JP2003048715A - セラミックス分散液およびその製造方法 - Google Patents
セラミックス分散液およびその製造方法Info
- Publication number
- JP2003048715A JP2003048715A JP2001348329A JP2001348329A JP2003048715A JP 2003048715 A JP2003048715 A JP 2003048715A JP 2001348329 A JP2001348329 A JP 2001348329A JP 2001348329 A JP2001348329 A JP 2001348329A JP 2003048715 A JP2003048715 A JP 2003048715A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic
- transmittance
- wavelength
- spectrum
- dispersion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 63
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 35
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 27
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 17
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 claims description 12
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 25
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 abstract description 12
- -1 for example Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 abstract description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 abstract description 3
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical class S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 7
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 7
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 5
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000011268 mixed slurry Substances 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- XAYGUHUYDMLJJV-UHFFFAOYSA-Z decaazanium;dioxido(dioxo)tungsten;hydron;trioxotungsten Chemical compound [H+].[H+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O XAYGUHUYDMLJJV-UHFFFAOYSA-Z 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M rubidium hydroxide Chemical compound [OH-].[Rb+] CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(2-fluorophenyl)ethanol Chemical compound NCC(O)C1=CC=CC=C1F MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLQPHQFNMLZJMP-UHFFFAOYSA-N Fentrazamide Chemical compound N1=NN(C=2C(=CC=CC=2)Cl)C(=O)N1C(=O)N(CC)C1CCCCC1 LLQPHQFNMLZJMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- XFVGXQSSXWIWIO-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;titanium Chemical compound [Ti].ClOCl XFVGXQSSXWIWIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【課題】 可視光線の照射に対して高い光触媒活性を示
す塗布膜が形成可能なセラミックス分散液およびその製
造方法を提供する。 【解決手段】 波長８００ｎｍにおける透過率をＴ
1（％）とし、波長４００ｎｍにおける透過率をＴ
2（％）としたとき、下式（I） Ｘ＝Ｔ2／Ｔ1 （I） で示される指数Ｘが０．１７５以下であることを特徴と
するセラミックス（例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｔｃ、Ｒｅ、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃ
ｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｇ
ｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅのような金属元素の
１種または２種以上の酸化物、窒化物、硫化物、酸窒化
物または酸硫化物）分散液。
す塗布膜が形成可能なセラミックス分散液およびその製
造方法を提供する。 【解決手段】 波長８００ｎｍにおける透過率をＴ
1（％）とし、波長４００ｎｍにおける透過率をＴ
2（％）としたとき、下式（I） Ｘ＝Ｔ2／Ｔ1 （I） で示される指数Ｘが０．１７５以下であることを特徴と
するセラミックス（例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｔｃ、Ｒｅ、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃ
ｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｇ
ｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅのような金属元素の
１種または２種以上の酸化物、窒化物、硫化物、酸窒化
物または酸硫化物）分散液。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、セラミックス分散
液およびその製造方法に関するものである。このセラミ
ックス分散液は、各種材料への光触媒膜、保護被膜、紫
外線カット膜、着色膜、誘電体膜、磁性体膜、膜型セン
サー、導電性膜等に利用されるものである。
液およびその製造方法に関するものである。このセラミ
ックス分散液は、各種材料への光触媒膜、保護被膜、紫
外線カット膜、着色膜、誘電体膜、磁性体膜、膜型セン
サー、導電性膜等に利用されるものである。
【０００２】
【従来の技術】これまでに種々のセラミックス分散液が
報告されている。特に近年、光触媒作用を示す塗布膜を
形成するために用いるセラミックス分散液が注目されて
いる。例えば、特開２０００−３０２４２２号公報に
は、水溶性チタン化合物とリン酸化合物を水中で反応さ
せて得られる水和リン酸チタン化合物のゾルに酸化チタ
ン粒子を分散させることによって、光触媒となる酸化チ
タンが分散されたコーティング液を調製することが記載
されている。また、光触媒膜を形成するための酸化チタ
ンが水中に分散されたコーティング液も市販されてい
る。ところが、従来公知の光触媒用酸化チタンコーティ
ング液から得られる塗布膜は、可視光線を照射したとき
の光触媒活性が必ずしも高いとはいえなかった。
報告されている。特に近年、光触媒作用を示す塗布膜を
形成するために用いるセラミックス分散液が注目されて
いる。例えば、特開２０００−３０２４２２号公報に
は、水溶性チタン化合物とリン酸化合物を水中で反応さ
せて得られる水和リン酸チタン化合物のゾルに酸化チタ
ン粒子を分散させることによって、光触媒となる酸化チ
タンが分散されたコーティング液を調製することが記載
されている。また、光触媒膜を形成するための酸化チタ
ンが水中に分散されたコーティング液も市販されてい
る。ところが、従来公知の光触媒用酸化チタンコーティ
ング液から得られる塗布膜は、可視光線を照射したとき
の光触媒活性が必ずしも高いとはいえなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
可視光線の照射に対して高い光触媒活性を示す塗布膜が
形成できるセラミックス分散液、例えば酸化チタン分散
液を開発すべく、研究を行った結果、セラミックス分散
液の透過率特性と、得られる塗布膜の光触媒活性との間
にある種の相関があること、そして、ある種の処理を施
して所定の透過率特性を有するようにしたセラミックス
分散液からは、可視光線の照射に対して高い光触媒活性
を示す塗布膜が形成できることを見出し、本発明を完成
するに至った。
可視光線の照射に対して高い光触媒活性を示す塗布膜が
形成できるセラミックス分散液、例えば酸化チタン分散
液を開発すべく、研究を行った結果、セラミックス分散
液の透過率特性と、得られる塗布膜の光触媒活性との間
にある種の相関があること、そして、ある種の処理を施
して所定の透過率特性を有するようにしたセラミックス
分散液からは、可視光線の照射に対して高い光触媒活性
を示す塗布膜が形成できることを見出し、本発明を完成
するに至った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、波長
８００ｎｍにおける透過率をＴ1（％）とし、波長４０
０ｎｍにおける透過率をＴ2（％）としたとき、下式
（I） Ｘ＝Ｔ2／Ｔ1 （I） で示される指数Ｘが０．１７５以下であることを特徴と
するセラミックス分散液を提供するものである。
８００ｎｍにおける透過率をＴ1（％）とし、波長４０
０ｎｍにおける透過率をＴ2（％）としたとき、下式
（I） Ｘ＝Ｔ2／Ｔ1 （I） で示される指数Ｘが０．１７５以下であることを特徴と
するセラミックス分散液を提供するものである。
【０００５】また本発明は、セラミックスと過酸化水素
を混合し、得られる混合物に、当該セラミックスの結晶
構造を実質的に変えない条件で、分散処理を施すことを
特徴とするセラミックス分散液の製造方法を提供するも
のである。
を混合し、得られる混合物に、当該セラミックスの結晶
構造を実質的に変えない条件で、分散処理を施すことを
特徴とするセラミックス分散液の製造方法を提供するも
のである。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のセラミックス分散液は、波長８００ｎｍにおけ
る透過率をＴ1（％）とし、波長４００ｎｍにおける透
過率をＴ2（％）としたとき、前記式（I）で示される指
数Ｘが０．１７５以下のものである。なお、透過率
Ｔ1、Ｔ2は、紫外可視分光光度計を用いてセラミックス
分散液の透過スペクトルを測定し、このスペクトルの波
長４００ｎｍ、８００ｎｍにおける透過率を読み取るこ
とにより求めることができる。
本発明のセラミックス分散液は、波長８００ｎｍにおけ
る透過率をＴ1（％）とし、波長４００ｎｍにおける透
過率をＴ2（％）としたとき、前記式（I）で示される指
数Ｘが０．１７５以下のものである。なお、透過率
Ｔ1、Ｔ2は、紫外可視分光光度計を用いてセラミックス
分散液の透過スペクトルを測定し、このスペクトルの波
長４００ｎｍ、８００ｎｍにおける透過率を読み取るこ
とにより求めることができる。
【０００７】前記指数Ｘは、セラミックス分散液の透過
率特性を表す指標であり、指数Ｘが小さいことは、波長
４００ｎｍにおける透過率が小さく、８００ｎｍにおけ
る透過率が大きいことを意味する。従来公知のセラミッ
クス分散液の場合、同じセラミックス濃度では４００ｎ
ｍにおける透過率が大きい。セラミックス濃度を高くす
ると、４００ｎｍにおける透過率は小さくなるが、それ
とともに８００ｎｍの透過率も小さくなって、指数Ｘは
０．１７５より大きくなる。このように指数Ｘが大きい
セラミックス分散液では、可視光線を照射したとき、高
い光触媒活性を示す塗布膜を形成することができない。
なお、セラミックスの濃度によって、その分散液の各波
長における透過率自体は変化するが、濃度が変わって
も、２点の波長における透過率の比は概ね一定であり、
上記の指数Ｘも、コーティングに適用できる濃度の範囲
（通常０．１〜３０重量％）であれば、その濃度変化に
よらず、概ね一定となる。そこで本発明では、前記指数
Ｘを０．１７５以下とする。この指数Ｘは小さいほど好
ましく、例えば０．１６以下、さらには０．１５５以下
であるのが一層好ましい。
率特性を表す指標であり、指数Ｘが小さいことは、波長
４００ｎｍにおける透過率が小さく、８００ｎｍにおけ
る透過率が大きいことを意味する。従来公知のセラミッ
クス分散液の場合、同じセラミックス濃度では４００ｎ
ｍにおける透過率が大きい。セラミックス濃度を高くす
ると、４００ｎｍにおける透過率は小さくなるが、それ
とともに８００ｎｍの透過率も小さくなって、指数Ｘは
０．１７５より大きくなる。このように指数Ｘが大きい
セラミックス分散液では、可視光線を照射したとき、高
い光触媒活性を示す塗布膜を形成することができない。
なお、セラミックスの濃度によって、その分散液の各波
長における透過率自体は変化するが、濃度が変わって
も、２点の波長における透過率の比は概ね一定であり、
上記の指数Ｘも、コーティングに適用できる濃度の範囲
（通常０．１〜３０重量％）であれば、その濃度変化に
よらず、概ね一定となる。そこで本発明では、前記指数
Ｘを０．１７５以下とする。この指数Ｘは小さいほど好
ましく、例えば０．１６以下、さらには０．１５５以下
であるのが一層好ましい。
【０００８】また本発明のセラミックス分散液は、透過
スペクトルを測定したときの、波長４００ｎｍ〜４２０
ｎｍでのスペクトルの透過率の積算値をＡとし、波長７
８０ｎｍ〜８００ｎｍでのスペクトルの透過率の積算値
をＢとしたときに、下式（II） Ｙ＝Ａ／Ｂ （II） で示される指数Ｙが０．４以下、さらには０．３以下、
とりわけ０．２３以下であるものが好ましい。分散液の
前記指数Ｙが０．４を超えると、これを用いて得られる
塗布膜は、可視光線の吸収量が少なくなり、可視光線の
照射に対して十分な光触媒作用を示さない。透過率の積
算値とは、縦軸に透過率、横軸に波長をとった透過スペ
クトルにおいて、指定された波長の範囲内で横軸と透過
スペクトルとで囲まれた領域の面積を意味する。
スペクトルを測定したときの、波長４００ｎｍ〜４２０
ｎｍでのスペクトルの透過率の積算値をＡとし、波長７
８０ｎｍ〜８００ｎｍでのスペクトルの透過率の積算値
をＢとしたときに、下式（II） Ｙ＝Ａ／Ｂ （II） で示される指数Ｙが０．４以下、さらには０．３以下、
とりわけ０．２３以下であるものが好ましい。分散液の
前記指数Ｙが０．４を超えると、これを用いて得られる
塗布膜は、可視光線の吸収量が少なくなり、可視光線の
照射に対して十分な光触媒作用を示さない。透過率の積
算値とは、縦軸に透過率、横軸に波長をとった透過スペ
クトルにおいて、指定された波長の範囲内で横軸と透過
スペクトルとで囲まれた領域の面積を意味する。
【０００９】さらに本発明のセラミックス分散液は、上
の透過スペクトルを波長について微分して得られる１次
微分スペクトル（以下、透過１次微分スペクトルとい
う。）のスペクトル強度が極大となる波長が４００ｎｍ
以上、さらには４５０ｎｍ以上、とりわけ４８０ｎｍ以
上、また７６０ｎｍ以下、さらには７２０ｎｍ以下、と
りわけ６７０ｎｍ以下にあるものが好ましい。このよう
な極大となる波長が特定範囲にある分散液を用いること
により、可視光線の照射に対して優れた光触媒活性を示
す塗布膜を形成することができる。
の透過スペクトルを波長について微分して得られる１次
微分スペクトル（以下、透過１次微分スペクトルとい
う。）のスペクトル強度が極大となる波長が４００ｎｍ
以上、さらには４５０ｎｍ以上、とりわけ４８０ｎｍ以
上、また７６０ｎｍ以下、さらには７２０ｎｍ以下、と
りわけ６７０ｎｍ以下にあるものが好ましい。このよう
な極大となる波長が特定範囲にある分散液を用いること
により、可視光線の照射に対して優れた光触媒活性を示
す塗布膜を形成することができる。
【００１０】本発明において、分散しているセラミック
スは平均粒子径５００ｎｍ以下の粒子であることが好ま
しく、さらには４００ｎｍ以下、とりわけ３８０ｎｍ以
下の粒子であることが好ましい。セラミックスが平均粒
子径５００ｎｍを超える粒子であると、長期間保管した
とき、セラミックスが沈降する不具合が生じることがあ
る。セラミックスとしては、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈ
ｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｔｃ、Ｒ
ｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉ
ｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉ
ｎ、Ｔｌ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅのよう
な金属元素の１種または２種以上の酸化物、窒化物、硫
化物、酸窒化物または酸硫化物等が挙げられる。中で
も、Ｔｉ，ＷまたはＮｂの酸化物の適用が推奨され、と
りわけ、結晶構造がアナタ-ゼ型である酸化チタン〔Ｔ
ｉＯ2〕が好ましい。
スは平均粒子径５００ｎｍ以下の粒子であることが好ま
しく、さらには４００ｎｍ以下、とりわけ３８０ｎｍ以
下の粒子であることが好ましい。セラミックスが平均粒
子径５００ｎｍを超える粒子であると、長期間保管した
とき、セラミックスが沈降する不具合が生じることがあ
る。セラミックスとしては、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈ
ｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｔｃ、Ｒ
ｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉ
ｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉ
ｎ、Ｔｌ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅのよう
な金属元素の１種または２種以上の酸化物、窒化物、硫
化物、酸窒化物または酸硫化物等が挙げられる。中で
も、Ｔｉ，ＷまたはＮｂの酸化物の適用が推奨され、と
りわけ、結晶構造がアナタ-ゼ型である酸化チタン〔Ｔ
ｉＯ2〕が好ましい。
【００１１】前記のアナターゼ型酸化チタンは、例え
ば、三塩化チタン〔ＴｉＣｌ3〕、四塩化チタン〔Ｔｉ
Ｃｌ4〕、硫酸チタン〔Ｔｉ（ＳＯ4）2・ｍＨ2Ｏ、０≦
ｍ≦２０〕、オキシ硫酸チタン〔ＴｉＯＳＯ4・ｎＨ
2Ｏ、０≦ｎ≦２０〕、オキシ塩化チタン〔ＴｉＯＣ
ｌ2〕のようなチタン化合物と、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモ
ニア、ヒドラジン、ヒドロキシルアミン、モノエタノー
ルアミン、非環式アミン化合物、環式脂肪族アミン化合
物のような塩基をｐＨ２〜７、好ましくはｐＨ３〜５で
反応させ、得られる生成物にアンモニアのような塩基を
添加、混合し、熟成した後、この熟成物を洗浄し、乾燥
し、焼成する方法、または冷却したアンモニアのような
塩基に、撹拌しながら、オキシ硫酸チタン水溶液を９５
℃以下のエバポレ−ターにてＴｉＯＳＯ4換算で５０重
量％以上となるまで濃縮して得られる固体のオキシ硫酸
チタンを添加して、４０℃以下で反応させた後、この生
成物を固液分離して得られる固形物を洗浄、乾燥し、３
００℃〜５００℃で焼成する方法等で調製することがで
きる。この酸化チタンには、必要に応じて、タングステ
ン酸化物、ニオブ酸化物、鉄酸化物、ニッケル酸化物の
ような固体酸性を示す化合物またはランタン酸化物、セ
リウム酸化物のような固体塩基性を示す化合物、またイ
ンジウム酸化物やビスマス酸化物のような可視光線を吸
収する金属化合物を担持してもよい。
ば、三塩化チタン〔ＴｉＣｌ3〕、四塩化チタン〔Ｔｉ
Ｃｌ4〕、硫酸チタン〔Ｔｉ（ＳＯ4）2・ｍＨ2Ｏ、０≦
ｍ≦２０〕、オキシ硫酸チタン〔ＴｉＯＳＯ4・ｎＨ
2Ｏ、０≦ｎ≦２０〕、オキシ塩化チタン〔ＴｉＯＣ
ｌ2〕のようなチタン化合物と、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモ
ニア、ヒドラジン、ヒドロキシルアミン、モノエタノー
ルアミン、非環式アミン化合物、環式脂肪族アミン化合
物のような塩基をｐＨ２〜７、好ましくはｐＨ３〜５で
反応させ、得られる生成物にアンモニアのような塩基を
添加、混合し、熟成した後、この熟成物を洗浄し、乾燥
し、焼成する方法、または冷却したアンモニアのような
塩基に、撹拌しながら、オキシ硫酸チタン水溶液を９５
℃以下のエバポレ−ターにてＴｉＯＳＯ4換算で５０重
量％以上となるまで濃縮して得られる固体のオキシ硫酸
チタンを添加して、４０℃以下で反応させた後、この生
成物を固液分離して得られる固形物を洗浄、乾燥し、３
００℃〜５００℃で焼成する方法等で調製することがで
きる。この酸化チタンには、必要に応じて、タングステ
ン酸化物、ニオブ酸化物、鉄酸化物、ニッケル酸化物の
ような固体酸性を示す化合物またはランタン酸化物、セ
リウム酸化物のような固体塩基性を示す化合物、またイ
ンジウム酸化物やビスマス酸化物のような可視光線を吸
収する金属化合物を担持してもよい。
【００１２】本発明において、前記セラミックスを分散
させる分散媒には、各種の水性媒体を適用することがで
きる。水性媒体としては、水、過酸化水素水等が挙げら
れ、水には夾雑イオンの少ないイオン交換水が好ましく
用いられる。
させる分散媒には、各種の水性媒体を適用することがで
きる。水性媒体としては、水、過酸化水素水等が挙げら
れ、水には夾雑イオンの少ないイオン交換水が好ましく
用いられる。
【００１３】本発明のセラミックス分散液は、例えば、
セラミックスと過酸化水素を混合し、得られる混合物に
分散処理を施すことにより得ることができる。
セラミックスと過酸化水素を混合し、得られる混合物に
分散処理を施すことにより得ることができる。
【００１４】ここで用いられるセラミックスは、Ｘ線回
折で求められる結晶構造をもつ、金属元素と酸素、窒素
またはイオウとの化合物であればよく、例えば、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、
Ｔｃ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏ
ｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ
のような金属元素の酸化物、窒化物、硫化物、酸窒化物
または酸硫化物等である。これらは１種または２種以上
組合せて用いることができる。
折で求められる結晶構造をもつ、金属元素と酸素、窒素
またはイオウとの化合物であればよく、例えば、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、
Ｔｃ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏ
ｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ
のような金属元素の酸化物、窒化物、硫化物、酸窒化物
または酸硫化物等である。これらは１種または２種以上
組合せて用いることができる。
【００１５】セラミックスと混合される過酸化水素は、
通常、濃度０．１重量％以上、３０重量％以下の水溶液
である。過酸化水素の濃度が３０重量％を超えると、分
散処理するとき、過酸化水素の分解が急激に起きること
がある。過酸化水素の濃度が０．１重量％未満である
と、得られるセラミックス分散液は安定性が低下して、
長期間保存したとき、分散液中のセラミックスの一部が
沈降することがある。過酸化水素の混合量は、セラミッ
クスに対して、通常０．０１モル倍以上、好ましくは１
モル倍以上、また４００モル倍以下、好ましくは５０モ
ル倍以下である。
通常、濃度０．１重量％以上、３０重量％以下の水溶液
である。過酸化水素の濃度が３０重量％を超えると、分
散処理するとき、過酸化水素の分解が急激に起きること
がある。過酸化水素の濃度が０．１重量％未満である
と、得られるセラミックス分散液は安定性が低下して、
長期間保存したとき、分散液中のセラミックスの一部が
沈降することがある。過酸化水素の混合量は、セラミッ
クスに対して、通常０．０１モル倍以上、好ましくは１
モル倍以上、また４００モル倍以下、好ましくは５０モ
ル倍以下である。
【００１６】分散処理は前記セラミックス主成分の結晶
構造を実質的に変えることなく、すなわちセラミックス
主成分について、相転移させることなくＸ線回折スペク
トルから求められる結晶構造を保持することができる条
件で行う。そのため、分散処理は８５℃未満の温度で行
うことが推奨される。セラミックスの結晶構造を保持す
る観点からは、低温で分散処理を行うことが好ましく、
８０℃以下、さらには７５℃以下で行うことが好まし
い。一方、分散処理の温度があまり低くなると、得られ
るセラミックス分散液の安定性が低下することがあるの
で、１０℃以上、さらには２０℃以上が適当である。分
散処理は、例えば、超音波照射による方法、湿式ミル等
による方法、または混合物を急激に減圧したり、高速回
転する羽根で攪拌して、液中に空洞（キャビティ）を発
生させ、その空洞が消滅するときに生じる圧力変化を利
用する方法で行うことができる。これらの方法は、単独
で行うこともできるし、２以上組合せて行うこともでき
る。本発明では、特に、超音波照射による方法が推奨さ
れる。この方法の場合、分散処理は、セラミックス１ｇ
当り超音波出力として通常１Ｗｈ以上、好ましくは１０
Ｗｈ以上、また１０ｋＷｈ以下、好ましくは３ｋＷｈ以
下となる条件で行われる。
構造を実質的に変えることなく、すなわちセラミックス
主成分について、相転移させることなくＸ線回折スペク
トルから求められる結晶構造を保持することができる条
件で行う。そのため、分散処理は８５℃未満の温度で行
うことが推奨される。セラミックスの結晶構造を保持す
る観点からは、低温で分散処理を行うことが好ましく、
８０℃以下、さらには７５℃以下で行うことが好まし
い。一方、分散処理の温度があまり低くなると、得られ
るセラミックス分散液の安定性が低下することがあるの
で、１０℃以上、さらには２０℃以上が適当である。分
散処理は、例えば、超音波照射による方法、湿式ミル等
による方法、または混合物を急激に減圧したり、高速回
転する羽根で攪拌して、液中に空洞（キャビティ）を発
生させ、その空洞が消滅するときに生じる圧力変化を利
用する方法で行うことができる。これらの方法は、単独
で行うこともできるし、２以上組合せて行うこともでき
る。本発明では、特に、超音波照射による方法が推奨さ
れる。この方法の場合、分散処理は、セラミックス１ｇ
当り超音波出力として通常１Ｗｈ以上、好ましくは１０
Ｗｈ以上、また１０ｋＷｈ以下、好ましくは３ｋＷｈ以
下となる条件で行われる。
【００１７】分散処理の時間は、分散処理の温度、使用
する装置の種類に応じて適宜選択すればよく、通常１分
以上、好ましくは１時間以上、また５０時間以内、好ま
しくは２４時間以内である。
する装置の種類に応じて適宜選択すればよく、通常１分
以上、好ましくは１時間以上、また５０時間以内、好ま
しくは２４時間以内である。
【００１８】分散処理された混合物には、必要に応じ
て、遠心分離による粗大粒子を除去する操作、希釈によ
るセラミックス含有量を調整する操作、または酸もしく
は塩基を添加することによるｐＨを調整する操作が施さ
れる。このとき用いる酸としては、例えば、塩酸、硝
酸、リン酸、硫酸等が挙げられ、塩基としては、例え
ば、アンモニア、尿素、ヒドラジン、水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、
水酸化ルビジウム等が挙げられる。
て、遠心分離による粗大粒子を除去する操作、希釈によ
るセラミックス含有量を調整する操作、または酸もしく
は塩基を添加することによるｐＨを調整する操作が施さ
れる。このとき用いる酸としては、例えば、塩酸、硝
酸、リン酸、硫酸等が挙げられ、塩基としては、例え
ば、アンモニア、尿素、ヒドラジン、水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、
水酸化ルビジウム等が挙げられる。
【００１９】分散処理された混合物または任意の前記操
作を施された混合物は、セラミックス分散液として使用
することができる。分散液のセラミックス含有量は、塗
布対象である基材の種類、所望とする塗布膜の厚み等に
応じて適宜選択すればよいが、通常０．１〜３０重量％
である。このセラミックス分散液を硝子、プラスチッ
ク、金属、陶磁器のような基材に塗布し、乾燥すること
により、基材上にセラミックス塗布膜を形成することが
できる。
作を施された混合物は、セラミックス分散液として使用
することができる。分散液のセラミックス含有量は、塗
布対象である基材の種類、所望とする塗布膜の厚み等に
応じて適宜選択すればよいが、通常０．１〜３０重量％
である。このセラミックス分散液を硝子、プラスチッ
ク、金属、陶磁器のような基材に塗布し、乾燥すること
により、基材上にセラミックス塗布膜を形成することが
できる。
【００２０】本発明のセラミックス分散液は、可視光線
が当たらない条件で保管することが好ましく、例えば暗
室で保管したり、または遮光性容器に入れて保管するこ
とが好ましい。本発明のセラミックス分散液を透明ガラ
ス製容器に入れて、照明装置がある屋内に長期間保管し
た場合には、セラミックス粒子の高い分散性を維持する
のが困難になることがある。
が当たらない条件で保管することが好ましく、例えば暗
室で保管したり、または遮光性容器に入れて保管するこ
とが好ましい。本発明のセラミックス分散液を透明ガラ
ス製容器に入れて、照明装置がある屋内に長期間保管し
た場合には、セラミックス粒子の高い分散性を維持する
のが困難になることがある。
【００２１】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。本実施例では、光触媒用酸化チタン分散液について
述べるが、本発明は本実施例に限定されるものではな
い。なお、酸化チタン分散液の透過率、その積算値およ
び透過１次微分スペクトルのスペクトル強度が極大とな
る波長ならびに酸化チタンの平均粒子径および結晶構造
は以下の方法で求めた。
る。本実施例では、光触媒用酸化チタン分散液について
述べるが、本発明は本実施例に限定されるものではな
い。なお、酸化チタン分散液の透過率、その積算値およ
び透過１次微分スペクトルのスペクトル強度が極大とな
る波長ならびに酸化チタンの平均粒子径および結晶構造
は以下の方法で求めた。
【００２２】透過率（％）、透過率の積算値：横１ｃ
ｍ、縦１ｃｍ、高さ４．５ｃｍの石英製セルの１つに、
固形分濃度０．２重量％に調節した試料（酸化チタン分
散液）を入れ、同型石英セルの他の１つに水を入れ、積
分球を備えた紫外可視分光光度計（商品名“ＵＶ−２５
００ＰＣ”、島津製作所製）を用いて、後者のセルを参
照セルとし、硫酸バリウムを標準白板として、酸化チタ
ン分散液の透過スペクトルを測定した。このスペクトル
から、波長８００ｎｍにおける透過率Ｔ1（％）および
４００ｎｍにおける透過率Ｔ2（％）を求めた。また、
波長４００ｎｍ〜４２０ｎｍでのスペクトルの透過率を
積算して積算値Ａを求め、波長７８０ｎｍ〜８００ｎｍ
でのスペクトルの透過率を積算して積算値Ｂを求めた。
ｍ、縦１ｃｍ、高さ４．５ｃｍの石英製セルの１つに、
固形分濃度０．２重量％に調節した試料（酸化チタン分
散液）を入れ、同型石英セルの他の１つに水を入れ、積
分球を備えた紫外可視分光光度計（商品名“ＵＶ−２５
００ＰＣ”、島津製作所製）を用いて、後者のセルを参
照セルとし、硫酸バリウムを標準白板として、酸化チタ
ン分散液の透過スペクトルを測定した。このスペクトル
から、波長８００ｎｍにおける透過率Ｔ1（％）および
４００ｎｍにおける透過率Ｔ2（％）を求めた。また、
波長４００ｎｍ〜４２０ｎｍでのスペクトルの透過率を
積算して積算値Ａを求め、波長７８０ｎｍ〜８００ｎｍ
でのスペクトルの透過率を積算して積算値Ｂを求めた。
【００２３】透過１次微分スペクトルのスペクトル強度
が極大となる波長（ｎｍ）：紫外可視分光光度計（商品
名“ＵＶ−２５００ＰＣ”、島津製作所製）付属のソフ
トウェアを用いて、上で得た透過スペクトルのうち、波
長４００〜７６０ｎｍのスペクトルを波長λについてΔ
λ＝４０ｎｍの条件で微分して、透過１次微分スペクト
ルを求めた。さらに、このソフトウェアを使って、透過
１次微分スペクトルのスペクトル強度が極大となる波長
を求めた。
が極大となる波長（ｎｍ）：紫外可視分光光度計（商品
名“ＵＶ−２５００ＰＣ”、島津製作所製）付属のソフ
トウェアを用いて、上で得た透過スペクトルのうち、波
長４００〜７６０ｎｍのスペクトルを波長λについてΔ
λ＝４０ｎｍの条件で微分して、透過１次微分スペクト
ルを求めた。さらに、このソフトウェアを使って、透過
１次微分スペクトルのスペクトル強度が極大となる波長
を求めた。
【００２４】平均粒子径（ｎｍ）：サブミクロン粒度分
布測定装置（商品名“Ｎ４Ｐｌｕｓ”、コールター製）
を用いて、試料の粒度分布を測定し、累積５０重量％径
を求め、これを平均粒子径とした。
布測定装置（商品名“Ｎ４Ｐｌｕｓ”、コールター製）
を用いて、試料の粒度分布を測定し、累積５０重量％径
を求め、これを平均粒子径とした。
【００２５】結晶構造：Ｘ線回折装置（商品名“ＲＡＤ
−ＩＩＡ”、理学電機製）を用いて、試料のＸ線回折ス
ペクトルを測定し、そのスペクトルから主成分の結晶構
造を求めた。
−ＩＩＡ”、理学電機製）を用いて、試料のＸ線回折ス
ペクトルを測定し、そのスペクトルから主成分の結晶構
造を求めた。
【００２６】実施例１
〔光触媒用酸化チタンの調製〕オキシ硫酸チタン（テイ
カ製）３３８８ｇを水２２５８ｇに溶解させ、オキシ硫
酸チタン水溶液を得た。ｐＨ電極と、このｐＨ電極に接
続され、２５重量％アンモニア水（試薬特級、和光純薬
工業製）を供給してｐＨを一定に調節する機構を有する
ｐＨコントローラとを備えた反応容器に水４７０２ｇを
入れた。ｐＨコントローラーのｐＨ設定値を４とし、水
のｐＨを設定値に調節した。この反応容器内に、１１７
ｒｐｍで攪拌しながら、上で得られたオキシ硫酸チタン
水溶液５６４６ｇを１３ｍｌ／ｍｉｎで添加し、ｐＨコ
ントローラにより反応容器内に供給されるアンモニア水
と反応させた。オキシ硫酸チタン水溶液の添加終了後、
更にアンモニア水を添加して、スラリーを得た。ここま
でに添加した２５重量％アンモニア水の量は３７４６ｇ
であった。このスラリーを濾過して得られた固形物をイ
オン交換水で洗浄し、乾燥して、粉末を得た。この粉末
を４５０℃の空気中で１時間焼成して、粒子状アナター
ゼ型酸化チタンを調製した。ついで、パラタングステン
酸アンモニウム５水和物（(ＮＨ4)10Ｗ12Ｏ41・５Ｈ
2Ｏ、和光純薬工業製）６４ｇを１５７１ｇのイオン交
換水に溶解させて、パラタングステン酸アンモニウム水
溶液を調製した。このパラタングステン酸アンモニウム
水溶液に、上で得られた粒子状アナターゼ型酸化チタン
４５０ｇを添加し、常温常圧下で２０分間攪拌した。つ
いで、この混合物を、攪拌しながら、減圧下、５５℃〜
６０℃の条件で水分を蒸発させた後、３９０℃の空気中
で１時間焼成して、光触媒用酸化チタンを得た。この光
触媒用酸化チタンは、酸化チタンの上に該酸化チタンの
チタンに対してタングステン換算で５ｍｏｌ％の酸化タ
ングステンを有するものである。
カ製）３３８８ｇを水２２５８ｇに溶解させ、オキシ硫
酸チタン水溶液を得た。ｐＨ電極と、このｐＨ電極に接
続され、２５重量％アンモニア水（試薬特級、和光純薬
工業製）を供給してｐＨを一定に調節する機構を有する
ｐＨコントローラとを備えた反応容器に水４７０２ｇを
入れた。ｐＨコントローラーのｐＨ設定値を４とし、水
のｐＨを設定値に調節した。この反応容器内に、１１７
ｒｐｍで攪拌しながら、上で得られたオキシ硫酸チタン
水溶液５６４６ｇを１３ｍｌ／ｍｉｎで添加し、ｐＨコ
ントローラにより反応容器内に供給されるアンモニア水
と反応させた。オキシ硫酸チタン水溶液の添加終了後、
更にアンモニア水を添加して、スラリーを得た。ここま
でに添加した２５重量％アンモニア水の量は３７４６ｇ
であった。このスラリーを濾過して得られた固形物をイ
オン交換水で洗浄し、乾燥して、粉末を得た。この粉末
を４５０℃の空気中で１時間焼成して、粒子状アナター
ゼ型酸化チタンを調製した。ついで、パラタングステン
酸アンモニウム５水和物（(ＮＨ4)10Ｗ12Ｏ41・５Ｈ
2Ｏ、和光純薬工業製）６４ｇを１５７１ｇのイオン交
換水に溶解させて、パラタングステン酸アンモニウム水
溶液を調製した。このパラタングステン酸アンモニウム
水溶液に、上で得られた粒子状アナターゼ型酸化チタン
４５０ｇを添加し、常温常圧下で２０分間攪拌した。つ
いで、この混合物を、攪拌しながら、減圧下、５５℃〜
６０℃の条件で水分を蒸発させた後、３９０℃の空気中
で１時間焼成して、光触媒用酸化チタンを得た。この光
触媒用酸化チタンは、酸化チタンの上に該酸化チタンの
チタンに対してタングステン換算で５ｍｏｌ％の酸化タ
ングステンを有するものである。
【００２７】〔光触媒用酸化チタン分散液の調製〕上で
得られた光触媒用酸化チタン３００ｇをイオン交換水に
懸濁し、得られた酸化チタンスラリー３０１０ｇを媒体
攪拌式粉砕機（商品名“ダイノーミル ＫＤＬ−ＰＩＬ
ＯＴ型”、シンマルエンタープライズ製）を用いて、媒
体：外径０．６５ｍｍのジルコニア製ビーズ、攪拌羽根
の周速：１０ｍ／ｍｉｎ、処理時間：３０ｍｉｎの条件
で、分散処理した。０．５Ｌのフラスコに、この分散処
理後の酸化チタンスラリー１６ｇ、３０重量％過酸化水
素水１１ｇおよびイオン交換水１４１ｇを入れて混合ス
ラリーとした後、このフラスコを、水を入れた超音波照
射槽（商品名“ＵＥ−４００Ｆ２８Ｓ−１Ｅ”、周波
数：２８ｋＨｚ、発振方式：自振発振、占有周波数帯幅
または周波数変動幅：±１．５ｋＨｚ、高周波出力：４
００Ｗ、負荷と電極との結合方式：誘導結合、超音波工
業製）の中に置いた。フラスコ内の混合スラリーに、７
００ｒｐｍで攪拌し、かつスラリー温度を５５〜７０℃
の範囲に保持しながら、超音波を８時間照射して、分散
処理した。ここで用いた過酸化水素の量は、光触媒用酸
化チタンに対して、５．３モル倍であった。また、この
ときの超音波照射の出力は、光触媒用酸化チタン１ｇ当
り２ｋＷｈであった。超音波照射後の混合スラリーを遠
心分離し、上澄みを分取して、均質な光触媒用酸化チタ
ン分散液を得た。この分散液は、固形分濃度が０．２８
重量％であり、固形分の平均粒子径が３７５ｎｍであ
り、また固形分は、結晶構造がアナターゼ型である酸化
チタンが主成分であった。分散液に水を加えて、固形分
濃度を０．２重量％に調整した後、分散液の透過スペク
トルを測定した。この透過スペクトルを図１に、波長８
００ｎｍにおける透過率Ｔ1、波長４００ｎｍにおける
透過率Ｔ2、波長４００ｎｍ〜４２０ｎｍでのスペクト
ルの透過率の積算値Ａ、波長７８０ｎｍ〜８００ｎｍで
のスペクトルの透過率の積算値Ｂ、指数Ｘ（＝Ｔ2／
Ｔ1）および指数Ｙ（＝Ａ／Ｂ）を表１に示す。また透
過１次微分スペクトルを図２に、そのスペクトル強度が
極大となる波長を表１に示す。
得られた光触媒用酸化チタン３００ｇをイオン交換水に
懸濁し、得られた酸化チタンスラリー３０１０ｇを媒体
攪拌式粉砕機（商品名“ダイノーミル ＫＤＬ−ＰＩＬ
ＯＴ型”、シンマルエンタープライズ製）を用いて、媒
体：外径０．６５ｍｍのジルコニア製ビーズ、攪拌羽根
の周速：１０ｍ／ｍｉｎ、処理時間：３０ｍｉｎの条件
で、分散処理した。０．５Ｌのフラスコに、この分散処
理後の酸化チタンスラリー１６ｇ、３０重量％過酸化水
素水１１ｇおよびイオン交換水１４１ｇを入れて混合ス
ラリーとした後、このフラスコを、水を入れた超音波照
射槽（商品名“ＵＥ−４００Ｆ２８Ｓ−１Ｅ”、周波
数：２８ｋＨｚ、発振方式：自振発振、占有周波数帯幅
または周波数変動幅：±１．５ｋＨｚ、高周波出力：４
００Ｗ、負荷と電極との結合方式：誘導結合、超音波工
業製）の中に置いた。フラスコ内の混合スラリーに、７
００ｒｐｍで攪拌し、かつスラリー温度を５５〜７０℃
の範囲に保持しながら、超音波を８時間照射して、分散
処理した。ここで用いた過酸化水素の量は、光触媒用酸
化チタンに対して、５．３モル倍であった。また、この
ときの超音波照射の出力は、光触媒用酸化チタン１ｇ当
り２ｋＷｈであった。超音波照射後の混合スラリーを遠
心分離し、上澄みを分取して、均質な光触媒用酸化チタ
ン分散液を得た。この分散液は、固形分濃度が０．２８
重量％であり、固形分の平均粒子径が３７５ｎｍであ
り、また固形分は、結晶構造がアナターゼ型である酸化
チタンが主成分であった。分散液に水を加えて、固形分
濃度を０．２重量％に調整した後、分散液の透過スペク
トルを測定した。この透過スペクトルを図１に、波長８
００ｎｍにおける透過率Ｔ1、波長４００ｎｍにおける
透過率Ｔ2、波長４００ｎｍ〜４２０ｎｍでのスペクト
ルの透過率の積算値Ａ、波長７８０ｎｍ〜８００ｎｍで
のスペクトルの透過率の積算値Ｂ、指数Ｘ（＝Ｔ2／
Ｔ1）および指数Ｙ（＝Ａ／Ｂ）を表１に示す。また透
過１次微分スペクトルを図２に、そのスペクトル強度が
極大となる波長を表１に示す。
【００２８】〔酸化チタン塗布膜の形成〕上で得られた
固形分濃度０．２８重量％の光触媒用酸化チタン分散液
を、縦７６ｍｍ、横２６ｍｍ、厚さ１ｍｍのスライド硝
子に塗布した後、スピンコーター（商品名“１Ｈ−Ｄ
３”、ミカサ製）を用いて、３００ｒｐｍで３秒間、つ
いで５００ｒｐｍで２０秒間回転させて、過剰の分散液
を取り除いた後、スライド硝子を１５０℃で乾燥した。
スライド硝子に分散液を塗布、乾燥する操作を合計３回
行って、スライド硝子の片面全体に酸化チタン塗布膜を
形成した。
固形分濃度０．２８重量％の光触媒用酸化チタン分散液
を、縦７６ｍｍ、横２６ｍｍ、厚さ１ｍｍのスライド硝
子に塗布した後、スピンコーター（商品名“１Ｈ−Ｄ
３”、ミカサ製）を用いて、３００ｒｐｍで３秒間、つ
いで５００ｒｐｍで２０秒間回転させて、過剰の分散液
を取り除いた後、スライド硝子を１５０℃で乾燥した。
スライド硝子に分散液を塗布、乾燥する操作を合計３回
行って、スライド硝子の片面全体に酸化チタン塗布膜を
形成した。
【００２９】〔酸化チタン塗布膜の活性評価〕直径８ｃ
ｍ、高さ１０ｃｍ、容量約０．５Ｌの密閉式ガラス製反
応容器内に、上で形成した、酸化チタン塗布膜を有する
スライド硝子を置いた。反応容器内を酸素と窒素との体
積比が１：４である混合ガスで満たし、アセトアルデヒ
ドを１３．４μｍｏｌ封入し、反応容器の外から可視光
線を照射した。可視光線の照射には、５００Ｗキセノン
ランプ（商品名“ランプＵＸＬ−５００ＳＸ”、ウシオ
電機製）を取り付けた光源装置（商品名“オプティカル
モジュレックスＳＸ−ＵＩ５００ＸＱ”、ウシオ電機
製）に、波長約４３０ｎｍ以下の紫外線をカットするフ
ィルター（商品名“Ｙ−４５”、旭テクノガラス製）と
波長約８３０ｎｍ以上の赤外線をカットするフィルター
（商品名“スーパーコールドフィルター”、ウシオ電機
製）とを装着したものを光源として用いた。可視光線の
照射によりアセトアルデヒドが分解すると、二酸化炭素
が発生するので、二酸化炭素の濃度を光音響マルチガス
モニタ（１３１２型、ＩＮＮＯＶＡ製）で経時的に測定
し、濃度変化より算出した二酸化炭素の生成速度によ
り、酸化チタン塗布膜のアセトアルデヒドに対する光触
媒作用を評価した。このときの二酸化炭素の生成速度は
０．３２μｍｏｌ／ｈであった。
ｍ、高さ１０ｃｍ、容量約０．５Ｌの密閉式ガラス製反
応容器内に、上で形成した、酸化チタン塗布膜を有する
スライド硝子を置いた。反応容器内を酸素と窒素との体
積比が１：４である混合ガスで満たし、アセトアルデヒ
ドを１３．４μｍｏｌ封入し、反応容器の外から可視光
線を照射した。可視光線の照射には、５００Ｗキセノン
ランプ（商品名“ランプＵＸＬ−５００ＳＸ”、ウシオ
電機製）を取り付けた光源装置（商品名“オプティカル
モジュレックスＳＸ−ＵＩ５００ＸＱ”、ウシオ電機
製）に、波長約４３０ｎｍ以下の紫外線をカットするフ
ィルター（商品名“Ｙ−４５”、旭テクノガラス製）と
波長約８３０ｎｍ以上の赤外線をカットするフィルター
（商品名“スーパーコールドフィルター”、ウシオ電機
製）とを装着したものを光源として用いた。可視光線の
照射によりアセトアルデヒドが分解すると、二酸化炭素
が発生するので、二酸化炭素の濃度を光音響マルチガス
モニタ（１３１２型、ＩＮＮＯＶＡ製）で経時的に測定
し、濃度変化より算出した二酸化炭素の生成速度によ
り、酸化チタン塗布膜のアセトアルデヒドに対する光触
媒作用を評価した。このときの二酸化炭素の生成速度は
０．３２μｍｏｌ／ｈであった。
【００３０】比較例１
市販の光触媒用酸化チタンコーティング剤（商品名“Ｔ
ＫＣ−３０２”、固形分濃度：２．３重量％、分散液中
酸化チタンの平均粒子径：５４ｎｍ、テイカ製）につい
て、その固形分濃度を０．２重量％に調整した後、この
コーティング剤の透過スペクトルを測定した。その結果
を図３および表１に示す。また透過１次微分スペクトル
を図４に示す。なお、この透過１次微分スペクトルは、
波長４１０〜７６０ｎｍの範囲に極大値をもつことはな
かった。
ＫＣ−３０２”、固形分濃度：２．３重量％、分散液中
酸化チタンの平均粒子径：５４ｎｍ、テイカ製）につい
て、その固形分濃度を０．２重量％に調整した後、この
コーティング剤の透過スペクトルを測定した。その結果
を図３および表１に示す。また透過１次微分スペクトル
を図４に示す。なお、この透過１次微分スペクトルは、
波長４１０〜７６０ｎｍの範囲に極大値をもつことはな
かった。
【００３１】さらに、上記市販の光触媒用酸化チタンコ
ーティング剤（商品名“ＴＫＣ−３０２”）を用いた以
外は、実施例１の〔酸化チタン塗布膜の形成〕と同じ操
作を行い、スライド硝子の片面全体に酸化チタン塗布膜
を形成した。こうして酸化チタン塗布膜を形成したスラ
イド硝子について、実施例１の〔酸化チタン塗布膜の活
性評価〕と同じ方法で活性を評価した。このときの二酸
化炭素の生成速度は０．１５μｍｏｌ／ｈであった。
ーティング剤（商品名“ＴＫＣ−３０２”）を用いた以
外は、実施例１の〔酸化チタン塗布膜の形成〕と同じ操
作を行い、スライド硝子の片面全体に酸化チタン塗布膜
を形成した。こうして酸化チタン塗布膜を形成したスラ
イド硝子について、実施例１の〔酸化チタン塗布膜の活
性評価〕と同じ方法で活性を評価した。このときの二酸
化炭素の生成速度は０．１５μｍｏｌ／ｈであった。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【発明の効果】本発明のセラミックス分散液によれば、
硝子、プラスチック、金属、陶磁器のような基材に高い
光触媒活性を示す塗布膜を形成することができる。ま
た、本発明方法によれば、前記セラミックス分散液を容
易に製造することができる。
硝子、プラスチック、金属、陶磁器のような基材に高い
光触媒活性を示す塗布膜を形成することができる。ま
た、本発明方法によれば、前記セラミックス分散液を容
易に製造することができる。
【図１】 実施例１で用いた光触媒用酸化チタン分散液
の透過スペクトル。
の透過スペクトル。
【図２】 実施例１で用いた光触媒用酸化チタン分散液
の透過１次微分スペクトル。
の透過１次微分スペクトル。
【図３】 比較例１で用いた光触媒用酸化チタンコーテ
ィング剤の透過スペクトル。
ィング剤の透過スペクトル。
【図４】 比較例１で用いた光触媒用酸化チタンコーテ
ィング剤の透過１次微分スペクトル。
ィング剤の透過１次微分スペクトル。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｂ０１Ｊ 35/02 Ｂ０１Ｊ 35/02 Ｊ
(72)発明者 安東 博幸
愛媛県新居浜市惣開町５番１号 住友化学
工業株式会社内
Ｆターム(参考） 4G035 AB43 AE19
4G036 AB21
4G047 CA02 CB05 CC03 CD03
4G065 AA01 AA06 AA10 BB03 CA11
DA04 DA06 DA09 EA03 EA10
FA02
4G069 AA02 AA03 AA08 BA04A
BA04B BA48A BB06B BC60B
CA10 DA05 EE01 FB09
Claims (8)
- 【請求項１】 波長８００ｎｍにおける透過率をＴ
1（％）とし、波長４００ｎｍにおける透過率をＴ
2（％）としたとき、下式（I） Ｘ＝Ｔ2／Ｔ1 （I） で示される指数Ｘが０．１７５以下であることを特徴と
するセラミックス分散液。 - 【請求項２】 透過スペクトルを測定したときの、波長
４００ｎｍ〜４２０ｎｍでのスペクトルの透過率の積算
値をＡとし、波長７８０ｎｍ〜８００ｎｍでのスペクト
ルの透過率の積算値をＢとしたとき、下式（II） Ｙ＝Ａ／Ｂ （II） で示される指数Ｙが０．４以下である請求項１記載のセ
ラミックス分散液。 - 【請求項３】 透過スペクトルを微分して得られる１次
微分スペクトルについて、そのスペクトル強度が極大と
なる波長が４００〜７６０ｎｍにある請求項２記載の分
散液。 - 【請求項４】 セラミックスが平均粒子径５００ｎｍ以
下の粒子である請求項１〜３のいずれか１項に記載のセ
ラミックス分散液。 - 【請求項５】 セラミックスが酸化チタンである請求項
１〜４のいずれか１項に記載のセラミックス分散液。 - 【請求項６】 セラミックスと過酸化水素を混合し、得
られる混合物に、当該セラミックスの結晶構造を実質的
に変えない条件で、分散処理を施すことを特徴とするセ
ラミックス分散液の製造方法。 - 【請求項７】 セラミックスが酸化チタンである請求項
６記載の方法。 - 【請求項８】 分散処理が超音波照射により行われる請
求項６または７記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001348329A JP2003048715A (ja) | 2001-05-28 | 2001-11-14 | セラミックス分散液およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001-158522 | 2001-05-28 | ||
| JP2001158522 | 2001-05-28 | ||
| JP2001348329A JP2003048715A (ja) | 2001-05-28 | 2001-11-14 | セラミックス分散液およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003048715A true JP2003048715A (ja) | 2003-02-21 |
Family
ID=26615784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001348329A Pending JP2003048715A (ja) | 2001-05-28 | 2001-11-14 | セラミックス分散液およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003048715A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005034716A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | National Institute For Materials Science | アルカリ金属及びＡｇのビスマス複合酸化物可視光応答性光触媒とそれを用いた有害化学物質分解除去方法 |
| US6884753B2 (en) | 2002-05-27 | 2005-04-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing ceramic dispersion composition |
| US6974611B2 (en) | 2002-06-25 | 2005-12-13 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Titanium oxide dispersion composition, and method and container for preserving the same |
| US7045005B2 (en) | 2001-07-19 | 2006-05-16 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Ceramics dispersion liquid, method for producing the same, and hydrophilic coating agent using the same |
| JP2007181790A (ja) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | National Maritime Research Institute | 溶解装置 |
| US7303738B2 (en) | 2002-12-20 | 2007-12-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing titanium oxide |
| JP2010023031A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-02-04 | Canon Inc | 無機微粒子分散溶液の製造方法、有機光学素子の製造方法および二酸化チタン分散液 |
| KR100980322B1 (ko) | 2009-01-29 | 2010-09-07 | 서울대학교산학협력단 | 가시광 응답형 산화물 광촉매 화합물 및 그 제조방법 |
| JP2011101876A (ja) * | 2009-10-14 | 2011-05-26 | Sekisui Jushi Co Ltd | 光触媒、コーティング剤、内装材、及び光触媒の製造方法 |
| JP2016068080A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | ソウル バイオシス カンパニー リミテッドＳｅｏｕｌ Ｖｉｏｓｙｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | 混合ガスに対する除去性能に優れた光触媒フィルタおよびその製造方法 |
| JP2017170441A (ja) * | 2014-09-30 | 2017-09-28 | ソウル バイオシス カンパニー リミテッドＳｅｏｕｌ Ｖｉｏｓｙｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | 混合ガスに対する除去性能に優れた光触媒フィルタおよびその製造方法 |
| US10213779B2 (en) | 2014-09-04 | 2019-02-26 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Photocatalytic filter, method for manufacturing the same, and method for reactivating the same |
-
2001
- 2001-11-14 JP JP2001348329A patent/JP2003048715A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7045005B2 (en) | 2001-07-19 | 2006-05-16 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Ceramics dispersion liquid, method for producing the same, and hydrophilic coating agent using the same |
| US6884753B2 (en) | 2002-05-27 | 2005-04-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing ceramic dispersion composition |
| US6974611B2 (en) | 2002-06-25 | 2005-12-13 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Titanium oxide dispersion composition, and method and container for preserving the same |
| US7303738B2 (en) | 2002-12-20 | 2007-12-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing titanium oxide |
| JP2005034716A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | National Institute For Materials Science | アルカリ金属及びＡｇのビスマス複合酸化物可視光応答性光触媒とそれを用いた有害化学物質分解除去方法 |
| JP2007181790A (ja) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | National Maritime Research Institute | 溶解装置 |
| JP2010023031A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-02-04 | Canon Inc | 無機微粒子分散溶液の製造方法、有機光学素子の製造方法および二酸化チタン分散液 |
| KR100980322B1 (ko) | 2009-01-29 | 2010-09-07 | 서울대학교산학협력단 | 가시광 응답형 산화물 광촉매 화합물 및 그 제조방법 |
| JP2011101876A (ja) * | 2009-10-14 | 2011-05-26 | Sekisui Jushi Co Ltd | 光触媒、コーティング剤、内装材、及び光触媒の製造方法 |
| US10213779B2 (en) | 2014-09-04 | 2019-02-26 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Photocatalytic filter, method for manufacturing the same, and method for reactivating the same |
| US11565246B2 (en) | 2014-09-04 | 2023-01-31 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Photocatalytic filter, method for manufacturing the same, and method for reactivating the same |
| JP2016068080A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | ソウル バイオシス カンパニー リミテッドＳｅｏｕｌ Ｖｉｏｓｙｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | 混合ガスに対する除去性能に優れた光触媒フィルタおよびその製造方法 |
| JP2017170441A (ja) * | 2014-09-30 | 2017-09-28 | ソウル バイオシス カンパニー リミテッドＳｅｏｕｌ Ｖｉｏｓｙｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | 混合ガスに対する除去性能に優れた光触媒フィルタおよびその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1375602B1 (en) | Titanium oxide dispersion composition | |
| JP2972752B1 (ja) | 結晶性酸化チタン超微粒単分散粉末の製造方法 | |
| EP1279643B1 (en) | ceramics dispersion liquid, method for producing the same, and hydrophilic coating agent using the same | |
| US6884753B2 (en) | Method for producing ceramic dispersion composition | |
| JPH0212503B2 (ja) | ||
| JP2003048715A (ja) | セラミックス分散液およびその製造方法 | |
| EP1419994A1 (en) | LAYERED TITANIC ACID, LAMELLAR TITANIC ACID, LAMELLAR TITANIUM OXIDE AND METHOD FOR PRODUCING LAMELLAR TITANIC ACID | |
| CN103079700B (zh) | 氧化钨光催化剂及其制造方法 | |
| KR100705990B1 (ko) | 산화티탄의 제조방법 | |
| US7175825B2 (en) | Method of producing titania solution | |
| WO2001023305A1 (fr) | Oxyde de titane a particules fines et procede pour le produire | |
| JP2003221230A (ja) | セラミックス分散液およびその製造方法 | |
| KR20040031628A (ko) | 산화티탄의 제조방법 | |
| JP2002249319A (ja) | 酸化チタンの製造方法 | |
| JP2003096433A (ja) | セラミックス分散液、その製造方法ならびにそれを用いる親水化剤および光触媒機能製品 | |
| US7449166B2 (en) | Particulate titanium oxide and production process therefor | |
| JPH09235119A (ja) | 低活性ジルコニアの水性ゾル及びその製法 | |
| JP2003096434A (ja) | セラミックス分散液、その製造方法および装置ならびにそれを用いる親水化剤 | |
| JP2006306694A (ja) | 酸化チタン前駆体 |