JP2003049197A - Agent for cleansing off and method for cleansing - Google Patents

Agent for cleansing off and method for cleansing

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JP2003049197A
JP2003049197A JP2001239843A JP2001239843A JP2003049197A JP 2003049197 A JP2003049197 A JP 2003049197A JP 2001239843 A JP2001239843 A JP 2001239843A JP 2001239843 A JP2001239843 A JP 2001239843A JP 2003049197 A JP2003049197 A JP 2003049197A
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JP
Japan
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cleaning
component
removing agent
methyl
components
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Withdrawn
Application number
JP2001239843A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Ikemoto
浩一 池本
Manabu Numata
学 沼田
Junji Sugano
純二 菅野
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EIKEN KK
Clean Chemical Co Ltd
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
EIKEN KK
Clean Chemical Co Ltd
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an agent for cleaning off, which can surely remove organic stains such as oils and solder flux residues adhered to the surfaces of parts such as electronic parts or mechanical parts after soldered and slightly forming an oxidative corrosion on the metal surface of these parts. SOLUTION: This agent for cleaning includes at least one kind of anticorrosive agents selected from the group comprising a) 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, b) N-methyl-2-pyrrolidone and c) benzotriazole, benzothiazole, 2- mercaptobenzothiazole, 2-mercaptbenzimidazole and thiourea, and d) 1-methyl-4- isopropenyl-1-cyclohexene modified to be soluble in water, as the essential components.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばプリント配
線板やIC等の各種電子部品の半田付け後に部品表面に
固着した半田フラックス残渣の除去に用いる洗浄除去剤
及び洗浄方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning / removing agent and a cleaning method used for removing a solder flux residue adhered to the surface of a component after soldering various electronic components such as a printed wiring board and an IC.

【0002】[0002]

【従来技術とその課題】一般的に、電子部品の半田付け
においては、接合部を清浄にして且つ接合面の酸化を防
ぐための半田フラックスとして、ロジン、活性ロジン、
ステアリン酸、オレイン酸、塩酸アニリン、尿素、エチ
レンジアミン等の有機系フラックスが汎用されている。
しかるに、これら半田フラックスは、そのままの形又は
熱による炭化や分解等で生じた変性物として半田付け後
の部品表面に残留し、回路断線や導電不良等の要因とな
ることから、洗浄によって前記変性物を含む半田フラッ
クス残渣を除去することが肝要である。また、電子部品
や機械部品の表面には油脂成分等の有機質の汚れが付着
していることも多く、用途によってはその汚れを洗浄除
去する必要がある。
2. Description of the Related Art Generally, in the soldering of electronic parts, a rosin, an active rosin, or a rosin is used as a solder flux for cleaning the joint and preventing oxidation of the joint.
Organic fluxes such as stearic acid, oleic acid, aniline hydrochloride, urea, ethylenediamine are widely used.
However, these solder fluxes remain on the surface of the component after soldering as a form as it is or as a modified product generated by carbonization or decomposition by heat, which may cause circuit disconnection or conductivity failure, etc. It is important to remove the solder flux residue containing the substance. In addition, organic contaminants such as fats and oils are often attached to the surfaces of electronic components and mechanical components, and it is necessary to wash and remove the contaminants depending on the application.

【0003】従来、半田フラックス残渣や有機質の汚れ
の洗浄除去には、フッ素系溶剤や塩素系溶剤が汎用され
てきた。しかるに、近年では、これら溶剤がオゾン層破
壊の原因になることや毒性の問題等によって使用不能に
なりつつあるため、これらに代替し得る新しい洗浄除去
剤が強く求められている。
Conventionally, fluorine-based solvents and chlorine-based solvents have been generally used for cleaning and removing solder flux residues and organic stains. However, in recent years, these solvents are becoming unusable due to ozone layer depletion, toxicity problems, and the like, so there is a strong demand for new cleaning and removing agents that can replace these solvents.

【0004】前記のフッ素系溶剤や塩素系溶剤を用いな
い洗浄除去剤の一例として、特開平7−3294号公報
では、炭素数3以上のアルコール溶剤と、炭化水素溶剤
と、塩基性物質としての第4級アンモニウム塩基との3
成分からなる洗浄組成物が示されている。しかしなが
ら、この洗浄組成物は半田フラックス残渣や有機質の汚
れに対する洗浄作用を有するものの、その洗浄除去効果
は充分に満足できるものではない。
As an example of the cleaning / removing agent which does not use the above-mentioned fluorine-based solvent or chlorine-based solvent, Japanese Patent Laid-Open No. 7-3294 discloses an alcohol solvent having 3 or more carbon atoms, a hydrocarbon solvent, and a basic substance. 3 with quaternary ammonium base
A cleaning composition consisting of the components is shown. However, although this cleaning composition has a cleaning effect on solder flux residues and organic stains, its cleaning and removing effect is not sufficiently satisfactory.

【0005】しかして、前記のフッ素系溶剤や塩素系溶
剤に代替し得る新しい洗浄除去剤としては、単に半田フ
ラックス残渣や有機質の汚れの除去性洗浄性に優れるこ
とのみならず、金属の酸化腐食を抑制できることも重要
である。これは、電子部品や機械部品においては、前記
の半田フラックス残渣や有機質の汚れを洗浄除去後に新
たに半田付けを行うことが多々あり、洗浄によって金属
部分に酸化腐食を生じると、その部分の半田濡れ性が低
下する結果、次の半田付けにおける作業能率の低下や半
田付け不良を招くことになるからである。
However, as a new cleaning / removing agent that can replace the above-mentioned fluorine-based solvent or chlorine-based solvent, not only is it excellent in the removability and cleaning property of solder flux residues and organic stains, but also oxidative corrosion of metals. It is also important to be able to control. This is because electronic parts and mechanical parts are often re-soldered after cleaning and removing the solder flux residue and organic stains described above. This is because the wettability is lowered, resulting in a decrease in work efficiency in the next soldering and a soldering failure.

【0006】本発明者らは先に、上述の情況に鑑み、各
種電子部品や機械部品等の半田付け後に部品表面に固着
した半田フラックス残渣及び油脂の如き有機質の汚れに
対する優れた洗浄除去性を発揮すると共に、金属に対す
る酸化腐食を生じにくいものとして、特願2000−1
99274号において、3−メトキシ・3−メチル・1
−ブタノールとN−メチル・2−ピロリドンを主成分と
する洗浄除去剤、ならびに3−メトキシ・3−メチル・
1−ブタノールと水溶性チオグリコール酸塩を主成分と
する洗浄除去剤を提案している。
In view of the above situation, the inventors of the present invention have previously demonstrated excellent cleaning and removability with respect to organic contaminants such as solder flux residue and oil and fat adhered to the surface of components after soldering of various electronic components and mechanical components. Japanese Patent Application No. 2000-1 as a material capable of exhibiting oxidative corrosion with respect to a metal
99274, 3-methoxy-3-methyl-1.
-A cleaning agent containing butanol and N-methyl-2-pyrrolidone as main components, and 3-methoxy-3-methyl-
A cleaning remover containing 1-butanol and a water-soluble thioglycollate as main components is proposed.

【0007】本発明は、上記提案の洗浄除去剤を先行技
術として更に改良を加え、被洗浄物の表面に固着した半
田フラックス残渣や有機質の汚れをより効率よく確実に
除去できると共に、被洗浄物の金属部分の酸化腐食を確
実に抑えることが可能な洗浄除去剤を提供することを目
的としている。
In the present invention, the above proposed cleaning and removing agent is further improved as a prior art, so that the solder flux residue and the organic dirt adhered to the surface of the object to be cleaned can be removed more efficiently and reliably, and the object to be cleaned can be removed. It is an object of the present invention to provide a cleaning / removing agent capable of reliably suppressing the oxidative corrosion of the metal part of.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の請求項1に係る洗浄除去剤は、a)3−メ
トキシ・3−メチル・1−ブタノールと、b)N−メチ
ル・2−ピロリドンと、c)ベンゾトリアゾール、ベン
ゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−
メルカプトベンゾイミダゾール、チオ尿素の群より選ば
れる少なくとも一種の腐食抑制剤成分と、d)水溶化1
−メチル−4−イソプロペニル−1−シクロヘキセンと
を必須の成分として含有するものとしている。
In order to achieve the above object, the cleaning and removing agent according to claim 1 of the present invention comprises a) 3-methoxy-3-methyl-1-butanol and b) N-methyl. -2-pyrrolidone and c) benzotriazole, benzothiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-
At least one corrosion inhibitor component selected from the group consisting of mercaptobenzimidazole and thiourea, and d) water-solubilization 1
-Methyl-4-isopropenyl-1-cyclohexene is contained as an essential component.

【0009】また、請求項1の洗浄除去剤の好適態様と
して、請求項2では前記のa成分/b成分の重量比が1
1/89〜94/6の範囲にある構成、請求項3では洗
浄除去剤における前記a成分及びb成分の合量に対して
前記c成分が0.05〜6重量%の範囲で含まれる構
成、請求項4では洗浄除去剤における前記a成分及びb
成分の合量に対して前記d成分が10〜50重量%の範
囲で含まれる構成、請求項5ではPHが5.8〜8.6
の範囲にある構成、をそれぞれ採用している。そして、
請求項6に係る洗浄方法は、これら請求項1〜5のいず
れかの洗浄除去剤を用いた洗浄により、半田付け後の部
品表面に残留する半田フラックス及びその変性物を除去
することを特徴としている。
As a preferred embodiment of the cleaning / removing agent according to claim 1, in claim 2, the weight ratio of the a component / b component is 1
The composition is in the range of 1/89 to 94/6, and in claim 3, the composition is such that the c component is contained in the range of 0.05 to 6 wt% with respect to the total amount of the a component and the b component in the cleaning and removing agent. According to claim 4, the component a and b in the cleaning and removing agent are included.
The composition in which the d component is contained in the range of 10 to 50% by weight with respect to the total amount of the components, and in the claim 5, PH is 5.8 to 8.6.
The configurations within the range are adopted respectively. And
The cleaning method according to claim 6 is characterized in that the solder flux and its modified products remaining on the surface of the component after soldering are removed by cleaning using the cleaning / removing agent according to any one of claims 1-5. There is.

【0010】一方、同様目的において、請求項7の洗浄
除去剤は、a)3−メトキシ・3−メチル・1−ブタノ
ールと、b)N−メチル・2−ピロリドンと、c)ベン
ゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、2−メルカプトベ
ンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、
チオ尿素の群より選ばれる少なくとも一種の腐食抑制剤
成分と、e)乳酸エステルとを必須成分として含有する
ものとしている。
On the other hand, for the same purpose, the cleaning and removing agent of claim 7 is a) 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, b) N-methyl-2-pyrrolidone, c) benzotriazole, benzo. Thiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole,
At least one corrosion inhibitor component selected from the group of thiourea and e) lactic acid ester are contained as essential components.

【0011】また、請求項7の洗浄除去剤の好適態様と
して、請求項8では前記のa成分/b成分の重量比が1
1/89〜94/6の範囲にある構成、請求項9では洗
浄除去剤における前記a成分及びb成分の合量に対して
前記c成分が0.05〜6重量%の範囲で含まれる構
成、請求項10では洗浄除去剤における前記a成分及び
b成分の合量に対して前記e成分が10〜60%重量%
の範囲で含まれる構成、請求項11ではPHが5.8〜
8.6の範囲にある構成、をそれぞれ採用している。そ
して、請求項12に係る洗浄方法は、これら請求項7〜
11のいずれかの洗浄除去剤を用いた洗浄により、半田
付け後の部品表面に残留する半田フラックス及びその変
性物を除去することを特徴としている。
As a preferred embodiment of the cleaning / removing agent of claim 7, in claim 8, the weight ratio of the component a / component b is 1
The constitution in the range of 1/89 to 94/6, and in the constitution of claim 9, the c component is contained in the range of 0.05 to 6% by weight with respect to the total amount of the a component and the b component in the cleaning and removing agent. According to claim 10, the e component is 10 to 60% by weight relative to the total amount of the a component and the b component in the cleaning and removing agent.
In the structure included in the range, in claim 11, PH is 5.8 to.
Each of the configurations within the range of 8.6 is adopted. And the cleaning method according to claim 12 is the method according to claim 7 to
It is characterized in that the solder flux and its modified product remaining on the surface of the component after soldering are removed by cleaning with any one of the cleaning and removing agents of No. 11 and No. 11.

【0012】更に、同様目的において、請求項13の洗
浄除去剤は、a)3−メトキシ・3−メチル・1−ブタ
ノールと、b)N−メチル・2−ピロリドンと、c)ベ
ンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、2−メルカプト
ベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、チオ尿素の群より選ばれる少なくとも一種の腐食抑
制剤成分と、d)水溶化1−メチル−4−イソプロペニ
ル−1−シクロヘキセンと、e)乳酸エステルとを必須
成分として含有するものとしている。
Further, for the same purpose, the cleaning and removing agent according to claim 13 is a) 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, b) N-methyl-2-pyrrolidone, c) benzotriazole, benzo. Thiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, at least one corrosion inhibitor component selected from the group of thiourea, d) water-solubilized 1-methyl-4-isopropenyl-1-cyclohexene, and e) Lactate ester is included as an essential component.

【0013】また、請求項13の洗浄除去剤の好適態様
として、請求項14では前記のa成分/b成分の重量比
が11/89〜94/6の範囲にある構成、請求項15
では洗浄除去剤における前記a成分及びb成分の合量に
対して前記c成分が0.05〜6重量%の範囲で含まれ
る構成、請求項16では洗浄除去剤における前記a成分
及びb成分の合量に対して10〜50重量%の範囲で含
まれる構成、請求項17では洗浄除去剤における前記a
成分及びb成分の合量に対して前記e成分が10〜60
%重量%の範囲で含まれる構成、請求項18ではPHが
5.8〜8.6の範囲にある構成、をそれぞれ採用して
いる。そして、請求項19に係る洗浄方法は、これら請
求項13〜18のいずれかの洗浄除去剤を用いた洗浄に
より、半田付け後の部品表面に残留する半田フラックス
及びその変性物を除去することを特徴としている。
A preferred embodiment of the cleaning / removing agent according to claim 13 is the structure according to claim 14, wherein the weight ratio of the a component / b component is in the range of 11/89 to 94/6.
In the cleaning and removing agent, the c component is contained in the range of 0.05 to 6% by weight with respect to the total amount of the a and b components. The composition is contained in the range of 10 to 50% by weight based on the total amount, and in the cleaning and removing agent, the a
The e component is 10 to 60 relative to the total amount of the component and the b component.
%, The composition contained in the range of 18% by weight, and the composition having a PH in the range of 5.8 to 8.6 are adopted. The cleaning method according to claim 19 removes the solder flux and its modified products remaining on the surface of the component after soldering by cleaning using the cleaning / removing agent according to any one of claims 13-18. It has a feature.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明に係る第一の洗浄除去剤
は、既述のように、a)3−メトキシ・3−メチル・1
−ブタノールと、b)N−メチル・2−ピロリドンと、
c)ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、2−メル
カプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダ
ゾール、チオ尿素の群より選ばれる少なくとも一種の腐
食抑制剤成分と、d)水溶化1−メチル−4−イソプロ
ペニル−1−シクロヘキセンとを必須の成分として含有
するものである。また、本発明に係る第二の洗浄除去剤
は、上記第一の洗浄除去剤におけるd成分に代えてe)
乳酸エステルを必須の成分として含有するものである。
更に本発明に係る第三の洗浄除去剤は、上記のa,b,
c,d,eの5成分を必須として含有するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The first cleaning / removing agent according to the present invention is, as described above, a) 3-methoxy-3-methyl-1.
-Butanol and b) N-methyl-2-pyrrolidone,
c) at least one corrosion inhibitor component selected from the group of benzotriazole, benzothiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, thiourea, and d) water-solubilized 1-methyl-4-isopropenyl-1. -It contains cyclohexene as an essential component. In addition, the second cleaning / removing agent according to the present invention is the same as the above-mentioned first cleaning / removing agent in place of the component d) e).
It contains lactic acid ester as an essential component.
Furthermore, the third cleaning and removing agent according to the present invention is the above-mentioned a, b,
It essentially contains the five components c, d, and e.

【0015】そして、これら第一〜第三の洗浄除去剤を
用いることにより、被洗浄物の金属部分に酸化腐食によ
る新たな酸化皮膜が生成することなく、電子部品の半田
付け後の表面に固着した半田フラックス残渣(熱による
炭化や分解等で生じた変性物を含む…以下同様)や油脂
等の有機系の汚れを効率よく確実に洗浄できることが判
明している。また、これら第一〜第三の洗浄除去剤は、
配合量成分が水溶性であるために引火点が高く、且つ低
毒性でもあることから、取扱い中の安全性にも優れてい
る。
By using these first to third cleaning / removing agents, a new oxide film due to oxidative corrosion does not form on the metal part of the object to be cleaned, and it adheres to the surface of the electronic component after soldering. It has been found that it is possible to efficiently and reliably clean the organic flux such as the solder flux residue (including the modified product generated by carbonization and decomposition due to heat, etc.) and oils and fats. Further, these first to third cleaning and removing agents are
Since the blended components are water-soluble, they have a high flash point and low toxicity, so they are excellent in safety during handling.

【0016】ここで、第一〜第三の洗浄除去剤に共通し
て用いるa,b,cの3成分のうち、a成分の3−メト
キシ・3−メチル・1−ブタノールとb成分のN−メチ
ル・2−ピロリドンは、共に常温下で液状を呈する化合
物であり、半田フラックスに多用されるロジンや高級脂
肪酸、油脂等に対する溶解力を発揮する溶剤として機能
し、本洗浄除去剤中に被洗浄物を浸漬して超音波洗浄等
の洗浄処理を施した際、両成分の相乗作用で前記の有機
系の汚れを強力に溶解する上、いずれも水溶性であるこ
とから、次いで水洗を行うことによって汚れを溶解した
状態で被洗浄物の表面から容易に除去される。
Of the three components a, b, and c commonly used for the first to third cleaning / removing agents, a-component 3-methoxy-3-methyl-1-butanol and b-component N are used. -Methyl-2-pyrrolidone is a compound that is liquid at room temperature, and functions as a solvent that exerts a dissolving power for rosin, higher fatty acids, fats and oils that are often used in solder flux, When the cleaning product is immersed and subjected to cleaning treatment such as ultrasonic cleaning, the above-mentioned organic stains are strongly dissolved by the synergistic action of both components, and both are water-soluble. As a result, the dirt is easily removed from the surface of the object to be cleaned in a dissolved state.

【0017】しかるに、a成分の3−メトキシ・3−メ
チル・1−ブタノールは前記のようにロジンや高級脂肪
酸、油脂等に対する溶解力を有するが、その溶解力はb
成分のN−メチル・2−ピロリドンに比較して弱いた
め、このa成分単独では前記の有機系の汚れを完全に溶
解除去するには不充分である。一方、b成分のN−メチ
ル・2−ピロリドンは、強力な前記溶解力を有する反
面、金属に対する若干の酸化腐食性があるため、やはり
単独では支障を生じる。そこで、本発明においては、
a,b両成分の併用によって両者の利点を活かすと共
に、b成分による金属に対する酸化腐食性を確実に封じ
込めるためにc成分の腐食抑制剤を配合し、更に有機系
の汚れに対する溶解除去性を向上させるために、前記の
ように第一の洗浄除去剤ではd成分の水溶化1−メチル
−4−イソプロペニル−1−シクロヘキセンを、第二の
洗浄除去剤ではe成分の乳酸エステルを、第三の洗浄除
去剤ではd,e両成分を、それぞれ必須の成分として含
有させている。
However, the a-component 3-methoxy-3-methyl-1-butanol has a dissolving power for rosin, higher fatty acids, fats and oils as described above, but its dissolving power is b.
Since it is weaker than the component N-methyl-2-pyrrolidone, component a alone is not sufficient to completely dissolve and remove the organic stains. On the other hand, the component b, N-methyl-2-pyrrolidone, which has a strong dissolving power, has a slight oxidative corrosiveness with respect to the metal, and therefore it also causes troubles by itself. Therefore, in the present invention,
By using both a and b components together, the advantages of both are utilized, and in order to reliably contain the oxidative corrosiveness of the component b against metals, a c component corrosion inhibitor is added to improve the dissolution and removal of organic stains. As described above, in the first cleaning / removing agent, the water-solubilized 1-methyl-4-isopropenyl-1-cyclohexene of the component d is used, and in the second cleaning / removing agent, the lactic acid ester of the component e is added. In the cleaning and removing agent of No. 2, both d and e components are contained as essential components.

【0018】c成分の腐食抑制剤は既述のようにベンゾ
トリアゾール、ベンゾチアゾール、2−メルカプトベン
ゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、チ
オ尿素の群より選ばれるものであるが、これらの中で
も、ベンゾトリアゾールは他の腐食抑制剤成分に比較
し、銅、真鍮、半田等の非鉄金属類に対して変色防止及
び腐食抑制の効果に優れている点から最も好適である。
As described above, the component c corrosion inhibitor is selected from the group consisting of benzotriazole, benzothiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole and thiourea. Triazole is most suitable because it is excellent in the effect of preventing discoloration and inhibiting corrosion of non-ferrous metals such as copper, brass and solder as compared with other components of corrosion inhibitor.

【0019】第一及び第三の洗浄除去剤に必須成分とし
て用いるd)成分の1−メチル−4−イソプロペニル−
1−シクロヘキセンは、オレンジ油、レモン油、ミカン
油、樟脳白油等の分留によって得られる沸点170〜1
80℃の無色ないし微黄色液体であり、有機系の汚れ、
とりわけフラックス汚れに対する優れた溶解除去作用を
具備しており、前記a,b成分、あるいは更にe成分と
協働して洗浄除去剤の洗浄力を相乗的に高めるように機
能する。
The component d) 1-methyl-4-isopropenyl-used as an essential component in the first and third cleaning and removing agents.
1-Cyclohexene has a boiling point of 170 to 1 obtained by fractional distillation of orange oil, lemon oil, mandarin oil, camphor white oil, etc.
It is a colorless to slightly yellow liquid at 80 ° C, which is an organic stain,
In particular, it has an excellent effect of dissolving and removing flux stains, and functions to synergistically enhance the cleaning power of the cleaning / removing agent in cooperation with the above-mentioned components a, b or further component e.

【0020】また、この1−メチル−4−イソプロペニ
ル−1−シクロヘキセンは、好ましい爽やかなレモン臭
ないしオレンジ臭を有することから、他の臭気をマスキ
ングする効果があり、特に半田付け時に生じたフラック
スの臭いを緩和し、代わりに周囲に安らぎを与える芳香
を放つという利点がある。一方、近年では人々の衛生指
向が強まり、電子機器の筐体に抗菌処理を行うことが珍
しくないが、1−メチル−4−イソプロペニル−1−シ
クロヘキセンには抗菌作用があるため、この第一の洗浄
除去剤によって電子部品を洗浄すれば、該電子部品に同
時に抗菌処理を施せることになり、もって電子機器を従
来のような筐体だけでなく内部まで抗菌仕様として、よ
り衛生指向に答えることができる。
Further, since this 1-methyl-4-isopropenyl-1-cyclohexene has a preferable refreshing lemon odor or orange odor, it has an effect of masking other odors, and particularly, the flux generated during soldering. It has the advantage of mitigating the odor of and releasing an aroma that gives comfort to the surroundings. On the other hand, in recent years, people's hygiene orientation has become stronger and it is not uncommon to perform antibacterial treatment on the housing of electronic devices, but since 1-methyl-4-isopropenyl-1-cyclohexene has an antibacterial action, If the electronic parts are washed with the cleaning and removing agent described above, the electronic parts can be subjected to antibacterial treatment at the same time. Therefore, not only the conventional case of the electronic device but also the inside of the electronic device can be antibacterial specifications, and the hygiene-oriented answer can be achieved. You can

【0021】しかして、1−メチル−4−イソプロペニ
ル−1−シクロヘキセン自体は親水性に乏しいため、本
発明においては水溶化された形で使用する。この水溶化
の手段は特に制約されないが、好適な水溶化方法とし
て、1−メチル−4−イソプロペニル−1−シクロヘキ
センに、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル 、ア
ルキルポリグルコシド、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル、ポリオキシエチレングリセリルアルキルエーテ
ル、アルキルアミノキシド、ポリオキシアルキレンブロ
ックポリマー、ポリオキシプロピレンジグルセリルエー
テル等の非イオン界面活性剤と、溶媒としての3−メト
キシ・3−メチル・1−ブタノールとを混合する方法が
推奨される。なお、非イオン界面活性剤には表面張力を
下げる働きがあるため、かくして水溶化した3−メトキ
シ・3−メチル・1−ブタノールを用いることにより、
洗浄除去剤の洗浄力がより向上するという利点がある。
また3−メトキシ・3−メチル・1−ブタノールは、前
記a成分でもあるから、これを用いて水溶化した1−メ
チル−4−イソプロペニル−1−シクロヘキセンは、洗
浄除去剤の調製に際して該a成分を含む他の配合成分と
容易に均一混合できるという利点がある。
However, since 1-methyl-4-isopropenyl-1-cyclohexene itself has poor hydrophilicity, it is used in a water-solubilized form in the present invention. The means for water solubilization is not particularly limited, but as a suitable water solubilization method, 1-methyl-4-isopropenyl-1-cyclohexene is added to polyoxyalkylene alkyl ether, alkyl polyglucoside, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxy A method of mixing a nonionic surfactant such as ethylene glyceryl alkyl ether, alkylaminoxide, polyoxyalkylene block polymer, and polyoxypropylene diglyceryl ether with 3-methoxy-3-methyl-1-butanol as a solvent is Recommended. In addition, since the nonionic surfactant has a function of lowering the surface tension, by using water-solubilized 3-methoxy-3-methyl-1-butanol,
There is an advantage that the cleaning power of the cleaning / removing agent is further improved.
Further, since 3-methoxy-3-methyl-1-butanol is also the above-mentioned component a, 1-methyl-4-isopropenyl-1-cyclohexene solubilized with it is used as the a- It has an advantage that it can be easily mixed uniformly with other compounding ingredients including the ingredients.

【0022】一方、第二及び第三の洗浄除去剤に必須成
分として用いるe成分の乳酸エステルとしては、例えば
乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸イソプロピル、乳酸ブチ
ル等が挙げられる。しかして、乳酸エステルは、分子中
に水酸基とエステル基を有することにより、水及び殆ど
の溶剤に対して良好に混和すると共に、セルロース系化
合物、天然及び合成樹脂、合成繊維等の広範な有機物質
に対する優れた溶解力を示す水溶性溶剤であり、有機系
の汚れに対する優れた洗浄溶解力を持つため、前記a,
b成分、あるいは更にd成分と協働して洗浄除去剤の洗
浄力を相乗的に高めるように機能する。
On the other hand, examples of the lactic acid ester of the component e used as an essential component in the second and third cleaning and removing agents include methyl lactate, ethyl lactate, isopropyl lactate, butyl lactate and the like. However, lactic acid ester has a hydroxyl group and an ester group in the molecule, and thus is well miscible with water and most solvents, and also has a wide range of organic substances such as cellulosic compounds, natural and synthetic resins, and synthetic fibers. It is a water-soluble solvent that has an excellent dissolving power for a.
It functions synergistically to enhance the cleaning power of the cleaning / removing agent in cooperation with the component b, or further with the component d.

【0023】また、乳酸エステルは、いずれも急性毒性
LD50が2000mg/kg以上(乳酸エチルでは50
00mg/kg以上)で、且つ乳酸エチル及び乳酸ブチ
ルが食品用途でFDAの認可を受けているように、極め
て安全な物質であるため、これを配合することにより、
洗浄除去剤の洗浄力を高めながら毒性を低下させること
が可能となる。また、乳酸エステルは生分解性で環境に
負荷を与えないという利点もある。
All of the lactate esters have an LD50 of 2000 mg / kg or more (50% for ethyl lactate).
00 mg / kg or more), and since ethyl lactate and butyl lactate are extremely safe substances as approved by the FDA for food use, by blending them,
It is possible to reduce toxicity while enhancing the cleaning power of the cleaning / removing agent. In addition, lactate has the advantage that it is biodegradable and does not impose a burden on the environment.

【0024】第一〜第三の洗浄除去剤におけるa成分の
3−メトキシ・3−メチル・1−ブタノールとb成分の
N−メチル・2−ピロリドンとの配合比率は、a成分/
b成分の重量比で11/89〜94/6の範囲が好適で
あり、a成分が少な過ぎると金属に対する酸化腐食性が
現れ、b成分が少な過ぎると有機系の汚れに対する溶解
力が不充分になる。
In the first to third cleaning and removing agents, the compounding ratio of a-component 3-methoxy-3-methyl-1-butanol and b-component N-methyl-2-pyrrolidone is a component / a.
The weight ratio of the b component is preferably in the range of 11/89 to 94/6. If the a component is too small, the oxidative corrosion property to the metal appears, and if the b component is too small, the dissolving power for the organic stain is insufficient. become.

【0025】また、これら第一〜第三の洗浄除去剤にお
けるc成分の腐食抑制剤成分の配合量は、前記a,b成
分の合量に対して0.05〜6重量%の範囲とするのが
よく、少な過ぎては充分な腐食抑制作用が発現せず、多
過ぎてもそれ以上の腐食(酸化)抑制作用の増加がなく
コスト高になる。
The amount of the corrosion inhibitor component of the component c in the first to third cleaning / removing agents is in the range of 0.05 to 6% by weight based on the total amount of the components a and b. If the amount is too small, a sufficient corrosion inhibiting action is not exhibited, and if the amount is too large, the corrosion (oxidation) inhibiting action is not further increased, resulting in high cost.

【0026】さらに、第一及び第三の洗浄除去剤におけ
るd成分の1−メチル−4−イソプロペニル−1−シク
ロヘキセンの配合量は、前記a、b成分の合量に対して
10〜50重量%の範囲とするのがよく、少な過ぎると
洗浄力の向上が不充分になると共に、臭いのマスキング
効果も低下し、多過ぎると水洗いした際の洗浄剤の除去
性(すすぎ性)が低下すると共に、レモン臭ないしオレ
ンジ臭が強くなり過ぎる。
Further, the compounding amount of 1-methyl-4-isopropenyl-1-cyclohexene of the component d in the first and third cleaning and removing agents is 10 to 50% by weight based on the total amount of the components a and b. The range is preferably in the range of%, and when the amount is too small, the improvement of the detergency is insufficient and the odor masking effect is also lowered, and when the amount is too high, the removability (rinsability) of the detergent upon washing with water is lowered. At the same time, the smell of lemon or orange becomes too strong.

【0027】一方、第二及び第三の洗浄除去剤における
e成分の乳酸エステルの配合量は、前記a、b成分の合
量に対して10〜60重量%とすることが好ましく、少
なすぎると洗浄力の向上を充分に得ることができない。
また、このe成分の上記配合量が60重量%を超える
と、洗浄除去剤の引火点が73℃以下となるため、第四
類第三石油類ではなく、より慎重な取り扱いが要求され
る第四類第二石油類になってしまうので好ましくない。
On the other hand, the content of the lactic acid ester as the component e in the second and third cleaning / removing agents is preferably 10 to 60% by weight based on the total amount of the components a and b, and is too small. It is not possible to obtain a sufficient improvement in detergency.
Further, when the content of the e component exceeds 60% by weight, the flash point of the cleaning / removing agent becomes 73 ° C. or lower, so that more careful handling is required rather than the fourth type third petroleum. It is not desirable because it will be a Type 4 second oil.

【0028】これら第一〜第三の洗浄除去剤による洗浄
操作は、有機系の半田フラックスを用いて半田付けを行
った電子部品や機械部品等を当該洗浄除去剤中に所要時
間浸漬するだけでよく、これによって部品表面に残留し
ているフラックス残渣が他の有機質の汚れと共に除去剤
中に溶解する。しかして、この浸漬においては、特に超
音波洗浄を採用すれば、フラックス残渣を含む汚れをよ
り確実に短時間で溶解除去できる。また、この浸漬後に
水洗を行うことにより、汚れを含む当該洗浄除去剤を部
品表面から完全に取り除くことができる。なお、これら
洗浄除去剤としては、前記の必須成分に水を加えた希釈
液形態をも包含するが、希釈した分だけ洗浄性は低下す
る。
The cleaning operation using these first to third cleaning / removing agents is performed by simply immersing the electronic parts, mechanical parts, etc. soldered using the organic solder flux in the cleaning / removing agent for a required time. Often, this causes the flux residue remaining on the surface of the component to dissolve in the scavenger along with other organic contaminants. Then, in this immersion, if ultrasonic cleaning is particularly adopted, the dirt containing the flux residue can be more surely dissolved and removed in a short time. In addition, by performing water washing after the immersion, the cleaning / removing agent containing dirt can be completely removed from the surface of the component. Note that these cleaning / removing agents include a diluting liquid form in which water is added to the above-mentioned essential components, but the detergency is reduced by the amount of dilution.

【0029】また、これら第一〜第三の洗浄除去剤は、
いずれも液のPHを5.8〜8.6の範囲に設定するの
がよい。すなわち、上記PH範囲に設定することによ
り、洗浄処理中における被洗浄物の金属表面の酸化腐食
をより確実に防止できることに加え、品質の安定性が高
くなるため、保管及び管理が容易になり、また電子部品
を洗浄後の廃液を排水水質基準に合致させることができ
る。なお、このPHは、各洗浄除去剤における配合成分
の種類と量的関係の調整によって経験的に設定すればよ
い。
Further, these first to third cleaning / removing agents are
In either case, the pH of the liquid is preferably set in the range of 5.8 to 8.6. That is, by setting the above PH range, in addition to being able to more reliably prevent the oxidative corrosion of the metal surface of the object to be cleaned during the cleaning process, the stability of the quality becomes high, so storage and management become easy, Further, the waste liquid after cleaning the electronic parts can be made to meet the drainage water quality standard. It should be noted that this PH may be set empirically by adjusting the type and the quantitative relationship of the compounding ingredients in each cleaning and removing agent.

【0030】[0030]

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0031】製造例1 a成分として3−メトキシ・3−メチル・1−ブタノー
ル、b成分としてN−メチル・2−ピロリドン、c成分
としてベンゾトリアゾール、d成分として1−メチル−
4−イソプロペニル−1−シクロヘキセンをそれぞれ使
用し、後記表1及び2記載の配合比率(重量部)でステ
ンレスタンク中に投入して攪拌混合したのち、濾過しつ
つ取り出してNo1〜No51の洗浄除去剤を得た。な
お、これら洗浄除去剤のPHはいずれも5.8〜8.6
の範囲にあった。
Production Example 1 3-methoxy-3-methyl-1-butanol as the component a, N-methyl-2-pyrrolidone as the component b, benzotriazole as the component c, and 1-methyl- as the component d.
4-isopropenyl-1-cyclohexene was used respectively, and the mixture was put into a stainless steel tank at the compounding ratio (parts by weight) shown in Tables 1 and 2 below, stirred and mixed, and then taken out while being filtered and washed to remove No1 to No51. I got an agent. The pH of these cleaning / removing agents is 5.8 to 8.6.
Was in the range.

【0032】製造例2 製造例1と同じa,b、c成分と、e成分として乳酸エ
ステルをそれぞれ使用し、後記表3及び4記載の配合比
率で用い、製造例1と同様にしてNo52〜No121
の洗浄除去剤を得た。これら洗浄除去剤のPHはいずれ
も5.8〜8.6の範囲にあった。
Production Example 2 The same a, b, and c components as in Production Example 1 and lactic acid ester as e component were used at the compounding ratios shown in Tables 3 and 4 below. No121
Was obtained. The pH of each of these cleaning and removing agents was in the range of 5.8 to 8.6.

【0033】製造例3 製造例1と同じa,b、c、d成分と、製造例2と同じ
e成分をそれぞれ使用し、後記表5及び6記載の配合比
率で用い、製造例1と同様にしてNo122〜No18
3の洗浄除去剤を得た。これら洗浄除去剤のPHはいず
れも5.8〜8.6の範囲にあった。
Production Example 3 The same a, b, c and d components as in Production Example 1 and the same e component as in Production Example 2 were used at the compounding ratios shown in Tables 5 and 6 below, and the same as in Production Example 1. No122 ~ No18
A wash remover of 3 was obtained. The pH of each of these cleaning and removing agents was in the range of 5.8 to 8.6.

【0034】製造例1乃至3で得られた洗浄除去剤No
1〜No183について、洗浄に用いたときのフラック
ス残渣の除去性と、金属に対する酸化腐食性とをそれぞ
れ試験した。これらの試験の結果を後記表1〜表6に示
す。なお、各項目の試験方法と評価は次の通りである。
Cleaning and removing agent No. obtained in Production Examples 1 to 3
For No. 1 to No. 183, the removability of the flux residue when used for cleaning and the oxidative corrosiveness with respect to metals were tested. The results of these tests are shown in Tables 1 to 6 below. The test methods and evaluations for each item are as follows.

【0035】〔フラックス残渣の除去性〕銅板(20m
m×70mm×1mm)の表面にロジン系フラックスを
塗布した上で半田(Sn60%,Pb40%)付けを行
い、約24時間放置したものを被洗浄物とし、洗浄方法
の異なる次の第一及び第二の試験を行い、この結果を後
記の三段階で評価した。なお、第二の試験の方が第一の
試験よりもフラックスを除去し難い条件になっている。
[Removability of flux residue] Copper plate (20 m
m × 70 mm × 1 mm) is coated with rosin flux on the surface and soldered (Sn 60%, Pb 40%) and left for about 24 hours to be the object to be cleaned. A second test was conducted, and the results were evaluated according to the following three grades. The second test is more difficult to remove the flux than the first test.

【0036】<第一の試験> 被洗浄物を超音波洗浄機
に入れた洗浄除去剤中に浸漬し、液温を35〜40℃に
保持して20分間の超音波洗浄を行ったのち、取り出し
た被洗浄物を純水にて5秒間すすぎ、イソプロピルアル
コールに浸漬して脱水し、自然乾燥させたのち、アセト
ンによってフラックス残渣を溶出させ、除去試験前後の
質量差よりフラックス残渣量を求めた。
<First Test> The object to be cleaned is immersed in a cleaning and removing agent placed in an ultrasonic cleaning machine, the liquid temperature is maintained at 35 to 40 ° C., and ultrasonic cleaning is performed for 20 minutes. The removed object to be cleaned was rinsed with pure water for 5 seconds, immersed in isopropyl alcohol for dehydration, naturally dried, and then the flux residue was eluted with acetone, and the flux residue amount was determined from the mass difference before and after the removal test. .

【0037】<第二の試験> 前記第一の試験とは別に
前記被洗浄物を液温を25℃に保持した洗浄除去剤中に
240分間浸漬(超音波洗浄なしで浸漬のみ)させたの
ち、取り出した被洗浄物を純水にて5秒間すすぎ、イソ
プロピルアルコールに浸漬して脱水し、自然乾燥させた
のち、アセトンによってフラックス残渣を溶出させ、除
去試験前後の質量差よりフラックス残渣量を求めた。
<Second Test> Separately from the first test, the object to be cleaned was immersed in a cleaning / removing agent having a liquid temperature kept at 25 ° C. for 240 minutes (only immersion without ultrasonic cleaning). Rinse the object to be cleaned taken out with pure water for 5 seconds, immerse it in isopropyl alcohol to dehydrate it and let it naturally dry, then elute the flux residue with acetone, and obtain the flux residue amount from the mass difference before and after the removal test. It was

【0038】<フラックス残渣の除去性の評価> ◎…第一の試験及び第二の試験ともに半田フラックス残
渣は全くなし ○…第一の試験では半田フラックス残渣は全くないが、
第二の試験では半田フラックス残渣があった ×…第一の試験及び第二の試験ともに半田フラックス残
渣があった
<Evaluation of Removability of Flux Residue> ⊚: No solder flux residue in both the first and second tests ○: No solder flux residue in the first test
Solder flux residue was present in the second test ..... Solder flux residue was present in both the first and second tests.

【0039】〔金属に対する酸化腐食性〕銅板、真鍮
板、圧延鋼板、半田の各々を洗浄除去剤中に浸漬し、液
温20〜25℃において5日間放置したのち、取り出し
て表面の酸化皮膜をオージェ電子分光法によって定量分
析し、その結果を次の2段階で評価した。 A…新たな酸化皮膜なし。 B…新たな酸化皮膜が生成。
[Oxidative Corrosion to Metals] Each of a copper plate, a brass plate, a rolled steel plate and a solder was immersed in a cleaning / removing agent, allowed to stand at a liquid temperature of 20 to 25 ° C. for 5 days, and then taken out to remove an oxide film on the surface. Quantitative analysis was carried out by Auger electron spectroscopy, and the results were evaluated in the following two stages. A: No new oxide film. B: A new oxide film is formed.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

【0042】表1及び2の結果から、a成分、b成分、
c成分とd成分とを含む洗浄除去剤(No7〜46)は
半田付け後の銅板表面に残留するフラックス残渣に対す
る溶解除去性を発揮し、とりわけa成分/b成分の重量
比が11/89〜94/6の範囲にある洗浄除去剤(N
o12〜41)によれば該フラックス残渣を完全に除去
できることが判る。しかるに、a成分/b成分の重量比
におけるb成分の割合が90%以上の洗浄剤(No42
〜51)では、フラックス残渣の除去性については良好
な結果を示しているが、金属表面を酸化腐食するという
問題を生じることが明らかである。なお、a成分/b成
分の重量比におけるb成分の割合が5%以下であるNo
7〜11の洗浄除去剤では、フラックス残渣は完全には
除去されていないが、b成分を配合していないNo1〜
6の洗浄除去剤に比べてフラックス残渣の残留は少ない
ことが確認されている。
From the results of Tables 1 and 2, the components a, b,
The cleaning / removing agent (No. 7 to 46) containing the c component and the d component exhibits dissolution and removability for the flux residue remaining on the surface of the copper plate after soldering, and particularly, the weight ratio of the a component / b component is 11/89. Cleaning / removing agent within the range of 94/6 (N
It is found that the flux residue can be completely removed according to No. 12 to 41). However, a cleaning agent (No 42 having a ratio of the b component in the weight ratio of the a component / b component of 90% or more (No 42
51 to 51) show good results with respect to the removability of the flux residue, but it is clear that the problem of oxidative corrosion of the metal surface occurs. The ratio of the component b in the weight ratio of component a / component b is 5% or less.
With the cleaning and removing agents 7 to 11, the flux residue was not completely removed, but No 1 to which the b component was not blended
It has been confirmed that the amount of residual flux residue is smaller than that of the cleaning and removing agent of No. 6.

【0043】c成分のベンゾトリアゾールについては、
a,b成分の合量に対して0.05重量%以上配合(N
o13〜16、18〜21、23〜26、28〜31、
33〜36、38〜41)することにより、金属表面に
対する酸化腐食性が抑えられるが、a成分に対するb成
分の割合が多過ぎる場合(No42〜51)は酸化腐食
性の抑制効果が充分ではないことが判る。なお、c成分
の腐食防止剤としてベンゾチアゾール、2−メルカプト
ベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、チオ尿素をそれぞれ使用しても、ベンゾトリアゾー
ルの使用時と略同等の金属表面に対する酸化腐食性の抑
制効果が得られることが判明している。
Regarding the benzotriazole as the component c,
More than 0.05% by weight based on the total amount of a and b components (N
o13-16, 18-21, 23-26, 28-31,
33-36, 38-41), the oxidative corrosion resistance to the metal surface is suppressed, but when the ratio of the b component to the a component is too large (No 42 to 51), the effect of suppressing the oxidative corrosion property is not sufficient. I understand. Even if benzothiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, or thiourea is used as a corrosion inhibitor for the component c, the suppression of oxidative corrosion on the metal surface is almost the same as when using benzotriazole. It is known that the effect can be obtained.

【0044】そして、d成分の水溶化1−メチル−4−
イソプロペニル−1−シクロヘキセンについては、a,
b成分の合量に対して10重量%以上配合すると、フラ
ックス残渣の除去性が更に向上している。
Then, water-solubilized 1-methyl-4- component d
For isopropenyl-1-cyclohexene, a,
When it is blended in an amount of 10% by weight or more based on the total amount of the component b, the removability of flux residue is further improved.

【0045】[0045]

【表3】 [Table 3]

【0046】[0046]

【表4】 [Table 4]

【0047】表3及び4の結果から、a成分、b成分、
c成分とe成分とを含む洗浄除去剤(No59〜11
4)は半田付け後の銅板表面に残留するフラックス残渣
に対する溶解除去性を発揮し、とりわけa成分/b成分
の重量比が11/89〜94/6の範囲にある洗浄除去
剤(No66〜107)によれば該フラックス残渣を完
全に除去できることが判る。しかるに、a成分/b成分
の重量比におけるb成分の割合が90%以上の洗浄剤
(No108〜121)では、フラックス残渣の除去性
については良好な結果を示しているが、金属表面を酸化
腐食するという問題を生じることが明らかである。な
お、a成分/b成分の重量比におけるb成分の割合が5
%以下であるNo59〜65の洗浄除去剤では、フラッ
クス残渣は完全には除去されていないが、b成分を配合
していないNo52〜58の洗浄除去剤に比べてフラッ
クス残渣の残留は少ないことが確認されている。
From the results of Tables 3 and 4, the components a, b,
Cleaning and removing agent containing components c and e (Nos. 59 to 11)
4) exhibits a dissolving and removing property with respect to the flux residue remaining on the copper plate surface after soldering, and in particular, a cleaning and removing agent (No 66 to 107) in which the weight ratio of a component / b component is in the range of 11/89 to 94/6. According to (), it is understood that the flux residue can be completely removed. However, with the detergents (No. 108 to 121) in which the proportion of the b component in the weight ratio of the a component / b component is 90% or more, good results are shown with respect to the flux residue removability, but the metal surface is oxidized and corroded. It is clear that this causes the problem of The ratio of the component b in the weight ratio of component a / component b was 5
%, The flux residue was not completely removed, but the flux residue remained less than the No. 52-58 cleaning remover containing no b component. It has been confirmed.

【0048】c成分のベンゾトリアゾールについては、
a,b成分の合量に対してを0.05重量%以上配合
(No60〜65、67〜72、74〜79、81〜8
6、88〜93、95〜100、102〜107)する
ことにより、金属表面に対する酸化腐食性が抑えられる
が、a成分に対するb成分の割合が多過ぎる場合(No
108〜121)は酸化腐食性の抑制効果が充分ではな
いことが判る。なお、c成分の腐食防止剤としてベンゾ
チアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メ
ルカプトベンゾイミダゾール、チオ尿素をそれぞれ使用
しても、ベンゾトリアゾールの使用時と略同等の金属表
面に対する酸化腐食性の抑制効果が得られることが判明
している。
Regarding the benzotriazole as the component c,
0.05 wt% or more based on the total amount of the components a and b (No 60 to 65, 67 to 72, 74 to 79, 81 to 8)
6, 88 to 93, 95 to 100, 102 to 107), the oxidative corrosion property on the metal surface is suppressed, but when the ratio of the b component to the a component is too large (No.
It is understood that 108 to 121) do not have a sufficient effect of suppressing oxidative corrosion. Even if benzothiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, or thiourea is used as a corrosion inhibitor for the component c, the suppression of oxidative corrosion on the metal surface is almost the same as when using benzotriazole. It is known that the effect can be obtained.

【0049】そして、e成分の乳酸エステルについて
は、a,b成分の合量に対してを10重量%以上配合す
ると(No67〜72、74〜79、81〜86、88
〜93、95〜100、102〜107)、フラックス
残渣の除去性が更に向上している。
With regard to the lactic acid ester of the component e, if it is added in an amount of 10% by weight or more based on the total amount of the components a and b (No 67 to 72, 74 to 79, 81 to 86, 88).
~ 93, 95-100, 102-107), the removability of flux residue is further improved.

【0050】[0050]

【表5】 [Table 5]

【0051】[0051]

【表6】 [Table 6]

【0052】表5及び6の結果から、a成分、b成分、
c成分、d成分とe成分とを含む洗浄除去剤(No12
8〜183)は半田付け後の銅板表面に残留するフラッ
クス残渣に対する溶解除去性を発揮し、とりわけa成分
/b成分の重量比が11/89〜94/6の範囲にある
洗浄除去剤(No135〜176)によれば該フラック
ス残渣を完全に除去できることが判る。しかるに、a成
分/b成分の重量比におけるb成分の割合が90%以上
の洗浄剤(No177〜183)であってもフラックス
残渣の除去性については良好な結果を示しているが、金
属表面を酸化腐食するという問題を生じることが明らか
である。なお、a成分/b成分の重量比におけるb成分
の割合が5%以下であるNo128〜134の洗浄除去
剤では、フラックス残渣は完全には除去されていない
が、b成分を配合していないNo122〜127の洗浄
除去剤に比べてフラックス残渣の残留は少ないことが確
認されている。
From the results of Tables 5 and 6, the components a, b,
Cleaning and removing agent containing c component, d component and e component (No. 12
Nos. 8 to 183) exhibit a dissolving and removing property with respect to the flux residue remaining on the copper plate surface after soldering, and in particular, a cleaning and removing agent (No135 having a weight ratio of a component / b component of 11/89 to 94/6). ~ 176), the flux residue can be completely removed. However, even with the cleaning agents (No. 177 to 183) in which the ratio of the b component in the weight ratio of the a component / b component is 90% or more, good results are shown for the flux residue removability, but It is clear that it causes the problem of oxidative corrosion. In addition, in the cleaning and removing agents of Nos. 128 to 134 in which the ratio of the b component in the weight ratio of the a component / b component is 5% or less, the flux residue is not completely removed, but the No 122 in which the b component is not blended. It has been confirmed that the residue of flux residue is less than that of the cleaning and removing agents of ~ 127.

【0053】c成分のベンゾトリアゾールについては、
a,b成分の合量に対して0.05重量%以上配合(N
o136〜141、143〜148、150〜155、
157〜162、164〜169、171〜176)す
ることにより、金属表面に対する酸化腐食性が抑えられ
るが、a成分に対するb成分の割合が多過ぎる場合(N
o177〜183)は酸化腐食性の抑制効果が充分では
ないことが判る。なお、c成分の腐食防止剤としてベン
ゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−
メルカプトベンゾイミダゾール、チオ尿素をそれぞれ使
用しても、ベンゾトリアゾールの使用時と略同等の金属
表面に対する酸化腐食性の抑制効果が得られることが判
明している。
For the benzotriazole as the component c,
More than 0.05% by weight based on the total amount of a and b components (N
o 136-141, 143-148, 150-155,
157-162, 164-169, 171-176) suppresses oxidative corrosion on the metal surface, but when the ratio of the b component to the a component is too large (N
177-183), the effect of suppressing oxidative corrosion is not sufficient. In addition, benzothiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-
It has been found that even when mercaptobenzimidazole and thiourea are used, the effect of suppressing oxidative corrosion on a metal surface, which is approximately the same as when benzotriazole is used, can be obtained.

【0054】さらに、a,b成分の合量に対してd成分
の1−メチル−4−イソプロペニル−1−シクロヘキセ
ンを10重量%以上配合し、e成分の乳酸エステルも1
0重量%以上配合(No136〜141、143〜14
8、150〜155、157〜162、164〜16
9、171〜176)すると、フラックス残渣の除去性
が更に向上している。
Further, 10% by weight or more of 1-methyl-4-isopropenyl-1-cyclohexene as the component d is added to the total amount of the components a and b, and the lactate ester as the component e is also 1% by weight.
0% by weight or more (No 136 to 141, 143 to 14
8, 150-155, 157-162, 164-16
9, 171-176), the flux residue removability is further improved.

【0055】尚、上記のNo13〜16、18〜21、
23〜26、28〜31、33〜36、38〜41、6
7〜72、74〜79、81〜86、88〜93、95
〜100、102〜107、136〜141、143〜
148、150〜155、157〜162、164〜1
69、171〜176の各洗浄除去剤を角形チップ抵抗
器の洗浄に用いところ、優れた洗浄力を発揮し、また該
チップの金属表面の酸化腐食を生じないことが確認でき
た。
Incidentally, the above Nos. 13-16, 18-21,
23-26, 28-31, 33-36, 38-41, 6
7-72, 74-79, 81-86, 88-93, 95
~ 100, 102-107, 136-141, 143-
148, 150-155, 157-162, 164-1
It was confirmed that when each of the cleaning removal agents 69 and 171-176 was used for cleaning the rectangular chip resistor, it exhibited excellent cleaning power and did not cause oxidative corrosion on the metal surface of the chip.

【0056】[0056]

【発明の効果】請求項1乃至4の発明によれば、洗浄除
去剤として、各種電子部品や機械部品等の半田付け後に
部品表面に固着した半田フラックス残渣及び油脂の如き
有機質の汚れを確実に除去できる上、被洗浄物の金属表
面に洗浄時の酸化腐食による酸化皮膜を生じにくく、取
扱い上の安全性にも優れ、またフラックス等の臭いをマ
スキングして好ましい芳香を与えるものが提供される。
According to the first to fourth aspects of the present invention, as a cleaning / removing agent, it is possible to surely secure organic flux such as solder flux residue and grease adhered to the surfaces of various electronic parts and machine parts after soldering. In addition to being removable, an oxide film due to oxidative corrosion at the time of cleaning is not easily formed on the metal surface of the object to be cleaned, it is also excellent in handling safety, and it provides a preferable aroma by masking the odor of flux etc. .

【0057】請求項5の発明によれば、上記の洗浄除去
剤として、被洗浄物の金属表面の酸化腐食をより確実に
防止できると共に、品質の安定性に優れて保管及び管理
に有利であり、また洗浄後の排水処理を容易にするもの
が提供される。
According to the fifth aspect of the present invention, the above cleaning remover can more reliably prevent oxidative corrosion of the metal surface of the object to be cleaned and is excellent in quality stability, which is advantageous for storage and management. Also provided is one that facilitates wastewater treatment after cleaning.

【0058】請求項6の発明に係る洗浄方法によれば、
半田付け後の部品表面に付着した半田フラックス残渣及
びその変形物を効率よく確実に除去できると共に、被洗
浄物の金属表面の酸化腐食を防止できる。
According to the cleaning method of the sixth aspect of the present invention,
It is possible to efficiently and surely remove the solder flux residue attached to the surface of the component after soldering and its deformation, and to prevent oxidative corrosion of the metal surface of the object to be cleaned.

【0059】請求項7乃至10の発明によれば、洗浄除
去剤として、各種電子部品や機械部品等の半田付け後に
部品表面に固着した半田フラックス残渣及び油脂の如き
有機質の汚れを確実に除去できる上、被洗浄物の金属表
面に洗浄時の酸化腐食による酸化皮膜を生じにくく、取
扱い上の安全性にも優れ、しかも毒性の少ないものが提
供される。
According to the seventh to tenth aspects of the present invention, as the cleaning / removing agent, it is possible to reliably remove the organic residue such as the solder flux residue and the oil and fat adhered to the component surface after the soldering of various electronic components and mechanical components. In addition, an oxide film is less likely to be formed on the metal surface of the object to be cleaned due to oxidative corrosion during cleaning, is excellent in handling safety, and is less toxic.

【0060】請求項11の発明によれば、上記の洗浄除
去剤として、被洗浄物の金属表面の酸化腐食をより確実
に防止できると共に、品質の安定性が高く保管及び管理
に有利であり、また洗浄後の排水処理を容易にするもの
が提供される。
According to the eleventh aspect of the present invention, the above cleaning remover can more reliably prevent oxidative corrosion of the metal surface of the object to be cleaned, has high quality stability, and is advantageous for storage and management. Also provided is one that facilitates wastewater treatment after cleaning.

【0061】請求項12の発明に係る洗浄方法によれ
ば、半田付け後の部品表面に付着した半田フラックス残
渣及び及びその変形物を効率よく確実に除去できると共
に、被洗浄物の金属表面の酸化腐食を防止できる。
According to the cleaning method of the twelfth aspect of the invention, the solder flux residue adhering to the surface of the component after soldering and its deformation can be removed efficiently and reliably, and the metal surface of the object to be cleaned is oxidized. Can prevent corrosion.

【0062】請求項13乃至17の発明によれば、洗浄
除去剤として、各種電子部品や機械部品等の半田付け後
に部品表面に固着した半田フラックス残渣及び油脂の如
き有機質の汚れを確実に除去でき、取扱い上の安全性に
も優れ、しかもフラックス等の臭いのマスキングができ
ると共に、比較的に低毒性のものが提供される。
According to the thirteenth to seventeenth aspects of the present invention, as the cleaning / removing agent, it is possible to reliably remove the organic residue such as the solder flux residue and the oil and fat adhered to the surface of the component after the soldering of various electronic components and mechanical components. In addition, it is excellent in handling safety, can mask odors such as flux, and has relatively low toxicity.

【0063】請求項18の発明によれば、上記の洗浄除
去剤として、被洗浄物の金属表面の酸化腐食をより確実
に防止できると共に、品質の安定性が高く保管及び管理
に有利であり、また洗浄後の排水処理を容易にするもの
が提供される。
According to the eighteenth aspect of the present invention, the above cleaning remover can more reliably prevent oxidative corrosion of the metal surface of the object to be cleaned, has high quality stability, and is advantageous for storage and management. Also provided is one that facilitates wastewater treatment after cleaning.

【0064】請求項19の発明に係る洗浄方法によれ
ば、半田付け後の部品表面に付着した半田フラックス残
渣及び及びその変形物を効率よく確実に除去できると共
に、被洗浄物の金属表面の酸化腐食を防止できる。
According to the cleaning method of the nineteenth aspect of the present invention, the solder flux residue and its variants adhered to the surface of the component after soldering can be removed efficiently and reliably, and the metal surface of the object to be cleaned is oxidized. Can prevent corrosion.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C11D 7/32 C11D 7/32 7/34 7/34 7/50 7/50 H05K 3/26 H05K 3/26 (72)発明者 池本 浩一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 沼田 学 大阪府茨木市横江1丁目12番14号 クリー ンケミカル株式会社技術部開発課内 (72)発明者 菅野 純二 大阪府大阪市城東区成育3丁目5番19号 株式会社エイケン内 Fターム(参考) 3B201 AA01 AA48 BB01 BB83 CC01 4H003 DA15 DB00 DC04 EB09 ED03 ED29 ED31 ED32 FA01 FA03 FA15 FA28 FA45 5E343 BB54 CC23 EE02 FF23 GG11─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C11D 7/32 C11D 7/32 7/34 7/34 7/50 7/50 H05K 3/26 H05K 3 / 26 (72) Koichi Ikemoto, 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Manabu Numata 1-12-14 Yokoe, Ibaraki City, Osaka Crane Chemical Co., Ltd. ) Inventor Junji Sugano 3-5-19, Naruiku, Joto-ku, Osaka-shi, Osaka Prefecture F-term in Aiken Co., Ltd. (reference) 3B201 AA01 AA48 BB01 BB83 CC01 4H003 DA15 DB00 DC04 EB09 ED03 ED29 ED31 ED32 FA01 FA03 FA15 FA28 FA45 5E343 BB54 CC23 EE02 FF23 GG11

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 a)3−メトキシ・3−メチル・1−ブ
タノールと、b)N−メチル・2−ピロリドンと、c)
ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、2−メルカプ
トベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、チオ尿素の群より選ばれる少なくとも一種の腐食抑
制剤成分と、d)水溶化1−メチル−4−イソプロペニ
ル−1−シクロヘキセンとを必須の成分として含有する
洗浄除去剤。
1. A) 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, b) N-methyl-2-pyrrolidone, and c).
At least one corrosion inhibitor component selected from the group of benzotriazole, benzothiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, and thiourea, and d) water-solubilized 1-methyl-4-isopropenyl-1-cyclohexene A cleaning remover containing and as essential components.
【請求項2】 前記のa成分/b成分の重量比が11/
89〜94/6の範囲にある請求項1記載の洗浄除去
剤。
2. The weight ratio of the component a / component b is 11 /
The cleaning and removing agent according to claim 1, which is in a range of 89 to 94/6.
【請求項3】 前記c成分が前記a、b成分の合量に対
して0.05〜6重量%の範囲で含まれてなる請求項1
又は2に記載の洗浄除去剤。
3. The component c is contained in an amount of 0.05 to 6% by weight based on the total amount of the components a and b.
Or the cleaning / removing agent according to 2.
【請求項4】 前記d成分が前記a、b成分の合量に対
して10〜50重量%の範囲で含まれてなる請求項1〜
3のいずれかに記載の洗浄除去剤。
4. The component d is contained in the range of 10 to 50% by weight with respect to the total amount of the components a and b.
The cleaning / removing agent according to any one of 3 above.
【請求項5】 PHが5.8〜8.6の範囲にある請求
項1〜4のいずれかに記載の洗浄除去剤。
5. The cleaning / removing agent according to claim 1, wherein the pH is in the range of 5.8 to 8.6.
【請求項6】 前記請求項1〜5のいずれかに記載の洗
浄除去剤を用いた洗浄除去剤により、半田付け後の部品
表面に残留する半田フラックス及びその変形物を除去す
ることを特徴とする洗浄方法。
6. A cleaning / removing agent using the cleaning / removing agent according to any one of claims 1 to 5 is used to remove the solder flux and its variants remaining on the surface of the component after soldering. How to wash.
【請求項7】 a)3−メトキシ・3−メチル・1−ブ
タノールと、b)N−メチル・2−ピロリドンと、c)
ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、2−メルカプ
トベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、チオ尿素の群より選ばれる少なくとも一種の腐食抑
制剤成分と、e)乳酸エステルとを必須成分として含有
する洗浄除去剤。
7. A) 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, b) N-methyl-2-pyrrolidone, and c).
A cleaning and removing agent containing, as essential components, at least one corrosion inhibitor component selected from the group of benzotriazole, benzothiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, and thiourea, and e) lactic acid ester.
【請求項8】 前記のa成分/b成分の重量比が11/
89〜94/6の範囲にある請求項7記載の洗浄除去
剤。
8. The weight ratio of the component a / component b is 11 /
The cleaning and removing agent according to claim 7, which is in a range of 89 to 94/6.
【請求項9】 前記c成分が前記a、b成分の合量に対
して0.05〜6重量%の範囲で含まれてなる請求項8
又は9に記載の洗浄除去剤。
9. The c component is contained in the range of 0.05 to 6% by weight based on the total amount of the a and b components.
Or the cleaning / removing agent according to item 9.
【請求項10】 前記e成分が前記a、b成分の合量に
対して10〜60%重量%の範囲で含まれてなる請求項
7〜9のいずれかに記載の洗浄除去剤。
10. The cleaning / removing agent according to claim 7, wherein the e component is contained in the range of 10 to 60% by weight with respect to the total amount of the a and b components.
【請求項11】 PHが5.8〜8.6の範囲にある請
求項7〜10のいずれかに記載の洗浄除去剤。
11. The cleaning / removing agent according to claim 7, which has a PH in the range of 5.8 to 8.6.
【請求項12】 前記請求項7〜11のいずれかに記載
の洗浄除去剤を用いた洗浄除去剤により、半田付け後の
部品表面に残留する半田フラックス及びその変形物を除
去することを特徴とする洗浄方法。
12. A cleaning / removing agent using the cleaning / removing agent according to any one of claims 7 to 11, wherein the solder flux and its variants remaining on the surface of the component after soldering are removed. How to wash.
【請求項13】 a)3−メトキシ・3−メチル・1−
ブタノールと、b)N−メチル・2−ピロリドンと、
c)ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、2−メル
カプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダ
ゾール、チオ尿素の群より選ばれる少なくとも一種の腐
食抑制剤成分と、d)水溶化1−メチル−4−イソプロ
ペニル−1−シクロヘキセンと、e)乳酸エステルとを
必須成分として含有する洗浄除去剤
13. A) 3-methoxy-3-methyl-1-
Butanol and b) N-methyl-2-pyrrolidone,
c) at least one corrosion inhibitor component selected from the group of benzotriazole, benzothiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, thiourea, and d) water-solubilized 1-methyl-4-isopropenyl-1. -Cleaning and removing agent containing cyclohexene and e) lactic acid ester as essential components
【請求項14】 前記のa成分/b成分の重量比が11
/89〜94/6の範囲にある請求項13記載の洗浄除
去剤。
14. The weight ratio of the a component / b component is 11
The cleaning / removing agent according to claim 13, which is in a range of / 89 to 94/6.
【請求項15】 前記c成分が前記a、b成分の合量に
対して0.05〜6重量%の範囲で含まれてなる請求項
13又は14に記載の洗浄除去剤。
15. The cleaning / removing agent according to claim 13, wherein the component c is contained in an amount of 0.05 to 6% by weight based on the total amount of the components a and b.
【請求項16】 前記d成分が前記a、b成分の合量に
対して10〜50重量%の範囲で含まれてなる請求項1
3〜15のいずれかに記載の洗浄除去剤。
16. The component d is contained in an amount of 10 to 50% by weight based on the total amount of the components a and b.
The cleaning / removing agent according to any one of 3 to 15.
【請求項17】 前記e成分が前記a、b成分の合量に
対して10〜60重量%の範囲で含まれてなる請求項1
3〜16のいずれかに記載の洗浄除去剤。
17. The e component is contained in the range of 10 to 60% by weight with respect to the total amount of the a and b components.
The cleaning / removing agent according to any one of 3 to 16.
【請求項18】 PHが5.8〜8.6の範囲にある請
求項13〜17のいずれかに記載の洗浄除去剤。
18. The cleaning / removing agent according to claim 13, which has a PH in the range of 5.8 to 8.6.
【請求項19】 前記請求項13〜18のいずれかに記
載の洗浄除去剤を用いた洗浄除去剤により、半田付け後
の部品表面に残留する半田フラックス及びその変形物を
除去することを特徴とする洗浄方法。
19. A cleaning and removing agent using the cleaning and removing agent according to any one of claims 13 to 18 is used to remove the solder flux and its variants remaining on the surface of the component after soldering. How to wash.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2004313968A (en) * 2003-04-17 2004-11-11 Kao Corp Washing method of fiber product for cleaning
KR20040108282A (en) * 2003-06-17 2004-12-23 주식회사 엘지생활건강 Liquid cleaner composition
JP2010189635A (en) * 2009-01-26 2010-09-02 Kaken Tec Kk Stock solution for detergent composition, detergent composition, and washing method
JP2020050781A (en) * 2018-09-27 2020-04-02 株式会社Adeka Concentrated liquid detergent composition for automatic dishwasher and washing method of tableware by automatic dishwasher

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