ向けて送られる。
The desensitizing section 18 is provided with a pair of conveying rollers 70 above the desensitizing tank 28, and the PS plate 12 is provided therewith.
After being transported by the transport roller pair 64 toward the transport roller pair 70, it is transported through the desensitization processing unit 18, and then is sandwiched by the transport roller pair 70 and transported toward the drying unit 20.

【0039】不感脂化処理部18には、PS版12の搬
送路の上方側にスプレーパイプ72が設けられ、搬送路
の下方側にスプレーパイプ74が設けられている。スプ
レーパイプ72、74は、長手方向(軸線方向)がPS
版12の幅方向に沿い、PS版12の搬送路を挟んで上
下に配置されている。また、スプレーパイプ72、74
には、PS版12の幅方向に沿って複数の吐出孔が形成
されている。
In the desensitizing section 18, a spray pipe 72 is provided above the transport path of the PS plate 12, and a spray pipe 74 is provided below the transport path. The spray pipes 72, 74 have PS in the longitudinal direction (axial direction).
The PS plates 12 are vertically arranged along the width direction of the plate 12 with the transport path of the PS plate 12 interposed therebetween. Also, spray pipes 72, 74
A plurality of discharge holes are formed along the width direction of the PS plate 12.

【0040】不感脂化処理槽28には、PS版12の版
面保護に用いるガム液が貯留されており、このガム液が
PS版12の搬送に同期してスプレーパイプ72、74
に供給される。スプレーパイプ72は、このガム液をP
S版12へ向けて滴下してPS版12の表面に広げて塗
布する。また、スプレーパイプ74は、吐出孔からPS
版12の裏面へ向けてガム液を吐出して、PS版12の
裏面にガム液を塗布する。
In the desensitizing tank 28, a gum solution used for protecting the plate surface of the PS plate 12 is stored, and this gum solution is synchronized with the transportation of the PS plate 12 and the spray pipes 72, 74.
Is supplied to. The spray pipe 72 uses this gum solution as a P
It is dripped toward the S plate 12 and spread on the surface of the PS plate 12 and applied. In addition, the spray pipe 74 is
The gum solution is discharged toward the back surface of the plate 12 to apply the gum solution to the back surface of the PS plate 12.

【0041】PS版12は、表裏面に塗布されるガム液
によって保護膜が形成される。なお、スプレーパイプ7
2からのガム液の吐出方向は、PS版12の搬送方向下
流側に限らず、他の方向であっても良く、また、整流板
を設け、この整流板へ向けて噴出したガム液を、整流板
でPS版12の幅方向に沿って均一に拡散させながら、
PS版12の表面に流し落として塗布するようにしても
よい。また、スプレーパイプ74に換えて、吐出したガ
ム液にPS版12が接触しながら移動することによりP
S版12の裏面にガム液を塗布する吐出ユニット等を用
いても良い。
The PS plate 12 has protective films formed by the gum solution applied to the front and back surfaces. In addition, spray pipe 7
The discharging direction of the gum liquid from 2 is not limited to the downstream side in the transport direction of the PS plate 12, and may be another direction. Further, a rectifying plate is provided and the gum liquid jetted toward the rectifying plate is While uniformly diffusing along the width direction of the PS plate 12 with the current plate,
The PS plate 12 may be applied by dropping it on the surface. Further, instead of the spray pipe 74, the PS plate 12 moves while being in contact with the discharged gum liquid, so that P
You may use the discharge unit etc. which apply a gum solution to the back surface of S plate 12.

【0042】なお、不感脂化処理部18には、搬送ロー
ラ対70の上方に洗浄スプレー76が設けられ、搬送ロ
ーラ対70の上方のローラに接触しながら回転する洗浄
ローラ78が設けられており、予め設定している所定の
タイミングで、この洗浄スプレー76から搬送ローラ対
70の上方のローラと洗浄ローラ78の接触位置に、整
流板80を介して洗浄水を滴下することにより、洗浄水
を搬送ローラ対70の上方のローラの周面に均一に拡散
させて、搬送ローラ対70の上下のローラの周面からガ
ム液を洗い流し、ローラの周面にガム液が固着してPS
版12を損傷させてしまうのを防止するようにしてい
る。
In the desensitizing section 18, a cleaning spray 76 is provided above the conveying roller pair 70, and a cleaning roller 78 that rotates while contacting the roller above the conveying roller pair 70 is provided. The cleaning water is dropped from the cleaning spray 76 to a contact position between the cleaning roller 78 above the conveying roller pair 70 and the cleaning roller 78 at a predetermined timing set in advance through the straightening plate 80. The gum liquid is evenly dispersed on the peripheral surfaces of the rollers above the conveying roller pair 70 to wash away the gum liquid from the peripheral surfaces of the upper and lower rollers of the conveying roller pair 70, and the gum liquid adheres to the peripheral surfaces of the rollers to cause PS.
The plate 12 is prevented from being damaged.

【0043】不感脂化処理部18でガム液が塗布された
PS版12は、搬送ローラ対70に挟持されて、表裏面
にガム液が若干残った状態で乾燥部20へ送られる。
The PS plate 12 coated with the gum solution in the desensitizing section 18 is nipped by the pair of transport rollers 70 and sent to the drying section 20 with the gum solution remaining on the front and back surfaces.

【0044】PS版プロセッサー10には、不感脂化処
理部18と乾燥部20の間に、仕切り板82が設けられ
ている。この仕切り板82は、PS版12の搬送路の上
方に、処理タンク22の上端と対向するように配置され
ており、これにより、不感脂化処理部18と乾燥部20
の間にスリット状の挿通口84が形成されている。な
お、仕切り板82は、二重構造となっており、これによ
り、挿通口84の乾燥部20側に溝状の通気路が形成さ
れ、乾燥部20内の空気がこの通気路内に入り込むこと
により、乾燥部20内の空気が挿通口84から不感脂化
処理部18内に入り込んでしまうのを防止している。
The PS plate processor 10 is provided with a partition plate 82 between the desensitizing section 18 and the drying section 20. The partition plate 82 is disposed above the transporting path of the PS plate 12 so as to face the upper end of the processing tank 22, whereby the desensitization processing unit 18 and the drying unit 20 are disposed.
A slit-shaped insertion opening 84 is formed between the two. In addition, the partition plate 82 has a double structure, whereby a groove-shaped ventilation passage is formed on the drying portion 20 side of the insertion opening 84, and the air in the drying portion 20 enters into this ventilation passage. This prevents the air in the drying unit 20 from entering the desensitization processing unit 18 through the insertion opening 84.

【0045】乾燥部20内には、挿通口84の近傍に、
PS版12を支持する支持ローラ86が配設され、ま
た、PS版12の搬送方向の中央部及び、排出口88の
近傍には、搬送ローラ対90及び搬送ローラ対92が配
設されている。PS版12は、支持ローラ86及び搬送
ローラ対90、92によって乾燥部20内を搬送され
る。
In the drying section 20, in the vicinity of the insertion opening 84,
A support roller 86 that supports the PS plate 12 is disposed, and a transport roller pair 90 and a transport roller pair 92 are disposed in the central portion of the PS plate 12 in the transport direction and in the vicinity of the discharge port 88. . The PS plate 12 is transported in the drying section 20 by the support roller 86 and the transport roller pair 90, 92.

【0046】支持ローラ86と搬送ローラ対90との
間、及び搬送ローラ対90と搬送ローラ対92との間に
は、PS版12の搬送路を挟んで対でダクト94、96
が配設されている。ダクト94、96は、長手方向がP
S版12の幅方向に沿って配設されており、PS版12
の搬送路に対向する面にスリット孔98が設けられてい
る。
Between the support roller 86 and the conveying roller pair 90 and between the conveying roller pair 90 and the conveying roller pair 92, a pair of ducts 94 and 96 sandwiching the conveying path of the PS plate 12 is provided.
Is provided. The ducts 94 and 96 have a longitudinal direction of P.
The PS plate 12 is arranged along the width direction of the S plate 12.
A slit hole 98 is provided on the surface facing the conveyance path.

【0047】ダクト94、96は、図示しない乾燥風発
生手段によって発生された乾燥風が、長手方向の一端側
から供給されると、この乾燥風をスリット孔98からP
S版12の搬送路へ向けて吐出し、PS版12に吹き付
ける。これにより、PS版12は、表裏面に塗布されて
いるガム液が乾燥され、保護膜が形成される。
When the dry air generated by the dry air generating means (not shown) is supplied to the ducts 94 and 96 from one end side in the longitudinal direction, the dry air is supplied from the slit holes 98 to the slit P.
It is discharged toward the transport path of the S plate 12 and sprayed on the PS plate 12. As a result, the gum solution applied to the front and back surfaces of the PS plate 12 is dried to form a protective film.

【0048】一方、現像部14には、下面が現像槽24
に貯留される現像液の液面より下方となるように遮蔽蓋
100が配置され、現像槽24内の現像液の液面が空気
と接触する面積を狭めている。また、カバー36の副挿
入口(リエントリー用の挿入口)40には、図示しない
遮蔽部材によって閉塞されており、この遮蔽部材によっ
て外気が現像部14内に入り込むのを防止している。さ
らに、遮蔽蓋100は、液面から突出する搬送ローラ対
48、52の上側のローラ等との間が狭められており、
これにより、現像槽24内の現像液が空気中の炭酸ガス
等と接触してしまうことによる劣化を防止するようにし
ている。なお、遮蔽蓋100及び処理タンク22と搬送
ローラ対48、52等の間にシリコンゴム等によって形
成したブレード状の遮蔽部材を設けて、現像槽24内の
現像液が新鮮な外気と接触したり、現像液中の水分が蒸
発してしまうのを防止してもよい。
On the other hand, the lower surface of the developing section 14 is the developing tank 24.
The shielding lid 100 is arranged below the liquid surface of the developer stored in the developing tank 24 to reduce the area where the liquid surface of the developer in the developing tank 24 contacts the air. The sub-insertion port (reentry insertion port) 40 of the cover 36 is closed by a shielding member (not shown), and the shielding member prevents outside air from entering the developing unit 14. Further, the shielding lid 100 is narrowed between the upper side of the conveying roller pair 48, 52 protruding from the liquid surface and the like,
This prevents the developer in the developer tank 24 from being deteriorated due to contact with carbon dioxide gas in the air. A blade-shaped shielding member made of silicon rubber or the like is provided between the shielding lid 100 and the processing tank 22 and the conveying roller pairs 48, 52, etc., so that the developer in the developing tank 24 may come into contact with fresh outside air. It is also possible to prevent the water content in the developer from evaporating.

【0049】ところで、図1及び図2に示すように、水
洗部16の水洗槽26には、PS版12の搬送方向の上
流側である現像槽24側に、水洗水を貯留する貯留部1
10が設けられている。また、不感脂化処理部18の不
感脂化処理槽28には、水洗槽26側に貯留部112が
設けられている。
By the way, as shown in FIGS. 1 and 2, in the water washing tank 26 of the water washing section 16, the storage section 1 for storing the washing water is provided on the developing tank 24 side which is the upstream side in the transport direction of the PS plate 12.
10 are provided. Further, the desensitizing treatment tank 28 of the desensitizing treatment unit 18 is provided with a storage section 112 on the side of the washing tank 26.

【0050】すなわち、水洗槽26では、現像槽24側
に貯留部110を設けることにより水洗水を現像槽24
側に偏寄して貯留し、不感脂化処理槽28では、水洗槽
26側に貯留部112を設けることによりガム液を水洗
槽26側に偏寄して貯留するようにしている。なお、図
2では、PS版プロセッサー10の水洗部16と不感脂
化処理部18の要部を示し、洗浄スプレー76、洗浄ロ
ーラ78等の図示を省略している。
That is, in the rinsing tank 26, the rinsing water is supplied to the developing tank 24 by providing the storage section 110 on the developing tank 24 side.
In the desensitizing tank 28, the gum solution is biased and stored in the washing tank 26 side by providing the storing section 112 on the washing tank 26 side. Note that, in FIG. 2, essential parts of the water washing section 16 and the desensitizing processing section 18 of the PS plate processor 10 are shown, and the illustration of the washing spray 76, the washing roller 78, etc. is omitted.

【0051】また、水洗槽26は、不感脂化処理槽28
側の槽壁114が、上下方向(図1及び図2の紙面上下
方向)の中間部から貯留部110へ向けて傾斜されてお
り、これにより、水洗槽26には、現像槽24側に貯留
部110が設けられ、不感脂化処理槽28側に傾斜壁1
16が設けられている。
The water washing tank 26 is a desensitizing treatment tank 28.
Side tank wall 114 is inclined from an intermediate portion in the vertical direction (vertical direction of the paper surface of FIGS. 1 and 2) toward the storage section 110, whereby the washing tank 26 stores on the developing tank 24 side. Part 110 is provided, and the inclined wall 1 is provided on the side of the desensitizing tank 28.
16 are provided.

【0052】この傾斜壁116は、搬送ローラ対64の
下方を通過して、搬送ローラ対64の上流側に設けてい
るスプレーパイプ68の下方近傍に達しており、その先
が貯留部110となっている。また、傾斜壁116は貯
留部110側が下方となるように傾斜されている。
The inclined wall 116 passes below the conveying roller pair 64 and reaches near the lower portion of the spray pipe 68 provided on the upstream side of the conveying roller pair 64, and the tip thereof becomes the storage section 110. ing. Further, the inclined wall 116 is inclined so that the storage portion 110 side is downward.

【0053】これにより、搬送ローラ対64に付着した
水洗水や、搬送ローラ対64によってPS版12から絞
り落とす水洗水が、傾斜壁116上に落下するようにし
ている。また、傾斜壁116上に落ちた水洗水は、傾斜
壁116上を貯留部110へ流れ落ちて、貯留槽110
内に回収されるようにしている。
As a result, the washing water adhering to the pair of conveying rollers 64 and the washing water squeezed out from the PS plate 12 by the pair of conveying rollers 64 are allowed to drop on the inclined wall 116. Further, the wash water that has fallen on the inclined wall 116 flows down on the inclined wall 116 to the storage section 110, and is stored in the storage tank 110.
I am trying to collect it inside.

【0054】一方、不感脂化処理槽28は、乾燥部20
側の槽壁118が、上下方向の中間部から貯留部112
へ向けて傾斜されており、これにより、不感脂化処理槽
28に貯留部112と傾斜壁120が形成されている。
On the other hand, the desensitizing treatment tank 28 includes the drying section 20.
The tank wall 118 on the side is from the intermediate portion in the vertical direction to the storage portion 112.
The storage section 112 and the inclined wall 120 are formed in the desensitizing treatment tank 28.

【0055】不感脂化処理槽28に設けた傾斜壁120
は、搬送ローラ対70の下方に達しており、その先が貯
留部112となっている。また、傾斜壁120は貯留部
112側が下方となるように傾斜されている。
Inclined wall 120 provided in desensitizing tank 28
Has reached below the conveying roller pair 70, and the storage portion 112 is ahead. In addition, the inclined wall 120 is inclined so that the storage portion 112 side is downward.

【0056】これにより不感脂化処理部18では、搬送
ローラ対70に付着しているガム液が、搬送ローラ対7
0の下側のローラ70Bから傾斜壁120上に落下する
ようになっている。また、傾斜壁120上に落下したガ
ム液は、傾斜壁120上を貯留槽112へ流れ落ちて、
貯留槽112に回収される。
As a result, in the desensitizing section 18, the gum liquid adhering to the conveying roller pair 70 is transferred to the conveying roller pair 7.
The rollers 70B on the lower side of 0 fall onto the inclined wall 120. Further, the gum liquid that has dropped onto the inclined wall 120 flows down onto the inclined wall 120 into the storage tank 112,
It is collected in the storage tank 112.

【0057】また、図2に示すように、傾斜壁116、
120のそれぞれには、上面に多数の突起部122が緊
密に形成されている。突起部122のそれぞれは、略半
球上に形成されており、これらの突起部122は、水洗
水が傾斜壁116上を流れ落ちるときやガム液が傾斜壁
120上を流れ落ちる時の抵抗となると共に、傾斜壁1
16上に落下する水洗水や傾斜壁120上に落下するガ
ム液が、高く跳ねあがってしまうのを抑えている。
As shown in FIG. 2, the inclined walls 116,
A large number of protrusions 122 are tightly formed on the upper surface of each of the 120. Each of the protrusions 122 is formed in a substantially hemispherical shape, and these protrusions 122 serve as resistance when the washing water flows down on the inclined wall 116 and the gum solution flows down on the inclined wall 120. Inclined wall 1
The washing water falling on 16 and the gum solution falling on the inclined wall 120 are prevented from splashing high.

【0058】このように構成されているPS版プロセッ
サー10では、図示しない焼付装置によって露光される
ことにより画像が記録されたPS版12が、挿入口32
から挿入されると、搬送ローラ対42を回転駆動させ
る。これにより、PS版12は、搬送ローラ対42によ
って挟持されて、PS版プロセッサー10内に引き入れ
られる。
In the PS plate processor 10 thus constructed, the PS plate 12 on which an image is recorded by being exposed by a printing device (not shown) is inserted into the insertion port 32.
When it is inserted from, the conveying roller pair 42 is rotationally driven. As a result, the PS plate 12 is nipped by the pair of transport rollers 42 and drawn into the PS plate processor 10.

【0059】なお、PS版プロセッサー10では、挿入
口32の近傍に、挿入口32を通過するPS版12を検
出するセンサが設けられており、このセンサがPS版1
2の挿入を検出することにより、搬送ローラ対42等の
回転駆動を開始するとともに、このセンサによるPS版
12の検出に基づいたタイミングで、水洗部16のスプ
レーパイプ66、68からの水洗水の吐出及び不感脂化
処理部18のスプレーパイプ72、74からのガム液の
吐出を行うようにしている。
In the PS plate processor 10, a sensor for detecting the PS plate 12 passing through the insertion port 32 is provided in the vicinity of the insertion port 32, and this sensor is the PS plate 1
When the insertion of 2 is detected, the rotation drive of the conveying roller pair 42 and the like is started, and at the timing based on the detection of the PS plate 12 by this sensor, the rinsing water from the spray pipes 66, 68 of the rinsing section 16 is detected. The gum liquid is discharged from the spray pipes 72 and 74 of the discharge and desensitization processing unit 18.

【0060】搬送ローラ対42は、挿入口32から引き
入れたPS版12を、水平方向に対して15°〜31°
の範囲の挿入角度で、現像槽24へ送り込む。これによ
り、PS版12は、ガイド板44、46によって案内さ
れながら搬送ローラ対48〜52によって現像槽24内
を搬送されて、現像槽24内に貯留されている現像液に
浸漬され、17°〜31°の範囲の排出角度で、現像液
中から送り出される。
The conveying roller pair 42 has the PS plate 12 drawn in from the insertion port 32, and is 15 ° to 31 ° with respect to the horizontal direction.
It is fed into the developing tank 24 at an insertion angle within the range. As a result, the PS plate 12 is conveyed in the developing tank 24 by the pair of conveying rollers 48 to 52 while being guided by the guide plates 44 and 46, and is immersed in the developing solution stored in the developing tank 24 to be 17 °. It is delivered from within the developer at an ejection angle in the range of ˜31 °.

【0061】PS版12は、現像槽24内で現像液に浸
漬されることにより、露光画像に応じて不要な感光層が
膨潤し、膨潤した感光層が支持体から除去される。この
とき、PS版プロセッサー10では、現像槽24内に配
置しているブラシローラ58によってPS版12の表面
(感光層側の面)がブラッシングされることにより、P
S版12の表面からの不要な感光層の除去を促進するよ
うにしている。
When the PS plate 12 is immersed in the developing solution in the developing tank 24, an unnecessary photosensitive layer swells according to the exposed image, and the swollen photosensitive layer is removed from the support. At this time, in the PS plate processor 10, the surface of the PS plate 12 (the surface on the photosensitive layer side) is brushed by the brush roller 58 arranged in the developing tank 24, so that P
The removal of the unnecessary photosensitive layer from the surface of the S plate 12 is promoted.

【0062】なお、PS版プロセッサー10としては、
複数のブラシローラを用いてPS版12の表面をブラッ
シングするものであってもよく、また、ブラシローラを
用いずにPS版12の処理を行うものであっても良い。
As the PS version processor 10,
The surface of the PS plate 12 may be brushed using a plurality of brush rollers, or the PS plate 12 may be treated without using the brush rollers.

【0063】現像処理が行われて、現像槽24から送り
出されるPS版12は、搬送ローラ対52によって水洗
部16へ送られる。このとき、搬送ローラ対52は、P
S版12の表裏面に付着している現像液を、絞り落と
す。
The PS plate 12 which has been developed and sent out from the developing tank 24 is sent to the washing section 16 by the pair of carrying rollers 52. At this time, the conveying roller pair 52 is set to P
The developer adhering to the front and back surfaces of the S plate 12 is squeezed out.

【0064】水洗部16では、このPS版12を搬送ロ
ーラ対62、64によって挟持して略水平状態で搬送し
ながら、スプレーパイプ66、68から水洗水を噴出す
る。また、PS版12の搬送方向の下流側に配置してい
る搬送ローラ対64は、PS版12の表裏面に供給した
水洗水を、搬送ローラ対52によって絞り切れずに残っ
た現像液とともに絞り落としながら、このPS版12を
不感脂化処理部18へ送り出す。
In the water washing section 16, while the PS plate 12 is nipped by the conveying roller pairs 62 and 64 and conveyed in a substantially horizontal state, washing water is jetted from the spray pipes 66 and 68. The transport roller pair 64 arranged on the downstream side in the transport direction of the PS plate 12 squeezes the wash water supplied to the front and back surfaces of the PS plate 12 together with the developer remaining without being squeezed by the transport roller pair 52. While dropping, the PS plate 12 is sent to the desensitization processing unit 18.

【0065】これにより、PS版12は、水洗部16を
通過するときに、表裏面に残っている現像液が洗い落と
される。
As a result, when the PS plate 12 passes through the water washing section 16, the developer remaining on the front and back surfaces is washed off.

【0066】不感脂化処理部18へ送られたPS版12
は、スプレーパイプ72、74の間を通過し、搬送ロー
ラ対70に挟持されることにより、この搬送ローラ対7
0によって不感脂化処理部18から送り出される。
The PS plate 12 sent to the desensitizing section 18
Passes through between the spray pipes 72 and 74 and is sandwiched by the pair of transport rollers 70, so that the pair of transport rollers 7
0 is sent from the desensitization processing unit 18.

【0067】このとき、不感脂化処理部18では、スプ
レーパイプ66、68からガム液を吐出して、PS版1
2の表裏面にガム液を拡散させながら均一に塗布する。
搬送ローラ対70は、PS版12を挟持搬送して、余剰
となったガム液をPS版12の表裏面から絞り落とすこ
とにより、PS版12の表裏面にガム液の均一な薄膜を
形成する。
At this time, in the desensitizing section 18, the gum solution is discharged from the spray pipes 66 and 68 to make the PS plate 1
The gum solution is uniformly applied to the front and back surfaces of No. 2 while diffusing the gum solution.
The conveying roller pair 70 sandwiches and conveys the PS plate 12, and squeezes the excess gum liquid from the front and back surfaces of the PS plate 12, thereby forming a uniform thin film of gum liquid on the front and back surfaces of the PS plate 12. .

【0068】ガム液が塗布されたPS版12は、搬送ロ
ーラ対70によって挿通口84からから乾燥部20へ送
り込まれる。なお、挿通口84にシャッタを設けている
ときには、PS版12の処理開始のタイミングないしP
S版12が不感脂化処理部18から送り出されるタイミ
ングで、シャッタを作動させて、挿通口84を開放し、
PS版12の非通過時に乾燥部20の乾燥風が不必要に
不感脂化処理部18へ入り込んで、搬送ローラ対70に
ガム液が固着してしまうのを防止すると共に、挿通口8
4から空気が入り込み、現像部14にまで及んで空気中
の炭酸ガスにより現像液が劣化するのを防止したり、現
像液中の水分や水洗水さらにガム液中の水分が蒸発して
挿通口84から出てしまうのを防止している。
The PS plate 12 coated with the gum liquid is sent to the drying section 20 from the insertion opening 84 by the pair of conveying rollers 70. When the insertion opening 84 is provided with a shutter, the timing for starting the processing of the PS plate 12 or P
At the timing when the S plate 12 is sent out from the desensitization processing unit 18, the shutter is operated to open the insertion opening 84,
When the PS plate 12 does not pass through, the drying air of the drying unit 20 unnecessarily enters the desensitization processing unit 18 to prevent the gum solution from sticking to the pair of transport rollers 70, and also the insertion port 8
4 to prevent the deterioration of the developing solution due to carbon dioxide in the air that reaches the developing section 14 and to prevent the developing solution from deteriorating, or the water in the developing solution, the washing water and the water in the gum solution evaporate. It prevents you from getting out of 84.

【0069】乾燥部20では、支持ローラ86及び搬送
ローラ対90、92によってPS版12を搬送しなが
ら、ダクト94、96からこのPS版12の表裏面に乾
燥風を吹き付ける。これにより、PS版12は、表面に
塗布されているガム液による保護膜が形成されて排出口
88から排出される。
In the drying section 20, while the PS plate 12 is being conveyed by the support roller 86 and the pair of conveying rollers 90 and 92, the drying air is blown from the ducts 94 and 96 to the front and back surfaces of the PS plate 12. As a result, the PS plate 12 has a protective film formed by the gum solution applied on the surface and is discharged from the discharge port 88.

【0070】ところで、PS版プロセッサー10の水洗
部16では、搬送ローラ対62、64の間を略水平に搬
送されるPS版12の表裏面へ向けてスプレーパイプ6
6、68から、水洗槽26の貯留部110に貯留してい
る水洗水を噴出し、PS版12の表面に付着している現
像液を洗い落とす。
By the way, in the washing section 16 of the PS plate processor 10, the spray pipe 6 is directed toward the front and back surfaces of the PS plate 12 which is conveyed substantially horizontally between the conveying roller pairs 62 and 64.
The washing water stored in the storage portion 110 of the washing tank 26 is jetted from 6, 68 to wash off the developing solution adhering to the surface of the PS plate 12.

【0071】このとき、PS版12は、スプレーパイプ
66、68から噴出された水洗水が付着した状態で搬送
ローラ対64に挟持される。
At this time, the PS plate 12 is sandwiched by the conveying roller pair 64 in a state where the washing water ejected from the spray pipes 66, 68 is attached.

【0072】これにより、PS版12の上面に付着して
いる水洗水は、搬送ローラ対64の軸線方向であるPS
版12の幅方向に沿って移動し、幅方向の両端部で、搬
送ローラ対64の上下のローラ64A、64Bの間から
落下する。また、PS版12の裏面に付着している水洗
水は、PS版12が搬送ローラ対64に挟持されること
により、搬送ローラ対64の下側のローラ64Bの周面
を伝って落下する。
As a result, the washing water adhering to the upper surface of the PS plate 12 is PS which is in the axial direction of the conveying roller pair 64.
It moves along the width direction of the plate 12 and drops from between the upper and lower rollers 64A and 64B of the conveying roller pair 64 at both ends in the width direction. Further, the washing water adhering to the back surface of the PS plate 12 drops along the peripheral surface of the roller 64B below the conveying roller pair 64 when the PS plate 12 is sandwiched by the conveying roller pair 64.

【0073】一方、水洗槽26には、搬送ローラ対64
の下方に傾斜壁116が形成されており、これにより、
PS版12の表裏面に付着している水洗水は、傾斜壁1
16に落下して、傾斜壁116上を貯留部110へ流れ
落ちることにより、貯留部110内に回収される。
On the other hand, the washing tank 26 has a pair of conveying rollers 64.
An inclined wall 116 is formed below the
The washing water adhering to the front and back surfaces of the PS plate 12 is the inclined wall 1
It is collected in the storage part 110 by falling to 16 and flowing down on the inclined wall 116 to the storage part 110.

【0074】したがって、PS版12に付着している水
洗水が、貯留部110に直接落下して、貯留部110内
に貯留している水洗水の液面を叩いてしまうことがな
く、PS版12から落下した水洗水が水洗槽26に貯留
している水洗水の液面を叩くことによる水洗水の飛散
や、水洗槽26内での泡立ちが生じることがない。
Therefore, the washing water adhering to the PS plate 12 does not drop directly into the storage section 110 and hit the liquid surface of the washing water stored in the storage section 110. The washing water dropped from 12 does not scatter the washing water due to hitting the liquid surface of the washing water stored in the washing tank 26, nor foaming in the washing tank 26.

【0075】また、傾斜壁116には、多数の突起部1
22が形成されており、搬送ローラ対64によって絞り
落とされた水洗水は、半球状に形成されている突起部1
22にあたることより上方への跳ねあがりが抑えられ
る。
The inclined wall 116 has a large number of protrusions 1
22 is formed, and the washing water squeezed by the pair of conveying rollers 64 has a hemispherical shape.
By hitting 22, the upward jump can be suppressed.

【0076】これにより、水洗部16では、水洗水が水
洗槽26の外に飛散することがなく、PS版12プロセ
ッサー10は内部が現像液や溶解している感光層成分な
どが混じった水洗水によって汚れてしまうことがない。
As a result, in the rinsing section 16, the rinsing water does not scatter out of the rinsing tank 26, and the PS plate 12 processor 10 has rinsing water in which the inside is mixed with a developing solution and a dissolved photosensitive layer component. It doesn't get dirty.

【0077】一方、PS版プロセッサー10の不感脂化
処理部18では、水洗部16の搬送ローラ対64と、不
感脂化処理槽28の下流部上方に設けている搬送ローラ
対70によって搬送方向の下流側が僅かに傾斜するよう
にしてPS版12を搬送しながら、スプレーパイプ7
2、74から、不感脂化処理槽28の貯留部112に貯
留しているガム液をPS版12の表裏面に供給する。
On the other hand, in the desensitizing section 18 of the PS plate processor 10, the conveying roller pair 64 of the water washing section 16 and the conveying roller pair 70 provided above the downstream section of the desensitizing tank 28 serve to convey the sheet in the conveying direction. While conveying the PS plate 12 with the downstream side slightly inclined, the spray pipe 7
From 2 and 74, the gum liquid stored in the storage portion 112 of the desensitizing tank 28 is supplied to the front and back surfaces of the PS plate 12.

【0078】これにより、PS版12は、表裏面に均一
にガム液が付着している状態で、搬送ローラ対70に挟
持され、さらに搬送ローラ対70によって不感脂化処理
部18から送り出される。
As a result, the PS plate 12 is sandwiched by the conveying roller pair 70 while the gum liquid is evenly attached to the front and back surfaces, and is further sent out from the desensitizing section 18 by the conveying roller pair 70.

【0079】PS版12に付着したガム液は、PS版1
2が搬送ローラ対70に挟持されることにより、PS版
12の表裏面に薄膜を形成するときに余剰となる分が、
搬送ローラ対70によってPS版12の表裏面から絞り
落とされる。
The gum liquid adhering to the PS plate 12 is the PS liquid 1
Since 2 is sandwiched by the pair of transport rollers 70, the surplus when a thin film is formed on the front and back surfaces of the PS plate 12,
The conveyance roller pair 70 squeezes the PS plate 12 from the front and back surfaces.

【0080】このとき、PS版12の表面のガム液は、
搬送ローラ対70の軸線方向であるPS版12幅方向に
沿って流れ、PS版12の幅方向の端部から搬送ローラ
対70を形成する下側のローラ70Bの周面に付着し
て、このローラ70Bの周面を伝って流れ落ちる。ま
た、PS版12の裏面に付着しているガム液は、下側の
ローラ70Bの周面を伝って流れ落ちる。
At this time, the gum solution on the surface of the PS plate 12 is
This flows along the width direction of the PS plate 12 which is the axial direction of the conveying roller pair 70, and adheres to the peripheral surface of the lower roller 70B forming the conveying roller pair 70 from the end of the PS plate 12 in the width direction. It flows down along the peripheral surface of the roller 70B. The gum solution adhering to the back surface of the PS plate 12 flows down along the peripheral surface of the roller 70B on the lower side.

【0081】一方、不感脂化処理槽28には、搬送ロー
ラ対70の下方に傾斜壁120が設けられており、搬送
ローラ対70の下側のローラ70Bに付着したガム液
は、このローラ70Bの下端から傾斜壁120上に落下
し、傾斜壁120上を貯留部112へ向けて流れ落ち
る。
On the other hand, in the desensitizing tank 28, an inclined wall 120 is provided below the conveying roller pair 70, and the gum liquid adhering to the lower roller 70B of the conveying roller pair 70 is the roller 70B. Falls on the inclined wall 120 from the lower end and flows down on the inclined wall 120 toward the storage section 112.

【0082】したがって、PS版12に付着しているガ
ム液が、貯留部112に直接落下して、貯留部112内
に貯留しているガム液の液面を叩いてしまうことがな
い。また、傾斜壁120には、多数の凸部である突起部
122が形成されており、搬送ローラ対70によって絞
り落とされたガム液は、半球状に形成されている突起部
122にあたることより上方への跳ねあがりが抑えられ
る。
Therefore, the gum solution adhering to the PS plate 12 does not drop directly into the storage section 112 and hit the liquid surface of the gum solution stored in the storage section 112. In addition, a large number of protrusions 122, which are convex portions, are formed on the inclined wall 120, and the gum solution squeezed down by the pair of conveying rollers 70 is above the hemispherical protrusions 122. Bounce up to is suppressed.

【0083】これにより、PS版12から落下したガム
液が不感脂化処理槽28内に貯留しているガム液の液面
を叩くことによるガム液の飛散やガム液の泡立ちを確実
に防止することができ、ガム液がPS版プロセッサー1
0の内部を汚してしまうことがない。
As a result, the scattering of the gum liquid and the foaming of the gum liquid caused by the gum liquid dropped from the PS plate 12 hitting the liquid surface of the gum liquid stored in the desensitizing tank 28 can be surely prevented. Can, gum solution PS version processor 1
The inside of 0 is not polluted.

【0084】また、PS版プロセッサー10では、不感
脂化処理槽28内でのガム液の泡立ちを確実に防止でき
るので、泡だってしまったガム液がPS版12の仕上が
りを損ねてしまうことがない。また、突起部122の代
わりに多数の凹部設けても突起部122と同様の効果を
得ることができる。
Further, in the PS plate processor 10, since the foaming of the gum liquid in the desensitizing tank 28 can be reliably prevented, the foamed gum liquid does not spoil the finish of the PS plate 12. . Further, even if a large number of recesses are provided instead of the protrusions 122, the same effect as that of the protrusions 122 can be obtained.

【0085】なお、以上説明した本実施の形態は、本発
明の構成を限定するものではない。例えば、本実施の形
態では、水洗槽26及び不感脂化処理槽28に傾斜壁1
16、120を形成すると共に、傾斜壁116、120
のそれぞれに突起部122を設けたが、突起部122を
省略して、略平面状の傾斜壁116、120のみとして
も良い。
The embodiment described above does not limit the structure of the present invention. For example, in the present embodiment, the sloping wall 1 is provided in the washing tank 26 and the desensitizing tank 28.
16 and 120, and sloped walls 116 and 120
Although the projection 122 is provided on each of the above, the projection 122 may be omitted and only the substantially planar inclined walls 116 and 120 may be provided.

【0086】また、本実施の形態では、略平面状の傾斜
壁116、120を形成したが、本発明の傾斜壁は、こ
れに限るものではない。例えば図3に示す処理タンク2
2Aでは、貯留部110と槽壁114との間に、上面が
凸状に湾曲された傾斜壁124を形成した水洗槽26A
を設け、貯留部112と槽壁118の間に、上面が凸状
に湾曲された傾斜壁126を形成した不感脂化処理槽2
8Aを設けている。
Further, in this embodiment, the inclined walls 116 and 120 having a substantially flat shape are formed, but the inclined wall of the present invention is not limited to this. For example, the processing tank 2 shown in FIG.
In 2A, the washing tank 26A in which an inclined wall 124 whose upper surface is curved in a convex shape is formed between the storage section 110 and the tank wall 114.
And the desensitizing tank 2 in which an inclined wall 126 having a curved upper surface is formed between the storage section 112 and the tank wall 118.
8A is provided.

【0087】また、図4に示す処理タンク22Bでは、
貯留部110と槽壁114との間に、上面が凹状に湾曲
された傾斜壁128を形成した水洗槽26Bを設け、貯
留部112と槽壁118の間に、上面が凹状に湾曲され
た傾斜壁130を形成した不感脂化処理槽28Bを設け
ている。
Further, in the processing tank 22B shown in FIG.
A washing tank 26B having an inclined wall 128 whose upper surface is curved in a concave shape is provided between the storage section 110 and the tank wall 114, and an inclination whose upper surface is curved in a concave shape is provided between the storage section 112 and the tank wall 118. A desensitizing tank 28B having a wall 130 is provided.

【0088】このように形成した水洗槽26A、26B
や不感脂化処理槽28A、28Bにおいても、傾斜壁1
24〜130のそれぞれが、全体的に貯留部110又は
貯留部112へ向けて傾斜されていることにより、水洗
水やガム液の飛散、泡立ち等が確実に防止される。な
お、傾斜壁124〜130のそれぞれは、突起部122
を設けたものであってもよく、また、突起部122を設
けずに所定の傾斜曲面で形成したものであっても良い。
Washing tanks 26A and 26B thus formed
Also in the desensitizing tanks 28A and 28B, the inclined wall 1
Since each of 24 to 130 is entirely inclined toward the storage part 110 or the storage part 112, the washing water, the scattering of the gum solution, and the bubbling are surely prevented. In addition, each of the inclined walls 124 to 130 has a protrusion 122.
May be provided, or may be formed with a predetermined inclined curved surface without providing the projection 122.

【0089】また、図5に示すように、処理タンク22
Cでは、貯留部110と傾斜壁132によって水洗槽2
6Cが形成され、貯留槽112と傾斜壁134によって
不感脂化処理槽28Cが形成されている。
As shown in FIG. 5, the processing tank 22
In C, the washing tank 2 is formed by the storage section 110 and the inclined wall 132.
6C is formed, and the storage tank 112 and the inclined wall 134 form a desensitization processing tank 28C.

【0090】このとき、傾斜壁132、134は、貯留
部110、112側が下方となるように傾斜されている
と共に、少なくとも幅方向の一端側が低くなるように傾
斜されている。
At this time, the inclined walls 132 and 134 are inclined so that the storage portions 110 and 112 sides are downward, and at least one end side in the width direction is inclined.

【0091】このように形成した水洗槽26C及び不感
脂化処理槽28Cにおいても、水洗水やガム液の飛散、
泡立ちを防止することができる。
Also in the washing tank 26C and the desensitizing treatment tank 28C thus formed, the washing water and the gum solution are scattered,
It is possible to prevent foaming.

【0092】なお、傾斜壁132、134としては、P
S版12の幅方向の中間部より両端部側が低くなるよう
に傾斜してもよく、幅方向の一端側より他端側が低くな
るように傾斜したものであっても良い。また、傾斜壁1
32、134としては、幅方向の中間部が両端部よりも
低くなるように傾斜したものであっても良い。
As the inclined walls 132 and 134, P
The S plate 12 may be inclined so that both end sides are lower than the widthwise middle portion, or may be inclined so that the other end side is lower than one end side in the width direction. Also, the inclined wall 1
32 and 134 may be inclined so that the middle portion in the width direction is lower than both end portions.

【0093】このように、貯留部110、112側への
みでなく幅方向に対しても傾斜した傾斜壁132、13
4を設けることより、傾斜壁132、134に落下した
水洗水やガム液が、水洗槽26Cや不感脂化処理槽28
Cから飛び出してしまうのを確実に防止することができ
る。
As described above, the inclined walls 132 and 13 inclined not only toward the storage portions 110 and 112 but also in the width direction.
By providing 4, the washing water and the gum solution that have fallen on the inclined walls 132 and 134 can be treated by the washing tank 26C and the desensitizing treatment tank 28.
It is possible to reliably prevent jumping out of C.

【0094】さらに、本実施の形態では、PS版12の
搬送方向の上流側に貯留部110、112を設け、下流
側に傾斜壁116、120を形成したが、これに限ら
ず、PS版12の搬送方向の下流側に貯留部を形成する
と共に、PS版12の搬送方向の上流側に、貯留部へ向
けて傾斜した傾斜壁を形成しても良い。このとき、少な
くとも搬送ローラ対64から落下する水洗水や、搬送ロ
ーラ対70から落下するガム液が傾斜壁上に落ちるよう
にすれば良い。
Further, in this embodiment, the storage portions 110 and 112 are provided on the upstream side in the transport direction of the PS plate 12, and the inclined walls 116 and 120 are formed on the downstream side. However, the present invention is not limited to this. The storage part may be formed on the downstream side in the transfer direction, and the inclined wall inclined toward the storage part may be formed on the upstream side in the transfer direction of the PS plate 12. At this time, at least the washing water falling from the conveying roller pair 64 and the gum liquid falling from the conveying roller pair 70 may be dropped onto the inclined wall.

【0095】また、本実施の形態では、感光材料処理装
置としてPS版12を処理するPS版プロセッサー10
を例に説明したが、本発明は、これに限らず、液外に設
けた搬送路に沿って搬送される感光材料に、処理液を供
給しながら処理すると共に、余剰となって落下する処理
液を、搬送路の下方に設けた処理槽に回収する構成を備
えたものであれば、任意の構成の感光材料処理装置に適
用することができる。
In the present embodiment, the PS plate processor 10 for processing the PS plate 12 is used as a photosensitive material processing device.
Although the present invention is not limited to this, the present invention is not limited to this, and a photosensitive material conveyed along a conveyance path provided outside the liquid is processed while supplying the processing liquid, and a process of dropping excessively is also performed. As long as the liquid is collected in the processing tank provided below the transport path, it can be applied to a photosensitive material processing apparatus having any structure.

【0096】[0096]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、感
光材料を液外搬送しながら処理槽に貯留している処理液
を供給して処理するときに、搬送ローラ対によって感光
材料から絞り取った処理液が、搬送ローラ対から落下し
たときに、落下した処理液が処理槽内の処理液の液面を
叩くことによる処理液の泡立ちや飛散が生じるのを確実
に防止することができる。これにより、装置内部の頻繁
なメンテナンスが不要となると共に、泡だった処理液に
よって感光材料の仕上がりが損ねられてしまうのを確実
に防止することができるという優れた効果が得られる。
As described above, according to the present invention, when the processing liquid stored in the processing tank is supplied and processed while the photosensitive material is conveyed outside the liquid, the photosensitive material is squeezed from the photosensitive material by the pair of conveying rollers. When the taken processing liquid drops from the pair of conveying rollers, it is possible to reliably prevent the processing liquid from bubbling or scattering due to the falling processing liquid hitting the surface of the processing liquid in the processing tank. . As a result, it is possible to obtain an excellent effect that frequent maintenance of the inside of the apparatus is unnecessary and it is possible to reliably prevent the finish of the photosensitive material from being damaged by the foamed processing liquid.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本実施の形態に適用したPS版プロセッサーの
概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a PS plate processor applied to the present embodiment.

【図2】本発明を適用した水洗部と不感脂化処理部の要
部を示す概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing essential parts of a water washing section and a desensitizing section to which the present invention is applied.

【図3】本発明の他の適用例となる水洗部を不感脂化処
理のの要部を示す概略構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a main part of a desensitizing process for a water washing section which is another application example of the present invention.

【図4】本発明の他の適用例となる図2及び図3とは異
なる水洗部を不感脂化処理のの要部を示す概略構成図で
ある。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a main part of a desensitizing process of a water washing part different from FIGS. 2 and 3 which is another application example of the present invention.

【図5】本発明の他の適用例となる図2〜図4と異なる
水洗部を不感脂化処理のの要部を示す概略構成図であ
る。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing a main part of a desensitizing process for a water washing part different from FIGS. 2 to 4 which is another application example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 PS版プロセッサー(感光材料処理装置) 12 PS版(感光材料) 14 現像部 16 水洗部 18 不感脂化処理部 22、22A〜22C 処理タンク 26、26A〜26C 水洗槽 28、28A〜28C 不感脂化処理槽 64、70 搬送ローラ対 64A、64B、70A、70B ローラ 66、68、72、74 スプレーパイプ 110、112 貯留部 114、118 槽壁 116、120、124〜134 傾斜壁 122 突起部 10 PS Plate Processor (Photosensitive Material Processing Device) 12 PS plate (photosensitive material) 14 Development Department 16 Washing department 18 Desensitizing section 22, 22A-22C processing tank 26, 26A-26C Washing tank 28, 28A to 28C Desensitizing treatment tank 64, 70 Conveyor roller pair 64A, 64B, 70A, 70B roller 66, 68, 72, 74 Spray pipe 110, 112 Reservoir 114, 118 tank wall 116, 120, 124-134 inclined wall 122 protrusion

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 飯島 秀章 神奈川県南足柄市竹松1250番地 富士機器 工業株式会社内 Fターム(参考) 2H096 AA07 GA17 GA18 GA22 HA02   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Hideaki Iijima             1250 Takematsu, Minamiashigara City, Kanagawa Prefecture Fuji Equipment             Industry Co., Ltd. F term (reference) 2H096 AA07 GA17 GA18 GA22 HA02

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 処理槽に貯留している処理液の液面上方
の搬送路に沿って感光材料を搬送しながら、該搬送路に
沿って搬送される前記感光材料の表面に前記処理液を供
給して処理すると共に、余剰となった前記処理液を前記
処理槽内に回収する感光材料処理装置であって、 前記処理槽内の処理液の液面よりも上方に配置されて前
記感光材料を挟持しながら搬送する搬送ローラ対と、 前記処理槽の下部に設けられて前記処理液を貯留する処
理液貯留部と、 前記感光材料の搬送方向に沿って前記処理槽の槽壁から
前記搬送ローラ対の下方を通過して前記処理液貯留部へ
向けて傾斜されて前記搬送ローラ対から落下する前記処
理液を受けとめて前記処理液貯留部へ案内する傾斜壁
と、 を含むことを特徴とする感光材料処理装置。
1. While transporting a photosensitive material along a transport path above a liquid surface of a processing liquid stored in a processing tank, the processing liquid is transferred onto the surface of the photosensitive material transported along the transport path. A photosensitive material processing device for supplying and processing, and collecting the excess processing liquid in the processing tank, wherein the photosensitive material is disposed above a liquid surface of the processing liquid in the processing tank. A pair of transport rollers for transporting while sandwiching a sheet, a processing liquid storage part provided in the lower part of the processing bath for storing the processing liquid, and the transportation from the bath wall of the processing bath along the transport direction of the photosensitive material. An inclined wall that passes below the roller pair and is inclined toward the processing liquid storage unit and that receives the processing liquid that falls from the transport roller pair and guides the processing liquid to the processing liquid storage unit. Photosensitive material processing device.
【請求項2】 前記傾斜壁がさらに前記感光材料の搬送
方向と直交する方向の中間部が凸となるように前記処理
槽の前記感光材料の搬送方向の両側壁側へ向けて傾斜さ
れていることを特徴とする請求項1に記載の感光材料処
理装置。
2. The inclined wall is further inclined toward both side walls of the processing tank in the conveying direction of the photosensitive material such that an intermediate portion in a direction orthogonal to the conveying direction of the photosensitive material is convex. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記傾斜壁がさらに前記感光材料の搬送
方向の中間部が凸となるように湾曲されていることを特
徴とする請求項1に記載の感光材料処理装置。
3. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein the inclined wall is further curved so that an intermediate portion of the photosensitive material in the conveying direction is convex.
【請求項4】 前記傾斜壁の上面に凹部及び/又は凸部
が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項
3の何れかに記載の感光材料処理装置。
4. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein a concave portion and / or a convex portion is formed on the upper surface of the inclined wall.
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