JP2010045222A - Organic electric field light emitting device, and display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electric field light emitting device which has a prolonged element life. <P>SOLUTION: For example, the organic electric field light emitting device is constituted by stacking a transparent electrode 12 (positive electrode), a hole injection layer 14, a hole transport layer 16 (second organic compound layer), an intermediate layer 18A, a light emitting layer 20 (first organic compound layer), and a back electrode 24 (negative electrode) in order on a transparent insulator substrate 10. Then the intermediate layer 18A disposed between the hole transport layer 16 and light emitting layer 20 contains a material (for example, a hole transport material) forming the hole transport layer 16 and a material (for example, a light emitting material) forming the light emitting layer 20. The intermediate layer is not limited as above, but may be provided between other organic compound layers, for example, between an electron transport layer and the light emitting layer. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機電界発光素子、及び表示装置に関するものである。   The present invention relates to an organic electroluminescent element and a display device.

有機電界発光素子(以下、有機電界発光素子)は、電極としての陽極及び陰極間に有機化合物層を設け、両電極間に電圧を印加することによって有機化合物層内に正孔、電子を注入し、これら電荷(キャリア)が再結合することにより発光する電荷注入型の発光素子である。また、素子構造としては両電極の間に1層又は複数層の有機化合物素層が挟まれた構造となっている。有機電界発光素子は自発光型の素子であり、高輝度低電圧駆動可能な薄型大画面ディスプレーなどへの応用を目指した研究が活発に行われている。   An organic electroluminescent element (hereinafter referred to as an organic electroluminescent element) has an organic compound layer provided between an anode and a cathode as electrodes, and a voltage is applied between both electrodes to inject holes and electrons into the organic compound layer. The charge injection type light emitting element emits light by recombination of these charges (carriers). The element structure is such that one or more organic compound element layers are sandwiched between both electrodes. Organic electroluminescent devices are self-luminous devices, and active research is being conducted with the aim of applying them to thin large-screen displays that can be driven with high brightness and low voltage.

有機電界発光素子は、有機化合物の特性及び製作工程面で、大きく低分子材料を利用した素子と高分子材料を利用した素子とに分類される。低分子材料は主に真空蒸着法等のドライプロセスを用いて製膜が行われる。このドライプロセスは、積層構造を作製しやすい、成膜レートを調整しやすい、マスクを用いたRGBカラー素子の塗りわけが可能であるなどといった利点がある。また、低分子材料においては一般に共蒸着により発光層に色素ドーピングを行い、輝度、発光効率、色純度の向上等が図られている(特許文献1乃至3参照)。   Organic electroluminescent elements are classified into elements using low molecular weight materials and elements using polymer materials in terms of the characteristics of organic compounds and the manufacturing process. Low molecular weight materials are mainly formed using a dry process such as a vacuum deposition method. This dry process is advantageous in that it is easy to produce a laminated structure, to easily adjust the film formation rate, and to enable the application of RGB color elements using a mask. In addition, in low molecular weight materials, dye doping is generally performed on the light emitting layer by co-evaporation to improve luminance, light emission efficiency, color purity, and the like (see Patent Documents 1 to 3).

一方、高分子材料においては、スピンコーティング法、インクジェット法、印刷法などのウェットプロセスが適用可能であり、大気中で成膜可能であり大規模な設備も必要としない。また、低温成膜が可能であり材料選択性も広がることから、プラスチック上に成膜することでフレキシブルなディスプレーなどの実現が期待されている(特許文献4参照)。
特開2000−315583公報 特開2001−244079公報 特開2003−229272公報 特開2006−133573公報
On the other hand, in a polymer material, a wet process such as a spin coating method, an ink jet method, or a printing method can be applied, a film can be formed in the atmosphere, and a large-scale facility is not required. In addition, since low-temperature film formation is possible and material selectivity is widened, realization of a flexible display or the like is expected by forming a film on plastic (see Patent Document 4).
JP 2000-315583 A JP 2001-244079 A JP 2003-229272 A JP 2006-133573 A

本発明の課題は、特定の中間層を介さず有機化合物層を直接積層した場合に比べ、素子寿命を延ばした有機電界発光素子を提供することである。   The subject of this invention is providing the organic electroluminescent element which extended the element lifetime compared with the case where an organic compound layer is directly laminated | stacked not via a specific intermediate | middle layer.

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項1に係る発明によれば、
少なくとも一方が透明又は半透明である陽極及び陰極よりなる一対の電極と、
前記一対の電極の間に配設される第1有機化合物層と、
前記一対の電極の間に配設される第2有機化合物層と、
前記第1有機化合物層と前記第2有機化合物層とに挟まれて配設され、前記第1有機化合物層を構成する材料と前記第2有機化合物層を構成する材料とを含んで構成される中間層と、
を有することを特徴とする有機電界発光素子。
The above problem is solved by the following means. That is,
According to the invention of claim 1,
A pair of electrodes consisting of an anode and a cathode, at least one of which is transparent or translucent,
A first organic compound layer disposed between the pair of electrodes;
A second organic compound layer disposed between the pair of electrodes;
It is disposed between the first organic compound layer and the second organic compound layer, and includes a material constituting the first organic compound layer and a material constituting the second organic compound layer. The middle layer,
An organic electroluminescent device comprising:

請求項2に係る発明によれば、
前記第1有機化合物層が発光層であり、
前記第2有機化合物層が電荷輸送層であり、
前記中間層が、前記発光層を構成する材料と前記電荷輸送層を構成する材料とを含んで構成される中間層である、
ことを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。
According to the invention of claim 2,
The first organic compound layer is a light emitting layer;
The second organic compound layer is a charge transport layer;
The intermediate layer is an intermediate layer configured to include a material constituting the light emitting layer and a material constituting the charge transport layer,
The organic electroluminescent element according to claim 1.

請求項3に係る発明によれば、
マトリックス状及びセグメント状の少なくとも一方で配列された、請求項1又は2に記載の有機電界発光素子と、
前記有機電界発光素子を駆動する駆動手段と、
を備えることを特徴とする表示装置。
According to the invention of claim 3,
The organic electroluminescence device according to claim 1 or 2, arranged in at least one of a matrix shape and a segment shape,
Driving means for driving the organic electroluminescent element;
A display device comprising:

請求項1に係る発明によれば、特定の中間層を介さず有機化合物層を直接積層した場合に比べ、素子寿命が延びる。
請求項2に係る発明によれば、他の有機化合物層間に特定の中間層を設けた場合に比べ、素子寿命が延びる。
請求項3に係る発明によれば、特定の中間層を介さず有機化合物層を直接積層した有機電界発光素子を用いる場合に比べ、有機電界発光素子の素子寿命に基づく表示欠陥が長期にわたって抑制される。
According to the first aspect of the present invention, the device life is extended as compared with the case where the organic compound layer is directly laminated without using a specific intermediate layer.
According to the second aspect of the present invention, the device life is extended as compared with the case where a specific intermediate layer is provided between other organic compound layers.
According to the invention of claim 3, display defects based on the element lifetime of the organic electroluminescent element are suppressed over a long period of time compared with the case where an organic electroluminescent element in which an organic compound layer is directly laminated without using a specific intermediate layer is used. The

本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、実質的に同一の機能を有する部材には、全図面を通して同じ符号を付与し、重複する説明は省略する場合がある。   Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol is provided to the member which has the substantially same function throughout all the drawings, and the overlapping description may be abbreviate | omitted.

図1は、実施形態に係る有機電界発光素子を示す概略構成図である。図2は、他の実施形態に係る有機電界発光素子を示す概略構成図である。図3は、他の実施形態に係る有機電界発光素子を示す概略構成図である。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating an organic electroluminescent element according to an embodiment. FIG. 2 is a schematic configuration diagram illustrating an organic electroluminescent device according to another embodiment. FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating an organic electroluminescent device according to another embodiment.

本実施形態に係る有機電界発光素子100は、図1に示すように、透明絶縁体基板10上に、透明電極12(陽極)、正孔注入層14、正孔輸送層16(第2有機化合物層)、中間層18A、発光層20(第1有機化合物層)、及び背面電極24(陰極)が順次積層されて構成されている。そして、正孔輸送層16と発光層20との間に挟まれて配設される中間層18Aは、正孔輸送層16を構成する材料(例えば正孔輸送材料)と、発光層20を構成する材料(例えば発光材料)と、を含んで構成されている。   As shown in FIG. 1, the organic electroluminescent device 100 according to this embodiment includes a transparent electrode 12 (anode), a hole injection layer 14, a hole transport layer 16 (second organic compound) on a transparent insulator substrate 10. Layer), the intermediate layer 18A, the light emitting layer 20 (first organic compound layer), and the back electrode 24 (cathode) are sequentially laminated. The intermediate layer 18 </ b> A disposed between the hole transport layer 16 and the light emitting layer 20 constitutes the material (for example, hole transport material) constituting the hole transport layer 16 and the light emitting layer 20. And a material (for example, a light emitting material).

本実施形態に係る有機電界発光素子100は、上記構成に限られず、図2に示すように、例えば、透明絶縁体基板10上に、透明電極12(陽極)、正孔注入層14、発光層20(第1有機化合物層)、中間層18B、電子輸送層22(第2有機化合物層)、及び背面電極24(陰極)が順次積層されて構成されている。そして、この形態の場合、電子輸送層22と発光層20との間に挟まれて配設される中間層18Bは、電子輸送層22を構成する材料(例えば電子輸送材料)と、発光層20を構成する材料(例えば発光材料)と、を含んで構成されている。   The organic electroluminescent device 100 according to the present embodiment is not limited to the above configuration, and as shown in FIG. 2, for example, on a transparent insulator substrate 10, a transparent electrode 12 (anode), a hole injection layer 14, a light emitting layer. 20 (first organic compound layer), intermediate layer 18B, electron transport layer 22 (second organic compound layer), and back electrode 24 (cathode) are sequentially laminated. In the case of this embodiment, the intermediate layer 18B disposed between the electron transport layer 22 and the light emitting layer 20 includes a material (for example, an electron transport material) constituting the electron transport layer 22 and the light emitting layer 20. And a material (for example, a light emitting material).

無論、本実施形態に係る有機電界発光素子100は、図3に示すように、透明絶縁体基板10上に、透明電極12、正孔注入層14、正孔輸送層16、中間層18A、発光層20、中間層18B、電子輸送層22、及び背面電極24が順次積層されて構成されている。そして、図1及び図2と同様な構成の中間層18A,18Bとしてもよい。   Of course, as shown in FIG. 3, the organic electroluminescent device 100 according to the present embodiment has a transparent electrode 12, a hole injection layer 14, a hole transport layer 16, an intermediate layer 18 </ b> A, light emission on a transparent insulator substrate 10. The layer 20, the intermediate layer 18B, the electron transport layer 22, and the back electrode 24 are sequentially stacked. And it is good also as intermediate | middle layer 18A, 18B of the structure similar to FIG.1 and FIG.2.

一方、本実施形態に係る表示装置は、上記有機電界発光素子100と、有機電界発光素子100の一対の電極(透明電極12、背面電極24)に連結され、当該一対の電極間に直流電圧を印加するための電圧印加装置30(電圧印加手段)を、駆動手段として備えたものが挙げられる。   On the other hand, the display device according to the present embodiment is connected to the organic electroluminescent element 100 and a pair of electrodes (transparent electrode 12 and back electrode 24) of the organic electroluminescent element 100, and a DC voltage is applied between the pair of electrodes. The thing provided with the voltage application apparatus 30 (voltage application means) for applying as a drive means is mentioned.

電圧印加装置30を用いた有機電界発光素子100の駆動方法としては、例えば、一対の電極間に、4V以上20V以下で、電流密度1mA/cm以上200mA/cm以下の直流電圧を印加することによって有機電界発光素子100を発光させる。 As a method for driving the organic electroluminescent element 100 using the voltage application device 30, for example, a direct current voltage of 4 mA to 20 V and a current density of 1 mA / cm 2 to 200 mA / cm 2 is applied between a pair of electrodes. As a result, the organic electroluminescent device 100 emits light.

また、本実施形態に係る有機電界発光素子100は、最小単位(1画素単位)の構成について説明したが、例えば、当該1画素単位(有機電界発光素子)をマトリクス状及びセグメント状の少なくとも一方で配置した表示装置に適用される。有機電界発光素子100をマトリクス状に配置する場合、電極のみをマトリクス状に配置する態様であってもよいし、電極及び有機化合物層の両方をマトリクス状に配置する態様であってもよい。また、本実施形態において有機電界発光素子100をセグメント状に配置する場合、電極のみをセグメント状に配置する態様であってもよいし、電極及び有機化合物層の両方をセグメント状に配置する態様であってもよい。   In addition, the organic electroluminescent element 100 according to the present embodiment has been described with respect to the configuration of the minimum unit (one pixel unit). For example, the one pixel unit (organic electroluminescent element) is at least one of a matrix shape and a segment shape. It is applied to the arranged display device. When the organic electroluminescent elements 100 are arranged in a matrix, the electrodes may be arranged in a matrix, or both the electrodes and the organic compound layer may be arranged in a matrix. Moreover, when arrange | positioning the organic electroluminescent element 100 in a segment form in this embodiment, the aspect which arrange | positions only an electrode in a segment form may be sufficient, and the aspect which arrange | positions both an electrode and an organic compound layer in a segment form. There may be.

また、本実施形態に係る表示装置の駆動方式としては、従来公知の技術、例えば複数の行電極及び列電極を配し、行電極を走査駆動しながら各行電極に対応する画像情報に応じて列電極を一括して駆動させる単純マトリクス駆動や、画素毎に配された画素電極によるアクティブマトリックス駆動等を利用される。   In addition, as a driving method of the display device according to the present embodiment, a conventionally known technique, for example, a plurality of row electrodes and column electrodes are arranged, and the row electrodes are scanned according to image information corresponding to each row electrode while being scanned. Simple matrix driving in which electrodes are driven collectively, active matrix driving using pixel electrodes arranged for each pixel, and the like are used.

上記いずれの実施形態に係る有機電界発光素子100では、発光層20などの第1有機化合物層と、電荷輸送層(正孔輸送層16及び電子輸送層22)などの第2有機化合物層と、の間に中間層18A,18Bを設ける。そして、この中間層18A,18Bは、第1有機化合物層を構成する材料と、第2有機化合物層を構成する材料と、を含んで構成させる。即ち、当該中間層18A,18Bは、2者の材料の混合層をする。この構成の中間層18A,18Bを設けることで、第1有機化合物層と第2有機化合物層との間に生じる電気的な障壁が低減されると考えられる。このため、特定の中間層18A,18Bを介さず有機化合物層を直接積層した場合に比べ、素子寿命が延びる。つまり、例えば、非発光領域(ダークスポット)の発生・広がりを抑制し、初期輝度半減寿命が長期化された素子となる。結果、本実施形態に係る表示装置は、長期にわたって、有機電界発光素子の素子寿命に基づく表示欠陥が抑制される。   In the organic electroluminescent device 100 according to any of the above embodiments, the first organic compound layer such as the light emitting layer 20 and the second organic compound layer such as the charge transport layer (the hole transport layer 16 and the electron transport layer 22), Intermediate layers 18A and 18B are provided between the two. And these intermediate | middle layers 18A and 18B are comprised including the material which comprises a 1st organic compound layer, and the material which comprises a 2nd organic compound layer. That is, the intermediate layers 18A and 18B are mixed layers of two materials. By providing the intermediate layers 18A and 18B having this configuration, it is considered that the electrical barrier generated between the first organic compound layer and the second organic compound layer is reduced. For this reason, the device life is extended as compared with the case where the organic compound layer is directly laminated without using the specific intermediate layers 18A and 18B. That is, for example, an element in which the generation / expansion of a non-light emitting region (dark spot) is suppressed and the initial luminance half-life is extended is obtained. As a result, the display device according to the present embodiment suppresses display defects based on the element lifetime of the organic electroluminescent element over a long period of time.

特に、中間層18A,18Bを、第1有機化合物層として発光層20と、第2有機化合物層として電荷輸送層(正孔輸送層16及び電子輸送層22)と、の間に設けることで、発光層20と電荷輸送層との間の界面において生じる電荷トラップを抑制すると共に、電荷注入性が向上されると考えられる。このため、特に、他の有機化合物層間に特定の中間層を設けた場合に比べ、非発光領域(ダークスポット)の発生・広がりを抑制し、素子寿命が延びる。   In particular, by providing the intermediate layers 18A and 18B between the light emitting layer 20 as the first organic compound layer and the charge transport layer (the hole transport layer 16 and the electron transport layer 22) as the second organic compound layer, It is considered that charge trapping generated at the interface between the light emitting layer 20 and the charge transport layer is suppressed and the charge injection property is improved. For this reason, compared with the case where a specific intermediate layer is provided between other organic compound layers, the generation / expansion of a non-light emitting region (dark spot) is suppressed and the device life is extended.

ここで、中間層18A,18Bにおいて、第1化合物層を構成する材料と、第2化合物層を構成する材料と、の混合比は、重量比で7:3から3:7までの範囲、望ましくは3:2から2:3までの範囲がよい。   Here, in the intermediate layers 18A and 18B, the mixing ratio of the material constituting the first compound layer and the material constituting the second compound layer is preferably in the range of 7: 3 to 3: 7 by weight ratio. Is preferably in the range of 3: 2 to 2: 3.

無論、発光層20と電荷輸送層(正孔輸送層16及び電子輸送層22)との間以外、例えば、正孔注入層14と正孔輸送層16との間などその他の有機化合物層間に、両者の材料を混合物が含まれる中間層を設けてもよい。   Of course, other than between the light emitting layer 20 and the charge transport layer (the hole transport layer 16 and the electron transport layer 22), for example, between other organic compound layers such as between the hole injection layer 14 and the hole transport layer 16, An intermediate layer containing a mixture of both materials may be provided.

次に、本実施形態に係る有機電界発光素子の製造方法と共に、より詳細に説明する。   Next, it demonstrates in detail with the manufacturing method of the organic electroluminescent element which concerns on this embodiment.

図4は、本実施形態に係る有機電界発光素子の製造方法を示す工程図である。なお、本実施形態に係る有機電界発光素子の製造方法については、図3に示す層構成を有する有機電界発光素子の製造方法について示す。   FIG. 4 is a process diagram showing a method for manufacturing an organic electroluminescent device according to this embodiment. In addition, about the manufacturing method of the organic electroluminescent element which concerns on this embodiment, it shows about the manufacturing method of the organic electroluminescent element which has a layer structure shown in FIG.

まず、図4(A)に示すように、透明絶縁体基板10を準備する。ここで、透明絶縁体基板10としては、発光を取り出すため透明なものが望ましく、ガラス基板、プラスチックフィルム基板等が用いられる。ここで、透明とは、可視領域の光の透過率が10%以上であることを意味し、更に透過率が75%以上であることが望ましい。また、絶縁性とは、体積抵抗率が1013 Ωcm以上であることをいう。以下同様である。 First, as shown in FIG. 4A, a transparent insulator substrate 10 is prepared. Here, the transparent insulator substrate 10 is preferably a transparent substrate for taking out light emission, and a glass substrate, a plastic film substrate, or the like is used. Here, the term “transparent” means that the light transmittance in the visible region is 10% or more, and the transmittance is preferably 75% or more. The insulating property means that the volume resistivity is 10 13 Ωcm or more. The same applies hereinafter.

次に、図4(B)に示すように、透明絶縁体基板10上に、透明電極12を形成する。透明電極12は、透明絶縁体基板10と同様に発光を取り出すため透明であって、かつ正孔の注入を行うため仕事関数の大きなものが望ましく、例えば、酸化膜(例えば酸化スズインジウム(ITO)、酸化スズ(NESA)、酸化インジウム、又は酸化亜鉛等)、金属膜(例えば金、白金、又はパラジウム等)が好適に用いられる。この透明電極12は、例えば、蒸着法、又はスパッタリング法などにより形成される。   Next, as shown in FIG. 4B, a transparent electrode 12 is formed on the transparent insulator substrate 10. The transparent electrode 12 is transparent in order to extract emitted light in the same manner as the transparent insulator substrate 10 and preferably has a high work function for injecting holes. For example, an oxide film (for example, indium tin oxide (ITO)) is preferable. , Tin oxide (NESA), indium oxide, zinc oxide, or the like) or metal film (eg, gold, platinum, palladium, or the like) is preferably used. The transparent electrode 12 is formed by, for example, a vapor deposition method or a sputtering method.

次に、図4(C)に示すように、透明電極12が形成された透明絶縁体基板10上に、正孔注入層14を形成する。正孔注入層14を構成する正孔注入材料としては、例えば、MTDATA(4,4’,4”−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン)、銅フタロシアニン、ポリアニリン、PEDOT/PSS(ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォネート)又はこれらの混合物が望ましく用いられる。   Next, as shown in FIG. 4C, the hole injection layer 14 is formed on the transparent insulator substrate 10 on which the transparent electrode 12 is formed. Examples of the hole injection material constituting the hole injection layer 14 include MTDATA (4,4 ′, 4 ″ -tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine), copper phthalocyanine, polyaniline, PEDOT / PSS ( Polyethylene dioxythiophene / polystyrene sulfonate) or mixtures thereof are preferably used.

ここで、正孔注入層14は、正孔注入材料とこれを溶解又は分散させる溶剤とを含む塗布液を用い、例えば、これをスピンコーティング法、ディップ法等を用いて製膜することによって形成される。   Here, the hole injection layer 14 is formed by using a coating liquid containing a hole injection material and a solvent for dissolving or dispersing the hole injection material, for example, by forming the film using a spin coating method, a dip method, or the like. Is done.

次に、図4(D)に示すように、正孔注入層14が形成された透明絶縁体基板10上に、正孔輸送層16を形成する。正孔輸送層16を構成する正孔輸送材料としては、正孔輸送材料としては、テトラフェニレンジアミン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、アリールヒドラゾン誘導体、ポルフィリン系化合物等が望ましく用いられる。特に好適な具体例として下記例示化合物(I−1)〜(I−6)が挙げられる。なお、(I−1)〜(I〜6)中、nは1以上の整数を示す。   Next, as shown in FIG. 4D, the hole transport layer 16 is formed on the transparent insulator substrate 10 on which the hole injection layer 14 is formed. As the hole transport material constituting the hole transport layer 16, a tetraphenylenediamine derivative, a triphenylamine derivative, a carbazole derivative, a stilbene derivative, an aryl hydrazone derivative, a porphyrin-based compound, or the like is desirably used as the hole transport material. . Particularly preferred specific examples include the following exemplary compounds (I-1) to (I-6). In (I-1) to (I-6), n represents an integer of 1 or more.

Figure 2010045222
Figure 2010045222

Figure 2010045222
Figure 2010045222

ここで、正孔輸送層16は、正孔輸送材料とこれを溶解又は分散させる溶剤とを含む塗布液を用い、例えば、これをスプレー法、又はエレクトロスプレー法により製膜することによって形成される。無論、正孔輸送層16は、スピンコーティング法、ディップ法等を用いて製膜することによって形成してもよい。   Here, the hole transport layer 16 is formed by using a coating liquid containing a hole transport material and a solvent for dissolving or dispersing the hole transport material, and forming the film by, for example, a spray method or an electrospray method. . Of course, the hole transport layer 16 may be formed by film formation using a spin coating method, a dip method or the like.

次に、図4(E)に示すように、正孔輸送層16が形成された透明絶縁体基板10上に、中間層18Aを形成する。中間層18Aを構成する材料は、正孔輸送層16を構成する材料(例えば正孔輸送材料)と、発光層20を構成する材料(例えば発光材料)と、の混合材料である。   Next, as shown in FIG. 4E, an intermediate layer 18A is formed on the transparent insulator substrate 10 on which the hole transport layer 16 is formed. The material composing the intermediate layer 18A is a mixed material of the material composing the hole transport layer 16 (for example, hole transport material) and the material composing the light emitting layer 20 (for example, light emitting material).

ここで、中間層18Aは、正孔輸送材料及び発光材料とこれらを溶解又は分散させる溶剤とを含む塗布液を用い、例えば、これをスプレー法、又はエレクトロスプレー法により製膜することによって形成される。   Here, the intermediate layer 18A is formed by using a coating liquid containing a hole transport material and a light emitting material and a solvent for dissolving or dispersing them, and for example, forming the film by a spray method or an electrospray method. The

次に、図4(F)に示すように、中間層18Aが形成された透明絶縁体基板10上に、発光層20を形成する。発光層20を構成する発光材料としては、他の状態よりも固体状態で高い蛍光量子収率を示す化合物が挙げられ、例えば、低分子発光材料、又は高分子発光材料が挙げられる。低分子発光材料としては、キレート型有機金属錯体、多核又は縮合芳香環化合物、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサチアゾール誘導体、又はオキサジアゾール誘導体等が挙げられる。高分子発光材料としては、例えば、ポリパラフェニレン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、又はポリアセチレン誘導体等が挙げられる。好適な具体例として、下記の化合物(II−1)乃至化合物(II−17)が挙げられるが、これらに限られるものではない。   Next, as shown in FIG. 4F, the light emitting layer 20 is formed on the transparent insulator substrate 10 on which the intermediate layer 18A is formed. Examples of the light-emitting material constituting the light-emitting layer 20 include compounds that exhibit a higher fluorescence quantum yield in a solid state than other states, and examples thereof include a low-molecular light-emitting material and a polymer light-emitting material. Examples of the low-molecular light-emitting material include chelate-type organometallic complexes, polynuclear or condensed aromatic ring compounds, perylene derivatives, coumarin derivatives, styrylarylene derivatives, silole derivatives, oxazole derivatives, oxathiazole derivatives, or oxadiazole derivatives. Examples of the polymer light emitting material include polyparaphenylene derivatives, polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, and polyacetylene derivatives. Preferable specific examples include the following compounds (II-1) to (II-17), but are not limited thereto.

Figure 2010045222
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Figure 2010045222
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なお、化合物(II−1)〜(II−17)中、Arは、Arは置換もしくは未置換のフェニル基、置換もしくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素、又は置換もしくは未置換の1価の芳香族複素環を表す。
化合物(II−1)〜(II−17)中、Xは、置換もしくは未置換の2価の芳香族基を表す。具体的には、Xは、置換もしくは未置換のフェニレン基、置換もしくは未置換の芳香族数2以上10以下の2価の多核芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の芳香族数2以上10以下の2価の縮合環芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の2価の芳香族複素環、又は少なくとも1種の芳香族複素環を含む置換もしくは未置換の2価の芳香族基を表す。
化合物(II−1)〜(II−17)中、n及びxは1以上の整数を、yは0又は1を示す。
In the compounds (II-1) to (II-17), Ar is a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon having 2 to 10 aromatic rings. Represents a monovalent condensed aromatic hydrocarbon having 2 or more and 10 or less substituted or unsubstituted aromatic rings, or a substituted or unsubstituted monovalent aromatic heterocyclic ring.
In the compounds (II-1) to (II-17), X represents a substituted or unsubstituted divalent aromatic group. Specifically, X is a substituted or unsubstituted phenylene group, a substituted or unsubstituted divalent polynuclear aromatic hydrocarbon having 2 to 10 aromatics, a substituted or unsubstituted aromatic group having 2 to 10 aromatics. A divalent condensed ring aromatic hydrocarbon, a substituted or unsubstituted divalent aromatic heterocyclic ring, or a substituted or unsubstituted divalent aromatic group containing at least one aromatic heterocyclic ring.
In compounds (II-1) to (II-17), n and x represent an integer of 1 or more, and y represents 0 or 1.

また、上記多核芳香族炭化水素、縮合芳香族炭化水素、及び芳香族複素環は特に限定されない。なお、当該多核芳香族炭化水素、縮合芳香族炭化水素、及び芳香族複素環とは、本実施形態においては、具体的には以下に定義されることを意味する。   The polynuclear aromatic hydrocarbon, condensed aromatic hydrocarbon, and aromatic heterocycle are not particularly limited. In addition, the polynuclear aromatic hydrocarbon, the condensed aromatic hydrocarbon, and the aromatic heterocycle in the present embodiment mean specifically defined as follows.

すなわち、「多核芳香族炭化水素」とは、炭素と水素から構成される芳香環が2個以上10個以下存在し、環同士が炭素―炭素結合によって結合している炭化水素を表す。具体的には、ビフェニル、ターフェニル等が挙げられる。
「縮合芳香族炭化水素」とは、炭素と水素から構成される芳香環が2個以上存在し、環同士が1対の炭素原子を共有している炭化水素を表す。具体的には、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、又はフルオレン等が挙げられる。
「芳香族複素環」とは、炭素と水素以外の元素も含む芳香環を表す。芳香族複素環には、芳香環に複素環が置換しているもの、複素環に芳香環が置換しているもののいずれも含む。また、複素環は、その環骨格を構成する原子数(Nr)が、Nr=5及び/又は6が望ましく用いられる。また、環骨格を構成する炭素原子以外の原子(異種原子)の種類及び数は特に限定されないが、例えば、硫黄原子、窒素原子、酸素原子、セレン原子、又は珪素原子等が望ましく用いられ、前記環骨格中には2種類以上及び/又は2個以上の異種原子が含まれてもよい。特に5員環構造をもつ複素環として、チオフェン、ピロール、フラン、セレノフェン、及びシロール又は、前記化合物の3位及び4位の炭素を窒素で置き換えた複素環が望ましく用いられ、6員環構造を持つ複素環として、ピリジンが望ましく用いられる。
That is, the “polynuclear aromatic hydrocarbon” represents a hydrocarbon in which 2 to 10 aromatic rings composed of carbon and hydrogen are present and the rings are bonded to each other through a carbon-carbon bond. Specific examples include biphenyl and terphenyl.
“Condensed aromatic hydrocarbon” refers to a hydrocarbon in which two or more aromatic rings composed of carbon and hydrogen are present and the rings share a pair of carbon atoms. Specifically, naphthalene, anthracene, phenanthrene, fluorene, or the like can be given.
“Aromatic heterocycle” refers to an aromatic ring containing elements other than carbon and hydrogen. The aromatic heterocyclic ring includes both those in which an aromatic ring is substituted with a heterocyclic ring and those in which a heterocyclic ring is substituted with an aromatic ring. In addition, for the heterocyclic ring, the number of atoms (Nr) constituting the ring skeleton is preferably Nr = 5 and / or 6. Further, the type and number of atoms other than carbon atoms (heterogeneous atoms) constituting the ring skeleton are not particularly limited. For example, a sulfur atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a selenium atom, or a silicon atom is preferably used. Two or more types and / or two or more heteroatoms may be contained in the ring skeleton. In particular, as a heterocyclic ring having a 5-membered ring structure, thiophene, pyrrole, furan, selenophene, and silole, or a heterocyclic ring in which the 3- and 4-position carbons of the compound are replaced with nitrogen are preferably used. Pyridine is desirably used as the heterocyclic ring.

ArやXを表す構造として選択される各基が置換基を有する場合、該置換基としては、水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、アラルキル基、置換アミノ基、又はハロゲン原子が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数1以上10以下のものが望ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、又はターシャリーブチル基等が挙げられる。
アルコキシル基としては、炭素数1以上10以下のものが望ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、又はイソプロポキシ基等が挙げられる。
アリール基としては、炭素数6以上20以下のものが望ましく、例えば、フェニル基、トルイル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、炭素数7以上20以下のものが望ましく、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
置換アミノ基の置換基としては、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基等が挙げられ、具体例としては前述の通りである。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられ、中でもフッ素原子が望ましい。
置換又は未置換のフェニル基、置換もしくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の1価の芳香族複素環としては、前述と同様である。
When each group selected as a structure representing Ar or X has a substituent, examples of the substituent include a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxyl group, an aryl group, an aralkyl group, a substituted amino group, and a halogen atom. .
The alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a tertiary butyl group.
As an alkoxyl group, a C1-C10 thing is desirable, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or an isopropoxy group etc. are mentioned.
As the aryl group, those having 6 to 20 carbon atoms are desirable, and examples thereof include a phenyl group and a toluyl group.
As the aralkyl group, those having 7 to 20 carbon atoms are desirable, and examples thereof include a benzyl group and a phenethyl group.
Examples of the substituent of the substituted amino group include an alkyl group, an aryl group, and an aralkyl group, and specific examples are as described above.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and among them, a fluorine atom is desirable.
A substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic monovalent aromatic hydrocarbon having 2 to 10 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted monovalent aromatic heterocyclic ring are the same as described above. .

発光層20は、発光材料が低分子発光材料の場合、結着樹脂を含んで構成させることがよい。また、発光層20は、有機電界発光素子の耐久性向上又は発光効率の向上を目的として、上記発光材料中にゲスト材料として発光材料と異なる色素化合物を添加(ドーピング)されていてもよい。発光層20中における色素化合物の添加(ドーピング)の割合としては、例えば、0.001重量%以上40重量%以下程度、望ましくは0.001重量%以上10重量%以下程度である。この添加(ドーピング)に用いられる色素化合物としては、発光材料との相容性が良く、かつ発光層の良好な薄膜形成を妨げない有機化合物が用いられ、好適には4−ジシアンメチレン−2−メチル−6−(p2ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン(DCM)誘導体、キナクリドン誘導体、ルブレン誘導体、又はポルフィリン等が用いられる。好適な具体例として、下記の化合物(III−1)〜(III−5)が挙げられるが、これらに限られるものではない。   When the light emitting material is a low molecular light emitting material, the light emitting layer 20 is preferably configured to include a binder resin. The light emitting layer 20 may be doped (doped) with a dye compound different from the light emitting material as a guest material in the light emitting material for the purpose of improving the durability of the organic electroluminescent device or improving the light emitting efficiency. The ratio of the addition (doping) of the dye compound in the light emitting layer 20 is, for example, about 0.001 wt% to 40 wt%, desirably about 0.001 wt% to 10 wt%. As the coloring compound used for this addition (doping), an organic compound that has good compatibility with the light emitting material and does not hinder the formation of a good thin film of the light emitting layer is used, and preferably 4-dicyanmethylene-2 -Methyl-6- (p2dimethylaminostyryl) -4H-pyran (DCM) derivative, quinacridone derivative, rubrene derivative, porphyrin or the like is used. Preferable specific examples include, but are not limited to, the following compounds (III-1) to (III-5).

Figure 2010045222
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ここで、発光層20は、発光材料とその他添加物(例えば色素化合物)とこれらを溶解又は分散させる溶剤とを含む塗布液を用い、例えば、これをスプレー法、又はエレクトロスプレー法により製膜することによって形成される。無論、発光層20は、スピンコーティング法、ディップ法等を用いて製膜することによって形成してもよい。但し、発光材料として低分子発光材料を用いる場合、塗布液には結着樹脂も含まれる。   Here, the light emitting layer 20 uses a coating liquid containing a light emitting material, other additives (for example, a dye compound) and a solvent for dissolving or dispersing them, and for example, this is formed by a spray method or an electrospray method. Formed by. Of course, the light emitting layer 20 may be formed by forming a film using a spin coating method, a dip method or the like. However, in the case where a low molecular light emitting material is used as the light emitting material, the coating liquid includes a binder resin.

次に、図4(G)に示すように、発光層20が形成された透明絶縁体基板10上に、中間層18Bを形成する。中間層18Bを構成する材料は、発光層20を構成する材料(例えば発光材料)と、電子輸送層22を構成する材料(例えば電子輸送材料)と、の混合材料である。   Next, as shown in FIG. 4G, the intermediate layer 18B is formed on the transparent insulator substrate 10 on which the light emitting layer 20 is formed. The material composing the intermediate layer 18B is a mixed material of the material composing the light emitting layer 20 (for example, light emitting material) and the material composing the electron transport layer 22 (for example, electron transporting material).

ここで、中間層18Bは、発光材料及び正孔輸送材料とこれらを溶解又は分散させる溶剤とを含む塗布液を用い、例えば、これをスプレー法、又はエレクトロスプレー法により製膜することによって形成される。   Here, the intermediate layer 18B is formed by using a coating liquid containing a light emitting material and a hole transport material and a solvent for dissolving or dispersing them, and for example, forming the film by a spray method or an electrospray method. The

次に、図4(H)に示すように、中間層18Bが形成された透明絶縁体基板10上に、電子輸送層22を形成する。電子輸送層22を構成する電子輸送材料としては、好適にはオキサジアゾール誘導体、ニトロ置換フルオレノン誘導体、ジフェノキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、又はフルオレニリデンメタン誘導体等が挙げられる。好適な具体例として、下記の化合物(IV−1)〜(IV−3)が挙げられるが、これらに限られるものではない。   Next, as shown in FIG. 4H, the electron transport layer 22 is formed on the transparent insulator substrate 10 on which the intermediate layer 18B is formed. Examples of the electron transport material constituting the electron transport layer 22 preferably include an oxadiazole derivative, a nitro-substituted fluorenone derivative, a diphenoquinone derivative, a thiopyrandioxide derivative, or a fluorenylidenemethane derivative. Preferred specific examples include, but are not limited to, the following compounds (IV-1) to (IV-3).

Figure 2010045222
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ここで、電子輸送層22は、電子輸送材料とこれを溶解又は分散させる溶剤とを含む塗布液を用い、例えば、これをスプレー法、又はエレクトロスプレー法により製膜することによって形成される。無論、電子輸送層22は、スピンコーティング法、ディップ法等を用いて製膜することによって形成してもよい。   Here, the electron transport layer 22 is formed by using a coating liquid containing an electron transport material and a solvent for dissolving or dispersing the electron transport material, and forming the film by, for example, a spray method or an electrospray method. Of course, the electron transport layer 22 may be formed by film formation using a spin coating method, a dip method or the like.

次に、図4(I)に示すように、電子輸送層22が形成された透明絶縁体基板10上に、背面電極24を形成する。背面電極24は、電子注入を行うため仕事関数の小さな金属が使用されるが、特に望ましくはマグネシウム、アルミニウム、銀、インジウム、又はこれらの合金が挙げられる。背面電極24は、例えば、蒸着法や、スパッタリング法などにより形成される。   Next, as shown in FIG. 4I, the back electrode 24 is formed on the transparent insulator substrate 10 on which the electron transport layer 22 is formed. The back electrode 24 is made of a metal having a low work function in order to inject electrons, and particularly preferably includes magnesium, aluminum, silver, indium, or an alloy thereof. The back electrode 24 is formed by, for example, vapor deposition or sputtering.

なお、図示しないが、背面電極24上には、さらに素子の水分や酸素による劣化を防ぐために保護層を形成してもよい。具体的な保護層の材料としては、金属(In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、又はAlなど)、金属酸化物(MgO、SiO、又はTiO等)、又は樹脂(ポリエチレン樹脂、ポリウレア樹脂、又はポリイミド樹脂等)等が挙げられる。保護層の形成には、例えば、蒸着法、スパッタリング法、プラズマ重合法、CVD法、コーティング法が適用される。 Although not shown, a protective layer may be formed on the back electrode 24 in order to prevent further deterioration of the element due to moisture or oxygen. Specific materials for the protective layer include metals (In, Sn, Pb, Au, Cu, Ag, Al, etc.), metal oxides (MgO, SiO 2 , TiO 2 etc.), or resins (polyethylene resin, Polyurea resin or polyimide resin). For the formation of the protective layer, for example, a vapor deposition method, a sputtering method, a plasma polymerization method, a CVD method, or a coating method is applied.

以上説明した本実施形態に係る有機電界発光素子の製造方法では、正孔輸送層16、中間層18A、発光層20、中間層18B、電子輸送層22を、塗布液を霧状に噴霧する手法(スプレー法やエレクトロスプレー法等)により、連続して製膜して形成することがよい。   In the method of manufacturing the organic electroluminescent element according to the present embodiment described above, the hole transport layer 16, the intermediate layer 18A, the light emitting layer 20, the intermediate layer 18B, and the electron transport layer 22 are sprayed with a coating liquid in a mist form. It is preferable to form a film continuously by a spray method or an electrospray method.

具体的には、例えば、正孔輸送層16を形成するための塗布液を噴霧するノズル40により、当該塗布液を噴霧して正孔輸送層16を形成する(図4(D)参照)。この際、ノズル40と透明絶縁体基板10とを相対的に移動させて、特定の領域に正孔輸送層16を形成する。この操作は、他の層の形成でも同様である。   Specifically, for example, the hole transport layer 16 is formed by spraying the coating liquid with a nozzle 40 that sprays the coating liquid for forming the hole transport layer 16 (see FIG. 4D). At this time, the nozzle 40 and the transparent insulator substrate 10 are relatively moved to form the hole transport layer 16 in a specific region. This operation is the same for the formation of other layers.

次に、ノズル40による正孔輸送層16を形成するための塗布液の噴霧を終了させることなく、当該ノズル40による噴霧領域(霧状の塗布液が塗布面に接触する領域)と重なるように、発光層20を形成するための塗布液を噴霧するノズル42により、当該塗布液を噴霧して中間層18Aを形成する(図4(E)参照)。つまり、中間層18Aは、正孔輸送材料を含む塗布液をノズル40により噴霧すると共に、発光材料を含む塗布液をノズル42により噴霧することで形成される。なお、この各塗布液の噴霧量を調整することで、中間層18Aを構成する、上層・下層の両構成材料の混合比率が調整される。   Next, without ending spraying of the coating liquid for forming the hole transport layer 16 by the nozzle 40, the spraying area by the nozzle 40 (area where the mist-like coating liquid contacts the coating surface) is overlapped. The intermediate layer 18A is formed by spraying the coating liquid with the nozzle 42 that sprays the coating liquid for forming the light emitting layer 20 (see FIG. 4E). That is, the intermediate layer 18 </ b> A is formed by spraying the coating liquid containing the hole transport material with the nozzle 40 and spraying the coating liquid containing the light emitting material with the nozzle 42. By adjusting the spray amount of each coating solution, the mixing ratio of both the upper layer and lower layer constituent materials constituting the intermediate layer 18A is adjusted.

次に、ノズル40による正孔輸送層16を形成するための塗布液の噴霧を終了させる一方で、ノズル42による発光層20を形成するための塗布液の噴霧を続行することにより、発光層20を形成する(図4(F)参照)。   Next, the spraying of the coating liquid for forming the hole transport layer 16 by the nozzle 40 is terminated, while the spraying of the coating liquid for forming the light emitting layer 20 by the nozzle 42 is continued, whereby the light emitting layer 20. (See FIG. 4F).

次に、ノズル42による発光層20を形成するための塗布液の噴霧を終了させることなく、当該ノズル44による噴霧領域(霧状の塗布液が塗布面に接触する領域)と重なるように、電子輸送層22を形成するための塗布液を噴霧するノズル44により、当該塗布液を噴霧して中間層18Bを形成する(図4(G)参照)。つまり、中間層18Bは、発光材料を含む塗布液をノズル42により噴霧すると共に、電子輸送材料を含む塗布液をノズル44により噴霧することで形成される。なお、この各塗布液の噴霧量を調整することで、中間層18Bを構成する、上層・下層の両構成材料の混合比率が調整される。   Next, without ending the spraying of the coating liquid for forming the light emitting layer 20 by the nozzle 42, the electrons are overlapped with the spraying area (the area where the mist-like coating liquid is in contact with the coating surface) by the nozzle 44. The intermediate layer 18B is formed by spraying the coating liquid with a nozzle 44 that sprays the coating liquid for forming the transport layer 22 (see FIG. 4G). That is, the intermediate layer 18 </ b> B is formed by spraying the coating liquid containing the light emitting material with the nozzle 42 and spraying the coating liquid containing the electron transport material with the nozzle 44. By adjusting the spray amount of each coating solution, the mixing ratio of both the upper layer and lower layer constituent materials constituting the intermediate layer 18B is adjusted.

次に、ノズル42による発光層20を形成するための塗布液の噴霧を終了させる一方で、ノズル44による電子輸送層22を形成するための塗布液の噴霧を続行することにより、電子輸送層22を形成する(図4(H)参照)。   Next, spraying of the coating liquid for forming the light emitting layer 20 by the nozzle 42 is terminated, while spraying of the coating liquid for forming the electron transport layer 22 by the nozzle 44 is continued, whereby the electron transport layer 22 is continued. (See FIG. 4H).

上記如く、各層を形成するための塗布液を霧状に噴霧する手法(スプレー法やエレクトロスプレー法等)では、各層を構成する原料有機材料(発光材料、電荷輸送材料等)を溶剤に溶解又は分散させた塗布液をノズルから霧状に射出する。ここで、溶剤として揮発性の有機溶剤を適用すると、この霧状の塗布液が被塗布面上に到達する過程において当該有機溶媒が揮発して、原料有機材料から構成された粒子が形成される。つまり、当該有機溶剤が揮発した粒子、即ち、乾燥した粒子が被塗布面上に到達することになるため、下層(中間層を含む有機化合物層)の溶解が抑制されつつ、目的とする層(中間層を含む有機化合物層)が形成される。ここで、揮発性とは、沸点が200℃以下のものを示す。     As described above, in the method of spraying the coating liquid for forming each layer in a mist (spray method, electrospray method, etc.), the raw material organic materials (light emitting material, charge transport material, etc.) constituting each layer are dissolved in a solvent or The dispersed coating liquid is ejected from the nozzle in the form of a mist. Here, when a volatile organic solvent is applied as the solvent, the organic solvent volatilizes in the process in which the mist-like coating liquid reaches the surface to be coated, and particles composed of the raw material organic material are formed. . That is, since the particles in which the organic solvent is volatilized, that is, the dried particles reach the surface to be coated, dissolution of the lower layer (organic compound layer including the intermediate layer) is suppressed, while the target layer ( An organic compound layer including an intermediate layer) is formed. Here, the volatility means that the boiling point is 200 ° C. or less.

塗布液を霧状に噴霧する手法(スプレー法やエレクトロスプレー法等)において、中間層18A,18Bを形成する際、噴霧する2種の塗布液の噴霧量を互いに変化させ、上層・下層との界面を形成させないように形成してもよい。具体的には、例えば、下層を形成するための塗布液の噴霧して下層を形成した後、当該塗布液を噴霧しつつ、上層を形成するための塗布液の噴霧を開始し、その噴霧量を除々に増加させると共に、下層を形成するための塗布液の噴霧量を低減させていき、最終的に上層を形成するための塗布液の噴霧のみとして中間層18A,18Bを形成し、そのまま、上層を形成するための塗布液を噴霧を続行し、上層の形成を行う。これにより、中間層18A,18Bが、下層を形成するための塗布液(原料有機材料)と上層を形成するための塗布液(原料有機材料)との割合が厚み方向に連続的に傾斜した組成(傾斜組成)となり、上層・下層と中間層18A,18Bとの明確な界面形成が抑制される。   When forming the intermediate layers 18A and 18B in a spraying method (spray method, electrospray method, etc.) of the coating liquid, the spray amount of the two types of coating liquids to be sprayed is changed to You may form so that an interface may not be formed. Specifically, for example, after spraying the coating liquid for forming the lower layer to form the lower layer, the spraying of the coating liquid for forming the upper layer is started while spraying the coating liquid, and the spray amount Gradually increasing the spray amount of the coating liquid for forming the lower layer, and finally forming the intermediate layers 18A and 18B only as the spray of the coating liquid for forming the upper layer, Spraying of the coating liquid for forming the upper layer is continued to form the upper layer. Accordingly, the intermediate layers 18A and 18B have compositions in which the ratio of the coating liquid (raw material organic material) for forming the lower layer and the coating liquid (raw material organic material) for forming the upper layer is continuously inclined in the thickness direction. (Gradient composition), and the formation of a clear interface between the upper and lower layers and the intermediate layers 18A and 18B is suppressed.

塗布液を霧状に噴霧する手法(スプレー法やエレクトロスプレー法等)は、所望の膜厚を得やすく、装置構成も簡単で安価なものであり、低コスト化も実現される。また、当該塗布液を霧状に噴霧する手法において、2本以上のノズルを組み合わせることで、連続的に且つ効率よく、目的とする層(中間層を含む有機化合物層)の形成がなされる。   A technique (spray method, electrospray method, etc.) for spraying the coating liquid in a mist form makes it easy to obtain a desired film thickness, the apparatus configuration is simple and inexpensive, and cost reduction is realized. Moreover, in the method of spraying the coating liquid in the form of a mist, a target layer (an organic compound layer including an intermediate layer) can be formed continuously and efficiently by combining two or more nozzles.

なお、塗布液を霧状に噴霧する手法は、中間層18A,18Bのみの形成に採用して、他の層は、スピンコーティング法、ディップ法等により形成してもよい。   The method of spraying the coating liquid in the form of a mist may be adopted for forming only the intermediate layers 18A and 18B, and the other layers may be formed by a spin coating method, a dip method or the like.

一方、中間層18A,18Bを形成するため成膜法は、上記塗布液を霧状に噴霧する手法(スプレー法やエレクトロスプレー法)に限られず、所謂、塗布液の霧状物(ミスト)を生成して、これを堆積させるミスト法を採用してもよい。このミスト法は、例えば、それぞれ異なる塗布液(本実施形態では、発光層20を形成するための塗布液と電荷輸送性層(正孔輸送層16又は電子輸送層)を形成するための塗布液)が収納されたミスト発生源から、各塗布液を搬送ガス中に噴射してミストを形成する工程、複数のミスト発生源から各ミスト搬送管を介して供給されたミストを攪拌、混合する工程、この攪拌されたミストをミスト照射ノズルから被塗布面(下層が形成された基板)上に照射してミスト堆積膜(中間層18A,18B)を形成する工程、及びこのミスト堆積膜を乾燥する工程と、を含むものである。本ミスト法においては、ミスト化された塗布液をミスト発生源から搬送管へ搬送する際、ミスト化された塗布液を帯電させることがよい。また、ミスト照射ノズルは金属メッシュフィルターを有し、該金属メッシュフィルターと被塗布面(被塗布物(下層が形成された基板)を保持する保持部材)との間に電圧を印加して、照射ミストを印加電圧により加速するもよい。   On the other hand, the film formation method for forming the intermediate layers 18A and 18B is not limited to the method (spray method or electrospray method) of spraying the coating liquid in a mist form, but a so-called mist (mist) of the coating liquid is used. You may employ | adopt the mist method which produces | generates and deposits this. In this mist method, for example, different coating liquids (in this embodiment, a coating liquid for forming the light emitting layer 20 and a coating liquid for forming a charge transporting layer (hole transporting layer 16 or electron transporting layer)) are used. ) From the mist generation source in which each coating liquid is injected into the carrier gas to form mist, and the steps to agitate and mix the mist supplied from the plurality of mist generation sources through the mist conveyance pipes The step of irradiating the surface to be coated (the substrate on which the lower layer is formed) with the agitated mist from a mist irradiation nozzle to form a mist deposition film (intermediate layers 18A and 18B), and drying the mist deposition film A process. In this mist method, it is preferable to charge the misted coating liquid when the misted coating liquid is transported from the mist generation source to the transport pipe. Further, the mist irradiation nozzle has a metal mesh filter, and a voltage is applied between the metal mesh filter and a surface to be coated (a holding member for holding an object to be coated (a substrate on which a lower layer is formed)) for irradiation. The mist may be accelerated by an applied voltage.

上記如くミスト法に適用される成膜装置として具体的には、例えば、図5に示すように、
それぞれ異なる塗布液(本実施形態では、発光層20を形成するための塗布液と電荷輸送性層(正孔輸送層16又は電子輸送層)を形成するための2種の塗布液)を搬送ガス中に噴射して、それぞれの塗布液のミストを形成するミスト形成手段52A,52Bと、
該ミスト形成手段52A,52Bに塗布液を供給する塗布液供給手段53A,53B(例えば、図示しないポンプ、流量制御弁及び流量測定装置からなる。)と、
該ミスト形成手段52A,52Bによって形成されたミストをミスト搬送管54A,54Bに搬送するための搬送ガス供給手段56A,56Bと、
ミスト搬送管54A,54Bによって供給される各塗布液のミストを攪拌、混合するためのミスト撹拌槽58と、
該混合された各塗布液のミストを被塗布物10Aに対し照射するためのミスト照射ノズル60と、
被塗布物10Aを加熱するための加熱ヒーター62と、
該被塗布物10Aを固定する保持部材64と、を備えている。
また、ミスト撹拌槽58と、ミスト照射ノズル60と、加熱ヒーター62、及び保持部材64は、ガス排出口66Aを備えた筐体からなる成膜室66内に配設されている。
また、各塗布液供給手段53A,53Bは、各塗布液を貯蔵する貯蔵容器55A,55Bと連結され、当該塗布液供給手段53A,53Bによりミスト形成手段52A,52Bへ各塗布液が随時供給されるよう構成されている。
As a film forming apparatus applied to the mist method as described above, for example, as shown in FIG.
Different coating liquids (in this embodiment, a coating liquid for forming the light emitting layer 20 and two kinds of coating liquids for forming the charge transporting layer (the hole transporting layer 16 or the electron transporting layer)) are transported gases. Mist forming means 52A and 52B for injecting and forming a mist of each coating liquid;
Coating liquid supply means 53A, 53B (for example, comprising a pump, a flow rate control valve and a flow rate measuring device not shown) for supplying a coating liquid to the mist forming means 52A, 52B;
Carrier gas supply means 56A, 56B for transporting the mist formed by the mist forming means 52A, 52B to the mist transport pipes 54A, 54B;
A mist stirring tank 58 for stirring and mixing the mist of each coating solution supplied by the mist transport pipes 54A and 54B;
A mist irradiation nozzle 60 for irradiating the object to be coated 10A with the mist of each of the mixed coating solutions;
A heater 62 for heating the workpiece 10A;
And a holding member 64 for fixing the object to be coated 10A.
In addition, the mist stirring tank 58, the mist irradiation nozzle 60, the heater 62, and the holding member 64 are disposed in a film forming chamber 66 that includes a housing having a gas discharge port 66A.
The coating liquid supply means 53A and 53B are connected to storage containers 55A and 55B for storing the coating liquid, and the coating liquid is supplied to the mist forming means 52A and 52B as needed by the coating liquid supply means 53A and 53B. It is comprised so that.

ここで、ミスト形成手段52A,52Bでは、各塗布液のミストはノズル(図示せず)から搬送ガス中に噴霧して形成される。ミスト形成手段52A,52Bとしては、スプレー法を利用したもの、又はピエゾによる超音波振動子を利用したものなどがあるが、望ましくはピエゾからなる超音波振動子を利用したものが用いられる。ミスト形成手段52A,52Bでは、塗布液の粘度、表面張力及び超音波振動子の振動周波数などにより、ミスト形成量の調整や、ミスト径を例えば0.5μm以上30μm以下とする。   Here, in the mist forming means 52A and 52B, the mist of each coating liquid is formed by spraying into the carrier gas from a nozzle (not shown). As the mist forming means 52A and 52B, there are those using a spray method or those using an ultrasonic vibrator by a piezo. Preferably, those using an ultrasonic vibrator made of a piezo are used. In the mist forming means 52A and 52B, the mist formation amount is adjusted and the mist diameter is set to 0.5 μm or more and 30 μm or less, for example, depending on the viscosity of the coating liquid, the surface tension, the vibration frequency of the ultrasonic vibrator, and the like.

また、ミスト形成手段52A,52Bによるミスト形成過程において、ミスト形成と同時にミストを帯電させてもよい。帯電させる方法としては、例えば、ミスト形成手段52A,52Bのミストを生成するノズル(不図示)中心に電極を設置し、電圧を印加するなどといった手法が採用される。形成された塗布液のミストは、搬送ガス中に浮遊した状態となり、ミスト搬送管54A,54Bによりミスト撹拌槽58に搬送される。ミスト形成手段52A,52Aには、それぞれの搬送ガス供給手段56A,56Aから窒素、アルゴン、ヘリウム等のガスが搬送ガスとして送られる。搬送ガス供給手段56A,56Bは、例えばガスボンベ、ガス圧力調整器、及びガス流量制御器などからなる。   Further, in the mist formation process by the mist forming means 52A and 52B, the mist may be charged simultaneously with the mist formation. As a method for charging, for example, a method is adopted in which an electrode is installed at the center of a nozzle (not shown) for generating mist of the mist forming means 52A, 52B and a voltage is applied. The formed mist of the coating solution floats in the carrier gas and is transferred to the mist stirring tank 58 through the mist transfer pipes 54A and 54B. Gases such as nitrogen, argon and helium are sent as carrier gases from the carrier gas supply means 56A and 56A to the mist forming means 52A and 52A. The carrier gas supply means 56A and 56B include, for example, a gas cylinder, a gas pressure regulator, a gas flow rate controller, and the like.

ミスト形成手段52A,52Bにおいて形成された塗布液のミストは、搬送ガスによってそれぞれミスト搬送管54A,54Aを通り、ミスト撹拌槽58に供給される。ミスト撹拌槽58においては供給された搬送ガスによって対流が起き、異なる塗布液のミストが撹拌、混合される。このとき、異なる塗布液のミストは、同極に帯電しているため、互いに反発し、撹拌により凝集が抑制されて混合される。このミスト撹拌槽58にヒーター等の加熱源を設置してもよい。このヒーターなどの加熱源によりミストを構成する溶媒の一部が蒸発し、塗布液の原料有機材料の濃度が上昇するので、比較的短時間に所望の膜厚が得られやすくなる。   The mist of the coating liquid formed in the mist forming means 52A and 52B is supplied to the mist stirring tank 58 through the mist transport pipes 54A and 54A by the transport gas. In the mist stirring tank 58, convection is caused by the supplied carrier gas, and mists of different coating liquids are stirred and mixed. At this time, since the mists of different coating solutions are charged to the same polarity, they repel each other and are mixed while being agglomerated by stirring. A heating source such as a heater may be installed in the mist stirring tank 58. Since a part of the solvent constituting the mist is evaporated by a heating source such as a heater and the concentration of the raw material organic material of the coating liquid is increased, a desired film thickness can be easily obtained in a relatively short time.

ミスト撹拌槽58にて撹拌された塗布液のミストは、ミスト撹拌槽58の被塗布物10A(被塗布面)方向に向けられて設けた開口部、即ち、ミスト照射ノズル60を通して被塗布物10Aに噴射される。このミスト照射ノズル60は金属メッシュフィルターからなることがよく、この金属メッシュフィルターの開口穴径より大きいミストはここで捕集されるため、ミストの粒径分布を小さくする所謂ミストリファイナーの役割を果たす。また、ミスト照射ノズル60と保持部材64との間に、保持部材64が帯電ミストの対向電荷となるように電圧を印加することにより、ミスト照射ノズル60から噴射される帯電された塗布液のミストが電界によって加速される。よって、塗布液のミストの被塗布物10Aへの堆積レートがコントロールされ、塗布液のミストを加速し短時間に所望の膜厚を得ることや、塗布液のミストの堆積速度を落として平坦性のよい膜が得られる。   The mist of the coating liquid stirred in the mist stirring tank 58 passes through the opening provided in the direction of the coating target 10A (coating surface) of the mist stirring tank 58, that is, the coating target 10A through the mist irradiation nozzle 60. Is injected into. The mist irradiation nozzle 60 is preferably composed of a metal mesh filter, and mist larger than the opening hole diameter of the metal mesh filter is collected here, so that it functions as a so-called misrefiner for reducing the particle size distribution of the mist. . Further, by applying a voltage between the mist irradiation nozzle 60 and the holding member 64 so that the holding member 64 becomes a counter charge of the charging mist, the mist of the charged coating liquid sprayed from the mist irradiation nozzle 60 is applied. Is accelerated by the electric field. Therefore, the deposition rate of the coating liquid mist on the object to be coated 10A is controlled, the coating liquid mist is accelerated to obtain a desired film thickness in a short time, and the coating liquid mist deposition rate is lowered to achieve flatness. A good film can be obtained.

上記ミスト法において、例えば、塗布液のミストの粒径は0.5μm以上30μm以下であることがよく、これにより塗布液のミストの体積に対する表面積の割合が大きくなり、大気中の溶媒沸点より低い温度で溶媒が気化しやすくなる。そのため、被塗布物10Aを加熱ヒーター62で加熱しておくことにより、塗布液のミストの被塗布物10Aへの付着と同時に溶媒が気化し、下層となる層(有機化合物層)への溶解を抑制しつつ、膜(層)の積層がなされる。また、ミスト化した塗布液(原料有機材料)を被塗布物10Aに堆積することにより、任意の膜厚を得やすく、製造装置構成も真空蒸着機よりも高価な構成とならず、比較的安価なものである。また、複数のミスト発生源を組み合わせることで連続的に、効率よく、異なる塗布液が混合された混合層(中間層18A,18B)の形成が実現される。   In the mist method, for example, the particle size of the mist of the coating solution is preferably 0.5 μm or more and 30 μm or less, and this increases the ratio of the surface area to the mist volume of the coating solution, which is lower than the boiling point of the solvent in the atmosphere. The solvent tends to vaporize at temperature. Therefore, by heating the object to be coated 10A with the heater 62, the solvent evaporates at the same time as the mist of the coating liquid adheres to the object to be coated 10A and dissolves in the lower layer (organic compound layer). While suppressing, the film (layer) is laminated. Further, by depositing a mist-like coating liquid (raw material organic material) on the object to be coated 10A, it is easy to obtain an arbitrary film thickness, and the configuration of the manufacturing apparatus is not more expensive than the vacuum evaporation machine, and is relatively inexpensive Is something. Further, by combining a plurality of mist generating sources, formation of mixed layers (intermediate layers 18A and 18B) in which different coating liquids are mixed continuously and efficiently is realized.

上記ミスト法において、中間層18A,18Bを形成する際、2種の塗布液のミストの堆積レートを互いに変化させ、上層・下層との界面を形成させないように形成してもよい。具体的には、例えば、下層を形成するための塗布液のミストをミスト撹拌槽58に導入して、ミスト照射ノズル60より照射して下層を形成した後、継続して当該塗布液のミストをミスト撹拌槽58へ導入しながら、上層を形成するための塗布液のミストを前者とは異なるミスト搬送管よりミスト撹拌槽58に徐々に導入して混合し、連続的に混合した塗布液のミストを被塗布物10A(下層)に照射することで中間混合層を形成する。次いで、徐々にミスト撹拌槽58への下層を形成するための塗布液のミストの導入を減少させ、照射する塗布液のミスト中の下層を形成するための塗布液(原料有機材料)のミストの割合を減少させていき、最終的に照射ミストの組成を上層を形成するための塗布液のミストのみとして中間層18A,18Bを形成し、そのまま上層の形成を行う。これにより、中間層18A,18Bが、下層を形成するための塗布液(原料有機材料)と上層を形成するための塗布液(原料有機材料)との割合が厚み方向に連続的に傾斜した組成(傾斜組成)となり、上層・下層と中間層18A,18Bとの明確な界面形成が抑制される。   In the mist method, when the intermediate layers 18A and 18B are formed, the deposition rates of the mists of the two coating solutions may be changed so as not to form an interface between the upper layer and the lower layer. Specifically, for example, after the mist of the coating liquid for forming the lower layer is introduced into the mist stirring tank 58 and irradiated from the mist irradiation nozzle 60 to form the lower layer, the mist of the coating liquid is continuously applied. While introducing into the mist stirring tank 58, the mist of the coating liquid for forming the upper layer is gradually introduced and mixed into the mist stirring tank 58 from a mist transport pipe different from the former, and the mist of the coating liquid is continuously mixed. Is applied to the object to be coated 10A (lower layer) to form an intermediate mixed layer. Next, the mist of the coating liquid for forming the lower layer in the mist stirring tank 58 is gradually reduced, and the mist of the coating liquid (raw material organic material) for forming the lower layer in the mist of the coating liquid to be irradiated is reduced. The ratio is decreased, and the intermediate layers 18A and 18B are formed with the composition of the irradiation mist only as the mist of the coating solution for forming the upper layer, and the upper layer is formed as it is. Accordingly, the intermediate layers 18A and 18B have compositions in which the ratio of the coating liquid (raw material organic material) for forming the lower layer and the coating liquid (raw material organic material) for forming the upper layer is continuously inclined in the thickness direction. (Gradient composition), and the formation of a clear interface between the upper and lower layers and the intermediate layers 18A and 18B is suppressed.

なお、上記ミスト法では、2種の塗布液を利用して中間層18A,18Bを形成する場合を説明したが、無論、1種の塗布液を利用して他の層を形成する場合に適用してもよい。これにより、連続的に、効率よく、中間層18A,18Bや、他の層(発光層20、電荷輸送層)が形成される。   In the above mist method, the case where the intermediate layers 18A and 18B are formed using two types of coating liquids has been described. Of course, the method is applied to the case where other layers are formed using one type of coating liquid. May be. Thereby, the intermediate layers 18A and 18B and other layers (the light emitting layer 20 and the charge transport layer) are continuously and efficiently formed.

ここで、塗布液を霧状に噴霧する手法や、塗布液の霧状物(ミスト)を生成して、これを堆積させるミスト法において、用いる塗布液の溶剤としては、原料有機材料(発光材料、電荷輸送材料等)を溶解させるものであることがよく、且つ上述の如く、揮発性の有機溶剤であることがよい。この有機溶剤として代表的なものは、例えば、2−メチル−1−プロパノール、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。   Here, in the technique of spraying the coating liquid in the form of a mist or the mist method of generating and depositing a mist of the coating liquid (mist), the solvent of the coating liquid used is a raw material organic material (light emitting material) , A charge transporting material, etc.) and a volatile organic solvent as described above. Typical examples of the organic solvent include 2-methyl-1-propanol, benzene, toluene, tetrahydrofuran and the like.

塗布液を霧状に噴霧する手法や、塗布液の霧状物(ミスト)を生成して、これを堆積させるミスト法により形成される各層の膜厚は、例えば、0.5nm以上1000nm以下、望ましくは10nm以上500nm以下である。   The film thickness of each layer formed by the method of spraying the coating liquid in the form of a mist or the mist method of generating a mist (mist) of the coating liquid and depositing it is 0.5 nm or more and 1000 nm or less, for example, Desirably, it is 10 nm or more and 500 nm or less.

以下実施例によって本発明を説明する。なお、本発明はこれらの実施例によってのみ限定されるものではない。   The following examples illustrate the invention. In addition, this invention is not limited only by these Examples.

[実施例A]
本実施例では、以下に示すようにスプレー法を利用して有機電界発光素子を作製する例を示す。
[Example A]
In this example, an example in which an organic electroluminescent element is manufactured using a spray method as described below will be described.

(実施例A1)
ガラス基板(透明絶縁体基板)上に、ITO電極(透明電極)が幅2mmの短冊状にパターニングされた基板を準備し、これを中性洗剤、アセトン、イソプロピルアルコールを用いて洗浄した。
次に、基板表面を、紫外線/オゾン(UV/O)洗浄した後、3,4−エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)をスピンコーティング法により3000rpmで60秒間塗布し、膜厚10nmの正孔注入層を形成した。
次に、下記化合物A[重量平均分子量Mw=5.0×10]の0.8重量%モノクロロベンゼン溶液を、正孔注入層が形成された基板上にスプレー法により塗布することで膜厚50nmの正孔輸送層を形成した。
次に、下記化合物Aの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液と、下記化合物B[重量平均分子量Mw=6×10]の0.8重量%モノクロロベンゼン溶液を、それぞれ異なるノズルから同時にスプレー法により、正孔輸送層が形成された基板上に塗布(各溶液(塗布液)の噴霧量比(重量比)は下記化合物A:下記化合物B=1:1)することで膜厚15nmの中間層を形成した。
次に、中間層上に、下記化合物Bの0.8重量%トルエン溶液をスプレー法により塗布することで50nmの発光層を形成した。
次に、基板を真空蒸着装置に移し、LiFを5nmの膜厚に成膜する。続けてCaを30nmの膜厚に成膜した後、Alを150nm蒸着して、これら積層体を背面電極とした。
最後にガラス封止して有機電界発光素子を得た。得られた有機電界発光素子の各有機化合物層の断面を観察したところ、それぞれの界面が明確に確認された。
(Example A1)
A substrate on which a ITO electrode (transparent electrode) was patterned in a strip shape having a width of 2 mm was prepared on a glass substrate (transparent insulator substrate), and this was washed with a neutral detergent, acetone, and isopropyl alcohol.
Next, after cleaning the substrate surface with ultraviolet rays / ozone (UV / O 3 ), 3,4-ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) is applied by spin coating at 3000 rpm for 60 seconds to form a film. A hole injection layer having a thickness of 10 nm was formed.
Next, a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the following compound A [weight average molecular weight Mw = 5.0 × 10 4 ] is applied by spraying onto the substrate on which the hole injection layer is formed. A 50 nm hole transport layer was formed.
Next, a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the following compound A and a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the following compound B [weight average molecular weight Mw = 6 × 10 4 ] are simultaneously sprayed from different nozzles, respectively. An intermediate layer having a film thickness of 15 nm is applied on the substrate on which the hole transport layer is formed (the spray amount ratio (weight ratio) of each solution (coating solution) is the following compound A: the following compound B = 1: 1). Formed.
Next, a 50 nm light emitting layer was formed on the intermediate layer by applying a 0.8 wt% toluene solution of the following compound B by a spray method.
Next, the substrate is transferred to a vacuum evaporation apparatus, and LiF is deposited to a thickness of 5 nm. Subsequently, after forming a Ca film with a thickness of 30 nm, Al was vapor-deposited to 150 nm, and these laminates were used as back electrodes.
Finally, glass sealing was performed to obtain an organic electroluminescent element. When the cross section of each organic compound layer of the obtained organic electroluminescent element was observed, each interface was clearly confirmed.

Figure 2010045222
Figure 2010045222

Figure 2010045222
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(実施例A2)
実施例A1と同様の手法で形成した前記化合物Aからなる正孔輸送層上に、前記化合物Aの0.8%モノクロロベンゼン溶液と、下記化合物C重量平均分子量Mw=7.0×10]の0.8重量%モノクロロベンゼン溶液を、それぞれ異なるノズルから同時にスプレー法により塗布(各溶液(塗布液)の噴霧量比(重量比)は前記化合物A:下記化合物C=1:1)することで膜厚15nmの中間層を形成した。
次に、中間層上に、下記化合物Cの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液をスプレーコートすることで50nmの発光層を形成した。
次に、実施例A1と同様に背面電極を形成し、ガラス封止をして有機電界発光素子を得た。得られた有機電界発光素子の有機化合物層の断面を観察したところ、それぞれの界面が明確に確認された。
(Example A2)
On the hole transport layer made of the compound A formed in the same manner as in Example A1, a 0.8% monochlorobenzene solution of the compound A and the following compound C weight average molecular weight Mw = 7.0 × 10 4 ] A 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the above is simultaneously applied from different nozzles by a spray method (the spray amount ratio (weight ratio) of each solution (coating solution) is the above compound A: the following compound C = 1: 1) An intermediate layer having a thickness of 15 nm was formed.
Next, a 50 nm light emitting layer was formed on the intermediate layer by spray coating a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the following compound C.
Next, a back electrode was formed in the same manner as in Example A1, and sealed with glass to obtain an organic electroluminescent element. When the cross section of the organic compound layer of the obtained organic electroluminescent element was observed, each interface was clearly confirmed.

Figure 2010045222
Figure 2010045222

(実施例A3)
ガラス基板(透明絶縁体基板)上に、ITO電極(透明電極)が幅2mmの短冊状にパターニングされた基板を準備し、これを中性洗剤、アセトン、イソプロピルアルコールを用いて洗浄した。
次に、基板表面を、紫外線/オゾン(UV/O)洗浄した後、3,4−エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)をスピンコーティング法により3000rpmで60秒間塗布し、膜厚10nmの正孔注入層を形成した。
次に、前記化合物Aの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液をスプレー法により塗布することで50nmの正孔輸送層を形成した。
次に、前記化合物Cの0.8%モノクロロベンゼン溶液をスプレー法により塗布することで50nmの発光層を形成した。
次に、前記化合物Cの0.8%モノクロロベンゼン溶液と、下記化合物Dの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液を、それぞれ異なるノズルから同時にスプレー法により、発光層が形成された基板上に塗布(各溶液(塗布液)の噴霧量比(重量比)は前記化合物C:下記化合物D=1:1)することで膜厚15nmの中間層を形成した。
次に、下記化合物Dの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液をスプレー法により塗布することで膜厚10nmの電子輸送層を形成した。
次に、実施例A1と同様に背面電極を形成し、ガラス封止をして有機電界発光素子を得た。得られた有機電界発光素子の有機化合物層の断面を観察したところ、それぞれの界面が明確に確認された。
(Example A3)
A substrate on which a ITO electrode (transparent electrode) was patterned in a strip shape having a width of 2 mm was prepared on a glass substrate (transparent insulator substrate), and this was washed with a neutral detergent, acetone, and isopropyl alcohol.
Next, after cleaning the substrate surface with ultraviolet rays / ozone (UV / O 3 ), 3,4-ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) was applied by spin coating at 3000 rpm for 60 seconds to form a film. A hole injection layer having a thickness of 10 nm was formed.
Next, a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of Compound A was applied by a spray method to form a 50 nm hole transport layer.
Next, a 0.8% monochlorobenzene solution of Compound C was applied by a spray method to form a 50 nm light emitting layer.
Next, a 0.8% monochlorobenzene solution of the compound C and a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the following compound D are simultaneously applied from different nozzles to the substrate on which the light emitting layer is formed by spraying ( The spray amount ratio (weight ratio) of each solution (coating liquid) was the compound C: the following compound D = 1: 1, thereby forming an intermediate layer having a film thickness of 15 nm.
Next, an electron transport layer having a thickness of 10 nm was formed by applying a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the following compound D by a spray method.
Next, a back electrode was formed in the same manner as in Example A1, and sealed with glass to obtain an organic electroluminescent element. When the cross section of the organic compound layer of the obtained organic electroluminescent element was observed, each interface was clearly confirmed.

Figure 2010045222
Figure 2010045222

(実施例A4)
ガラス基板(透明絶縁体基板)上に、ITO電極(透明電極)が幅2mmの短冊状にパターニングされた基板を準備し、これを中性洗剤、アセトン、イソプロピルアルコールを用いて洗浄した。
次に、基板表面を、紫外線/オゾン(UV/O)洗浄した後、ポリアニリンの1.0重量%トルエン溶液を、基板上にスプレー法で塗布することで膜厚5nmの正孔注入層を形成した。
次に、ポリアニリンの1.0重量%トルエン溶液と、前記化合物Aの0.8重量%トルエン溶液を、それぞれ異なるノズルから同時にスプレー法により塗布し、正孔注入層が形成された基板上に塗布(各溶液(塗布液)の噴霧量比(重量比)はポリアニリン:前記化合物A=0.3:1)することで膜厚10nmの中間層を形成した。
次に、中間層上に、前記化合物Aの0.8重量%トルエン溶液をスプレー法により塗布することで膜厚40nmの正孔輸送層を形成した。
次に、前記化合物Cの0.8重量%トルエン溶液をスプレー法により塗布することで膜厚50nmの発光層を形成した。
次に、実施例A1と同様に背面電極を形成し、ガラス封止をして有機電界発光素子を得た。得られた有機電界発光素子の有機化合物層の断面を観察したところ、それぞれの界面が明確に確認された。
(Example A4)
A substrate on which a ITO electrode (transparent electrode) was patterned in a strip shape having a width of 2 mm was prepared on a glass substrate (transparent insulator substrate), and this was washed with a neutral detergent, acetone, and isopropyl alcohol.
Next, after cleaning the surface of the substrate with ultraviolet rays / ozone (UV / O 3 ), a 1.0 wt% toluene solution of polyaniline is applied onto the substrate by a spray method to form a hole injection layer having a thickness of 5 nm. Formed.
Next, a 1.0 wt% toluene solution of polyaniline and a 0.8 wt% toluene solution of compound A were simultaneously applied from different nozzles by a spray method, and applied onto the substrate on which the hole injection layer was formed. (The spray amount ratio (weight ratio) of each solution (coating solution) was polyaniline: compound A = 0.3: 1) to form an intermediate layer having a thickness of 10 nm.
Next, a hole transport layer having a thickness of 40 nm was formed on the intermediate layer by applying a 0.8 wt% toluene solution of the compound A by a spray method.
Next, a 0.8 wt% toluene solution of the compound C was applied by a spray method to form a light emitting layer having a thickness of 50 nm.
Next, a back electrode was formed in the same manner as in Example A1, and sealed with glass to obtain an organic electroluminescent element. When the cross section of the organic compound layer of the obtained organic electroluminescent element was observed, each interface was clearly confirmed.

(比較例A1)
実施例A1と同様の手法で形成したPEDOT/PSSの正孔注入層上に、前記化合物Aの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液をスピンコーティング法により塗布し、窒素雰囲気中130℃で30分間焼成することで正孔輸送層を形成した。
その後、前記化合物Bの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液をスピンコーティング法により塗布し、窒素雰囲気中130℃で30分間焼成することで発光層を形成した。
次に、実施例A1と同様に背面電極を形成し、ガラス封止をして有機電界発光素子を得た。
素子の断面を観察したところ、前記化合物Bのモノクロロベンゼン溶液を塗布したことで前記化合物Aの正孔輸送層が溶解していることが確認された。
(Comparative Example A1)
On the PEDOT / PSS hole injection layer formed in the same manner as in Example A1, a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of Compound A was applied by spin coating and baked at 130 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere. As a result, a hole transport layer was formed.
Thereafter, a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the compound B was applied by a spin coating method and baked at 130 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere to form a light emitting layer.
Next, a back electrode was formed in the same manner as in Example A1, and sealed with glass to obtain an organic electroluminescent element.
When the cross section of the element was observed, it was confirmed that the hole transport layer of Compound A was dissolved by applying a monochlorobenzene solution of Compound B.

(比較例A2)
実施例A1において、正孔輸送層と発光層の間に中間層を形成せず、それ以外は実施例1と同様の有機電界発光素子を作製した。得られた有機電界発光素子の有機化合物層の断面を観察したところ、それぞれの界面が明確に確認された。
(Comparative Example A2)
In Example A1, an organic electroluminescent element was produced in the same manner as in Example 1 except that no intermediate layer was formed between the hole transport layer and the light emitting layer. When the cross section of the organic compound layer of the obtained organic electroluminescent element was observed, each interface was clearly confirmed.

(評価)
作製した有機電界発光素子において、輝度半減寿命を測定した。比較例A1の輝度半減寿命を1とした場合の相対輝度半減寿命を表1に示す。
(Evaluation)
The luminance half-life of the produced organic electroluminescent device was measured. Table 1 shows the relative luminance half-life when the luminance half-life of Comparative Example A1 is 1.

なお、輝度半減寿命(初期輝度から輝度半減に至る時間)は、初期輝度が50cd/mとなるように電流値を設定し、定電流駆動により輝度が初期値から半減するまでの時間を輝度半減寿命(hr)とした。 Note that the luminance half-life (the time from the initial luminance to the luminance halving) is set so that the initial luminance is 50 cd / m 2, and the time until the luminance is halved from the initial value by constant current driving is the luminance. The half life (hr) was used.

Figure 2010045222
Figure 2010045222

表1に示すように、スピンコーティング法により成膜した比較例A1に比べ、スプレー法により成膜した実施例A1、A2、A3、A4及び比較例A2の方が寿命は3倍から5倍長くなった。また、中間層を形成した実施例A1、A2、A3、A4については、中間層を形成しなかった比較例A2よりも寿命が長くなった。   As shown in Table 1, the lifetimes of Examples A1, A2, A3, A4 and Comparative Example A2 formed by the spray method are 3 to 5 times longer than Comparative Example A1 formed by the spin coating method. became. Moreover, about Example A1, A2, A3, A4 which formed the intermediate | middle layer, the lifetime became long rather than the comparative example A2 which did not form an intermediate | middle layer.

[実施例B]
本実施例では、以下に示すようにミスト法を利用して有機電界発光素子を作製する例を示す。
[Example B]
In this example, an example in which an organic electroluminescent element is manufactured using a mist method as described below is shown.

(実施例B1)
ガラス基板(透明絶縁性基板)上に、ITO電極(透明電極)が幅2mmの短冊状にパターニングされた基板を準備し、これを中性洗剤、アセトン、イソプロピルアルコールを用いて洗浄した。
次に、基板表面を、紫外線/オゾン(UV/O)洗浄した後、3,4−エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)をスピンコーティング法により3000rpmで60秒間塗布し、膜厚10nmの正孔注入層を形成した。
次に、前記化合物A[重量平均分子量Mw=5.0×10]の0.8重量%モノクロロベンゼン溶液をミスト化し、ミスト照射ノズルから正孔注入層が形成された基板上に一面に照射することで膜厚50nmの正孔輸送層を形成した。
次に、前記化合物Aの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液と、前記化合物B[重量平均分子量Mw=6.0×10]の0.8重量%モノクロロベンゼン溶液を、それぞれ異なるミスト発生源にてミスト化し、ミスト撹拌槽に導入して撹拌・混合した後(各溶液(塗布液)の混合比(重量比)前記化合物A:前記化合物B=1:1)、ミスト照射ノズルから正孔輸送層が形成された基板上に一面に照射することで膜厚15nmの中間層を形成した。
次に、中間層上に、前記化合物Bの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液をミスト化して、ミストを照射することで50nmの発光層を形成した。
次に、基板を真空蒸着装置に移し、LiFを5nmの膜厚に成膜する。続けてCaを30nmの膜厚に成膜した後、Alを150nm蒸着して、これら積層体を背面電極とした。
最後にガラス封止して有機電界発光素子を得た。得られた有機電界発光素子の有機層の断面を観察したところ、それぞれの界面が明確に確認された。
(Example B1)
A substrate on which a ITO electrode (transparent electrode) was patterned in a strip shape having a width of 2 mm was prepared on a glass substrate (transparent insulating substrate), and this was washed with a neutral detergent, acetone, and isopropyl alcohol.
Next, after cleaning the substrate surface with ultraviolet rays / ozone (UV / O 3 ), 3,4-ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) is applied by spin coating at 3000 rpm for 60 seconds to form a film. A hole injection layer having a thickness of 10 nm was formed.
Next, a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the compound A [weight average molecular weight Mw = 5.0 × 10 4 ] is made into a mist and irradiated onto the entire surface of the substrate on which the hole injection layer is formed from the mist irradiation nozzle. As a result, a hole transport layer having a thickness of 50 nm was formed.
Next, a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the compound A and a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the compound B [weight average molecular weight Mw = 6.0 × 10 4 ] are respectively used as different mist generation sources. After being converted into mist, introduced into a mist stirring tank and stirred and mixed (mixing ratio (weight ratio) of each solution (coating solution): Compound A: Compound B = 1: 1), hole transport from the mist irradiation nozzle An intermediate layer having a thickness of 15 nm was formed by irradiating the entire surface of the substrate on which the layer was formed.
Next, on the intermediate layer, a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the compound B was misted and irradiated with mist to form a 50 nm light emitting layer.
Next, the substrate is transferred to a vacuum evaporation apparatus, and LiF is deposited to a thickness of 5 nm. Subsequently, after forming a Ca film with a thickness of 30 nm, Al was vapor-deposited to 150 nm, and these laminates were used as back electrodes.
Finally, glass sealing was performed to obtain an organic electroluminescent element. When the cross section of the organic layer of the obtained organic electroluminescent element was observed, each interface was clearly confirmed.

(実施例B2)
実施例B1と同様の手法で形成した前記化合物Aの正孔輸送層上に、前記化合物Aの0.8%モノクロロベンゼン溶液と、前記化合物C[重量平均分子量Mw=7.0×10]の0.8%モノクロロベンゼン溶液を、それぞれ異なるミスト発生源にてミスト化し、ミスト撹拌槽に導入して撹拌・混合した後(各溶液(塗布液)の混合比(重量比)は前記化合物A:前記化合物C=1:1)、ミスト照射ノズルから一面に照射することで膜厚15nmの中間層を形成した。
次に、中間層上に前記化合物Cの0.8%モノクロロベンゼン溶液をミスト化し、照射することで50nmの発光層を形成した。
次に、実施例B1と同様に背面電極を形成し、ガラス封止をして有機電界発光素子を得た。得られた有機電界発光素子の有機層の断面を観察したところ、それぞれの界面が明確に確認された。
(Example B2)
A 0.8% monochlorobenzene solution of the compound A and the compound C [weight average molecular weight Mw = 7.0 × 10 4 ] on the hole transport layer of the compound A formed by the same method as in Example B1. The 0.8% monochlorobenzene solution of each was misted at different mist generation sources, introduced into a mist stirring tank, stirred and mixed (the mixing ratio (weight ratio) of each solution (coating solution) was the above compound A) : Compound C = 1: 1), an intermediate layer having a film thickness of 15 nm was formed by irradiating one surface from a mist irradiation nozzle.
Next, a 0.8% monochlorobenzene solution of Compound C was misted on the intermediate layer and irradiated to form a 50 nm light emitting layer.
Next, a back electrode was formed in the same manner as in Example B1, and sealed with glass to obtain an organic electroluminescent element. When the cross section of the organic layer of the obtained organic electroluminescent element was observed, each interface was clearly confirmed.

(実施例B3)
ガラス基板(透明絶縁体基板)上に、ITO電極(透明電極)が幅2mmの短冊状にパターニングされた基板を準備し、これを中性洗剤、アセトン、イソプロピルアルコールを用いて洗浄した。
次に、基板表面を、紫外線/オゾン(UV/O)洗浄した後、3,4−エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)をスピンコーティング法により3000rpmで60秒間塗布し、膜厚10nmの正孔注入層を形成した。
次に、前記化合物Aの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液をミスト化し、ミスト照射ノズルから正孔注入層が形成された基板上に一面に照射することで50nmの正孔輸送層を形成した。
次に、前記化合物Cの0.8%モノクロロベンゼン溶液をミスト化し、ミスト照射ノズルから基板上に照射することで50nmの発光層を形成した。
次に、前記化合物Cの0.8%モノクロロベンゼン溶液と、前記化合物Dの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液を、それぞれ異なるミスト発生源にてミスト化し、ミスト撹拌槽に導入して撹拌・混合した後(各溶液(塗布液)の噴霧量比(重量比)前記化合物C:前記化合物D=1:1)、ミスト照射ノズルから発光層が形成された基板上に一面に照射することで膜厚15nmの中間層を形成した。
次に、前記化合物Dの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液をミスト化し、ミスト照射ノズルから基板上に照射することで膜厚10nmの電子輸送層を形成した。
次に、実施例B1と同様に背面電極を形成し、ガラス封止をして有機電界発光素子を得た。得られた有機電界発光素子の有機化合物層の断面を観察したところ、それぞれの界面が明確に確認された。
(Example B3)
A substrate on which a ITO electrode (transparent electrode) was patterned in a strip shape having a width of 2 mm was prepared on a glass substrate (transparent insulator substrate), and this was washed with a neutral detergent, acetone, and isopropyl alcohol.
Next, after cleaning the substrate surface with ultraviolet rays / ozone (UV / O 3 ), 3,4-ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) is applied by spin coating at 3000 rpm for 60 seconds to form a film. A hole injection layer having a thickness of 10 nm was formed.
Next, a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of Compound A was made into a mist, and a hole transport layer having a thickness of 50 nm was formed by irradiating the entire surface of the substrate on which the hole injection layer was formed from a mist irradiation nozzle.
Next, a 0.8% monochlorobenzene solution of the compound C was misted and irradiated onto the substrate from a mist irradiation nozzle to form a 50 nm light emitting layer.
Next, the 0.8% monochlorobenzene solution of the compound C and the 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the compound D are misted in different mist generation sources, introduced into a mist stirring tank, and stirred and mixed. (Spraying amount ratio (weight ratio) of each solution (coating solution): Compound C: Compound D = 1: 1), and then irradiating the entire surface of the substrate on which the light emitting layer is formed from the mist irradiation nozzle. An intermediate layer having a thickness of 15 nm was formed.
Next, a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the compound D was misted and irradiated onto the substrate from a mist irradiation nozzle to form an electron transport layer having a thickness of 10 nm.
Next, a back electrode was formed in the same manner as in Example B1, and sealed with glass to obtain an organic electroluminescent element. When the cross section of the organic compound layer of the obtained organic electroluminescent element was observed, each interface was clearly confirmed.

(実施例A4)
ガラス基板(透明絶縁体基板)上に、ITO電極(透明電極)が幅2mmの短冊状にパターニングされた基板を準備し、これを中性洗剤、アセトン、イソプロピルアルコールを用いて洗浄した。
次に、基板表面を、紫外線/オゾン(UV/O)洗浄した後、ポリアニリンの1.0重量%トルエン溶液をミスト化し、基板上に照射することで膜厚5nmの正孔注入層を形成した。
次に、ポリアニリンの1.0重量%トルエン溶液と、前記化合物Aの0.8重量%トルエン溶液を、それぞれ異なるミスト発生源にてミスト化し、ミスト撹拌槽に導入して撹拌・混合した後(各溶液(塗布液)の噴霧量比(重量比)はポリアニリン:前記化合物A=0.3:1)、ミスト照射ノズルから正孔注入層が形成された基板上に一面に照射することで膜厚10nmの中間層を形成した。
次に、中間層上に、前記化合物Aの0.8重量%トルエン溶液をスプレー法により塗布することで膜厚40nmの正孔輸送層を形成した。
次に、前記化合物Cの0.8重量%トルエン溶液をミスト化し、ミスト照射ノズルから基板上に照射することで50nmの発光層を形成した。
次に、実施例A1と同様に背面電極を形成し、ガラス封止をして有機電界発光素子を得た。得られた有機電界発光素子の有機化合物層の断面を観察したところ、それぞれの界面が明確に確認された。
(Example A4)
A substrate on which a ITO electrode (transparent electrode) was patterned in a strip shape having a width of 2 mm was prepared on a glass substrate (transparent insulator substrate), and this was washed with a neutral detergent, acetone, and isopropyl alcohol.
Next, after cleaning the surface of the substrate with ultraviolet rays / ozone (UV / O 3 ), a 1.0 wt% toluene solution of polyaniline is misted and irradiated onto the substrate to form a hole injection layer having a thickness of 5 nm. did.
Next, a 1.0 wt% toluene solution of polyaniline and a 0.8 wt% toluene solution of compound A are misted in different mist generation sources, introduced into a mist stirring tank, and stirred and mixed ( The spray amount ratio (weight ratio) of each solution (coating solution) is polyaniline: compound A = 0.3: 1), and the film is formed by irradiating the entire surface of the substrate on which the hole injection layer is formed from the mist irradiation nozzle. An intermediate layer having a thickness of 10 nm was formed.
Next, a hole transport layer having a thickness of 40 nm was formed on the intermediate layer by applying a 0.8 wt% toluene solution of the compound A by a spray method.
Next, a 0.8 wt% toluene solution of the compound C was misted and irradiated onto the substrate from a mist irradiation nozzle to form a 50 nm light emitting layer.
Next, a back electrode was formed in the same manner as in Example A1, and sealed with glass to obtain an organic electroluminescent element. When the cross section of the organic compound layer of the obtained organic electroluminescent element was observed, each interface was clearly confirmed.

(比較例B1)
実施例B1と同様の手法で形成したPEDOT/PSSの正孔注入層上に、前記化合物Aの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液をスピンコーティング法により塗布し、窒素雰囲気中130℃で30分間焼成することで正孔輸送層を形成した。
その後、前記化合物Bの0.8重量%モノクロロベンゼン溶液をスピンコーティング法により塗布し、窒素雰囲気中130℃で30分間焼成することで発光層を形成した。
次に、実施例B1と同様に背面電極を形成し、ガラス封止をして有機電界発光素子を得た。
素子の断面を観察したところ、前記化合物Bのモノクロロベンゼン溶液を塗布したことで前記化合物Aの正孔輸送層が溶解していることが確認された。
(Comparative Example B1)
On the PEDOT / PSS hole injection layer formed in the same manner as in Example B1, a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of Compound A was applied by spin coating, and baked at 130 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere. As a result, a hole transport layer was formed.
Thereafter, a 0.8 wt% monochlorobenzene solution of the compound B was applied by a spin coating method and baked at 130 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere to form a light emitting layer.
Next, a back electrode was formed in the same manner as in Example B1, and sealed with glass to obtain an organic electroluminescent element.
When the cross section of the element was observed, it was confirmed that the hole transport layer of Compound A was dissolved by applying a monochlorobenzene solution of Compound B.

(比較例B2)
実施例B1において、正孔輸送層と発光層の間に中間層を形成せず、それ以外は実施例B1と同様の有機電界発光素子を作製した。得られた有機電界発光素子の有機層の断面を観察したところ、それぞれの界面が明確に確認された。
(Comparative Example B2)
In Example B1, an organic electroluminescent element was produced in the same manner as in Example B1, except that no intermediate layer was formed between the hole transport layer and the light emitting layer. When the cross section of the organic layer of the obtained organic electroluminescent element was observed, each interface was clearly confirmed.

(評価)
作製した有機電界発光素子において、輝度半減寿命を測定した。比較例B1の輝度半減寿命を1とした場合の相対輝度半減寿命を表2に示す。
(Evaluation)
The luminance half-life of the produced organic electroluminescent device was measured. Table 2 shows the relative luminance half-life when the luminance half-life of Comparative Example B1 is 1.

Figure 2010045222
Figure 2010045222

表2に示すように、スピンコーティング法により成膜した比較例B1に比べ、ミスト成膜した実施例B1、2、3、4及び比較例B2の方が寿命は3倍から5倍長くなった。また、中間層を形成した実施例B1、2、3、4については、中間層を形成しなかった比較例B2よりも寿命が長くなった。   As shown in Table 2, the lifetimes of Examples B1, 2, 3, 4 and Comparative Example B2 formed with mist were 3 to 5 times longer than those of Comparative Example B1 formed by spin coating. . Moreover, about Example B1, 2, 3, 4 which formed the intermediate | middle layer, the lifetime became longer than comparative example B2 which did not form an intermediate | middle layer.

実施形態に係る有機電界発光素子を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the organic electroluminescent element which concerns on embodiment. 他の実施形態に係る有機電界発光素子を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the organic electroluminescent element which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る有機電界発光素子を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the organic electroluminescent element which concerns on other embodiment. 実施形態に係る有機電界発光素子の製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of the organic electroluminescent element which concerns on embodiment. ミスト法に適用される成膜装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the film-forming apparatus applied to a mist method.

符号の説明Explanation of symbols

10 透明絶縁体基板
10A 被塗布物
12 透明電極
14 正孔注入層
16 正孔輸送層
18A,18B 中間層
20 発光層
22 電子輸送層
24 背面電極
30 電圧印加装置
40,42,44 ノズル
52A,52B ミスト形成手段
53A,53B 塗布液供給手段
54A,54B ミスト搬送管
55A,55B 貯蔵容器
56A,56B 搬送ガス供給手段
58 ミスト撹拌槽
60 ミスト照射ノズル
62 加熱ヒーター
64 保持部材
66 成膜室
66A ガス排出口
100 有機電界発光素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transparent insulator board | substrate 10A To-be-coated object 12 Transparent electrode 14 Hole injection layer 16 Hole transport layer 18A, 18B Intermediate | middle layer 20 Light emitting layer 22 Electron transport layer 24 Back electrode 30 Voltage application apparatus 40, 42, 44 Nozzle 52A, 52B Mist forming means 53A, 53B Coating liquid supply means 54A, 54B Mist transport pipes 55A, 55B Storage containers 56A, 56B Transport gas supply means 58 Mist stirring tank 60 Mist irradiation nozzle 62 Heater 64 Holding member 66 Film forming chamber 66A Gas outlet 100 Organic electroluminescent device

Claims (3)

少なくとも一方が透明又は半透明である陽極及び陰極よりなる一対の電極と、
前記一対の電極の間に配設される第1有機化合物層と、
前記一対の電極の間に配設される第2有機化合物層と、
前記第1有機化合物層と前記第2有機化合物層とに挟まれて配設され、前記第1有機化合物層を構成する材料と前記第2有機化合物層を構成する材料とを含んで構成される中間層と、
を有することを特徴とする有機電界発光素子。
A pair of electrodes consisting of an anode and a cathode, at least one of which is transparent or translucent,
A first organic compound layer disposed between the pair of electrodes;
A second organic compound layer disposed between the pair of electrodes;
It is disposed between the first organic compound layer and the second organic compound layer, and includes a material constituting the first organic compound layer and a material constituting the second organic compound layer. The middle layer,
An organic electroluminescent device comprising:
前記第1有機化合物層が発光層であり、
前記第2有機化合物層が電荷輸送層であり、
前記中間層が、前記発光層を構成する材料と前記電荷輸送層を構成する材料とを含んで構成される中間層である、
ことを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。
The first organic compound layer is a light emitting layer;
The second organic compound layer is a charge transport layer;
The intermediate layer is an intermediate layer configured to include a material constituting the light emitting layer and a material constituting the charge transport layer,
The organic electroluminescent element according to claim 1.
マトリックス状及びセグメント状の少なくとも一方で配列された、請求項1又は2に記載の有機電界発光素子と、
前記有機電界発光素子を駆動する駆動手段と、
を備えることを特徴とする表示装置。
The organic electroluminescence device according to claim 1 or 2, arranged in at least one of a matrix shape and a segment shape,
Driving means for driving the organic electroluminescent element;
A display device comprising:
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