JP2003075355A - Device for inspecting defect - Google Patents

Device for inspecting defect

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JP2003075355A
JP2003075355A JP2001268723A JP2001268723A JP2003075355A JP 2003075355 A JP2003075355 A JP 2003075355A JP 2001268723 A JP2001268723 A JP 2001268723A JP 2001268723 A JP2001268723 A JP 2001268723A JP 2003075355 A JP2003075355 A JP 2003075355A
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JP
Japan
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inspection
light
defect
photoelectric conversion
mask
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001268723A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Wakita
武 脇田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To precisely detect defects of various kinds of inspected specimens. SOLUTION: A film 16 of the inspected specimen is irradiated with a light beam 17 by a projector 10. The light beam transmitted through the film 16 is photoreceived by a photoreceiver 20. A slit plate 22 and a lens 23 with a mask are provided in front of the photoreceiver 20. They are positioned selectively in a photoreceiving window 20c of the photoreceiver 20 by a shift mechanism 25. A mask photoreceiving system by the lens 23 with the mask or a slit photoreceiving system by the slit plate 22 gets selectable thereby. Which photoreceiving system a corresponding form belongs to is determined by a from specifying part 40, based on a form signal, and the shift mechanism 25 is operated to be brought into the photoreceiving system. The optimum photoreceiving system is selected in response to the form of the inspected specimen to detect the defect precisely.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は欠陥検査装置に関
し、特に、被検査体に検査光を照射し、この照射した検
査光を光電変換手段で光電変換し、この光電変換手段の
出力信号に基づき被検査体の欠陥を検査する欠陥検査装
置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a defect inspection apparatus, and more particularly to irradiating an inspection object with inspection light, photoelectrically converting the irradiated inspection light by photoelectric conversion means, and based on an output signal of the photoelectric conversion means. The present invention relates to a defect inspection device for inspecting a defect of an inspection object.

【0002】[0002]

【従来の技術】走行しているウェブ等の被検査体にレー
ザー等の光ビームを照射してその透過光もしくは反射光
を受光器に入射させ、ウェブに存在する各種の欠陥を受
光器からの光電変換出力に基づいて評価する装置が提供
されている(例えば特開昭59−220636号公報、
特開平6−207910号公報、特開平8−26194
9号公報)。
2. Description of the Related Art An object to be inspected such as a running web is irradiated with a light beam such as a laser and its transmitted light or reflected light is incident on a light receiver to detect various defects existing on the web from the light receiver. An apparatus for evaluating based on photoelectric conversion output is provided (for example, JP-A-59-220636).
JP-A-6-207910, JP-A-8-26194
No. 9).

【0003】こうしたウェブの欠陥検査装置は、スリッ
ト状の受光窓を通して正常光だけを受光器に入射させ、
その出力変動により欠陥の検出を行うスリット受光方式
と、正常光をマスクで遮蔽し、異常光だけを受光器に入
射させてその出力増大により欠陥の検出を行うマスク受
光方式の2種に大別される。前者の方式は、汚れや異
物、さらにはピンホール等のように、光ビームに濃度変
化を与えるような欠陥(濃度欠陥)が被検査体に存在し
ているときに有効な検査方式であり、また後者の方式
は、色なしの異物や傷等のように、光ビームを散乱させ
るような欠陥が被検査体に存在しているときに有効な検
査方式である。
Such a defect inspection apparatus for a web allows only normal light to enter a light receiver through a slit-shaped light receiving window,
It is roughly divided into two types: a slit light receiving method that detects defects by the output fluctuation and a mask light receiving method that masks normal light with a mask and allows only abnormal light to enter the light receiver and detects defects by increasing its output. To be done. The former method is an effective inspection method when a defect (concentration defect) such as a stain or a foreign substance, or a pinhole that causes a concentration change in the light beam is present in the inspection object. The latter method is an effective inspection method when there is a defect such as a colorless foreign substance or a scratch that scatters the light beam on the inspection object.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このように異なる受光
方式による欠陥検査装置が提供されていたが、製造ライ
ンで使用するのはどちらか一方に限られていた。このた
め、検査対象を変更して欠陥を検査する場合には、その
都度、品種に最適な欠陥検査装置を設置する必要があ
り、手間を要する他に、迅速な切り換えが困難になると
いう問題がある。
Although the defect inspection apparatus based on the different light receiving methods has been provided as described above, only one of them is used in the manufacturing line. Therefore, when the inspection target is changed and the defect is inspected, it is necessary to install the optimum defect inspection device for each type of product each time, which is troublesome and makes it difficult to switch quickly. is there.

【0005】本発明は上記課題を解決するためのもので
あり、製造物の品種が切り換わっても、各種欠陥を精度
よく検出することができるようにした欠陥検査装置を提
供することを目的とする。
The present invention is intended to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a defect inspection apparatus capable of accurately detecting various defects even when the types of manufactured products are switched. To do.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の発明では、被検査体に検査光を照射
する投光器と、照射した検査光を光電変換する光電変換
手段とを有し、前記光電変換手段の出力信号に基づき被
検査体の欠陥を検査する欠陥検査装置において、前記検
査光の通過方法を異ならせた第1の検査光通過手段、及
び第2の検査光通過手段と、これらを選択的に前記光電
変換手段にセットするセット手段とを備えている。
In order to achieve the above object, in the invention described in claim 1, a projector for irradiating the inspection object with the inspection light and a photoelectric conversion means for photoelectrically converting the irradiated inspection light are provided. A defect inspection apparatus for inspecting a defect of an object to be inspected based on an output signal of the photoelectric conversion means, wherein first inspection light passing means and second inspection light passage different in a method of passing the inspection light. And means for selectively setting them on the photoelectric conversion means.

【0007】なお、前記第1の検査光通過手段は、正常
光をカットするマスクと、欠陥による散乱光を前記マス
クの上方及び下方から入射させて前記光電変換手段に集
光させるレンズとを備えており、前記第2の検査光通過
手段はスリットを備えていることが好ましい。また、前
記被検査体は連続走行され、前記投光器は、前記被検査
体の走行方向に対して交差する方向に前記検査光を走査
し、前記セット手段は前記第1の検査光透過手段及び第
2の検査光透過手段を前記走行方向に移動させて、いず
れか一方の検査光透過手段を前記光電変換手段にセット
することが好ましい。さらにまた、被検査体の種別信号
を入力する手段と、入力された被検査体の種別信号に基
づき前記光電変換手段にセットすべき第1または第2の
検査光通過手段を特定する特定手段とを備え、前記セッ
ト手段は、前記特定手段で特定された検査光通過手段を
光電変換手段にセットすることが好ましい。
The first inspection light passage means includes a mask for cutting normal light and a lens for allowing scattered light due to defects to be incident from above and below the mask and condensing on the photoelectric conversion means. Therefore, it is preferable that the second inspection light passing means has a slit. The inspected body is continuously run, the light projector scans the inspected light in a direction intersecting the traveling direction of the inspected body, and the setting means sets the first inspecting light transmitting means and the first inspecting light transmitting means. It is preferable that the inspection light transmitting unit 2 is moved in the traveling direction and one of the inspection light transmitting units is set to the photoelectric conversion unit. Furthermore, means for inputting the type signal of the inspection object, and identification means for specifying the first or second inspection light passing means to be set in the photoelectric conversion means based on the input type signal of the inspection object. It is preferable that the setting means sets the inspection light passage means specified by the specifying means to the photoelectric conversion means.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】図1は本発明の欠陥検査装置の要
部を示す概略図である。投光器10は、レーザー発振器
11、レンズ12、ミラー13a,13b、ポリゴンミ
ラー14、光センサ15から構成されている。レーザー
発振器11から放射されたレーザー光(検査光)は、レ
ンズ12によって図中矢印方向に連続走行する被検査体
としてのフィルム16の表面上で所定径例えば0.33
mmの光ビーム17となる。そして、時計方向に高速回
転するポリゴンミラー14により光ビーム17は反射さ
れ、これによりフィルム16を幅方向に走査する。な
お、光センサ15は光ビーム17がフィルム16を走査
する直前で光ビーム17を受光し、検査幅設定の基準と
なる基点通過信号を出力する。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a main part of a defect inspection apparatus according to the present invention. The projector 10 includes a laser oscillator 11, a lens 12, mirrors 13a and 13b, a polygon mirror 14, and an optical sensor 15. The laser light (inspection light) emitted from the laser oscillator 11 has a predetermined diameter, for example, 0.33, on the surface of the film 16 as the inspected object that continuously travels in the direction of the arrow in the figure by the lens 12.
It becomes a light beam 17 of mm. Then, the light beam 17 is reflected by the polygon mirror 14 which rotates at a high speed in the clockwise direction, thereby scanning the film 16 in the width direction. The optical sensor 15 receives the light beam 17 immediately before the light beam 17 scans the film 16 and outputs a base point passage signal that serves as a reference for setting the inspection width.

【0009】フィルム16を透過した検査光を受光する
ために、光ビーム17の走査方向に延びた受光器20が
設けられている。受光器20の前面には、検査方式切り
換え手段21が配置されている。検査方式切り換え手段
21は、第1検査光通過手段としてのスリット板22
と、第2検査光通過手段としてのマスク付きレンズ23
と、これらをフィルム搬送方向に平行に保持する保持板
24と、この保持板24をフィルム搬送方向でシフトさ
せるシフト機構25とから構成されており、スリット板
22を用いたスリット受光方式と、マスク付きレンズ2
3を用いたマスク受光方式とに選択的に切り換える。
In order to receive the inspection light transmitted through the film 16, a light receiver 20 extending in the scanning direction of the light beam 17 is provided. An inspection method switching means 21 is arranged on the front surface of the light receiver 20. The inspection method switching means 21 includes a slit plate 22 as a first inspection light passing means.
And a lens 23 with a mask as a second inspection light passing means.
A holding plate 24 for holding these in parallel with the film transport direction, and a shift mechanism 25 for shifting the holding plate 24 in the film transport direction. The slit light receiving method using the slit plate 22 and the mask With lens 2
3 is selectively switched to the mask light receiving method.

【0010】図2に示すように、スリット板22は1対
のスリット板本体22a,22bにより隙間22cを形
成するように配置されている。この隙間22cにより、
光ビーム17の走査方向と平行なスリット開口30が形
成される。このスリット開口30を介してフィルム16
を透過した光ビーム17の一部17aが受光器20に入
射する。このスリット板22を用いたスリット受光方式
では、比較的に反射率が低い検査体例えばオフセット印
刷用感光材料などに対して欠陥の検出能力が向上する。
As shown in FIG. 2, the slit plate 22 is arranged so as to form a gap 22c by a pair of slit plate bodies 22a and 22b. Due to this gap 22c,
A slit opening 30 parallel to the scanning direction of the light beam 17 is formed. Through the slit opening 30, the film 16
A part 17 a of the light beam 17 that has passed through is incident on the light receiver 20. In the slit light receiving method using the slit plate 22, the defect detection capability is improved with respect to an inspection object having a relatively low reflectance, such as a photosensitive material for offset printing.

【0011】図3に示すように、マスク付きレンズ23
は、シリンドリカルレンズ本体23aの入射面に帯状の
マスク23bを形成して構成されており、正常光はこの
マスク23bで遮光されて、受光器20に入射すること
がない。また、欠陥を透過した光ビーム17の場合は欠
陥で拡散されるため、この拡散した光17bが図中2点
鎖線で示すようにマスク23bの上方及び下方からシリ
ンドリカルレンズ本体23aに入射して、これにより受
光器20に集光される。このマスク付きレンズ23を用
いたマスク受光方式では、反射効率の高い検査体、例え
ば光沢紙などや、透明度の高い検査体、例えばセルロー
ストリアセテート(TAC)やポリエチレンテレフタレ
ート(PET)製のフィルム等に対して欠陥の検出能力
が向上する。
As shown in FIG. 3, the lens with mask 23
Is formed by forming a belt-shaped mask 23b on the incident surface of the cylindrical lens body 23a, and normal light is blocked by this mask 23b and does not enter the light receiver 20. Further, in the case of the light beam 17 that has passed through the defect, since it is diffused by the defect, this diffused light 17b enters the cylindrical lens body 23a from above and below the mask 23b as shown by the chain double-dashed line in the figure, Thereby, the light is focused on the light receiver 20. In the mask light receiving system using the lens with a mask 23, a test object having a high reflection efficiency, such as glossy paper, or a test object having high transparency, such as a film made of cellulose triacetate (TAC) or polyethylene terephthalate (PET), is used. The defect detection capability is improved.

【0012】図4に示すように、シフト機構25は、ブ
ラケット26とガイド部材27とエァシリンダ28とか
ら構成されており、このシフト機構25は保持板24の
両端部に設けられている。ブラケット26は保持板24
の両側に取り付けられおり、裏面に2個のガイドピン2
6aを有している。ガイド部材27にはガイド溝27a
が形成されており、このガイド溝27a内にガイドピン
26aが入れられている。エァシリンダ28はガイド部
材27内に配置されており、そのプランジャ先端はブラ
ケット26に固定されている。
As shown in FIG. 4, the shift mechanism 25 comprises a bracket 26, a guide member 27, and an air cylinder 28. The shift mechanism 25 is provided at both ends of the holding plate 24. The bracket 26 is a holding plate 24
Two guide pins 2 are attached to both sides of the
6a. The guide member 27 has a guide groove 27a.
Is formed, and the guide pin 26a is inserted in the guide groove 27a. The air cylinder 28 is arranged in the guide member 27, and the tip of the plunger is fixed to the bracket 26.

【0013】エアシリンダ28は切換装置38によりエ
ア駆動され、スリット板22またはマスク付きレンズ2
3のいずれか一方を光ビーム17の走査線39上にセッ
トする。切換装置38は駆動バルブ38aを有してお
り、この駆動バルブ38aは品種特定部40からの品種
切換信号に基づき切り換えられる。これにより、品種に
適合するスリット板22またはマスク付きレンズ23が
セットされ、その検査方式が切り換えられる。
The air cylinder 28 is pneumatically driven by a switching device 38, and the slit plate 22 or the masked lens 2 is used.
Any one of 3 is set on the scanning line 39 of the light beam 17. The switching device 38 has a drive valve 38a, and the drive valve 38a is switched based on a product type switching signal from the product type specifying section 40. As a result, the slit plate 22 or the lens with mask 23 suitable for the product type is set, and the inspection method is switched.

【0014】品種特定部40は、製造する品種に応じ
て、スリット受光方式またはマスク受光方式のいずれか
を選択する。このため、各品種をスリット受光方式とマ
スク受光方式との二つのグループに分けて記憶してい
る。本実施形態では、スリット受光方式のグループに
は、比較的に反射率が低い検査体、例えばオフセット印
刷用感光材料等が属する。また、マスク受光方式のグル
ープには、反射効率の高い検査体、例えば光沢紙など
や、透明度の高い検査体、例えばTAC、PETフィル
ムなどが属する。なお、上記のグループ分けは一例であ
り、これら以外にも、それぞれの受光方式で欠陥検出能
力が向上する場合には、それらの品種についても各グル
ープに追加してよい。
The type identifying unit 40 selects either the slit light receiving system or the mask light receiving system according to the type of product to be manufactured. For this reason, each type is stored by being divided into two groups, a slit light receiving method and a mask light receiving method. In the present embodiment, the slit light receiving system group includes an inspection object having a relatively low reflectance, such as a photosensitive material for offset printing. Further, the mask light receiving system group includes inspection objects having high reflection efficiency, such as glossy paper, and inspection objects having high transparency, such as TAC and PET film. Note that the above grouping is an example, and in addition to these, if the defect detection capability is improved by each light receiving method, those types may be added to each group.

【0015】受光器20内には、シリンドリカルレン
ズ、導光棒、散乱帯が配置されており、図1に示すよう
に両端部には受光素子20a,20bが設けられてい
る。そして、受光窓20cに入ったレーザー光はシリン
ドリカルレンズで集められ、導光棒を通過して散乱帯に
入射し反射される。散乱帯で反射された一部の光は、導
光棒によりその端面まで伝達され、受光素子20a,2
0bに入る。
A cylindrical lens, a light guide rod, and a scattering band are arranged in the light receiver 20, and light receiving elements 20a and 20b are provided at both ends as shown in FIG. Then, the laser light that has entered the light receiving window 20c is collected by the cylindrical lens, passes through the light guide rod, enters the scattering band, and is reflected. Part of the light reflected by the scattering band is transmitted to the end surface of the light guide rod, and the light receiving elements 20a, 20
Enter 0b.

【0016】品種信号が光沢紙、TAC、PET等のマ
スク受光方式の場合には切換装置38を介してエァシリ
ンダ28が保持板24を下方にシフトさせて、マスク付
きレンズ23を受光窓20cの前面に位置させる。フィ
ルム16に傷などの欠陥がない場合には、フィルム16
を透過した光ビーム17はそのまま直進し、マスクに当
たり、受光窓30aには光ビーム17が到達することが
なく、受光器20の出力レベルは所定値以下になる。こ
れに対して、フィルム16に欠陥があると、この部分で
光ビーム17は屈折して乱反射し分散される。このた
め、光ビーム17がマスク23bのみならずその上方及
び下方からレンズ本体23aに入り、受光器20内の導
光棒に光ビーム17bが到達する。受光器20内には、
シリンドリカルレンズ、導光棒、散乱帯が配置されてお
り、両端部には受光素子20a,20bが設けられてい
る。そして、受光窓20cに入った光ビーム17bはレ
ンズ本体23aで集められ、導光棒を通過して散乱帯に
入射し反射される。散乱帯で反射された一部の光は、導
光棒によりその端面まで伝達され、受光素子20a,2
0bに入る。
When the product type signal is a mask light receiving system such as glossy paper, TAC, PET or the like, the air cylinder 28 shifts the holding plate 24 downward through the switching device 38 so that the masked lens 23 is placed in front of the light receiving window 20c. Located in. If the film 16 has no defects such as scratches, the film 16
The light beam 17 that has passed through passes through the mask as it is, hits the mask, the light beam 17 does not reach the light receiving window 30a, and the output level of the light receiver 20 becomes a predetermined value or less. On the other hand, when the film 16 has a defect, the light beam 17 is refracted and diffusely reflected and dispersed in this portion. Therefore, the light beam 17 enters not only the mask 23b but also the lens body 23a from above and below the mask 23b, and the light beam 17b reaches the light guide rod in the light receiver 20. In the light receiver 20,
A cylindrical lens, a light guide rod, and a scattering band are arranged, and light receiving elements 20a and 20b are provided at both ends. Then, the light beam 17b that has entered the light receiving window 20c is collected by the lens body 23a, passes through the light guiding rod, enters the scattering band, and is reflected. Part of the light reflected by the scattering band is transmitted to the end surface of the light guide rod, and the light receiving elements 20a, 20
Enter 0b.

【0017】また、品種信号がオフセット印刷用感光材
料等のスリット受光方式の場合には切換装置38を介し
てエァシリンダ28が保持板24を上方にシフトさせ
て、スリット板22を受光窓20cの前面に位置させ
る。この場合には欠陥があると、この部分で光ビーム1
7が吸収・強化される。したがって、光ビームが吸収、
強化されることにより、この吸収、強化部分を特定する
ことにより、オフセット印刷用感光材料等の比較的に反
射率が低い品種におけるフィルム16の欠陥が精度良く
検出される。
Further, when the product type signal is a slit light receiving system such as a photosensitive material for offset printing, the air cylinder 28 shifts the holding plate 24 upward through the switching device 38 to move the slit plate 22 to the front surface of the light receiving window 20c. Located in. In this case, if there is a defect, the light beam 1
7 is absorbed and strengthened. Therefore, the light beam is absorbed,
By strengthening, by identifying the absorption and strengthening portion, the defect of the film 16 in a product having a relatively low reflectance such as a photosensitive material for offset printing can be accurately detected.

【0018】図6に示すように、受光素子20a,20
bの光電変換信号は、欠陥信号発生部50に送られ、こ
こで信号処理されて単発の欠陥信号が出力される。ま
ず、レーザー光を受光した受光素子20a,20bは、
レーザー光の光量に対応する光電変換信号をそれぞれ出
力し、これらをAGC回路(オート・ゲイン・コントロ
ール回路)51に供給する。このAGC回路51は各受
光素子20a,20bからの光電変換信号を加算する他
に、欠陥がない正常なフィルム16に対して光ビーム1
7を走査し、その光ビーム17を受光器20に入射させ
たときに、その走査中心線の位置にかかわらず出力信号
が一定レベルになるように光電変換信号を増幅する。ま
た、レーザー発振器11の劣化等によるパワー変動が起
きても、このAGC回路51で補償される。さらに、A
GC回路51にはゲイン調整つまみが設けられており、
このつまみの操作により、ゲイン値の変更が可能になっ
ている。ゲイン値の変更は受光方式を切り換えた時など
に行われる。
As shown in FIG. 6, the light receiving elements 20a, 20a
The photoelectric conversion signal of b is sent to the defect signal generation unit 50, where it is signal-processed and a single defect signal is output. First, the light receiving elements 20a and 20b that receive the laser light are
The photoelectric conversion signals corresponding to the light quantity of the laser light are output, and these are supplied to the AGC circuit (auto gain control circuit) 51. The AGC circuit 51 not only adds photoelectric conversion signals from the light receiving elements 20a and 20b, but also outputs a light beam 1 to a normal film 16 having no defect.
When 7 is scanned and its light beam 17 is made incident on the light receiver 20, the photoelectric conversion signal is amplified so that the output signal becomes a constant level regardless of the position of the scanning center line. Further, even if a power fluctuation occurs due to deterioration of the laser oscillator 11 or the like, the AGC circuit 51 compensates for it. Furthermore, A
The GC circuit 51 is provided with a gain adjustment knob,
The gain value can be changed by operating this knob. The gain value is changed when the light receiving system is switched.

【0019】AGC回路51からの信号は、バンドパス
フィルタを含むフィルタ回路52に入力される。フィル
タ回路52は、信号に重畳されている低周波及び高周波
ノイズ信号を除去し、その信号を二値化回路53へ出力
する。二値化回路53は、しきい値により信号を二値化
する。これにより信号は、信号レベルがしきい値以下に
なったときにハイレベルとなる欠陥信号と、それ以外の
ときにローレベルとなる正常信号とに二値化される。そ
してこれらの信号からなる評価信号は、アンド回路54
に入力される。
The signal from the AGC circuit 51 is input to the filter circuit 52 including a bandpass filter. The filter circuit 52 removes the low frequency and high frequency noise signals superimposed on the signal and outputs the signal to the binarization circuit 53. The binarization circuit 53 binarizes the signal according to the threshold value. As a result, the signal is binarized into a defect signal that becomes high level when the signal level becomes lower than the threshold value and a normal signal that becomes low level otherwise. The evaluation signal composed of these signals is the AND circuit 54.
Entered in.

【0020】一方、光センサ15は、光ビーム17の走
査開始前に一定のタイミングで基点通過信号を出力し、
この基点通過信号が検査幅設定回路55に入力される。
検査幅設定回路55は、フィルム16の幅寸法に対応し
て予め設定されている検査幅データ及びレーン数に基づ
き、前記基点通過信号を基準にして、レーン幅毎にハイ
レベルとなる検査幅信号を出力する。そして、この検査
幅信号によってアンド回路54がゲートオープン状態と
なる。したがって、検査幅信号がハイレベルとなってい
る期間中に欠陥信号が現れた場合に、アンド回路54か
ら欠陥信号が出力される。なお、レーンは1回の走査ラ
インを複数個に区切るものである。
On the other hand, the optical sensor 15 outputs a base point passage signal at a constant timing before the scanning of the light beam 17 is started,
This base point passing signal is input to the inspection width setting circuit 55.
The inspection width setting circuit 55 is based on the inspection width data and the number of lanes set in advance corresponding to the width dimension of the film 16, and the inspection width signal that becomes a high level for each lane width with the base point passing signal as a reference. Is output. Then, this inspection width signal causes the AND circuit 54 to be in the gate open state. Therefore, when a defect signal appears during the period when the inspection width signal is at the high level, the AND circuit 54 outputs the defect signal. The lane divides one scanning line into a plurality of sections.

【0021】このようにして得られた欠陥信号は、欠陥
データ処理装置60に送られる。欠陥データ処理装置6
0では、上記単発欠陥信号に基づき欠陥位置を特定す
る。そして、この単発欠陥とその位置情報は、欠陥画像
処理装置61に送られてそのディスプレイに表示される
他に、欠陥データ処理装置60内のメモリ60aに記憶
されて、種々のデータ加工が行われる。そして、データ
加工された欠陥情報は、フィルム等の製品加工時に参考
にされ、各種欠陥が最終製品に含まれることがないよう
に利用される。また、欠陥の原因追求や製造ラインのフ
ィードバック情報としても用いられる。さらに、欠陥画
像を撮像しておき、前記欠陥及びその位置情報に基づ
き、各欠陥とその画像とを対応させ、これら欠陥とその
画像とを前記ディスプレイに表示してもよい。
The defect signal thus obtained is sent to the defect data processing device 60. Defect data processing device 6
At 0, the defect position is specified based on the single defect signal. The one-shot defect and its position information are sent to the defect image processing device 61 and displayed on the display thereof, and are also stored in the memory 60a in the defect data processing device 60 to be subjected to various data processing. . The data-processed defect information is referred to when a product such as a film is processed, and is used so that various defects are not included in the final product. In addition, it is also used as defect information for pursuing the cause of defects and as feedback information on the manufacturing line. Further, a defect image may be captured, each defect and its image may be associated with each other based on the defect and its position information, and the defect and its image may be displayed on the display.

【0022】なお、上記実施形態では、受光方式の切り
換えに対応させて、欠陥信号発生部50の各回路のパラ
メータ等が変更され、受光方式に適合した欠陥信号を発
生させているが、パラメータ等を変更する代わりに、各
受光方式専用の欠陥信号発生部を個別に設けて、これら
を切り換えて使用してもよい。
In the above embodiment, the parameters of each circuit of the defect signal generator 50 are changed in response to the switching of the light receiving system to generate the defect signal suitable for the light receiving system. Instead of changing, the defect signal generating section dedicated to each light receiving method may be individually provided and these may be switched and used.

【0023】上記実施形態では、フィルム16等の被検
査体を透過した光を受光器20に導いて欠陥を検査する
ようにしたが、これに代えて、図7に示すように、投光
器10からの光ビーム17をフィルム16に照射し、こ
の反射光17cから欠陥信号を得るタイプの欠陥検査装
置70に対して本発明を実施してもよい。この場合に
は、反射光17cの光路に上記検査方式切り換え手段2
1や受光器20を設置して、反射光17cに基づき各種
の欠陥を検出する。なお、上記実施形態と同一構成部材
については、同一符号を付して重複した説明を省略して
いる。
In the above embodiment, the light transmitted through the object to be inspected such as the film 16 is guided to the light receiver 20 to inspect for defects, but instead of this, as shown in FIG. The present invention may be applied to the defect inspection apparatus 70 of the type in which the film 16 is irradiated with the light beam 17 of 1. and the defect signal is obtained from the reflected light 17c. In this case, the inspection method switching means 2 is provided on the optical path of the reflected light 17c.
1 and the light receiver 20 are installed to detect various defects based on the reflected light 17c. The same components as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and duplicate description is omitted.

【0024】また、上記実施形態では、スリット板22
やマスク付きレンズ23を保持板24に設けて、この保
持板24をエァシリンダ28等の駆動装置によりフィル
ム16の搬送方向で移動させたが、この移動方向や移動
手段は上記実施形態のものに限定されない。例えば、モ
ータ等の他の駆動手段で行う他に、駆動手段は省略して
単にマスク付きレンズやスリット板を受光位置に手動に
てセットしてもよい。
Further, in the above embodiment, the slit plate 22
The lens 23 with a mask and the masked lens 23 are provided on the holding plate 24, and the holding plate 24 is moved in the transport direction of the film 16 by a driving device such as an air cylinder 28. However, the moving direction and the moving means are limited to those of the above-described embodiment. Not done. For example, in addition to other driving means such as a motor, the driving means may be omitted and the lens with a mask or the slit plate may be manually set at the light receiving position.

【0025】上記実施形態では、保持板に一種類のスリ
ット板22及びマスク付きレンズ23を設けたが、この
他に、スリット幅やマスク開口幅等を変えた複数種類の
スリット板及びマスク付きレンズを平行に並べて設け、
品種に合わせて最も適合するスリット幅やマスク開口幅
を有するものを受光器の受光窓にセットしてもよい。
In the above embodiment, the holding plate is provided with one kind of slit plate 22 and masked lens 23. In addition to this, a plurality of kinds of slit plate and masked lens having different slit widths, mask opening widths and the like are provided. Are installed in parallel,
The light receiving window of the light receiving device may be set to have a slit width and a mask opening width that are most suitable for the product type.

【0026】[0026]

【発明の効果】本発明によれば、被検査体を通過または
反射した検査光の通過方法を異ならせた第1の検査光通
過手段、及び第2の検査光通過手段を設けて、これらを
選択的に光電変換手段にセットしたから、被検査体に応
じて最適な検査方法を選択することができ、各品種の被
検査体に応じて精度よく欠陥を検出することができる。
According to the present invention, the first inspection light passing means and the second inspection light passing means, which are different in the method of passing the inspection light passing through or reflected by the object to be inspected, are provided. Since the photoelectric conversion means is selectively set, the optimum inspection method can be selected according to the inspection object, and the defect can be accurately detected according to the inspection object of each type.

【0027】第1の検査光通過手段は、正常光をカット
するマスクと、欠陥による散乱光を前記マスクの上方及
び下方から入射させて前記光電変換手段に集光させるレ
ンズとを備えており、第2の検査光通過手段はスリット
を備えていることにより、マスク受光方式と、スリット
受光方式の二つの受光方式を選択して、欠陥を検査する
ことができる。
The first inspection light passing means comprises a mask for cutting normal light, and a lens for making scattered light due to a defect incident from above and below the mask and condensing it on the photoelectric conversion means. Since the second inspection light passing means is provided with the slit, it is possible to inspect the defect by selecting two light receiving methods, a mask light receiving method and a slit light receiving method.

【0028】被検査体は連続走行され、前記投光器は、
前記被検査体の走行方向に対して交差する方向に前記検
査光を走査し、前記セット手段は前記第1の検査光透過
手段及び第2の検査光透過手段を前記走行方向に移動さ
せて、いずれか一方の検査光透過手段を前記光電変換手
段にセットするから、複数の投光器や受光器を用いるこ
となく、二つの受光方式による欠陥検査が可能になり、
構成を簡単にすることができる。しかも、二つの受光方
式を簡単に切り換えることができ、品種の切り換えなど
にも容易に対応することができる。
The object to be inspected is continuously run, and the projector is
The inspection light is scanned in a direction intersecting the traveling direction of the inspection object, and the setting means moves the first inspection light transmitting means and the second inspection light transmitting means in the traveling direction, Since any one of the inspection light transmitting means is set in the photoelectric conversion means, it is possible to perform a defect inspection by two light receiving methods without using a plurality of projectors or light receivers,
The configuration can be simplified. Moreover, it is possible to easily switch between the two light receiving methods, and it is possible to easily cope with a change in product type.

【0029】被検査体の種別信号を入力する手段と、入
力された被検査体の種別信号に基づき前記光電変換手段
にセットすべき第1または第2の検査光通過手段を特定
する特定手段とを備え、セット手段により、前記特定手
段で特定された検査光通過手段を光電変換手段にセット
するから、被検査体の種別に応じて最適な受光方式で欠
陥を自動的に検査することができる。
Means for inputting the type signal of the object to be inspected, and specifying means for specifying the first or second inspection light passing means to be set in the photoelectric conversion means based on the input type signal of the object to be inspected. Since the inspection light passing means specified by the specifying means is set in the photoelectric conversion means by the setting means, the defect can be automatically inspected by the optimum light receiving method according to the type of the object to be inspected. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の欠陥検査装置の要部を示す斜視図であ
る。
FIG. 1 is a perspective view showing a main part of a defect inspection apparatus of the present invention.

【図2】スリット受光方式を示す要部の断面図である。FIG. 2 is a sectional view of an essential part showing a slit light receiving system.

【図3】マスク受光方式を示す要部の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of an essential part showing a mask light receiving system.

【図4】スリット受光方式に切り換えられた状態の検査
方式切り換え手段を示す正面図である。
FIG. 4 is a front view showing an inspection method switching means in a state where the inspection method is switched to the slit light receiving method.

【図5】マスク受光方式に切り換えられた状態の検査方
式切り換え手段を示す正面図である。
FIG. 5 is a front view showing the inspection method switching means in a state where the inspection method is switched to the mask light receiving method.

【図6】欠陥信号発生部の一例を示すブロック図であ
る。
FIG. 6 is a block diagram showing an example of a defect signal generator.

【図7】反射方式の欠陥検査装置を示す概略図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing a reflection type defect inspection apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 投光器 11 レーザー発振器 13a,13b ミラー 14 ポリゴンミラー 15 光センサ 16 フィルム 17 光ビーム 20 受光器 21 検査方式切り換え手段 22 スリット板 23 マスク付きレンズ 24 保持板 25 シフト機構 30 スリット開口 10 Floodlight 11 Laser oscillator 13a, 13b mirror 14 polygon mirror 15 Optical sensor 16 films 17 light beams 20 light receiver 21 Inspection method switching means 22 Slit plate 23 Lens with mask 24 holding plate 25 shift mechanism 30 slit openings

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被検査体に検査光を照射する投光器と、
照射した検査光を光電変換する光電変換手段とを有し、
前記光電変換手段の出力信号に基づき被検査体の欠陥を
検査する欠陥検査装置において、 前記検査光の通過方法を異ならせた第1の検査光通過手
段、及び第2の検査光通過手段と、 これらを選択的に前記光電変換手段にセットするセット
手段とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
1. A light projector for irradiating an inspection object with inspection light,
Having a photoelectric conversion means for photoelectrically converting the irradiated inspection light,
In a defect inspection apparatus for inspecting a defect of an inspection object based on an output signal of the photoelectric conversion means, a first inspection light passage means and a second inspection light passage means, which are different in the passage method of the inspection light, A defect inspection apparatus comprising: setting means for selectively setting these in the photoelectric conversion means.
【請求項2】 前記第1の検査光通過手段は、正常光を
カットするマスクと、欠陥による散乱光を前記マスクの
上方及び下方から入射させて前記光電変換手段に集光さ
せるレンズとを備えており、前記第2の検査光通過手段
はスリットを備えていることを特徴とする請求項1記載
の欠陥検査装置。
2. The first inspection light passing means includes a mask for cutting normal light, and a lens for allowing scattered light due to a defect to be incident from above and below the mask and condensing on the photoelectric conversion means. 2. The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the second inspection light passing means is provided with a slit.
【請求項3】 前記被検査体は連続走行され、前記投光
器は、前記被検査体の走行方向に対して交差する方向に
前記検査光を走査し、前記セット手段は前記第1の検査
光透過手段及び第2の検査光透過手段を前記走行方向に
移動させて、いずれか一方の検査光透過手段を前記光電
変換手段にセットすることを特徴とする請求項1または
2記載の欠陥検査装置。
3. The inspection object is continuously run, the light projector scans the inspection light in a direction intersecting the traveling direction of the inspection object, and the setting means transmits the first inspection light. 3. The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the inspection light transmitting means and the second inspection light transmitting means are moved in the traveling direction, and one of the inspection light transmitting means is set to the photoelectric conversion means.
【請求項4】 被検査体の種別信号を入力する手段と、
入力された被検査体の種別信号に基づき前記光電変換手
段にセットすべき第1または第2の検査光通過手段を特
定する特定手段とを備え、前記セット手段は、前記特定
手段で特定された検査光通過手段を光電変換手段にセッ
トすることを特徴とする請求項3記載の欠陥検査装置。
4. A means for inputting a type signal of a device under test,
And a specifying unit that specifies the first or second inspection light passing unit to be set in the photoelectric conversion unit based on the input type signal of the object to be inspected, and the setting unit is specified by the specifying unit. The defect inspection apparatus according to claim 3, wherein the inspection light passing means is set to the photoelectric conversion means.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP6228695B1 (en) * 2017-02-27 2017-11-08 株式会社ヒューテック Defect inspection equipment
CN107421966A (en) * 2016-04-26 2017-12-01 株式会社三丰 Method and apparatus for detecting the defects of transparency

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