JP2003089165A - Composite film having ultra-high gas-barrier property and display using the same - Google Patents

Composite film having ultra-high gas-barrier property and display using the same

Info

Publication number
JP2003089165A
JP2003089165A JP2001285042A JP2001285042A JP2003089165A JP 2003089165 A JP2003089165 A JP 2003089165A JP 2001285042 A JP2001285042 A JP 2001285042A JP 2001285042 A JP2001285042 A JP 2001285042A JP 2003089165 A JP2003089165 A JP 2003089165A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
film
composite film
gas barrier
laminated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001285042A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yurie Ota
友里恵 太田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2001285042A priority Critical patent/JP2003089165A/en
Publication of JP2003089165A publication Critical patent/JP2003089165A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite film having high gas-barrier properties exceeding the water-vapor permeability [about 0.5-2 g/m<2> .day (40 deg.C, 90% RH)] of a conventional alumina-deposited film or a silica-deposited film. SOLUTION: In the composite film, an ultra-high gas-barrier layer 6 comprising a thin film layer 4 of a metal oxide and an overcoat layer 5 is laminated on A base material film 2 as required through a primer layer 3. The composite films can mutually be laminated through an adhesive layer 7, and in this case, one overcoat layer 5 can be omitted.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、超高ガスバリア性
を有する複合フィルムに関するもので、特に高度なガス
バリア性を要求される包装分野、もしくは各種のディス
プレイの基板として用いたり、基板を被覆するのに適し
た超高ガスバリア性を有する複合フィルムに関するもの
である。また、本発明は、このような複合フィルムを用
いたディスプレイに関するものでもある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a composite film having an extremely high gas barrier property, and is particularly useful in the field of packaging where a high gas barrier property is required, or as a substrate for various displays, or for coating a substrate. The present invention relates to a composite film having an ultrahigh gas barrier property suitable for The present invention also relates to a display using such a composite film.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、種々の方式のディスプレイが使用
され、また開発されているが、ブラウン管を使用するも
のを除けば、いずれも薄型化を目指すものであり、さら
には、フレキシブルなものも求められるようになってき
ている。そこで、従来、ディスプレイの基板の素材とし
て多用されていたガラス板に代わって、プラスチックシ
ート、もしくはプラスチックフィルムを用いることが検
討されている。なお、用語のシート、およびプラスチッ
クシートは、一般的に厚みの厚いものを指し、フィル
ム、およびプラスチックフィルムは、比較的厚みの薄い
ものを指すのが普通であるが、ここでは、厚みの厚いも
の、および薄いものの両方の意味を含めて、フィルム、
およびプラスチックフィルムと言うこととする。
2. Description of the Related Art Currently, various types of displays are in use and have been developed. However, except for those using a cathode ray tube, they are all aimed at thinning, and flexible ones are also required. Is becoming available. Therefore, it has been considered to use a plastic sheet or a plastic film in place of the glass plate that has been widely used as a material for a display substrate. The term sheet and plastic sheet generally mean thick ones, and film and plastic film generally mean relatively thin ones, but here, thick ones Film, including the meaning of both, and thin
And plastic film.

【0003】ディスプレイの基板の素材としてプラスチ
ックフィルムを用いる際には、一般に機械的強度が必要
であり、加えて、表面の平滑性と、高度なガスバリア性
が要求され、特にディスプレイの発光や光の変調に関与
する物質を、酸素や湿気、とりわけ湿気の影響から遮断
するのに充分なガスバリア性が必要とされる。
When a plastic film is used as a material for a display substrate, mechanical strength is generally required, and in addition, surface smoothness and high gas barrier property are required. Sufficient gas barrier properties are needed to shield the substances involved in modulation from the effects of oxygen and moisture, especially moisture.

【0004】ところで、従来から、食品包装等の包装分
野では、食品の長期保存性の向上の目的で、プラスチッ
クフィルムに、シリカ、アルミナ等の薄膜形成により気
体や水分の透過性を抑制した(=ガスバリア性を付与し
た)種々のガスバリア性フィルムを使用している。一例
として、PET(ポリエチレンテレフタフタレート樹
脂)フィルムをベースとするアルミナ蒸着フィルム、も
しくはシリカ蒸着フィルムの場合、0.5〜2g/m2
・day(40℃、90%RHの場合)程度の透湿度を
有するものが使用されている。
By the way, conventionally, in the field of packaging such as food packaging, for the purpose of improving the long-term preservability of food, the permeability of gas and water is suppressed by forming a thin film of silica, alumina or the like on a plastic film (= Various gas barrier films (provided with gas barrier properties) are used. As an example, in the case of an alumina vapor deposition film based on a PET (polyethylene terephthalphthalate resin) film or a silica vapor deposition film, 0.5 to 2 g / m 2
A material having a moisture permeability of about day (at 40 ° C. and 90% RH) is used.

【0005】しかし、従来の包装分野で用いられるガス
バリア性フィルムをディスプレイの基板として、または
ディスプレイの被覆用や密封用として利用すると、ガス
バリア性が充分でないことが判明した。というのも、デ
ィスプレイ自体、長期間に渡って設置され、使用時には
電位や温度上昇の影響を受ける等、食品にくらべると曝
される条件が厳しく、しかも、ディスプレイの発光や光
の変調に関与する物質は、化学的に安定性が高いとは言
えないものであるからである。例えば、有機ELD(E
LD;エレクトロルミネッセンスディスプレイ)の基板
として、前段落で挙げたPETフィルムをベースとする
シリカ蒸着フィルムを使用すると、ダークスポット(黒
点欠陥)が次第に大きくなる欠陥が避けられない。
However, it has been found that the gas barrier property is not sufficient when the gas barrier film used in the conventional packaging field is used as a substrate of a display, or for covering or sealing the display. This is because the display itself is installed for a long period of time, and the conditions under which it is exposed to food, such as being affected by the potential and temperature rise during use, are strict, and it is also involved in light emission and light modulation of the display. This is because the substance is not chemically highly stable. For example, organic ELD (E
When a silica vapor-deposited film based on the PET film mentioned in the preceding paragraph is used as a substrate for LD (electroluminescence display), defects in which dark spots (black spot defects) gradually increase cannot be avoided.

【0006】種々の実験により、有機ELDには、通常
の包装分野におけるガスバリア性よりも格段に高度なガ
スバリア性が必要であることが推測されており、モコン
法(モダンコントロール(株)製の測定機を用いて行な
う。)で測定できる限界値である、0.001g/m2
・day・atm(40℃、90%RHの場合)以下で
ある10-4g/m2・day・atm(40℃、90%
RHの場合)以下が目標となると言われている。なお、
通常の測定では0.1g/m2・day・atm(40
℃、90%RHの場合)が限界である。なお、有機LE
Dは、ディスプレイの発光や光の変調に関与する物質の
中でも、最もデリケートな部類に属するものであるの
で、有機LEDを基準に、高度なガスバリア性を有する
ガスバリア性フィルムを開発すれば、ほかのタイプのデ
ィスプレイにも有効であることが分かっている。
From various experiments, it has been speculated that the organic ELD requires a gas barrier property that is significantly higher than the gas barrier property in the ordinary packaging field, and the Mocon method (measurement by Modern Control Co., Ltd.) 0.001 g / m 2 which is the limit value that can be measured by using a machine.
・ Day ・ atm (at 40 ° C, 90% RH) 10 -4 g / m 2・ day ・ atm (40 ° C, 90%)
(In the case of RH) The following is said to be the target. In addition,
In normal measurement, 0.1 g / m 2 · day · atm (40
(In the case of ° C and 90% RH) is the limit. In addition, organic LE
Since D belongs to the most delicate class among the substances involved in the light emission and light modulation of the display, if a gas barrier film having a high gas barrier property is developed based on the organic LED, other It has been found to be effective for any type of display.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明におい
ては、従来、到達不可能であった高度なガスバリア性を
有するガスバリア性フィルム、具体的には、0.001
g/m2・day(40℃、90%RHの場合)以下、
より好ましくは、10-4g/m2・day(40℃、9
0%RHの場合)以下のガスバリア性を最終目標とし、
アルミナ蒸着フィルム、もしくはシリカ蒸着フィルムの
通常のものの透湿度である、0.5〜2g/m2・da
y(40℃、90%RHの場合)程度の透湿度を上回る
高度なガスバリア性フィルムを提供することを課題とす
る。
Therefore, in the present invention, a gas barrier film having a high gas barrier property which has hitherto been unattainable, specifically 0.001
g / m 2 · day (at 40 ° C, 90% RH) or less,
More preferably, 10 −4 g / m 2 · day (40 ° C., 9
In the case of 0% RH), the final goal is to achieve the following gas barrier properties,
Moisture vapor transmission rate of 0.5 to 2 g / m 2 · da, which is the usual value for alumina vapor deposition film or silica vapor deposition film.
An object is to provide a highly gas-barrier film having a moisture permeability of about y (at 40 ° C. and 90% RH).

【0008】[0008]

【課題を解決する手段】発明者の検討によれば、基本的
には、従来のガスバリア性フィルムにおいても使用され
ているアルミナやシリカ等の化学的気相成長法(CV
D)による薄膜をプラスチックフィルムのガスバリア性
付与手段として用い、これら薄膜が結晶の成長により形
成されるための不均一性がもたらす欠陥が、透気度、も
しくは透湿度を低下させていることに注目し、これら欠
陥によるガスバリア性の低下を補うため、好ましくは、
これら薄膜との親和性の優れた素材からなるオーバーコ
ート層を形成して、薄膜とオーバーコート層が複合され
た超高ガスバリア性層を、プラスチックフィルム上に積
層することにより、課題を解決することができた。ま
た、超高ガスバリア性層を複数層使用することにより、
さらにガスバリア性を向上させることができた。本発明
は、これらの知見に基づくものである。
According to a study by the inventor, basically, a chemical vapor deposition method (CV) such as alumina and silica, which is also used in conventional gas barrier films, is used.
Using the thin films according to D) as a means for imparting gas barrier properties to plastic films, it is noted that the defects caused by non-uniformity due to the formation of these thin films by crystal growth reduce the air permeability or moisture permeability. However, in order to compensate for the deterioration of the gas barrier property due to these defects, preferably,
To solve the problem by forming an overcoat layer made of a material having an excellent affinity for these thin films and laminating an ultra-high gas barrier layer composed of a thin film and an overcoat layer on a plastic film. I was able to. Also, by using multiple layers of ultra-high gas barrier properties,
Further, the gas barrier property could be improved. The present invention is based on these findings.

【0009】第1の発明は、基材フィルム上に、前記基
材フィルム側から順に、金属酸化物の薄膜層、および前
記金属酸化物の薄膜層の微細孔を充填するガスバリア性
樹脂で構成されたオーバーコート層からなる超高ガスバ
リア性層が少なくとも積層されていることを特徴とする
複合フィルムに関するものである。第2の発明は、第1
の発明において、前記基材フィルムと前記超高ガスバリ
ア性層との間にプライマー層が積層されていることを特
徴とする複合フィルムに関するものである。第3の発明
は、第1または第2の発明において、前記基材フィルム
上に、前記超高ガスバリア性層が二以上積層されている
ことを特徴とする複合フィルムに関するものである。第
4の発明は、基材フィルム上に、前記基材フィルム側か
ら順に、金属酸化物の薄膜層、および前記金属酸化物の
薄膜層の微細孔を充填するガスバリア性樹脂で構成され
たオーバーコート層からなる超高ガスバリア性層が少な
くとも積層された第1の複合フィルムと、前記第1の複
合フィルムと同じ積層構造を有する第2の複合フィルム
とが、各々の前記超高ガスバリア性層どうしが向き合う
ように積層されていることを特徴とする複合フィルムに
関するものである。第5の発明は、第4の発明におい
て、前記第1の複合フィルムまたは/および前記第2の
複合フィルムが前記オーバーコート層を欠くものである
ことを特徴とする複合フィルムに関するものである。第
6の発明は、基材フィルム上に、前記基材フィルム側か
ら順に、金属酸化物の薄膜層、および前記金属酸化物の
薄膜層の微細孔を充填するガスバリア性樹脂で構成され
たオーバーコート層からなる超高ガスバリア性層が少な
くとも積層された第1の複合フィルム上に、前記第1の
複合フィルムと同じ積層構造を有する第2の複合フィル
ムが、前記第1の複合フィルムの前記超高ガスバリア性
層と前記第2の複合フィルムの前記基材フィルムとが向
き合うように積層されていることを特徴とする複合フィ
ルムに関するものである。第7の発明は、第4の発明に
おいて、前記第1の複合フィルムが前記オーバーコート
層を欠くものであることを特徴とする複合フィルムに関
するものである。第8の発明は、第4〜第7いずれかの
発明において、前記第1の複合フィルムと前記第2の複
合フィルムが接着剤層を介して積層されていることを特
徴とする複合フィルムに関するものである。第9の発明
は、第1〜第8いずれかの発明の複合フィルムが、ディ
スプレイ素子の少なくとも片側の表面に積層されている
ことを特徴とするディスプレイに関するものである。第
10の発明は、第1〜第8いずれかの発明の複合フィル
ムが、ディスプレイ素子の両側の表面に積層されている
ことを特徴とするディスプレイに関するものである。第
11の発明は、第1〜第8いずれかの発明の複合フィル
ムによりディスプレイ素子が密封されていることを特徴
とするディスプレイに関するものである。第12の発明
は、第1〜第8いずれかの発明の複合フィルムが、ディ
スプレイ素子の少なくとも観察側の基板であることを特
徴とするディスプレイに関するものである。第13の発
明は、第9〜第12いずれかの発明において、ディスプ
レイ素子が液晶ディスプレイパネルであることを特徴と
するディスプレイに関するものである。第14の発明
は、第9〜第12いずれかの発明において、ディスプレ
イ素子が有機EL素子であることを特徴とするディスプ
レイに関するものである。
The first invention comprises a base film, a metal oxide thin film layer in this order from the base film side, and a gas barrier resin filling fine pores of the metal oxide thin film layer. Further, the present invention relates to a composite film having at least an ultra-high gas barrier layer composed of an overcoat layer laminated. The second invention is the first
In the invention, the present invention relates to a composite film having a primer layer laminated between the base film and the ultra-high gas barrier layer. A third invention relates to the composite film according to the first or second invention, characterized in that two or more of the ultra-high gas barrier layers are laminated on the substrate film. A fourth invention is an overcoat composed of a metal oxide thin film layer and a gas barrier resin filling fine pores of the metal oxide thin film layer on the base film in order from the base film side. A first composite film in which at least an ultra-high gas barrier layer composed of layers is laminated, and a second composite film having the same laminated structure as the first composite film, wherein each of the ultra-high gas barrier layers is The present invention relates to a composite film, which is laminated so as to face each other. A fifth invention relates to the composite film according to the fourth invention, wherein the first composite film and / or the second composite film lacks the overcoat layer. A sixth invention is an overcoat composed of a metal oxide thin film layer and a gas barrier resin filling the fine pores of the metal oxide thin film layer in this order on the base film from the side of the base film. The second composite film having the same laminated structure as the first composite film is formed on the first composite film in which an ultra-high gas barrier layer including at least one layer is laminated, and the second composite film has the same structure as that of the first composite film. The present invention relates to a composite film, wherein a gas barrier layer and the base film of the second composite film are laminated so as to face each other. A seventh invention relates to the composite film according to the fourth invention, wherein the first composite film lacks the overcoat layer. An eighth invention relates to a composite film according to any one of the fourth to seventh inventions, characterized in that the first composite film and the second composite film are laminated via an adhesive layer. Is. A ninth invention relates to a display characterized in that the composite film according to any one of the first to eighth inventions is laminated on a surface of at least one side of a display element. A tenth invention relates to a display characterized in that the composite film according to any one of the first to eighth inventions is laminated on both surfaces of a display element. An eleventh invention relates to a display characterized in that a display element is sealed by the composite film of any one of the first to eighth inventions. A twelfth invention relates to a display, wherein the composite film of any one of the first to eighth inventions is a substrate of at least an observation side of a display element. A thirteenth invention relates to a display according to any one of the ninth to twelfth inventions, wherein the display element is a liquid crystal display panel. A fourteenth invention relates to a display according to any one of the ninth to twelfth inventions, wherein the display element is an organic EL element.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】図1(a)に示すように、本発明
の複合フィルム1は、基材フィルム2の上に、必要に応
じてプライマー層3が積層されており、その上に、薄膜
層4、およびオーバーコート層5が、順に積層された積
層構造からなるものである。本発明においては、薄膜層
4とオーバーコート層5とが複合された複合層が、高度
なガスバリア性を生じるものであって、この明細書中で
は、超高ガスバリア性層6と言う。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As shown in FIG. 1 (a), a composite film 1 of the present invention comprises a base material film 2 and, if necessary, a primer layer 3 laminated thereon. The thin film layer 4 and the overcoat layer 5 have a laminated structure in which they are sequentially laminated. In the present invention, the composite layer in which the thin film layer 4 and the overcoat layer 5 are composite produces a high gas barrier property, and is referred to as an ultra-high gas barrier layer 6 in this specification.

【0011】本発明の複合フィルム1は、以降に述べる
ように、種々の積層構造を採り得るが、図1(b)に示
すように、基材フィルム2、プライマー層3、薄膜層
4、およびオーバーコート層5が順に積層された上に、
上側から基材フィルム2’、プライマー層3’、および
薄膜層5’が積層された積層体が、接着剤層7を介して
積層されたものであってもよい。ここで接着剤層7は、
薄膜層5’のオーバーコート層の役目も兼ねており、薄
膜層5’と接着剤層7とを超高ガスバリア性層6’と見
ることもできる。細かく言うと、この接着剤層7を形成
する際には、上側の薄膜層5’に塗付により積層し、そ
の後、下側の積層体と積層することがより好ましい。大
まかに見れば、図1(b)に示す複合フィルム1は、図
1(a)に示す複合フィルム1を2枚用意し、オーバー
コート層5どうしを向き合わせて貼り合せたものと見る
ことができる。この構造のものは、一旦、基材フィル
ム、(プライマー層)、薄膜層、およびオーバーコート
層が順に積層された複合フィルムと、他方の複合フィル
ムとしては、オーバーコートのみ欠くものを得た後、単
に積層するだけで得られ、しかも両面が基材フィルムの
露出面になるので、取扱い、および加工が容易な利点が
ある。実際には二種類の複合フィルムは別々に作成する
必要はなく、薄膜層までのものを作成したのち、半量の
ものにオーバーコート層を形成すればよい。
The composite film 1 of the present invention may have various laminated structures as described below, but as shown in FIG. 1 (b), the base film 2, the primer layer 3, the thin film layer 4, and the After the overcoat layer 5 is laminated in order,
A laminated body in which the base film 2 ′, the primer layer 3 ′, and the thin film layer 5 ′ are laminated from the upper side may be laminated via the adhesive layer 7. Here, the adhesive layer 7 is
The thin film layer 5'also serves as an overcoat layer, and the thin film layer 5'and the adhesive layer 7 can be regarded as an ultra-high gas barrier layer 6 '. More specifically, when forming the adhesive layer 7, it is more preferable that the adhesive layer 7 is laminated on the upper thin film layer 5 ′ by coating and then laminated on the lower laminated body. Broadly speaking, the composite film 1 shown in FIG. 1 (b) may be regarded as a composite film 1 shown in FIG. 1 (a) prepared by laminating two overcoat layers 5 facing each other. it can. With this structure, once a composite film in which a base film, a (primer layer), a thin film layer, and an overcoat layer are laminated in order, and another composite film lacking only an overcoat are obtained, Since it can be obtained by simply laminating and both sides are exposed surfaces of the base film, there is an advantage that handling and processing are easy. Actually, it is not necessary to separately form the two kinds of composite films, but it is sufficient to form up to the thin film layer and then form the overcoat layer on half the amount.

【0012】本発明の複合フィルムは、以上の積層構造
のほかにも様々な積層構造を採ることができる。図2
(a)に示す複合フィルム1は、超高ガスバリア性層6
を二重に積層したものに相当するもので、基材フィルム
2上に、必要に応じてプライマー層3が積層されてお
り、その上に、薄膜層4、およびオーバーコート層5
が、順に積層された積層構造からなる超高ガスバリア性
層6が積層されており、さらにその上に、薄膜層4’、
およびオーバーコート層5’が、順に積層された積層構
造からなる超高ガスバリア性層6’が積層されたもので
ある。この構造のものは、製造時の手間はかかるが、基
材が一層で済む利点がある。なお、図示はしないが、超
高ガスバリア性層6を三重以上積層してもよい。
The composite film of the present invention can have various laminated structures other than the above laminated structure. Figure 2
The composite film 1 shown in (a) has an ultra-high gas barrier layer 6
Corresponding to a double-layered structure in which the primer layer 3 is laminated on the base material film 2 if necessary, and the thin film layer 4 and the overcoat layer 5 are formed on the primer layer 3.
Is superposed with an ultra-high gas barrier layer 6 having a laminated structure, and a thin film layer 4 ',
The overcoat layer 5'is formed by laminating the ultra-high gas barrier layer 6'having a laminated structure in which the overcoat layer 5'is laminated in order. This structure has the advantage of requiring only one base material, though it takes time and effort during manufacturing. Although not shown, the super-high gas barrier layer 6 may be laminated in three or more layers.

【0013】図2(b)に示すように、本発明の複合フ
ィルム1は、基材フィルム2上に、必要に応じてプライ
マー層3が積層されており、その上に、薄膜層4、およ
びオーバーコート層5が、順に積層された積層構造から
なる超高ガスバリア性層6が積層された複合フィルムを
二枚準備し、これら二枚の複合フィルムを同じ向きに重
ね、即ち、一方の複合フィルムのオーバーコート層5上
に、他方の複合フィルムの基材フィルム2’が向き合う
ようにして、接着剤層7を介して積層した積層構造を有
するものであってもよい。この構造のものは、一旦、基
材フィルム、(プライマー層)、薄膜層、およびオーバ
ーコート層が順に積層された複合フィルムを得た後、単
に積層するだけで得られ、片方の面が基材フィルムの露
出面になるので、取扱い、および加工が容易な利点があ
る。
As shown in FIG. 2 (b), in the composite film 1 of the present invention, a primer layer 3 is laminated on a substrate film 2 if necessary, and a thin film layer 4 and Two composite films in which the overcoat layer 5 has an ultra-high gas barrier layer 6 having a laminated structure in which the overcoat layers 5 are sequentially laminated are prepared, and these two composite films are stacked in the same direction, that is, one composite film. It may have a laminated structure in which the base film 2 ′ of the other composite film is laminated on the overcoat layer 5 with the adhesive layer 7 interposed therebetween. This structure can be obtained by once obtaining a composite film in which a base film, a (primer layer), a thin film layer, and an overcoat layer are laminated in that order, and then simply laminating the composite film. Since it is the exposed surface of the film, it has the advantage of being easy to handle and process.

【0014】また、図示はしないが、基材フィルム2上
に、必要に応じてプライマー層3を介して、薄膜層4、
およびオーバーコート層5が、順に積層された積層構造
からなる超高ガスバリア性層6が積層された複合フィル
ムを二枚準備して、各々のオーバーコート層5どうしが
向き合うようにして、接着剤層7を介して積層した積層
構造を有するものであってもよい。この構造のものは、
一旦、基材フィルム、(プライマー層)、薄膜層、およ
びオーバーコート層が順に積層された複合フィルムを得
た後、単に積層するだけで得られ、しかも両面が基材フ
ィルムの露出面になるので、取扱い、および加工が容易
な利点がある。この積層構造から、一方のオーバーコー
ト層5を省いたものが、図1(b)に示す複合フィルム
1に相当する。
Although not shown, a thin film layer 4 is formed on the base film 2 with a primer layer 3 interposed if necessary.
Also, two composite films in which the overcoat layer 5 and the ultra-high gas barrier layer 6 having a laminated structure in which the overcoat layers 5 are laminated in order are laminated are prepared so that the respective overcoat layers 5 face each other, and the adhesive layer It may have a laminated structure in which the layers are laminated via 7. This structure has
Once a composite film in which a base film, a (primer layer), a thin film layer, and an overcoat layer are laminated in order is obtained, and then simply laminated, and both sides become exposed surfaces of the base film. Easy to handle, handle and process. The laminated structure obtained by omitting one of the overcoat layers 5 corresponds to the composite film 1 shown in FIG.

【0015】一つの複合フィルムに、超高ガスバリア性
層が二重以上に存在するとき、二以上である薄膜層は、
互いに素材を異にするものであってもよいし、素材が同
じものであってもよい。オーバーコートについても同様
である。
When two or more ultra-high gas barrier layers are present in one composite film, the two or more thin film layers are:
The materials may be different from each other, or the materials may be the same. The same applies to the overcoat.

【0016】複合フィルム1の基材フィルム2として
は、原則的には、種々のプラスチックフィルムを用いる
ことができるが、薄膜を形成する際および/またはオー
バーコート層を形成する際に、加熱され昇温が避けられ
ないこと、適用される用途によって、加熱を伴なうこと
があり得ることから、耐熱性を有するものであることが
好ましい。また、複合フィルム1がディスプレイの基板
用に、またはディスプレイの被覆用もしくはや密封用等
に用いられる場合には、ディスプレイの使用時に昇温が
有り得る。また、ディスプレイのタイプにもよるが、デ
ィスプレイの観察側に適用する場合には、映像の視認性
の確保の意味から、透明性を有するものであることが好
ましい。
As the base film 2 of the composite film 1, various plastic films can be used in principle, but they are heated and elevated during the formation of the thin film and / or the overcoat layer. It is preferable that the material has heat resistance because the temperature is unavoidable and heating may occur depending on the application. Moreover, when the composite film 1 is used for a substrate of a display or for covering or sealing a display, there may be a temperature rise when the display is used. In addition, depending on the type of display, when applied to the viewing side of the display, it is preferably transparent in order to ensure the visibility of the image.

【0017】従って、ほとんどの場合には、耐熱性およ
び透明性を有するプラスチックフィルムが基材フィルム
2として好ましい。具体的には、ポリプロピレン、AB
S、非結晶性ポリエステル樹脂、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリエーテルサルホン(PES)、ポリカーボネー
ト(PC)、環状ポリオレフィン共重合体であるポリノ
ルボルネン、環状ポリオレフィン樹脂、ポリシクロヘキ
セン、ポリエチレンテレフタレート(PET)ポリエチ
レンナフタレート(PEN)、フッ素樹脂、ポリアリレ
ート(PAR)、ポリエーテルケトン(PEK)、もし
くはポリエーテルエーテルケトン(PEEK)等の樹脂
を素材とするフィルムである。これらのプラスチックフ
ィルムからなる基材フィルム2の厚みは、1〜200μ
m程度であり、用途により、適宜に選択するとよい。
Therefore, in most cases, a plastic film having heat resistance and transparency is preferable as the base film 2. Specifically, polypropylene, AB
S, amorphous polyester resin, polyimide, polyamide, polyether sulfone (PES), polycarbonate (PC), polynorbornene which is a cyclic polyolefin copolymer, cyclic polyolefin resin, polycyclohexene, polyethylene terephthalate (PET) polyethylene naphthalate (PEN), fluororesin, polyarylate (PAR), polyetherketone (PEK), polyetheretherketone (PEEK) or other resin is a film. The thickness of the base film 2 made of these plastic films is 1 to 200 μm.
It is about m, and may be appropriately selected depending on the application.

【0018】基材フィルム2は、最終製品の表面の平滑
性を高め、また、薄膜層4を均一に形成するためには、
表面の平滑性が高いものが好ましい。薄膜層4上にIT
O等の電極を形成する場合、断線が起こらないようにす
るためにも、平滑性が高いことが好ましい。これらの観
点から、表面の平滑性としては、平均粗さ(Ra)が2
nm以下であるものが好ましい。下限は特にないが、実
用上、0.01nm以上である。必要に応じて、基材フ
ィルムの両面、少なくとも、薄膜層4を設ける側を研摩
し、平滑性を向上させておくとよい。基材フィルム2の
両面、少なくとも薄膜層4を設ける側には、接着性向上
のための公知の種々の処理、コロナ放電処理、火炎処
理、酸化処理、プラズマ処理、もしくはプライマー層の
積層等を、必要に応じて組み合わせて行なうことができ
る。
The base film 2 is used to enhance the surface smoothness of the final product and to form the thin film layer 4 uniformly.
Those having a high surface smoothness are preferred. IT on the thin film layer 4
When forming electrodes such as O, it is preferable that the smoothness is high in order to prevent disconnection. From these viewpoints, as the surface smoothness, the average roughness (Ra) is 2
Those having a thickness of nm or less are preferable. Although there is no particular lower limit, it is 0.01 nm or more in practice. If necessary, both sides of the base film, at least the side on which the thin film layer 4 is provided, may be polished to improve the smoothness. On both sides of the base film 2, at least on the side where the thin film layer 4 is provided, various known treatments for improving adhesiveness, corona discharge treatment, flame treatment, oxidation treatment, plasma treatment, or lamination of a primer layer, They can be combined as needed.

【0019】接着性向上のための処理のうち、プライマ
ー層3の積層は、薄膜層4の接着力の向上させて製品の
耐久性を向上させるのに加え、基材フィルム2の薄膜層
4を形成する側の表面の平滑性を向上させ、薄膜層4を
均一に形成するのに効果がある。具体的には、ポリエチ
レンイミン、ポリウレタン、ポリエステル、もしくはア
クリル等の樹脂を含むごく薄い、0.1〜5μm程度の
厚みの層として形成するとよく、通常は、溶剤溶液とし
て、塗付し、乾燥することにより形成できる。なお、プ
ライマー層3は、後に述べるオーバーコート層を形成す
る素材で形成してもよい。
Among the treatments for improving the adhesiveness, the lamination of the primer layer 3 not only improves the adhesive strength of the thin film layer 4 to improve the durability of the product, but also the thin film layer 4 of the base film 2. It is effective in improving the smoothness of the surface on the side where it is formed and forming the thin film layer 4 uniformly. Specifically, it may be formed as a very thin layer containing a resin such as polyethyleneimine, polyurethane, polyester, or acrylic and having a thickness of about 0.1 to 5 μm. Usually, it is applied as a solvent solution and dried. It can be formed by The primer layer 3 may be formed of a material that forms an overcoat layer described later.

【0020】薄膜層4は、SiO2を主体とするSi
x、Al23を初めとする金属酸化物で構成すること
が透明性の点で好ましい。透明性を必ずしも必要としな
い場合や超高ガスバリア性層を二重以上に形成する際の
一つの薄膜層を、SiNで形成することもあり得る。薄
膜層4の形成の方法としては、蒸着法、スパッタリング
法、もしくはイオンプレーティング法等の物理的気相成
長法(PVD)、種々の化学的気相成長法(CVD)、
もしくは、めっきやゾル−ゲル法等の液相成長法によっ
て形成することができる。このうち、形成時の基材フィ
ルム2への熱の影響を比較的回避でき、生産速度が速
く、均一な薄膜層を得やすい点では、化学的気相成長法
(CVD)が好ましいが、基材フィルム2への熱の影響
を除けば、物理的気相形成法によって薄膜層4を形成す
るのもよい。薄膜層4の厚みは、50nm〜1000n
m、より好ましくは、100nm〜500nmである。
The thin film layer 4 is made of Si mainly composed of SiO 2.
In terms of transparency, it is preferable to use a metal oxide such as O x and Al 2 O 3 . It is possible that one thin film layer is formed of SiN when transparency is not always required or when two or more super-high gas barrier layers are formed. As a method of forming the thin film layer 4, a physical vapor deposition method (PVD) such as a vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method, various chemical vapor deposition methods (CVD),
Alternatively, it can be formed by a liquid phase growth method such as plating or a sol-gel method. Of these, the chemical vapor deposition method (CVD) is preferable in that the influence of heat on the base material film 2 during formation can be relatively avoided, the production rate is high, and a uniform thin film layer can be easily obtained. The thin film layer 4 may be formed by a physical vapor phase forming method except for the influence of heat on the material film 2. The thickness of the thin film layer 4 is 50 nm to 1000 n.
m, more preferably 100 nm to 500 nm.

【0021】本発明においては、先にも述べたように、
薄膜層4とオーバーコート層5との複合層である超高ガ
スバリア性層6が、包装分野では得られていなかった高
度なガスバリア性をもたらすものである。オーバーコー
ト層5を伴なわない薄膜層4は、その形成法による多少
の程度の差はあれ、表面に近いほど結晶が未成長な状態
が生じ、結晶どうしの間に密度の低い部分が生じやすい
ため、薄膜層4のみでは、ガスバリア性が向上しにく
い。また、薄膜層を、形成する素材を複数使用して、素
材の異なる複数の薄膜層を積層しても、厚みが厚くなる
分、ガスバリア性の向上は見られるものの、ガスバリア
性の格段の向上には至らない。また、特にAl23で構
成された薄膜層は、層自体がわれやすい欠点を有してい
る。
In the present invention, as described above,
The ultra-high gas barrier layer 6, which is a composite layer of the thin film layer 4 and the overcoat layer 5, provides a high gas barrier property which has not been obtained in the packaging field. The thin film layer 4 without the overcoat layer 5 may have some degree of difference depending on its forming method, but a crystal may be ungrown toward the surface, and a low density portion is likely to occur between the crystals. Therefore, it is difficult to improve the gas barrier property only with the thin film layer 4. Moreover, even if a plurality of thin film layers are used to form a thin film layer and a plurality of thin film layers of different materials are laminated, the gas barrier property is improved due to the increased thickness, but the gas barrier property is significantly improved. Does not reach. Further, a thin film layer composed of Al 2 O 3 has a drawback that the layer itself is easily broken.

【0022】薄膜層4が、その上にオーバーコート層5
を伴なう場合に、高度なガスバリア性を発揮するのは、
薄膜層の表面の密度の低い部分にオーバーコート層5が
浸透して、ガスバリア性を低下させている欠陥部分を補
うためと考えられる。このオーバーコート層5は、ガス
バリア性の高い樹脂系のもので構成することが好ましい
けれども、オーバーコート層5を単独で形成して、ガス
バリア性を評価した場合に、必ずしも高いガスバリア性
を示さない樹脂であっても、薄膜層4との複合により、
目立ったガスバリア性の向上をもたらす場合がある。
A thin film layer 4 is provided with an overcoat layer 5 thereon.
When accompanied by, it is possible to exert a high gas barrier property,
It is considered that this is because the overcoat layer 5 penetrates into the low density portion of the surface of the thin film layer to compensate for the defective portion that deteriorates the gas barrier property. The overcoat layer 5 is preferably composed of a resin having a high gas barrier property. However, when the overcoat layer 5 is formed alone and the gas barrier property is evaluated, a resin that does not necessarily exhibit a high gas barrier property is obtained. However, by combining with the thin film layer 4,
It may bring about a noticeable improvement in gas barrier properties.

【0023】オーバーコート層5を構成する樹脂として
は、例えば、エポキシ/シリケート(例えば、下記の化
学式に示すもの)を使用することができ、金属酸化物で
構成された薄膜層4との接着性が優れている。エポキシ
/シリケートはエポキシ部分を利用し、ジアミン系の架
橋剤で架橋してもよい。
As the resin forming the overcoat layer 5, for example, epoxy / silicate (for example, one represented by the following chemical formula) can be used, and the adhesiveness with the thin film layer 4 formed of a metal oxide can be used. Is excellent. The epoxy / silicate utilizes an epoxy moiety and may be crosslinked with a diamine-based crosslinker.

【0024】[0024]

【化1】 [Chemical 1]

【0025】オーバーコート層5を構成する樹脂として
は、ポリビニルアルコール(PVA)、もしくはエチレ
ン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)の単独、ま
たはこれらの混合物も使用することができる。例えば、
PVA単独の水蒸気透過率は0.5g/m2・day・
atm程度、もしくはそれ以下である。あるいは、これ
らの単独もしくは混合物を、芳香族酸エステル、芳香族
ポリアミド、金属塩等の架橋剤を添加するか、もしくは
無機フィラーの添加により架橋構造を持たせたものでオ
ーバーコート層5を構成してもよい。オーバーコート層
5を構成する樹脂としては、ナイロン、PVA、もしく
はEVOH中に1〜100nm程度の超微粒子である層
状珪酸塩(モンモリロナイト等の粘土鉱物)を分散させ
たものも使用できる。上記のほか、オーバーコート層5
を構成する樹脂としては、金属等の無機質との接着性の
高いエポキシ、ウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポ
リエステル、アクリル、塩化ビニル等の樹脂も使用で
き、さらには、アクリレート系等の紫外線硬化性もしく
は電子線硬化性の樹脂組成物、特に、エポキシ基、アミ
ノ基、OH基等の官能基を有するものを使用することも
できる。
As the resin constituting the overcoat layer 5, polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH) alone, or a mixture thereof can be used. For example,
The water vapor transmission rate of PVA alone is 0.5 g / m 2 · day ·
Atm or less. Alternatively, the overcoat layer 5 is formed by adding a cross-linking agent such as an aromatic acid ester, an aromatic polyamide, or a metal salt to these or a mixture thereof, or by adding an inorganic filler to give a cross-linking structure. May be. As the resin constituting the overcoat layer 5, nylon, PVA, or EVOH in which a layered silicate (a clay mineral such as montmorillonite) which is ultrafine particles of about 1 to 100 nm is dispersed can also be used. In addition to the above, overcoat layer 5
As the resin constituting the, a resin such as epoxy, urethane, polyamide, polyimide, polyester, acryl, vinyl chloride or the like having high adhesiveness with an inorganic substance such as a metal can be used, and further, an acrylate-based ultraviolet curable or electronic resin. It is also possible to use a radiation curable resin composition, particularly one having a functional group such as an epoxy group, an amino group or an OH group.

【0026】オーバーコート層5の形成は、上記の樹脂
を必要に応じて、溶剤で溶解するか、もしくは分散剤で
分散させて、塗工用溶液を調製し、公知の方法により塗
付し、乾燥、必要に応じて、加熱することにより固化さ
せることにより行なう。
The overcoat layer 5 is formed by dissolving the above resin in a solvent or dispersing it with a dispersant, to prepare a coating solution, and applying it by a known method. It is dried and, if necessary, heated to solidify.

【0027】オーバーコート層5は、上記の樹脂、ある
いは層状珪酸塩と樹脂の組み合わせの他に、無機系高分
子であるポリシラザン(下記の化学式)を用いて形成す
ることもできる。
The overcoat layer 5 can be formed by using polysilazane (the following chemical formula), which is an inorganic polymer, in addition to the above resin or the combination of the layered silicate and the resin.

【0028】[0028]

【化2】 [Chemical 2]

【0029】ポリシラザンを用いてオーバーコート層5
を設けるには、ポリシラザンの溶液、例えば、キシレン
溶液を用いて塗布した後、乾燥を行なって分散媒を除去
することにより、限りなく、石英に近いオーバーコート
層を形成することができる。
Overcoat layer 5 using polysilazane
In order to provide the above, a polysilazane solution, for example, a xylene solution is applied and then dried to remove the dispersion medium, whereby an overcoat layer close to quartz can be formed without limit.

【0030】複合フィルムどうしの積層は、被接着面の
素材どうし、もしくは片方の素材を利用して熱融着させ
る等により積層することができるが、より確実なのは、
接着剤層を介する積層である。接着剤層7は、複合フィ
ルムどうしを同じ向きに、もしく薄膜層のある側どうし
を向かい合わせて積層するためのもので、公知の素材か
らなるものを使用して形成することができる。具体的に
は、ポリウレタン系の接着剤を使用して形成することが
でき、より好ましくは、エポキシ基、アミノ基、OH基
等の官能基を有したものを用いることが好ましい。先に
も述べたように、複合フィルムの一方がオーバーコート
層を欠いており、接着剤層7がオーバーコート層の代わ
りの役目をになうときは、接着剤層7をまず、オーバー
コート層を有しない、薄膜層上に直接形成し、その後、
他方の複合フィルムと貼り合せることが、薄膜層の表面
の密度の低い部分へのオーバーコート層の浸透の点で好
ましい。
The composite films can be laminated by adhering the materials to be adhered to each other, or by using one of the materials to perform heat fusion, but the more reliable method is as follows.
It is a lamination through an adhesive layer. The adhesive layer 7 is for laminating the composite films in the same direction, or facing each other with the thin film layers, and can be formed using a known material. Specifically, it can be formed using a polyurethane-based adhesive, and more preferably, one having a functional group such as an epoxy group, an amino group or an OH group is preferably used. As described above, when one side of the composite film lacks the overcoat layer, and the adhesive layer 7 serves as a substitute for the overcoat layer, the adhesive layer 7 is formed first. Formed directly on the thin film layer, then
Bonding with the other composite film is preferable from the viewpoint of permeation of the overcoat layer into the low density portion of the surface of the thin film layer.

【0031】本発明の複合フィルム1は、上記したよう
な積層構造を有し、もしくは製造方法を経て得られるも
のであるので、高度なガスバリア性を有しており、種々
のディスプレイに適用することができる。図3は、ディ
スプレイ11に対する複合フィルム1もしくは1’を適
用した断面の構造を示す図で、図3(a)に示すよう
に、ディスプレイ11の片面に複合フィルム1を積層し
てもよいし、図3(b)に示すように、ディスプレイ1
1の両面に複合フィルム1および1’をそれぞれ積層し
てもよいし、もしくは図3(b)に示すように、ディス
プレイ11が二枚の複合フィルム1および1’の間に介
在しており、二枚の複合フィルム1および1’は周囲、
好ましくは全周が、シール部8を有してシールされてい
てもよい。図3(c)に示すような構造において、複合
フィルム1および/または1’とディスプレイ11とは
積層していてもしていなくてもよい。
Since the composite film 1 of the present invention has the above-mentioned laminated structure or is obtained through the manufacturing method, it has a high gas barrier property and can be applied to various displays. You can FIG. 3 is a view showing a structure of a cross section in which the composite film 1 or 1 ′ is applied to the display 11. As shown in FIG. 3A, the composite film 1 may be laminated on one surface of the display 11, As shown in FIG. 3B, the display 1
The composite films 1 and 1'may be laminated on both surfaces of 1, respectively, or, as shown in FIG. 3B, the display 11 is interposed between the two composite films 1 and 1 ', The two composite films 1 and 1'are surrounding,
Preferably, the entire circumference may be sealed with the seal portion 8. In the structure as shown in FIG. 3C, the composite film 1 and / or 1 ′ and the display 11 may or may not be laminated.

【0032】図3に示すような、ディスプレイ11に複
合フィルムを適用する場合、複合フィルムの基材フィル
ム2側もしくは薄膜層4を有する側(オーバーコート層
5の場合と、オーバーコート層を欠くために薄膜層4の
場合とがある。)のいずれがディスプレイ11側であっ
てもよい。図3(b)および(c)に示すように、二枚
の複合フィルムを適用する場合、いずれか一方の複合フ
ィルムの基材フィルム側がディスプレイ11側であり、
他方の複合フィルムの薄膜層を有する側がディスプレイ
11側であってもよい。
When a composite film is applied to the display 11 as shown in FIG. 3, the base film 2 side of the composite film or the side having the thin film layer 4 (in the case of the overcoat layer 5 and the lack of the overcoat layer). In some cases, the thin film layer 4 may be provided on the display 11 side. As shown in FIGS. 3B and 3C, when two composite films are applied, the base film side of one of the composite films is the display 11 side,
The side having the thin film layer of the other composite film may be the display 11 side.

【0033】図3に示すようなディスプレイ11への複
合フィルムの適用は、接着剤、好ましくは粘着剤を用い
て行なうが、図3(c)に示すようなシールを伴なう場
合には、シール部のシールされる内側どうしに、熱融着
性の接着剤層を積層しておいて、熱融着性の接着剤層ど
うしの熱融着によってシールされているのっみでもよ
く、もちろん、ディスプレイと接する部分では、接着
剤、好ましくは粘着剤によりディスプレイ11と複合フ
ィルムとが積層されていてもよい。
Application of the composite film to the display 11 as shown in FIG. 3 is carried out by using an adhesive, preferably a pressure-sensitive adhesive, but when a seal as shown in FIG. 3 (c) is involved, It is also possible to have a heat-sealable adhesive layer laminated between the sealed inner sides of the seal portion and sealed by heat-sealing the heat-sealable adhesive layers, of course. In the portion contacting the display, the display 11 and the composite film may be laminated with an adhesive, preferably an adhesive.

【0034】図3に示した例では、ディスプレイの片面
もしくは両面に複合フィルムを適用したが、本発明の複
合フィルム1は、ディスプレイそのものを構成する基板
として使用することもでき、ディスプレイが二枚の基板
で構成されていれば、一方もしくは両方の基板を、本発
明の複合フィルムで置き換えることができる。本発明の
複合フィルムをディスプレイの基板として用いる場合に
は、各々のディスプレイの方式において必要な層を、複
合フィルムの表裏のいずれかに積層することもでき、場
合によっては、基材フィルムと超高ガスバリア性層の間
に、それらの層を積層することもあり得るので、本発明
の複合フィルムは、基材フィルムと薄膜層とに間に、デ
ィスプレイの機能を持たせるための層が介在するものも
含むものとする。
In the example shown in FIG. 3, the composite film is applied to one side or both sides of the display. However, the composite film 1 of the present invention can also be used as a substrate constituting the display itself, and two displays are provided. If it is composed of a substrate, one or both substrates can be replaced with the composite film of the present invention. When the composite film of the present invention is used as a substrate for a display, the layers required in each display system can be laminated on either the front or back of the composite film, and in some cases, a base film and an ultra-high film are used. Since these layers may be laminated between the gas barrier layers, the composite film of the present invention has a layer for providing a display function between the base film and the thin film layer. Shall also be included.

【0035】[0035]

【実施例】(実施例1)基材フィルムとして、ポリノル
ボルネンフィルム(日本ゼオン(株)製、「ゼオノア1
620」を素材とするフィルム、厚み;100μm)を
用い、片面にポリシラザン分散液(クラリアントジャパ
ン(株)製、「NL−110」の3%溶液)をグラビア
印刷法により塗工し、120℃の温度で熱風乾燥を行な
い、膜厚が0.1μmのプライマー層を形成した。次
に、巻き取り式の真空蒸着装置を用い、チャンバーの到
達真空度が3.0×10-5torr(4.0×10-3
a)になるまで排気した後、酸素ガスをコーティングド
ラムの近傍に、チャンバー内の圧力が3.0×10-4
orr(4.0×10-2Pa)に保って導入し、蒸発源
の一酸化ケイ素をピアス型電子銃により、約10kwの
電力で加熱して蒸着させ、コーティングドラム上を12
0m/minの速度で走行するポリノルボルネンフィル
ムのプライマー層上に、厚みが500Åの酸化ケイ素の
薄膜層を形成した。さらに酸化ケイ素の薄膜層上に、ポ
リシラザン分散液(クラリアントジャパン(株)製、
「NL−110」の10%溶液)をグラビア印刷法によ
り塗工し、120℃の温度で熱風乾燥を行ない、その
後、80℃の温度で3日間のエージングを行ない、膜厚
が1μmのオーバーコート層を形成して、本発明の複合
フィルム(超高ガスバリア性フィルム)を得た。
Examples (Example 1) As a base film, a polynorbornene film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., "Zeonor 1"
Using a film made of 620 "as a material, thickness: 100 μm, a polysilazane dispersion (3% solution of" NL-110 "manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.) is applied to one surface by a gravure printing method, and then at 120 ° C. Hot air drying was performed at a temperature to form a primer layer having a film thickness of 0.1 μm. Next, the ultimate vacuum degree of the chamber is 3.0 × 10 −5 torr (4.0 × 10 −3 P) by using a roll-up type vacuum vapor deposition device.
After evacuation to a), oxygen gas was introduced in the vicinity of the coating drum and the pressure in the chamber was 3.0 × 10 −4 t.
orr (4.0 × 10 -2 Pa) is introduced and silicon monoxide as an evaporation source is heated by a Pierce-type electron gun at a power of about 10 kw to be vapor-deposited.
A thin film layer of silicon oxide having a thickness of 500Å was formed on the primer layer of the polynorbornene film running at a speed of 0 m / min. Further, on the thin film layer of silicon oxide, polysilazane dispersion (manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.,
"NL-110" 10% solution) is applied by a gravure printing method, hot air drying is performed at a temperature of 120 ° C, and then aging is performed at a temperature of 80 ° C for 3 days to form an overcoat having a film thickness of 1 µm. The layers were formed to obtain the composite film of the present invention (ultra high gas barrier film).

【0036】得られた超高ガスバリア性フィルムの特性
を評価した結果は次の通りである。 全光線透過率;90% 酸素透過率;0.1cc/m2・day 水蒸気透過率;0.05g/m2・day 表面平滑性;5nm なお、酸素透過率は、酸素ガス透過率測定装置(モダン
コントロール(株)製、OXTRAN 2/20)を用
いて行ない、水蒸気透過率は、水蒸気ガス透過率測定装
置(モダンコントロール(株)製、PERMATRAN
−W3/31)を用いて行なった。
The results of evaluating the characteristics of the obtained ultra-high gas barrier film are as follows. Total light transmittance; 90% Oxygen transmittance; 0.1 cc / m 2 · day Water vapor transmittance; 0.05 g / m 2 · day Surface smoothness; 5 nm In addition, the oxygen transmittance is an oxygen gas transmittance measuring device ( OXTRAN 2/20 manufactured by Modern Control Co., Ltd. is used, and the water vapor transmission rate is measured by a steam gas transmission rate measuring device (Modern Control Co., Ltd., PERMATRAN).
-W3 / 31).

【0037】(実施例2)実施例1と同様にして複合フ
ィルム(1)を作成し、これとは別に、やはり、実施例
1と同様にして、ただしオーバーコート層の形成工程の
み省いて複合フィルム(2)を作成した。複合フィルム
(1)のオーバーコート層と、複合フィルム(2)の薄
膜層とを向き合わせ、ポリエステルポリオールとジイソ
シアネート化合物とを配合したウレタン系接着剤を、二
つの被接着面のうち、複合フィルム(2)の薄膜層側に
塗付して、両複合フィルムをドライラミネートして、薄
膜層を二層有する複合フィルムを作成した。
Example 2 A composite film (1) was prepared in the same manner as in Example 1, and separately from this, the same procedure as in Example 1 was carried out, except that only the step of forming the overcoat layer was omitted. Film (2) was made. The overcoat layer of the composite film (1) and the thin film layer of the composite film (2) are opposed to each other, and a urethane adhesive containing a polyester polyol and a diisocyanate compound is mixed with the composite film (of the two adherend surfaces). It was applied to the thin film layer side of 2) and both composite films were dry laminated to produce a composite film having two thin film layers.

【0038】(実施例3)実施例1と同様にして、ただ
し、プライマー層上に薄膜層、オーバーコート層、薄膜
層、およびオーバーコート層の順に、薄膜層およびオー
バーコート層をいずれも二層有する複合フィルムを作成
した。
Example 3 As in Example 1, except that the primer layer was overlaid with two layers of a thin film layer, an overcoat layer, a thin film layer, and an overcoat layer in that order. Was prepared.

【0039】(実施例4)実施例1と同様にして、四枚
の同じ複合フィルムを作成した。そのうちの二枚は、各
々の複合フィルムのオーバーコート層と他方の複合フィ
ルムのオーバーコート層側とを向かい合わせ、他の二枚
は、一方の複合フィルムのオーバーコート層と他方の複
合フィルムのオーバーコート層とを向かい合わせ、いず
れも実施例2におけるのと同様にして、ドライラミネー
トにより二枚の複合フィルムが貼り合せられた複合フィ
ルムを得た。
(Example 4) In the same manner as in Example 1, four identical composite films were prepared. Two of them face each other with the overcoat layer of each composite film facing the overcoat layer side of the other composite film, and the other two have the overcoat layer of one composite film and the overcoat layer of the other composite film. The composite film was obtained by laminating two composite films by dry lamination in the same manner as in Example 2 with the coating layers facing each other.

【0040】実施例2〜実施例4で得られた複合フィル
ムは、いずれも、実施例1で得られた超高ガスバリア性
フィルムよりも優れた酸素透過率および水蒸気透過率を
示すものであった。
The composite films obtained in Examples 2 to 4 all exhibited oxygen permeability and water vapor permeability superior to those of the ultra-high gas barrier film obtained in Example 1. .

【0041】[0041]

【発明の効果】請求項1の発明によれば、金属酸化物か
らなるガスバリア性層が有する欠陥をその微細孔を充填
するガスバリア性樹脂で構成されたオーバーコート層で
被覆することにより、従来、到達が困難であった高度な
ガスバリア性を有する複合フィルムを提供することがで
きる。請求項2の発明によれば、請求項1の発明の効果
に加え、薄膜層の密着性が向上し、より耐久性が高く、
薄膜層の均一性が向上した複合フィルムを提供すること
ができる。請求項3の発明によれば、請求項1または請
求項2の発明の効果に加え、薄膜層とオーバーコート層
とからなる超高ガスバリア性層が二重に積層されている
ので、高ガスバリア性層のガスバリア機能が重畳した、
超高ガスバリア性を有する複合フィルムを提供すること
ができる。請求項4の発明によれば、複合フィルムどう
しが積層した構造を有しているので、請求項3の発明に
おけるのと同様、超高ガスバリア性を有し、しかも、両
面が基材フィルムの露出面となっているので、取扱い、
加工が容易な複合フィルムを提供することができる。請
求項5の発明によれば、請求項4の発明の効果に加え、
一方の複合フィルムがオーバーコート層を欠いた構造を
有しているので、構造がより簡易な複合フィルムを提供
することができる。請求項6の発明によれば、複合フィ
ルムどうしが積層した構造を有しているので、超高ガス
バリア性を有し、片方の面が基材フィルムの露出面とな
っているので、取扱い、加工が容易な複合フィルムを提
供することができる。請求項7の発明によれば、請求項
4の発明の効果に加え、一方の複合フィルムがオーバー
コート層を欠いた構造を有しているので、構造がより簡
易な複合フィルムを提供することができる。請求項8の
発明によれば、請求項4〜請求項7いずれかの発明の効
果に加え、複合フィルムどうしが接着剤層によりより確
実に積層された複合フィルムを提供することができる。
請求項9の発明によれば、請求項1〜請求項8いずれか
の発明の複合フィルムをディスプレイの片側に適用した
ことにより、適用された側のガスバリア性が高度に向上
したディスプレイを提供することができる。請求項10
の発明によれば、請求項1〜請求項8いずれかの発明の
複合フィルムをディスプレイの両側に適用したことによ
り、ガスバリア性が両面共、高度に向上したディスプレ
イを提供することができる。請求項11の発明によれ
ば、請求項1〜請求項8いずれかの発明の複合フィルム
でディスプレイを密封したことにより、ガスバリア性を
高度に保つことが可能なディスプレイを提供することが
できる。請求項12の発明によれば、請求項1〜請求項
8いずれかの発明の複合フィルムを、ディスプレイの少
なくとも観察側の基板としたので、ガスバリア性を発揮
するための層が増えるものの、実質的な厚みの増加を伴
うことなく、ガスバリア性を高度に保つことが可能なデ
ィスプレイを提供することができる。請求項13の発明
によれば、請求項9〜請求項12のいずれかの発明の効
果を発揮し得る複合フィルムを液晶ディスプレイパネル
に適用したので、液晶ディスプレイパネルの特性が長期
間安定に保持可能なディスプレイを提供することができ
る。請求項14の発明によれば、請求項9〜請求項12
のいずれかの発明の効果を発揮し得る複合フィルムを有
機EL素子に適用したので、有機EL素子の特性が長期
間安定に保持でき、ダークスポットの発生、成長を抑制
可能なディスプレイを提供することができる。
According to the first aspect of the present invention, the defects of the gas barrier layer made of a metal oxide are covered with an overcoat layer made of a gas barrier resin filling the fine pores of the gas barrier layer. It is possible to provide a composite film having a high gas barrier property that was difficult to reach. According to the invention of claim 2, in addition to the effect of the invention of claim 1, the adhesion of the thin film layer is improved and the durability is higher,
A composite film having improved thin film layer uniformity can be provided. According to the invention of claim 3, in addition to the effect of the invention of claim 1 or 2, since the ultra-high gas barrier layer comprising a thin film layer and an overcoat layer is double-layered, high gas barrier property is obtained. Layered gas barrier function is superimposed,
A composite film having an ultrahigh gas barrier property can be provided. According to the invention of claim 4, since it has a structure in which the composite films are laminated, as in the invention of claim 3, it has an ultra-high gas barrier property and is exposed on both sides of the base film. Since it is a surface, handling,
A composite film that can be easily processed can be provided. According to the invention of claim 5, in addition to the effect of the invention of claim 4,
Since one of the composite films has a structure lacking the overcoat layer, a composite film having a simpler structure can be provided. According to the invention of claim 6, since it has a structure in which the composite films are laminated, it has an ultra-high gas barrier property, and one surface is an exposed surface of the base film, so handling and processing It is possible to provide a composite film that is easy to manufacture. According to the invention of claim 7, in addition to the effect of the invention of claim 4, since one of the composite films has a structure lacking an overcoat layer, a composite film having a simpler structure can be provided. it can. According to the invention of claim 8, in addition to the effect of the invention of any one of claims 4 to 7, it is possible to provide a composite film in which the composite films are more surely laminated by the adhesive layer.
According to the invention of claim 9, by applying the composite film of any one of claims 1 to 8 to one side of the display, a display having a highly improved gas barrier property on the applied side is provided. You can Claim 10
According to the invention, by applying the composite film of any one of claims 1 to 8 to both sides of the display, it is possible to provide a display in which gas barrier properties are highly improved on both sides. According to the invention of claim 11, by sealing the display with the composite film of any one of claims 1 to 8, it is possible to provide a display capable of maintaining a high gas barrier property. According to the invention of claim 12, since the composite film of any one of claims 1 to 8 is used as a substrate on at least an observation side of a display, the number of layers for exhibiting gas barrier properties is increased, but it is substantially It is possible to provide a display capable of maintaining a high gas barrier property without increasing the thickness. According to the invention of claim 13, since the composite film capable of exhibiting the effect of any one of claims 9 to 12 is applied to the liquid crystal display panel, the characteristics of the liquid crystal display panel can be stably maintained for a long period of time. It is possible to provide various displays. According to the invention of claim 14, claim 9 to claim 12
Since a composite film capable of exhibiting the effect of any one of the inventions is applied to an organic EL element, it is possible to provide a display capable of holding the characteristics of the organic EL element stably for a long period of time and suppressing the generation and growth of dark spots. You can

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の超高ガスバリア性フィルムの積層構造
を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a laminated structure of an ultra-high gas barrier film of the present invention.

【図2】本発明の別の超高ガスバリア性フィルムの積層
構造を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a laminated structure of another ultra-high gas barrier film of the present invention.

【図3】本発明の超高ガスバリア性フィルムの適用例を
示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an application example of the ultra-high gas barrier film of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 複合フィルム(超高ガスバリア性フィルム) 2 基材フィルム 3 プライマー層 4 薄膜層 5 オーバーコート層 6 超高ガスバリア性層 7 接着剤層 8 シール部 11 ディスプレイ 1 Composite film (ultra high gas barrier film) 2 Base film 3 Primer layer 4 thin film layers 5 Overcoat layer 6 Ultra high gas barrier layer 7 Adhesive layer 8 Seal part 11 display

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H090 JB03 JC06 JC07 3K007 AB00 CA00 CA06 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01 FA02 4F100 AA17B AA20 AK02 AR00D AT00A AT00E BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA10C BA10E BA13 CB00 CC00C DC11B EH46 EH66 EJ65 EJ65D GB41 HB31 JD02 JD03 JD04 JK15 JM02B 5C094 AA15 AA38 BA27 DA06    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H090 JB03 JC06 JC07                 3K007 AB00 CA00 CA06 CB01 DA00                       DB03 EB00 FA01 FA02                 4F100 AA17B AA20 AK02 AR00D                       AT00A AT00E BA03 BA04                       BA05 BA07 BA10A BA10B                       BA10C BA10E BA13 CB00                       CC00C DC11B EH46 EH66                       EJ65 EJ65D GB41 HB31                       JD02 JD03 JD04 JK15 JM02B                 5C094 AA15 AA38 BA27 DA06

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材フィルム上に、前記基材フィルム側
から順に、金属酸化物の薄膜層、および前記金属酸化物
の薄膜層の微細孔を充填するガスバリア性樹脂で構成さ
れたオーバーコート層からなる超高ガスバリア性層が少
なくとも積層されていることを特徴とする複合フィル
ム。
1. An overcoat layer composed of a metal oxide thin film layer and a gas barrier resin filling the fine pores of the metal oxide thin film layer in this order on the base film from the side of the base film. A composite film comprising at least an ultra-high gas barrier layer composed of.
【請求項2】 前記基材フィルムと前記超高ガスバリア
性層との間にプライマー層が積層されていることを特徴
とする請求項1記載の複合フィルム。
2. The composite film according to claim 1, wherein a primer layer is laminated between the base film and the ultra-high gas barrier layer.
【請求項3】 前記基材フィルム上に、前記超高ガスバ
リア性層が二以上積層されていることを特徴とする請求
項1または請求項2記載の複合フィルム。
3. The composite film according to claim 1, wherein two or more of the ultra-high gas barrier layers are laminated on the base film.
【請求項4】 基材フィルム上に、前記基材フィルム側
から順に、金属酸化物の薄膜層、および前記金属酸化物
の薄膜層の微細孔を充填するガスバリア性樹脂で構成さ
れたオーバーコート層からなる超高ガスバリア性層が少
なくとも積層された第1の複合フィルムと、前記第1の
複合フィルムと同じ積層構造を有する第2の複合フィル
ムとが、各々の前記超高ガスバリア性層どうしが向き合
うように積層されていることを特徴とする複合フィル
ム。
4. An overcoat layer composed of a metal oxide thin film layer and a gas barrier resin filling the fine pores of the metal oxide thin film layer in this order on the base film from the side of the base film. A first composite film in which at least an ultra-high gas barrier layer composed of is laminated, and a second composite film having the same laminated structure as the first composite film face each other in the ultra-high gas barrier layer. A composite film characterized by being laminated as described above.
【請求項5】 前記第1の複合フィルムまたは/および
前記第2の複合フィルムが前記オーバーコート層を欠く
ものであることを特徴とする請求項4記載の複合フィル
ム。
5. The composite film according to claim 4, wherein the first composite film and / or the second composite film lacks the overcoat layer.
【請求項6】 基材フィルム上に、前記基材フィルム側
から順に、金属酸化物の薄膜層、および前記金属酸化物
の薄膜層の微細孔を充填するガスバリア性樹脂で構成さ
れたオーバーコート層からなる超高ガスバリア性層が少
なくとも積層された第1の複合フィルム上に、前記第1
の複合フィルムと同じ積層構造を有する第2の複合フィ
ルムが、前記第1の複合フィルムの前記超高ガスバリア
性層と前記第2の複合フィルムの前記基材フィルムとが
向き合うように積層されていることを特徴とする複合フ
ィルム。
6. An overcoat layer composed of a metal oxide thin film layer and a gas barrier resin filling the fine pores of the metal oxide thin film layer in this order on the base film from the side of the base film. The first composite film on which an ultra-high gas barrier layer composed of
The second composite film having the same laminated structure as the second composite film is laminated so that the ultra-high gas barrier layer of the first composite film and the base film of the second composite film face each other. A composite film characterized in that
【請求項7】 前記第1の複合フィルムが前記オーバー
コート層を欠くものであることを特徴とする請求項4記
載の複合フィルム。
7. The composite film according to claim 4, wherein the first composite film lacks the overcoat layer.
【請求項8】 前記第1の複合フィルムと前記第2の複
合フィルムが接着剤層を介して積層されていることを特
徴とする請求項4〜請求項7いずれか記載の複合フィル
ム。
8. The composite film according to claim 4, wherein the first composite film and the second composite film are laminated via an adhesive layer.
【請求項9】 請求項1〜請求項8いずれか記載の複合
フィルムが、ディスプレイ素子の少なくとも片側の表面
に積層されていることを特徴とするディスプレイ。
9. A display, wherein the composite film according to claim 1 is laminated on at least one surface of a display element.
【請求項10】 請求項1〜請求項8いずれか記載の複
合フィルムが、ディスプレイ素子の両側の表面に積層さ
れていることを特徴とするディスプレイ。
10. A display comprising the composite film according to claim 1 laminated on both surfaces of a display device.
【請求項11】 請求項1〜請求項8いずれか記載の複
合フィルムによりディスプレイ素子が密封されているこ
とを特徴とするディスプレイ。
11. A display, wherein a display element is hermetically sealed with the composite film according to any one of claims 1 to 8.
【請求項12】 請求項1〜請求項8いずれか記載の複
合フィルムが、ディスプレイ素子の少なくとも観察側の
基板であることを特徴とするディスプレイ。
12. A display, wherein the composite film according to claim 1 is a substrate of at least an observation side of a display element.
【請求項13】 ディスプレイ素子が液晶ディスプレイ
パネルであることを特徴とする請求項9〜請求項12い
ずれか記載のディスプレイ。
13. The display according to claim 9, wherein the display element is a liquid crystal display panel.
【請求項14】 ディスプレイ素子が有機EL素子であ
ることを特徴とする請求項9〜請求項12いずれか記載
のディスプレイ。
14. The display according to claim 9, wherein the display element is an organic EL element.
JP2001285042A 2001-09-19 2001-09-19 Composite film having ultra-high gas-barrier property and display using the same Withdrawn JP2003089165A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001285042A JP2003089165A (en) 2001-09-19 2001-09-19 Composite film having ultra-high gas-barrier property and display using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001285042A JP2003089165A (en) 2001-09-19 2001-09-19 Composite film having ultra-high gas-barrier property and display using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003089165A true JP2003089165A (en) 2003-03-25

Family

ID=19108258

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001285042A Withdrawn JP2003089165A (en) 2001-09-19 2001-09-19 Composite film having ultra-high gas-barrier property and display using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003089165A (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004303562A (en) * 2003-03-31 2004-10-28 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for organic electroluminescent element
WO2005034583A1 (en) * 2003-10-03 2005-04-14 Jsr Corporation Transparent sealing material for organic el device
WO2005108055A1 (en) * 2004-05-12 2005-11-17 Konica Minolta Holdings, Inc. Film for display board and method for manufacturing organic el element and aluminum oxide thin film
JP2007012464A (en) * 2005-06-30 2007-01-18 Kyocera Corp Manufacturing method of organic el element
WO2007111075A1 (en) * 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing transparent barrier sheet
WO2007119825A1 (en) * 2006-04-14 2007-10-25 Mitsubishi Plastics, Inc. Gas barrier laminate
JP2007536169A (en) * 2004-05-04 2007-12-13 シグマ ラボラトリー オブ アリゾナ, インク. Composite modular barrier structure and package
WO2008026499A1 (en) * 2006-08-29 2008-03-06 Pioneer Corporation Gas barrier film and method for manufacturing the same
JP2010167777A (en) * 2008-12-19 2010-08-05 Samsung Electronics Co Ltd Gas barrier thin film, electronic device provided with the same and manufacturing method for the device
WO2015012108A1 (en) * 2013-07-26 2015-01-29 コニカミノルタ株式会社 Electronic device and method for manufacturing same
JP2015046385A (en) * 2013-08-01 2015-03-12 株式会社半導体エネルギー研究所 Light-emitting device, electronic apparatus, and illuminating device
JP2015062184A (en) * 2005-03-10 2015-04-02 コニカミノルタ株式会社 Organic electroluminescent film substrate and organic electroluminescent device
JP2016533637A (en) * 2013-06-07 2016-10-27 アップル インコーポレイテッド Radio frequency transparent window
US10202693B2 (en) 2014-05-27 2019-02-12 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Gas barrier film, film substrate provided with gas barrier film, and electronic device including the film substrate

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004303562A (en) * 2003-03-31 2004-10-28 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for organic electroluminescent element
WO2005034583A1 (en) * 2003-10-03 2005-04-14 Jsr Corporation Transparent sealing material for organic el device
JP2007536169A (en) * 2004-05-04 2007-12-13 シグマ ラボラトリー オブ アリゾナ, インク. Composite modular barrier structure and package
WO2005108055A1 (en) * 2004-05-12 2005-11-17 Konica Minolta Holdings, Inc. Film for display board and method for manufacturing organic el element and aluminum oxide thin film
JP2015062184A (en) * 2005-03-10 2015-04-02 コニカミノルタ株式会社 Organic electroluminescent film substrate and organic electroluminescent device
JP2007012464A (en) * 2005-06-30 2007-01-18 Kyocera Corp Manufacturing method of organic el element
JP4669333B2 (en) * 2005-06-30 2011-04-13 京セラ株式会社 Manufacturing method of organic EL element
WO2007111075A1 (en) * 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing transparent barrier sheet
JPWO2007119825A1 (en) * 2006-04-14 2009-08-27 三菱樹脂株式会社 Gas barrier laminate
WO2007119825A1 (en) * 2006-04-14 2007-10-25 Mitsubishi Plastics, Inc. Gas barrier laminate
WO2008026499A1 (en) * 2006-08-29 2008-03-06 Pioneer Corporation Gas barrier film and method for manufacturing the same
JP2010167777A (en) * 2008-12-19 2010-08-05 Samsung Electronics Co Ltd Gas barrier thin film, electronic device provided with the same and manufacturing method for the device
JP2016533637A (en) * 2013-06-07 2016-10-27 アップル インコーポレイテッド Radio frequency transparent window
US9627749B2 (en) 2013-06-07 2017-04-18 Apple Inc. Radio-frequency transparent window
WO2015012108A1 (en) * 2013-07-26 2015-01-29 コニカミノルタ株式会社 Electronic device and method for manufacturing same
JPWO2015012108A1 (en) * 2013-07-26 2017-03-02 コニカミノルタ株式会社 Electronic device and manufacturing method thereof
JP2015046385A (en) * 2013-08-01 2015-03-12 株式会社半導体エネルギー研究所 Light-emitting device, electronic apparatus, and illuminating device
US10276826B2 (en) 2013-08-01 2019-04-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device, electronic device, and lighting device
US10202693B2 (en) 2014-05-27 2019-02-12 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Gas barrier film, film substrate provided with gas barrier film, and electronic device including the film substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI294827B (en) Transparent, gas-barrier laminated film, electroluminescence light-emitting element using the film, electroluminescence-display apparatus, and electrophoretic display panel
JP2003327718A (en) Base film, gas barrier film, and display using the same
JP6834943B2 (en) Laminated film and packaging bag
US6866949B2 (en) Substrate film, gas barrier film, and display using the same
JP2003089165A (en) Composite film having ultra-high gas-barrier property and display using the same
JP4398265B2 (en) Gas barrier film and gas barrier laminate
US20140087162A1 (en) Multi-layered plastic substrate and method for manufacturing the same
US10164210B2 (en) Functional film
JP2003260749A (en) Gas barrier film and display using the film
JP2007523769A (en) Multilayer plastic substrate and manufacturing method thereof
JP2003154596A (en) Transparent gas-barrier film, transparent conductive electrode base material, display element, solar cell, or face-shaped emitter using the film
JP6648752B2 (en) Sealed structure
JP2004327402A (en) Moisture-proof electroluminescent element and its manufacturing method
JP2005288851A (en) Transparent gas barrier film, display substrate using the same and display
JP5515861B2 (en) Gas barrier laminated film
JP2011230455A (en) Packaging bag and sealed display device containing the same
JP2003297556A (en) Display element substrate, display panel, display device and manufacturing method of display element substrate
JP4014931B2 (en) Laminated body and method for producing the same
JP2003260750A (en) Gas barrier film and display using the film
JP2007269957A (en) Gas-barrier film, method for producing the same, and image display element using the same
JP6196944B2 (en) SEALING MEMBER AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD
JP4583062B2 (en) Transparent gas barrier film and method for producing the same
JP2011031434A (en) Method for forming functional film
JP5109715B2 (en) Gas barrier sheet, sealing body, and organic EL display
JP2012066540A (en) Gas barrier film

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20081202