JP2003086368A - 有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法 - Google Patents
有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 10
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 所望の発光パターンを簡易に形成することが
でき、有機エレクトロルミネセンス素子を安価に製造す
ることができる有機エレクトロルミネセンス素子の製造
方法を提供する。 【解決手段】 ガラス基板１１上に基板側電極１２を形
成し（（Ａ），（Ｂ））、ガラス基板１１上に有機ＥＬ
発光層１３２を含む有機膜層１３を形成する（Ｃ）。有
機膜層１３上のほぼ全面に、紫外光の照射により粘着力
が大きくなる粘着テープ１５を貼り付け、粘着テープ１
５上に遮光マスク１６を載置して、粘着テープ１５を紫
外光により露光する（Ｄ）。粘着テープ１５を引き剥が
すことにより、発光パターン以外の有機膜層１３を除去
する（Ｅ）。発光パターンの有機膜層１３上に背面側電
極１４を形成する（Ｆ）。
でき、有機エレクトロルミネセンス素子を安価に製造す
ることができる有機エレクトロルミネセンス素子の製造
方法を提供する。 【解決手段】 ガラス基板１１上に基板側電極１２を形
成し（（Ａ），（Ｂ））、ガラス基板１１上に有機ＥＬ
発光層１３２を含む有機膜層１３を形成する（Ｃ）。有
機膜層１３上のほぼ全面に、紫外光の照射により粘着力
が大きくなる粘着テープ１５を貼り付け、粘着テープ１
５上に遮光マスク１６を載置して、粘着テープ１５を紫
外光により露光する（Ｄ）。粘着テープ１５を引き剥が
すことにより、発光パターン以外の有機膜層１３を除去
する（Ｅ）。発光パターンの有機膜層１３上に背面側電
極１４を形成する（Ｆ）。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、所定の発光パター
ンを有する有機エレクトロルミネセンス素子を簡易に製
造することができる有機エレクトロルミネセンス素子の
製造方法に関する。
ンを有する有機エレクトロルミネセンス素子を簡易に製
造することができる有機エレクトロルミネセンス素子の
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図６は一般的なエリア発光型有機エレク
トロルミネッセンス素子の構造の一例を示す断面図であ
る。なお、エレクトロルミネッセンスをＥＬと略記する
ことがある。図６において、ガラス基板１上には、ＩＴ
Ｏ（酸化インジウム錫）透明電極層である基板側電極２
が形成されている。基板側電極２上には、正孔輸送層３
１と有機ＥＬ発光層３２とを含む有機膜層３が形成され
ている。有機膜層３上には、金属膜よりなる背面側電極
４が形成されている。
トロルミネッセンス素子の構造の一例を示す断面図であ
る。なお、エレクトロルミネッセンスをＥＬと略記する
ことがある。図６において、ガラス基板１上には、ＩＴ
Ｏ（酸化インジウム錫）透明電極層である基板側電極２
が形成されている。基板側電極２上には、正孔輸送層３
１と有機ＥＬ発光層３２とを含む有機膜層３が形成され
ている。有機膜層３上には、金属膜よりなる背面側電極
４が形成されている。
【０００３】この構成において、有機膜層３は、メタル
マスクを用いて所望の発光パターンとなるように形成し
ておく。これにより、基板側電極２と背面側電極４とに
よって挟まれた有機ＥＬ発光層３２が発光して、発光パ
ターンに応じた発光画像を得ることができる。
マスクを用いて所望の発光パターンとなるように形成し
ておく。これにより、基板側電極２と背面側電極４とに
よって挟まれた有機ＥＬ発光層３２が発光して、発光パ
ターンに応じた発光画像を得ることができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の有機エレクトロ
ルミネセンス素子の製造方法においては、上記のよう
に、メタルマスクを用いて予め定めた範囲のみ有機膜層
３を蒸着して、所望の発光パターンを得るのが一般的で
ある。メタルマスクを用いた製造方法は、メタルマスク
自体が高コストであることに加え、製造工程が煩雑であ
ることから、有機エレクトロルミネセンス素子の製造コ
ストが高くなるという問題点があった。
ルミネセンス素子の製造方法においては、上記のよう
に、メタルマスクを用いて予め定めた範囲のみ有機膜層
３を蒸着して、所望の発光パターンを得るのが一般的で
ある。メタルマスクを用いた製造方法は、メタルマスク
自体が高コストであることに加え、製造工程が煩雑であ
ることから、有機エレクトロルミネセンス素子の製造コ
ストが高くなるという問題点があった。
【０００５】本発明はこのような問題点に鑑みなされた
ものであり、所望の発光パターンを簡易に形成すること
ができ、有機エレクトロルミネセンス素子を安価に製造
することができる有機エレクトロルミネセンス素子の製
造方法を提供することを目的とする。
ものであり、所望の発光パターンを簡易に形成すること
ができ、有機エレクトロルミネセンス素子を安価に製造
することができる有機エレクトロルミネセンス素子の製
造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述した従来
の技術の課題を解決するため、所望の発光パターンを有
する有機エレクトロルミネセンス素子を製造するための
有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法において、
基板上に基板側電極を形成する基板側電極形成工程と、
前記基板上のほぼ全面に発光層を含む有機膜層を形成す
る有機膜層形成工程と、前記有機膜層上のほぼ全面に、
特定波長帯の光の照射により粘着力が大きくなる粘着テ
ープを貼り付ける粘着テープ貼付工程と、前記粘着テー
プ上に、前記発光パターンに応じて設けられ、前記特定
波長帯の光を遮光する遮光部を有する遮光マスクを載置
して、前記粘着テープを前記特定波長帯の光により露光
する露光工程と、前記粘着テープを引き剥がすことによ
り、前記発光パターン以外の前記有機膜層を除去する除
去工程と、前記発光パターンの前記有機膜層上に背面側
電極を形成する背面側電極形成工程とを含むことを特徴
とする有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法を提
供するものである。
の技術の課題を解決するため、所望の発光パターンを有
する有機エレクトロルミネセンス素子を製造するための
有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法において、
基板上に基板側電極を形成する基板側電極形成工程と、
前記基板上のほぼ全面に発光層を含む有機膜層を形成す
る有機膜層形成工程と、前記有機膜層上のほぼ全面に、
特定波長帯の光の照射により粘着力が大きくなる粘着テ
ープを貼り付ける粘着テープ貼付工程と、前記粘着テー
プ上に、前記発光パターンに応じて設けられ、前記特定
波長帯の光を遮光する遮光部を有する遮光マスクを載置
して、前記粘着テープを前記特定波長帯の光により露光
する露光工程と、前記粘着テープを引き剥がすことによ
り、前記発光パターン以外の前記有機膜層を除去する除
去工程と、前記発光パターンの前記有機膜層上に背面側
電極を形成する背面側電極形成工程とを含むことを特徴
とする有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法を提
供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の有機エレクトロル
ミネセンス素子の製造方法について、添付図面を参照し
て説明する。図１は本発明の有機エレクトロルミネセン
ス素子の製造方法の第１実施例を示す断面図、図２は第
１実施例によって製造した有機エレクトロルミネセンス
素子を示す平面図、図３は本発明の有機エレクトロルミ
ネセンス素子の製造方法の第２実施例を示す断面図、図
４は第２実施例によって製造した有機エレクトロルミネ
センス素子を示す平面図、図５は本発明の有機エレクト
ロルミネセンス素子の製造方法の第３実施例を示す断面
図である。
ミネセンス素子の製造方法について、添付図面を参照し
て説明する。図１は本発明の有機エレクトロルミネセン
ス素子の製造方法の第１実施例を示す断面図、図２は第
１実施例によって製造した有機エレクトロルミネセンス
素子を示す平面図、図３は本発明の有機エレクトロルミ
ネセンス素子の製造方法の第２実施例を示す断面図、図
４は第２実施例によって製造した有機エレクトロルミネ
センス素子を示す平面図、図５は本発明の有機エレクト
ロルミネセンス素子の製造方法の第３実施例を示す断面
図である。
【０００８】＜第１実施例＞図１（Ａ）に示すように、
ガラス基板１１上に、ＩＴＯを真空蒸着法によって蒸着
し、ＩＴＯ透明電極層である基板側電極１２を形成す
る。基板側電極１２の厚さは例えば０．１５μｍであ
り、基板側電極１２はガラス基板１１の上面全面に形成
する。次に、図１（Ｂ）に示すように、発光パターンと
なる有機膜層を積層する電極部１２ａと基板側電極１２
の電極引き出し部１２ｂを残すよう、フォトリソ工程に
よってエッチングする。ここでは、基板側電極１２の左
側の部分がエッチングにより除去されている。
ガラス基板１１上に、ＩＴＯを真空蒸着法によって蒸着
し、ＩＴＯ透明電極層である基板側電極１２を形成す
る。基板側電極１２の厚さは例えば０．１５μｍであ
り、基板側電極１２はガラス基板１１の上面全面に形成
する。次に、図１（Ｂ）に示すように、発光パターンと
なる有機膜層を積層する電極部１２ａと基板側電極１２
の電極引き出し部１２ｂを残すよう、フォトリソ工程に
よってエッチングする。ここでは、基板側電極１２の左
側の部分がエッチングにより除去されている。
【０００９】そして、図１（Ｃ）に示すように、正孔輸
送層１３１と有機ＥＬ発光層１３２とを真空蒸着法によ
って順次積層し、有機膜層１３を形成する。正孔輸送層
１３１は、一例として、材料がα−ＮＰＤ（4，4'-ビス
［N-（1-ナフチル）-N-フェニルアミノ］ビフェニ
ル）、厚さは０．０５μｍであり、有機ＥＬ発光層１３
２は、一例として、材料がアルミキノンＡｌｑ3（トリ
ス（8-ヒドロキシキノリン）アルミニウム）、厚さは
０．０５μｍである。このとき、有機膜層１３は、メタ
ルマスクを用いることなく、ガラス基板１１の上面全面
に形成する。
送層１３１と有機ＥＬ発光層１３２とを真空蒸着法によ
って順次積層し、有機膜層１３を形成する。正孔輸送層
１３１は、一例として、材料がα−ＮＰＤ（4，4'-ビス
［N-（1-ナフチル）-N-フェニルアミノ］ビフェニ
ル）、厚さは０．０５μｍであり、有機ＥＬ発光層１３
２は、一例として、材料がアルミキノンＡｌｑ3（トリ
ス（8-ヒドロキシキノリン）アルミニウム）、厚さは
０．０５μｍである。このとき、有機膜層１３は、メタ
ルマスクを用いることなく、ガラス基板１１の上面全面
に形成する。
【００１０】次に、図１（Ｄ）に示すように、有機膜層
１３上の全面に粘着テープ１５を貼り付ける。この粘着
テープ１５は、紫外光が照射されると粘着力が大きくな
る特性を有するものである。この特性を有する粘着テー
プ１５としては、一例として、日東電工株式会社製の、
ポリエチレンテレフタレートのベースにアクリル系ポリ
マーを粘着剤として使用した商品名ＡＲＥＸテープを使
用することができる。粘着テープ１５上には、遮光マス
ク１６をガラス基板１１の面方向に対して位置調整した
上で密着させている。なお、有機膜層１３表面の凹凸は
わずかであり、粘着テープ１５と遮光マスク１６とは、
ガラス基板１１方向に押圧した状態としているので、有
機膜層１３（有機ＥＬ発光層１３２）の全体に密着して
いる。
１３上の全面に粘着テープ１５を貼り付ける。この粘着
テープ１５は、紫外光が照射されると粘着力が大きくな
る特性を有するものである。この特性を有する粘着テー
プ１５としては、一例として、日東電工株式会社製の、
ポリエチレンテレフタレートのベースにアクリル系ポリ
マーを粘着剤として使用した商品名ＡＲＥＸテープを使
用することができる。粘着テープ１５上には、遮光マス
ク１６をガラス基板１１の面方向に対して位置調整した
上で密着させている。なお、有機膜層１３表面の凹凸は
わずかであり、粘着テープ１５と遮光マスク１６とは、
ガラス基板１１方向に押圧した状態としているので、有
機膜層１３（有機ＥＬ発光層１３２）の全体に密着して
いる。
【００１１】遮光マスク１６は粘着テープ１５に密着し
ていることが好ましいが、多少の隙間があってもよく、
遮光マスク１６を粘着テープ１５上に載置すればよい。
ていることが好ましいが、多少の隙間があってもよく、
遮光マスク１６を粘着テープ１５上に載置すればよい。
【００１２】遮光マスク１６には、発光パターンとなる
部分のみに紫外光を遮光する遮光部１６ａが形成されて
いる。遮光マスク１６は、紫外光を透過するシートに遮
光部１６ａとなる遮光剤を塗布することにより簡単に製
造することができる。あるいは、ガラス乾板上に写真技
術を応用して形成したフォトマスクを使用することがで
きる。これらはメタルマスクよりも大幅にコストが安
い。そして、遮光マスク１６の上方から紫外光１７を照
射し、粘着テープ１５を露光する。これにより、粘着テ
ープ１５は、遮光部１６ａとの接触部以外の部分の粘着
力が大きくなっている。
部分のみに紫外光を遮光する遮光部１６ａが形成されて
いる。遮光マスク１６は、紫外光を透過するシートに遮
光部１６ａとなる遮光剤を塗布することにより簡単に製
造することができる。あるいは、ガラス乾板上に写真技
術を応用して形成したフォトマスクを使用することがで
きる。これらはメタルマスクよりも大幅にコストが安
い。そして、遮光マスク１６の上方から紫外光１７を照
射し、粘着テープ１５を露光する。これにより、粘着テ
ープ１５は、遮光部１６ａとの接触部以外の部分の粘着
力が大きくなっている。
【００１３】そして、遮光マスク１６を取り除き、図１
（Ｅ）に示すように、粘着テープ１５を引き剥がす。粘
着テープ１５の発光パターン以外の有機膜層１３に対す
る粘着力が大きくなっているので、発光パターンとなる
部分の有機膜層１３を除いて、有機膜層１３がガラス基
板１１または基板側電極１２より剥離（除去）される。
なお、ガラス基板１１と基板側電極１２との接着強度は
基板側電極１２と有機膜層１３との接着強度よりも強い
ため、基板側電極１２の電極引き出し部１２ｂが剥がれ
ることはない。
（Ｅ）に示すように、粘着テープ１５を引き剥がす。粘
着テープ１５の発光パターン以外の有機膜層１３に対す
る粘着力が大きくなっているので、発光パターンとなる
部分の有機膜層１３を除いて、有機膜層１３がガラス基
板１１または基板側電極１２より剥離（除去）される。
なお、ガラス基板１１と基板側電極１２との接着強度は
基板側電極１２と有機膜層１３との接着強度よりも強い
ため、基板側電極１２の電極引き出し部１２ｂが剥がれ
ることはない。
【００１４】紫外光照射条件としては、３６５ｎｍの波
長の紫外光で、１Ｊ／ｃｍ2以上の照射量で、粘着テー
プ１５の粘着力が、有機膜層１３を剥離することができ
る強度に達することが確かめられた。以上により、所望
の発光パターンをパターニングすることが可能となる。
なお、本実施例では、紫外光の照射により粘着力が大き
くなる特性を有する粘着テープ１５を用いたが、紫外光
に限らず、特定波長帯の光の照射により粘着力が大きく
なる粘着テープであればよい。
長の紫外光で、１Ｊ／ｃｍ2以上の照射量で、粘着テー
プ１５の粘着力が、有機膜層１３を剥離することができ
る強度に達することが確かめられた。以上により、所望
の発光パターンをパターニングすることが可能となる。
なお、本実施例では、紫外光の照射により粘着力が大き
くなる特性を有する粘着テープ１５を用いたが、紫外光
に限らず、特定波長帯の光の照射により粘着力が大きく
なる粘着テープであればよい。
【００１５】さらに、基板側電極１２と有機膜層１３と
が積層されたガラス基板１１の上面全面に、例えばアル
ミニウムを０．２μｍ蒸着する。そして、図１（Ｄ）で
説明したのと同様、粘着テープ１５（あるいはこれと同
様の粘着テープ）を貼り付け、遮光マスクにより露光し
て、アルミニウム膜を部分的に除去し、図１（Ｆ）に示
すように、背面側電極１４を形成する。以上により、メ
タルマスクを用いることなく、所望の発光パターンを有
する有機エレクトロルミネセンス素子を製造することが
できる。
が積層されたガラス基板１１の上面全面に、例えばアル
ミニウムを０．２μｍ蒸着する。そして、図１（Ｄ）で
説明したのと同様、粘着テープ１５（あるいはこれと同
様の粘着テープ）を貼り付け、遮光マスクにより露光し
て、アルミニウム膜を部分的に除去し、図１（Ｆ）に示
すように、背面側電極１４を形成する。以上により、メ
タルマスクを用いることなく、所望の発光パターンを有
する有機エレクトロルミネセンス素子を製造することが
できる。
【００１６】この方法により、印加電圧８Ｖで波長５３
０ｎｍの発光ピークを有し、輝度２００ｃｄ／ｍ2の有
機エレクトロルミネセンス素子を得ることができた。図
２に、第１実施例により製造した有機エレクトロルミネ
センス素子の上面図を示している。なお、図２に示す例
では、発光パターンを正方形としているが、これに限定
されるものではなく、発光パターンの形状や数は任意で
ある。
０ｎｍの発光ピークを有し、輝度２００ｃｄ／ｍ2の有
機エレクトロルミネセンス素子を得ることができた。図
２に、第１実施例により製造した有機エレクトロルミネ
センス素子の上面図を示している。なお、図２に示す例
では、発光パターンを正方形としているが、これに限定
されるものではなく、発光パターンの形状や数は任意で
ある。
【００１７】＜第２実施例＞第２実施例は、第１実施例
を発展させて、粘着テープ１５によって有機膜層１３を
剥離する際、より鮮明な剥離パターンを得ることができ
るようにしたものである。なお、図３及び図４におい
て、図１及び図２と同一部分には同一符号が付し、その
説明を適宜省略することがある。
を発展させて、粘着テープ１５によって有機膜層１３を
剥離する際、より鮮明な剥離パターンを得ることができ
るようにしたものである。なお、図３及び図４におい
て、図１及び図２と同一部分には同一符号が付し、その
説明を適宜省略することがある。
【００１８】図３（Ａ）に示すように、ガラス基板１１
の上面全面にフォトレジスト１８を塗布し、紫外光で露
光して所定のパターンを形成する。そして、図３（Ｂ）
に示すように、不要なフォトレジスト１８を除去する。
この所定のパターンは、後述する発光パターンに相当す
るものである。フォトレジスト１８によって覆われてい
ない部分をフッ酸水溶液でエッチングすることにより、
図３（Ｃ）に示すように、発光パターンの部分に凹部１
１ａが形成される。
の上面全面にフォトレジスト１８を塗布し、紫外光で露
光して所定のパターンを形成する。そして、図３（Ｂ）
に示すように、不要なフォトレジスト１８を除去する。
この所定のパターンは、後述する発光パターンに相当す
るものである。フォトレジスト１８によって覆われてい
ない部分をフッ酸水溶液でエッチングすることにより、
図３（Ｃ）に示すように、発光パターンの部分に凹部１
１ａが形成される。
【００１９】ガラス基板１１として、コーニング社製７
０５９、厚さ０．7ｍｍのガラスを使用した。エッチン
グ液として、１０倍希釈のフッ酸水溶液（Ｈ2Ｏ：ＨＦ
＝１０：１）を使用し、２分間常温でエッチングを行っ
た。このエッチング液の常温でのエッチングレートは
０．６μｍ／分であり、エッチングの結果、ガラス基板
１１に深さ１．２μｍの凹部１１ａを形成することがで
きた。なお、エッチングを行った部分の面積、即ち、発
光部となる面積は、２ｍｍ×２ｍｍである。
０５９、厚さ０．7ｍｍのガラスを使用した。エッチン
グ液として、１０倍希釈のフッ酸水溶液（Ｈ2Ｏ：ＨＦ
＝１０：１）を使用し、２分間常温でエッチングを行っ
た。このエッチング液の常温でのエッチングレートは
０．６μｍ／分であり、エッチングの結果、ガラス基板
１１に深さ１．２μｍの凹部１１ａを形成することがで
きた。なお、エッチングを行った部分の面積、即ち、発
光部となる面積は、２ｍｍ×２ｍｍである。
【００２０】以上の工程の次に、図３（Ｄ）〜図３
（Ｉ）の工程に移る。この図３（Ｄ）〜図３（Ｉ）の工
程は、図１（Ａ）〜図１（Ｆ）と基本的に同一である。
図３（Ｄ）に示すように、凹部１１ａを有するガラス基
板１１上に、ＩＴＯを真空蒸着法によって蒸着し、ＩＴ
Ｏ透明電極層である基板側電極１２を形成する。基板側
電極１２の厚さは例えば０．１５μｍであり、基板側電
極１２は凹部１１ａを含めてガラス基板１１の上面全面
に形成する。
（Ｉ）の工程に移る。この図３（Ｄ）〜図３（Ｉ）の工
程は、図１（Ａ）〜図１（Ｆ）と基本的に同一である。
図３（Ｄ）に示すように、凹部１１ａを有するガラス基
板１１上に、ＩＴＯを真空蒸着法によって蒸着し、ＩＴ
Ｏ透明電極層である基板側電極１２を形成する。基板側
電極１２の厚さは例えば０．１５μｍであり、基板側電
極１２は凹部１１ａを含めてガラス基板１１の上面全面
に形成する。
【００２１】次に、図３（Ｅ）に示すように、発光パタ
ーンとなる有機膜層を積層する電極部１２ａと基板側電
極１２の電極引き出し部１２ｂを残すよう、フォトリソ
工程によってエッチングする。ここでは、基板側電極１
２の左側の部分がエッチングにより除去されている。第
２実施例では、凹部１１ａの底面に形成した基板側電極
１２が電極部１２ａとなる。
ーンとなる有機膜層を積層する電極部１２ａと基板側電
極１２の電極引き出し部１２ｂを残すよう、フォトリソ
工程によってエッチングする。ここでは、基板側電極１
２の左側の部分がエッチングにより除去されている。第
２実施例では、凹部１１ａの底面に形成した基板側電極
１２が電極部１２ａとなる。
【００２２】そして、図３（Ｆ）に示すように、正孔輸
送層１３１と有機ＥＬ発光層１３２とを真空蒸着法によ
って順次積層し、有機膜層１３を形成する。正孔輸送層
１３１及び有機ＥＬ発光層１３２の材料及び厚さは、第
１実施例と同様である。このとき、有機膜層１３は、メ
タルマスクを用いることなく、ガラス基板１１の上面全
面に形成する。
送層１３１と有機ＥＬ発光層１３２とを真空蒸着法によ
って順次積層し、有機膜層１３を形成する。正孔輸送層
１３１及び有機ＥＬ発光層１３２の材料及び厚さは、第
１実施例と同様である。このとき、有機膜層１３は、メ
タルマスクを用いることなく、ガラス基板１１の上面全
面に形成する。
【００２３】次に、図３（Ｇ）に示すように、有機膜層
１３上の全面に、紫外光が照射されると粘着力が大きく
なる特性を有する粘着テープ１５を貼り付ける。粘着テ
ープ１５上には、遮光マスク１６をガラス基板１１の面
方向に対して位置調整した上で密着させている。なお、
粘着テープ１５と遮光マスク１６とは、ガラス基板１１
方向に押圧した状態としているので、粘着テープ１５
は、凹部１１ａ以外の部分では有機膜層１３（有機ＥＬ
発光層１３２）に密着している。しかしながら、第２実
施例では、凹部１１ａを有しているため、粘着テープ１
５は、凹部１１ａの底面に形成された有機膜層１３（有
機ＥＬ発光層１３２）には、接触しないか、わずかに接
触する程度である。
１３上の全面に、紫外光が照射されると粘着力が大きく
なる特性を有する粘着テープ１５を貼り付ける。粘着テ
ープ１５上には、遮光マスク１６をガラス基板１１の面
方向に対して位置調整した上で密着させている。なお、
粘着テープ１５と遮光マスク１６とは、ガラス基板１１
方向に押圧した状態としているので、粘着テープ１５
は、凹部１１ａ以外の部分では有機膜層１３（有機ＥＬ
発光層１３２）に密着している。しかしながら、第２実
施例では、凹部１１ａを有しているため、粘着テープ１
５は、凹部１１ａの底面に形成された有機膜層１３（有
機ＥＬ発光層１３２）には、接触しないか、わずかに接
触する程度である。
【００２４】遮光マスク１６には、発光パターンとなる
部分（即ち、凹部１１ａに対向する部分）のみに紫外光
を遮光する遮光部１６ａが形成されている。遮光マスク
１６は、紫外光を透過するシートに遮光部１６ａとなる
遮光剤を塗布することにより簡単に製造することができ
る。あるいは、ガラス乾板上に写真技術を応用して形成
したフォトマスクを使用することができる。これらはメ
タルマスクよりも大幅にコストが安い。そして、遮光マ
スク１６の上方から紫外光１７を照射し、粘着テープ１
５を露光する。これにより、粘着テープ１５は、遮光部
１６ａとの接触部以外の部分（即ち、凹部１１ａ以外の
部分）の粘着力が大きくなっている。
部分（即ち、凹部１１ａに対向する部分）のみに紫外光
を遮光する遮光部１６ａが形成されている。遮光マスク
１６は、紫外光を透過するシートに遮光部１６ａとなる
遮光剤を塗布することにより簡単に製造することができ
る。あるいは、ガラス乾板上に写真技術を応用して形成
したフォトマスクを使用することができる。これらはメ
タルマスクよりも大幅にコストが安い。そして、遮光マ
スク１６の上方から紫外光１７を照射し、粘着テープ１
５を露光する。これにより、粘着テープ１５は、遮光部
１６ａとの接触部以外の部分（即ち、凹部１１ａ以外の
部分）の粘着力が大きくなっている。
【００２５】そして、遮光マスク１６を取り除き、図３
（Ｈ）に示すように、粘着テープ１５を引き剥がす。粘
着テープ１５の発光パターン以外の有機膜層１３に対す
る粘着力が大きくなっているので、発光パターンとなる
部分の有機膜層１３を除いて、有機膜層１３がガラス基
板１１または基板側電極１２より剥離（除去）される。
第２実施例では、凹部１１ａに発光パターンが形成され
ているので、粘着テープ１５の発光パターン以外に対す
る粘着力と、発光パターンに対する粘着力との差は、第
１実施例よりもはるかに大きくなる。よって、第２実施
例では、第１実施例よりも鮮明な剥離パターンが得られ
ることになる。
（Ｈ）に示すように、粘着テープ１５を引き剥がす。粘
着テープ１５の発光パターン以外の有機膜層１３に対す
る粘着力が大きくなっているので、発光パターンとなる
部分の有機膜層１３を除いて、有機膜層１３がガラス基
板１１または基板側電極１２より剥離（除去）される。
第２実施例では、凹部１１ａに発光パターンが形成され
ているので、粘着テープ１５の発光パターン以外に対す
る粘着力と、発光パターンに対する粘着力との差は、第
１実施例よりもはるかに大きくなる。よって、第２実施
例では、第１実施例よりも鮮明な剥離パターンが得られ
ることになる。
【００２６】紫外光照射条件としては、３６５ｎｍの波
長の紫外光で、１Ｊ／ｃｍ2以上の照射量で、粘着テー
プ１５の粘着力が、有機膜層１３を剥離することができ
る強度に達することが確かめられた。以上により、所望
の発光パターンを極めて鮮明にパターニングすることが
可能となる。
長の紫外光で、１Ｊ／ｃｍ2以上の照射量で、粘着テー
プ１５の粘着力が、有機膜層１３を剥離することができ
る強度に達することが確かめられた。以上により、所望
の発光パターンを極めて鮮明にパターニングすることが
可能となる。
【００２７】さらに、基板側電極１２と有機膜層１３と
が積層されたガラス基板１１の上面全面に、例えばアル
ミニウムを０．２μｍ蒸着する。そして、図３（Ｇ）で
説明したのと同様、粘着テープ１５（あるいはこれと同
様の粘着テープ）を貼り付け、遮光マスクにより露光し
て、アルミニウム膜を部分的に除去し、図３（Ｉ）に示
すように、背面側電極１４を形成する。以上により、メ
タルマスクを用いることなく、所望の発光パターンを有
する有機エレクトロルミネセンス素子を製造することが
できる。
が積層されたガラス基板１１の上面全面に、例えばアル
ミニウムを０．２μｍ蒸着する。そして、図３（Ｇ）で
説明したのと同様、粘着テープ１５（あるいはこれと同
様の粘着テープ）を貼り付け、遮光マスクにより露光し
て、アルミニウム膜を部分的に除去し、図３（Ｉ）に示
すように、背面側電極１４を形成する。以上により、メ
タルマスクを用いることなく、所望の発光パターンを有
する有機エレクトロルミネセンス素子を製造することが
できる。
【００２８】この方法により、印加電圧８Ｖで波長５３
０ｎｍの発光ピークを有し、輝度２００ｃｄ／ｍ2の有
機エレクトロルミネセンス素子を得ることができた。図
４に、第２実施例により製造した有機エレクトロルミネ
センス素子の上面図を示している。なお、図４に示す例
では、発光パターン（凹部１１ａ）を正方形としている
が、これに限定されるものではなく、発光パターンの形
状や数は任意である。発光パターンに応じて、凹部１１
ａの形状や数を設定すればよい。
０ｎｍの発光ピークを有し、輝度２００ｃｄ／ｍ2の有
機エレクトロルミネセンス素子を得ることができた。図
４に、第２実施例により製造した有機エレクトロルミネ
センス素子の上面図を示している。なお、図４に示す例
では、発光パターン（凹部１１ａ）を正方形としている
が、これに限定されるものではなく、発光パターンの形
状や数は任意である。発光パターンに応じて、凹部１１
ａの形状や数を設定すればよい。
【００２９】＜第３実施例＞図５に示す第３実施例は、
第２実施例の凹部１１ａの代わりに、発光パターンを囲
むように溝１１ｂを形成したものである。他の全体的な
製造工程は、図１と同様であり、溝１１ｂは、第２実施
例の凹部１１ａと同様な方法により形成することができ
る。溝１１ｂは、一例として、幅約５μｍ、深さ約４μ
ｍである。溝１１ｂを設けることにより、有機膜層１３
が破断しやすくなり、所望の発光パターンを有する有機
エレクトロルミネセンス素子を製造することができる。
第２実施例の凹部１１ａの代わりに、発光パターンを囲
むように溝１１ｂを形成したものである。他の全体的な
製造工程は、図１と同様であり、溝１１ｂは、第２実施
例の凹部１１ａと同様な方法により形成することができ
る。溝１１ｂは、一例として、幅約５μｍ、深さ約４μ
ｍである。溝１１ｂを設けることにより、有機膜層１３
が破断しやすくなり、所望の発光パターンを有する有機
エレクトロルミネセンス素子を製造することができる。
【００３０】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の有
機エレクトロルミネセンス素子の製造方法は、基板上に
基板側電極を形成する基板側電極形成工程と、基板上の
ほぼ全面に発光層を含む有機膜層を形成する有機膜層形
成工程と、有機膜層上のほぼ全面に、特定波長帯の光の
照射により粘着力が大きくなる粘着テープを貼り付ける
粘着テープ貼付工程と、粘着テープ上に、発光パターン
に応じて設けられ、特定波長帯の光を遮光する遮光部を
有する遮光マスクを載置して、粘着テープを特定波長帯
の光により露光する露光工程と、粘着テープを引き剥が
すことにより、発光パターン以外の有機膜層を除去する
除去工程と、発光パターンの有機膜層上に背面側電極を
形成する背面側電極形成工程とを含むので、所望の発光
パターンを簡易に形成することができ、有機エレクトロ
ルミネセンス素子を安価に製造することができる。さら
に、基板側電極形成工程の前に、発光パターンに応じた
凹部を形成する凹部形成工程や、発光パターンを囲むよ
うな溝を形成する溝形成工程を設けることにより、発光
パターン以外の不要な有機膜層を良好に除去することが
でき、鮮明な発光パターンを得ることができる。
機エレクトロルミネセンス素子の製造方法は、基板上に
基板側電極を形成する基板側電極形成工程と、基板上の
ほぼ全面に発光層を含む有機膜層を形成する有機膜層形
成工程と、有機膜層上のほぼ全面に、特定波長帯の光の
照射により粘着力が大きくなる粘着テープを貼り付ける
粘着テープ貼付工程と、粘着テープ上に、発光パターン
に応じて設けられ、特定波長帯の光を遮光する遮光部を
有する遮光マスクを載置して、粘着テープを特定波長帯
の光により露光する露光工程と、粘着テープを引き剥が
すことにより、発光パターン以外の有機膜層を除去する
除去工程と、発光パターンの有機膜層上に背面側電極を
形成する背面側電極形成工程とを含むので、所望の発光
パターンを簡易に形成することができ、有機エレクトロ
ルミネセンス素子を安価に製造することができる。さら
に、基板側電極形成工程の前に、発光パターンに応じた
凹部を形成する凹部形成工程や、発光パターンを囲むよ
うな溝を形成する溝形成工程を設けることにより、発光
パターン以外の不要な有機膜層を良好に除去することが
でき、鮮明な発光パターンを得ることができる。
【図１】本発明の第１実施例を示す断面図である。
【図２】第１実施例によって製造した有機エレクトロル
ミネセンス素子を示す平面図である。
ミネセンス素子を示す平面図である。
【図３】本発明の第２実施例を示す断面図である。
【図４】第２実施例によって製造した有機エレクトロル
ミネセンス素子を示す平面図である。
ミネセンス素子を示す平面図である。
【図５】本発明の第３実施例を示す断面図である。
【図６】一般的なエリア発光型有機エレクトロルミネッ
センス素子の構造の一例を示す断面図である。
センス素子の構造の一例を示す断面図である。
１１ ガラス基板
１１ａ 凹部
１１ｂ 溝
１２ 基板側電極
１３ 有機膜層
１４ 背面側電極
１５ 粘着テープ
１６ 遮光マスク
１７ 紫外光
１８ フォトレジスト
１３１ 正孔輸送層
１３２ 有機ＥＬ発光層
Claims (3)
- 【請求項１】所望の発光パターンを有する有機エレクト
ロルミネセンス素子を製造するための有機エレクトロル
ミネセンス素子の製造方法において、 基板上に基板側電極を形成する基板側電極形成工程と、 前記基板上のほぼ全面に発光層を含む有機膜層を形成す
る有機膜層形成工程と、 前記有機膜層上のほぼ全面に、特定波長帯の光の照射に
より粘着力が大きくなる粘着テープを貼り付ける粘着テ
ープ貼付工程と、 前記粘着テープ上に、前記発光パターンに応じて設けら
れ、前記特定波長帯の光を遮光する遮光部を有する遮光
マスクを載置して、前記粘着テープを前記特定波長帯の
光により露光する露光工程と、 前記粘着テープを引き剥がすことにより、前記発光パタ
ーン以外の前記有機膜層を除去する除去工程と、 前記発光パターンの前記有機膜層上に背面側電極を形成
する背面側電極形成工程とを含むことを特徴とする有機
エレクトロルミネセンス素子の製造方法。 - 【請求項２】前記基板側電極形成工程の前に、前記発光
パターンに応じた凹部を形成する凹部形成工程を設け、
前記凹部に前記発光パターンを形成することを特徴とす
る請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス素子の製
造方法。 - 【請求項３】前記基板側電極形成工程の前に、前記発光
パターンを囲むような溝を形成する溝形成工程を設け、
前記溝の内側に前記発光パターンを形成することを特徴
とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス素子
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001273183A JP2003086368A (ja) | 2001-09-10 | 2001-09-10 | 有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001273183A JP2003086368A (ja) | 2001-09-10 | 2001-09-10 | 有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003086368A true JP2003086368A (ja) | 2003-03-20 |
Family
ID=19098433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001273183A Pending JP2003086368A (ja) | 2001-09-10 | 2001-09-10 | 有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003086368A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100784026B1 (ko) | 2005-09-27 | 2007-12-10 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | 도포 장치 |
| JP2017098105A (ja) * | 2015-11-25 | 2017-06-01 | 住友化学株式会社 | 有機デバイスの製造方法及び有機デバイス用基板 |
-
2001
- 2001-09-10 JP JP2001273183A patent/JP2003086368A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100784026B1 (ko) | 2005-09-27 | 2007-12-10 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | 도포 장치 |
| JP2017098105A (ja) * | 2015-11-25 | 2017-06-01 | 住友化学株式会社 | 有機デバイスの製造方法及び有機デバイス用基板 |
| WO2017090266A1 (ja) * | 2015-11-25 | 2017-06-01 | 住友化学株式会社 | 有機デバイスの製造方法及び有機デバイス用基板 |
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