JP2003096296A - Resin composition, prepreg and printed circuit board using the same - Google Patents

Resin composition, prepreg and printed circuit board using the same

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JP2003096296A JP2001295503A JP2001295503A JP2003096296A JP 2003096296 A JP2003096296 A JP 2003096296A JP 2001295503 A JP2001295503 A JP 2001295503A JP 2001295503 A JP2001295503 A JP 2001295503A JP 2003096296 A JP2003096296 A JP 2003096296A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition, a prepreg and a printed circuit board having excellent heat resistance, low thermal expansion and a high level of flame-retardancy. SOLUTION: The resin composition comprises a cyanate resin and/or its prepolymer, a phenol resin and an inorganic filler. Additionally, the prepreg is prepared by impregnating a base material in the above resin composition. The printed circuit board of is prepared by laminating a metal foil on the above prepreg and molding the product under heating and pressure.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂組成物、プリ
プレグおよびそれを用いたプリント配線板に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a resin composition, a prepreg, and a printed wiring board using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体の分野では高密度実装技術の進歩
から従来の面実装からエリア実装に移行していくトレン
ドが進行し、BGAやCSPなど新しいパッケージが登
場、増加しつつある。そのため以前にもましてインター
ポーザ用リジッド基板が注目されるようになり、高耐
熱、低熱膨張基板の要求が高まってきている。
2. Description of the Related Art In the field of semiconductors, a trend of shifting from conventional surface mounting to area mounting has progressed due to the progress of high-density mounting technology, and new packages such as BGA and CSP have appeared and are increasing. Therefore, a rigid substrate for an interposer has been receiving more attention than before, and a demand for a highly heat resistant and low thermal expansion substrate is increasing.

【0003】さらに近年、電子機器の高機能化等の要求
に伴い、電子部品の高密度集積化、更には高密度実装化
等が進んでいる。そのため、これらに使用される高密度
実装対応のプリント配線板等は、従来にも増して、小型
化かつ高密度化が進んでいる。このプリント配線板等の
高密度化への対応としてビルドアップ多層配線板が多く
採用されている。しかし、ビルドアップ多層配線板で
は、微細なビアにより層間接続されるので接続強度が低
下するため、高温多湿雰囲気中での機械的、電気的な接
続信頼性を保持することが困難といった問題点があっ
た。
Further, in recent years, along with the demand for higher functionality of electronic equipment, high-density integration of electronic parts and further high-density mounting have been advanced. For this reason, the printed wiring boards and the like that are used for these and are compatible with high-density packaging are becoming smaller and more dense than ever before. Build-up multilayer wiring boards are often used as a measure for increasing the density of printed wiring boards and the like. However, in the build-up multilayer wiring board, since the interlayer connection is made by the fine vias, the connection strength is reduced, and it is difficult to maintain the mechanical and electrical connection reliability in a high temperature and high humidity atmosphere. there were.

【0004】また、これら半導体に用いられる樹脂部材
は難燃性が求められることが多い。従来この難燃性を付
与するため、エポキシ樹脂においては臭素化エポキシな
どのハロゲン系難燃剤を用いることが一般的であった。
しかし、ハロゲン含有化合物はダイオキシン発生の原因
となるおそれがあることから、昨今の環境問題の深刻化
とともに、ハロゲン系難燃剤を使用することが回避され
るようになり、広く産業界にハロゲンフリーの難燃化シ
ステムが求められるようになった。このような時代の要
求によってリン系難燃剤が脚光を浴び、リン酸エステル
や赤リンが検討されたが、これらの従来のリン系難燃剤
は加水分解しやすく樹脂との反応に乏しいため、耐半田
耐熱性が低下する等の問題があった。
Further, resin members used for these semiconductors are often required to have flame retardancy. In the past, in order to impart this flame retardancy, it has been common to use halogenated flame retardants such as brominated epoxy in epoxy resins.
However, since halogen-containing compounds may cause the generation of dioxins, the use of halogen-based flame retardants has come to be avoided as environmental problems have become more serious these days, and halogen-free compounds are widely used in industry. A flame retardant system has been demanded. Due to the demands of such times, phosphorus-based flame retardants have been in the limelight, and phosphoric acid ester and red phosphorus have been investigated.However, these conventional phosphorus-based flame retardants are easily hydrolyzed and have poor reaction with resin, and thus, they are resistant to hydrolysis. There was a problem such as a decrease in solder heat resistance.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐熱
性、低熱膨張性および難燃性に優れた樹脂組成物、プリ
プレグおよびプリント配線板を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a resin composition, a prepreg and a printed wiring board which are excellent in heat resistance, low thermal expansion and flame retardancy.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(8)記載の本発明により達成される。 (1)シアネート樹脂及び/またはそのプレポリマー、
フェノール樹脂および無機充填材を必須成分とする樹脂
組成物。 (2)前記シアネート樹脂及び/またはそのプレポリマ
ーは、ノボラック型シアネート樹脂及び/またはそのプ
レポリマーである上記(1)に記載の樹脂組成物。 (3)前記シアネート樹脂は、樹脂組成物全体の5〜6
0重量%である上記(1)または(2)に記載の樹脂組
成物。 (4)前記エポキシ樹脂は、アリールアルキレン型フェ
ノール樹脂である上記(1)ないし(3)のいずれかに
記載の樹脂組成物。 (5)前記無機充填材は、平均粒径2μm以下の球状溶
融シリカである上記(1)または(4)のいずれかに記
載の樹脂組成物。 (6)前記無機充填材は、樹脂組成物全体の30〜80
重量%である上記(1)ないし(5)のいずれかに記載
の樹脂組成物。 (7)上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の樹脂
組成物を基材に含浸してなるものであるプリプレグ。 (8)上記(7)に記載のプリプレグに金属箔を積層
し、加熱加圧成形してなるプリント配線板。
These objects are achieved by the present invention described in (1) to (8) below. (1) Cyanate resin and / or its prepolymer,
A resin composition containing a phenol resin and an inorganic filler as essential components. (2) The resin composition according to (1), wherein the cyanate resin and / or its prepolymer is a novolac type cyanate resin and / or its prepolymer. (3) The cyanate resin is 5 to 6 of the entire resin composition.
The resin composition according to (1) or (2) above, which is 0% by weight. (4) The resin composition according to any one of (1) to (3), wherein the epoxy resin is an aryl alkylene type phenol resin. (5) The resin composition as described in (1) or (4) above, wherein the inorganic filler is spherical fused silica having an average particle size of 2 μm or less. (6) The inorganic filler is 30 to 80 of the entire resin composition.
The resin composition according to any one of (1) to (5) above, which is in a weight percentage. (7) A prepreg obtained by impregnating a substrate with the resin composition according to any one of (1) to (6). (8) A printed wiring board obtained by laminating a metal foil on the prepreg according to the above (7) and heat-pressing.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明の樹脂組成物、プリ
プレグおよびそれを用いたプリント配線板について詳細
に説明する。本発明の樹脂組成物は、シアネート樹脂及
び/またはそのプレポリマー、フェノール樹脂および無
機充填材を必須成分とする樹脂組成物である。また、本
発明のプリプレグは、上記樹脂組成物を基材に含浸して
なるものである。また、本発明のプリント配線板は、上
記プリプレグに金属箔を積層し、加熱加圧成形してなる
ものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The resin composition, prepreg and printed wiring board using the same of the present invention will be described in detail below. The resin composition of the present invention is a resin composition containing a cyanate resin and / or its prepolymer, a phenol resin and an inorganic filler as essential components. Further, the prepreg of the present invention is obtained by impregnating a base material with the above resin composition. The printed wiring board of the present invention is obtained by laminating a metal foil on the prepreg and heat-pressing it.

【0008】以下、樹脂組成物に関して説明する。本発
明では、シアネート樹脂及び/またはそのプレポリマー
を用いる。これにより、本発明の樹脂組成物をプリント
配線板にした場合に高耐熱且つ低熱膨張とすることがで
きる。前記シアネート樹脂及び/またはそのプレポリマ
ーは、例えばハロゲン化シアン化合物とフェノール類と
を反応させ、必要に応じて加熱等の方法でプレポリマー
化することにより得ることができる。具体的には、ノボ
ラック型シアネート樹脂、ビスフェノールA型シアネー
ト樹脂、ビスフェノールE型シアネート樹脂、テトラメ
チルビスフェノールF型シアネート樹脂等のビスフェノ
ール型シアネート樹脂等を挙げることができる。これら
の中でもノボラック型シアネート樹脂が好ましい。これ
により、架橋密度増加による耐熱性向上と、樹脂組成物
等の難燃性を向上することができる。ノボラック型シア
ネート樹脂は、その構造上ベンゼン環の割合が高く、炭
化しやすいためと考えられる。ノボラック型シアネート
樹脂としては、例えば式(I)で示されるものを使用す
ることができる。
The resin composition will be described below. In the present invention, a cyanate resin and / or its prepolymer is used. Accordingly, when the resin composition of the present invention is used for a printed wiring board, it can have high heat resistance and low thermal expansion. The cyanate resin and / or its prepolymer can be obtained, for example, by reacting a cyanogen halide compound with phenols and, if necessary, prepolymerizing by a method such as heating. Specific examples thereof include novolac type cyanate resin, bisphenol A type cyanate resin, bisphenol E type cyanate resin, and bisphenol type cyanate resin such as tetramethylbisphenol F type cyanate resin. Among these, novolac type cyanate resin is preferable. Thereby, the heat resistance can be improved by increasing the crosslink density and the flame retardancy of the resin composition and the like can be improved. It is considered that the novolac type cyanate resin has a high proportion of benzene rings due to its structure and is easily carbonized. As the novolac type cyanate resin, for example, the one represented by the formula (I) can be used.

【化1】 前記式(I)で示されるノボラック型シアネート樹脂の
nは、特に限定されないが、1〜10が好ましく、特に
1〜7が好ましい。これより少ないとノボラック型シア
ネート樹脂は結晶化しやすくなり、汎用溶媒に対する溶
解性が比較的低下するため、取り扱いが困難となる場合
がある。また、これより多いと架橋密度が高くなりす
ぎ、吸水性の低下や、硬化物が脆くなるなどの現象を生
じる場合がある。
[Chemical 1] The n of the novolac type cyanate resin represented by the formula (I) is not particularly limited, but is preferably 1 to 10 and particularly preferably 1 to 7. If the amount is less than this, the novolac type cyanate resin is likely to be crystallized, and the solubility in a general-purpose solvent is relatively lowered, so that handling may be difficult. On the other hand, if it is more than the above range, the crosslinking density becomes too high, which may cause a phenomenon such as a decrease in water absorption and a cured product becoming brittle.

【0009】前記シアネート樹脂及び/またはそのプレ
ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、重
量平均分子量500〜4500が好ましく、特に600
〜3000が好ましい。これより小さいとプリプレグを
作製した場合にタック性が生じ、プリプレグ同士が接触
したとき互いに付着したり、樹脂の転写が生じたりする
場合がある。また、これより大きいと反応が速くなりす
ぎ、銅張り積層板とした場合に、成形不良を生じたり、
層間ピール強度が低下したりする場合がある。前記シア
ネート樹脂の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成
物全体の5〜60重量%が好ましく、特に10〜50重
量%が好ましい。シアネート樹脂及び/またはそのプレ
ポリマーが前記下限値未満では、耐熱性や低熱膨張化す
る効果が低下する場合があり、前記上限値を超えると架
橋密度が高くなり自由体積が増えるため耐湿性が低下す
る場合がある。
The weight average molecular weight of the cyanate resin and / or its prepolymer is not particularly limited, but a weight average molecular weight of 500 to 4500 is preferable, and 600 is particularly preferable.
~ 3000 is preferred. If it is smaller than this, tackiness may occur when the prepreg is manufactured, and when the prepregs come into contact with each other, they may adhere to each other or the resin may be transferred. Also, if it is larger than this, the reaction becomes too fast, and if a copper-clad laminate is used, molding defects may occur,
The interlayer peel strength may decrease. The content of the cyanate resin is not particularly limited, but is preferably 5 to 60% by weight, and particularly preferably 10 to 50% by weight based on the entire resin composition. If the cyanate resin and / or its prepolymer is less than the lower limit, the heat resistance and the effect of lowering the thermal expansion may decrease, and if it exceeds the upper limit, the crosslinking density increases and the free volume increases, so that the moisture resistance decreases. There is a case.

【0010】本発明の樹脂組成物には、フェノール樹脂
を用いる。フェノール樹脂としては、ノボラック型フェ
ノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂、アリールアル
キレン型フェノール樹脂等が挙げられる。これらの中で
もアリールアルキレン型フェノール樹脂が好ましい。こ
れにより、さらに耐熱性を向上させることができる。前
記アリールアルキレン型フェノール樹脂としては、例え
ばキシリレン型フェノール樹脂、ビフェニルジメチレン
型フェノール樹脂等が挙げられる。ビフェニルジメチレ
ン型フェノール樹脂は、例えば式(II)で示すことが
できる。
A phenol resin is used in the resin composition of the present invention. Examples of the phenol resin include novolac type phenol resin, resol type phenol resin and aryl alkylene type phenol resin. Among these, the aryl alkylene type phenol resin is preferable. Thereby, the heat resistance can be further improved. Examples of the aryl alkylene type phenol resin include xylylene type phenol resin and biphenyl dimethylene type phenol resin. The biphenyl dimethylene type phenol resin can be represented by, for example, the formula (II).

【化2】 前記式(II)で示されるビフェニルジメチレン型フェ
ノール樹脂のnは、特に限定されないが、1〜12が好
ましく、特に2〜8が好ましい。これより少ないと耐熱
性が低下する場合がある。また、これより多いと他の樹
脂との相溶性が低下し、作業性が悪くなる場合があるた
め好ましくない。前述のシアネート樹脂及び/またはそ
のプレポリマー(特にノボラック型シアネート樹脂)と
アリールアルキレン型フェノール樹脂との組合せによ
り、架橋密度をコントロールし、金属と樹脂との密着性
を向上することができる。
[Chemical 2] The n of the biphenyl dimethylene type phenol resin represented by the formula (II) is not particularly limited, but is preferably 1 to 12, and particularly preferably 2 to 8. If it is less than this range, the heat resistance may decrease. On the other hand, if the amount is larger than the above range, the compatibility with other resins is deteriorated and the workability may be deteriorated, which is not preferable. The combination of the above cyanate resin and / or its prepolymer (particularly novolac type cyanate resin) and the arylalkylene type phenol resin can control the crosslink density and improve the adhesion between the metal and the resin.

【0011】前記フェノール樹脂の含有量は、特に限定
されないが、樹脂組成物全体の1〜55重量%が好まし
く、特に5〜40重量%が好ましい。フェノール樹脂が
前記下限値未満では耐熱性が低下する場合があり、前記
上限値を超えると低熱膨張の特性が損なわれる場合があ
る。前記フェノール樹脂の重量平均分子量は、特に限定
されないが、重量平均分子量400〜18000が好ま
しく、特に500〜15000が好ましい。重量平均分
子量が前記範囲より少ないとプリプレグにタック性が生
じるなどの問題が起こる場合が有り、これより多いとプ
リプレグ作製時、基材への含浸性が低下し、均一な製品
が得られないなどの問題が起こる場合がある。
The content of the phenolic resin is not particularly limited, but is preferably 1 to 55% by weight, and particularly preferably 5 to 40% by weight based on the entire resin composition. If the phenol resin is less than the lower limit value, the heat resistance may decrease, and if it exceeds the upper limit value, the low thermal expansion property may be impaired. The weight average molecular weight of the phenol resin is not particularly limited, but a weight average molecular weight of 400 to 18,000 is preferable, and 500 to 15,000 is particularly preferable. If the weight average molecular weight is less than the above range, problems such as tackiness may occur in the prepreg, and if it is more than this range, impregnation into the base material during preparation of the prepreg is reduced, and a uniform product cannot be obtained. Problems may occur.

【0012】本発明では、無機充填材を用いるものであ
る。これにより、低熱膨張化、及び難燃性の向上が図ら
れる。また、前述したシアネート樹脂及び/またはその
プレポリマー(特にノボラック型シアネート樹脂)と無
機充填材との組合せにより、弾性率を向上することがで
きる。前記無機充填材としては、例えばタルク、アルミ
ナ、ガラス、シリカ、マイカ等を挙げることができる。
これらの中でもシリカが好ましく、溶融シリカが低膨張
性に優れる点で好ましい。その形状は破砕状、球状があ
るが、ガラス基材への含浸性を確保するために樹脂組成
物の溶融粘度を下げるには球状シリカを使うなど、その
目的にあわせた使用方法が採用される。
In the present invention, an inorganic filler is used. As a result, low thermal expansion and improvement of flame retardancy can be achieved. Further, the elastic modulus can be improved by combining the above-mentioned cyanate resin and / or its prepolymer (particularly novolac type cyanate resin) with an inorganic filler. Examples of the inorganic filler include talc, alumina, glass, silica, mica and the like.
Among these, silica is preferable, and fused silica is preferable because it has excellent low expansion properties. There are crushed and spherical shapes, but spherical silica is used to lower the melt viscosity of the resin composition in order to ensure impregnation into the glass substrate, and a method of use adapted to the purpose is adopted. .

【0013】前記無機充填材の平均粒径は、特に限定さ
れないが、0.01〜5μmが好ましく、特に0.2〜
2μmが好ましい。無機充填材の粒径が前記下限値より
少ないとワニスの粘度が高くなるため、プリプレグ作製
時の作業性に影響を与える場合がある。また、前記上限
値より多いと、ワニス中で無機充填剤の沈降等の現象が
起こるため望ましくない。更に平均粒径5μm以下の球
状溶融シリカが好ましく、特に平均粒径2μm以下の球
状溶融シリカが好ましい。これにより、無機充填剤の充
填性を向上させることができる。前記無機充填材の含有
量は、樹脂組成物全体の30〜80重量%が好ましく、
特に40〜70重量%が好ましい。無機充填材が前記範
囲内であると低熱膨張、低吸水とすることができる。
The average particle diameter of the inorganic filler is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 5 μm, particularly 0.2 to
2 μm is preferable. If the particle size of the inorganic filler is smaller than the lower limit value, the viscosity of the varnish increases, which may affect workability during prepreg production. On the other hand, if the amount exceeds the upper limit, phenomena such as sedimentation of the inorganic filler occur in the varnish, which is not desirable. Further, spherical fused silica having an average particle diameter of 5 μm or less is preferable, and spherical fused silica having an average particle diameter of 2 μm or less is particularly preferable. Thereby, the filling property of the inorganic filler can be improved. The content of the inorganic filler is preferably 30 to 80% by weight of the entire resin composition,
Particularly, 40 to 70% by weight is preferable. When the inorganic filler is within the above range, low thermal expansion and low water absorption can be achieved.

【0014】本発明の樹脂組成物では、特に限定されな
いが、樹脂成分として更にエポキシ樹脂を用いることが
好ましい。これにより、シアネート樹脂及び/またはそ
のプレポリマーの反応性を向上させることが出来る。エ
ポキシ樹脂としては、例えばフェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレ
ン型エポキシ樹脂、アリールアルキレン型エポキシ樹脂
等が挙げられる。これらの中でもアリールアルキレン型
エポキシ樹脂が好ましい。これにより、耐湿性を向上す
ることができる。前記アリールアルキレン型エポキシ樹
脂とは、繰り返し単位中に一つ以上のアリールアルキレ
ン基を有するエポキシ樹脂をいう。例えばキシリレン型
エポキシ樹脂、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂等
が挙げられる。これらの中でもビフェニルジメチレン型
エポキシ樹脂が好ましい。ビフェニルジメチレン型エポ
キシ樹脂は、例えば式(III)で示すことができる。
In the resin composition of the present invention, although not particularly limited, it is preferable to further use an epoxy resin as a resin component. This makes it possible to improve the reactivity of the cyanate resin and / or its prepolymer. Examples of the epoxy resin include a phenol novolac type epoxy resin, a bisphenol type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, and an aryl alkylene type epoxy resin. Of these, aryl alkylene type epoxy resins are preferable. Thereby, the moisture resistance can be improved. The aryl alkylene type epoxy resin refers to an epoxy resin having one or more aryl alkylene groups in a repeating unit. Examples thereof include xylylene type epoxy resin and biphenyl dimethylene type epoxy resin. Among these, biphenyl dimethylene type epoxy resin is preferable. The biphenyl dimethylene type epoxy resin can be represented by, for example, the formula (III).

【化3】 前記式(III)で示されるビフェニルジメチレン型エ
ポキシ樹脂のnは、特に限定されないが、1〜10が好
ましく、特に2〜5が好ましい。これより少ないとビフ
ェニルジメチレン型エポキシ樹脂は結晶化しやすくな
り、汎用溶媒に対する溶解性が比較的低下するため、取
り扱いが困難となる場合がある。また、これより多いと
樹脂の流動性が低下し、成形不良等の原因となる場合が
ある。更に、前述のシアネート樹脂及び/またはそのプ
レポリマー(特にノボラック型シアネート樹脂)とアリ
ールアルキレン型エポキシ樹脂(特にビフェニルジメチ
レン型エポキシ樹脂)との組合せを用いて銅張り積層板
を作製した場合、優れた寸法安定性を得ることが出来
る。
[Chemical 3] The n of the biphenyl dimethylene type epoxy resin represented by the formula (III) is not particularly limited, but is preferably 1 to 10 and particularly preferably 2 to 5. If the amount is less than the above range, the biphenyl dimethylene type epoxy resin is likely to be crystallized, and the solubility in a general-purpose solvent is relatively lowered, which may make the handling difficult. On the other hand, if the amount is larger than the above range, the fluidity of the resin is lowered, which may cause defective molding or the like. Furthermore, when a copper-clad laminate is prepared using a combination of the above-mentioned cyanate resin and / or its prepolymer (especially novolac type cyanate resin) and aryl alkylene type epoxy resin (especially biphenyl dimethylene type epoxy resin), it is excellent. Dimensional stability can be obtained.

【0015】前記エポキシ樹脂の重量平均分子量は、特
に限定されないが、重量平均分子量500〜20000
が好ましく、特に800〜15000が好ましい。重量
平均分子量が前記範囲より少ないとプリプレグにタック
性が生じるなどの問題が起こる場合が有り、これより多
いとプリプレグ作製時、基材への含浸性が低下し、均一
な製品が得られないなどの問題が起こる場合がある。前
記エポキシ樹脂の含有量は、特に限定されないが、樹脂
組成物全体の1〜55重量%が好ましく、特に2〜40
重量%が好ましい。樹脂が前記下限値未満では、シアネ
ート樹脂の反応性が低下したり、得られる製品の耐湿性
が低下したり場合があり、前記上限値を超えると耐熱性
が低下する場合がある。
The weight average molecular weight of the epoxy resin is not particularly limited, but the weight average molecular weight is 500 to 20,000.
Is preferred, and 800 to 15000 is particularly preferred. If the weight average molecular weight is less than the above range, problems such as tackiness may occur in the prepreg, and if it is more than this range, impregnation into the base material during preparation of the prepreg is reduced, and a uniform product cannot be obtained. Problems may occur. The content of the epoxy resin is not particularly limited, but is preferably 1 to 55% by weight, and particularly 2 to 40% by weight of the entire resin composition.
Weight percent is preferred. If the amount of the resin is less than the lower limit, the reactivity of the cyanate resin may decrease, or the moisture resistance of the obtained product may decrease, and if the amount of the resin exceeds the upper limit, the heat resistance may decrease.

【0016】本発明の樹脂組成物では、上記シアネート
樹脂及び/またはそのプレポリマー、フェノール樹脂及
びエポキシ樹脂の一部をビニルエステル樹脂、メラミン
樹脂等の他の熱硬化性樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミ
ド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリフェニレンオキサ
イド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂等の熱可塑性樹脂
と併用しても良い。
In the resin composition of the present invention, a part of the above cyanate resin and / or its prepolymer, phenol resin and epoxy resin is used as another thermosetting resin such as vinyl ester resin and melamine resin, phenoxy resin and polyimide resin. , A polyamideimide resin, a polyphenylene oxide resin, a polyether sulfone resin, or the like may be used in combination.

【0017】本発明の樹脂組成物では、特に限定されな
いが、カップリング剤を用いることが好ましい。カップ
リング剤は樹脂と無機充填剤の界面の濡れ性を向上させ
ることにより、基材に対して樹脂および充填剤を均一に
定着させ、耐熱性、特に吸湿後の半田耐熱性を改良する
ために配合する。カップリング剤としては通常用いられ
るものなら何でも使用できるが、これらの中でもエポキ
シシランカップリング剤、チタネート系カップリング
剤、アミノシランカップリング剤及びシリコーンオイル
型カップリング剤の中から選ばれる1種以上のカップリ
ング剤を使用することが無機充填剤界面との濡れ性が高
く、耐熱性向上の点で好ましい。本発明でカップリング
剤は、無機充填剤に対して0.05重量%以上、3重量
%以下が望ましい。これより少ないと充填剤を十分に被
覆できず十分な耐熱性が得られない場合があり、これよ
り多いと反応に影響を与え、曲げ強度等が低下するよう
になるためこの範囲での使用が望ましい。
The resin composition of the present invention is not particularly limited, but it is preferable to use a coupling agent. The coupling agent improves the wettability of the interface between the resin and the inorganic filler, so that the resin and the filler are uniformly fixed to the substrate, and the heat resistance, especially the solder heat resistance after moisture absorption, is improved. Compound. As the coupling agent, any commonly used one can be used, and among them, one or more selected from epoxysilane coupling agents, titanate coupling agents, aminosilane coupling agents and silicone oil type coupling agents can be used. It is preferable to use a coupling agent in terms of high wettability with the interface of the inorganic filler and improvement in heat resistance. In the present invention, the coupling agent content is preferably 0.05% by weight or more and 3% by weight or less with respect to the inorganic filler. If it is less than this, the filler may not be sufficiently covered and sufficient heat resistance may not be obtained, and if it is more than this, the reaction is affected and the bending strength etc. decreases, so use within this range desirable.

【0018】本発明の樹脂組成物では、必要に応じて硬
化促進剤を用いてもよい。硬化促進剤としては公知の物
を用いることが出来る。たとえば、ナフテン酸亜鉛、ナ
フテン酸コバルト、オクチル酸スズ、オクチル酸コバル
ト、ビスアセチルアセトナートコバルト(II)、トリ
スアセチルアセトナートコバルト(III)等の有機金
属塩、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジアザビ
シクロ[2,2,2]オクタン等の3級アミン類、2−フ
ェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチル−4−エ
チルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾ
ール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシイミ
ダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシイミダ
ゾール等のイミダゾール類、フェノール、ビスフェノー
ルA、ノニルフェノー等のフェノール化合物、酢酸、安
息香酸、サリチル酸、パラトルエンスルホン酸等の有機
酸等、またはこの混合物が挙げられる。
In the resin composition of the present invention, a curing accelerator may be used if necessary. A well-known thing can be used as a hardening accelerator. For example, organic metal salts such as zinc naphthenate, cobalt naphthenate, tin octylate, cobalt octylate, bisacetylacetonatocobalt (II) and trisacetylacetonatocobalt (III), triethylamine, tributylamine, diazabicyclo [2,2]. 2,2] octane and other tertiary amines, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-ethyl-4-ethylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxy Examples include imidazoles, imidazoles such as 2-phenyl-4,5-dihydroxyimidazole, phenol compounds such as phenol, bisphenol A, and nonylpheno, organic acids such as acetic acid, benzoic acid, salicylic acid, and paratoluenesulfonic acid, or a mixture thereof. To be

【0019】本発明の樹脂組成物では、必要に応じて、
上記成分以外の添加物を特性を損なわない範囲で添加す
ることが出来る。
In the resin composition of the present invention, if necessary,
Additives other than the above components can be added within a range that does not impair the characteristics.

【0020】次に、本発明のプリプレグについて説明す
る。本発明のプリプレグは上記樹脂組成物を基材に含浸
してなるものである。これにより、耐熱性、低膨張性お
よび難燃性に優れたプリプレグを得ることができる。前
記基材としては、例えばガラス織布、ガラス不繊布、ガ
ラスペーパー等のガラス繊維基材、紙、アラミド、ポリ
エステル、芳香族ポリエステル、フッ素樹脂等の合成繊
維等からなる織布や不織布、金属繊維、カーボン繊維、
鉱物繊維等からなる織布、不織布、マット類等が挙げら
れる。これらの基材は単独又は混合して使用してもよ
い。これらの中でもガラス繊維基材が好ましい。これに
より、プリプレグの剛性、寸法安定性を向上することが
できる。
Next, the prepreg of the present invention will be described. The prepreg of the present invention is obtained by impregnating a base material with the above resin composition. This makes it possible to obtain a prepreg excellent in heat resistance, low expansion and flame retardancy. Examples of the base material include glass woven cloth, glass non-woven cloth, glass fiber base material such as glass paper, paper, aramid, polyester, aromatic polyester, woven cloth and synthetic fiber such as fluororesin, and metal fiber. , Carbon fiber,
Examples thereof include woven fabrics, non-woven fabrics, mats and the like made of mineral fibers and the like. You may use these base materials individually or in mixture. Of these, a glass fiber base material is preferable. This can improve the rigidity and dimensional stability of the prepreg.

【0021】前記樹脂組成物を前記基材に含浸させる方
法は、例えば基材を樹脂ワニスに浸漬する方法、各種コ
ーターによる塗布する方法、スプレーによる吹き付ける
方法等が挙げられる。これらの中でも、基材を樹脂ワニ
スに浸漬する方法が好ましい。これにより、基材に対す
る樹脂組成物の含浸性を向上することができる。なお、
基材を樹脂ワニスに浸漬する場合、通常の含浸塗布設備
を使用することができる。
The method of impregnating the base material with the resin composition includes, for example, a method of immersing the base material in a resin varnish, a method of coating with a variety of coaters, and a method of spraying. Among these, the method of immersing the base material in the resin varnish is preferable. Thereby, the impregnation property of the resin composition on the substrate can be improved. In addition,
When dipping the base material in the resin varnish, ordinary impregnation coating equipment can be used.

【0022】前記樹脂ワニスに用いられる溶媒は、前記
樹脂組成物に対して良好な溶解性を示すことが望ましい
が、悪影響を及ぼさない範囲で貧溶媒を使用しても構わ
ない。良好な溶解性を示す溶媒としては、例えばアセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロペンタノン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等が
挙げられる。前記樹脂ワニスの固形分は、特に限定され
ないが、前記樹脂組成物の固形分30〜80重量%が好
ましく、特に40〜70重量%が好ましい。これによ
り、樹脂ワニスの基材への含浸性を向上できる。前記基
材に前記樹脂組成物を含浸させ、所定温度、例えば90
〜180℃で乾燥させることによりプリプレグを得るこ
とが出来る。
The solvent used for the resin varnish preferably has good solubility in the resin composition, but a poor solvent may be used within a range that does not have an adverse effect. Examples of the solvent exhibiting good solubility include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like. The solid content of the resin varnish is not particularly limited, but the solid content of the resin composition is preferably 30 to 80% by weight, and particularly preferably 40 to 70% by weight. This can improve the impregnation property of the resin varnish into the base material. The base material is impregnated with the resin composition at a predetermined temperature, for example 90
A prepreg can be obtained by drying at ~ 180 ° C.

【0023】次に、プリント配線板について説明する。
本発明のプリント配線板は、上記のプリプレグに金属箔
を積層して加熱加圧成形してなるものである。これによ
り、耐熱性、低膨張性および難燃性に優れたプリント配
線板を得ることができる。プリプレグ1枚のときは、そ
の上下両面もしくは片面に金属箔を重ねる。また、プリ
プレグを2枚以上積層することもできる。プリプレグ2
枚以上積層するときは、積層したプリプレグの最も外側
の上下両面もしくは片面に金属箔あるいはフィルムを重
ねる。次に、プリプレグと金属箔とを重ねたものを加熱
加圧成形することでプリント配線板を得ることができ
る。前記加熱する温度は、特に限定されないが、120
〜220℃が好ましく、特に150〜200℃が好まし
い。前記加圧する圧力は、特に限定されないが、1.5
〜5MPaが好ましく、特に2〜4MPaが好ましい。
また、必要に応じて高温漕等で150〜300℃の温
度で後硬化を行ってもかまわない。
Next, the printed wiring board will be described.
The printed wiring board of the present invention is obtained by laminating a metal foil on the above prepreg and heat-pressing it. This makes it possible to obtain a printed wiring board excellent in heat resistance, low expansion and flame retardancy. When using one prepreg, overlay metal foil on both upper and lower surfaces or on one side. Also, two or more prepregs can be laminated. Prepreg 2
When laminating one or more sheets, a metal foil or film is laminated on the outermost upper and lower surfaces or one side of the laminated prepreg. Next, a printed wiring board can be obtained by heat-press molding a prepreg and a metal foil that are stacked. The heating temperature is not particularly limited, but is 120
-220 degreeC is preferable and 150-200 degreeC is especially preferable. The pressure to be applied is not particularly limited, but is 1.5
-5 MPa is preferable, and 2-4 MPa is particularly preferable.
Further, if necessary, post-curing may be performed in a high temperature bath or the like at a temperature of 150 to 300 ° C.

【0024】[0024]

【実施例】実施例1 ノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社
製、プリマセット PT−60)20重量部(以下、部
と略す)、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂(日本
化薬株式会社製、NC−3000P)11重量部、ビフ
ェニルジメチレン型フェノール樹脂(明和化成株式会社
製、MEH−7851−S)9重量部、及びエポキシシ
ラン型カップリング剤(日本ユニカー株式会社製、A−
187)0.3重量部をメチルエチルケトンに常温で溶
解し、球状溶融シリカSFP−10X (電気化学工業
株式会社製)10部及びSO−32R(株式会社アドマ
テックス社製)を添加し、高速攪拌機を用いて10分攪
拌した。調製したワニスをガラス織布(厚さ200μ
m、日東紡績製、WEA−7628)に含浸し、120
℃の加熱炉で2分乾燥してワニス固形分(プリプレグ中
に樹脂とシリカの占める成分)が約50%のプリプレグ
を得た。このプリプレグを所定枚数重ね、両面に18μ
mの銅箔を重ねて、圧力4MPa、温度200℃で2時
間加熱加圧成形することによって両面銅張積層板を得
た。
Examples Example 1 20 parts by weight of novolac type cyanate resin (Lonza Japan KK, Primaset PT-60) (hereinafter abbreviated as "part"), biphenyl dimethylene type epoxy resin (Nippon Kayaku Co., NC) -3000P) 11 parts by weight, biphenyl dimethylene type phenol resin (manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd., MEH-7851-S) 9 parts by weight, and epoxysilane type coupling agent (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd., A-
187) 0.3 part by weight is dissolved in methyl ethyl ketone at room temperature, 10 parts of spherical fused silica SFP-10X (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and SO-32R (manufactured by Admatechs Co., Ltd.) are added, and a high-speed stirrer is used. It was stirred for 10 minutes. The prepared varnish is woven with glass (thickness 200μ
m, manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd., WEA-7628), and impregnated with 120
It was dried for 2 minutes in a heating furnace at 0 ° C. to obtain a prepreg having a varnish solid content (components of resin and silica in the prepreg) of about 50%. A predetermined number of these prepregs are stacked, and 18μ on both sides.
A double-sided copper-clad laminate was obtained by stacking m copper foils and heating and pressing at a pressure of 4 MPa and a temperature of 200 ° C. for 2 hours.

【0025】得られた両面銅張積層板の評価方法を〜
に示す。 ガラス転移温度 厚さ0.6mmの両面銅張積層板を全面エッチングし、
得られた積層板から10mm×60mmのテストピース
を切り出し、TAインスツルメント社製動的粘弾性測定
装置DMA983を用いて3℃/分で昇温し、tanδ
のピーク位置をガラス転移温度とした。
The evaluation method of the obtained double-sided copper-clad laminate is described below.
Shown in. The entire surface of a double-sided copper-clad laminate with a glass transition temperature of 0.6 mm is etched,
A test piece of 10 mm × 60 mm was cut out from the obtained laminated plate, heated at 3 ° C./min using a dynamic viscoelasticity measuring device DMA983 manufactured by TA Instruments, and tan δ
Was taken as the glass transition temperature.

【0026】線膨張係数 厚さ1.2mmの両面銅張積層板を全面エッチングし、
得られた積層板から2mm×2mmのテストピースを切
り出し、TMAを用いて厚み方向(Z方向)の線膨張係
数を5℃/分で測定した。
A double-sided copper clad laminate having a linear expansion coefficient of 1.2 mm in thickness is entirely etched,
A test piece of 2 mm × 2 mm was cut out from the obtained laminated plate, and the linear expansion coefficient in the thickness direction (Z direction) was measured at 5 ° C./minute using TMA.

【0027】難燃性 UL−94規格に従い、1mm厚のテストピースを垂直
法により測定した。
According to the flame retardant UL-94 standard, a 1 mm thick test piece was measured by the vertical method.

【0028】吸水率 厚さ0.6mmの両面銅張り積層板を全面エッチング
し、得られた積層板から50mm×50mmのテストピ
ースを切り出し、JIS6481に従い測定した。
A double-sided copper-clad laminate having a water absorption of 0.6 mm was completely etched, and a test piece of 50 mm × 50 mm was cut out from the obtained laminate and measured according to JIS6481.

【0029】吸湿はんだ耐熱性 厚さ0.6mmの両面銅張積層板から50mm×50m
mに切り出し、JIS6481に従い半面エッチングを
行ってテストピースを作成した。125℃のプレッシャ
ークッカーで処理した後、260℃のはんだ槽に銅箔面
を下にして浮かべ、180秒後にフクレが発生する処理
時間を計測した。
Moisture absorption solder heat resistance 50 mm x 50 m from a double-sided copper clad laminate having a thickness of 0.6 mm
A test piece was prepared by cutting out to m and performing half-face etching according to JIS6481. After treating with a pressure cooker at 125 ° C., the copper foil surface was floated down in a soldering bath at 260 ° C., and the treatment time for generating blisters after 180 seconds was measured.

【0030】実施例2〜7及び比較例1〜4 表1に示す配合にて、実施例1と同様の方法で両面銅張
積層板を得た。評価方法も前述の通りである。
Examples 2 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 With the formulations shown in Table 1, double-sided copper-clad laminates were obtained in the same manner as in Example 1. The evaluation method is also as described above.

【0031】これらの銅張積層板の評価結果を表1に示
す。各実施例で得られた銅張積層板は、ハロゲン系難燃
剤およびリン化合物を使用していないにもかかわらず優
れた難燃性を有し、ガラス転移温度が高く、線膨張係数
が小さく、吸湿はんだ耐熱性にも優れることがわかる。
The evaluation results of these copper clad laminates are shown in Table 1. The copper-clad laminates obtained in each example have excellent flame retardancy despite not using a halogen-based flame retardant and a phosphorus compound, have a high glass transition temperature, and have a small linear expansion coefficient, It can be seen that it has excellent heat resistance to moisture-absorbing solder.

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】表の注 1)Primaset PT−30(ノボラック型シア
ネート樹脂、重量平均分子量約700):ロンザジャパ
ン株式会社製 2)Primaset PT−60(ノボラック型シア
ネート樹脂、重量平均分子量約2600):ロンザジャ
パン株式会社製 3)AroCy B−30(ビスフェノールA型シアネ
ート樹脂):旭化成エポキシ株式会社製 4)NC−3000P(ビフェニルアルキレン型エポキ
シ樹脂、エポキシ当量275):日本化薬株式会社製 5)エピクロン N−775(ノボラック型エポキシ樹
脂、エポキシ当量190):大日本インキ化学工業株式
会社製 6)PR−51714(ノボラック樹脂、水酸基当量1
03):住友ベークライト株式会社製 7)MEH−7851−S(ビフェニルアルキレン型ノ
ボラック樹脂、水酸基当量203):明和化成株式会社
製 8)SFP−10X(球状溶融シリカ、平均粒径0.3
μm):電気化学工業株式会社製 9)SO−32R(球状溶融シリカ、平均粒径1.5μ
m):株式会社アドマテックス製 10)FB−5SDX(球状溶融シリカ、平均粒径4.
4μm):電気化学工業株式会社製 11)AO−802(球状アルミナ、平均粒径0.7μ
m):株式会社アドマテックス製 12)A−187(エポキシシラン型カップリング
剤):日本ユニカー株式会社製 13)2MZ(2−メチルイミダゾール):四国化成工
業株式会社製
Note 1 in the table) Primaset PT-30 (novolak type cyanate resin, weight average molecular weight about 700): Lonza Japan Co., Ltd. 2) Primaset PT-60 (novolak type cyanate resin, weight average molecular weight about 2600): Lonza Japan Co., Ltd. 3) AroCy B-30 (bisphenol A type cyanate resin): Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd. 4) NC-3000P (biphenylalkylene type epoxy resin, epoxy equivalent 275): Nippon Kayaku Co., Ltd. 5) Epicron N -775 (Novolak type epoxy resin, epoxy equivalent 190): Dainippon Ink and Chemicals, Inc. 6) PR-51714 (Novolak resin, hydroxyl equivalent 1)
03): Sumitomo Bakelite Co., Ltd. 7) MEH-7851-S (biphenylalkylene novolac resin, hydroxyl equivalent 203): Meiwa Kasei Co., Ltd. 8) SFP-10X (spherical fused silica, average particle size 0.3)
μm): manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. 9) SO-32R (spherical fused silica, average particle size 1.5 μm)
m): 10) FB-5SDX manufactured by Admatechs Co., Ltd. (spherical fused silica, average particle size 4.
4 μm): Denki Kagaku Kogyo KK 11) AO-802 (spherical alumina, average particle size 0.7 μm)
m): manufactured by Admatex Co., Ltd. 12) A-187 (epoxysilane type coupling agent): manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd. 13) 2MZ (2-methylimidazole): manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明における第一の効果は、ハロゲン
化合物およびリン化合物を使用せずに優れた難燃性を有
し、かつ高耐熱、低熱膨張の特性を発現しうる樹脂組成
物、プリプレグ、及び銅張積層板が得られることであ
る。また、本発明における第二の効果は、プリプレグ等
の厚み方向の熱膨張係数を制御することができることで
あり、これによって層間の接続強度を向上し、高温多湿
雰囲気中での機械的、電気的な接続信頼性を改善するこ
とができることである。
The first effect of the present invention is to provide a resin composition and a prepreg which have excellent flame retardancy without using a halogen compound and a phosphorus compound and can exhibit high heat resistance and low thermal expansion characteristics. , And a copper clad laminate can be obtained. Further, the second effect of the present invention is to be able to control the coefficient of thermal expansion in the thickness direction of the prepreg and the like, thereby improving the connection strength between the layers, mechanical and electrical in a high temperature and high humidity atmosphere. It is possible to improve reliable connection reliability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 1/03 610 H05K 1/03 610K 610R 3/00 3/00 R (72)発明者 馬塲 孝幸 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 (72)発明者 八月朔日 猛 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 Fターム(参考) 4F072 AA01 AA05 AA07 AB04 AB05 AB06 AB09 AB10 AB28 AB29 AD13 AD23 AD27 AD42 AD45 AE01 AE04 AE23 AF06 AF21 AG03 AG17 AG19 AH02 AH31 AH52 AK05 AK14 AL12 AL13 4F100 AA01A AA20A AB01B AB33B AK33A AK51A BA02 BA07 CA23A DE04A DH01A EJ172 EJ422 GB43 JJ03 JJ07 JL04 YY00A 4J002 CC02X CC03X CC12X CM02W DE146 DJ016 DJ046 DJ056 DL006 EE047 EF037 EF097 EG017 EJ027 EJ037 EJ067 EU117 EV237 FD016 FD157 GF00 GH00 GQ00 GQ01 HA01─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05K 1/03 610 H05K 1/03 610K 610R 3/00 3/00 R (72) Inventor Takayuki Takahashi Tokyo 2-5-8 Higashi-Shinagawa, Shinagawa-ku, Sumitomo Bakelite Co., Ltd. (72) Inventor, Takeshi August August 2--5-8, Higashi-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sumitomo Bakelite Co., Ltd. F-term (reference) 4F072 AA01 AA05 AA07 AB04 AB05 AB06 AB09 AB10 AB28 AB29 AD13 AD23 AD27 AD42 AD45 AE01 AE04 AE23 AF06 AF21 AG03 AG17 AG19 AH02 AH31 AH52 AK05 AK14 AL12 AL13 4F100 AA01A AA20A AB01B AB03B02 BA07B02BA02 BA07CA02A02BA07 CA02A02 BA07 CA23A DE04A01B02BA02 BA07CA01A02BA07 CA23A DE04A02 CM02W DE146 DJ016 DJ046 DJ056 DL006 EE047 EF037 EF097 EG017 EJ027 EJ037 EJ067 EU117 EV237 FD016 FD157 GF00 GH0 0 GQ00 GQ01 HA01

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シアネート樹脂及び/またはそのプレポ
リマー、フェノール樹脂および無機充填材を必須成分と
する樹脂組成物。
1. A resin composition containing a cyanate resin and / or a prepolymer thereof, a phenol resin and an inorganic filler as essential components.
【請求項2】 前記シアネート樹脂及び/またはそのプ
レポリマーは、ノボラック型シアネート樹脂及び/また
はそのプレポリマーである請求項1に記載の樹脂組成
物。
2. The resin composition according to claim 1, wherein the cyanate resin and / or its prepolymer is a novolac type cyanate resin and / or its prepolymer.
【請求項3】 前記シアネート樹脂は、樹脂組成物全体
の5〜60重量%である請求項1または2に記載の樹脂
組成物。
3. The resin composition according to claim 1, wherein the cyanate resin accounts for 5 to 60% by weight of the entire resin composition.
【請求項4】 前記フェノール樹脂は、アリールアルキ
レン型フェノール樹脂である請求項1ないし3のいずれ
かに記載の樹脂組成物。
4. The resin composition according to claim 1, wherein the phenol resin is an aryl alkylene type phenol resin.
【請求項5】 前記無機充填材は、平均粒径2μm以下
の球状溶融シリカである請求項1または4のいずれかに
記載の樹脂組成物。
5. The resin composition according to claim 1, wherein the inorganic filler is spherical fused silica having an average particle size of 2 μm or less.
【請求項6】 前記無機充填材は、樹脂組成物全体の3
0〜80重量%である請求項1ないし5のいずれかに記
載の樹脂組成物。
6. The inorganic filler comprises 3 parts of the total resin composition.
The resin composition according to any one of claims 1 to 5, which is 0 to 80% by weight.
【請求項7】 請求項1ないし6のいずれかに記載の樹
脂組成物を基材に含浸してなるものであるプリプレグ。
7. A prepreg obtained by impregnating a substrate with the resin composition according to any one of claims 1 to 6.
【請求項8】 請求項7に記載のプリプレグに金属箔を
積層し、加熱加圧成形してなるプリント配線板。
8. A printed wiring board obtained by laminating a metal foil on the prepreg according to claim 7 and heat-pressing.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1854828A2 (en) 2006-05-12 2007-11-14 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Flame-retardant prepreg resins based on cyanate and hardening at low temperatures for honeycomb sandwich components
JPWO2008023517A1 (en) * 2006-07-20 2010-01-07 日立化成工業株式会社 Opto-electric hybrid board
WO2011034055A1 (en) * 2009-09-15 2011-03-24 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Prepreg
JP2012131948A (en) * 2010-12-24 2012-07-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd Resin composition, prepreg, laminate plate, resin sheet, printed wiring board, and semiconductor device
JP2017179351A (en) * 2016-03-29 2017-10-05 積水化学工業株式会社 Cured article of resin composition, resin composition and multilayer substrate

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1854828A2 (en) 2006-05-12 2007-11-14 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Flame-retardant prepreg resins based on cyanate and hardening at low temperatures for honeycomb sandwich components
EP1854828A3 (en) * 2006-05-12 2008-02-06 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Flame-retardant prepreg resins based on cyanate and hardening at low temperatures for honeycomb sandwich components
US8242035B2 (en) 2006-05-12 2012-08-14 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Flame-resistant, low-temperature curing cyanate-based prepreg resins for honeycomb sandwich components with excellent surfaces
JPWO2008023517A1 (en) * 2006-07-20 2010-01-07 日立化成工業株式会社 Opto-electric hybrid board
JP5035244B2 (en) * 2006-07-20 2012-09-26 日立化成工業株式会社 Opto-electric hybrid board
WO2011034055A1 (en) * 2009-09-15 2011-03-24 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Prepreg
CN102498163A (en) * 2009-09-15 2012-06-13 旭化成电子材料株式会社 Prepreg
KR101384947B1 (en) 2009-09-15 2014-04-11 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 Prepreg
JP5584692B2 (en) * 2009-09-15 2014-09-03 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Prepreg
JP2012131948A (en) * 2010-12-24 2012-07-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd Resin composition, prepreg, laminate plate, resin sheet, printed wiring board, and semiconductor device
JP2017179351A (en) * 2016-03-29 2017-10-05 積水化学工業株式会社 Cured article of resin composition, resin composition and multilayer substrate

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