JP2002124146A - Forming method of electrode and plasma display device - Google Patents

Forming method of electrode and plasma display device

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JP2002124146A
JP2002124146A JP2000316175A JP2000316175A JP2002124146A JP 2002124146 A JP2002124146 A JP 2002124146A JP 2000316175 A JP2000316175 A JP 2000316175A JP 2000316175 A JP2000316175 A JP 2000316175A JP 2002124146 A JP2002124146 A JP 2002124146A
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electrode
precursor
forming
firing
dielectric
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Application number
JP2000316175A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsuhiro Otani
光弘 大谷
Junichi Hibino
純一 日比野
Keisuke Sumita
圭介 住田
Hideki Ashida
英樹 芦田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a forming method of an electrode which does not discolor the electrode to yellow, and to aim at a high picture quality of a plasma display. SOLUTION: A plasma display panel with high picture quality is obtained by simultaneously sintering an electrode 122 containing silver as a main component, and a dielectric substance 123 covering the electrode 122 which are formed on a substrate by the float method, while preventing a glass from discoloring to yellow caused by the silver.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、厚膜材料による電
極形成方法、特に表示デバイスなどに用いるプラズマデ
ィスプレイ表示装置の電極形成方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming an electrode using a thick film material, and more particularly to a method for forming an electrode of a plasma display device used for a display device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、プラズマディスプレイ、フィール
ドエミッションディスプレイ、エレクトロルミネッセン
スディスプレイなどに代表される厚膜を利用したディス
プレイパネルが数多くあり、一部は市販され、一部は開
発中である。その中で、AC型のプラズマディスプレイ
パネル(以下、「PDP」という)は、特に40インチ
サイズ以上を実現できる大型ディスプレイとして期待さ
れている。
2. Description of the Related Art At present, there are many display panels using a thick film typified by a plasma display, a field emission display, an electroluminescence display, etc., some of which are commercially available, and some of which are under development. Among them, an AC type plasma display panel (hereinafter, referred to as “PDP”) is expected as a large-sized display which can realize a size of 40 inches or more.

【0003】このPDPは、図2に示すように前面パネ
ル116と背面パネル106を有し、前面パネル116
は、前面ガラス基板102上に表示電極103、ブラッ
クストライプ114が形成され、さらにそれが誘電体ガ
ラス層104及び酸化マグネシウム(MgO)からなる
誘電体保護層105により覆われて形成されたものであ
る。
This PDP has a front panel 116 and a rear panel 106 as shown in FIG.
Is formed by forming a display electrode 103 and a black stripe 114 on a front glass substrate 102 and covering the display electrode 103 with a dielectric glass layer 104 and a dielectric protection layer 105 made of magnesium oxide (MgO). .

【0004】また、背面パネル106は、背面ガラス基
板107上に、アドレス電極108、隔壁110、及び
蛍光体層111が設けられて形成されたものである。そ
して、このような前面パネル116と背面パネル106
とが周辺シール材(図示略)によって貼り合わせられ、
隔壁110で仕切られた空間に排気管113を通して放
電ガスを封入することで放電空間112が形成される。
カラー表示のためには前記蛍光体層は、通常、赤、緑、
青の3色が順に配置されている。
[0004] The rear panel 106 is formed by providing an address electrode 108, a partition 110, and a phosphor layer 111 on a rear glass substrate 107. Then, such a front panel 116 and a rear panel 106
Are bonded by a peripheral sealing material (not shown),
The discharge space 112 is formed by filling the discharge gas into the space partitioned by the partition 110 through the exhaust pipe 113.
For color display, the phosphor layer is usually red, green,
Three colors of blue are arranged in order.

【0005】放電空間112内には例えばネオン及びキ
セノンなどを混合してなる放電ガスが通常、65kPa
(500Torr)程度の圧力で封入されている。
[0005] In the discharge space 112, a discharge gas obtained by mixing, for example, neon and xenon is usually 65 kPa.
(500 Torr).

【0006】放電ガスは、通常アドレス電極、表示電極
などに印加される周期的な電圧によって放電により紫外
線を照射し、それが蛍光体によって可視光に変換され
て、画像表示が行われる。
The discharge gas irradiates ultraviolet rays by discharge with a periodic voltage usually applied to an address electrode, a display electrode, etc., and the ultraviolet light is converted into visible light by a fluorescent material to display an image.

【0007】PDPのガラス基板としては、その大型化
が比較的容易であることから、フロート法が多用されて
いる。フロート法は、溶融窯で溶かされたガラス原料を
高温で溶融しているスズの上に流し込み、冷却すること
で平板を得るものである。
As the PDP glass substrate, the float method is frequently used because its size can be relatively easily increased. In the float method, a glass material melted in a melting furnace is poured onto tin melted at a high temperature, and cooled to obtain a flat plate.

【0008】また、アドレス電極、表示電極には、厚膜
銀が多用されている。この厚膜銀による電極の製造方法
としては、スクリーン印刷法のように銀、樹脂、溶剤を
含有する銀ペーストを用いる方法や、ドライフィルム法
のように、銀、樹脂含有するフィルムを用いる方法など
がある。いずれの場合においても、樹脂などを除去する
工程において、焼成処理を行う必要がある。
Further, thick-film silver is frequently used for the address electrode and the display electrode. Examples of the method for producing an electrode using this thick film silver include a method using a silver paste containing silver, a resin and a solvent as in a screen printing method, and a method using a film containing silver and a resin as a dry film method. There is. In any case, it is necessary to perform a baking treatment in the step of removing the resin and the like.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】銀の焼成工程におい
て、銀がフロート法で作成した基板ガラス中あるいは、
誘電体中に銀イオンの形で拡散する。そしてこの拡散し
た銀イオンが基板ガラス中(フロートガラス中)のスズ
イオンなどに還元されて銀のコロイド粒子を折出する。
この銀コロイドは、400nm近傍光を吸収する特性を
有するため、ガラスの着色が発生し、パネルの画質を著
しく劣化させるという課題があった(例えばJ.E.
SHELBY and J.VITKO. Jr Jo
urnalof Non Crystalline S
olids Vol50 (1982) 107−11
7)。
In the baking step of silver, silver is contained in a substrate glass prepared by a float method or
It diffuses into the dielectric in the form of silver ions. Then, the diffused silver ions are reduced to tin ions or the like in the substrate glass (in the float glass), and colloidal silver particles are deposited.
Since this silver colloid has a property of absorbing light in the vicinity of 400 nm, there is a problem that coloring of the glass occurs and the image quality of the panel is remarkably deteriorated (for example, JE.
SHELBY and J.M. VITKO. Jr Jo
urnalof Non Crystalline S
oids Vol50 (1982) 107-11
7).

【0010】このような現象は、フロート法で製造され
たガラス上特有の現象ではなく、スズ以外の還元性物質
を含有したガラス表面においても一般的に生じるもので
ある。
[0010] Such a phenomenon is not a phenomenon peculiar to the glass produced by the float method, but generally occurs also on the glass surface containing a reducing substance other than tin.

【0011】本発明の第1の目的は、かかる還元性物質
を含有したガラス上においても、銀を電極に使用した際
に生じる基板の着色の低減できる電極の形成方法を提供
することにある。
A first object of the present invention is to provide a method for forming an electrode which can reduce the coloring of a substrate which occurs when silver is used for an electrode, even on glass containing such a reducing substance.

【0012】本願発明の第2の目的は、上記方法によっ
て電極を形成されたプラズマディスプレイパネル及び、
このプラズマディスプレイパネルを具備するプラズマデ
ィスプレイパネル表示装置を提供することにある。
A second object of the present invention is to provide a plasma display panel having electrodes formed by the above method, and
An object of the present invention is to provide a plasma display panel display device including the plasma display panel.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記第1の目
的を達成するために、還元性物質を含有した基板上に、
少なくとも銀を含有する電極前駆体を形成する電極前駆
体形成工程と、低融点ガラスを含有する誘電体前駆体に
よって前記電極の少なくとも一部を被覆形成する誘電体
前駆体形成工程と、電極前駆体及び誘電体前駆体を同時
に焼成する焼成工程を含むことを特徴とする電極形成方
法を提供するものである。
According to the present invention, in order to attain the first object, a substrate containing a reducing substance is provided.
An electrode precursor forming step of forming an electrode precursor containing at least silver, a dielectric precursor forming step of coating and forming at least a part of the electrode with a dielectric precursor containing a low-melting glass, and an electrode precursor And a baking step of baking the dielectric precursor at the same time.

【0014】また本発明は、上記第1の目的を達成する
ために、還元性物質を含有した基板上に、少なくとも銀
と樹脂を含有する電極前駆体を形成する電極前駆体形成
工程と、前記電極前駆体中の樹脂分解工程と、低融点ガ
ラスを含有する誘電体前駆体によって前記電極の少なく
とも一部を被覆形成する誘電体前駆体形成工程と、電極
前駆体及び誘電体前駆体を同時に焼成する焼成工程を含
むことを特徴とする電極形成方法を提供するものであ
る。
In order to achieve the first object, the present invention provides an electrode precursor forming step of forming an electrode precursor containing at least silver and a resin on a substrate containing a reducing substance; A resin decomposition step in the electrode precursor, a dielectric precursor formation step of forming at least a part of the electrode by coating with a dielectric precursor containing a low-melting glass, and simultaneously firing the electrode precursor and the dielectric precursor The present invention provides an electrode forming method characterized by including a firing step.

【0015】また本発明は、上記第1の目的を達成する
ために、還元性物質を含有した基板上に、少なくとも銀
を含有する電極前駆体を形成する電極前駆体形成工程
と、前記電極を被覆層形成工程と、低融点ガラスを含有
する誘電体前駆体によって前記電極の少なくとも一部を
被覆形成する誘電体前駆体形成工程と、電極前駆体及び
誘電体前駆体を同時に焼成する焼成工程を含むことを特
徴とする電極形成方法を提供するものである。
Further, in order to achieve the first object, the present invention provides an electrode precursor forming step of forming an electrode precursor containing at least silver on a substrate containing a reducing substance; A coating layer forming step, a dielectric precursor forming step of coating and forming at least a part of the electrode with a dielectric precursor containing low-melting glass, and a firing step of simultaneously firing the electrode precursor and the dielectric precursor. The present invention provides a method for forming an electrode, comprising:

【0016】さらに本発明は、上記第2の目的を達成す
るために、上記の電極形成方法によって製造されたこと
を特徴とするプラズマディスプレイパネル及び、前記プ
ラズマディスプレイパネルを具備することを特徴とする
プラズマディスプレイ表示装置を提供するものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a plasma display panel manufactured by the above-described electrode forming method, and the plasma display panel is provided. It is intended to provide a plasma display device.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0018】図1は、本発明の電極形成方法の一実施形
態を説明するための工程図である。
FIG. 1 is a process chart for explaining an embodiment of the electrode forming method of the present invention.

【0019】(第1工程−電極前駆体形成工程)フロー
ト法によって製造した前面ガラス基板102に対し、電
極前駆体120を形成する。電極前駆体は、銀粉末、有
機バインダを、有機溶剤を必須成分とする電極ペース
ト、あるいは、上記必須成分をフィルム状に加工した電
極フィルムを用いる。有機バインダとしては、エチルセ
ルロースなどのセルロース化合物、メチルメタクリレー
トなどのアクリル重合体などが好ましいが、これに限定
するものではない。
(First Step-Electrode Precursor Forming Step) An electrode precursor 120 is formed on the front glass substrate 102 manufactured by the float method. As the electrode precursor, an electrode paste containing silver powder and an organic binder as an essential component of an organic solvent, or an electrode film obtained by processing the above essential components into a film is used. As the organic binder, a cellulose compound such as ethyl cellulose, an acrylic polymer such as methyl methacrylate, and the like are preferable, but not limited thereto.

【0020】また、形成方法としては、上記必須成分に
溶剤を加えたペーストとスクリーン印刷法やダイコート
法などを用いて塗布する。電極形状に加工する方法とし
ては、スクリーン印刷時に用いるスクリーンに必要なパ
ターンを形成してもよいし、ベタ形状に塗布後に、フォ
ト法によってパターニングを行ってもよい(図1
(a))。
As a forming method, a paste obtained by adding a solvent to the above essential components is applied by using a screen printing method, a die coating method, or the like. As a method of processing into an electrode shape, a pattern necessary for a screen used at the time of screen printing may be formed, or after coating in a solid shape, patterning may be performed by a photo method (FIG. 1).
(A)).

【0021】(第2工程−誘電体前駆体形成工程)上記
においてパターン状に加工された電極前駆体120を、
誘電体前駆体102によって被覆する。このときに利用
する誘電体前駆体としては、ガラスと有機バインダーを
必須成分とし、溶剤を加えた誘電体ペーストに対して、
スクリーン印刷法、あるいはダイコート法を用いて塗
布、乾燥することにより行われる。また、同じく上記必
須成分をフィルム状に加工した誘電体フィルムをラミネ
ート法によって貼付することによって行われる(図1
(b))。
(Second Step-Dielectric Precursor Forming Step) The electrode precursor 120 processed in the pattern shape in the above is
Coated with dielectric precursor 102. At this time, as a dielectric precursor to be used, glass and an organic binder are essential components, and a dielectric paste to which a solvent is added,
It is performed by applying and drying using a screen printing method or a die coating method. Also, this is performed by sticking a dielectric film obtained by processing the above essential components into a film by a laminating method (FIG. 1).
(B)).

【0022】(第3工程−樹脂分解工程)焼成炉中で、
電極保護層に含まれる樹脂が分解する温度まで昇温し、
より好ましくは、樹脂分解開始温度以上で、昇温速度を
遅くする、あるいは昇温を停止することにより、電極保
護層の樹脂を完全に分解する。この工程において、必要
に応じてより完全な酸化を行う目的で酸素などの酸化性
ガス、金属などの酸化を防ぐ目的で水素などの還元性ガ
ス、より安価で酸化を助ける目的で乾燥空気の供給や、
発生するガスを速やかに系外に除去する目的で加熱雰囲
気の減圧などを行ってもよい(図1(c))。
(Third Step-Resin Decomposition Step)
Temperature to the temperature at which the resin contained in the electrode protection layer decomposes,
More preferably, the resin in the electrode protective layer is completely decomposed by lowering the temperature raising rate or stopping the temperature raising above the resin decomposition start temperature. In this step, if necessary, supply oxidizing gas such as oxygen for the purpose of performing more complete oxidation, reducing gas such as hydrogen for the purpose of preventing the oxidation of metals, and dry air for the purpose of assisting the oxidation at a lower cost. And
The heating atmosphere may be depressurized for the purpose of quickly removing the generated gas out of the system (FIG. 1C).

【0023】(第4工程−焼成工程)前記熱処理工程終
了後に、さらに昇温を行い、電極前駆体120に含まれ
るガラス成分及び、誘電体前駆体102に含まれるガラ
ス成分の軟化、焼成を行う。すなわち、軟化点以上の温
度で数分から数10分放置する。この操作により、電極
前駆体は電極122に、誘電体前駆体は誘電体123に
変化する。
(Fourth Step-Firing Step) After the heat treatment step, the temperature is further raised to soften and fire the glass component contained in the electrode precursor 120 and the glass component contained in the dielectric precursor 102. . That is, it is left for several minutes to several tens of minutes at a temperature equal to or higher than the softening point. By this operation, the electrode precursor changes to the electrode 122, and the dielectric precursor changes to the dielectric 123.

【0024】焼成工程終了後に、降温を行い、電極形成
工程を完了する(図1(d))。
After completion of the firing step, the temperature is lowered to complete the electrode forming step (FIG. 1D).

【0025】このように、電極前駆体と誘電体前駆体を
同時に焼成することにより、下記のような作用効果を有
する。従来、電極前駆体の焼成時には、誘電体前駆体は
被覆されていないため、銀イオンの拡散はガラス基板上
のみに起こっていた。ガラス基板上は、スズなどの還元
性物質が存在するため、上記説明のように銀イオンの銀
への還元が起こり、したがって、銀コロイドによる着色
が起こる。それに対し、本願発明によると、前駆体の焼
成時に、すでに誘電体前駆体による被覆が行われている
ため、銀イオンの拡散は、ガラス基板だけでなく、誘電
体前駆体中にも行われる。誘電体前駆体中は、ガラス基
板上と比較して、還元性物質は少ないため、銀イオンの
銀への還元は、誘電体前駆体の被覆がない場合と比較し
て、大幅に軽減される。したがって、銀の黄変は、緩和
される。
As described above, the simultaneous firing of the electrode precursor and the dielectric precursor has the following effects. Conventionally, at the time of firing the electrode precursor, the diffusion of silver ions has occurred only on the glass substrate because the dielectric precursor is not coated. Since a reducing substance such as tin is present on the glass substrate, reduction of silver ions to silver occurs as described above, and thus coloring by silver colloid occurs. On the other hand, according to the present invention, the silver ions are diffused not only in the glass substrate but also in the dielectric precursor because the coating with the dielectric precursor has already been performed at the time of firing the precursor. In the dielectric precursor, the reduction of silver ions to silver is significantly reduced compared to the case without the dielectric precursor coating because there are fewer reducing substances compared to on the glass substrate. . Thus, the yellowing of silver is mitigated.

【0026】[0026]

【実施例】【Example】

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】表1に示した試料No.1〜No.12の
PDPは、前記実施の形態に基づいて、電極及び誘電体
を形成したものである。
Sample No. shown in Table 1 1 to No. Twelve PDPs have electrodes and dielectrics formed based on the above embodiment.

【0029】電極としては、エチルセルロース、ブチル
カルビトールアセテート及びターピネオールを主成分と
する有機ビヒクル、Bi23−B23−SiO2を主成
分とするガラスフリットを所定の重量比にて混練し、ス
クリーン印刷法にて、幅100μmのストライプ状電極
パターンを形成する。
As an electrode, an organic vehicle containing ethyl cellulose, butyl carbitol acetate and terpineol as main components, and a glass frit containing Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —SiO 2 as a main component are kneaded at a predetermined weight ratio. Then, a stripe-shaped electrode pattern having a width of 100 μm is formed by a screen printing method.

【0030】誘電体としては、PbO−B23−SiO
2−CaO系ガラスを主成分とする誘電体用ガラスペー
ストを印刷法にて、上記電極パターンを被覆して、約3
0μmの厚みで形成する。
As the dielectric, PbO—B 2 O 3 —SiO
A glass paste for a dielectric mainly composed of 2- CaO-based glass is coated with the above-mentioned electrode pattern by a printing method to form a paste of about 3%.
It is formed with a thickness of 0 μm.

【0031】表1の条件にしたがって、電極及び誘電体
を加熱、焼成したものを前面板とし、PDPを完成させ
た。PDPのセルサイズは、42インチのVGA用のデ
ィスプレイに合わせて、隔壁110の高さは0.15m
m、隔壁110の間隔(セルピッチ)は0.36mmに
設定し、放電電極114の電極間距離dは0.10mm
に設定した。
According to the conditions shown in Table 1, the electrode and the dielectric were heated and fired to obtain a front plate, thereby completing a PDP. The cell size of the PDP is 0.15 m, and the height of the partition wall 110 is 0.15 m in accordance with the display for 42 inch VGA.
m, the interval (cell pitch) between the partition walls 110 is set to 0.36 mm, and the distance d between the discharge electrodes 114 is 0.10 mm.
Set to.

【0032】MgO保護層105の形成方法について
は、保護層をスパッタ法で作製した。
As for the method of forming the MgO protective layer 105, the protective layer was formed by a sputtering method.

【0033】(実験)以上のようにして作製した試料N
o.1〜12のPDPについて、特にパネルの画質に重
要な電極上の誘電体層を含む、ガラス基板について色差
計(日本電色工業(株)品番NF777)を用いて、ガ
ラスの着色度合を示すa*値、b*値の値(JIS Z
8730色差表示方法)を測定した。a*値は+方向に
大きくなると赤色が強く、−方向に大きくなると緑色が
強くなり、b*値は+方向に大きくなると黄色が、−方
向に大きくなると青色が強くなる。a*値が−5〜+5
の範囲、b*値が−5〜+5の範囲であれば、ガラス基
板の着色(黄変)はほとんど見えない。特にb*値が1
0をこえると黄変が目立って来る。パネルの画面全白時
の色温度は、マルチャンネル分光計(大塚電子(株)M
CPD−7000)で測定した。
(Experiment) Sample N prepared as described above
o. For the PDPs 1 to 12, the degree of coloring of the glass is shown using a color difference meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., part number NF777) for the glass substrate, particularly including the dielectric layer on the electrode that is important for the image quality of the panel. * Value, b * value (JIS Z
8730 color difference display method). As the a * value increases in the + direction, red increases, the green increases in the − direction, yellow increases as the b * value increases in the + direction, and blue increases as the b * value increases in the − direction. a * value is -5 to +5
If the b * value is in the range of -5 to +5, the coloring (yellowing) of the glass substrate is hardly visible. Especially b * value is 1
Above 0, yellowing becomes noticeable. The color temperature when the panel screen is completely white is measured using a multi-channel spectrometer (Otsuka Electronics Co., Ltd.
(CPD-7000).

【0034】試料No.1〜15のパネル(前面ガラス
基板)のa*値、b*値の測定結果、およびパネルの色
温度の測定結果では(表1)、従来例のパネル(試料N
o.13〜15)のb*値(黄変度合)がいずれも10
を大きく上回っているのに対して本願は、b*値が0.
5〜+8.5と低い値(黄変がほとんどない)になって
おり、変色の少ない優れたパネルであることを示してい
る。又、従来のパネルの色温度の値が7100K以下で
あるのに対して、本願のパネルの色温度は、8900〜
9600Kで色温度が高く、色再現性の良い、あざやか
な画面のパネルであることを示している。
Sample No. According to the measurement results of the a * value and the b * value of the panels 1 to 15 (front glass substrate) and the measurement results of the color temperature of the panel (Table 1), the conventional panel (sample N
o. 13 to 15) have a b * value (degree of yellowing) of 10
Whereas the present application has a b * value of 0.1.
The value is as low as 5 to +8.5 (there is almost no yellowing), indicating that the panel is an excellent panel with little discoloration. The color temperature of the conventional panel is 7100K or less, whereas the color temperature of the panel of the present invention is 8900 to
9600K indicates that the panel has a high color temperature, good color reproducibility, and a bright screen.

【0035】なお、電極形成後の加熱は、黄変抑制には
必ずしも必要ではないが、電極前駆体中に残存する溶剤
あるいは樹脂を完全に除去するために、加熱を行うこと
がより望ましい。ただし、加熱温度を高くすると、加熱
温度によって黄変してしまう。試料No.10〜12の
パネルの結果より、380℃以下が好ましい。
The heating after the formation of the electrode is not always necessary for suppressing yellowing, but it is more preferable to perform the heating in order to completely remove the solvent or the resin remaining in the electrode precursor. However, when the heating temperature is increased, yellowing occurs depending on the heating temperature. Sample No. From the results of the panels 10 to 12, the temperature is preferably 380 ° C or lower.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上述べてきたように、本発明の電極形
成方法によると、電極と電極を覆う誘電体ガラス層とを
配した電極において、黄変や変色を抑制できる。さら
に、本発明のプラズマディスプレイ表示装置によると、
色温度の高いパネルを得ることが出来る。
As described above, according to the electrode forming method of the present invention, yellowing and discoloration can be suppressed in the electrode provided with the electrode and the dielectric glass layer covering the electrode. Furthermore, according to the plasma display device of the present invention,
A panel with a high color temperature can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態における電極の形成方法を
示す模式図
FIG. 1 is a schematic view illustrating a method for forming an electrode according to an embodiment of the present invention.

【図2】従来の交流型のプラズマディスプレイパネルの
要部斜視図
FIG. 2 is a perspective view of a main part of a conventional AC type plasma display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

120 電極前駆体 102 誘電体前駆体 122 電極 123 誘電体 Reference Signs List 120 electrode precursor 102 dielectric precursor 122 electrode 123 dielectric

フロントページの続き (72)発明者 住田 圭介 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 芦田 英樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA01 AA05 5C040 FA01 FA04 GC18 GC19 GD07 GD09 JA02 JA12 JA13 JA22 KA01 KA08 KA14 KB11 KB17 KB19 LA17 MA10 MA23 5G323 AA03 Continued on the front page (72) Inventor Keisuke Sumita 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 5C027 AA01 AA05 5C040 FA01 FA04 GC18 GC19 GD07 GD09 JA02 JA12 JA13 JA22 KA01 KA08 KA14 KB11 KB17 KB19 LA17 MA10 MA23 5G323 AA03

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 還元性物質を含有した基板上に、少なく
とも銀を含有する電極前駆体を形成する電極前駆体形成
工程と、低融点ガラスを含有する誘電体前駆体によって
前記電極の少なくとも一部を被覆形成する誘電体前駆体
形成工程と、電極前駆体及び誘電体前駆体を同時に焼成
する焼成工程を含むことを特徴とする電極形成方法。
An electrode precursor forming step of forming an electrode precursor containing at least silver on a substrate containing a reducing substance, and at least a part of the electrode by a dielectric precursor containing a low melting point glass. And a firing step of firing the electrode precursor and the dielectric precursor at the same time.
【請求項2】 還元性物質を含有した基板上に、少なく
とも銀と樹脂を含有する電極前駆体を形成する電極前駆
体形成工程と、前記電極前駆体中の樹脂分解工程と、低
融点ガラスを含有する誘電体前駆体によって前記電極の
少なくとも一部を被覆形成する誘電体前駆体形成工程
と、電極前駆体及び誘電体前駆体を同時に焼成する焼成
工程を含むことを特徴とする電極形成方法。
2. An electrode precursor forming step of forming an electrode precursor containing at least silver and a resin on a substrate containing a reducing substance; a resin decomposing step in the electrode precursor; An electrode forming method, comprising: a dielectric precursor forming step of forming at least a part of the electrode with a contained dielectric precursor; and a firing step of simultaneously firing the electrode precursor and the dielectric precursor.
【請求項3】 樹脂分解工程が加熱により成されること
を特徴とする請求項2に記載の電極形成方法。
3. The electrode forming method according to claim 2, wherein the resin decomposition step is performed by heating.
【請求項4】 前記加熱温度が380℃以下であること
を特徴とする請求項3に記載の電極形成方法。
4. The method according to claim 3, wherein the heating temperature is 380 ° C. or less.
【請求項5】 還元性物質を含有した基板上に、少なく
とも銀を含有する電極前駆体を形成する電極前駆体形成
工程と、前記電極を被覆する被覆層形成工程と、低融点
ガラスを含有する誘電体前駆体によって前記電極の少な
くとも一部を被覆形成する誘電体前駆体形成工程と、電
極前駆体及び誘電体前駆体を同時に焼成する焼成工程を
含むことを特徴とする電極形成方法。
5. An electrode precursor forming step of forming at least a silver-containing electrode precursor on a substrate containing a reducing substance, a coating layer forming step of coating the electrode, and a low-melting glass. An electrode forming method, comprising: a dielectric precursor forming step of forming at least a part of the electrode with a dielectric precursor; and a firing step of simultaneously firing the electrode precursor and the dielectric precursor.
【請求項6】 被覆層が酸素を遮断する層であることを
特徴とする請求項3に記載の電極形成方法。
6. The method according to claim 3, wherein the coating layer is a layer that blocks oxygen.
【請求項7】 前記基板がガラス基板であることを特徴
とする請求項1から6のいずれかに記載の電極形成方
法。
7. The electrode forming method according to claim 1, wherein the substrate is a glass substrate.
【請求項8】 前記電極焼成工程の焼成温度が、前記誘
電体焼成工程の焼成温度よりも低いことを特徴とする請
求項1から7のいずれかに記載の電極形成方法。
8. The electrode forming method according to claim 1, wherein a firing temperature in the electrode firing step is lower than a firing temperature in the dielectric firing step.
【請求項9】 前記基板がフロントカバープレートであ
ることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の
電極形成方法。
9. The electrode forming method according to claim 1, wherein said substrate is a front cover plate.
【請求項10】 前記還元物質がスズあるいは、スズイ
オンであることを特徴とする請求項1から9のいずれか
に記載の電極形成方法。
10. The method according to claim 1, wherein the reducing substance is tin or tin ions.
【請求項11】 前記ガラス基板がフロート法で形成さ
れてなることを特徴とする請求項8から10のいずれか
に記載の電極形成方法。
11. The method according to claim 8, wherein the glass substrate is formed by a float method.
【請求項12】 前記電極焼成工程の焼成温度が560
℃以下であることを特徴とする請求項1から11のいず
れかに記載の電極形成方法。
12. The firing temperature in the electrode firing step is 560.
The method for forming an electrode according to any one of claims 1 to 11, wherein the temperature is lower than or equal to ° C.
【請求項13】 前記低融点ガラスの軟化点と前記電極
形成工程の温度差が90℃以下であることを特徴とする
請求項1から12のいずれかに記載の電極形成方法。
13. The electrode forming method according to claim 1, wherein a temperature difference between the softening point of the low melting point glass and the temperature of the electrode forming step is 90 ° C. or less.
【請求項14】 請求項1から13のいずれかの電極形
成方法によって製造されたことを特徴とするプラズマデ
ィスプレイパネル。
14. A plasma display panel manufactured by the electrode forming method according to any one of claims 1 to 13.
【請求項15】 請求項14によって製造されたプラズ
マディスプレイパネルを具備することを特徴とするプラ
ズマディスプレイ表示装置。
15. A plasma display device comprising the plasma display panel manufactured according to claim 14.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007317367A (en) * 2006-05-23 2007-12-06 Dainippon Ink & Chem Inc Manufacturing method of conductive film

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