JP2003107736A - Overflow pipe structure - Google Patents

Overflow pipe structure

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JP2003107736A
JP2003107736A JP2001296490A JP2001296490A JP2003107736A JP 2003107736 A JP2003107736 A JP 2003107736A JP 2001296490 A JP2001296490 A JP 2001296490A JP 2001296490 A JP2001296490 A JP 2001296490A JP 2003107736 A JP2003107736 A JP 2003107736A
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Japan
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plate
processing
elbow
liquid
tank
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Application number
JP2001296490A
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Japanese (ja)
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Yoshie Nozawa
良衛 野沢
Toshihiro Sutani
利広 須谷
Hiroyuki Igarashi
浩幸 五十嵐
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Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a processing liquid from overflowing to be discharged unnecessarily when carrying a photosensitive material on the outside of the liquid and processing it. SOLUTION: For an overflow pipe 110 provided on a washing tank 26, an elbow 120 is attached to an upper part of a pipe part 114 and an end part 124 of the elbow is turned to an almost horizontal direction. At the end of the elbow, an opening surface is turned obliquely downwards and a liquid cutting piece 126 is arranged inside. Thus, when the processing liquid enters from an opening of the end part 124 and is stuck to an inner surface, by a blocking part 130 of the liquid cutting piece blocking an inner upper side of the end, the processing liquid is guided to the opening turned almost downwards and returned into the washing tank and it is prevented from reaching near the upper part of the pipe part.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、処理槽の上方を搬
送される感光材料に処理液を供給して処理すると共に、
感光材料に供給した処理液を処理槽に回収する感光材料
処理装置に係り、処理槽内で余剰となった処理液をオー
バーフローさせて排出するときのオーバーフロー管構造
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention supplies a processing liquid to a photosensitive material conveyed above a processing tank for processing and
The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus that collects a processing liquid supplied to a photosensitive material into a processing tank, and relates to an overflow pipe structure for overflowing and discharging the processing liquid that has become excessive in the processing tank.

【0002】[0002]

【従来の技術】自動現像装置などの感光材料処理装置で
は、画像露光した感光材料を搬送しながら、この感光材
料を処理液に浸漬したり、感光材料の表面に処理液を吹
き付けるなどして、現像処理等の処理液処理を行なう。
2. Description of the Related Art In a photosensitive material processing apparatus such as an automatic developing apparatus, while conveying an image-exposed photosensitive material, the photosensitive material is immersed in a processing solution, or the processing solution is sprayed on the surface of the photosensitive material. Processing solution processing such as development processing is performed.

【0003】アルミニウム等の支持体に感光層を設けた
感光材料である感光性平版印刷版(以下「PS版」と言
う)を処理する自動現像装置であるPS版プロセッサー
では、PS版を現像液に浸漬して処理する現像工程に加
えて、現像処理の終了したPS版の表裏面に水洗水を吹
き付けて水洗処理する水洗工程、水洗処理したPS版の
表裏面にガム液等の不感脂化処理液を塗布して不感脂化
処理を行なう不感脂化工程等の処理工程が設けられてい
る。
In a PS plate processor which is an automatic developing device for processing a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as "PS plate") which is a photosensitive material having a photosensitive layer provided on a support such as aluminum, the PS plate is treated with a developing solution. In addition to the developing process of dipping in water, the washing process of spraying washing water on the front and back surfaces of the PS plate that has undergone development processing, and the desensitization of gum solution etc. on the front and back surfaces of the PS plate that has been washed A processing step such as a desensitization step of applying a processing liquid to perform a desensitization processing is provided.

【0004】このようなPS版プロセッサーの水洗部や
不感脂化処理部では、処理液の液面の上方にPS版の搬
送路を設け、この液外の搬送路に沿ってPS版を搬送し
ながら、このPS版の表裏面に処理液を供給して処理液
処理を行うようにしている。
In the washing section and desensitizing section of such a PS plate processor, a PS plate transport path is provided above the surface of the processing liquid, and the PS plate is transported along the transport path outside the liquid. However, the treatment liquid is supplied to the front and back surfaces of the PS plate to perform the treatment liquid treatment.

【0005】また、このようなPS版プロセッサーの水
洗工程や不感脂化工程においても、従来からPS版の処
理に応じて所定のタイミングで補充液を補充するように
し、余剰となった処理液をオーバーフローさせて排出す
るようにしている。
Also in the washing process and desensitizing process of such a PS plate processor, the replenisher is conventionally replenished at a predetermined timing according to the process of the PS plate, and the excess processing liquid is removed. It overflows and discharges.

【0006】一般に、処理槽内の処理液をオーバーフロ
ーさせて排出するオーバーフロー管は、処理槽の底部か
ら突出させたパイプの先端が、処理槽に貯留する処理液
の液面レベルとなるように設けられ、処理槽内の処理液
の量がこの液面レベルを越えると、オーバーフロー管の
上部開口の周囲から、オーバーフロー管内に処理液が流
れ込むようにしている。
Generally, the overflow pipe for overflowing and discharging the processing liquid in the processing tank is provided so that the tip of the pipe protruding from the bottom of the processing tank is at the liquid level of the processing liquid stored in the processing tank. Therefore, when the amount of the treatment liquid in the treatment tank exceeds the liquid level, the treatment liquid flows into the overflow pipe from around the upper opening of the overflow pipe.

【0007】ところで、液外を搬送するPS版に処理液
を供給し、供給した処理液をPS版やPS版を挟持搬送
する搬送ローラ対から処理槽に落下させるようにした場
合、オーバーフロー管の開口が上方へ向いていると、落
下する処理液がこのオーバーフロー管の開口に直接入り
込んでしまったり、落下した処理液が処理槽内の液面を
叩いてしまうことにより跳ねあがった処理液がオーバー
フロー管に入り込んでしまい、不必要に処理液が排出さ
れてしまうことがある。
By the way, when the processing liquid is supplied to the PS plate which is conveyed outside the liquid, and the supplied processing liquid is dropped from the PS plate or a pair of conveying rollers which sandwich and convey the PS plate into the processing tank, If the opening faces upward, the falling processing liquid will directly enter the opening of this overflow pipe, or the falling processing liquid will hit the liquid surface in the processing tank and the splashed processing liquid will overflow. The processing liquid may get into the tube and be discharged unnecessarily.

【0008】このような処理液の排出を防止するため
に、エルボ等を用いて、オーバーフロー管の開口を横方
向に向けることが考えられる。これにより、感光材料等
から落下する処理液が、直接、オーバーフロー管に入り
込むのを防止することができる。
In order to prevent such discharge of the processing liquid, it is possible to use an elbow or the like to orient the opening of the overflow pipe in the lateral direction. This makes it possible to prevent the processing liquid falling from the photosensitive material or the like from directly entering the overflow pipe.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、単にエ
ルボ等を用いてオーバーフロー管の先端部を横方向に向
けた場合、液外に突出しているエルボの周面に付着した
処理液が、エルボ内部に回り込んだり、跳ねあがった処
理液がエルボの内面に付着してオーバーフロー管内に入
り込んでしまうことがあり、必ずしも処理液の液面レベ
ルに応じた的確なオーバーフローが可能となるものでは
ない。
However, when the tip portion of the overflow pipe is oriented in the lateral direction simply by using an elbow or the like, the treatment liquid adhering to the peripheral surface of the elbow protruding to the outside of the liquid enters the inside of the elbow. The processing liquid that has sneaked or sprung up may adhere to the inner surface of the elbow and enter the overflow pipe, and it is not always possible to exactly overflow according to the liquid level of the processing liquid.

【0010】本発明は上記事実に鑑みてなされたもので
あり、処理槽に貯留している処理液の液面上方を搬送す
る感光材料に処理液を供給しながら処理するときに、処
理液が不必要に排出されるのを防止するオーバーフロー
管構造を提案することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above facts. When the processing liquid is supplied while being supplied to the photosensitive material which is conveyed above the liquid surface of the processing liquid stored in the processing tank, the processing liquid is It is an object to propose an overflow pipe structure that prevents unnecessary discharge.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、感光材料が液外搬送される処理槽に設けら
れて、前記処理槽内に貯留されている処理液が上部開口
から入り込むことにより、その処理液を前記処理槽外に
案内するオーバーフロー管構造であって、前記処理槽の
底部から上方へ突出されて上端部が所定位置で開口さ
れ、この開口に流れ込む前記処理液を前記処理槽外へ案
内するパイプ部と、開口部が形成された一方の端部が略
水平方向に向けられて前記パイプ部の上端部に設けられ
るエルボと、前記エルボの前記一方の端部内側に設けら
れて前記処理内に貯留されている処理液の上に露出して
いる前記エルボの開口部から、飛散した処理液が前記パ
イプ部側に入り込むのを阻止すると共に該処理液を前記
処理槽内に案内する返し手段と、を含むことを特徴とす
る。
In order to achieve the above object, the present invention is provided in a processing tank in which a photosensitive material is conveyed outside the liquid, and the processing liquid stored in the processing tank is discharged from an upper opening. An overflow pipe structure that guides the treatment liquid to the outside of the treatment tank by entering the treatment liquid, is projected upward from the bottom portion of the treatment tank, and the upper end portion is opened at a predetermined position. A pipe part for guiding the outside of the processing tank, an elbow provided at an upper end part of the pipe part with one end portion formed with an opening oriented substantially horizontally, and an inner side of the one end part of the elbow. Is provided in the processing solution stored in the processing chamber, and prevents the scattered processing solution from entering the pipe portion side through the opening of the elbow exposed above the processing solution and treating the processing solution with the processing solution. Guide to the tank Characterized in that it comprises means to, a.

【0012】この発明によれば、パイプ部の上部にエル
ボを設けている。このエルボは、一方の端部が略水平方
向に向けられており、これにより、落下する処理液が、
直接、パイプ部の上部開口に入り込むのを防止してい
る。
According to the present invention, the elbow is provided on the upper portion of the pipe portion. One end of this elbow is oriented in a substantially horizontal direction, so that the processing liquid that falls is
It directly prevents it from entering the upper opening of the pipe section.

【0013】また、エルボには、開口部が形成されてい
る端部に返し手段が設けられ、この返し手段によって開
口部から入り込んで内面に付着した処理液が、パイプ部
の上部開口に達するのを阻止すると共に、処理液を処理
槽内に案内する。
Further, the elbow is provided with a returning means at the end portion where the opening is formed, and the processing liquid entering from the opening and adhering to the inner surface of the elbow reaches the upper opening of the pipe portion. And the treatment liquid is guided into the treatment tank.

【0014】これにより、落下した処理液や液跳ねした
処理液がエルボの周面に付着した後、開口部から内面側
に回り込んでも、パイプ部の上端に達して排出されてし
まうことがなく、不必要に処理液が排出されてしまうの
を確実に防止することができる。
As a result, even if the dropped processing liquid or the splashed processing liquid adheres to the peripheral surface of the elbow and then wraps around from the opening to the inner surface side, it does not reach the upper end of the pipe and be discharged. Therefore, it is possible to reliably prevent the processing liquid from being unnecessarily discharged.

【0015】このような本発明では、前記返し手段とし
て、外周部の所定位置に前記エルボの内面に達する切込
みが設けられて略リング状に形成され、前記切込みが下
方へ向けられて前記エルボの内部に装着される返し部材
を含み、前記エルボの前記一方の端部の下部に前記返し
部材に達する開口を形成していることを特徴とする。
In the present invention as described above, as the return means, a notch reaching the inner surface of the elbow is provided at a predetermined position on the outer peripheral portion and is formed in a substantially ring shape, and the notch is directed downward to form the elbow. It is characterized in that it includes a return member mounted inside, and an opening reaching the return member is formed in a lower portion of the one end of the elbow.

【0016】この発明によれば、エルボの端部に、略下
方へ向けられた開口を形成すると共に、この開口位置に
合わせて返し部材を装着している。
According to this invention, an opening directed substantially downward is formed at the end portion of the elbow, and the return member is attached in accordance with the opening position.

【0017】返し部材は、下側以外が端部の内面を狭め
るようにリング状に形成されているので、内面に付着し
た処理液がパイプ部側に伝わるのを阻止できると共に、
エルボの端部に下方側に向けて形成している開口から、
この処理液を処理槽内に戻すことができる。
Since the return member is formed in a ring shape so as to narrow the inner surface of the end portion except the lower side, it is possible to prevent the processing liquid attached to the inner surface from being transmitted to the pipe portion side.
From the opening formed at the end of the elbow toward the lower side,
This processing liquid can be returned to the processing tank.

【0018】このような返し部材としては、前記エルボ
の前記一方の端部内で、内部開口の上方側を閉塞する閉
塞部を形成していることがより好ましく、処理液が排出
されてしまうのを確実に阻止して処理槽に戻すことがで
きる。
As such a return member, it is more preferable to form a closing portion for closing the upper side of the internal opening in the one end portion of the elbow, so that the processing liquid is prevented from being discharged. It can be reliably blocked and returned to the processing tank.

【0019】また、本発明は、前記パイプ部が、前記処
理槽の前記感光材料の搬送方向と直交する方向である幅
方向の中間部に対向する位置に設けられることが好まし
い。
Further, in the invention, it is preferable that the pipe portion is provided at a position facing an intermediate portion in a width direction which is a direction orthogonal to a transport direction of the photosensitive material in the processing tank.

【0020】感光材料に供給した処理液は、主に感光材
料の幅方向の両端部から落下するので、エルボの近傍に
多量の処理液が落下してしまうことにより、処理液が不
用意にパイプ部に入り込んでしまうのを防止することが
できる。
Since the processing liquid supplied to the photosensitive material mainly falls from both ends in the width direction of the photosensitive material, a large amount of the processing liquid falls near the elbow, so that the processing liquid is carelessly piped. It is possible to prevent it from getting into the section.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図1には、感光材料処置装置の一
例として適用した感光性平版印刷版処理装置(以下「P
S版プロセッサー10」と言う)の概略構成を示してい
る。このPS版プロセッサー10は、感光材料として図
示しない露光装置によって画像露光された感光性平版印
刷版(以下「PS版12」と言う)の処理液処理を行
う。なお、PS版12は、アルミニウム板等の薄肉矩形
平板を支持体として、この支持体に感光層を形成してい
る。なお、PS版12としては、光接合層、光重合層及
びオーバーコート層を重ねて感光層を形成し、レーザ光
により画像の露光がなされることにより光重合層の画像
部の重合反応が促進されるフォトポリマー版等の適用も
可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a photosensitive lithographic printing plate processing apparatus (hereinafter referred to as “P”) applied as an example of a photosensitive material processing apparatus.
S version processor 10 "). The PS plate processor 10 processes a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as "PS plate 12") which is image-wise exposed by an exposure device (not shown) as a photosensitive material. The PS plate 12 has a thin rectangular flat plate such as an aluminum plate as a support, and a photosensitive layer is formed on the support. As the PS plate 12, an optical bonding layer, a photopolymerization layer and an overcoat layer are laminated to form a photosensitive layer, and an image is exposed to a laser beam to accelerate a polymerization reaction of an image portion of the photopolymerization layer. It is also possible to apply a photopolymer plate or the like.

【0022】PS版プロセッサー10は、PS版12を
現像液によって処理するための現像部14と、現像液に
よって処理されたPS版12の水洗水を供給して水洗す
る水洗部16と、水洗後のPS版12に版面保護用のガ
ム液を塗布して不感脂化処理をする不感脂化処理部18
と、PS版12を乾燥させる乾燥部20と、が配設され
ている。すなわち、PS版プロセッサー10では、PS
版12の搬送方向(図1の矢印A方向)方向に沿って、
現像工程、水洗工程、不感脂化処理工程及び乾燥工程が
順に配置されている。
The PS plate processor 10 includes a developing section 14 for treating the PS plate 12 with a developing solution, a washing section 16 for supplying washing water of the PS plate 12 treated with the developing solution with water, and a washing section 16 after washing with water. Desensitization treatment section 18 for desensitizing the PS plate 12 by applying a gum solution for plate surface protection.
And a drying section 20 for drying the PS plate 12 are provided. That is, in the PS version processor 10,
Along the conveying direction of the plate 12 (direction of arrow A in FIG. 1),
A developing process, a water washing process, a desensitizing treatment process, and a drying process are sequentially arranged.

【0023】PS版プロセッサー10内には、処理タン
ク22が設けられている。この処理タンク22には、処
理槽として現像部14となる位置に現像槽24が形成さ
れ、水洗部16及び不感脂化処理部18となる位置に水
洗槽26及び不感脂化処理槽28が形成されている。ま
た、処理タンク22には、現像槽24の上流側に挿入部
34となるスペースが設けられ、不感脂化処理槽28の
下流側に乾燥部20のスペースが設けられている。
A processing tank 22 is provided in the PS plate processor 10. In the processing tank 22, a developing tank 24 is formed as a processing tank at a position to be the developing section 14, and a washing tank 26 and a desensitizing processing tank 28 are formed at positions to be the water washing section 16 and the desensitizing processing section 18. Has been done. Further, in the processing tank 22, a space serving as the insertion portion 34 is provided on the upstream side of the developing tank 24, and a space for the drying portion 20 is provided on the downstream side of the desensitizing processing tank 28.

【0024】処理タンク22を覆う外板パネル30に
は、スリット状の挿入口32が形成され、挿入口32と
現像部14の間に挿入部34が設けられている。
A slit-shaped insertion opening 32 is formed in the outer panel 30 covering the processing tank 22, and an insertion portion 34 is provided between the insertion opening 32 and the developing portion 14.

【0025】PS版プロセッサー10には、処理タンク
22の上部及び乾燥部20の上部を覆うカバー36、3
8が設けられている。挿入口32側のカバー36は、処
理タンク22の挿入部34から水洗部16の上部を覆
い、カバー38は、水洗部16の上部から乾燥部20の
上部の間を覆うように配置される。
The PS plate processor 10 has covers 36 and 3 for covering the upper part of the processing tank 22 and the upper part of the drying part 20.
8 are provided. The cover 36 on the insertion port 32 side is arranged so as to cover the insertion part 34 of the processing tank 22 to the upper part of the water washing part 16, and the cover 38 is arranged so as to cover between the upper part of the water washing part 16 and the upper part of the drying part 20.

【0026】また、カバー36には、現像部14と水洗
部16との間に、現像部14での処理を除くPS版プロ
セッサー10での処理を行うためのPS版12の挿入用
としてリエントリー用の挿入口(副挿入口)40が設け
られている。
Further, the cover 36 is re-entry between the developing section 14 and the water washing section 16 for inserting the PS plate 12 for performing the processing in the PS plate processor 10 except the processing in the developing section 14. An insertion opening (sub-insertion opening) 40 is provided.

【0027】挿入口32に隣接する挿入部34には、ゴ
ム製の搬送ローラ対42が配設されている。画像が焼付
けられたPS版12は、挿入口32から矢印A方向に沿
って挿入されることにより、搬送ローラ対42の間に送
り込まれる。
At the insertion portion 34 adjacent to the insertion opening 32, a rubber conveying roller pair 42 is arranged. The PS plate 12 on which the image has been printed is inserted between the conveying roller pair 42 by being inserted from the insertion port 32 in the direction of the arrow A.

【0028】搬送ローラ対42は、このPS版12を挿
入口32から引き入れながら、水平方向に対して約15
°から31°の範囲の角度で現像部14へ送り込む。な
お、本実施の形態では、支持体の一方の面に感光層を形
成した片面タイプのPS版12を用いており、PS版1
2は、感光層が上方へ向けられた状態で挿入口32から
PS版プロセッサー10内へ挿入される。
The conveying roller pair 42 draws the PS plate 12 through the insertion port 32 and moves about 15 in the horizontal direction.
It is fed to the developing unit 14 at an angle in the range of 30 ° to 31 °. In this embodiment, a single-sided PS plate 12 having a photosensitive layer formed on one surface of the support is used.
2 is inserted into the PS plate processor 10 through the insertion port 32 with the photosensitive layer facing upward.

【0029】処理タンク22に形成されている現像槽2
4は、底部中央が下方へ向けて突出された略山形状とな
っており、PS版12の現像処理を行うための現像液を
貯留する。この現像槽24には、PS版12の搬送方向
に沿った下側にガイド板44、46が、底部に沿って配
設されている。また、現像槽24には、上流部(挿入部
34側)、中流部及び下流部(水洗部16側)に、搬送
ローラ対48、50、52が配設されている。
Developing tank 2 formed in processing tank 22
4 has a substantially mountain shape in which the center of the bottom is projected downward, and stores a developing solution for developing the PS plate 12. In the developing tank 24, guide plates 44 and 46 are arranged on the lower side along the transport direction of the PS plate 12 along the bottom. Further, in the developing tank 24, conveying roller pairs 48, 50 and 52 are arranged at the upstream portion (insertion portion 34 side), the middle portion and the downstream portion (water washing portion 16 side).

【0030】搬送ローラ対42によって挿入口32から
引き入れられたPS版12は、搬送ローラ対48の間へ
送り込まれ、搬送ローラ対48は、このPS版12を現
像槽24内に引き入れて、ガイド板44に沿って送り出
す。ガイド板44は、搬送ローラ対48によって現像槽
24内に引き入れられるPS版12を、斜め下方へ向け
て案内する。
The PS plate 12 drawn in from the insertion port 32 by the conveying roller pair 42 is fed into the space between the conveying roller pairs 48, and the conveying roller pair 48 draws the PS plate 12 into the developing tank 24 and guides it. It is sent out along the plate 44. The guide plate 44 guides the PS plate 12 drawn into the developing tank 24 by the pair of transport rollers 48 in an obliquely downward direction.

【0031】搬送ローラ対50は、ガイド板44に案内
されてくるPS版12を挟持して、ガイド板46に沿っ
て送り出す。また、ガイド板46は、搬送ローラ対50
から送り出されるPS版12を現像槽24の底面に沿っ
て斜め上方へ向けて案内する。
The pair of conveying rollers 50 nip the PS plate 12 guided by the guide plate 44 and send it out along the guide plate 46. In addition, the guide plate 46 includes a pair of transport rollers 50.
The PS plate 12 sent out from is guided obliquely upward along the bottom surface of the developing tank 24.

【0032】また、搬送ローラ対52は、例えば外周部
がゴム製のローラによって形成されており、ガイド板4
6によって案内されるPS版12を挟持して現像槽24
から引き出しながら、水洗部16へ送り込む。
Further, the conveying roller pair 52 has, for example, an outer peripheral portion formed of a roller made of rubber, and the guide plate 4
The developing tank 24 with the PS plate 12 guided by 6 interposed therebetween.
While pulling out from, it is sent to the washing section 16.

【0033】これにより、PS版12は、現像槽24内
を略U字状に案内搬送されながら、現像液に浸漬され、
露光されることにより不要となる感光層が除去される。
As a result, the PS plate 12 is immersed in the developing solution while being guided and conveyed in the developing tank 24 in a substantially U shape.
By exposing, the unnecessary photosensitive layer is removed.

【0034】現像槽24内には、ガイド板44、46の
下面側にスプレーパイプ54、56が設けられている。
また、ガイド板44、46のそれぞれには、多数の通液
孔(図示省略)が穿設されている。
In the developing tank 24, spray pipes 54 and 56 are provided on the lower surface side of the guide plates 44 and 46.
Further, a large number of liquid passage holes (not shown) are formed in each of the guide plates 44 and 46.

【0035】スプレーパイプ54、56には、図示しな
いポンプによって吸引した現像槽24内の現像液が供給
されるようになっており、スプレーパイプ54、56か
らこの現像液を噴出する。これにより、現像槽24内の
現像液が攪拌されて、PS版12の均一な処理が可能と
なるようにしている。このとき、ガイド板44、46に
形成さている通液孔からPS版12の搬送路側に現像液
を回り込ませることにより、PS版12の迅速な現像処
理と処理ムラの発生を防止するようにしている。
The spray pipes 54, 56 are supplied with the developer in the developing tank 24 sucked by a pump (not shown), and the developer is ejected from the spray pipes 54, 56. As a result, the developer in the developing tank 24 is agitated so that the PS plate 12 can be uniformly processed. At this time, by swirling the developing solution into the transport path side of the PS plate 12 through the liquid passage holes formed in the guide plates 44 and 46, it is possible to prevent the rapid development processing of the PS plate 12 and the occurrence of processing unevenness. There is.

【0036】また、現像槽24内には、ガイド板46に
対向してブラシローラ58、搬送ローラ60が設けられ
ている。このブラシローラ58は、現像液に浸漬されな
がらガイド板46上を搬送されるPS版12の表面に毛
材を接触させながら回転することにより、PS版12の
表面をブラッシングして、PS版12の表面からの不要
な感光層の除去を促進している。このとき、搬送ローラ
60は、ブラシローラ58によってブラッシングされる
PS版12が、ガイド板46から浮き上がるのを防止し
ている。
A brush roller 58 and a carrying roller 60 are provided inside the developing tank 24 so as to face the guide plate 46. The brush roller 58 rotates while contacting the surface of the PS plate 12 conveyed on the guide plate 46 with the bristle material while being immersed in the developing solution, thereby brushing the surface of the PS plate 12 to make the PS plate 12 Promotes the removal of unwanted photosensitive layers from the surface of the. At this time, the transport roller 60 prevents the PS plate 12 brushed by the brush roller 58 from rising from the guide plate 46.

【0037】このようにして現像処理されるPS版12
は、搬送ローラ対52によって水洗部16へ送り出され
るときに、表面に付着している現像液が絞り落とされ
る。
The PS plate 12 thus developed
The developing solution adhering to the surface is squeezed out when being sent out to the washing section 16 by the pair of transport rollers 52.

【0038】水洗部16には、水洗槽26の上方に配設
された搬送ローラ対62、64によってPS版12を略
水平状態で搬送する搬送路が形成されており、PS版1
2は、搬送ローラ対62、64に挟持されて水洗槽26
の上方を水平搬送される。
In the washing section 16, a conveying path for conveying the PS plate 12 in a substantially horizontal state is formed by a pair of conveying rollers 62 and 64 arranged above the washing tank 26.
2 is sandwiched between a pair of conveyance rollers 62 and 64, and the washing tank 26
Is transported horizontally above.

【0039】水洗部16には、搬送ローラ対62、64
の間に、PS版12の搬送路を挟んで上下に対で、スプ
レーパイプ66、68が設けられている。スプレーパイ
プ66、68は軸線方向がPS版12の幅方向(搬送方
向と直交する方向)に沿って配置され、PS版12の搬
送路に対向する複数の吐出孔(図示省略)が、軸線方向
に沿って形成されている。
The water washing section 16 has a pair of conveying rollers 62, 64.
In between, spray pipes 66 and 68 are provided in a pair in the vertical direction with the transport path of the PS plate 12 interposed therebetween. The spray pipes 66 and 68 are arranged such that the axial direction is along the width direction of the PS plate 12 (direction orthogonal to the transport direction), and a plurality of discharge holes (not shown) facing the transport path of the PS plate 12 are provided in the axial direction. It is formed along.

【0040】水洗槽26には、水洗水が貯留されてお
り、PS版プロセッサー10では、図示しない給水ポン
プによって、PS版12の搬送に同期させて、スプレー
パイプ66、68に水洗水を供給する。これにより、水
洗水が、スプレーパイプ66、68からPS版12へ向
けて噴出されて、PS版12の表面に付着している現像
液を洗い流す。
The washing water is stored in the washing tank 26, and the PS plate processor 10 supplies the washing water to the spray pipes 66 and 68 in synchronization with the conveyance of the PS plate 12 by a water supply pump (not shown). . As a result, washing water is ejected from the spray pipes 66 and 68 toward the PS plate 12, and the developer adhering to the surface of the PS plate 12 is washed away.

【0041】PS版12に供給された水洗水は、PS版
12が搬送ローラ対64に挟持されて送り出されること
により、PS版12表裏面に付着していた現像液と共に
PS版12の表裏面から絞り落とされ、水洗槽26内に
回収される。なお、スプレーパイプ66、68からの水
洗水の噴出方向は、スプレーパイプ66がPS版12の
搬送方向上流側で、スプレーパイプ68がPS版12の
搬送方向下流側としているが、これに限定されず他の方
向であっても良い。
The rinsing water supplied to the PS plate 12 is sent out while the PS plate 12 is sandwiched by the conveying roller pair 64, and is sent out together with the developer adhering to the front and back surfaces of the PS plate 12. It is squeezed out from the water and collected in the washing tank 26. Note that the direction of jetting the washing water from the spray pipes 66 and 68 is such that the spray pipe 66 is upstream in the transport direction of the PS plate 12 and the spray pipe 68 is downstream in the transport direction of the PS plate 12, but is not limited to this. Instead, it may be in another direction.

【0042】不感脂化処理部18には、不感脂化処理槽
28の上方に搬送ローラ対70が設けられ、PS版12
は、搬送ローラ対64によって搬送ローラ対70へ向け
て搬送されることにより、不感脂化処理部18内を搬送
された後に、搬送ローラ対70によって挟持されて乾燥
部20へ向けて送られる。
The desensitizing section 18 is provided with a pair of conveying rollers 70 above the desensitizing tank 28, and the PS plate 12 is provided therewith.
After being transported by the transport roller pair 64 toward the transport roller pair 70, it is transported through the desensitization processing unit 18, and then is sandwiched by the transport roller pair 70 and transported toward the drying unit 20.

【0043】不感脂化処理部18には、PS版12の搬
送路の上方側にスプレーパイプ72が設けられ、搬送路
の下方側にスプレーパイプ74が設けられている。スプ
レーパイプ72、74は、長手方向(軸線方向)がPS
版12の幅方向に沿い、PS版12の搬送路を挟んで上
下に配置されている。また、スプレーパイプ72、74
には、PS版12の幅方向に沿って複数の吐出孔が形成
されている。
In the desensitizing section 18, a spray pipe 72 is provided above the transport path of the PS plate 12, and a spray pipe 74 is provided below the transport path. The spray pipes 72, 74 have PS in the longitudinal direction (axial direction).
The PS plates 12 are vertically arranged along the width direction of the plate 12 with the transport path of the PS plate 12 interposed therebetween. Also, spray pipes 72, 74
A plurality of discharge holes are formed along the width direction of the PS plate 12.

【0044】不感脂化処理槽28には、PS版12の版
面保護に用いるガム液が貯留されており、このガム液が
PS版12の搬送に同期してスプレーパイプ72、74
に供給される。スプレーパイプ72は、このガム液をP
S版12へ向けて滴下してPS版12の表面に広げて塗
布する。また、スプレーパイプ74は、吐出孔からPS
版12の裏面へ向けてガム液を吐出して、PS版12の
裏面にガム液を塗布する。
The desensitizing tank 28 stores a gum solution used for protecting the plate surface of the PS plate 12, and the gum solution is sprayed in synchronization with the transfer of the PS plate 12 to the spray pipes 72, 74.
Is supplied to. The spray pipe 72 uses this gum solution as a P
It is dripped toward the S plate 12 and spread on the surface of the PS plate 12 and applied. In addition, the spray pipe 74 is
The gum solution is discharged toward the back surface of the plate 12 to apply the gum solution to the back surface of the PS plate 12.

【0045】PS版12は、表裏面に塗布されるガム液
によって保護膜が形成される。なお、スプレーパイプ7
2からのガム液の吐出方向は、PS版12の搬送方向下
流側に限らず、他の方向であっても良く、また、整流板
を設け、この整流板へ向けて噴出したガム液を、整流板
でPS版12の幅方向に沿って均一に拡散させながら、
PS版12の表面に流し落として塗布するようにしても
よい。また、スプレーパイプ74に換えて、吐出したガ
ム液にPS版12が接触しながら移動することによりP
S版12の裏面にガム液を塗布する吐出ユニット等を用
いても良い。
The PS plate 12 has a protective film formed by the gum solution applied to the front and back surfaces. In addition, spray pipe 7
The discharging direction of the gum liquid from 2 is not limited to the downstream side in the transport direction of the PS plate 12, and may be another direction. Further, a rectifying plate is provided and the gum liquid jetted toward the rectifying plate is While uniformly diffusing along the width direction of the PS plate 12 with the current plate,
The PS plate 12 may be applied by dropping it on the surface. Further, instead of the spray pipe 74, the PS plate 12 moves while being in contact with the discharged gum liquid, so that P
You may use the discharge unit etc. which apply a gum solution to the back surface of S plate 12.

【0046】なお、不感脂化処理部18には、搬送ロー
ラ対70の上方に洗浄スプレー76が設けられ、搬送ロ
ーラ対70の上方のローラに接触しながら回転する洗浄
ローラ78が設けられており、予め設定している所定の
タイミングで、この洗浄スプレー76から搬送ローラ対
70の上方のローラと洗浄ローラ78の接触位置に、整
流板80を介して洗浄水を滴下することにより、洗浄水
を搬送ローラ対70の上方のローラの周面に均一に拡散
させて、搬送ローラ対70の上下のローラの周面からガ
ム液を洗い流し、ローラの周面にガム液が固着してPS
版12を損傷させてしまうのを防止するようにしてい
る。
In the desensitizing section 18, a cleaning spray 76 is provided above the conveying roller pair 70, and a cleaning roller 78 that rotates while contacting the roller above the conveying roller pair 70 is provided. The cleaning water is dropped from the cleaning spray 76 to a contact position between the cleaning roller 78 above the conveying roller pair 70 and the cleaning roller 78 at a predetermined timing set in advance through the straightening plate 80. The gum liquid is evenly dispersed on the peripheral surfaces of the rollers above the conveying roller pair 70 to wash away the gum liquid from the peripheral surfaces of the upper and lower rollers of the conveying roller pair 70, and the gum liquid adheres to the peripheral surfaces of the rollers to cause PS.
The plate 12 is prevented from being damaged.

【0047】不感脂化処理部18でガム液が塗布された
PS版12は、搬送ローラ対70に挟持されて、表裏面
にガム液が若干残った状態で乾燥部20へ送られる。こ
のとき、余剰となるガム液が搬送ローラ対70によって
PS版12の表裏面から絞り落とされて不感脂化処理槽
28内に回収される。
The PS plate 12 coated with the gum solution in the desensitizing section 18 is sandwiched by the pair of transport rollers 70 and sent to the drying section 20 with the gum solution slightly remaining on the front and back surfaces. At this time, the excess gum solution is squeezed from the front and back surfaces of the PS plate 12 by the pair of conveying rollers 70 and is collected in the desensitizing tank 28.

【0048】PS版プロセッサー10には、不感脂化処
理部18と乾燥部20の間に、仕切り板82が設けられ
ている。この仕切り板82は、PS版12の搬送路の上
方に、処理タンク22の上端と対向するように配置され
ており、これにより、不感脂化処理部18と乾燥部20
の間にスリット状の挿通口84が形成されている。な
お、仕切り板82は、二重構造となっており、これによ
り、挿通口84の乾燥部20側に溝状の通気路が形成さ
れ、乾燥部20内の空気がこの通気路内に入り込むこと
により、乾燥部20内の空気が挿通口84から不感脂化
処理部18内に入り込んでしまうのを防止している。
The PS plate processor 10 is provided with a partition plate 82 between the desensitizing section 18 and the drying section 20. The partition plate 82 is disposed above the transporting path of the PS plate 12 so as to face the upper end of the processing tank 22, whereby the desensitization processing unit 18 and the drying unit 20 are disposed.
A slit-shaped insertion opening 84 is formed between the two. In addition, the partition plate 82 has a double structure, whereby a groove-shaped ventilation passage is formed on the drying portion 20 side of the insertion opening 84, and the air in the drying portion 20 enters into this ventilation passage. This prevents the air in the drying unit 20 from entering the desensitization processing unit 18 through the insertion opening 84.

【0049】乾燥部20内には、挿通口84の近傍に、
PS版12を支持する支持ローラ86が配設され、ま
た、PS版12の搬送方向の中央部及び、排出口88の
近傍には、搬送ローラ対90及び搬送ローラ対92が配
設されている。PS版12は、支持ローラ86及び搬送
ローラ対90、92によって乾燥部20内を搬送され
る。
In the drying section 20, in the vicinity of the insertion opening 84,
A support roller 86 that supports the PS plate 12 is disposed, and a transport roller pair 90 and a transport roller pair 92 are disposed in the central portion of the PS plate 12 in the transport direction and in the vicinity of the discharge port 88. . The PS plate 12 is transported in the drying section 20 by the support roller 86 and the transport roller pair 90, 92.

【0050】支持ローラ86と搬送ローラ対90との
間、及び搬送ローラ対90と搬送ローラ対92との間に
は、PS版12の搬送路を挟んで対でダクト94、96
が配設されている。ダクト94、96は、長手方向がP
S版12の幅方向に沿って配設されており、PS版12
の搬送路に対向する面にスリット孔98が設けられてい
る。
Between the support roller 86 and the conveying roller pair 90 and between the conveying roller pair 90 and the conveying roller pair 92, a pair of ducts 94 and 96 sandwiching the conveying path of the PS plate 12 is provided.
Is provided. The ducts 94 and 96 have a longitudinal direction of P.
The PS plate 12 is arranged along the width direction of the S plate 12.
A slit hole 98 is provided on the surface facing the conveyance path.

【0051】ダクト94、96は、図示しない乾燥風発
生手段によって発生された乾燥風が、長手方向の一端側
から供給されると、この乾燥風をスリット孔98からP
S版12の搬送路へ向けて吐出し、PS版12に吹き付
ける。これにより、PS版12は、表裏面に塗布されて
いるガム液が乾燥され、保護膜が形成される。
When the dry air generated by the dry air generating means (not shown) is supplied to the ducts 94 and 96 from one end side in the longitudinal direction, the dry air is supplied from the slit holes 98 to the slit P.
It is discharged toward the transport path of the S plate 12 and sprayed on the PS plate 12. As a result, the gum solution applied to the front and back surfaces of the PS plate 12 is dried to form a protective film.

【0052】一方、現像部14には、下面が現像槽24
に貯留される現像液の液面より下方となるように遮蔽蓋
100が配置され、現像槽24内の現像液の液面が空気
と接触する面積を狭めている。また、カバー36の副挿
入口(リエントリー用の挿入口)40には、図示しない
遮蔽部材によって閉塞されており、この遮蔽部材によっ
て外気が現像部14内に入り込むのを防止している。さ
らに、遮蔽蓋100は、液面から突出する搬送ローラ対
48、52の上側のローラ等との間が狭められており、
これにより、現像槽24内の現像液が空気中の炭酸ガス
等と接触してしまうことによる劣化を防止するようにし
ている。なお、遮蔽蓋100及び処理タンク22と搬送
ローラ対48、52等の間にシリコンゴム等によって形
成したブレード状の遮蔽部材を設けて、現像槽24内の
現像液が新鮮な外気と接触したり、現像液中の水分が蒸
発してしまうのを防止してもよい。
On the other hand, the lower surface of the developing section 14 is the developing tank 24.
The shielding lid 100 is arranged below the liquid surface of the developer stored in the developing tank 24 to reduce the area where the liquid surface of the developer in the developing tank 24 contacts the air. The sub-insertion port (reentry insertion port) 40 of the cover 36 is closed by a shielding member (not shown), and the shielding member prevents outside air from entering the developing unit 14. Further, the shielding lid 100 is narrowed between the upper side of the conveying roller pair 48, 52 protruding from the liquid surface and the like,
This prevents the developer in the developer tank 24 from being deteriorated due to contact with carbon dioxide gas in the air. A blade-shaped shielding member made of silicon rubber or the like is provided between the shielding lid 100 and the processing tank 22 and the conveying roller pairs 48, 52, etc., so that the developer in the developing tank 24 may come into contact with fresh outside air. It is also possible to prevent the water content in the developer from evaporating.

【0053】ところで、PS版プロセッサー10では、
PS版12の処理量及び経過時間によって現像槽24内
に現像液の補充を行う。また、PS版プロセッサー10
では、PS版12の処理量に応じて、水洗槽26内に水
洗水の新液となる水を補充すると共に、不感脂化処理槽
28にガム液の補充液を補充する。
By the way, in the PS version processor 10,
The developer is replenished in the developing tank 24 depending on the processing amount of the PS plate 12 and the elapsed time. In addition, PS version processor 10
Then, depending on the amount of the PS plate 12 to be treated, the washing bath 26 is replenished with water serving as a new washing water solution, and the desensitizing treatment bath 28 is replenished with a gum solution replenishing solution.

【0054】また、PS版プロセッサー10では、補充
液を補充することにより余剰となった処理液(現像液、
水洗水及びガム液)をオーバーフローさせて排出するよ
うにしている。なお、補充液の補充機構及び補充タイミ
ングは、従来公知の一般的機構を用いることができ、本
実施の形態では詳細な説明を省略する。
Further, in the PS plate processor 10, the excess processing liquid (developing solution,
The washing water and gum solution) are overflowed and discharged. As the replenishing mechanism and the replenishing timing of the replenishing liquid, a conventionally known general mechanism can be used, and detailed description thereof is omitted in the present embodiment.

【0055】一方、図2及び図3に示すように、PS版
12を液外搬送しながら処理する水洗槽26及び不感脂
化処理槽28には、本発明を適用したオーバーフロー管
110、112が設けられている。
On the other hand, as shown in FIG. 2 and FIG. 3, overflow pipes 110 and 112 to which the present invention is applied are provided in the washing tank 26 and the desensitizing tank 28 for treating the PS plate 12 while conveying it outside the liquid. It is provided.

【0056】ここで、図面を参照しながら水洗槽26か
ら水洗水をオーバーフローさせるオーバーフロー管11
0及び、不感脂化処理槽28からガム液をオーバーフロ
ーさせるオーバーフロー管112を説明する。なお、水
洗槽26に設けているオーバーフロー管110と不感脂
化処理槽28に設けているオーバーフロー管112と
は、基本的構造が同じであり、以下では、主に水洗槽2
6に設けているオーバーフロー管110を例に説明し、
不感脂化処理槽28に設けているオーバーフロー管11
2の説明を省略する。
An overflow pipe 11 for overflowing the washing water from the washing tank 26 with reference to the drawings.
0 and the overflow pipe 112 for overflowing the gum solution from the desensitizing tank 28 will be described. The overflow pipe 110 provided in the washing tank 26 and the overflow pipe 112 provided in the desensitizing treatment tank 28 have the same basic structure.
The overflow pipe 110 provided in 6 will be described as an example,
Overflow pipe 11 provided in desensitizing tank 28
The description of 2 is omitted.

【0057】図5に示すように、オーバーフロー管11
0は、処理タンク22に形成される水洗槽26の底部か
ら突出されているパイプ部114を備えている。また、
処理タンク22の下面側には、パイプ部114と同軸的
にパイプ部116が突設されており、パイプ部114、
116が互いに連通されている。
As shown in FIG. 5, the overflow pipe 11
No. 0 is equipped with a pipe portion 114 protruding from the bottom portion of the washing tank 26 formed in the processing tank 22. Also,
On the lower surface side of the processing tank 22, a pipe portion 116 is provided so as to project coaxially with the pipe portion 114.
116 are in communication with each other.

【0058】このパイプ部116には、配管118が接
続されるようになっている。このパイプ部116に接続
される配管118は、PS版プロセッサー10から排出
される水洗水等の処理液を廃液として貯留する廃液タン
ク(図示省略)に接続されており、これにより、水洗槽
26内の水洗水がパイプ部114に入り込むことによ
り、廃液タンクに排出される。
A pipe 118 is connected to the pipe section 116. A pipe 118 connected to the pipe portion 116 is connected to a waste liquid tank (not shown) that stores a treatment liquid such as washing water discharged from the PS plate processor 10 as a waste liquid, whereby the inside of the washing tank 26 is The washing water of the above enters the pipe portion 114 and is discharged to the waste liquid tank.

【0059】また、このパイプ部114の上端は、開口
面が略水平となるように上方へ向けられて開口されてい
る。また、このパイプ部114は、上端が、水洗槽26
内に最大量の水洗水を貯留したときに、この水洗水の液
面レベル(図5で二点鎖線で示す)と一致されている。
The upper end of the pipe portion 114 is opened upward so that the opening surface is substantially horizontal. In addition, the upper end of the pipe 114 is the washing tank 26.
When the maximum amount of washing water is stored in the inside, it is coincident with the liquid level of this washing water (shown by the chain double-dashed line in FIG. 5).

【0060】一方、図4乃至図6に示すように、本実施
の形態に適用したオーバーフロー管110は、パイプ部
114にエルボ120が装着される。図5及び図6に示
すように、エルボ120は、内部の管路が略L字状に屈
曲されており、一方の端部122に、パイプ部114の
上端部が挿入されて装着される。
On the other hand, as shown in FIGS. 4 to 6, in the overflow pipe 110 applied to the present embodiment, the elbow 120 is attached to the pipe portion 114. As shown in FIGS. 5 and 6, the elbow 120 has an internal pipe line bent into a substantially L-shape, and the one end 122 is fitted with the upper end of the pipe 114.

【0061】これにより、エルボ120は、他方の端部
124が略水平方向へ向けられる。すなわち、エルボ1
20は、パイプ部114に装着されることにより端部1
24の軸線(図5で一点鎖線で示す)が略水平方向に向
けられる。
As a result, the other end portion 124 of the elbow 120 is oriented substantially horizontally. That is, elbow 1
20 is attached to the pipe portion 114 so that the end portion 1
The axis of 24 (indicated by an alternate long and short dash line in FIG. 5) is oriented in a substantially horizontal direction.

【0062】このとき、図5に示すように、エルボ12
0は、パイプ部114の上端が、端部122側の管路内
に突出するように装着される。これにより、水洗水の液
面レベルが上昇して、端部124側の開口内に水洗水が
入り込み、さらに液面レベルが上昇してパイプ部114
の上端を越えると、パイプ部114の上端からパイプ部
114内に水洗水が流れ込むようにしている。
At this time, as shown in FIG.
No. 0 is mounted so that the upper end of the pipe portion 114 projects into the conduit on the end portion 122 side. As a result, the liquid level of the wash water rises, the wash water enters the opening on the end portion 124 side, and the liquid level further rises to increase the pipe portion 114.
When passing over the upper end of the pipe section 114, the washing water flows into the pipe section 114 from the upper end of the pipe section 114.

【0063】また、エルボ120は、端部124側が軸
線に対して所定角度で傾斜されて切断された形状となっ
ている。これにより、エルボ120は、端部124側の
開口面が下方へ向けて傾斜され、上方から落下してくる
水洗水が、端部124側の開口内に直接入り込んでしま
うことがないようにしている。すなわち、エルボ120
は、端部124側の開口の上部を覆う庇部が形成される
ように開口面が斜め下方へ向けられている。
Further, the elbow 120 has a shape in which the end portion 124 side is inclined and cut at a predetermined angle with respect to the axis. As a result, the elbow 120 has an opening surface on the side of the end portion 124 inclined downward so that washing water falling from above does not directly enter the opening on the side of the end portion 124. There is. That is, the elbow 120
Has an opening surface directed obliquely downward so as to form an eaves portion that covers the upper portion of the opening on the side of the end portion 124.

【0064】一方、オーバーフロー管110では、エル
ボ120の端部124内に返し部材として液切コマ12
6が挿入されて取りつけられるようになっている。図6
に示すように、液切コマ126は、略リング状の外周部
の一部に切込み128が形成された略C字状となってい
る。また、液切コマ126は、軸線方向の一端側に、切
込み128と反対側から切込み128へ向けて開口の約
半分を閉塞するように閉塞部130が形成されている。
On the other hand, in the overflow pipe 110, the draining piece 12 is provided as a return member in the end portion 124 of the elbow 120.
6 is inserted and attached. Figure 6
As shown in FIG. 5, the liquid draining piece 126 has a substantially C shape in which a notch 128 is formed in a part of a substantially ring-shaped outer peripheral portion. In addition, the liquid cutting piece 126 has a closing portion 130 formed on one end side in the axial direction so as to close approximately half of the opening from the side opposite to the cut 128 toward the cut 128.

【0065】このように形成されている液切コマ126
は、切込み128側が下方となるように、閉塞部130
と反対側からエルボ120の端部124内に挿入され
る。このとき、図5に示すように、液切コマ126は、
僅かに端部124の開口から突出されるように配置され
る。このとき、液切コマ126の閉塞部130の下端部
の水平位置を、パイプ部114の上端の水平位置よりも
高くしている。
The liquid draining piece 126 formed in this way
Is closed so that the cut 128 side faces downward.
It is inserted into the end portion 124 of the elbow 120 from the opposite side. At this time, as shown in FIG.
It is arranged so as to slightly project from the opening of the end portion 124. At this time, the horizontal position of the lower end of the closing part 130 of the liquid draining piece 126 is set higher than the horizontal position of the upper end of the pipe part 114.

【0066】これにより、液切コマ126は、閉塞部1
30が、エルボ120の端部124の内部で下がり壁を
形成し、液切コマ126より外側(開口側)の内面に付
着した水洗水が、エルボ120の内面をつたってパイプ
部114側に入り込むのを防止すると共に、液切コマ1
26より外側の内面に付着した水洗水が、閉塞部130
をつたって端部124の開口の下側から水洗槽26内に
落下するようにしている。
As a result, the liquid draining piece 126 has the closed portion 1
The water 30 forms a lower wall inside the end portion 124 of the elbow 120, and the rinsing water attached to the inner surface outside (opening side) the liquid draining piece 126 enters the pipe portion 114 side along the inner surface of the elbow 120. To prevent the drainage piece 1
The washing water adhering to the inner surface outside 26 is blocked by the blocking portion 130.
It is configured to drop into the washing tank 26 from below the opening of the end portion 124.

【0067】また、水洗槽26内の液面レベルが上昇し
た時には、エルボ120の端部124側の開口から液切
コマ126に形成している切込み128を通過して、水
洗水がエルボ120内のパイプ部114の上端部近傍に
達するようにしている。
When the liquid level in the flush tank 26 rises, the flush water passes through the notch 128 formed in the draining piece 126 from the opening on the side of the end portion 124 of the elbow 120 to wash the flush water in the elbow 120. The upper end of the pipe part 114 is reached.

【0068】一方、図2及び図3に示すように、水洗槽
26及び不感脂化処理槽28では、オーバーフロー管1
10、112が、PS版12の搬送方向と直交する方向
の中間部となるように設けられている。また、オーバー
フロー管110、112のそれぞれは、エルボ120の
端部124がPS版12の搬送方向と直交する方向であ
る幅方向の一方側に向けられている。
On the other hand, as shown in FIGS. 2 and 3, in the washing tank 26 and the desensitizing tank 28, the overflow pipe 1
10, 112 are provided so as to be intermediate portions in the direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 12. Further, each of the overflow pipes 110 and 112 is directed to one side in the width direction in which the end portion 124 of the elbow 120 is a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 12.

【0069】このように構成されているPS版プロセッ
サー10では、図示しない焼付装置によって露光される
ことにより画像が記録されたPS版12が、挿入口32
から挿入されると、搬送ローラ42を回転駆動させる。
これにより、PS版12は、搬送ローラ対42によって
挟持されて、PS版プロセッサー10内に引き入れられ
る。
In the PS plate processor 10 thus configured, the PS plate 12 on which an image is recorded by being exposed by a printing device (not shown) is inserted into the insertion port 32.
Then, the transport roller 42 is driven to rotate.
As a result, the PS plate 12 is nipped by the pair of transport rollers 42 and drawn into the PS plate processor 10.

【0070】なお、PS版プロセッサー10では、挿入
口32の近傍に、挿入口32を通過するPS版12を検
出するセンサが設けられており、このセンサがPS版1
2の挿入を検出することにより、搬送ローラ対42等の
回転駆動を開始するとともに、このセンサによるPS版
12の検出に基づいたタイミングで、水洗部16のスプ
レーパイプ66、68からの水洗水の吐出及び不感脂化
処理部18のスプレーパイプ72、74からのガム液の
吐出を行うようにしている。
In the PS plate processor 10, a sensor for detecting the PS plate 12 passing through the insertion port 32 is provided in the vicinity of the insertion port 32.
When the insertion of 2 is detected, the rotation drive of the conveying roller pair 42 and the like is started, and at the timing based on the detection of the PS plate 12 by this sensor, the rinsing water from the spray pipes 66, 68 of the rinsing section 16 is detected. The gum liquid is discharged from the spray pipes 72 and 74 of the discharge and desensitization processing unit 18.

【0071】搬送ローラ対42は、挿入口32から引き
入れたPS版12を、水平方向に対して15°〜31°
の範囲の挿入角度で、現像槽24へ送り込む。これによ
り、PS版12は、ガイド板44、46によって案内さ
れながら搬送ローラ対48〜52によって現像槽24内
を搬送されて、現像槽24内に貯留されている現像液に
浸漬され、17°〜31°の範囲の排出角度で、現像液
中から送り出される。
The conveying roller pair 42 has the PS plate 12 drawn in from the insertion port 32, and is 15 ° to 31 ° with respect to the horizontal direction.
It is fed into the developing tank 24 at an insertion angle within the range. As a result, the PS plate 12 is conveyed in the developing tank 24 by the pair of conveying rollers 48 to 52 while being guided by the guide plates 44 and 46, and is immersed in the developing solution stored in the developing tank 24 to be 17 °. It is delivered from within the developer at an ejection angle in the range of ˜31 °.

【0072】PS版12は、現像槽24内で現像液に浸
漬されることにより、露光画像に応じて不要な感光層が
膨潤し、膨潤した感光層が支持体から除去される。この
とき、PS版プロセッサー10では、現像槽24内に配
置しているブラシローラ58によってPS版12の表面
(感光層側の面)がブラッシングされることにより、P
S版12の表面からの不要な感光層の除去を促進するよ
うにしている。
When the PS plate 12 is immersed in the developing solution in the developing tank 24, an unnecessary photosensitive layer swells according to the exposed image, and the swollen photosensitive layer is removed from the support. At this time, in the PS plate processor 10, the surface of the PS plate 12 (the surface on the photosensitive layer side) is brushed by the brush roller 58 arranged in the developing tank 24, so that P
The removal of the unnecessary photosensitive layer from the surface of the S plate 12 is promoted.

【0073】なお、PS版プロセッサー10としては、
複数のブラシローラを用いてPS版12の表面をブラッ
シングするものであってもよく、また、ブラシローラを
用いずにPS版12の処理を行うものであっても良い。
As the PS version processor 10,
The surface of the PS plate 12 may be brushed using a plurality of brush rollers, or the PS plate 12 may be treated without using the brush rollers.

【0074】現像処理が行われて、現像槽24から送り
出されるPS版12は、搬送ローラ対52によって水洗
部16へ送られる。このとき、搬送ローラ対52は、P
S版12の表裏面に付着している現像液を絞り落とす。
The PS plate 12 which has been developed and sent out from the developing tank 24 is sent to the water washing section 16 by the pair of carrying rollers 52. At this time, the conveying roller pair 52 is set to P
The developer adhering to the front and back surfaces of the S plate 12 is squeezed out.

【0075】水洗部16では、このPS版12を搬送ロ
ーラ対62、64によって挟持して略水平状態で搬送し
ながら、スプレーパイプ66、68から水洗水を噴出す
る。また、PS版12の搬送方向の下流側に配置してい
る搬送ローラ対64は、PS版12の表裏面に供給した
水洗水を、搬送ローラ対52によって絞り切れずに残っ
た現像液とともに絞り落としながら、このPS版12を
不感脂化処理部18へ送り出す。
In the water washing section 16, the PS plate 12 is sandwiched by the conveying roller pairs 62 and 64 and conveyed in a substantially horizontal state, while the washing water is jetted from the spray pipes 66 and 68. The transport roller pair 64 arranged on the downstream side in the transport direction of the PS plate 12 squeezes the wash water supplied to the front and back surfaces of the PS plate 12 together with the developer remaining without being squeezed by the transport roller pair 52. While dropping, the PS plate 12 is sent to the desensitization processing unit 18.

【0076】これにより、PS版12は、水洗部16を
通過するときに、表裏面に残っている現像液が洗い落と
される。
As a result, when the PS plate 12 passes through the water washing section 16, the developer remaining on the front and back surfaces is washed off.

【0077】不感脂化処理部18へ送られたPS版12
は、スプレーパイプ72、74の間を通過し、搬送ロー
ラ対70に挟持されることにより、この搬送ローラ対7
0によって不感脂化処理部18から送り出される。
The PS plate 12 sent to the desensitizing section 18
Passes through between the spray pipes 72 and 74 and is sandwiched by the pair of transport rollers 70, so that the pair of transport rollers 7
0 is sent from the desensitization processing unit 18.

【0078】このとき、不感脂化処理部18では、スプ
レーパイプ66、68からガム液を吐出して、PS版1
2の表裏面にガム液を拡散させながら均一に塗布する。
搬送ローラ対70は、PS版12を挟持搬送して、余剰
となったガム液をPS版12の表裏面から絞り落とすこ
とにより、PS版12の表裏面にガム液の均一な薄膜を
形成する。
At this time, in the desensitizing section 18, the gum liquid is discharged from the spray pipes 66 and 68 to make the PS plate 1
The gum solution is uniformly applied to the front and back surfaces of No. 2 while diffusing the gum solution.
The conveying roller pair 70 sandwiches and conveys the PS plate 12, and squeezes the excess gum liquid from the front and back surfaces of the PS plate 12, thereby forming a uniform thin film of gum liquid on the front and back surfaces of the PS plate 12. .

【0079】ガム液が塗布されたPS版12は、搬送ロ
ーラ対70によって挿通口84からから乾燥部20へ送
り込まれる。なお、挿通口84にシャッタを設けている
ときには、PS版12の処理開始のタイミングないしP
S版12が不感脂化処理部18から送り出されるタイミ
ングで、シャッタを作動させて、挿通口84を開放し、
PS版12の非通過時に乾燥部20の乾燥風が不必要に
不感脂化処理部18へ入り込んで、搬送ローラ対70に
ガム液が固着してしまうのを防止すると共に、挿通口8
4から空気が入り込み、現像部14にまで及んで空気中
の炭酸ガスにより現像液が劣化するのを防止したり、現
像液中の水分や水洗水さらにガム液中の水分が蒸発して
挿通口84から出てしまうのを防止している。
The PS plate 12 coated with the gum solution is sent to the drying section 20 from the insertion opening 84 by the pair of conveying rollers 70. When the insertion opening 84 is provided with a shutter, the timing for starting the processing of the PS plate 12 or P
At the timing when the S plate 12 is sent out from the desensitization processing unit 18, the shutter is operated to open the insertion opening 84,
When the PS plate 12 does not pass through, the drying air of the drying unit 20 unnecessarily enters the desensitization processing unit 18 to prevent the gum solution from sticking to the pair of transport rollers 70, and also the insertion port 8
4 to prevent the deterioration of the developing solution due to carbon dioxide in the air that reaches the developing section 14 and to prevent the developing solution from deteriorating, or the water in the developing solution, the washing water and the water in the gum solution evaporate. It prevents you from getting out of 84.

【0080】乾燥部20では、支持ローラ86及び搬送
ローラ対90、92によってPS版12を搬送しなが
ら、ダクト94、96からこのPS版12の表裏面に乾
燥風を吹き付ける。これにより、PS版12は、表面に
塗布されているガム液による保護膜が形成されて排出口
88から排出される。
In the drying section 20, while the PS plate 12 is being conveyed by the supporting roller 86 and the pair of conveying rollers 90 and 92, the drying air is blown from the ducts 94 and 96 to the front and back surfaces of the PS plate 12. As a result, the PS plate 12 has a protective film formed by the gum solution applied on the surface and is discharged from the discharge port 88.

【0081】また、PS版プロセッサー10では、PS
版12の処理量に応じて、所定のタイミングで水洗槽2
6への水洗水の新液の補充及び不感脂化処理槽28への
ガム液の補充を行うと共に、余剰となった水洗槽26内
の水洗水および不感脂化処理槽28内のガム液をオーバ
ーフローさせて排出する。
In the PS version processor 10, the PS
Washing tank 2 at a predetermined timing according to the amount of processing of plate 12
6 is replenished with a new solution of washing water and the desensitizing tank 28 is replenished with gum solution, and excess washing water in the washing tank 26 and gum solution in the desensitizing tank 28 are removed. Overflow and discharge.

【0082】このとき、水洗槽26や付感脂化処理槽2
8では、水洗水やガム液が増加して液面が上昇すると、
エルボ120の端部124に形成している開口からエル
ボ120内に入り込み、さらに、端部124内に設けて
いる液切コマ126の切込み128の間を通ってパイプ
部114の近傍に達する。この状態で、さらに液面が上
昇することにより、水洗水及びガム液がパイプ部114
の上端を越えて、パイプ部114内に流れ込んで排出さ
れる。
At this time, the washing tank 26 and the oil-sensitizing treatment tank 2
In 8, when the washing water and gum solution increase and the liquid level rises,
The elbow 120 enters into the elbow 120 through an opening formed in the end portion 124, and further reaches the vicinity of the pipe portion 114 through a notch 128 of a liquid cutting piece 126 provided in the end portion 124. In this state, the liquid surface further rises, so that the washing water and the gum liquid are separated from each other by the pipe portion 114.
Over the upper end of the pipe and flows into the pipe portion 114 and is discharged.

【0083】したがって、水洗槽26の水洗水や不感脂
化処理槽28内のガム液の液面レベルが、オーバーフロ
ーレベルを越えないように保つことができ、PS版12
が最適な仕上がり品質となるようにしている。
Therefore, the liquid level of the washing water in the washing tank 26 and the gum liquid in the desensitizing tank 28 can be maintained so as not to exceed the overflow level, and the PS plate 12
Is designed to give the optimum finish quality.

【0084】ところで、水洗部16及び不感脂化処理部
18では、PS版12の液外搬送を行いながら、PS版
12の表面に水洗水及びガム液を供給し、PS版12や
搬送ローラ対64、70から落下する水洗水及びガム液
のそれぞれを水洗槽26及び不感脂化処理槽28に回収
するようにしている。
By the way, in the water washing section 16 and the desensitization processing section 18, while the PS plate 12 is being conveyed outside the liquid, the washing water and the gum solution are supplied to the surface of the PS plate 12, and the PS plate 12 and the conveying roller pair The washing water and gum solution falling from 64 and 70 are respectively collected in the washing tank 26 and the desensitizing treatment tank 28.

【0085】このとき、水洗槽26に設けられているオ
ーバーフロー管110や、不感脂化処理槽28に設けて
いるオーバーフロー管112には、パイプ部114の上
端にエルボ120を取りつけて、水洗水やガム液が入り
込む開口をPS版12の幅方向に向けている。
At this time, the overflow pipe 110 provided in the washing tank 26 and the overflow pipe 112 provided in the desensitizing tank 28 are fitted with an elbow 120 at the upper end of the pipe portion 114 to wash them with water. The opening into which the gum solution enters is directed in the width direction of the PS plate 12.

【0086】また、オーバーフロー管110、112
は、PS版12の幅方向の中間部に配置されているた
め、PS版12の通過時に、PS版12の幅方向の両端
部から落下する水洗水やガム液は勿論、搬送ローラ対6
4、70から落下する水洗水やガム液が、直接、オーバ
ーフロー管112のパイプ部114に入り込んでしまう
ことがない。
Further, the overflow pipes 110 and 112
Is disposed in the widthwise middle portion of the PS plate 12, and therefore, when passing through the PS plate 12, not only the washing water and the gum liquid that fall from both ends of the PS plate 12 in the width direction, but also the conveying roller pair 6
The washing water and the gum solution falling from Nos. 4 and 70 do not directly enter the pipe portion 114 of the overflow pipe 112.

【0087】一方、PS版12の後端や搬送ローラ対6
4又は搬送ローラ対70から落下したり、落下すること
により水洗槽26や不感脂化処理槽28内の液面が叩か
れて跳ねあがる水洗水やガム液は、オーバーフロー管1
10又はオーバーフロー管112に用いているエルボ1
20の外周面に付着する。
On the other hand, the rear end of the PS plate 12 and the pair of conveying rollers 6
4 or the washing liquid or the gum liquid which is dropped from the conveying roller pair 70, or the liquid surface in the washing tank 26 or the desensitizing treatment tank 28 is hit by the falling water and jumps up.
Elbow 1 used for 10 or overflow pipe 112
It adheres to the outer peripheral surface of 20.

【0088】エルボ120の外周面に付着した水洗水や
ガム液は、エルボ120の端部124側の開口から内面
側に回り込むことがある。また、落下する水洗水やガム
液によって液面が叩かれることにより跳ねあがった水洗
水やガム液が、エルボ120の端部124の内面に付着
することがある。
The washing water and the gum solution attached to the outer peripheral surface of the elbow 120 may wrap around from the opening on the end portion 124 side of the elbow 120 to the inner surface side. In addition, the washing water or the gum solution splashed by being hit by the falling washing water or the gum solution may adhere to the inner surface of the end portion 124 of the elbow 120.

【0089】このとき、オーバーフロー管110、11
2では、エルボ120の端部124内に液切コマ116
を設けており、エルボ120の端部124の内面に付着
した水洗水やガム液は、この液切コマ126の閉塞部1
30をつたって流れ落ちて、下方へ向けられて形成され
ている端部124の開口から落下する。したがって、水
洗水やガム液が、エルボ120の外周面に付着したり、
跳ねあがってエルボ120の端部124から入り込んで
も、パイプ部114の近傍に達することはなく、不必要
に水洗槽26や不感脂化処理槽28から排出されてしま
うことがない。
At this time, the overflow pipes 110, 11
2, the draining piece 116 is placed in the end 124 of the elbow 120.
The washing water and the gum liquid attached to the inner surface of the end portion 124 of the elbow 120 are provided in the closing portion 1 of the draining piece 126.
It flows down through 30 and falls from the opening of the end portion 124 formed so as to face downward. Therefore, washing water or gum solution may adhere to the outer peripheral surface of the elbow 120,
Even if it jumps up and enters from the end portion 124 of the elbow 120, it does not reach the vicinity of the pipe portion 114 and is not unnecessarily discharged from the washing tank 26 or the desensitizing treatment tank 28.

【0090】したがって、PS版プロセッサー10で
は、水洗水やガム液が不必要に排出されてしまうことに
よる装置のランニングコストが上昇してしまうのを確実
に防止することができる。
Therefore, in the PS plate processor 10, it is possible to reliably prevent the running cost of the apparatus from increasing due to unnecessary discharge of washing water and gum solution.

【0091】なお、以上説明した本実施の形態は、本発
明の構成を限定するものではない。例えば、本実施の形
態では、返し手段としてエルボ120の端部124の開
口の開口面を斜め下方へ向けることにより開口の上方側
に庇部を形成すると共に端部124内に液切コマ126
を設けるようにしたが、返し手段の構成はこれに限るも
のではない。
The embodiment described above does not limit the structure of the present invention. For example, in the present embodiment, the eaves portion is formed on the upper side of the opening by tilting the opening surface of the opening of the end portion 124 of the elbow 120 obliquely downward as the return means, and the draining piece 126 is provided inside the end portion 124.
However, the structure of the returning means is not limited to this.

【0092】例えば、図7に示すエルボ132では、略
水平方向に向けた端部134の下部に、所定幅の切込み
136を軸線方向に沿って所定位置まで形成している。
このように形成したエルボ132に液切コマ126を挿
入することにより、端部134の開口から入り込んだ処
理液が内面に付着しても、この処理液を切込み136か
ら確実に排出して、エルボ132内のパイプ部114の
近傍に達してしまうのを確実に防止することができる。
For example, in the elbow 132 shown in FIG. 7, a notch 136 having a predetermined width is formed at a predetermined position along the axial direction at the lower portion of the end portion 134 directed in the substantially horizontal direction.
By inserting the liquid cutting piece 126 into the elbow 132 formed in this way, even if the processing liquid that has entered from the opening of the end portion 134 adheres to the inner surface, this processing liquid is reliably discharged from the notch 136 and the elbow It can be reliably prevented that the pipe 132 reaches the vicinity of the pipe portion 114.

【0093】また、本実施の形態では、返し部材として
液切コマ126を用いたが、返し部材ないし返し手段
は、これに限るものではなく、エルボの端部に形成した
開口から入り込んで内面に付着した処理液を、パイプ部
側に達するのを阻止しながら排出するようにしたもので
あれば任意の構成を用いることができる。
Further, in the present embodiment, the liquid draining piece 126 is used as the return member, but the return member or the return means is not limited to this, and the return member or the return means is inserted from the opening formed at the end portion of the elbow to the inner surface. Any structure can be used as long as it discharges the attached processing liquid while preventing it from reaching the pipe portion side.

【0094】また、以上説明した本実施の形態では、感
光材料としてPS版12を処理するPS版プロセッサー
に本発明を適用して説明したが、本発明は、PS版に限
らず、液外搬送する感光材料に処理液を供給すると共
に、感光材料等から落下する処理液を搬送路の下方の処
理槽内に回収する処理工程を備えた感光材料処理装置で
あれば良い。
Further, in the above-mentioned embodiment, the present invention is applied to the PS plate processor for processing the PS plate 12 as a photosensitive material, but the present invention is not limited to the PS plate and is conveyed outside the liquid. The photosensitive material processing apparatus may include a processing step of supplying the processing solution to the photosensitive material to be processed and collecting the processing solution falling from the photosensitive material into the processing tank below the transport path.

【0095】[0095]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、感
光材料から落下した処理液や、落下した処理液が液面を
叩くことにより跳ねあがる処理液が、オーバーフロー用
のパイプ部から排出されてしまうのを確実に防止するこ
とができる。これにより、処理液が不必要に排出されて
しまうことによりランニングコストが上昇してしまうの
を防止することができるという優れた効果が得られる。
As described above, according to the present invention, the processing liquid dropped from the photosensitive material and the processing liquid splashed by the falling processing liquid hitting the liquid surface are discharged from the overflow pipe portion. It can be surely prevented. As a result, it is possible to obtain an excellent effect that it is possible to prevent the running cost from increasing due to unnecessary discharge of the processing liquid.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本実施の形態に適用したPS版プロセッサーの
概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a PS plate processor applied to the present embodiment.

【図2】本発明を適用したオーバーフロー管が設けられ
た処理タンクの要部の概略斜視図である。
FIG. 2 is a schematic perspective view of a main part of a processing tank provided with an overflow pipe to which the present invention is applied.

【図3】オーバーフロー管の位置を示す処理タンクの要
部の概略平面図である。
FIG. 3 is a schematic plan view of a main part of a processing tank showing a position of an overflow pipe.

【図4】本発明を適用したオーバーフロー管を示す概略
斜視図である。
FIG. 4 is a schematic perspective view showing an overflow pipe to which the present invention is applied.

【図5】オーバーフロー管を鉛直方向に沿って切断した
概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view of the overflow pipe taken along the vertical direction.

【図6】オーバーフロー管のエルボに設ける液切コマを
示す概略斜視図である。
FIG. 6 is a schematic perspective view showing a liquid cutting piece provided on an elbow of an overflow pipe.

【図7】本発明の他の一例を示すオーバーフロー管の概
略斜視図である。
FIG. 7 is a schematic perspective view of an overflow pipe showing another example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 PS版プロセッサー(感光材料処理装置) 12 PS版(感光材料) 16 水洗部 18 不感脂化処理部 22 処理タンク 26 水洗槽 28 不感脂化処理槽 110、112 オーバーフロー管 114 パイプ部 120 エルボ 124 端部(一方の端部、返し手段) 126 液切コマ(返し手段、返し部材) 128 切込み 130 閉塞部 10 PS Plate Processor (Photosensitive Material Processing Device) 12 PS plate (photosensitive material) 16 Washing department 18 Desensitizing section 22 Processing tank 26 Washing tank 28 Desensitizing tank 110, 112 overflow pipe 114 pipe section 120 Elbow 124 end (one end, return means) 126 Draining piece (return means, return member) 128 cuts 130 Block

フロントページの続き (72)発明者 五十嵐 浩幸 神奈川県南足柄市竹松1250番地 富士機器 工業株式会社内 Fターム(参考) 2H096 AA06 GA22 GA60 Continued front page    (72) Inventor Hiroyuki Igarashi             1250 Takematsu, Minamiashigara City, Kanagawa Prefecture Fuji Equipment             Industry Co., Ltd. F-term (reference) 2H096 AA06 GA22 GA60

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感光材料が液外搬送される処理槽に設け
られて、前記処理槽内に貯留されている処理液が上部開
口から入り込むことにより、その処理液を前記処理槽外
に案内するオーバーフロー管構造であって、 前記処理槽の底部から上方へ突出されて上端部が所定位
置で開口され、この開口に流れ込む前記処理液を前記処
理槽外へ案内するパイプ部と、 開口部が形成された一方の端部が略水平方向に向けられ
て前記パイプ部の上端部に設けられるエルボと、 前記エルボの前記一方の端部内側に設けられて前記処理
内に貯留されている処理液の上に露出している前記エル
ボの開口部から、飛散した処理液が前記パイプ部側に入
り込むのを阻止すると共に該処理液を前記処理槽内に案
内する返し手段と、 を含むことを特徴とするオーバーフロー管構造。
1. A photosensitive material is provided in a processing bath to be conveyed outside the liquid, and the processing liquid stored in the processing bath is introduced from an upper opening to guide the processing liquid to the outside of the processing bath. An overflow pipe structure, in which a pipe portion that projects upward from the bottom of the processing tank and has an upper end opening at a predetermined position, and a pipe portion that guides the processing liquid flowing into the opening to the outside of the processing tank, and an opening are formed. An elbow provided at the upper end of the pipe portion with one end directed substantially horizontally, and a treatment liquid stored inside the treatment provided inside the one end of the elbow. A return means for preventing the scattered processing liquid from entering the pipe portion side through the opening of the elbow exposed above, and for guiding the processing liquid into the processing tank. Overflow Tube structure.
【請求項2】 前記返し手段として、外周部の所定位置
に前記エルボの内面に達する切込みが設けられて略リン
グ状に形成され、前記切込みが下方へ向けられて前記エ
ルボの内部に装着される返し部材を含み、前記エルボの
前記一方の端部の下部に前記返し部材に達する開口を形
成していることを特徴とする請求項1に記載のオーバー
フロー管構造。
2. As the return means, a notch reaching the inner surface of the elbow is provided at a predetermined position on the outer peripheral portion and is formed in a substantially ring shape, and the notch is directed downward and is mounted inside the elbow. The overflow pipe structure according to claim 1, further comprising a return member, wherein an opening reaching the return member is formed in a lower portion of the one end of the elbow.
【請求項3】 前記返し部材に、前記エルボの前記一方
の端部内で、内部開口の上方側を閉塞する閉塞部を形成
していることを特徴とする請求項2に記載のオーバーフ
ロー管構造。
3. The overflow pipe structure according to claim 2, wherein the return member is formed with a closing portion that closes an upper side of the internal opening in the one end portion of the elbow.
【請求項4】 前記パイプ部が、前記処理槽の前記感光
材料の搬送方向と直交する方向である幅方向の中間部に
対向する位置に設けられることを特徴とする請求項1か
ら請求項3のいずれかに記載のオーバーフロー管構造。
4. The pipe portion is provided at a position facing an intermediate portion in a width direction which is a direction orthogonal to a conveying direction of the photosensitive material in the processing tank. The overflow pipe structure according to any one of 1.
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