JP2003086366A - Manufacturing method of display device - Google Patents

Manufacturing method of display device

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JP2003086366A JP2001272229A JP2001272229A JP2003086366A JP 2003086366 A JP2003086366 A JP 2003086366A JP 2001272229 A JP2001272229 A JP 2001272229A JP 2001272229 A JP2001272229 A JP 2001272229A JP 2003086366 A JP2003086366 A JP 2003086366A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method in which an independent process for forming a barrier rib for separating the picture elements is not necessary and a display device can be manufactured easily. SOLUTION: An ITO 11a is formed by vapor deposition on the glass substrate 10 and an insulating layer 11b made of PVK is formed on it. Then, an ink 21 made of a content of an organic EL membrane (display composition) and a hydrocarbon system solvent is selectively applied using an ink jet head 30 on the place where the picture element is formed on the insulating layer. In the place where the ink 21 is applied, the insulating layer 11b is melted with the solvent contained in the ink, and after the solvent is vaporized, an organic EL membrane 11c that contacts the ITO 11a is formed. Then, LiF/Al is vaporized at a thickness of 1,000 Å by vacuum vapor deposition and the negative electrode 11e is made.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機材料等の表示
組成物を含む複数の表示素子を備えた表示装置の製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a display device having a plurality of display elements containing a display composition such as an organic material.

【0002】[0002]

【従来の技術】それぞれが異なる色を呈する表示素子を
複数備えた多色表示EL表示装置を製造する方法として
は、特開昭57−157487号公報、特開昭58−1
47989号公報,及び特開平3−214593号公報
に示されているように、赤、緑、青の3原色で発光する
EL材料をマトリックス状に配置する方法がある。
2. Description of the Related Art As a method for manufacturing a multi-color display EL display device having a plurality of display elements each exhibiting a different color, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 57-157487 and 58-1 are available.
As disclosed in JP-A-47989 and JP-A-3-214593, there is a method of arranging EL materials which emit light in three primary colors of red, green and blue in a matrix.

【0003】この方法では、3原色の発光材料を、高精
度にマトリックス状に配置する必要があるため、複雑な
光露光プロセス及びエッチングプロセスを要していた。
そこで、3原色の発光材料の配置を簡便に行うために、
特開平10−12377号公報及び特開平11−870
63号公報に示されているように、予めバンク(隔壁)
を形成しておき、そのバンクを利用して、EL材料のパ
ターニングを行う方法が用いられてきた。
In this method, since it is necessary to arrange the light emitting materials of the three primary colors in a matrix with high accuracy, a complicated light exposure process and etching process are required.
Therefore, in order to easily arrange the light emitting materials of the three primary colors,
JP-A-10-12377 and JP-A-11-870.
As shown in Japanese Patent Laid-Open No. 63-63, a bank (partition wall) is prepared in advance.
Has been used, and the bank is used to pattern the EL material.

【0004】つまり、図7に示す様に、以下の〜の
工程に従って、多色表示EL表示装置を製造していた。 基板P10上に陽極P11aを設ける(図7
(a))。 陽極P11aを所定のパターンにパターニングする
(図7(b))。
That is, as shown in FIG. 7, a multicolor display EL display device was manufactured according to the following steps (1) to (3). An anode P11a is provided on the substrate P10 (see FIG. 7).
(A)). The anode P11a is patterned into a predetermined pattern (FIG. 7B).

【0005】絶縁層P11bを形成する(図7
(c))。 陽極P11aに対応する位置の絶縁層P11bを光露
光により除去し、残存した絶縁層P11bを隔壁P11
b2とする(図7(d))。 隔壁P11b2で区切られたそれぞれの区間に、所定
の色の有機EL材料P11cをインクジェット法により
配置する(図7(e))。
An insulating layer P11b is formed (see FIG. 7).
(C)). The insulating layer P11b at a position corresponding to the anode P11a is removed by light exposure, and the remaining insulating layer P11b is separated into partition walls P11.
b2 (FIG. 7 (d)). An organic EL material P11c of a predetermined color is arranged in each section separated by the partition wall P11b2 by an inkjet method (FIG. 7E).

【0006】陰極P11dを形成する(図7
(f))。 尚、図7(f)にて陰極P11dは、陽極P11aに平
行な面内で、陽極P11aと直交する方向に延びるよう
に並列配置されている。
A cathode P11d is formed (see FIG. 7).
(F)). In FIG. 7 (f), the cathodes P11d are arranged in parallel in a plane parallel to the anode P11a so as to extend in a direction orthogonal to the anode P11a.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の方法に
おいても、隔壁を形成するためには、光露光を用いた複
雑なプロセスが必要であるので、多色表示EL表示装置
の製造工程が複雑になるという問題、及び製造コストが
高くなると言う問題があった。
However, even in the above method, since a complicated process using light exposure is required to form the partition wall, the manufacturing process of the multicolor display EL display device is complicated. However, there is a problem that the manufacturing cost becomes high.

【0008】本発明は以上の点に鑑みなされたものであ
り、隔壁を形成するための独立した工程が不要であり、
表示装置を簡便に製造することができる製造方法を提供
することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and does not require an independent process for forming partition walls.
It is an object of the present invention to provide a manufacturing method capable of easily manufacturing a display device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段及び発明の効果】(1)請
求項1の発明は、一対の電極と、前記一対の電極の間に
挿入された表示用組成物とから成る表示素子を複数備
え、前記一対の電極の間を絶縁するとともに、前記表示
素子の表示用組成物と他の前記表示素子の表示用組成物
との間を絶縁する隔壁を有する表示装置の製造方法であ
って、前記一対の電極のうちの一方の電極及びその周囲
を覆う絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、前記絶縁層
上の、前記一方の電極に対応する位置に、前記絶縁層を
溶解する溶媒及び前記表示用組成物を含有するインク溶
液を塗布するインク溶液塗布工程と、前記絶縁層の溶解
後に、前記インク溶液の溶媒を蒸発させ、前記一方の電
極と接触するように前記表示用組成物を形成する表示用
組成物形成工程と、前記表示用組成物の上に、前記一対
の電極のうち、他方の電極を形成する電極形成工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法を要旨と
する。
Means for Solving the Problems and Effects of the Invention (1) The invention of claim 1 comprises a plurality of display elements each comprising a pair of electrodes and a display composition inserted between the pair of electrodes. A method for manufacturing a display device having a partition wall that insulates between the pair of electrodes and insulates between the display composition of the display element and another display composition of the display element, An insulating layer forming step of forming one electrode of the pair of electrodes and an insulating layer covering the periphery thereof, and a solvent for dissolving the insulating layer at a position on the insulating layer corresponding to the one electrode, and An ink solution applying step of applying an ink solution containing a display composition, and after the insulating layer is dissolved, the solvent of the ink solution is evaporated to form the display composition so as to come into contact with the one electrode. A display composition forming step of On the serial indicating composition, of the pair of electrodes, and an electrode forming step of forming the other electrode,
A gist of the present invention is to provide a method of manufacturing a display device.

【0010】本発明の表示装置の製造方法では、表示素
子の表示用組成物を形成すると同時に、表示用組成物間
を絶縁する隔壁を形成することができる。つまり、絶縁
層上の所定の場所にインク溶液を塗布すると、その場所
においては、インク溶液に含まれる溶媒によって絶縁層
が溶解され、インク溶液の溶媒が蒸発した後には、イン
ク溶液に含まれていた表示用組成物の成分によって、前
記一方の電極に接触する表示用組成物が形成され、一
方、絶縁層のうち、インク溶液が塗布されなかった場所
では、絶縁層がそのまま残存し、表示用組成物を隔てる
隔壁となる。よって、この隔壁を利用して、容易に表示
素子を製造することができる。
According to the method of manufacturing a display device of the present invention, a partition for insulating between the display compositions can be formed at the same time as forming the display composition of the display element. That is, when the ink solution is applied to a predetermined place on the insulating layer, the insulating layer is dissolved by the solvent contained in the ink solution at that place, and after the solvent of the ink solution is evaporated, the ink solution is contained in the ink solution. The component of the display composition forms a display composition in contact with the one electrode, while the insulating layer remains as it is in the insulating layer where the ink solution is not applied. It serves as a partition that separates the composition. Therefore, a display element can be easily manufactured using this partition.

【0011】従って、本発明の表示装置の製造方法は、
従来の製造方法の様に、光露光を用いた複雑なプロセス
によって隔壁を形成する必要がないため、容易に表示装
置を製造することができ、製造コストも低く抑えること
ができる。 (2)請求項2の発明は、基板上に、前記一方の電極
を、所定のパターンに従って形成することを特徴とする
前記請求項1に記載の表示装置の製造方法を要旨とす
る。
Therefore, the manufacturing method of the display device of the present invention is
Unlike the conventional manufacturing method, since it is not necessary to form the partition wall by a complicated process using light exposure, the display device can be easily manufactured, and the manufacturing cost can be kept low. (2) The invention of claim 2 provides a method of manufacturing a display device according to claim 1, characterized in that the one electrode is formed on a substrate in accordance with a predetermined pattern.

【0012】本発明で製造される表示装置は、基板上に
積層されて構成されているので、例えば、剛性の高い基
板を用いることにより、表示装置に充分な剛性を付与す
ることができる。また、本発明の製造方法では、例え
ば、基板上に、前記一方の電極を形成するので、それら
一方の電極の基板上における位置は一定となる。
Since the display device manufactured according to the present invention is constructed by laminating it on a substrate, it is possible to impart sufficient rigidity to the display device by using a substrate having high rigidity. Further, in the manufacturing method of the present invention, for example, since the one electrode is formed on the substrate, the position of the one electrode on the substrate is constant.

【0013】そのため、インク溶液塗布工程において、
例えば、基板を基準として、インク溶液を塗布する場所
を定めれば、前記一方の電極に相当する位置に、正確に
インク溶液を塗布することができる。 ・前記基板の材料としては、例えば、ガラス、ポリイミ
ド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリプロピレ
ン、ポリエチレンテレフタレート(PET)等がある。 (3)請求項3の発明は、前記表示用組成物が、発光物
質を含有することを特徴とする前記請求項1又は2に記
載の表示装置の製造方法を要旨とする。
Therefore, in the ink solution applying step,
For example, if the place where the ink solution is applied is determined with reference to the substrate, the ink solution can be applied accurately to the position corresponding to the one electrode. Examples of the material of the substrate include glass, polyimide, polycarbonate, polyester, polypropylene, and polyethylene terephthalate (PET). (3) The invention of claim 3 provides the method of manufacturing a display device according to claim 1 or 2, wherein the display composition contains a light emitting substance.

【0014】本発明で製造される表示装置は、表示用組
成物が発光物質を含有するので、電極間に所定の電圧を
かけることにより、表示素子を発光させることができ
る。 ・前記発光物質を含有する表示用組成物としては、例え
ば、発光物質単独から成るもの、または、発光物質に、
補助的な電荷輸送材料を加えたものがある。
In the display device manufactured by the present invention, since the display composition contains a light emitting substance, the display element can emit light by applying a predetermined voltage between the electrodes. As the display composition containing the luminescent substance, for example, a composition comprising a luminescent substance alone, or a luminescent substance,
Some have added supplemental charge transport materials.

【0015】この場合の発光物質としては、例えば、イ
ンク化できる高分子系発光材料があり、具体的には、ポ
リパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導
体、ポリチオフェン誘導体等がある。補助的な電荷輸送
材料としては、例えば、オキサジアゾール、オキサゾー
ル、トリフェニルメタン、ヒドラゾリン系、アリールア
ミン系、ヒドラゾン系、スチルベン系等のホール輸送材
料があり、具体的には、TPD(N,N’−ビス(3−
メチルフェニル)−N,N’−ジフェニルベンジジ
ン)、α−NPD(N,N’−ジ(1−ナフチル)−
N,N’ジフェニルベンジジン)、TAPC(1,1−
ビス(ジ4トリルアミノフェニル)−シクロヘキサ
ン)、PPD(N,N’−ジ(9−フェナントリル)−
N,N’−ジフェニルベンジジン)、TRP、NPB
(α−NPDの2量体)等がある。
The luminescent material in this case is, for example, a polymer-based luminescent material that can be made into an ink, and specifically, a polyparaphenylene vinylene derivative, a polyfluorene derivative, a polythiophene derivative and the like. Examples of the auxiliary charge transport material include oxadiazole, oxazole, triphenylmethane, hydrazoline-based, arylamine-based, hydrazone-based, stilbene-based hole transport materials, and specifically, TPD (N, N'-bis (3-
Methylphenyl) -N, N'-diphenylbenzidine), α-NPD (N, N'-di (1-naphthyl)-
N, N 'diphenylbenzidine), TAPC (1,1-
Bis (di4tolylaminophenyl) -cyclohexane), PPD (N, N'-di (9-phenanthryl)-
N, N'-diphenylbenzidine), TRP, NPB
(A dimer of α-NPD) and the like.

【0016】また、補助的な電荷輸送材料としては、他
に、例えば、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘
導体、アルミニウム錯体等の電子輸送材料があり、具体
的には、tBu−PBD(2−(4−ビフェニル)−5
−(パラ−ターシャル−ブチルフェニル)−1,3,4
−オキサジアゾール)、TAZ(3−(4’−ターシャ
ル−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4''−ビ
フェニル)−1,2,4−トリアゾール)、AlQ3
(トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(II
I))、BND(2,5−ビス(1−ナフチル)−1,
3,4−オキサジアゾール)、Bphen(バソフェナ
ントロリン)、P−EtTAZ(3−(4’−ターシャ
ル−ブチルフェニル)−4−(パラエチルフェニル)−
5−(4''−ビフェニル)−1,2,4トリアゾール)
等がある。
Other examples of the auxiliary charge transport material include electron transport materials such as oxadiazole derivatives, triazole derivatives, and aluminum complexes. Specifically, tBu-PBD (2- (4 -Biphenyl) -5
-(Para-tert-butylphenyl) -1,3,4
-Oxadiazole), TAZ (3- (4'-tert-butylphenyl) -4-phenyl-5- (4 ''-biphenyl) -1,2,4-triazole), AlQ3
(Tris (8-quinolinolato) aluminum (II
I)), BND (2,5-bis (1-naphthyl) -1,
3,4-oxadiazole), Bphen (basophenanthroline), P-EtTAZ (3- (4'-tert-butylphenyl) -4- (paraethylphenyl)-
5- (4 ''-biphenyl) -1,2,4 triazole)
Etc.

【0017】・また、前記発光物質を含有する表示用組
成物としては、例えば、インク化可能な電荷輸送材料
に、発光物質をドープして成るものがある。この場合の
電荷輸送材料としては、例えば、カルバゾール誘導体を
主鎖あるいは側鎖に有する高分子(例えばPVK(ポリ
(N−ビニルカルバゾール))、トリフェニルアミン誘
導体を主鎖あるいは側鎖に有する高分子(例えばPTP
DES(含テトラフェニルジアミン−ポリ(アリレンエ
ステルスルフォン))等のホール輸送性ポリマーや、オ
キサジアゾール誘導体を主鎖あるいは側鎖に有する高分
子(例えばPVMOXD(ポリビニルメチルオキサジア
ゾール))等の電子輸送性ポリマーがある。
Further, as the display composition containing the light emitting substance, there is, for example, one in which a charge transporting material which can be made into an ink is doped with the light emitting substance. Examples of the charge transport material in this case include a polymer having a carbazole derivative in its main chain or a side chain (for example, PVK (poly (N-vinylcarbazole)), a polymer having a triphenylamine derivative in its main chain or a side chain. (Eg PTP
Hole-transporting polymers such as DES (containing tetraphenyldiamine-poly (arylene ester sulfone)) and polymers having an oxadiazole derivative in the main chain or side chain (eg, PVMOXD (polyvinylmethyloxadiazole)), etc. There are electron-transporting polymers.

【0018】また、この場合の発光物質としては、例え
ば、TPB(テトラフェニルブタジエン)、ペリレン、
クマリン、ルブレン、ナイルレッド、DCM(4−ジシ
アノメチレン−2−メチル−6−ジメチルアミノスチリ
ル−4−ピラン)、DCJTB(4−ジシアノメチレン
−6−シーピージュロリジノスチリル−2−ターシャル
ブチル−4H−ピラン)、スクアリリウム、アルミニウ
ム錯体(例えばAlQ3)等がある。
The luminescent substance in this case is, for example, TPB (tetraphenyl butadiene), perylene,
Coumarin, Rubrene, Nile Red, DCM (4-dicyanomethylene-2-methyl-6-dimethylaminostyryl-4-pyran), DCJTB (4-Dicyanomethylene-6-Cepigelolidinostyryl-2-tertiarybutyl- 4H-pyran), squarylium, an aluminum complex (for example, AlQ3) and the like.

【0019】この表示用組成物には、更に、上述した補
助的な電荷輸送材料を加えてもよい。 (4)請求項4の発明は、前記発光物質が、ヘテロ芳香
族化合物、スチルベン系化合物の蛍光、燐光物質の中か
ら選ばれる1又は2以上の物質であることを特徴とする
前記請求項3に記載の表示装置の製造方法を要旨とす
る。
The above-mentioned auxiliary charge transporting material may be further added to the display composition. (4) The invention according to claim 4 is characterized in that the light emitting substance is one or more substances selected from among heteroaromatic compounds, fluorescence of stilbene compounds, and phosphorescent substances. The gist is the manufacturing method of the display device described in (1).

【0020】本発明で製造される表示装置は、上記発光
物質を表示用組成物中に含有することにより、所定の電
圧をかけた場合には、高輝度で発光することができる。 ・前記発光物質の具体例としては、ポリパラフェニレン
ビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリチオフェ
ン誘導体等の高分子発光材料、及び、TPB、ペリレ
ン、クマリン、ルブレン、ナイルレッド、DCM、DC
JTBスクアリリウム、アルミニウム錯体(例えばAl
Q3)等の低分子系材料がある。 (5)請求項5の発明は、前記表示用組成物が、電荷輸
送材料を含有することを特徴とする前記請求項3又は4
に記載の表示装置の製造方法を要旨とする。
The display device produced by the present invention can emit light with high brightness when a predetermined voltage is applied by containing the above-mentioned luminescent substance in the display composition. Specific examples of the light emitting material include high molecular light emitting materials such as polyparaphenylene vinylene derivative, polyfluorene derivative and polythiophene derivative, and TPB, perylene, coumarin, rubrene, nile red, DCM, DC.
JTB squarylium, aluminum complex (eg Al
There are low molecular weight materials such as Q3). (5) The invention of claim 5 is characterized in that the display composition contains a charge transport material.
The gist is the manufacturing method of the display device described in (1).

【0021】本発明で製造される表示装置における表示
用組成物は、例えば、発光物質(例えば、例えば、イン
ク化できる高分子系発光材料、具体的には、ポリパラフ
ェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリ
チオフェン誘導体等)に、電荷輸送材料を添加したもの
とすることができる。
The display composition in the display device manufactured by the present invention is, for example, a luminescent substance (for example, a polymer-based luminescent material that can be made into an ink, specifically, a polyparaphenylene vinylene derivative, a polyfluorene derivative). , A polythiophene derivative, etc.) to which a charge transport material is added.

【0022】この表示装置は、上記の構成により、電極
間に所定の電圧をかけた場合には、高輝度で発光するこ
とができる。 (6)請求項6の発明は、前記電荷輸送材料が、オキサ
ジアゾール系、オキサゾール系、トリフェニルメタン
系、ヒドラゾリン系、アリールアミン系、ヒドラゾン
系、スチルベン系の中から選ばれる1又は2以上のホー
ル輸送材料、又は、オキサジアゾール誘導体、トリアゾ
ール誘導体、アルミニウム錯体の中から選ばれる1又は
2以上の電子輸送材料であることを特徴とする前記請求
項5に記載の表示装置の製造方法を要旨とする。
With the above structure, this display device can emit light with high brightness when a predetermined voltage is applied between the electrodes. (6) In the invention of claim 6, the charge transport material is one or more selected from oxadiazole-based, oxazole-based, triphenylmethane-based, hydrazoline-based, arylamine-based, hydrazone-based, and stilbene-based materials. 6. The method for manufacturing a display device according to claim 5, wherein the hole transporting material is, or one or more electron transporting materials selected from oxadiazole derivatives, triazole derivatives, and aluminum complexes. Use as a summary.

【0023】本発明は、電荷輸送材料を例示する。表示
装置の表示用組成物を、上記電荷輸送材料を用いて構成
することにより、電極間に所定の電圧をかけた場合に
は、表示装置を高輝度で発光させることができる。
The present invention exemplifies charge transport materials. By configuring the display composition of the display device using the above charge transport material, the display device can emit light with high brightness when a predetermined voltage is applied between the electrodes.

【0024】・前記ホール輸送材料の具体例としては、
TPD、α−NPD、TAPC、PPD、TRP、NP
B等がある。 ・前記電子輸送材料の具体例としては、PBD、TA
Z、AlQ3、BND、Bphen、P−EtTAZ等
がある。
Specific examples of the hole transport material include:
TPD, α-NPD, TAPC, PPD, TRP, NP
There is B etc. -Specific examples of the electron transport material include PBD and TA
Z, AlQ3, BND, Bphen, P-EtTAZ and the like.

【0025】また、電子輸送材料として、電子輸送性ポ
リマーである、オキサジアゾール誘導体を主鎖あるいは
側鎖に有する高分子(例えばPVMOXD)を使用する
ことができる。 (7)請求項7の発明は、前記表示用組成物が、酸化還
元により呈色変化する物質を含有することを特徴とする
前記請求項1又は2に記載の表示装置の製造方法を要旨
とする。
As the electron-transporting material, a polymer having an oxadiazole derivative as an electron-transporting polymer in its main chain or side chain (for example, PVMOXD) can be used. (7) The invention of claim 7 is the method of manufacturing a display device according to claim 1 or 2, wherein the display composition contains a substance that changes color by redox. To do.

【0026】本発明で製造される表示装置では、表示素
子の電極間にかける電圧を変化させることにより、表示
素子の表示用組成物を酸化又は還元して、その色を変化
させることができる。従って、この表示装置は、表示用
組成物の色の変化を利用して、所定のパターンを表示す
ることができる。
In the display device manufactured by the present invention, the color can be changed by changing the voltage applied between the electrodes of the display element to oxidize or reduce the display composition of the display element. Therefore, this display device can display a predetermined pattern by utilizing the color change of the display composition.

【0027】・本発明の表示素子としては、例えば、エ
レクトロクロミック素子がある。 (8)請求項8の発明は、前記表示用組成物が、酸化還
元により呈色変化するポリマー物質と、ポリマー電解質
と、から成ることを特徴とする前記請求項1又は2に記
載の表示装置の製造方法を要旨とする。
The display element of the present invention includes, for example, an electrochromic element. (8) The display device according to claim 1 or 2, wherein the display composition comprises a polymer substance that changes color due to redox and a polymer electrolyte. The manufacturing method will be summarized.

【0028】本発明で製造される表示装置では、表示素
子の電極間にかける電圧を変化させることにより、表示
素子の表示用組成物を酸化又は還元して、その色を変化
させることができる。従って、この表示装置は、表示用
組成物の色の変化を利用して、所定のパターンを表示す
ることができる。
In the display device manufactured by the present invention, by changing the voltage applied between the electrodes of the display element, the display composition of the display element can be oxidized or reduced to change its color. Therefore, this display device can display a predetermined pattern by utilizing the color change of the display composition.

【0029】・前記ポリマー物質としては、例えば、ポ
リアニリン、ポリビロール誘導体等がある。 ・前記ポリマー電解質としては、例えば、ポリメチルメ
タクリレート(PMMA)、ポリエチレンオキサイド
(PEO)、ポリアクリルニトリル(PAN)等があ
る。 (9)請求項9の発明は、前記絶縁層が、PVK(ポリ
(N−ビニルカルバゾール))、ポリスチレン、ナイロ
ン、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフ
ェニレンオキシド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポ
リフェニレンスルフィド、ポリアミドイミド、ポリイミ
ド、フッ素樹脂の中から選ばれる1又は2以上の物質か
ら成ることを特徴とする前記請求項1〜8のいずれかに
記載の表示装置の製造方法を要旨とする。
Examples of the polymer substance include polyaniline and polyvirol derivatives. Examples of the polymer electrolyte include polymethylmethacrylate (PMMA), polyethylene oxide (PEO), polyacrylonitrile (PAN) and the like. (9) The invention of claim 9 is characterized in that the insulating layer is PVK (poly (N-vinylcarbazole)), polystyrene, nylon, polyacetal, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene oxide, polyarylate, polysulfone, polyphenylene. The gist of the method for producing a display device according to any one of claims 1 to 8 is that the display device is made of one or more substances selected from sulfides, polyamideimides, polyimides, and fluororesins.

【0030】本発明は絶縁層を例示する。絶縁層とし
て、上記の材料を用いることにより、表示素子の電極間
の絶縁と、表示素子の表示用組成物間の絶縁とを確実に
することができる。また、上記の材料は、所定の溶媒に
より溶解することができるので、インク溶液塗布工程に
おいては、インク溶液を塗布した場所の絶縁層をインク
溶液に含まれる溶媒により溶解することにより、表示素
子の電極に達するように、表示用組成物を形成すること
が出来る。 (10)請求項10の発明は、前記溶媒が、炭化水素水
素系溶媒、ハロゲン炭化水素系溶媒、アルコール系溶
媒、ケトン、アルデヒド、ドデシルベンゼン、テトラリ
ン、ジクロルエタン、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、エチレングリコールモノエチルエーテルの
中から選ばれる1又は2以上の物質から成ることを特徴
とする前記請求項1〜9のいずれかに記載のの表示装置
の製造方法を要旨とする。
The present invention illustrates an insulating layer. By using the above materials as the insulating layer, it is possible to ensure the insulation between the electrodes of the display element and the insulation between the display compositions of the display element. Further, since the above materials can be dissolved in a predetermined solvent, in the ink solution applying step, by dissolving the insulating layer at the place where the ink solution is applied by the solvent contained in the ink solution, The display composition can be formed to reach the electrodes. (10) In the invention of claim 10, the solvent is a hydrocarbon hydrocarbon solvent, a halogen hydrocarbon solvent, an alcohol solvent, a ketone, an aldehyde, dodecylbenzene, tetralin, dichloroethane, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol mono. A method of manufacturing a display device according to any one of claims 1 to 9, characterized by comprising one or more substances selected from ethyl ether.

【0031】本発明は、インク溶液に含まれる溶媒を例
示している。上記溶媒は、絶縁層を溶解することするこ
とができるので、インク塗布工程においては、これらの
溶媒を含むインク溶液を用いることにより、インク溶液
を塗布した場所の絶縁層を溶解し、表示素子の電極に達
するように、表示用組成物を形成することが出来る。 (11)請求項11の発明は、前記絶縁層の前記溶媒に
対する溶解度が、前記表示用組成物の前記溶媒に対する
溶解度よりも小さいことを特徴とする前記請求項1〜1
0のいずれかに記載の表示装置の製造方法を要旨とす
る。
The present invention exemplifies the solvent contained in the ink solution. Since the solvent can dissolve the insulating layer, in the ink applying step, by using an ink solution containing these solvents, the insulating layer at the place where the ink solution is applied is dissolved, and The display composition can be formed to reach the electrodes. (11) The invention of claim 11 is characterized in that the solubility of the insulating layer in the solvent is smaller than the solubility of the display composition in the solvent.
The gist is the method for manufacturing the display device described in any one of 0.

【0032】本発明の製造方法のインク溶液塗布工程で
は、インク溶液が塗布された場所の絶縁層は、溶媒によ
り溶解する。次の表示用組成物形成工程では、インク溶
液の溶媒が蒸発し、インク溶液に含まれていた成分が固
化して表示用組成物が形成されるとともに、溶解されて
いた絶縁層も、再び固化する。
In the ink solution applying step of the manufacturing method of the present invention, the insulating layer at the location where the ink solution is applied is dissolved by the solvent. In the next display composition forming step, the solvent of the ink solution is evaporated, the components contained in the ink solution are solidified to form the display composition, and the dissolved insulating layer is also solidified again. To do.

【0033】この時、溶媒に対する絶縁層の溶解度が、
表示用組成物の溶解度よりも小さいことにより、インク
溶液を塗布した場所の周辺部に絶縁層は偏析し、表示用
組成物は、インクを塗布した場所の中心部に偏析する。
このことにより、表示用組成物に絶縁層の成分が混入す
ることが少なくなり、表示素子は、優れた発光特性を有
する。 (12)請求項12の発明は、前記インク溶液塗布工程
において、インクジェット法を用いて、前記インク溶液
を塗布することを特徴とする前記請求項1〜11のいず
れかに記載の表示装置の製造方法を要旨とする。
At this time, the solubility of the insulating layer in the solvent is
Since the solubility is lower than that of the display composition, the insulating layer segregates in the peripheral portion of the place where the ink solution is applied, and the display composition segregates in the central portion of the place where the ink is applied.
As a result, the components of the insulating layer are less likely to be mixed in the display composition, and the display element has excellent light emitting characteristics. (12) The invention according to claim 12 is characterized in that, in the ink solution applying step, the ink solution is applied by using an ink jet method, and the display device according to any one of claims 1 to 11 is manufactured. The method is the gist.

【0034】本発明は、インク溶液塗布工程における、
インク溶液の塗布方法を例示している。インクジェット
法によれば、インク溶液を、薄く、且つ均一に塗布する
ことができる。従って、本発明によれば、薄く且つ均一
な膜厚の表示用組成物を形成することが可能である。
According to the present invention, in the ink solution applying step,
The method of applying the ink solution is illustrated. According to the inkjet method, the ink solution can be applied thinly and uniformly. Therefore, according to the present invention, it is possible to form a display composition having a thin and uniform film thickness.

【0035】また、インクジェット法によれば、必要な
場所にのみインク溶液を塗布することができるので、デ
ィップコート法やスピンコート法のように、全体にイン
ク溶液を塗布する方法に比べて、インク溶液の使用量が
少なくて済む。更に、例えば、インクジェットヘッドの
位置を制御することにより、インク溶液を必要な場所に
選択的に塗布することができるので、例えば、インク溶
液を塗り分けるためのマスクを形成したりする工程が不
要である。
Further, according to the ink jet method, the ink solution can be applied only to a necessary place. Therefore, as compared with the method of applying the ink solution to the entire surface such as the dip coating method or the spin coating method, the ink solution is applied. The amount of solution used is small. Further, for example, by controlling the position of the inkjet head, it is possible to selectively apply the ink solution to a required place, so that, for example, a step of forming a mask for separately applying the ink solution is unnecessary. is there.

【0036】・前記インクジェット法に用いるインクジ
ェットヘッドとして、例えば、圧電素子方式のインクジ
ェットヘッド、バブルジェット(登録商標)方式のイン
クジェットヘッド等がある。 (13)請求項13の発明は、前記インク溶液塗布工程
において、印刷法を用いて、前記インク溶液を塗布する
ことを特徴とする前記請求項1〜11のいずれかに記載
の表示装置の製造方法を要旨とする。
Examples of the inkjet head used in the inkjet method include a piezoelectric element type inkjet head and a bubble jet (registered trademark) type inkjet head. (13) The invention of claim 13 is characterized in that, in the ink solution applying step, the ink solution is applied by using a printing method, and the display device according to any one of claims 1 to 11, is manufactured. The method is the gist.

【0037】本発明は、インク溶液塗布工程における、
インク溶液の塗布方法を例示している。印刷法によれ
ば、例えば、絶縁層において、インク溶液を塗布する必
要のない部分に予めマスクを形成することにより、絶縁
層の必要な場所に選択的にインク溶液を塗布することが
できる。 (14)請求項14の発明は、前記インク溶液の粘度
が、1×10-3〜1×10Pa・sの範囲にあることを
特徴とする前記請求項1〜13のいずれかに記載の表示
装置の製造方法を要旨とする。
In the present invention, in the ink solution applying step,
The method of applying the ink solution is illustrated. According to the printing method, for example, by forming a mask in advance on a portion of the insulating layer that does not need to be coated with the ink solution, the ink solution can be selectively coated on a required portion of the insulating layer. (14) The invention according to claim 14 is characterized in that the viscosity of the ink solution is in the range of 1 × 10 −3 to 1 × 10 Pa · s. The gist is the method of manufacturing the device.

【0038】本発明の製造方法では、インク溶液の粘度
が上記範囲内(更に好ましくは5×10-3〜1.5×1
-2Pa・sの範囲)であることにより、例えば、イン
クジェット法によりインク溶液を塗布する場合に、イン
クのドロップ径を制御することが容易である。
In the production method of the present invention, the viscosity of the ink solution is within the above range (more preferably 5 × 10 −3 to 1.5 × 1).
Within the range of 0 −2 Pa · s), for example, when the ink solution is applied by the inkjet method, it is easy to control the drop diameter of the ink.

【0039】また、例えば、印刷法によりインク溶液を
塗布する場合には、インク溶液の粘度が上記範囲内(更
に好ましくは、1×10-1〜1×10Pa・sの範囲)
にあることにより、微細パターンの印刷性の点で優れて
いる。 (15)請求項15の発明は、前記表示素子用組成物形
成工程において、10〜100℃の温度範囲において、
前記溶媒を蒸発させることを特徴とする前記請求項1〜
14のいずれかに記載の表示装置の製造方法を要旨とす
る。
Further, for example, when the ink solution is applied by a printing method, the viscosity of the ink solution is within the above range (more preferably, 1 × 10 -1 to 1 × 10 Pa · s).
By virtue of being present, it is excellent in printability of a fine pattern. (15) In the invention of claim 15, in the step of forming the composition for a display element, in a temperature range of 10 to 100 ° C.,
The method according to claim 1, wherein the solvent is evaporated.
The gist is the method for manufacturing a display device according to any one of 14 above.

【0040】本発明の製造方法では、10℃以上の温度
で溶媒を蒸発させるので、蒸発に要する時間が短くて済
む。また、本発明では、100℃以下の温度で溶媒を蒸
発させるので、表示装置を構成する部材(例えば、基
板、電極、絶縁層、表示用組成物)が変形又は変質する
ことがない。
In the manufacturing method of the present invention, since the solvent is evaporated at a temperature of 10 ° C. or higher, the time required for evaporation can be shortened. Further, in the present invention, since the solvent is evaporated at a temperature of 100 ° C. or lower, members (eg, substrate, electrode, insulating layer, display composition) constituting the display device are not deformed or deteriorated.

【0041】[0041]

【発明の実施の形態】以下に本発明の表示装置の製造方
法の実施の形態の例(実施例)を説明する。 (実施例1)ここでは、表示装置として、有機ELディ
スプレイを例に挙げて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An example (embodiment) of an embodiment of a method for manufacturing a display device of the present invention will be described below. (Example 1) Here, an organic EL display will be described as an example of a display device.

【0042】a)まず、有機ELディスプレイ1の全体
構成を図1を用いて説明する。有機ELディスプレイ1
は、ガラス基板10と、そのガラス基板10上に配置さ
れた有機EL素子11(表示素子)、電流駆動TFT1
2、水平駆動回路13、垂直駆動回路14、及び封止層
16を備えている上記有機EL素子11は、ガラス基板
10の中央部に形成されており、碁盤の目状に、15の
画素に分割されている。それぞれの画素は、有機EL膜
11c(表示用組成物)と、その有機EL膜11cを上
下から挟む陽極(ITO(インジウムチタンオキサイ
ド)11a)と陰極11eとを備えている。
A) First, the overall structure of the organic EL display 1 will be described with reference to FIG. Organic EL display 1
Is a glass substrate 10, an organic EL element 11 (display element) arranged on the glass substrate 10, and a current drive TFT 1.
2. The organic EL element 11 including the horizontal driving circuit 13, the vertical driving circuit 14, and the sealing layer 16 is formed in the central portion of the glass substrate 10, and has a grid pattern of 15 pixels. It is divided. Each pixel includes an organic EL film 11c (composition for display), an anode (ITO (Indium Titanium Oxide) 11a) sandwiching the organic EL film 11c from above and below, and a cathode 11e.

【0043】有機EL素子11の個々の画素は、陽極I
TO11aと陰極11eとの間に直流電圧をかけると発
光し、ガラス基板10を透過して、下方(図1における
下方)に光を照射する。一方、陽極(ITO11a)と
陰極11eとの間の電圧がOFFの時には消光する。
Each pixel of the organic EL element 11 has an anode I
When a DC voltage is applied between the TO 11a and the cathode 11e, it emits light, passes through the glass substrate 10 and irradiates light downward (downward in FIG. 1). On the other hand, when the voltage between the anode (ITO 11a) and the cathode 11e is OFF, the light is extinguished.

【0044】上記電流駆動TFT12は、有機EL素子
11の個々の画素ごとに1個ずつ設けられており、対応
する画素への電流供給を制御するスイッチとして作用す
る。上記水平駆動回路13及び上記垂直駆動回路14
は、各画素に対応する電流駆動TFT12を、オン又は
オフとすることにより、各画素の独立発光及び消灯制御
を行う。
The current driving TFT 12 is provided for each pixel of the organic EL element 11 and acts as a switch for controlling the current supply to the corresponding pixel. The horizontal drive circuit 13 and the vertical drive circuit 14
Turns on or off the current driving TFT 12 corresponding to each pixel, thereby performing independent light emission and extinction control of each pixel.

【0045】上記封止層16は、有機EL素子11、電
流駆動TFT12、水平駆動回路13、垂直駆動回路1
4、P−SiTFT15を上から覆い、保護するもので
ある。 b)次に、上記電流駆動TFT12について、図1、図
2、及び図3を用いて説明する。
The sealing layer 16 includes the organic EL element 11, the current driving TFT 12, the horizontal driving circuit 13, and the vertical driving circuit 1.
4. The P-Si TFT 15 is covered and protected from above. b) Next, the current drive TFT 12 will be described with reference to FIGS. 1, 2, and 3.

【0046】有機ELディスプレイ1には、図1に示す
様に、有機EL素子11の1画素ごとに、電流駆動TF
T12が設けられている。この電流駆動TFT12は、
図2に示す様に、有機EL素子11の個々の画素への電
流の供給を制御するスイッチとして機能する。
As shown in FIG. 1, the organic EL display 1 has a current drive TF for each pixel of the organic EL element 11.
T12 is provided. This current drive TFT 12 is
As shown in FIG. 2, the organic EL element 11 functions as a switch that controls the supply of current to each pixel.

【0047】この電流駆動TFT12の構成を、図3の
等価回路を用いて説明する。尚、図3は、6個の画素に
ついての繰り返し図である。電流駆動TFT12は、図
3に示す様に、垂直駆動回路14に接続したデータ線1
2f、水平駆動回路13に接続した走査線12e、走査
線12eを介して走査信号が、そのゲート電極に供給さ
れるメモリーTFT12b、メモリーTFT12bを介
してデータ線12fから電荷(画像信号)を供給され、
保持するコンデンサ12c、コンデンサ12cにより保
持された画像信号がゲート電極に供給される駆動TFT
12aを備えており、有機EL素子の陽極(ITO11
a)には、駆動TFT12aを介して電源線12dから
駆動電流が流れ込む。
The structure of the current drive TFT 12 will be described with reference to the equivalent circuit of FIG. Note that FIG. 3 is a repetitive diagram for six pixels. As shown in FIG. 3, the current driving TFT 12 is a data line 1 connected to the vertical driving circuit 14.
2f, a scanning line 12e connected to the horizontal drive circuit 13, a scanning signal via the scanning line 12e, a memory TFT 12b supplied to the gate electrode thereof, and an electric charge (image signal) supplied from the data line 12f via the memory TFT 12b. ,
Capacitor 12c for holding, drive TFT in which the image signal held by the capacitor 12c is supplied to the gate electrode
12a, the anode of the organic EL element (ITO 11
A drive current flows from the power supply line 12d into the drive circuit 12a via the drive TFT 12a.

【0048】この電流駆動TFT12では、水平駆動回
路13によって走査線12eがオンになり、垂直駆動回
路14によってデータ線12fがオンになると、メモリ
ーTFT12bが作動し、コンデンサ12cに電荷が蓄
積される。この電荷に相当する時間だけ駆動TFT12
aが作動し、電源線 12dから、駆動TFT12a、
陽極(ITO11a)、有機EL膜11cを介して、陰
極11eへ電流が流れ、その電流駆動TFT12に対応
する画素が発光する。
In the current drive TFT 12, when the scanning line 12e is turned on by the horizontal drive circuit 13 and the data line 12f is turned on by the vertical drive circuit 14, the memory TFT 12b operates and the electric charge is stored in the capacitor 12c. The driving TFT 12 is operated for a time corresponding to this charge.
a operates, and the drive TFT 12a, from the power line 12d,
A current flows to the cathode 11e through the anode (ITO 11a) and the organic EL film 11c, and the pixel corresponding to the current driving TFT 12 emits light.

【0049】一方、水平駆動回路13によって走査線1
2dがオフとなるか、垂直駆動回路14によってデータ
線12eがオフとなった場合には、メモリーTFT12
bが作動せず、有機EL膜11cには電流が流れないの
で、その電流駆動TFT12に対応する画素は消光す
る。
On the other hand, the scanning line 1 is driven by the horizontal drive circuit 13.
When 2d is turned off or the data line 12e is turned off by the vertical drive circuit 14, the memory TFT 12
Since b does not operate and no current flows in the organic EL film 11c, the pixel corresponding to the current drive TFT 12 is extinguished.

【0050】c)次に、有機ELディスプレイ1の製造
方法を図4を用いて説明する。 尚、図4は、有機EL
ディスプレイ1のうち、有機EL素子11の部分のみを
示す図である。ここでは、特に、要部である有機EL素
子11の製造方法を説明する。
C) Next, a method of manufacturing the organic EL display 1 will be described with reference to FIG. In addition, FIG. 4 shows an organic EL.
It is a figure which shows only the part of the organic EL element 11 among the displays 1. Here, a method for manufacturing the organic EL element 11, which is a main part, will be described in particular.

【0051】図4aに示す様に、ガラス基板10上
に、ITO11aを150nmの厚みで蒸着し、陽極と
した。このITO11aの表面抵抗は500〜600μ
Ω/cmであり、光透過率は81%であった。
As shown in FIG. 4a, ITO 11a having a thickness of 150 nm was vapor-deposited on the glass substrate 10 to form an anode. The surface resistance of this ITO 11a is 500 to 600 μm.
Ω / cm, and the light transmittance was 81%.

【0052】前記で形成したITO11a上に、露
光用のレジスト20をスピンコートにより塗布し、所望
の電極パターンをマスク露光した。その後、濃硝酸と濃
塩酸の混合液である王水を用いたエッチングにより、露
光されていない部分のレジスト20及びITO11aを
取り除き、図4bに示す様に、所望の電極パターンを形
成した。
A resist 20 for exposure was applied on the ITO 11a thus formed by spin coating, and a desired electrode pattern was mask-exposed. After that, the resist 20 and the ITO 11a in the unexposed portion were removed by etching using aqua regia which is a mixed solution of concentrated nitric acid and concentrated hydrochloric acid, and a desired electrode pattern was formed as shown in FIG. 4b.

【0053】ITO11a表面を、中性洗剤洗浄、ア
セトン洗浄、IPA(イソプロピルアルコール)洗浄、
及びUVオゾン洗浄により順次洗浄した。尚、これらの
洗浄の目的は、(i)ITO11a上の汚れを除去するこ
と、(ii)ITO11a表面の酸素欠陥を減らし、正孔注
入障壁を低下させること、である。
The surface of the ITO 11a is washed with a neutral detergent, acetone, IPA (isopropyl alcohol),
And UV ozone cleaning. The purpose of these cleanings is (i) to remove stains on the ITO 11a, and (ii) to reduce oxygen defects on the surface of the ITO 11a and lower the hole injection barrier.

【0054】中でも、UVオゾン洗浄は、湿式洗浄では
とれない有機物の汚れを除去することができる。 図4cに示す様に、ガラス基板10上の、有機EL素
子11を形成する部分全体に、スピンコート法、ディッ
プ法、カーテンコート法、バーコート法、印刷法もしく
はインクジェット法を用いて、PVKから成る絶縁層1
1bを形成した。
Among them, the UV ozone cleaning can remove stains of organic substances which cannot be removed by the wet cleaning. As shown in FIG. 4C, PVK is formed on the entire portion of the glass substrate 10 where the organic EL element 11 is formed by spin coating, dipping, curtain coating, bar coating, printing or ink jetting. Insulating layer 1
1b was formed.

【0055】絶縁層11bの厚みは、ITO11a間の
絶縁を保持できる厚みであればよく、薄い方が、インク
ジェットの液滴径(ドロップ径)を考えると、高分解
能、高画質の点で好ましい。また、絶縁層11bは、後
述する工程において溶解させるので、半キュアー状態
(完全に硬化していない状態)が望ましい。
The insulating layer 11b may have any thickness as long as it can maintain the insulation between the ITOs 11a, and a thinner one is preferable from the viewpoint of high resolution and high image quality in view of the ink droplet diameter (drop diameter). Further, the insulating layer 11b is dissolved in a step described later, and therefore, a semi-cured state (a state where it is not completely cured) is desirable.

【0056】次に、有機EL膜(表示用組成物)の成
分及び炭化水素系溶媒から成るインク21(インク溶
液)を調製した。具体的には、以下の成分を、それぞれ
対応する重量比で混合することにより調製した。
Next, an ink 21 (ink solution) comprising the components of the organic EL film (composition for display) and the hydrocarbon solvent was prepared. Specifically, the following components were prepared by mixing them in corresponding weight ratios.

【0057】ホール輸送性ポリマーである、カルバゾー
ル誘導体を主鎖あるいは側鎖に有する高分子化合物(P
VK):16重量比 電子輸送材料(BND):4重量比 発光中心形成化合物(TPB):1重量比 炭化水素系溶媒(テトラリン):インク21において、
PVK、BND、及びTPBの合計濃度が2%wtとな
る重量比 上記インク21の粘度は、1×10-3〜1×10Pa・
sとすることができるが、このうち、5×10-3〜1.
5×10-2Pa・sの範囲にあることが、インクジェッ
ト法を用いてインク21を吐出する際のドロップ径を制
御する上で望ましい。
A polymer compound having a carbazole derivative, which is a hole-transporting polymer, in its main chain or side chain (P
VK): 16 weight ratio Electron transport material (BND): 4 weight ratio Emission center forming compound (TPB): 1 weight ratio Hydrocarbon solvent (tetralin): Ink 21
Weight ratio at which the total concentration of PVK, BND, and TPB is 2% wt. The viscosity of the ink 21 is 1 × 10 −3 to 1 × 10 Pa ·
However, 5 × 10 −3 to 1.
The range of 5 × 10 −2 Pa · s is desirable for controlling the drop diameter when ejecting the ink 21 using the inkjet method.

【0058】また、上記インク21の表面張力は、20
〜50mN/mの範囲にあることが、インクジェット法
によるインクの吐出の際の飛行曲がりを抑えることがで
きるので好ましい。 図4dに示す様に、前記で調製したインク21を、
インクジェットヘッド30を用い、絶縁層上において画
素を形成するべき15カ所に、選択的に塗布した。
The surface tension of the ink 21 is 20
It is preferably in the range of ˜50 mN / m since flight bending can be suppressed when the ink is ejected by the inkjet method. As shown in FIG. 4d, the ink 21 prepared above is
The inkjet head 30 was used to selectively coat 15 locations on the insulating layer where pixels were to be formed.

【0059】このインクジェットヘッド30は、図5に
示す様に、圧電素子30aを備えた圧電素子方式のイン
クジェットヘッドであり、ドライバー30cからの信号
に応じて、インクジェットヘッド本体30dに形成した
オリフィス30bから、インク21のドロップを吐出す
る。
As shown in FIG. 5, the ink jet head 30 is a piezoelectric element type ink jet head having a piezoelectric element 30a, and from an orifice 30b formed in an ink jet head main body 30d in response to a signal from a driver 30c. , A drop of ink 21 is ejected.

【0060】吐出の駆動周波数は1KHzとし、ドロッ
プ1個の液適量を50μlとした。インク21が塗布さ
れた場所では、図4eに示す様に、塗布されたインク中
に含まれる溶媒により、絶縁層11bが溶解し、インク
21はITO11aに達する。
The ejection driving frequency was set to 1 KHz, and the liquid amount of one drop was set to 50 μl. At the location where the ink 21 is applied, as shown in FIG. 4e, the insulating layer 11b is dissolved by the solvent contained in the applied ink, and the ink 21 reaches the ITO 11a.

【0061】50〜60℃で30分間乾燥させること
により、インク21中の溶媒を蒸発させ、インク21の
不揮発成分である表示用組成物を、ITO11aと電気
的接合を持った状態で固化した。この固化した表示用組
成物を有機EL膜11cとする。
By drying at 50 to 60 ° C. for 30 minutes, the solvent in the ink 21 was evaporated, and the display composition, which is a non-volatile component of the ink 21, was solidified in a state having electrical connection with the ITO 11a. This solidified display composition is used as the organic EL film 11c.

【0062】尚、固化した15カ所の有機EL膜11c
は、それぞれが、1画素に対応する。この時、図4eに
示すように、インク21により溶解された絶縁層11b
は、インク21を滴下した部分の周辺部に偏析し、イン
ク21に含まれていた表示用組成物は、インク21を滴
下した部分の中央において固化する。
The solidified 15 organic EL films 11c are provided.
Each corresponds to one pixel. At this time, as shown in FIG. 4e, the insulating layer 11b dissolved by the ink 21 is formed.
Is segregated in the peripheral portion of the portion where the ink 21 is dropped, and the display composition contained in the ink 21 is solidified at the center of the portion where the ink 21 is dropped.

【0063】この理由としては、インク21に含まれる
溶媒に対する溶解度において、表示用組成物の方が、絶
縁層11bよりも大きいことが考えられる。また、イン
ク21が塗布されなかった部分の絶縁層11bは、溶解
されずに残り、有機EL膜11cを隔てる隔壁11dと
なる。
The reason for this is considered that the display composition has a higher solubility in the solvent contained in the ink 21 than that of the insulating layer 11b. Further, the insulating layer 11b in the portion where the ink 21 is not applied remains without being dissolved, and becomes the partition wall 11d that separates the organic EL film 11c.

【0064】図4fに示す様に、マスク真空蒸着によ
り、所定のパターンに従って、LiF(フッ化リチウ
ム)/Alを形成し、これを陰極11eとした。この時
LiF層と、Al層の厚みは、それぞれ、10Å、10
00Åとし、連続的に積層した。
As shown in FIG. 4f, LiF (lithium fluoride) / Al was formed according to a predetermined pattern by mask vacuum evaporation, and this was used as a cathode 11e. At this time, the thicknesses of the LiF layer and the Al layer are 10Å and 10
It was set to 00Å and continuously laminated.

【0065】上記のようにして有機EL素子11をガラ
ス基板10の中心部に形成するとともに、ガラス基板1
0の周辺部に、水平駆動回路13及び垂直駆動回路14
を形成する。更には、封止層16により、有機EL素子
11、水平駆動回路13及び垂直駆動回路14を覆うこ
とにより、有機ELディスプレイ1を完成する。
The organic EL element 11 is formed in the central portion of the glass substrate 10 as described above, and the glass substrate 1 is formed.
In the peripheral part of 0, the horizontal drive circuit 13 and the vertical drive circuit 14
To form. Furthermore, the organic EL display 1 is completed by covering the organic EL element 11, the horizontal drive circuit 13, and the vertical drive circuit 14 with the sealing layer 16.

【0066】この封止層16は、ガラス板から成り、そ
の下面(図1における下面)には、有機EL素子11と
の間に、0.3〜0.5mmの隙間が生じるように、乾
燥剤が取り付けられている。封止層16を取り付ける際
には、その隙間に、窒素ガスを封入する。
The sealing layer 16 is made of a glass plate, and is dried so that a gap of 0.3 to 0.5 mm is formed between the sealing layer 16 and the organic EL element 11 on the lower surface (lower surface in FIG. 1). Agent is attached. When the sealing layer 16 is attached, nitrogen gas is filled in the gap.

【0067】d)本実施例1の有機ELディスプレイ1
の製造方法は、以下の効果を奏する。 本実施例1の有機ELディスプレイ1の製造方法にお
いては、表示用組成物及び溶媒を含むインク21を、画
素を形成すべき場所に塗布することにより、有機EL膜
11cの形成と、有機EL膜11cを隔てる隔壁11d
の形成とを、同時に行うことができる。
D) Organic EL display 1 of the first embodiment
The manufacturing method of 1 has the following effects. In the method for manufacturing the organic EL display 1 of the first embodiment, the ink 21 containing the display composition and the solvent is applied to the place where the pixel is to be formed to form the organic EL film 11c and the organic EL film. Partition wall 11d separating 11c
Can be simultaneously performed.

【0068】つまり、インク21を塗布した部分におい
ては、インク21に含まれる溶媒が絶縁層11bを溶解
し、有機EL膜11cが形成され、インク21が塗布さ
れない部分では、絶縁層11bが残存し、画素間を隔て
る隔壁11dとなる。そのため、従来の有機EL素子の
製造方法のように、有機EL膜間の隔壁を形成するため
に、露光、エッチング等の独立した工程を行う必要がな
い。
That is, in the portion coated with the ink 21, the solvent contained in the ink 21 dissolves the insulating layer 11b to form the organic EL film 11c, and in the portion not coated with the ink 21, the insulating layer 11b remains. , A partition wall 11d separating the pixels. Therefore, unlike the conventional method for manufacturing an organic EL element, it is not necessary to perform independent steps such as exposure and etching to form the partition walls between the organic EL films.

【0069】よって、本実施例1の有機ELディスプレ
イ1の製造方法では、製造工程を短縮することができ、
製造コストを低くすることができる。 インクジェットヘッド30として、圧電素子方式を用
いることにより、バブルジェット(登録商標)方式のよ
うに、インク吐出のための熱源がないので、インク材料
の劣化が起こらないこと、インク21の溶媒の選択範囲
が広いこと、吐出するインク21の液滴量の制御がしや
すいこと、駆動周波数を高くできること、耐久性が高い
こと、という利点が得られる。 (実施例2)本実施例2では、表示装置として、エレク
トロクロミックディスプレイを例に挙げて説明する。こ
の実施例2は、請求項7及び8に対応するものである。
Therefore, in the method of manufacturing the organic EL display 1 of the first embodiment, the manufacturing process can be shortened,
Manufacturing costs can be reduced. By using the piezoelectric element method as the inkjet head 30, unlike the bubble jet (registered trademark) method, there is no heat source for ejecting ink, so deterioration of the ink material does not occur, and the selection range of the solvent of the ink 21 Is wide, the amount of droplets of the ejected ink 21 can be easily controlled, the driving frequency can be increased, and the durability is high. (Embodiment 2) In Embodiment 2, an electrochromic display will be described as an example of a display device. The second embodiment corresponds to claims 7 and 8.

【0070】a)エレクトロクロミックディスプレイ2
の全体構成は、基本的には、前記実施例1の有機ELデ
ィスプレイ1と同様であるが、有機EL素子11の代わ
りに、図6に示すエレクトロクロミック素子51を備え
ている。このエレクトロクロミック素子51は、基本的
には、前記実施例1の有機EL素子11と同じ構成を有
するが、表示用組成物として、エレクトロクロミック膜
51aを備えている点で異なる。
A) Electrochromic display 2
The overall structure of is basically the same as that of the organic EL display 1 of the first embodiment, but an electrochromic element 51 shown in FIG. 6 is provided instead of the organic EL element 11. The electrochromic element 51 basically has the same structure as the organic EL element 11 of Example 1, but is different in that an electrochromic film 51a is provided as a display composition.

【0071】つまり、エレクトロクロミック素子51
は、図6に示す様に、ガラス基板50上に、陽極(IT
O51c)、エレクトロクロミック膜51a、及び陰極
(ITO51d)が順次積層された構成を有しており、
ガラス基板50とITO51dの間には、ITO51c
及びエレクトロクロミック膜51aが形成されていない
部分を埋めるように、絶縁層51eが形成されているま
た、エレクトロクロミック膜51aは、図6に示す様
に、ポリマー電極51a1と、ポリマー電解質51a2
との2層から成る。
That is, the electrochromic device 51
As shown in FIG. 6, the anode (IT
O51c), an electrochromic film 51a, and a cathode (ITO 51d) are sequentially laminated,
ITO 51c is provided between the glass substrate 50 and the ITO 51d.
Further, the insulating layer 51e is formed so as to fill the portion where the electrochromic film 51a is not formed. Further, as shown in FIG. 6, the electrochromic film 51a has a polymer electrode 51a1 and a polymer electrolyte 51a2.
It consists of two layers.

【0072】このエレクトロクロミックディスプレイ2
の呈色メカニズムは、陽極、陰極の間に直流電圧を印加
し、陽極を+側にすると酸化反応が起こり、ニュートラ
ル状態(電圧非印加状態)の時に比べて異なる色とな
る。陽極を−側にすると還元反応が起こり酸化時に比べ
て更に異なる色となる。このように、陽極の電位を制御
して表示制御が行われる。
This electrochromic display 2
The coloring mechanism is that when a DC voltage is applied between the anode and the cathode and the anode is set to the + side, an oxidation reaction occurs and the color becomes different from that in the neutral state (state in which no voltage is applied). When the anode is set to the-side, a reduction reaction occurs and the color becomes different from that at the time of oxidation. In this way, display control is performed by controlling the potential of the anode.

【0073】b)次に、エレクトロクロミックディスプ
レイ2の製造方法を説明する。ここでは、特に、要部で
あるエレクトロクロミック素子51の製造方法を説明す
る。 前記実施例1のc)〜と同様に、ガラス基板50
上に、陽極(ITO51c)を所定のパターンで形成し
た。
B) Next, a method of manufacturing the electrochromic display 2 will be described. Here, in particular, a method of manufacturing the electrochromic element 51, which is a main part, will be described. The glass substrate 50 is the same as in c) to Example 1 above.
An anode (ITO 51c) was formed on the upper surface in a predetermined pattern.

【0074】前記実施例1のc)と同様に、ガラス
基板50上の、エレクトロクロミック素子51を形成す
る部分全体に、PVKから成る絶縁層51eを形成し
た。 次に、エレクトロクロミック膜51aのポリマー電極
51a1の成分、及び炭化水素系溶媒から成るインク6
1(インク溶液)を調製した。
As in c) of Example 1, an insulating layer 51e made of PVK was formed on the entire portion of the glass substrate 50 where the electrochromic element 51 is formed. Next, the ink 6 composed of the component of the polymer electrode 51a1 of the electrochromic film 51a and the hydrocarbon solvent.
1 (ink solution) was prepared.

【0075】具体的には、PVK(ポリ(N−ビニルカ
ルバゾール))と、PSNPhS(ポリ(N−フェニル
−2(2’−チエニル)−5−(5”−ビニル−2”チ
エニル)ピロール)を1:4の割合で混合し、この混合
物の濃度が4wt%となるように、テトラリンに溶解
し、インク61とした。
Specifically, PVK (poly (N-vinylcarbazole)) and PSNPhS (poly (N-phenyl-2 (2'-thienyl) -5- (5 "-vinyl-2" thienyl) pyrrole) are used. Was mixed at a ratio of 1: 4, and the mixture was dissolved in tetralin so that the concentration of this mixture was 4 wt%, and ink 61 was obtained.

【0076】このインク61を、前記実施例1のc)
、と同様にして、絶縁層51e上に選択的に塗布
し、ポリマー電極51a1を形成した。 次に、エレクトロクロミック膜51aのポリマー電解
質51a2の成分、及び炭化水素系溶媒から成るインク
62(インク溶液)を調製した。
This ink 61 is used as c) in the first embodiment.
, And was selectively applied onto the insulating layer 51e to form the polymer electrode 51a1. Next, an ink 62 (ink solution) including the components of the polymer electrolyte 51a2 of the electrochromic film 51a and the hydrocarbon solvent was prepared.

【0077】具体的には、以下の成分を混合し、テトラ
リンに溶解することにより、インク62を調製した。こ
の時、インク62の粘度が0.1〜10Pa・sになる
ように、テトラリンの量を調整した。 ポリメチルメタクリレート(分子量120000):5
00mg プロピレンカーボネート:1ml エチレンカーボネート:2g リチウムテトラフルオロボレート:100mg アセトニトリル:3ml このインク62を、インクジェット法を用いて、ポリマ
ー電極51a1の上に塗布し、ポリマー電解質51a2
を形成した。
Specifically, the ink 62 was prepared by mixing the following components and dissolving them in tetralin. At this time, the amount of tetralin was adjusted so that the viscosity of the ink 62 was 0.1 to 10 Pa · s. Polymethylmethacrylate (Molecular weight 120,000): 5
00 mg Propylene carbonate: 1 ml Ethylene carbonate: 2 g Lithium tetrafluoroborate: 100 mg Acetonitrile: 3 ml This ink 62 is applied onto the polymer electrode 51a1 using an inkjet method to form a polymer electrolyte 51a2.
Was formed.

【0078】蒸着により、ITOから成る陰極(IT
O51d)を形成した。 上記〜のようにしてエレクトロクロミック素子51
をガラス基板50の中心部に形成するとともに、前記実
施例1と同様にして、ガラス基板50の周辺部に、水平
駆動回路及び垂直駆動回路を形成し、更には、封止層5
6により、エレクトロクロミック素子51、水平駆動回
路及び垂直駆動回路を覆うことにより、エレクトロクロ
ミックディスプレイ2が完成した。
A cathode made of ITO (IT
O51d) was formed. The electrochromic device 51 as described above
Is formed in the central portion of the glass substrate 50, and a horizontal driving circuit and a vertical driving circuit are formed in the peripheral portion of the glass substrate 50 in the same manner as in the first embodiment.
The electrochromic display 2 was completed by covering the electrochromic element 51, the horizontal drive circuit, and the vertical drive circuit with 6.

【0079】c)本実施例2のエレクトロクロミックデ
ィスプレイ2は、前記実施例1の有機ELディスプレイ
1と同様の効果を奏する。尚、本発明は上記の形態に何
等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない
範囲で種々の形態で実施することができる。
C) The electrochromic display 2 of the second embodiment has the same effect as the organic EL display 1 of the first embodiment. It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be implemented in various forms without departing from the scope of the present invention.

【0080】・前記実施例1及び2における絶縁層とし
ては、PVKの代わりに、例えば、ポリスチレン、ナイ
ロン(ポリアミド)、ポリアセタール、ポリカーボネー
ト、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、
ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミド
イミド、ポリイミド、フッ素樹脂のいずれかを用いるこ
とができる。
As the insulating layer in Examples 1 and 2, instead of PVK, for example, polystyrene, nylon (polyamide), polyacetal, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene oxide, polyarylate,
Any of polysulfone, polyphenylene sulfide, polyamide imide, polyimide, and fluororesin can be used.

【0081】・前記実施例1において、インクを構成す
るポリマーとしては、カルバゾール誘導体を主鎖あるい
は側鎖に有する高分子(PVK)の代わりに、例えば、
トリフェニルアミン誘導体を主鎖あるいは側鎖に有する
高分子化合物(例えばPTPDES)、電子輸送性ポリ
マーである、オキサジアゾール誘導体を主鎖あるいは側
鎖に有する高分子化合物(例えばPVMOXD)、PP
V(ポリパラフェニレンビニレン)、PPF、PPT、
その他の誘導体を用いることができる。
In Example 1, instead of the polymer having a carbazole derivative in the main chain or side chain (PVK) as the polymer constituting the ink, for example,
Polymer compound having triphenylamine derivative in main chain or side chain (eg PTPDES), polymer compound having electron transporting polymer, oxadiazole derivative in main chain or side chain (eg PVMOXD), PP
V (polyparaphenylene vinylene), PPF, PPT,
Other derivatives can be used.

【0082】・前記実施例1及び2において、インクを
構成する溶媒としては、炭化水素系溶媒の代わりに、例
えば、ハロゲン炭化水素系溶媒、アルコール系溶媒、ケ
トン、アルデヒド、ドデシルベンゼン、テトラリン、ジ
クロルエタン、エチレングリコール、プロピレングリコ
ール、エチレングリコールモノエチルエーテルのいずれ
かを用いることができる。
In Examples 1 and 2, the solvent constituting the ink is, for example, a halogen hydrocarbon solvent, an alcohol solvent, a ketone, an aldehyde, dodecylbenzene, tetralin, or dichloroethane, instead of the hydrocarbon solvent. , Ethylene glycol, propylene glycol, or ethylene glycol monoethyl ether can be used.

【0083】・前記実施例1における発光中心形成化合
物としては、TPBの代わりに、例えば、ペリレン、ク
マリン、ルブレン、ナイルレッド、DCM、DCJT
B、スクアリリウム、アルミニウム錯体(例えばAlQ
3)等を用いることができる。 ・前記実施例2において、エレクトロクロミック膜51
aは、ポリマー電極の成分と、ポリマー電解質の成分と
の両方を、テトラリン等の有機溶媒に溶解させたインク
をインクジェット法により塗布することにより形成する
ことができる。
As the luminescence center forming compound in Example 1, instead of TPB, for example, perylene, coumarin, rubrene, Nile red, DCM, DCJT
B, squarylium, aluminum complex (eg AlQ
3) etc. can be used. In the second embodiment, the electrochromic film 51
A can be formed by applying an ink in which both the component of the polymer electrode and the component of the polymer electrolyte are dissolved in an organic solvent such as tetralin by an inkjet method.

【0084】・前記実施例2において、ポリマー電極5
1a1の成分は、例えば、ポリアニリン、ポリ(N−メ
チルピロール)、ポリ(3−(3−チエニルプロピルス
ルホネート))、(ポリ(N−フェニル−2(2’−チ
エニル)−5−(5”−ビニル−2”チエニル)ピロー
ル、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルメチルエーテ
ルのうち少なくとも1種を含むポリマーととすることが
できる。
In the second embodiment, the polymer electrode 5
The component of 1a1 is, for example, polyaniline, poly (N-methylpyrrole), poly (3- (3-thienylpropyl sulfonate)), (poly (N-phenyl-2 (2′-thienyl) -5- (5 ″). It may be a polymer containing at least one of -vinyl-2 "thienyl) pyrrole, polyvinyl carbazole, and polyvinyl methyl ether.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 実施例1の有機ELディスプレイ1の全体構
成を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an overall configuration of an organic EL display 1 of Example 1.

【図2】 実施例1における有機EL素子11の1画素
の回路構成を示す説明図である
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a circuit configuration of one pixel of the organic EL element 11 in Example 1.

【図3】 実施例1における電流駆動回路12の構成を
示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a configuration of a current drive circuit 12 according to the first embodiment.

【図4】 実施例1における有機EL素子11の製造プ
ロセスを示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a manufacturing process of the organic EL element 11 in Example 1.

【図5】 実施例1におけるインクジェットヘッド30
の構成を示す説明図である。
FIG. 5 is an inkjet head 30 according to the first embodiment.
It is explanatory drawing which shows the structure of.

【図6】 実施例2のエレクトロクロミックディスプレ
イの構成を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a configuration of an electrochromic display of Example 2.

【図7】 従来の有機ELディスプレイの製造方法を示
す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a conventional method for manufacturing an organic EL display.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・有機ELディスプレイ 2・・・エレクトロクロミックディスプレイ 10、50・・・ガラス基板 11・・・有機EL素子 11a、51c、51d・・・ITO 11b、51e・・・絶縁層 11c・・・有機EL膜 12・・・電流駆動TFT 13・・・水平駆動回路 14・・・垂直駆動回路 16、56・・・封止層 21・・・インク溶液 30・・・インクジェットヘッド 51・・・エレクトロクロミック素子 51a1・・・ポリマー電極 52a2・・・ポリマー電解質 1 ... Organic EL display 2. Electrochromic display 10, 50 ... Glass substrate 11 ... Organic EL element 11a, 51c, 51d ... ITO 11b, 51e ... Insulating layer 11c ... organic EL film 12 ... Current drive TFT 13 ... Horizontal drive circuit 14 ... Vertical drive circuit 16, 56 ... Sealing layer 21 ... Ink solution 30 ... Inkjet head 51 ... Electrochromic element 51a1 ... Polymer electrode 52a2 ... Polymer electrolyte

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05B 33/12 H05B 33/12 B 33/14 33/14 B 33/22 33/22 Z (72)発明者 柴田 幹 富山県高岡市末広町10番17号 Fターム(参考) 3K007 AB11 AB13 AB18 BA06 BB04 BB05 BB07 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 GA04 5C094 AA42 AA43 AA44 AA48 BA03 BA27 BA54 CA19 CA25 DA09 DA13 DB01 DB04 EA04 EA05 EB02 FA01 FA02 FB01 FB15 FB20 GA10 GB10 JA20 5G435 AA17 BB05 BB13 CC09 HH01 HH14 HH20 KK05 KK10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05B 33/12 H05B 33/12 B 33/14 33/14 B 33/22 33/22 Z (72) Invention Miki Shibata 10-17 Suehiro-cho, Takaoka-shi, Toyama F-term (reference) 3K007 AB11 AB13 AB18 BA06 BB04 BB05 BB07 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 GA04 5C094 AA42 AA43 AA44 AA48 BA03 BA27 BA54 CA25 DA09 DA02 DB01 DB04 DB04 DB04 FA01 FA02 FB01 FB15 FB20 GA10 GB10 JA20 5G435 AA17 BB05 BB13 CC09 HH01 HH14 HH20 KK05 KK10

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の電極と、前記一対の電極の間に挿
入された表示用組成物とから成る表示素子を複数備え、 前記一対の電極の間を絶縁するとともに、前記表示素子
の表示用組成物と他の前記表示素子の表示用組成物との
間を絶縁する隔壁を有する表示装置の製造方法であっ
て、 前記一対の電極のうちの一方の電極及びその周囲を覆う
絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、 前記絶縁層上の、前記一方の電極に対応する位置に、前
記絶縁層を溶解する溶媒及び前記表示用組成物を含有す
るインク溶液を塗布するインク溶液塗布工程と、 前記絶縁層の溶解後に、前記インク溶液の溶媒を蒸発さ
せ、前記一方の電極と接触するように前記表示用組成物
を形成する表示用組成物形成工程と、 前記表示用組成物の上に、前記一対の電極のうち、他方
の電極を形成する電極形成工程と、 を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
1. A display device comprising a plurality of display elements comprising a pair of electrodes and a display composition inserted between the pair of electrodes, for insulating between the pair of electrodes and for displaying the display element. A method of manufacturing a display device having a partition wall that insulates between a composition and another display composition of the display element, wherein an insulating layer covering one electrode of the pair of electrodes and the periphery thereof is formed. An insulating layer forming step, and a position on the insulating layer corresponding to the one electrode, an ink solution applying step of applying an ink solution containing a solvent that dissolves the insulating layer and the display composition, After the insulating layer is dissolved, the solvent of the ink solution is evaporated, and a display composition forming step of forming the display composition so as to come into contact with the one electrode, and on the display composition, The other of the pair of electrodes Method of manufacturing a display device characterized by having electrodes forming step of forming an electrode, the.
【請求項2】 基板上に、前記一方の電極を、所定のパ
ターンに従って形成することを特徴とする前記請求項1
に記載の表示装置の製造方法。
2. The one electrode is formed according to a predetermined pattern on a substrate.
A method for manufacturing the display device according to.
【請求項3】 前記表示用組成物が、発光物質を含有す
ることを特徴とする前記請求項1又は2に記載の表示装
置の製造方法。
3. The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein the display composition contains a light emitting substance.
【請求項4】 前記発光物質が、ヘテロ芳香族化合物、
スチルベン系化合物の蛍光、燐光物質の中から選ばれる
1又は2以上の物質であることを特徴とする前記請求項
3に記載の表示装置の製造方法。
4. The luminescent material is a heteroaromatic compound,
4. The method for manufacturing a display device according to claim 3, wherein the display device is one or more substances selected from fluorescent and phosphorescent substances of stilbene compounds.
【請求項5】 前記表示用組成物が、電荷輸送材料を含
有することを特徴とする前記請求項3又は4に記載の表
示装置の製造方法。
5. The method for manufacturing a display device according to claim 3, wherein the display composition contains a charge transport material.
【請求項6】 前記電荷輸送材料が、オキサジアゾール
系、オキサゾール系、トリフェニルメタン系、ヒドラゾ
リン系、アリールアミン系、ヒドラゾン系、スチルベン
系の中から選ばれる1又は2以上のホール輸送材料、又
は、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ア
ルミニウム錯体の中から選ばれる1又は2以上の電子輸
送材料であることを特徴とする前記請求項5に記載の表
示装置の製造方法。
6. The charge transport material is one or more hole transport materials selected from oxadiazole series, oxazole series, triphenylmethane series, hydrazoline series, arylamine series, hydrazone series, and stilbene series, Alternatively, the display device manufacturing method according to claim 5, wherein the display device is one or more electron transport materials selected from an oxadiazole derivative, a triazole derivative, and an aluminum complex.
【請求項7】 前記表示用組成物が、酸化還元により呈
色変化する物質を含有することを特徴とする前記請求項
1又は2に記載の表示装置の製造方法。
7. The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein the display composition contains a substance that changes color by redox.
【請求項8】 前記表示用組成物が、酸化還元により呈
色変化するポリマー物質と、ポリマー電解質と、から成
ることを特徴とする前記請求項1又は2に記載の表示装
置の製造方法。
8. The method of manufacturing a display device according to claim 1, wherein the display composition comprises a polymer substance that changes color by redox and a polymer electrolyte.
【請求項9】 前記絶縁層が、PVK(ポリ(N−ビニ
ルカルバゾール))、ポリスチレン、ナイロン、ポリア
セタール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンオ
キシド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリフェニレ
ンスルフィド、ポリアミドイミド、ポリイミド、フッ素
樹脂の中から選ばれる1又は2以上の物質から成ること
を特徴とする前記請求項1〜8のいずれかに記載の表示
装置の製造方法。
9. The insulating layer comprises PVK (poly (N-vinylcarbazole)), polystyrene, nylon, polyacetal, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene oxide, polyarylate, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyamideimide, 9. The method of manufacturing a display device according to claim 1, wherein the display device is made of one or more substances selected from polyimide and fluororesin.
【請求項10】 前記溶媒が、炭化水素水素系溶媒、ハ
ロゲン炭化水素系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン、ア
ルデヒド、ドデシルベンゼン、テトラリン、ジクロルエ
タン、エチレングリコール、プロピレングリコール、エ
チレングリコールモノエチルエーテルの中から選ばれる
1又は2以上の物質から成ることを特徴とする前記請求
項1〜9のいずれかに記載のの表示装置の製造方法。
10. The solvent is selected from hydrocarbon hydrocarbon solvents, halogen hydrocarbon solvents, alcohol solvents, ketones, aldehydes, dodecylbenzene, tetralin, dichloroethane, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monoethyl ether. The method for manufacturing a display device according to any one of claims 1 to 9, wherein the display device is made of one or more selected substances.
【請求項11】 前記絶縁層の前記溶媒に対する溶解度
が、前記表示用組成物の前記溶媒に対する溶解度よりも
小さいことを特徴とする前記請求項1〜10のいずれか
に記載の表示装置の製造方法。
11. The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein the solubility of the insulating layer in the solvent is smaller than the solubility of the display composition in the solvent. .
【請求項12】 前記インク溶液塗布工程において、イ
ンクジェット法を用いて、前記インク溶液を塗布するこ
とを特徴とする前記請求項1〜11のいずれかに記載の
表示装置の製造方法。
12. The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein in the ink solution applying step, the ink solution is applied by using an inkjet method.
【請求項13】 前記インク溶液塗布工程において、印
刷法を用いて、前記インク溶液を塗布することを特徴と
する前記請求項1〜11のいずれかに記載の表示装置の
製造方法。
13. The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein in the ink solution applying step, the ink solution is applied using a printing method.
【請求項14】 前記インク溶液の粘度が、1×10-3
〜1×10Pa・sの範囲にあることを特徴とする前記
請求項1〜13のいずれかに記載の表示装置の製造方
法。
14. The viscosity of the ink solution is 1 × 10 −3.
The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein the display device is in the range of 1 × 10 Pa · s.
【請求項15】 前記表示素子用組成物形成工程におい
て、10〜100℃の温度範囲において、前記溶媒を蒸
発させることを特徴とする前記請求項1〜14のいずれ
かに記載の表示装置の製造方法。
15. The display device according to claim 1, wherein the solvent is evaporated in a temperature range of 10 to 100 ° C. in the step of forming the composition for display elements. Method.
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