JP2003055349A - キノリン−３−カルボン酸化合物の製造方法 - Google Patents
キノリン−３−カルボン酸化合物の製造方法Info
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- JP2003055349A JP2003055349A JP2001244670A JP2001244670A JP2003055349A JP 2003055349 A JP2003055349 A JP 2003055349A JP 2001244670 A JP2001244670 A JP 2001244670A JP 2001244670 A JP2001244670 A JP 2001244670A JP 2003055349 A JP2003055349 A JP 2003055349A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 医薬品の中間体であるキノリン−３−カ
ルボン酸化合物の提供。 【解決手段】 ２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェ
ノンと式（１） 【化１】 〔R1は、分岐してもよいC1-6アルキル基又はC3-6シクロ
アルキル基を表す。R2は、分岐してもよいC1-6アルキル
基を表す。〕で表されるケトエステル類とを、酸触媒の
存在下、アセトニトリル溶媒中、反応させることを特徴
とする、式（２） 【化２】 〔式中、R1及びR2は、上記と同じ意味を表す〕で表され
るキノリン−３−カルボン酸化合物の製造方法。
ルボン酸化合物の提供。 【解決手段】 ２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェ
ノンと式（１） 【化１】 〔R1は、分岐してもよいC1-6アルキル基又はC3-6シクロ
アルキル基を表す。R2は、分岐してもよいC1-6アルキル
基を表す。〕で表されるケトエステル類とを、酸触媒の
存在下、アセトニトリル溶媒中、反応させることを特徴
とする、式（２） 【化２】 〔式中、R1及びR2は、上記と同じ意味を表す〕で表され
るキノリン−３−カルボン酸化合物の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、コレステロール低
下薬（HMG-CoA還元酵素阻害薬）であって、例えば特許
公報2569746号、欧州特許304063号、米国特許5011930号
に記載されている医薬品の有用な中間体である、キノリ
ン−３−カルボン酸化合物の製造方法に関する。
下薬（HMG-CoA還元酵素阻害薬）であって、例えば特許
公報2569746号、欧州特許304063号、米国特許5011930号
に記載されている医薬品の有用な中間体である、キノリ
ン−３−カルボン酸化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】キノリン−３−カルボン酸化合物につい
て、従来、その種々の製造方法が提案されている。例え
ば、1）酢酸溶媒中、硫酸触媒で２−アミノ−４−フル
オロベンゾフェノンとケトエステル体とを縮合して製造
する方法（C. C. Cheng and S.J. Yan, Organic Reacti
ons, The Friedlander Synthesis of Quinolines, Vol.
28, ed. by W. G. Dauben, Lohn Wiley & Sons, New Yo
rk, 1982, p.37）や、２）炭化水素系溶媒中、酸触媒存
在下で２−アミノ−４−フルオロベンゾフェノンとケト
エステル体とを脱水縮合してキノリン−３−カルボン酸
エステル誘導体を製造する方法（Suzuki M., Tanikawa
K., Sakoda R., Heterocycles, 50, 479-483(1999)）な
どが挙げられる。１）の方法はケトエステル体が酸に不
安定なため収率が悪く、大量の酢酸を使用するなどの問
題点がある。また２）の方法はトルエン等の炭化水素系
溶媒中で脱水縮合して、キノリン骨格を形成している
が、１）と同様にケトエステル体が不安定なため、反応
を早く進める必要があり、減圧下、脱水還流させたり、
ケトエステル体を過剰に使用する必要がある。また、２
−アミノ−４−フルオロベンゾフェノン及び生成するキ
ノリン類が塩基性を有するため、触媒として使用する酸
と造塩して、反応溶液中で結晶やオイルとして析出し、
反応が遅延したり、停止するなどの問題点があった。
て、従来、その種々の製造方法が提案されている。例え
ば、1）酢酸溶媒中、硫酸触媒で２−アミノ−４−フル
オロベンゾフェノンとケトエステル体とを縮合して製造
する方法（C. C. Cheng and S.J. Yan, Organic Reacti
ons, The Friedlander Synthesis of Quinolines, Vol.
28, ed. by W. G. Dauben, Lohn Wiley & Sons, New Yo
rk, 1982, p.37）や、２）炭化水素系溶媒中、酸触媒存
在下で２−アミノ−４−フルオロベンゾフェノンとケト
エステル体とを脱水縮合してキノリン−３−カルボン酸
エステル誘導体を製造する方法（Suzuki M., Tanikawa
K., Sakoda R., Heterocycles, 50, 479-483(1999)）な
どが挙げられる。１）の方法はケトエステル体が酸に不
安定なため収率が悪く、大量の酢酸を使用するなどの問
題点がある。また２）の方法はトルエン等の炭化水素系
溶媒中で脱水縮合して、キノリン骨格を形成している
が、１）と同様にケトエステル体が不安定なため、反応
を早く進める必要があり、減圧下、脱水還流させたり、
ケトエステル体を過剰に使用する必要がある。また、２
−アミノ−４−フルオロベンゾフェノン及び生成するキ
ノリン類が塩基性を有するため、触媒として使用する酸
と造塩して、反応溶液中で結晶やオイルとして析出し、
反応が遅延したり、停止するなどの問題点があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は工業
的な規模で短時間に高収率、高純度で、医薬品の中間体
として有用なキノリン−３−カルボン酸化合物を製造す
る方法を提供することである。
的な規模で短時間に高収率、高純度で、医薬品の中間体
として有用なキノリン−３−カルボン酸化合物を製造す
る方法を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、工業的な
規模で短時間に高収率、高純度で、医薬品などの有用な
中間体であるキノリン−３−カルボン酸化合物を製造す
る方法を鋭意研究したところ、アセトニトリル溶媒中
で、２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェノン及び酸
触媒又はこれらの代わりに２−アミノ−４′−フルオロ
ベンゾフェノンの酸触媒との塩をケトエステル類と、反
応させることによりキノリン−３−カルボン酸化合物を
短時間に高収率、高純度で製造する方法を見出し、本発
明を完成するに至った。
規模で短時間に高収率、高純度で、医薬品などの有用な
中間体であるキノリン−３−カルボン酸化合物を製造す
る方法を鋭意研究したところ、アセトニトリル溶媒中
で、２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェノン及び酸
触媒又はこれらの代わりに２−アミノ−４′−フルオロ
ベンゾフェノンの酸触媒との塩をケトエステル類と、反
応させることによりキノリン−３−カルボン酸化合物を
短時間に高収率、高純度で製造する方法を見出し、本発
明を完成するに至った。
【０００５】すなわち、本発明は、２−アミノ−４′−
フルオロベンゾフェノンと式（１）
フルオロベンゾフェノンと式（１）
【化３】
〔R1は、分岐してもよいC1-6アルキル基又はC3-6シクロ
アルキル基を表す。R2は、分岐してもよいC1-6アルキル
基を表す。〕で表されるケトエステル類とを、酸触媒の
存在下、アセトニトリル溶媒中、反応させることを特徴
とする、式（２）
アルキル基を表す。R2は、分岐してもよいC1-6アルキル
基を表す。〕で表されるケトエステル類とを、酸触媒の
存在下、アセトニトリル溶媒中、反応させることを特徴
とする、式（２）
【化４】
〔式中、R1及びR2は、上記と同じ意味を表す〕で表され
るキノリン−３−カルボン酸化合物の製造方法に関す
る。
るキノリン−３−カルボン酸化合物の製造方法に関す
る。
【０００６】本発明の好ましい態様は、以下の通りであ
る。 （１）酸触媒と２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェ
ノンより形成された塩を使用する。 （２）酸触媒がメタンスルホン酸である。 （３）R1がイソプロピル基又はシクロプロピル基、R2が
C1-4アルキル基である。
る。 （１）酸触媒と２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェ
ノンより形成された塩を使用する。 （２）酸触媒がメタンスルホン酸である。 （３）R1がイソプロピル基又はシクロプロピル基、R2が
C1-4アルキル基である。
【０００７】
【発明の実施の形態】上記一般式中、R1及びR2で表され
る分岐してもよいC1-6アルキル基としては、例えば、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、第二ブチル、第三ブチル、ペンチル、1-メチル
ブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、1,1-ジメチ
ルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、2,2-ジメチルプロ
ピル、1-エチルプロピル、ヘキシル、1-メチルペンチ
ル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペ
ンチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,
3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、2,3-ジメチル
ブチル、3,3-ジメチルブチル、1-エチルブチル、2-エチ
ルブチル、1,1,2-トリメチルプロピル、1,2,2-トリメチ
ルプロピル、1-エチル-1-メチルプロピル、1-エチル-2-
メチルプロピル等が挙げられる。
る分岐してもよいC1-6アルキル基としては、例えば、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、第二ブチル、第三ブチル、ペンチル、1-メチル
ブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、1,1-ジメチ
ルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、2,2-ジメチルプロ
ピル、1-エチルプロピル、ヘキシル、1-メチルペンチ
ル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペ
ンチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,
3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、2,3-ジメチル
ブチル、3,3-ジメチルブチル、1-エチルブチル、2-エチ
ルブチル、1,1,2-トリメチルプロピル、1,2,2-トリメチ
ルプロピル、1-エチル-1-メチルプロピル、1-エチル-2-
メチルプロピル等が挙げられる。
【０００８】上記一般式中、R1で表されるC3-6シクロア
ルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル及びシクロヘキシル等が挙げられ
る。
ルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル及びシクロヘキシル等が挙げられ
る。
【０００９】R1の好ましい例として、分岐しても良いC
1-4アルキル基とC3-6シクロアルキル基が挙げられる。
分岐しても良いC1-4アルキル基としては、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、第二ブチル及び第三ブチルが挙げられる。R1のよ
り好ましい例として、イソプロピル及びシクロプロピル
が挙げられる。
1-4アルキル基とC3-6シクロアルキル基が挙げられる。
分岐しても良いC1-4アルキル基としては、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、第二ブチル及び第三ブチルが挙げられる。R1のよ
り好ましい例として、イソプロピル及びシクロプロピル
が挙げられる。
【００１０】R2の好ましい例として、分岐しても良いC
1-4アルキル基が挙げられる。分岐しても良いC1-4アル
キル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル及び第
三ブチルが挙げられる。R2のより好ましい例として、メ
チル及びエチルが挙げられる。
1-4アルキル基が挙げられる。分岐しても良いC1-4アル
キル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル及び第
三ブチルが挙げられる。R2のより好ましい例として、メ
チル及びエチルが挙げられる。
【００１１】アセトニトリル溶媒の使用量としては特に
限定されないが、通常２−アミノ−４′−フルオロベン
ゾフェノン１００質量部に対して２００−１０００質量
部、好ましくは４００−４５０質量部である。
限定されないが、通常２−アミノ−４′−フルオロベン
ゾフェノン１００質量部に対して２００−１０００質量
部、好ましくは４００−４５０質量部である。
【００１２】本反応は、溶媒として用いられるアセトニ
トリルを留去させながら行ってもよい。
トリルを留去させながら行ってもよい。
【００１３】アセトニトリル溶媒の留去量は２−アミノ
−４′−フルオロベンゾフェノン１００質量部に対して
２５０−５００質量部、好ましくは３００−３５０質量
部である。アセトニトリル溶媒の留去は大気圧、減圧下
のいずれで実施しても良く、減圧下で行なう場合は、例
えば７０−８０ｋＰａの減圧下で行なう。
−４′−フルオロベンゾフェノン１００質量部に対して
２５０−５００質量部、好ましくは３００−３５０質量
部である。アセトニトリル溶媒の留去は大気圧、減圧下
のいずれで実施しても良く、減圧下で行なう場合は、例
えば７０−８０ｋＰａの減圧下で行なう。
【００１４】酸触媒としては、メタンスルホン酸、ｐ−
トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸などが挙げられ、メタンスルホン酸が
好ましい。酸触媒は前以って２−アミノ−４−フルオロ
ベンゾフェノンと造塩して使用することもできる。この
場合には別途、酸触媒を加える必要はない。
トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸などが挙げられ、メタンスルホン酸が
好ましい。酸触媒は前以って２−アミノ−４−フルオロ
ベンゾフェノンと造塩して使用することもできる。この
場合には別途、酸触媒を加える必要はない。
【００１５】酸触媒の使用量としては、２−アミノ−
４′−フルオロベンゾフェノン１モルに対して、０．５
−２．０倍モル量、好ましくは０．８−１．５倍モル量
である。
４′−フルオロベンゾフェノン１モルに対して、０．５
−２．０倍モル量、好ましくは０．８−１．５倍モル量
である。
【００１６】反応温度は原料、酸触媒により一概には決
められないが、通常６５−９０℃の範囲で、好ましくは
７０−８０℃である。６５℃より低いと、反応速度が遅
くなり、１０５℃以上であればケトエステル類が不安定
になり、過剰に使用する必要があったり、収率が低下し
たりする。
められないが、通常６５−９０℃の範囲で、好ましくは
７０−８０℃である。６５℃より低いと、反応速度が遅
くなり、１０５℃以上であればケトエステル類が不安定
になり、過剰に使用する必要があったり、収率が低下し
たりする。
【００１７】反応時間は、一概に決定できないが、通常
１時間−２４時間である。
１時間−２４時間である。
【００１８】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、これらは単なる例示であって何ら本発明を
限定するものではない。
説明するが、これらは単なる例示であって何ら本発明を
限定するものではない。
【００１９】参考例
文献記載（K.Suzuki, E.K.Weisburger, J.H.Weisburge
r, J. Org. Chem., 26,2239(1961)）の方法により得ら
れた２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェノン１５
８．８ｇをｏ−ジクロロベンゼン１９０５ｇに溶解し、
メタンスルホン酸７０．９３ｇを滴下すると結晶が析出
した。濾過し、酢酸エチル３７８ｇで洗浄し、乾燥する
ことにより、２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェノ
ン メタンスルホン酸塩２０３．１ｇを得た。 収率８８．４％ 融点 １７４℃1 H-NMR (DMSO-d6, TMS) δ (ppm): 2.41 (3H, s), 6.66
-6.70 (1H, m), 6.97-7.00 (1H, m), 7.31-7.40 (4H,
m), 7.64-7.70 (2H, m), 8.41 (3H, br).
r, J. Org. Chem., 26,2239(1961)）の方法により得ら
れた２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェノン１５
８．８ｇをｏ−ジクロロベンゼン１９０５ｇに溶解し、
メタンスルホン酸７０．９３ｇを滴下すると結晶が析出
した。濾過し、酢酸エチル３７８ｇで洗浄し、乾燥する
ことにより、２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェノ
ン メタンスルホン酸塩２０３．１ｇを得た。 収率８８．４％ 融点 １７４℃1 H-NMR (DMSO-d6, TMS) δ (ppm): 2.41 (3H, s), 6.66
-6.70 (1H, m), 6.97-7.00 (1H, m), 7.31-7.40 (4H,
m), 7.64-7.70 (2H, m), 8.41 (3H, br).
【００２０】実施例１
アセトニトリル２１．６ｇに３−シクロプロピル−３−
オキソプロピオン酸メチル２．４ｇと２−アミノ−４′
−フルオロベンゾフェノン メタンスルホン酸塩５．０
ｇを加え、７９−８１℃で加熱還流した。４時間後に３
−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸メチル０．
２４ｇを加え、７９−８１℃でさらに４時間加熱した。
高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で分析すると
原料２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェノンの残量
は８．９％であった。アセトニトリルを減圧下留去し、
トルエン２９．２ｇを加え、４％苛性ソーダ水溶液１４
ｇ、次いで２％苛性ソーダ水溶液６．５ｇで洗浄した。
５％食塩水５．５ｇで洗浄後、無水硫酸マグネシウム
０．５ｇで乾燥した。トルエンを減圧濃縮し、シクロヘ
キサン３７ｇより結晶化することにより２−シクロプロ
ピル−４−（４′−フルオロフェニル）キノリン−３−
カルボン酸メチルエステル３．５ｇを得た。収率６７．
８％ ＨＰＬＣ純度９７．２％。 融点 １２６℃1 H-NMR (CDCl3)δ(ppm): 1.03-1.09, 1.34-1.39 (各 2
H, m), 2.18 (1H, tt, J= 4.7 8.0 Hz), 3.63 (3H, s),
7.16-7.23 (2H, dd, m), 7.33-7.40 (3H, m), 7.49 (1
H, d, J = 8.5 Hz), 7.67 (1H, ddd, J = 1.6, 6.9, 8.
5 Hz), 7.98 (1H,dd, J = 0.6, 8.5 Hz).
オキソプロピオン酸メチル２．４ｇと２−アミノ−４′
−フルオロベンゾフェノン メタンスルホン酸塩５．０
ｇを加え、７９−８１℃で加熱還流した。４時間後に３
−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸メチル０．
２４ｇを加え、７９−８１℃でさらに４時間加熱した。
高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で分析すると
原料２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェノンの残量
は８．９％であった。アセトニトリルを減圧下留去し、
トルエン２９．２ｇを加え、４％苛性ソーダ水溶液１４
ｇ、次いで２％苛性ソーダ水溶液６．５ｇで洗浄した。
５％食塩水５．５ｇで洗浄後、無水硫酸マグネシウム
０．５ｇで乾燥した。トルエンを減圧濃縮し、シクロヘ
キサン３７ｇより結晶化することにより２−シクロプロ
ピル−４−（４′−フルオロフェニル）キノリン−３−
カルボン酸メチルエステル３．５ｇを得た。収率６７．
８％ ＨＰＬＣ純度９７．２％。 融点 １２６℃1 H-NMR (CDCl3)δ(ppm): 1.03-1.09, 1.34-1.39 (各 2
H, m), 2.18 (1H, tt, J= 4.7 8.0 Hz), 3.63 (3H, s),
7.16-7.23 (2H, dd, m), 7.33-7.40 (3H, m), 7.49 (1
H, d, J = 8.5 Hz), 7.67 (1H, ddd, J = 1.6, 6.9, 8.
5 Hz), 7.98 (1H,dd, J = 0.6, 8.5 Hz).
【００２１】実施例２
アセトニトリル２１．６ｇに３−シクロプロピル−３−
オキソプロピオン酸メチル２．４ｇと２−アミノ−４′
−フルオロベンゾフェノン メタンスルホン酸塩５．０
ｇを加え、７３−８０℃でアセトニトリルを留去した。
２時間でアセトニトリルを１６．７ｇ留去させた後、３
−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸メチル０．
２４ｇを加え、７９−８１℃で４時間加熱した。高速液
体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で分析すると原料２
−アミノ−４′−フルオロベンゾフェノンの残量は１．
３％であった。トルエン２９．２ｇを加え、４％苛性ソ
ーダ水溶液１４ｇ、次いで２％苛性ソーダ水溶液６．５
ｇで洗浄した。５％食塩水５．５ｇで洗浄後、無水硫酸
マグネシウム０．５ｇで乾燥した。トルエンを減圧濃縮
し、シクロヘキサン３７ｇより結晶化することにより２
−シクロプロピル−４−（４′−フルオロフェニル）キ
ノリン−３−カルボン酸メチルエステル４．４ｇを得
た。 収率８５．１％ ＨＰＬＣ純度９９．７％。
オキソプロピオン酸メチル２．４ｇと２−アミノ−４′
−フルオロベンゾフェノン メタンスルホン酸塩５．０
ｇを加え、７３−８０℃でアセトニトリルを留去した。
２時間でアセトニトリルを１６．７ｇ留去させた後、３
−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸メチル０．
２４ｇを加え、７９−８１℃で４時間加熱した。高速液
体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で分析すると原料２
−アミノ−４′−フルオロベンゾフェノンの残量は１．
３％であった。トルエン２９．２ｇを加え、４％苛性ソ
ーダ水溶液１４ｇ、次いで２％苛性ソーダ水溶液６．５
ｇで洗浄した。５％食塩水５．５ｇで洗浄後、無水硫酸
マグネシウム０．５ｇで乾燥した。トルエンを減圧濃縮
し、シクロヘキサン３７ｇより結晶化することにより２
−シクロプロピル−４−（４′−フルオロフェニル）キ
ノリン−３−カルボン酸メチルエステル４．４ｇを得
た。 収率８５．１％ ＨＰＬＣ純度９９．７％。
【００２２】比較例
トルエン２１．６ｇに３−シクロプロピル−３−オキソ
プロピオン酸メチル２．４ｇと２−アミノ−４′−フル
オロベンゾフェノン メタンスルホン酸塩５．０ｇを加
え、１０５−１１０℃で加熱還流した。４時間後に３−
シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸メチル０．２
４ｇを加え、１０５−１１０℃でさらに４時間加熱し
た。高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で分析す
ると原料２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェノンの
残量は３．０％であった。トルエン７．６ｇを加え、４
％苛性ソーダ水溶液１４ｇ、次いで２％苛性ソーダ水溶
液６．５ｇで洗浄した。５％食塩水５．５ｇで洗浄後、
無水硫酸マグネシウム０．５ｇで乾燥した。トルエンを
減圧濃縮し、シクロヘキサン３７ｇより結晶化すること
により２−シクロプロピル−４−（４′−フルオロフェ
ニル）キノリン−３−カルボン酸メチルエステル２．９
ｇを得た。 収率５５．８％ ＨＰＬＣ純度８９．１％。
プロピオン酸メチル２．４ｇと２−アミノ−４′−フル
オロベンゾフェノン メタンスルホン酸塩５．０ｇを加
え、１０５−１１０℃で加熱還流した。４時間後に３−
シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸メチル０．２
４ｇを加え、１０５−１１０℃でさらに４時間加熱し
た。高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で分析す
ると原料２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェノンの
残量は３．０％であった。トルエン７．６ｇを加え、４
％苛性ソーダ水溶液１４ｇ、次いで２％苛性ソーダ水溶
液６．５ｇで洗浄した。５％食塩水５．５ｇで洗浄後、
無水硫酸マグネシウム０．５ｇで乾燥した。トルエンを
減圧濃縮し、シクロヘキサン３７ｇより結晶化すること
により２−シクロプロピル−４−（４′−フルオロフェ
ニル）キノリン−３−カルボン酸メチルエステル２．９
ｇを得た。 収率５５．８％ ＨＰＬＣ純度８９．１％。
【００２３】
【発明の効果】以上のように、本発明の方法に従うと、
医薬品の中間体として有用なキノリン−３−カルボン酸
化合物を、工業的な規模で短時間に高収率、高純度で製
造できる。
医薬品の中間体として有用なキノリン−３−カルボン酸
化合物を、工業的な規模で短時間に高収率、高純度で製
造できる。
Claims (4)
- 【請求項１】 ２−アミノ−４′−フルオロベンゾフェ
ノンと式（１） 【化１】 〔R1は、分岐してもよいC1-6アルキル基又はC3-6シクロ
アルキル基を表す。R2は、分岐してもよいC1-6アルキル
基を表す〕で表されるケトエステル類とを、酸触媒の存
在下、アセトニトリル溶媒中、反応させることを特徴と
する、式（２） 【化２】 〔式中、R1及びR2は、上記と同じ意味を表す〕で表され
るキノリン−３−カルボン酸化合物の製造方法。 - 【請求項２】 酸触媒と２−アミノ−４′−フルオロベ
ンゾフェノンより形成された塩を使用することを特徴と
する請求項１記載のキノリン−３−カルボン酸化合物の
製造方法。 - 【請求項３】 酸触媒がメタンスルホン酸である請求項
１又は２のいずれかに記載のキノリン−３−カルボン酸
化合物の製造方法。 - 【請求項４】 R1がイソプロピル基又はシクロプロピル
基、R2がC1-4アルキル基である請求項１乃至３のいずれ
かに記載のキノリン−３−カルボン酸化合物の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001244670A JP2003055349A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | キノリン−３−カルボン酸化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2001244670A JP2003055349A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | キノリン−３−カルボン酸化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003055349A true JP2003055349A (ja) | 2003-02-26 |
Family
ID=19074569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001244670A Pending JP2003055349A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | キノリン−３−カルボン酸化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003055349A (ja) |
-
2001
- 2001-08-10 JP JP2001244670A patent/JP2003055349A/ja active Pending
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