JP2003054991A - Glass paste, transfer film and plasma display panel - Google Patents

Glass paste, transfer film and plasma display panel

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JP2003054991A
JP2003054991A JP2002151478A JP2002151478A JP2003054991A JP 2003054991 A JP2003054991 A JP 2003054991A JP 2002151478 A JP2002151478 A JP 2002151478A JP 2002151478 A JP2002151478 A JP 2002151478A JP 2003054991 A JP2003054991 A JP 2003054991A
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JP
Japan
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dielectric layer
decomposition
glass
glass paste
transfer film
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Application number
JP2002151478A
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Japanese (ja)
Inventor
Morio Fujitani
守男 藤谷
Hiroyuki Yonehara
浩幸 米原
Masaki Aoki
正樹 青木
Keisuke Sumita
圭介 住田
Hideki Ashida
英樹 芦田
Junichi Hibino
純一 日比野
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass paste used as the starting material of a transparent dielectric formed in a plasma display panel and enabling shortening of baking time without lowering the transmittance of a dielectric layer. SOLUTION: Display electrodes 103 are aligned on a front glass substrate 102 and the glass paste which becomes a dielectric layer 104 is applied to cover a dielectric layer precursor 104a. Since a decomposition accelerating material 1042 which accelerates the decomposition of an organic component such as a resin contained in a dispersant 1041 is contained in the glass paste in such a way that the material 1042 comes in contact with the organic component, the material 1042 accelerates the decomposition of the organic component in baking. As a result, at the stage of melting of glass powder 1040, the organic component vanishes nearly thoroughly and bubbles of a gas generated by the decomposition of the organic component such as a resin are not trapped in the resulting dielectric layer 104.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスペースト、
転写フィルム及びプラズマディスプレイパネルなどに関
する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a glass paste,
The present invention relates to a transfer film, a plasma display panel and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、テレビなどの画像表示に用いられ
るカラー表示デバイスにおいて、プラズマディスプレイ
パネル(Plasma Display Panel 、以下、「PDP」と
いう。)は、美しい画像表示ができるとともに、薄型か
つ大型のパネルを実現することのできる表示デバイスと
して注目されている。
2. Description of the Related Art In recent years, in a color display device used for image display such as a television, a plasma display panel (Plasma Display Panel, hereinafter referred to as "PDP") is capable of displaying beautiful images and is a thin and large panel. It is attracting attention as a display device that can realize

【0003】PDPは、一般的に、前面パネルと背面パ
ネルとが対向配置されて構成されている。図7は、PD
Pにおける前面パネルの部分断面図である。同図に示す
ように、前面パネルは、前面ガラス基板1102と、前
面ガラス基板1102における背面パネル側の主面に列
設された表示電極1103と、表示電極1103および
前面ガラス基板1102を被覆する透明な誘電体層11
04と、誘電体層1104表面を被覆する保護層110
5とを備える。
A PDP is generally constructed by arranging a front panel and a rear panel facing each other. Figure 7 shows PD
It is a fragmentary sectional view of the front panel in P. As shown in the figure, the front panel includes a front glass substrate 1102, display electrodes 1103 lined up on the main surface of the front glass substrate 1102 on the rear panel side, and transparent electrodes covering the display electrodes 1103 and the front glass substrate 1102. Dielectric layer 11
04, and a protective layer 110 covering the surface of the dielectric layer 1104.
5 and 5.

【0004】PDPの駆動時には、背面パネルの蛍光体
層(不図示)から発光された光が、前面パネルにおける
保護層1105、誘電体層1104、表示電極110
3、および前面ガラス基板1102を透過してPDPの
発光光となる。そのため、PDPの発光効率は、前面ガ
ラス基板の透過率に依存することがわかる。とくに誘電
体層1104は、表示電極1103の絶縁を行う必要性
から保護層1105などに比べて厚みが厚く透過率が低
下しがちであるため、その透過率の向上が望まれてい
る。
When the PDP is driven, the light emitted from the phosphor layer (not shown) on the rear panel is converted into the protective layer 1105, the dielectric layer 1104, and the display electrode 110 on the front panel.
3 and the front glass substrate 1102 to be emitted light of the PDP. Therefore, it can be seen that the luminous efficiency of the PDP depends on the transmittance of the front glass substrate. In particular, the dielectric layer 1104 is thicker than the protective layer 1105 and the like, and the transmittance tends to decrease because of the necessity to insulate the display electrode 1103. Therefore, improvement of the transmittance is desired.

【0005】この誘電体層1104の形成は、通常、前
面ガラス基板1102上にペースト法やラミネート法を
用いて乾燥したガラスペーストからなる誘電体層前駆体
を被覆し、これを500℃以上の温度に昇温して焼成を
行う方法が用いられており、形成される誘電体層の透過
率向上のために焼成に工夫がなされている。すなわち、
焼成においては、一般に、ガラスペーストに含まれる樹
脂、溶剤、界面活性剤などの有機成分を分解する分解ス
テップと、ガラス粉末を溶融する溶融ステップの二段階
のステップを経るようになっている。
The formation of the dielectric layer 1104 is usually performed by coating the front glass substrate 1102 with a dielectric layer precursor made of glass paste dried by a paste method or a laminating method, and coating the dielectric layer precursor at a temperature of 500 ° C. or higher. A method is used in which the temperature is raised to calcination and the calcination is devised in order to improve the transmittance of the formed dielectric layer. That is,
Firing is generally performed in two steps: a decomposition step of decomposing an organic component such as a resin, a solvent and a surfactant contained in the glass paste, and a melting step of melting the glass powder.

【0006】まず、分解ステップにおいて、ガラス粉末
を溶融することなく、ガラス粉末間に存在する樹脂など
の有機成分を分解することが可能な温度(たとえば35
0〜450℃程度)に所定時間(10〜30分程度)ホ
ールドする。特に樹脂などの分子量が大きい有機成分に
ついては、分解されにくいものが多いが、この分解ステ
ップのホールド期間を設けることによって、ガラスペー
ストに含まれる有機成分は、完全に分解・消失される。
First, in the decomposition step, a temperature (for example, 35) at which an organic component such as resin existing between glass powders can be decomposed without melting the glass powders.
Hold for a predetermined time (about 10 to 30 minutes) at 0 to 450 ° C. In particular, many organic components such as resins having a large molecular weight are not easily decomposed, but by providing the hold period of this decomposition step, the organic components contained in the glass paste are completely decomposed and disappeared.

【0007】次に、溶融ステップにおいて、ガラス粉末
が溶けだす温度(たとえば、ガラス粉末の軟化点(50
0℃程度))以上となるように所定時間(10〜30分
程度)ホールドしたのち、徐冷することによって、残渣
のガラス粉末を溶融固化する。ここで、分解ステップに
おいて樹脂などの有機成分が完全に分解されずに残って
いた場合には、溶融ステップにおいて分解されてガスが
発生する。その場合には、図7に示すように誘電体層1
104内にガスが気泡1104aとして残り、誘電体層
1104の透過率低下を招いてしまう。しかし、分解ス
テップにおいては、ガラスペーストに含まれる有機成分
を完全に除去するためのホールド期間を設けているの
で、溶融ステップの段階においては、樹脂などの有機成
分の分解に伴って発生する水やガスの発生が抑制され、
気泡1104aの発生に伴う誘電体層1104の透過率
の低下が抑制される。
Next, in the melting step, the temperature at which the glass powder begins to melt (for example, the softening point (50
After holding for a predetermined time (about 10 to 30 minutes) so that the temperature becomes about 0 ° C.) or more), the residual glass powder is melted and solidified by slow cooling. Here, when the organic components such as the resin remain without being completely decomposed in the decomposition step, they are decomposed in the melting step to generate gas. In that case, as shown in FIG. 7, the dielectric layer 1
The gas remains as bubbles 1104a in 104, which causes a decrease in the transmittance of the dielectric layer 1104. However, in the decomposition step, since the hold period for completely removing the organic component contained in the glass paste is provided, in the melting step, water and Gas generation is suppressed,
The decrease in the transmittance of the dielectric layer 1104 due to the generation of the bubbles 1104a is suppressed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記焼成
は、500℃以上という非常に高い温度まで昇温しなく
てはならないので、エネルギーコストが高く、PDPの
製造コスト低下のためにさらに焼成時間を短くすること
が望まれている。この焼成時間を短縮するためには、分
解ステップの工程時間を短くすることが考えられる。
By the way, in the above-mentioned firing, since the temperature has to be raised to a very high temperature of 500 ° C. or higher, the energy cost is high, and further firing time is required in order to reduce the manufacturing cost of the PDP. It is desired to shorten it. In order to shorten the firing time, it is possible to shorten the process time of the decomposition step.

【0009】しかしながら、この場合には分解ステップ
において樹脂などの有機成分が完全に分解されずに残る
可能性があり、その場合には誘電体層1104内部に気
泡1104aが生じ、誘電体層1104を透過する光
は、気泡1104aによって散乱され、誘電体層110
4の透過率は大幅に低下する。他方、溶融ステップの時
間を短縮することも考えられるが、ガラス粉末の溶融時
間は、使用するガラスの種類や温度に比例して略一定と
なるため、これを短縮することは困難である。
However, in this case, the organic components such as the resin may remain without being completely decomposed in the decomposition step, and in that case, bubbles 1104a are generated inside the dielectric layer 1104 and the dielectric layer 1104 is formed. The transmitted light is scattered by the bubbles 1104a, and the dielectric layer 110
The transmittance of No. 4 is significantly reduced. On the other hand, although it is conceivable to shorten the time of the melting step, it is difficult to shorten the melting time of the glass powder because it becomes substantially constant in proportion to the type and temperature of the glass used.

【0010】また、溶融ステップにおける極端な場合に
は、ガラス粉末が溶融してその粉末間が閉塞される一
方、ガラス粉末間に残った樹脂の燃焼により多大な酸素
が消費されるので、溶融したガラス内部が還元雰囲気と
なってガラスが着色し、透過率が低下する問題があっ
た。このような問題は、前面ガラス基板1102上にガ
ラスペーストを被覆する際に、ペースト法よりも多くの
樹脂を使用する転写フィルムを用いたラミネート法を用
いる場合により顕著となる。
Further, in an extreme case of the melting step, the glass powder is melted and the gaps between the powders are closed, while a large amount of oxygen is consumed by the combustion of the resin remaining between the glass powders. There is a problem that the inside of the glass becomes a reducing atmosphere and the glass is colored and the transmittance is lowered. Such a problem becomes more noticeable when a glass paste is coated on the front glass substrate 1102 by using a laminating method using a transfer film that uses more resin than the paste method.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題に鑑
み、形成される誘電体層の透過率を低下することなく焼
成時間を短縮することができるガラスペースト、転写フ
ィルムなどを提供することを目的としている。上記目的
を達成するために、本発明に係るガラスペーストは、プ
ラズマディスプレイパネルに形成される透明な誘電体の
出発原料となるガラスペーストであって、ガラス粉末
と、有機成分を含み、前記ガラス粉末を分散させるガラ
ス粉末分散剤と、前記有機成分の分解を促進する分解促
進物質とを含み、前記分解促進物質は、前記有機成分と
接触する領域に存在することを特徴としている。
In view of the above problems, the present invention provides a glass paste, a transfer film, etc., which can shorten the firing time without lowering the transmittance of the dielectric layer to be formed. It is an object. In order to achieve the above object, the glass paste according to the present invention is a glass paste that is a starting material of a transparent dielectric material formed in a plasma display panel, and contains a glass powder and an organic component. And a decomposition-promoting substance that promotes decomposition of the organic component, and the decomposition-promoting substance is present in a region in contact with the organic component.

【0012】一般に、ガラス粉末分散剤には、樹脂、溶
剤、界面活性剤、重合開始剤などの有機成分が含まれて
いる。本発明に係るガラスペースト中には、その有機成
分の分解を促進する分解促進物質が含まれているので、
誘電体層を形成するために加熱すると、有機成分は、分
解が急激に進行し、ガラス粉末が軟化する前に略完全に
分解される。そのため、樹脂などの有機成分の分解時に
発生するガスが誘電体層内に閉じ込められることもなく
なり、誘電体層の透過率を低下させることなく、焼成時
間を従来よりも短縮することができる。
Generally, the glass powder dispersant contains an organic component such as a resin, a solvent, a surfactant and a polymerization initiator. Since the glass paste according to the present invention contains a decomposition promoting substance that promotes the decomposition of the organic component,
When heated to form the dielectric layer, the organic component is decomposed rapidly, and is almost completely decomposed before the glass powder is softened. Therefore, the gas generated when the organic component such as resin is decomposed is not confined in the dielectric layer, and the firing time can be shortened as compared with the conventional case without lowering the transmittance of the dielectric layer.

【0013】また、上記分解促進物質としては、有機成
分の分解反応を促進する触媒を用いることができる。具
体的な触媒としては、Co、Mn、Zn、Ti、Niの
少なくとも一つから選択される物質を用いることができ
る。他方、分解促進物質としては、樹脂の原料を重合す
る際に開始反応を促進することができる重合開始剤も用
いることができる。
As the decomposition promoting substance, a catalyst which promotes the decomposition reaction of the organic component can be used. As a specific catalyst, a substance selected from at least one of Co, Mn, Zn, Ti, and Ni can be used. On the other hand, as the decomposition accelerating substance, a polymerization initiator capable of accelerating the initiation reaction when polymerizing the resin raw material can be used.

【0014】重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤
やアニオン重合開始剤を用いることができる。そのほか
に、分解促進物質としては、上記有機成分の酸化を促進
する触媒を用いることもできる。この触媒としては、P
d、Pt、Co34、PdO、Cr23、Mn23、A
2O、CuO、MnO2、CoO、NiOの少なくとも
一つから選択される物質を用いることができる。
As the polymerization initiator, a radical polymerization initiator or an anionic polymerization initiator can be used. In addition, a catalyst that promotes the oxidation of the above organic components can be used as the decomposition promoting substance. As this catalyst, P
d, Pt, Co 3 O 4 , PdO, Cr 2 O 3 , Mn 2 O 3 , A
A substance selected from at least one of g 2 O, CuO, MnO 2 , CoO, and NiO can be used.

【0015】また、本発明に係る転写フィルムは、プラ
ズマディスプレイパネルに形成される透明な誘電体の形
成に用いられ、支持フィルムと、当該支持フィルム上に
被覆された誘電体層前駆体とを備える転写フィルムであ
って、前記誘電体層前駆体は、ガラス粉末と、有機成分
を含み、前記ガラス粉末を分散させるガラス粉末分散剤
と、前記有機成分の分解を促進する分解促進物質とを含
み、前記分解促進物質は、前記有機成分と接触する領域
に存在することを特徴としている。
The transfer film according to the present invention is used for forming a transparent dielectric formed on a plasma display panel, and includes a support film and a dielectric layer precursor coated on the support film. A transfer film, wherein the dielectric layer precursor includes a glass powder, an organic component, a glass powder dispersant for dispersing the glass powder, and a decomposition promoting substance for promoting the decomposition of the organic component, The decomposition-promoting substance is present in a region in contact with the organic component.

【0016】このような転写フィルムであれば、上記ガ
ラスペーストと同様、その焼成時において誘電体層前駆
体に含まれる有機成分の分解が加速されるので、形成さ
れる誘電体層の透過率を低下することなく、焼成時間を
短縮することができる。ここで、有機成分および分解促
進物質としては、上述のガラスペーストにおいて用いた
ものと同様のものを用いることができる。
With such a transfer film, the decomposition of the organic component contained in the dielectric layer precursor is accelerated during the firing as in the case of the above glass paste, so that the transmittance of the formed dielectric layer is increased. The firing time can be shortened without lowering. Here, as the organic component and the decomposition accelerating substance, the same ones as those used in the above glass paste can be used.

【0017】また、本発明に係るPDPの製造方法は、
前面ガラス基板上にガラスペーストを塗布し乾燥するこ
とによって誘電体層前駆体を被覆し、これを焼成するこ
とによって前記前面ガラス基板上に誘電体層を形成する
PDPの製造方法であって、前記前面ガラス基板にガラ
スペーストを塗布する際に、上記で述べたような分解促
進物質を含むガラスペーストを塗布することを特徴とし
ている。
The method of manufacturing a PDP according to the present invention is
A method of manufacturing a PDP, comprising forming a dielectric layer on the front glass substrate by coating a front surface glass substrate with a glass paste and drying the glass paste to coat the dielectric layer precursor. When the glass paste is applied to the front glass substrate, the glass paste containing the decomposition promoting substance as described above is applied.

【0018】これによれば、誘電体層前駆体を焼成する
ときに、分解促進物質が樹脂などの有機成分の分解を促
進することができるので、従来よりも焼成時間を短縮す
ることができる。また、有機成分が早く分解されるの
で、ガラスの軟化点付近の温度に到達するまでに略完全
に有機成分が消失するため、誘電体層の内部に気泡が生
じることもない。
According to this, when the dielectric layer precursor is fired, the decomposition promoting substance can accelerate the decomposition of the organic component such as resin, so that the firing time can be shortened as compared with the conventional case. Further, since the organic component is decomposed quickly, the organic component disappears almost completely by the time the temperature near the softening point of the glass is reached, so that no bubbles are generated inside the dielectric layer.

【0019】ここで、誘電体層前駆体の焼成をする際
に、焼成温度をガラスペーストに含まれるガラスの軟化
点まで上げ続けるようにすれば、従来のように分解ステ
ップにおけるホールド期間を設けることなく、焼成時間
を短縮することができる。また、本発明に係るPDP
は、複数対の表示電極が配されるとともに、これを被覆
する誘電体層が配される前面ガラス基板と、前記前面ガ
ラス基板における表示電極が配された側に対向配置され
る背面ガラス基板とを備えるPDPであって、前記誘電
体層は、ガラスペーストを焼成することによって形成さ
れ、前記ガラスペーストには上記分解促進物質を含むガ
ラスペーストが用いられているので、焼成時間を短縮す
ることができ、製造コストが安くなる。
Here, when firing the dielectric layer precursor, if the firing temperature is continuously raised to the softening point of the glass contained in the glass paste, the hold period in the decomposition step is provided as in the conventional case. Therefore, the firing time can be shortened. Further, the PDP according to the present invention
Is a front glass substrate on which a plurality of pairs of display electrodes are arranged, a dielectric layer covering the display electrodes is arranged, and a rear glass substrate which is arranged opposite to the side of the front glass substrate on which the display electrodes are arranged. The dielectric layer is formed by firing a glass paste, and the glass paste containing the decomposition promoting substance is used for the glass paste. Therefore, the firing time can be shortened. It is possible and the manufacturing cost is reduced.

【0020】これは、誘電体層を転写フィルムを用いて
形成するPDPにおいても同様の効果を有する。
This also has the same effect in the PDP in which the dielectric layer is formed by using the transfer film.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る一実施の形態
について図面を参照しながら説明する。本願発明の以下
に示す実施の形態および図面は、例示を目的とし、本発
明は、これらに限定されるものではない。 (第1の実施の形態) (1)PDPの構成 まず、PDPの構成について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. The following embodiments and drawings of the present invention are for the purpose of illustration, and the present invention is not limited thereto. (First Embodiment) (1) Configuration of PDP First, the configuration of the PDP will be described.

【0022】図1は、PDPにおける一部を展開した斜
視図である。同図に示すように、PDPは、前面パネル
101と背面パネル111とを備え、前面パネル101
の保護層105と、背面パネル111に列設された隔壁
115の頂部が当接した状態で配される。前面パネル1
01は、フロート法を用いて形成された硼珪素ナトリウ
ム系ガラスからなる前面ガラス基板102上に、複数本
の表示電極103が列設され、これに透明なガラスから
なる誘電体層104と、酸化マグネシウム(MgO)か
らなる保護層105とが順に被覆されて構成されてい
る。表示電極103は、前面ガラス基板102の表面に
ライン状に設けられたITOからなる透明電極103a
と、透明電極103aの上にライン状に配される銀やC
u−Cr−Cuと積層した金属電極103bとを備え
る。なお、表示電極103は、この構成に限定されるも
のではなく、透明電極103aの存在しない構成であっ
てもよい。
FIG. 1 is a perspective view showing a part of the PDP in a developed state. As shown in the figure, the PDP includes a front panel 101 and a rear panel 111.
The protective layer 105 and the tops of the partition walls 115 arranged on the rear panel 111 are in contact with each other. Front panel 1
No. 01 has a plurality of display electrodes 103 arranged in a row on a front glass substrate 102 made of a sodium borosilicate glass formed by a float method, on which a dielectric layer 104 made of transparent glass and an oxide film are formed. A protective layer 105 made of magnesium (MgO) is coated in that order. The display electrode 103 is a transparent electrode 103a made of ITO provided linearly on the surface of the front glass substrate 102.
And silver or C arranged in a line on the transparent electrode 103a.
It is provided with a metal electrode 103b laminated with u-Cr-Cu. The display electrode 103 is not limited to this configuration, and may have a configuration in which the transparent electrode 103a does not exist.

【0023】誘電体層104は、後述するガラス粉末が
溶融されて形成されたものであり、表示電極103を絶
縁する働きを有する。保護層105は、MgOからな
り、表示電極103間に起こる放電によるスパッタリン
グから誘電体層104を保護する。背面パネル111
は、背面ガラス基板112における前面ガラス基板10
1との対向する側の主面上にアドレス電極113が列設
され、その上に可視光反射層114が被覆され、さらに
可視光反射層114の上に隔壁115が列設されるとと
もに、その隔壁115の間に赤色、緑色、青色を発光す
る蛍光体層116が色順に配されている。
The dielectric layer 104 is formed by melting glass powder described later and has a function of insulating the display electrode 103. The protective layer 105 is made of MgO and protects the dielectric layer 104 from sputtering due to discharge that occurs between the display electrodes 103. Back panel 111
Is the front glass substrate 10 in the rear glass substrate 112.
The address electrodes 113 are arranged in a row on the main surface on the side opposite to 1, the visible light reflection layer 114 is coated thereon, and the partition walls 115 are arranged in a row on the visible light reflection layer 114. Phosphor layers 116 that emit red, green, and blue are arranged between the partitions 115 in order of color.

【0024】この前面パネル101と背面パネル111
とは、前面パネル101における保護層105と、背面
パネル111における隔壁115とが当接するように対
向して配され、その各パネル101,111の縁端部は
フリットガラスなどのシール材(不図示)を用いて封着
されている。これにより、前面パネル101と背面パネ
ル111との間には、隔壁115で仕切られた空間が形
成され、この空間にはHe−Neなどの不活性ガスから
なる放電ガスが封入される。
The front panel 101 and the rear panel 111
Means that the protective layer 105 in the front panel 101 and the partition 115 in the rear panel 111 are arranged so as to be in contact with each other, and the edge portions of the respective panels 101 and 111 are sealing materials (not shown) such as frit glass. ) Is sealed. As a result, a space partitioned by the partition wall 115 is formed between the front panel 101 and the rear panel 111, and a discharge gas composed of an inert gas such as He—Ne is sealed in this space.

【0025】PDPの駆動時には、前面パネル101に
おける一対の表示電極103に周期的なパルスを印加す
ることによって、表示電極103間において放電を発生
させている。この放電によって放電ガスから紫外線が放
射され、それが蛍光体層116によって可視光に変換さ
れる。この可視光は、保護層105、誘電体層104、
透明電極103aおよび前面ガラス基板102を透過
し、この透過光によってPDPは画像を表示することが
できる。
When the PDP is driven, discharge is generated between the display electrodes 103 by applying a periodic pulse to the pair of display electrodes 103 on the front panel 101. This discharge radiates ultraviolet rays from the discharge gas, which is converted into visible light by the phosphor layer 116. This visible light is transmitted to the protective layer 105, the dielectric layer 104,
The light is transmitted through the transparent electrode 103a and the front glass substrate 102, and the transmitted light allows the PDP to display an image.

【0026】(2)PDPにおける前面パネルの製造方
法 本発明は、前面パネル101における誘電体層104の
形成に用いるガラスペーストの組成および焼成方法に特
徴を有している。そのため、以下、前面パネル101の
製造方法について説明しながら、ガラスペーストの組成
および焼成方法について説明する。
(2) Method for Manufacturing Front Panel in PDP The present invention is characterized by the composition and firing method of the glass paste used for forming the dielectric layer 104 in the front panel 101. Therefore, the composition of the glass paste and the firing method will be described below while describing the method for manufacturing the front panel 101.

【0027】前面パネル101は、前面ガラス基板10
2に表示電極103を列設した後、この上に誘電体層1
04となるガラスペーストを被覆し、これを焼成して誘
電体層104を形成した後、その上に保護層105を被
覆することによって形成される。図2(a)〜図2
(e)は、各製造工程における前面パネル101の側面
図である。
The front panel 101 is a front glass substrate 10.
2, the display electrodes 103 are arranged in a row, and the dielectric layer 1 is formed on the display electrodes 103.
It is formed by coating a glass paste to be 04, firing it to form a dielectric layer 104, and then coating a protective layer 105 thereon. 2 (a) to 2
(E) is a side view of the front panel 101 in each manufacturing process.

【0028】まず、図2(a)に示すように、前面ガラ
ス基板102を用意する。次に、図2(b)に示すよう
に、前面ガラス基板102の一方の主面上に透明電極お
よび金属電極からなる表示電極103を薄膜法や厚膜法
(電極形状にパターニングされたスクリーンを用いたス
クリーン印刷法や、ダイコート法を用いてベタ形状に形
成したのちフォト法を用いてパターニングする方法や、
フィルム状に加工した電極フィルムを転写するラミネー
ト法など)を用いて形成する。
First, as shown in FIG. 2A, a front glass substrate 102 is prepared. Next, as shown in FIG. 2B, a display electrode 103 composed of a transparent electrode and a metal electrode is formed on one main surface of the front glass substrate 102 by a thin film method or a thick film method (a screen patterned into an electrode shape is formed). Screen printing method used, a method of forming a solid shape using a die coating method and then patterning using a photo method,
It is formed by using a laminating method or the like in which an electrode film processed into a film is transferred.

【0029】そして、図2(c)に示すように、表示電
極103の形成された前面ガラス基板102上にガラス
ペーストをスクリーン印刷やダイコート塗布などの方法
によって塗布して乾燥し、誘電体層前駆体104aを形
成する。この誘電体層前駆体104aの形成に用いられ
るガラスペーストは、透明なガラスからなるガラス粉末
と、溶剤と、ガラス粉末を溶剤中に均等に分散させると
ともにバインダーとなる樹脂と、当該ガラスペーストに
含まれる樹脂や溶剤などの有機成分の分解もしくは燃焼
を促進し、分子量を低下させる分解促進物質とを含む混
合物からなる。なお、有機成分とは、ガラスペーストに
含まれるすべての有機物を示し、ガラスペースト中に
は、樹脂や溶剤のほかに、界面活性剤、重合開始剤など
の有機物が含まれることがある。
Then, as shown in FIG. 2C, a glass paste is applied onto the front glass substrate 102 on which the display electrodes 103 are formed by a method such as screen printing or die coating and dried to obtain a dielectric layer precursor. Form body 104a. The glass paste used to form the dielectric layer precursor 104a includes glass powder made of transparent glass, a solvent, a resin that serves as a binder while evenly dispersing the glass powder in the solvent, and the glass paste. And a decomposition promoting substance that accelerates decomposition or combustion of an organic component such as a resin or a solvent and reduces the molecular weight. The organic component means all the organic substances contained in the glass paste, and the glass paste may contain organic substances such as a surfactant and a polymerization initiator in addition to the resin and the solvent.

【0030】上記溶剤は、樹脂が溶解することによって
粘性のある溶液となり、この溶液がガラス粉末を分散す
る分散剤として機能し、この中にガラス粉末が均等に分
散される(以下、溶剤と樹脂とが含まれる混合物をガラ
ス粉末分散剤という)。このガラス粉末分散剤には、界
面活性剤や重合開始剤が含まれる場合があり、樹脂自体
が粘性のある液状の場合には、溶剤を含まない場合があ
る。
The above solvent becomes a viscous solution by dissolving the resin, and this solution functions as a dispersant for dispersing the glass powder, and the glass powder is evenly dispersed therein (hereinafter, the solvent and the resin). A mixture containing and is called a glass powder dispersant). This glass powder dispersant may contain a surfactant or a polymerization initiator, and may contain no solvent when the resin itself is a viscous liquid.

【0031】ここで、溶剤としてはガラス粉末との親和
性、および樹脂の溶解性が良好であり、ガラスペースト
を塗布する場合に必要な適度の粘性を付与することがで
き、かつ蒸発しやすいものが好ましい。具体的には、酢
酸−n−ブチル、BCA(ブチルカルビトールアセテー
ト)、ターピネオールなどを用いることができる。これ
らは、単独で使用してもよいし、二種類以上を混合して
使用することもできる。この溶剤は、ガラスペーストの
粘性を適度に保つために、ガラス粉末に対して40wt
%以下の割合で含まれていることが好ましく、さらには
5〜30wt%の割合で含まれていることが好ましい。
Here, the solvent has a good affinity with the glass powder and a good solubility of the resin, can give an appropriate viscosity required when the glass paste is applied, and easily evaporates. Is preferred. Specifically, acetic acid-n-butyl, BCA (butyl carbitol acetate), terpineol, or the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more. This solvent is 40 wt% to the glass powder in order to keep the viscosity of the glass paste moderate.
% Or less, and more preferably 5 to 30 wt%.

【0032】ガラス粉末としては、特に限定されるもの
ではないが、その軟化点が400〜600℃の範囲内に
あるものが好ましい。たとえば、酸化鉛、酸化ホウ素、
酸化ケイ素の混合物(PbO−B23−SiO2系)、
酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物(ZnO−
23−SiO2系)、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ
素、酸化アルミニウムの混合物(PbO−B23−Si
2−Al23系)、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、
酸化ケイ素の混合物(PbO−ZnO−B23−SiO
2系)などのガラスフリットの粉末(たとえば粒径が5
〜15μm)を用いることができる。
The glass powder is not particularly limited, but one having a softening point in the range of 400 to 600 ° C. is preferable. For example, lead oxide, boron oxide,
A mixture of silicon oxide (PbO-B 2 O 3 -SiO 2 system),
A mixture of zinc oxide, boron oxide and silicon oxide (ZnO-
B 2 O 3 -SiO 2 -based), lead oxide, boron oxide, silicon oxide, a mixture of aluminum oxide (PbO-B 2 O 3 -Si
O 2 -Al 2 O 3 system), lead oxide, zinc oxide, boron oxide,
A mixture of silicon oxide (PbO-ZnO-B 2 O 3 -SiO
2 ) Glass frit powder (for example, particle size 5
˜15 μm) can be used.

【0033】樹脂としては、たとえば、エチルセルロー
スやアクリル系樹脂を用いることができる。この樹脂の
分子量は、GPCを用いて測定したポリスチレン換算の
重量平均分子量として、4000〜300000程度の
ものがハンドリングし易いために好ましい。また、ガラ
スペースト中に含まれる量としては、ガラス粉末に対し
て5〜40wt%が好ましく、さらに好ましくは10〜
30wt%が好ましい。これは、樹脂の含有量がガラス
粉末に対して5wt%を下回る場合には、ペーストを塗
布したときの粘性を保持することができず、また、40
wt%を超える場合には後述する焼成時において樹脂を
消失させるのに時間がかかったり、形成される誘電体層
の強度や膜厚が不足したりするからである。
As the resin, for example, ethyl cellulose or acrylic resin can be used. The molecular weight of this resin is preferably about 4,000 to 300,000, as a polystyrene-equivalent weight average molecular weight measured by GPC, because it is easy to handle. Further, the amount contained in the glass paste is preferably 5 to 40 wt% with respect to the glass powder, and more preferably 10 to
30 wt% is preferable. This is because when the resin content is less than 5 wt% with respect to the glass powder, the viscosity when the paste is applied cannot be maintained,
This is because if the content exceeds wt%, it will take time for the resin to disappear at the time of firing to be described later, or the strength and film thickness of the formed dielectric layer will be insufficient.

【0034】分解促進物質としては、触媒、重合開始
剤、過酸化物を用いることができる。ここで、樹脂など
の高分子からなる有機成分は、熱、光、放射線を加える
ことによって分解され、分子量が低下することが知られ
ているが、分解促進物質をガラスペーストに加えること
によって、高分子の分解速度はさらに向上する。高分子
は、その主鎖の分解において、重合反応と逆の反応とみ
なすことができる解重合反応と呼ばれる反応が起こるこ
とが知られている。この重合反応と解重合反応は、同時
に進行しており、いわゆる天井温度においてその反応速
度が均衡する。通常、天井温度未満においては、重合反
応が優勢となり、ここに触媒を加えることによって重合
反応の活性化エネルギーが低下し、その反応速度がさら
に増大する。一方、天井温度よりも高温側においては、
解重合反応が優勢となるため、触媒を含むガラスペース
トを天井温度よりも高温の状態にあれば、有機成分の分
解が急激に進行する。このような触媒成分としては、C
o,Mn,Zn,Ti,Niを挙げることができる。と
くに、Co,Mn,Zn,Niは、有機成分が重縮合反
応によって合成されるものに用いられ、Co,Ti,N
iは、有機成分が付加重合反応によって合成されるもの
に用いられる。
As the decomposition promoting substance, a catalyst, a polymerization initiator and a peroxide can be used. Here, it is known that an organic component composed of a polymer such as a resin is decomposed by application of heat, light, or radiation, and its molecular weight is lowered. The decomposition rate of the molecule is further improved. It is known that the decomposition of the main chain of a polymer causes a reaction called a depolymerization reaction, which can be regarded as a reaction opposite to the polymerization reaction. The polymerization reaction and the depolymerization reaction proceed at the same time, and the reaction rates are balanced at the so-called ceiling temperature. Usually, below the ceiling temperature, the polymerization reaction becomes predominant, and the addition of a catalyst thereto lowers the activation energy of the polymerization reaction and further increases the reaction rate. On the other hand, on the higher temperature side than the ceiling temperature,
Since the depolymerization reaction becomes dominant, if the glass paste containing the catalyst is at a temperature higher than the ceiling temperature, the decomposition of the organic component rapidly progresses. As such a catalyst component, C
O, Mn, Zn, Ti, Ni can be mentioned. In particular, Co, Mn, Zn, and Ni are used for those in which organic components are synthesized by polycondensation reaction.
i is used when the organic component is synthesized by an addition polymerization reaction.

【0035】たとえば、有機成分のうち、樹脂を例にと
って説明すると、樹脂にアクリル系樹脂であるポリメタ
クリル酸メチル(付加重合反応)を用いる場合には、分
解促進物質としてCo,Ti,Niから選択されるもの
を用いるとともに、天井温度(220℃)を超える温度
を加えることによって、ポリメタクリル酸メチルの分解
が従来よりも急激に進み、容易にモノマーまで分解する
ことができる。
For example, of the organic components, a resin will be described as an example. When polymethylmethacrylate (addition polymerization reaction), which is an acrylic resin, is used as the resin, it is selected from Co, Ti, and Ni as decomposition promoting substances. By using the above-mentioned materials and applying a temperature higher than the ceiling temperature (220 ° C.), the decomposition of polymethylmethacrylate progresses more rapidly than in the past, and the monomers can be easily decomposed.

【0036】また、このような触媒は、溶剤などに用い
られる高分子以外の有機成分に対しても分子量を低下さ
せる働きを有する。ここで、分解促進物質としては、触
媒以外にも重合開始剤を用いることができる。たとえ
ば、アクリル系樹脂は、ラジカル重合反応およびアニオ
ン重合反応によって合成され、その重合の開始時点にお
いては重合開始剤が用いられる。この重合開始剤は、上
記と同様の理由から、天井温度を越える温度において急
激に解重合反応を促進するため、触媒と同様、樹脂の分
子量を低下させて分解を促進することができる。
Further, such a catalyst also has a function of lowering the molecular weight of organic components other than the polymer used as a solvent. Here, as the decomposition promoting substance, a polymerization initiator can be used in addition to the catalyst. For example, an acrylic resin is synthesized by a radical polymerization reaction and an anionic polymerization reaction, and a polymerization initiator is used at the start of the polymerization. For the same reason as described above, this polymerization initiator rapidly accelerates the depolymerization reaction at a temperature exceeding the ceiling temperature, and therefore, like the catalyst, can lower the molecular weight of the resin and accelerate the decomposition.

【0037】ここで、ラジカル重合反応の開始剤として
は、過酸化物やアゾ化合物が挙げられる。具体的には、
過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、キュ
メンハイドロパーオキサイド、ターシャリーブチルハイ
ドロパーオキサイド、過硫酸塩などを用いることができ
る。アニオン重合反応の開始剤としては、アルキルリチ
ウム触媒、たとえば、n−ブチルリチウムなどを用いる
ことができる。
Examples of the radical polymerization reaction initiator include peroxides and azo compounds. In particular,
Benzoyl peroxide, azobisisobutyronitrile, cumene hydroperoxide, tertiary butyl hydroperoxide, persulfate and the like can be used. As the initiator of the anionic polymerization reaction, an alkyllithium catalyst such as n-butyllithium can be used.

【0038】また、上記分解促進物質は、有機成分の分
解を促進するようにしていたが、有機成分の酸化を促進
することによって有機成分の分子量を低下させる分解促
進物質を用いてもよい。一般にほとんどの有機物は、触
媒を用いることによって燃焼反応、すなわち酸化反応が
促進される。触媒は、少ない量で有機成分の酸化反応を
促進することができる上、それ自体は化学的に安定であ
って燃焼によって変化しないため、分解促進物質として
適している。また、このような触媒は、溶剤などに用い
られる高分子以外の有機成分に対しても酸化を促進して
燃焼させる働きを有する。
Although the decomposition promoting substance has been designed to promote the decomposition of the organic component, a decomposition promoting substance which promotes the oxidation of the organic component to reduce the molecular weight of the organic component may be used. In general, most organic substances promote a combustion reaction, that is, an oxidation reaction, by using a catalyst. The catalyst is suitable as a decomposition-promoting substance because it can promote the oxidation reaction of organic components in a small amount, and is itself chemically stable and does not change by combustion. Further, such a catalyst also has a function of promoting oxidation and burning of organic components other than the polymer used as a solvent.

【0039】燃焼を促進する分解促進物質としては、樹
脂などの有機成分に使用する化合物の分子構造などに応
じて、以下に示す燃焼反応の序列(燃焼させる強さの序
列)を参考に選択することができる。たとえば、メタン
の燃焼反応の序列は、Pd>Pt>Co34>PdO>
Cr23>Mn23である。また、プロピレンの燃焼反
応の序列は、Pt>Pd>Ag2O>Co34>CuO
>MnO2である。一酸化炭素の燃焼反応の序列は、C
oO>NiO>MnO2である。また、過酸化物や酸素
を含む官能基を有する有機成分を添加することによって
燃焼に不可欠な酸素を補い、分解反応を促進することも
できる。
The decomposition promoting substance for promoting combustion is selected with reference to the following order of combustion reactions (order of strength of combustion) according to the molecular structure of the compound used for the organic component such as resin. be able to. For example, the order of combustion reaction of methane is Pd>Pt> Co 3 O 4 >PdO>
Cr 2 O 3 > Mn 2 O 3 . The order of combustion reaction of propylene is Pt>Pd> Ag 2 O> Co 3 O 4 > CuO.
> MnO 2 . The order of combustion reaction of carbon monoxide is C
It is oO>NiO> MnO 2 . Further, by adding an organic component having a functional group containing peroxide or oxygen, oxygen essential for combustion can be supplemented and the decomposition reaction can be promoted.

【0040】これらの分解促進物質をガラスペーストに
混入させる割合は、ガラス粉末に対して好ましくは0.
1〜10wt%が、さらに好ましくは0.5〜5wt
%、もっとも好ましくは1〜3wt%である。これは、
分解促進物質の含有量がガラス粉末に対して0,1wt
%を下回れば、有機成分の低分子量化が不十分になる可
能性があり、また、その量が10wt%を上回れば、分
解促進物質の色が前面パネルを着色してしまう可能性が
あるからである。
The ratio of these decomposition promoting substances mixed in the glass paste is preferably 0.
1 to 10 wt%, more preferably 0.5 to 5 wt
%, Most preferably 1 to 3 wt%. this is,
The content of decomposition promoting substance is 0.1wt% to the glass powder.
If it is less than 10%, the lowering of the molecular weight of the organic component may be insufficient, and if it is more than 10% by weight, the color of the decomposition promoting substance may color the front panel. Is.

【0041】ガラスペーストは、上記ガラス粉末、溶
剤、樹脂、分解促進物質などをロール混練機や、ミキサ
ー、ホモミキサーなどの混練機を用いて混練することに
よって調整することができる。もしくは、ガラス粉末と
分解促進物質とを溶剤に分散させ、これを焼成、乾燥さ
せることにより、ガラス粉末の粒子表面に分解促進物質
が付着したものに、樹脂、溶剤を添加してペースト化す
ることもできる。このようにして調整されたガラスペー
ストは、塗布のしやすさなどを考慮して、その粘度が1
〜30Pa・s、さらには、3〜10Pa・s程度とな
るようにすることが好ましい。
The glass paste can be prepared by kneading the above-mentioned glass powder, solvent, resin, decomposition accelerating substance and the like using a roll kneader, a mixer, a homomixer or the like. Alternatively, the glass powder and the decomposition accelerating substance are dispersed in a solvent, and the powder and the decomposition accelerating substance are adhered to the particle surfaces of the glass powder by baking and drying the resin and a solvent to form a paste. You can also The glass paste thus prepared has a viscosity of 1 in consideration of ease of application.
-30 Pa · s, more preferably 3-10 Pa · s.

【0042】このようにして調整されたガラスペースト
をローラコーターやブレードコーターなどを用いて前面
ガラス基板102上に塗布することによって、図2
(c)に示すような誘電体層前駆体104aが形成され
る。次に、この誘電体層前駆体104aの形成された前
面パネルを焼成し、図2(d)に示すような誘電体層1
04を形成する。
The glass paste thus prepared is applied onto the front glass substrate 102 by using a roller coater, a blade coater or the like, as shown in FIG.
A dielectric layer precursor 104a as shown in (c) is formed. Next, the front panel on which the dielectric layer precursor 104a is formed is fired, and the dielectric layer 1 as shown in FIG.
To form 04.

【0043】図3(a)は、従来の焼成温度と時間をプ
ロットしたグラフであり、図3(b)は、本実施の形態
にかかる焼成温度と時間をプロットしたグラフである。
図4(a)〜図4(c)は、本実施の形態にかかる各焼
成各工程における前面パネルの側面図である。まず、本
実施の形態にかかる前面パネルの焼成工程について説明
する前に、従来の前面パネルの焼成工程について説明す
る。
FIG. 3 (a) is a graph plotting the conventional baking temperature and time, and FIG. 3 (b) is a graph plotting the baking temperature and time according to the present embodiment.
4A to 4C are side views of the front panel in each firing step according to the present embodiment. First, before describing the front panel baking process according to the present embodiment, a conventional front panel baking process will be described.

【0044】従来の前面パネルの焼成は、図3(a)に
示すように、分解ステップにおいては、ガラスペースト
に含まれるガラス粉末が溶融することなく樹脂などの有
機成分の分解が進む350℃近傍まで昇温した後、10
分〜30分程度ホールドするようにしている。これによ
って、樹脂などの有機成分の分解が十分に進行し、分解
された有機成分は、ガラス粉末の隙間を通り抜けて分散
される。このホールド時間がない、もしくは不十分であ
れば、有機成分の分解が完全に終了しないため、未分解
の有機成分は、その後の溶融ステップにおいて溶融され
たガラス内において分解され、そのガスが気泡として誘
電体層の中に残る可能性がある。そのため、分解ステッ
プにおけるホールド時間を短くすることが困難であっ
た。
In the conventional firing of the front panel, as shown in FIG. 3 (a), in the decomposition step, the decomposition of organic components such as resin proceeds at a temperature of about 350 ° C. without melting the glass powder contained in the glass paste. After heating to 10
Hold for about 30 minutes to 30 minutes. As a result, the decomposition of the organic components such as the resin sufficiently progresses, and the decomposed organic components pass through the gaps of the glass powder and are dispersed. If this hold time is insufficient or insufficient, the decomposition of the organic components will not be completed completely, and the undecomposed organic components will be decomposed in the glass melted in the subsequent melting step, and the gas will become bubbles. It may remain in the dielectric layer. Therefore, it is difficult to shorten the hold time in the disassembling step.

【0045】一方、本実施の形態にかかる前面パネル1
01の誘電体層前駆体104aには、分解促進物質が含
まれている。すなわち、図4(a)に示すように、前面
パネルの誘電体層前駆体104aには、ガラス粉末10
40と、樹脂と溶媒の混合物であるガラス粉末分散剤1
041と、ガラス粉末分散剤1041に含まれる有機成
分の分子量を低下させる分解促進物質1042が含まれ
ている。この分解促進物質1042は、ガラス粉末10
40内部に存在するのではなく、ガラス粉末分散剤10
41内における樹脂などの有機成分と接触する状態に配
されている。このため、上記350℃以下の温度であっ
ても、樹脂などの有機成分の天井温度を超える温度にお
いては、有機成分の分解速度が分解促進物質によって著
しく増大され、有機成分が十分に分解される。
On the other hand, the front panel 1 according to the present embodiment
No. 01 dielectric layer precursor 104a contains a decomposition promoting substance. That is, as shown in FIG. 4A, the glass powder 10 is included in the dielectric layer precursor 104a of the front panel.
40, glass powder dispersant 1 which is a mixture of resin and solvent
041 and a decomposition promoting substance 1042 that lowers the molecular weight of the organic component contained in the glass powder dispersant 1041. The decomposition promoting substance 1042 is the glass powder 10
Glass powder dispersant 10 rather than being present inside 40
It is arranged in contact with an organic component such as resin in 41. Therefore, even if the temperature is 350 ° C. or lower, the decomposition rate of the organic component is remarkably increased by the decomposition accelerating substance at a temperature exceeding the ceiling temperature of the organic component such as resin, and the organic component is sufficiently decomposed. .

【0046】このため、図3(b)に示すように、焼成
においては、従来のような分解ステップのホールド時間
が不要となる、もしくはホールド時間を設けたとしても
従来よりもその時間を短縮することができる。したがっ
て、その分焼成にかかる時間を従来よりも短縮すること
ができる。これらの有機成分が分解されて生じたガス
は、図4(b)に示すように、ガラス粉末1040間を
通り抜けて発散され、誘電体層前駆体104aにはガラ
ス粉末のみが残される。
Therefore, as shown in FIG. 3 (b), in the firing, the holding time of the decomposition step as in the conventional case is unnecessary, or even if the holding time is provided, the time is shortened as compared with the conventional case. be able to. Therefore, the time required for the firing can be shortened as compared with the conventional case. As shown in FIG. 4B, the gas generated by the decomposition of these organic components passes through the glass powders 1040 and is diffused, leaving only the glass powder in the dielectric layer precursor 104a.

【0047】そして、溶融ステップにおいて、残渣のガ
ラス粉末をその軟化点以上の温度まで昇温し(分解ステ
ップにおけるホールド時間が不要の場合には、室温から
軟化点まで温度を上げ続ける。)、数分から数十分ホー
ルドすることによって、ガラス粉末が溶融し、該粉末間
の隙間はなくなる。この前面パネルを室温まで降温する
ことによって、図4(c)に示すような気泡のない誘電
体層104が形成される。
Then, in the melting step, the temperature of the residual glass powder is raised to a temperature equal to or higher than its softening point (if the hold time in the decomposition step is unnecessary, the temperature is continuously raised from room temperature to the softening point). By holding from several minutes to several tens of minutes, the glass powder is melted and there is no gap between the powders. By lowering the temperature of this front panel to room temperature, a bubble-free dielectric layer 104 as shown in FIG. 4C is formed.

【0048】そして、この誘電体層104の上に、図2
(e)に示すようにMgOからなる保護層105を被覆
することによって、前面パネル101(図1)が形成さ
れる。このように、分解促進物質を含むガラスペースト
を誘電体層の形成に用いることによって、誘電体層中に
気泡を生じることなく、すなわち誘電体層の透過率を低
下することなく焼成時間を短縮することができる。した
がって、PDPにおいては、輝度を低下させることな
く、焼成時間を短縮することができる。
Then, on the dielectric layer 104, as shown in FIG.
By covering the protective layer 105 made of MgO as shown in (e), the front panel 101 (FIG. 1) is formed. Thus, by using the glass paste containing the decomposition promoting substance for forming the dielectric layer, the firing time can be shortened without generating bubbles in the dielectric layer, that is, without lowering the transmittance of the dielectric layer. be able to. Therefore, in the PDP, the firing time can be shortened without lowering the brightness.

【0049】(3)背面パネル111の製造方法 背面パネル111の製造方法の一例について、図1を参
照しながら説明する。背面パネル111は、まず、背面
ガラス基板112上に、電極用の銀ペーストをスクリー
ン印刷したのちこれを焼成することによって、アドレス
電極113を列設された状態に形成する。その上に上記
前面パネルの誘電体層104の形成に用いたものと同じ
成分に酸化チタンを加えたガラスペーストをスクリーン
印刷法を用いて塗布する。そして、上記前面パネルの焼
成工程と同様に焼成を行うことにより可視光反射層11
4を形成する。さらにこの可視光反射層114の上に、
鉛系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷法を
用いて所定のピッチで繰り返し塗布した後、これを焼成
することによって隔壁115を形成する。この隔壁11
5により、x軸方向にセル(単位発光領域)毎に区画さ
れた放電空間が形成される。ここで、アドレス電極11
3および可視光反射層114の焼成は、隔壁115を印
刷した後にまとめて焼成するようにしてもよい。
(3) Method for Manufacturing Rear Panel 111 An example of a method for manufacturing the rear panel 111 will be described with reference to FIG. In the rear panel 111, first, a silver paste for an electrode is screen-printed on the rear glass substrate 112 and then baked to form the address electrodes 113 in a row. A glass paste obtained by adding titanium oxide to the same component as that used for forming the dielectric layer 104 of the front panel is applied thereon by using a screen printing method. Then, the visible light reflecting layer 11 is baked by performing the same baking as the above-mentioned baking process of the front panel.
4 is formed. Furthermore, on this visible light reflection layer 114,
A partition 115 is formed by repeatedly applying a paste containing a lead-based glass material at a predetermined pitch using a screen printing method, and then firing the paste. This partition 11
5 forms a discharge space divided into cells (unit light emitting regions) in the x-axis direction. Here, the address electrode 11
3 and the visible light reflection layer 114 may be baked together after printing the partition wall 115.

【0050】この隔壁115と隔壁115の間の溝に
は、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各蛍光体粒
子が含まれるペースト状の蛍光体インキを色順に繰り返
し塗布する。これを400〜590℃の温度で焼成して
ペースト中の樹脂を焼失させることによって、各蛍光体
粒子が結着してなる蛍光体層116が形成される。 (4)パネル貼り合わせによるPDPの作製 このようにして作製された前面パネル101と背面パネ
ル111は、表示電極103とアドレス電極113とが
直交するように重ね合わせられるとともに、パネル周縁
に封着用ガラスが介挿され、これを例えば450℃程度
で10〜20分間焼成して気密シール層(不図示)が形
成されることにより封着される。そして、一旦放電空間
内を高真空(例えば、1.1×10-4Pa)に排気した
のち、放電ガス(例えば、He−Xe系、Ne−Xe系
の不活性ガス)を所定の圧力で封入することによってP
DPが作製される。
A paste-like phosphor ink containing red (R), green (G), and blue (B) phosphor particles is repeatedly applied to the grooves between the partition walls 115 in the order of colors. . By baking this at a temperature of 400 to 590 ° C. to burn off the resin in the paste, the phosphor layer 116 formed by binding the respective phosphor particles is formed. (4) Fabrication of PDP by pasting panels together The front panel 101 and the back panel 111 thus fabricated are stacked so that the display electrodes 103 and the address electrodes 113 are orthogonal to each other, and the sealing glass is provided around the panel edges. Is inserted, and this is fired at, for example, about 450 ° C. for 10 to 20 minutes to form an airtight seal layer (not shown) for sealing. Then, after the discharge space is once evacuated to a high vacuum (for example, 1.1 × 10 −4 Pa), a discharge gas (for example, a He—Xe-based or Ne—Xe-based inert gas) is kept at a predetermined pressure. By encapsulating P
The DP is created.

【0051】このようなPDPにおいては、前面パネル
における誘電体層の焼成時間を短縮することができるの
で、製造コストが安くなる。 (5)実験 上記実施の形態において説明した各分解促進物質を含む
ガラスペーストを用いて、ガラス基板上に誘電体層を形
成した実施例サンプルを作成し、その透過率を測定し
た。
In such a PDP, the firing time of the dielectric layer in the front panel can be shortened, so that the manufacturing cost is reduced. (5) Experiment An example sample in which a dielectric layer was formed on a glass substrate was prepared using the glass paste containing each decomposition promoting substance described in the above embodiment, and the transmittance was measured.

【0052】また、分解促進物質を含まないガラスペー
ストを用いて、ガラス基板上に誘電体層を形成した比較
例サンプル1,2も作成し、同様にその透過率を測定し
た。なお、各実施例サンプルおよび比較例サンプル1
は、誘電体層の焼成には、図3(b)に示す焼成パター
ンにて焼成を行った。比較例サンプル2は、比較例サン
プル1と同じ誘電体層前駆体を塗布するとともに、これ
を図3(a)に示す焼成パターン(ただし、分解ステッ
プにおけるホールド時間は30分とした。)にて焼成を
行った。
Further, Comparative Examples 1 and 2 in which a dielectric layer was formed on a glass substrate were prepared using a glass paste containing no decomposition promoting substance, and the transmittance was measured in the same manner. In addition, each Example sample and Comparative example sample 1
For the firing of the dielectric layer, firing was performed in the firing pattern shown in FIG. In Comparative Example Sample 2, the same dielectric layer precursor as in Comparative Example Sample 1 was applied, and this was baked in the firing pattern shown in FIG. 3A (however, the hold time in the decomposition step was 30 minutes). Firing was performed.

【0053】各実施例サンプルおよび比較例サンプルに
用いたガラスペーストの種類と添加量については、表1
に記載している。
Table 1 shows the types and addition amounts of the glass pastes used in the respective Example samples and Comparative Example samples.
It has been described in.

【0054】[0054]

【表1】 [Table 1]

【0055】(実施例サンプル1〜18)ガラス基板に
は、フロート法によって形成された旭硝子製PD200
を用いた。そして、ガラスペーストは、分解促進物質と
して表1に記載された成分を用い、その添加量もガラス
ペーストに含まれる粉末ガラスに対するパーセンテージ
として記載されている量のものを用いた。なお、樹脂に
はエチルセルロースを用い、誘電体層は、厚みが焼成後
に30μmとなるように形成した。
(Examples 1 to 18) PD200 made by Asahi Glass was formed on the glass substrate by the float method.
Was used. Then, the glass paste used the components shown in Table 1 as the decomposition promoting substance, and the addition amount was also the amount described as a percentage with respect to the powder glass contained in the glass paste. In addition, ethyl cellulose was used as the resin, and the dielectric layer was formed to have a thickness of 30 μm after firing.

【0056】(比較例サンプル1)各実施例サンプルと
は分解促進物質が含まれていない点が異なるのみであ
り、それ以外の組成、焼成条件は同じにして、ガラス基
板上に誘電体層(厚み30μm)を形成した。 (比較例サンプル2)上記比較例サンプル1と同じ組成
のガラスペーストを用い、図3(a)における分解ステ
ップのホールド時間を30分とした焼成パターンにて焼
成を行い、厚み30μmの誘電体層を形成した。
(Comparative Example Sample 1) The sample of Comparative Example is different from that of each Example only in that the decomposition promoting substance is not contained. The other composition and firing conditions are the same, and the dielectric layer ( A thickness of 30 μm) was formed. (Comparative Example Sample 2) Using a glass paste having the same composition as in Comparative Example Sample 1 above, firing was performed in a firing pattern in which the hold time of the decomposition step in FIG. Was formed.

【0057】(透過率測定条件)測定機器としては、全
拡散透過率測定装置(ミノルタ株式会社製、CM−35
00d)を用いて、誘電体層が形成されたガラス基板の
全拡散透過率を測定した。なお、ガラス基板のみの透過
率をブランクとして測定し、この透過率を測定結果から
差し引くことによって、誘電体層のみの全拡散透過率を
測定している。その結果を表1に示す。
(Transmittance Measuring Conditions) As a measuring instrument, a total diffuse transmittance measuring device (CM-35 manufactured by Minolta Co., Ltd.)
00d) was used to measure the total diffused transmittance of the glass substrate on which the dielectric layer was formed. Note that the transmittance of only the glass substrate was measured as a blank, and the total diffused transmittance of only the dielectric layer was measured by subtracting this transmittance from the measurement results. The results are shown in Table 1.

【0058】表1からわかるように、比較例サンプル2
および各実施例サンプルにおいては、全拡散透過率が8
3%以上となっている。これにより、本発明に係る各実
施例サンプルは、従来の焼成パターンで焼成した誘電体
層と同様の透過率を維持していることがわかる。これに
対し、比較例サンプル1においては、透過率が78%と
各実施例サンプルに比べて6%以上も低い値となってい
る。
As can be seen from Table 1, Comparative Example Sample 2
And in each of the example samples, the total diffuse transmittance is 8
It is over 3%. From this, it can be seen that the samples of each example according to the present invention maintain the same transmittance as the dielectric layer fired in the conventional firing pattern. On the other hand, the comparative sample 1 has a transmittance of 78%, which is 6% or more lower than that of each example sample.

【0059】これは、比較例サンプル1に用いたガラス
ペーストに分解促進物質が含まれていないため、ガラス
粉末が溶融する段階においても樹脂などの有機成分が残
った状態となって誘電体層内において気泡となり、誘電
体層の透過率が低下したと考えられる。さらに、上記各
実施例サンプル1〜18、比較例サンプル1,2の製造
条件と同じ条件で誘電体層を形成したPDP(42イン
チVGAに合わせて、隔壁115(図1)の高さを0.
15mm、隔壁115同士の間隔(セルピッチ)を0.
36mm、表示電極103の電極間距離を0.1mmに
設定したもの)を作成し、同じ駆動条件のもと、輝度を
測定して比較した。その結果、各実施例サンプル1〜1
8と比較例サンプル2と同じ誘電体層を有するPDP
は、比較例サンプル1の誘電体層を有するPDPに比べ
て約5%輝度が高い値となっていた。これにより、本発
明のガラスペーストを用いることにより、PDPの輝度
を従来と同じ程度に確保できていることがわかる。ま
た、表1に記載した分解促進物質の添加量の範囲内にお
いては、前面パネルの着色も見られなかった。
This is because the glass paste used in Comparative Example Sample 1 does not contain a decomposition promoting substance, so that organic components such as resin remain in the dielectric layer even when the glass powder is melted. It is considered that the bubbles became bubbles in and the transmittance of the dielectric layer was lowered. Furthermore, the height of the partition wall 115 (FIG. 1) is set to 0 in accordance with the PDP (42 inch VGA) in which the dielectric layer is formed under the same manufacturing conditions as those of the above-described example samples 1 to 18 and comparative example samples 1 and 2. .
15 mm, the interval between the partition walls 115 (cell pitch) is 0.
36 mm and the distance between the display electrodes 103 was set to 0.1 mm), and the brightness was measured and compared under the same driving conditions. As a result, each Example sample 1-1
8 and PDP having the same dielectric layer as Comparative Sample 2
Was about 5% higher in brightness than the PDP having the dielectric layer of Comparative Sample 1. From this, it can be seen that by using the glass paste of the present invention, the brightness of the PDP can be secured to the same level as the conventional one. Further, in the range of the addition amount of the decomposition promoting substance shown in Table 1, coloring of the front panel was not observed.

【0060】なお、ここでは、樹脂にエチルセルロース
を用いていたが、アクリル系樹脂においても同様の効果
を得ることができる。また、分解促進物質としては、そ
れ自体が有機成分の分解を促進するものでなくても、焼
成による加熱などによって有機成分の分解を促進する物
質に変化するような分解促進物質の化合物であれば使用
することができる。
Although ethyl cellulose is used as the resin here, the same effect can be obtained with an acrylic resin. Further, as the decomposition-promoting substance, if it is a compound of a decomposition-promoting substance that does not itself promote the decomposition of the organic component but is changed to a substance that promotes the decomposition of the organic component by heating by firing or the like. Can be used.

【0061】(第2の実施の形態)上記第1の実施の形
態においては、前面パネルにおける誘電体層を形成する
際に、ガラスペーストを塗布するようにしていたが、本
第2の実施の形態においては、あらかじめガラスペース
トを支持フィルムに塗布して乾燥させ、支持フィルム上
に誘電体層前駆体を形成した転写フィルムを用いるよう
にしている。なお、本第2の実施の形態にかかるPDP
は、第1の実施の形態と誘電体層の形成方法が異なる以
外は略同じ構成であるため、主に誘電体層の形成方法に
ついて説明する。
(Second Embodiment) In the first embodiment, the glass paste is applied when the dielectric layer in the front panel is formed. In the form, a glass paste is applied to a supporting film in advance and dried to use a transfer film in which a dielectric layer precursor is formed on the supporting film. The PDP according to the second embodiment
Since the configuration is substantially the same as that of the first embodiment except that the method of forming the dielectric layer is different, the method of forming the dielectric layer will be mainly described.

【0062】図5(a)〜(e)は、前面パネルの各製
造工程における前面パネルの側面図である。上記第1の
実施の形態と同様、図5(a)に示す前面ガラス基板を
用意し、図5(b)に示すように、その前面ガラス基板
202に表示電極203を厚膜法や薄膜法を用いて列設
する。
FIGS. 5A to 5E are side views of the front panel in each manufacturing process of the front panel. Similar to the first embodiment, the front glass substrate shown in FIG. 5A is prepared, and as shown in FIG. 5B, the display electrodes 203 are provided on the front glass substrate 202 by the thick film method or the thin film method. Line up with.

【0063】次に、表示電極203が列設された前面ガ
ラス基板202上に、カバーフィルムを取り除いた転写
フィルム204aを圧着させる。ここで、転写フィルム
204aは、図5(c)に示すように、支持フィルム2
04bと、ガラスペーストを乾燥した誘電体層前駆体2
04cと、図示しないカバーフィルムからなり、支持フ
ィルム204bとカバーフィルムとによって誘電体層前
駆体204cをはさみこんだ構成を有する。このため、
誘電体層前駆体204cは、ホコリが付着しにくくなっ
ている。
Next, the transfer film 204a from which the cover film has been removed is pressed onto the front glass substrate 202 on which the display electrodes 203 are arranged. Here, the transfer film 204a is, as shown in FIG.
04b and dielectric layer precursor 2 obtained by drying glass paste
04c and a cover film (not shown), and the dielectric layer precursor 204c is sandwiched between the support film 204b and the cover film. For this reason,
Dust is less likely to adhere to the dielectric layer precursor 204c.

【0064】支持フィルム204bは、耐熱性およびガ
ラスペーストに含まれる溶剤に対して耐溶剤性を有する
とともに可撓性を有する樹脂からなることが好ましい。
具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビ
ニルなどからなるフィルム(厚み20〜100μm)を
使用することができる。
The support film 204b is preferably made of a resin having heat resistance and solvent resistance to the solvent contained in the glass paste and having flexibility.
Specifically, a film (thickness 20 to 100 μm) made of polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyimide, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride or the like can be used.

【0065】この支持フィルム204bに対して、上記
第1の実施の形態と同様の組成を有するガラスペースト
をロールコーター、ドクターブレードなどのブレードコ
ーター、カーテンコーター、ワイヤーコーター、ファウ
ンテンコーターなどを用いて均一な厚みのガラスペース
トを塗布したのち、たとえば40〜150℃の温度を保
持しながら、0.1〜30分程度乾燥し、誘電体層前駆
体204cを形成する。この誘電体層前駆体204cに
おける残存溶剤の量は、通常、10wt%以下であり、
前面ガラス基板202に密着させるために必要な粘着性
および形状保持性を確保するために、1〜5wt%程度
が好ましい。
A glass paste having the same composition as in the first embodiment is uniformly applied to the support film 204b using a roll coater, a blade coater such as a doctor blade, a curtain coater, a wire coater or a fountain coater. After applying a glass paste having a different thickness, it is dried for about 0.1 to 30 minutes while maintaining a temperature of 40 to 150 ° C. to form a dielectric layer precursor 204c. The amount of residual solvent in the dielectric layer precursor 204c is usually 10 wt% or less,
In order to secure the adhesiveness and shape-retaining property required for the close contact with the front glass substrate 202, about 1 to 5 wt% is preferable.

【0066】そして、この誘電体層前駆体204cの上
に、支持フィルム204bと同様の組成・厚みからなる
カバーシートを圧着することによって転写フィルム20
4aが形成される。なお、支持フィルム204bおよび
カバーシートは、可撓性を有するので、転写フィルム2
04aは、ロール状に巻回してコンパクトに保存するこ
とができる。
Then, a cover sheet having the same composition and thickness as the support film 204b is pressure-bonded onto the dielectric layer precursor 204c to transfer the transfer film 20.
4a is formed. Since the support film 204b and the cover sheet have flexibility, the transfer film 2
04a can be rolled and stored compactly.

【0067】このように形成された転写フィルム204
aは、そのカバーシートが剥離されて前面ガラス基板2
02上に熱を加えながら圧着される。その後、支持フィ
ルム204bを剥離することによって、表示電極203
が形成された前面ガラス基板202上には誘電体層前駆
体204cのみが被覆される。ここで、カバーシートお
よび支持フィルム204bの剥離を行いやすくするた
め、これらの表面には離型処理されていることが好まし
い。
Transfer film 204 formed in this way
a is the front glass substrate 2 after the cover sheet is peeled off.
02 is pressure-bonded while applying heat. Then, by peeling the support film 204b, the display electrode 203
Only the dielectric layer precursor 204c is coated on the front glass substrate 202 on which is formed. Here, in order to facilitate the peeling of the cover sheet and the support film 204b, it is preferable that the surfaces of these are subjected to a release treatment.

【0068】このように、誘電体層前駆体204cが被
覆された前面ガラス基板202は、第1の実施の形態に
おける焼成パターンと同様の温度パターンによって焼成
され、図5(d)のように、誘電体層204が形成され
る。図6(a)〜図6(c)は、誘電体層前駆体204
cの焼成時における様子を示す前面パネルの側面図であ
る。
As described above, the front glass substrate 202 coated with the dielectric layer precursor 204c is fired in the same temperature pattern as the firing pattern in the first embodiment, and as shown in FIG. The dielectric layer 204 is formed. FIG. 6A to FIG. 6C show the dielectric layer precursor 204.
It is a side view of a front panel which shows a situation at the time of baking of c.

【0069】図6(a)に示すように、誘電体層前駆体
204cには、第1の実施の形態におけるガラスペース
トと同様、ガラス粉末2040と、樹脂と溶剤を含む混
合物からなるガラス粉末分散剤2041と、樹脂などの
有機成分を低分子量化して分解する分解促進物質204
2が含まれている。これを、図3(b)に示すような昇
温パターンで焼成することにより、初期、すなわち樹脂
などの有機成分の天井温度から350℃程度までの間に
おいて、分解促進物質2042がこれと接触する樹脂な
どの有機成分を急激に低分子量化しながら完全に分解す
る。この分解されたガスは、ガラス粉末2040の間隙
を抜けながら揮発され拡散される。そのため、従来のよ
うに有機成分の分解ステップにおけるホールド時間を確
保する必要がなく、ガラス粉末2040が軟化する時点
においては有機成分がほぼ完全に消失してしまってい
る。そして、さらに昇温を続け、ガラス粉末2040の
軟化点付近の温度にホールドすることにより、該粉末が
溶融され、粉末間の隙間が埋められるので、図6(c)
に示すような誘電体層204が形成される。この時点に
おいては、誘電体層前駆体204cに含まれる有機成分
は消失しているので、誘電体層204の中に気泡を生じ
ることもない。この前面パネルを徐冷することによって
前面ガラス基板202上に固化した誘電体層204が形
成される。
As shown in FIG. 6A, in the dielectric layer precursor 204c, the glass powder 2040 and a glass powder dispersion made of a mixture containing a resin and a solvent are dispersed in the same manner as the glass paste in the first embodiment. Agent 2041 and decomposition-promoting substance 204 that lowers the molecular weight of organic components such as resins and decomposes them
2 is included. By firing this in a temperature rising pattern as shown in FIG. 3B, the decomposition accelerating substance 2042 comes into contact with the organic component such as resin at an initial stage, that is, from the ceiling temperature to about 350 ° C. Completely decomposes the organic components such as resin while rapidly lowering the molecular weight. The decomposed gas is volatilized and diffused while passing through the gap of the glass powder 2040. Therefore, it is not necessary to secure the hold time in the decomposition step of the organic component as in the conventional case, and the organic component has almost completely disappeared when the glass powder 2040 softens. Then, by further raising the temperature and holding it at a temperature near the softening point of the glass powder 2040, the powder is melted and the gaps between the powders are filled, so that FIG.
The dielectric layer 204 is formed as shown in FIG. At this point, since the organic component contained in the dielectric layer precursor 204c has disappeared, no bubbles are generated in the dielectric layer 204. By slowly cooling this front panel, a solidified dielectric layer 204 is formed on the front glass substrate 202.

【0070】最後に、図5(e)に示すように、誘電体
層204の上に保護層を被覆することによって前面パネ
ルが形成される。このように、誘電体層204の形成に
転写フィルムを用いた場合においても、上記第1の実施
の形態と同様に誘電体層204中に気泡を発生すること
なく、焼成時間を短縮することができる。
Finally, as shown in FIG. 5E, a front panel is formed by covering the dielectric layer 204 with a protective layer. As described above, even when the transfer film is used to form the dielectric layer 204, it is possible to shorten the firing time without generating bubbles in the dielectric layer 204, as in the first embodiment. it can.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上述べてきたように、本発明のガラス
ペースト及び転写フィルムをPDPにおける前面パネル
側の誘電体層の形成に用いることにより、前面パネルの
透過率を低下させる気泡を形成することなく、誘電体層
の焼成時間を短縮することができる。
As described above, by using the glass paste and the transfer film of the present invention for forming the dielectric layer on the front panel side in the PDP, the bubbles that reduce the transmittance of the front panel are formed. Therefore, the firing time of the dielectric layer can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】PDPの一部を展開した斜視図である。FIG. 1 is an exploded perspective view of a part of a PDP.

【図2】前面パネルの各製造工程における前面パネルの
側面図である。
FIG. 2 is a side view of the front panel in each manufacturing process of the front panel.

【図3】(a)従来における前面パネルの焼成温度パタ
ーンを示すグラフである。 (b)第1の実施の形態にかかる前面パネルの焼成温度
パターンを示すグラフである。
FIG. 3A is a graph showing a baking temperature pattern of a conventional front panel. (B) It is a graph which shows the baking temperature pattern of the front panel concerning 1st Embodiment.

【図4】焼成時の各段階における前面パネルの側面図で
ある。
FIG. 4 is a side view of the front panel at each stage during firing.

【図5】第2の実施の形態にかかる前面パネルの各製造
工程における前面パネルの側面図である。
FIG. 5 is a side view of the front panel in each manufacturing process of the front panel according to the second embodiment.

【図6】第2の実施の形態にかかる前面パネルの各製造
工程における前面パネルの側面図である。
FIG. 6 is a side view of the front panel in each manufacturing process of the front panel according to the second embodiment.

【図7】従来のPDPにおける前面パネルの断面図であ
る。
FIG. 7 is a sectional view of a front panel of a conventional PDP.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 前面パネル 102,202 前面ガラス基板 103,203 表示電極 104,204 誘電体層 104a,204c 誘電体層前駆体 105 保護層 111 背面パネル 112 背面ガラス基板 113 アドレス電極 204a 転写フィルム 204b 支持フィルム 1040 ガラス粉末 1041 分散剤 1042 分解促進物質 101 front panel 102,202 Front glass substrate 103, 203 display electrodes 104,204 Dielectric layer 104a, 204c Dielectric layer precursor 105 protective layer 111 rear panel 112 Rear glass substrate 113 address electrodes 204a transfer film 204b support film 1040 glass powder 1041 dispersant 1042 Decomposition accelerator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 青木 正樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 住田 圭介 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 芦田 英樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 日比野 純一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 4G062 AA08 AA09 AA15 BB01 CC01 DA02 DC02 DE02 DF02 MM05 MM07 MM25 NN26 PP01 PP12 5C027 AA05 AA10 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GD07 GD09 GD10 JA09 JA22 KA08 KA14 KB24 MA26 MA30    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Masaki Aoki             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. (72) Inventor Keisuke Sumita             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. (72) Inventor Hideki Ashida             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. (72) Inventor Junichi Hibino             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. F-term (reference) 4G062 AA08 AA09 AA15 BB01 CC01                       DA02 DC02 DE02 DF02 MM05                       MM07 MM25 NN26 PP01 PP12                 5C027 AA05 AA10                 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GD07                       GD09 GD10 JA09 JA22 KA08                       KA14 KB24 MA26 MA30

Claims (26)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラズマディスプレイパネルに形成され
る透明な誘電体の出発原料となるガラスペーストであっ
て、 ガラス粉末と、 有機成分を含み、前記ガラス粉末を分散させるガラス粉
末分散剤と、 前記有機成分の分解を促進する分解促進物質とを含み、 前記分解促進物質は、前記有機成分と接触する領域に存
在することを特徴とするガラスペースト。
1. A glass paste as a starting material for a transparent dielectric material formed on a plasma display panel, comprising a glass powder and an organic component, and a glass powder dispersant for dispersing the glass powder, and the organic material. A glass paste comprising a decomposition promoting substance that promotes decomposition of a component, wherein the decomposition promoting substance is present in a region in contact with the organic component.
【請求項2】 前記分解促進物質は、前記有機成分の分
解反応を促進する触媒であることを特徴とする請求項1
に記載のガラスペースト。
2. The decomposition promoting substance is a catalyst for promoting a decomposition reaction of the organic component.
The glass paste described in 1.
【請求項3】 前記触媒は、Co、Mn、Zn、Ti、
Niの少なくとも一つから選択される物質であることを
特徴とする請求項2に記載のガラスペースト。
3. The catalyst is Co, Mn, Zn, Ti,
The glass paste according to claim 2, which is a substance selected from at least one of Ni.
【請求項4】 前記有機成分には、バインダーとなる樹
脂が含まれており、 前記分解促進物質は、前記樹脂の原料を重合する際に開
始反応を促進することができる重合開始剤であることを
特徴とする請求項1に記載のガラスペースト。
4. The organic component contains a resin serving as a binder, and the decomposition promoting substance is a polymerization initiator capable of promoting an initiation reaction when polymerizing the raw material of the resin. The glass paste according to claim 1, characterized in that
【請求項5】 前記重合開始剤は、ラジカル重合開始剤
であることを特徴とする請求項4に記載のガラスペース
ト。
5. The glass paste according to claim 4, wherein the polymerization initiator is a radical polymerization initiator.
【請求項6】 前記ラジカル重合開始剤は、過酸化物ま
たはアゾ化合物であることを特徴とする請求項5に記載
のガラスペースト。
6. The glass paste according to claim 5, wherein the radical polymerization initiator is a peroxide or an azo compound.
【請求項7】 前記過酸化物またはアゾ化合物は、過酸
化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、キュメン
ハイドロパーオキサイド、ターシャリーブチルハイドロ
パーオキサイド、過硫酸塩の少なくとも一つから選択さ
れる物質であることを特徴とする請求項6に記載のガラ
スペースト。
7. The peroxide or azo compound is a substance selected from at least one of benzoyl peroxide, azobisisobutyronitrile, cumene hydroperoxide, tertiary butyl hydroperoxide, and persulfate. It exists, The glass paste of Claim 6 characterized by the above-mentioned.
【請求項8】 前記重合開始剤は、アニオン重合開始剤
であることを特徴とする請求項4に記載のガラスペース
ト。
8. The glass paste according to claim 4, wherein the polymerization initiator is an anionic polymerization initiator.
【請求項9】 前記アニオン重合開始剤は、アルキルリ
チウム触媒であることを特徴とする請求項8に記載のガ
ラスペースト。
9. The glass paste according to claim 8, wherein the anionic polymerization initiator is an alkyllithium catalyst.
【請求項10】 前記分解促進物質は、前記有機成分の
酸化を促進する触媒であることを特徴とする請求項1に
記載のガラスペースト。
10. The glass paste according to claim 1, wherein the decomposition promoting substance is a catalyst that promotes the oxidation of the organic component.
【請求項11】 前記触媒は、Pd、Pt、Co34
PdO、Cr23、Mn23、Ag2O、CuO、Mn
2、CoO、NiOの少なくとも一つから選択される
物質であることを特徴とする請求項10に記載のガラス
ペースト。
11. The catalyst is Pd, Pt, Co 3 O 4 ,
PdO, Cr 2 O 3 , Mn 2 O 3 , Ag 2 O, CuO, Mn
The glass paste according to claim 10, which is a substance selected from at least one of O 2 , CoO, and NiO.
【請求項12】 プラズマディスプレイパネルに形成さ
れる透明な誘電体の形成に用いられ、支持フィルムと、
当該支持フィルム上に被覆された誘電体層前駆体とを備
える転写フィルムであって、 前記誘電体層前駆体は、 ガラス粉末と、 有機成分と、 前記有機成分の分解を促進する分解促進物質とを含み、 前記分解促進物質は、前記有機成分と接触する領域に存
在することを特徴とする転写フィルム。
12. A support film, which is used for forming a transparent dielectric formed on a plasma display panel,
A transfer film comprising a dielectric layer precursor coated on the support film, wherein the dielectric layer precursor is glass powder, an organic component, and a decomposition promoting substance that promotes decomposition of the organic component. The transfer film, wherein the decomposition promoting substance is present in a region in contact with the organic component.
【請求項13】 前記分解促進物質は、前記有機成分の
分解反応を促進する触媒であることを特徴とする請求項
12に記載の転写フィルム。
13. The transfer film according to claim 12, wherein the decomposition promoting substance is a catalyst that promotes a decomposition reaction of the organic component.
【請求項14】 前記触媒は、Co、Mn、Zn、T
i、Niの少なくとも一つから選択される物質であるこ
とを特徴とする請求項13に記載の転写フィルム。
14. The catalyst is Co, Mn, Zn, T.
The transfer film according to claim 13, wherein the transfer film is a substance selected from at least one of i and Ni.
【請求項15】 前記有機成分には、バインダーとなる
樹脂が含まれており、 前記分解促進物質は、前記樹脂の原料を重合する際に開
始反応を促進することができる重合開始剤であることを
特徴とする請求項12に記載の転写フィルム。
15. The organic component contains a resin serving as a binder, and the decomposition promoting substance is a polymerization initiator capable of promoting an initiation reaction when polymerizing the raw material of the resin. The transfer film according to claim 12, wherein:
【請求項16】 前記重合開始剤は、ラジカル重合開始
剤であることを特徴とする請求項15に記載の転写フィ
ルム。
16. The transfer film according to claim 15, wherein the polymerization initiator is a radical polymerization initiator.
【請求項17】 前記ラジカル重合開始剤は、過酸化物
またはアゾ化合物であることを特徴とする請求項16に
記載の転写フィルム。
17. The transfer film according to claim 16, wherein the radical polymerization initiator is a peroxide or an azo compound.
【請求項18】 前記過酸化物またはアゾ化合物は、過
酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、キュメ
ンハイドロパーオキサイド、ターシャリーブチルハイド
ロパーオキサイド、過硫酸塩の少なくとも一つから選択
される物質であることを特徴とする請求項17に記載の
転写フィルム。
18. The peroxide or azo compound is a substance selected from at least one of benzoyl peroxide, azobisisobutyronitrile, cumene hydroperoxide, tertiary butyl hydroperoxide, and persulfate. The transfer film according to claim 17, wherein the transfer film is present.
【請求項19】 前記重合開始剤は、アニオン重合開始
剤であることを特徴とする請求項15に記載の転写フィ
ルム。
19. The transfer film according to claim 15, wherein the polymerization initiator is an anionic polymerization initiator.
【請求項20】 前記アニオン重合開始剤は、アルキル
リチウム触媒であることを特徴とする請求項19に記載
の転写フィルム。
20. The transfer film according to claim 19, wherein the anionic polymerization initiator is an alkyllithium catalyst.
【請求項21】 前記分解促進物質は、前記有機成分の
酸化を促進する触媒であることを特徴とする請求項12
に記載の転写フィルム。
21. The decomposition promoting substance is a catalyst for promoting the oxidation of the organic component.
The transfer film according to.
【請求項22】 前記触媒は、Pd、Pt、Co34
PdO、Cr23、Mn23、Ag2O、CuO、Mn
2、CoO、NiOの少なくとも一つから選択される
物質であることを特徴とする請求項21に記載の転写フ
ィルム。
22. The catalyst is Pd, Pt, Co 3 O 4 ,
PdO, Cr 2 O 3 , Mn 2 O 3 , Ag 2 O, CuO, Mn
The transfer film according to claim 21, wherein the transfer film is a substance selected from at least one of O 2 , CoO, and NiO.
【請求項23】 前面ガラス基板上にガラスペーストを
塗布し乾燥することによって誘電体層前駆体を被覆し、
これを焼成することによって前記前面ガラス基板上に誘
電体層を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方
法であって、 前記前面ガラス基板にガラスペーストを塗布する際に、
請求項1〜11のいずれかに記載のガラスペーストを塗
布することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
23. A dielectric layer precursor is coated by coating a glass paste on a front glass substrate and drying,
A method of manufacturing a plasma display panel, wherein a dielectric layer is formed on the front glass substrate by firing it, when applying a glass paste to the front glass substrate,
A method for manufacturing a plasma display panel, which comprises applying the glass paste according to claim 1.
【請求項24】 前記誘電体層前駆体の焼成において
は、焼成温度をガラスペーストに含まれるガラスの軟化
点まで上げ続けることを特徴とする請求項23に記載の
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
24. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 23, wherein in the firing of the dielectric layer precursor, the firing temperature is continuously raised to the softening point of the glass contained in the glass paste.
【請求項25】 複数対の表示電極が配されるととも
に、これを被覆する誘電体層が配される前面ガラス基板
と、 前記前面ガラス基板における表示電極が配された側に対
向配置される背面ガラス基板とを備えるプラズマディス
プレイパネルであって、 前記誘電体層は、ガラスペーストを焼成することによっ
て形成され、前記ガラスペーストには、請求項1〜11
のいずれかに記載のガラスペーストが用いられているこ
とを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
25. A front glass substrate on which a plurality of pairs of display electrodes are arranged and a dielectric layer covering the display electrodes, and a back surface arranged opposite to the side of the front glass substrate on which the display electrodes are arranged. It is a plasma display panel provided with a glass substrate, Comprising: The said dielectric material layer is formed by baking glass paste, The said glass paste is 1-11.
A plasma display panel comprising the glass paste according to any one of 1.
【請求項26】 複数対の表示電極が配されるととも
に、これを被覆する誘電体層が配される前面ガラス基板
と、 前記前面ガラス基板における表示電極が配された側に対
向配置される背面ガラス基板とを備えるプラズマディス
プレイパネルであって、 前記誘電体層は、請求項12〜22のいずれかに記載の
転写フィルムから転写された誘電体層前駆体を焼成する
ことによって形成されていることを特徴とするプラズマ
ディスプレイパネル。
26. A front glass substrate on which a plurality of pairs of display electrodes are arranged and a dielectric layer covering the display electrodes is arranged, and a back surface arranged opposite to the side of the front glass substrate on which the display electrodes are arranged. A plasma display panel comprising a glass substrate, wherein the dielectric layer is formed by firing a dielectric layer precursor transferred from the transfer film according to claim 12. Plasma display panel characterized by.
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