JP2003057402A - Hard coat film - Google Patents

Hard coat film

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JP2003057402A
JP2003057402A JP2001246625A JP2001246625A JP2003057402A JP 2003057402 A JP2003057402 A JP 2003057402A JP 2001246625 A JP2001246625 A JP 2001246625A JP 2001246625 A JP2001246625 A JP 2001246625A JP 2003057402 A JP2003057402 A JP 2003057402A
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JP
Japan
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hard coat
group
layer
coat film
acrylate
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Pending
Application number
JP2001246625A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadahiko Kubota
忠彦 窪田
Kenichiro Hatayama
剣一郎 畑山
Seiya Sakurai
靖也 桜井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hard coat film which hardly causes peeling or cracks and has sufficient hardness and scratching resistance. SOLUTION: The hard coat film has a hard coating layer of >=10 μm film thickness on a base material and has a layer having <=0.4 coefficient of dynamic friction on its surface as the outermost surface.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、動摩擦係数が0.
4以下である層を最表面に有するハードコートフィルム
に関する。別の観点からすれば、本発明は、膜剥がれや
ヒビワレの発生が少なく、優れた耐擦傷性、表面硬度を
有するハードコートフィルムに関する。本発明のハード
コートフィルムは、CRT、LCD、PDP、FEDな
どのディスプレイ、タッチパネル、ガラスなどの光学機
能を有する表面保護フィルムとして使用することができ
る。
TECHNICAL FIELD The present invention has a dynamic friction coefficient of 0.
It relates to a hard coat film having a layer of 4 or less on the outermost surface. From another point of view, the present invention relates to a hard coat film which is less likely to cause film peeling or cracking and has excellent scratch resistance and surface hardness. The hard coat film of the present invention can be used as a surface protective film having an optical function for displays such as CRT, LCD, PDP and FED, touch panels and glass.

【0002】[0002]

【従来の技術】樹脂中に充填材を充填させると高硬度に
なることは、一般に広く知られているが、高粘度の樹脂
中へ充填材を導入することは困難であるので、より良好
な混練性を得るための方法について鋭意研究がなされて
いる。混練、押出し方法としては、一軸スクリュー式混
練押出し機あるいは二軸混練押出し機が知られており、
広く一般に使用されている。さらに高充填化による硬度
のみではなく、樹脂の透明性も付与するため、充填材の
微粒子化及び高分散化が求められている。また、特開平
7−207129号公報に示されるように重合時に粒子
を充填する方法も知られている。
2. Description of the Related Art It is widely known that when a filler is filled in a resin, the hardness of the resin becomes high. There has been extensive research on methods for obtaining kneadability. As the kneading and extruding method, a single screw type kneading extruder or a twin screw kneading extruder is known,
Widely used in general. Further, not only the hardness due to the high filling but also the transparency of the resin is imparted, so that the filler is required to be finely divided and highly dispersed. Further, as disclosed in JP-A-7-207129, a method of filling particles during polymerization is also known.

【0003】近年、プラスチック製品が、加工性、軽量
化の観点でガラス製品と置き換わりつつあるが、これら
プラスチック製品の表面は傷つきやすいため、耐擦傷性
を付与する目的で硬化樹脂層からなるハードコート層を
直接塗設したり、ハードコート層付きプラスチックフィ
ルム(ハードコートフィルムと称する)を貼合して用い
る場合が多い。また、従来のガラス製品についても、飛
散防止のためにプラスチックフィルムを貼合する場合が
増えており、これらのフィルム表面の硬度強化のため
に、その表面にハードコート層を形成することは有用で
あり、広く行われている。
In recent years, plastic products are being replaced by glass products from the viewpoints of workability and weight saving. However, since the surfaces of these plastic products are easily scratched, a hard coat comprising a cured resin layer for the purpose of imparting scratch resistance. In many cases, a layer is directly applied or a plastic film with a hard coat layer (referred to as a hard coat film) is laminated and used. Further, even in the case of conventional glass products, the number of cases in which a plastic film is laminated to prevent scattering is increasing, and it is useful to form a hard coat layer on the surface of the film in order to strengthen the hardness of the film surface. Yes, it is widely practiced.

【0004】従来のハードコート塗料としては、熱硬化
性塗料、あるいは紫外線硬化型塗料が用いられている
が、これをプラスチックフィルム上に塗布、硬化させて
得られるハードコートフィルム用途にはプラスチックフ
ィルム自身の耐熱性が低いため、低温で硬化可能な紫外
線硬化型塗料が広く用いられている。一般に、紫外線硬
化型塗料に用いられている硬化性成分は、分子内に2〜
6個のアクリル酸エステル基を有する多官能アクリレー
トモノマーと称される化合物やウレタンアクリレート、
ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートと称
される分子内に数個のアクリル酸エステル基を有する分
子量が数百から数千のオリゴマーが用いられる。しかし
ながら、該オリゴマー化合物はアクリル基の導入量が少
ないものが多く、単独では十分な硬度が得られないた
め、より高い硬度が要求されるハードコート塗料として
は、多官能アクリレートモノマーが広く用いられてい
る。
As a conventional hard coat paint, a thermosetting paint or an ultraviolet curable paint is used. The plastic film itself is used for a hard coat film obtained by coating and curing this on a plastic film. Because of its low heat resistance, UV-curable coatings that can be cured at low temperatures are widely used. Generally, the curable component used in the ultraviolet curable coating composition has 2 to 2 molecules in the molecule.
A compound called a polyfunctional acrylate monomer having 6 acrylic acid ester groups or urethane acrylate,
Oligomers having a molecular weight of several hundred to several thousand and having several acrylate groups in the molecule, which are called polyester acrylate and epoxy acrylate, are used. However, since many of these oligomer compounds have a small amount of acrylic groups introduced, and sufficient hardness cannot be obtained by themselves, polyfunctional acrylate monomers are widely used as hard coat paints requiring higher hardness. There is.

【0005】一般にハードコートフィルムは、上記のよ
うなハードコート塗料をプラスチックフィルム上に直
接、或いは1μm程度のプライマー層を介して3〜10
μm程度の薄い塗膜を形成して製造している。しかしな
がら、従来のハードコートフィルムは、そのハードコー
ト層の硬度が不十分であったこと、また、その塗膜厚み
が薄いことに起因して、下地のプラスチック基材フィル
ムが変形した場合に、それに応じてハードコート層も変
形し、ハードコートフィルム全体としての硬度は低く、
十分に満足できるものではなかった。例えば、プラスチ
ック基材フィルムとして広く利用されているとトリアセ
チルセルロース、ポリエチレンテレフタレートフイルム
上に、紫外線硬化型塗料を上記の厚みで塗工したハード
コートフィルムにおいては、鉛筆硬度で2H〜3Hレベ
ルが一般的であり、ガラスの鉛筆硬度である9Hには全
く及ばないものである。
Generally, a hard coat film has 3 to 10 of the above hard coat paints directly on a plastic film or through a primer layer of about 1 μm.
It is manufactured by forming a thin coating film of about μm. However, the conventional hard coat film has insufficient hardness of the hard coat layer, and when the underlying plastic substrate film is deformed due to its thin coating film thickness, The hard coat layer is also deformed accordingly, and the hardness of the hard coat film as a whole is low,
I was not completely satisfied. For example, when it is widely used as a plastic substrate film, a hard coat film obtained by applying an ultraviolet-curable coating material on a triacetyl cellulose or polyethylene terephthalate film with the above-mentioned thickness generally has a pencil hardness of 2H to 3H level. And is completely inferior to 9H, which is the pencil hardness of glass.

【0006】また、このようなフィルムはCRT,PD
P,LCDなどのディスプレイの表面保護膜として用い
られたり、ガラス飛散防止フィルムとして窓に貼られた
りするが、その表面を雑巾などでふくと傷がついてしま
いフィルムを通しての映像、景色などが見にくくなると
いう問題があった。このような問題に対して、特開平7
−333404号公報、特開平8−286001号公
報、特開平11−258405号公報に示されるように
摩擦係数を小さくすることが提案されている。この方法
により擦り傷は着きにくくなるが、鉛筆硬度を同時に改
良したものは無く、満足できるものはなかった。
Further, such a film is used for CRT, PD
It is used as a surface protection film for displays such as P and LCD, and is also attached to windows as a glass shatterproof film, but if the surface is wiped with a cloth or the like, it will be difficult to see images and scenery through the film. There was a problem. To solve such a problem, Japanese Patent Laid-Open No.
It has been proposed to reduce the coefficient of friction as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 333404, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-286001, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-258405. By this method, scratches are less likely to wear, but none have improved pencil hardness at the same time, and none have been satisfactory.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、膜剥
がれやヒビ割れが生じにくく、十分な硬度、耐擦傷性を
有するハードコートフィルムを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a hard coat film which is resistant to film peeling and cracking and has sufficient hardness and scratch resistance.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題は、以下の手段
によって達成された。 1.基材上に、膜厚10μm以上のハードコート層を有
し、かつ表面の動摩擦係数が0.4以下である層を最表
面に有することを特徴とするハードコートフィルム。 2.450〜650nmにおける平均反射率が、2%以
下であることを特徴とする上記1記載のハードコートフ
ィルム。 3.ハードコートフィルムが、SiO2を含有する低反
射層を有することを特徴とする上記1または2記載のハ
ードコートフィルム。 4.低反射層が、潤滑剤を5mg/m2以上100mg
/m2以下含有することを特徴とする上記3記載のハー
ドコートフィルム。 5.ハードコートフィルムのハードコート層が、エチレ
ン性不飽和基を含む化合物と同一分子内に3個以上の開
環重合性基を含む化合物とを含有する硬化性組成物を塗
布、硬化して形成されるハードコート層であることを特
徴とする上記1〜4のいずれかに記載のハードコートフ
ィルム。 6.開環重合性基を含む化合物が、下記一般式(1)で
表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーであること
を特徴とする上記1〜5のいずれかに記載のハードコー
トフィルム。 一般式(1)
The above objects have been achieved by the following means. 1. A hard coat film having a hard coat layer having a film thickness of 10 μm or more on a substrate and having a layer having a dynamic friction coefficient of 0.4 or less on the outermost surface. 2. The hard coat film as described in 1 above, which has an average reflectance at 2450 to 650 nm of 2% or less. 3. 3. The hard coat film as described in 1 or 2 above, wherein the hard coat film has a low reflection layer containing SiO 2 . 4. Low reflection layer, lubricant 5mg / m 2 or more 100mg
/ M 2 or less, the hard coat film as described in 3 above. 5. The hard coat layer of the hard coat film is formed by applying and curing a curable composition containing a compound containing an ethylenically unsaturated group and a compound containing three or more ring-opening polymerizable groups in the same molecule. The hard coat film according to any one of 1 to 4 above, which is a hard coat layer. 6. The hard coat film as described in any one of 1 to 5 above, wherein the compound having a ring-opening polymerizable group is a crosslinkable polymer having a repeating unit represented by the following general formula (1). General formula (1)

【0009】[0009]

【化2】 [Chemical 2]

【0010】(式中、R1は水素原子もしくは炭素原子
数1以上4以下のアルキル基を表す。P1は開環重合性
基を含む一価の基であり、L1は単結合もしくは二価の
連結基である。) 7.開環重合性基がカチオン重合性基であることを特徴
とする上記1〜6のいずれかにに記載のハードコートフ
ィルム。 8.硬化性組成物に架橋微粒子を含有することを特徴と
する上記1〜7のいずれかに記載のハードコートフィル
ム。 9.表面の鉛筆硬度が4H〜9Hであることを特徴とす
る上記1〜8のいずれかに記載のハードコートフィル
ム。 10.基材がポリエステルフィルムであり、ハードコー
ト層の膜厚が20〜200μmであることを特徴とする
上記1〜9のいずれかに記載のハードコートフィルム。
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. P 1 is a monovalent group containing a ring-opening polymerizable group, and L 1 is a single bond or a divalent group. It is a valent linking group.) 7. 7. The hard coat film as described in any one of 1 to 6 above, wherein the ring-opening polymerizable group is a cationically polymerizable group. 8. 8. The hard coat film as described in any one of 1 to 7 above, wherein the curable composition contains crosslinked fine particles. 9. 9. The hard coat film as described in any one of 1 to 8 above, wherein the surface has a pencil hardness of 4H to 9H. 10. 10. The hard coat film as described in any one of 1 to 9 above, wherein the substrate is a polyester film and the film thickness of the hard coat layer is 20 to 200 μm.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明につきさらに詳細に
説明する。上述したように、本発明のハードコートフィ
ルムは、基材上に、膜厚10μm以上のハードコート層
を有し、かつ表面の動摩擦係数が0.4以下である層を
最表面に有する。上記ハードコート層は、エチレン性不
飽和基を含む化合物と同一分子内に3個以上の開環重合
性基を含む化合物とを含有する硬化性組成物を基材上に
塗布、硬化して形成されたものであることが好ましい。
ハードコート層は、単層であっても複数層から構成され
ていてもよいが、製造工程上簡便な単層であることが好
ましい。この場合の単層とは同一組成物で形成されるハ
ードコート層であって、塗布、乾燥後の組成が、同一組
成のものであれば、複数回の塗布で形成されていてもよ
い。一方、複数層とは、組成の異なる複数の組成物から
形成された層からなることを意味する。複数層の場合、
少なくとも一層が、エチレン性不飽和基を含む化合物と
同一分子内に3個以上の開環重合性基を含む化合物の両
方を含有する硬化性組成物を塗布、硬化して形成される
ハードコート層であることが好ましく、複数層の最外層
がエチレン性不飽和基を含む化合物と同一分子内に3個
以上の開環重合性基を含む化合物の両方を含有する硬化
性組成物を塗布、硬化して形成されるハードコート層で
あることが特に好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail below. As described above, the hard coat film of the present invention has a hard coat layer having a film thickness of 10 μm or more on a base material and a layer having a surface dynamic friction coefficient of 0.4 or less on the outermost surface. The hard coat layer is formed by applying a curable composition containing a compound containing an ethylenically unsaturated group and a compound containing three or more ring-opening polymerizable groups in the same molecule onto a substrate and curing the composition. It is preferable that the
The hard coat layer may be a single layer or may be composed of a plurality of layers, but it is preferable that the hard coat layer is a single layer which is simple in the manufacturing process. In this case, the single layer is a hard coat layer formed of the same composition, and may be formed by coating a plurality of times as long as the composition after coating and drying has the same composition. On the other hand, the plurality of layers means that the layers are composed of a plurality of compositions having different compositions. For multiple layers,
At least one layer is a hard coat layer formed by applying and curing a curable composition containing both a compound containing an ethylenically unsaturated group and a compound containing three or more ring-opening polymerizable groups in the same molecule. It is preferable that the outermost layer of the plurality of layers is coated and cured with a curable composition containing both a compound containing an ethylenically unsaturated group and a compound containing three or more ring-opening polymerizable groups in the same molecule. It is particularly preferable that the hard coat layer is formed as described above.

【0012】以下、ハードコート層に用いることのでき
る開環重合性基を含む化合物について説明する。開環重
合性基を含む化合物とはカチオン、アニオン、ラジカル
などの作用により開環重合が進行する環構造を有する化
合物であり、この中でもヘテロ環状化合物のカチオン開
環重合が好ましい。このような化合物としてエポキシ誘
導体、オキセタン誘導体、テトラヒドロフラン誘導体、
環状ラクトン誘導体、環状カーボネート誘導体、オキサ
ゾリン誘導体などの環状イミノエーテル類などが挙げら
れ、特にエポキシ誘導体、オキセタン誘導体、オキサゾ
リン誘導体が好ましい。同一分子内に3個以上の開環重
合性基を有する化合物は、上記のような環状構造を3個
以上同一分子内に有する化合物であれば得に制限がな
い。このような化合物の好ましい例としては、例えば3
官能グリシジルエーテル類(トリメチロールエタントリ
グリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリ
シジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテ
ル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌ
レートなど)、4官能以上のグリシジルエーテル類(ソ
ルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリ
トールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック
樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノホ゛ラッ
ク樹脂のポリグリシジルエーテルなど)、3官能以上の
脂環式エポキシ類(エポリードGT−301、エポリー
ドGT−401、EHPE(以上、ダイセル化学工業
(株)製)、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘ
キシルエポキシメチルエーテルなど)、3官能以上のオ
キセタン類(OX−SQ、PNOX−1009(以上、
東亞合成(株)製)など)などが挙げられるが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
The compound containing a ring-opening polymerizable group that can be used in the hard coat layer will be described below. The compound having a ring-opening polymerizable group is a compound having a ring structure in which ring-opening polymerization proceeds by the action of a cation, anion, radical or the like, and among these, cationic ring-opening polymerization of a heterocyclic compound is preferable. Such compounds include epoxy derivatives, oxetane derivatives, tetrahydrofuran derivatives,
Examples thereof include cyclic imino ethers such as cyclic lactone derivatives, cyclic carbonate derivatives and oxazoline derivatives, and epoxy derivatives, oxetane derivatives and oxazoline derivatives are particularly preferable. The compound having 3 or more ring-opening polymerizable groups in the same molecule is not particularly limited as long as it is a compound having 3 or more cyclic structures as described above in the same molecule. Preferred examples of such compounds include, for example, 3
Functional glycidyl ethers (trimethylolethane triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, triglycidyl trishydroxyethyl isocyanurate, etc.), 4-functional or higher functional glycidyl ethers (sorbitol tetraglycidyl ether, pentaerythritol tetra Glycyl ether, polyglycidyl ether of cresol novolac resin, polyglycidyl ether of phenol novolac resin, etc., trifunctional or higher functional cycloaliphatic epoxies (Eporide GT-301, Epolide GT-401, EHPE (above, Daicel Chemical Industries Ltd. )), Polycyclohexylepoxy methyl ether of phenol novolac resin, etc.) trifunctional or higher functional oxetanes (OX-S) , PNOX-1009 (or more,
Toagosei Co., Ltd.) etc., but the present invention is not limited thereto.

【0013】一方、同一分子内に1個もしくは2個の開
環重合性基を有する化合物も必要に応じて併用すること
ができ、好ましい化合物としては単官能または2官能の
グリシジルエーテル類、単官能または2官能の脂環式エ
ポキシ類、単官能または2官能のオキセタン類が挙げら
れる。また、これらは市販されているものもあり用いる
ことができる。
On the other hand, a compound having one or two ring-opening polymerizable groups in the same molecule can be used in combination if necessary, and preferable compounds are monofunctional or bifunctional glycidyl ethers and monofunctional compounds. Alternatively, bifunctional alicyclic epoxies and monofunctional or bifunctional oxetanes can be mentioned. Moreover, these are commercially available and can be used.

【0014】ハードコート層を形成するための硬化性組
成物は、同一分子内に3個以上の開環重合性基を有する
化合物として、上記一般式(1)で表される繰り返し単
位を含む架橋性ポリマーを含有していることが特に好ま
しい。以下にこの架橋性ポリマーについて詳細に説明す
る。一般式(1)の式中、R1は、水素原子もしくは炭
素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、好ましくは
水素原子もしくはメチル基である。L1は、単結合もし
くは二価の連結基であり、好ましくは単結合、−O−、
アルキレン基、アリーレン基および*側で主鎖に連結す
る*−COO−、*−CONH−、*−OCO−、*−
NHCO−である。P1は、開環重合性基を含む一価の
基であり、好ましいP1としては、エポキシ環、オキセ
タン環、テトラヒドロフラン環、ラクトン環、カーボネ
ート環、オキサゾリン環などのイミノエーテル環などを
含む一価の基が挙げられ、この中でも特に好ましくはエ
ポキシ環、オキセタン環、オキサゾリン環を含む一価の
基である。
The curable composition for forming the hard coat layer is a cross-linking composition containing a repeating unit represented by the above general formula (1) as a compound having three or more ring-opening polymerizable groups in the same molecule. It is particularly preferable to contain a hydrophilic polymer. The crosslinkable polymer will be described in detail below. In the formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or a methyl group. L 1 is a single bond or a divalent linking group, preferably a single bond, —O—,
Alkylene group, arylene group and * -COO-, * -CONH-, * -OCO-, *-linked to the main chain at * side
NHCO-. P 1 is a monovalent group containing a ring-opening polymerizable group, and preferable P 1 is a monovalent group containing an imino ether ring such as an epoxy ring, an oxetane ring, a tetrahydrofuran ring, a lactone ring, a carbonate ring or an oxazoline ring. Examples of the monovalent group include a monovalent group including an epoxy ring, an oxetane ring, and an oxazoline ring.

【0015】上記一般式(1)で表される繰り返し単位
を含む架橋性ポリマーは、対応するモノマーを重合させ
て合成することが簡便で好ましい。この場合の重合反応
としてはラジカル重合が最も簡便で好ましい。
The crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (1) is preferably synthesized simply by polymerizing a corresponding monomer. As the polymerization reaction in this case, radical polymerization is the most simple and preferable.

【0016】以下に一般式(1)で表される繰り返し単
位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
Specific preferred examples of the repeating unit represented by the general formula (1) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0017】[0017]

【化3】 [Chemical 3]

【0018】[0018]

【化4】 [Chemical 4]

【0019】[0019]

【化5】 [Chemical 5]

【0020】本発明の一般式(1)で表される繰り返し
単位を含む架橋性ポリマーは複数種の一般式(1)で表
される繰り返し単位で構成されたコポリマーであっても
よく、また一般式(1)以外の繰り返し単位(例えば開
環重合性基を含まない繰り返し単位)を含んだコポリマ
ーでもよい。特に架橋性ポリマーのTgや親疎水性をコ
ントロールしたい場合や、架橋性ポリマーの開環重合性
基の含有量をコントロールする目的で一般式(1)以外
の繰り返し単位を含んだコポリマーとする手法は好適で
ある。一般式(1)以外の繰り返し単位の導入方法は、
対応するモノマーを共重合させて導入する手法が好まし
い。
The crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (1) of the present invention may be a copolymer composed of plural kinds of repeating units represented by the general formula (1), and A copolymer containing a repeating unit other than the formula (1) (for example, a repeating unit not containing a ring-opening polymerizable group) may be used. In particular, when it is desired to control the Tg or hydrophilicity / hydrophobicity of the crosslinkable polymer, or for the purpose of controlling the content of the ring-opening polymerizable group of the crosslinkable polymer, a method of using a copolymer containing a repeating unit other than the general formula (1) is preferable. Is. The method of introducing a repeating unit other than the general formula (1) is
A method of introducing the corresponding monomer by copolymerization is preferable.

【0021】一般式(1)以外の繰り返し単位を、対応
するビニルモノマーを重合することによって導入する場
合、好ましく用いられるモノマーとしては、アクリル酸
またはα−アルキルアクリル酸(例えばメタクリル酸な
ど)類から誘導されるエステル類、もしくはアミド類
(例えば、N−i−プロピルアクリルアミド、N−n−
ブチルアクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミ
ド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチルメタ
クリルアミド、アクリルアミド、2−アクリルアミド−
2−メチルプロパンスルホン酸、アクリルアミドプロピ
ルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリルアミ
ド、ジアセトンアクリルアミド、アクリロイルモルホリ
ン、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリレ
ート、ヒドロキシエチルアクリレート、n−プロピルア
クリレート、i−プロピルアクリレート、2−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、2−メチル−2−ニトロプロ
ピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、i−ブチ
ルアクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ペンチ
ルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、2
−エトキシエチルアクリレート、2−メトキシメトキシ
エチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル
アクリレート、2,2−ジメチルブチルアクリレート、
3−メトキシブチルアクリレート、エチルカルビトール
アクリレート、フェノキシエチルアクリレート、n−ペ
ンチルアクリレート、3−ペンチルアクリレート、オク
タフルオロペンチルアクリレート、n−ヘキシルアクリ
レート、シクロヘキシルアクリレート、シクロペンチル
アクリレート、セチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、n−オクチルアクリレート、2−エチルヘキシル
アクリレート、4−メチル−2−プロピルペンチルアク
リレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、n
−オクタデシルアクリレート、メチルメタクリレート、
2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、テト
ラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプ
ロピルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、 n−ブ
チルメタクリレート、i−ブチルメタクリレート、se
c−ブチルメタクリレート、n−オクチルメタクリレー
ト、2−エチルヘキシルメタクリレート、2−メトキシ
エチルメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレ
ート、ベンジルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデ
シルメタクリレート、n−オクタデシルメタクリレー
ト、2−イソボルニルメタクリレート、2−ノルボルニ
ルメチルメタクリレート、5−ノルボルネン−2−イル
メチルメタクリレート、3−メチル−2−ノルボルニル
メチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリ
レートなど)、
When a repeating unit other than the general formula (1) is introduced by polymerizing a corresponding vinyl monomer, acrylic acid or α-alkylacrylic acid (eg methacrylic acid) is preferably used as a monomer. Derived esters or amides (eg, N-i-propylacrylamide, Nn-
Butylacrylamide, Nt-butylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methylmethacrylamide, acrylamide, 2-acrylamide-
2-Methylpropanesulfonic acid, acrylamidopropyltrimethylammonium chloride, methacrylamide, diacetoneacrylamide, acryloylmorpholine, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, methyl acrylate, ethyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, n-propyl acrylate, i -Propyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-methyl-2-nitropropyl acrylate, n-butyl acrylate, i-butyl acrylate, t-butyl acrylate, t-pentyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2
-Ethoxyethyl acrylate, 2-methoxymethoxyethyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2-dimethylbutyl acrylate,
3-methoxybutyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, n-pentyl acrylate, 3-pentyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, n-hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, cyclopentyl acrylate, cetyl acrylate, benzyl acrylate, n-octyl Acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 4-methyl-2-propylpentyl acrylate, heptadecafluorodecyl acrylate, n
-Octadecyl acrylate, methyl methacrylate,
2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl methacrylate, se
c-Butyl methacrylate, n-octyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate, heptadecafluorodecyl methacrylate, n-octadecyl methacrylate, 2-isobornyl methacrylate, 2- Norbornylmethyl methacrylate, 5-norbornen-2-ylmethyl methacrylate, 3-methyl-2-norbornylmethyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, etc.),

【0022】アクリル酸またはα−アルキルアクリル酸
(アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸など)、ビニ
ルエステル類(例えば酢酸ビニル)、マレイン酸または
フマル酸から誘導されるエステル類(マレイン酸ジメチ
ル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチルなど)、マ
レイミド類(N−フェニルマレイミドなど)、マレイン
酸、フマル酸、p−スチレンスルホン酸のナトリウム
塩、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ジエン類
(例えばブタジエン、シクロペンタジエン、イソプレン
など)、芳香族ビニル化合物(例えばスチレン、p−ク
ロルスチレン、t−ブチルスチレン、α−メチルスチレ
ン、スチレンスルホン酸ナトリウム)、N−ビニルピロ
リドン、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルサクシ
ンイミド、N−ビニルホルムアミド、N−ビニル−N−
メチルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド、N−ビ
ニル−N−メチルアセトアミド、1−ビニルイミダゾー
ル、4−ビニルピリジン、ビニルスルホン酸、ビニルス
ルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、メ
タリルスルホン酸ナトリウム、ビニリデンクロライド、
ビニルアルキルエーテル類(例えばメチルビニルエーテ
ル)、エチレン、プロピレン、1−ブテン、イソブテン
などが挙げられる。これらのビニルモノマーは2種類以
上組み合わせて使用してもよい。これら以外のビニルモ
ノマーはリサーチディスクロージャーNo.1955(1
980年、7月)に記載されているものを使用すること
ができる。本発明ではアクリル酸またはメタクリル酸か
ら誘導されるエステル類、およびアミド類、および芳香
族ビニル化合物が特に好ましく用いられるビニルモノマ
ーである。
Acrylic acid or α-alkyl acrylic acid (acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, etc.), vinyl esters (for example, vinyl acetate), maleic acid or esters derived from fumaric acid (dimethyl maleate, maleic acid) Dibutyl, diethyl fumarate, etc.), maleimides (N-phenylmaleimide, etc.), maleic acid, fumaric acid, sodium salt of p-styrenesulfonic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, dienes (eg, butadiene, cyclopentadiene, isoprene, etc.) ), Aromatic vinyl compounds (for example, styrene, p-chlorostyrene, t-butylstyrene, α-methylstyrene, sodium styrenesulfonate), N-vinylpyrrolidone, N-vinyloxazolidone, N-vinylsuccinimide, N-vinyl. Formamide, N-vinyl-N-
Methylformamide, N-vinylacetamide, N-vinyl-N-methylacetamide, 1-vinylimidazole, 4-vinylpyridine, vinylsulfonic acid, sodium vinylsulfonate, sodium allylsulfonate, sodium methallylsulfonate, vinylidene chloride,
Vinyl alkyl ethers (for example, methyl vinyl ether), ethylene, propylene, 1-butene, isobutene, etc. are mentioned. You may use these vinyl monomers in combination of 2 or more types. Other vinyl monomers are Research Disclosure No. 1955 (1
980, July) can be used. In the present invention, esters and amides derived from acrylic acid or methacrylic acid, and aromatic vinyl compounds are particularly preferably used vinyl monomers.

【0023】一般式(1)以外の繰り返し単位として、
開環重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単位も導
入することができる。特に、ハードコート層の硬度を高
めたい場合や、基材もしくはハードコート上に別の機能
層を用いる場合の層間の接着性を改良したい場合、開環
重合性基以外の反応性基を含むコポリマーとする手法は
好適である。開環重合性基以外の反応性基を有する繰り
返し単位の導入方法は対応するビニルモノマー(以下、
反応性モノマーと称する)を共重合する手法が簡便で好
ましい。
As repeating units other than the general formula (1),
Repeating units having a reactive group other than the ring-opening polymerizable group can also be introduced. In particular, when it is desired to increase the hardness of the hard coat layer, or to improve the adhesion between layers when another functional layer is used on the substrate or hard coat, a copolymer containing a reactive group other than the ring-opening polymerizable group. Is preferable. The method for introducing the repeating unit having a reactive group other than the ring-opening polymerizable group is the corresponding vinyl monomer (hereinafter,
A method of copolymerizing a reactive monomer) is simple and preferable.

【0024】以下に反応性モノマーの好ましい具体例を
以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
Preferred specific examples of the reactive monomer are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0025】ヒドロキシル基含有ビニルモノマー(例え
ば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチル
メタクリレート、アリルアルコール、ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートな
ど)、イソシアネート基含有ビニルモノマー(例えば、
イソシアナトエチルアクリレート、イソシアナトエチル
メタクリレートなど)、N-メチロール基含有ビニルモ
ノマー(例えば、 N-メチロールアクリルアミド、N-
メチロールメタクリルアミドなど)、カルボキシル基含
有ビニルモノマー(例えばアクリル酸、メタクリル酸、
イタコン酸、カルボキシエチルアクリレート、安息香酸
ビニルなど)、アルキルハライド含有ビニルモノマー
(例えばクロロメチルスチレン、2−ヒドロキシ−3−
クロロプロピルメタクリレートなど)、酸無水物含有ビ
ニルモノマー(例えばマレイン酸無水物など)、ホルミ
ル基含有ビニルモノマー(例えばアクロレイン、メタク
ロレインなど)、スルフィン酸基含有ビニルモノマー
(例えばスチレンスルフィン酸カリウムなど)、活性メ
チレン含有ビニルモノマー(例えばアセトアセトキシエ
チルメタクリレートなど)、酸クロライド含有モノマー
(例えばアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライ
ドなど)、アミノ基含有モノマー(例えばアリルアミン
など)、アルコキシシリル基含有モノマー(例えばメタ
クリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、アクリ
ロイルオキシプロピルトリメトキシシラン)などが挙げ
られる。
Hydroxyl group-containing vinyl monomer (eg, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, allyl alcohol, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, etc.), isocyanate group-containing vinyl monomer (eg,
Isocyanatoethyl acrylate, isocyanatoethyl methacrylate, etc.), N-methylol group-containing vinyl monomer (eg, N-methylolacrylamide, N-
Methylol methacrylamide, etc.), carboxyl group-containing vinyl monomers (eg acrylic acid, methacrylic acid,
Itaconic acid, carboxyethyl acrylate, vinyl benzoate, etc.), alkyl halide-containing vinyl monomers (eg chloromethylstyrene, 2-hydroxy-3-)
Chloropropylmethacrylate etc.), acid anhydride-containing vinyl monomers (eg maleic anhydride etc.), formyl group-containing vinyl monomers (eg acrolein, methacrolein etc.), sulfinic acid group-containing vinyl monomers (eg potassium styrenesulfinate etc.), Active methylene-containing vinyl monomers (eg acetoacetoxyethylmethacrylate etc.), acid chloride-containing monomers (eg acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride etc.), amino group-containing monomers (eg allylamine etc.), alkoxysilyl group-containing monomers (eg methacryloyloxypropyl). Trimethoxysilane, acryloyloxypropyltrimethoxysilane) and the like.

【0026】本発明の一般式(1)で表される繰り返し
単位を含む架橋性ポリマー中、一般式(1)で表される
繰り返し単位が含まれる割合は、好ましくは1質量%以
上100質量%以下、より好ましくは30質量%以上1
00質量%以下、特に好ましくは50質量%以上100
質量%以下である。
In the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (1) of the present invention, the proportion of the repeating unit represented by the general formula (1) is preferably from 1% by mass to 100% by mass. Or less, more preferably 30 mass% or more 1
00% by mass or less, particularly preferably 50% by mass or more and 100
It is not more than mass%.

【0027】一般式(1)で表される繰り返し単位を含
む架橋性ポリマーの好ましい分子量範囲は数平均分子量
で1000以上100万以下、さらに好ましくは300
0以上20万以下である。最も好ましくは5000以上
10万以下である。ここで、数平均分子量は、ゲルパー
ミエーションクロマトグラフィーで測定されたポリスチ
レン換算値である(以下同じである)。
The preferred molecular weight range of the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (1) is 1,000 to 1,000,000, more preferably 300 in terms of number average molecular weight.
It is 0 or more and 200,000 or less. Most preferably, it is 5,000 or more and 100,000 or less. Here, the number average molecular weight is a polystyrene conversion value measured by gel permeation chromatography (the same applies hereinafter).

【0028】以下に一般式(1)で表される繰り返し単
位を含む架橋性ポリマーの好ましい例を表1に示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。なお、前記
で具体例を挙げた一般式(1)で表される繰り返し単位
は前記で挙げた具体例の番号で表し、共重合可能なモノ
マーから誘導される繰り返し単位は、モノマー名を記載
し、共重合組成比を質量%で付記した。
Preferred examples of the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (1) are shown in Table 1 below.
The present invention is not limited to these. In addition, the repeating unit represented by the general formula (1), which is a specific example, is represented by the number of the specific example, and the repeating unit derived from a copolymerizable monomer is a monomer name. The copolymerization composition ratio was added in mass%.

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】本発明のハードコートフィルムのハードコ
ート層は、エチレン性不飽和基を含む化合物と同一分子
内に3個以上の開環重合性基を含む化合物の両方を含有
する硬化性組成物を所望の基材上に塗布、硬化すること
で形成することができる。
The hard coat layer of the hard coat film of the present invention comprises a curable composition containing both a compound containing an ethylenically unsaturated group and a compound containing three or more ring-opening polymerizable groups in the same molecule. It can be formed by applying and curing it on a desired substrate.

【0031】以下、本発明に用いることのできるエチレ
ン性不飽和基を含む化合物について説明する。好ましい
エチレン性不飽和基の種類は、アクリロイル基、メタク
リロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基であり、特
に好ましくはアクリロイル基である。エチレン性不飽和
基を含む化合物はエチレン性不飽和基を分子内に1個以
上有していればよいが、好ましくは2個以上、より好ま
しくは3個以上である。そのなかでもアクリル基を有す
る化合物が好ましく、分子内に2〜6個のアクリル酸エ
ステル基を有する多官能アクリレートモノマーと称され
る化合物やウレタンアクリレート、ポリエステルアクリ
レート、エポキシアクリレートと称される分子内に数個
のアクリル酸エステル基を有する分子量が数百から数千
のオリゴマーを好ましく使用できる。
The compound containing an ethylenically unsaturated group which can be used in the present invention is described below. Preferred types of the ethylenically unsaturated group are an acryloyl group, a methacryloyl group, a styryl group and a vinyl ether group, and an acryloyl group is particularly preferred. The compound containing an ethylenically unsaturated group may have one or more ethylenically unsaturated groups in the molecule, but preferably two or more, more preferably three or more. Among them, a compound having an acrylic group is preferable, and a compound called a polyfunctional acrylate monomer having 2 to 6 acrylic acid ester groups in the molecule, a urethane acrylate, a polyester acrylate, or a molecule called an epoxy acrylate is included in the molecule. An oligomer having several hundred acrylate groups and having a molecular weight of several hundreds to several thousands can be preferably used.

【0032】これら分子内に2個以上のアクリル基を有
する化合物の具体例としては、エチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレートなどのポリオールポリアクリレート類、ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘ
キサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート
などのエポキシアクリレート類、ポリイソシナネートと
ヒドロキシエチルアクリレートなどの水酸基含有アクリ
レートの反応によって得られるウレタンアクリレートな
どを挙げることが出来る。
Specific examples of the compound having two or more acryl groups in the molecule include ethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate and diester. Polyol polyacrylates such as pentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, epoxy acrylates such as diacrylate of bisphenol A diglycidyl ether, diacrylate of hexanediol diglycidyl ether, polyisocyanate and hydroxyethyl acrylate Examples include urethane acrylates obtained by the reaction of hydroxyl group-containing acrylates. That.

【0033】また、本発明では分子内に複数のエチレン
性不飽和基を有する化合物として下記一般式(2)で表
される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーも好ましく使
用できる。以下、一般式(2)で表される繰り返し単位
を含む架橋性ポリマーについて詳細に説明する。 一般式(2)
In the present invention, a crosslinkable polymer containing a repeating unit represented by the following general formula (2) can be preferably used as a compound having a plurality of ethylenically unsaturated groups in the molecule. Hereinafter, the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (2) will be described in detail. General formula (2)

【0034】[0034]

【化6】 [Chemical 6]

【0035】一般式(2)の式中、R2は、水素原子も
しくは炭素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、好
ましくは水素原子もしくはメチル基である。P2は、エ
チレン性不飽和基を含む一価の基である。L2は、単結
合もしくは二価の連結基であり、好ましくは単結合、−
O−、アルキレン基、アリーレン基および*側で主鎖に
連結する*−COO−、*−CONH−、*−OCO
−、*−NHCO−である。P2は、エチレン性不飽和
基を含む一価の基である。好ましいP2としては、アク
リロイル基、メタクリロイル基、スチリル基を含む一価
の基であり、最も好ましくはアクリロイル基を含む一価
の基である。
In the formula (2), R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or a methyl group. P 2 is a monovalent group containing an ethylenically unsaturated group. L 2 is a single bond or a divalent linking group, preferably a single bond, −
O-, alkylene group, arylene group and * -COO-, * -CONH-, * -OCO linked to the main chain at * side
-, * -NHCO-. P 2 is a monovalent group containing an ethylenically unsaturated group. P 2 is preferably a monovalent group containing an acryloyl group, a methacryloyl group or a styryl group, and most preferably a monovalent group containing an acryloyl group.

【0036】一般式(2)で表される繰り返し単位を含
む架橋性ポリマーは、対応するモノマーを重合させて
直接エチレン性不飽和基を導入する手法で合成してもよ
く、任意の官能基を有するモノマーを重合して得られ
るポリマーに高分子反応によりエチレン性不飽和基を導
入する手法で合成してもよい。また、およびの手法
を組み合わせて合成することもできる。重合反応として
はラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合などが挙
げられる。前記の方法を用いる場合、重合反応により
消費されるエチレン性不飽和基と架橋性ポリマー中に残
されるエチレン性不飽和基の重合性の差を利用すること
が必要である。例えば、一般式(2)の好ましいP2
なかで、アクリロイル基、メタクリロイル基を含む一価
の基を用いる場合、架橋性ポリマーを生成させる重合反
応をカチオン重合とすることで前記の手法によって本
発明の架橋性ポリマーを得る事ができる。一方、P2
スチリル基を含む一価の基とする場合、ラジカル重合、
カチオン重合、アニオン重合のいずれの方法をとっても
ゲル化が進行しやすいため通常前記の手法によって本
発明の架橋性ポリマーを合成する。
The crosslinkable polymer containing a repeating unit represented by the general formula (2) may be synthesized by polymerizing a corresponding monomer to directly introduce an ethylenically unsaturated group. You may synthesize | combine by the method of introduce | transducing an ethylenically unsaturated group to the polymer obtained by superposing | polymerizing the monomer which has a polymer reaction. Also, the methods of and can be combined and synthesized. Examples of the polymerization reaction include radical polymerization, cationic polymerization and anionic polymerization. When the above method is used, it is necessary to utilize the difference in the polymerizability between the ethylenically unsaturated group consumed by the polymerization reaction and the ethylenically unsaturated group left in the crosslinkable polymer. For example, when a monovalent group containing an acryloyl group or a methacryloyl group is used among the preferred P 2 's in the general formula (2), the polymerization reaction for forming a crosslinkable polymer is carried out by the cationic polymerization as described above. The crosslinkable polymer of the invention can be obtained. On the other hand, when P 2 is a monovalent group containing a styryl group, radical polymerization,
Since gelation is likely to proceed regardless of whether the method is cationic polymerization or anionic polymerization, the crosslinkable polymer of the present invention is usually synthesized by the above-mentioned method.

【0037】このように前記に記述した高分子反応を
利用する手法は一般式(2)中に導入されるエチレン性
不飽和基の種類によらず、架橋性ポリマーを得ることが
可能であり、有用である。高分子反応は、例えば、
(I)2−クロロエチル基から塩酸を脱離させるよう
な、エチレン性不飽和基を前駆体化した官能基を含むポ
リマーを生成させたあとに官能基変換(脱離反応、酸化
反応、還元反応など)によりエチレン性不飽和基に誘導
する方法と、(II)任意の官能基を含むポリマーを生成
させたあとに、該ポリマー中の官能基と結合形成反応が
進行して共有結合を生成しうる官能基とエチレン性不飽
和基との両方を有する化合物(以降、反応性モノマーと
称する)を反応させる方法が挙げられる。またこれら
(I)、(II)の方法は組み合わせて行ってもよい。こ
こで言う結合形成反応とは、一般に有機合成分野で用い
られる結合生成反応のなかで共有結合を形成する反応で
あれば特に制限なく使用できる。また、(II)の方法で
行う場合、架橋性ポリマーに含まれるエチレン性不飽和
基が反応中に熱重合し、ゲル化してしまう場合があるの
で、できるだけ低温(好ましくは60℃以下、特に好ま
しくは室温以下)で反応が進行するものが好ましい。ま
た反応の進行を促進させる目的で触媒を用いても良く、
ゲル化を抑制する目的で重合禁止剤を用いてもよい。
As described above, the above-described method utilizing the polymer reaction can obtain a crosslinkable polymer regardless of the kind of the ethylenically unsaturated group introduced in the general formula (2). It is useful. Polymer reactions include, for example:
(I) Functional group conversion (elimination reaction, oxidation reaction, reduction reaction) after producing a polymer containing a functional group in which an ethylenically unsaturated group is made into a precursor, such as elimination of hydrochloric acid from a 2-chloroethyl group Etc.) to form an ethylenically unsaturated group, and (II) after forming a polymer containing an arbitrary functional group, a bond forming reaction proceeds with a functional group in the polymer to form a covalent bond. And a compound having both an ethylenically unsaturated group (hereinafter referred to as a reactive monomer). In addition, these methods (I) and (II) may be combined. The bond forming reaction referred to here can be used without particular limitation as long as it is a reaction forming a covalent bond among bond forming reactions generally used in the field of organic synthesis. Further, when the method (II) is carried out, the ethylenically unsaturated group contained in the crosslinkable polymer may be thermally polymerized during the reaction to cause gelation, so that the temperature is as low as possible (preferably 60 ° C. or less, particularly preferably). Is preferably room temperature or less), and the reaction proceeds preferably. A catalyst may be used for the purpose of promoting the progress of the reaction,
A polymerization inhibitor may be used for the purpose of suppressing gelation.

【0038】以下に好ましい高分子結合形成反応が進行
する官能基の組み合わせの例を挙げるが本発明はこれら
に限定されるものではない。
Examples of preferable combinations of functional groups in which the polymer bond-forming reaction proceeds are given below, but the present invention is not limited thereto.

【0039】加熱もしくは室温で反応が進行する官能基
の組み合わせとしては、(イ)ヒドロキシル基に対し
て、エポキシ基、イソシアネート基、N-メチロール
基、カルボキシル基、アルキルハライド、酸無水物、酸
クロライド、活性エステル基(例えば硫酸エステル)、
ホルミル基、アセタール基、(ロ)イソシアネート基に
対してヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、カル
ボキシル基、N-メチロール基、(ハ)カルボキシル基
に対して、エポキシ基、イソシアネート基、アミノ基、
N-メチロール基、(ニ)N-メチロール基に対して、イ
ソシアネート基、N-メチロール基、カルボキシル基、
アミノ基、ヒドロキシル基、(ホ)エポキシ基に対し
て、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基、カルボ
キシル基、N-メチロール基、(ヘ)ビニルスルホン基
に対してスルフィン酸基、アミノ基、(ト)ホルミル基
に対してヒドロキシル基、メルカプト基、活性メチレン
基、(チ)メルカプト基に対して、ホルミル基、ビニル
基(アリル基、アクリル基など)、エポキシ基、イソシ
アネート基、 N-メチロール基、カルボキシル基、アル
キルハライド、酸無水物酸クロライド、活性エステル基
(例えば硫酸エステル)、(リ)アミノ基に対して、ホ
ルミル基、ビニル基(アリル基、アクリル基など)、エ
ポキシ基、イソシアネート基、 N-メチロール基、カル
ボキシル基、アルキルハライド、酸無水物、酸クロライ
ド、活性エステル基(例えば硫酸エステル)、などの組
み合わせが挙げられる。
Examples of the combination of functional groups in which the reaction proceeds by heating or at room temperature include (a) hydroxyl group, epoxy group, isocyanate group, N-methylol group, carboxyl group, alkyl halide, acid anhydride, acid chloride , An active ester group (eg sulfate),
Formyl group, acetal group, (b) hydroxyl group, mercapto group, amino group for isocyanate group, carboxyl group, N-methylol group, (ha) carboxyl group for epoxy group, isocyanate group, amino group,
With respect to the N-methylol group and (d) N-methylol group, an isocyanate group, an N-methylol group, a carboxyl group,
For amino group, hydroxyl group, (e) epoxy group, hydroxyl group, amino group, mercapto group, carboxyl group, N-methylol group, (f) vinyl sulfone group for sulfinic acid group, amino group, (to ) A hydroxyl group, a mercapto group, an active methylene group for a formyl group, a formyl group, a vinyl group (an allyl group, an acryl group, etc.), an epoxy group, an isocyanate group, an N-methylol group for a (thio) mercapto group Carboxyl group, alkyl halide, acid anhydride acid chloride, active ester group (for example, sulfate ester), (ri) amino group, formyl group, vinyl group (allyl group, acrylic group, etc.), epoxy group, isocyanate group, N-methylol group, carboxyl group, alkyl halide, acid anhydride, acid chloride, active ester group ( Example, if sulfuric acid ester), and a combination of such.

【0040】以下に反応性モノマーの好ましい具体例を
以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
Preferred specific examples of the reactive monomer are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0041】ヒドロキシル基含有ビニルモノマー(例え
ば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチル
メタクリレート、アリルアルコール、ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートな
ど)、イソシアネート基含有ビニルモノマー(例えば、
イソシアナトエチルアクリレート、イソシアナトエチル
メタクリレートなど)、N-メチロール基含有ビニルモ
ノマー(例えば、 N-メチロールアクリルアミド、N-
メチロールメタクリルアミドなど)、エポキシ基含有ビ
ニルモノマー(例えば、グリシジルアクリレート、グリ
シジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、C
YCLOMER−M100、A200(ダイセル化学工
業(株)製)など)、カルボキシル基含有ビニルモノマー
(例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、カル
ボキシエチルアクリレート、安息香酸ビニルなど)、ア
ルキルハライド含有ビニルモノマー(例えばクロロメチ
ルスチレン、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルメタ
クリレートなど)、酸無水物含有ビニルモノマー(例え
ば無水マレイン酸など)、ホルミル基含有ビニルモノマ
ー(例えばアクロレイン、メタクロレインなど)、スル
フィン酸基含有ビニルモノマー(例えばスチレンスルフ
ィン酸カリウムなど)、活性メチレン含有ビニルモノマ
ー(例えばアセトアセトキシエチルメタクリレートな
ど)、ビニル基含有ビニルモノマー(例えばアリルメタ
クリレート、アリルアクリレートなど)、酸クロライド
含有モノマー(例えばアクリル酸クロライド、メタクリ
ル酸クロライドなど)、アミノ基含有モノマー(例えば
アリルアミンなど)が挙げられる。
Hydroxyl group-containing vinyl monomer (eg, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, allyl alcohol, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, etc.), isocyanate group-containing vinyl monomer (eg,
Isocyanatoethyl acrylate, isocyanatoethyl methacrylate, etc.), N-methylol group-containing vinyl monomer (eg, N-methylolacrylamide, N-
Methylol methacrylamide, etc.), epoxy group-containing vinyl monomers (eg, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, C
YCLOMER-M100, A200 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), carboxyl group-containing vinyl monomers (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, carboxyethyl acrylate, vinyl benzoate, etc.), alkyl halide-containing vinyl monomers (for example, Chloromethylstyrene, 2-hydroxy-3-chloropropyl methacrylate, etc.), acid anhydride-containing vinyl monomers (eg, maleic anhydride), formyl group-containing vinyl monomers (eg, acrolein, methacrolein, etc.), sulfinic acid group-containing vinyl monomers. (Eg potassium styrenesulfinate), vinyl monomer containing active methylene (eg acetoacetoxyethyl methacrylate), vinyl monomer containing vinyl group (eg allyl methacrylate, allyl) Acrylate, etc.), acid chloride-containing monomer (e.g., acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride), and an amino group-containing monomer (e.g., allyl amine, etc.).

【0042】前記(II)に記載した任意の官能基を含む
ポリマーは、反応性官能基とエチレン性不飽和基の両方
を有する反応性モノマーの重合を行うことで得ることが
できる。また、ポリ酢酸ビニルを変性して得られるポリ
ビニルアルコールのように反応性の低い前駆体モノマー
の重合後、官能基変換を行うことで得ることもできる。
これらの場合の重合方法としては、ラジカル重合が最も
簡便で好ましい。
The polymer containing any functional group described in the above (II) can be obtained by polymerizing a reactive monomer having both a reactive functional group and an ethylenically unsaturated group. It can also be obtained by polymerizing a precursor monomer having low reactivity such as polyvinyl alcohol obtained by modifying polyvinyl acetate and then converting the functional group.
In these cases, radical polymerization is the most simple and preferable as the polymerization method.

【0043】以下に一般式(2)で表される繰り返し単
位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
Preferred specific examples of the repeating unit represented by the general formula (2) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0044】[0044]

【化7】 [Chemical 7]

【0045】[0045]

【化8】 [Chemical 8]

【0046】[0046]

【化9】 [Chemical 9]

【0047】[0047]

【化10】 [Chemical 10]

【0048】[0048]

【化11】 [Chemical 11]

【0049】本発明の一般式(2)で表される繰り返し
単位を含む架橋性ポリマーは、複数種の一般式(2)で
表される繰り返し単位で構成されたコポリマーであって
もよく、また、一般式(2)以外の繰り返し単位(例え
ばエチレン性不飽和基を含まない繰り返し単位)を含ん
だコポリマーでもよい。特に架橋性ポリマーのTgや親
疎水性をコントロールしたい場合や、架橋性ポリマーの
エチレン性不飽和基の含有量をコントロールする目的で
一般式(2)以外の繰り返し単位を含んだコポリマーと
する手法は好適である。一般式(2)以外の繰り返し単
位の導入方法は、(a)対応するモノマーを共重合させ
て直接導入する手法を用いてもよく、(b)官能基変換
可能な前駆体モノマーを重合させ、高分子反応により導
入する手法を用いてもよい。また、(a)および(b)
の手法を組み合わせて導入することもできる。
The crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (2) of the present invention may be a copolymer composed of plural kinds of repeating units represented by the general formula (2), and The copolymer may include a repeating unit other than the general formula (2) (for example, a repeating unit not containing an ethylenically unsaturated group). In particular, when it is desired to control the Tg or hydrophilicity / hydrophobicity of the crosslinkable polymer, or for the purpose of controlling the content of the ethylenically unsaturated group of the crosslinkable polymer, a method of using a copolymer containing a repeating unit other than the general formula (2) is preferable. Is. As a method of introducing a repeating unit other than the general formula (2), (a) a method of copolymerizing a corresponding monomer and directly introducing it may be used, and (b) polymerizing a precursor monomer capable of converting a functional group, A method of introducing by a polymer reaction may be used. Also, (a) and (b)
It is also possible to introduce a combination of the above methods.

【0050】(a)の手法によって一般式(2)以外の
繰り返し単位を、対応するビニルモノマーを重合するこ
とによって導入する場合、好ましく用いられるモノマー
としては、アクリル酸またはα−アルキルアクリル酸類
(例えばメタクリル酸など)から誘導されるエステル類
もしくはアミド類(例えば、N−i−プロピルアクリル
アミド、N−n−ブチルアクリルアミド、N−t−ブチ
ルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、
N−メチルメタクリルアミド、アクリルアミド、2−ア
クリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、アクリ
ルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、
メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、アクリ
ロイルモルホリン、N−メチロールアクリルアミド、N
−メチロールメタクリルアミド、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、
n−プロピルアクリレート、i−プロピルアクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−メチル
−2−ニトロプロピルアクリレート、n−ブチルアクリ
レート、i−ブチルアクリレート、t−ブチルアクリレ
ート、t−ペンチルアクリレート、2−メトキシエチル
アクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−
メトキシメトキシエチルアクリレート、2,2,2−ト
リフルオロエチルアクリレート、2,2−ジメチルブチ
ルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、エ
チルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアク
リレート、n−ペンチルアクリレート、3−ペンチルア
クリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、n
−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、シクロペンチルアクリレート、セチルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、n−オクチルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、4−メチル−2
−プロピルペンチルアクリレート、ヘプタデカフルオロ
デシルアクリレート、n−オクタデシルアクリレート、
メチルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチ
ルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレ
ート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、ヒドロ
キシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、 n−ブチルメタクリレート、i−ブチ
ルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、n
−オクチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタク
リレート、2−メトキシエチルメタクリレート、2−エ
トキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、n−オ
クタデシルメタクリレート、2−イソボルニルメタクリ
レート、2−ノルボルニルメチルメタクリレート、5−
ノルボルネン−2−イルメチルメタクリレート、3−メ
チル−2−ノルボルニルメチルメタクリレート、ジメチ
ルアミノエチルメタクリレートなど)、
When a repeating unit other than the general formula (2) is introduced by polymerizing the corresponding vinyl monomer by the method (a), the monomer preferably used is acrylic acid or α-alkylacrylic acid (for example, Esters or amides derived from methacrylic acid (eg, N-i-propylacrylamide, Nn-butylacrylamide, Nt-butylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide,
N-methylmethacrylamide, acrylamide, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, acrylamidopropyltrimethylammonium chloride,
Methacrylamide, diacetone acrylamide, acryloyl morpholine, N-methylol acrylamide, N
-Methylol methacrylamide, methyl acrylate,
Ethyl acrylate, hydroxyethyl acrylate,
n-propyl acrylate, i-propyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-methyl-2-nitropropyl acrylate, n-butyl acrylate, i-butyl acrylate, t-butyl acrylate, t-pentyl acrylate, 2-methoxyethyl Acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2-
Methoxymethoxyethyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2-dimethylbutyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, n-pentyl acrylate, 3-pentyl acrylate, octa Fluoropentyl acrylate, n
-Hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, cyclopentyl acrylate, cetyl acrylate, benzyl acrylate, n-octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 4-methyl-2
-Propylpentyl acrylate, heptadecafluorodecyl acrylate, n-octadecyl acrylate,
Methyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, n
-Octyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate, heptadecafluorodecyl methacrylate, n-octadecyl methacrylate, 2-isobornyl methacrylate, 2-norbornyl methyl methacrylate, 5-
Norbornen-2-ylmethylmethacrylate, 3-methyl-2-norbornylmethylmethacrylate, dimethylaminoethylmethacrylate, etc.),

【0051】アクリル酸類またはα−アルキルアクリル
酸類(例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸な
ど)、ビニルエステル類(例えば酢酸ビニルなど)、マ
レイン酸またはフマル酸から誘導されるエステル類(マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエ
チルなど)、マレイミド類(N−フェニルマレイミドな
ど)、マレイン酸、フマル酸、p−スチレンスルホン酸
のナトリウム塩、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、ジエン類(例えばブタジエン、シクロペンタジエ
ン、イソプレンなど)、芳香族ビニル化合物(例えばス
チレン、p−クロルスチレン、t−ブチルスチレン、α
−メチルスチレン、スチレンスルホン酸ナトリウムな
ど)、N−ビニルピロリドン、N−ビニルオキサゾリド
ン、N−ビニルサクシンイミド、N−ビニルホルムアミ
ド、N−ビニル−N−メチルホルムアミド、N−ビニル
アセトアミド、N−ビニル−N−メチルアセトアミド、
1−ビニルイミダゾール、4−ビニルピリジン、ビニル
スルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム、アリルスル
ホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸ナトリウム、ビ
ニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル類(例え
ばメチルビニルエーテルなど)、エチレン、プロピレ
ン、1−ブテン、イソブテンなどが挙げれる。これらの
ビニルモノマーは2種類以上組み合わせて使用してもよ
い。これら以外のビニルモノマーはリサーチディスクロ
ージャーNo.1955(1980年、7月)に記載され
ているものを使用することができる。本発明ではアクリ
ル酸またはメタクリル酸から誘導されるエステル類、お
よびアミド類、および芳香族ビニル化合物が特に好まし
く用いられるビニルモノマーである。
Acrylic acids or α-alkylacrylic acids (eg acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid etc.), vinyl esters (eg vinyl acetate etc.), esters derived from maleic acid or fumaric acid (dimethyl maleate, Dibutyl maleate, diethyl fumarate, etc., maleimides (N-phenylmaleimide, etc.), maleic acid, fumaric acid, sodium salt of p-styrenesulfonic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, dienes (for example, butadiene, cyclopentadiene, Isoprene etc.), aromatic vinyl compounds (eg styrene, p-chlorostyrene, t-butylstyrene, α)
-Methylstyrene, sodium styrenesulfonate, etc.), N-vinylpyrrolidone, N-vinyloxazolidone, N-vinylsuccinimide, N-vinylformamide, N-vinyl-N-methylformamide, N-vinylacetamide, N-vinyl- N-methylacetamide,
1-vinyl imidazole, 4-vinyl pyridine, vinyl sulfonic acid, sodium vinyl sulfonate, sodium allyl sulfonate, sodium methallyl sulfonate, vinylidene chloride, vinyl alkyl ethers (such as methyl vinyl ether), ethylene, propylene, 1- Examples include butene and isobutene. You may use these vinyl monomers in combination of 2 or more types. As the vinyl monomer other than these, those described in Research Disclosure No. 1955 (July, 1980) can be used. In the present invention, esters and amides derived from acrylic acid or methacrylic acid, and aromatic vinyl compounds are particularly preferably used vinyl monomers.

【0052】また、一般式(2)で表される繰り返し単
位を前記のように高分子反応で導入し、反応を完結さ
せない場合、エチレン性不飽和基を前駆体化した官能基
や反応性官能基を含む繰り返し単位を有する共重合体と
なるが、本発明では特に制限なく用いることができる。
When the repeating unit represented by the general formula (2) is introduced by a polymer reaction as described above and the reaction is not completed, a functional group obtained by converting an ethylenically unsaturated group into a precursor or a reactive functional group is used. Although it is a copolymer having a repeating unit containing a group, it can be used in the invention without particular limitation.

【0053】上記で挙げたビニルモノマーから誘導され
るエチレン性不飽和基を含まない繰り返し単位の大部分
は、前述した(b)官能基変換可能な前駆体モノマーを
重合させ、高分子反応により導入することも可能であ
る。一方で、本発明の一般式(2)で表される繰り返し
単位を含む架橋性ポリマーは、高分子反応によってのみ
でしか導入できない一般式(2)以外の繰り返し単位を
含んでいてもよい。典型的な例としてポリ酢酸ビニルを
変性して得られるポリビニルアルコールやポリビニルア
ルコールのアセタール化反応によって得られるポリビニ
ルブチラールなどを挙げることができる。これらの繰り
返し単位の具体的な例を以下に示すが本発明はこれらに
限定されるものではない。
Most of the repeating units containing no ethylenically unsaturated group derived from the above-mentioned vinyl monomers are introduced by polymerizing the aforementioned (b) functional group-convertable precursor monomer and polymerizing it. It is also possible to do so. On the other hand, the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (2) of the present invention may contain a repeating unit other than the general formula (2) which can be introduced only by a polymer reaction. Typical examples include polyvinyl alcohol obtained by modifying polyvinyl acetate, polyvinyl butyral obtained by the acetalization reaction of polyvinyl alcohol, and the like. Specific examples of these repeating units are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0054】[0054]

【化12】 [Chemical 12]

【0055】本発明の一般式(2)で表される繰り返し
単位を含む架橋性ポリマー中、一般式(2)で表される
繰り返し単位が含まれる割合は、1質量%以上100質
量%以下、好ましくは30質量%以上100質量%以
下、特に好ましくは50質量%以上100質量%以下で
ある。
In the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (2) of the present invention, the proportion of the repeating unit represented by the general formula (2) is from 1% by mass to 100% by mass, It is preferably 30% by mass or more and 100% by mass or less, and particularly preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less.

【0056】一般式(2)で表される繰り返し単位を含
む架橋性ポリマーの好ましい分子量範囲は、数平均分子
量で1000以上100万以下、さらに好ましくは30
00以上20万以下である。最も好ましくは5000以
上10万以下である。
The crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (2) preferably has a number average molecular weight of 1,000 or more and 1,000,000 or less, more preferably 30.
It is from 00 to 200,000. Most preferably, it is 5,000 or more and 100,000 or less.

【0057】以下に一般式(2)で表される繰り返し単
位を含む架橋性ポリマーの好ましい例を表2に示すが、
本発明はこれに限定されるものではない。なお、前記で
具体例を挙げた一般式(2)で表される繰り返し単位と
ポリビニルアルコールなどの繰り返し単位は前記で挙げ
た具体例の番号で表し、共重合可能なモノマーから誘導
される繰り返し単位は、モノマー名を記載し、共重合組
成比を質量%で付記した。
Preferred examples of the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (2) are shown in Table 2 below.
The present invention is not limited to this. In addition, the repeating unit represented by the general formula (2) and the repeating unit such as polyvinyl alcohol, which are mentioned above as specific examples, are represented by the numbers of the specific examples described above, and the repeating unit derived from a copolymerizable monomer is used. Indicates the monomer name, and the copolymerization composition ratio is additionally indicated by mass%.

【0058】[0058]

【表2】 [Table 2]

【0059】本発明に用いることのできる開環重合性基
を有する化合物として、一般式(1)および(2)で表
される両方の繰り返し単位を含むポリマーも挙げること
ができる。この場合の一般式(1)および(2)の好ま
しい繰り返し単位としては、前記したものと同じであ
る。また、一般式(1)および(2)以外の繰り返し単
位を含んだコポリマーであっても、エチレン性不飽和基
および開環重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単
位を含んだコポリマーであってもよい。
As the compound having a ring-opening polymerizable group which can be used in the present invention, a polymer containing both repeating units represented by the general formulas (1) and (2) can be mentioned. In this case, preferable repeating units of the general formulas (1) and (2) are the same as those described above. Further, even a copolymer containing a repeating unit other than the general formulas (1) and (2) is a copolymer containing a repeating unit having a reactive group other than an ethylenically unsaturated group and a ring-opening polymerizable group. May be.

【0060】一般式(1)および(2)で表される両方
の繰り返し単位を含む架橋性ポリマー中、一般式(1)
で表される繰り返し単位が含まれる割合は、1質量%以
上99質量%以下、好ましくは20質量%以上80質量
%以下、特に好ましくは30質量%以上70質量%以下
であり、一般式(2)で表される繰り返し単位が含まれ
る割合は、1質量%以上99質量%以下、好ましくは2
0質量%以上80質量%以下、特に好ましくは30質量
%以上70質量%以下である。
In the crosslinkable polymer containing both repeating units represented by the general formulas (1) and (2), the general formula (1)
The proportion of the repeating unit represented by is 1% by mass or more and 99% by mass or less, preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, particularly preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less, and the general formula (2 The proportion of the repeating units represented by 1) is 1% by mass or more and 99% by mass or less, preferably 2% by mass or more.
It is 0% by mass or more and 80% by mass or less, particularly preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less.

【0061】一般式(1)および(2)で表される両方
の繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい分子量
範囲は数平均分子量で1000以上100万以下、さら
に好ましくは3000以上20万以下である。最も好ま
しくは5000以上10万以下である。
The number average molecular weight of the crosslinkable polymer containing the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) is preferably 1,000 or more and 1,000,000 or less, more preferably 3,000 or more and 200,000 or less. . Most preferably, it is 5,000 or more and 100,000 or less.

【0062】一般式(1)および(2)で表される両方
の繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい例を表
3に示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。なお、前記で具体例を挙げた一般式(1)および
(2)で表される繰り返し単位とポリビニルアルコール
などの繰り返し単位は前記で挙げた具体例の番号で表
し、共重合可能なモノマーから誘導される繰り返し単位
は、モノマー名を記載し、共重合組成比を質量%で付記
した。
Preferred examples of the crosslinkable polymer containing both repeating units represented by the general formulas (1) and (2) are shown in Table 3, but the present invention is not limited thereto. In addition, the repeating units represented by the general formulas (1) and (2) and the repeating units such as polyvinyl alcohol, which are mentioned above as specific examples, are represented by the numbers of the specific examples described above and are derived from a copolymerizable monomer. For the repeating unit to be used, the monomer name was described, and the copolymerization composition ratio was additionally indicated by mass%.

【0063】[0063]

【表3】 [Table 3]

【0064】本発明のハードコートフィルムのハードコ
ート層は、エチレン性不飽和基を含む化合物と同一分子
内に3個以上の開環重合性基を含む化合物の両方を含有
する硬化性組成物を所望の基材上に塗布、硬化すること
で形成することができる。本発明ではエチレン性不飽和
基を含む化合物と同一分子内に3個以上の開環重合性基
を含む化合物の好ましい混合比は用いる化合物の種類に
よっても異なり、特に制限はないが、エチレン性不飽和
基を含む化合物の割合が30質量%以上90質量%以下
であることが好ましく、さらに好ましくは50質量%以
上80質量%以下である。
The hard coat layer of the hard coat film of the present invention comprises a curable composition containing both a compound containing an ethylenically unsaturated group and a compound containing three or more ring-opening polymerizable groups in the same molecule. It can be formed by applying and curing it on a desired substrate. In the present invention, the preferable mixing ratio of the compound containing an ethylenically unsaturated group and the compound containing three or more ring-opening polymerizable groups in the same molecule varies depending on the kind of the compound used and is not particularly limited. The ratio of the compound containing a saturated group is preferably 30% by mass or more and 90% by mass or less, and more preferably 50% by mass or more and 80% by mass or less.

【0065】本発明では、ハードコート層を形成する際
に、エチレン性不飽和基を含む化合物と開環重合性基を
含む化合物の両方の化合物の架橋反応が進行することが
好ましい。エチレン性不飽和基の好ましい架橋反応はラ
ジカル重合反応であり、開環重合性基の好ましい架橋反
応はカチオン重合反応である。いずれの場合も熱および
/または光の作用により、重合反応を進行させることが
できる。通常、重合開始剤と称される少量のラジカル発
生剤または酸発生剤を包含するカチオン発生剤を添加
し、熱および/または光によりこれらを分解し、ラジカ
ルまたはカチオンを発生させ重合を進行させる方法が一
般的である。ラジカル重合とカチオン重合は別々に行っ
てもよいが、同時に進行させることが好ましい。ラジカ
ル発生剤を添加せずに架橋反応を進行させる方法として
単に加熱する方法もあるが、電子線を照射する方法が好
ましく用いられる。
In the present invention, it is preferable that the crosslinking reaction of both the compound containing the ethylenically unsaturated group and the compound containing the ring-opening polymerizable group proceeds when forming the hard coat layer. A preferable crosslinking reaction of the ethylenically unsaturated group is a radical polymerization reaction, and a preferable crosslinking reaction of the ring-opening polymerizable group is a cationic polymerization reaction. In either case, the polymerization reaction can be advanced by the action of heat and / or light. Usually, a method of adding a small amount of a cation generator including a radical generator or an acid generator, which is called a polymerization initiator, and decomposing them by heat and / or light to generate radicals or cations to proceed polymerization. Is common. The radical polymerization and the cationic polymerization may be performed separately, but it is preferable to proceed at the same time. There is a method of simply heating as a method of advancing the crosslinking reaction without adding a radical generator, but a method of irradiating with an electron beam is preferably used.

【0066】本発明では、基材にプラスチックフィルム
を用いる場合、プラスチックフィルム自身の耐熱性が低
いため加熱により硬化させる場合は、できるだけ低温で
硬化させることが好ましい。その場合の加熱温度は、1
40℃以下、より好ましくは100℃以下である。一方
で光の作用による硬化は、低温で架橋反応が進行する場
合が多く、好ましく用いられる。さらに放射線、ガンマ
ー線、アルファー線、電子線、紫外線などの活性エネル
ギー線を利用する方法が好ましく、その中でも紫外線に
よりラジカルもしくはカチオンを発生させる重合開始剤
を添加し、紫外線により硬化させる方法が特に好まし
い。また紫外線を照射した後、加熱することにより、さ
らに硬化を進行させることができる場合があり好ましく
用いることができる。この場合の好ましい加熱温度は1
40℃以下である。
In the present invention, when a plastic film is used as the substrate, the plastic film itself has low heat resistance, and therefore, when it is cured by heating, it is preferable to cure at a temperature as low as possible. The heating temperature in that case is 1
The temperature is 40 ° C or lower, more preferably 100 ° C or lower. On the other hand, curing by the action of light is often used because the crosslinking reaction often proceeds at low temperature. Further, a method utilizing active energy rays such as radiation, gamma rays, alpha rays, electron rays, and ultraviolet rays is preferable, and among them, a method of adding a polymerization initiator capable of generating radicals or cations by ultraviolet rays and curing by ultraviolet rays is particularly preferable. . In addition, there are cases where curing can be further promoted by heating after irradiation with ultraviolet rays, and therefore it can be preferably used. The preferred heating temperature in this case is 1
It is 40 ° C or lower.

【0067】紫外線によってカチオンを発生させる光酸
発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩やジアリ
ールヨードニウム塩などのイオン性の化合物やスルホン
酸のニトロベンジルエステルなどの非イオン性の化合物
が挙げられ、有機エレクトロニクス材料研究会編、“イ
メージング用有機材料”ぶんしん出版社刊(1997)
などに記載されている化合物など種々の公知の光酸発生
剤が使用できる。この中で特に好ましくはスルホニウム
塩もしくはヨードニウム塩であり、対イオンとしてはP
6 -、SbF6 -,AsF6 -,B(C654 - などが好
ましい。
Examples of photoacid generators that generate cations by ultraviolet rays include ionic compounds such as triarylsulfonium salts and diaryliodonium salts, and nonionic compounds such as nitrobenzyl ester of sulfonic acid. "Organic Materials for Imaging", edited by Materials Research Society, published by Bushin Publishing Co. (1997)
Various known photoacid generators such as the compounds described in, etc. can be used. Of these, a sulfonium salt or an iodonium salt is particularly preferable, and the counter ion is P.
F 6 , SbF 6 , AsF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 − and the like are preferable.

【0068】紫外線によりラジカルを発生させる重合開
始剤の例としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーのケトン、ベンゾイルベンゾエート、ベン
ゾイン類、α−アシロキシムエステル、テトラメチルチ
ウラムモノサルファイドおよびチオキサントンなどが含
まれる。また上記で挙げたように通常、光酸発生剤とし
て用いられるスルホニウム塩やヨードニウム塩なども紫
外線照射によりラジカル発生剤として作用するため、本
発明ではこれらを単独でもちいてもよい。また、感度を
高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよ
い。増感剤の例には、n−ブチルアミン、トリエチルア
ミン、トリ−n−ブチルホスフィン、およびチオキサン
トンなどが含まれる。
Examples of polymerization initiators that generate radicals by ultraviolet rays include acetophenones, benzophenones, Michler's ketone, benzoylbenzoates, benzoins, α-acyloxime esters, tetramethylthiuram monosulfide and thioxanthone. Further, as mentioned above, the sulfonium salt, iodonium salt and the like which are usually used as the photo-acid generator also act as a radical generator upon irradiation with ultraviolet rays, and therefore they may be used alone in the present invention. Further, a sensitizer may be used in addition to the polymerization initiator for the purpose of increasing sensitivity. Examples of the sensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, thioxanthone and the like.

【0069】重合開始剤は、それぞれ組み合わせて用い
てもよいし、単独でラジカルとカチオンの両方を発生さ
せるような化合物の場合など単独で用いることができ
る。重合開始剤の添加量としては、硬化性組成物中に含
まれるエチレン性不飽和基含有化合物と開環重合性基含
有化合物の総質量に対し、0.1乃至15質量%の範囲
で使用することが好ましく、1乃至10質量%の範囲で
使用することがさらに好ましい。
The polymerization initiators may be used in combination, or may be used alone in the case of a compound which alone generates both a radical and a cation. The addition amount of the polymerization initiator is 0.1 to 15% by mass based on the total mass of the ethylenically unsaturated group-containing compound and the ring-opening polymerizable group-containing compound contained in the curable composition. It is preferable to use it in a range of 1 to 10% by mass.

【0070】本発明において一般式(1)で表される繰
り返し単位を有する架橋性ポリマーや、一般式(2)で
表される繰り返し単位を有する架橋性ポリマー(以下、
これらを合わせて本発明のポリマーと称する)は通常、
固体もしくは高粘度液体となり単独での塗布は困難であ
り、ポリマーが水溶性の場合や水分散物とした場合は水
系で塗布することもできるが、通常有機溶媒に溶解して
塗布される。有機溶媒としては、本発明のポリマー溶解
することができるものであれば特に制限なく使用でき
る。好ましい有機溶媒としては、メチルエチルケトンな
どのケトン類、イソプロパノールなどのアルコール類、
酢酸エチルなどのエステル類などが挙げられる。また、
前記した単官能もしくは多官能のビニルモノマーや単官
能もしくは2官能もしくは3官能以上の開環重合性基を
有する化合物が低分子量化合物である場合、これらを併
用すると、硬化性組成物の粘度を調節することが可能で
あり、溶媒を用いなくても塗布可能とすることもでき
る。
In the present invention, a crosslinkable polymer having a repeating unit represented by the general formula (1) and a crosslinkable polymer having a repeating unit represented by the general formula (2) (hereinafter, referred to as
(These are collectively referred to as the polymer of the present invention) is usually
It is a solid or high-viscosity liquid and difficult to apply alone. When the polymer is water-soluble or when it is an aqueous dispersion, it can be applied in an aqueous system, but it is usually dissolved in an organic solvent and applied. Any organic solvent can be used without particular limitation as long as it can dissolve the polymer of the present invention. Preferred organic solvents include ketones such as methyl ethyl ketone, alcohols such as isopropanol,
Examples thereof include esters such as ethyl acetate. Also,
When the monofunctional or polyfunctional vinyl monomer or the compound having a monofunctional, difunctional, or trifunctional or higher functional ring-opening polymerizable group is a low molecular weight compound, when these are used in combination, the viscosity of the curable composition is adjusted. It is also possible to apply it without using a solvent.

【0071】また、本発明では硬化性組成物中に、必要
に応じて、架橋微粒子を添加することができる。架橋微
粒子を添加することでハードコート層の硬化収縮量を低
減できるため基材との密着性が向上したり、基材がプラ
スチックフィルムである場合などカールを低減でき好ま
しい。架橋微粒子としては、無機微粒子、有機微粒子、
有機-無機複合微粒子のいずれも特に制限なく使用でき
る。無機微粒子としては例えば、二酸化ケイ素粒子、二
酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニ
ウム粒子などが挙げられる。このような無機微架橋粒子
は一般に硬質であり、ハードコート層に充填させること
で、硬化時の収縮を改良できるだけではなく、表面の硬
度も高めることができる。
Further, in the present invention, crosslinked fine particles can be added to the curable composition, if necessary. The addition of the crosslinked fine particles is preferable because the amount of curing shrinkage of the hard coat layer can be reduced and thus the adhesion to the substrate can be improved and curling can be reduced when the substrate is a plastic film. As the crosslinked fine particles, inorganic fine particles, organic fine particles,
Any of the organic-inorganic composite fine particles can be used without particular limitation. Examples of the inorganic fine particles include silicon dioxide particles, titanium dioxide particles, zirconium oxide particles, aluminum oxide particles and the like. Such inorganic finely crosslinked particles are generally hard, and by filling the hard coat layer, not only the shrinkage at the time of curing can be improved but also the surface hardness can be increased.

【0072】一般に無機微粒子は、本発明のポリマーや
多官能ビニルモノマーなどの有機成分との親和性が低い
ため単に混合するだけでは凝集体を形成したり、硬化後
のハードコート層がひび割れやすくなる場合がある。本
発明では、無機微粒子と有機成分との親和性を増すた
め、無機微粒子表面を有機セグメントを含む表面修飾剤
で処理することができる。表面修飾剤は、無機微粒子と
結合を形成するか無機微粒子に吸着しうる官能基と、有
機成分と高い親和性を有する官能基を同一分子内に有す
るものが好ましい。無機微粒子に結合もしくは吸着し得
る官能基を有する化合物としては、シラン、アルミニウ
ム、チタニウム、ジルコニウムなどの金属アルコキシド
化合物や、リン酸、スルホン酸、カルボン酸基などのア
ニオン性基を有する化合物が好ましい。さらに有機成分
との親和性の高い官能基としては単に有機成分と親疎水
性を合わせただけのものでもよいが、有機成分と化学的
に結合しうる官能基が好ましく、特にエチレン性不飽和
基、もしくは開環重合性基が好ましい。本発明において
好ましい無機微粒子表面修飾剤は金属アルコキシドもし
くはアニオン性基とエチレン性不飽和基もしくは開環重
合性基を同一分子内に有する化合物である。
In general, the inorganic fine particles have a low affinity for the organic components such as the polymer of the present invention and the polyfunctional vinyl monomer, and therefore, if they are simply mixed, an aggregate is formed or the hard coat layer after curing is easily cracked. There are cases. In the present invention, in order to increase the affinity between the inorganic fine particles and the organic component, the surface of the inorganic fine particles can be treated with a surface modifier containing an organic segment. The surface modifier preferably has a functional group capable of forming a bond with or adsorbing to the inorganic fine particles and a functional group having a high affinity for the organic component in the same molecule. As the compound having a functional group capable of binding to or adsorbing to the inorganic fine particles, a metal alkoxide compound such as silane, aluminum, titanium, zirconium, or a compound having an anionic group such as phosphoric acid, sulfonic acid or carboxylic acid group is preferable. Further, as the functional group having a high affinity with the organic component, it is possible to simply combine the organic component and the hydrophilicity / hydrophobicity, but a functional group capable of being chemically bonded to the organic component is preferable, and particularly an ethylenically unsaturated group, Alternatively, a ring-opening polymerizable group is preferable. In the present invention, the preferred inorganic fine particle surface modifier is a compound having a metal alkoxide or an anionic group and an ethylenically unsaturated group or a ring-opening polymerizable group in the same molecule.

【0073】これら表面修飾剤の好ましい例として、以
下の不飽和二重結合を有するカップリング剤やリン酸、
スルホン酸、カルボン酸化合物などが挙げられるが、本
発明はこれらに限定されるものではない。 S−1 H2C=C(X)COOC36Si(OCH33 S−2 H2C=C(X)COOC24OTi(OC253 S−3 H2C=C(X)COOC24OCOC510OPO(OH)2 S−4 (H2C=C(X)COOC24OCOC510O)2POOH S−5 H2C=C(X)COOC36OSO3K S−6 H2C=C(X)COO(C510COO)2H S−7 H2C=C(X)COOC510COOH (X=H、あるいはCH3をあらわす)
Preferred examples of these surface modifiers include the following coupling agents having unsaturated double bonds and phosphoric acid,
Examples thereof include sulfonic acid and carboxylic acid compounds, but the present invention is not limited thereto. S-1 H 2 C = C (X) COOC 3 H 6 Si (OCH 3) 3 S-2 H 2 C = C (X) COOC 2 H 4 OTi (OC 2 H 5) 3 S-3 H 2 C = C (X) COOC 2 H 4 OCOC 5 H 10 OPO (OH) 2 S-4 (H 2 C = C (X) COOC 2 H 4 OCOC 5 H 10 O) 2 POOH S-5 H 2 C = C (X) COOC 3 H 6 OSO 3 K S-6 H 2 C = C (X) COO (C 5 H 10 COO) 2 H S-7 H 2 C = C (X) COOC 5 H 10 COOH (X = H or CH 3 )

【0074】これらの無機微粒子の表面修飾処理は、溶
液中でなされることが好ましい。無機微粒子を機械的に
微細分散する時に、一緒に表面修飾剤を存在させるか、
または無機微粒子を微細分散したあとに表面修飾剤を添
加して攪拌するか、さらには無機微粒子を微細分散する
前に表面修飾を行って(必要により、加温、乾燥した後
に加熱、またはpH変更を行う)、そのあとで微細分散
を行う方法でも良い。この場合の溶媒としては、極性の
高い有機溶剤が好ましい。具体的には、アルコール類、
ケトン類、エステル類などの公知の有機溶剤が挙げられ
る。また分散機としては超音波分散機、ディスパー、ホ
モジナイザー、ディゾルバー、ポリトロン、ペイントシ
ェーカー、サンドグラインダー、ニーダー、アイガーミ
ル、ダイノミル、コボールミルなどを用いることが好ま
しい。
The surface modification treatment of these inorganic fine particles is preferably performed in a solution. When mechanically finely dispersing the inorganic fine particles, a surface modifier is present together,
Alternatively, after finely dispersing the inorganic fine particles, a surface modifier is added and stirred, or further, surface modification is performed before finely dispersing the inorganic fine particles (heating, drying, heating, or pH change if necessary). May be performed), followed by fine dispersion. In this case, the solvent is preferably a highly polar organic solvent. Specifically, alcohols,
Known organic solvents such as ketones and esters can be mentioned. As the disperser, it is preferable to use an ultrasonic disperser, a disperser, a homogenizer, a dissolver, a polytron, a paint shaker, a sand grinder, a kneader, an Eiger mill, a dyno mill, a coball mill, or the like.

【0075】有機架橋微粒子としてはポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ナイロ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリ
(メタ)アクリル酸エステル類およびアミド類、ポリ塩
化ビニル、アセチルセルロース、ニトロセルロース、ポ
リジメチルシロキサンなどの汎用樹脂を架橋させたもの
やSBR、NBRなどの架橋ゴム微粒子も好ましく使用
できる。有機微粒子は軟質なゴム粒子から硬質粒子まで
任意に選択できる。例えば、前記した硬度の高い無機架
橋微粒子は、ハードコート層に対する添加量を上げてい
くと硬化収縮量や硬度は向上するが、もろく割れやすく
なる場合がある。このような場合、硬度を任意に調節し
た有機架橋微粒子を同時に添加することで割れにくくす
ることができ好ましい。また、硬度の高いコアと硬度の
低いシェルまたは硬度の低いコアと硬度の高いシェルの
ようなコア−シェル粒子とすることもできる。またハー
ドコート層中もしくは塗布溶媒中での分散安定性を確保
する目的で親疎水性を変えたコア−シェル粒子とするこ
とも好ましい。また、コアに無機架橋微粒子を用いた有
機−無機複合微粒子とすることもできる。これら架橋微
粒子をコア−シェル粒子とする場合、コア部とシェル部
の両方が架橋されていてもよいし、いずれか一方が架橋
されていてもよい。
The organic crosslinked fine particles include polyethylene, polypropylene, polytetrafluoroethylene, nylon, polyethylene terephthalate, polystyrene, poly (meth) acrylic acid esters and amides, polyvinyl chloride, acetylcellulose, nitrocellulose, polydimethylsiloxane, etc. The crosslinked rubber fine particles of SBR, NBR and the like, which are obtained by crosslinking the general-purpose resin, can also be preferably used. The organic fine particles can be arbitrarily selected from soft rubber particles to hard particles. For example, the above-mentioned inorganic crosslinked fine particles having a high hardness may be fragile and fragile although the curing shrinkage amount and the hardness are improved by increasing the addition amount to the hard coat layer. In such a case, it is preferable to add organic crosslinked fine particles whose hardness is arbitrarily adjusted at the same time so as to make it difficult to break. Further, core-shell particles such as a core having a high hardness and a shell having a low hardness, or a core having a low hardness and a shell having a high hardness can be used. Further, it is also preferable to use core-shell particles having different hydrophilicity / hydrophobicity for the purpose of ensuring dispersion stability in the hard coat layer or in the coating solvent. It is also possible to use organic-inorganic composite fine particles using inorganic crosslinked fine particles in the core. When these crosslinked fine particles are used as core-shell particles, both the core part and the shell part may be crosslinked, or either one of them may be crosslinked.

【0076】本発明に用いることのできる架橋微粒子の
平均粒子径は1〜20000nmであり、2〜1000
nmであることがより好ましく、5〜500nmである
ことがさらに好ましく、10〜200nmであることが
最も好ましい。また、架橋微粒子の形状は、球状、棒
状、針状、板状など特に制限なく使用できる。なお、本
発明で述べる平均粒子径は、個々の粒子の投影面積と同
じ面積を持つ円の直径の平均値である。
The average particle size of the crosslinked fine particles that can be used in the present invention is 1 to 20000 nm, and is 2 to 1000.
nm is more preferable, 5 to 500 nm is still more preferable, and 10 to 200 nm is most preferable. The shape of the crosslinked fine particles may be spherical, rod-shaped, needle-shaped, plate-shaped, etc. without particular limitation. The average particle size described in the present invention is the average value of the diameters of circles having the same area as the projected area of each particle.

【0077】これら架橋微粒子を添加する場合の添加量
は、硬化後のハードコート層の1乃至60体積%である
ことが好ましく、3乃至40体積%であることがさらに
好ましい。
When these crosslinked fine particles are added, the addition amount thereof is preferably 1 to 60% by volume of the hard coat layer after curing, and more preferably 3 to 40% by volume.

【0078】本発明において基材自身の硬度が低い場合
にもハードコートフィルムの硬化後のハードコート層の
膜厚を厚くすることで、ハードコートフィルムの硬度を
高めることができる。本発明におけるハードコート層の
膜厚は基材の硬度によっても異なり、特に制限はない
が、ハードコート層の膜厚を厚くすることで本発明の特
徴である硬度が高く、ひび割れ、膜剥がれが生じにくい
という効果が顕著に現れる。好ましい膜厚としては、1
5〜200μmであり、より好ましくは20〜150μ
mであり、さらに好ましくは25〜80μmであり、そ
の中でも特に好ましくは30〜60μmである。
In the present invention, even when the hardness of the substrate itself is low, the hardness of the hard coat film can be increased by increasing the thickness of the hard coat layer after the hard coat film is cured. The film thickness of the hard coat layer in the present invention varies depending on the hardness of the substrate and is not particularly limited, but by increasing the film thickness of the hard coat layer, the hardness, which is a feature of the present invention, is high and cracks and film peeling occur. The effect of hardly occurring appears remarkably. The preferred film thickness is 1
5 to 200 μm, more preferably 20 to 150 μm
m, more preferably 25 to 80 μm, and particularly preferably 30 to 60 μm.

【0079】本発明に用いられる基材は、金属、プラス
チック、ガラス、木材、紙など特に制限なく使用でき
る。その中でも特にプラスチック基材が好ましく、さら
にはプラスチックフィルムを基材に用いた場合、本発明
の効果が顕著に現れるため、好ましい。プラスチックフ
ィルムの種類としては、ポリエチレンテレフタレート,
ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリカ
ーボネート、トリアセチルセルロース、ジアセチルセル
ロースなどのセルロース樹脂などのフィルムが好まし
い。フィルムの厚みは、薄すぎると膜強度が弱く、厚い
とスティフネスが大きくなり過ぎるため20〜500μ
mが好ましく、80〜200μmがより好ましい。
The base material used in the present invention may be metal, plastic, glass, wood, paper, etc. without particular limitation. Among them, a plastic substrate is particularly preferable, and when a plastic film is used as a substrate, the effect of the present invention is remarkably exhibited, and thus it is preferable. The types of plastic film are polyethylene terephthalate,
Films of polyester such as polyethylene naphthalate, polycarbonate, cellulose resins such as triacetyl cellulose and diacetyl cellulose are preferable. If the thickness of the film is too thin, the film strength will be weak, and if it is thick, the stiffness will be too large.
m is preferable, and 80 to 200 μm is more preferable.

【0080】本発明のハードコートフィルムは表面の硬
度が高いことが好ましい。本発明で言うハードコートフ
ィルムの表面の硬度はJIS K5400で定義される
鉛筆硬度で表すことができ、ハードコートフィルムのハ
ードコート処理表面を直接鉛筆で引っかくことによって
鉛筆硬度を評価することができる。この場合の鉛筆硬度
は基材の種類によっても異なるため特に制限はないが、
好ましくは3H〜9H、より好ましくは4H〜9H、特
に好ましくは5H〜9Hである。
The hard coat film of the present invention preferably has a high surface hardness. The hardness of the surface of the hard coat film referred to in the present invention can be expressed by a pencil hardness defined in JIS K5400, and the pencil hardness can be evaluated by directly scratching the hard coat-treated surface of the hard coat film with a pencil. The pencil hardness in this case is not particularly limited because it depends on the type of substrate,
It is preferably 3H to 9H, more preferably 4H to 9H, particularly preferably 5H to 9H.

【0081】本発明のハードコートフィルムは、エチレ
ン性不飽和基含有化合物、開環重合性基含有化合物、重
合開始剤、架橋微粒子、溶媒などで構成される硬化性組
成物を基材上に塗布、硬化することで得ることができ
る。硬化性組成物にはその他、紫外線吸収剤、塗布性改
良のための界面活性剤、帯電防止剤など、従来公知の添
加剤を添加してもよい。塗布方法としてはカーテンコー
ティング、ディップコーティング、スピンコーティン
グ、印刷コーティング、スプレーコーティング、ロール
コーティング、スライドコーテティング、ブレードコー
ティング、グラビアコーティング、ワイヤーバー法など
の公知の塗布方法が挙げられる。
In the hard coat film of the present invention, a curable composition comprising an ethylenically unsaturated group-containing compound, a ring-opening polymerizable group-containing compound, a polymerization initiator, crosslinked fine particles, a solvent and the like is applied onto a substrate. It can be obtained by curing. In addition to the curable composition, conventionally known additives such as an ultraviolet absorber, a surfactant for improving coating properties, and an antistatic agent may be added. Examples of the coating method include known coating methods such as curtain coating, dip coating, spin coating, printing coating, spray coating, roll coating, slide coating, blade coating, gravure coating, and wire bar method.

【0082】さらに、基材とハードコート層の接着性を
向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法
や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上
記表面処理法としては、例えば薬品処理、機械的処理、
コロナ放電処理、グロー放電処理、クロム酸処理(湿
式)、火焔処理、高周波処理、熱風処理、オゾン処理、
紫外線照射処理、活性プラズマ処理、混酸処理などが挙
げらる。 更に、一層以上の下塗り層を設けることが出
来る。下塗り層の素材としては塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、ブタジエン、(メタ)アクリル酸エステル、スチ
レン、ビニルエステルなどの共重合体またこれらのラテ
ックス、ポリエステル、ポリウレタン、およびゼラチン
などの水溶性ポリマーなどが挙げられる。
Further, for the purpose of improving the adhesiveness between the base material and the hard coat layer, one surface or both surfaces may be subjected to a surface treatment by an oxidation method or a textured method, if desired. Examples of the surface treatment method include chemical treatment, mechanical treatment,
Corona discharge treatment, glow discharge treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, high frequency treatment, hot air treatment, ozone treatment,
Examples include ultraviolet irradiation treatment, active plasma treatment, and mixed acid treatment. Furthermore, more than one undercoat layer can be provided. Examples of the material for the undercoat layer include copolymers of vinyl chloride, vinylidene chloride, butadiene, (meth) acrylic acid ester, styrene, vinyl ester and the like, and latexes thereof, water-soluble polymers such as polyester, polyurethane and gelatin. .

【0083】本発明のハードコートフィルムは、既に述
べたように、表面の動摩擦係数が0.4以下である層を
最表面に有する。動摩擦係数は、0.3以下であること
が好ましく、特に好ましくは0.25以下である。この
ように低い動摩擦係数を有する最表面層の形成は、ハー
ドコートフィルムの最表面に低摩擦の潤滑剤層を形成す
ることにより好ましく行うことができる。潤滑剤として
は、可視域の着色が小さいものであれば用いることがで
きる。潤滑剤としては例えば「トライポロジー入門」
(岡本純三ら、幸書房)に記載される潤滑油、グリース
が挙げられるが、更に好ましくは潤滑剤パラフィン系炭
化水素、ナフテン系炭化水素、芳香族炭化水素、ポリオ
レフィン、ポリアルキレングリコール、ポリオールエス
テル、リン酸エステル、シラン、珪酸エステル、シリコ
ーン、フッ素含有化合物であり、特に好ましくはシリコ
ーンである。シリコーンとしては、例えば「シリコーン
材料ハンドブック」(東レダウコーニングシリコン株式
会社編集発行)に記載されているものである。更に好ま
しくはポリシロキサン系化合物(シリコーンオイル)で
ある。ポリシロキサン系化合物としてはポリジメチルシ
ロキサン(信越化学工業製KF96など)、アミノ変性
シリコーンオイル(信越化学工業製X−22−161A
S,KF−861,KF−864など)、エポキシ変性
シリコーンオイル(信越化学工業製KF−105,KF
−101,X−22−169−B,KF−103な
ど)、カルボキシル変性シリコーンオイル(信越化学工
業製X−22−162A,X−22−3701Eな
ど)、カルビノール変性シリコーンオイル(信越化学工
業製KF−6001,X−22−4015など)、メタ
クリル変性シリコーンオイル(信越化学工業製X−22
−164C,X−22−980など)、フェノール変性
シリコーンオイル(信越化学工業製X−22−165B
など)、片末端反応性変性シリコーンオイル(信越化学
工業製X−22−170B,X−22−173B,X−
22−174D,X−22−176Bなど)、ポリエー
テル変性シリコーンオイル(信越化学工業製KF−35
1,KF−354,KF−945など)、メルカプト変
性シリコーンオイル(チッソ製SMS−022など)で
あり、更に好ましくはポリジメチルシロキサン、アミノ
変性シリコーンオイル、カルボキシル変性シリコーンオ
イル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、メルカプト
変性シリコーンオイルであり、特に好ましくはポリジメ
チルシロキサン、カルボキシル変性シリコーンオイル、
ポリエーテル変性シリコーンオイルである。具体的に
は、信越化学工業製のKF−96,X−22−162
A,X−22−3701E,KF−351,KF−35
4,KF−945などが好ましい。
As already described, the hard coat film of the present invention has a layer having a coefficient of dynamic friction of 0.4 or less on the outermost surface. The dynamic friction coefficient is preferably 0.3 or less, and particularly preferably 0.25 or less. The outermost surface layer having a low dynamic friction coefficient can be preferably formed by forming a low-friction lubricant layer on the outermost surface of the hard coat film. As the lubricant, any lubricant having a small coloring in the visible region can be used. As a lubricant, for example, "Introduction to Tribology"
Lubricating oils and greases described in (Okamoto Junzo et al., Koshobo) are mentioned, and more preferably lubricant paraffin hydrocarbons, naphthene hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, polyolefins, polyalkylene glycols, polyol esters. , Phosphoric acid ester, silane, silicic acid ester, silicone, and fluorine-containing compound, and particularly preferably silicone. Examples of the silicone include those described in "Silicone Material Handbook" (edited by Toray Dow Corning Silicon Co., Ltd.). More preferably, it is a polysiloxane compound (silicone oil). Examples of the polysiloxane compound include polydimethylsiloxane (KF96 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and amino-modified silicone oil (X-22-161A manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).
S, KF-861, KF-864, etc.), epoxy modified silicone oil (KF-105, KF manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
-101, X-22-169-B, KF-103 etc.), carboxyl modified silicone oil (X-22-162A, X-22-3701E manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), carbinol modified silicone oil (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) KF-6001, X-22-4015, etc.), methacryl-modified silicone oil (X-22 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
-164C, X-22-980, etc.), phenol-modified silicone oil (X-22-165B manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Etc.), one end reactive modified silicone oil (X-22-170B, X-22-173B, X- manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
22-174D, X-22-176B, etc.), polyether modified silicone oil (KF-35 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
1, KF-354, KF-945, etc.) and mercapto-modified silicone oil (SMS-022 etc. manufactured by Chisso), and more preferably polydimethylsiloxane, amino-modified silicone oil, carboxyl-modified silicone oil, polyether-modified silicone oil, A mercapto-modified silicone oil, particularly preferably polydimethylsiloxane, a carboxyl-modified silicone oil,
It is a polyether-modified silicone oil. Specifically, KF-96, X-22-162 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
A, X-22-3701E, KF-351, KF-35
4, KF-945 and the like are preferable.

【0084】潤滑剤を配合する量としては、量が少ない
と摩擦係数を下げる効果が無く、多過ぎると表面が塗れ
たような状態になり外観上好ましくないため、5mg/
2以上100mg/m2以下であることが好ましく、更
に好ましくは5mg/m2以上50mg/m2以下であ
り、特に好ましくは10mg/m2以上50mg/m2
下である。潤滑剤層は下記に述べる低反射層中に含まれ
ていても良いし、低反射層上に設置されても良い。
As for the amount of the lubricant blended, if the amount is small, there is no effect of lowering the coefficient of friction, and if the amount is too large, the surface becomes coated and the appearance is unfavorable.
It is preferably m 2 or more and 100 mg / m 2 or less, more preferably 5 mg / m 2 or more and 50 mg / m 2 or less, and particularly preferably 10 mg / m 2 or more and 50 mg / m 2 or less. The lubricant layer may be included in the low reflection layer described below, or may be provided on the low reflection layer.

【0085】本発明のハードコートフィルムは、ハード
コート層上に反射防止層を設けることができる。反射防
止層を設けた光学フィルターの反射率(正反射率)は、
450nm〜650nmの平均値で2.0%以下である
ことが好ましく、1.5%以下であることがさらに好ま
しい。特に好ましくは1.0%以下である。反射防止層
としては、低屈折率層を設ける系あるいは光吸収層を用
いる系が用いられる。低屈折率層は、その下に設ける層
の屈折率よりも低い屈折率を有する。低屈折率層の屈折
率は、1.20乃至1.55であることが好ましく、
1.20乃至1.50であることがさらに好ましい。低
屈折率層の厚さは、50乃至400nmであることが好
ましく、50乃至200nmであることがさらに好まし
い。
In the hard coat film of the present invention, an antireflection layer can be provided on the hard coat layer. The reflectance (regular reflectance) of the optical filter provided with the antireflection layer is
The average value of 450 nm to 650 nm is preferably 2.0% or less, and more preferably 1.5% or less. It is particularly preferably 1.0% or less. As the antireflection layer, a system provided with a low refractive index layer or a system using a light absorption layer is used. The low refractive index layer has a refractive index lower than that of a layer provided therebelow. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.20 to 1.55,
More preferably, it is 1.20 to 1.50. The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 400 nm, more preferably 50 to 200 nm.

【0086】低屈折率層の例には、屈折率の低い含フッ
素ポリマーからなる層(特開昭57−34526号、特
開平3−130103号、同6−115023号、同8
−313702号、同7−168004号の各公報記
載)、ゾルゲル法により得られる層(特開平5−208
811号、同6−299091号、同7−168003
号の各公報記載)、あるいは微粒子を含む層(特公昭6
0−59250号、特開平5−13021号、同6−5
6478号、同7−92306号、同9−288201
号の各公報に記載)が含まれる。微粒子を含む層では、
微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低屈折
率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む層
は、3乃至50体積%の空隙率を有することが好まし
く、5乃至35体積%の空隙率を有することがさらに好
ましい。
Examples of the low refractive index layer are layers made of a fluoropolymer having a low refractive index (JP-A-57-34526, JP-A-3-130103, JP-A-6-115023 and JP-A-6-15023).
Nos. 313702 and 7-168004), and layers obtained by the sol-gel method (Japanese Patent Laid-Open No. 5-208).
No. 811, No. 6-299091, No. 7-168003.
No. 6), or a layer containing fine particles (Japanese Examined Patent Publication 6)
0-59250, JP-A-5-13021, and 6-5.
6478, 7-92306, 9-288201
(Described in each gazette of the issue). In the layer containing fine particles,
Voids can be formed in the low refractive index layer as microvoids between or within the fine particles. The layer containing fine particles preferably has a porosity of 3 to 50% by volume, and more preferably a porosity of 5 to 35% by volume.

【0087】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層の下層に、屈折率の高い層(中・高屈折率
層)を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率
は、1.65乃至2.40であることが好ましく、1.
70乃至2.20であることがさらに好ましい。中屈折
率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈
折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の
屈折率は、1.50乃至1.90であることが好まし
い。中・高屈折率層の厚さは、5nm乃至100μmで
あることが好ましく、10nm乃至10μmであること
がさらに好ましく、30nm乃至1μmであることが最
も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、5%以下であ
ることが好ましく、3%以下であることがさらに好まし
く、1%以下であることが最も好ましい。
In order to prevent reflection in a wide wavelength range,
A layer having a high refractive index (middle / high refractive index layer) is preferably laminated below the low refractive index layer. The high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.65 to 2.40.
It is more preferably 70 to 2.20. The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the medium refractive index layer is preferably 1.50 to 1.90. The thickness of the medium / high refractive index layer is preferably 5 nm to 100 μm, more preferably 10 nm to 10 μm, and most preferably 30 nm to 1 μm. The haze of the medium / high refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less.

【0088】中・高屈折率層は、比較的高い屈折率を有
するポリマーバインダーを用いて形成することができ
る。屈折率が高いポリマーバインダーの例には、ポリス
チレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミ
ン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂および環状(脂
環式または芳香族)イソシアネートとポリオールとの反
応で得られるポリウレタンが含まれる。その他の環状
(芳香族、複素環式、脂環式)基を有するポリマーや、
フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマ
ーも、屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル硬化
を可能にしたモノマーの重合反応によりポリマーバイン
ダーを形成してもよい。
The medium / high refractive index layer can be formed by using a polymer binder having a relatively high refractive index. Examples of high refractive index polymer binders include polystyrene, styrene copolymers, polycarbonates, melamine resins, phenolic resins, epoxy resins and polyurethanes obtained by the reaction of cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanates with polyols. Be done. Polymers having other cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) groups,
A polymer having a halogen atom other than fluorine as a substituent also has a high refractive index. A polymer binder may be formed by a polymerization reaction of a monomer that has been introduced with a double bond to enable radical curing.

【0089】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、1.80乃至2.80であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。なかでも、酸化チタン、酸化錫および酸
化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの
金属の酸化物または硫化物を主成分とし、さらに他の元
素を含むことができる。ここで、主成分とは、粒子を構
成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意
味する。他の元素の例には、Ti、Zr、Sn、Sb、
Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Z
n、Al、Mg、Si、PおよびSが含まれる。被膜形
成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が液状である無機
材料、例えば、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、
配位性化合物と結合した配位化合物(例、キレート化合
物)、活性無機ポリマーを用いて、中・高屈折率層を形
成することもできる。
In order to obtain a higher refractive index, inorganic fine particles may be dispersed in the polymer binder. The refractive index of the inorganic fine particles is preferably 1.80 to 2.80. The inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, mixed crystals of rutile / anatase, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide and zinc sulfide. Among them, titanium oxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferable. The inorganic fine particles are mainly composed of oxides or sulfides of these metals, and can further contain other elements. Here, the main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb,
Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Z
n, Al, Mg, Si, P and S are included. Inorganic materials that are film-forming and can be dispersed in a solvent or are themselves liquid, for example, alkoxides of various elements, salts of organic acids,
It is also possible to form a medium / high refractive index layer by using a coordination compound (eg, chelate compound) bonded to a coordination compound and an active inorganic polymer.

【0090】反射防止層として光吸収層を用いる場合、
光吸収剤としては銀コロイド、窒化チタン、SiOx
(0<x<2)、カーボンブラックなどが挙げられ、好
ましくは銀コロイド、カーボンブラックである。光吸収
層の厚さは、2乃至200nmであることが好ましく、
5乃至100nmであることがさらに好ましい。光吸収
層の上には屈折率1.2〜1.6の層を設ける。設ける
層としては前記低反射層と同義のものまたは前記ハード
コート層と同義である。中でもゾルゲル法で出きるSi
2層、または多官能(メタ)アクリレートの重合体が
屈折率、強度の点で好ましい。
When a light absorbing layer is used as the antireflection layer,
As a light absorber, silver colloid, titanium nitride, SiOx
(0 <x <2), carbon black and the like can be mentioned, and silver colloid and carbon black are preferable. The thickness of the light absorption layer is preferably 2 to 200 nm,
More preferably, it is 5 to 100 nm. A layer having a refractive index of 1.2 to 1.6 is provided on the light absorption layer. The layer to be provided has the same meaning as the low reflection layer or the hard coat layer. Above all, Si produced by the sol-gel method
An O 2 layer or a polyfunctional (meth) acrylate polymer is preferable in terms of refractive index and strength.

【0091】本発明のハードコートフィルムは、ハード
コート層上に、反射防止層以外に、紫外線・赤外線吸収
層、選択波長吸収性層、電磁波シールド層や防汚性層な
どの各種機能を有する機能性層を設けることができる。
これらの機能性層は、従来公知の技術で作製することが
できる。また、これら機能性層と本発明のハードコート
フィルムのハードコート層の接着性を向上させる目的
で、ハードコート層上に表面処理を施したり、接着層、
粘着層を設けたりすることができる。表面処理法として
は、前記、基材の表面処理方法として挙げた方法が好ま
しく使用できる。また、接着層、粘着層としては前記、
基材上に施される下塗り層で挙げた素材が好ましく使用
できる。
The hard coat film of the present invention has various functions on the hard coat layer such as an ultraviolet / infrared absorbing layer, a selective wavelength absorbing layer, an electromagnetic wave shielding layer and an antifouling layer in addition to the antireflection layer. A conductive layer can be provided.
These functional layers can be produced by a conventionally known technique. Further, for the purpose of improving the adhesion between the functional layer and the hard coat layer of the hard coat film of the present invention, a surface treatment is performed on the hard coat layer, or an adhesive layer,
An adhesive layer can be provided. As the surface treatment method, the methods mentioned above as the surface treatment method of the substrate can be preferably used. Further, as the adhesive layer and the adhesive layer, the above,
The materials mentioned for the undercoat layer applied on the substrate can be preferably used.

【0092】これら機能性層を施した本発明のハードコ
ートフィルムは、基材としてプラスチックフィルムを用
いた場合、高硬度の機能性フイルムとして供され、陰極
管表示装置(CRT)、液晶表示装置(LCD)、プラ
ズマディスプレイパネル(PDP)、フィールドエミッ
ションディスプレイ(FED)などのディスプレイ、家
電製品などのタッチパネル、ガラスなどの保護フィルム
に好適である。
When a plastic film is used as a substrate, the hard coat film of the present invention provided with these functional layers serves as a high-hardness functional film, and is used as a cathode ray tube display device (CRT) or liquid crystal display device ( It is suitable for a display such as an LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED), a touch panel for home electric appliances, and a protective film for glass.

【0093】以下に本発明のポリマーの合成例を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 (合成例1)例示化合物K−1の合成 メチルエチルケトン(MEK)275mlを窒素気流
下、60℃で1時間攪拌後、V−65(和光純薬製重合
開始剤)0.5gをMEK8.3mlに溶解したものを
全量添加した。その後、グリシジルメタクリレート(5
0g)を2時間かけて滴下し、滴下終了後、V−65
(0.5g)のMEK(8.3ml)溶液を添加し、2
時間反応させた。その後、反応温度を80℃として2時
間反応させ、反応終了後、室温まで冷却させた。得られ
た反応溶液をヘキサン10Lに1時間かけて滴下し、沈
殿物を35℃、8時間減圧乾燥し、K−1を45g得
た。
The synthesis examples of the polymer of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto. (Synthesis Example 1) Synthesis of Exemplified Compound K-1 275 ml of methyl ethyl ketone (MEK) was stirred under a nitrogen stream at 60 ° C. for 1 hour, and 0.5 g of V-65 (a polymerization initiator manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to 8.3 ml of MEK. The total amount of the dissolved product was added. Then, glycidyl methacrylate (5
0 g) was added dropwise over 2 hours, and after completion of the addition, V-65
(0.5 g) in MEK (8.3 ml) was added and 2
Reacted for hours. Then, the reaction temperature was set to 80 ° C. and the reaction was carried out for 2 hours, and after the reaction was completed, it was cooled to room temperature. The obtained reaction solution was added dropwise to 10 L of hexane over 1 hour, and the precipitate was dried under reduced pressure at 35 ° C. for 8 hours to obtain 45 g of K-1.

【0094】(合成例2)例示化合物P−1の合成Synthesis Example 2 Synthesis of Exemplified Compound P-1

【0095】[0095]

【化13】 [Chemical 13]

【0096】上記1b(3.0mol)をテトラヒドロ
フラン(THF)1400ml中に溶かし、反応器を5
℃に冷却した。そこに上記1a(3.15mol)を1
時間かけて滴下し、その後6時間反応させた。得られた
反応溶液を30℃で減圧濃縮後、減圧蒸留を行った。1
33Pa減圧下で118〜121℃の留分を採取し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:アセトン
/ヘキサン=5/95(体積比))にて精製し、上記1
cを362g得た。次にメチルエチルケトン(MEK)
275mlを窒素気流下、60℃で1時間攪拌後、V−
65(和光純薬製重合開始剤)0.5gをMEK8.3
mlに溶解したものを全量添加した。その後、1c(5
0g)を2時間かけて滴下し、滴下終了後、V−65
(0.5g)のMEK(8.3ml)溶液を添加し、2
時間反応させた。その後、反応温度を80℃として2時
間反応させ、反応終了後、室温まで冷却させた。得られ
た反応溶液をヘキサン10Lに1時間かけて滴下し、沈
殿物を35℃、8時間減圧乾燥し、上記1dを43g得
た。次に1d(43g)をアセトン(390ml)に溶
解し、5℃に冷却した。そこにトリエチルアミン(39
0mmol)を1時間かけて滴下させ、滴下終了後、室
温で24時間反応させた。その後、反応容器を5℃に冷
却し、6規定の塩酸水溶液29.3mlを1時間かけて
滴下し、滴下終了後、1時間攪拌した。得られた反応溶
液に酢酸エチル(1L)と10質量%の塩化ナトリウム
水溶液(1L)を加えて攪拌後、水層を分離した。更に
有機層を10質量%の塩化ナトリウム水溶液(1L)で
2回洗浄し、硫酸ナトリウムを100g添加し、1時間
乾燥した後、硫酸ナトリウムを濾別した。得られた溶液
を500mlまで濃縮後、ヘキサン10Lに1時間かけ
て滴下し、沈殿物を20℃、8時間減圧乾燥し、例示化
合物P−1を33g得た。
The above 1b (3.0 mol) was dissolved in 1400 ml of tetrahydrofuran (THF), and the reactor was charged with 5
Cooled to ° C. 1 a (3.15 mol) of the above
The solution was added dropwise over a period of time and then reacted for 6 hours. The resulting reaction solution was concentrated under reduced pressure at 30 ° C. and then distilled under reduced pressure. 1
Fractions at 118 to 121 ° C. were collected under reduced pressure of 33 Pa and purified by silica gel column chromatography (eluent: acetone / hexane = 5/95 (volume ratio)) to obtain 1 above.
362 g of c was obtained. Next, methyl ethyl ketone (MEK)
After stirring 275 ml under a nitrogen stream at 60 ° C. for 1 hour, V-
0.5 g of 65 (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. polymerization initiator) was added to MEK8.3.
All that was dissolved in ml was added. After that, 1c (5
0 g) was added dropwise over 2 hours, and after completion of the addition, V-65
(0.5 g) in MEK (8.3 ml) was added and 2
Reacted for hours. Then, the reaction temperature was set to 80 ° C. and the reaction was carried out for 2 hours, and after the reaction was completed, it was cooled to room temperature. The obtained reaction solution was added dropwise to 10 L of hexane over 1 hour, and the precipitate was dried under reduced pressure at 35 ° C. for 8 hours to obtain 43 g of the above 1d. Then 1d (43 g) was dissolved in acetone (390 ml) and cooled to 5 ° C. Triethylamine (39
(0 mmol) was added dropwise over 1 hour, and after completion of the addition, reaction was performed at room temperature for 24 hours. Then, the reaction vessel was cooled to 5 ° C., 29.3 ml of a 6N aqueous hydrochloric acid solution was added dropwise over 1 hour, and after completion of the addition, the mixture was stirred for 1 hour. Ethyl acetate (1 L) and 10 mass% sodium chloride aqueous solution (1 L) were added to the obtained reaction solution, and the mixture was stirred and then the aqueous layer was separated. Furthermore, the organic layer was washed twice with a 10 mass% sodium chloride aqueous solution (1 L), 100 g of sodium sulfate was added, and the mixture was dried for 1 hour, and then sodium sulfate was filtered off. The obtained solution was concentrated to 500 ml and then added dropwise to 10 L of hexane over 1 hour, and the precipitate was dried under reduced pressure at 20 ° C for 8 hours to obtain 33 g of Exemplified compound P-1.

【0097】(合成例3) 例示化合物P−19の合成 ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、PVA−10
5:鹸化度98.5%)30gをジメチルスルホキシド
1000mlに溶解後、ピリジン(200ml)とニト
ロベンゼン10mlを添加し、10℃まで冷却した。そ
の後、無水アクリル酸100mlを1時間かけて滴下
し、滴下終了後、室温で24時間反応させた。得られた
反応溶液を水20Lに1時間かけて滴下し、沈殿物を1
Lの酢酸エチルに溶解し、2規定の塩酸水溶液(1L)
で2回洗浄した。さらに10質量%の塩化ナトリウム水
溶液(1L)で2回洗浄し、硫酸ナトリウムを100g
添加し、1時間乾燥した後、硫酸ナトリウムを濾別し
た。得られた溶液を500mlまで濃縮後、ヘキサン1
0Lに1時間かけて滴下し、沈殿物を20℃、8時間減
圧乾燥し、例示化合物P−19を28g得た。
Synthesis Example 3 Synthesis of Exemplified Compound P-19 Polyvinyl alcohol (PVA-10 manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
5: Saponification degree 98.5%) (30 g) was dissolved in dimethyl sulfoxide (1000 ml), pyridine (200 ml) and nitrobenzene (10 ml) were added, and the mixture was cooled to 10 ° C. Thereafter, 100 ml of acrylic acid anhydride was added dropwise over 1 hour, and after completion of the addition, reaction was carried out at room temperature for 24 hours. The obtained reaction solution was added dropwise to 20 L of water over 1 hour to remove the precipitate by 1
Dissolve in L ethyl acetate and prepare a 2N aqueous hydrochloric acid solution (1 L)
It was washed twice with. Further, it was washed twice with a 10 mass% sodium chloride aqueous solution (1 L) to obtain 100 g of sodium sulfate.
After adding and drying for 1 hour, sodium sulfate was filtered off. Concentrate the resulting solution to 500 ml and then add hexane 1
The mixture was added dropwise to 0 L over 1 hour, and the precipitate was dried under reduced pressure at 20 ° C for 8 hours to obtain 28 g of Exemplified compound P-19.

【0098】(合成例4)例示化合物C−1の合成Synthesis Example 4 Synthesis of Exemplified Compound C-1

【0099】[0099]

【化14】 [Chemical 14]

【0100】上記1b(3.0mol)をテトラヒドロフ
ラン(THF)1400ml中に溶かし、反応器を5℃
に冷却した。そこに上記1a(3.15mol)を1時
間かけて滴下し、その後6時間反応させた。得られた反
応溶液を30℃で減圧濃縮後、減圧蒸留を行った。13
3Pa減圧下で118〜121℃の留分を採取し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:アセトン/
ヘキサン=5/95(体積比))にて精製し、上記1c
を362g得た。次に、メチルエチルケトン(MEK)
275mlを窒素気流下、60℃で1時間攪拌後、V−
65(和光純薬製重合開始剤)0.5gをMEK8.3
mlに溶解したものを全量添加した。その後、1c(4
1.9g)とグリシジルメタクリレート(15.0g)
の混合物を2時間かけて滴下し、滴下終了後、V−65
(0.5g)のMEK(8.3ml)溶液を添加し、2
時間反応させた。その後、反応温度を80℃として2時
間反応させ、反応終了後、室温まで冷却した。得られた
反応溶液をヘキサン10Lに1時間かけて滴下し、沈殿
物を35℃、8時間減圧乾燥し、2dを49g得た。次
に2d(49g)をアセトン(390ml)に溶解し、
5℃に冷却した。そこにトリエチルアミン(390mm
ol)を1時間かけて滴下させ、滴下終了後、室温で2
4時間反応させた。その後、反応容器を5℃に冷却し、
6規定の塩酸水溶液29.3mlを1時間かけて滴下
し、滴下終了後、1時間攪拌させた。得られた反応溶液
に酢酸エチル(1L)と10質量%の塩化ナトリウム水
溶液(1L)を加えて攪拌後、水層を分離した。更に有
機層を10質量%の塩化ナトリウム水溶液(1L)で2
回洗浄し、硫酸ナトリウムを100g添加し、1時間乾
燥した後、硫酸ナトリウムを濾別した。得られた溶液を
500mlまで濃縮後、ヘキサン10Lに1時間かけて
滴下し、沈殿物を20℃、8時間減圧乾燥し、例示化合
物C−1(x/y=70/30質量%)を36g得た。
The above 1b (3.0 mol) was dissolved in 1400 ml of tetrahydrofuran (THF), and the reaction vessel was heated at 5 ° C.
Cooled to. The above-mentioned 1a (3.15 mol) was added dropwise thereto over 1 hour, and then reacted for 6 hours. The resulting reaction solution was concentrated under reduced pressure at 30 ° C. and then distilled under reduced pressure. Thirteen
Fractions at 118 to 121 ° C were collected under reduced pressure of 3 Pa and subjected to silica gel column chromatography (eluent: acetone /
Purified with hexane = 5/95 (volume ratio), and above 1c
362g was obtained. Next, methyl ethyl ketone (MEK)
After stirring 275 ml under a nitrogen stream at 60 ° C. for 1 hour, V-
0.5 g of 65 (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. polymerization initiator) was added to MEK8.3.
All that was dissolved in ml was added. After that, 1c (4
1.9 g) and glycidyl methacrylate (15.0 g)
Was added dropwise over 2 hours, and after completion of the addition, V-65
(0.5 g) in MEK (8.3 ml) was added and 2
Reacted for hours. Then, the reaction temperature was set to 80 ° C. and the reaction was carried out for 2 hours, and after the reaction was completed, it was cooled to room temperature. The obtained reaction solution was added dropwise to 10 L of hexane over 1 hour, and the precipitate was dried under reduced pressure at 35 ° C. for 8 hours to obtain 49 g of 2d. Next, 2d (49 g) was dissolved in acetone (390 ml),
Cooled to 5 ° C. Triethylamine (390mm)
ol) is added dropwise over 1 hour, and after completion of the addition, at room temperature, 2
The reaction was carried out for 4 hours. Then, cool the reaction vessel to 5 ° C,
29.3 ml of a 6N aqueous hydrochloric acid solution was added dropwise over 1 hour, and after completion of the addition, the mixture was stirred for 1 hour. Ethyl acetate (1 L) and 10 mass% sodium chloride aqueous solution (1 L) were added to the obtained reaction solution, and the mixture was stirred and then the aqueous layer was separated. Further, the organic layer is washed with a 10% by mass sodium chloride aqueous solution (1 L) to obtain 2
After washing twice, adding 100 g of sodium sulfate and drying for 1 hour, sodium sulfate was filtered off. The obtained solution was concentrated to 500 ml, then added dropwise to 10 L of hexane over 1 hour, the precipitate was dried under reduced pressure at 20 ° C. for 8 hours, and 36 g of Exemplified compound C-1 (x / y = 70/30 mass%). Obtained.

【0101】以下に実施例を挙げて本発明をさらに説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention is further described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these.

【0102】[0102]

【実施例】実施例1〜4、及び比較例1〜4 1.下塗り液の調製および塗布 下記素材を使用し、コロナ処理された175μmのポリ
エチレンテレフタレートフイルムとハードコート層の密
着性を付与させるための下塗り液を調製し、塗布を実施
した。 (下塗り液の組成) UV3300B(日本合成化学(株)製末端アクリル変性ウレタンオリゴマー) 5質量部 C919‐C64‐(OCH2CH212OH 0.05質量部 トルエン/酢酸メチル(1/1) 94.95質量部 この下塗り液を、バーコ−ターを用いて7ml/m2
なるように塗布し、搬送しつつ加熱ゾーンにて160℃
で5分間加熱乾燥した。巻き取り直前で冷却ローラーに
て30℃以下に冷却し、作成した下塗り付きポリエチレ
ンテレフタレートフイルム(F−1)を巻き取った。
EXAMPLES Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 1. Preparation and Application of Undercoat Liquid Using the following materials, an undercoat liquid for providing adhesion between the corona-treated 175 μm polyethylene terephthalate film and the hard coat layer was prepared and applied. (Undercoat liquid composition) UV3300B (Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. terminal acrylic-modified urethane oligomer) 5 parts by weight C 9 H 19 -C 6 H 4 - (OCH 2 CH 2) 12 OH 0.05 parts by mass of toluene / acetic acid Methyl (1/1) 94.95 parts by mass This undercoating solution was applied at a rate of 7 ml / m 2 using a bar coater, and 160 ° C. in a heating zone while being transported.
And heat dried for 5 minutes. Immediately before winding, it was cooled to 30 ° C. or lower with a cooling roller, and the prepared undercoated polyethylene terephthalate film (F-1) was wound.

【0103】2.ハードコート層塗布液の調製およびハ
ードコート層の作製 下記の通り、無機粒子含有のハードコート層塗布液の調
製し、塗布・乾燥・紫外線硬化処理を行い、ハードコー
ト層を形成した。 2−1.無機粒子分散液(M−1)の調製 (無機粒子分散液(M−1)の組成) メチルイソブチルケトン 234g アロニックスM5300(東亜合成(株)製オリゴエステルアクリレートポリ マー) 36g AKP−G015(住友化学工業製アルミナ) 180g 上記混合液をセラミックコートしたサンドミル(1/4
Gのサンドミル、メディアは1mmφのジルコニアビー
ズ)にて1600rpm、10時間微分散した。
2. Preparation of Hard Coat Layer Coating Liquid and Preparation of Hard Coat Layer As described below, a hard coat layer coating liquid containing inorganic particles was prepared, and subjected to coating, drying and ultraviolet curing treatments to form a hard coat layer. 2-1. Preparation of Inorganic Particle Dispersion Liquid (M-1) (Composition of Inorganic Particle Dispersion Liquid (M-1)) Methyl isobutyl ketone 234 g Aronix M5300 (oligo ester acrylate polymer manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 36 g AKP-G015 (Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Alumina) 180 g Ceramic coated sand mill (1/4)
The sand mill of G and the medium were 1 mmφ zirconia beads) and finely dispersed at 1600 rpm for 10 hours.

【0104】2−2.ハードコート層用塗布液の調製 メチルエチルケトン100gに繰り返し単位E−1に対
応するグリシジルメタクリレート 60gとジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、
日本化薬(株)製)180gを加えて溶解した。さら
に、得られた溶液に、上記で調製した無機粒子分散液
(M−1)25ml、光重合開始剤(イルガキュア18
4、チバガイギー社製)6.8gおよびメチルエチルケ
トン7gを添加した。さらにカチオン重合開始剤(UV
I−6990(ユニオンカーバイド日本(株)製)をメチ
ルイソブチルケトン/メチルエチルケトン混合溶液(1
/1)に溶解後、13.4gを添加した。その混合物を
30分間攪拌した後、孔径1μmのポリプロピレン製フ
ィルターで濾過してハードコート層用塗布液を調製し
た。
2-2. Preparation of Coating Solution for Hard Coat Layer 100 g of methyl ethyl ketone, 60 g of glycidyl methacrylate corresponding to repeating unit E-1 and a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA,
180 g of Nippon Kayaku Co., Ltd. was added and dissolved. Furthermore, 25 ml of the above-prepared inorganic particle dispersion liquid (M-1), a photopolymerization initiator (Irgacure 18
4.8 g (manufactured by Ciba-Geigy) and 7 g of methyl ethyl ketone. Furthermore, cationic polymerization initiator (UV
I-6990 (Union Carbide Japan Co., Ltd.) was mixed with methyl isobutyl ketone / methyl ethyl ketone mixed solution (1
After dissolution in 1/1), 13.4 g was added. The mixture was stirred for 30 minutes and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for hard coat layer.

【0105】2−3.ハードコートフィルムの作製 下塗り層を設けたポリエチレンテレフタレートフイルム
(F−1)に、その面の上にバーコーターを用いて上記
2−2で作成したハードコート層用塗布液を表に示す膜
厚になるように塗布・乾燥し紫外線照射してハードコー
ト層付きフィルム(H−1)を作製した。
2-3. Preparation of Hard Coat Film Polyethylene terephthalate film (F-1) provided with an undercoat layer was coated with a coating solution for a hard coat layer prepared in 2-2 above using a bar coater to a film thickness shown in the table. To be coated and dried so as to be irradiated with ultraviolet rays to prepare a film (H-1) having a hard coat layer.

【0106】3.低反射層の作製 3−1.銀パラジウムコロイド塗布液の調製: (銀パラジウムコロイド分散液の調製)30%硫酸鉄
(II)FeSO4・7H2O、40%のクエン酸を調製、
混合し、20℃に保持、攪拌しながらこれに10%の硝
酸銀と硝酸パラジウム(モル比9/1に混合したもの)
溶液を200ml/minの速度で添加混合し、その後
生成した銀パラジウムコロイドの水洗を遠心分離により
繰り返し、最終的に3重量%になるように純水を加え、
銀パラジウムコロイド分散液を調整した。得られた銀コ
ロイド粒子の粒径はTEM観察の結果、粒径は約9〜1
2nmであった。ICPによる測定の結果、銀とパラジ
ウムの比は9/1の仕込み比と同一であった。
3. Preparation of Low Reflection Layer 3-1. Preparation of silver-palladium colloid coating liquid: (Preparation of silver-palladium colloid dispersion liquid) 30% iron (II) sulfate FeSO 4 .7H 2 O and 40% citric acid were prepared.
Mix, hold at 20 ° C, and stir 10% silver nitrate and palladium nitrate (mixed at a molar ratio of 9/1) with stirring
The solution was added and mixed at a rate of 200 ml / min, and then washing of the silver-palladium colloid produced was repeated by centrifugation, and pure water was added so that the final concentration was 3% by weight.
A silver palladium colloidal dispersion was prepared. As a result of TEM observation, the particle size of the obtained silver colloidal particles was about 9 to 1
It was 2 nm. As a result of measurement by ICP, the ratio of silver to palladium was the same as the charging ratio of 9/1.

【0107】(銀パラジウムコロイド塗布液の調製)上
記で調製した銀パラジウムコロイド分散液100gにi
−プロピルアルコールを加え、超音波分散し孔径1μm
のポリプロピレン製フィルターで濾過して銀パラジウム
コロイド塗布液を調製した。
(Preparation of Silver Palladium Colloid Coating Solution) 100 g of the silver palladium colloid dispersion prepared above was i.
-Add propyl alcohol, ultrasonically disperse, pore size 1μm
To prepare a silver-palladium colloid coating solution.

【0108】3−2.銀層上の透明薄膜層用塗布液1の
調製 ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPH
A、日本化薬(株)製)2gと光重合開始剤(イルガキ
ュア907、チバガイギー社製)80mgおよび光増感
剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)30m
gをメチルイソプロピルケトン38g、2−ブタノール
38g、メタノール19gの混合液に加えて溶解した。
混合物を30分間撹拌した後、孔径1μmのポリプロピ
レン製フィルターで濾過して銀層上の透明薄膜層用塗布
液1を調製した。
3-2. Preparation of coating liquid 1 for transparent thin film layer on silver layer Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPH
A, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 2 g, photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) 80 mg, and photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 30 m
g was added to a mixed solution of 38 g of methyl isopropyl ketone, 38 g of 2-butanol and 19 g of methanol and dissolved.
The mixture was stirred for 30 minutes and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare coating solution 1 for transparent thin film layer on silver layer.

【0109】3−3.銀層上の透明薄膜層用塗布液2の
調製 テトラエトキシシラン80gに0.01規定の塩酸24
gを添加し、4時間激しく攪拌した。液が均一になった
ことを確認後、室温で18時間放置しさらに本液40g
に対してメチルエチルケトンを165g添加し30分間
撹拌し銀層上の透明薄膜層用塗布液2を調製した。
3-3. Preparation of coating solution 2 for transparent thin film layer on silver layer 0.01 g of hydrochloric acid 24 in 0.01 g of tetraethoxysilane
g and stirred vigorously for 4 hours. After confirming that the liquid became uniform, leave it at room temperature for 18 hours and then add 40 g of this liquid.
On the other hand, 165 g of methyl ethyl ketone was added and stirred for 30 minutes to prepare coating solution 2 for a transparent thin film layer on a silver layer.

【0110】3−4.銀層上の透明薄膜層用塗布液3の
調製 テトラエトキシシラン80gに0.01規定の塩酸24
gを添加し、4時間激しく攪拌した。液が均一になった
ことを確認後室温で18時間放置しさらに本液40gに
対してメチルエチルケトンを165g、シリコーンオイ
ルKF−945(信越化学製)1gを添加し30分間撹
拌し銀層上の透明薄膜層用塗布液3を調製した。
3-4. Preparation of coating liquid 3 for transparent thin film layer on silver layer
g and stirred vigorously for 4 hours. After confirming that the solution became uniform, leave it at room temperature for 18 hours, and then add 165 g of methyl ethyl ketone and 1 g of silicone oil KF-945 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) to 40 g of this solution and stir for 30 minutes to clear on the silver layer. Coating solution 3 for thin film layer was prepared.

【0111】3−5.銀パラジウムコロイド塗布液の塗
布 ハードコート層付きフィルム(H−1)をコロナ処理し
た後、上記3−1で調製した銀コロイド塗布液をワイヤ
ーバーで塗布量が70mg/m2になるようにハードコ
ート層上に塗布し、40℃で乾燥して銀層を形成した
(Ag−1)。
3-5. Application of silver-palladium colloid coating solution After corona-treating the film (H-1) with a hard coat layer, the silver colloid coating solution prepared in 3-1 above was hardened with a wire bar to a coating amount of 70 mg / m 2. It was applied on the coat layer and dried at 40 ° C. to form a silver layer (Ag-1).

【0112】3−6.銀層上に透明薄膜層用塗布液1の
塗布 Ag−1の銀層上に透明薄膜層用塗布液1を塗布・乾燥
し、3Kw、750mJの条件で紫外線照射することで
低反射層付きハードコートフィルム(AR−1)を作製
した。銀層上の透明薄膜層の膜厚は90nmであった。
3-6. Coating of coating liquid 1 for transparent thin film layer on silver layer Coating liquid 1 for transparent thin film layer is coated and dried on Ag-1 silver layer, and is irradiated with ultraviolet rays under the condition of 3 Kw and 750 mJ. A coated film (AR-1) was produced. The film thickness of the transparent thin film layer on the silver layer was 90 nm.

【0113】3−7.銀層上に透明薄膜層用塗布液2の
塗布 Ag−1の銀層上に透明薄膜層用塗布液2を塗布した後
110℃で30分乾燥し低反射層付きハードコートフィ
ルム(AR−2)を作製した。銀上の透明薄膜層の膜厚
は80nmであった。
3-7. Coating of Coating Liquid 2 for Transparent Thin Film Layer on Silver Layer Coating liquid 2 for transparent thin film layer was coated on the silver layer of Ag-1 and then dried at 110 ° C. for 30 minutes to obtain a hard coat film with a low reflection layer (AR-2). ) Was produced. The film thickness of the transparent thin film layer on silver was 80 nm.

【0114】3−8.銀層上に透明薄膜層用塗布液3の
塗布 3−7と同様に透明薄膜層用塗布液3を塗布、乾燥して
低反射層付きハードコートフィルム(AR−3)を作製
した。銀上の透明薄膜層の膜厚は85nmであった。
3-8. The transparent thin film layer coating liquid 3 was applied onto the silver layer in the same manner as the coating 3-7 of the transparent thin film layer coating liquid 3 and dried to prepare a hard coat film (AR-3) with a low reflection layer. The film thickness of the transparent thin film layer on silver was 85 nm.

【0115】4.潤滑層の作製 メチルエチルケトン300gに滑り剤であるシリコーン
オイルKF−945(信越化学製)3gを添加し30分
間撹拌し潤滑層用塗布液とした。本液をKF−945が
表4に示す量となるように低反射層付きハードコートフ
ィルムAR−1、AR−2上に塗布した。
4. Preparation of Lubrication Layer To 300 g of methyl ethyl ketone, 3 g of silicone oil KF-945 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), which is a slip agent, was added and stirred for 30 minutes to prepare a coating liquid for a lubrication layer. This solution was applied onto the hard coat films AR-1 and AR-2 with a low reflection layer so that the amount of KF-945 shown in Table 4 was obtained.

【0116】作製したハードコートフィルムにつき、動
摩擦係数、450〜650nm平均反射率、耐スチール
ウール特性、鉛筆硬度および膜剥がれを測定した。結果
を表4に示す。
With respect to the prepared hard coat film, the dynamic friction coefficient, 450 to 650 nm average reflectance, steel wool resistance, pencil hardness and film peeling were measured. The results are shown in Table 4.

【0117】・動摩擦係数 表面性測定機HEIDON-14新東科学製を用いて測定した。 ・耐スチールウール評価法 フィルムを温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間
調湿した後、#0000のスチールウールを接地面積1
cm2、加重200gにて50往復した後の傷での発生
を目視で判定した。 ○:傷の発生なし △:傷が発生が僅かに認められる ×:多くの傷が発生
The dynamic friction coefficient was measured using a surface property measuring device HEIDON-14 manufactured by Shinto Kagaku.・ Steel wool resistance evaluation method After conditioning the film for 2 hours at a temperature of 25 ° C and a relative humidity of 60%, the steel wool of # 0000 has a ground contact area of 1
The occurrence of scratches after 50 reciprocations under a cm 2 load of 200 g was visually determined. ◯: No scratches were generated Δ: Scratches were slightly observed ×: Many scratches were generated

【0118】・反射率 分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、450〜6
50nmの波長領域における入射光5゜における正反射
の平均反射率により評価した。 ・鉛筆硬度 作製したハードコートフィルムおよびハードコートガラ
ス試料を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間放
置した後、JIS S6006が規定する試験用鉛筆を
用いて、JIS K5400が規定する鉛筆硬度評価方
法に従い、1kgのおもりを用いて各硬度の鉛筆で引っ
掻きを5回繰り返し、傷が全く認められなかった回数を
表した。なお、JIS K5400で定義される傷は
塗膜の破れ、塗膜のすり傷であり、塗膜のへこみは
対象としないと記載されているが、ここでは、塗膜の
へこみも含めて傷と判断している。 ・膜剥がれ ハードコートフィルムおよびハードコートガラス試料の
ハードコート層表面にカッターによって1mm×1mm
のクロスハッチ(升目)を100個入れ、温度25℃、
相対湿度60%の条件で2時間放置した後、その上にセ
ロテープ(ニチバン社製)を貼り付け、該セロテープを
剥がしたときに硬化被膜がフィルム基材から剥がれた升
目の数を計測することで評価した。
450 to 6 by using a reflectance spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation)
It was evaluated by the average reflectance of specular reflection at an incident light of 5 ° in the wavelength region of 50 nm. -Pencil hardness After the prepared hard coat film and hard coat glass sample were left for 2 hours at a temperature of 25 ° C and a relative humidity of 60%, a pencil hardness specified by JIS K5400 was used by using a test pencil specified by JIS S6006. According to the evaluation method, scratching was repeated 5 times with a pencil of each hardness using a weight of 1 kg, and the number of times that no scratch was observed was shown. It is described that the scratches defined in JIS K5400 are coating film tears and scratches on the coating film, and dents on the coating film are not included. Deciding.・ Film peeling 1 mm x 1 mm with a cutter on the hard coat film surface of the hard coat film and hard coat glass sample.
Put 100 cross hatches (squares), temperature 25 ℃,
After standing for 2 hours under the condition of relative humidity of 60%, a cellophane tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd.) was adhered on the cell, and when the cellophane tape was peeled off, the number of squares in which the cured coating was peeled off from the film substrate was measured. evaluated.

【0119】[0119]

【表4】 [Table 4]

【0120】表4に示される結果から、以下のことが明
らかである。本発明のハードコートフィルムは、耐傷付
性に優れ、高硬度である。一方、表面の動摩擦係数が
0.4を越えて高い比較例1および2の場合、耐傷付性
に劣る。また、ハードコート層の膜厚が10μm未満の
比較例3、4のハードコートフィルムは低硬度である。
From the results shown in Table 4, the following is clear. The hard coat film of the present invention has excellent scratch resistance and high hardness. On the other hand, in the cases of Comparative Examples 1 and 2 in which the coefficient of dynamic friction of the surface exceeds 0.4 and is high, the scratch resistance is poor. Further, the hard coat films of Comparative Examples 3 and 4 in which the hard coat layer has a thickness of less than 10 μm have low hardness.

【0121】[0121]

【発明の効果】本発明のハードコートフィルムは、膜剥
がれやヒビ割れが生じにくく、十分な硬度、耐擦傷性を
有する。この特性を利用して、本発明のハードコートフ
ィルムは、CRT、LCD、PDP、FEDなどのディ
スプレイ、タッチパネル、ガラスなどの光学機能を有す
る表面保護フィルムとして使用することができる。
EFFECTS OF THE INVENTION The hard coat film of the present invention is resistant to film peeling and cracking, and has sufficient hardness and scratch resistance. Utilizing this property, the hard coat film of the present invention can be used as a surface protective film having an optical function such as a display such as a CRT, LCD, PDP, FED, a touch panel, glass and the like.

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成13年8月16日(2001.8.1
6)
[Submission date] August 16, 2001 (2001.8.1)
6)

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】発明の名称[Name of item to be amended] Title of invention

【補正方法】追加[Correction method] Added

【補正内容】[Correction content]

【発明の名称】 ハードコートフイルム[Title of Invention] Hard coat film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C08L 67:00 G02B 1/10 A (72)発明者 桜井 靖也 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2K009 AA03 AA15 BB02 BB24 CC09 CC22 CC24 CC42 DD02 DD05 EE03 4F006 AA35 AB24 BA02 CA05 DA04 4F100 AA02 AA20C AK21B AK24B AK25 AK25B AK25J AK41A AR00C AT00A BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C CA19C CC00B DE01B EH46B EJ05B EJ08B GB41 JK12 JK12B JK14 JK16B JK16C JN06 JN06C YY00 YY00B YY00C─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) // C08L 67:00 G02B 1/10 A (72) Inventor Yasui Sakurai 210 Nakanuma, Minamiashigara City, Kanagawa Fuji photo film Co., Ltd. in the F-term (reference) 2K009 AA03 AA15 BB02 BB24 CC09 CC22 CC24 CC42 DD02 DD05 EE03 4F006 AA35 AB24 BA02 CA05 DA04 4F100 AA02 AA20C AK21B AK24B AK25 AK25B AK25J AK41A AR00C AT00A BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C CA19C CC00B DE01B EH46B EJ05B EJ08B GB41 JK12 JK12B JK14 JK16B JK16C JN06 JN06C YY00 YY00B YY00C

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材上に、膜厚10μm以上のハードコ
ート層を有し、かつ表面の動摩擦係数が0.4以下であ
る層を最表面に有することを特徴とするハードコートフ
ィルム。
1. A hard coat film comprising a hard coat layer having a film thickness of 10 μm or more on a substrate, and a layer having a surface dynamic friction coefficient of 0.4 or less on the outermost surface.
【請求項2】 450〜650nmにおける平均反射率
が、2%以下であることを特徴とする請求項1記載のハ
ードコートフィルム。
2. The hard coat film according to claim 1, wherein the average reflectance at 450 to 650 nm is 2% or less.
【請求項3】 ハードコートフィルムが、SiO2を含
有する低反射層を有することを特徴とする請求項1また
は2記載のハードコートフィルム。
3. The hard coat film according to claim 1 or 2, wherein the hard coat film has a low reflection layer containing SiO 2 .
【請求項4】 低反射層が、潤滑剤を5mg/m2以上
100mg/m2以下含有することを特徴とする請求項
3記載のハードコートフィルム。
4. The hard coat film according to claim 3, wherein the low reflection layer contains a lubricant in an amount of 5 mg / m 2 or more and 100 mg / m 2 or less.
【請求項5】 ハードコートフィルムのハードコート層
が、エチレン性不飽和基を含む化合物と同一分子内に3
個以上の開環重合性基を含む化合物の両方とを含有する
硬化性組成物を塗布、硬化して形成されるハードコート
層であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記
載のハードコートフィルム。
5. The hard coat layer of the hard coat film has 3 in the same molecule as the compound containing an ethylenically unsaturated group.
It is a hard-coat layer formed by apply | coating and hardening the curable composition containing both of the compound containing one or more ring-opening polymerizable groups, It is characterized by the above-mentioned. Hard coat film.
【請求項6】 開環重合性基を含む化合物が、下記一般
式(1)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマー
であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載
のハードコートフィルム。 一般式(1) 【化1】 (式中、R1は水素原子もしくは炭素原子数1以上4以
下のアルキル基を表す。P1は開環重合性基を含む一価
の基であり、L1は単結合もしくは二価の連結基であ
る。)
6. The compound containing a ring-opening polymerizable group is a crosslinkable polymer containing a repeating unit represented by the following general formula (1), wherein: Hard coat film. General formula (1) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. P 1 is a monovalent group containing a ring-opening polymerizable group, and L 1 is a single bond or a divalent linkage. It is a base.)
【請求項7】 開環重合性基がカチオン重合性基である
ことを特徴とする請求項1〜6のいずれかにに記載のハ
ードコートフィルム。
7. The hard coat film according to claim 1, wherein the ring-opening polymerizable group is a cationically polymerizable group.
【請求項8】 硬化性組成物に架橋微粒子を含有するこ
とを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のハード
コートフィルム。
8. The hard coat film according to claim 1, wherein the curable composition contains crosslinked fine particles.
【請求項9】 表面の鉛筆硬度が4H〜9Hであること
を特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のハードコ
ートフィルム。
9. The hard coat film according to claim 1, wherein the surface has a pencil hardness of 4H to 9H.
【請求項10】基材がポリエステルフィルムであり、ハ
ードコート層の膜厚が20〜200μmであることを特
徴とする請求項1〜9のいずれかに記載のハードコート
フィルム。
10. The hard coat film according to claim 1, wherein the substrate is a polyester film and the film thickness of the hard coat layer is 20 to 200 μm.
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005059601A1 (en) * 2003-12-17 2005-06-30 Bridgestone Corporation Antireflection film, electromagnetic wave shielding light transmitting window material, gas discharge type light emitting panel, flat display panel, show window material and solar cell module
JP2007169563A (en) * 2005-12-26 2007-07-05 Daicel Chem Ind Ltd Antireflective film and composition for forming the same
JP2008074083A (en) * 2006-08-22 2008-04-03 Fujifilm Corp Optical laminated sheet and image display device
CN100417954C (en) * 2003-12-17 2008-09-10 株式会社普利司通 Antireflection film, electromagnetic wave shielding light transmitting window material, gas discharge type light emitting panel, flat display panel, show window material and solar cell module
KR101093721B1 (en) * 2009-06-01 2011-12-19 도레이첨단소재 주식회사 Double side hard coating film for protecting display
JP2012214036A (en) * 2011-03-31 2012-11-08 Kimoto & Co Ltd Modified plastic film
JP2013142770A (en) * 2012-01-11 2013-07-22 Dainippon Printing Co Ltd Antireflection film
JP2013160954A (en) * 2012-02-06 2013-08-19 Lintec Corp Optical film and display device
JP2015229303A (en) * 2014-06-05 2015-12-21 コニカミノルタ株式会社 Window film and method of producing substrate with film stuck thereto
US20160033686A1 (en) * 2014-07-31 2016-02-04 Fujifilm Corporation Polarizing plate protective film, polarizing plate, liquid crystal display device and manufacturing method of polarizing plate protective film

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005059601A1 (en) * 2003-12-17 2005-06-30 Bridgestone Corporation Antireflection film, electromagnetic wave shielding light transmitting window material, gas discharge type light emitting panel, flat display panel, show window material and solar cell module
CN100417954C (en) * 2003-12-17 2008-09-10 株式会社普利司通 Antireflection film, electromagnetic wave shielding light transmitting window material, gas discharge type light emitting panel, flat display panel, show window material and solar cell module
JP2007169563A (en) * 2005-12-26 2007-07-05 Daicel Chem Ind Ltd Antireflective film and composition for forming the same
JP2008074083A (en) * 2006-08-22 2008-04-03 Fujifilm Corp Optical laminated sheet and image display device
KR101093721B1 (en) * 2009-06-01 2011-12-19 도레이첨단소재 주식회사 Double side hard coating film for protecting display
JP2012214036A (en) * 2011-03-31 2012-11-08 Kimoto & Co Ltd Modified plastic film
JP2013142770A (en) * 2012-01-11 2013-07-22 Dainippon Printing Co Ltd Antireflection film
JP2013160954A (en) * 2012-02-06 2013-08-19 Lintec Corp Optical film and display device
JP2015229303A (en) * 2014-06-05 2015-12-21 コニカミノルタ株式会社 Window film and method of producing substrate with film stuck thereto
US20160033686A1 (en) * 2014-07-31 2016-02-04 Fujifilm Corporation Polarizing plate protective film, polarizing plate, liquid crystal display device and manufacturing method of polarizing plate protective film
JP2016035557A (en) * 2014-07-31 2016-03-17 富士フイルム株式会社 Polarizing plate protective film, polarizing plate, liquid crystal display device, and manufacturing method of polarizing plate protective film
TWI664250B (en) * 2014-07-31 2019-07-01 日商富士軟片股份有限公司 Polarizing plate protective film, polarizing plate, liquid crystal display device and method of producing polarizing plate protective film

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