JP2003100206A - プラズマディスプレイパネルの製造方法およびその製造装置 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの製造方法およびその製造装置Info
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- JP2003100206A JP2003100206A JP2001287631A JP2001287631A JP2003100206A JP 2003100206 A JP2003100206 A JP 2003100206A JP 2001287631 A JP2001287631 A JP 2001287631A JP 2001287631 A JP2001287631 A JP 2001287631A JP 2003100206 A JP2003100206 A JP 2003100206A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）に対する剥
離液の浸透性を向上させてＤＦＲ剥離時間を短縮し、剥
離時の強アルカリ液による隔壁へのダメージを軽減して
剥離マージンを向上させる。 【解決手段】製造工程内にガラス基板５上に付着させた
ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）を剥離するＤＦＲ剥
離工程を含むプラズマディスプレイパネルの製造方法に
おいて、前記ＤＦＲを剥離槽２の剥離液に浸漬させる前
に、前記ガラス基板５上のＤＦＲを水洗槽１で水洗ノズ
ル１１からの水を浸漬させることにより、前記ＤＦＲに
対する剥離液の浸透性を向上させたことを特徴とする。
離液の浸透性を向上させてＤＦＲ剥離時間を短縮し、剥
離時の強アルカリ液による隔壁へのダメージを軽減して
剥離マージンを向上させる。 【解決手段】製造工程内にガラス基板５上に付着させた
ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）を剥離するＤＦＲ剥
離工程を含むプラズマディスプレイパネルの製造方法に
おいて、前記ＤＦＲを剥離槽２の剥離液に浸漬させる前
に、前記ガラス基板５上のＤＦＲを水洗槽１で水洗ノズ
ル１１からの水を浸漬させることにより、前記ＤＦＲに
対する剥離液の浸透性を向上させたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの製造方法およびその製造装置に関し、特に
ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）の剥離工程を効率化
したプラズマディスプレイパネルの製造方法およびその
製造装置に関する。
レイパネルの製造方法およびその製造装置に関し、特に
ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）の剥離工程を効率化
したプラズマディスプレイパネルの製造方法およびその
製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、ＡＣ型プラズマディスプレイパ
ネルは、ガラスからなる前面基板と、背面基板との間に
放電空間を形成するが、前面基板には、放電させるため
の帯状の透明電極が形成され、その上が誘電体層で覆わ
れている。また、背面基板には、放電空間を単位発光セ
ル毎に区画しているリブ（隔壁）がストライプ状に形成
されている。このように作られた放電空間の内側には、
可視光の発光とカラー化のために赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、
青（Ｂ）の蛍光体層が規則的に形成されて、この一対の
透明電極の間の放電で生じる紫外線によって、各蛍光体
層が励起され発光する。
ネルは、ガラスからなる前面基板と、背面基板との間に
放電空間を形成するが、前面基板には、放電させるため
の帯状の透明電極が形成され、その上が誘電体層で覆わ
れている。また、背面基板には、放電空間を単位発光セ
ル毎に区画しているリブ（隔壁）がストライプ状に形成
されている。このように作られた放電空間の内側には、
可視光の発光とカラー化のために赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、
青（Ｂ）の蛍光体層が規則的に形成されて、この一対の
透明電極の間の放電で生じる紫外線によって、各蛍光体
層が励起され発光する。
【０００３】このリブを形成する方法として、スクリー
ン印刷法、アディティブ法、サンドブラスト法などが従
来から知られているが、これらの中でもサンドブラスト
法は、高アスペクト比で且つ高精細のリブ形成方法とし
て注目されている。図５（ａ）〜（ｆ）はそのサンドブ
ラスト法によるリブ形成方法を工程順に示す断図であ
る。
ン印刷法、アディティブ法、サンドブラスト法などが従
来から知られているが、これらの中でもサンドブラスト
法は、高アスペクト比で且つ高精細のリブ形成方法とし
て注目されている。図５（ａ）〜（ｆ）はそのサンドブ
ラスト法によるリブ形成方法を工程順に示す断図であ
る。
【０００４】このサンドブラスト法は、まず図５（ａ）
のように、アドレス電極６を形成した背面基板４上にリ
ブ材２１のガラスペーストをスリットダイコータ法やロ
ールコータ法により一括に塗布し、１００〜１６０℃程
度の温度で乾燥して、厚み１００〜１５０μｍのリブ材
層１１を形成した後、図５（ｂ）のように、このリブ材
層２１の上にドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）２２を
張り付け、さらに、図５（ｃ）のように、リブのパター
ンを設けたガラスマスク２３を配置し、図５（ｄ）のよ
うに、露光・現像（フォトリソグラフィー法）によりリ
ブのポジパターン２２ａを形成する。このガラスマスク
２３は、リブ部分に開口パターンを有し、このパターン
以外の部分がマスクされたものである。その後、図５
（ｅ）のように、研磨材をかけるサンドブラスト加工に
よりリブ材層の不要部分を除去してリブ２１ａの部分ａ
を残し、最後に図５（ｆ）のように、ＤＦＲ２２ａを剥
離して、リブを形成している。
のように、アドレス電極６を形成した背面基板４上にリ
ブ材２１のガラスペーストをスリットダイコータ法やロ
ールコータ法により一括に塗布し、１００〜１６０℃程
度の温度で乾燥して、厚み１００〜１５０μｍのリブ材
層１１を形成した後、図５（ｂ）のように、このリブ材
層２１の上にドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）２２を
張り付け、さらに、図５（ｃ）のように、リブのパター
ンを設けたガラスマスク２３を配置し、図５（ｄ）のよ
うに、露光・現像（フォトリソグラフィー法）によりリ
ブのポジパターン２２ａを形成する。このガラスマスク
２３は、リブ部分に開口パターンを有し、このパターン
以外の部分がマスクされたものである。その後、図５
（ｅ）のように、研磨材をかけるサンドブラスト加工に
よりリブ材層の不要部分を除去してリブ２１ａの部分ａ
を残し、最後に図５（ｆ）のように、ＤＦＲ２２ａを剥
離して、リブを形成している。
【０００５】また、リフトオフ法により前面ガラス基板
上の透明電極を形成する場合も、ガラス基板上にドライ
フィルムレジスト（ＤＦＲ）を張り付け、フォトリソグ
ラフィ法により、電極パターンを設けたガラスマスクを
配置して紫外線を照射し、電極パターンをもったネガパ
ターンを形成する。その後、透明電極となるＳｎＯ2や
インジウムとスズの合金酸化膜（ＩＴＯ）をスパッタリ
ングにより全面に形成してＤＦＲを剥離し、透明電極を
形成している。
上の透明電極を形成する場合も、ガラス基板上にドライ
フィルムレジスト（ＤＦＲ）を張り付け、フォトリソグ
ラフィ法により、電極パターンを設けたガラスマスクを
配置して紫外線を照射し、電極パターンをもったネガパ
ターンを形成する。その後、透明電極となるＳｎＯ2や
インジウムとスズの合金酸化膜（ＩＴＯ）をスパッタリ
ングにより全面に形成してＤＦＲを剥離し、透明電極を
形成している。
【０００６】このように従来の張付けられたドライフィ
ルムレジストは、露光された後に、剥離される必要があ
る。図６は、従来の隔壁形成工程でのＤＦＲ剥離装置の
一例の模式図を示す。まず、サンドブラストにて隔壁ペ
ーストを切削された基板５が、剥離装置に投入される。
剥離槽２の剥離液ノズルから噴射されたＮａＯＨ液等の
強アルカリ液にて、隔壁上部に残ったＤＦＲを膨潤させ
除去する。そして、その後の水洗槽４にて、剥離槽２に
て剥離できず隔壁上にわずかに残ったＤＦＲを完全に流
し取るとともに、基板を洗浄する。
ルムレジストは、露光された後に、剥離される必要があ
る。図６は、従来の隔壁形成工程でのＤＦＲ剥離装置の
一例の模式図を示す。まず、サンドブラストにて隔壁ペ
ーストを切削された基板５が、剥離装置に投入される。
剥離槽２の剥離液ノズルから噴射されたＮａＯＨ液等の
強アルカリ液にて、隔壁上部に残ったＤＦＲを膨潤させ
除去する。そして、その後の水洗槽４にて、剥離槽２に
て剥離できず隔壁上にわずかに残ったＤＦＲを完全に流
し取るとともに、基板を洗浄する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来のＤ
ＦＲの剥離方法では、（１）剥離液に強アルカリを使用
するため、剥離時に、特にガラスペーストを用いている
隔壁へダメージを与える（２）剥離液に浸漬させた段階
で剥離液のなじみが悪く、ＤＦＲの膨潤が不十分である
と、その部分にＤＦＲ残りが発生する等の問題点があっ
た。
ＦＲの剥離方法では、（１）剥離液に強アルカリを使用
するため、剥離時に、特にガラスペーストを用いている
隔壁へダメージを与える（２）剥離液に浸漬させた段階
で剥離液のなじみが悪く、ＤＦＲの膨潤が不十分である
と、その部分にＤＦＲ残りが発生する等の問題点があっ
た。
【０００８】本発明の主な目的は、このような問題点を
解決し、剥離前に事前に水に浸漬させて剥離液の浸透性
を上げ、その後剥離液に浸漬させて最終的に剥離を行う
ことにより、ＤＦＲに対する剥離液の浸透性を従来より
もアップさせて膨潤効果を高めたプラズマディスプレイ
パネルの製造方法およびその製造治具を提供することに
ある。
解決し、剥離前に事前に水に浸漬させて剥離液の浸透性
を上げ、その後剥離液に浸漬させて最終的に剥離を行う
ことにより、ＤＦＲに対する剥離液の浸透性を従来より
もアップさせて膨潤効果を高めたプラズマディスプレイ
パネルの製造方法およびその製造治具を提供することに
ある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の構成は、製造工
程内にガラス基板上に付着さ露光されたドライフィルム
レジスト（ＤＦＲ）を剥離するＤＦＲ剥離工程を含むプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法において、前記Ｄ
ＦＲを剥離液に浸漬させる前に、前記ガラス基板上のＤ
ＦＲを水に浸漬させることにより、前記ＤＦＲに対する
剥離液の浸透性を向上させたことを特徴とする。
程内にガラス基板上に付着さ露光されたドライフィルム
レジスト（ＤＦＲ）を剥離するＤＦＲ剥離工程を含むプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法において、前記Ｄ
ＦＲを剥離液に浸漬させる前に、前記ガラス基板上のＤ
ＦＲを水に浸漬させることにより、前記ＤＦＲに対する
剥離液の浸透性を向上させたことを特徴とする。
【００１０】本発明の他のプラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）の製造方法の構成は、ＰＤＰ製造工程内でド
ライフィルムレジスト（ＤＦＲ）を付着されたガラス基
板の露光されたＤＦＲ部分を剥離する前に水洗する第１
工程と、この水洗したガラス基板を強アルカリ剥離液に
つけてガラス基板上の露光されたＤＦＲ部分を剥離する
第２工程と、前記ＤＦＲ部分を剥離したガラス基板を水
洗する第３工程とを含むことを特徴とする。
（ＰＤＰ）の製造方法の構成は、ＰＤＰ製造工程内でド
ライフィルムレジスト（ＤＦＲ）を付着されたガラス基
板の露光されたＤＦＲ部分を剥離する前に水洗する第１
工程と、この水洗したガラス基板を強アルカリ剥離液に
つけてガラス基板上の露光されたＤＦＲ部分を剥離する
第２工程と、前記ＤＦＲ部分を剥離したガラス基板を水
洗する第３工程とを含むことを特徴とする。
【００１１】本発明において、ガラス基板を剥離する前
に水洗する工程が、前記ガラス基板に水を噴射するシャ
ワーノズル方式、または、前記ガラス基板を水に浸漬さ
せるディップ方式によることができ、また、ＰＤＰ製造
工程内のＤＦＲ剥離工程が、ＰＤＰの隔壁形成工程での
ＤＦＲ剥離プロセス、または、エッチング法やリフトオ
フ法を用いている透明電極形成工程でのＤＦＲ剥離プロ
セスに用いられる。
に水洗する工程が、前記ガラス基板に水を噴射するシャ
ワーノズル方式、または、前記ガラス基板を水に浸漬さ
せるディップ方式によることができ、また、ＰＤＰ製造
工程内のＤＦＲ剥離工程が、ＰＤＰの隔壁形成工程での
ＤＦＲ剥離プロセス、または、エッチング法やリフトオ
フ法を用いている透明電極形成工程でのＤＦＲ剥離プロ
セスに用いられる。
【００１２】本発明のさらに他の構成は、ＰＤＰの製造
工程内のガラス基板上のＤＦＲを剥離するプラズマディ
スプレイパネルの製造装置において、前記基板上のＤＦ
Ｒを剥離する前に水洗してＤＦＲを膨潤させる剥離前水
洗槽を設けた剥離装置を有することを特徴とする。
工程内のガラス基板上のＤＦＲを剥離するプラズマディ
スプレイパネルの製造装置において、前記基板上のＤＦ
Ｒを剥離する前に水洗してＤＦＲを膨潤させる剥離前水
洗槽を設けた剥離装置を有することを特徴とする。
【００１３】本発明において 剥離装置が、基板上のＤ
ＦＲを強アルカリ液により剥離する剥離槽と、この剥離
槽の次に配置されたニュートラルゾーンと、このニュー
トラルゾーンの後に配置された水洗槽とからなることが
でき、また、剥離前水洗槽が、基板に水を噴射するシャ
ワーノズル方式によるもの、または前記基板を水中に浸
けるディップ方式によるものであることができる。
ＦＲを強アルカリ液により剥離する剥離槽と、この剥離
槽の次に配置されたニュートラルゾーンと、このニュー
トラルゾーンの後に配置された水洗槽とからなることが
でき、また、剥離前水洗槽が、基板に水を噴射するシャ
ワーノズル方式によるもの、または前記基板を水中に浸
けるディップ方式によるものであることができる。
【００１４】本発明によれば、プラズマディスプレイパ
ネルの製造における隔壁をはじめとするドライフィルム
レジスト（ＤＦＲ）を剥離する工程を含むプラズマディ
スプレイパネルの製造方法において、ＤＦＲをＮａＯＨ
等の強アルカリの剥離液に浸漬させる前に、あらかじめ
水洗ノズル等で水に浸漬させることにより、ＤＦＲに対
する剥離液の浸透性を向上させてＤＦＲ剥離時間を短縮
し、剥離時の強アルカリ液による隔壁へのダメージを軽
減し剥離マージンを向上させる効果が得られ、さらに、
剥離液浸漬不足による剥離残り（ＤＦＲ残り）を低減さ
せる効果も得ることができる。
ネルの製造における隔壁をはじめとするドライフィルム
レジスト（ＤＦＲ）を剥離する工程を含むプラズマディ
スプレイパネルの製造方法において、ＤＦＲをＮａＯＨ
等の強アルカリの剥離液に浸漬させる前に、あらかじめ
水洗ノズル等で水に浸漬させることにより、ＤＦＲに対
する剥離液の浸透性を向上させてＤＦＲ剥離時間を短縮
し、剥離時の強アルカリ液による隔壁へのダメージを軽
減し剥離マージンを向上させる効果が得られ、さらに、
剥離液浸漬不足による剥離残り（ＤＦＲ残り）を低減さ
せる効果も得ることができる。
【００１５】本発明では、強アルカリの剥離液に浸漬さ
せる前に水洗等に処理されるので、剥離時間を短縮で
き、それにより強アルカリによる隔壁へのダメージを軽
減させることができ、さらに基板面内の剥離均一性を向
上させてＤＦＲ残りを低減させる効果が期待できる。
せる前に水洗等に処理されるので、剥離時間を短縮で
き、それにより強アルカリによる隔壁へのダメージを軽
減させることができ、さらに基板面内の剥離均一性を向
上させてＤＦＲ残りを低減させる効果が期待できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に図面により本発明の実施形態
を説明する。図１は本発明の一実施形態のＰＤＰのリブ
（隔壁）製造工程で用いるＤＦＲ剥離装置の模式的側面
図である。この図１に示すように、本実施形態のＤＦＲ
剥離装置は、基板５を水により洗う剥離前水洗槽１と、
この水洗槽１の次に配置され剥離液により基板５を剥離
する剥離槽２と、この剥離槽２の次に置かれ基板５を次
の水洗段階に橋渡しするニュートラルゾーン３と、この
ニュートラルゾーン３の後に置かれた水洗槽４とから構
成されている。
を説明する。図１は本発明の一実施形態のＰＤＰのリブ
（隔壁）製造工程で用いるＤＦＲ剥離装置の模式的側面
図である。この図１に示すように、本実施形態のＤＦＲ
剥離装置は、基板５を水により洗う剥離前水洗槽１と、
この水洗槽１の次に配置され剥離液により基板５を剥離
する剥離槽２と、この剥離槽２の次に置かれ基板５を次
の水洗段階に橋渡しするニュートラルゾーン３と、この
ニュートラルゾーン３の後に置かれた水洗槽４とから構
成されている。
【００１７】また、剥離前水洗槽１には、水洗の水を出
す剥離前水洗ノズル１１が設けられ、剥離槽２には、強
アルカリ剥離液を出す剥離液ノズル１２と入口側、出口
側で空気を出すエアナイフ１３とが設けられ、水洗槽４
には、入口側で空気を出すエアナイフ１３と水を出す水
洗ノズル１４とが設けられている。
す剥離前水洗ノズル１１が設けられ、剥離槽２には、強
アルカリ剥離液を出す剥離液ノズル１２と入口側、出口
側で空気を出すエアナイフ１３とが設けられ、水洗槽４
には、入口側で空気を出すエアナイフ１３と水を出す水
洗ノズル１４とが設けられている。
【００１８】本実施形態の動作は、サンドブラストによ
り隔壁ペースト（２１）を切削された基板５は、まず剥
離装置内の剥離前水洗槽１に入る。ここの水洗ノズル１
１により基板５のＤＦＲを水に浸漬させ、剥離液の浸透
性を良くする。次に、剥離槽２の剥離液ノズル１２から
噴射されたＮａＯＨ液等の強アルカリ液にて、基板５上
の隔壁上部のＤＦＲを膨潤させて除去する。その後、水
洗槽４において、剥離槽２で完全に剥離できずに残った
ＤＦＲを水洗して除去すると共に、基板５上のＤＦＲを
洗い流す。
り隔壁ペースト（２１）を切削された基板５は、まず剥
離装置内の剥離前水洗槽１に入る。ここの水洗ノズル１
１により基板５のＤＦＲを水に浸漬させ、剥離液の浸透
性を良くする。次に、剥離槽２の剥離液ノズル１２から
噴射されたＮａＯＨ液等の強アルカリ液にて、基板５上
の隔壁上部のＤＦＲを膨潤させて除去する。その後、水
洗槽４において、剥離槽２で完全に剥離できずに残った
ＤＦＲを水洗して除去すると共に、基板５上のＤＦＲを
洗い流す。
【００１９】なお、剥離槽２では、剥離液ノズル１２か
ら基板５に噴射された強アルカリ剥離液を、入口側と出
口側のエアナイフ１３とによりせき止めて、基板５のＤ
ＦＲに浸漬させこのＤＦＲを除去する。また、次の水洗
槽４の入口側のエアナイフ１３により、剥離槽２の側に
水が流れ込まないように水をせき止めている。
ら基板５に噴射された強アルカリ剥離液を、入口側と出
口側のエアナイフ１３とによりせき止めて、基板５のＤ
ＦＲに浸漬させこのＤＦＲを除去する。また、次の水洗
槽４の入口側のエアナイフ１３により、剥離槽２の側に
水が流れ込まないように水をせき止めている。
【００２０】本発明では、プラズマディスプレイパネル
における隔壁形成工程でのＤＦＲを剥離するプロセスに
おいて、ＮａＯＨ等の強アルカリ剥離液にＤＦＲを浸漬
させる前に、水洗ノズル等でＤＦＲを水に浸漬させるこ
とにより、ＤＦＲに対する剥離液の浸透性を向上させて
ＤＦＲ剥離時間を短縮し、剥離時の強アルカリ液による
隔壁へのダメージを軽減して剥離マージンを向上させる
ことを特徴とし、さらに、剥離液浸漬不足による剥離残
り（ＤＦＲ残り）を低減させることも出来る。
における隔壁形成工程でのＤＦＲを剥離するプロセスに
おいて、ＮａＯＨ等の強アルカリ剥離液にＤＦＲを浸漬
させる前に、水洗ノズル等でＤＦＲを水に浸漬させるこ
とにより、ＤＦＲに対する剥離液の浸透性を向上させて
ＤＦＲ剥離時間を短縮し、剥離時の強アルカリ液による
隔壁へのダメージを軽減して剥離マージンを向上させる
ことを特徴とし、さらに、剥離液浸漬不足による剥離残
り（ＤＦＲ残り）を低減させることも出来る。
【００２１】ＤＦＲ剥離前の水の浸漬の有無による剥離
時間変化の結果を、図２に示す。この実験結果により、
ＤＦＲを剥離液に浸漬させる前に水に浸漬させた場合、
その剥離時間は２６．３秒、ＤＦＲ剥離前に水に浸漬さ
せない場合、その剥離時間は３２．７秒となり、水に浸
漬させた方が、水に浸漬させない場合と比較して１９％
程度剥離時間が短くなっている。
時間変化の結果を、図２に示す。この実験結果により、
ＤＦＲを剥離液に浸漬させる前に水に浸漬させた場合、
その剥離時間は２６．３秒、ＤＦＲ剥離前に水に浸漬さ
せない場合、その剥離時間は３２．７秒となり、水に浸
漬させた方が、水に浸漬させない場合と比較して１９％
程度剥離時間が短くなっている。
【００２２】次に、水の浸漬時間とＤＦＲ剥離時間の関
係を、図３のグラフに示す。基板の水への浸漬時間が
０．５秒で、そのＤＦＲ剥離時間が２８秒、水への浸漬
時間が１０秒で、そのＤＦＲ剥離時間が２５秒程度にな
り、最終的にＤＦＲが剥離する時間は、事前に水に浸漬
させる時間の長さに対して変化がなくなりほぼ一定とな
る。
係を、図３のグラフに示す。基板の水への浸漬時間が
０．５秒で、そのＤＦＲ剥離時間が２８秒、水への浸漬
時間が１０秒で、そのＤＦＲ剥離時間が２５秒程度にな
り、最終的にＤＦＲが剥離する時間は、事前に水に浸漬
させる時間の長さに対して変化がなくなりほぼ一定とな
る。
【００２３】さらに、水の浸漬の有無による剥離液の濡
れ性変化を確認するために、ＤＦＲ上の接触角測定を行
った結果を、図４の図に示す。この測定結果により、Ｄ
ＦＲを剥離液に浸漬させる前に水に浸漬させた場合、そ
の接触角は２９．８°、ＤＦＲ剥離前に水に浸漬させな
い場合、その接触角は３７．２°となり、事前に水に浸
漬させた方が接触角が２０％程度小さくなり、事前に水
に浸漬させた場合の濡れ性が向上することを示してい
る。
れ性変化を確認するために、ＤＦＲ上の接触角測定を行
った結果を、図４の図に示す。この測定結果により、Ｄ
ＦＲを剥離液に浸漬させる前に水に浸漬させた場合、そ
の接触角は２９．８°、ＤＦＲ剥離前に水に浸漬させな
い場合、その接触角は３７．２°となり、事前に水に浸
漬させた方が接触角が２０％程度小さくなり、事前に水
に浸漬させた場合の濡れ性が向上することを示してい
る。
【００２４】以上の実験結果から、剥離液に浸漬させる
前に水に浸漬させることでＤＦＲへの剥離液の浸透性が
向上し、剥離時間を短縮できる。その結果、強アルカリ
による隔壁へのダメージを軽減し剥離マージンを向上さ
せる効果が期待できる。また、剥離液浸透性のアップに
伴い、ＤＦＲの膨潤不足によるＤＦＲ残りを低減させる
効果も期待できる。
前に水に浸漬させることでＤＦＲへの剥離液の浸透性が
向上し、剥離時間を短縮できる。その結果、強アルカリ
による隔壁へのダメージを軽減し剥離マージンを向上さ
せる効果が期待できる。また、剥離液浸透性のアップに
伴い、ＤＦＲの膨潤不足によるＤＦＲ残りを低減させる
効果も期待できる。
【００２５】本発明は、本実施形態のシャワーノズル方
式のみならず、ディップ方式によって水に浸漬させた場
合にも同様の効果が得られる。また、アディティブ法や
サンドブラスト法を用いている隔壁形成工程でのＤＦＲ
剥離プロセスだけでなく、エッチング法やリフトオフ法
を用いている透明電極形成工程でのＤＦＲ剥離プロセス
においても適用可能である。
式のみならず、ディップ方式によって水に浸漬させた場
合にも同様の効果が得られる。また、アディティブ法や
サンドブラスト法を用いている隔壁形成工程でのＤＦＲ
剥離プロセスだけでなく、エッチング法やリフトオフ法
を用いている透明電極形成工程でのＤＦＲ剥離プロセス
においても適用可能である。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ＤＰＤのガラス基板上のＤＦＲを水に浸漬させて、剥離
液の浸透性を上げてから、その剥離液に浸漬させて剥離
を行うことにより、ＤＦＲに対する剥離液の浸透性を従
来よりも改善し、その膨潤効果を高め、剥離時間を短縮
でき、それにより強アルカリによる隔壁へのダメージを
軽減し剥離マージンを向上させることができるという効
果がある。
ＤＰＤのガラス基板上のＤＦＲを水に浸漬させて、剥離
液の浸透性を上げてから、その剥離液に浸漬させて剥離
を行うことにより、ＤＦＲに対する剥離液の浸透性を従
来よりも改善し、その膨潤効果を高め、剥離時間を短縮
でき、それにより強アルカリによる隔壁へのダメージを
軽減し剥離マージンを向上させることができるという効
果がある。
【図１】本発明の第１の実施形態を説明するＤＦＲ剥離
装置の側断面図。
装置の側断面図。
【図２】図１でのＤＦＲ剥離時間を従来例と比較する
図。
図。
【図３】図１での水の浸漬時間とＤＦＲ剥離時間を従来
例と比較するグラフ。
例と比較するグラフ。
【図４】図１でのＤＦＲ剥離前の接触角を従来例と比較
する図。
する図。
【図５】（ａ）〜（ｆ）は従来例のＤＦＲ付着工程を説
明するＤＰＤのリブ製造時の断面図。
明するＤＰＤのリブ製造時の断面図。
【図６】従来例のＤＦＲ剥離装置の側断面図。
１ 剥離前水洗槽
２ 剥離槽
３ ニュートラルゾーン
４ 水洗槽
５ 基板
１１ 剥離前水洗ノズル
１２ 剥離液ノズル
１３ エアナイフ
１４ 水洗ノズル
２１ リブ材
２１ａ リブ
２２ ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）
２２ａ ＤＦＲのリブ
２３ ガラスマスク
Claims (7)
- 【請求項１】 プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
製造工程内でガラス基板上に付着され露光されたドライ
フィルムレジスト（ＤＦＲ）を剥離するＤＦＲ剥離工程
を含むプラズマディスプレイパネルの製造方法におい
て、前記ＤＦＲを剥離液に浸漬させる前に、前記ガラス
基板上のＤＦＲを水に浸漬させることにより、前記ＤＦ
Ｒに対する剥離液の浸透性を向上させたことを特徴とす
るプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項２】 プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
製造工程内でドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）を付着
されたガラス基板の露光されたＤＦＲ部分を剥離する前
に水洗する第１工程と、この水洗したガラス基板を強ア
ルカリ剥離液につけてガラス基板上の露光されたＤＦＲ
部分を剥離する第２工程と、前記ＤＦＲ部分を剥離した
ガラス基板を水洗する第３工程とを含むことを特徴とす
るプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項３】 ガラス基板を剥離する前に水洗する工程
が、前記ガラス基板に水を噴射するシャワーノズル方
式、または、前記ガラス基板を水に浸漬させるディップ
方式による請求項１または２記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。 - 【請求項４】 ＰＤＰ製造工程内のＤＦＲ剥離工程が、
ＰＤＰの隔壁形成工程でのＤＦＲ剥離プロセス、また
は、エッチング法やリフトオフ法を用いている透明電極
形成工程でのＤＦＲ剥離プロセスに用いられる請求項
１，２または３記載のプラズマディスプレイパネルの製
造方法。 - 【請求項５】 プラズマディスプレイパネルの製造工程
内のガラス基板上のドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）
を剥離するプラズマディスプレイパネルの製造装置にお
いて、前記基板上のＤＦＲを剥離する前に水洗してＤＦ
Ｒを膨潤させる剥離前水洗槽を設けた剥離装置を有する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造装
置。 - 【請求項６】 剥離装置が、基板上のドライフィルムレ
ジスト（ＤＦＲ）を強アルカリ液により剥離する剥離槽
と、この剥離槽の次に配置されたニュートラルゾーン
と、このニュートラルゾーンの後に配置された水洗槽と
からなる請求項５記載のプラズマディスプレイパネルの
製造装置。 - 【請求項７】 剥離前水洗槽が、基板に水を噴射するシ
ャワーノズル方式によるもの、または前記基板を水中に
浸けるディップ方式によるものである請求項５または６
記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001287631A JP2003100206A (ja) | 2001-09-20 | 2001-09-20 | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびその製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001287631A JP2003100206A (ja) | 2001-09-20 | 2001-09-20 | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびその製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003100206A true JP2003100206A (ja) | 2003-04-04 |
Family
ID=19110409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001287631A Pending JP2003100206A (ja) | 2001-09-20 | 2001-09-20 | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびその製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003100206A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004112106A1 (ja) * | 2003-06-13 | 2004-12-23 | Sumitomo Precision Products Co., Ltd. | レジスト剥離装置 |
-
2001
- 2001-09-20 JP JP2001287631A patent/JP2003100206A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004112106A1 (ja) * | 2003-06-13 | 2004-12-23 | Sumitomo Precision Products Co., Ltd. | レジスト剥離装置 |
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